JP2013004202A - Anisotropic conductive material and connection structure - Google Patents

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淳 長谷川
Toru Takahashi
徹 高橋
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an anisotropic conductive material suppressed in generation of bubbles around conductive particles after an FPC has been subjected to thermal pressure bonding, thereby having a larger adhesive force.SOLUTION: An anisotropic conductive material contains a conductive particle, a binder resin and a solvent. The conductive particle has a 10% K value of a compressive elastic modulus at 140°C, which is 20-60% of a 10% K value of a compressive elastic modulus at 25°C, while the 10% K value of a compressive elastic modulus at 25°C is 2,300-4,500 N/mm.

Description

本発明は、複数の導電性粒子を含む異方性導電材料に関し、様々な接続対象部材の電極間の電気的な接続に用いることができる異方性導電材料並びに当該異方性導電材料を用いた接続構造体に関する。   The present invention relates to an anisotropic conductive material including a plurality of conductive particles, an anisotropic conductive material that can be used for electrical connection between electrodes of various connection target members, and the anisotropic conductive material. Related to the connection structure.

フレキシブルプリント基板(FPC)、ガラス基板、半導体チップ等の様々な接続対象部材の電極間の電気的な接続には異方性導電材料が用いられている。例えば、タッチパネルでは、フレキシブルプリント基板の電極が他の電極と異方性導電材料により電気的に接続されている。異方性導電材料は、接着剤成分であるインク又は樹脂中に複数の導電性粒子が分散されている。   An anisotropic conductive material is used for electrical connection between electrodes of various connection target members such as a flexible printed circuit board (FPC), a glass substrate, and a semiconductor chip. For example, in a touch panel, an electrode of a flexible printed board is electrically connected to another electrode by an anisotropic conductive material. In the anisotropic conductive material, a plurality of conductive particles are dispersed in ink or resin which is an adhesive component.

上記異方性導電材料の一例として、特許文献1には、導電性粒子の弾性率を規定したものが開示されている。具体的には、「第1基板上の接続端子と第2基板の接続端子との間に配し、熱圧着処理により両者の導通を確保しながら接合するための異方性導電接続材料であって、絶縁性接着剤中に導電性粒子が分散されてなる異方性導電接続材料において、圧着温度における導電性粒子の弾性率が、25℃におけるその弾性率の60〜90%であり、かつ圧着温度における第1基板の弾性率の200%以下であることを特徴とする異方性導電接続材料。」が開示されている。   As an example of the anisotropic conductive material, Patent Document 1 discloses a material that defines the elastic modulus of conductive particles. Specifically, it is an anisotropic conductive connection material that is placed between the connection terminal on the first substrate and the connection terminal on the second substrate, and is bonded to ensure the conduction between the two by thermocompression treatment. In the anisotropic conductive connecting material in which conductive particles are dispersed in an insulating adhesive, the elastic modulus of the conductive particles at the pressure bonding temperature is 60 to 90% of the elastic modulus at 25 ° C., and An anisotropic conductive connecting material characterized in that it is 200% or less of the elastic modulus of the first substrate at the pressure bonding temperature. "

近年、タッチパネル構造体の多配線数化、狭額縁化(画面拡大化,構造体の小型化)の要請により、異方性導電材料を用いてFPCと他の電極を接着する接着部分の面積が小さくなってきている。そのため、異方性導電材料により強力な接着力が求められている。しかしながら、特許文献1に記載のような従来の異方性導電材料では、FPCの熱圧着後における導電性粒子の反発力(形状の復元力)が大きく、導電性粒子の周辺に気泡が生じ易いという問題がある。かかる気泡が生じた場合には、異方導電性及び接着性の低下の原因となる。   In recent years, due to the demand for a large number of wires and a narrow frame (screen enlargement, structure miniaturization) of the touch panel structure, the area of the bonding portion that bonds the FPC and other electrodes using an anisotropic conductive material is reduced. It is getting smaller. For this reason, a strong adhesive force is required by the anisotropic conductive material. However, the conventional anisotropic conductive material described in Patent Document 1 has a large repulsive force (restoring force of the shape) of the conductive particles after FPC thermocompression bonding, and bubbles are likely to be generated around the conductive particles. There is a problem. When such bubbles are generated, it causes a decrease in anisotropic conductivity and adhesiveness.

よって、FPCの熱圧着後の導電性粒子の周辺における気泡の発生が抑制された、より接着力が大きい異方性導電材料の開発が望まれている。   Therefore, it is desired to develop an anisotropic conductive material having a larger adhesive force in which the generation of bubbles around the conductive particles after thermocompression bonding of the FPC is suppressed.

特許第3541777号公報Japanese Patent No. 3541777

本発明は、FPCの熱圧着後の導電性粒子の周辺における気泡の発生が抑制された、より接着力が大きい異方性導電材料を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide an anisotropic conductive material having a larger adhesive force in which the generation of bubbles around the conductive particles after thermocompression bonding of the FPC is suppressed.

本発明者は上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、異方性導電材料に含まれる導電性粒子として特定の圧縮弾性率を有する導電性粒子を用いる場合には、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor can achieve the above object when using conductive particles having a specific compressive modulus as the conductive particles contained in the anisotropic conductive material. As a result, the present invention has been completed.

