JP2012214532A - Curable resin composition for inkjet, cured product thereof and printed wiring board having the cured product - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、プリント配線板の製造に有用な、耐熱性に優れるインクジェット用硬化性樹脂組成物、その硬化物及び当該硬化物を有するプリント配線板に関するものである。より具体的には、ソルダーレジストインキやマーキングインキのようなプリント配線板の製造に使用する硬化性樹脂組成物であって、低粘度で、作業性及び保存安定性に優れ、更に耐熱性、耐薬品性、無電解金めっき耐性及び絶縁性に優れるインクジェット用硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び当該硬化物を用いたプリント配線板に関するものである。 The present invention relates to a curable resin composition for inkjet which is useful for the production of a printed wiring board and has excellent heat resistance, a cured product thereof, and a printed wiring board having the cured product. More specifically, it is a curable resin composition used in the production of printed wiring boards such as solder resist inks and marking inks, and has a low viscosity, excellent workability and storage stability, and is further resistant to heat and resistance. The present invention relates to a curable resin composition for ink jet excellent in chemical properties, electroless gold plating resistance and insulation, a cured product thereof, and a printed wiring board using the cured product.
一般的に、一部の民生用プリント配線板、及び産業用プリント配線板の製造に使用する硬化性樹脂組成物、例えばソルダーレジストインキとしては、高精度、高密度の観点から、液状現像型ソルダーレジスト組成物が使用される。この液状現像型ソルダーレジスト組成物は、これを用いて形成した塗膜に紫外線を照射し、これを現像することによって画像を形成し、更にこれに熱を加えたり光を照射して仕上げ硬化(本硬化)することで、ソルダーレジストを形成する。また現在は、環境問題への配慮から、液状現像型ソルダーレジスト組成物のうち、現像液として希アルカリ水溶液を用いるアルカリ現像タイプの液状ソルダーレジスト組成物を使用することが主流となっている。上記希アルカリ水溶液を用いるアルカリ現像タイプの液状ソルダーレジスト組成物としては、例えば、ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和基含有モノカルボン酸の反応生成物に酸無水物を付加したカルボキシル基含有感光性樹脂、光重合開始剤、希釈剤及びエポキシ樹脂からなるソルダーレジスト組成物が存在する(特許文献1参照)。 In general, as a curable resin composition used for manufacturing some consumer printed wiring boards and industrial printed wiring boards, for example, solder resist ink, from the viewpoint of high accuracy and high density, a liquid development type solder A resist composition is used. This liquid development type solder resist composition is irradiated with ultraviolet rays on a coating film formed using this, and an image is formed by developing the film. A solder resist is formed by carrying out this hardening. At present, in consideration of environmental problems, among liquid development type solder resist compositions, it is the mainstream to use an alkali development type liquid solder resist composition using a dilute aqueous alkali solution as a developer. Examples of the alkali development type liquid solder resist composition using the dilute aqueous alkali solution include, for example, a carboxyl group-containing photosensitive resin obtained by adding an acid anhydride to a reaction product of a novolac type epoxy resin and an unsaturated group-containing monocarboxylic acid, There exists a solder resist composition comprising a photopolymerization initiator, a diluent and an epoxy resin (see Patent Document 1).
しかし、上述のアルカリ現像タイプの液状ソルダーレジスト組成物は、カルボキシル基含有感光性樹脂とエポキシ樹脂の反応性が高く、その使用前に両者が反応することを防ぐため、それぞれを分けて保存する二液型という構成をとる必要がある。そのため、使用前にこれらを混合し、混合後数日以内に使用しなければならないという欠点がある。 However, the alkali developing type liquid solder resist composition described above is highly reactive between the carboxyl group-containing photosensitive resin and the epoxy resin, and in order to prevent the two from reacting before use, the two are stored separately. It is necessary to adopt a liquid type configuration. Therefore, there exists a fault that these must be mixed before use and must be used within several days after mixing.
また、上述の液状ソルダーレジスト組成物を用いてソルダーレジストを形成するためには、塗布、乾燥、露光、現像及び熱硬化等の多くの工程を経る必要があり、またそれらの工程には、それぞれ塗布機、乾燥機、露光機、現像機及び熱硬化炉等の設備が必要となるため、製造のコストがかかるという欠点がある。 Moreover, in order to form a solder resist using the above-mentioned liquid solder resist composition, it is necessary to go through many steps such as coating, drying, exposure, development and thermosetting, Since equipment such as a coating machine, a dryer, an exposure machine, a developing machine, and a thermosetting furnace is required, there is a drawback that the manufacturing cost is high.
以上の問題を解決するための方法として、インクジェットプリンターを用いて硬化性樹脂組成物のパターンを基板上に描画し、これを乾燥することでソルダーレジストパターンを作成する方法が提案されている(特許文献2参照)。しかし、従来からソルダーレジストの形成に用いられるスクリーン印刷法では、使用する硬化性樹脂組成物の粘度は2,000〜15,000mPa・s(25℃)であるのに対し、インクジェットプリンターを用いた場合の硬化性樹脂組成物の粘度は10〜150mPa・s(25℃)と低く、その粘度の差は大きい。従って、実際にこのような粘度の低い硬化性樹脂組成物をインクジェットプリンターに用いる場合、乾燥工程でかかる熱によりその粘度がさらに低下し、形成したパターンにニジミが発生するため十分な精度をもったソルダーレジストパターンを得ることができず、その実用化には至ってない。 As a method for solving the above problems, a method of creating a solder resist pattern by drawing a pattern of a curable resin composition on a substrate using an ink jet printer and drying the pattern is proposed (patent) Reference 2). However, in the screen printing method conventionally used for forming the solder resist, the viscosity of the curable resin composition to be used is 2,000 to 15,000 mPa · s (25 ° C.), whereas an ink jet printer is used. In this case, the viscosity of the curable resin composition is as low as 10 to 150 mPa · s (25 ° C.), and the difference in viscosity is large. Therefore, when such a curable resin composition having a low viscosity is actually used in an ink jet printer, the viscosity is further reduced by heat applied in the drying process, and the formed pattern has a sufficient accuracy because it is blurred. A solder resist pattern cannot be obtained and has not been put to practical use.
また、硬化性樹脂組成物の粘度を低くする方法として、低分子量の化合物、例えばトリメチロールプロパントリグリシジルエーテルのようなエポキシ樹脂やトリアリルイソシアヌレート(TAIC)等を希釈剤として用いる方法が考えられる。しかしこの場合、当該樹脂組成物を用いて形成した硬化物は耐熱性や硬化性に欠けるという問題があった。 Further, as a method for reducing the viscosity of the curable resin composition, a method using a low molecular weight compound, for example, an epoxy resin such as trimethylolpropane triglycidyl ether or triallyl isocyanurate (TAIC) as a diluent may be considered. . However, in this case, there has been a problem that a cured product formed using the resin composition lacks heat resistance and curability.
