JP2013008792A - Method of processing flexible substrate - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a processing method that eliminates the needs of setting bending conditions and newly producing a bending device when a specification of a substrate is changed, and realizes high-quality bending.SOLUTION: A processing method of a flexible substrate for bending a COF substrate at an arbitrary angle includes: a step S1 that is a bending property examination step for examining, on the basis of a cross-sectional area ratio between a base material and wirings of the COF substrate, the relationship between the cross-sectional area ratio and a bending angle of the flexible substrate; a step S2 that is a cross-sectional area ratio determination step for determining the cross-sectional area ratio of the COF substrate; and a step S3 that is a designing step for designing the COF substrate having the cross-sectional area ratio corresponding to the bending angle.

Description

本発明は、フレキシブル回路基板の加工方法にかかり、特にフレキシブル回路基板の折り曲げ加工に関する。   The present invention relates to a method for processing a flexible circuit board, and particularly relates to a bending process for a flexible circuit board.

フレキシブル基板は、その特性を活かし、基板を任意の角度に折り曲げて電子機器の筐体等にコンパクトに内蔵して使用することがある。また電子機器では同じ筐体を用いながらも内部の回路基板等を変更することで性能向上を図ることがしばしば行われる。   A flexible substrate may be used by making use of its characteristics and folding the substrate at an arbitrary angle so as to be compactly incorporated in a housing or the like of an electronic device. In electronic devices, performance is often improved by changing an internal circuit board or the like while using the same housing.

フレキシブル基板を所望の角度に曲げる場合、基板毎に折り曲げ方法及び装置を検討し、条件を合わせ込むことで所望の折り曲げ角度を実現していた。従って、基板の仕様が変わるとき都度折り曲げ条件出しが必要となり、折曲げ装置を新規に制作しなければならないこともあった。   When a flexible substrate is bent to a desired angle, a bending method and an apparatus are studied for each substrate, and a desired bending angle is realized by matching conditions. Therefore, it is necessary to set the folding conditions every time the substrate specifications change, and it is sometimes necessary to create a new bending apparatus.

一方、フレキシブル基板の折り曲げ方法については特許文献1のように、フレキシブル基板を折り曲げた際の屈曲部に掛かる応力を緩和する方法が開示されている。これによれば、折り曲げる場所の内側の保護層を除去し、更にその屈曲部を接着剤で補強していた。これにより、高ストレス構造を提供していた。また、特許文献2にフレキシブル基板の折曲げ装置が開示されている。これによれば、装置は基板の折り曲げ部分を加熱しながら治具で折り曲げていた。   On the other hand, as a method of bending a flexible substrate, as disclosed in Patent Document 1, a method of relaxing stress applied to a bent portion when a flexible substrate is bent is disclosed. According to this, the protective layer inside the place to be bent was removed, and the bent portion was further reinforced with an adhesive. This provided a high stress structure. Patent Document 2 discloses a flexible substrate bending apparatus. According to this, the apparatus was bending with the jig | tool, heating the bending part of a board | substrate.

特開2005−340401号公報JP 2005-340401 A 特開2005−96408号公報JP 2005-96408 A

しかしながら、特許文献1に記載のフレキシブル基板の折り曲げ方法ではフレキシブル基板の保護層の除去や接着剤の塗布等の工程が必要となる。さらに、追加部材も必要となる為、歩留まり低下やコスト増等の課題があった。また、特許文献2に記載のフレキシブル基板の折曲げ装置では、加工装置に加熱機構を加える必要があり、装置構成が複雑になるという課題があった。また、折り曲げ部分を加熱する為、基材や保護層の材質によっては加熱部分が溶けてパターンが露出する課題も内包していた。   However, the method for bending a flexible substrate described in Patent Document 1 requires steps such as removal of the protective layer of the flexible substrate and application of an adhesive. Furthermore, since additional members are required, there are problems such as a decrease in yield and an increase in cost. Moreover, in the bending apparatus of the flexible substrate described in Patent Document 2, it is necessary to add a heating mechanism to the processing apparatus, and there is a problem that the apparatus configuration becomes complicated. Further, since the bent portion is heated, there is a problem that the heated portion melts and the pattern is exposed depending on the material of the base material and the protective layer.

そこで、基板の仕様が変わっても、都度折り曲げ条件出しをすることなく、且つ、折曲げ装置を新規に制作することない加工方法、品質の良い折り曲げを実現する加工方法が望まれていた。   Therefore, there has been a demand for a processing method that does not require bending conditions every time the substrate specifications change and does not create a new bending apparatus, and a processing method that realizes high-quality bending.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本適用例にかかるフレキシブル基板の加工方法は、配線が設置されたフレキシブル基板を折り曲げるフレキシブル基板の加工方法であって、前記フレキシブル基板の断面積と前記配線の断面積との比を断面積比とし、前記断面積比と前記フレキシブル基板の折り曲げ角度との関係を示す折り曲げ性を調べる折り曲げ性調査工程と、所定の前記折り曲げ角度に対応する前記断面積比を決定する断面積比決定工程と、決定した前記断面積比となる前記フレキシブル基板を設計する設計工程と、を有することを特徴とする。   Application Example 1 A flexible substrate processing method according to this application example is a flexible substrate processing method for bending a flexible substrate on which wiring is installed, and a ratio of a cross-sectional area of the flexible substrate to a cross-sectional area of the wiring. Is a cross-sectional area ratio, a bendability investigation step for examining bendability indicating the relationship between the cross-sectional area ratio and the bend angle of the flexible substrate, and a cross-sectional area ratio for determining the cross-sectional area ratio corresponding to the predetermined bend angle. And a design process for designing the flexible substrate having the determined cross-sectional area ratio.