即ち、本発明は、下記の異方性導電材料及び接続構造体に関する。
1.導電性粒子、バインダー樹脂及び溶剤を含有する異方性導電材料であって、
前記導電性粒子は、140℃における圧縮弾性率10%K値が25℃における圧縮弾性率10%K値の20〜60%であり、且つ、25℃における圧縮弾性率10%K値が2300〜4500N/mmであることを特徴とする異方性導電材料。
2.前記バインダー樹脂は、アミド樹脂、ウレタン樹脂及びクロロプレンゴムからなる群から選択される少なくとも1種である、上記項1に記載の異方性導電材料。
3.前記溶剤は、沸点が100℃以上である、上記項1又は2に記載の異方性導電材料。4.前記導電微粒子は、粒子径が5〜50μmである、上記項1〜3のいずれかに記載の異方性導電材料。
5.フレキシブルプリント基板の電極の電気的な接続に用いられる、上記項1〜4のいずれかに記載の異方性導電材料。
6.タッチパネル用である、上記項1〜5のいずれかに記載の異方性導電材料。
7.平均粒径が0.01〜5μmである無機充填剤を含有する、上記項1〜6のいずれかに記載の異方導電性材料。
8.前記無機充填剤がタルクを含有する、上記項7に記載の異方導電性材料。
9.第1の接続対象部材と、第2の接続対象部材と、当該第1,第2の接続対象部材を電気的に接続している接続部とを備え、
前記接続部が、上記項1〜8のいずれかに記載の異方性導電材料により形成されている、接続構造体。
That is, the present invention relates to the following anisotropic conductive material and connection structure.
1. An anisotropic conductive material containing conductive particles, a binder resin and a solvent,
The conductive particles have a compressive modulus 10% K value at 140 ° C. of 20 to 60% of a compressive modulus 10% K value at 25 ° C., and a compressive modulus 10% K value at 25 ° C. of 2300 to 2300. An anisotropic conductive material characterized by being 4500 N / mm 2 .
2. The anisotropic conductive material according to Item 1, wherein the binder resin is at least one selected from the group consisting of amide resins, urethane resins, and chloroprene rubber.
3. Item 3. The anisotropic conductive material according to Item 1 or 2, wherein the solvent has a boiling point of 100 ° C or higher. 4). Item 4. The anisotropic conductive material according to any one of Items 1 to 3, wherein the conductive fine particles have a particle size of 5 to 50 µm.
5. Item 5. The anisotropic conductive material according to any one of Items 1 to 4, which is used for electrical connection of electrodes of a flexible printed board.
6). Item 6. The anisotropic conductive material according to any one of Items 1 to 5, which is used for a touch panel.
7). Item 7. The anisotropic conductive material according to any one of Items 1 to 6, comprising an inorganic filler having an average particle size of 0.01 to 5 µm.
8). Item 8. The anisotropic conductive material according to Item 7, wherein the inorganic filler contains talc.
9. A first connection target member, a second connection target member, and a connection part that electrically connects the first and second connection target members;
The connection structure in which the connection part is formed of the anisotropic conductive material according to any one of Items 1 to 8.

以下、本発明の異方性導電材料及び接続構造体について詳細に説明する。
1.異方性導電材料
本発明の異方性導電材料は、導電性粒子、バインダー樹脂及び溶剤を含有し、
前記導電性粒子は、140℃における圧縮弾性率10%K値が25℃における圧縮弾性率10%K値の20〜60%であり、且つ、25℃における圧縮弾性率10%K値が2300〜4500N/mmであることを特徴とする。
Hereinafter, the anisotropic conductive material and connection structure of the present invention will be described in detail.
1. Anisotropic conductive material The anisotropic conductive material of the present invention contains conductive particles, a binder resin and a solvent,
The conductive particles have a compressive modulus 10% K value at 140 ° C. of 20 to 60% of a compressive modulus 10% K value at 25 ° C., and a compressive modulus 10% K value at 25 ° C. of 2300 to 2300. 4500 N / mm 2 .

上記特徴を有する本発明の異方性導電材料は、特定の圧縮弾性率を有する導電性粒子を採用することにより、FPCの熱圧着後の導電性粒子の周辺における気泡の発生が抑制されており、タッチパネル構造体の狭額縁化の要請によりFPCと他の電極を接着する接着部分の面積が小さい場合でも良好な接着力を発揮する。これにより、良好な接着性及び異方導電性を有する接続構造体を提供することができる。   In the anisotropic conductive material of the present invention having the above characteristics, by using conductive particles having a specific compressive elastic modulus, the generation of bubbles around the conductive particles after thermocompression bonding of the FPC is suppressed. Even when the area of the bonding portion for bonding the FPC and the other electrode is small due to a request for narrowing the frame of the touch panel structure, good adhesive force is exhibited. Thereby, the connection structure which has favorable adhesiveness and anisotropic conductivity can be provided.

以下、異方性導電材料を構成する各成分について説明する。
(導電性粒子)
導電性粒子としては、140℃における圧縮弾性率10%K値が25℃における圧縮弾性率10%K値の20〜60%であり、且つ、25℃における圧縮弾性率10%K値が2300〜4500N/mmであるものを用いる。
Hereinafter, each component constituting the anisotropic conductive material will be described.
(Conductive particles)
As the conductive particles, the compression modulus 10% K value at 140 ° C. is 20 to 60% of the compression modulus 10% K value at 25 ° C., and the compression modulus 10% K value at 25 ° C. is 2300 What is 4500 N / mm 2 is used.

具体的には、140℃における圧縮弾性率10%K値は1300〜1600N/mmであることが好ましく、1400〜1500N/mmであることがより好ましい。また、25℃における圧縮弾性率10%K値は2400〜4000N/mmであることが好ましく、2500〜3500N/mmであることがより好ましい。140℃における圧縮弾性率10%K値は25℃における圧縮弾性率10%K値の20〜60%であればよいが、この中でも30〜50%であることが好ましい。 Specifically, the compression modulus 10% K value at 140 ° C. is preferably from 1300~1600N / mm 2, more preferably 1400~1500N / mm 2. Moreover, preferably the compression modulus 10% K value at 25 ° C. is 2400~4000N / mm 2, more preferably 2500~3500N / mm 2. The 10% K value of the compressive modulus at 140 ° C. may be 20 to 60% of the 10% K value of the compressive modulus at 25 ° C. Among them, it is preferably 30 to 50%.

上記圧縮弾性率を有することにより、FPCの熱圧着後の導電性粒子の反発力(形状の復元力)が抑制され、FPCの熱圧着後の導電性粒子の周辺における気泡の発生が抑制でき、接着部分の面積が小さい場合でも良好な接着力が得られる。なお、本明細書における圧縮弾性率10%K値は、微小圧縮試験機(フィッシャー社製「フィッシャースコープH−100」)を用いて測定した値であり、詳細な測定方法については、後記実施例の欄で
説明する。
By having the compression elastic modulus, the repulsive force (restoring force of the shape) of the conductive particles after the thermocompression bonding of the FPC can be suppressed, and the generation of bubbles around the conductive particles after the thermocompression bonding of the FPC can be suppressed. Even when the area of the bonded portion is small, good adhesive force can be obtained. In addition, the compression elastic modulus 10% K value in the present specification is a value measured using a micro compression tester (“Fischer Scope H-100” manufactured by Fischer), and a detailed measurement method is described in Examples below. This is explained in the column.

導電性粒子は、上記圧縮弾性率を有する限り特に限定されない。導電性粒子としては、例えば、有機粒子、無機粒子、有機無機ハイブリッド粒子若しくは金属粒子等の表面を金属層(導電層)で被覆することにより得られる導電性粒子、又は実質的に金属(導電層)のみで構成される金属粒子等が挙げられる。   The conductive particles are not particularly limited as long as they have the compression elastic modulus. Examples of the conductive particles include conductive particles obtained by coating the surfaces of organic particles, inorganic particles, organic-inorganic hybrid particles, metal particles, or the like with a metal layer (conductive layer), or substantially metal (conductive layer). ) And the like.