そこで、その硬化物に耐熱性等の特性を付与する目的で、比較的分子量が低く、耐熱性のあるビスアリルナジイミド化合物を硬化性樹脂組成物に配合する方法も考えられる(特許文献4参照)。ここで、ビスアリルナジイミド化合物を配合した樹脂組成物は、一般的に250℃前後の高温で硬化する必要があるため、過酸化物を用いてこれを硬化する方法が提案されている(特許文献3参照)。しかし、過酸化物を用いて形成した硬化物をプリント配線板に用いた場合、プリント配線板の銅箔等の金属表面の酸化が激しくなり、その物性が低下するという問題が生じる。 Therefore, for the purpose of imparting characteristics such as heat resistance to the cured product, a method of blending a bisallyl nadiimide compound having a relatively low molecular weight and heat resistance into the curable resin composition is also conceivable (see Patent Document 4). ). Here, since the resin composition containing the bisallylnadiimide compound generally needs to be cured at a high temperature of about 250 ° C., a method of curing the resin composition using a peroxide has been proposed (patent) Reference 3). However, when a cured product formed using a peroxide is used for a printed wiring board, oxidation of the metal surface such as a copper foil of the printed wiring board becomes intense, resulting in a problem that the physical properties are deteriorated.
また、ビスアリルナジイミド化合物を樹脂組成物に配合した場合、時として経時とともに樹脂組成物がゲル化することがある。 Moreover, when a bisallyl nadiimide compound is mix | blended with a resin composition, a resin composition may gelatinize with time.
本発明が解決しようとする課題は、プリント配線板の製造に有用な、低粘度で、作業性及び保存安定性に優れ、更に耐熱性、耐薬品性、無電解金めっき耐性、及び絶縁性に優れる硬化性樹脂組成物を提供することにある。具体的には、ビスアリルナジイミド化合物を配合した場合に、時として発生する経時によるゲル化を防ぐことができるインクジェット用硬化性樹脂組成物を提供することにある。
本発明者等は、種々の検討の結果、上記ゲル化が次の理由に起因するものとの推測に至った。即ち、ビスアリルナジイミド化合物は、その合成過程であるイミド化の際にアミック酸が閉環しきれないことがあり、アミック酸が閉環しきれていないビスアリルナジイミド化合物が合成される場合がある。また、ナジック酸にジアミンを付加し脱水反応させて合成する場合においては、脱水反応が不十分な場合がある。そして、このようなビスアリルナジイミド化合物はカルボン酸が残っているため酸性化し、それによりエン反応やディールス・アルダー反応が起こりやすくなる。
以上から、本発明者等は、上述のようなアミック酸が閉環しきれていないビスアリルナジイミド化合物が含まれる硬化性樹脂組成物はゲル化が起こりやすくなるとの推測に至ったものである。
The problems to be solved by the present invention are low viscosity, excellent workability and storage stability, which are useful for the production of printed wiring boards, and further, heat resistance, chemical resistance, electroless gold plating resistance, and insulation. The object is to provide an excellent curable resin composition. Specifically, an object of the present invention is to provide an ink-jet curable resin composition that can prevent gelation with time that sometimes occurs when a bisallylnadiimide compound is blended.
As a result of various studies, the present inventors have inferred that the gelation is caused by the following reason. That is, the bisallylnadiimide compound may not be completely ring-closed during imidization, which is the synthesis process, and a bisallylnadiimide compound in which the amic acid is not completely ring-closed may be synthesized. . In addition, when a diamine is added to nadic acid and synthesized by dehydration, the dehydration reaction may be insufficient. Such a bisallylnadiimide compound is acidified because carboxylic acid remains, thereby causing an ene reaction and a Diels-Alder reaction.
From the above, the present inventors have inferred that gelation is likely to occur in the curable resin composition containing the bisallylnadiimide compound in which the above-mentioned amic acid is not ring-closed.
前記目的を達成するために、本発明は以下の特徴を有する。
即ち、本発明の特徴の一つは、(A)下記一般式(1)で示されるビスアリルナジイミド化合物と、
(B)下記一般式(2)で示されるビスマレイミド化合物と、
(C)希釈剤と、
(D)ヒドロキノン及びヒドロキノン誘導体の少なくとも一方とを含有するインクジェット用硬化性樹脂組成物であって、
その粘度が25℃で150mPa・s以下であることを特徴とするインクジェット用硬化性樹脂組成物である。
In order to achieve the above object, the present invention has the following features.
That is, one of the features of the present invention is (A) a bisallylnadiimide compound represented by the following general formula (1):
(B) a bismaleimide compound represented by the following general formula (2);
(C) a diluent;
(D) A curable resin composition for inkjet containing at least one of hydroquinone and a hydroquinone derivative,
It is a curable resin composition for inkjet, having a viscosity of 150 mPa · s or less at 25 ° C.
また、本発明の他の特徴は、上記ビスアリルナジイミド化合物(A)が下記一般式(3)で示されるアミック酸化合物を加熱脱水して得られるビスアリルナジイミド化合物(a−1)
及び下記一般式(4)で示される無水アリルナジック酸に下記一般式(5)で示されるジアミン化合物を付加し脱水反応させて得られるビスアリルナジイミド化合物(a−2)
の少なくとも一方を含むインクジェット用硬化性樹脂組成物である。
Another feature of the present invention is that the bisallylnadiimide compound (a-1) is obtained by heating and dehydrating the amic acid compound represented by the following general formula (3).
And a bisallylnadiimide compound (a-2) obtained by adding a diamine compound represented by the following general formula (5) to the allyl nadic acid anhydride represented by the following general formula (4) to cause a dehydration reaction
It is the curable resin composition for inkjets containing at least one of these.
また、本発明の好適な態様としては、上記希釈剤(C)が、有機溶剤(C−1)及び重合性モノマー(C−2)の少なくとも一方であるインクジェット用硬化性樹脂組成物である。ここで、前記重合性モノマー(C−2)は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の少なくとも一方を有することが好ましい。 Moreover, as a suitable aspect of this invention, it is the curable resin composition for inkjets whose said diluent (C) is at least one of an organic solvent (C-1) and a polymerizable monomer (C-2). Here, the polymerizable monomer (C-2) preferably has at least one of an acryloyl group and a methacryloyl group.
また、本発明においては、インクジェット用硬化性樹脂組成物の成分のそれぞれの配合量を以下のとおりとすることが好ましい。
即ち、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)の配合量は、当該ビスアリルナジイミド化合物(A)及び前記有機溶剤(C)を除くインクジェット用硬化性樹脂組成物の成分の配合量に対して30〜96質量%であることが好ましい。
前記ビスマレイミド化合物(B)は、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して4〜45質量部配合することが好ましい。
前記希釈剤(C)は、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して25〜1900質量部配合することが好ましい。尚、前記希釈剤(C)として前記重合性モノマー(C−2)を単独で用いる場合には、これを前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して25〜200質量部配合することが好ましい。
更に前記ヒドロキノン及びヒドロキノン誘導体の少なくとも一方(D)は、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して0.04〜0.5質量部配合することが好ましい。
Moreover, in this invention, it is preferable to make each compounding quantity of the component of the curable resin composition for inkjets as follows.
That is, the blending amount of the bisallylnadiimide compound (A) is 30 with respect to the blending amount of the components of the curable resin composition for inkjet excluding the bisallylnadiimide compound (A) and the organic solvent (C). It is preferable that it is -96 mass%.
The bismaleimide compound (B) is preferably blended in an amount of 4 to 45 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A).
