JP2012229996A - Thin-sliced sample fabrication device - Google Patents

Thin-sliced sample fabrication device Download PDF

Info

Publication number
JP2012229996A
JP2012229996A JP2011098491A JP2011098491A JP2012229996A JP 2012229996 A JP2012229996 A JP 2012229996A JP 2011098491 A JP2011098491 A JP 2011098491A JP 2011098491 A JP2011098491 A JP 2011098491A JP 2012229996 A JP2012229996 A JP 2012229996A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample block
sample
thin
height
height position
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2011098491A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Iida
弘明 飯田
Yasushi Nakagawa
泰 中川
Yoshihiko Sunakawa
義彦 砂川
Toshiyuki Murakami
俊之 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kurabo Industries Ltd
Kurashiki Spinning Co Ltd
Original Assignee
Kurabo Industries Ltd
Kurashiki Spinning Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kurabo Industries Ltd, Kurashiki Spinning Co Ltd filed Critical Kurabo Industries Ltd
Priority to JP2011098491A priority Critical patent/JP2012229996A/en
Priority to PCT/JP2012/061082 priority patent/WO2012147789A1/en
Publication of JP2012229996A publication Critical patent/JP2012229996A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/02Devices for withdrawing samples
    • G01N1/04Devices for withdrawing samples in the solid state, e.g. by cutting
    • G01N1/06Devices for withdrawing samples in the solid state, e.g. by cutting providing a thin slice, e.g. microtome
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B5/00Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques
    • G01B5/02Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B5/06Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness
    • G01B5/061Measuring arrangements characterised by the use of mechanical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness height gauges

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin-sliced sample fabrication device capable of further correctly adjusting the position of a sample block.SOLUTION: A thin-sliced sample fabrication device includes: a sample block cutting-part comprising a cutter; a sample block transport part enabled to adjust an inclination angle of the sample block relative to an X-Y right-angle axis direction and a height position of the sample block in a Z direction, and for transporting the sample block in an X direction; a detection part for detecting the height position of the sample block; and a control part for adjusting the inclination angle and height position of the sample block on the basis of the detected information of the height detection part, with the height detection part comprising three contact-type sensors enabled to contact surface portions of the sample block at mutually different three measuring points to detect the height positions of the three measuring points.

Description

本発明は、理化学試料分析や生体試料等の顕微鏡観察などに利用される薄切片試料の作製する薄切片試料作製装置に関する。   The present invention relates to a thin-section sample preparation apparatus for preparing a thin-section sample used for physicochemical sample analysis or microscopic observation of biological samples.

従来、この種の装置としては、ミクロトームが知られている。ミクロトームは、パラフィン等で包埋された被検体をカッターによって薄切りすることにより、薄切片試料を作製する装置である。ミクロトームにより作製された薄切片試料は、スライドガラスに貼付けられ、組織観察用の薄切片試料として利用される。   Conventionally, a microtome is known as this type of device. A microtome is an apparatus for producing a thin slice sample by slicing a specimen embedded with paraffin or the like with a cutter. A thin slice sample prepared by a microtome is attached to a slide glass and used as a thin slice sample for tissue observation.

ミクロトームを用いた薄切片試料の作製作業は、従来、作業者によって手動で行われており、多大な手間と労力を要するものである。また、薄切片試料に求められる厚さは、非常に薄く(試料によって異なるが例えば3μm〜10μm)、高い均一性も求められる。このため、ミクロトームの使用に熟練した作業者であっても、数十個の試料ブロックを処理するのには、通常、数日かかる。また、同様の作業の繰り返しであるため、肉体的にも精神的にも作業者に過度の負担がかかる。   Conventionally, an operation for producing a sliced piece sample using a microtome has been manually performed by an operator, which requires a great deal of labor and labor. In addition, the thickness required for the thin slice sample is very thin (for example, 3 μm to 10 μm although it varies depending on the sample), and high uniformity is also required. For this reason, even an operator skilled in the use of a microtome usually takes several days to process dozens of sample blocks. Further, since the same work is repeated, an excessive burden is imposed on the worker physically and mentally.

そこで、近年、前記薄切片試料の作製作業を自動化して作業者の負担を軽減する装置が種々提案されている。この種の装置は、カッターが試料ブロックの表層部分を薄切りできるようにカッターと試料ブロックの高さ位置を調整し、その後、試料ブロックをカッターに向けて搬送することによって薄切片試料を作製するように構成されるのが一般的である。このような構成を有する薄切片試料作製装置においては、まず所定量粗削りすることにより面出しを行い、試料ブロックの露出面積が適切になった段階で本削りを行う。ここで、試料ブロックの表層部分がカッターの刃先の延在方向又は試料ブロックの搬送方向に対して傾斜していると、粗削りに時間がかかりすぎてしまう。このため、試料ブロックの表層部分がカッターの刃先の延在方向及び試料ブロックの搬送方向に対して平行になるように試料ブロックの位置を調整することが重要である。   Therefore, in recent years, various apparatuses have been proposed for automating the preparation of the thin slice sample to reduce the burden on the operator. This type of device adjusts the height position of the cutter and the sample block so that the cutter can slice the surface layer portion of the sample block, and then transports the sample block toward the cutter to produce a thin slice sample. Generally, it is configured as follows. In the thin-section sample preparation apparatus having such a configuration, first, a predetermined amount of rough cutting is performed to perform chamfering, and main cutting is performed when the exposed area of the sample block becomes appropriate. Here, if the surface layer portion of the sample block is inclined with respect to the extending direction of the cutting edge of the cutter or the conveying direction of the sample block, rough cutting takes too much time. For this reason, it is important to adjust the position of the sample block so that the surface layer portion of the sample block is parallel to the extending direction of the cutting edge of the cutter and the conveying direction of the sample block.

特許文献1(特開2008−76251号公報)には、ラインセンサを備え、ラインセンサの受光量の変化に基づいて、試料ブロックを面出し(面合わせ)する方法が開示されている。なお、試料ブロックの位置を平行になるように調整すること「面出し」という場合もあるが、薄切片試料作成装置の分野において「面出し」という言葉は、「試料ブロックの表面に被検体を有効に露出させる」ことを意味することがある。このため、誤解を避けるべく、ここでは、試料ブロックの表層部分がカッターの刃先の延在方向及び試料ブロックの搬送方向に対して平行になるように試料ブロックの位置を調整することを「面合わせ」という。   Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2008-76251) discloses a method of providing a line sensor and surface-extruding (surface-matching) a sample block based on a change in the amount of light received by the line sensor. Note that adjusting the position of the sample block so that it is parallel may be referred to as “face-up”, but in the field of thin-section sample preparation devices, the term “face-up” refers to “specimen on the surface of the sample block. It may mean "effectively exposing". For this reason, in order to avoid misunderstanding, here, adjusting the position of the sample block so that the surface layer portion of the sample block is parallel to the extending direction of the cutting edge of the cutter and the conveying direction of the sample block is referred to as “surface matching. "

特開2008−76251号公報JP 2008-76251 A

しかしながら、特許文献1の方法では、試料ブロックの表面に異物が付着している場合、当該異物がラインセンサの光を遮光し、異物の頂部の高さ位置が試料ブロックの表面の高さ位置であると誤検出することがあり得る。この場合、試料ブロックの面出しを正確に行うことができず、その結果、薄切片試料の作製時間が長くなるなどの問題が発生するおそれがある。   However, in the method of Patent Document 1, when a foreign object adheres to the surface of the sample block, the foreign object blocks the light of the line sensor, and the height position of the top of the foreign object is the height position of the surface of the sample block. There is a possibility of false detection. In this case, the surface of the sample block cannot be accurately performed, and as a result, there is a possibility that problems such as an increase in the manufacturing time of the thin slice sample may occur.