上記導電層としては限定されず、金層、銀層、銅層、ニッケル層、パラジウム層、錫を含有する金属層、及び異種金属の合金層等が挙げられる。導電層は、多層構造を有していてもよい。また、導電層の表面は絶縁層により被覆されていてもよい。この場合には、接続対象部材の接続時に、導電層と電極との間の絶縁層が排除されて導電性が確保される。   Examples of the conductive layer include, but are not limited to, a gold layer, a silver layer, a copper layer, a nickel layer, a palladium layer, a metal layer containing tin, and an alloy layer of a different metal. The conductive layer may have a multilayer structure. The surface of the conductive layer may be covered with an insulating layer. In this case, when the connection target member is connected, the insulating layer between the conductive layer and the electrode is eliminated to ensure conductivity.

本発明では、導電性粒子として、上記の中でも有機粒子の表面に金属層(導電層)が形成されており、必要に応じて絶縁層が形成された態様が好ましい。このような導電性粒子を採用することにより、電極の損傷を抑制し、かつ電極間の導通信頼性をより一層高めることができる。   In the present invention, as the conductive particles, a metal layer (conductive layer) is formed on the surface of the organic particles among the above, and an embodiment in which an insulating layer is formed as necessary is preferable. By employing such conductive particles, it is possible to suppress damage to the electrodes and further improve the conduction reliability between the electrodes.

導電性粒子の粒子径は限定的ではないが、5〜50μmが好ましく、10〜30μmがより好ましい。   Although the particle diameter of electroconductive particle is not limited, 5-50 micrometers is preferable and 10-30 micrometers is more preferable.

導電性粒子の「粒子径」は、数平均粒子径を示す。導電性粒子の平均粒子径は、任意の導電性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求められる。   The “particle diameter” of the conductive particles indicates the number average particle diameter. The average particle diameter of the conductive particles can be obtained by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.

異方性導電材料中の導電性粒子の含有量は特に限定されないが、異方性導電材料100重量%中、導電性粒子の含有量は、好ましくは0.1重量%以上、より好ましくは0.5重量%以上、好ましくは20重量%以下、より好ましくは10重量%以下である。導電性粒子の含有量がかかる範囲内であると、接続されるべき上下の電極間に導電性粒子を容易に配置できる。また、接続されてはならない隣接する電極間が複数の導電性粒子を介して電気的に接続され難くなる。つまり、隣り合う電極間の短絡をより一層防止できる。
(バインダー樹脂)
バインダー樹脂としては特に限定されず、公知の異方性導電材料に用いられるバインダー樹脂が広く使用できる。これらの公知のバインダー樹脂の中でも、特にアミド樹脂、ウレタン樹脂及びクロロプレンゴムからなる群から選択される少なくとも1種が好ましい。
Although the content of the conductive particles in the anisotropic conductive material is not particularly limited, the content of the conductive particles in 100% by weight of the anisotropic conductive material is preferably 0.1% by weight or more, more preferably 0. .5% by weight or more, preferably 20% by weight or less, more preferably 10% by weight or less. When the content of the conductive particles is within such a range, the conductive particles can be easily arranged between the upper and lower electrodes to be connected. Moreover, it becomes difficult to connect electrically between the adjacent electrodes which should not be connected via several electroconductive particle. That is, a short circuit between adjacent electrodes can be further prevented.
(Binder resin)
The binder resin is not particularly limited, and binder resins used for known anisotropic conductive materials can be widely used. Among these known binder resins, at least one selected from the group consisting of amide resins, urethane resins and chloroprene rubbers is particularly preferable.

上記アミド樹脂としては、ポリアミドエラストマーを用いることが好ましく、ハードセグメントとしてポリアミド骨格を有し、かつソフトセグメントとしてポリエーテルエステル骨格及びポリエステル骨格の内の少なくとも1種の骨格を有するポリアミドエラストマーであることが好ましい。このようなポリアミドエラストマーの市販品として、富士化成工業社製のTPAEシリーズが挙げられる。中でも、上記ポリアミドエラストマーの市販品として、富士化成工業社製「TPAE−31」、「TPAE−32」及び「TPAE−33」が好適に用いられる。   As the amide resin, it is preferable to use a polyamide elastomer, which is a polyamide elastomer having a polyamide skeleton as a hard segment and at least one of a polyether ester skeleton and a polyester skeleton as a soft segment. preferable. As a commercial product of such a polyamide elastomer, TPAE series manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd. can be mentioned. Among these, “TPAE-31”, “TPAE-32”, and “TPAE-33” manufactured by Fuji Kasei Kogyo Co., Ltd. are preferably used as commercial products of the polyamide elastomer.

上記ウレタン樹脂は、一般的に、ハードセグメント成分として反応性の高いイソシアネート化合物と、ソフトセグメント成分として分子内に活性水素を有する鎖延長剤と、ポリオール化合物とを用いて合成される。これらの材料の組み合わせにより、各種の特性を有するポリウレタン樹脂が得られる。このハードセグメント成分とソフトセグメント成分を自由に組み合わせることにより、柔軟なものから硬いものまで自由に合成できる。   The urethane resin is generally synthesized using a highly reactive isocyanate compound as a hard segment component, a chain extender having active hydrogen in the molecule as a soft segment component, and a polyol compound. By combining these materials, polyurethane resins having various characteristics can be obtained. By freely combining the hard segment component and the soft segment component, it is possible to freely synthesize from a soft one to a hard one.

上記イソシアネート化合物としては、ジフェニルメタン−4,4’−ジイソシアネート
(MDI)及びイソホロンジイソシアネート(IPDI)等が挙げられる。これら以外のイソシアネート化合物を用いてもよい。
Examples of the isocyanate compound include diphenylmethane-4,4′-diisocyanate (MDI) and isophorone diisocyanate (IPDI). Isocyanate compounds other than these may be used.

上記鎖延長剤としては、グリコール化合物及びアミン化合物等が挙げられる。上記鎖延長剤の分子量は1000以下であることが好ましい。   Examples of the chain extender include glycol compounds and amine compounds. The molecular weight of the chain extender is preferably 1000 or less.

上記ポリオール化合物としては、ポリエステルポリオール及びポリエーテルポリオール等が挙げられる。上記ポリエステルポリオールとしては、ポリプロピレンアジペート、ポリヘキサメチレンカーボネート及びポリ−ε−カプロラクトン等が挙げられる。上記ポリエーテルポリオールとしては、ポリテトラメチレングリコール及びポリエチレングリコール等が挙げられる。   Examples of the polyol compound include polyester polyols and polyether polyols. Examples of the polyester polyol include polypropylene adipate, polyhexamethylene carbonate, and poly-ε-caprolactone. Examples of the polyether polyol include polytetramethylene glycol and polyethylene glycol.