本適用例によれば、折り曲げ性調査工程にて断面積比とフレキシブル基板の折り曲げ角度との関係を示す折り曲げ性を調べている。この工程ではフレキシブル基板の折り曲げ特性を評価する。評価結果より、基材、配線、折り曲げの各条件の時の断面積比と折り曲げ特性との関係が明らかになる。次に、断面積比決定工程では所定の折り曲げ角度に対応する断面積比を決定する。設計工程では断面積比決定工程にて決定した断面積比となるフレキシブル基板を設計する。   According to this application example, the bendability indicating the relationship between the cross-sectional area ratio and the bend angle of the flexible substrate is examined in the bendability investigation step. In this step, the bending characteristics of the flexible substrate are evaluated. From the evaluation results, the relationship between the cross-sectional area ratio and the bending characteristics under each condition of the base material, the wiring, and the bending becomes clear. Next, in the cross-sectional area ratio determining step, a cross-sectional area ratio corresponding to a predetermined bending angle is determined. In the design process, a flexible substrate having the cross-sectional area ratio determined in the cross-sectional area ratio determining process is designed.

断面積比と折り曲げ特性との関係から所望の折り曲げ角度となる断面積比を決定している。そして、決定した断面積比のフレキシブル基板を設計する。設計した条件でフレキシブル基板を折り曲げることにより、所望の折り曲げ角度にて品質良く曲げられたフレキシブル基板を得ることができる。   The cross-sectional area ratio at which a desired bending angle is obtained is determined from the relationship between the cross-sectional area ratio and the bending characteristics. And the flexible substrate of the determined cross-sectional area ratio is designed. By bending the flexible substrate under the designed conditions, it is possible to obtain a flexible substrate bent with high quality at a desired bending angle.

フレキシブル基板の配線数、基板幅等の仕様が変わった場合でも、断面積比となるような基板設計をすることによって、折り曲げ条件を変えることなく所望の折り曲げ角度を品質良く実現することが出来る。   Even when the specifications such as the number of wirings of the flexible substrate and the substrate width are changed, the desired bending angle can be realized with high quality without changing the bending conditions by designing the substrate so as to have a cross-sectional area ratio.

インクジェットヘッドの構成を示す模式分解斜視図。FIG. 2 is a schematic exploded perspective view showing a configuration of an inkjet head. インクジェットヘッドの構造を示す模式側断面図。FIG. 3 is a schematic side sectional view showing the structure of an inkjet head. COF基板の折り曲げを説明するための模式図。The schematic diagram for demonstrating the bending of a COF board | substrate. フレキシブル基板の折曲げ装置の構成を示す模式正面図。The schematic front view which shows the structure of the bending apparatus of a flexible substrate. フレキシブル基板の折曲げ装置の構成を示す模式側面図。The schematic side view which shows the structure of the bending apparatus of a flexible substrate. フレキシブル基板を折り曲げる製造工程を示すフローチャート。The flowchart which shows the manufacturing process which bends a flexible substrate. フレキシブル基板の加工方法を説明するための模式図。The schematic diagram for demonstrating the processing method of a flexible substrate. フレキシブル基板の加工方法を説明するための図。The figure for demonstrating the processing method of a flexible substrate. フレキシブル基板の加工方法を説明するための図。The figure for demonstrating the processing method of a flexible substrate. 設計工程を示すフローチャート。The flowchart which shows a design process.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。尚、以下の各図においては、各層や各部材を認識可能な程度の大きさにするため、各層や各部材の尺度を実際とは異ならせしめている。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following drawings, the scale of each layer and each member is made different from the actual scale so that each layer and each member can be recognized.

(実施形態1)
まず、フレキシブル基板及びフレキシブル基板の折り曲げ方法について説明する。この折り曲げ方法は、例えば印刷装置としてのインクジェットプリンターの製造において、圧電素子を駆動する為の駆動回路が実装されているCOF基板(Chip on Film)を、板状部材の電極部に接着させる為に、COF基板を所定の角度(90°)に折り曲げるものである。そこで、インクジェットヘッドの構成について簡単に説明する。
(Embodiment 1)
First, a flexible substrate and a bending method of the flexible substrate will be described. This bending method is used for bonding a COF substrate (Chip on Film) on which a drive circuit for driving a piezoelectric element is mounted to an electrode portion of a plate-like member, for example, in the manufacture of an ink jet printer as a printing apparatus. The COF substrate is bent at a predetermined angle (90 °). Therefore, the configuration of the inkjet head will be briefly described.