従って、本発明の目的は、前記問題を解決することにあって、試料ブロックの面合わせをより一層正確に行うことができる薄切片試料作製装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a thin-section sample preparation device that can solve the above-mentioned problem and can perform the surface alignment of the sample blocks more accurately.

前記目的を達成するために、本発明は以下のように構成する。
本発明の第1態様によれば、試料ブロックの表層部分をカッターにより薄切りして薄切片試料を作製する薄切片試料作製装置であって、
前記カッターを備える試料ブロック切削部と、
前記試料ブロックのXY直交2軸方向に対する傾斜角度及びZ軸方向の高さ位置を調整可能に構成され、前記試料ブロックをX軸方向に搬送する試料ブロック搬送部と、
前記試料ブロックの高さ位置を検出する高さ検出部と、
前記高さ検出部の検出情報に基づいて前記試料ブロックの前記傾斜角度及び前記高さ位置を調整する制御部と、
を備え、
前記高さ検出部は、前記試料ブロックの表層部分に対して同一直線上にない少なくとも3つの測定点に接触して当該少なくとも3つの測定点の高さ位置を検出可能な少なくとも3つの接触式センサを備える、
薄切片試料作製装置を提供する。
In order to achieve the above object, the present invention is configured as follows.
According to the first aspect of the present invention, there is provided a thin-section sample preparation device for preparing a thin-section sample by slicing a surface layer portion of a sample block with a cutter,
A sample block cutting section comprising the cutter;
A sample block transport unit configured to adjust an inclination angle of the sample block with respect to an XY orthogonal two-axis direction and a height position in the Z-axis direction, and transports the sample block in the X-axis direction;
A height detector for detecting a height position of the sample block;
A control unit for adjusting the tilt angle and the height position of the sample block based on detection information of the height detection unit;
With
The height detection unit is configured to contact at least three measurement points that are not collinear with the surface layer portion of the sample block, and detect at least three contact points to detect the height positions of the at least three measurement points. Comprising
A thin-section sample preparation apparatus is provided.

本発明の第2態様によれば、前記3つの測定点は、前記試料ブロックの外縁部よりも内側に位置している、第1態様に記載の薄切片試料作製装置を提供する。   According to a second aspect of the present invention, there is provided the thin-section sample preparation device according to the first aspect, wherein the three measurement points are located inside the outer edge of the sample block.

本発明の第3態様によれば、前記高さ検出部は、前記試料ブロックの大略中心に位置する第4の測定点に接触して当該測第4の測定点の高さ位置を検出可能な第4の接触式センサを更に備える、第1又は2態様に記載の薄切片試料作製装置を提供する。   According to the third aspect of the present invention, the height detection unit can detect the height position of the fourth measurement point by contacting the fourth measurement point located approximately at the center of the sample block. The thin-section sample preparation apparatus according to the first or second aspect, further comprising a fourth contact sensor.

本発明の第4態様によれば、前記制御部は、前記試料ブロックの前記傾斜角度を調整した後、再度前記高さ検出部に前記試料ブロックの高さ位置を検出させ、当該高さ検出部の検出情報に基づいて前記試料ブロック搬送部を制御し前記試料ブロックの前記傾斜角度を再調整し、さらに前記高さ検出部に前記試料ブロックの高さ位置を検出させ、前記試料ブロックの高さ位置を調整する、第1〜3態様のいずれか1つに記載の薄切片試料作製装置を提供する。   According to the fourth aspect of the present invention, the control unit adjusts the tilt angle of the sample block, and then causes the height detection unit to detect the height position of the sample block again, and the height detection unit. Based on the detected information, the sample block transport unit is controlled to readjust the inclination angle of the sample block, and the height detecting unit detects the height position of the sample block, and the height of the sample block is determined. The thin-section sample preparation device according to any one of the first to third aspects, wherein the position is adjusted, is provided.

本発明にかかる薄切片試料作製装置によれば、前記高さ検出部が前記3つの接触式センサを備えているので、前記試料ブロックの表層部分に対して同一直線上にない3つの測定点に接触して当該3つの測定点の高さ位置を検出することができる。当該3つの測定点の高さ位置を検出することにより、前記試料ブロックの前記傾斜角度及び高さ位置を検出することができる。また、接触式センサであるため、試料ブロックの表面に異物が付着していたとしても、当該異物により試料ブロックの高さ位置を誤検出する可能性を抑えることができる。したがって、試料ブロックの面合わせをより一層正確に行うことができる。   According to the thin-section sample preparation device according to the present invention, since the height detection unit includes the three contact sensors, three measurement points that are not collinear with the surface layer portion of the sample block are provided. The height position of the three measurement points can be detected by contact. By detecting the height positions of the three measurement points, the tilt angle and height position of the sample block can be detected. Moreover, since it is a contact-type sensor, even if a foreign material has adhered to the surface of the sample block, the possibility that the height position of the sample block is erroneously detected by the foreign material can be suppressed. Therefore, the surface alignment of the sample block can be performed more accurately.

本発明の実施形態にかかる薄切片試料作製装置の概略構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows schematic structure of the thin section sample preparation apparatus concerning embodiment of this invention. 高さ検出部の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of a height detection part. 試料ブロックの表層部分に対して、接触式センサを接触させた状態を模式的に示す側面図である。It is a side view which shows typically the state which contacted the contact type sensor with respect to the surface layer part of a sample block. XY平面に対して平行になるように調整した試料ブロックの表層部分に対して、接触式センサを接触させた状態を模式的に示す側面図である。It is a side view which shows typically the state which contacted the contact-type sensor with respect to the surface layer part of the sample block adjusted so that it might become parallel to XY plane. 図4に示す状態から更にXY平面に対して平行になるように微調整した試料ブロックの表層部分に対して、接触式センサに接触させた状態を模式的に示す側面図である。FIG. 5 is a side view schematically showing a state in which a surface layer portion of a sample block finely adjusted to be parallel to the XY plane from the state shown in FIG. 4 is brought into contact with a contact sensor. 表面が内側に反った試料ブロックに対して、図2に示す高さ検出部が備える接触式センサを接触させた状態を模式的に示す側面図である。It is a side view which shows typically the state which contacted the contact type sensor with which the height detection part shown in FIG. 2 with respect to the sample block which the surface curved inward. 高さ検出部の変形例の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of the modification of a height detection part. 表面が内側に反った試料ブロックに対して、図7に示す高さ検出部が備える接触式センサを接触させた状態を模式的に示す側面図である。It is a side view which shows typically the state which contacted the contact type sensor with which the height detection part shown in FIG. 7 with respect to the sample block which the surface curved inside.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

《実施形態》
本発明の実施形態にかかる薄切片試料作製装置の概略構成について説明する。図1は、本発明の実施形態にかかる薄切片試料作製装置の概略構成を示すブロック図である。
<Embodiment>
A schematic configuration of a thin-section sample preparation device according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 1 is a block diagram showing a schematic configuration of a thin-section sample preparation apparatus according to an embodiment of the present invention.