上記ポリウレタン樹脂の市販品は多く存在する。上記ポリウレタン樹脂の市販品としては、日本ポリウレタン工業社製のミラクトンシリーズ、大日精化社製のレザミンシリーズ、及びDIC社製のパンデックスシリーズ等が挙げられる。   There are many commercially available polyurethane resins. Examples of commercially available polyurethane resins include the Milactone series manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., the Rezamin series manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd., and the Pandex series manufactured by DIC Corporation.

上記アミド樹脂、ウレタン樹脂及びクロロプレンゴム以外にも、例えば、MgO吸着フェノールなどをバインダー樹脂として用いることもできる。   In addition to the amide resin, urethane resin, and chloroprene rubber, for example, MgO-adsorbed phenol can be used as the binder resin.

上記MgO吸着フェノールは、例えば、フェノール樹脂溶液にMgOの粉体を分散させて室温で1日攪拌後、過剰のMgOを除去することで簡便に得られる。吸着されているMgOの一部がカルボキシル基及びフェノール性水酸基と吸着し、MgO吸着フェノール全体として物理的な架橋(配位結合)が形成される。この物理的な架橋は化学架橋とは異なり、熱により可逆的なため、柔軟性を維持しながら高い凝集力を発現することができる。   The MgO-adsorbed phenol can be easily obtained by, for example, dispersing MgO powder in a phenol resin solution and stirring it at room temperature for 1 day, and then removing excess MgO. A part of the adsorbed MgO adsorbs to the carboxyl group and the phenolic hydroxyl group, and physical crosslinks (coordination bonds) are formed as the entire MgO adsorbed phenol. Unlike chemical crosslinking, this physical crosslinking is reversible by heat, and thus can exhibit high cohesion while maintaining flexibility.

異方性導電材料中のバインダー樹脂の含有量は特に限定されないが、異方性導電材料100重量%中(固形分換算:溶剤は除く)、バインダー樹脂の含有量は、好ましくは30重量%以上、より好ましくは50重量%以上、好ましくは95重量%以下、より好ましくは90重量%以下である。異方性導電材料中には、スクリーン印刷に適するように、各種のフィラー等が配合されることが多いため、バインダー樹脂の含有量が多すぎると接着性以外の他の特性が悪くなる傾向がある。
(溶剤)
溶剤としては特に限定されない。溶剤の使用により異方性導電材料の粘度を容易に調整できる。溶剤としては、沸点が100℃以上のものが好ましく、例えば、ベンジルアルコール、イソホロン、ジメチルホルムアミド、メチルセロソルブ、トルエン、シクロヘキサノン等が挙げられる。これらの溶剤は1種又は2種以上を混合して使用できる。
Although the content of the binder resin in the anisotropic conductive material is not particularly limited, the content of the binder resin is preferably 30% by weight or more in 100% by weight of the anisotropic conductive material (solid content conversion: excluding the solvent). More preferably, it is 50% by weight or more, preferably 95% by weight or less, more preferably 90% by weight or less. In the anisotropic conductive material, various fillers and the like are often blended so as to be suitable for screen printing. Therefore, when the content of the binder resin is too large, other properties other than adhesiveness tend to be deteriorated. is there.
(solvent)
The solvent is not particularly limited. By using a solvent, the viscosity of the anisotropic conductive material can be easily adjusted. The solvent preferably has a boiling point of 100 ° C. or higher, and examples thereof include benzyl alcohol, isophorone, dimethylformamide, methyl cellosolve, toluene, cyclohexanone and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more.

溶剤は、上記バインダー樹脂を分散又は溶解した液として添加してもよく、導電性粒子を分散させた液として添加してもよい。また、異方性導電材料の製造工程において、粘度調整の目的等により上記溶剤を添加してもよい。   The solvent may be added as a liquid in which the binder resin is dispersed or dissolved, or may be added as a liquid in which conductive particles are dispersed. Further, in the manufacturing process of the anisotropic conductive material, the solvent may be added depending on the purpose of adjusting the viscosity.

溶剤の含有量は、他の成分の分散又は溶解性、並びに異方性導電材料の粘度などを考慮して、適宜調整される。異方性導電材料100重量%中、溶剤の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、更に好ましくは1重量%以上、好ましくは85重量%以下、より好ましくは75重量%以下である。
(他の成分)
本発明の異方性導電材料は、上記成分以外に、熱硬化性化合物、硬化剤、硬化促進剤、光硬化性化合物、光重合開始剤、無機充填剤、有機充填剤、貯蔵安定剤、イオン捕捉剤、
シランカップリング剤、粘着付与剤、消泡剤、分散剤、チクソ性調整剤、レベリング剤
等をさらに含んでいてもよい。
The content of the solvent is appropriately adjusted in consideration of the dispersion or solubility of other components, the viscosity of the anisotropic conductive material, and the like. In 100% by weight of the anisotropic conductive material, the content of the solvent is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, still more preferably 1% by weight or more, preferably 85% by weight or less, and more. Preferably it is 75 weight% or less.
(Other ingredients)
In addition to the above components, the anisotropic conductive material of the present invention includes a thermosetting compound, a curing agent, a curing accelerator, a photocurable compound, a photopolymerization initiator, an inorganic filler, an organic filler, a storage stabilizer, an ion Scavenger,
A silane coupling agent, a tackifier, an antifoaming agent, a dispersant, a thixotropy adjusting agent, a leveling agent and the like may further be included.

上記の他の成分の内、無機充填剤が好適に用いられる。無機充填剤の使用により、異方導電材料としての粘度やチクソ性を任意に調整できる他、凝集力や応力緩和性を発現させることが可能になる。上記無機充填剤としては、シリカ、アルミナ、酸化チタン、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化マグネシウム及び酸化鉄等の酸化物類や、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム及び炭酸亜鉛等の炭酸塩類や、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム、珪酸カルシウム、カオリン、クレー、タルク、マイカ、ゼオライト及びセリサイト等の珪酸塩類や、水酸化アルミニウム及び水酸化マグネシウム等の水酸化物類や、硫酸カルシウム、硫酸バリウム及び亜硫酸カルシウム等の硫酸塩類又は亜硫酸塩類や、窒化ホウ素及び窒化珪素等の窒化物類や、チタン酸カリウム及びチタン酸バリウム等のチタン酸塩類や等が挙げられる。更に、上記無機充填剤としては、ドーソナイト、カーボンブラック及び炭化珪素等が挙げられる。上記無機充填剤は、1種又は2種以上で使用できる。   Of the above-mentioned other components, inorganic fillers are preferably used. By using an inorganic filler, the viscosity and thixotropy as an anisotropic conductive material can be arbitrarily adjusted, and cohesive force and stress relaxation properties can be expressed. Examples of the inorganic filler include oxides such as silica, alumina, titanium oxide, zirconia, zinc oxide, magnesium oxide and iron oxide, carbonates such as calcium carbonate, magnesium carbonate and zinc carbonate, aluminum silicate and magnesium silicate. Silicates such as calcium silicate, kaolin, clay, talc, mica, zeolite and sericite, hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide, sulfates such as calcium sulfate, barium sulfate and calcium sulfite, or Examples thereof include sulfites, nitrides such as boron nitride and silicon nitride, titanates such as potassium titanate and barium titanate, and the like. Furthermore, examples of the inorganic filler include dawsonite, carbon black, and silicon carbide. The said inorganic filler can be used by 1 type (s) or 2 or more types.

