JP2012528068A - 高温でのガラスのレーザ・スコアリング - Google Patents
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Abstract
Description
0.85(α−βTprior(x))≦P(x)≦1.10(α−βTprior(x))
(式中、xはスコア線(31、115)に沿った距離を表わし、P(x)はスコア線(31、115)に沿ったレーザビームの出力であり、Tprior(x)はレーザビーム(113)の照射前のスコア線(31、115)に沿ったガラスの摂氏温度であり、xの少なくとも1つの値についてTprior(x)>25℃であり、αおよびβは正の定数である)の関係を満たすように行われる。
0.85(α−βTprior(x))≦P(x)≦1.10(α−βTprior(x))
(式中、xはスコア線に沿った距離を表わし、P(x)はスコア線に沿ったレーザビームの出力であり、Tprior(x)はレーザビームの照射前のスコア線に沿ったガラスの摂氏温度であり、xの少なくとも1つの値についてTprior(x)>25℃であり、αおよびβは正の定数である)の関係を満たすように選択される。
0.90(α−βTprior(x))≦P(x)≦1.05(α−βTprior(x))
の関係を満たす、態様1の方法が提供される。
Tstrain−Tprior(x)≧100℃、
(式中、Tstrainはガラスの摂氏温度の歪み点である)の関係を満たす、態様1の方法が提供される。
Tbeam(x)−Tprior(x)≧80℃
(式中、Tbeam(x)は摂氏温度である)の関係を満たす、態様1の方法が提供される。
0.85(α−βTprior)≦P≦1.10(α−βTprior)
(式中、Tpriorは検出器によって少なくとも1つの位置において検出されたガラスの摂氏温度であり、αおよびβは正の定数である)の関係を満たすように調節する、態様13の装置が提供される。
式中、αおよびβは正の定数である。特定の実施形態では、出力は以下の関係を満たす。
式(1)および/または式(2)を満たすことに加えて、レーザビーム出力は、レーザビーム下のガラス表面の温度がガラスの歪み点(例えば、コーニング社(Corning Incorporated)のEagleXG(商標)ガラスの場合には666℃)を超えて上昇するレベルより低く留まる必要がある。このようにして、ガラス表面の過熱が防止される。そのような過熱は、ガラスをアブレートしてエッジ付近に高い残留応力を生じ得るものであり、エッジ強度の低下、エッジ欠陥の形成、並びにエッジの波打ちおよび粗さの増加を引き起こし得るので望ましくない。
Tprior=320℃について、300ワット≦P(x)≦389ワット …式(3)
一方、式(2)では、以下の式が与えられる。
Tprior=320℃について、318ワット≦P(x)≦371ワット …式(4)
図1の丸いデータ点(ボックス21を参照)は、延伸の底部(BOD)において信頼性の高いスコアリングを生じることがわかった代表的なレーザビーム出力を示している。ボックス21の中心は、350ワットの出力および310℃の温度に対応する。このデータを式(3)および式(4)の範囲と比較することにより、高いTprior値に対するレーザビーム出力レベルを特定するための式(1)および式(2)の有効性が示される。
Tpriorは、ガラス環境の温度、板ガラス成形温度、板ガラス成形後の時間、冷却速度および冷却効率、ガラスの冷却の均一性、および板厚に依存し、一方、ΔTlaserは、レーザビームの出力密度、ビームモードプロファイル、ビーム滞留時間(即ち、ビームサイズとスコアリング速度との組み合わせ)、およびガラスの内部特性(レーザ波長における光吸収およびガラス表面の反射率を含む)に依存する。スコアリングを達成するには、レーザビームは、Tbeamを、ベントを形成するために最初の傷の伝搬を維持するのに十分な応力をガラスに生じる値(Tbeamの最小値)まで上昇させる必要があり、ここで、応力は、ビームによって生じる加熱およびそれに続く急冷の結果である。最小応力レベルは、急冷効率およびガラスの特性(即ち、高温でのガラスの熱膨張係数および弾性係数)に依存する。ガラスとレーザビーム/冷却剤の組み合わせとの相互作用は、ガラスの熱伝導率および熱容量にも依存する。Tbeamは、Tbeamの最小値より高いことに加えて、上述の過熱によって生じる様々な悪影響を回避するために、ガラスの歪み点より低く保たれることが必要である。