図1において、薄切片試料作製装置100は、試料ブロック20の表層部分をカッター41により自動的に且つ連続的に薄切りして複数の薄切片試料24を作製する装置である。試料ブロック20は、被検体20aをパラフィン等の包埋材の中に埋め込んだものである。被検体20aとしては、例えば、人間や動物の組織などの生体試料が挙げられる。   In FIG. 1, a thin-section sample preparation apparatus 100 is an apparatus that prepares a plurality of thin-section samples 24 by automatically and continuously slicing a surface layer portion of a sample block 20 with a cutter 41. The sample block 20 is obtained by embedding the subject 20a in an embedding material such as paraffin. Examples of the subject 20a include biological samples such as human and animal tissues.

薄切片試料作製装置100は、複数の試料ブロック20を収納する試料ブロック収納部30を備えている。試料ブロック収納部30に収納された複数の試料ブロック20から選ばれた1つの試料ブロック20は、試料ブロック搬送部1によりカッター41を備える試料ブロック切削部4へと搬送される。   The thin-section sample preparation apparatus 100 includes a sample block storage unit 30 that stores a plurality of sample blocks 20. One sample block 20 selected from the plurality of sample blocks 20 stored in the sample block storage unit 30 is transported by the sample block transport unit 1 to the sample block cutting unit 4 including the cutter 41.

試料ブロック搬送部1は、試料ブロック収納部30から次に薄切り処理される試料ブロック20を取り出して位置A上に搬送したのち、当該試料ブロック20を位置A〜Cの間で往復搬送可能に構成されている。なお、位置A〜Cは、±X軸方向に直線的に整列している。すなわち、試料ブロック搬送部1は、試料ブロック20をX軸方向に搬送可能に構成されている。また、試料ブロック搬送部1は、試料ブロック20のXY直交2軸方向(XY平面ともいう)に対する傾斜角度及びZ軸方向の高さ位置を調整可能に構成されている。   The sample block transport unit 1 is configured such that after the sample block 20 to be sliced next is taken out from the sample block storage unit 30 and transported onto the position A, the sample block 20 can be transported back and forth between the positions A to C. Has been. The positions A to C are linearly aligned in the ± X axis direction. That is, the sample block transport unit 1 is configured to be able to transport the sample block 20 in the X-axis direction. The sample block transport unit 1 is configured to be able to adjust the tilt angle of the sample block 20 with respect to the XY orthogonal biaxial direction (also referred to as the XY plane) and the height position in the Z axis direction.

位置Aの上方には、試料ブロック20の高さ位置を検出する高さ検出部2が配置されている。高さ検出部2の構成については、後で詳しく説明する。位置Bの上方には、カッター41により薄切りされて露出した試料ブロック20の切削面を撮像する撮像部3が配置されている。撮像部3は、例えば、白色光源や単色LED光源のような試料ブロック表面を照射する部分と、CCDカメラのような画像データを得るための撮影部分とを有するように構成されている。位置Cの上方には、カッター41を保持して試料ブロック20の表層部分を薄切可能な試料ブロック切削部4が配置されている。カッター41は、刃先が±Y軸方向に延在するように保持されている。   Above the position A, the height detector 2 that detects the height position of the sample block 20 is arranged. The configuration of the height detection unit 2 will be described in detail later. Above the position B, the image pickup unit 3 that picks up an image of the cut surface of the sample block 20 sliced and exposed by the cutter 41 is disposed. The imaging unit 3 is configured to have a portion that irradiates the surface of the sample block, such as a white light source or a monochromatic LED light source, and a photographing portion for obtaining image data such as a CCD camera. Above the position C, the sample block cutting section 4 is disposed that can hold the cutter 41 and slice the surface layer portion of the sample block 20. The cutter 41 is held such that the cutting edge extends in the ± Y axis direction.

また、位置Cの上方には、試料ブロック20の表層部分がカッター41によって薄切りされることにより得られた薄切片試料24を保持するキャリアテープ21が供給される。キャリアテープ21は、供給リール5から繰り出され、ガイドローラ81,82に案内されて位置Cの上方に供給される。位置Cの上方で薄切片試料24を保持したキャリアテープ21は、ガイドローラ83,84に案内されて巻取リール6に巻き取られる。   Further, above the position C, a carrier tape 21 for holding a thin slice sample 24 obtained by slicing the surface layer portion of the sample block 20 with a cutter 41 is supplied. The carrier tape 21 is fed out from the supply reel 5, guided by the guide rollers 81 and 82, and supplied above the position C. The carrier tape 21 holding the sliced piece sample 24 above the position C is guided by the guide rollers 83 and 84 and taken up on the take-up reel 6.

供給リール5には、繰り出しモータ51が設けられている。繰り出しモータ51が駆動されることにより、供給リール5からキャリアテープ21が繰り出される。また、巻取リール6には、巻取モータ61が設けられている。巻取モータ61が常に駆動されることにより、巻取リール6には常に一定のトルクがかけられている。これにより、繰り出しモータ51の駆動により供給リール5から繰り出されたキャリアテープ21は、当該繰り出しと同時に巻取リール6に巻き取られる。   The supply reel 5 is provided with a feeding motor 51. By driving the feeding motor 51, the carrier tape 21 is fed from the supply reel 5. The take-up reel 6 is provided with a take-up motor 61. A constant torque is always applied to the take-up reel 6 by always driving the take-up motor 61. Thereby, the carrier tape 21 fed out from the supply reel 5 by the driving of the feeding motor 51 is taken up on the take-up reel 6 simultaneously with the feeding out.

キャリアテープ21に保持された薄切片試料24は、ガイドローラ83,84の間に配置された薄切片貼付部7によりスライドガラス22に貼り付けられる。薄切片貼付部7は、キャリアテープ21の走行経路の上流側(−X軸方向側)に配置された一対のガイドローラ71と、キャリアテープ21の走行経路の下流側(+X軸方向側)に配置された一対のガイドローラ72とを備えている。薄切片貼付部7は、一対のガイドローラ71,71の間と一対のガイドローラ72,72の間でキャリアテープ21を挟んで下方に撓ませ、当該キャリアテープ21に保持された薄切片試料24を、水などの接着液23が供給されたスライドガラス22に接触させる。これにより、薄切片試料24がスライドガラス22に貼り付けられる。以下、薄切片試料24が貼り付けられたスライドガラスを、薄切片付きスライドガラスという。   The thin slice sample 24 held on the carrier tape 21 is stuck to the slide glass 22 by the thin slice sticking portion 7 disposed between the guide rollers 83 and 84. The thin section pasting part 7 is disposed on the upstream side (−X axis direction side) of the traveling path of the carrier tape 21 and on the downstream side (+ X axis direction side) of the traveling path of the carrier tape 21. And a pair of guide rollers 72 arranged. The thin slice pasting portion 7 is bent downward with the carrier tape 21 sandwiched between the pair of guide rollers 71 and 71 and the pair of guide rollers 72 and 72, and the thin slice sample 24 held on the carrier tape 21. Is brought into contact with the slide glass 22 supplied with an adhesive liquid 23 such as water. As a result, the thin slice sample 24 is attached to the slide glass 22. Hereinafter, the slide glass to which the thin section sample 24 is attached is referred to as a slide glass with a thin section.

