JP2012208346A - Electrooptical device and electronic apparatus - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrooptical device capable of cooling the device while suppressing a display defect, and to provide an electronic apparatus.SOLUTION: An electrooptical device includes an electrooptical panel 100 formed by an electrooptical substance 50 sandwiched between a first substrate 10 and a second substrate 20; a dustproof member 30 disposed on the first substrate 10 on a side opposite to the electrooptical substance 50; and a heat transfer member 61 disposed on the dustproof member 30 on a side opposite to the first substrate 10 and having thermal conductivity higher than that of the dustproof member 30. At least a part of the heat transfer member 61 is exposed outside.

Description

本発明は、電気光学装置及び電子機器に関するものである。   The present invention relates to an electro-optical device and an electronic apparatus.

電気光学装置として、一対の基板間に電気光学物質(例えば液晶)を挟んで構成された電気光学パネル(例えば液晶パネル)と、当該電気光学パネルを実装する実装フレームと、を具備して構成された電気光学装置が知られている。このような電気光学装置においては、当該電気光学装置の表示領域(基板の露出面)への塵埃等の付着を防止することを目的として、基板の露出面に防塵部材を設ける技術がある。   The electro-optical device includes an electro-optical panel (for example, a liquid crystal panel) configured by sandwiching an electro-optical material (for example, liquid crystal) between a pair of substrates, and a mounting frame for mounting the electro-optical panel. Electro-optical devices are known. In such an electro-optical device, there is a technique of providing a dust-proof member on the exposed surface of the substrate for the purpose of preventing adhesion of dust or the like to the display area (exposed surface of the substrate) of the electro-optical device.

ところで、このような電気光学装置を、例えばプロジェクターのライトバルブのような大きな光量の光が照射される用途に適用する場合、照射された光によって基板全体が加熱され、電気光学物質が劣化し、コントラスト比が低下する等の表示不良が生じることがある。また、電気光学物質の劣化は、加熱が大きくなるほど促進され、装置の寿命を短くする要因ともなる。   By the way, when applying such an electro-optical device to an application in which a large amount of light such as a projector light valve is irradiated, the entire substrate is heated by the irradiated light, and the electro-optical material is deteriorated. Display defects such as a decrease in contrast ratio may occur. In addition, the deterioration of the electro-optical material is promoted as the heating is increased, and the life of the apparatus is shortened.

このような要求に応えるための技術が検討されており、例えば特許文献1の電気光学装置では、一対の基板の少なくとも一方の内面側に放熱層を設けることにより、電気光学物質の冷却を行っている。   For example, in the electro-optical device disclosed in Patent Document 1, the electro-optical material is cooled by providing a heat dissipation layer on at least one inner surface side of the pair of substrates. Yes.

特開2003−248213号公報JP 2003-248213 A

特許文献1の電気光学装置では、放熱層が電気光学物質に接しているため、熱が電気光学物質に拡散することがあり、表示不良が生じるおそれがある。   In the electro-optical device of Patent Document 1, since the heat dissipation layer is in contact with the electro-optical material, heat may be diffused into the electro-optical material, which may cause display defects.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、表示不良を抑制しつつ装置を冷却することが可能な電気光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide an electro-optical device and an electronic apparatus capable of cooling the device while suppressing display defects.

上記の課題を解決するため、本発明の電気光学装置は、第1基板と第2基板との間に電気光学物質を挟持してなる電気光学パネルと、前記第1基板の前記電気光学物質の側とは反対側に配置された防塵部材と、前記防塵部材の前記第1基板の側とは反対側の部分に配置された、前記防塵部材よりも熱伝導率の高い伝熱部材と、を含み、前記伝熱部材の少なくとも一部が外部に露出していることを特徴とする。   In order to solve the above problems, an electro-optical device according to the present invention includes an electro-optical panel in which an electro-optical material is sandwiched between a first substrate and a second substrate, and the electro-optical material of the first substrate. A dust-proof member disposed on the opposite side to the side, and a heat-transfer member having a higher thermal conductivity than the dust-proof member, disposed on a portion of the dust-proof member opposite to the first substrate side. And at least a part of the heat transfer member is exposed to the outside.

