JP2012233067A - Oligo(phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified by glycidyl group, and method for producing the same - Google Patents

Oligo(phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified by glycidyl group, and method for producing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2012233067A
JP2012233067A JP2011102126A JP2011102126A JP2012233067A JP 2012233067 A JP2012233067 A JP 2012233067A JP 2011102126 A JP2011102126 A JP 2011102126A JP 2011102126 A JP2011102126 A JP 2011102126A JP 2012233067 A JP2012233067 A JP 2012233067A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
oligo
phenyleneoxy
substituted
glycidyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011102126A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP5768274B2 (en
Inventor
Narimasa Moriya
成真 守屋
Masami Kagawa
昌巳 香川
Toshitake Fushimi
俊毅 伏見
Keiichiro Utsumi
圭一郎 内海
Noriaki Ikeda
憲明 池田
Shigeto Koyama
重人 小山
Yuji Tada
祐二 多田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fushimi Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fushimi Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fushimi Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fushimi Pharmaceutical Co Ltd
Priority to JP2011102126A priority Critical patent/JP5768274B2/en
Publication of JP2012233067A publication Critical patent/JP2012233067A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5768274B2 publication Critical patent/JP5768274B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cyclic phosphazene compound that enhances the flame retardancy and dielectric characteristic of a resin molded product without deteriorating the high-temperature reliability and mechanical characteristic.SOLUTION: This oligo(phenyleneoxy) group-substituted cyclic phosphazene compound is modified by a glycidyl group of formula (1). In formula (1), n is an integer of 1-6; at least one of As is an oligo(phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group modified by a glycidyl group, and each of the others is an aryloxy group where at least one group selected from a 1-6C alkyl group, alkenyl group, and aryl group may be substituted.

Description

本発明は、環状ホスファゼン化合物およびその製造方法、特に、グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a cyclic phosphazene compound and a method for producing the same, and more particularly to an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group and a method for producing the same.

合成樹脂は、その加工性、耐薬品性、耐候性、電気的特性および機械的強度等の点で他の材料に比べて優れていることから、産業用および民生用の機器並びに電気製品などの分野において多用され、その使用量が増加している。合成樹脂の中には、燃焼し易い性質を有するもの、すなわち易燃性合成樹脂があり、これについては難燃剤の添加により難燃性の付与が試みられている。この目的で使用される難燃剤として、一般に、ハロゲン含有化合物やハロゲン含有化合物と酸化アンチモンなどのアンチモン化合物との混合物が知られている。ところが、このような難燃剤を配合した樹脂組成物は、燃焼時や成形時等において、環境汚染のおそれがあるハロゲン系ガスを発生する可能性がある。また、ハロゲン系ガスは、電子部品の電気的特性や機械的特性を低下させる可能性がある。そこで、最近では、易燃性合成樹脂用の難燃剤として、燃焼時や成形時等においてハロゲン系ガスが発生しにくい非ハロゲン系のもの、例えば、水酸化アルミニウムおよび水酸化マグネシウムなどの金属水和物系難燃剤並びにリン酸エステル系、縮合リン酸エステル系、リン酸アミド系、ポリリン酸アンモニウム系、ホスフィネート系およびホスファゼン系などのリン系難燃剤が多用されるようになっている。   Synthetic resins are superior to other materials in terms of processability, chemical resistance, weather resistance, electrical properties, mechanical strength, etc., so industrial and consumer equipment and electrical products It is widely used in the field and its usage is increasing. Among the synthetic resins, there are those having the property of being easily combusted, that is, a flammable synthetic resin, and an attempt has been made to impart flame retardancy by adding a flame retardant. As the flame retardant used for this purpose, a halogen-containing compound or a mixture of a halogen-containing compound and an antimony compound such as antimony oxide is generally known. However, a resin composition containing such a flame retardant may generate a halogen-based gas that may cause environmental pollution during combustion or molding. In addition, the halogen-based gas may deteriorate the electrical characteristics and mechanical characteristics of the electronic component. Therefore, recently, as a flame retardant for a flammable synthetic resin, a non-halogen-based material that does not easily generate a halogen-based gas during combustion or molding, for example, metal hydration such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide. 2. Description of the Related Art Physical flame retardants and phosphoric flame retardants such as phosphate ester, condensed phosphate ester, phosphate amide, ammonium polyphosphate, phosphinate, and phosphazene are widely used.

このうち、金属水和物系難燃剤は、脱水熱分解の吸熱反応とそれに伴う水の放出とが合成樹脂の熱分解や燃焼開始温度と重複した温度領域で起こることで難燃化効果を発揮するが、その効果を高めるためには樹脂組成物に対して多量に配合する必要がある。このため、この種の難燃剤を含む樹脂組成物の成形品は、機械的強度が損なわれるという欠点がある。一方、リン系難燃剤のうち、リン酸エステル系および縮合リン酸エステル系の難燃剤は、可塑効果を有するため、難燃性を高めるために樹脂組成物に対して多量に添加すると、樹脂成形品の機械的強度が低下するなどの欠点が生じる。また、リン酸エステル系、リン酸アミド系、ポリリン酸アンモニウム系およびホスフィネート系の難燃剤は、容易に加水分解することから、機械的および電気的な長期信頼性が要求される樹脂成形品の製造用材料においては実質的に使用が困難である。これらに対し、ホスファゼン系難燃剤は、他のリン系難燃剤に比べて可塑効果および加水分解性が小さいことから、樹脂組成物に対する添加量を大きくすることができるため、合成樹脂用の有効な難燃剤として多用されつつある。   Among these, metal hydrate flame retardants exhibit a flame retardant effect because the endothermic reaction of dehydration pyrolysis and the accompanying water release occur in a temperature range that overlaps with the thermal decomposition and combustion start temperature of the synthetic resin. However, in order to enhance the effect, it is necessary to add a large amount to the resin composition. For this reason, the molded article of the resin composition containing this kind of flame retardant has a drawback that the mechanical strength is impaired. On the other hand, among phosphorus-based flame retardants, phosphate ester-based and condensed phosphate ester-based flame retardants have a plastic effect. Therefore, when a large amount is added to the resin composition in order to increase flame retardancy, resin molding There are disadvantages such as a decrease in the mechanical strength of the product. In addition, phosphate ester, phosphate amide, polyphosphate ammonium and phosphinate flame retardants are easily hydrolyzed, making resin molded products that require mechanical and electrical long-term reliability. It is practically difficult to use in materials for use. In contrast, phosphazene-based flame retardants have a lower plasticity and hydrolyzability than other phosphorus-based flame retardants, so that the amount added to the resin composition can be increased. It is being widely used as a flame retardant.

しかし、ホスファゼン系難燃剤は、樹脂組成物に対する添加量を増やすと、高温下における樹脂成形品の信頼性(高温信頼性)を損なう可能性がある。具体的には、熱可塑性樹脂系の樹脂組成物の場合は、高温下においてその樹脂成形体からホスファゼン系難燃剤がブリードアウト(溶出)し易く、また、熱硬化性樹脂系の樹脂組成物の場合は、高温下においてその樹脂成形品にフクレ等の変形が発生し、当該樹脂成形品が積層基板等の電気・電子分野において用いられる場合は変形によるショートを引き起こす可能性がある。   However, when the amount of the phosphazene flame retardant added to the resin composition is increased, there is a possibility that the reliability (high temperature reliability) of the resin molded product at a high temperature is impaired. Specifically, in the case of a thermoplastic resin-based resin composition, the phosphazene-based flame retardant is likely to bleed out (elute) from the resin molded body at a high temperature, and the thermosetting resin-based resin composition In such a case, deformation such as blistering occurs in the resin molded product at a high temperature, and when the resin molded product is used in the electric / electronic field such as a laminated substrate, a short circuit due to deformation may occur.

そこで、ホスファゼン系難燃剤は、高温信頼性を高めるための改良が検討されており、その例として特許文献1〜4には、ヒドロキシ基等の反応性基を有するホスファゼン系難燃剤およびそれを用いたエポキシ樹脂組成物やポリイミド樹脂組成物が開示されている。この種のホスファゼン系難燃剤は、樹脂組成物に対して多量に添加した場合であっても樹脂成形品の高温信頼性を損ないにくいが、添加量を増しても樹脂成形品の難燃性を効果的に高めるのが困難という、それが要求される本質的効果の点で不十分なものもあり、また、樹脂成形品の機械的特性(特に、高いガラス転移温度)を損なうことにもなる。   Therefore, phosphazene-based flame retardants have been studied for improving high-temperature reliability. As an example, Patent Documents 1 to 4 include phosphazene-based flame retardants having a reactive group such as a hydroxy group and the like. An epoxy resin composition and a polyimide resin composition were disclosed. This type of phosphazene-based flame retardant is unlikely to impair the high temperature reliability of the resin molded product even when added in a large amount to the resin composition. Some of them are insufficient in terms of the essential effects that are difficult to effectively increase, and they also impair the mechanical properties (particularly high glass transition temperatures) of resin molded products. .

また、近年の情報通信分野で用いられる電子機器においては、信号の大容量化や高速化が進展していることから、高周波特性に優れ、配線数増加による高多層化に対応できるプリント配線板が要求されている。このようなプリント配線板においては、MHz帯からGHz帯という高周波領域における信頼性を維持するために、良好な誘電特性、具体的には誘電率(ε)および誘電正接(tanδ)が低いことが必要になる。誘電特性に優れたプリント配線板として、エポキシ樹脂にポリフェニレンエーテル(PPE)を配合した熱硬化性樹脂組成物を絶縁層として用いたものが知られている。このプリント配線板は、通常のエポキシ樹脂組成物からなる絶縁層を用いたものに比べて誘電特性に優れているが、他の高価な高周波基板用材料であるポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のフッ素樹脂、ビスマレイミド・トリアジン樹脂(BT樹脂)およびポリイミド樹脂などと比較すると、絶縁層部分の耐熱性と難燃性が劣るという不具合がある。そこで、絶縁層において実用域で要求される難燃性を達成するために、上述の熱硬化性樹脂組成物にホスファゼン系の難燃剤を添加した例が報告されている(特許文献5、6)が、この場合は上記絶縁層において難燃剤のブリードアウトが発生する等、高温信頼性の低下を惹起する可能性がある。   In recent years, electronic devices used in the field of information and communication have been increasing in capacity and speed of signals, so there is a printed wiring board that has excellent high-frequency characteristics and can cope with high-layering by increasing the number of wires. It is requested. In such a printed wiring board, in order to maintain reliability in a high frequency region from the MHz band to the GHz band, good dielectric characteristics, specifically, a dielectric constant (ε) and a dielectric loss tangent (tan δ) are low. I need it. As a printed wiring board having excellent dielectric properties, a printed wiring board using a thermosetting resin composition in which polyphenylene ether (PPE) is blended in an epoxy resin is used as an insulating layer is known. This printed wiring board is superior in dielectric properties compared to those using an insulating layer made of a normal epoxy resin composition, but other expensive high-frequency board materials such as polytetrafluoroethylene (PTFE) Compared with fluorine resin, bismaleimide / triazine resin (BT resin), polyimide resin, etc., there is a problem that the heat resistance and flame retardancy of the insulating layer portion are inferior. Then, in order to achieve the flame retardance requested | required in a practical area in an insulating layer, the example which added the phosphazene type flame retardant to the above-mentioned thermosetting resin composition is reported (patent documents 5, 6). However, in this case, there is a possibility that deterioration of the high temperature reliability may be caused, for example, a bleedout of the flame retardant occurs in the insulating layer.

一方、エポキシ樹脂と、ポリフェニレンエーテルオリゴマーの末端をエポキシ基で変性した化合物とを用いたエポキシ樹脂組成物、並びに、例が報告されている(特許文献7〜8)が、耐熱性、並びに誘電率および誘電正接が低く、電気特性は改善できているが、難燃性については不充分である。   On the other hand, an epoxy resin composition using an epoxy resin and a compound in which the terminal of a polyphenylene ether oligomer is modified with an epoxy group, and examples have been reported (Patent Documents 7 to 8). In addition, the dielectric loss tangent is low and the electrical characteristics can be improved, but the flame retardancy is insufficient.

特開2003−302751号公報JP 2003-302751 A 特開2003−342339号公報JP 2003-342339 A 特開2004−143465号公報JP 2004-143465 A 特開2006−117545号公報JP 2006-117545 A 特開2009−78209号公報JP 2009-78209 A 特開2009−108144号公報JP 2009-108144 A 特開2003−238655号公報JP 2003-238655 A 特開2009−46631号公報JP 2009-46631 A

本発明の目的は、樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができ、樹脂成形体の電気特性、特に、誘電率(ε)および誘電正接(tanδ)が低く、しかも高温信頼性が高いホスファゼン化合物を実現することにある。   An object of the present invention is to effectively improve the flame retardancy of a resin molded body, and the resin molded body has low electrical properties, in particular, low dielectric constant (ε) and dielectric loss tangent (tan δ), and high temperature reliability. It is to realize a high phosphazene compound.

本発明者らは、上述の課題を解決すべく研究を重ねた結果、グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を用いて樹脂組成物を調製すると、その樹脂組成物からなる成形体が優れた電気特性を示し、同時に難燃性および高温信頼性に優れていることを見出した。   As a result of repeated studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have prepared a resin composition using an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group, and the resin composition comprises the resin composition. It has been found that the molded product exhibits excellent electrical characteristics, and at the same time, is excellent in flame retardancy and high temperature reliability.

本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、下記の式(1)で表されるものである。   The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention is represented by the following formula (1).

式(1)中、nは1〜6の整数を示し、Aは下記のA1基およびA2基からなる群から選ばれた基を示し、かつ少なくとも一つがA2基である。
A1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
A2基:下記の式(2)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
In formula (1), n represents an integer of 1 to 6, A represents a group selected from the group consisting of the following A1 group and A2 group, and at least one is an A2 group.
Group A1: An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
Group A2: a group selected from the group consisting of an oligo (phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (2).

式(2)中、E1〜E5はそれぞれ独立の置換基であって、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基であり、かつ少なくとも一つが下記の式(3)で示されるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基である。   In formula (2), E1 to E5 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and An oligo (group) selected from aryl groups having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with at least one group selected from aryl groups, and at least one modified with a glycidyl group represented by the following formula (3) (Phenyleneoxy) group.

式(3)中、qは1〜50の整数を示し、E6〜E9は、それぞれ独立の置換基であって、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基およびアルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基を示す。   In the formula (3), q represents an integer of 1 to 50, E6 to E9 are independent substituents, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group and an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to carbon atoms. 6 represents a group selected from aryl groups having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.

このグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物において、好ましいA2基は、グリシジル基で変性したオリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニレンオキシ基、グリシジル基で変性したオリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換メチルフェニレンオキシ基、グリシジル基で変性したオリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換ジメチルフェニレンオキシ基、グリシジル基で変性したオリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニレンオキシ基、グリシジル基で変性したオリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換メチルフェニレンオキシ基およびグリシジル基で変性したオリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換ジメチルフェニレンオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つである。また、このグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、好ましくは、式(1)のnが1若しくは2の化合物である。   In the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group, preferred A2 group is oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyleneoxy group modified with glycidyl group, oligo (methylphenyleneoxy) modified with glycidyl group ) Group-substituted methylphenyleneoxy group, oligo modified with glycidyl group (methylphenyleneoxy) group substituted dimethylphenyleneoxy group, oligo modified with glycidyl group (dimethylphenyleneoxy) group substituted phenyleneoxy group, oligo modified with glycidyl group ( A dimethylphenyleneoxy) group-substituted methylphenyleneoxy group and an oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted dimethylphenyleneoxy group modified with a glycidyl group.The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group is preferably a compound in which n in the formula (1) is 1 or 2.

本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、好ましくは、式(1)において、(2n+4)個のAのうちの1〜(2n+2)個がA2基である。さらに、本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、好ましくは、式(1)のnが異なる二種以上のものを含んでいる。 The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention preferably has 1 (2n + 2) A2 groups out of (2n + 4) A in formula (1). Furthermore, the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention preferably contains two or more compounds having different n in the formula (1).

本発明の製造方法は、本発明に係るグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法に関するものであり、下記の式(4)で表されるオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物と、エピハロヒドリンとを反応させる工程を含んでいる。   The production method of the present invention relates to a method for producing an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group according to the present invention, and represents an oligo (phenyleneoxy) group represented by the following formula (4): A step of reacting the containing cyclic phosphazene compound with epihalohydrin.

式(4)中、mは1〜6の整数を示し、Gは下記のG1基およびG2基からなる群から選ばれた基を示し、かつ少なくとも一つがG2基である。
G1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
G2基:下記の式(5)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
In the formula (4), m represents an integer of 1 to 6, G represents a group selected from the group consisting of the following G1 group and G2 group, and at least one is a G2 group.
G1 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
G2 group: a group selected from the group consisting of an oligo (phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (5).

式(5)中、E10〜E14はそれぞれ独立の置換基であって、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基であり、かつ少なくとも一つが下記の式(6)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基である。 In formula (5), E10 to E14 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and At least one group selected from aryl groups is a group selected from aryl groups having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, and at least one is an oligo (phenyleneoxy) group represented by the following formula (6) is there.

式(6)中、tは1〜50の整数を示し、E15〜E18は、それぞれ独立の置換基であって、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基およびアルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基である。   In the formula (6), t represents an integer of 1 to 50, and E15 to E18 are independent substituents, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group and an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to carbon atoms. 6 is a group selected from an aryl group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group, an alkenyl group and an aryl group may be substituted.

本発明に係る樹脂組成物は、樹脂成分と、本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物とを含んでいる。   The resin composition according to the present invention contains a resin component and an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention.

ここで用いられる樹脂成分は、例えば、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、フェノキシ樹脂、クレゾールノボラック樹脂、シアン酸エステル樹脂およびビスマレイミド−シアン酸エステル樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一種である。   The resin component used here is, for example, epoxy resin, polyphenylene ether resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polyimide resin, polysulfone resin, phenoxy resin, cresol novolac resin, cyanate ester resin and bismaleimide- It is at least one selected from the group consisting of cyanate ester resins.

本発明の樹脂成形体は、本発明の樹脂組成物から成るものである。また、本発明の電子部品は、本発明の樹脂成形体を用いたものである。   The resin molded product of the present invention is composed of the resin composition of the present invention. Moreover, the electronic component of the present invention uses the resin molded body of the present invention.

本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、上述のような特定の構造を有するものであるため、樹脂成形体を形成するための樹脂組成物において用いられた場合、その電気特性において低い誘電率および低い誘電正接を達成でき、高温での信頼性を損なわずに樹脂成形体の難燃性を効果的に高めることができる。   Since the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention has a specific structure as described above, it is used in a resin composition for forming a resin molded body. In the electrical characteristics, a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent can be achieved, and the flame retardancy of the resin molding can be effectively enhanced without impairing the reliability at high temperatures.

本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法は、上述のような特定の工程を含むものであるため、本発明に係る特定の構造を有するグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を製造することができる。   Since the method for producing an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention includes the specific steps as described above, an oligo modified with a glycidyl group having a specific structure according to the present invention. A (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound can be produced.

本発明の樹脂組成物は、本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を難燃剤として含むため、実用的な難燃性を示し、その電気特性において低い誘電率および低い誘電正接を達成でき、しかも高温信頼性に優れた樹脂成形体を得ることができる。   Since the resin composition of the present invention contains the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with the glycidyl group of the present invention as a flame retardant, it exhibits practical flame retardancy, and has a low dielectric constant in its electrical characteristics and A resin molded body that can achieve a low dielectric loss tangent and is excellent in high-temperature reliability can be obtained.

本発明の樹脂成形体は、本発明の樹脂組成物からなるため、実用的な難燃性を示し、その電気特性において低い誘電率および低い誘電正接を達成でき、しかも高温信頼性に優れている。   Since the resin molded body of the present invention comprises the resin composition of the present invention, it exhibits practical flame retardancy, can achieve a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent in its electrical characteristics, and is excellent in high temperature reliability. .

実施例1におけるゲルパーミエーションクロマトグラフィーの分析結果を示す図。The figure which shows the analysis result of the gel permeation chromatography in Example 1. FIG.

グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物
本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、下記の式(1)で表されるものである。
Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group
The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention is represented by the following formula (1).

式(1)において、nは、1から6の整数を示している。但し、本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、式(1)のnが小さい化合物の方が、後述する樹脂組成物に用いられた場合において樹脂成分との相溶性が高い。このため、式(1)のnは、1から4の整数が好ましく、1若しくは2が特に好ましい。すなわち、このグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物として、特に好ましいものは、nが1のシクロトリホスファゼン(3量体)を有するグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物およびnが2のシクロテトラホスファゼン(4量体)を有するグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物である。また、グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、nが異なる二種以上のものの混合物であってもよい。   In the formula (1), n represents an integer of 1 to 6. However, in the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention, a compound having a smaller n in formula (1) is used as a resin component when used in a resin composition described later. High compatibility. For this reason, n in the formula (1) is preferably an integer of 1 to 4, particularly preferably 1 or 2. That is, as the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with this glycidyl group, an oligo (phenyleneoxy) group modified with a glycidyl group having a cyclotriphosphazene (trimer) in which n is 1 is particularly preferable. And an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group having a cyclotetraphosphazene (tetramer) in which n is 2. The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group may be a mixture of two or more different n.

式(1)において、Aは、下記のA1基およびA2基からなる群から選ばれた基を示している。但し、Aのうちの少なくとも一つはA2基である。   In the formula (1), A represents a group selected from the group consisting of the following A1 group and A2 group. However, at least one of A is A2 group.