図1は、インクジェットヘッドの構成を示す模式分解斜視図である。図2は、インクジェットヘッドの構造を示す模式側断面図である。図1及び図2に示すように、インクジェットヘッド1はノズルプレート11、流路形成基板12、保護基板13と、シール基板14、ヘッドケース15、を順に重ねて構成されている。インクジェットヘッド1には、ヘッドケース15及び保護基板13を貫通して流路形成基板12上に立設するように、ヘッド基板2が組み込まれている。ヘッド基板2は、圧電素子19を駆動させるための駆動回路25が実装された一対のCOF基板22を、ベースプレート21の両側面に接着されて成り、一対のCOF基板22の下部折曲げ部分の配線としての導通部27が、流路形成基板12上のリード電極18に導通している。   FIG. 1 is a schematic exploded perspective view showing the configuration of the inkjet head. FIG. 2 is a schematic side sectional view showing the structure of the inkjet head. As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the inkjet head 1 is configured by stacking a nozzle plate 11, a flow path forming substrate 12, a protective substrate 13, a seal substrate 14, and a head case 15 in this order. A head substrate 2 is incorporated in the inkjet head 1 so as to penetrate the head case 15 and the protective substrate 13 and to stand on the flow path forming substrate 12. The head substrate 2 is formed by bonding a pair of COF substrates 22 on which a drive circuit 25 for driving the piezoelectric element 19 is mounted to both side surfaces of the base plate 21, and wiring in a lower bent portion of the pair of COF substrates 22. The conduction portion 27 is electrically connected to the lead electrode 18 on the flow path forming substrate 12.

ノズルプレート11は、例えば、ステンレス等で形成され、流路形成基板12の一方の面に接着剤等によって接着されている。また、ノズルプレート11の一方の面であるノズル面には、複数の吐出ノズル16が等ピッチで穿設されており、複数の吐出ノズル16は、例えば、相互に平行に列設された2列のノズル列を構成している。   The nozzle plate 11 is made of, for example, stainless steel, and is bonded to one surface of the flow path forming substrate 12 with an adhesive or the like. In addition, a plurality of discharge nozzles 16 are formed at an equal pitch on the nozzle surface, which is one surface of the nozzle plate 11, and the plurality of discharge nozzles 16 are, for example, two rows arranged in parallel to each other. The nozzle row is configured.

流路形成基板12は、隔壁によって区画された複数の圧力室11aが、複数の吐出ノズル16に対応するように幅方向に相互に平行に2列並設されている。流路形成基板12の長手方向外側の領域には、図示しない機能液供給装置から供給された機能液を貯留する共通室17が形成されている。そして、各圧力室11aと共通室17とはそれぞれ供給路11bを介して連通している。尚、共通室17は保護基板13を貫通して設置され、ヘッドケース15に設けられた機能液導入口14aを介して機能液供給装置から機能液の供給を受ける。   In the flow path forming substrate 12, a plurality of pressure chambers 11 a partitioned by partition walls are arranged in parallel in two rows in the width direction so as to correspond to the plurality of discharge nozzles 16. A common chamber 17 for storing functional liquid supplied from a functional liquid supply device (not shown) is formed in a region outside the longitudinal direction of the flow path forming substrate 12. And each pressure chamber 11a and the common chamber 17 are each connected via the supply path 11b. The common chamber 17 is installed through the protective substrate 13 and receives the supply of the functional liquid from the functional liquid supply device through the functional liquid inlet 14 a provided in the head case 15.

保護基板13は、流路形成基板12側から順に弾性膜12a、絶縁体膜12bを介して流路形成基板12に連結されている。絶縁体膜12b上には、複数の圧力室11aに対応する数の圧電素子19が形成されている。保護基板13には厚さ方向に貫通する貫通孔12cが形成されている。また、保護基板13の内側には各圧電素子19を収容するための機構部12dが凹設されている。各圧電素子19にはリード電極18の一方の端部が接続されており、リード電極18の他方の端部は貫通孔12c内に露出するように延設している。このリード電極18の他方の端部には、上記したヘッド基板2に位置するCOF基板22の導通部27が接続されている。そして、圧電素子19に電圧を印加して絶縁体膜12b及び弾性膜12aを変形させることで、圧力室11aの体積を変化させて共通室17から機能液を導入すると共に、吐出ノズル16から機能液を液滴にして吐出する。   The protective substrate 13 is connected to the flow path forming substrate 12 via the elastic film 12a and the insulator film 12b in this order from the flow path forming substrate 12 side. A number of piezoelectric elements 19 corresponding to the plurality of pressure chambers 11a are formed on the insulator film 12b. The protective substrate 13 is formed with a through hole 12c penetrating in the thickness direction. Further, a mechanism portion 12 d for accommodating each piezoelectric element 19 is recessed inside the protective substrate 13. One end of a lead electrode 18 is connected to each piezoelectric element 19, and the other end of the lead electrode 18 extends so as to be exposed in the through hole 12 c. The other end portion of the lead electrode 18 is connected to the conduction portion 27 of the COF substrate 22 located on the head substrate 2 described above. Then, by applying a voltage to the piezoelectric element 19 to deform the insulator film 12b and the elastic film 12a, the function chamber is introduced from the common chamber 17 by changing the volume of the pressure chamber 11a and functions from the discharge nozzle 16. The liquid is discharged as droplets.