薄切片付きスライドガラス22は、スライドガラス搬送部8により伸展部9へ搬送される。スライドガラス搬送部8は、薄切片付きスライドガラス22を伸展部9へ搬送するとともに、スライドガラス収納部(図示せず)から薄切片試料24を未貼付のスライドガラス22を取り出して薄切片貼付部7の下方へ搬送する。伸展部9は、加温板(図示せず)を備え、薄切片試料24の皺の伸展を行うとともに、スライドガラス22上の水分を完全に蒸発させて薄切片試料24をスライドガラス22に密着固定する。   The slide glass 22 with a thin section is conveyed to the extension unit 9 by the slide glass conveyance unit 8. The slide glass transport unit 8 transports the slide glass 22 with a thin section to the extension unit 9, and takes out the slide glass 22 to which the thin section sample 24 has not been pasted from the slide glass storage unit (not shown), and a thin section pasting unit. 7 is conveyed below. The extension unit 9 includes a heating plate (not shown), extends the folds of the thin slice sample 24, and completely evaporates the moisture on the slide glass 22, thereby closely attaching the thin slice sample 24 to the slide glass 22. Fix it.

試料ブロック搬送部1などの各構成要素は、制御部10により動作を制御される。制御部10は、入力部(図示せず)に入力された情報に基づいて、各構成要素の動作を制御する。入力部は、例えば、薄切片付きスライドガラスの製作枚数や1枚のスライドガラス当たりの薄切片試料の貼り付け数などを入力可能に構成されている。   The operation of each component such as the sample block transport unit 1 is controlled by the control unit 10. The control unit 10 controls the operation of each component based on information input to an input unit (not shown). The input unit is configured to be able to input, for example, the number of manufactured slide glasses with thin sections, the number of thin section samples attached per slide glass, and the like.

次に、薄切片試料24の作製動作について説明する。この薄切片試料24の作製動作は、制御部10の制御の下に行われる。なお、通常、試料ブロック20が試料ブロック収納部30に収納された状態では、被検体20aは外部に露出しない(あるいは僅かに露出する)ように包埋材の中に埋め込まれている。このため、本実施形態においては、被検体20aの露出面積が予め設定された面積以上になるまで試料ブロック20の表層部分を粗削りし、その後、3〜10μm程度の薄切片試料24を作製する本削りを行うようにしている。まず、粗削りの動作について説明する。   Next, the manufacturing operation of the thin slice sample 24 will be described. The production operation of the thin slice sample 24 is performed under the control of the control unit 10. Normally, when the sample block 20 is stored in the sample block storage unit 30, the subject 20a is embedded in the embedding material so as not to be exposed to the outside (or slightly exposed). For this reason, in this embodiment, the surface layer portion of the sample block 20 is roughened until the exposed area of the subject 20a is equal to or larger than a preset area, and then a thin slice sample 24 of about 3 to 10 μm is prepared. I try to sharpen. First, the roughing operation will be described.

まず、試料ブロック搬送部1が試料ブロック収納部30から次に薄切り処理される試料ブロック20を取り出し、位置Aに搬送する。
次いで、高さ検出部2が試料ブロック20の高さ位置を検出する。
次いで、試料ブロック搬送部1が、高さ検出部2の検出情報に基づいて、試料ブロック20のXY平面に対する傾斜角度及びZ軸方向の高さ位置を調整する。
First, the sample block transport unit 1 takes out the sample block 20 to be sliced next from the sample block storage unit 30 and transports it to the position A.
Next, the height detector 2 detects the height position of the sample block 20.
Next, the sample block transport unit 1 adjusts the inclination angle of the sample block 20 with respect to the XY plane and the height position in the Z-axis direction based on the detection information of the height detection unit 2.

次いで、試料ブロック搬送部1が試料ブロック20を位置Bに搬送する。
次いで、撮像部3が試料ブロック20を撮像する。これにより、試料ブロック20中の被検体20aの最大投影領域(最大投影面積)を認識する。
次いで、試料ブロック搬送部1が試料ブロック20を位置Cに搬送する。これにより、試料ブロック20の表層部分がカッター41により粗削りされる。
Next, the sample block transport unit 1 transports the sample block 20 to the position B.
Next, the imaging unit 3 images the sample block 20. Thereby, the maximum projection area (maximum projection area) of the subject 20a in the sample block 20 is recognized.
Next, the sample block transport unit 1 transports the sample block 20 to the position C. Thereby, the surface layer portion of the sample block 20 is roughly cut by the cutter 41.

次いで、試料ブロック搬送部1が試料ブロック20を位置Bに搬送する。
次いで、撮像部3が、カッター41により薄切りされて露出した試料ブロック20の切削面を撮像する。
Next, the sample block transport unit 1 transports the sample block 20 to the position B.
Next, the imaging unit 3 captures an image of the cut surface of the sample block 20 that is exposed by being sliced by the cutter 41.

試料ブロック20の切削面における被検体20aの露出面積が予め設定された面積(例えば前記最大投影領域の80%)未満であるとき、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20の表層部分がカッター41に粗削りされるように試料ブロック20の高さ位置を調整する。その後、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20を位置Cに搬送する。これにより、試料ブロック20の表層部分がカッター41により再度粗削りされる。その後、試料ブロック搬送部1が試料ブロック20を位置Bに搬送し、撮像部3が再度試料ブロック20の切削面を撮像する。この試料ブロック20の粗削り及び切削面の撮像動作は、試料ブロック20の切削面における被検体20aの露出面積が予め設定された面積以上になるまで繰り返される。   When the exposed area of the subject 20a on the cutting surface of the sample block 20 is less than a preset area (for example, 80% of the maximum projection region), the sample block transport unit 1 uses the cutter 41 as the surface layer portion. The height position of the sample block 20 is adjusted so that it is roughly cut. Thereafter, the sample block transport unit 1 transports the sample block 20 to the position C. Thereby, the surface layer portion of the sample block 20 is roughed again by the cutter 41. Thereafter, the sample block transport unit 1 transports the sample block 20 to the position B, and the imaging unit 3 captures the cutting surface of the sample block 20 again. The rough cutting of the sample block 20 and the imaging operation of the cutting surface are repeated until the exposed area of the subject 20a on the cutting surface of the sample block 20 is equal to or larger than a preset area.

試料ブロック20の切削面における被検体20aの露出面積が予め設定された面積以上になると、粗削りの動作を終了し、本削りの動作に移行する。なお、粗削りと本削りとで異なるカッター41又は異なるカッター41の刃先41aの位置を使用する場合、あるいは粗削りの厚さと本削りの厚さが異なる場合は、作製される切片の厚さ精度を良くするため、本削りに使用されるカッター41又はカッター41の刃先41aの位置で、薄切片試料24の作製前(本削り前)に本削り厚さで数回薄切りのみを行う、いわゆる捨て切り動作を行うのが好ましい。   When the exposed area of the subject 20a on the cutting surface of the sample block 20 is equal to or larger than a preset area, the rough cutting operation is finished and the main cutting operation is started. In addition, when using the position of the cutting edge 41a of different cutter 41 or different cutter 41 for rough cutting and main cutting, or when the thickness of rough cutting differs from the thickness of main cutting, the thickness accuracy of the section to be manufactured is improved. Therefore, at the position of the cutter 41 used for the main cutting or the cutting edge 41a of the cutter 41, a so-called discarding operation is performed in which the thin cutting sample 24 is thinly cut several times with the main cutting thickness before the thin section sample 24 is manufactured (before the main cutting). Is preferably performed.