異方性導電材料の接着性をより一層高める観点からは、上記無機充填剤は、タルクを含有することが好ましい。   From the viewpoint of further improving the adhesiveness of the anisotropic conductive material, the inorganic filler preferably contains talc.

上記無機充填剤の平均粒径は、好ましくは0.01〜5μmである。無機充填剤の平均粒径が上記範囲内であると、応力緩和性が効果的に発現され、異方性導電材料の接着性がより一層高くなる。異方性導電材料の接着性を更に一層高める観点からは、上記無機充填剤の平均粒径は、より好ましくは3μm以下である。   The average particle size of the inorganic filler is preferably 0.01 to 5 μm. When the average particle size of the inorganic filler is within the above range, stress relaxation properties are effectively expressed, and the adhesiveness of the anisotropic conductive material is further enhanced. From the viewpoint of further enhancing the adhesion of the anisotropic conductive material, the average particle size of the inorganic filler is more preferably 3 μm or less.

上記「平均粒径」とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した粒度分布測定結果から求められる累積50%粒子径(Median径)である。   The “average particle diameter” is a cumulative 50% particle diameter (Median diameter) obtained from a particle size distribution measurement result measured by a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus.

また、上記無機充填剤は、表面処理されていることが好ましい。該表面処理の方法として、従来公知の方法を採用可能である。   Moreover, it is preferable that the said inorganic filler is surface-treated. A conventionally known method can be employed as the surface treatment method.

上記無機充填剤の含有量は、上記バインダー樹脂100重量部に対して、好ましくは5重量部以上、好ましくは150重量部以下、より好ましくは100重量部以下である。上記無機充填剤の含有量が上記範囲内であると、異方性導電材料の接着性の向上効果が効果的に得られるとともに、無機充填剤の分散状態が良好になり、貯蔵安定性の低下等の不具合が生じ難くなる。
(異方性導電材料の詳細及び用途)
本発明の異方性導電材料は、ペースト状又はフィルム状の異方性導電材料であることが好ましく、ペースト状であることが好ましい。ペースト状の異方性導電材料は、異方性導電ペーストである。フィルム状の異方性導電材料は、異方性導電フィルムである。
The content of the inorganic filler is preferably 5 parts by weight or more, preferably 150 parts by weight or less, more preferably 100 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the binder resin. When the content of the inorganic filler is within the above range, an effect of improving the adhesiveness of the anisotropic conductive material can be effectively obtained, and the dispersion state of the inorganic filler is improved, resulting in a decrease in storage stability. It is difficult for problems such as these to occur.
(Details and applications of anisotropic conductive materials)
The anisotropic conductive material of the present invention is preferably a paste-like or film-like anisotropic conductive material, preferably a paste. The paste-like anisotropic conductive material is an anisotropic conductive paste. The film-like anisotropic conductive material is an anisotropic conductive film.

本発明の異方性導電材料を用いて、フレキシブルプリント基板(FPC)の電極を他の電極と電気的に接続し、タッチパネル等の接続構造体を得たときに、FPCの熱圧着後の導電性粒子の周辺における気泡の発生が抑制されており、タッチパネル構造体の狭額縁化の要請によりFPCと他の電極を接着する接着部分の面積が小さい場合でも良好な接着力が得られる。   When an anisotropic conductive material of the present invention is used to electrically connect an electrode of a flexible printed circuit board (FPC) to another electrode to obtain a connection structure such as a touch panel, the conductivity after thermocompression bonding of the FPC The generation of bubbles in the vicinity of the conductive particles is suppressed, and a good adhesive force can be obtained even when the area of the bonding portion where the FPC and another electrode are bonded is small due to a request for narrowing the frame of the touch panel structure.

本発明の異方性導電材料は、タッチパネル用の異方性導電材料であることが好ましい。つまり、本発明の異方性導電材料は、FPCの電極の電気的な接続に用いられるタッチパネル用の異方性導電材料であることが好ましい。タッチパネルでは異方性導電材料が高温の環境下に晒されたりする。本発明の異方性導電材料は、FPCの熱圧着後の導電性粒子の反発力(形状の復元力)が抑制されているため、異方性導電材料が高温下に晒されても、異方性導電材料と接続対象部材との接着性を良好に保持することができる。
2.接続構造体
本発明の異方性導電材料は、様々な接続対象部材を接着するために使用できる。上記異方性導電材料は、第1,第2の接続対象部材が電気的に接続されている接続構造体を得るために好適に用いられる。
The anisotropic conductive material of the present invention is preferably an anisotropic conductive material for a touch panel. That is, the anisotropic conductive material of the present invention is preferably an anisotropic conductive material for a touch panel used for electrical connection of FPC electrodes. In the touch panel, the anisotropic conductive material is exposed to a high temperature environment. In the anisotropic conductive material of the present invention, the repulsive force (the shape restoring force) of the conductive particles after thermocompression bonding of the FPC is suppressed. Therefore, even if the anisotropic conductive material is exposed to high temperatures, Adhesiveness between the isotropic conductive material and the connection target member can be favorably maintained.
2. Connection Structure The anisotropic conductive material of the present invention can be used for bonding various connection target members. The anisotropic conductive material is suitably used for obtaining a connection structure in which the first and second connection target members are electrically connected.

図1に、本発明の一実施形態に係る異方性導電材料を用いた接続構造体の一例を模式的に断面図で示す。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a connection structure using an anisotropic conductive material according to an embodiment of the present invention.

図1に示す接続構造体1は、第1の接続対象部材2と、第2の接続対象部材4と、第1,第2の接続対象部材2,4を接続している接続部3とを備える。接続部3は、導電性粒子5を含む異方性導電材料により形成されている。   A connection structure 1 shown in FIG. 1 includes a first connection target member 2, a second connection target member 4, and a connection part 3 connecting the first and second connection target members 2 and 4. Prepare. The connection part 3 is formed of an anisotropic conductive material including the conductive particles 5.

第1の接続対象部材2の上面2aには、複数の電極2bが設けられている。第2の接続対象部材4の下面4aには、複数の電極4bが設けられている。電極2bと電極4bとが、1つ又は複数の導電性粒子5により電気的に接続されている。従って、第1,第2の接続対象部材2,4が導電性粒子5により電気的に接続されている。   A plurality of electrodes 2 b are provided on the upper surface 2 a of the first connection target member 2. A plurality of electrodes 4 b are provided on the lower surface 4 a of the second connection target member 4. The electrode 2b and the electrode 4b are electrically connected by one or a plurality of conductive particles 5. Therefore, the first and second connection target members 2 and 4 are electrically connected by the conductive particles 5.

