JP2012221524A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device Download PDF

Info

Publication number
JP2012221524A
JP2012221524A JP2011085412A JP2011085412A JP2012221524A JP 2012221524 A JP2012221524 A JP 2012221524A JP 2011085412 A JP2011085412 A JP 2011085412A JP 2011085412 A JP2011085412 A JP 2011085412A JP 2012221524 A JP2012221524 A JP 2012221524A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit lines
replica
replica bit
memory device
semiconductor memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2011085412A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kaoru Yoshida
薫 吉田
Kan Shimono
完 下野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Solutions Technology Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi ULSI Systems Co Ltd filed Critical Hitachi ULSI Systems Co Ltd
Priority to JP2011085412A priority Critical patent/JP2012221524A/en
Publication of JP2012221524A publication Critical patent/JP2012221524A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor storage device capable of reducing the amount of delay variation and excellently tracking delay on a bit line.SOLUTION: An SRAM comprises: a plurality of replica bit lines rplbt [0] to [p], which are arranged in a column direction; a plurality of replica memory cells RPLCELL which are respectively connected to the replica bit lines; and a plurality of inverters INV [0] to [p] which are respectively connected to the replica bit lines. The replica bit lines are mutually connected in common, the input terminals of the inverters are respectively connected to the replica bit lines, and the output terminals of the inverters are mutually connected in common, so that a sense amplifier enable signal is generated. The sense amplifier enable signal is supplied to sense amplifiers and thereby read signals of bit lines are amplified by the sense amplifiers, so that read data is generated from the output terminals of the sense amplifiers.

Description

本発明は、半導体記憶装置の技術に関し、特に、センスアンプイネーブル信号の生成タイミングにレプリカ・ビット線の遅延を利用する半導体記憶装置に適用して有効な技術に関する。   The present invention relates to a technology of a semiconductor memory device, and more particularly to a technology effective when applied to a semiconductor memory device that uses a delay of a replica bit line for generation timing of a sense amplifier enable signal.

近年、半導体記憶装置の技術においては、センスアンプイネーブル信号の生成タイミングにレプリカ・ビット線の遅延を利用することが一般的となっている。この技術では、一つのレプリカ・ビット線を利用し、ビット線の遅延を良好に追跡する機能を持つ回路がある。このような技術では、メモリを大容量化した場合、レプリカ・ビット線の遅延変動量が大きいという問題がある。この変動量の軽減を考えた技術として、例えば特許文献1に記載される技術が挙げられる。   In recent years, in the technology of a semiconductor memory device, it is common to use a replica bit line delay for the generation timing of a sense amplifier enable signal. In this technique, there is a circuit that uses a single replica bit line and has a function of well tracking the delay of the bit line. In such a technique, there is a problem that when the memory capacity is increased, the delay fluctuation amount of the replica bit line is large. As a technique considering the reduction of the fluctuation amount, for example, a technique described in Patent Document 1 is cited.

上記特許文献1の技術は、一つのレプリカ・ビット線を行方向(ワード線方向)に分割し、分割された各レプリカ・ビット線の遅延量を軽減することで、分割された各レプリカ・ビット線の遅延変動量の軽減を図るものである。従って、各レプリカ・ビット線の軽減された遅延変動と、レプリカ・ビット線の遅延を受けるインバータの論理しきい値のローカル変動によるセンスアンプイネーブル信号の生成タイミングの変動を軽減することができる技術である。   The technique of the above-mentioned patent document 1 divides one replica bit line in the row direction (word line direction) and reduces the delay amount of each divided replica bit line, thereby dividing each replica bit line. This is intended to reduce the delay fluctuation amount of the line. Therefore, it is a technology that can reduce the variation in the timing of generating the sense amplifier enable signal due to the reduced delay variation of each replica bit line and the local variation of the logic threshold value of the inverter that receives the delay of the replica bit line. is there.

特開2010−165415号公報JP 2010-165415 A

ところで、前述したようなセンスアンプイネーブル信号の生成タイミングにレプリカ・ビット線の遅延を利用する技術において、ビット線の遅延を良好に追跡するためには、レプリカ・ビット線の遅延のみを利用した方が良い。しかし、一つのレプリカ・ビット線を分割し、インバータで接続する上記特許文献1の技術では、必要としているレプリカ・ビット線の遅延に、接続用のインバータ遅延が混在することになり、ビット線の遅延を良好に追跡する機能が損なわれてしまうことが考えられる。また、分割できる数にも限界があるため、遅延変動量を軽減する効果にも限界がある。   By the way, in the technique of using the replica bit line delay for the generation timing of the sense amplifier enable signal as described above, in order to track the bit line delay well, only the replica bit line delay is used. Is good. However, in the technique of Patent Document 1 in which one replica bit line is divided and connected by an inverter, the required inverter bit delay is mixed with the required replica bit line delay. It is conceivable that the ability to track the delay well is impaired. In addition, since the number that can be divided is limited, the effect of reducing the delay fluctuation amount is also limited.

そこで、本発明は上記のような課題に鑑みてなされたものであり、その代表的な目的は、遅延変動量を軽減し、ビット線の遅延を良好に追跡することができる半導体記憶装置を提供することにある。   Accordingly, the present invention has been made in view of the above-described problems, and a typical object thereof is to provide a semiconductor memory device capable of reducing the amount of delay variation and tracking the bit line delay satisfactorily. There is to do.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。   Of the inventions disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

すなわち、代表的な半導体記憶装置は、行方向に配置された複数のワード線と、列方向に配置された複数のビット線と、前記複数のワード線と前記複数のビット線とにそれぞれ接続された複数の通常・メモリセルと、アドレス信号に応答して前記複数のワード線の任意の1つのワード線を選択することが可能なアクセス制御回路と、前記複数のビット線にそれぞれ接続された複数のセンスアンプとを有する半導体記憶装置であって、更に以下の構成要素を有することを特徴とするものである。   That is, a typical semiconductor memory device is connected to a plurality of word lines arranged in the row direction, a plurality of bit lines arranged in the column direction, and the plurality of word lines and the plurality of bit lines, respectively. A plurality of normal memory cells; an access control circuit capable of selecting any one word line of the plurality of word lines in response to an address signal; and a plurality connected to the plurality of bit lines, respectively. And a sense storage amplifier having the following components.

第1の半導体記憶装置においては、列方向に配置された複数のレプリカ・ビット線と、前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のレプリカ・メモリセルと、前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のインバータとを有する。更に、前記複数のレプリカ・ビット線同士は共通に接続され、前記複数のインバータの入力端子は前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続され、前記複数のインバータの出力端子同士は共通に接続されてセンスアンプイネーブル信号が生成される。そして、前記センスアンプイネーブル信号が前記複数のセンスアンプに供給されることによって、前記複数のビット線の複数の読み出し信号が前記複数のセンスアンプにより増幅され、前記複数のセンスアンプの複数の出力端子から複数の読み出しデータが生成されることを特徴とする。   In the first semiconductor memory device, a plurality of replica bit lines arranged in a column direction, a plurality of replica memory cells respectively connected to the plurality of replica bit lines, and the plurality of replica bit lines And a plurality of inverters connected to each other. Further, the plurality of replica bit lines are connected in common, the input terminals of the plurality of inverters are connected to the plurality of replica bit lines, respectively, and the output terminals of the plurality of inverters are connected in common. A sense amplifier enable signal is generated. The sense amplifier enable signal is supplied to the plurality of sense amplifiers, so that the plurality of read signals of the plurality of bit lines are amplified by the plurality of sense amplifiers, and the plurality of output terminals of the plurality of sense amplifiers A plurality of read data is generated from the data.

第2の半導体記憶装置においては、列方向に配置された複数のレプリカ・ビット線と、前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のレプリカ・メモリセルと、前記複数のレプリカ・ビット線に共通に接続された1つのインバータとを有する。更に、前記複数のレプリカ・ビット線同士は共通に接続され、前記1つのインバータの入力端子は前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続され、前記1つのインバータの出力端子からセンスアンプイネーブル信号が生成される。そして、前記センスアンプイネーブル信号が前記複数のセンスアンプに供給されることによって、前記複数のビット線の複数の読み出し信号が前記複数のセンスアンプにより増幅され、前記複数のセンスアンプの複数の出力端子から複数の読み出しデータが生成されることを特徴とする。   In the second semiconductor memory device, a plurality of replica bit lines arranged in a column direction, a plurality of replica memory cells respectively connected to the plurality of replica bit lines, and the plurality of replica bit lines And one inverter connected in common. Further, the plurality of replica bit lines are connected in common, the input terminal of the one inverter is connected to the plurality of replica bit lines, and a sense amplifier enable signal is generated from the output terminal of the one inverter. Is done. The sense amplifier enable signal is supplied to the plurality of sense amplifiers, so that the plurality of read signals of the plurality of bit lines are amplified by the plurality of sense amplifiers, and the plurality of output terminals of the plurality of sense amplifiers A plurality of read data is generated from the data.

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。   Among the inventions disclosed in the present application, effects obtained by typical ones will be briefly described as follows.