本削り動作においては、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20の表層部分がカッター41に薄切り(3μm〜10μm程度)されるように試料ブロック20の高さ位置を調整する。その後、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20を位置Cへ搬送する。これにより、試料ブロック20の表層部分がカッター41により薄切りされ、薄切片試料24が作製される。その後、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20を位置Cから位置Bなどへ退避させ、試料ブロック20の表層部分がカッター41に薄切りされるように試料ブロック20の高さ位置を調整する。この試料ブロック20の高さ位置の調整、薄切り、及び退避の動作が、前記入力部(図示せず)に入力された情報に基づく任意の回数、自動的且つ連続的に繰り返され、任意の枚数の薄切片試料24が作製される。   In the main cutting operation, the sample block transport unit 1 adjusts the height position of the sample block 20 so that the surface layer portion of the sample block 20 is sliced by the cutter 41 (about 3 μm to 10 μm). Thereafter, the sample block transport unit 1 transports the sample block 20 to the position C. Thereby, the surface layer part of the sample block 20 is sliced by the cutter 41, and the thin slice sample 24 is produced. Thereafter, the sample block transport unit 1 retracts the sample block 20 from the position C to the position B or the like, and adjusts the height position of the sample block 20 so that the surface layer portion of the sample block 20 is sliced by the cutter 41. The operations of adjusting the height position of the sample block 20, slicing, and retracting are automatically and continuously repeated an arbitrary number of times based on information input to the input unit (not shown), and an arbitrary number of sheets A thin slice sample 24 is prepared.

前記本削り動作により作製された薄切片試料24は、キャリアテープ21に貼り付けられる。なお、このとき、薄切片試料24がキャリアテープ21により確実に貼り付くように、キャリアテープ21の表面に加湿、冷却及び帯電などの処理をしておくことが好ましい。キャリアテープ21に貼り付けられた薄切片試料24は、繰り出しモータ51及び巻取モータ61の駆動により薄切片貼付部7に搬送され、薄切片貼付部7によりスライドガラス22に貼り付けられる。その後、薄切片付きスライドガラス22は、スライドガラス搬送部8により伸展部9へ搬送される。その後、伸展部9が、薄切片試料24の皺を伸展するとともに、薄切片試料24をスライドガラス22に密着固定させる。   The thin slice sample 24 produced by the main cutting operation is attached to the carrier tape 21. At this time, it is preferable that the surface of the carrier tape 21 is subjected to treatments such as humidification, cooling, and charging so that the thin slice sample 24 is securely attached to the carrier tape 21. The thin slice sample 24 affixed to the carrier tape 21 is conveyed to the thin slice affixing unit 7 by driving of the feeding motor 51 and the take-up motor 61 and affixed to the slide glass 22 by the thin segment affixing unit 7. Thereafter, the slide glass 22 with a thin section is conveyed to the extension unit 9 by the slide glass conveyance unit 8. Thereafter, the extension section 9 extends the folds of the thin slice sample 24 and closely fixes the thin slice sample 24 to the slide glass 22.

次に、高さ検出部2の構成についてより詳しく説明する。図2は、高さ検出部2の概略構成を示す斜視図である。   Next, the configuration of the height detection unit 2 will be described in more detail. FIG. 2 is a perspective view illustrating a schematic configuration of the height detection unit 2.

図2に示すように、高さ検出部2は、3つの接触式センサ2A,2B,2Cを備えている。各接触式センサ2A,2B,2Cは、試料ブロック20の表層部分に対して、同一直線上にない3つの測定点20b〜20dに接触して当該3つの測定点の高さ位置を検出可能に設けられている。各接触式センサ2A,2B,2Cは、例えば、試料ブロック20の表層部分との接触圧力を検出可能に構成され、各センサの接触圧力が同一のとき、試料ブロック20のXY平面に対する傾斜角度が0度(すなわち、カッター41の刃先の延在方向及び試料ブロック20の搬送方向に対して平行)になるように設けられている。   As shown in FIG. 2, the height detector 2 includes three contact sensors 2A, 2B, and 2C. Each of the contact sensors 2A, 2B, 2C can contact the three measurement points 20b to 20d that are not on the same straight line with respect to the surface layer portion of the sample block 20, and detect the height positions of the three measurement points. Is provided. Each contact type sensor 2A, 2B, 2C is configured to detect, for example, the contact pressure with the surface layer portion of the sample block 20, and when the contact pressure of each sensor is the same, the inclination angle of the sample block 20 with respect to the XY plane is It is provided to be 0 degrees (that is, parallel to the extending direction of the cutting edge of the cutter 41 and the conveying direction of the sample block 20).

次に、高さ検出部2による試料ブロック20の高さ検出動作について更に詳しく説明する。この高さ検出部2による試料ブロック20の高さ検出動作は、制御部10の制御の下に行われる。   Next, the height detection operation of the sample block 20 by the height detection unit 2 will be described in more detail. The height detection operation of the sample block 20 by the height detection unit 2 is performed under the control of the control unit 10.

まず、試料ブロック搬送部1が試料ブロック収納部30から次に薄切り処理される試料ブロック20を位置Aに搬送する。   First, the sample block transport unit 1 transports the sample block 20 to be sliced next from the sample block storage unit 30 to the position A.

次いで、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20を+Z軸方向に移動させ、試料ブロック20の表層部分を高さ検出部2の3つの接触式センサ2A,2B,2Cに接触させる。これにより、接触式センサ2A,2B,2Cが試料ブロック20の高さ位置を検出する。   Next, the sample block transport unit 1 moves the sample block 20 in the + Z-axis direction, and brings the surface layer portion of the sample block 20 into contact with the three contact sensors 2A, 2B, 2C of the height detection unit 2. As a result, the contact sensors 2A, 2B, 2C detect the height position of the sample block 20.

次いで、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20を3つの接触式センサ2A,2B,2Cから−Z軸方向に退避させた後、試料ブロック20のXY平面に対する傾斜角度を調整する。例えば、図3に示すように試料ブロック20がXY平面に対して傾斜しているとき、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20の表層部分がXY平面に対して平行になるように試料ブロック20の傾斜角度を調整する。この調整により、試料ブロック20の表層部分をXY平面に対してより平行に近づけることで、薄切片試料24の粗削り時間を短縮することができ、また粗削り量を少なくすることもできる。なお、この調整により試料ブロック20の表層部分をXY平面に対して完全に平行にすることが好ましいが、当該調整には数μmレベルの精度が要求されるため、現実的には困難である。このため、次の動作を行うことが好ましい。   Next, after the sample block transport unit 1 retracts the sample block 20 from the three contact sensors 2A, 2B, and 2C in the −Z axis direction, the inclination angle of the sample block 20 with respect to the XY plane is adjusted. For example, as shown in FIG. 3, when the sample block 20 is inclined with respect to the XY plane, the sample block transport unit 1 causes the sample block 20 so that the surface layer portion of the sample block 20 is parallel to the XY plane. Adjust the tilt angle. By this adjustment, the rough cutting time of the thin slice sample 24 can be shortened and the rough cutting amount can be reduced by bringing the surface layer portion of the sample block 20 closer to the XY plane. Although it is preferable to make the surface layer portion of the sample block 20 completely parallel to the XY plane by this adjustment, since the adjustment requires an accuracy of several μm level, it is practically difficult. For this reason, it is preferable to perform the following operation.