ヘッドケース15は、保護基板13側から順に、封止膜13a、固定板13bからなるシール基板14を介して保護基板13に連結されている。この封止膜13aによってのみ共通室17が封止されている。ヘッドケース15には保護基板13に設けられた貫通孔12cと連通するヘッド基板保持孔14bが設けられており、ヘッド基板2は、ヘッド基板保持孔14b内に挿通されて異方性導電ペーストである接着剤を介してリード電極18と接続されている。   The head case 15 is connected to the protective substrate 13 via a sealing substrate 14 including a sealing film 13a and a fixing plate 13b in this order from the protective substrate 13 side. The common chamber 17 is sealed only by the sealing film 13a. The head case 15 is provided with a head substrate holding hole 14b communicating with a through hole 12c provided in the protective substrate 13. The head substrate 2 is inserted into the head substrate holding hole 14b and is made of an anisotropic conductive paste. The lead electrode 18 is connected via an adhesive.

ヘッド基板2は、ステンレス製の板状部材であるベースプレート21とベースプレート21の両側面に両面粘着テープ23により貼付された一対のCOF基板22とから構成されている。各COF基板22は、駆動回路25、フレキシブル基材としての基板本体26、導通部27と、を備えている。基板本体26は平板状であり駆動回路25が実装されている。駆動回路25は圧電素子19を駆動させる回路である。そして、基板本体26はベースプレート21に接着されている。導通部27は基板本体26から「L」字状に屈曲して設置されている。   The head substrate 2 includes a base plate 21 that is a plate member made of stainless steel and a pair of COF substrates 22 that are attached to both side surfaces of the base plate 21 with a double-sided adhesive tape 23. Each COF substrate 22 includes a drive circuit 25, a substrate body 26 as a flexible base material, and a conduction portion 27. The substrate body 26 is flat and has a drive circuit 25 mounted thereon. The drive circuit 25 is a circuit that drives the piezoelectric element 19. The substrate body 26 is bonded to the base plate 21. The conductive portion 27 is bent from the board body 26 in an “L” shape.

ベースプレート21の両側面に貼付された一対のCOF基板22は、導通部27の先端部が内向きに対峙するように配置されている。そして、導通部27の先端部がベースプレート21の下端面に沿うように配置されている。ベースプレート21は、各COF基板22の先端部を下にして流路形成基板12上に突き当てられており、この状態で一対のCOF基板22が、異方性導電ペーストである接着剤を介してリード電極18に接続されている。   The pair of COF substrates 22 affixed to both side surfaces of the base plate 21 are arranged so that the leading end portions of the conducting portions 27 face inward. And the front-end | tip part of the conduction | electrical_connection part 27 is arrange | positioned so that the lower end surface of the baseplate 21 may be followed. The base plate 21 is abutted on the flow path forming substrate 12 with the front end portion of each COF substrate 22 facing down. In this state, the pair of COF substrates 22 are interposed via an adhesive that is an anisotropic conductive paste. The lead electrode 18 is connected.

図3はCOF基板の折り曲げを説明するための模式図である。図3(a)は、折り曲げ前のCOF基板を示す模式平面図である。図3(b)は、折り曲げ前のCOF基板を示す模式側面図である。図3(c)は、折り曲げ前のCOF基板を示す要部模式拡大図であり、導通部を拡大した図である。図3(d)は、折り曲げ後のCOF基板を示す模式平面図であり、図3(e)は、折り曲げ後のCOF基板を示す模式側面図である。図3(f)は、折り曲げ後のCOF基板を示す要部模式拡大図であり、導通部を拡大した図である。   FIG. 3 is a schematic diagram for explaining bending of the COF substrate. FIG. 3A is a schematic plan view showing the COF substrate before bending. FIG. 3B is a schematic side view showing the COF substrate before bending. FIG. 3C is a main part schematic enlarged view showing the COF substrate before bending, and is an enlarged view of the conduction part. FIG. 3D is a schematic plan view showing the COF substrate after bending, and FIG. 3E is a schematic side view showing the COF substrate after bending. FIG. 3F is a main part schematic enlarged view showing the COF substrate after bending, and is an enlarged view of the conduction part.