[A1基]
炭素数が6〜20のアリールオキシ基。このアリールオキシ基は、炭素数が1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。
[A1 group]
An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms; In the aryloxy group, at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.

このようなアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、エチルメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、イソプロピルメチルフェノキシ基、イソプロピルエチルフェノキシ基、ジイソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ペンチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、エテニルフェノキシ基、1−プロペニルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、イソプロペニルフェノキシ基、1−ブテニルフェノキシ基、sec−ブテニルフェノキシ基、1−ペンテニルフェノキシ基、1−ヘキセニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基およびフェナントリルオキシ基等を挙げることができる。このうち、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が好ましく、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が特に好ましい。   Examples of such aryloxy groups include phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, ethylphenoxy group, ethylmethylphenoxy group, diethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, isopropylphenoxy group, isopropylmethylphenoxy group, Isopropylethylphenoxy group, diisopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, n-pentylphenoxy group, n-hexylphenoxy group, ethenylphenoxy group, 1-propenylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, isopropenylphenoxy group, 1-butenylphenoxy group, sec-butenylphenoxy group, 1-pentenylphenoxy group, 1-hexenylphenoxy group, Nirufenokishi group, naphthyloxy group, and an anthryl group and phenanthryloxy groups and the like. Of these, phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, diethylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, phenylphenoxy group and naphthyloxy group are preferable, and phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group and naphthyloxy group are particularly preferable. preferable.

[A2基]
下記の式(2)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
[Group A2]
A group selected from the group consisting of an oligo (phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (2).

式(2)中、E1〜E5はそれぞれ独立の置換基であって、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基であり、かつ少なくとも一つが下記の式(3)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基である。   In formula (2), E1 to E5 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and At least one group selected from aryl groups is a group selected from aryl groups having 6 to 20 carbon atoms that may be substituted, and at least one is an oligo (phenyleneoxy) group represented by the following formula (3): is there.

式(3)中、qは1〜50の整数を示す。また、E6〜E9は、それぞれ独立の置換基であって、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基およびアルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基である。   In formula (3), q shows the integer of 1-50. E6 to E9 are each an independent substituent, and are at least selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and an alkenyl group, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group and an aryl group. It is a group selected from an aryl group having 6 to 20 carbon atoms in which one kind of group may be substituted.

式(3)で示されるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基のフェニレンオキシ基の繰り返し数qは、1から50であるが、使用される樹脂成分や要求される難燃性の程度によって、適宜選択することができる。例えば、使用される樹脂成分が燃焼しやすい場合、一緒に使用するグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換環状ホスファゼン化合物のフェニレンオキシ基の繰り返し数が小さいもの(qが小さいもの)を選択してリン含有率を高めることができ、一方、使用される樹脂成分が燃焼しにくい場合、フェニレンオキシ基の繰り返し数が大きいもの(qが大きいもの)を選択してリン含有率を下げることができ、樹脂組成物の難燃性を適宜調整することができる。   The repeating number q of the phenyleneoxy group of the oligo (phenyleneoxy) group modified with the glycidyl group represented by the formula (3) is 1 to 50, depending on the resin component used and the degree of flame retardancy required. Can be appropriately selected. For example, if the resin component used is easy to burn, select the oligo (phenyleneoxy) group-substituted cyclic phosphazene compound modified with the glycidyl group used together that has a small number of repeating phenyleneoxy groups (small q) If the resin component used is difficult to burn, it is possible to reduce the phosphorus content by selecting one with a large number of phenyleneoxy group repeats (with a large q). The flame retardancy of the resin composition can be adjusted as appropriate.

A2基の具体例として、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2−アリルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−アリルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−アリルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2−アリルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−アリルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−フェニルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−フェニルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−フェニルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2−アリルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−アリルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−アリルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2−アリルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−アリルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−フェニルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−フェニルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−フェニルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基およびグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つのものである。   Specific examples of the A2 group include glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenylene) Oxy) group substituted-2-methylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-4-methylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-5-methyl Phenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2-methylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3-methylphenyloxy group, glycidyloxy-3 -Oligo (methylphenol Nyleneoxy) group substituted-2-allylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-4-allylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-5-allyl Phenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2-allylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3-allylphenyloxy group, glycidyloxy-3 -Oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-4-phenylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-5-phenylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group Substituted-3-fe Ruphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group Glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy- 4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4- Oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-2 , 3,5-trimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (Dimethylphenyleneoxy) group substitution-2-methylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-4-methylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution- 5-methylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2-methylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3-methylphenyloxy group, glycidyl Oxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2-allylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-4-allylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenylene) Oxy) group substituted-5-allylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2-allylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-3-allyl Phenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-4-phenylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-5-phenylphenyloxy group, glycidyloxy-4 -Ori (Dimethylphenyleneoxy) group substituted-3-phenylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group Substitution-2,5-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-2,3-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-2, 5-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-3,5-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-2,4,5- Trimethylphenyloxy group and group It is at least one selected from the group consisting of lysidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy groups.

上述のA2基として、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基およびグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基が好ましく、特に、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基およびグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基が好ましい。   As the A2 group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) ) Group substituted-4-methylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-5-methylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-3-methylphenyl Oxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, glycidyl Oxy-4-oligo Methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) Substitution-2,4,5-trimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-2,3,5-trimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) Group-substituted phenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-4-methylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (Dimethylphenyle Oxy) group substituted-5-methylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-3-methylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,4 -Dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy Group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group, and Glycidyloxy-4-oligo ( Dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group is preferred, and glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) Substituent substitution-3-methylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-2,3-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-3,5 -Dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, glycidyloxy -4-Oligo Le phenylene) group-substituted-3-methylphenyl group, and glycidyl-4-oligo (dimethyl phenylene-oxy) group substituted 3,5-dimethylphenyl group is preferable.

式(1)において、Aは(2n+4)個含まれているが、このうちの少なくとも一つがA2基である。したがって、式(1)で表される本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、次の形態に大別することができる。   In formula (1), A includes (2n + 4) A, and at least one of them is an A2 group. Therefore, the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with the glycidyl group of the present invention represented by the formula (1) can be roughly classified into the following forms.

[形態1]
(2n+4)個の全てのAがA2基のものである。この場合、Aは、全てが同じA2基であってもよいし、二種以上のA2基であってもよい。
[Form 1]
All (2n + 4) A's are A2 groups. In this case, all of A may be the same A2 group or two or more A2 groups.

このような形態のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物として好ましいものは、式(1)のnが1であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式(1)のnが4であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aの全てが、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基、グリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基およびグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基からなるA2基群から選ばれた一種のA2基であるもの、並びに当該A2基群から選ばれた二種以上のA2基であるものである。また、この形態のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、これらの好ましいグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の任意の混合物であってもよい。   Preferred as an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group in such a form is an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotriphosphazene modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 1. Compound, oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotetraphosphazene compound modified with a glycidyl group in which n of formula (1) is 2, oligo (phenyleneoxy) group modified with a glycidyl group in which n of formula (1) is 3 -Containing cyclopentaphosphazene compound and oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclohexaphosphazene compound modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 4, wherein all of A is glycidyloxy-3-oligo (methylphenylene) Oxy) group-substituted phenyloxy group, glycidyloxy-4 Oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-4-methylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-5-methyl Phenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3-methylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy -3-Oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (Methylphenyleneoxy ) Group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group Substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) groupsubstituted phenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) groupsubstituted phenyloxy group, glycidyloxy- 3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-4-methylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-5-methylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) Group-substituted-3-methyl Phenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group, Glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group, glycidyloxy-3 -A2 group consisting of oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group and glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group It is a kind of A2 group selected from Of, as well as a two or more kinds of A2 groups selected from the A2 group group. The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group in this form may be any mixture of these preferable oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compounds modified with a glycidyl group.

[形態2]
(2n+4)個のAのうちの一部(すなわち、少なくとも一つ)がA2基であり、他のAがA1基からなる群から選ばれた基のものである。この場合、A2基以外の他のAは、全てが同じA1基であってもよいし、二種以上のA1基または二種以上のA1基が混在したものであってもよい。
[Form 2]
A part (that is, at least one) of (2n + 4) A is an A2 group, and the other A is a group selected from the group consisting of an A1 group. In this case, all of A other than the A2 group may be the same A1 group, or two or more kinds of A1 groups or two or more kinds of A1 groups may be mixed.

この形態のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物として好ましいものは、式(1)のnが1であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式(1)のnが4であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、(2n+4)個のAのうちの1個〜(2n+2)個がA2基のもの並びにこれらの任意の混合物が好ましい。この種のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、本発明の他の形態のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物に比べ、高温信頼性および機械的強度(特に高いガラス転移温度)がより優れた樹脂成形体を実現可能な点において有利である。   Preferred as an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of this form is an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotriphosphazene compound modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 1. An oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotetraphosphazene compound modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 2, and an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclomodified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 3. A pentaphosphazene compound and an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclohexaphosphazene compound modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 4, comprising 1 to (2n + 2) of (2n + 4) A Are preferably A2 groups and any mixtures thereof. This type of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group is higher in reliability and mechanical properties than the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of another embodiment of the present invention. This is advantageous in that a resin molded body with higher mechanical strength (particularly a high glass transition temperature) can be realized.

このような好ましいグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有ホスファゼン化合物の具体例としては、式(1)のnが1であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式(1)のnが4であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aが、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基である4−グリシジルオキシ−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基である3−グリシジルオキシ−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−4−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−5−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−3−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,4,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのものおよびこれらの任意の混合物を挙げることができる。   Specific examples of such a preferred oligo (phenyleneoxy) group-containing phosphazene compound modified with a glycidyl group include an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotriphosphazene compound modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 1. , An oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotetraphosphazene compound modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 2, and an oligo (phenyleneoxy) group modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 3 A cyclopentaphosphazene compound and an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclohexaphosphazene compound modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 4, wherein A is an A2 group glycidyloxy-3-oligo (methyl) Phenyloxy group substituted with phenyloxy group and A1 group In combination with a group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group which is an A2 group, a combination of a phenyloxy group substituted with a phenoxy group which is an A1 group, glycidyloxy-3-oligo which is an A2 group (Methylphenyleneoxy) group-substituted 4-methylphenyloxy group in combination with A1 group phenoxy group, A2 group glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-5-methylphenyloxy A combination of a group and a phenoxy group which is an A1 group, a combination of a glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group which is an A2 group and a 3-methylphenyloxy group and a phenoxy group which is an A1 group A2 group glycidyloxy-3-oligo (methyl phenylene o A) A combination of a group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group and a phenoxy group which is an A1 group, a glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyl which is an A2 group A combination of an oxy group and a phenoxy group that is an A1 group, a glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group that is an A2 group, and a phenoxy group that is an A1 group Combination, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group as A2 group and phenoxy group as A1 group, glycidyloxy- as A2 group 3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-tomethylphenyloxy group Combination of phenoxy group which is A1 group, combination of glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group which is A2 group and phenoxy group which is A1 group , Glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group as A2 group and phenoxy group as A1 group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) as A2 group ) Group-substituted phenyloxy group in combination with A1 group phenoxy group, A2 group glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 4-methylphenyloxy group and A1 group phenoxy group In combination with glycidyloxy-3-A2 group Rigo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-5-methylphenyloxy group in combination with A1 group phenoxy group, A2 group glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-3-methylphenyl A combination of an oxy group and a phenoxy group that is an A1 group, a glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group that is an A2 group, and a phenoxy group that is an A1 group Combination, A2 group glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group glycidyloxy- 4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethyl Combination of ruphenyloxy group and phenoxy group which is A1 group, 4-glycidyloxy-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group which is A2 group and phenoxy group which is A1 group In combination with 3-glycidyloxy-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group as A2 group and phenoxy group as A1 group, A combination of a certain glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group and a phenoxy group that is an A1 group, a glycidyloxy-3-oligo that is an A2 group (methyl) Phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group methylphenoxy group Glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group as A2 group and methylphenoxy group as A1 group, glycidyloxy-3-oligo as A2 group (Methylphenyleneoxy) group substituted-4-methylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group combined, A2 group glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-5-methylphenyl A combination of an oxy group and a methylphenoxy group that is an A1 group, a glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group that is an A2 group, and a methylphenoxy group that is an A1 group Combination, glycidyloxy-3-oligo which is A2 group Methylphenyleneoxy) group-substituted 2,4-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,5 -A combination of a dimethylphenyloxy group and a methylphenoxy group that is an A1 group, a glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group that is an A2 group, a 2,3-dimethylphenyloxy group and an A1 group A combination of a methylphenoxy group, a combination of a glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted 3,5-dimethylphenyloxy group as an A2 group and a methylphenoxy group as an A1 group, A2 Group glycidyloxy-3-oligo (methylphenyleneoxy) A combination of a substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group and a methylphenoxy group which is an A1 group, a glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5-group which is an A2 group A combination of a trimethylphenyloxy group and a methylphenoxy group that is A1 group, a combination of a glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group that is A2 group and a methylphenoxy group that is A1 group A2 group glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) ) Group-substituted 4-methylphenyloxy group and A1 group In combination with a methylphenoxy group, in combination with a glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group that is an A2 group and a methylphenoxy group that is an A1 group, an A2 group Glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) ) Group-substituted-2,4-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,5-dimethylphenyl group Combination of oxy group and A1 group methylphenoxy group Glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group as A2 group and methylphenoxy group as A1 group, glycidyloxy as A2 group -4-Oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 3,5-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group glycidyloxy-3-oligo (dimethylphenyleneoxy) group Combination of substituted-2,4,5-trimethylphenyloxy group and methylphenoxy group which is A1 group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5-group which is A2 group Combination of trimethylphenyloxy group and methylphenoxy group which is A1 group The and the like, and any mixture thereof.

このうち、式(1)のnが1であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロペンタホスファゼン化合物、式(1)のnが4であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aが、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのものおよびこれらの任意の混合物がさらに好ましい。 Of these, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotriphosphazene compound modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 1, and an oligo (phenyleneoxy) modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 2 Group-containing cyclotetraphosphazene compound, oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclopentaphosphazene compound modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 3, oligo modified with a glycidyl group in which n in formula (1) is 4 (Phenyleneoxy) group-containing cyclohexaphosphazene compound, wherein A is a combination of a glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group which is an A2 group and a phenoxy group which is an A1 group, A2 group glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3 Combination of methylphenyloxy group and phenoxy group which is A1 group, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group which is A2 group, substituted 2,3-dimethylphenyloxy group and phenoxy group which is A1 group In combination with glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group as A2 group and phenoxy group as A1 group, glycidyl as A2 group Oxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group in combination with A1 group phenoxy group, A2 group glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) ) Combination of group-substituted phenyloxy group and A1 group phenoxy group Glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group glycidyloxy-4- Oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3, Combination of 5-dimethylphenyloxy group and phenoxy group which is A1 group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group and A1 group which is A2 group In combination with a phenoxy group which is glycidyloxy-4 which is an A2 group -Oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group and A1 group methylphenoxy group in combination, A2 group glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3-methylphenyloxy group And a combination of a methylphenoxy group which is an A1 group, a glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-2,3-dimethylphenyloxy group which is an A2 group, and a methylphenoxy group which is an A1 group Combination, glycidyloxy-4-oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group which is A2 group and methylphenoxy group which is A1 group, glycidyloxy which is A2 group -4-Oligo (methylphenyleneoxy) group substitution-2,3, -Combination of trimethylphenyloxy group and methylphenoxy group which is A1 group, Combination of glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted phenyloxy group which is A2 group and methylphenoxy group which is A1 group Glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group glycidyloxy-4- Oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-2,3-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group combination, A2 group glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substitution-3 , 5-dimethylphenyloxy group and A1 group Combination with methylphenoxy group, combination of glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group which is A2 group and methylphenoxy group which is A1 group And any mixtures thereof are more preferred.

特に、式(1)のnが1であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(1)のnが2であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(1)のnが3であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロペンタホスファゼン化合物、式(1)のnが4であるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、Aが、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3−メチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−3,5−ジメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのもの、A2基であるグリシジルオキシ−4−オリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換−2,3,5−トリメチルフェニルオキシ基とA1基であるメチルフェノキシ基との組み合わせのものおよびこれらの任意の混合物が好ましい。   In particular, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclotriphosphazene compound modified with a glycidyl group in which n of formula (1) is 1, and an oligo (phenyleneoxy) group modified with a glycidyl group in which n of formula (1) is 2. Containing cyclotetraphosphazene compound, oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclopentaphosphazene compound modified with a glycidyl group wherein n in formula (1) is 3, oligo modified with a glycidyl group where n in formula (1) is 4 ( A phenyleneoxy) group-containing cyclohexaphosphazene compound, wherein A is a combination of a glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group which is an A2 group and a phenoxy group which is an A1 group, A2 Group glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3 Combination of methylphenyloxy group and phenoxy group which is A1 group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group which is A2 group-2,3-dimethylphenyloxy group and phenoxy group which is A1 group In combination with glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted-3,5-dimethylphenyloxy group as A2 group and phenoxy group as A1 group, glycidyl as A2 group Oxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5-trimethylphenyloxy group and A1 group phenoxy group, A2 group glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) ) Group-substituted phenyloxy group and A1 group methylphenoxy , Glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group-substituted 3-methylphenyloxy group which is A2 group and methylphenoxy group which is A1 group, glycidyloxy which is A2 group -4-Oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,3-dimethylphenyloxy group and A1 group methylphenoxy group, A2 group glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group Combination of substituted-3,5-dimethylphenyloxy group and methylphenoxy group which is A1 group, glycidyloxy-4-oligo (dimethylphenyleneoxy) group substituted-2,3,5-trimethylphenyl which is A2 group Combination of oxy group and methylphenoxy group which is A1 group And any mixtures thereof are preferred.

本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、通常、数平均分子量が1,000〜10,000のものが好ましい。数平均分子量が10,000を超えるとリン含有率が低下してしまい、後述する樹脂成形体に対して十分な難燃性を付与することが困難になる可能性がある。逆に、数平均分子量が1,000未満の場合は、グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物のオリゴ(フェニレンオキシ)基が十分に置換していない可能性があるため、後述する樹脂成形体の誘電率および誘電正接が高くなり、良好な電気特性を示さない可能性がある。   The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention usually has a number average molecular weight of 1,000 to 10,000. If the number average molecular weight exceeds 10,000, the phosphorus content decreases, which may make it difficult to impart sufficient flame retardancy to the resin molded body described later. Conversely, when the number average molecular weight is less than 1,000, the oligo (phenyleneoxy) group of the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group may not be sufficiently substituted. A resin molded body described later has a high dielectric constant and dielectric loss tangent, and may not exhibit good electrical characteristics.

グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法
本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、特定のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物とエピハロヒドリンとを反応して製造することができる。以下、代表的な製造方法を説明する。
Method for producing oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group of the present invention is a specific oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound. And epihalohydrin can be produced by reaction. Hereinafter, typical manufacturing methods will be described.

(特定のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物)
本発明の製造方法において用いられるオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、例えば、下記の式(4)で表されるものである。
(Specific oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compounds)
The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound used in the production method of the present invention is represented, for example, by the following formula (4).

式(4)中、mは1〜6の整数を示す。また、Gは、下記のG1基およびG2基からなる群から選ばれる基を示す。但し、(2m+4)個のGのうちの少なくとも一つがG2基である。したがって、式(4)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、Gの全てがG2基であるものと、GとしてG1基およびG2基の両方を備えたものの二種類がある。   In formula (4), m shows the integer of 1-6. G represents a group selected from the group consisting of the following G1 group and G2 group. However, at least one of (2m + 4) G is G2 group. Accordingly, there are two types of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compounds represented by formula (4): those in which all of G is a G2 group and those having both G1 group and G2 group as G.

G1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
G2基:下記の式(5)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
G1 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
G2 group: a group selected from the group consisting of an oligo (phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (5).

式(5)中、E10〜E14はそれぞれ独立の置換基であって、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基であり、かつ少なくとも一つが下記の式(6)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基である。 In formula (5), E10 to E14 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and At least one group selected from aryl groups is a group selected from aryl groups having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, and at least one is an oligo (phenyleneoxy) group represented by the following formula (6) is there.

式(6)中、tは1〜50の整数を示し、E15〜E18は、それぞれ独立の置換基であって、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基およびアルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基である。 In the formula (6), t represents an integer of 1 to 50, and E15 to E18 are independent substituents, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group and an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to carbon atoms. 6 is a group selected from an aryl group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group, an alkenyl group and an aryl group may be substituted.

本発明の製造方法において用いられる、式(4)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、種々の方法により製造することができる。以下、代表的な製造方法を説明する。   The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound represented by the formula (4) used in the production method of the present invention can be produced by various methods. Hereinafter, typical manufacturing methods will be described.

<製造方法P−1>
この製造方法は、特定のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物と特定のポリフェニレンエーテルとをラジカル開始剤の存在下での再分配反応して、該当するオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を製造する方法である。
<Manufacturing method P-1>
In this production method, a specific hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound and a specific polyphenylene ether are redistributed in the presence of a radical initiator to produce a corresponding oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound. It is.

(特定のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物)
この製造方法で用いられる特定のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、下記の式(7)で示されるものである。
(Specific hydroxy group-containing cyclic phosphazene compounds)
The specific hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound used in this production method is represented by the following formula (7).