すなわち、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20を+Z軸方向に移動させ、図4に示すように、試料ブロック20の表層部分を3つの接触式センサ2A,2B,2Cに再接触させる。これにより、接触式センサ2A,2B,2Cが試料ブロック20の高さ位置を再検出する。   That is, the sample block transport unit 1 moves the sample block 20 in the + Z-axis direction, and brings the surface layer portion of the sample block 20 into contact with the three contact sensors 2A, 2B, and 2C as shown in FIG. As a result, the contact sensors 2A, 2B, 2C redetect the height position of the sample block 20.

次いで、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20を3つの接触式センサ2A,2B,2Cから−Z軸方向に退避させた後、試料ブロック20のXY平面に対する傾斜角度を微調整する。この接触式センサにて2度目の高さ検出を行い、傾斜角度の微調整を行うことで、試料ブロック20の表層部分をXY平面に対して平行にする精度が向上する。なお、試料ブロック20の高さ位置の再検出及び微調整の動作は、所望の精度が得られるまで繰り返されてもよい。   Next, after the sample block transport unit 1 retracts the sample block 20 from the three contact sensors 2A, 2B, and 2C in the −Z axis direction, the tilt angle of the sample block 20 with respect to the XY plane is finely adjusted. By performing the second height detection with this contact sensor and finely adjusting the tilt angle, the accuracy of making the surface layer portion of the sample block 20 parallel to the XY plane is improved. Note that the redetection and fine adjustment operations of the height position of the sample block 20 may be repeated until a desired accuracy is obtained.

次いで、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20を+Z軸方向に移動させ、図5に示すように、試料ブロック20の表層部分を3つの接触式センサ2A,2B,2Cに再々接触させる。これにより、接触式センサ2A,2B,2Cが試料ブロック20の高さ位置を再々検出する。   Next, the sample block transport unit 1 moves the sample block 20 in the + Z-axis direction, and again brings the surface layer portion of the sample block 20 into contact with the three contact sensors 2A, 2B, and 2C as shown in FIG. Thereby, the contact-type sensors 2A, 2B, and 2C detect the height position of the sample block 20 again.

次いで、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20を3つの接触式センサ2A,2B,2Cから−Z軸方向に退避させる。
次いで、3つの接触式センサ2A,2B,2Cが高さ位置を検出した3つの測定点のうち最も高い位置に位置する測定点とカッター41の刃先との高さ位置が一致するように、試料ブロック搬送部1が試料ブロック20の高さ位置を調整する。
Next, the sample block transport unit 1 retracts the sample block 20 from the three contact sensors 2A, 2B, 2C in the −Z axis direction.
Next, the sample is adjusted so that the height position of the measurement point located at the highest position among the three measurement points detected by the three contact sensors 2A, 2B, and 2C and the cutting edge of the cutter 41 coincide with each other. The block transport unit 1 adjusts the height position of the sample block 20.

次いで、試料ブロック搬送部1が、試料ブロック20を位置Cへ搬送する。これにより、試料ブロック20の表層部分がカッター41により薄切りされ、粗削りがより短時間で可能になるとともに、薄切片試料24が作製される。   Next, the sample block transport unit 1 transports the sample block 20 to the position C. Thereby, the surface layer portion of the sample block 20 is sliced by the cutter 41, and rough cutting can be performed in a shorter time, and the thin slice sample 24 is produced.

以上、本実施形態によれば、高さ検出部2が3つの接触式センサ2A,2B,2Cを備えているので、試料ブロック20の表層部分に対して同一直線上にない3つの測定点20b,20c,20dに接触して当該3つの測定点の高さ位置を検出することができる。特に、当該3つの測定点20b,20c,20dの高さ位置を2度検出することにより、試料ブロック20のXY平面に対する傾斜角度を微調整することで、より面合わせの精度を高めることができる。   As described above, according to the present embodiment, since the height detection unit 2 includes the three contact sensors 2A, 2B, and 2C, the three measurement points 20b that are not collinear with the surface layer portion of the sample block 20 are provided. , 20c and 20d, the height positions of the three measurement points can be detected. In particular, by detecting the height positions of the three measurement points 20b, 20c, and 20d twice, the fineness of the inclination angle of the sample block 20 with respect to the XY plane can improve the accuracy of the surface matching. .

また、本実施形態によれば、試料ブロック20の表層部分に対して接触式センサ2A,2B,2Cで接触するので、試料ブロック20の表面に異物が付着していたとしても、当該異物により試料ブロック20の高さ位置を誤検出する可能性を抑えることができる。なお、薄切片試料作成装置においては、包埋材となるパラフィンくずが異物として試料ブロック20の表面に付着することが考えられる。また、試料ブロックの表面を清浄にするため不織布等の繊維材料を用いることがあるが、その繊維くずが試料ブロック20の表面に付着することもあり得る。そのような場合、非接触式センサであれば、当該異物を含めた厚みを検出してしまう。これに対して、接触式センサの場合、パラフィンくず等であれば、接触時に当該異物を試料ブロック20内にある程度押し込むことが可能であるため、異物による厚みを除外することが可能となる。従って、パラフィンを包理材として用いた試料ブロック20の面合わせをより一層正確に行うことができる。   In addition, according to the present embodiment, since the contact type sensors 2A, 2B, and 2C are in contact with the surface layer portion of the sample block 20, even if foreign matter adheres to the surface of the sample block 20, the sample is caused by the foreign matter. The possibility of erroneous detection of the height position of the block 20 can be suppressed. In the thin-section sample preparation device, it is conceivable that paraffin waste as an embedding material adheres to the surface of the sample block 20 as a foreign substance. Further, in order to clean the surface of the sample block, a fiber material such as a non-woven fabric may be used, but the fiber waste may adhere to the surface of the sample block 20. In such a case, if it is a non-contact type sensor, the thickness including the foreign matter will be detected. On the other hand, in the case of a contact-type sensor, it is possible to exclude the thickness due to the foreign matter because the foreign matter can be pushed into the sample block 20 to some extent at the time of contact with paraffin waste. Therefore, the surface alignment of the sample block 20 using paraffin as the embedding material can be performed more accurately.