すなわち、代表的な効果は、遅延変動量を軽減し、ビット線の遅延を良好に追跡することができる半導体記憶装置を提供することが可能となる。   That is, a typical effect is that it is possible to provide a semiconductor memory device that can reduce the amount of delay variation and can well track the delay of the bit line.

従来技術のレプリカ・ビット線を一つ利用したSRAMの構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of SRAM using one replica bit line of a prior art. 本発明の実施の形態のレプリカ・ビット線を複数利用したSRAMの構成の一例を示す図である。1 is a diagram showing an example of a configuration of an SRAM using a plurality of replica bit lines according to an embodiment of the present invention. FIG. 図2に示すSRAMの各部の波形の一例を示す図である。FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a waveform of each part of the SRAM illustrated in FIG. 2. (a)は図1に示すSRAM、(b)は図2に示すSRAM、それぞれのレプリカ・ビット線の遅延変動とインバータの論理しきい値のローカル変動とによるセンスアンプイネーブル信号の生成タイミングの変動の様子を示す図である。(A) is the SRAM shown in FIG. 1, and (b) is the SRAM shown in FIG. 2, the variation in the generation timing of the sense amplifier enable signal due to the delay variation of each replica bit line and the local variation of the logic threshold value of the inverter. FIG. 本発明の実施の形態のレプリカ・ビット線を複数利用したSRAMの構成の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the structure of SRAM which utilized multiple replica bit lines of embodiment of this invention.

以下の実施の形態においては、便宜上その必要があるときは、複数の実施の形態またはセクションに分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらは互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。また、以下の実施の形態において、要素の数等(個数、数値、量、範囲等を含む)に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良い。   In the following embodiments, when it is necessary for the sake of convenience, the description will be divided into a plurality of embodiments or sections. However, unless otherwise specified, they are not irrelevant and one is the other. There are some or all of the modifications, details, supplementary explanations, and the like. Further, in the following embodiments, when referring to the number of elements (including the number, numerical value, quantity, range, etc.), especially when clearly indicated and when clearly limited to a specific number in principle, etc. Except, it is not limited to the specific number, and may be more or less than the specific number.

更に、以下の実施の形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。   Further, in the following embodiments, the constituent elements (including element steps and the like) are not necessarily indispensable unless otherwise specified and apparently indispensable in principle. Needless to say. Similarly, in the following embodiments, when referring to the shapes, positional relationships, etc. of the components, etc., the shapes are substantially the same unless otherwise specified, or otherwise apparent in principle. And the like are included. The same applies to the above numerical values and ranges.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一の部材には原則として同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In all the drawings for explaining the embodiments, the same members are denoted by the same reference numerals as, the repetitive description thereof will be omitted.

<本発明の実施の形態の概要>
本発明の実施の形態の半導体記憶装置は、行方向に配置された複数のワード線(wl)と、列方向に配置された複数のビット線(bt,bb)と、前記複数のワード線と前記複数のビット線とにそれぞれ接続された複数の通常・メモリセル(MEMCELL)と、アドレス信号に応答して前記複数のワード線の任意の1つのワード線を選択することが可能なアクセス制御回路(WD,CTRL)と、前記複数のビット線にそれぞれ接続された複数のセンスアンプ(SA)とを有する半導体記憶装置であって、更に以下の構成要素を有することを特徴とするものである。
<Outline of Embodiment of the Present Invention>
A semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention includes a plurality of word lines (wl) arranged in a row direction, a plurality of bit lines (bt, bb) arranged in a column direction, and the plurality of word lines. A plurality of normal memory cells (MEMCELL) respectively connected to the plurality of bit lines, and an access control circuit capable of selecting any one word line of the plurality of word lines in response to an address signal A semiconductor memory device having (WD, CTRL) and a plurality of sense amplifiers (SA) respectively connected to the plurality of bit lines, further comprising the following components.

第1の半導体記憶装置においては、列方向に配置された複数のレプリカ・ビット線(rplbt)と、前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のレプリカ・メモリセル(RPLCELL)と、前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のインバータ(INV)とを有する。更に、前記複数のレプリカ・ビット線同士は共通に接続され、前記複数のインバータの入力端子は前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続され、前記複数のインバータの出力端子同士は共通に接続されてセンスアンプイネーブル信号が生成される。そして、前記センスアンプイネーブル信号が前記複数のセンスアンプに供給されることによって、前記複数のビット線の複数の読み出し信号が前記複数のセンスアンプにより増幅され、前記複数のセンスアンプの複数の出力端子から複数の読み出しデータが生成されることを特徴とする。更に好適には、前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のプリチャージトランジスタ(PCH)、前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のダミー・メモリセル(DMYCELL)を有することを特徴とする。この第1の半導体記憶装置については、後述する図2などに基づいて説明するSRAMに対応する。   In the first semiconductor memory device, a plurality of replica bit lines (rplbt) arranged in a column direction, a plurality of replica memory cells (RPLCELL) respectively connected to the plurality of replica bit lines, And a plurality of inverters (INV) respectively connected to the plurality of replica bit lines. Further, the plurality of replica bit lines are connected in common, the input terminals of the plurality of inverters are connected to the plurality of replica bit lines, respectively, and the output terminals of the plurality of inverters are connected in common. A sense amplifier enable signal is generated. The sense amplifier enable signal is supplied to the plurality of sense amplifiers, so that the plurality of read signals of the plurality of bit lines are amplified by the plurality of sense amplifiers, and the plurality of output terminals of the plurality of sense amplifiers A plurality of read data is generated from the data. More preferably, it has a plurality of precharge transistors (PCH) respectively connected to the plurality of replica bit lines and a plurality of dummy memory cells (DMYCELL) respectively connected to the plurality of replica bit lines. It is characterized by. The first semiconductor memory device corresponds to an SRAM described with reference to FIG.

第2の半導体記憶装置においては、列方向に配置された複数のレプリカ・ビット線(rplbt)と、前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のレプリカ・メモリセル(RPLCELL)と、前記複数のレプリカ・ビット線に共通に接続された1つのインバータ(INV)とを有する。更に、前記複数のレプリカ・ビット線同士は共通に接続され、前記1つのインバータの入力端子は前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続され、前記1つのインバータの出力端子からセンスアンプイネーブル信号が生成される。そして、前記センスアンプイネーブル信号が前記複数のセンスアンプに供給されることによって、前記複数のビット線の複数の読み出し信号が前記複数のセンスアンプにより増幅され、前記複数のセンスアンプの複数の出力端子から複数の読み出しデータが生成されることを特徴とする。更に好適には、前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のプリチャージトランジスタ(PCH)、前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のダミー・メモリセル(DMYCELL)を有することを特徴とする。この第2の半導体記憶装置については、後述する図5などに基づいて説明するSRAMに対応する。   In the second semiconductor memory device, a plurality of replica bit lines (rplbt) arranged in a column direction, a plurality of replica memory cells (RPLCELL) respectively connected to the plurality of replica bit lines, And an inverter (INV) commonly connected to a plurality of replica bit lines. Further, the plurality of replica bit lines are connected in common, the input terminal of the one inverter is connected to the plurality of replica bit lines, and a sense amplifier enable signal is generated from the output terminal of the one inverter. Is done. The sense amplifier enable signal is supplied to the plurality of sense amplifiers, so that the plurality of read signals of the plurality of bit lines are amplified by the plurality of sense amplifiers, and the plurality of output terminals of the plurality of sense amplifiers A plurality of read data is generated from the data. More preferably, it has a plurality of precharge transistors (PCH) respectively connected to the plurality of replica bit lines and a plurality of dummy memory cells (DMYCELL) respectively connected to the plurality of replica bit lines. It is characterized by. The second semiconductor memory device corresponds to an SRAM described with reference to FIG.

以上説明した本発明の実施の形態の概要に基づいた実施の形態を、以下において具体的に説明する。以下に説明する実施の形態は本発明を用いた一例であり、本発明は以下の実施の形態により限定されるものではない。   The embodiment based on the outline of the embodiment of the present invention described above will be specifically described below. The embodiment described below is an example using the present invention, and the present invention is not limited to the following embodiment.

また、以下においては、本発明の実施の形態の特徴を分かり易くするために、従来技術と比較して説明する。   In the following, in order to make the features of the embodiments of the present invention easier to understand, the description will be made in comparison with the prior art.

<従来技術のレプリカ・ビット線を一つ利用した例>
従来技術のレプリカ・ビット線を一つ利用した例を、図1,図4(a)を用いて説明する。
<Example of using one conventional replica bit line>
An example in which one conventional replica bit line is used will be described with reference to FIGS.

<<SRAMの構成>>
図1は、従来技術のレプリカ・ビット線を一つ利用したSRAMの構成の一例を示す図である。
<< Configuration of SRAM >>
FIG. 1 is a diagram showing an example of the configuration of an SRAM using one conventional replica bit line.

図1に示したSRAMは、ワードドライバWDと、デコード制御回路CTRLと、レプリカ・ワード線rplwlと、複数(j個)のレプリカ・メモリセルRPLCELLと、レプリカ・ビット線rplbtと、複数(k個)のダミー・メモリセルDMYCELLと、プリチャージトランジスタPCHと、インバータINVと、バッファBUFとを含んでいる。   The SRAM shown in FIG. 1 includes a word driver WD, a decode control circuit CTRL, a replica word line rplwl, a plurality (j) of replica memory cells RPLCELL, a replica bit line rplbt, and a plurality (k). ) Dummy memory cell DMYCELL, a precharge transistor PCH, an inverter INV, and a buffer BUF.