式(7)中、kは1〜6の整数を示す。また、Qは下記のQ1基およびQ2基からなる群から選ばれた基を示す。但し、(2k+4)個のQのうち少なくとも一つがQ2基である。したがって、式(7)で示されるヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物は、QのすべてがQ2基であるものと、QとしてQ1基およびQ2基の両方を備えたものの2種類がある。   In formula (7), k shows the integer of 1-6. Q represents a group selected from the group consisting of the following Q1 group and Q2 group. However, at least one of (2k + 4) Q is a Q2 group. Therefore, there are two types of hydroxy group-containing cyclic phosphazene compounds represented by formula (7): those in which all Qs are Q2 groups and those having both Q1 groups and Q2 groups as Q.

Q1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。   Q1 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.

このようなアリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、エチルメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、イソプロピルメチルフェノキシ基、イソプロピルエチルフェノキシ基、ジイソプロピルフェノキシ基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキシ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ペンチルフェノキシ基、n−ヘキシルフェノキシ基、エテニルフェノキシ基、1−プロペニルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、イソプロペニルフェノキシ基、1−ブテニルフェノキシ基、sec−ブテニルフェノキシ基、1−ペンテニルフェノキシ基、1−ヘキセニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基およびフェナントリルオキシ基等を挙げることができる。このうち、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基、ジエチルフェノキシ基、2−プロペニルフェノキシ基、フェニルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が好ましく、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ジメチルフェノキシ基およびナフチルオキシ基が特に好ましい。   Examples of such aryloxy groups include phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, ethylphenoxy group, ethylmethylphenoxy group, diethylphenoxy group, n-propylphenoxy group, isopropylphenoxy group, isopropylmethylphenoxy group, Isopropylethylphenoxy group, diisopropylphenoxy group, n-butylphenoxy group, sec-butylphenoxy group, tert-butylphenoxy group, n-pentylphenoxy group, n-hexylphenoxy group, ethenylphenoxy group, 1-propenylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, isopropenylphenoxy group, 1-butenylphenoxy group, sec-butenylphenoxy group, 1-pentenylphenoxy group, 1-hexenylphenoxy group, Nirufenokishi group, naphthyloxy group, and an anthryl group and phenanthryloxy groups and the like. Of these, phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group, diethylphenoxy group, 2-propenylphenoxy group, phenylphenoxy group and naphthyloxy group are preferable, and phenoxy group, methylphenoxy group, dimethylphenoxy group and naphthyloxy group are particularly preferable. preferable.

Q2基:下記の式(8)で示されるヒドロキシ基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。   Q2 group: a group selected from the group consisting of a hydroxy-substituted phenyloxy group represented by the following formula (8).

式(8)中、L1〜L5はそれぞれ独立の置換基であって、少なくとも一つが水酸基であり、残りが水素原子、または炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる基である。 In formula (8), L1 to L5 are each an independent substituent, at least one is a hydroxyl group, and the remainder is a hydrogen atom or a group selected from an alkyl group, alkenyl group and aryl group having 1 to 6 carbon atoms. It is.

このようなヒドロキシル基置換アリールオキシ基としては、例えば、3−ヒドロキシフェノキシ基、
4−ヒドロキシフェノキシ基、2−メチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、4−メチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、5−メチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、2−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、2,4−ジメチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、2,5−ジメチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、2,3−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、2−エチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、4−エチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、5−エチル−3−ヒドロキシフェノキシ基、2−エチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3−エチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、4−フェニル−3−ヒドロキシフェノキシ基、5−フェニル−3−ヒドロキシフェノキシ基、3−フェニル−4−ヒドロキシフェノキシ基、4−アリル−3−ヒドロキシフェノキシ基、5−アリル−3−ヒドロキシフェノキシ基および3−アリル−4−ヒドロキシフェノキシ基が挙げることができる。このうち、4−ヒドロキシフェノキシ基、2−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、2,3−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、2−エチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3−エチル−4−ヒドロキシフェノキシ基、3−フェニル−4−ヒドロキシフェノキシ基および3−アリル−4−ヒドロキシフェノキシ基が好ましく、特に、4−ヒドロキシフェノキシ基、3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基および3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基が好ましい。
Examples of such a hydroxyl group-substituted aryloxy group include a 3-hydroxyphenoxy group,
4-hydroxyphenoxy group, 2-methyl-3-hydroxyphenoxy group, 4-methyl-3-hydroxyphenoxy group, 5-methyl-3-hydroxyphenoxy group, 2-methyl-4-hydroxyphenoxy group, 3-methyl- 4-hydroxyphenoxy group, 2,4-dimethyl-3-hydroxyphenoxy group, 2,5-dimethyl-3-hydroxyphenoxy group, 2,3-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group, 3,5-dimethyl-4- Hydroxyphenoxy group, 2-ethyl-3-hydroxyphenoxy group, 4-ethyl-3-hydroxyphenoxy group, 5-ethyl-3-hydroxyphenoxy group, 2-ethyl-4-hydroxyphenoxy group, 3-ethyl-4- Hydroxyphenoxy group, 4-phenyl-3-hydroxyphenoxy group, 5-phenyl Examples include 3-hydroxyphenoxy group, 3-phenyl-4-hydroxyphenoxy group, 4-allyl-3-hydroxyphenoxy group, 5-allyl-3-hydroxyphenoxy group, and 3-allyl-4-hydroxyphenoxy group. . Among these, 4-hydroxyphenoxy group, 2-methyl-4-hydroxyphenoxy group, 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group, 2,3-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group, 3,5-dimethyl-4-hydroxy Preferred are phenoxy, 2-ethyl-4-hydroxyphenoxy, 3-ethyl-4-hydroxyphenoxy, 3-phenyl-4-hydroxyphenoxy and 3-allyl-4-hydroxyphenoxy, especially 4-hydroxy Phenoxy group, 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group and 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group are preferred.

このようなヒドロキシ基含有環状ホスファゼンの製造方法は、各種の文献や特許、例えば、非特許文献1および2、並びに特許文献9から11に記載されている。これらの方法に従い、製造することができる。   The production method of such a hydroxy group-containing cyclic phosphazene is described in various documents and patents, for example, Non-Patent Documents 1 and 2 and Patent Documents 9 to 11. It can be manufactured according to these methods.

PHOSPHAZENES,A WORLDWIDE INSIGHT,M.GLERIA,R.DE JAEGER著,2004年刊,NOVA SCIENCE PUBLISHERS INC.社PHOSPHAZENES, A WORLDWIDE INSIGHT, M.C. GLERIA, R.M. DE JAEGER, 2004, NOVA SCIENCE PUBLISHERS INC. Company Alessandro Medici,Giancarlo Fantin,Paola Pedrini,Mario Gleria,and Francesco Minto,Macromolecules,25(10),2569,1992Alessandro Medici, Giancarlo Fantin, Paola Pedrini, Mario Gleria, and Francesco Minto, Macromolecules, 25 (10), 2569, 1992 特開昭58−219190号公報JP 58-219190 A 特開2007−153747号公報JP 2007-153747 A 特開2010−37240号公報JP 2010-37240 A

このようなヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物としては、例えば、式(7)のkが1のヒドロキシ基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(7)のkが2のヒドロキシ基含有シクロテトラホスファゼン化合物、式(7)のkが3のヒドロキシ基含有シクロペンタホスファゼン化合物および式(7)のkが4のヒドロキシ基含有シクロヘキサホスファゼン化合物であって、前記、[形態1]に該当する、Qのすべてが3−ヒドロキシフェノキシ基のもの、Qのすべてが4−ヒドロキシフェノキシ基のもの、Qのすべてが3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基のものおよびQのすべてが3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基のもの、並びに、前記、[形態2]に該当する、QがQ2基である3−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるナフチルオキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるナフチルオキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるナフチルオキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるナフチルオキシ基のものおよびこれら任意の混合物が挙げられる。このうち、式(7)のkが1のヒドロキシ基含有シクロトリホスファゼン化合物、式(7)のkが2のヒドロキシ基含有シクロテトラホスファゼン化合物および式(7)のkが3のヒドロキシ基含有シクロペンタホスファゼン化合物であって、前記、[形態1]に該当する、Qのすべてが4−ヒドロキシフェノキシ基のもの、Qのすべてが3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基のものおよびQのすべてが3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基のもの、並びに、前記、[形態2]に該当する、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるジメチルフェノキシ基のものおよびこれら任意の混合物が好ましく、特に、式(7)のkが1のヒドロキシ基含有シクロトリホスファゼン化合物および式(7)のkが2のヒドロキシ基含有シクロテトラホスファゼン化合物であって、前記、[形態1]に該当する、Qのすべてが4−ヒドロキシフェノキシ基のもの、並びに、前記、[形態2]に該当する、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるメチルフェノキシ基のもの、QがQ2基である3−メチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のもの、QがQ2基である3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェノキシ基とQ1基であるフェノキシ基のものおよびこれらの任意の混合物が好ましい。   Examples of such a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound include, for example, a hydroxy group-containing cyclotriphosphazene compound in which k in formula (7) is 1, a hydroxy group-containing cyclotetraphosphazene compound in which k in formula (7) is 2, 7) a hydroxy group-containing cyclopentaphosphazene compound in which k is 3, and a hydroxy group-containing cyclohexaphosphazene compound in which k in formula (7) is 4, wherein all of Q corresponding to [Form 1] are 3 -Hydroxyphenoxy group, all of Q are 4-hydroxyphenoxy groups, all of Q are 3-methyl-4-hydroxyphenoxy groups, and all of Q are 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy groups And a 3-hydroxyphenoxy group corresponding to [Form 2], wherein Q is a Q2 group, and A phenoxy group that is one group, a 3-hydroxyphenoxy group that is Q2 group and a methylphenoxy group that is Q1 group, a 3-hydroxyphenoxy group that is Q2 group and a dimethylphenoxy group that is Q1 group Q-group of 3-hydroxyphenoxy group and Q1-group of naphthyloxy group, Q-group of Q2-4-hydroxyphenoxy group and Q1-group of phenoxy group, Q-group of Q2 4-hydroxyphenoxy group and Q1 group methylphenoxy group, Q is Q2 group 4-hydroxyphenoxy group and Q1 group dimethylphenoxy group, Q is Q2 group 4-hydroxyphenoxy group A naphthyloxy group that is a Q1 group and a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group that is a Q2 group and a Q1 group A phenoxy group, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group in which Q is a Q2 group and a methylphenoxy group in which a Q1 group is present, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group and a Q1 group in which Q is a Q2 group A dimethylphenoxy group, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group in which Q is a Q2 group and a naphthyloxy group in which a Q1 group is present, a 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group in which Q is a Q2 group And Q1 group, phenoxy group, Q is Q2 group 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group and Q1 group methylphenoxy group, Q is Q2 group 3,5-dimethyl- 4-hydroxyphenoxy group and Q1 group dimethylphenoxy group, Q is Q2 group 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group and Q1 group Of the naphthyloxy group and any mixtures thereof. Among these, a hydroxy group-containing cyclotriphosphazene compound in which k in formula (7) is 1, a hydroxy group-containing cyclotetraphosphazene compound in which k is 2 in formula (7), and a hydroxy group-containing cyclohexane in which k is 3 in formula (7). A pentaphosphazene compound corresponding to the [form 1], wherein all of Q are 4-hydroxyphenoxy groups, all of Q are 3-methyl-4-hydroxyphenoxy groups, and all of Q are 3 , 5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group, and those corresponding to [Form 2], wherein Q is a Q2-group of 4-hydroxyphenoxy group and Q1 group of phenoxy group, Q is Q2 group 4-hydroxyphenoxy group and Q1 group methylphenoxy group, and Q is Q2-group 4-hydroxyphenoxy group and Q1 group A dimethylphenoxy group, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group in which Q is a Q2 group and a phenoxy group in which a Q1 group is present, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group and a Q1 group in which Q is a Q2 group A certain methylphenoxy group, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group in which Q is a Q2 group and a dimethylphenoxy group in which a Q1 group is present, a 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group in which Q is a Q2 group And Q1 group, phenoxy group, Q is Q2 group 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group and Q1 group methylphenoxy group, Q is Q2 group 3,5-dimethyl- Preferred are those having a 4-hydroxyphenoxy group and a dimethylphenoxy group which is a Q1 group, and any mixture thereof. A xyl group-containing cyclotriphosphazene compound and a hydroxy group-containing cyclotetraphosphazene compound in which k in formula (7) is 2, wherein Q is a 4-hydroxyphenoxy group corresponding to [Form 1], In addition, corresponding to [Form 2], Q is a 4-hydroxyphenoxy group having a Q2 group and a phenoxy group having a Q1 group, and 4-methylphenoxy group having a Q2 group and a methyl having a Q1 group A phenoxy group, a 3-methyl-4-hydroxyphenoxy group in which Q is a Q2 group and a phenoxy group in which a Q1 group is present, a 3,5-dimethyl-4-hydroxyphenoxy group and a Q1 group in which Q is a Q2 group Preference is given to those of the phenoxy group and any mixtures thereof.

(特定のポリフェニレンエーテル類)
この製造方法で用いられる特定のポリフェニレンエーテル類は、下記の式(9)で示されるものである。
(Specific polyphenylene ethers)
The specific polyphenylene ethers used in this production method are those represented by the following formula (9).

式(9)において、rは30〜1,000の整数を示す。また、L5〜L8は、水素原子、または炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルケニル基および炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基である。炭素数6〜20のアリール基は、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい。   In the formula (9), r represents an integer of 30 to 1,000. L5 to L8 are groups selected from a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 20 carbon atoms. In the aryl group having 6 to 20 carbon atoms, at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.

式(9)で示されるポリフェニレンエーテル類の具体例としては、その単独重合体として、ポリ(2−メチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(ジメチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルエチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2,6−ジエチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(ジエチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−エチル−6−n−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(エチルプロピルフェニレン)エーテル類、ポリ(2,6−n−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(ジプロピルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−メチル−6−n−プロピル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルプロピルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−メチル−6−n−ブチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルブチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−メチル−6−イソプロピル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルイソプロピルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−エチル−6−イソプロピル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(エチルイソプロピルフェニレン)エーテル類およびポリ(2−メチル−6−ヒドロキシエチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルヒドロキシエチルフェニレン)エーテル類などのホモポリマーが挙げられる。また、フェニレンエーテル構造を主単量体単位とする共重合体として、2,6−ジメチルフェノールとo−クレゾールとの共重合体並びに2,6−ジメチルフェノールと2,3,6−トリメチルフェノールおよびo−クレゾールとの共重合体が挙げられる。   Specific examples of the polyphenylene ethers represented by the formula (9) include poly (methylphenylene) ethers such as poly (2-methyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6) as homopolymers thereof. -Poly (dimethylphenylene) ethers such as dimethyl-1,4-phenylene) ether, poly (methylethylphenylene) ethers such as poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene) ether, poly ( Poly (diethylphenylene) ethers such as 2,6-diethyl-1,4-phenylene) ether, poly (ethylpropylphenylene) such as poly (2-ethyl-6-n-propyl-1,4-phenylene) ether Poly (dipropylphenylene) ethers such as ethers and poly (2,6-n-propyl-1,4-phenylene) ether , Poly (methylpropylphenylene) ethers such as poly (2-methyl-6-n-propyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-n-butyl-1,4-phenylene) Poly (methylbutylphenylene) ethers such as ether, poly (methylisopropylphenylene) ethers such as poly (2-methyl-6-isopropyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-ethyl-6-isopropyl-) Homogeneous such as poly (ethyl isopropyl phenylene) ethers such as 1,4-phenylene) ether and poly (methyl hydroxyethyl phenylene) ethers such as poly (2-methyl-6-hydroxyethyl-1,4-phenylene) ether Polymers. Further, as a copolymer having a phenylene ether structure as a main monomer unit, a copolymer of 2,6-dimethylphenol and o-cresol, 2,6-dimethylphenol and 2,3,6-trimethylphenol, and and a copolymer with o-cresol.

この中で、ポリ(2−メチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(ジメチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルエチルフェニレン)エーテル類、ポリ(2,6−ジエチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(ジエチルフェニレン)エーテル類および2,6−ジメチルフェノールと2,3,6−トリメチルフェノールおよびo−クレゾールとの共重合体が好ましく、ポリ(2−メチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(メチルフェニレン)エーテル類およびポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル等のポリ(ジメチルフェニレン)エーテル類が特に好ましい。   Among them, poly (methylphenylene) ethers such as poly (2-methyl-1,4-phenylene) ether and poly (dimethylphenylene) ethers such as poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether , Poly (methylethylphenylene) ethers such as poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene) ether, and poly (diethyl) such as poly (2,6-diethyl-1,4-phenylene) ether Phenylene) ethers and copolymers of 2,6-dimethylphenol with 2,3,6-trimethylphenol and o-cresol are preferred, and poly (methyl) such as poly (2-methyl-1,4-phenylene) ether Poly (dimethylphenylene) such as phenylene) ethers and poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether Ethers are particularly preferred.

また、特定のポリフェニレンエーテル類としては、2−(ジアルキルアミノメチル)−6−メチルフェニレンエーテルユニットや2−(N−アルキル−N−フェニルアミノメチル)−6−メチルフェニレンエーテルユニット等の官能基を有するフェニレンエーテルユニットを部分構造として含んでいるポリフェニレンエーテル類を用いることもできる。このポリフェニレンエーテル類は式(9)で示されるポリフェニレンエーテル類と併用されてもよい。   Specific polyphenylene ethers include functional groups such as 2- (dialkylaminomethyl) -6-methylphenylene ether units and 2- (N-alkyl-N-phenylaminomethyl) -6-methylphenylene ether units. Polyphenylene ethers containing a phenylene ether unit having a partial structure can also be used. These polyphenylene ethers may be used in combination with the polyphenylene ether represented by the formula (9).

さらに、特定のポリフェニレンエーテル類としては、ラジカル開始剤の存在下での再分配反応を阻害しないものであれば、ポリフェニレンエーテル類の一部または全部が、エポキシ基、アミノ基、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、またはシリル基で官能化された変性ポリフェニレンエーテル類も用いることができる。これらは2種類以上のものが併用されてもよい。官能化された変性ポリフェニレンエーテル類の製造方法は、本発明の効果が得られるものであれば特に規定はない。例えば、ラジカル開始剤の存在下または非存在下において、ポリフェニレンエーテル類に不飽和カルボン酸やその官能的誘導体を溶融混練して反応させることによって製造ができる。また、ポリフェニレンエーテル類と不飽和カルボン酸やその官能誘導体とをラジカル開始存在下または非存在下で有機溶剤に溶かし、溶液下で反応させることによって製造することもできる。   Furthermore, as specific polyphenylene ethers, as long as they do not inhibit the redistribution reaction in the presence of a radical initiator, some or all of the polyphenylene ethers are epoxy groups, amino groups, hydroxyl groups, mercapto groups, Modified polyphenylene ethers functionalized with carboxyl groups or silyl groups can also be used. Two or more of these may be used in combination. The method for producing the functionalized modified polyphenylene ether is not particularly limited as long as the effects of the present invention can be obtained. For example, it can be produced by reacting polyphenylene ethers with an unsaturated carboxylic acid or a functional derivative thereof by melt-kneading in the presence or absence of a radical initiator. Moreover, it can also manufacture by dissolving polyphenylene ether, unsaturated carboxylic acid, and its functional derivative in the organic solvent in the presence or absence of radical initiation, and making it react under a solution.

(オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は上述の特定のヒドロキシル基含有環状ホスファゼン化合物と、上述の特定のポリフェニレンエーテル類とをラジカル開始剤の存在下において再分配反応させることで製造することができる。
(Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compounds)
The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound can be produced by redistributing the above-mentioned specific hydroxyl group-containing cyclic phosphazene compound and the above-mentioned specific polyphenylene ether in the presence of a radical initiator. .

この反応では、ポリフェニレンエーテル類がラジカル開始剤によりラジカル化され、また、そのラジカル化されたポリマー鎖が再分配反応によって切断されて活性化されたオリゴフェニレンエーテルが生成する。このオリゴフェニレンエーテルは、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のヒドロキシ基と反応する。これにより、目的のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を得ることができる。   In this reaction, polyphenylene ethers are radicalized by a radical initiator, and the radicalized polymer chain is cleaved by a redistribution reaction to generate activated oligophenylene ether. This oligophenylene ether reacts with the hydroxy group of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound. Thereby, the target oligo (phenyleneoxy) group containing cyclic phosphazene compound can be obtained.

ここで用いられるラジカル開始剤は、種類が特に限定されるものではないが、例えば、各種の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリルやアゾビスイソバレロニトリル等のアゾ系化合物、および2,3−ジメチル−2,3−ジフェニルブタン(例えば、日本油脂株式会社の商品名「ビスクミル」)などを挙げることができる。このうち、有機過酸化物を用いるのが好ましい。   The type of the radical initiator used here is not particularly limited. For example, various organic peroxides, azo compounds such as azobisisobutyronitrile and azobisisovaleronitrile, and 2, Examples thereof include 3-dimethyl-2,3-diphenylbutane (for example, “Biscumyl”, a trade name of Nippon Oil & Fat Co., Ltd.). Among these, it is preferable to use an organic peroxide.

好ましい有機過酸化物としては、例えば、パーオキシエステル、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオキサイド、ジアシルパーオキサイド、パーオキシジカーボネート、パーオキシケタールおよびシリルパーオキサイド等をあげることができる。   Preferred organic peroxides include, for example, peroxyesters, dialkyl peroxides, hydroperoxides, diacyl peroxides, peroxydicarbonates, peroxyketals, and silyl peroxides.