なお、接触式センサ2A,2B,2Cが高さ位置を検出する3つの測定点20b,20c,20dは、試料ブロック20の外縁部20eよりも内側に位置していることが好ましい。試料ブロック20は、例えば、プラスチック製の型枠内に、被検体20aを配置した後、パラフィンを流し込むことにより作製される。この場合、作製された試料ブロック20から型枠を外す際に、図6に示すように、試料ブロック20の表面が内側に反る(凹む)ことが有り得る。この場合、試料ブロック20の外縁部20eのみを薄切りしても薄切片試料24としては使用することができないので、当該外縁部20eを薄切りする動作にかかる時間は無駄になる。前記特許文献1の方法では、試料ブロック20の外縁部20eの高さ位置しか検出することができないため、薄切片試料24の作製時間が長くなる。これに対し、3つの測定点20b,20c,20dを試料ブロック20の外縁部20eよりも内側に位置させることにより、外縁部20eを薄切りする動作にかかる時間を短縮することができる。   Note that the three measurement points 20b, 20c, and 20d at which the contact sensors 2A, 2B, and 2C detect the height position are preferably located on the inner side of the outer edge portion 20e of the sample block 20. The sample block 20 is produced, for example, by placing a subject 20a in a plastic mold and then pouring paraffin into it. In this case, when removing the mold from the manufactured sample block 20, the surface of the sample block 20 may be warped (recessed) inward as shown in FIG. In this case, even if only the outer edge portion 20e of the sample block 20 is sliced, it cannot be used as the thin-section sample 24. Therefore, the time taken to slice the outer edge portion 20e is wasted. In the method of Patent Document 1, since only the height position of the outer edge portion 20e of the sample block 20 can be detected, the preparation time of the thin slice sample 24 becomes long. On the other hand, by positioning the three measurement points 20b, 20c, and 20d on the inner side of the outer edge portion 20e of the sample block 20, it is possible to shorten the time required for the operation of slicing the outer edge portion 20e.

なお、試料ブロック20は、表面のサイズが24mm×24mm、24mm×30mm、24mm×37mmであるものが一般的である。このため、測定点20b,20c,20dの間隔は、24mm未満であることが好ましい。   In general, the sample block 20 has a surface size of 24 mm × 24 mm, 24 mm × 30 mm, and 24 mm × 37 mm. For this reason, it is preferable that the space | interval of the measurement points 20b, 20c, and 20d is less than 24 mm.

また、試料ブロック20は、表面のサイズが15mm×15mmのものも存在する。この場合、測定点20b,20c,20dの間隔は、15mm未満であることが好ましい。と考えられる。但し、測定点20b,20c,20dの間隔が狭くなればなる程、試料ブロック20の表層部分のXY平面に対する傾斜角度を検出することが困難になる。また、図6では、試料ブロック20の表面の凹部の底部が平坦であるように示したが、当該底部が円弧状であることも有り得る。このため、高さ検出部2は、図7に示すように、試料ブロックの大略中心に位置する第4の測定点20fに接触して当該測定点20fの高さ位置を検出可能な第4の接触式センサ2Dを備えてもよい。これにより、試料ブロック20の表面の凹部の最下点近傍の高さ位置を検出することが可能になり、薄切片試料24の作製時間をより短縮することができる。   The sample block 20 also has a surface size of 15 mm × 15 mm. In this case, the interval between the measurement points 20b, 20c, and 20d is preferably less than 15 mm. it is conceivable that. However, as the distance between the measurement points 20b, 20c, and 20d becomes narrower, it becomes more difficult to detect the inclination angle of the surface layer portion of the sample block 20 with respect to the XY plane. In FIG. 6, the bottom of the concave portion on the surface of the sample block 20 is shown to be flat, but the bottom may be arcuate. For this reason, as shown in FIG. 7, the height detection unit 2 is in contact with the fourth measurement point 20f located approximately at the center of the sample block and can detect the height position of the measurement point 20f. A contact sensor 2D may be provided. This makes it possible to detect the height position in the vicinity of the lowest point of the concave portion on the surface of the sample block 20, thereby further shortening the production time of the thin slice sample 24.

また、第4の測定点20fは、前記試料ブロック20の中心に位置させることが好ましい。これにより、より一層、試料ブロック20の表面の凹部の最下点近傍の高さ位置を検出することが可能になり、薄切片試料24の作製時間をより一層短縮することができる。   The fourth measurement point 20f is preferably positioned at the center of the sample block 20. As a result, the height position near the lowest point of the concave portion on the surface of the sample block 20 can be detected, and the production time of the thin-section sample 24 can be further shortened.

また、試料ブロック20の大略中心に第4の測定点20fを位置させることで、次のような効果がある。例えば、試料ブロック20が非常小さい場合、3つの接触式センサ2A,2B,2Cが当該試料ブロック20に接触できず、装置がエラー状態になり停止してしまうおそれがある。これに対して、試料ブロック20の大略中心に位置する第4の測定点20fに接触可能な第4の接触式センサ2Dを設けることで、少なくとも当該接触式センサ2Dが試料ブロック20と接触することができる。これにより、試料ブロック20の高さ位置の調整が可能となる。また、エラー状態になることなく、連続運転状態を保ち続けることができる。特に、終夜運転等の連続自動運転時には、当該第4の接触式センサ2Dを設けることが有効である。   In addition, by positioning the fourth measurement point 20f approximately at the center of the sample block 20, the following effects can be obtained. For example, when the sample block 20 is very small, the three contact sensors 2A, 2B, 2C cannot contact the sample block 20, and the apparatus may enter an error state and stop. On the other hand, at least the contact sensor 2D comes into contact with the sample block 20 by providing the fourth contact sensor 2D that can come into contact with the fourth measurement point 20f located approximately at the center of the sample block 20. Can do. Thereby, the height position of the sample block 20 can be adjusted. In addition, the continuous operation state can be maintained without entering an error state. In particular, it is effective to provide the fourth contact sensor 2D during continuous automatic operation such as overnight operation.

本発明にかかる薄切片試料作製装置は、試料ブロックの面合わせをより一層正確に行うことができるので、理化学試料分析や生体試料等の顕微鏡観察などに利用される薄切片試料作製装置として有用である。   Since the thin-section sample preparation device according to the present invention can perform the surface alignment of the sample block more accurately, the thin-section sample preparation device is useful as a thin-section sample preparation device used for physicochemical sample analysis or microscopic observation of biological samples. is there.

1 試料ブロック搬送部
2 高さ検出部
2A〜2D 接触式センサ
3 撮像部
4 試料ブロック切削部
5 供給リール
6 巻取リール
7 薄切片貼付部
8 スライドガラス搬送部
9 伸展部
10 制御部
20 試料ブロック
21 キャリアテープ
22 スライドガラス
23 接着液
24 薄切片試料
30 試料ブロック収納部
41 カッター
51 繰り出しモータ
61 巻取モータ
71,72,81〜84 ガイドローラ
100 薄切片試料作製装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Sample block conveyance part 2 Height detection part 2A-2D Contact type sensor 3 Imaging part 4 Sample block cutting part 5 Supply reel 6 Take-up reel 7 Thin section sticking part 8 Slide glass conveyance part 9 Extending part 10 Control part 20 Sample block DESCRIPTION OF SYMBOLS 21 Carrier tape 22 Glass slide 23 Adhesive liquid 24 Thin section sample 30 Sample block storage part 41 Cutter 51 Feeding motor 61 Take-up motor 71,72,81-84 Guide roller 100 Thin section sample preparation apparatus

Claims (4)