更に、図1に示したSRAMは、複数のワード線wl[0]〜[n]と、複数のビット線・反転ビット線対bt[0],bb[0]〜bt[m],bb[m]と、複数((n+1)×(m+1)個)のSRAM・メモリセルMEMCELLと、複数(m+1個)のセンスアンプSAとを含んでいる。   Further, the SRAM shown in FIG. 1 includes a plurality of word lines wl [0] to [n] and a plurality of bit line / inverted bit line pairs bt [0], bb [0] to bt [m], bb [ m], a plurality ((n + 1) × (m + 1)) SRAM / memory cells MEMCELL, and a plurality (m + 1) sense amplifiers SA.

図1に示すSRAMでは、レプリカ・ビット線rplbtを構成する各回路、及びレプリカ・ビット線rplbtを受けるインバータINVを、一つのレプリカ回路ブロックRPLBLKと見なす。   In the SRAM shown in FIG. 1, each circuit constituting the replica bit line rplbt and the inverter INV receiving the replica bit line rplbt are regarded as one replica circuit block RPLBLK.

デコード制御回路CTRLにはクロック信号CLKとアドレス信号a[0]〜[h]とが供給されることによって、デコード制御回路CTRLからワードドライバWDにデコーダ信号dec[0]〜[i]が供給され、デコード制御回路CTRLからプリチャージトランジスタPCHと複数のレプリカ・メモリセルRPLCELLとにレプリカ・ワード線rplwlの信号が供給される。   By supplying the clock signal CLK and the address signals a [0] to [h] to the decode control circuit CTRL, the decoder signals dec [0] to [i] are supplied from the decode control circuit CTRL to the word driver WD. The signal of the replica word line rplwl is supplied from the decode control circuit CTRL to the precharge transistor PCH and the plurality of replica memory cells RPLCELL.

プリチャージトランジスタPCHとしてのPチャンネルMOSトランジスタのソースは電源電圧VDDに接続される一方、このPチャンネルMOSトランジスタのドレインはレプリカ・ビット線rplbtに接続されている。このレプリカ・ビット線rplbtは、複数のダミー・メモリセルDMYCELLと複数のレプリカ・メモリセルRPLCELLとインバータINVの入力端子とに接続される。   The source of the P channel MOS transistor as the precharge transistor PCH is connected to the power supply voltage VDD, while the drain of the P channel MOS transistor is connected to the replica bit line rplbt. The replica bit line rplbt is connected to a plurality of dummy memory cells DMYCELL, a plurality of replica memory cells RPLCELL, and an input terminal of the inverter INV.

インバータINVの出力端子から生成される反転レプリカ・ビット線rplbtnの信号はデコード制御回路CTRLとバッファBUFの入力端子とに供給され、バッファBUFの出力端子からセンスアンプイネーブル信号saeが生成され、複数のセンスアンプSAに供給される。   The signal of the inverted replica bit line rplbtn generated from the output terminal of the inverter INV is supplied to the decode control circuit CTRL and the input terminal of the buffer BUF, and the sense amplifier enable signal sae is generated from the output terminal of the buffer BUF. Supplied to the sense amplifier SA.

複数のビット線・反転ビット線対bt[0],bb[0]〜bt[m],bb[m]からのSRAMセル読み出し信号が複数のセンスアンプSAの差動入力端子に供給されることによって、複数のセンスアンプSAの出力端子から読み出しデータq[0]〜[m]が生成される。   SRAM cell read signals from a plurality of bit line / inverted bit line pairs bt [0], bb [0] to bt [m], bb [m] are supplied to differential input terminals of the plurality of sense amplifiers SA. Thus, read data q [0] to [m] are generated from the output terminals of the plurality of sense amplifiers SA.

このSRAMでは、レプリカ・メモリセルRPLCELLの数(j個)の増減によって、レプリカ・ビット線rplbtのプリチャージ電荷の接地電位GNDへの放電速度が増減されて、センスアンプイネーブル信号saeの電位の立ち上がりタイミングの調整が可能となる。   In this SRAM, by increasing or decreasing the number (j) of replica memory cells RPLCELL, the discharge rate of the precharge charge of the replica bit line rplbt to the ground potential GND is increased or decreased, and the potential of the sense amplifier enable signal sae rises. The timing can be adjusted.

よって、上記図1のレプリカ・ビット線rplbtを一つ利用したSRAMにおいて、このレプリカ・ビット線rplbtを使用するセンスアンプイネーブル信号saeのセルフ・タイミングの設定技術を採用することによって、半導体製造プロセスのローカル遅延変動による内蔵SRAMのビット線の遅延追跡を実現することが可能である。   Therefore, in the SRAM using one replica bit line rplbt in FIG. 1, by adopting a self-timing setting technique of the sense amplifier enable signal sae using this replica bit line rplbt, It is possible to realize the delay tracking of the bit line of the built-in SRAM by the local delay variation.

<<従来技術のレプリカ回路ブロックの遅延変動量>>
しかし、図1に説明した従来技術のレプリカ・ビット線rplbtを一つ利用したSRAMでのセンスアンプイネーブル信号saeのセルフ・タイミングの設定技術は、下記のような問題を有することが明らかとなった。
<< Delay Variation of Conventional Replica Circuit Block >>
However, it has been clarified that the technology for setting the self-timing of the sense amplifier enable signal sae in the SRAM using one replica bit line rplbt of the prior art described in FIG. 1 has the following problems. .

それは、SoC(システムオンチップ)に内蔵される内蔵メモリの記憶容量の大容量化によるワード数の増加によってレプリカ・ビット線rplbtの遅延が大きくなる場合に、問題が発生するものである。すなわち、記憶容量の大容量化によるワード数の増加によってレプリカ・ビット線rplbtの遅延が大きくなると、レプリカ・ビット線rplbtのプリチャージ電荷を接地電位GNDへ放電する複数(j個)のレプリカ・メモリセルRPLCELLのローカル変動によるセル電流の変動によってレプリカ・ビット線rplbtの遅延変動が増大する。また更に、記憶容量の大容量化によって、レプリカ・ビット線rplbtの信号が供給されるインバータINVの論理しきい値のローカル変動が増大する。その結果、レプリカ・ビット線rplbtの遅延変動とインバータINVの論理しきい値のローカル変動によって、センスアンプイネーブル信号saeの生成タイミング(立ち上がりタイミング)の変動が増大すると言う問題が明らかとされた。この変動は、センスアンプSAの出力端子でのデータの読み出しの失敗の原因となる。   The problem arises when the delay of the replica bit line rplbt becomes large due to the increase in the number of words due to the increase in the storage capacity of the built-in memory built in the SoC (system on chip). That is, when the delay of the replica bit line rplbt increases due to an increase in the number of words due to an increase in storage capacity, a plurality (j) of replica memories that discharge the precharge charge of the replica bit line rplbt to the ground potential GND. The delay variation of the replica bit line rplbt increases due to the variation of the cell current due to the local variation of the cell RPLCELL. Furthermore, as the storage capacity increases, the local variation of the logic threshold value of the inverter INV to which the signal of the replica bit line rplbt is supplied increases. As a result, it has been clarified that the variation of the generation timing (rise timing) of the sense amplifier enable signal sae increases due to the delay variation of the replica bit line rplbt and the local variation of the logic threshold value of the inverter INV. This variation causes a failure in reading data at the output terminal of the sense amplifier SA.

図4(a)は、図1に説明した従来技術のレプリカ・ビット線rplbtを一つ利用したSRAMのレプリカ・ビット線rplbtの遅延変動とインバータINVの論理しきい値のローカル変動とによるセンスアンプイネーブル信号saeの生成タイミング(立ち上がりタイミング)の変動の様子を示す図である。   FIG. 4A shows a sense amplifier based on the delay variation of the SRAM replica bit line rplbt and the local variation of the logic threshold value of the inverter INV using one replica bit line rplbt of the prior art described in FIG. It is a figure which shows the mode of the fluctuation | variation of the production | generation timing (rise timing) of the enable signal sae.

図4(a)の例では、レプリカ・ビット線rplbtの信号はt_saeの経過時間でxVの振幅変化を生じるものとする。このレプリカ・ビット線rplbtの振幅変化でも、レプリカ・ビット線rplbtの遅延が小さく高速振幅変化特性rplbt_ftとなる場合と、レプリカ・ビット線rplbtの遅延が大きく低速振幅変化特性rplbt_slとなる場合とがある。一方、レプリカ・ビット線rplbtの信号が供給されるインバータINVの論理しきい値が高論理しきい値電圧Vth_highとなる場合と、低論理しきい値電圧Vth_lowとなる場合とがある。   In the example of FIG. 4A, it is assumed that the signal of the replica bit line rplbt causes an amplitude change of xV in the elapsed time of t_sae. Even when the amplitude of the replica bit line rplbt changes, there are cases where the delay of the replica bit line rplbt is small and becomes the high-speed amplitude change characteristic rplbt_ft, and where the delay of the replica bit line rplbt is large and becomes the low-speed amplitude change characteristic rplbt_sl. . On the other hand, the logic threshold value of the inverter INV to which the signal of the replica bit line rplbt is supplied may be the high logic threshold voltage Vth_high or the low logic threshold voltage Vth_low.