The diluent (C) is preferably blended in an amount of 25 to 1900 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A). In addition, when using the said polymerizable monomer (C-2) independently as said diluent (C), this is mix | blended 25-200 mass parts with respect to 100 mass parts of said bisallyl nadiimide compounds (A). It is preferable.
Further, at least one of the hydroquinone and the hydroquinone derivative (D) is preferably blended in an amount of 0.04 to 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A).
更に、本発明の他の特徴は、インクジェットプリンターを用いて、プリント配線板の基板上、若しくはプリント配線板上に形成されるソルダーレジストパターン上に上記インクジェット用硬化性樹脂組成物のパターンを描画し、これを熱硬化することにより得られる硬化性樹脂組成物の硬化物を有するプリント配線板である。
尚、前記有機溶剤(C)として前記重合性モノマー(C−2)を用いる場合は、インクジェットプリンターを用いて、プリント配線板の基板上、若しくはプリント配線板上に形成されるソルダーレジストパターン上に上記インクジェット用硬化性樹脂組成物のパターンを描画し、これに紫外線を照射して光硬化した後に熱硬化することによりその硬化物を形成することもできる。
Furthermore, another feature of the present invention is that an ink jet printer is used to draw a pattern of the curable resin composition for ink jet on a printed wiring board substrate or a solder resist pattern formed on the printed wiring board. A printed wiring board having a cured product of a curable resin composition obtained by thermosetting this.
In addition, when using the said polymerizable monomer (C-2) as said organic solvent (C), it uses an inkjet printer on the board | substrate of a printed wiring board, or the solder resist pattern formed on a printed wiring board. The cured product can also be formed by drawing a pattern of the curable resin composition for inkjet and irradiating the pattern with ultraviolet rays, followed by photocuring and then thermosetting.
本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物は、低粘度であることによりインクジェットプリンターを用いて基板上にパターンを描画することが可能である。また、本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物を熱硬化等することにより得られる硬化物は耐熱性に優れており、プリント配線板用のソルダーレジストやマーキングインクとして使用することができる。更に、本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物は、ヒドロキノンやヒドロキノン誘導体を配合することにより、ビスアリルナジイミド化合物を配合した場合に、時として発生する経時による当該樹脂組成物のゲル化を防ぐことができる。そして、このような硬化性樹脂組成物の硬化物をインクジェットプリンターを用いて形成できることにより、プリント配線板の製造工程が簡略化することで生産性が向上し、更に製造設備の維持費等も低減できることから、プリント配線板の生産コストの低減化にも貢献できる。 Since the curable resin composition for inkjet of the present invention has a low viscosity, it is possible to draw a pattern on a substrate using an inkjet printer. Moreover, the hardened | cured material obtained by carrying out thermosetting etc. of the curable resin composition for inkjets of this invention is excellent in heat resistance, and can be used as a soldering resist for printed wiring boards, or marking ink. Furthermore, the curable resin composition for inkjet according to the present invention prevents gelation of the resin composition over time that sometimes occurs when a bisallylnadiimide compound is blended by blending hydroquinone or a hydroquinone derivative. be able to. And by being able to form a cured product of such a curable resin composition using an ink jet printer, productivity is improved by simplifying the manufacturing process of the printed wiring board, and the maintenance cost of manufacturing equipment is also reduced. Therefore, it can contribute to the reduction of the production cost of the printed wiring board.
以下、本発明の一実施形態を詳述する。尚、本発明が当該実施形態に限定されないことはもとよりである。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail. Of course, the present invention is not limited to this embodiment.
本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物は、(A)下記一般式(1)で示されるビスアリルナジイミド化合物と、
(B)下記一般式(2)で示されるビスマレイミド化合物と、
(C)希釈剤と、
(D)ヒドロキノン及びヒドロキノン誘導体の少なくとも一方とを含有することにより、ソルダーレジストやマーキングインキに求められる耐熱性等の必要な特性を維持した状態で、インクジェットプリンターでパターンを描画できる粘度(25℃で150mPa・s以下)とすることが可能である。
The inkjet curable resin composition of the present invention includes (A) a bisallylnadiimide compound represented by the following general formula (1),
(B) a bismaleimide compound represented by the following general formula (2);
(C) a diluent;
(D) By containing at least one of hydroquinone and a hydroquinone derivative, a viscosity (at 25 ° C.) that can draw a pattern with an ink jet printer while maintaining necessary characteristics such as heat resistance required for solder resist and marking ink. 150 mPa · s or less).
また、本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物は、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)が、下記一般式(3)で示されるアミック酸化合物を加熱脱水して得られるビスアリルナジイミド化合物(a−1)
及び下記一般式(4)で示される無水アリルナジック酸に下記一般式(5)で示されるジアミン化合物を付加し脱水反応させて得られるビスアリルナジイミド化合物(a−2)
の少なくとも一方を含む場合であっても、ヒドロキノン又はヒドロキノン誘導体の少なくとも一方を配合することにより、上記ビスアリルナジイミド化合物(a−1)及び(a−2)を起因として発生すると推測される当該樹脂組成物のゲル化を防止することができると考えられる。
Moreover, the curable resin composition for inkjet according to the present invention is a bisallylnadiimide compound (A) obtained by heating and dehydrating the amic acid compound represented by the following general formula (3). a-1)
And a bisallylnadiimide compound (a-2) obtained by adding a diamine compound represented by the following general formula (5) to the allyl nadic acid anhydride represented by the following general formula (4) to cause a dehydration reaction
Even if it contains at least one of the above, it is presumed that the above bisallylnadiimide compounds (a-1) and (a-2) are generated due to the incorporation of at least one of hydroquinone or hydroquinone derivatives. It is considered that gelation of the resin composition can be prevented.
即ち、本発明では、ビスアリルナジイミド化合物(A)を配合することにより、硬化性樹脂組成物の硬化物に耐熱性を付与することができる。しかし、当該ビスアリルナジイミド化合物(A)は、それ単独では250℃前後に加熱しないと熱硬化しない。そこで、本発明の特徴の一つである一般式(2)で示されるビスマレイミド化合物(B)と当該ビスアリルナジイミド化合物(A)とを併用することにより、その硬化温度をプリント配線板の製造で一般的に用いられている100〜200℃、好ましくは140〜180℃にすることが可能となる。また、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)と前記ビスマレイミド化合物(B)を併用することにより当該ビスマレイミド化合物(B)の結晶性は低下し、更に希釈剤(C)を加えることによって、低粘度で保存安定性に優れた液状の硬化性樹脂組成物を提供することが可能となる。 That is, in this invention, heat resistance can be provided to the hardened | cured material of a curable resin composition by mix | blending a bisallyl nadiimide compound (A). However, the bisallylnadiimide compound (A) alone is not thermally cured unless heated to around 250 ° C. Therefore, by using the bismaleimide compound (B) represented by the general formula (2) and the bisallyl nadiimide compound (A), which is one of the features of the present invention, the curing temperature of the printed wiring board is adjusted. It becomes possible to make it 100-200 degreeC generally used by manufacture, Preferably it is 140-180 degreeC. Further, by using the bisallylnadiimide compound (A) and the bismaleimide compound (B) in combination, the crystallinity of the bismaleimide compound (B) is lowered, and further by adding a diluent (C), It becomes possible to provide a liquid curable resin composition having excellent storage stability with viscosity.