電極2b,4b間の接続は、通常、第1の接続対象部材2と第2の接続対象部材4とを異方性導電材料を介して電極2b,4b同士が対向するように重ね合わせた後に、異方性導電材料を硬化させる際に、加圧することにより行われる。加圧により、導電性粒子5は圧縮されるが、本発明では、導電性粒子は特定の圧縮弾性率を有することにより、加圧後の導電性粒子の反発力(形状の復元力)が抑制され、加圧後の導電性粒子の周辺における気泡の発生が抑制されている。   The connection between the electrodes 2b and 4b is usually performed after the first connection target member 2 and the second connection target member 4 are overlapped with each other via the anisotropic conductive material so that the electrodes 2b and 4b face each other. When the anisotropic conductive material is cured, it is performed by applying pressure. Although the conductive particles 5 are compressed by the pressurization, in the present invention, the conductive particles have a specific compression elastic modulus, thereby suppressing the repulsive force (the restoring force of the shape) of the conductive particles after the pressurization. In addition, the generation of bubbles around the conductive particles after pressurization is suppressed.

上記接続構造体としては、具体的には、回路基板上に、半導体チップ、コンデンサチップ又はダイオードチップ等の電子部品チップが搭載されており、該電子部品チップの電極が、回路基板上の電極と電気的に接続されている接続構造体等が挙げられる。回路基板としては、FPC等の様々なプリント基板、ガラス基板、又は金属箔が積層された基板等の様々な回路基板が挙げられる。第1,第2の接続対象部材は、電子部品又は回路基板であることが好ましい。   Specifically, as the connection structure, an electronic component chip such as a semiconductor chip, a capacitor chip or a diode chip is mounted on a circuit board, and the electrode of the electronic component chip is connected to an electrode on the circuit board. Examples include electrically connected structures. As a circuit board, various printed circuit boards, such as various printed circuit boards, such as FPC, a glass substrate, or a board | substrate with which metal foil was laminated | stacked, are mentioned. The first and second connection target members are preferably electronic components or circuit boards.

第1,第2の接続対象部材の内の少なくとも一方は、FPCであることが好ましい。上記接続構造体は、タッチパネルであることが好ましい。   At least one of the first and second connection target members is preferably an FPC. The connection structure is preferably a touch panel.

本発明の異方性導電材料は、特定の圧縮弾性率を有する導電性粒子を採用することにより、FPCの熱圧着後の導電性粒子の周辺における気泡の発生が抑制されており、タッチパネル構造体の狭額縁化の要請によりFPCと他の電極を接着する接着部分の面積が小さい場合でも良好な接着力を発揮する。これにより、良好な接着性及び異方導電性を有する接続構造体を提供することができる。   The anisotropic conductive material of the present invention employs conductive particles having a specific compressive elastic modulus, thereby suppressing the generation of bubbles around the conductive particles after thermocompression bonding of the FPC. Even when the area of the bonding portion for bonding the FPC and another electrode is small due to the demand for narrowing the frame, good adhesive force is exhibited. Thereby, the connection structure which has favorable adhesiveness and anisotropic conductivity can be provided.

本発明の一実施形態に係る異方性導電材料を用いた接続構造体を模式的に示す正面断面図である。It is a front sectional view showing typically the connection structure using the anisotropic conductive material concerning one embodiment of the present invention. 実施例及び比較例において、接着力の測定に用いたフレキシブルプリント基板(FPC)を示す模式図である。In an Example and a comparative example, it is a schematic diagram which shows the flexible printed circuit board (FPC) used for the measurement of adhesive force. 実施例及び比較例において、T型剥離強度の測定に用いた測定用サンプルを示す模式図である。In an Example and a comparative example, it is a schematic diagram which shows the sample for a measurement used for the measurement of T-type peeling strength. 実施例及び比較例において、気泡発生の有無を判断する際の判断基準となる限度見本である。In an Example and a comparative example, it is a limit sample used as the judgment standard at the time of judging the presence or absence of bubble generation.

以下に実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明する。但し、本発明は実施例に限定されない。   The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to the examples.

実施例1〜5及び比較例1〜5
≪接続構造体の作製≫
(1)下記表1に示す各実施例及び各比較例の各成分を公転真空ミキサー「あわとり練太郎」にて2000回転で3分混練し、異方性導電ペーストを作製した。
(2)各実施例及び各比較例で使用した導電性粒子の25℃及び圧着温度(140℃)における圧縮弾性率10%K値(N/mm)を表2に記載した。
(3)導電性粒子の圧縮弾性率10%K値は以下のように測定した。微小圧縮試験機を用いて、直径50umのダイアモンド製円柱の平滑圧子端面で、圧縮速度2.6(mN/秒)及び最大試験荷重10gの条件下で導電性粒子を圧縮する。このときの荷重値(N)及び圧縮変位(mm)を測定する。得られた測定値から、圧縮弾性率を下記式より求めることができる。微小圧縮試験機として、例えば、フィッシャー社製「フィッシャースコープH−100」を用いた。
Examples 1-5 and Comparative Examples 1-5
<< Production of connection structure >>
(1) The components of each Example and each Comparative Example shown in Table 1 below were kneaded for 3 minutes at 2000 revolutions in a revolving vacuum mixer “Awatori Nertaro” to prepare an anisotropic conductive paste.
(2) The compressive modulus 10% K value (N / mm 2 ) at 25 ° C. and the pressure bonding temperature (140 ° C.) of the conductive particles used in each example and each comparative example is shown in Table 2.
(3) The compression elastic modulus 10% K value of the conductive particles was measured as follows. Using a micro-compression tester, the conductive particles are compressed under the conditions of a compression rate of 2.6 (mN / sec) and a maximum test load of 10 g with the end face of a diamond cylinder having a diameter of 50 um. The load value (N) and compression displacement (mm) at this time are measured. From the measured value obtained, the compression modulus can be obtained from the following formula. As the micro compression tester, for example, “Fischer Scope H-100” manufactured by Fischer was used.