試料ブロックの表層部分をカッターにより薄切りして薄切片試料を作製する薄切片試料作製装置であって、
前記カッターを備える試料ブロック切削部と、
前記試料ブロックのXY直交2軸方向に対する傾斜角度及びZ軸方向の高さ位置を調整可能に構成され、前記試料ブロックをX軸方向に搬送する試料ブロック搬送部と、
前記試料ブロックの高さ位置を検出する高さ検出部と、
前記高さ検出部の検出情報に基づいて前記試料ブロックの前記傾斜角度及び前記高さ位置を調整する制御部と、
を備え、
前記高さ検出部は、前記試料ブロックの表層部分に対して同一直線上にない少なくとも3つの測定点に接触して当該少なくとも3つの測定点の高さ位置を検出可能な少なくとも3つの接触式センサを備えている、
薄切片試料作製装置。
A thin-section sample preparation device for preparing a thin-section sample by slicing a surface layer portion of a sample block with a cutter,
A sample block cutting section comprising the cutter;
A sample block transport unit configured to adjust an inclination angle of the sample block with respect to an XY orthogonal two-axis direction and a height position in the Z-axis direction, and transports the sample block in the X-axis direction;
A height detector for detecting a height position of the sample block;
A control unit for adjusting the tilt angle and the height position of the sample block based on detection information of the height detection unit;
With
The height detection unit is configured to contact at least three measurement points that are not collinear with the surface layer portion of the sample block, and detect at least three contact points to detect the height positions of the at least three measurement points. With
Thin section sample preparation device.
前記3つの測定点は、前記試料ブロックの外縁部よりも内側に位置している、請求項1に記載の薄切片試料作製装置。   The thin-section sample preparation device according to claim 1, wherein the three measurement points are located inside an outer edge portion of the sample block. 前記高さ検出部は、前記試料ブロックの中心に位置する第4の測定点に接触して当該第4の測定点の高さ位置を検出可能な第4の接触式センサを更に備える、請求項1又は2に記載の薄切片試料作製装置。   The said height detection part is further provided with the 4th contact-type sensor which can contact the 4th measurement point located in the center of the said sample block, and can detect the height position of the said 4th measurement point. The thin-section sample preparation apparatus according to 1 or 2. 前記制御部は、前記試料ブロックの前記傾斜角度を調整した後、再度前記高さ検出部に前記試料ブロックの高さ位置を検出させ、当該高さ検出部の検出情報に基づいて前記試料ブロック搬送部を制御し前記試料ブロックの前記傾斜角度を再調整し、さらに前記高さ検出部に前記試料ブロックの高さ位置を検出させ、前記試料ブロックの高さ位置を調整する、請求項1〜3のいずれか1つに記載の薄切片試料作製装置。   The control unit adjusts the inclination angle of the sample block, and then causes the height detection unit to detect the height position of the sample block again, and transports the sample block based on detection information of the height detection unit. A control unit to readjust the inclination angle of the sample block, and further to cause the height detection unit to detect the height position of the sample block, thereby adjusting the height position of the sample block. The thin-section sample preparation device according to any one of the above.
JP2011098491A 2011-04-26 2011-04-26 Thin-sliced sample fabrication device Pending JP2012229996A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011098491A JP2012229996A (en) 2011-04-26 2011-04-26 Thin-sliced sample fabrication device
PCT/JP2012/061082 WO2012147789A1 (en) 2011-04-26 2012-04-25 Device for fabricating thin section sample

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011098491A JP2012229996A (en) 2011-04-26 2011-04-26 Thin-sliced sample fabrication device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012229996A true JP2012229996A (en) 2012-11-22

Family

ID=47072307

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011098491A Pending JP2012229996A (en) 2011-04-26 2011-04-26 Thin-sliced sample fabrication device

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2012229996A (en)
WO (1) WO2012147789A1 (en)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59155511U (en) * 1983-04-05 1984-10-18 株式会社三幸製作所 Workpiece grinding surface run-out inspection device
JP2002039741A (en) * 2000-07-19 2002-02-06 Komai Tekko Inc Method and instrument for measuring unevenness of body surface
JP2008020293A (en) * 2006-07-12 2008-01-31 Seiko Instruments Inc Slice manufacturing apparatus and slice manufacturing method
JP2008076251A (en) * 2006-09-21 2008-04-03 Kurabo Ind Ltd Surface developing method for sample block
JP2008076250A (en) * 2006-09-21 2008-04-03 Kurabo Ind Ltd Slice piece sample preparing method and slice piece sample preparing apparatus
JP2008134127A (en) * 2006-11-28 2008-06-12 Seiko Instruments Inc Automatic slicing apparatus and method

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59155511U (en) * 1983-04-05 1984-10-18 株式会社三幸製作所 Workpiece grinding surface run-out inspection device
JP2002039741A (en) * 2000-07-19 2002-02-06 Komai Tekko Inc Method and instrument for measuring unevenness of body surface
JP2008020293A (en) * 2006-07-12 2008-01-31 Seiko Instruments Inc Slice manufacturing apparatus and slice manufacturing method
JP2008076251A (en) * 2006-09-21 2008-04-03 Kurabo Ind Ltd Surface developing method for sample block
JP2008076250A (en) * 2006-09-21 2008-04-03 Kurabo Ind Ltd Slice piece sample preparing method and slice piece sample preparing apparatus
JP2008134127A (en) * 2006-11-28 2008-06-12 Seiko Instruments Inc Automatic slicing apparatus and method

Also Published As

Publication number Publication date
WO2012147789A1 (en) 2012-11-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2012147790A1 (en) Device for fabricating thin section sample
JP5766004B2 (en) Thin section sample preparation device and thin section sample preparation method
JP4636552B2 (en) Automatic slicer
JP4503692B1 (en) Information storage / read operation system and method for manufacturing information storage / read operation system used in apparatus for continuously manufacturing liquid crystal display elements
JP4795181B2 (en) Sample block surface placement method
JP4769178B2 (en) Inspection device and sheet sticking device
JP4854442B2 (en) Thin section sample preparation method and apparatus
US20070193671A1 (en) Method for affixing adhesive tape to semiconductor wafer, and apparatus using the same
WO2012147787A1 (en) Thin section sample preparation device
JP4666504B2 (en) Automatic slicing device, automatic thin section specimen preparation device and automatic slicing method
JP2012194509A (en) System for continuously manufacturing liquid crystal display panel, method for continuously manufacturing liquid crystal display panel, inspection device, and inspection method
WO2015046202A1 (en) Sliced-sample production device and sliced-sample production method
WO2012147789A1 (en) Device for fabricating thin section sample
JP2010023233A (en) Device and method for mating face azimuth of single crystal material
JP4817320B2 (en) Thin section specimen preparation device and thin section specimen preparation method
KR102671826B1 (en) Inspection device, plate-shaped product manufacturing device, inspection method, plate-shaped product manufacturing method
JP4683425B2 (en) Automatic thin section preparation apparatus, automatic thin section preparation apparatus, and automatic thin section preparation method
JP6245552B2 (en) Thin section manufacturing apparatus and thin section manufacturing method
JP6476123B2 (en) Thin section sample preparation device and thin section sample preparation method
TW201135212A (en) Inspection method and device for cracks on rectangular sheet-like object
JP2016176842A (en) Thin slice sample preparation device
JP4148273B2 (en) Crystal orientation measuring method and crystal orientation measuring apparatus
JP2016186958A (en) Dicing device and dicing method by dicing device
JP2010185818A (en) System for making thin slice
JP2011166172A (en) Inspection device, and sheet pasting device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20150303

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150804