以下、本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物について説明する。 Hereinafter, the curable resin composition for inkjet of the present invention will be described.
<ビスアリルナジイミド化合物(A)>
本発明に用いられるビスアリルナジイミド化合物(A)は、下記一般式(1)で示されるビスアリルナジイミド化合物である。
特に好ましいものとしては、上記一般式(1)中のR1が、下記式(6)、(7)及び(8)
The bisallyl nadiimide compound (A) used in the present invention is a bisallyl nadiimide compound represented by the following general formula (1).
Particularly preferably, R 1 in the above general formula (1) is represented by the following formulas (6), (7) and (8).
また、本発明に用いられるビスアリルナジイミド化合物(A)は、下記一般式(3)で示されるアミック酸化合物を加熱脱水して得られるビスアリルナジイミド化合物(a−1)
及び下記一般式(4)で示される無水アリルナジック酸に下記一般式(5)で示されるジアミン化合物を付加し脱水反応させて得られるビスアリルナジイミド化合物(a−2)
の少なくとも一方を含む。
Moreover, the bisallyl nadiimide compound (A) used for this invention is the bisallyl nadiimide compound (a-1) obtained by heat-dehydrating the amic acid compound shown by following General formula (3).
And a bisallylnadiimide compound (a-2) obtained by adding a diamine compound represented by the following general formula (5) to the allyl nadic acid anhydride represented by the following general formula (4) to cause a dehydration reaction
At least one of the above.
これらのビスアリルナジイミド化合物(A)は、単独又は複数種を混合して用いても良い。また、その配合量は、当該ビスアリルナジイミド化合物(A)及び有機溶剤(C)を除くインクジェット用硬化性樹脂組成物の成分の配合量に対して30〜96質量%であることが望ましい。更に必要に応じて、希釈効果のあるモノアリルナジイミド、例えば丸善石油化学社製のANI−HP(製品グレード名)等を使用することもできる。 These bisallylnadiimide compounds (A) may be used singly or in combination. Moreover, it is preferable that the compounding quantity is 30-96 mass% with respect to the compounding quantity of the component of the curable resin composition for inkjet except the said bisallyl nadiimide compound (A) and the organic solvent (C). Furthermore, if necessary, monoallyl nadiimide having a diluting effect, for example, ANI-HP (product grade name) manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd. can be used.
<ビスマレイミド化合物(B)>
本発明に用いられるビスマレイミド化合物(B)は、下記一般式(2)
で示される化合物である。特に好ましいものとしては、R2が、下記式(9)、(10)、(11)及び(12)
The bismaleimide compound (B) used in the present invention has the following general formula (2)
It is a compound shown by these. Particularly preferably, R 2 is represented by the following formulas (9), (10), (11) and (12).
<希釈剤(C)>
本発明で用いられる希釈剤(C)としては、有機溶剤(C−1)、重合性モノマー(C−2)が挙げられる。また重合性モノマー(C−2)としてはアクリロイル基及びメタクリロイル基の少なくとも一方を有するものが好ましい。
<Diluent (C)>
Examples of the diluent (C) used in the present invention include an organic solvent (C-1) and a polymerizable monomer (C-2). Moreover, as a polymerizable monomer (C-2), what has at least one of an acryloyl group and a methacryloyl group is preferable.
前記有機溶剤(C−1)としては、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;トルエン、キシレン、テトラメチルベンゼン等の芳香族炭化水素類;セロソルブ、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、カルビトール、メチルカルビトール、ブチルカルビトール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸ブチル、セロソルブアセテート、ブチルセロソルブアセテート、カルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、炭酸プロピレン等のエステル類;オクタン、デカン等の脂肪族炭化水素類;石油エーテル、石油ナフサ、ソルベントナフサ等の石油系溶剤等が挙げられる。これらの有機溶剤(C−1)は、単独で又は複数種を組み合わせて用いることができる。 Examples of the organic solvent (C-1) include ketones such as methyl ethyl ketone and cyclohexanone; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and tetramethylbenzene; cellosolve, methyl cellosolve, butyl cellosolve, carbitol, methylcarbitol, butylcarbi Toluene, propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol diethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether and other glycol ethers; ethyl acetate, butyl acetate, butyl lactate, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, carbitol acetate, butyl Carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether Seteto, esters such as propylene carbonate; octane, aliphatic hydrocarbons decane; petroleum ether, petroleum naphtha, and petroleum solvents such as solvent naphtha. These organic solvents (C-1) can be used individually or in combination of multiple types.
前記重合性モノマー(C−2)としては、スチレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体;酢酸ビニル、酪酸ビニル又は安息香酸ビニル等のビニルエステル類;ビニルイソブチルエーテル、ビニル−n−ブチルエーテル、ビニル−t−ブチルエーテル、ビニル−n−アミルエーテル、ビニルイソアミルエーテル、ビニル−n−オクタデシルエーテル、ビニルシクロヘキシルエーテル、エチレングリコールモノブチルビニルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルビニルエーテル等のビニルエーテル類;アクリルアミド、メタクリルアミド、N−ヒドロキシメチルアクリルアミド、N−ヒドロキシメチルメタクリルアミド、N−メトキシメチルアクリルアミド、N−エトキシメチルアクリルアミド、N−ブトキシメチルアクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類;トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル等のアリル化合物;2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、メチルトリグリコール(メタ)アクリレート、シクロヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、1,3―ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、4−(メタ)アクリロイルオキシメチルー2−メチルー2−エチルー1,3−ジオキソラン、4−(メタ)アクリロイルオキシメチルー2−イソブチルー2−エチルー1,3−ジオキソラン、4−(メタ)アクリロイルオキシメチルー2−シクロヘキシルー1,3−ジオキソラン、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートの等の1分子中にアクリロイル基及び/又はメタクリロイル基が1個以上有する化合物が挙げられる。これらの中で、特に1分子中に1〜4個のアクリロイル基及びメタクリロイル基の少なくとも一方を有する化合物が好ましい。更には、その粘度が、25℃で300mPa・s以下となる化合物が特に好ましい。これらの重合性モノマー(C−2)は、単独又は複数種を混合して用いても良い。 Examples of the polymerizable monomer (C-2) include styrene derivatives such as styrene, chlorostyrene, and α-methylstyrene; vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate; vinyl isobutyl ether, vinyl-n-butyl ether. Vinyl ethers such as vinyl tert-butyl ether, vinyl n-amyl ether, vinyl isoamyl ether, vinyl n-octadecyl ether, vinyl cyclohexyl ether, ethylene glycol monobutyl vinyl ether, triethylene glycol monomethyl vinyl ether; acrylamide, methacrylamide, N-hydroxymethylacrylamide, N-hydroxymethylmethacrylamide, N-methoxymethylacrylamide, N-ethoxymethylacrylamide, N-butoxime (Meth) acrylamides such as ruacrylamide; allyl compounds such as triallyl isocyanurate, diallyl phthalate, diallyl isophthalate; 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, 2- Hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, methyltriglycol ( (Meth) acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylhexyl carbitol acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, methoxydiethyl Lenglycol (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol Di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6 Hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 4- (meth) acryloyloxymethyl-2-methyl-2 Ethyl-1,3-dioxolane, 4- (meth) acryloyloxymethyl-2-isobutyl-2-ethyl-1,3-dioxolane, 4- (meth) acryloyloxymethyl-2-cyclohexylene 1,3-dioxolane, trimethylolpropane Tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, etc. In which one or more acryloyl groups and / or methacryloyl groups are contained in one molecule. Among these, a compound having at least one of 1 to 4 acryloyl groups and methacryloyl groups in one molecule is preferable. Furthermore, a compound having a viscosity of 300 mPa · s or less at 25 ° C. is particularly preferable. These polymerizable monomers (C-2) may be used alone or in combination of two or more.