パーオキシエステルとしては、例えば、クミルパーオキシネオデカエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカエート、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシノエデカノエート、tert−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、L−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、L−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、tert−ブチルパーオキシイソブチレート、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、tert−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、tert−ブチルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(m−トルオイルパーオキシ)ヘキサンtert−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、tert−ヘキシルパーオキシベンゾエートおよびtert−ブチルパーオキシアセテート等を挙げることができる。   Examples of peroxyesters include cumyl peroxyneodecanate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxynoedecanoate, and tert-hexyl. Peroxyneodecanoate, tert-butyl peroxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (2- Ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, L-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, L-butylperoxy-2-ethylhexanoate Tert-butyl peroxyisobutyrate, 1,1-bis (tert-butyl -Oxy) cyclohexane, tert-hexyl peroxyisopropyl monocarbonate, tert-butyl peroxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-di (m-toluoyl peroxy) hexane tert-butyl peroxyisopropyl monocarbonate, Examples thereof include tert-butyl peroxy-2-ethylhexyl monocarbonate, tert-hexyl peroxybenzoate, and tert-butyl peroxyacetate.

ジアルキルパーオキサイドとしては、例えば、α,α’−ビス(tert−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3,2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキサンおよびtert−ブチルクミルパーオキサイド等を挙げることができる。 Examples of the dialkyl peroxide include α, α′-bis (tert-butylperoxy-m-isopropyl) benzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy). Examples thereof include hexyne-3,2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) hexane and tert-butylcumyl peroxide.

ハイドロパーオキサイドとしては、例えば、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイドおよびクメンハイドロパーオキサイド等を挙げることができる。 Examples of the hydroperoxide include diisopropylbenzene hydroperoxide and cumene hydroperoxide.

ジアシルパーオキサイドとしては、例えば、イソブチルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スクシニックパーオキサイド、ベンゾイルパーオキシトルエンおよびベンゾイルパーオキサイド等を挙げることができる。 Examples of the diacyl peroxide include isobutyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, Examples include stearoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide and benzoyl peroxide.

パーオキシジカーボネートとしては、例えば、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−tert−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシメトキシジカーボネート、ジ(2−エチルヘキシルパーオキシ)ジカーボネート、ジメトキシブチルパーオキシジカーボネートおよびジ(3−メチル−3−メトキシブチルパーオキシ)ジカーボネート等を挙げることができる。 Examples of the peroxydicarbonate include di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxydicarbonate, bis (4-tert-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-ethoxymethoxydicarbonate, di ( 2-ethylhexyl peroxy) dicarbonate, dimethoxybutyl peroxydicarbonate, di (3-methyl-3-methoxybutylperoxy) dicarbonate, and the like.

パーオキシケタールとしては、例えば、1,1−ビス(tert−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ヘキシルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−(tert−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、および2,2−ビス(tert−ブチルパーオキシ)デカン等を挙げることができる。 Examples of the peroxyketal include 1,1-bis (tert-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tert-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis ( tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1- (tert-butylperoxy) cyclododecane, 2,2-bis (tert-butylperoxy) decane, and the like. .

シリルパーオキサイドとしては、例えば、tert−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド、ビス(tert−ブチル)ジメチルシリルパーオキサイド、tert−ブチルトリビニルシリルパーオキサイド、ビス(tert−ブチル)ジビニルシリルパーオキサイド、トリス(tert−ブチル)ビニルシリルパーオキサイド、tert−ブチルトリアリルシリルパーオキサイド、ビス(tert−ブチル)ジアリルシリルパーオキサイドおよびトリス(tert−ブチル)アリルシリルパーオキサイド等を挙げることができる。 Examples of the silyl peroxide include tert-butyltrimethylsilyl peroxide, bis (tert-butyl) dimethylsilyl peroxide, tert-butyltrivinylsilyl peroxide, bis (tert-butyl) divinylsilyl peroxide, and tris (tert- Examples thereof include butyl) vinylsilyl peroxide, tert-butyltriallylsilyl peroxide, bis (tert-butyl) diallylsilyl peroxide, and tris (tert-butyl) allylsilyl peroxide.

これらのうち、特に好ましいものは、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、tert−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−tert−ブチルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3,2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチル)ヘキサンおよびα,α’−ビス(tert−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベンゼンである。 Among these, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, tert-butylcumyl peroxide, di-tert-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butylperoxy) are particularly preferable. ) Hexin-3,2,5-dimethyl-2,5-di (tert-butyl) hexane and α, α′-bis (tert-butylperoxy-m-isopropyl) benzene.

なお、有機過酸化物はそれぞれ単独で用いることができるが、2種以上のものを併用することもできる。 In addition, although an organic peroxide can be used independently, respectively, 2 or more types can also be used together.

この反応において、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の使用量は、ポリフェニレンエーテル類の100重量部に対して1〜300重量部に設定するのが好ましい。ヒドロキシ基含有ホスファゼン化合物の使用量が300重量部を超える場合は、再分配反応が進行しすぎることから生成するオリゴフェニレンエーテルの数平均分子量が低下し、目的のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物、すなわち、所定のG2基を備えたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物が得られない可能性がある。逆にヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の使用量が1重量部未満の場合は、再分配反応が十分進行しにくくなることから、生成するオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物、すなわち、所定のG2基を備えたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物が得られない可能性がある。 In this reaction, the amount of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound used is preferably set to 1 to 300 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyphenylene ethers. When the amount of the hydroxy group-containing phosphazene compound exceeds 300 parts by weight, the number average molecular weight of the oligophenylene ether produced decreases because the redistribution reaction proceeds too much, and the desired oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene There is a possibility that a compound, that is, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound having a predetermined G2 group cannot be obtained. Conversely, when the amount of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound used is less than 1 part by weight, the redistribution reaction does not proceed sufficiently, so that the resulting oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound, that is, a predetermined G2 An oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound having a group may not be obtained.

また、ラジカル開始剤の使用量は、ポリフェニレンエーテル類の100重量部に対して1〜30重量部に設定するのが好ましい、ラジカル開始剤の使用量が30重量部を超える場合は、再分配反応が進行しすぎることから生成するオリゴフェニレンエーテルの数平均分子量が低下し、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物、すなわち、所定のG2基を備えたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物が得られない可能性がある。逆に、ラジカル開始剤の使用量が1重量部未満の場合は、再分配反応が十分進行しにくくなることから生成するオリゴフェニレンエーテルの数平均分子量が大きくなり、目的のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物、すなわち、所定のG2基を備えたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物が得られない可能性がある。   Moreover, it is preferable to set the usage-amount of a radical initiator to 1-30 weight part with respect to 100 weight part of polyphenylene ethers. When the usage-amount of a radical initiator exceeds 30 weight part, it is a redistribution reaction. The number average molecular weight of the oligophenylene ether produced decreases due to excessive progression of the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound, that is, the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound having a predetermined G2 group. It may not be obtained. Conversely, when the amount of radical initiator used is less than 1 part by weight, the number average molecular weight of the oligophenylene ether produced increases because the redistribution reaction does not proceed sufficiently, and the desired oligo (phenyleneoxy) group There is a possibility that a containing cyclic phosphazene compound, that is, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound having a predetermined G2 group cannot be obtained.

この反応は、通常、溶媒中で行うことができ、反応温度を80〜120℃に、また、反応時間を10〜180分間に設定するのが好ましい。溶媒としては、例えば、トルエン、ベンゼンおよびキシレン等の芳香族炭化水素系溶媒やクロロホルム等を用いることができる。   This reaction can usually be performed in a solvent, and it is preferable to set the reaction temperature to 80 to 120 ° C. and the reaction time to 10 to 180 minutes. As the solvent, for example, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, benzene and xylene, chloroform and the like can be used.

この製造方法においては、上述の再分配反応のためにポリフェニレンエーテル類(ホモポリマー)が生成し、その微量がオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物に混入する可能性がある。このようなポリフェニレンエーテル類が混入していても、後述するエポキシ化反応に支障をなく用いることができるが、支障があればポリフェニレンエーテル類を取り除いて用いるのが好ましい。オリゴ(フェニレンオキシ)基含有ホスファゼン化合物に混入しているポリフェニレンエーテル類を除去するための方法としては、例えば、分子量の差による限外濾過、溶解性の差による分別沈殿および蒸気圧の差による分子蒸留等が挙げられる。   In this production method, polyphenylene ethers (homopolymers) are generated due to the above-mentioned redistribution reaction, and a trace amount thereof may be mixed into the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound. Even if such polyphenylene ethers are mixed, the epoxidation reaction described later can be used without any problem, but if there is a problem, it is preferable to remove the polyphenylene ether and use it. Methods for removing polyphenylene ethers mixed in oligo (phenyleneoxy) group-containing phosphazene compounds include, for example, ultrafiltration based on molecular weight differences, fractional precipitation based on solubility differences, and molecules based on vapor pressure differences Examples thereof include distillation.

<製造方法P−2>
本発明のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、上記の製造方法P−1により製造できるが、一般的なポリフェニレンエーテル樹脂の製造方法に基づいて製造することができる。この方法では、芳香族炭化水素溶媒または芳香族炭化水素とアルコールとの混合溶媒中において、製造方法P−1において用いられるものと同様のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物と、下記の一価のフェノール化合物とを、銅、マンガンまたはコバルトを含有する錯体触媒存在下で酸化重合することで、目的のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を製造することができる。
<Manufacturing method P-2>
The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention can be produced by the above production method P-1, but can be produced based on a general production method of a polyphenylene ether resin. In this method, a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound similar to that used in Production Method P-1 in an aromatic hydrocarbon solvent or a mixed solvent of an aromatic hydrocarbon and an alcohol, and the following monovalent phenol compound: Is subjected to oxidative polymerization in the presence of a complex catalyst containing copper, manganese or cobalt, whereby the desired oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound can be produced.

ここで用いられる一価のフェノール化合物は、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のヒドロキシ基との反応および酸化重合により所定のG2基を形成可能なものであり、例えば、o−クレゾール、2,6−ジメチルフェノール、2,3,6−トリメチルフェノール、2−エチルフェノール、2−メチル−6−エチルフェノール、2,6−ジエチルフェノール、2−n−プロピルフェノール、2−エチル−6−n−プロピルフェノール、2−メチル−6−クロロフェノール、2−メチル−6−ブロモフェノール、2−メチル−6−イソプロピルフェノール、2−メチル−6−n−プロピルフェノール、2−エチル−6−ブロモフェノール、2−エチル−6−ブチルフェノール、2,6−ジ−n−プロピルフェノール、2−エチル−6−クロロフェノール2−エチル−6−フェニルフェノール、2−フェニルフェノール、2,6−ジフェニルフェノール、2,6−ビス(4−フルオロフェニル)フェノール、2−メチル−6−トリルフェノールおよび2,6−ジトリルフェノール等を挙げることができる。これらのフェノール化合物は2種以上のものを併用することもできる。   The monohydric phenol compound used here is capable of forming a predetermined G2 group by reaction with a hydroxy group of a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound and oxidative polymerization. For example, o-cresol, 2,6-dimethyl Phenol, 2,3,6-trimethylphenol, 2-ethylphenol, 2-methyl-6-ethylphenol, 2,6-diethylphenol, 2-n-propylphenol, 2-ethyl-6-n-propylphenol, 2-methyl-6-chlorophenol, 2-methyl-6-bromophenol, 2-methyl-6-isopropylphenol, 2-methyl-6-n-propylphenol, 2-ethyl-6-bromophenol, 2-ethyl -6-butylphenol, 2,6-di-n-propylphenol, 2-ethyl-6-alkyl Lophenol 2-ethyl-6-phenylphenol, 2-phenylphenol, 2,6-diphenylphenol, 2,6-bis (4-fluorophenyl) phenol, 2-methyl-6-tolylphenol and 2,6-di Examples include tolylphenol. Two or more of these phenol compounds can be used in combination.

また、酸化重合の時に用いられるアミン類としては、例えば、ジイソプロピルアミン、ジ−sec−ブチルアミン、ジ−tert−ブチルアミン、ジ−tert−アリルアミン、ジシクロペンチルアミン、ジシクロヘキシルアミン、ジフェニルアミン、p,p’−ジトリルアミン、m,m’−ジトリルアミン、エチル−tert−ブチルアミン、N,N’−ジ−tert−ブチルエチレンジアミン、メチルシクロヘキシルアミン、メチルフェニルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、n−ブチルジメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、フェニルジメチルアミン、N,N−ジメチル−p−トルイジン、トリフェニルアミン、N,N−ジメチルピペラジン、ピリジン、メチルピリジンおよび2,6−ジメチルピリジン等を挙げることができる。これらのアミン類は2種以上のものを併用することができる。   Examples of amines used for oxidative polymerization include diisopropylamine, di-sec-butylamine, di-tert-butylamine, di-tert-allylamine, dicyclopentylamine, dicyclohexylamine, diphenylamine, p, p′-. Ditolylamine, m, m′-ditolylamine, ethyl-tert-butylamine, N, N′-di-tert-butylethylenediamine, methylcyclohexylamine, methylphenylamine, triethylamine, methyldiethylamine, n-butyldimethylamine, benzyldimethylamine, Examples include phenyldimethylamine, N, N-dimethyl-p-toluidine, triphenylamine, N, N-dimethylpiperazine, pyridine, methylpyridine and 2,6-dimethylpyridine. It is possible. Two or more of these amines can be used in combination.

この製造方法は、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物にポリフェニレンエーテル類などが混入する可能性が低いため、前述の方法に比べて純度の高いオリゴ(フェニレンオキシ)基含有ホスファゼン化合物を製造することができる。   This production method produces a highly pure oligo (phenyleneoxy) group-containing phosphazene compound as compared to the above-mentioned method because there is a low possibility that polyphenylene ethers and the like are mixed in the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound. be able to.

<製造方法P−3>
本発明のオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、芳香族炭化水素溶媒中において、水酸化ナトリウム水溶液、テトラブチルアンモニウム水素サルフェート等の相間移動触媒および空気の存在下で、製造方法P−1において用いられるものと同様のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物と、下記のハロフェノール化合物とを反応することで製造することもできる。
<Manufacturing method P-3>
The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound of the present invention is produced in the presence of a phase transfer catalyst such as aqueous sodium hydroxide and tetrabutylammonium hydrogen sulfate and air in an aromatic hydrocarbon solvent. It can also be produced by reacting a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound similar to that used in the above and a halophenol compound described below.

ここで用いられるハロフェノール化合物は、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のヒドロキシ基との反応および酸化重合により所定のA2基を形成可能なものであり、例えば、4−ブロモ−2−メチルフェノールや4−ブロモ−2,6−ジメチルフェノールを挙げることができる。ハロフェノール化合物は、2種以上のものを併用することもできる。   The halophenol compound used here is capable of forming a predetermined A2 group by reaction with a hydroxy group of a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound and oxidative polymerization, such as 4-bromo-2-methylphenol or 4- Mention may be made of bromo-2,6-dimethylphenol. Two or more halophenol compounds can be used in combination.

この製造方法は、目的物であるオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物にポリフェニレンエーテル類などが混入する可能性が低いため、製造方法P−1に比べて純度の高いオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を製造することができる。   In this production method, since there is a low possibility that polyphenylene ethers and the like are mixed into the target oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound, an oligo (phenyleneoxy) group having a higher purity than production method P-1. Containing cyclic phosphazene compounds can be produced.

(グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造方法)
グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、上述の製造方法にて得られたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物とエピハロヒドリン等とを塩基の存在下において反応させることで製造することができる。
(Method for producing oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group)
The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group is obtained by reacting the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound obtained by the above-described production method with epihalohydrin in the presence of a base. Can be manufactured.

ここで用いられるエピハロヒドリンとしては、例えば、エピクロロヒドリン、エピブロモヒドリンおよびエピヨードヒドリン等を挙げることができるが、特にエピクロロヒドリンが好ましい。   Examples of the epihalohydrin used herein include epichlorohydrin, epibromohydrin, and epiiodohydrin, and epichlorohydrin is particularly preferable.

また、ここで用いられる塩基は特に限定されるものではなく、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジンおよび4−ジメチルアミノピリジン等の脂肪族若しくは芳香族アミン、炭酸カリウムおよび炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩並びに水素化ナトリウム等の金属水素化物を挙げることができる。このうち、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、トリエチルアミン並びにピリジンが好ましい。   The base used here is not particularly limited, and examples thereof include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide, triethylamine, trimethylamine, diisopropylethylamine, pyridine and 4-dimethylamino. Mention may be made of aliphatic or aromatic amines such as pyridine, alkali metal carbonates such as potassium carbonate and potassium carbonate, and metal hydrides such as sodium hydride. Of these, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, triethylamine and pyridine are preferred.

本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、上述のエピハロヒドリン等と塩基とを選択することにより製造することができる。以下、代表的な製造方法を説明する。   The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention can be produced by selecting the above-mentioned epihalohydrin or the like and a base. Hereinafter, typical manufacturing methods will be described.

<製造方法G−1>
オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物とエピハロヒドリンとを反応させる製造方法である。この場合、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有ホスファゼン化合物とエピハロヒドリンとの混合物に対し、塩基である水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物を添加し、または添加しながら反応(脱ハロゲン化水素による閉環反応)する。反応温度は、20〜120℃に設定するのが好ましい。また、反応時間は、通常、1〜10時間に設定するのが好ましい。
<Manufacturing method G-1>
This is a production method in which an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound and an epihalohydrin are reacted. In this case, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide as a base is added to the mixture of the oligo (phenyleneoxy) group-containing phosphazene compound and epihalohydrin, or the reaction (dehalogenation is performed). (Ring-closing reaction with hydrogen). The reaction temperature is preferably set to 20 to 120 ° C. The reaction time is usually preferably set to 1 to 10 hours.

この方法の場合、エピハロヒドリンの使用量は、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の水酸基1当量に対して、通常、1.1〜20当量の範囲に設定するのが好ましい。因みに、エピハロヒドリンの使用量が多くなるほど、得られるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は理論構造に近いものとなるので、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の未反応ヒドロキシ基とエポキシ基との反応で生じる第二級ヒドロキシ基の生成を抑制することができる。このことから、エピハロヒドリンの添加量は、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物のヒドロキシ基1当量に対し、2.5〜20当量の範囲に設定するのがより好ましい。   In the case of this method, the amount of epihalohydrin used is usually preferably set in the range of 1.1 to 20 equivalents relative to 1 equivalent of the hydroxyl group of the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound. Incidentally, as the amount of epihalohydrin used increases, the resulting oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group becomes closer to the theoretical structure, so the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound has not reacted. The production | generation of the secondary hydroxy group produced by reaction with a hydroxyl group and an epoxy group can be suppressed. From this, it is more preferable that the addition amount of epihalohydrin is set in the range of 2.5 to 20 equivalents with respect to 1 equivalent of hydroxy group of the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound.

上述の反応において用いるアルカリ金属水酸化物は、水溶液であってもよい。この場合、上述の反応は、反応系内に対してアルカリ金属水酸化物の水溶液を連続的に添加すると共に、減圧下または常圧下で連続的に水およびエピハロヒドリンを留出させながら進行させることができる。この際、抽出成分である水とエピハロヒドリンとを分液し、エピハロヒドリンのみを反応系内に連続的に戻す方法を採用することもできる。   The alkali metal hydroxide used in the above reaction may be an aqueous solution. In this case, the above-described reaction can be allowed to proceed while continuously adding an aqueous solution of an alkali metal hydroxide to the reaction system and continuously distilling water and epihalohydrin under reduced pressure or normal pressure. it can. At this time, it is also possible to adopt a method in which water and epihalohydrin as extraction components are separated and only the epihalohydrin is continuously returned into the reaction system.

<製造方法G−2>
この製造方法では、まず、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物とエピハロヒドリンとの混合物に対し、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイドおよびテトラメチルベンジルアンモニウムクロライド等の第四級アンモニウム塩を触媒として添加し、50〜150℃の条件下で反応させてハロヒドリンエーテル化物をいったん生成させる(工程A)。この工程での反応時間は、特に限定されるものではないが、通常、1〜5時間に設定するのが好ましい。
<Manufacturing method G-2>
In this production method, first, a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide and tetramethylbenzylammonium chloride is used as a catalyst for a mixture of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound and epihalohydrin. It is added and reacted under the conditions of 50 to 150 ° C. to once produce a halohydrin etherified product (Step A). The reaction time in this step is not particularly limited, but usually it is preferably set to 1 to 5 hours.

次に、工程Aで生成したハロヒドリンエーテル化物に対し、塩基として、例えば、水酸化カリウムや水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物の固体または水溶液を加え、20〜120℃の温度で脱ハロゲン化水素による閉環反応をおこなう(工程B)。この工程での反応時間は、特に限定されるものではないが、通常、1〜10時間に設定するのが好ましい。   Next, for example, a solid or aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as potassium hydroxide or sodium hydroxide is added as a base to the halohydrin etherified product produced in step A, and dehydrated at a temperature of 20 to 120 ° C. A ring-closing reaction with hydrogen halide is performed (step B). The reaction time in this step is not particularly limited, but usually it is preferably set to 1 to 10 hours.