従って、高速振幅変化特性rplbt_ftと高論理しきい値電圧Vth_highとのクロスオーバーによって、センスアンプイネーブル信号saeの小さな遅延sae_ftの生成タイミングが決定される。また、低速振幅変化特性rplbt_slと低速振幅変化特性rplbt_slとのクロスオーバーによって、センスアンプイネーブル信号saeの大きな遅延sae_slの生成タイミングが決定される。その結果、センスアンプイネーブル信号saeの生成タイミングの変動幅Δt_saeは、Δt_sae=レプリカ回路ブロックRPLBLKの遅延変動量となり、大きなものとなる(後述する図4(b)と比較して)ことが判明した。   Therefore, the generation timing of the small delay sae_ft of the sense amplifier enable signal sae is determined by the crossover between the high-speed amplitude change characteristic rplbt_ft and the high logic threshold voltage Vth_high. Also, the generation timing of the large delay sae_sl of the sense amplifier enable signal sae is determined by the crossover between the slow amplitude change characteristic rplbt_sl and the slow amplitude change characteristic rplbt_sl. As a result, the variation width Δt_sae of the generation timing of the sense amplifier enable signal sae becomes Δt_sae = the delay fluctuation amount of the replica circuit block RPLBLK, which is large (compared to FIG. 4B described later). .

この変動幅の軽減を考えた技術として、前述した特許文献1に記載された技術が挙げられる。この技術は、一つのレプリカ・ビット線を分割し、インバータで接続する技術ではあるが、必要としているレプリカ・ビット線の遅延に、接続用のインバータの遅延が混在することになり、ビット線の遅延を良好に追跡する機能が損なわれてしまうことが考えられる。また、分割できる数にも限界があるため、遅延変動量を軽減する効果にも限界がある。   As a technique considering the reduction of the fluctuation range, the technique described in Patent Document 1 described above can be cited. Although this technology divides one replica bit line and connects it with an inverter, the delay of the connecting inverter is mixed with the required replica bit line delay. It is conceivable that the ability to track the delay well is impaired. In addition, since the number that can be divided is limited, the effect of reducing the delay fluctuation amount is also limited.

そこで、本実施の形態は、以上のような従来技術のレプリカ・ビット線rplbtを一つ利用したSRAMの課題、更に前述した特許文献1に記載された技術の課題に鑑みてなされたものであり、その代表的な目的は、SRAMの記憶容量が大容量化しても、センスアンプイネーブル信号の生成タイミングの変動を軽減するものである。以下において、本実施の形態を具体的に説明する。   Therefore, the present embodiment has been made in view of the problems of the SRAM using one replica bit line rplbt of the prior art as described above, and the problems of the technique described in Patent Document 1 described above. Its typical purpose is to reduce fluctuations in the generation timing of the sense amplifier enable signal even when the storage capacity of the SRAM is increased. Hereinafter, the present embodiment will be specifically described.

<本実施の形態のレプリカ・ビット線を複数利用した例>
本実施の形態のレプリカ・ビット線を複数利用した例を、図2,図3,図4(b),図5を用いて説明する。
<Example using a plurality of replica bit lines of this embodiment>
An example in which a plurality of replica bit lines according to the present embodiment are used will be described with reference to FIGS. 2, 3, 4B, and 5. FIG.

<<SRAMの構成>>
図2は、本実施の形態のレプリカ・ビット線を複数利用したSRAMの構成の一例を示す図である。
<< Configuration of SRAM >>
FIG. 2 is a diagram showing an example of the configuration of an SRAM using a plurality of replica bit lines according to the present embodiment.

図2に示すSRAMは、図1に示したSRAMと基本的に相違するのは、図1に示したSRAMはレプリカ・ビット線を一つ利用した例であるのに対し、図2に示すSRAMではレプリカ・ビット線を複数利用した例であり、これによって、レプリカ・ビット線での遅延量が軽減されていることである。   The SRAM shown in FIG. 2 is basically different from the SRAM shown in FIG. 1 in that the SRAM shown in FIG. 1 is an example using one replica bit line, whereas the SRAM shown in FIG. In this example, a plurality of replica bit lines are used, which reduces the amount of delay in the replica bit lines.

更に、前述した特許文献1に記載される技術に対して、レプリカ・ビット線を行方向(ワード線方向)に分割するのではなく、列方向に必要とする数だけ増やす。その時、レプリカ・ビット線の遅延を受けるインバータはそれぞれのレプリカ・ビット線に対して独立に配置する。各レプリカ・ビット線を構成する各回路、及び各レプリカ・ビット線を受ける各インバータをそれぞれ独立した一つのレプリカ回路ブロックと見なす。   Furthermore, in contrast to the technique described in Patent Document 1 described above, the replica bit lines are not divided in the row direction (word line direction) but are increased by the number required in the column direction. At that time, the inverter receiving the delay of the replica bit line is arranged independently for each replica bit line. Each circuit constituting each replica bit line and each inverter receiving each replica bit line are regarded as one independent replica circuit block.

更に、レプリカ・ビット線同士は接続され、レプリカ・ビット線を受けるインバータの出力同士も接続する。独立したレプリカ回路ブロックを接続することにより、レプリカ・メモリセルのローカル変動によるレプリカ・ビット線の遅延変動量、及びローカル変動によるインバータの論理しきい値変動による遅延変動量の軽減を図る。この効果により、レプリカ回路ブロック全体の遅延変動量の軽減を図りつつ、遅延の大半をレプリカ・ビット線で構成することができる。上述により、遅延変動量が軽減され、ビット線の遅延を良好に追跡する機能を有する回路を実現することができる。   Further, the replica bit lines are connected to each other, and the outputs of the inverters that receive the replica bit lines are also connected to each other. By connecting independent replica circuit blocks, it is possible to reduce the delay fluctuation amount of the replica bit line due to the local fluctuation of the replica memory cell and the delay fluctuation quantity due to the logical threshold fluctuation of the inverter due to the local fluctuation. This effect makes it possible to configure most of the delay with replica bit lines while reducing the amount of delay variation of the entire replica circuit block. According to the above, it is possible to realize a circuit that has a function of well tracking the delay of the bit line with a reduced amount of delay variation.

以下において、図2を用いてSRAMの構成を説明する。図2に示すSRAMも、図1に示したSRAMと同様に、ワードドライバWDと、デコード制御回路CTRLと、複数のワード線wl[0]〜[n]と、複数のビット線・反転ビット線対bt[0],bb[0]〜bt[m],bb[m]と、複数((n+1)×(m+1)個)のSRAM・メモリセルMEMCELLと、複数(m+1個)のセンスアンプSAとを含んでいる。   Hereinafter, the configuration of the SRAM will be described with reference to FIG. As in the SRAM shown in FIG. 1, the SRAM shown in FIG. 2 also includes a word driver WD, a decode control circuit CTRL, a plurality of word lines wl [0] to [n], and a plurality of bit lines / inverted bit lines. Pairs bt [0], bb [0] to bt [m], bb [m], a plurality ((n + 1) × (m + 1)) of SRAM memory cells MEMCELL, and a plurality (m + 1) of sense amplifiers SA Including.

図2に示すSRAMが、図1に示したSRAMと相違するのは、複数のレプリカ・ワード線rplwl[0]〜[p]と、複数のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]と、複数のプリチャージトランジスタPCH[0]〜[p](PチャンネルMOSトランジスタ)と、複数のインバータINV[0]〜[p]と、複数(j×(p+1)個)のレプリカ・メモリセルRPLCELLと、複数(k×(p+1)個)のダミー・メモリセルDMYCELLとを含んでいる。   The SRAM shown in FIG. 2 differs from the SRAM shown in FIG. 1 in that a plurality of replica word lines rplwl [0] to [p] and a plurality of replica bit lines rplbt [0] to [p] , A plurality of precharge transistors PCH [0] to [p] (P channel MOS transistors), a plurality of inverters INV [0] to [p], and a plurality (j × (p + 1)) of replica memory cells RPLCELL And a plurality of (k × (p + 1)) dummy memory cells DMYCELL.

複数((n+1)×(m+1)個)のSRAM・メモリセルMEMCELLと、複数(j×(p+1)個)のレプリカ・メモリセルRPLCELLと、複数(k×(p+1)個)のダミー・メモリセルDMYCELLとの間には、例えば(n+1)=j+kの関係がある。   Multiple ((n + 1) × (m + 1)) SRAM memory cells MEMCELL, multiple (j × (p + 1)) replica memory cells RPLCELL, and multiple (k × (p + 1)) dummy memory cells For example, there is a relationship of (n + 1) = j + k with DMYCELL.