図3(a)〜図3(c)に示すように、折り曲げ前はCOF基板22は平坦に形成されており、基板本体26の一面に導通部27が配列して配置されている。図3(d)〜図3(e)に示すように、折り曲げ後はCOF基板22の基板本体26と導通部27とをその折曲部22aにおいてL字状に折曲げられている。例えば、本実施形態では、COF基板22の先端部の約0.5mmを90°に精度良く塑性変形させている。   As shown in FIGS. 3A to 3C, the COF substrate 22 is formed flat before being bent, and conductive portions 27 are arranged on one surface of the substrate body 26. As shown in FIGS. 3D to 3E, after bending, the substrate body 26 and the conductive portion 27 of the COF substrate 22 are bent in an L shape at the bent portion 22a. For example, in the present embodiment, about 0.5 mm of the tip end portion of the COF substrate 22 is plastically deformed to 90 ° with high accuracy.

図4は、フレキシブル基板の折曲げ装置の構成を示す模式正面図である。図5は、フレキシブル基板の折曲げ装置の構成を示す模式側面図である。図4及び5に示すように、折曲げ装置3はCOF基板22を把持する曲げ型31を備えている。曲げ型31は固定部35及び押さえ部36を備えている。そして、固定部35と押さえ部36との間にCOF基板22を挟んで固定するようになっている。曲げ型31は導通部27を図中下側に突き出すようにCOF基板22を配置する。そして、固定部35の導通部27側は鋭角に形成されている。   FIG. 4 is a schematic front view showing the configuration of the flexible substrate bending apparatus. FIG. 5 is a schematic side view showing the configuration of the flexible substrate bending apparatus. As shown in FIGS. 4 and 5, the bending apparatus 3 includes a bending die 31 that holds the COF substrate 22. The bending die 31 includes a fixing part 35 and a pressing part 36. The COF substrate 22 is sandwiched and fixed between the fixing portion 35 and the pressing portion 36. The bending die 31 has the COF substrate 22 disposed so that the conductive portion 27 protrudes downward in the drawing. And the conduction | electrical_connection part 27 side of the fixing | fixed part 35 is formed in the acute angle.

折曲げ装置3は曲げ型31の図中下側に折曲げ機構部32を備えている。折曲げ機構部32はヘッドユニット33とヘッドユニット33を移動させる曲げ動作機構34を備えている。ヘッドユニット33は曲げローラー37と曲げローラー37を支持する支持部38を備えている。曲げローラー37は円筒形をしており曲げローラー37の回転軸が支持部38に支持されている。そして、曲げローラー37の軸方向は折曲部22aが延在する方向でありこの方向をX方向する。   The bending device 3 includes a bending mechanism 32 on the lower side of the bending die 31 in the figure. The bending mechanism unit 32 includes a head unit 33 and a bending operation mechanism 34 that moves the head unit 33. The head unit 33 includes a bending roller 37 and a support portion 38 that supports the bending roller 37. The bending roller 37 has a cylindrical shape, and the rotation shaft of the bending roller 37 is supported by the support portion 38. The axial direction of the bending roller 37 is the direction in which the bent portion 22a extends, and this direction is the X direction.

曲げ動作機構34は第1直動機構49及び第2直動機構51を備えている。COF基板22の厚み方向をY方向とするとき、第2直動機構51はヘッドユニット33をY方向に移動させる機構である。X方向とY方向と直交する方向をZ方向とするとき、Z方向は導通部27の長手方向となる。そして、第1直動機構49はヘッドユニット33をZ方向に移動させる機構である。曲げ動作機構34は押圧ばね56を備えている。そして、押圧ばね56はヘッドユニット33をZ方向において曲げ型31に接近する方向に付勢する。   The bending operation mechanism 34 includes a first linear motion mechanism 49 and a second linear motion mechanism 51. When the thickness direction of the COF substrate 22 is the Y direction, the second linear motion mechanism 51 is a mechanism that moves the head unit 33 in the Y direction. When the direction orthogonal to the X direction and the Y direction is the Z direction, the Z direction is the longitudinal direction of the conducting portion 27. The first linear motion mechanism 49 is a mechanism that moves the head unit 33 in the Z direction. The bending operation mechanism 34 includes a pressing spring 56. The pressing spring 56 urges the head unit 33 in a direction approaching the bending die 31 in the Z direction.

導通部27を曲げるとき、折曲げ装置3は第1直動機構49を駆動してヘッドユニット33を曲げ型31から離すとともに、第2直動機構51を駆動してヘッドユニット33を導通部27に対して押さえ部36側に移動させる。次に、折曲げ装置3は第1直動機構49を駆動してヘッドユニット33を押さえ部36に接近させる。続いて、折曲げ装置3はヘッドユニット33を導通部27に対して固定部35側に移動させる。   When bending the conduction portion 27, the bending device 3 drives the first linear motion mechanism 49 to separate the head unit 33 from the bending die 31 and drives the second linear motion mechanism 51 to cause the head unit 33 to be connected to the conduction portion 27. With respect to the holding part 36 side. Next, the bending device 3 drives the first linear motion mechanism 49 to bring the head unit 33 closer to the pressing portion 36. Subsequently, the bending device 3 moves the head unit 33 toward the fixed portion 35 with respect to the conducting portion 27.