工程Bは、脱ハロゲン化水素による閉環反応が円滑に進行するように、メタノール、エタノール、イソプロパノールおよびブタノール等のアルコール類、アセトンおよびメチルエチルケトン等のケトン類、テトラヒドロフランおよびジオキサン等のエーテル類、ジメチルスルホンおよびジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒等の溶媒を、反応系に対して添加するのが好ましい。非プロトン性極性溶媒の使用量は、エピハロヒドリンの量に対し、通常、5〜100重量%に設定するのが好ましく、10〜60重量%に設定するのがより好ましい。一方、非プロトン性極性溶媒以外の溶媒、例えば、ヘキサン、トルエンおよびキシレン等の脂肪族若しくは芳香族炭化水素類並びにクロロホルム、ジクロロメタンおよびクロロベンゼン等のハロゲン溶媒を用いることもできるが、その場合、その使用量は、エピハロヒドリンの使用量に対し、通常、5〜50重量%に設定するのが好ましい。   In step B, the ring closure reaction by dehydrohalogenation proceeds smoothly, alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol and butanol, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, ethers such as tetrahydrofuran and dioxane, dimethyl sulfone and A solvent such as an aprotic polar solvent such as dimethyl sulfoxide is preferably added to the reaction system. The amount of the aprotic polar solvent used is usually preferably set to 5 to 100% by weight and more preferably set to 10 to 60% by weight with respect to the amount of epihalohydrin. On the other hand, solvents other than aprotic polar solvents, for example, aliphatic or aromatic hydrocarbons such as hexane, toluene and xylene and halogen solvents such as chloroform, dichloromethane and chlorobenzene can be used. The amount is usually preferably set to 5 to 50% by weight based on the amount of epihalohydrin used.

工程Bの反応液は、通常、水洗後、または水洗せずに、110〜250℃で圧力10hPa以下の加熱減圧下で、エピハロヒドリンや他の添加溶媒などを留去する。これにより得られたグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を再びトルエンやメチルイソブチルケトンなどの溶剤に溶解し、その溶液に対して水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて閉環反応を完結することが好ましい。このような操作により、加水分解性ハロゲンの残留量が少ないグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物が得られる。   The reaction liquid of Step B is usually distilled off of epihalohydrin and other added solvents under heating and reduced pressure at 110 to 250 ° C. and a pressure of 10 hPa or less after washing with water or without washing with water. The resulting oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group is dissolved again in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, and an alkali metal such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is dissolved in the solution. It is preferable to complete the ring closure reaction by adding an aqueous solution of hydroxide. By such an operation, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group with a small residual amount of hydrolyzable halogen can be obtained.

このような操作を行う場合の、アルカリ金属水酸化物の使用量は、グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物中に残存する加水分解性ハロゲン原子1モルに対し、通常、0.5〜10モルに設定するのが好ましく、1.2〜5.0モルに設定するのがより好ましい。また、反応温度は50〜120℃に設定するのが好ましく、反応時間は0.5〜3時間に設定するのが好ましい。この処理では、反応速度の向上を目的として第四級アンモニウム塩やクラウンエーテル等の相間移動触媒を添加することもできる。この場合、相間移動触媒の使用量はグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物に対して0.1〜3. 0重量%に設定するのが好ましい。   When such an operation is performed, the amount of alkali metal hydroxide used is usually 1 mol of hydrolyzable halogen atoms remaining in the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group. It is preferable to set to 0.5-10 mol, and it is more preferable to set to 1.2-5.0 mol. The reaction temperature is preferably set to 50 to 120 ° C., and the reaction time is preferably set to 0.5 to 3 hours. In this treatment, a phase transfer catalyst such as a quaternary ammonium salt or crown ether can be added for the purpose of improving the reaction rate. In this case, the amount of the phase transfer catalyst used is 0.1 to 3.3 with respect to the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group. It is preferable to set it to 0% by weight.

グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、反応終了後、生成した塩を濾過や水洗などの方法により除去し、また、加熱減圧下でトルエンやメチルブチルケトン等の溶媒を留去することで得られる。   The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group, after the reaction is completed, the produced salt is removed by a method such as filtration or washing with water, and a solvent such as toluene or methyl butyl ketone is removed under heating and reduced pressure. Obtained by distilling off.

上述の製造方法G−1およびG−2により得られる、目的とするグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、濾過、溶媒抽出、カラムクロマトグラフィーおよび再沈殿等の通常の精製方法により反応系から単離精製することができる。   The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with the target glycidyl group obtained by the above-described production methods G-1 and G-2 is used for ordinary filtration, solvent extraction, column chromatography, reprecipitation and the like. It can be isolated and purified from the reaction system by a purification method.

樹脂組成物
本発明の樹脂組成物は、本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物と樹脂成分とを含むものである。
Resin Composition The resin composition of the present invention comprises the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with the glycidyl group of the present invention and a resin component.

本発明の樹脂組成物において、本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、一種類のものが用いられてもよいし、二種以上のもの、すなわち既述のような二種以上のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物が併用されてもよい。また、樹脂成分としては、各種の熱可塑性樹脂若しくは熱硬化性樹脂を使用することができる。これらの樹脂成分は、天然のものであってもよいし、合成のものであってもよい。   In the resin composition of the present invention, as the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention, one kind may be used, or two or more kinds, that is, the aforementioned Such an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with two or more glycidyl groups may be used in combination. As the resin component, various thermoplastic resins or thermosetting resins can be used. These resin components may be natural or synthetic.

ここで利用可能な熱可塑性樹脂の具体例としては、ポリエチレン、ポリイソプレン、ポリブタジエン、塩素化ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、スチレン樹脂、耐衝撃性ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン樹脂(AS樹脂)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(ABS樹脂)、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン樹脂(MBS樹脂)、メチルメタクリレート−アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン樹脂(MABS樹脂)、アクリロニトリル−アクリルゴム−スチレン樹脂(AAS樹脂)、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、変性ポリフェニレンエーテル、脂肪族系ポリアミド、芳香族系ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートおよびポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリエーテルニトリル、ポリチオエーテルスルホン、ポリエーテルスルホン並びに液晶ポリマー等を挙げることができる。変性ポリフェニレンエーテルとしては、ポリフェニレンエーテルの一部または全部に、カルボキシル基、エポキシ基、アミノ基、水酸基、無水ジカルボキシル基などの反応性官能基を、グラフト反応や共重合などの何らかの方法により導入したものが用いられる。なお、本発明の樹脂組成物を電子機器用途、特に、OA機器、AV機器、通信機器および家電製品用の筐体や部品用の材料として用いる場合は、熱可塑性樹脂としてポリエステル樹脂、ABS樹脂、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル若しくはポリアミド等を用いるのが好ましい。   Specific examples of the thermoplastic resin that can be used here include polyethylene, polyisoprene, polybutadiene, chlorinated polyethylene, polyvinyl chloride, styrene resin, impact-resistant polystyrene, acrylonitrile-styrene resin (AS resin), and acrylonitrile-butadiene-. Styrene resin (ABS resin), methyl methacrylate-butadiene-styrene resin (MBS resin), methyl methacrylate-acrylonitrile-butadiene-styrene resin (MABS resin), acrylonitrile-acrylic rubber-styrene resin (AAS resin), polymethyl acrylate, poly Methyl methacrylate, polycarbonate, polyphenylene ether, modified polyphenylene ether, aliphatic polyamide, aromatic polyamide, polyethylene terephthalate, polypropylene Polyester resins such as terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, polysulfone, polyarylate, polyether ketone, polyether nitrile, polythioether sulfone, polyether sulfone and liquid crystal A polymer etc. can be mentioned. As the modified polyphenylene ether, a reactive functional group such as a carboxyl group, an epoxy group, an amino group, a hydroxyl group, and an anhydrous dicarboxyl group is introduced into a part or all of the polyphenylene ether by some method such as graft reaction or copolymerization. Things are used. When the resin composition of the present invention is used as a material for casings or parts for electronic equipment, particularly OA equipment, AV equipment, communication equipment, and home appliances, polyester resin, ABS resin, It is preferable to use polycarbonate, modified polyphenylene ether, polyamide or the like.

一方、ここで利用可能な熱硬化性樹脂の具体例としては、ポリウレタン、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、シリコーン樹脂、マレイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂、マレイミド−シアン酸エステル樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、ポリベンズイミダゾール、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリカルボジイミド並びにエポキシ樹脂等を挙げることができる。また、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリカルボジイミド、マレイミド樹脂、マレイミド−シアン酸エステル樹脂等のポリイミド系樹脂は、その取り扱い加工性および接着性を向上するために、熱可塑性や溶媒可溶性が付与されたものであってもよい。なお、本発明の樹脂組成物を電子部品用途、特に、各種IC素子の封止材、配線板の基板材料、層間絶縁材料や絶縁性接着材料等の絶縁材料、Si基板またはSiC基板等の絶縁材料、導電材料および表面保護材料として用いる場合は、熱硬化性樹脂として、ポリウレタン、フェノール樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂、ビスマレイミドーシアン酸エステル樹脂、ポリイミド系樹脂若しくはエポキシ樹脂等を用いるのが好ましい。   On the other hand, specific examples of the thermosetting resin usable here include polyurethane, phenol resin, melamine resin, urea resin, unsaturated polyester resin, diallyl phthalate resin, silicone resin, maleimide resin, cyanate ester resin, maleimide- Examples thereof include cyanate ester resins, benzoxazine resins, polybenzimidazoles, polyimides, polyamideimides, polyetherimides, polyesterimides, polycarbodiimides, and epoxy resins. In addition, polyimide resins such as polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polyesterimide, polycarbodiimide, maleimide resin, and maleimide-cyanate resin are used to improve the workability and adhesiveness. The thing to which solubility was provided may be sufficient. In addition, the resin composition of the present invention is used for electronic parts, in particular, sealing materials for various IC elements, substrate materials for wiring boards, insulating materials such as interlayer insulating materials and insulating adhesive materials, and insulating materials such as Si substrates or SiC substrates. When used as a material, conductive material, and surface protection material, polyurethane, phenol resin, bismaleimide resin, cyanate ester resin, bismaleimide-cyanate ester resin, polyimide resin, epoxy resin, or the like is used as the thermosetting resin. Is preferred.

上述の各種樹脂成分は、それぞれ単独で用いられてもよいし、必要に応じて二種以上のものが併用されてもよい。   The various resin components described above may be used alone or in combination of two or more as necessary.

本発明の樹脂組成物において、グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の使用量は、樹脂成分の種類、樹脂組成物の用途等の各種条件に応じて適宜設定することができるが、通常、固形分換算での樹脂成分100重量部に対して0.1〜200重量部に設定するのが好ましく、0.5〜100重量部に設定するのがより好ましく、1〜50重量部に設定するのがさらに好ましい。グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の使用量が0.1重量部未満の場合は、当該樹脂組成物からなる樹脂成形体が十分な難燃性を示さないおそれがある。逆に、200重量部を超えると、樹脂成分本来の特性を損ない、当該特性による樹脂成形体が得られなくなるおそれがある。   In the resin composition of the present invention, the amount of the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group can be appropriately set according to various conditions such as the type of the resin component and the use of the resin composition. However, it is usually preferably set to 0.1 to 200 parts by weight, more preferably 0.5 to 100 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the resin component in terms of solid content. It is more preferable to set the weight part. When the amount of the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group is less than 0.1 parts by weight, the resin molded body made of the resin composition may not exhibit sufficient flame retardancy. . On the other hand, if it exceeds 200 parts by weight, the original properties of the resin component may be impaired, and a resin molded product having such properties may not be obtained.

また、本発明の樹脂組成物は、樹脂成分の種類や樹脂組成物の用途等に応じ、その目的とする物性を損なわない範囲で、各種の添加剤を配合することができる。利用可能な添加剤としては、例えば、天然シリカ、焼成シリカ、合成シリカ、アモルファスシリカ、ホワイトカーボン、アルミナ、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、ホウ酸亜鉛、錫酸亜鉛、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化モリブデン、モリブデン酸亜鉛、天然マイカ、合成マイカ、アエロジル、カオリン、クレー、タルク、焼成カオリン、焼成クレー、焼成タルク、ウオラストナイト、ガラス短繊維、ガラス微粉末、中空ガラスおよびチタン酸カリウム繊維等の無機充填剤、アラミド繊維またはポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール繊維等の有機繊維、シランカップリング剤などの充填材の表面処理剤、ワックス類、脂肪酸およびその金属塩、酸アミド類およびパラフィン等の離型剤、塩素化パラフィン、リン酸エステル、縮合リン酸エステル、リン酸アミド、リン酸アミドエステル、ホスフィネート塩、リン酸アンモニウムおよび赤リン等のリン系難燃剤、メラミン、メラミンシアヌレート、メラム、メレム、メロンおよびサクシノグアナミン等の窒素系難燃剤、シリコーン系難燃剤並びに臭素系難燃剤等の難燃剤、三酸化アンチモン等の難燃助剤、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のドリッピング防止剤、ベンゾトリアゾールなどの紫外線吸収剤、ヒンダートフェノール、スチレン化フェノールなどの酸化防止剤、チオキサントン系などの光重合開始剤、スチルベン誘導体などの蛍光増白剤、硬化剤、染料、顔料、着色剤、光安定剤、光増感剤、増粘剤、滑剤、消泡剤、レベリング剤、光沢剤、重合禁止剤、チクソ性付与剤、可塑剤並びに帯電防止剤等を挙げることができる。   Moreover, the resin composition of this invention can mix | blend various additives in the range which does not impair the target physical property according to the kind of resin component, the use of a resin composition, etc. Available additives include, for example, natural silica, calcined silica, synthetic silica, amorphous silica, white carbon, alumina, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium silicate, calcium carbonate, zinc borate, zinc stannate, oxidation Titanium, zinc oxide, molybdenum oxide, zinc molybdate, natural mica, synthetic mica, aerosil, kaolin, clay, talc, calcined kaolin, calcined clay, calcined talc, wollastonite, short glass fiber, glass fine powder, hollow glass and Inorganic fillers such as potassium titanate fibers, organic fibers such as aramid fibers or polyparaphenylene benzbisoxazole fibers, surface treatment agents for fillers such as silane coupling agents, waxes, fatty acids and their metal salts, acid amides And mold release agents such as paraffin, chlorine Paraffin, phosphate ester, condensed phosphate ester, phosphate amide, phosphate amide ester, phosphinate salt, phosphorus flame retardants such as ammonium phosphate and red phosphorus, melamine, melamine cyanurate, melam, melem, melon and succino Nitrogen flame retardants such as guanamine, silicone flame retardants and flame retardants such as bromine flame retardants, flame retardant aids such as antimony trioxide, anti-dripping agents such as polytetrafluoroethylene (PTFE), benzotriazole, etc. UV absorbers, hindered phenols, antioxidants such as styrenated phenols, photopolymerization initiators such as thioxanthones, fluorescent brighteners such as stilbene derivatives, curing agents, dyes, pigments, colorants, light stabilizers, light Sensitizer, thickener, lubricant, defoamer, leveling agent, brightener, polymerization inhibitor, thixo Imparting agent, and a plasticizer as well as antistatic agents.

さらに、本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、熱硬化性樹脂の硬化剤や硬化促進剤を配合することができる。ここで用いられる硬化剤や硬化促進剤は、一般に使用されるものであれば、特に限定されるものではないが、通常、アミン化合物、フェノール化合物、酸無水物、イミダゾール類および有機金属塩などである。これらは、二種以上を併用することもできる。   Furthermore, the resin composition of this invention can mix | blend the hardening | curing agent and hardening accelerator of a thermosetting resin as needed. The curing agent and curing accelerator used here are not particularly limited as long as they are generally used, but are usually amine compounds, phenolic compounds, acid anhydrides, imidazoles, and organic metal salts. is there. These can also use 2 or more types together.

本発明の樹脂組成物を電気・電子分野用の材料、具体的には、LSI等の電子部品の封止剤や基板等に用いる場合、樹脂成分としては、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂、ビスマレイミド−シアン酸エステル樹脂および変性ポリフェニレンエーテル樹脂が好ましい。   When the resin composition of the present invention is used for materials for electric and electronic fields, specifically, sealants and substrates for electronic components such as LSI, the resin components include epoxy resins, polyimide resins, and bismaleimide resins. Cyanate ester resins, bismaleimide-cyanate ester resins and modified polyphenylene ether resins are preferred.

本発明の樹脂組成物において利用可能なエポキシ樹脂は、1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物であれば、特に限定されるものではない。その具体例としては、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−Aノボラック型エポキシ樹脂およびナフトールノボラック型エポキシ樹脂等のフェノール類とアルデヒド類との反応により得られるノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、ビスフェノール−F型エポキシ樹脂、ビスフェノール−AD型エポキシ樹脂、ビスフェノール−S型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、シクロペンタジェン型エポキシ樹脂、アルキル置換ビフェノール型エポキシ樹脂、多官能フェノール型エポキシ樹脂、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン等のフェノール類とエピクロルヒドリンとの反応により得られるフェノール型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパン、オリゴプロピレングリコールおよび水添ビスフェノール−A等のアルコール類とエピクロルヒドリンとの反応により得られる脂肪族エポキシ樹脂、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸若しくはフタル酸とエピクロルヒドリン若しくは2−メチルエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルエステル系エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタンやアミノフェノール等のアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルアミン系エポキシ樹脂、イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られる複素環式エポキシ樹脂、グリシジル基を有するホスファゼン化合物、エポキシ変性ホスファゼン樹脂、イソシアネート変性エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂並びにウレタン変性エポキシ樹脂等が挙げられる。これらの中でも、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノール−A型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、多官能フェノール型エポキシ樹脂およびトリス(ヒドロキシフェニル)メタンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるフェノール型エポキシ樹脂が好ましい。これらのエポキシ樹脂は、それぞれ単独で使用してもよいし、二種以上のものが併用されてもよい。   The epoxy resin that can be used in the resin composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having two or more epoxy groups in one molecule. Specific examples thereof include phenol novolac type epoxy resins, brominated phenol novolak type epoxy resins, orthocresol novolak type epoxy resins, biphenyl novolac type epoxy resins, bisphenol-A novolak type epoxy resins and naphthol novolak type epoxy resins. Type epoxy resin, bisphenol-A type epoxy resin, brominated bisphenol-A type epoxy resin, bisphenol-F type epoxy resin, bisphenol-AD type epoxy resin, bisphenol-S type epoxy resin obtained by reaction of aldehydes with aldehydes , Biphenol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, cyclopentagen type epoxy resin, alkyl-substituted biphenol type epoxy resin, polyfunctional phenol type epoxy resin Resin, obtained by reaction of phenols such as tris (hydroxyphenyl) methane and epichlorohydrin, obtained by reaction of phenolic epoxy resin, trimethylolpropane, oligopropylene glycol, hydrogenated bisphenol-A and the like with epichlorohydrin Aliphatic epoxy resin, hexahydrophthalic acid, tetrahydrophthalic acid or phthalic acid obtained by reaction of epichlorohydrin or 2-methylepichlorohydrin, glycidyl ester epoxy resin, obtained by reaction of amine such as diaminodiphenylmethane or aminophenol with epichlorohydrin Heterocyclic epoxies obtained by the reaction of polyamines such as glycidylamine epoxy resins and isocyanuric acid with epichlorohydrin Phosphazene compounds having a glycidyl group, an epoxy-modified phosphazene resins, isocyanate modified epoxy resin, cyclic aliphatic epoxy resins and urethane-modified epoxy resins. Among these, phenol novolac type epoxy resins, orthocresol novolac type epoxy resins, bisphenol-A type epoxy resins, biphenol type epoxy resins, biphenyl novolac type epoxy resins, naphthalene type epoxy resins, polyfunctional phenol type epoxy resins and tris (hydroxy) Phenolic epoxy resins obtained by reaction of phenyl) methane with epichlorohydrin are preferred. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

樹脂成分として上述のエポキシ樹脂を用いる場合(以下、このような樹脂組成物を「エポキシ樹脂組成物」という場合がある)、本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物がエポキシ樹脂組成分物中に占める割合は、0.1〜80重量%が好ましく、0.5〜70重量%がより好ましい。グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の割合が0.1重量%未満の場合は、当該樹脂組成物からなる樹脂成形体が、十分な難燃性を示さないおそれがある。逆に、80重量%を超えると、樹脂成分本来の特性を損ない、当該特性による樹脂成形体が得られなくなるおそれがある。   When the above-described epoxy resin is used as the resin component (hereinafter, such a resin composition may be referred to as “epoxy resin composition”), the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention Is preferably 0.1 to 80% by weight, and more preferably 0.5 to 70% by weight in the epoxy resin composition. When the proportion of the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group is less than 0.1% by weight, the resin molded body made of the resin composition may not exhibit sufficient flame retardancy. . On the other hand, if it exceeds 80% by weight, the original properties of the resin component may be impaired, and a resin molded product having such properties may not be obtained.

エポキシ樹脂組成物は、通常、硬化剤を含んでいる。硬化剤は、エポキシ樹脂用の硬化剤とし手用いられるものであれば種類が特に限定されないが、例えば、脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミンおよびポリアミドポリアミン等のポリアミン系硬化剤、ヘキサヒドロフタル酸無水物およびメチルテトラヒドロフタル酸無水物等の酸無水物系硬化剤、フェノールノボラック等のフェノール系硬化剤、ヒドロキシ基を有するホスファゼン化合物、三フッ化ホウ素等のルイス酸およびそれらの塩類並びにジシアンジアミド類等を挙げることができる。これらは、それぞれ単独で用いてもよいし、二種以上併用してもよい。   The epoxy resin composition usually contains a curing agent. The type of curing agent is not particularly limited as long as it is used as a curing agent for epoxy resins. For example, polyamine curing agents such as aliphatic polyamines, aromatic polyamines, and polyamide polyamines, hexahydrophthalic anhydride. And acid anhydride curing agents such as methyltetrahydrophthalic anhydride, phenolic curing agents such as phenol novolac, phosphazene compounds having a hydroxy group, Lewis acids such as boron trifluoride and their salts, and dicyandiamides be able to. These may be used alone or in combination of two or more.