尚、本明細書においては、(メタ)アクリレートとは、アクリレート、メタクリレート及びそれらの混合物を総称する用語であり、他の類似の表現についても同様である。 In the present specification, the term “(meth) acrylate” is a general term for acrylate, methacrylate, and a mixture thereof, and the same applies to other similar expressions.
上記希釈剤(C)の配合量は、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して好ましくは25〜1900質量部、より好ましくは40〜400質量部である。
当該希釈剤(C)の配合量が、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して25質量部未満の場合、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)の溶解不良が起きたり、硬化性樹脂組成物が高粘度化して基板等に塗布できなくなるため好ましくない。また希釈剤(C)として有機溶剤(C−1)のみを用いる場合に、その配合量が前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して1900質量部を超えると、硬化性樹脂組成物に含まれる固形分の含有量が少なくなるため、これを基板等に塗布した際の塗膜の膜厚の確保が困難となる。更に希釈剤(C)として重合性モノマー(C−2)のみを使用する場合、その配合量は、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して25〜200質量部であることが好ましい。当該重合性モノマー(C−2)の配合量が、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して200質量部を超えた場合、硬化性樹脂組成物を硬化する際に塗膜が割れ易くなるので好ましくない。
The blending amount of the diluent (C) is preferably 25 to 1900 parts by mass, more preferably 40 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A).
When the blending amount of the diluent (C) is less than 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A), poor dissolution or curing of the bisallylnadiimide compound (A) occurs. This is not preferable because the adhesive resin composition becomes highly viscous and cannot be applied to a substrate or the like. Moreover, when using only the organic solvent (C-1) as a diluent (C), when the compounding quantity exceeds 1900 mass parts with respect to 100 mass parts of the said bisallyl nadiimide compounds (A), curable resin composition Since the solid content in the product is reduced, it is difficult to ensure the film thickness of the coating film when it is applied to a substrate or the like. Furthermore, when using only a polymerizable monomer (C-2) as a diluent (C), the compounding quantity shall be 25-200 mass parts with respect to 100 mass parts of the said bisallyl nadiimide compounds (A). preferable. When the compounding amount of the polymerizable monomer (C-2) exceeds 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A), a coating film is formed when the curable resin composition is cured. Since it becomes easy to break, it is not preferable.
<ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体(D)>
本発明で用いられるヒドロキノン及びヒドロキノン誘導体の少なくとも一方(D)としては、ヒドロキノン、アルブチン(ヒドロキノン−β−D−グルコシド)、ヒドロキノンモノベンジルエーテル、二酢酸ヒドロキノン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ヒドロキノンジメチルエーテル、ヒドロキノンモノエチルエーテル、ヒドロキノンスルホン酸カリウム、ヒドロキノン−2,5−ジスルホン酸二カリウム、ヒドロキノンモノ−n−ヘキシルエーテル、ヒドロキノンモノフェニルエーテル、p−メトキシフェノール、2−メチルヒドロキノン、2,5ジ−tーブチルヒドロキノン等が挙げられる。これらのヒドロキノン及びヒドロキノン誘導体の少なくとも一方(D)は、単独又は複数種を用いても良い。また前記ヒドロキノン及びヒドロキノン誘導体の少なくとも一方(D)の配合量は、前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して0.04〜0.5質量部であることが好ましい。当該配合量が前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して0.04質量部未満である場合、ゲル化を防止して保存安定性向上させる効果が少なくなるため好ましくない。一方、当該配合量が前記ビスアリルナジイミド化合物(A)100質量部に対して0.5質量部を超えると、硬化物の塗膜特性の劣化が生じるため好ましくない。
<Hydroquinone, hydroquinone derivative (D)>
As at least one (D) of hydroquinone and hydroquinone derivative used in the present invention, hydroquinone, arbutin (hydroquinone-β-D-glucoside), hydroquinone monobenzyl ether, hydroquinone hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, hydroquinone dimethyl ether, hydroquinone monoethyl Ether, potassium hydroquinonesulfonate, dipotassium hydroquinone-2,5-disulfonate, hydroquinone mono-n-hexyl ether, hydroquinone monophenyl ether, p-methoxyphenol, 2-methylhydroquinone, 2,5 di-t-butylhydroquinone Etc. At least one (D) of these hydroquinones and hydroquinone derivatives may be used alone or in combination. Moreover, it is preferable that the compounding quantity of at least one (D) of the said hydroquinone and a hydroquinone derivative is 0.04-0.5 mass part with respect to 100 mass parts of said bisallyl nadiimide compounds (A). When the blending amount is less than 0.04 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A), the effect of preventing gelation and improving storage stability is not preferable. On the other hand, when the blending amount exceeds 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the bisallylnadiimide compound (A), the coating properties of the cured product are deteriorated, which is not preferable.
<その他添加剤>
本発明の硬化性樹脂組成物には、硬化性を向上させるために、熱又は活性エネルギー線照射によりラジカルを発生するラジカル重合開始剤を配合することができる。このようなラジカル重合開始剤としては、銅箔等の金属表面を酸化させる過酸化物を除く重合開始剤が使用でき、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインとベンゾインアルキルエーテル類;アセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、1,1−ジクロロアセトフェノン等のアセトフェノン類;2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、N,N−ジメチルアミノアセトフェノン等のアミノアセトフェノン類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアントラキノン類;2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類;アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類;ベンゾフェノン、4,4’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類又はキサントン類;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイドや、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール等のハロメチルオキサジアゾール系化合物;2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(p−メトキシ−フェニルビニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブタジエニル)−s−トリアジン等のハロメチル−s−トリアジン系化合物が挙げられる。これらのラジカル重合開始剤は、単独又は複数種を混合して用いても良い。その配合量は、前記希釈剤(C)として有機溶剤(C−1)を配合する場合、当該有機溶剤(C−1)を除いた硬化性樹脂組成物の成分の配合量に対して10質量%以下であり、好ましくは0.5〜5質量%である。当該配合量が10質量%を超えた場合、硬化性樹脂組成物の塗膜特性が低下するため好ましくない。
<Other additives>
In order to improve curability, the curable resin composition of the present invention may contain a radical polymerization initiator that generates radicals by irradiation with heat or active energy rays. As such a radical polymerization initiator, a polymerization initiator excluding a peroxide that oxidizes a metal surface such as copper foil can be used. For example, benzoin and benzoin such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether can be used. Alkyl ethers; acetophenones such as acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 1,1-dichloroacetophenone; 2-methyl-1- [4- (methylthio) ) Phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, aminoacetophenones such as N, N-dimethylaminoacetophenone ; 2-methylanthraki , 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 1-chloroanthraquinone and other anthraquinones; 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, etc. Thioxanthones; Ketals such as acetophenone dimethyl ketal and benzyl dimethyl ketal; Benzophenones and xanthones such as benzophenone and 4,4′-bisdiethylaminobenzophenone; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 2-trichloromethyl Halomethyloxadiazoles such as -5-styryl-1,3,4-oxadiazole and 2-trichloromethyl-5- (p-cyanostyryl) -1,3,4-oxadiazole 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (p-methoxy-phenylvinyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl-s- And halomethyl-s-triazine compounds such as triazine and 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (1-p-dimethylaminophenyl-1,3-butadienyl) -s-triazine. These radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more. The compounding quantity is 10 mass with respect to the compounding quantity of the component of the curable resin composition except the said organic solvent (C-1), when mix | blending an organic solvent (C-1) as said diluent (C). % Or less, preferably 0.5 to 5% by mass. When the blending amount exceeds 10% by mass, the coating film characteristics of the curable resin composition deteriorate, which is not preferable.