このとき、押圧ばね56によって曲げローラー37が基板本体26を押圧しながら移動する。これにより、基板本体26の導通部27が固定部35に押圧される為、基板本体26が固定部35に沿って押し曲げられる。次に、折曲げ装置3は第1直動機構49を駆動してヘッドユニット33をCOF基板22から離す。その結果、COF基板22は折曲部22aにて曲げられる。   At this time, the bending roller 37 moves while pressing the substrate body 26 by the pressing spring 56. As a result, the conduction portion 27 of the substrate body 26 is pressed against the fixing portion 35, and the substrate body 26 is pushed and bent along the fixing portion 35. Next, the bending device 3 drives the first linear motion mechanism 49 to separate the head unit 33 from the COF substrate 22. As a result, the COF substrate 22 is bent at the bent portion 22a.

ここから、フレキシブル基板の加工方法について説明する。図6は、フレキシブル基板を折り曲げる製造工程を示すフローチャートである。ステップS1は、折り曲げ性調査工程に相当し、基材と配線との断面積比と折り曲げ性との関係を調査する工程である。次にステップS2に移行する。ステップS2は、断面積比決定工程に相当し、フレキシブル基板の断面積比を決定する工程である。次にステップS3に移行する。ステップS3は、設計工程に相当し、決定した断面積比のフレキシブル基板を設計する工程である。次にステップS4に移行する。ステップS4は、折り曲げ工程に相当し、フレキシブル基板を曲げる工程である。以上の工程によりフレキシブル基板を折り曲げる製造工程を終了する。   From here, the processing method of a flexible substrate is demonstrated. FIG. 6 is a flowchart showing a manufacturing process for bending the flexible substrate. Step S1 corresponds to a bendability investigation step, and is a step of investigating the relationship between the cross-sectional area ratio between the substrate and the wiring and the bendability. Next, the process proceeds to step S2. Step S2 corresponds to a cross-sectional area ratio determining step, and is a step of determining the cross-sectional area ratio of the flexible substrate. Next, the process proceeds to step S3. Step S3 corresponds to a design process and is a process for designing a flexible substrate having a determined cross-sectional area ratio. Next, the process proceeds to step S4. Step S4 corresponds to a bending process and is a process of bending the flexible substrate. The manufacturing process of bending the flexible substrate is completed by the above process.

図7〜図10はフレキシブル基板の加工方法を説明するための図である。次に、図7〜図10を用いて、図6に示したステップと対応させて、製造方法を詳細に説明する。図7及び図8はステップS1の折り曲げ性調査工程に対応する図である。図7に示すように、ステップS1において、COF基板22において導通部27が配列する方向、つまり、折曲部22aが延在する予定の方向の断面積を基材断面積102とする。次に、折曲部22aが延在する予定の方向の導通部27の断面積を配線断面積101とする。次に、基材断面積102と配線断面積101との比を断面積比とする。   7-10 is a figure for demonstrating the processing method of a flexible substrate. Next, the manufacturing method will be described in detail with reference to FIGS. 7 to 10 in association with the steps shown in FIG. 7 and 8 are diagrams corresponding to the bendability investigation step of step S1. As shown in FIG. 7, in step S <b> 1, the cross-sectional area in the direction in which the conductive portions 27 are arranged in the COF substrate 22, that is, the direction in which the bent portions 22 a are to be extended, is defined as the base material cross-sectional area 102. Next, let the cross-sectional area of the conduction | electrical_connection part 27 of the direction where the bending part 22a extends be the wiring cross-sectional area 101. FIG. Next, the ratio of the substrate cross-sectional area 102 and the wiring cross-sectional area 101 is taken as the cross-sectional area ratio.

事前に、COF基板22の基材材料と配線材料を決める。基板本体26は、可撓性を有する材料であれば良く、特に限定されないが、本実施形態では例えばポリイミド樹脂を用いている。導通部27の材料としては電気伝導性が良く、腐食し難い材料であれば良く、特に限定されない。本実施形態では例えばCuにAuメッキを施したものを導通部27の配線材料として用いている。   The base material and wiring material of the COF substrate 22 are determined in advance. The substrate body 26 is not particularly limited as long as it is a flexible material. In the present embodiment, for example, a polyimide resin is used. The material of the conductive portion 27 is not particularly limited as long as it has good electrical conductivity and is resistant to corrosion. In the present embodiment, for example, Cu plated with Au is used as a wiring material for the conductive portion 27.