K値(N/mm)=(3/21/2)・F・S−3/2 ・R−1/2
F:導電性粒子が10%圧縮したときの荷重値(N)
S:導電性粒子が10%圧縮したときの圧縮変位(N)
R:導電性粒子の半径(mm)
(4)25℃の圧縮弾性率10%K値に対する140℃の圧縮弾性率10%K値(%)を表2に記載した。
(5)異方性導電ペーストをポリイミド基板に18μm厚みの銅配線が形成されその配線には5μm厚みのNi及び0.05um厚みのAuが蒸着されたフレキシブル基板に塗布した。塗布方法は100メッシュ(材質ステンレス)の版を使用して、乾燥後の厚みが20〜25μmになるように、得られた異方性導電材料をスクリーン印刷した。次に、熱風乾燥オーブン内110℃で10分乾燥を行った。その後、コンスタントヒーター方式圧着機(大橋製作所:BD−03SDSS)を用いて、フレキシブルプリント基板と図1に示す1mmピッチのAgペースト電極が形成されたPET基板とを異方性導電材料を介して、圧着温度140℃及び圧力294.2N/cmの条件で、15秒間貼り合わせ、図2に示す接続構造体を得た。
K value (N / mm 2 ) = (3/2 1/2 ) · F · S −3 / 2 · R −1/2
F: Load value when conductive particles are compressed by 10% (N)
S: Compression displacement when conductive particles are compressed by 10% (N)
R: radius of conductive particles (mm)
(4) The compression elastic modulus 10% K value (%) at 140 ° C. with respect to the compression elastic modulus 10% K value at 25 ° C. is shown in Table 2.
(5) An anisotropic conductive paste was applied to a flexible substrate on which a 18 μm-thick copper wiring was formed on a polyimide substrate, and 5 μm-thick Ni and 0.05 μm-thick Au were deposited on the wiring. A 100 mesh (material stainless steel) plate was used as the coating method, and the obtained anisotropic conductive material was screen-printed so that the thickness after drying was 20 to 25 μm. Next, drying was performed in a hot air drying oven at 110 ° C. for 10 minutes. Then, using a constant heater type crimping machine (Ohashi Seisakusho: BD-03SDSS), the flexible printed circuit board and the PET substrate on which the 1 mm pitch Ag paste electrode shown in FIG. Bonding was performed for 15 seconds under the conditions of a pressure bonding temperature of 140 ° C. and a pressure of 294.2 N / cm 2 to obtain a connection structure shown in FIG.

Figure 2013004202
Figure 2013004202

≪特性評価≫
得られた接続構造体にて初期接着力、高温高湿試験後接着力、初期抵抗値及び高温高湿試験後抵抗値を測定した。測定方法は以下の通りである。
≪Characteristic evaluation≫
With the obtained connection structure, initial adhesive strength, adhesive strength after high-temperature and high-humidity test, initial resistance value, and resistance value after high-temperature and high-humidity test were measured. The measuring method is as follows.

初期密着力
図3に示すように、静的材料試験機(島津製作所社製「EZ−Graph」)を用いて、得られた接着力の測定用サンプルについて、引っ張り速度50mm/分でT型剥離試験を行った。得られたT型剥離強度の最大値を接着力の測定値とした。図3に示すように、矢印で示す方向に剥離して、接着力を測定した。
Initial adhesion force As shown in FIG. 3, using a static material tester (“EZ-Graph” manufactured by Shimadzu Corporation), the obtained adhesive force measurement sample was subjected to T-type peeling at a pulling speed of 50 mm / min. A test was conducted. The maximum value of the obtained T-type peel strength was taken as the measured value of adhesive force. As shown in FIG. 3, it peeled in the direction shown by the arrow, and the adhesive force was measured.

高温高湿試験後接着力
接続構造体を60C,95%RH環境内に500時間放置後上記方法にて接着力を測定した。
After the high-temperature and high-humidity test, the bonded structure was left in a 60C, 95% RH environment for 500 hours, and then the adhesive force was measured by the above method.

初期抵抗値
接続構造体の配線抵抗値を抵抗測定機器(岩崎通信機VOAC7521)で測定した。
The wiring resistance value of the initial resistance value connection structure was measured with a resistance measuring device (Iwasaki Tsushinki VOAC7521).

高温高湿試験後抵抗値
接続構造体を60C,95%RH環境内に500時間放置後上記方法にて抵抗値を測定した。
After the high temperature and high humidity test, the resistance value connection structure was left in a 60 C, 95% RH environment for 500 hours, and then the resistance value was measured by the above method.

圧着後の接着面の気泡の有無
得られた接続構造体にて圧着後の接着面気泡有無を判定した。判定方法は異方性導電ペーストをポリイミド基板に9μm厚みの銅配線が形成されその配線には5μm厚みのNi及び0.05μm厚みのAuが蒸着されたフレキシブル基板に塗布した。塗布方法、乾燥方法及び圧着方法は上記方法にてフレキシブル基板とITOガラスを圧着温度140℃及び圧力294.2N/cmの条件で、15秒間貼り合わせ、接続構造体を得た。
Presence / absence of bubbles on the bonded surface after pressure bonding The presence or absence of bubbles on the bonded surface after pressure bonding was determined using the obtained connection structure. In the determination method, an anisotropic conductive paste was applied to a flexible substrate on which a 9 μm-thick copper wiring was formed on a polyimide substrate, and 5 μm-thick Ni and 0.05 μm-thick Au were deposited on the wiring. As a coating method, a drying method, and a pressure bonding method, a flexible substrate and ITO glass were bonded to each other for 15 seconds under the conditions of a pressure bonding temperature of 140 ° C. and a pressure of 294.2 N / cm 2 to obtain a connection structure.

得られた接続構造体をITOガラス上面より目視で確認。気泡が発生する場合圧着した粒子周辺に気泡が見られる。図4で示す限度見本を判断基準にその気泡発生の有無を判断
した。
The obtained connection structure was confirmed visually from the top surface of the ITO glass. When bubbles are generated, bubbles are observed around the pressed particles. The presence or absence of the generation of bubbles was determined using the limit sample shown in FIG. 4 as a criterion.

各特性評価の結果を下記表2に示す。   The results of each characteristic evaluation are shown in Table 2 below.

Figure 2013004202
Figure 2013004202

≪考察≫
表2から分かる通り、圧着温度における導電性粒子の圧縮弾性率10%K値が25℃における圧縮弾性率10%K値の60%以上の場合にはその高温高湿試験後接着力の低下が顕著に見られる。低下率許容範囲として初期値の20%以内が通常の試験合格基準である。
≪Discussion≫
As can be seen from Table 2, when the compressive modulus 10% K value of the conductive particles at the pressure bonding temperature is 60% or more of the compressive modulus 10% K value at 25 ° C., the adhesive strength decreases after the high temperature and high humidity test. It is noticeable. Within 20% of the initial value as the allowable range of the decrease rate is a normal test pass standard.