特に、図2に示すSRAMでは、レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を列方向に必要とする数([0]〜[p]:(p+1)個)だけ増やし、複数のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]同士は短絡レプリカ・ビット線rplbtpで接続され、各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を受ける複数のインバータINV[0]〜[p]の出力同士も反転レプリカ・ビット線rplbtnで接続されている。各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を構成する各回路、及び各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を受ける各インバータINV[0]〜[p]を、それぞれ独立した一つのレプリカ回路ブロックRPLBLK[0]〜[p]と見なす。   In particular, in the SRAM shown in FIG. 2, the number of replica bit lines rplbt [0] to [p] is increased by a necessary number ([0] to [p]: (p + 1)) in the column direction, and a plurality of replica bits The bit lines rplbt [0] to [p] are connected by a short-circuited replica bit line rplbtp, and outputs of a plurality of inverters INV [0] to [p] receiving the replica bit lines rplbt [0] to [p]. They are also connected by an inverted replica bit line rplbtn. Each circuit constituting each replica bit line rplbt [0] to [p] and each inverter INV [0] to [p] receiving each replica bit line rplbt [0] to [p] are independent of each other. One replica circuit block RPLBLK [0] to [p] is considered.

デコード制御回路CTRLにはクロック信号CLKとアドレス信号a[0]〜[h]とが供給されることによって、デコード制御回路CTRLからワードドライバWDにデコーダ信号dec[0]〜[i]が供給され、デコード制御回路CTRLから複数のプリチャージトランジスタPCH[0]〜[p]と複数のレプリカ・メモリセルRPLCELLとに複数のレプリカ・ワード線rplwl[0]〜[p]の信号が供給される。   By supplying the clock signal CLK and the address signals a [0] to [h] to the decode control circuit CTRL, the decoder signals dec [0] to [i] are supplied from the decode control circuit CTRL to the word driver WD. The signals of the plurality of replica word lines rplwl [0] to [p] are supplied from the decode control circuit CTRL to the plurality of precharge transistors PCH [0] to [p] and the plurality of replica memory cells RPLCELL.

複数のプリチャージトランジスタPCH[0]〜[p]としてのPチャンネルMOSトランジスタのソースは電源電圧VDDに接続される一方、このPチャンネルMOSトランジスタのドレインは複数のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]に接続されている。この複数のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]は、複数のレプリカ・メモリセルRPLCELLと複数のダミー・メモリセルDMYCELLと複数のインバータINV[0]〜[p]の入力端子とに接続される。   The sources of the P channel MOS transistors as the plurality of precharge transistors PCH [0] to [p] are connected to the power supply voltage VDD, while the drains of the P channel MOS transistors are connected to the plurality of replica bit lines rplbt [0] to Connected to [p]. The plurality of replica bit lines rplbt [0] to [p] are connected to the plurality of replica memory cells RPLCELL, the plurality of dummy memory cells DMYCELL, and the input terminals of the plurality of inverters INV [0] to [p]. Is done.

この複数のインバータINV[0]〜[p]の出力端子から生成される反転レプリカ・ビット線rplbtnの信号はデコード制御回路CTRLとバッファBUFの入力端子とに供給され、バッファBUFの出力端子からセンスアンプイネーブル信号saeが生成され、複数のセンスアンプSAに供給される。   The signal of the inverted replica bit line rplbtn generated from the output terminals of the plurality of inverters INV [0] to [p] is supplied to the decode control circuit CTRL and the input terminal of the buffer BUF, and sensed from the output terminal of the buffer BUF. An amplifier enable signal sae is generated and supplied to the plurality of sense amplifiers SA.

複数のビット線・反転ビット線対bt[0],bb[0]〜bt[m],bb[m]からのSRAMセル読み出し信号が複数のセンスアンプSAの差動入力端子に供給されることによって、複数のセンスアンプSAの出力端子から読み出しデータq[0]〜[m]が生成される。   SRAM cell read signals from a plurality of bit line / inverted bit line pairs bt [0], bb [0] to bt [m], bb [m] are supplied to differential input terminals of the plurality of sense amplifiers SA. Thus, read data q [0] to [m] are generated from the output terminals of the plurality of sense amplifiers SA.

<<SRAMの動作>>
図3は、図2に示すSRAMの動作を説明するための図であり、図2に示すSRAMの各部の波形の一例を示す図である。
<< SRAM Operation >>
FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the SRAM shown in FIG. 2, and shows an example of the waveform of each part of the SRAM shown in FIG.

図3に示すように、クロック信号CLKの立ち上がりに同期して変化するアドレス信号a[0]〜[h]に応答して、デコーダ信号dec[0]〜[i]の選択された1つの信号が立ち下がる。wl[0]〜[n]のワード線のうちでアドレス信号に対応する一本のワード線が選択されて立ち上がる。立ち上がった選択ワード線が接続されている複数((m+1)個)のメモリセルの記憶保持状態に応答して複数のビット線・反転ビット線対bt[0],bb[0]〜bt[m],bb[m]の各ビット線・反転ビット線対の一方のビット線の電荷が引き抜かれ始める。   As shown in FIG. 3, one selected signal of decoder signals dec [0] to [i] in response to address signals a [0] to [h] changing in synchronization with the rising edge of clock signal CLK. Falls. One word line corresponding to the address signal is selected from the word lines of wl [0] to [n] and starts up. A plurality of bit line / inverted bit line pairs bt [0], bb [0] to bt [m in response to the memory holding state of a plurality ((m + 1)) of memory cells connected to the selected word line that has risen. ], Bb [m], the charge of one bit line of each bit line / inverted bit line pair begins to be extracted.

尚、複数のレプリカ・ワード線rplwl[0]〜[p]がローレベルの間には、レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]は複数のプリチャージトランジスタPCH[0]〜[p]であるPチャンネルMOSトランジスタによってハイレベルである電源電圧VDDにプリチャージされている。従って、複数のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]のハイレベルに応答して、複数のインバータINV[0]〜[p]の出力端子の反転レプリカ・ビット線rplbtnとバッファBUFの出力端子のセンスアンプイネーブル信号saeとはそれぞれローレベルとなっている。   While the plurality of replica word lines rplwl [0] to [p] are at the low level, the replica bit lines rplbt [0] to [p] have the plurality of precharge transistors PCH [0] to [p]. Is precharged to a high level power supply voltage VDD by a P channel MOS transistor. Therefore, in response to the high level of the plurality of replica bit lines rplbt [0] to [p], the output of the inverted replica bit line rplbtn and the buffer BUF at the output terminals of the plurality of inverters INV [0] to [p]. The sense amplifier enable signal sae at the terminal is at a low level.

一方、クロック信号CLKの立ち上がりに応答して、複数のレプリカ・ワード線rplwl[0]〜[p]の電位がハイレベルに立ち上がる。複数のレプリカ・メモリセルRPLCELLの内部では、PチャンネルMOSトランジスタとNチャンネルMOSトランジスタとによって構成されたCMOSインバータの入力端子にはハイレベルの電源電圧VDDが供給されているので、このCMOSインバータの出力端子は接地電位GNDに維持されている。   On the other hand, in response to the rise of the clock signal CLK, the potentials of the plurality of replica word lines rplwl [0] to [p] rise to a high level. Inside the plurality of replica memory cells RPLCELL, the high-level power supply voltage VDD is supplied to the input terminal of the CMOS inverter formed by the P-channel MOS transistor and the N-channel MOS transistor. The terminal is maintained at the ground potential GND.

複数のレプリカ・ワード線rplwl[0]〜[p]の電位がハイレベルに立ち上ることによって、複数のレプリカ・メモリセルRPLCELLの内部の転送トランジスタとしてのNチャンネルMOSトランジスタがオンとなるので、複数のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]のプリチャージ電荷は複数のレプリカ・メモリセルRPLCELL内部の複数の転送トランジスタを介して接地電位GNDに放電されるようになる。この放電によって複数のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]の電位が複数のインバータINV[0]〜[p]の論理しきい値より低いレベルに低下すると、複数のインバータINV[0]〜[p]の出力の反転レプリカ・ビット線rplbtnの電位が立ち上がる。   Since the potentials of the plurality of replica word lines rplwl [0] to [p] rise to a high level, N channel MOS transistors as transfer transistors inside the plurality of replica memory cells RPLCELL are turned on. The precharge charges of the replica bit lines rplbt [0] to [p] are discharged to the ground potential GND through the plurality of transfer transistors inside the plurality of replica memory cells RPLCELL. When the potentials of the plurality of replica bit lines rplbt [0] to [p] are lowered to a level lower than the logic threshold value of the plurality of inverters INV [0] to [p] by this discharge, the plurality of inverters INV [0]. The potential of the inverted replica bit line rplbtn of the outputs of .about. [P] rises.