基板本体26及び配線材料にて、断面積比の異なるフレキシブル基板を、少なくとも2水準以上準備する。折曲げ装置3を使ってこれらのフレキシブル基板を折り曲げ、断面積比100と折り曲げ角度103との関係を調査する。図8に示すように横軸を断面積比100とする。断面積比100は図中右側が左側より大きな比率となっている。縦軸はフレキシブル基板の折り曲げ角度103を示し、図中上側が下側より大きな角度となっている。そして、断面積比100の異なるフレキシブル基板について折り曲げ角度103を測定する。次に、断面積比100と折り曲げ角度103との測定データをプロットして、フレキシブル基板の断面積比100と折り曲げ角度103との関係を示す相関線104を算出する。尚、相関線104が既に算出されているフレキシブル基板についてはステップS1を省略してステップS2から行っても良い。   At least two or more levels of flexible substrates having different cross-sectional area ratios are prepared using the substrate body 26 and the wiring material. These flexible substrates are bent using the bending apparatus 3, and the relationship between the cross-sectional area ratio 100 and the bending angle 103 is investigated. As shown in FIG. 8, the horizontal axis is a cross-sectional area ratio of 100. In the cross-sectional area ratio 100, the right side in the figure is larger than the left side. The vertical axis shows the bending angle 103 of the flexible substrate, and the upper side in the figure is larger than the lower side. And the bending angle 103 is measured about the flexible substrate from which cross-sectional area ratio 100 differs. Next, the measurement data of the cross-sectional area ratio 100 and the bending angle 103 are plotted, and a correlation line 104 indicating the relationship between the cross-sectional area ratio 100 of the flexible substrate and the bending angle 103 is calculated. It should be noted that step S1 may be omitted from step S2 for the flexible substrate for which the correlation line 104 has already been calculated.

図9はステップS2の断面積比決定工程に対応する図である。図9に示すように、ステップS2おいて、目標折り曲げ角度103aを設定する。次に、相関線104を用いて目標折り曲げ角度103aに対応する断面積比設定値100aを算出する。   FIG. 9 is a diagram corresponding to the cross-sectional area ratio determining step in step S2. As shown in FIG. 9, in step S2, a target bending angle 103a is set. Next, the cross-sectional area ratio setting value 100a corresponding to the target bending angle 103a is calculated using the correlation line 104.

尚、所望の折り曲げ角度103が相関線104の範囲にない場合は、あらためて断面積比100の異なる値のフレキシブル基板を準備して、断面積比100と折り曲げ角度103との関係を調査する。もしくは、前記折曲げ装置の、折り曲げ条件を変更して、調査した断面積の範囲内で所望の折り曲げ角度103となるよう条件を調査する。   If the desired bending angle 103 is not within the range of the correlation line 104, a flexible substrate having a different cross-sectional area ratio 100 is prepared and the relationship between the cross-sectional area ratio 100 and the bending angle 103 is investigated. Alternatively, the bending condition of the bending apparatus is changed, and the condition is investigated so that a desired bending angle 103 is obtained within the range of the investigated cross-sectional area.

図10はステップS3の設計工程を示すフローチャートである。図10に従って、フレキシブル基板の設計工程について説明する。
ステップS11は、制約条件設定工程に相当する。この工程は、フレキシブル基板設計の制約条件を決める工程である。例えば折り曲げ部に掛る配線の数や基板の幅を決める。次にステップS12に移行する。ステップS12は、配線ピッチ演算工程に相当する。この工程は、フレキシブル基板設計の制約条件より、配線のピッチを演算する工程である。次にステップS13に移行する。
FIG. 10 is a flowchart showing the design process of step S3. The flexible substrate design process will be described with reference to FIG.
Step S11 corresponds to a constraint condition setting step. This step is a step of determining the constraint conditions for the flexible substrate design. For example, the number of wirings to be bent and the width of the substrate are determined. Next, the process proceeds to step S12. Step S12 corresponds to a wiring pitch calculation step. This step is a step of calculating the pitch of the wiring from the constraint conditions of the flexible substrate design. Next, the process proceeds to step S13.

ステップS13は、配線L/S仮設定工程に相当する。この工程は、配線のL/S(ライン/スペース)を仮設定する工程である。”L”のラインは配線の幅を示し、”S”のスペースは隣り合う配線間の幅である。つまり、演算したピッチにおける配線の幅と配線間の幅とを仮に設定する。次にステップS14に移行する。ステップS14は、配線厚み設定工程に相当する。この工程は、仮設定したL/Sで加工可能な配線の厚さを設定する工程である。次にステップS15に移行する。   Step S13 corresponds to a wiring L / S temporary setting step. This step is a step of temporarily setting L / S (line / space) of the wiring. The “L” line indicates the width of the wiring, and the “S” space is the width between adjacent wirings. In other words, the width of the wiring at the calculated pitch and the width between the wirings are temporarily set. Next, the process proceeds to step S14. Step S14 corresponds to a wiring thickness setting step. This step is a step of setting the wiring thickness that can be processed with the temporarily set L / S. Next, the process proceeds to step S15.