エポキシ樹脂組成物において、硬化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.5〜1.5当量になるよう設定するのが好ましく、0.6〜1.2当量になるよう設定するのがより好ましい。   In the epoxy resin composition, the amount of the curing agent used is preferably set to be 0.5 to 1.5 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin, and is 0.6 to 1.2 equivalents. It is more preferable to set so.

エポキシ樹脂組成物は、硬化促進剤を含んでいてもよい。利用可能な硬化促進剤は、公知の種々のものであり、特に限定されるものではないが、例えば、2−メチルイミダゾールおよび2−エチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール等の第三級アミン系化合物、トリフェニルホスフィン化合物等を挙げることができる。硬化促進剤を用いる場合、その使用量は、エポキシ樹脂100重量部に対して0.01〜15重量部に設定するのが好ましく、0.1〜10重量部に設定するのがより好ましい。   The epoxy resin composition may contain a curing accelerator. The available curing accelerators are various known ones, and are not particularly limited. For example, imidazole compounds such as 2-methylimidazole and 2-ethylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol And tertiary amine compounds such as triphenylphosphine compounds. When using a hardening accelerator, it is preferable to set the usage-amount to 0.01-15 weight part with respect to 100 weight part of epoxy resins, and it is more preferable to set to 0.1-10 weight part.

エポキシ樹脂組成物は、必要に応じて公知の反応性希釈剤や添加剤が配合されていてもよい。利用可能な反応性希釈剤は、特に限定されるものではないが、例えば、ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテルおよびアリルグリシジルエーテル等の脂肪族アルキルグリシジルエーテル、グリシジルメタクリレートおよび第三級カルボン酸グリシジルエステル等のアルキルグリシジルエステル、スチレンオキサイドおよびフェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、p−s−ブチルフェニルグリシジルエーテルおよびノニルフェニルグリシジルエーテル等の芳香族アルキルグリシジルエーテル等を挙げることができる。これらの反応性希釈剤は、それぞれ単独で用いられてもよいし、二種以上が併用されてもよい。一方、添加剤としては、既述のようなものを用いることができる。   The epoxy resin composition may be blended with known reactive diluents and additives as required. The reactive diluent that can be used is not particularly limited, but examples thereof include aliphatic alkyl glycidyl ethers such as butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, and allyl glycidyl ether, glycidyl methacrylate, and glycidyl tertiary carboxylate. Examples thereof include alkyl glycidyl esters such as esters, aromatic alkyl glycidyl ethers such as styrene oxide and phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, p-s-butylphenyl glycidyl ether and nonylphenyl glycidyl ether. These reactive diluents may be used alone or in combination of two or more. On the other hand, as the additive, those described above can be used.

上述のエポキシ樹脂組成物等の本発明の樹脂組成物は、各成分を均一に混合することにより得られる。この樹脂組成物は、樹脂成分に応じて100〜250℃程度の温度範囲で1〜36時間放置すると、充分な硬化反応が進行し、硬化物を形成する。例えば、エポキシ樹脂組成物は、通常、150〜250℃の温度で2〜15時間放置すると、充分な硬化反応が進行し、硬化物を形成する。このような硬化過程において、本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、そのグリシジルオキシ基が樹脂成分と反応し、硬化物中において安定に保持されることになるため、当該硬化物の高温信頼性を損ないにくい。また、本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、そのような硬化物の機械的特性(特に、ガラス転移温度)を損なわずに、その難燃性を高めることができる。このため、本発明の樹脂組成物は、各種の樹脂成形体の製造用材料、塗料用、接着剤用およびその他の用途用として、広く用いることができる。   The resin composition of the present invention such as the above-described epoxy resin composition can be obtained by uniformly mixing each component. When this resin composition is allowed to stand for 1 to 36 hours in a temperature range of about 100 to 250 ° C. depending on the resin component, a sufficient curing reaction proceeds to form a cured product. For example, when the epoxy resin composition is usually left at a temperature of 150 to 250 ° C. for 2 to 15 hours, a sufficient curing reaction proceeds to form a cured product. In such a curing process, the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention is stably held in the cured product because the glycidyloxy group reacts with the resin component. Therefore, it is difficult to impair the high temperature reliability of the cured product. In addition, the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention increases its flame retardancy without impairing the mechanical properties (particularly the glass transition temperature) of such a cured product. Can do. For this reason, the resin composition of this invention can be widely used as a material for manufacture of various resin moldings, for coating materials, for adhesives, and for other uses.

本発明の樹脂組成物によれば、低い誘電率および誘電正接の硬化物が得られる。したがって、本発明の樹脂組成物は、半導体封止用や回路基板(特に、金属張り積層板、プリント配線板用基板、プリント配線板用接着剤、プリント配線板用接着剤シート、プリント配線板用絶縁性回路保護膜、プリント配線板用導電ペースト、多層プリント配線板用封止剤、回路保護剤、カバーレイフィルム、カバーインク)形成用等の電気・電子部品の製造用材料として特に好適である。   According to the resin composition of the present invention, a cured product having a low dielectric constant and dielectric loss tangent can be obtained. Therefore, the resin composition of the present invention is used for semiconductor encapsulation and circuit boards (in particular, metal-clad laminates, printed wiring board substrates, printed wiring board adhesives, printed wiring board adhesive sheets, and printed wiring board use). Insulating circuit protective film, conductive paste for printed wiring board, sealing agent for multilayer printed wiring board, circuit protective agent, cover lay film, cover ink), etc. are particularly suitable as materials for manufacturing electrical and electronic parts. .

重合性組成物
本発明の重合性組成物は、本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を含んでいる。ここで用いられるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物は、二種以上のものであってもよい。この重合性組成物は、本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物に加え、例えば、エポキシ樹脂、熱可塑性や溶媒可溶性を付与するために変性したポリイミド系樹脂(好ましくはグリシジルオキシ基と反応し結合するような官能基、例えば、カルボキシル基、エポキシ基、ヒドロキシ基およびアミノ基を有する、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリカルボジイミド、マレイミド樹脂およびマレイミド−シアン酸エステル樹脂等のポリイミド系樹脂)および変性ポリフェニレンエーテル(例えば、ポリフェニレンエーテルの一部または全部に、カルボキシル基、エポキシ基、ヒドロキシ基、アミノ基および無水ジカルボキシル基等の反応性官能基を、グラフト反応や共重合などの何らかの方法により導入したもの)等が用いられる。これらの樹脂成分は、二種以上のものを併用することもできる。また、この重合性組成物は、その用途等に応じ、その目的とする物性を損なわない範囲で、各種の添加剤を配合することができる。利用可能な添加剤は、上述の樹脂組成物の説明において挙げたものと同様のものである。
Polymerizable composition The polymerizable composition of the present invention contains an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention. The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group used here may be two or more kinds. In addition to the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention, this polymerizable composition is, for example, an epoxy resin, a polyimide resin modified to impart thermoplasticity or solvent solubility (preferably Has functional groups that react with and bond to glycidyloxy groups, such as carboxyl groups, epoxy groups, hydroxy groups and amino groups, polyimides, polyamideimides, polyetherimides, polyesterimides, polycarbodiimides, maleimide resins and maleimides. Reactive functional groups such as carboxyl groups, epoxy groups, hydroxy groups, amino groups, and anhydrous dicarboxyl groups on part or all of polyphenylene ethers (polyimide resins such as cyanate ester resins) and modified polyphenylene ethers , Those that have been introduced by any method such as grafting reaction or copolymerization) is used. Two or more kinds of these resin components can be used in combination. Moreover, this polymeric composition can mix | blend various additives in the range which does not impair the target physical property according to the use etc. Available additives are the same as those mentioned in the description of the resin composition.

さらに、この重合性組成物は、本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物と、前記エポキシ樹脂、ポリイミド系樹脂および変性ポリフェニレンエーテル等との反応性を向上させるために、触媒を含んでいてもよい。ここで利用可能な触媒は、例えば、エポキシ樹脂の場合、通常、上述のエポキシ樹脂組成物の説明において挙げた硬化剤と同様のもの、すなわち、脂肪族ポリアミン、芳香族ポリアミンおよびポリアミドポリアミン等のポリアミン系硬化剤、ヘキサヒドロフタル酸無水物およびメチルテトラヒドロフタル酸無水物等の酸無水物系硬化剤、フェノールノボラックおよびクレゾールノボラック等のフェノール系硬化剤、本発明のものと異なるグリシジルオキシ基を有するホスファゼン化合物、三フッ化ホウ素等のルイス酸およびそれらの塩類並びにジシアンジアミド類の他、2−メチルイミダゾールおよび2−エチルイミダゾール等のイミダゾール系化合物、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール等の第三級アミン化合物、トリフェニルホスフィン化合物等などである。   Furthermore, this polymerizable composition is used to improve the reactivity of the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention with the epoxy resin, polyimide resin, modified polyphenylene ether, and the like. In addition, a catalyst may be included. The catalyst usable here is, for example, in the case of an epoxy resin, usually the same as the curing agent mentioned in the description of the epoxy resin composition, that is, polyamines such as aliphatic polyamines, aromatic polyamines and polyamide polyamines. Curing agents, acid anhydride curing agents such as hexahydrophthalic anhydride and methyltetrahydrophthalic anhydride, phenolic curing agents such as phenol novolak and cresol novolak, phosphazenes having a glycidyloxy group different from those of the present invention Compounds, Lewis acids such as boron trifluoride and their salts and dicyandiamides, imidazole compounds such as 2-methylimidazole and 2-ethylimidazole, tertiary amine compounds such as 2- (dimethylaminomethyl) phenol , Triphenylphos Fin compounds and the like, and the like.

本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物とエポキシ樹脂とからなる重合性組成物において、これら触媒の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.01〜15当量になるよう設定するのが好ましく、0.1〜7当量になるよう設定するのがより好ましい。   In the polymerizable composition comprising an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention and an epoxy resin, the amount of these catalysts used is 0.01 to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. It is preferably set to be ˜15 equivalents, and more preferably set to be 0.1 to 7 equivalents.

本発明の重合性組成物は、所要の成分を均一に混合することにより得られる。この重合性組成物は、通常、加熱するとグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物と上述のエポキシ樹脂、ポリイミド系樹脂および変性ポリフェニレンエーテル等の間での重合反応が進行し、重合物を形成する。この重合物は、エポキシ樹脂を用いた場合、反応基の数の多寡により、液状物から硬化物(樹脂成形体)の形態となる。得た重合物は、実質的に本発明のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の重合体からなるため、難燃性および高温信頼性に優れ、また、ガラス転移温度が高いために機械的特性においても優れている。このため、本発明の重合性組成物は、各種の分野において用いられる樹脂成形体の製造用材料として、例えば、半導体封止用や回路基板(特に、金属張り積層板、プリント配線板用基板、プリント配線板用接着剤、プリント配線板用接着剤シート、プリント配線板用絶縁性回路保護膜、プリント配線板用導電ペースト、多層プリント配線板用封止剤、回路保護剤、カバーレイフィルムおよびカバーインク)形成用等の電気・電子部品の製造用材料として広く用いることができる。   The polymerizable composition of the present invention can be obtained by uniformly mixing required components. This polymerizable composition usually undergoes a polymerization reaction between the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group when heated and the above-mentioned epoxy resin, polyimide resin, modified polyphenylene ether, and the like. A polymer is formed. In the case where an epoxy resin is used, this polymer is changed from a liquid to a cured product (resin molded product) depending on the number of reactive groups. The obtained polymer is substantially composed of a polymer of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group of the present invention, so that it has excellent flame retardancy and high temperature reliability, and has a glass transition temperature. Since it is high, it has excellent mechanical properties. For this reason, the polymerizable composition of the present invention can be used as a material for producing resin moldings used in various fields, for example, for semiconductor encapsulation and circuit boards (in particular, metal-clad laminates, printed wiring board substrates, Adhesive for printed wiring board, adhesive sheet for printed wiring board, insulating circuit protective film for printed wiring board, conductive paste for printed wiring board, sealing agent for multilayer printed wiring board, circuit protective agent, coverlay film and cover Ink) can be widely used as a material for manufacturing electrical / electronic parts.

以下に実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定されるものではない。なお、以下において、「unit mol」の「unit」は、環状ホスファゼン化合物の最小構成単位、例えば、一般式(1)については(PNA2)を意味し、一般式(4)については(PNG2)を意味する。一般式(7)において、Xが塩素の場合、その1unit molは115.87gである。また、以下においては、特に断りがない限り、「%」および「部」とあるのは、それぞれ「重量%」および「重量部」を意味する。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited by these. In the following, “unit” in “unit mol” means the smallest structural unit of the cyclic phosphazene compound, for example, (PNA2) for general formula (1) and (PNG2) for general formula (4). means. In the general formula (7), when X is chlorine, its 1 unit mol is 115.87 g. In the following, unless otherwise specified, “%” and “parts” mean “% by weight” and “parts by weight”, respectively.

合成例および実施例等で得られたホスファゼン化合物は、1H−NMRスペクトルおよび31P−NMRスペクトルの測定、CHN元素分析、IRスペクトルの測定、アルカリ溶融後の硝酸銀を用いた電位差滴定法による塩素元素(残留塩素)の分析、マイクロウエーブ湿式分解後のICP−AESによるリン元素の分析並びにTOF−MS分析の結果に基づいて同定した。また、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物の水酸基当量は、JIS K0070−1992「化学製品の酸価、けん化価、エステル価、よう素価、水酸基価および不けん化物の試験方法」において規定された水酸基価測定方法の中和滴定法に従い測定し、水酸基価mgKOH/gの値を水酸基当量g/eq.に変換した。さらに、分子量(数平均分子量)は、JIS K7252−2008「プラスチック−サイズ排除クロマトグラフィーによる高分子の平均分子量及び分子量分布の求め方」に従い、Waters社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー「2695」、東ソー株式会社製のカラム「TSKgel Super HZM−M」(2本)およびWaters社製示差屈折計(DRI detector:商品名「2414」)を使用して、40℃にてテトラヒドロフラン0.25mL/分の条件で測定した。ここで、測定対象物質の分子量は、6種類の標準ポリスチレン(分子量1,110,000、397,000、98,900、17,100、5,870および1,010)を用いて作成した較正曲線から算出した。   The phosphazene compounds obtained in the synthesis examples and examples were measured by 1H-NMR spectrum and 31P-NMR spectrum, CHN elemental analysis, IR spectrum measurement, and chlorine element (potentiometric titration using silver nitrate after alkali melting) It was identified based on the results of analysis of residual chlorine), analysis of phosphorus element by ICP-AES after microwave wet decomposition, and TOF-MS analysis. Further, the hydroxyl group equivalent of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound is determined according to JIS K0070-1992 “Testing methods for acid value, saponification value, ester value, iodine value, hydroxyl value and unsaponified product of chemical products”. It measured according to the neutralization titration method of the measuring method, and the value of hydroxyl value mgKOH / g was determined as the hydroxyl equivalent g / eq. Converted to. Furthermore, the molecular weight (number average molecular weight) is determined according to JIS K7252-2008 “How to determine the average molecular weight and molecular weight distribution of polymers by plastic-size exclusion chromatography”, Waters Gel Permeation Chromatography “2695”, Tosoh Corporation Using a company-made column “TSKgel Super HZM-M” (two) and a Waters differential refractometer (DRI detector: trade name “2414”) at 40 ° C. under conditions of 0.25 mL / min of tetrahydrofuran It was measured. Here, the molecular weight of the substance to be measured is a calibration curve prepared using six types of standard polystyrene (molecular weights 1110,000, 397,000, 98,900, 17,100, 5,870 and 1,010). Calculated from

また、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の水酸基当量と、グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物のエポキシ当量は以下の方法で測定した。   Moreover, the hydroxyl equivalent of the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound and the epoxy equivalent of the oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group were measured by the following methods.

(1)水酸基当量
水酸基当量(g/eq.:1当量のヒドロキシ基を含む樹脂の質量g)は、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物をクロロホルムに溶解後、0.1Nテトラエチルアンモニウムヒドロキシドのメタノール溶液を添加し、激しく撹拌後、318nmの吸光度を測定した。0.1Nテトラエチルアンモニウムヒドロキシト゛のメタノール溶液を添加した場合と添加しない場合との吸光度の差から求めた。
(1) Hydroxyl equivalent The hydroxyl equivalent (g / eq .: mass g of resin containing 1 equivalent of a hydroxy group) is obtained by dissolving an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound in chloroform, and then adding 0.1N tetraethylammonium hydroxide. After adding vigorously methanol solution, the absorbance at 318 nm was measured. It was determined from the difference in absorbance between when 0.1 M tetraethylammonium hydroxide in methanol was added and when it was not added.

(2)エポキシ当量
エポキシ当量(g/eq.:1当量のエポキシ基を含む樹脂の質量g)は、JIS K−7236「エポキシ樹脂のエポキシ当量の求め方」において規定された方法に従い測定した。
(2) Epoxy equivalent The epoxy equivalent (g / eq .: mass g of resin containing 1 equivalent of an epoxy group) was measured according to the method defined in JIS K-7236 “How to Determine Epoxy Equivalent of Epoxy Resin”.

合成例1(形態2に係るオリゴ(フェニレンオキシ基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機および冷却管を備え付けた3リットルの四つ口フラスコに、平均組成が[N3P3(OC6H2(CH3)2OH)2.1(OC6H5)3.9]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.38unit mol)、旭化成ケミカルズ社製のポリフェニレンエーテル(670g,数平均分子量:17,000)およびトルエン(2,000mL)を加えて90℃で加熱、溶解させ、その中にさらに過酸化ベンゾイル(20g,0.082mol)を加えて90℃で1時間反応した。そして、この反応混合物をメタノール(6,000mL)に投入して得られた沈殿物を濾別した。その沈殿をメタノール(1,200mL)で洗浄後、減圧乾燥することで、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物744gを得た(収率96.6%)。なお、収率はポリフェニレンエーテルが全てヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物に再分配した場合を100%として算出した。得られたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の分析結果は次のとおりである。
Synthesis Example 1 (Oligo according to Form 2 (Production of phenyleneoxy group-containing cyclic phosphazene compound))
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound having an average composition of [N3P3 (OC6H2 (CH3) 2OH) 2.1 (OC6H5) 3.9] in a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer and a condenser ( 100 g, 0.38 unit mol), polyphenylene ether (670 g, number average molecular weight: 17,000) and toluene (2,000 mL) manufactured by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd. and toluene (2,000 mL) are added, and the mixture is heated and dissolved at 90 ° C. Benzoyl (20 g, 0.082 mol) was added and reacted at 90 ° C. for 1 hour. And the precipitate obtained by throwing this reaction mixture into methanol (6,000 mL) was separated by filtration. The precipitate was washed with methanol (1,200 mL) and then dried under reduced pressure to obtain 744 g of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (yield 96.6%). The yield was calculated by assuming that 100% of the polyphenylene ether was redistributed to the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound. The analysis results of the obtained oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound are as follows.

◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(267.1H),6.3〜6.6(89.0H),6.7〜7.3(19.5H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N)3 9.5〜10.0
◎水酸基当量
2,800g/eq.(理論値2,825g/eq.)
◎ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:
数平均分子量 5,900
1H-NMR spectrum (in heavy chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (267.1H), 6.3-6.6 (89.0H), 6.7-7.3 (19.5H)
◎ 31P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.5 to 10.0
◎ Hydroxyl equivalent 2,800 g / eq. (Theoretical value 2,825 g / eq.)
◎ Gel permeation chromatography:
Number average molecular weight 5,900

ゲルパーミエーションクロマトグラフィーの分析結果を図1に示す。図において、反応開始前はポリフェニレンエーテルのピークが保持時間24.5分に検出されており、また、ヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のピークが保持時間30.4分に検出されている。一方、反応開始1時間後には、保持時間24.5分および30.4分にピークは検出されず、保持時間25.8分に単一のピークが検出されている。また、最終生成物(反応により得られた沈殿を濾別して洗浄したもの)については、25.9分に単一のピークとして検出されている。   The analysis result of gel permeation chromatography is shown in FIG. In the figure, the peak of polyphenylene ether was detected at a retention time of 24.5 minutes before the start of the reaction, and the peak of a hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound was detected at a retention time of 30.4 minutes. On the other hand, 1 hour after the start of the reaction, no peak was detected at retention times 24.5 and 30.4 minutes, and a single peak was detected at retention time 25.8 minutes. The final product (the precipitate obtained by the reaction was filtered and washed) was detected as a single peak at 25.9 minutes.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N3P3{OC6H2(CH3)2(OC6H2(CH3)2)20.2OH}2.1(OC6H5)3.9]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。   From the above analysis results, the product obtained in this step is a cyclic phosphazene whose structure is [N3P3 {OC6H2 (CH3) 2 (OC6H2 (CH3) 2) 20.2OH} 2.1 (OC6H5) 3.9]. It was confirmed to be a compound.