反転レプリカ・ビット線rplbtnの信号はバッファBUFの入力端子に供給され、バッファBUFの出力端子から生成されるセンスアンプイネーブル信号saeが複数のセンスアンプSAに供給される。センスアンプイネーブル信号saeの立ち上がりのタイミングの複数のビット線・反転ビット線対bt[0],bb[0]〜bt[m],bb[m]の電位差ΔVが複数のセンスアンプSAによって増幅されて読み出しデータq[0]〜[m]が出力されるものとなる。このビット線・反転ビット線対の電位差ΔVがセンスアンプSAの入力電位差のオフセット分より小さいと、データの読み出しに失敗する。   The signal of the inverted replica bit line rplbtn is supplied to the input terminal of the buffer BUF, and the sense amplifier enable signal sae generated from the output terminal of the buffer BUF is supplied to the plurality of sense amplifiers SA. The potential difference ΔV between the plurality of bit line / inverted bit line pairs bt [0], bb [0] to bt [m], bb [m] at the rising timing of the sense amplifier enable signal sae is amplified by the plurality of sense amplifiers SA. As a result, read data q [0] to [m] are output. When the potential difference ΔV between the bit line / inverted bit line pair is smaller than the offset of the input potential difference of the sense amplifier SA, data reading fails.

ワード線wl[0]〜[n]のいずれかの選択ワード線の電位が立ち上がり、複数のビット線・反転ビット線対の電位差ΔVがセンスアンプSAの入力電位差のオフセット分よりも大きくなるタイミングと、複数のレプリカ・ワード線rplwl[0]〜[p]が立ち上がり、複数のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]が立ち下がり、センスアンプイネーブル信号saeが立ち上がるタイミングとが略同時となるようにタイミングの調整が実行される。センスアンプイネーブル信号saeの電位の立ち上がりタイミングの調整は、複数のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]に接続される複数のレプリカ・メモリセルRPLCELLの数の調整により実行可能となる。   The potential of the selected word line of any of the word lines wl [0] to [n] rises, and the timing at which the potential difference ΔV between the plurality of bit line / inverted bit line pairs becomes larger than the offset of the input potential difference of the sense amplifier SA. The timings at which the plurality of replica word lines rplwl [0] to [p] rise, the plurality of replica bit lines rplbt [0] to [p] fall, and the sense amplifier enable signal sae rises substantially simultaneously. Thus, the timing adjustment is performed. The adjustment of the rising timing of the potential of the sense amplifier enable signal sae can be performed by adjusting the number of the plurality of replica memory cells RPLCELL connected to the plurality of replica bit lines rplbt [0] to [p].

図2に示した本実施の形態によるSRAMでは、レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]は、列方向に必要とする数だけ増やしているので、各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]の遅延量が軽減される。各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]の遅延量が軽減されることによって、各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]の遅延変動が軽減される。その結果、各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]の軽減された遅延変動と複数のインバータINV[0]〜[p]の論理しきい値のローカル変動によるセンスアンプイネーブル信号saeの生成タイミングの変動が軽減される。   In the SRAM according to the present embodiment shown in FIG. 2, the number of replica bit lines rplbt [0] to [p] is increased by the required number in the column direction, so that each replica bit line rplbt [0] to The delay amount of [p] is reduced. By reducing the delay amount of each replica bit line rplbt [0] to [p], the delay variation of each replica bit line rplbt [0] to [p] is reduced. As a result, the sense amplifier enable signal sae is generated by the reduced delay variation of each replica bit line rplbt [0] to [p] and the local variation of the logic threshold value of the plurality of inverters INV [0] to [p]. Timing variations are reduced.

<<本実施の形態のレプリカ回路ブロックの遅延変動量>>
図4(b)は、図2および図3に説明した本実施の形態によるSRAMのレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]の遅延変動とインバータINV[0]〜[p]の論理しきい値のローカル変動とによるセンスアンプイネーブル信号saeの生成タイミング(立ち上がりタイミング)の変動の様子を示す図である。
<< Delay Variation of Replica Circuit Block of Present Embodiment >>
FIG. 4B shows the delay variation of the SRAM replica bit lines rplbt [0] to [p] and the logic of the inverters INV [0] to [p] described in FIGS. It is a figure which shows the mode of the fluctuation | variation of the production | generation timing (rise timing) of the sense amplifier enable signal sae by the local fluctuation | variation of a threshold value.

図4(b)の例で、レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を複数利用した各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]の負荷容量と遅延量は著しく軽減されている。すなわち、図4(a)と比較すると、図4(b)に示すように各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]の遅延量は1/√(p+1)に軽減される。その際に、図4(a)と同様に、図4(b)に示す場合でも、レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]の遅延が小さく高速振幅変化特性rplbt_ftとなる場合と、レプリカ・ビット線rplbtの遅延が大きく低速振幅変化特性rplbt_slとなる場合とがある。一方、各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]の信号が供給されるインバータINV[0]〜[p]の論理しきい値が、高論理しきい値電圧Vth_highとなる場合と、低論理しきい値電圧Vth_lowとなる場合とがある。   In the example of FIG. 4B, the load capacity and delay amount of each replica bit line rplbt [0] to [p] using a plurality of replica bit lines rplbt [0] to [p] are significantly reduced. . That is, as compared with FIG. 4A, as shown in FIG. 4B, the delay amount of each replica bit line rplbt [0] to [p] is reduced to 1 / √ (p + 1). At this time, similarly to FIG. 4A, even in the case shown in FIG. 4B, the replica bit lines rplbt [0] to [p] have a small delay and the high-speed amplitude change characteristic rplbt_ft. The delay of the bit line rplbt may be large and become a low-speed amplitude change characteristic rplbt_sl. On the other hand, when the logic threshold value of the inverters INV [0] to [p] to which the signals of the replica bit lines rplbt [0] to [p] are supplied becomes the high logic threshold voltage Vth_high, The logic threshold voltage Vth_low may be obtained.

従って、高速振幅変化特性rplbt_ftと高論理しきい値電圧Vth_highとのクロスオーバーによってセンスアンプイネーブル信号saeの小さな遅延sae_ftの生成タイミングが決定され、低速振幅変化特性rplbt_slと低速振幅変化特性rplbt_slのクロスオーバーによってセンスアンプイネーブル信号saeの大きな遅延sae_slの生成タイミングが決定される。   Therefore, the generation timing of the small delay sae_ft of the sense amplifier enable signal sae is determined by the crossover between the high speed amplitude change characteristic rplbt_ft and the high logic threshold voltage Vth_high, and the crossover of the low speed amplitude change characteristic rplbt_sl and the low speed amplitude change characteristic rplbt_sl. Thus, the generation timing of the large delay sae_sl of the sense amplifier enable signal sae is determined.

しかし、図4(b)に示すように、レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を複数利用した場合の各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]の遅延変動とインバータINV[0]〜[p]の論理しきい値電圧の変動によるセンスアンプイネーブル信号saeの生成タイミングの変動幅Δt_saeは、図4(a)と比較すると軽減される。具体的には、レプリカ回路ブロックRPLBLK[0]〜[p]の数((p+1)個)に応じて、図4(b)に示すようにレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を複数利用した場合ではセンスアンプイネーブル信号saeの生成タイミングの変動幅Δt_saeは、Δt_sae=レプリカ回路ブロックRPLBLKの遅延変動量×1/√(p+1)と小さな値に低減されるものとなる。すなわち、本実施の形態のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を複数利用した場合の遅延変動量は、従来技術のレプリカ・ビット線rplbtを一つ利用した場合の遅延変動量に対して、1/√(p+1)になる。   However, as shown in FIG. 4B, when a plurality of replica bit lines rplbt [0] to [p] are used, the delay variation of each replica bit line rplbt [0] to [p] and the inverter INV [ The fluctuation width Δt_sae of the generation timing of the sense amplifier enable signal sae due to the fluctuation of the logic threshold voltage from 0] to [p] is reduced as compared with FIG. More specifically, the replica bit lines rplbt [0] to [p] are changed according to the number ((p + 1)) of the replica circuit blocks RPLBLK [0] to [p] as shown in FIG. In the case of using a plurality, the variation width Δt_sae of the generation timing of the sense amplifier enable signal sae is reduced to a small value of Δt_sae = the delay variation amount of the replica circuit block RPLBLK × 1 / √ (p + 1). That is, the amount of delay variation when a plurality of replica bit lines rplbt [0] to [p] of the present embodiment is used is compared to the amount of delay variation when one replica bit line rplbt of the prior art is used. 1 / √ (p + 1).

<<本実施の形態のレプリカ・ビット線を複数利用した例の変形例>>
図2に示した本実施の形態のレプリカ・ビット線を複数利用したSRAMの構成では、複数のインバータINV[0]〜[p]の数と複数のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]の数とを同じ数((p+1)個)にした例を説明したが、この例に限らず、インバータの数をレプリカ・ビット線の数よりも少なくすること、逆に、インバータの数をレプリカ・ビット線の数よりも多くすることも可能である。
<< Modification of Example Using Plural Replica Bit Lines of this Embodiment >>
In the SRAM configuration using a plurality of replica bit lines according to the present embodiment shown in FIG. 2, the number of a plurality of inverters INV [0] to [p] and a plurality of replica bit lines rplbt [0] to [p] However, the present invention is not limited to this example, and the number of inverters can be made smaller than the number of replica bit lines. It is possible to increase the number of replica bit lines.

図5は、本実施の形態のレプリカ・ビット線を複数利用したSRAMの構成の変形例を示す図である。   FIG. 5 is a diagram showing a modification of the SRAM configuration using a plurality of replica bit lines according to the present embodiment.