また、本発明の硬化性樹脂組成物には、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、N,N−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ペンチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の第三級アミン類等の重合開始助剤を加えることができる。 The curable resin composition of the present invention includes N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, N, N-dimethylaminobenzoic acid isoamyl ester, pentyl-4-dimethylaminobenzoate, triethylamine, triethanolamine and the like. Polymerization initiation assistants such as tertiary amines can be added.
更に、本発明の硬化性樹脂組成物には、ナノシリカ等の超微粉の無機充填剤、又は酸化チタン等の無機顔料等を配合することができる。これらの配合量は、硬化性樹脂組成物の不揮発分100質量部に対して、30質量部以下であることが好ましい。当該配合量が30質量部を超えた場合、硬化性樹脂組成物の粘度が上昇するため、インクジェットプリンターを用いてのパターンの塗布が困難となり、また当該樹脂組成物の硬化性が低下するため好ましくない。 Furthermore, the curable resin composition of the present invention may contain an ultrafine inorganic filler such as nano silica or an inorganic pigment such as titanium oxide. It is preferable that these compounding quantities are 30 mass parts or less with respect to 100 mass parts of non volatile matters of a curable resin composition. When the blending amount exceeds 30 parts by mass, the viscosity of the curable resin composition is increased, so that it is difficult to apply a pattern using an ink jet printer, and the curability of the resin composition is decreased. Absent.
本発明の硬化性樹脂組成物には、上記以外に、ジシアンジアミド、o−トリルビグアニド、グアナミン、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン等のグアナミン類、メラミン等の酸化防止剤、アントラキノン系、ペリレン系、ジスアゾ系、イソインドリン系、フタロシアニン系等の有機顔料、消泡剤、密着性付与剤、レベリング剤、顔料分散剤等の各種添加剤類を配合することができる。これらの添加剤の配合量は、硬化性樹脂組成物の不揮発分100質量部に対して5質量部以下である。当該配合量が5質量部を超えた場合、硬化性樹脂組成物の粘度が上昇するため、インクジェットプリンターを用いてのパターンの塗布が困難となり、また当該樹脂組成物の硬化性が低下するため好ましくない。 In addition to the above, the curable resin composition of the present invention includes guanamines such as dicyandiamide, o-tolylbiguanide, guanamine, acetoguanamine, and benzoguanamine, antioxidants such as melamine, anthraquinone, perylene, disazo, and isoazo. Various additives such as organic pigments such as indoline and phthalocyanine, antifoaming agents, adhesion-imparting agents, leveling agents, and pigment dispersants can be blended. The compounding quantity of these additives is 5 mass parts or less with respect to 100 mass parts of non volatile matters of curable resin composition. When the blending amount exceeds 5 parts by mass, the viscosity of the curable resin composition is increased, so that it is difficult to apply a pattern using an ink jet printer, and the curability of the resin composition is decreased. Absent.
本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物、及びその硬化物を有するプリント配線板は、例えば以下の手順で作製される。
即ち、まずは上記硬化性樹脂組成物の各成分を、例えばロールミル、サンドミル、ボールミル、ビーズミル、アトライターのような撹拌機又は分散機を使用して均一に混合・分散させる。そして、混合・分散された組成物について、25℃で150mPa・s以下、好ましくは110〜5mPa・sとなるように希釈剤(C)で粘度を調整し、本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物を作製する。
The inkjet curable resin composition of the present invention and the printed wiring board having the cured product are produced, for example, by the following procedure.
That is, first, each component of the curable resin composition is uniformly mixed and dispersed using a stirrer or a disperser such as a roll mill, a sand mill, a ball mill, a bead mill, or an attritor. Then, the viscosity of the mixed and dispersed composition is adjusted with a diluent (C) so that it is 150 mPa · s or less, preferably 110 to 5 mPa · s at 25 ° C., and the curable resin composition for inkjet according to the present invention is used. Make a thing.
そして、インクジェットプリンターを用いて、回路形成されたプリント配線板表面に上記硬化性樹脂組成物のパターンを描画する。その後、100〜200℃、好ましくは140〜180℃で10〜60分、当該パターンを熱硬化することにより、耐熱性等に優れた硬化物であるレジストパターンを得ることができる。また、本発明のインクジェット用熱硬化性樹脂組成物において、前記希釈剤(C)として重合性モノマー(C−2)を用い、更に活性エネルギー線照射によりラジカルを発生する前記ラジカル重合開始剤を配合した場合には、インクジェットプリンターを用いて、回路形成されたプリント配線板表面に上記硬化性樹脂組成物のパターンを描画した後、当該パターンに紫外線等の活性エネルギー線を照射してこれを光硬化させることにより、ニジミ等の少ないパターンを形成することができる。そして、当該光硬化させたパターンを100〜200℃、好ましくは140〜180℃で10〜60分、熱硬化させることにより、耐熱性に優れた硬化物であるレジストパターンを得ることができる。 And the pattern of the said curable resin composition is drawn on the printed wiring board surface in which the circuit was formed using the inkjet printer. Then, the resist pattern which is hardened | cured material excellent in heat resistance etc. can be obtained by thermosetting the said pattern at 100-200 degreeC, Preferably 140-180 degreeC for 10 to 60 minutes. Moreover, in the thermosetting resin composition for inkjets of the present invention, a polymerizable monomer (C-2) is used as the diluent (C), and further, the radical polymerization initiator that generates radicals upon irradiation with active energy rays is blended. In such a case, an ink jet printer is used to draw a pattern of the curable resin composition on the surface of the printed circuit board on which the circuit has been formed, and then the pattern is irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays to photocure it. By doing so, it is possible to form a pattern with little blurring. And the resist pattern which is a hardened | cured material excellent in heat resistance can be obtained by thermosetting the said photocured pattern at 100-200 degreeC, Preferably it is 140-180 degreeC for 10 to 60 minutes.
上記インクジェットプリンターとしては、オンデマンド・ピエゾ方式のインクジェットプリンターを用いることができる。当該インクジェットプリンターを用いる場合、ノズルを室温、又は約60℃以下に加温して塗布することができる。 As the ink jet printer, an on-demand piezo ink jet printer can be used. When the ink jet printer is used, the nozzle can be applied by heating to a room temperature or about 60 ° C. or less.