合成例2(形態2に係るオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機、空気導入管および冷却管を備え付けた3リットルの四つ口フラスコに、平均組成が[N3P3(OC6H2(CH3)2OH)2.1(OC6H5)3.9]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.38unit mol)、塩化銅(I)(3.4g,0.034mol)、ジブチルアミン(200g,1.55mol)およびニトロベンゼン(1,500mL)を加えて、40℃に加熱した。空気を吹き込みながら2,6−キシレノール(366.5g,3.00mol)のニトロベンゼン(1,000mL)溶液を6時間かけて滴下し、その後40℃で24時間反応した。エチレンジアミン四酢酸水溶液を添加して反応を停止した後、反応混合物を減圧濃縮した。その濃縮残渣をメタノール(6,000mL)に投入して得られた沈殿物を濾別した。その沈殿をメタノール(1,200mL)で洗浄後、減圧乾燥することで、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物375gを得た(収率88.6%)。得られたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の分析結果は以下のとおりである。
Synthesis Example 2 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound according to form 2)
Hydroxy group having an average composition of [N3P3 (OC6H2 (CH3) 2OH) 2.1 (OC6H5) 3.9] in a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, stirrer, air inlet tube and condenser tube Add cyclic phosphazene compound (100 g, 0.38 unit mol), copper (I) chloride (3.4 g, 0.034 mol), dibutylamine (200 g, 1.55 mol) and nitrobenzene (1,500 mL) to 40 ° C. Heated. While blowing air, a solution of 2,6-xylenol (366.5 g, 3.00 mol) in nitrobenzene (1,000 mL) was added dropwise over 6 hours, and then reacted at 40 ° C. for 24 hours. After adding ethylenediaminetetraacetic acid aqueous solution to stop the reaction, the reaction mixture was concentrated under reduced pressure. The concentrated residue was poured into methanol (6,000 mL), and the resulting precipitate was filtered off. The precipitate was washed with methanol (1,200 mL) and then dried under reduced pressure to obtain 375 g of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (yield 88.6%). The analysis results of the obtained oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound are as follows.

◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(267.1H),6.3〜6.6(89.0H),6.7〜7.3(19.5H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N)3 9.5〜10.0
◎水酸基当量
1,500g/eq.(理論値1,564g/eq.)
◎ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:
数平均分子量 3,300
1H-NMR spectrum (in heavy chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (267.1H), 6.3-6.6 (89.0H), 6.7-7.3 (19.5H)
◎ 31P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.5 to 10.0
◎ Hydroxyl equivalent 1,500 g / eq. (Theoretical value 1,564 g / eq.)
◎ Gel permeation chromatography:
Number average molecular weight 3,300

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その組成が[N3P3{OC6H2(CH3)2(OC6H2(CH3)2)9.9OH}2.1(OC6H5)3.9]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。   From the above analysis results, the product obtained in this step is a cyclic phosphazene whose composition is [N3P3 {OC6H2 (CH3) 2 (OC6H2 (CH3) 2) 9.9OH} 2.1 (OC6H5) 3.9]. It was confirmed to be a compound.

合成例3(形態2に係るオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
合成例1で使用したヒドロキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて平均組成が[N3P3(OC6H2(CH3)OH)2.0(OC6H5)4.0]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.40unit mol)を用いた以外は、合成例1と同様に操作し、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物744gを得た(収率96.6%)。得られたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の分析結果は以下のとおりである。
Synthesis Example 3 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound according to form 2)
A hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.40 unit mol) having an average composition of [N3P3 (OC6H2 (CH3) OH) 2.0 (OC6H5) 4.0] instead of the hydroxy group-containing phosphazene compound used in Synthesis Example 1 ) Was used in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain 744 g of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (yield 96.6%). The analysis results of the obtained oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound are as follows.

◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(243.6H),6.3〜6.6(85.2H),6.7〜7.3(20.0H),
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N)3 9.6〜10.0
◎水酸基当量
2,900g/eq.(理論値2,804g/eq.)
◎ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
数平均分子量 5,800
1H-NMR spectrum (in heavy chloroform, δ, ppm):
2.0 to 2.2 (243.6H), 6.3 to 6.6 (85.2H), 6.7 to 7.3 (20.0H),
◎ 31P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Hydroxyl equivalent 2,900 g / eq. (Theoretical value 2,804 g / eq.)
◎ Gel permeation chromatography Number average molecular weight 5,800

合成例1と同様に、反応開始1時間後にはヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のピークが消失し、仕込んだポリフェニレンエーテルのピークが低分子量側に変化して単一のピークとなった。   Similar to Synthesis Example 1, the peak of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound disappeared 1 hour after the start of the reaction, and the peak of the charged polyphenylene ether changed to the low molecular weight side to become a single peak.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その組成が[N3P3{OC6H3(CH3)(OC6H2(CH3)2)20.9OH}2.0(OC6H5)4.0]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。   From the above analysis results, the product obtained in this step is a cyclic phosphazene compound whose composition is [N3P3 {OC6H3 (CH3) (OC6H2 (CH3) 2) 20.9OH} 2.0 (OC6H5) 4.0]. It was confirmed that.

合成例4(形態2に係るオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機および冷却管を備え付けた3リットルの四つ口フラスコに、平均組成が[N3P3(OC6H4OH)2.2(OC6H5)3.8]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(50g,0.21unit mol)、10%水酸化カリウム水溶液(3,750mL、6.68mol)及びフェリシアン化カリウム(395g、1.2mol)トルエン(1,000mL)を仕込み、内温20〜40℃で4−ブロモ−2,6−キシレノール(638g,3.17mol)のトルエン(1,200mL)溶液を3時間かけて滴下した。反応混合物を同温度で1時間撹拌した後に、分液ロートに移して水層を分離した。有機層を濃縮後、残渣をメタノール(5,000g)に投入して得られた沈殿物を濾別した。その沈殿をメタノール(1,000g)で洗浄後、減圧乾燥してオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(396g、収率92.1%)を得た。
Synthesis Example 4 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound according to form 2)
Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound having an average composition of [N3P3 (OC6H4OH) 2.2 (OC6H5) 3.8] (50 g, 0.00 g) in a 3 liter four-necked flask equipped with a thermometer, a stirrer and a condenser. 21 unit mol), 10% aqueous potassium hydroxide solution (3,750 mL, 6.68 mol) and potassium ferricyanide (395 g, 1.2 mol) and toluene (1,000 mL) were charged, and 4-bromo-2 at an internal temperature of 20 to 40 ° C. , 6-xylenol (638 g, 3.17 mol) in toluene (1,200 mL) was added dropwise over 3 hours. The reaction mixture was stirred at the same temperature for 1 hour and then transferred to a separatory funnel to separate the aqueous layer. After the organic layer was concentrated, the residue was poured into methanol (5,000 g), and the resulting precipitate was filtered off. The precipitate was washed with methanol (1,000 g) and dried under reduced pressure to obtain an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (396 g, yield 92.1%).

◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(125H),6.3〜6.6(50H),6.7〜7.3(19H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N)3 9.6〜10.0
◎水酸基当量
1,500g/eq.(理論値1,473g/eq.)
◎ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:
数平均分子量 3,240
1H-NMR spectrum (in heavy chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (125H), 6.3-6.6 (50H), 6.7-7.3 (19H)
◎ 31P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Hydroxyl equivalent 1,500 g / eq. (Theoretical value 1,473 g / eq.)
◎ Gel permeation chromatography:
Number average molecular weight 3,240

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その組成が[N3P3{OC6H4(OC6H2(CH3)2)9.5OH}2.2(OC6H5)3.8]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。   From the above analysis results, the product obtained in this step is a cyclic phosphazene compound whose composition is [N3P3 {OC6H4 (OC6H2 (CH3) 2) 9.5OH} 2.2 (OC6H5) 3.8]. It was confirmed.

合成例5(形態1に係るオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
合成例1で使用したヒドロキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて平均組成が[N3P3(OC6H4OH)6]のヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.38unit mol)を用いた以外は、合成例1と同様に操作し、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物744gを得た(収率96.6%)。得られたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の分析結果は以下のとおりである。
Synthesis Example 5 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound according to Form 1)
Similar to Synthesis Example 1 except that the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.38 unit mol) having an average composition of [N3P3 (OC6H4OH) 6] was used instead of the hydroxy group-containing phosphazene compound used in Synthesis Example 1. To obtain 744 g of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound (yield 96.6%). The analysis results of the obtained oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound are as follows.

◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(252.0H),6.3〜6.6(108.0H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N)3 9.6〜10.0
◎水酸基当量
1,000g/eq.(理論値972g/eq.)
◎ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:
数平均分子量 5,840
1H-NMR spectrum (in heavy chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (252.0H), 6.3-6.6 (108.0H)
◎ 31P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Hydroxyl equivalent 1,000 g / eq. (Theoretical value 972 g / eq.)
◎ Gel permeation chromatography:
Number average molecular weight 5,840

合成例1と同様に、反応開始1時間後にはヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のピークが消失し、仕込んだポリフェニレンエーテルのピークが低分子量側に変化して単一のピークとなった。   Similar to Synthesis Example 1, the peak of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound disappeared 1 hour after the start of the reaction, and the peak of the charged polyphenylene ether changed to the low molecular weight side to become a single peak.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その組成が[N3P3{OC6H4(OC6H2(CH3)2)7.0OH}6]の環状ホスファゼン化合物であることを確認した。   From the above analysis results, it was confirmed that the product obtained in this step was a cyclic phosphazene compound having a composition of [N3P3 {OC6H4 (OC6H2 (CH3) 2) 7.0OH} 6].

合成例6(形態Bに係るオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
合成例1で使用したヒドロキシ基含有ホスファゼン化合物に替えて平均組成が[NP(OC6H4OH)(OC6H5CH3)]nのヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.38unit mol)を用いた以外は、合成例1と同様に操作し、オリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物740gを得た(収率96.1%)。得られたオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の分析結果は以下のとおりである。
Synthesis Example 6 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound according to Form B)
A synthesis example except that the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound (100 g, 0.38 unit mol) having an average composition of [NP (OC6H4OH) (OC6H5CH3)] n was used instead of the hydroxy group-containing phosphazene compound used in Synthesis Example 1. In the same manner as in Example 1, 740 g of an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound was obtained (yield 96.1%). The analysis results of the obtained oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound are as follows.

◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(241.6H),6.3〜6.6(89.3H),6.7〜7.3(19.0H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N)3 9.6〜10.0
◎水酸基当量
1,900g/eq.(理論値1,967g/eq.)
◎ゲルパーミエーションクロマトグラフィー:
数平均分子量 7,100
1H-NMR spectrum (in heavy chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (241.6H), 6.3-6.6 (89.3H), 6.7-7.3 (19.0H)
◎ 31P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Hydroxyl equivalent 1,900 g / eq. (Theoretical value 1,967 g / eq.)
◎ Gel permeation chromatography:
Number average molecular weight 7,100

合成例1と同様に、反応開始1時間後にはヒドロキシ基含有環状ホスファゼン化合物のピークが消失し、仕込んだポリフェニレンエーテルのピークが低分子量側に変化して単一のピークとなった。   Similar to Synthesis Example 1, the peak of the hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound disappeared 1 hour after the start of the reaction, and the peak of the charged polyphenylene ether changed to the low molecular weight side to become a single peak.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その組成が[NP{OC6H4(OC6H2(CH3)2)14.2OH}(OC6H4CH3)]nの環状ホスファゼン化合物であることを確認した。   From the above analysis results, it was confirmed that the product obtained in this step was a cyclic phosphazene compound having a composition of [NP {OC6H4 (OC6H2 (CH3) 2) 14.2OH} (OC6H4CH3)] n.

合成例7(フェノキシ基全置換環状ホスファゼン化合物の製造)
PHOSPHORUS−NITROGEN COMPOUNDS、H.R.ALLCOCK著、1972年刊、151頁、ACADEMIC PRESS社に記載されている方法に従い、ヘキサクロロシクロトリホスファゼン81%とオクタクロロシクロテトラホスファゼン19%とのシクロホスファゼン混合物を用いて[N=P(OC6H5)2]3と[N=P(OC6H5)2]4との混合物
(白色固体/融点:65〜112℃)を得た。
Synthesis Example 7 (Production of phenoxy group fully substituted cyclic phosphazene compound)
PHOSPHORUS-NITROGEN COMPOUNDS, H.P. R. [N = P (OC6H5) 2] using a mixture of 81% hexachlorocyclotriphosphazene and 19% octachlorocyclotetraphosphazene according to the method described in ALLCOCK, 1972, page 151, ACADEMIC PRESS. ] And [N = P (OC6H5) 2] 4 (white solid / melting point: 65-112 ° C.).

実施例1(形態2に係るグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、合成例1で製造したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.05unit mol)、エピクロロヒドリン(200g,2.16mol)およびN,N−ジメチルホルムアミド(100mL)を仕込み、撹拌しているところに、水酸化ナトリウム(1.7g,0.04mol)を加えて3時間脱水還流を行った。反応終了後、減圧濃縮でN,N−ジメチルホルムアミドおよび未反応のエピクロロヒドリンを留去し、メチルイソブチルケトン(MIBK)(300mL)を加えて溶解した後、水で3回洗浄した。MIBK層を減圧濃縮し、120℃で減圧乾燥することで、101.0g(収率:99.3%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 1 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group according to Form 2)
In a 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 1 (100 g, 0.05 unit mol), epichlorohydrin in a nitrogen stream (200 g, 2.16 mol) and N, N-dimethylformamide (100 mL) were charged, and sodium hydroxide (1.7 g, 0.04 mol) was added to the stirring solution, followed by dehydration and reflux for 3 hours. After completion of the reaction, N, N-dimethylformamide and unreacted epichlorohydrin were distilled off by concentration under reduced pressure, and methyl isobutyl ketone (MIBK) (300 mL) was added and dissolved, followed by washing with water three times. The MIBK layer was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure at 120 ° C. to obtain 101.0 g (yield: 99.3%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(265H),2.6〜2.9(4H),3.1〜3.6(6H),6.3〜6.6(89H),6.7〜7.3(19H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N)3 9.6〜10.0
◎エポキシ当量:
2,800g/eq.
1H-NMR spectrum (in heavy chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (265H), 2.6-2.9 (4H), 3.1-3.6 (6H), 6.3-6.6 (89H), 6.7-7. 3 (19H)
◎ 31P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Epoxy equivalent:
2,800 g / eq.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N3P3{OC6H2(CH3)2(OC6H2(CH3)2)20.2OCH2CHOCH2}2.1(OC6H5)3.9]のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。   From the above analysis results, the product obtained in this step has a glycidyl group whose structure is [N3P3 {OC6H2 (CH3) 2 (OC6H2 (CH3) 2) 20.2OCH2CHOCH2} 2.1 (OC6H5) 3.9]. It was confirmed that it was an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with 1.

実施例2(形態2に係るグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、合成例2で製造したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.09unit mol)、エピクロロヒドリン(200g,2.16mol)およびN,N−ジメチルホルムアミド(100mL)を仕込み、撹拌しているところに、水酸化ナトリウム(3.2g,0.08mol)を加えて3時間還流を行った。反応終了後、減圧濃縮でN,N−ジメチルホルムアミドおよび未反応のエピクロロヒドリンを留去し、MIBK(300mL)を加えて溶解した後、水で3回洗浄した。MIBK層を減圧濃縮し、120℃で減圧乾燥することで、101.3g(収率:97.8%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 2 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group according to Form 2)
In a 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 2 (100 g, 0.09 unit mol), epichlorohydrin in a nitrogen stream (200 g, 2.16 mol) and N, N-dimethylformamide (100 mL) were charged, and sodium hydroxide (3.2 g, 0.08 mol) was added to the stirred place and refluxed for 3 hours. After completion of the reaction, N, N-dimethylformamide and unreacted epichlorohydrin were distilled off by concentration under reduced pressure, and MIBK (300 mL) was added and dissolved, followed by washing with water three times. The MIBK layer was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure at 120 ° C. to obtain 101.3 g (yield: 97.8%) of product. The analysis result of this product was as follows.

◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(138H),2.6〜2.9(4H),3.1〜3.6(6H),6.3〜6.6(46H),6.7〜7.3(19H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N)3 9.6〜10.0
◎エポキシ当量:
1,600g/eq.
1H-NMR spectrum (in heavy chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (138H), 2.6-2.9 (4H), 3.1-3.6 (6H), 6.3-6.6 (46H), 6.7-7. 3 (19H)
◎ 31P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Epoxy equivalent:
1,600 g / eq.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N3P3{OC6H2(CH3)2(OC6H2(CH3)2)9.9OCH2CHOCH2}2.1(OC6H5)3.9]のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。   From the above analysis results, the product obtained in this step has a glycidyl group whose structure is [N3P3 {OC6H2 (CH3) 2 (OC6H2 (CH3) 2) 9.9OCH2CHOCH2} 2.1 (OC6H5) 3.9]. It was confirmed that it was an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with 1.

実施例3(形態2に係るグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、合成例3で製造したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.05unit mol)、エピクロロヒドリン(200g,2.16mol)およびN,N−ジメチルホルムアミド(100mL)を仕込み、撹拌しているところに、水酸化ナトリウム(1.6g,0.04mol)を加えて3時間還流を行った。反応終了後、減圧濃縮でN,N−ジメチルホルムアミドおよび未反応のエピクロロヒドリンを留去し、MIBK(300mL)を加えて溶解した後、水で3回洗浄した。MIBK層を減圧濃縮し、120℃で減圧乾燥することで、100.6g(収率:98.9%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 3 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group according to Form 2)
In a 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 3 (100 g, 0.05 unit mol), epichlorohydrin in a nitrogen stream (200 g, 2.16 mol) and N, N-dimethylformamide (100 mL) were charged, and sodium hydroxide (1.6 g, 0.04 mol) was added to the stirred place and refluxed for 3 hours. After completion of the reaction, N, N-dimethylformamide and unreacted epichlorohydrin were distilled off by concentration under reduced pressure, and MIBK (300 mL) was added and dissolved, followed by washing with water three times. The MIBK layer was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure at 120 ° C. to obtain 100.6 g (yield: 98.9%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(257H),2.6〜2.9(4H),3.1〜3.6(6H),6.3〜6.6(89H),6.7〜7.3(20H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N)3 9.6〜10.0
◎エポキシ当量:
2,980g/eq.
1H-NMR spectrum (in heavy chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (257H), 2.6-2.9 (4H), 3.1-3.6 (6H), 6.3-6.6 (89H), 6.7-7. 3 (20H)
◎ 31P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Epoxy equivalent:
2,980 g / eq.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N3P3{OC6H2(CH3)(OC6H2(CH3)2)20.9OCH2CHOCH2}2.1(OC6H5)3.9]のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。   From the above analysis results, the product obtained in this step has a glycidyl group of [N3P3 {OC6H2 (CH3) (OC6H2 (CH3) 2) 20.9OCH2CHOCH2} 2.1 (OC6H5) 3.9]. It was confirmed that this was a modified oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound.

実施例4(形態2に係るグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、合成例3で製造したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.09unit mol)、エピクロロヒドリン(200g,2.16mol)およびN,N−ジメチルホルムアミド(100mL)を仕込み、撹拌しているところに、水酸化ナトリウム(3.2g,0.08mol)を加えて3時間還流を行った。反応終了後、減圧濃縮でN,N−ジメチルホルムアミドおよび未反応のエピクロロヒドリンを留去し、MIBK(300mL)を加えて溶解した後、水で3回洗浄した。MIBK層を減圧濃縮し、120℃で減圧乾燥することで、102.5g(収率:98.9%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 4 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group according to Form 2)
In a 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 3 (100 g, 0.09 unit mol), epichlorohydrin was added in a nitrogen stream. (200 g, 2.16 mol) and N, N-dimethylformamide (100 mL) were charged, and sodium hydroxide (3.2 g, 0.08 mol) was added to the stirred place and refluxed for 3 hours. After completion of the reaction, N, N-dimethylformamide and unreacted epichlorohydrin were distilled off by concentration under reduced pressure, and MIBK (300 mL) was added and dissolved, followed by washing with water three times. The MIBK layer was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure at 120 ° C. to obtain 102.5 g (yield: 98.9%) of product. The analysis result of this product was as follows.

◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(125H),2.6〜2.9(5H),3.1〜3.6(7H),6.3〜6.6(46H),6.7〜7.3(20H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N)3 9.6〜10.0
◎エポキシ当量:
1540g/eq.
1H-NMR spectrum (in heavy chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (125H), 2.6-2.9 (5H), 3.1-3.6 (7H), 6.3-6.6 (46H), 6.7-7. 3 (20H)
◎ 31P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Epoxy equivalent:
1540 g / eq.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N3P3{OC6H4(OC6H2(CH3)2)9.5OCH2CHOCH2}2.2(OC6H5)3.8]のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。   From the above analysis results, the product obtained in this step has an oligo structure modified with a glycidyl group of [N3P3 {OC6H4 (OC6H2 (CH3) 2) 9.5OCH2CHOCH2} 2.2 (OC6H5) 3.8]. It was confirmed that it was a (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound.

実施例5(形態1に係るグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、合成例5で製造したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.05unit mol)、エピクロロヒドリン(200g,2.16mol)およびN,N−ジメチルホルムアミド(100mL)を仕込み、撹拌しているところに、水酸化ナトリウム(4.8g,0.12mol)を加えて3時間還流を行った。反応終了後、減圧濃縮でN,N−ジメチルホルムアミドおよび未反応のエピクロロヒドリンを留去し、MIBK(300mL)を加えて溶解した後、水で3回洗浄した。MIBK層を減圧濃縮し、120℃で減圧乾燥することで、105.7g(収率:99.2%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 5 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group according to Form 1)
In a 1 liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer, an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 5 (100 g, 0.05 unit mol), epichlorohydrin in a nitrogen stream (200 g, 2.16 mol) and N, N-dimethylformamide (100 mL) were charged, and sodium hydroxide (4.8 g, 0.12 mol) was added to the stirred place and refluxed for 3 hours. After completion of the reaction, N, N-dimethylformamide and unreacted epichlorohydrin were distilled off by concentration under reduced pressure, and MIBK (300 mL) was added and dissolved, followed by washing with water three times. The MIBK layer was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure at 120 ° C. to obtain 105.7 g (yield: 99.2%) of the product. The analysis result of this product was as follows.

◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(252H),2.6〜2.9(12H),3.1〜3.6(18H),6.3〜6.6(108H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N)3 9.6〜10.0
◎エポキシ当量:
1,050g/eq.
1H-NMR spectrum (in heavy chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (252H), 2.6-2.9 (12H), 3.1-3.6 (18H), 6.3-6.6 (108H)
◎ 31P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Epoxy equivalent:
1,050 g / eq.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[N3P3{OC6H4(OC6H2(CH3)2)7.0OCH2CHOCH2}6]のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。   From the above analysis results, the product obtained in this step has an oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene modified with a glycidyl group of [N3P3 {OC6H4 (OC6H2 (CH3) 2) 7.0OCH2CHOCH2} 6]. It was confirmed to be a compound.

実施例6(形態Bに係るグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物の製造)
温度計、撹拌機を取り付けた1リットルの4つ口フラスコに、窒素気流下、合成例6で製造したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物(100g,0.05unit mol)、エピクロロヒドリン(200g,2.16mol)およびN,N−ジメチルホルムアミド(100mL)を仕込み、撹拌しているところに、水酸化ナトリウム(1.6g,0.04mol)を加えて3時間還流を行った。反応終了後、減圧濃縮でN,N−ジメチルホルムアミドおよび未反応のエピクロロヒドリンを留去し、MIBK(300mL)を加えて溶解した後、水で3回洗浄した。MIBK層を減圧濃縮し、120℃で減圧乾燥することで、102.5g(収率:98.9%)の生成物を得た。この生成物の分析結果は以下の通りであった。
Example 6 (Production of oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group according to Form B)
An oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound produced in Synthesis Example 6 (100 g, 0.05 unit mol), epichlorohydrin was placed in a 1-liter four-necked flask equipped with a thermometer and a stirrer under a nitrogen stream. (200 g, 2.16 mol) and N, N-dimethylformamide (100 mL) were charged, and sodium hydroxide (1.6 g, 0.04 mol) was added to the stirred place and refluxed for 3 hours. After completion of the reaction, N, N-dimethylformamide and unreacted epichlorohydrin were distilled off by concentration under reduced pressure, and MIBK (300 mL) was added and dissolved, followed by washing with water three times. The MIBK layer was concentrated under reduced pressure and dried under reduced pressure at 120 ° C. to obtain 102.5 g (yield: 98.9%) of product. The analysis result of this product was as follows.

◎1H−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
2.0〜2.2(91H),2.6〜2.9(2H),3.1〜3.6(3H),6.3〜6.6(33H)
◎31P−NMRスペクトル(重クロロホルム中、δ、ppm):
三量体(P=N)3 9.6〜10.0
◎エポキシ当量:
2,010g/eq.
1H-NMR spectrum (in heavy chloroform, δ, ppm):
2.0-2.2 (91H), 2.6-2.9 (2H), 3.1-3.6 (3H), 6.3-6.6 (33H)
◎ 31P-NMR spectrum (in deuterated chloroform, δ, ppm):
Trimer (P = N) 3 9.6-10.0
◎ Epoxy equivalent:
2,010 g / eq.

以上の分析結果から、この工程で得た生成物は、その構造は[NP{OC6H4(OC6H2(CH3)2)14.2OCH2CHOCH2}(OC6H4CH3)]nのグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物であることを確認した。   From the above analysis results, the product obtained in this step has an oligo (phenyleneoxy) group modified with a glycidyl group of [NP {OC6H4 (OC6H2 (CH3) 2) 14.2OCH2CHOCH2} (OC6H4CH3)] n. It was confirmed that it was a containing cyclic phosphazene compound.

実施例7〜12
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(大日本インキ化学工業株式会社の商品名「エピクロン850S」:エポキシ当量180)、数平均分子量(Mn)が約19,000のポリフェニレンエーテル樹脂(旭化成ケミカルズ株式会社製)および表1に示すグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基含有環状ホスファゼン化合物を表1に示す割合でトルエンに配合し、70℃に加熱したオイルバス中で30分撹拌して均一に溶解した。さらに140℃のオイルバス中で2時間加熱してトルエンを除去し、次いで減圧濃縮機を用いて140℃、1mmHg以下の環境で2時間減圧乾燥することでトルエンを完全に除去した。
Examples 7-12
Bisphenol A type epoxy resin (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd., trade name “Epicron 850S”: epoxy equivalent 180), polyphenylene ether resin having a number average molecular weight (Mn) of about 19,000 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation) and table The oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with the glycidyl group shown in 1 was blended with toluene at the ratio shown in Table 1, and stirred for 30 minutes in an oil bath heated to 70 ° C. to uniformly dissolve. Furthermore, the toluene was removed by heating in an oil bath at 140 ° C. for 2 hours, and then the toluene was completely removed by drying under reduced pressure for 2 hours in an environment of 140 ° C. and 1 mmHg or less using a vacuum concentrator.

得られた混合物を110℃に保ち、硬化剤としてジアミノジフェニルメタン1部と、硬化促進剤として2−エチル−4−メチルイミダゾール0.1部とを添加した。この混合物を加熱しながら1分間充分に撹拌した後、型に流し込んだ。そして、100℃、0MPaで2分間、130℃、1MPaで2分間、および180℃、3MPaで10分間の順に熱プレス機で硬化させた後、型から取りだし、最後に180℃で3時間硬化させることにより、下記の評価項目に合わせた試験片を作製した。得られた試験片について、難燃性、誘電特性、高温信頼性および折り曲げ強度を評価した結果を表1に示す。評価結果は次の通りである。   The obtained mixture was kept at 110 ° C., and 1 part of diaminodiphenylmethane as a curing agent and 0.1 part of 2-ethyl-4-methylimidazole as a curing accelerator were added. The mixture was sufficiently stirred for 1 minute while being heated, and then poured into a mold. Then, after curing with a hot press machine in order of 100 ° C., 0 MPa for 2 minutes, 130 ° C., 1 MPa for 2 minutes, and 180 ° C., 3 MPa for 10 minutes, take out from the mold and finally cure at 180 ° C. for 3 hours. Thus, a test piece was prepared in accordance with the following evaluation items. Table 1 shows the results of evaluating the flame retardancy, dielectric properties, high-temperature reliability, and bending strength of the obtained test pieces. The evaluation results are as follows.

(難燃性)
アンダーライターラボラトリーズ(Underwriter’s Laboratories Inc.)のUL−94規格垂直燃焼試験に基づき、長さ125mm、幅12.5mmおよび厚み1.5mmの試験片を用いて実施し、10回接炎時合計燃焼時間と燃焼時の滴下物による綿着火の有無により、V−0、V−1、V−2および規格外の四段階の難燃性クラスに分類判定した。V−0が最高評価であり、V−1、V−2、規格外の順に評価が下がる。
(Flame retardance)
Based on UL-94 standard vertical combustion test of Underwriters' Laboratories Inc., using test pieces with a length of 125 mm, a width of 12.5 mm and a thickness of 1.5 mm It was classified into V-0, V-1, V-2, and non-standard four-stage flame retardant classes according to the combustion time and the presence or absence of cotton ignition by droppings during combustion. V-0 is the highest evaluation, and the evaluation decreases in the order of V-1, V-2, and non-standard.

(高温信頼性:プレッシャークッカー試験、温度121℃、圧力0.2MPa)
長さ15mm、幅15mmおよび厚み3mmの試験片を蒸留水5mLとともに容量15mLのポリテトラフルオロエチレン製容器に入れ、更にこの容器を鋼鉄製の容器に入れ完全に密封した。鋼鉄製の容器を121℃で100時間放置した後、試験片を取り出し、外観変化を観察した。評価の基準は次の通りである。
(High temperature reliability: Pressure cooker test, temperature 121 ° C., pressure 0.2 MPa)
A test piece having a length of 15 mm, a width of 15 mm, and a thickness of 3 mm was placed in a polytetrafluoroethylene container having a capacity of 15 mL together with 5 mL of distilled water, and the container was further sealed in a steel container. After leaving the steel container at 121 ° C. for 100 hours, the test piece was taken out and the appearance change was observed. The criteria for evaluation are as follows.

○:環状ホスファゼン化合物のブリードアウトによる外観変化がなく、高温信頼性がある。
×:環状ホスファゼン化合物のブリードアウトによる外観変化があり、高温信頼性がない。
○: No change in appearance due to bleeding out of cyclic phosphazene compound, and high temperature reliability.
X: There is a change in appearance due to bleeding out of the cyclic phosphazene compound, and there is no high temperature reliability.

(誘電特性)
長さ50mm、幅50mmおよび厚さ2.0mmの試験片について、JIS C2138「比誘電率および誘電正接の測定方法」に従って周波数1GHzの比誘電率と誘電正接を測定した。
(Dielectric properties)
With respect to a test piece having a length of 50 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 2.0 mm, the relative dielectric constant and dielectric loss tangent at a frequency of 1 GHz were measured in accordance with JIS C2138 “Measurement method of relative dielectric constant and dielectric loss tangent”.

(折り曲げ強度)
長さ100mm、幅20mmおよび厚さ0.5mmの試験片について、その両端を手で持ち180度の折り曲げを20回繰り返すことで折り曲げ強度(機械的強度)を次の基準で評価した。
(Bending strength)
About the test piece of length 100mm, width 20mm, and thickness 0.5mm, both ends were held by hand and bending strength (mechanical strength) was evaluated on the following reference | standard by repeating 180 degree | times bending 20 times.

○:割れの発生なし。
×:割れの発生あり。
○: No cracking occurred.
×: Cracking occurred.



表1によると実施例7〜12の樹脂組成物は<優れた難燃性、高温信頼性および折り曲げ強度を示し、しかも誘電率および誘電正接が低いことから電気特性においても優れている。



































According to Table 1, the resin compositions of Examples 7 to 12 exhibit excellent flame retardancy, high temperature reliability and bending strength, and are excellent in electrical characteristics due to their low dielectric constant and dielectric loss tangent.



































Claims (10)

下記の式(1)で表される、グリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換環状ホスファゼン化合物。
式(1)中、nは1〜6の整数を示し、Aは下記のA1基およびA2基からなる群から選ばれた基を示し、かつ少なくとも一つがA2基である。
A1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
A2基:下記の式(2)で示されるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
[式(2)中、E1〜E5はそれぞれ独立の置換基であって、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基であり、かつ少なくとも一つが下記の式(3)で示されるグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基である。
式(3)中、qは1〜50の整数を示し、E6〜E9は、それぞれ独立の置換基であって、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基およびアルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基を示す。]
An oligo (phenyleneoxy) group-substituted cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group, represented by the following formula (1).
In formula (1), n represents an integer of 1 to 6, A represents a group selected from the group consisting of the following A1 group and A2 group, and at least one is an A2 group.
Group A1: An aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, which may be substituted with at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group.
A2 group: a group selected from the group consisting of an oligo (phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group modified with a glycidyl group represented by the following formula (2).
[In Formula (2), E1-E5 are independent substituents, respectively, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, a C1-C6 alkyl group, an alkenyl group, a C1-C6 alkyl group, and an alkenyl group. And an oligo group in which at least one group selected from aryl groups is a group selected from aryl groups having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted, and at least one is modified with a glycidyl group represented by the following formula (3) (Phenyleneoxy) group.
In the formula (3), q represents an integer of 1 to 50, E6 to E9 are independent substituents, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group and an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to carbon atoms. 6 represents a group selected from aryl groups having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted. ]
A2基が、グリシジル基で変性したオリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換フェニレンオキシ基、グリシジル基で変性したオリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換メチルフェニレンオキシ基、グリシジル基で変性したオリゴ(メチルフェニレンオキシ)基置換ジメチルフェニレンオキシ基、グリシジル基で変性したオリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換フェニレンオキシ基、グリシジル基で変性したオリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換メチルフェニレンオキシ基およびグリシジル基で変性したオリゴ(ジメチルフェニレンオキシ)基置換ジメチルフェニレンオキシ基からなる群から選ばれる少なくとも一つである、請求項1に記載のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換環状ホスファゼン化合物。   Oligo (methylphenyleneoxy) group-modified phenyleneoxy group modified with glycidyl group, oligo (methylphenyleneoxy) group-substituted methylphenyleneoxy group modified with glycidyl group, oligo (methylphenyleneoxy) modified with glycidyl group Oligo (dimethylphenyleneoxy) group-modified oligophenylene modified with glycidyl group, oligo (dimethylphenyleneoxy) group modified with glycidyl group, and oligo (dimethylphenyleneoxy) group modified with glycidyl group The oligo (phenyleneoxy) group-substituted cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group according to claim 1, which is at least one selected from the group consisting of a phenyleneoxy) group-substituted dimethylphenyleneoxy group. 式(1)のnが1若しくは2である、請求項1および2に記載のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換環状ホスファゼン化合物。   The oligo (phenyleneoxy) group-substituted cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group according to claim 1 or 2, wherein n in formula (1) is 1 or 2. 式(1)において、(2n+4)個のAのうちの1〜(2n+2)個がA2基である、請求項1から3のいずれかに記載のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換環状ホスファゼン化合物。   In formula (1), 1 to (2n + 2) of (2n + 4) A are A2 groups, and oligo (phenyleneoxy) group substitution modified with a glycidyl group according to any one of claims 1 to 3 Cyclic phosphazene compounds. 式(1)のnが異なる二種以上のものを含んでいる、請求項1から4のいずれかに記載のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換環状ホスファゼン化合物。   The oligo (phenyleneoxy) group-substituted cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group according to any one of claims 1 to 4, which contains two or more compounds having different n in formula (1). 下記の式(4)で表される、オリゴ(フェニレンオキシ)基置換環状ホスファゼン化合物と、
[式(4)中、mは1〜6の整数を示し、Gは下記のG1基およびG2基からなる群から選ばれた基を示し、かつ少なくとも一つがG2基である。
G1基:炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されていてもよい、炭素数6〜20のアリールオキシ基。
G2基:下記の式(5)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基置換フェニルオキシ基からなる群から選ばれる基。
[式(5)中、E10〜E14はそれぞれ独立の置換基であって、水素原子、ヒドロキシル基、炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基であり、かつ少なくとも一つが下記の式(6)で示されるオリゴ(フェニレンオキシ)基である。
式(6)中、tは1〜50の整数を示し、E15〜E18は、それぞれ独立の置換基であって、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基およびアルケニル基、並びに炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基およびアリール基から選ばれる少なくとも一種の基が置換されてもよい炭素数6〜20のアリール基から選ばれる基を示す。]
エピハロヒドリンとを反応する工程からなる請求項1から5のいずれかに記載のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換環状ホスファゼン化合物の製造方法。
An oligo (phenyleneoxy) group-substituted cyclic phosphazene compound represented by the following formula (4):
[In the formula (4), m represents an integer of 1 to 6, G represents a group selected from the group consisting of the following G1 group and G2 group, and at least one is a G2 group.
G1 group: an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted.
G2 group: a group selected from the group consisting of an oligo (phenyleneoxy) group-substituted phenyloxy group represented by the following formula (5).
[In the formula (5), E10 to E14 are each an independent substituent, and are a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group, and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group. And an oligo (phenyleneoxy) group represented by the following formula (6), wherein at least one group selected from aryl groups is a group selected from aryl groups having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted: It is.
In the formula (6), t represents an integer of 1 to 50, and E15 to E18 are independent substituents, and each represents a hydrogen atom, an alkyl group and an alkenyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to carbon atoms. 6 represents a group selected from aryl groups having 6 to 20 carbon atoms in which at least one group selected from an alkyl group, an alkenyl group, and an aryl group may be substituted. ]
The method for producing an oligo (phenyleneoxy) group-substituted cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group according to any one of claims 1 to 5, comprising a step of reacting with epihalohydrin.
樹脂成分と、
請求項1から5のいずれかに記載のグリシジル基で変性したオリゴ(フェニレンオキシ)基置換環状ホスファゼン化合物と、
を含む樹脂組成物。
A resin component;
An oligo (phenyleneoxy) group-substituted cyclic phosphazene compound modified with a glycidyl group according to any one of claims 1 to 5;
A resin composition comprising:
前記樹脂成分が、エポキシ樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリスルホン樹脂、フェノキシ樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアン酸エステル樹脂およびビスマレイミド−シアン酸エステル樹脂からなる群から選ばれる少なくとも一種である、請求項7に記載の樹脂組成物。   The resin component is an epoxy resin, polyphenylene ether resin, polyamide resin, polyamideimide resin, polyetherimide resin, polyimide resin, polysulfone resin, phenoxy resin, bismaleimide resin, cyanate ester resin, and bismaleimide-cyanate ester resin. The resin composition according to claim 7, which is at least one selected from the group consisting of: 請求項7および8に記載の樹脂組成物からなる樹脂成形体。   The resin molding which consists of a resin composition of Claim 7 and 8. 請求項9に記載の樹脂成形体を用いた電子部品。
The electronic component using the resin molding of Claim 9.
JP2011102126A 2011-04-28 2011-04-28 Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group and process for producing the same Active JP5768274B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011102126A JP5768274B2 (en) 2011-04-28 2011-04-28 Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group and process for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011102126A JP5768274B2 (en) 2011-04-28 2011-04-28 Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group and process for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012233067A true JP2012233067A (en) 2012-11-29
JP5768274B2 JP5768274B2 (en) 2015-08-26

Family

ID=47433716

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011102126A Active JP5768274B2 (en) 2011-04-28 2011-04-28 Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group and process for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5768274B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018172472A (en) * 2017-03-31 2018-11-08 日本化薬株式会社 Transparent flame-retardant sheet
WO2021020553A1 (en) * 2019-07-31 2021-02-04 大塚化学株式会社 Heat-curable polyimide resin composition and molded article thereof

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007153747A (en) * 2005-11-30 2007-06-21 Fushimi Pharm Co Ltd Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound and method for producing the same
JP2007153748A (en) * 2005-11-30 2007-06-21 Fushimi Pharm Co Ltd Epoxy group-containing cyclic phosphazene compound and method for producing the same
JP2010037241A (en) * 2008-08-02 2010-02-18 Fushimi Pharm Co Ltd Glycidyloxy group-containing cyclic phosphazene compound and its production method
JP2011001275A (en) * 2009-06-16 2011-01-06 Fushimi Pharm Co Ltd Phosphazene ring-having unsaturated carboxylate compound

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007153747A (en) * 2005-11-30 2007-06-21 Fushimi Pharm Co Ltd Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound and method for producing the same
JP2007153748A (en) * 2005-11-30 2007-06-21 Fushimi Pharm Co Ltd Epoxy group-containing cyclic phosphazene compound and method for producing the same
JP2010037241A (en) * 2008-08-02 2010-02-18 Fushimi Pharm Co Ltd Glycidyloxy group-containing cyclic phosphazene compound and its production method
JP2011001275A (en) * 2009-06-16 2011-01-06 Fushimi Pharm Co Ltd Phosphazene ring-having unsaturated carboxylate compound

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018172472A (en) * 2017-03-31 2018-11-08 日本化薬株式会社 Transparent flame-retardant sheet
WO2021020553A1 (en) * 2019-07-31 2021-02-04 大塚化学株式会社 Heat-curable polyimide resin composition and molded article thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP5768274B2 (en) 2015-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2007080998A1 (en) Cyanato-containing cyclic phosphazenes and process for production thereof
JP5177730B2 (en) Hydroxyl group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same
JP5190910B2 (en) Cyanato group-containing cyclic phosphinate compound and method for producing the same
WO2009048117A1 (en) Epoxy compound composition
JP5177732B2 (en) Reactive group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same
JP5881147B2 (en) Process for producing ethenylphenoxy group-containing cyclic phosphazene compound
JP5170510B2 (en) Reactive group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same
JP5863144B2 (en) Process for producing ethenylphenoxy group-containing cyclic phosphazene compound
JP6016256B2 (en) Process for producing ethenylphenoxy group-containing cyclic phosphazene compound
JP5610252B2 (en) Glycidyloxy group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same
JP5376388B2 (en) Reactive group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same
JP5768274B2 (en) Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with glycidyl group and process for producing the same
JP5177731B2 (en) Epoxy group-containing cyclic phosphazene compound and method for producing the same
JP5550095B2 (en) Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound and method for producing the same
JP5757039B2 (en) Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphinate compound and method for producing the same
JP5013401B2 (en) Flame retardant comprising reactive group-containing cyclic phosphazene compound and method for producing the same
JP5481744B2 (en) Unsaturated carboxylate compound having phosphazene ring
JP5812468B2 (en) Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with cyanato group and production method thereof
JP5510626B2 (en) Hydroxy group-containing cyclic phosphazene compound and process for producing the same
WO2023032534A1 (en) Allyl ether compound, resin composition, and cured product thereof
JP6124176B2 (en) Composition for resin molding
JP5553245B2 (en) Cyclic phosphazene compounds
JP5812467B2 (en) Oligo (phenyleneoxy) group-containing cyclic phosphazene compound modified with unsaturated carbonyl group and process for producing the same
JP6095150B2 (en) Resin composition
JP2022016423A (en) Phosphorus-containing vinylbenzyl ether compound, method for producing the same, flame-retardant resin composition containing the same, and laminate for electronic circuit board

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140401

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140821

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140916

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20141020

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20141020

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20141114

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20150512

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20150528

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5768274

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250