図5に示したSRAMは、特に、複数((p+1)個)のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を受けるインバータINVを少なくして、一つとした例である。例えば、ローカル変動によるインバータの論理しきい値の影響が小さい場合は、レプリカ・ビット線を受けるインバータの数を減らしても良い。インバータが一つの場合は、インバータの論理しきい値変動による遅延変動量の軽減はされないが、レプリカ・ビット線の遅延変動量の軽減はなされるため、インバータの論理しきい値変動の影響が小さい場合、及び素子数を低減したいときに有効である。   The SRAM shown in FIG. 5 is an example in which the number of inverters INV that receive a plurality ((p + 1)) of replica bit lines rplbt [0] to [p] is reduced to one. For example, when the influence of the logical threshold value of the inverter due to local fluctuation is small, the number of inverters that receive the replica bit line may be reduced. When there is one inverter, the delay fluctuation amount due to the logic threshold fluctuation of the inverter is not reduced, but the delay fluctuation amount of the replica bit line is reduced, so the influence of the inverter logic threshold fluctuation is small It is effective when it is desired to reduce the number of elements.

また図示しないが、逆に、ローカル変動によるインバータの論理しきい値の影響が大きい場合には、複数のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を受けるインバータINVの数を、レプリカ・ビット線の数より多くすることができる。   Although not shown, conversely, when the influence of the logical threshold value of the inverter due to local fluctuation is large, the number of inverters INV receiving a plurality of replica bit lines rplbt [0] to [p] Can be more than the number of lines.

<<本実施の形態の効果>>
以上説明した本実施の形態のレプリカ・ビット線を複数利用したSRAMによれば、レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を列方向に増やし、複数のレプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]同士は短絡レプリカ・ビット線rplbtpで接続し、各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を受ける複数のインバータINV[0]〜[p]の出力同士も反転レプリカ・ビット線rplbtnで接続し、各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を構成する各回路、及び各レプリカ・ビット線rplbt[0]〜[p]を受ける各インバータINV[0]〜[p]をそれぞれ独立した一つのレプリカ回路ブロックRPLBLK[0]〜[p]と見なすことで、以下のような効果を得ることができる。
<< Effects of the present embodiment >>
According to the SRAM using a plurality of replica bit lines of the present embodiment described above, the replica bit lines rplbt [0] to [p] are increased in the column direction, and a plurality of replica bit lines rplbt [0] to [P] are connected by a short-circuited replica bit line rplbtp, and the outputs of a plurality of inverters INV [0] to [p] receiving each replica bit line rplbt [0] to [p] are also inverted replica bit lines Each inverter INV [0]-[p] connected by rplbtn and receiving each circuit constituting each replica bit line rplbt [0]-[p] and each replica bit line rplbt [0]-[p] Is regarded as one independent replica circuit block RPLBLK [0] to [p], the following effects can be obtained.

(1)従来の技術(特許文献1)のようにレプリカ・ビット線を分割していないため、インバータによる接続が不要であり、純粋なレプリカ・ビット線の遅延を利用でき、従来の技術よりもビット線の遅延を良好に追跡できる。すなわち、レプリカ・ビット線を分割してインバータで接続する回路に比べ、分割用のインバータの遅延がレプリカ回路ブロックの遅延量に含まれないため、本来のレプリカ・ビット線の遅延のみを有効に利用でき、ビット線の遅延を良好に追跡することができる。   (1) Since the replica bit line is not divided as in the prior art (Patent Document 1), connection by an inverter is unnecessary, and a pure replica bit line delay can be used. Bit line delay can be tracked well. In other words, compared to a circuit in which the replica bit line is divided and connected by an inverter, the delay of the inverter for division is not included in the delay amount of the replica circuit block, so only the original replica bit line delay is effectively used. The bit line delay can be tracked well.

(2)レプリカ回路ブロックの変動値は、正の変動値から負の変動値に略正規分布するものとなるため、列方向に配置されたレプリカ回路ブロックの数に従って略正規分布に従い変動量が軽減される。すなわち、レプリカ回路ブロックの(p+1)個の配置、及びレプリカ・ビット線同士の接続、受けのインバータの出力の接続により、レプリカ回路ブロックの遅延変動量は略正規分布に従い軽減され、遅延変動量×1/√(p+1)に軽減することができる。   (2) Since the fluctuation value of the replica circuit block is substantially normally distributed from the positive fluctuation value to the negative fluctuation value, the fluctuation amount is reduced according to the substantially normal distribution according to the number of replica circuit blocks arranged in the column direction. Is done. That is, the (p + 1) arrangement of replica circuit blocks, the connection between replica bit lines, and the connection of the output of a receiving inverter reduce the delay fluctuation amount of the replica circuit block in accordance with a substantially normal distribution, and the delay fluctuation amount × It can be reduced to 1 / √ (p + 1).

(3)メモリ容量が増大し、必要とする遅延量が増えた場合でも、レプリカ回路ブロックを列方向に増やす本実施の形態は所望の数だけ増やすことが可能なため、遅延変動量を軽減することができる。   (3) Even when the memory capacity is increased and the required delay amount is increased, the present embodiment of increasing the replica circuit blocks in the column direction can increase the desired number, thereby reducing the delay fluctuation amount. be able to.

(4)ローカル変動によるインバータの論理しきい値の影響が小さい場合には、複数のレプリカ・ビット線を受けるインバータの数を減らして素子数を低減することで、面積の低減が可能となり、逆に、ローカル変動によるインバータの論理しきい値の影響が大きい場合には、複数のレプリカ・ビット線を受けるインバータの数を増やすことで、遅延変動量の軽減が可能となる。   (4) When the influence of the logical threshold value of the inverter due to local fluctuation is small, the area can be reduced by reducing the number of elements by reducing the number of inverters that receive a plurality of replica bit lines. In addition, when the influence of the logical threshold value of the inverter due to local fluctuation is large, the amount of delay fluctuation can be reduced by increasing the number of inverters that receive a plurality of replica bit lines.

(5)遅延変動量の軽減が図れることから、メモリを搭載した製品のアクセス時間の向上が図れる。   (5) Since the amount of delay variation can be reduced, the access time of a product equipped with a memory can be improved.

(6)遅延変動量の軽減が図れることから、メモリを搭載した製品の周波数の向上が図れる。   (6) Since the amount of delay variation can be reduced, the frequency of a product equipped with a memory can be improved.

以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

本発明は、ビット線に追従する遅延変動量の軽減に効果があることから、SRAMに効果がある。その他に、ビット線に追従する遅延変動量の軽減に効果があることから、メモリLSIに効果がある。メモリ容量により、レプリカ回路ブロックの数を変更できることから、所望のメモリ容量を提供可能なコンパイルドRAMに効果がある。   The present invention is effective in SRAM because it is effective in reducing the amount of delay variation following the bit line. In addition, since it is effective in reducing the amount of delay variation following the bit line, it is effective in the memory LSI. Since the number of replica circuit blocks can be changed depending on the memory capacity, a compiled RAM capable of providing a desired memory capacity is effective.

WD…ワードドライバ
CTRL…デコード制御回路
wl[0]〜wl[n]…ワード線
bt[0],bb[0]〜bt[m],bb[m]…ビット線・反転ビット線対
rplwl,rplwl[0]〜rplwl[p]…レプリカ・ワード線
rplbt,rplbt[0]〜rplbt[p]…レプリカ・ビット線
rplbtp…短絡レプリカ・ビット線
rplbtn…反転レプリカ・ビット線
MEMCELL…SRAM・メモリセル
RPLCELL…レプリカ・メモリセル
DMYCELL…ダミー・メモリセル
PCH,PCH[0]〜PCH[p]…プリチャージトランジスタ
INV,INV[0]〜INV[p]…インバータ
BUF…バッファ
SA…センスアンプ
RPLBLK,RPLBLK[0]〜RPLBLK[p]…レプリカ回路ブロック
CLK…クロック信号
a[0]〜a[h]…アドレス信号
dec[0]〜dec[i]…デコーダ信号
sae…センスアンプイネーブル信号
q[0]〜q[m]…読み出しデータ
WD... Word driver CTRL... Decode control circuit wl [0] to wl [n]... Word line bt [0], bb [0] to bt [m], bb [m] ... bit line / inverted bit line pair rplwl, rplwl [0] to rplwl [p] ... replica word lines rplbt, rplbt [0] to rplbt [p] ... replica bit lines rplbtp ... short-circuited replica bit lines rplbtn ... inverted replica bit lines MEMCELL ... SRAM memory cells RPLCELL ... Replica memory cell DMYCELL ... Dummy memory cell PCH, PCH [0] to PCH [p] ... Precharge transistors INV, INV [0] to INV [p] ... Inverter BUF ... Buffer SA ... Sense amplifiers RPLBLK, RPLBLK [0] to RPLBLK [p] ... replica circuit Lock CLK ... clock signal a [0] ~a [h] ... address signal dec [0] ~dec [i] ... decoder signal sae ... sense amplifier enable signal q [0] ~q [m] ... read data

Claims (11)