前記活性エネルギー線の照射光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ又はメタルハライドランプ等が好適に用いられる。またレーザー光線等も活性エネルギー線として利用できる。 As the irradiation light source of the active energy ray, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, or the like is preferably used. Laser beams and the like can also be used as active energy rays.
上述の通り、本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物を用いてプリント配線板を製造する場合、従来のアルカリ現像タイプの液状ソルダーレジスト組成物のような複雑な工程を必要としないことから、低価格で、かつイオン性物質等の付着が無い、信頼性の高いプリント配線板を提供することができる。 As described above, when a printed wiring board is produced using the curable resin composition for inkjet of the present invention, it does not require a complicated process as in the conventional alkali development type liquid solder resist composition. It is possible to provide a highly reliable printed wiring board that is inexpensive and has no adhesion of ionic substances or the like.
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。尚、以下において特に断りのない限り、「部」は質量部を意味する。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example is shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not limited only to these Examples. In the following, “part” means part by mass unless otherwise specified.
ビスアリルナジイミド化合物(A)の選定
製造ロットの異なる下記一般式(13)で表わされるビスアリルナジイミド−1について、表1に示す成分及び割合にて配合し、これをディゾルバーで攪拌した。当該攪拌物を1μmのディスクフィルターを用いてろ過し、例1〜3の組成物を得た。
アクリレート−1:1,4−ブタンジオールジアクリレート
アクリレート−2:4−ヒドロキシブチルアクリレート
アクリレート−3:トリメチロールプロパントリアクリレート
例1から例3の各組成物をそれぞれ500mlの褐色ガラス瓶に500g入れ、栓を完全に閉めて密封状態にした。次いで、各ガラス瓶を温度50℃の保管庫に7日間保存した後、これを常温に戻してから各組成物の状態を目視で観察し、以下のとおり評価を行った。その結果を表2に示す。
○:増粘等変化が全く見られない
△:明らかな増粘が見られる
×:固体化している
500 g of each of the compositions of Examples 1 to 3 was placed in a 500 ml brown glass bottle, and the stopper was completely closed and sealed. Next, after each glass bottle was stored in a storage cabinet at a temperature of 50 ° C. for 7 days, the glass bottle was returned to room temperature, and then the state of each composition was visually observed and evaluated as follows. The results are shown in Table 2.
○: No change such as thickening is observed Δ: Clear thickening is observed ×: Solidified
表2に示すとおり、例1と例2の製造ロットのビスアリルナジイミド−1を配合した組成物は、増粘等の変化が見られず、保存安定性が良いことが分かる。一方、例3の製造ロットのビスアリルナジイミド−1は、保存安定性に問題が生じたことが分かる。 As shown in Table 2, it can be seen that the composition in which the production lots of bisallylnadiimide-1 of Example 1 and Example 2 were blended did not show changes such as thickening, and had good storage stability. On the other hand, it can be seen that bisallylnadiimide-1 in the production lot of Example 3 had a problem in storage stability.
そこで、保存安定性に問題が生じた製造ロット3のビスアリルナジイミド−1と、保存安定性の良い製造ロット1のビスアリルナジイミド−1を用いて、これらを表3に示す組成及び割合にて配合し、これをディゾルバーで攪拌した。当該撹拌物を1μmのディスクフィルターを用いてろ過し、実施例1〜6、及び比較例1〜5の各組成物を得た。 Then, the composition and ratio which are shown in Table 3 using the bisallyl nadiimide-1 of the production lot 3 which produced the problem in storage stability, and the bisallyl nadiimide-1 of the production lot 1 with good storage stability. And the mixture was stirred with a dissolver. The agitated material was filtered using a 1 μm disk filter, and compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 5 were obtained.
ビスマレイミド−1:ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン
<希釈剤(C)>
アクリレート−1:1,4−ブタンジオールジアクリレート
アクリレート−2:4−ヒドロキシブチルアクリレート
アクリレート−3:トリメチロールプロパントリアクリレート
<開始剤>
開始剤−1:BASF社製イルガキュア379
<ヒドロキノン、ヒドロキノン誘導体(D)>
ヒドロキノン誘導体−1:p−メトキシフェノール
ヒドロキノン誘導体−2:2−メチルヒドロキノン
ヒドロキノン誘導体−3:2,5ジ−t−ブチルヒドロキノン
<添加剤>
アミン−1:ジアザビシクロウンデセン(酸性を塩基性で中和する目的で添加)
Bismaleimide-1: bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane <Diluent (C)>
Acrylate-1: 1,4-butanediol diacrylate acrylate-2: 4-hydroxybutyl acrylate acrylate-3: trimethylolpropane triacrylate <initiator>
Initiator-1: Irgacure 379 manufactured by BASF
<Hydroquinone, hydroquinone derivative (D)>
Hydroquinone derivative-1: p-methoxyphenol hydroquinone derivative-2: 2-methylhydroquinone hydroquinone derivative-3: 2,5 di-t-butylhydroquinone <additive>
Amine-1: Diazabicycloundecene (added for the purpose of neutralizing acidity with basicity)
実施例1から6、及び比較例1から5の各組成物をそれぞれ500mlの褐色ガラス瓶に500g入れ、栓を完全に閉めて密封状態にした。次いで、各ガラス瓶を温度50℃の保管庫に7日間保存した後、これを常温に戻してから各組成物の状態を目視で観察し、以下のとおり評価を行った。その結果を表4に示す。
○:増粘等変化が全く見られない
△:明らかな増粘が見られる
×:固体化している
500 g of each composition of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 5 was placed in a 500 ml brown glass bottle, and the stopper was completely closed to make it sealed. Next, after each glass bottle was stored in a storage cabinet at a temperature of 50 ° C. for 7 days, the glass bottle was returned to room temperature, and then the state of each composition was visually observed and evaluated as follows. The results are shown in Table 4.
○: No change such as thickening is observed Δ: Clear thickening is observed ×: Solidified
<耐熱性・耐薬品性試験>
富士フィルム製インクジェットプリンターDimatix Materials Printer DMP−2831を用いて、プリント配線板用銅張積層板(FR−4 厚み1.6mm 大きさ150×95mm)に、実施例1から6、及び比較例1から5の組成物で10×20mmの大きさの長方形のパターンを膜厚が10μmになるように印刷した。その直後、高圧水銀灯を用いて1000mJ/cm2の積算光量で上記パターンにUV照射した。次いで、当該UV照射後のパターンを熱風循環式乾燥炉にて180℃30分加熱して熱硬化し、各試験片を得た。
<Heat and chemical resistance test>
Using Fujifilm inkjet printer Dimatix Materials Printer DMP-2831, copper-clad laminate for printed wiring board (FR-4 thickness 1.6 mm, size 150 × 95 mm), Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 A rectangular pattern having a size of 10 × 20 mm was printed with the composition No. 5 so that the film thickness was 10 μm. Immediately thereafter, the pattern was irradiated with UV at a cumulative light quantity of 1000 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp. Next, the UV-irradiated pattern was heated and cured at 180 ° C. for 30 minutes in a hot-air circulating drying oven to obtain each test piece.