ステップS15は、加工性判断工程に相当し、配線の加工が可能かを判断する工程である。加工できないと判断するとき、ステップS13に移行する。そして、L/Sをあらためて決め直し、配線厚を決める。加工できると判断するとき、ステップS16に移行する。ステップS16は、基板厚み設定工程に相当する。この工程は、ステップS2にて設定した断面積比100と設定したL/S及び配線厚とを用いて基板本体26の基材厚を決める工程である。以上の工程によりステップS3の設計工程を終了する。   Step S15 corresponds to a workability determination step, and is a step of determining whether wiring can be processed. When it is determined that the processing cannot be performed, the process proceeds to step S13. Then, L / S is re-determined to determine the wiring thickness. When it is determined that machining can be performed, the process proceeds to step S16. Step S16 corresponds to a substrate thickness setting step. This step is a step of determining the base material thickness of the substrate body 26 using the cross-sectional area ratio 100 set in step S2, the set L / S, and the wiring thickness. The design process of step S3 is completed by the above process.

ステップS4の折り曲げ工程では、折曲げ装置3を用いてCOF基板22を折り曲げる。このとき予め加工条件が設定されているため、精度良くCOF基板22を折り曲げることができる。以上の工程により、フレキシブル基板を折り曲げる製造工程を終了する。   In the bending step of step S4, the COF substrate 22 is bent using the bending device 3. At this time, since the processing conditions are set in advance, the COF substrate 22 can be bent with high accuracy. With the above process, the manufacturing process for bending the flexible substrate is completed.

以上述べたように、本実施形態にかかるフレキシブル基板の折り曲げ方法によれば、以下の効果を得ることができる。すなわち、フレキシブル基板の保護層除去や接着剤の塗布等が不要となる。これにより、工程を複雑にせずにCOF基板22を加工できる。さらに、追加部材が不要となる為、高い製造歩留まりで生産性良く製造できる。また、加工装置に加熱機構を加える必要がないので装置が高価になるという課題を防ぐことが出来る。更には、折り曲げ部分の加熱による基材や保護層の溶融しパターンが露出する内包課題も解決することが出来る。   As described above, according to the method for bending a flexible substrate according to the present embodiment, the following effects can be obtained. That is, it is not necessary to remove the protective layer from the flexible substrate or to apply an adhesive. Thereby, the COF substrate 22 can be processed without complicating the process. Furthermore, since an additional member is not required, it can be manufactured with high productivity and high productivity. Further, since it is not necessary to add a heating mechanism to the processing apparatus, it is possible to prevent the problem that the apparatus becomes expensive. Furthermore, it is possible to solve the problem of inclusion in which the substrate and the protective layer are melted by heating the bent portion and the pattern is exposed.

本実施形態では基板の仕様が変わっても都度折り曲げ条件出しをする必要がない。また、折曲げ装置を新規に製作することなく、同等の折り曲げを容易に実現する方法を提供することができる。   In the present embodiment, it is not necessary to set the bending condition every time the specifications of the substrate change. In addition, it is possible to provide a method for easily realizing equivalent bending without newly manufacturing a bending apparatus.

尚、本実施形態は上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変更や改良を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
(変形例1)
前記第1の実施形態では、相関線104を用いて、折り曲げ角度103に対応する断面積比100を算出した。相関線104の代わりに、折り曲げ角度103と断面積比100との関係をしめすテーブルを用いても良い。相関線104が非線形の関係となるときにも折り曲げ角度103と断面積比100との関係を精度良く示すことができる。従って、断面積比100を精度良く算出することができる。
In addition, this embodiment is not limited to embodiment mentioned above, A various change and improvement can also be added. A modification will be described below.
(Modification 1)
In the first embodiment, the cross-sectional area ratio 100 corresponding to the bending angle 103 is calculated using the correlation line 104. Instead of the correlation line 104, a table indicating the relationship between the bending angle 103 and the cross-sectional area ratio 100 may be used. Even when the correlation line 104 has a non-linear relationship, the relationship between the bending angle 103 and the cross-sectional area ratio 100 can be accurately shown. Therefore, the cross-sectional area ratio 100 can be calculated with high accuracy.

26…フレキシブル基材としての基板本体、27…配線としての導通部、100…断面積比、103…折り曲げ角度。   26 ... Substrate body as flexible base material, 27 ... Conducting portion as wiring, 100 ... Cross-sectional area ratio, 103 ... Bending angle.

Claims (1)

配線が設置されたフレキシブル基板を折り曲げるフレキシブル基板の加工方法であって、
前記フレキシブル基板の断面積と前記配線の断面積との比を断面積比とし、前記断面積比と前記フレキシブル基板の折り曲げ角度との関係を示す折り曲げ性を調べる折り曲げ性調査工程と、
所定の前記折り曲げ角度に対応する前記断面積比を決定する断面積比決定工程と、
決定した前記断面積比となる前記フレキシブル基板を設計する設計工程と、を有することを特徴とするフレキシブル基板の加工方法。
A flexible substrate processing method for bending a flexible substrate on which wiring is installed,
The ratio of the cross-sectional area of the flexible substrate and the cross-sectional area of the wiring as a cross-sectional area ratio, and a bendability investigation step of examining the bendability indicating the relationship between the cross-sectional area ratio and the bending angle of the flexible substrate;
A cross-sectional area ratio determining step for determining the cross-sectional area ratio corresponding to the predetermined bending angle;
And a design step of designing the flexible substrate having the determined cross-sectional area ratio.
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