Tstrain−Tprior(x)≧100℃
ここで、第1のガイドラインは、レーザビームが、スコア線に沿ってベントを形成するために最初の傷を伝搬させるのに十分なエネルギーを与えることを確実にするものであり、第2のガイドラインは、ガラスの歪み点(Tstrain)を超えずに第1のガイドラインを満たすことができることを確実にするものである。
サンプルの長さにわたるガラス温度プロファイルが大きな温度勾配を有する場合には、一定のレーザ出力では、板ガラスに沿ったどこにおいてもガラス表面温度をプロセスウインドウ内(即ち、図4〜図7の線11と線13との間)に保つということはできない。この場合には、コントローラ35は、ガラスの背景温度に関する情報(例えば、検出器33からの情報)に基づいてレーザ出力を変える。なお、他の理由で(例えば、装置の以前の使用の結果として)温度プロファイルが既知である幾つかのケースでは、検出器33からの情報は必ずしも必要ではない。そのような場合には、コントローラを、検出器からのリアルタイムの情報を必要とせずに、既知の温度プロファイルを補償するようレーザ出力を変えるようにプログラムできる。
図7は、複雑な背景ガラス温度プロファイルを有する板ガラスにレーザ・スコアリング・プロセスが適用される一般的なケースを表している。そのようなプロファイルは、帯状ガラスの両側(ビード)に向かってガラスが厚くなり、従って温度がより高くなっている帯状ガラスの水平方向のスコアリングで典型的である。このタイプのプロファイルについては、コントローラ35は、最終的な温度プロファイルが、例えば、帯状ガラスの幅にわって略一定になるように、各セグメントに対して異なる出力レベルを提供する。
27、45、112 板ガラス
31、115 スコア線
33 検出器
35 コントローラ
37 レーザ
113 レーザビーム
114 ガラスの表面
Claims (5)
- レーザビームを用いてスコア線に沿って板ガラスをスコアリングする方法であって、前記レーザビームの照射前に、前記スコア線の少なくとも一部において、前記ガラスの温度が室温より高く、当該方法が、
(a)前記レーザビームを前記スコア線に沿って平行移動させる工程と、
(b)前記レーザビームと並行して、冷却領域を前記スコア線にわたって平行移動させる工程と、
を備え、
前記レーザビームによる加熱が、前記板ガラスにおけるベントの形成に寄与し、前記レーザビームの出力の選択が、
(i)前記レーザビーム下における前記ガラスの表面の温度が前記ガラスの歪み点以下であり、且つ
(ii)前記レーザビームの出力が
0.85(α−βTprior(x))≦P(x)≦1.10(α−βTprior(x))
(式中、xは前記スコア線に沿った距離を表わし、P(x)は前記スコア線に沿った前記レーザビームの出力であり、Tprior(x)は前記レーザビームの照射前の前記スコア線に沿った前記ガラスの摂氏温度であり、xの少なくとも1つの値についてTprior(x)>25℃であり、αおよびβは正の定数である)の関係を満たす
ように行われることを特徴とする方法。 - 全てのxについて、Tprior(x)が
Tstrain−Tprior(x)≧100℃
(式中、Tstrainは前記ガラスの摂氏温度の前記歪み点である)の関係を満たすことを特徴とする請求項1記載の方法。 - 全てのxについて、前記レーザビーム下における前記ガラスの表面の温度Tbeam(x)が
Tbeam(x)−Tprior(x)≧80℃
(式中、Tbeam(x)は摂氏温度である)の関係を満たすことを特徴とする請求項1または2記載の方法。 - スコア線に沿って板ガラスをスコアリングする装置であって、
(a)レーザビームを生じるレーザと、
(b)少なくとも1つの位置において前記板ガラスの表面の温度を検出する検出器と、
(c)前記レーザおよび前記検出器に動作的に接続されたコントローラであって、前記検出器によって前記少なくとも1つの位置において検出された前記板ガラスの前記表面の温度に基づいて前記レーザビームの出力Pを調節するコントローラと、
を備えることを特徴とする装置。 - 前記コントローラが、前記レーザビームの出力を、
0.85(α−βTprior)≦P≦1.10(α−βTprior)
(式中、Tpriorは前記検出器によって前記少なくとも1つの位置において検出された前記ガラスの摂氏温度であり、αおよびβは正の定数である)の関係を満たすように調節することを特徴とする請求項4記載の装置。
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