熱硬化したパターンの耐熱性及び耐薬品性を評価するため、各試験片にロジン系フラックスを塗布し、これを260℃ のはんだ槽に10秒間浸漬した。その後、はんだ槽から取り出した各試験片を自然冷却し、更にこれをプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに10分間浸漬して洗浄した。当該洗浄後の各試験片の塗膜(パターン)の状態を目視で以下のとおり評価した。その結果を表5に示す。
○:塗膜に変化が全く見られない
△:わずかに浮き、はがれが見られる
×:明らかなはがれが見られる
In order to evaluate the heat resistance and chemical resistance of the heat-cured pattern, rosin flux was applied to each test piece, and this was immersed in a solder bath at 260 ° C. for 10 seconds. Thereafter, each test piece taken out from the solder bath was naturally cooled, and further immersed in propylene glycol monomethyl ether acetate for 10 minutes for cleaning. The state of the coating film (pattern) of each test piece after washing was visually evaluated as follows. The results are shown in Table 5.
○: No change is observed in the coating film Δ: Slightly floating, peeling is seen ×: Clear peeling is seen
<絶縁性試験>
実施例1から6、及び比較例1から5の組成物について、銅張り積層板の代わりにIPC B−25テストパターンのクシ型電極Bクーポンを用い、また膜厚を40μmにしたこと以外は上記耐熱性・耐薬品性試験に記載の方法と同様の方法で各試験片を作製した。当該各試験片に、DC500Vのバイアスを印加し、絶縁抵抗値を測定した。各試験片の絶縁抵抗値が100GΩ以上であれば○、100GΩ未満であれば×とした。その結果を表5に示す。
<Insulation test>
The compositions of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 5 were the above except that the comb-type electrode B coupon of the IPC B-25 test pattern was used instead of the copper-clad laminate, and the film thickness was 40 μm. Each test piece was produced by the same method as described in the heat resistance / chemical resistance test. A DC 500 V bias was applied to each test piece, and the insulation resistance value was measured. When the insulation resistance value of each test piece was 100 GΩ or more, it was evaluated as ◯, and when it was less than 100 GΩ, it was rated as x. The results are shown in Table 5.
以上のとおり、本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物は、耐熱性、耐薬品性、及び絶縁性に優れる硬化物を形成することができる。また本発明のインクジェット用硬化性樹脂組成物は、ビスアリルナジイミドの製造ロットによらず、ゲル化を防止することができ、保存安定性に優れる硬化性樹脂組成物である。 As described above, the curable resin composition for inkjet of the present invention can form a cured product having excellent heat resistance, chemical resistance, and insulation. Moreover, the curable resin composition for inkjet of the present invention is a curable resin composition that can prevent gelation and has excellent storage stability regardless of the production lot of bisallylnadiimide.
Claims (13)
(B)下記一般式(2)で示されるビスマレイミド化合物と、
(C)希釈剤と、
(D)ヒドロキノン及びヒドロキノン誘導体の少なくとも一方とを含有するインクジェット用硬化性樹脂組成物であって、
その粘度が25℃で150mPa・s以下であることを特徴とするインクジェット用硬化性樹脂組成物。 (A) a bisallylnadiimide compound represented by the following general formula (1);
(B) a bismaleimide compound represented by the following general formula (2);
(C) a diluent;
(D) A curable resin composition for inkjet containing at least one of hydroquinone and a hydroquinone derivative,
A curable resin composition for inkjet, having a viscosity of 150 mPa · s or less at 25 ° C.
及び下記一般式(4)で示される無水アリルナジック酸に下記一般式(5)で示されるジアミン化合物を付加し脱水反応させて得られるビスアリルナジイミド化合物(a−2)
の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項1に記載のインクジェット用硬化性樹脂組成物。 The bisallylnadiimide compound (A-1) obtained by heating and dehydrating the amic acid compound represented by the following general formula (3) as the bisallylnadiimide compound (A)
And a bisallylnadiimide compound (a-2) obtained by adding a diamine compound represented by the following general formula (5) to the allyl nadic acid anhydride represented by the following general formula (4) to cause a dehydration reaction
The curable resin composition for inkjet according to claim 1, comprising at least one of the following.
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014132066A (en) * | 2012-12-03 | 2014-07-17 | Jnc Corp | Curable composition and its use |
WO2017169166A1 (en) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 太陽インキ製造株式会社 | Curable composition for ink-jet printing, cured object, and printed wiring board |
CN107709456A (en) * | 2015-07-06 | 2018-02-16 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Resin combination, prepreg, resin sheet, clad with metal foil plywood and printed circuit board (PCB) |
JP2020084125A (en) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | 日立化成株式会社 | Curable composition, cured product thereof, and wiring layer for semiconductor |
CN113321968A (en) * | 2021-06-16 | 2021-08-31 | 深圳市撒比斯科技有限公司 | 3D laser photosensitive printing solder resist ink for integrated circuit and preparation method thereof |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006075654A1 (en) * | 2005-01-12 | 2006-07-20 | Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Curable resin composition for ink-jet printing, cured object obtained therefrom, and printed wiring board obtained with the same |
JP2008214607A (en) * | 2007-02-09 | 2008-09-18 | Chisso Corp | Photocurable ink for inkjet |
-
2011
- 2011-03-31 JP JP2011078843A patent/JP2012214532A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006075654A1 (en) * | 2005-01-12 | 2006-07-20 | Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Curable resin composition for ink-jet printing, cured object obtained therefrom, and printed wiring board obtained with the same |
JP2008214607A (en) * | 2007-02-09 | 2008-09-18 | Chisso Corp | Photocurable ink for inkjet |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014132066A (en) * | 2012-12-03 | 2014-07-17 | Jnc Corp | Curable composition and its use |
CN107709456A (en) * | 2015-07-06 | 2018-02-16 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Resin combination, prepreg, resin sheet, clad with metal foil plywood and printed circuit board (PCB) |
CN107709456B (en) * | 2015-07-06 | 2021-07-27 | 三菱瓦斯化学株式会社 | Resin composition, prepreg, resin sheet, metal foil-clad laminate, and printed wiring board |
WO2017169166A1 (en) | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 太陽インキ製造株式会社 | Curable composition for ink-jet printing, cured object, and printed wiring board |
US10907066B2 (en) | 2016-03-31 | 2021-02-02 | Taiyo Ink Mfg. Co., Ltd. | Curable composition for ink-jet printing, cured object, and printed wiring board |
JP2020084125A (en) * | 2018-11-30 | 2020-06-04 | 日立化成株式会社 | Curable composition, cured product thereof, and wiring layer for semiconductor |
JP7212829B2 (en) | 2018-11-30 | 2023-01-26 | 株式会社レゾナック | Curable composition, cured product thereof, and wiring layer for semiconductor |
CN113321968A (en) * | 2021-06-16 | 2021-08-31 | 深圳市撒比斯科技有限公司 | 3D laser photosensitive printing solder resist ink for integrated circuit and preparation method thereof |
CN113321968B (en) * | 2021-06-16 | 2023-02-28 | 深圳市撒比斯科技有限公司 | 3D laser photosensitive printing solder resist ink for integrated circuit and preparation method thereof |
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