行方向に配置された複数のワード線と、
列方向に配置された複数のビット線と、
前記複数のワード線と前記複数のビット線とにそれぞれ接続された複数の通常・メモリセルと、
アドレス信号に応答して前記複数のワード線の任意の1つのワード線を選択することが可能なアクセス制御回路と、
前記複数のビット線にそれぞれ接続された複数のセンスアンプとを有する半導体記憶装置であって、
列方向に配置された複数のレプリカ・ビット線と、
前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のレプリカ・メモリセルと、
前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のインバータとを更に有し、
前記複数のレプリカ・ビット線同士は共通に接続され、
前記複数のインバータの入力端子は前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続され、前記複数のインバータの出力端子同士は共通に接続されてセンスアンプイネーブル信号が生成され、
前記センスアンプイネーブル信号が前記複数のセンスアンプに供給されることによって、前記複数のビット線の複数の読み出し信号が前記複数のセンスアンプにより増幅され、前記複数のセンスアンプの複数の出力端子から複数の読み出しデータが生成されることを特徴とする半導体記憶装置。
A plurality of word lines arranged in a row direction;
A plurality of bit lines arranged in the column direction;
A plurality of normal memory cells respectively connected to the plurality of word lines and the plurality of bit lines;
An access control circuit capable of selecting any one of the plurality of word lines in response to an address signal;
A semiconductor memory device having a plurality of sense amplifiers connected to the plurality of bit lines, respectively.
A plurality of replica bit lines arranged in the column direction;
A plurality of replica memory cells respectively connected to the plurality of replica bit lines;
A plurality of inverters respectively connected to the plurality of replica bit lines;
The plurality of replica bit lines are connected in common,
The input terminals of the plurality of inverters are connected to the plurality of replica bit lines, respectively, and the output terminals of the plurality of inverters are connected in common to generate a sense amplifier enable signal,
By supplying the sense amplifier enable signal to the plurality of sense amplifiers, a plurality of read signals of the plurality of bit lines are amplified by the plurality of sense amplifiers, and a plurality of signals are output from a plurality of output terminals of the plurality of sense amplifiers. Read data is generated. A semiconductor memory device.
請求項1記載の半導体記憶装置において、
前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のプリチャージトランジスタを更に有し、
前記センスアンプイネーブル信号に応答して前記複数のセンスアンプの前記複数の出力端子から複数の読み出しデータが生成される以前に、前記複数のプリチャージトランジスタは前記複数のレプリカ・ビット線をそれぞれ所定のプリチャージ電位に設定することを特徴とする半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 1.
A plurality of precharge transistors respectively connected to the plurality of replica bit lines;
Before the plurality of read data are generated from the plurality of output terminals of the plurality of sense amplifiers in response to the sense amplifier enable signal, the plurality of precharge transistors respectively connect the plurality of replica bit lines to a predetermined number. A semiconductor memory device characterized by being set to a precharge potential.
請求項1記載の半導体記憶装置において、
前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のダミー・メモリセルを更に有することを特徴とする半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 1.
A semiconductor memory device further comprising a plurality of dummy memory cells respectively connected to the plurality of replica bit lines.
請求項1記載の半導体記憶装置において、
前記複数の通常・メモリセルは、SRAM・メモリセルであることを特徴とする半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 1.
The semiconductor memory device, wherein the plurality of normal memory cells are SRAM memory cells.
請求項1記載の半導体記憶装置において、
前記複数のインバータの数は、前記複数のレプリカ・ビット線の数と同じであることを特徴とする半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 1.
The number of the plurality of inverters is the same as the number of the plurality of replica bit lines.
請求項1記載の半導体記憶装置において、
前記複数のインバータの数は、前記複数のレプリカ・ビット線の数よりも少ないことを特徴とする半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 1.
The number of the plurality of inverters is smaller than the number of the plurality of replica bit lines.
請求項1記載の半導体記憶装置において、
前記複数のインバータの数は、前記複数のレプリカ・ビット線の数よりも多いことを特徴とする半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 1.
The number of the plurality of inverters is larger than the number of the plurality of replica bit lines.
行方向に配置された複数のワード線と、
列方向に配置された複数のビット線と、
前記複数のワード線と前記複数のビット線とにそれぞれ接続された複数の通常・メモリセルと、
アドレス信号に応答して前記複数のワード線の任意の1つのワード線を選択することが可能なアクセス制御回路と、
前記複数のビット線にそれぞれ接続された複数のセンスアンプとを有する半導体記憶装置であって、
列方向に配置された複数のレプリカ・ビット線と、
前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のレプリカ・メモリセルと、
前記複数のレプリカ・ビット線に共通に接続された1つのインバータとを更に有し、
前記複数のレプリカ・ビット線同士は共通に接続され、
前記1つのインバータの入力端子は前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続され、前記1つのインバータの出力端子からセンスアンプイネーブル信号が生成され、
前記センスアンプイネーブル信号が前記複数のセンスアンプに供給されることによって、前記複数のビット線の複数の読み出し信号が前記複数のセンスアンプにより増幅され、前記複数のセンスアンプの複数の出力端子から複数の読み出しデータが生成されることを特徴とする半導体記憶装置。
A plurality of word lines arranged in a row direction;
A plurality of bit lines arranged in the column direction;
A plurality of normal memory cells respectively connected to the plurality of word lines and the plurality of bit lines;
An access control circuit capable of selecting any one of the plurality of word lines in response to an address signal;
A semiconductor memory device having a plurality of sense amplifiers connected to the plurality of bit lines, respectively.
A plurality of replica bit lines arranged in the column direction;
A plurality of replica memory cells respectively connected to the plurality of replica bit lines;
And an inverter commonly connected to the plurality of replica bit lines,
The plurality of replica bit lines are connected in common,
An input terminal of the one inverter is connected to each of the plurality of replica bit lines, and a sense amplifier enable signal is generated from an output terminal of the one inverter,
By supplying the sense amplifier enable signal to the plurality of sense amplifiers, a plurality of read signals of the plurality of bit lines are amplified by the plurality of sense amplifiers, and a plurality of signals are output from a plurality of output terminals of the plurality of sense amplifiers. Read data is generated. A semiconductor memory device.
請求項8記載の半導体記憶装置において、
前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のプリチャージトランジスタを更に有し、
前記センスアンプイネーブル信号に応答して前記複数のセンスアンプの前記複数の出力端子から複数の読み出しデータが生成される以前に、前記複数のプリチャージトランジスタは前記複数のレプリカ・ビット線をそれぞれ所定のプリチャージ電位に設定することを特徴とする半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 8.
A plurality of precharge transistors respectively connected to the plurality of replica bit lines;
Before the plurality of read data are generated from the plurality of output terminals of the plurality of sense amplifiers in response to the sense amplifier enable signal, the plurality of precharge transistors respectively connect the plurality of replica bit lines to a predetermined number. A semiconductor memory device characterized by being set to a precharge potential.
請求項8記載の半導体記憶装置において、
前記複数のレプリカ・ビット線にそれぞれ接続された複数のダミー・メモリセルを更に有することを特徴とする半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 8.
A semiconductor memory device further comprising a plurality of dummy memory cells respectively connected to the plurality of replica bit lines.
請求項8記載の半導体記憶装置において、
前記複数の通常・メモリセルは、SRAM・メモリセルであることを特徴とする半導体記憶装置。
The semiconductor memory device according to claim 8.
The semiconductor memory device, wherein the plurality of normal memory cells are SRAM memory cells.
JP2011085412A 2011-04-07 2011-04-07 Semiconductor storage device Withdrawn JP2012221524A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011085412A JP2012221524A (en) 2011-04-07 2011-04-07 Semiconductor storage device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011085412A JP2012221524A (en) 2011-04-07 2011-04-07 Semiconductor storage device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012221524A true JP2012221524A (en) 2012-11-12

Family

ID=47272872

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011085412A Withdrawn JP2012221524A (en) 2011-04-07 2011-04-07 Semiconductor storage device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012221524A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN102157188B (en) Integrated circuit with separate supply voltage for memory that is different from logic circuit supply voltage
CN110610729B (en) Apparatus and method for reducing sense amplifier leakage current during active power down
US7251169B2 (en) Voltage supply circuit and semiconductor memory
JP5328386B2 (en) Semiconductor integrated circuit device and operation method thereof
US20020000873A1 (en) Semiconductor device having hierarchical power supply line structure improved in operating speed
US8295113B2 (en) Semiconductor device
US8804446B2 (en) Semiconductor device having equalizing circuit equalizing pair of bit lines
US8665658B2 (en) Tracking cell and method for semiconductor memories
US8036058B2 (en) Symmetrically operating single-ended input buffer devices and methods
US11349479B2 (en) Input buffer circuit
JP2003258624A (en) Input buffer circuit and semiconductor memory
JPWO2015001722A1 (en) Semiconductor memory device
US8331165B2 (en) Semiconductor device
JP4580784B2 (en) Semiconductor memory device and data read method thereof
KR102307368B1 (en) input buffer circuit
JP2012128925A (en) Semiconductor device
JP2012221524A (en) Semiconductor storage device
JP2008103047A (en) Semiconductor integrated circuit device
JP2005339590A (en) Semiconductor integrated circuit
TW201515547A (en) Semiconductor device
JP2008299907A (en) Semiconductor memory device
JP5533264B2 (en) Semiconductor memory
JPH05128857A (en) Semiconductor memory

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20140701