また、圧着温度における導電性粒子の圧縮弾性率10%K値が25℃における圧縮弾性率10%K値の60%以上20%以下の場合にはその高温高湿試験後の接続抵抗の低下(抵抗値の増加)が顕著に見られる。低下率許容範囲として初期値の20%以内が通常の試験合格基準である。   In addition, when the compressive modulus 10% K value of the conductive particles at the pressure bonding temperature is 60% or more and 20% or less of the compressive modulus 10% K value at 25 ° C., the connection resistance decreases after the high temperature and high humidity test ( (Increase in resistance value) is noticeable. Within 20% of the initial value as the allowable range of the decrease rate is a normal test pass standard.

また圧着温度における導電性粒子の圧縮弾性率10%K値が25℃における圧縮弾性率10%K値の60%以上の場合には圧着後の接着面気泡が見られる。本現象が見られる場合、経時での配線部腐食などによるその接続抵抗の増加やエージング後の接着力の低下の原因となる。   In addition, when the compression elastic modulus 10% K value of the conductive particles at the pressure bonding temperature is 60% or more of the compression elastic modulus 10% K value at 25 ° C., adhesive surface bubbles after the pressure bonding are observed. When this phenomenon is observed, it causes an increase in the connection resistance due to corrosion of the wiring portion over time and a decrease in the adhesive strength after aging.

圧着温度における導電性粒子の圧縮弾性率10%K値が25℃における圧縮弾性率10%K値の20〜60%の範囲にあっても25℃における圧縮弾性率10%K値が2300(N/mm)以下又は4500(N/mm)の場合はその初期抵抗値が著しく低下している。また4500(N/mm)以上の場合は高温高湿試験後抵抗値の低下も大きい。2300(N/mm)以下の場合は導電性粒子の破壊により、4500(N/mm)以上の場合は接続端子への接触面積低下により上記現象が発生した。 Even if the compressive modulus 10% K value of the conductive particles at the pressure bonding temperature is in the range of 20 to 60% of the compressive modulus 10% K value at 25 ° C., the compressive modulus 10% K value at 25 ° C. is 2300 (N / Mm 2 ) or less or 4500 (N / mm 2 ), the initial resistance value is significantly reduced. Moreover, in the case of 4500 (N / mm < 2 >) or more, the fall of resistance value after a high temperature, high humidity test is also large. In the case of 2300 (N / mm 2 ) or less, the above phenomenon occurred due to the destruction of the conductive particles, and in the case of 4500 (N / mm 2 ) or more, the contact area to the connection terminal decreased.

バインダー樹脂はポリアミド樹脂以外にウレタン樹脂、クロロプレンゴムを使用した場合も接着力及び接続抵抗値に低下はなかった。   In addition to polyamide resin, binder resin used urethane resin and chloroprene rubber, there was no decrease in adhesive strength and connection resistance value.

従って、異方導電接続材料の接続信頼性を向上するためには導電性粒子として圧着温度における弾性率が25℃における弾性率の20〜60%の範囲にありかつ25℃における10%圧縮のK値が2300〜4500(N/mm)であることが必要である。 Therefore, in order to improve the connection reliability of the anisotropic conductive connection material, the elastic modulus at the pressure bonding temperature as the conductive particles is in the range of 20 to 60% of the elastic modulus at 25 ° C. and K of 10% compression at 25 ° C. The value needs to be 2300-4500 (N / mm 2 ).

1…接続構造体
2…第1の接続対象部材
2a…上面
2b…電極
3…接続部
4…第2の接続対象部材
4a…下面
4b…電極
5…導電性粒子
51…Agペースト付電極
52…PET基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Connection structure 2 ... 1st connection object member 2a ... Upper surface 2b ... Electrode 3 ... Connection part 4 ... 2nd connection object member 4a ... Lower surface 4b ... Electrode 5 ... Electroconductive particle 51 ... Electrode with Ag paste 52 ... PET substrate

Claims (9)

導電性粒子、バインダー樹脂及び溶剤を含有する異方性導電材料であって、
前記導電性粒子は、140℃における圧縮弾性率10%K値が25℃における圧縮弾性率10%K値の20〜60%であり、且つ、25℃における圧縮弾性率10%K値が2300〜4500N/mmであることを特徴とする異方性導電材料。
An anisotropic conductive material containing conductive particles, a binder resin and a solvent,
The conductive particles have a compressive modulus 10% K value at 140 ° C. of 20 to 60% of a compressive modulus 10% K value at 25 ° C., and a compressive modulus 10% K value at 25 ° C. of 2300 to 2300. An anisotropic conductive material characterized by being 4500 N / mm 2 .
前記バインダー樹脂は、アミド樹脂、ウレタン樹脂及びクロロプレンゴムからなる群から選択される少なくとも1種である、請求項1に記載の異方性導電材料。   The anisotropic conductive material according to claim 1, wherein the binder resin is at least one selected from the group consisting of an amide resin, a urethane resin, and a chloroprene rubber. 前記溶剤は、沸点が100℃以上である、請求項1又は2に記載の異方性導電材料。   The anisotropic conductive material according to claim 1, wherein the solvent has a boiling point of 100 ° C. or higher. 前記導電性粒子は、粒子径が5〜50μmである、請求項1〜3のいずれかに記載の異方性導電材料。   The anisotropic conductive material according to claim 1, wherein the conductive particles have a particle diameter of 5 to 50 μm. フレキシブルプリント基板の電極の電気的な接続に用いられる、請求項1〜4のいずれかに記載の異方性導電材料。   The anisotropic conductive material in any one of Claims 1-4 used for the electrical connection of the electrode of a flexible printed circuit board. タッチパネル用である、請求項1〜5のいずれかに記載の異方性導電材料。   The anisotropic conductive material according to any one of claims 1 to 5, which is used for a touch panel. 平均粒径が0.01〜5μmである無機充填剤を含有する、請求項1〜6のいずれかに記載の異方導電性材料。   The anisotropic conductive material in any one of Claims 1-6 containing the inorganic filler whose average particle diameter is 0.01-5 micrometers. 前記無機充填剤がタルクを含有する、請求項7に記載の異方導電性材料。   The anisotropic conductive material according to claim 7, wherein the inorganic filler contains talc. 第1の接続対象部材と、第2の接続対象部材と、当該第1,第2の接続対象部材を電気的に接続している接続部とを備え、
前記接続部が、請求項1〜8のいずれかに記載の異方性導電材料により形成されている、接続構造体。
A first connection target member, a second connection target member, and a connection part that electrically connects the first and second connection target members;
The connection structure in which the said connection part is formed with the anisotropic conductive material in any one of Claims 1-8.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2018181694A1 (en) * 2017-03-30 2018-10-04 積水化学工業株式会社 Conductive particles, conductive material, and connection structure
US10297741B1 (en) * 2017-12-14 2019-05-21 Eastman Kodak Company Electrically-conductive compositions
US10305022B1 (en) * 2017-12-14 2019-05-28 Eastman Kodak Company Silver-containing electrically-conductive compositions

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