本発明の電気光学装置は、第1基板と第2基板との間に電気光学物質を挟持してなる電気光学パネルと、前記第1基板の前記電気光学物質の側とは反対側に配置された防塵部材と、前記第1基板の前記防塵部材の側の部分に配置された、前記第1基板よりも熱伝導率の高い伝熱部材と、を含み、前記第1基板は、平面視の大きさが前記防塵部材よりも大きく形成されており、前記伝熱部材の少なくとも一部が平面視において前記防塵部材から露出していることを特徴とする。   The electro-optical device of the present invention is disposed on an opposite side of the electro-optical material side of the first substrate from an electro-optical panel having an electro-optical material sandwiched between a first substrate and a second substrate. A dust-proof member, and a heat transfer member having a higher thermal conductivity than the first substrate, disposed on a portion of the first substrate on the dust-proof member side, wherein the first substrate has a plan view. The size is larger than the dust-proof member, and at least a part of the heat transfer member is exposed from the dust-proof member in a plan view.

本発明の電気光学装置は、第1基板と第2基板との間に電気光学物質を挟持してなる電気光学パネルと、前記第1基板の前記電気光学物質の側とは反対側に配置された防塵部材と、前記防塵部材の前記第1基板の側の部分に配置された、前記防塵部材よりも熱伝導率の高い伝熱部材と、を含み、前記防塵部材は、平面視の大きさが前記第1基板よりも大きく形成されており、前記伝熱部材の少なくとも一部が平面視において前記第1基板から露出していることを特徴とする。   The electro-optical device of the present invention is disposed on an opposite side of the electro-optical material side of the first substrate from an electro-optical panel having an electro-optical material sandwiched between a first substrate and a second substrate. A dust-preventing member, and a heat transfer member having a higher thermal conductivity than the dust-preventing member, which is disposed on the first substrate side of the dust-preventing member, and the dust-preventing member has a size in plan view Is larger than the first substrate, and at least a part of the heat transfer member is exposed from the first substrate in plan view.

これらの構成によれば、電気光学装置に対して大きな光量の光が照射される用途に適用した場合であっても、外部に露出した伝熱部材により、基板全体に蓄積される熱を放熱することができる。このため、照射された光に起因して発生する熱により電気光学物質が劣化することを抑制することができる。また、伝熱部材が一対の基板の内面側に形成された構成とはなっていないので、熱が電気光学物質に拡散することを抑制することができる。よって、表示不良を抑制しつつ装置を冷却することが可能な電気光学装置を提供することができる。   According to these configurations, the heat accumulated in the entire substrate is radiated by the heat transfer member exposed to the outside even when applied to an application in which a large amount of light is irradiated to the electro-optical device. be able to. For this reason, it is possible to suppress deterioration of the electro-optical material due to heat generated due to the irradiated light. In addition, since the heat transfer member is not formed on the inner surfaces of the pair of substrates, it is possible to prevent heat from diffusing into the electro-optical material. Therefore, it is possible to provide an electro-optical device that can cool the device while suppressing display defects.

この電気光学装置において、前記伝熱部材は光透過性を有する材料によって形成されていることが望ましい。   In this electro-optical device, it is preferable that the heat transfer member is made of a light transmissive material.

この構成によれば、伝熱部材を、非表示領域に限らず、表示領域を含めて配置することができる。例えば、伝熱部材を防塵部材や第1基板の表面全体を覆って配置することができる。よって、基板全体に蓄積される熱を効率よく放熱することができる。   According to this structure, a heat-transfer member can be arrange | positioned including not only a non-display area | region but a display area. For example, the heat transfer member can be disposed so as to cover the entire surface of the dust-proof member or the first substrate. Therefore, the heat accumulated on the entire substrate can be efficiently radiated.

この電気光学装置においては、前記電気光学パネルと前記防塵部材とを保持する、表面が金属によって構成された保持部材を含み、前記伝熱部材の露出した部分は、前記保持部材と直接接触されるか、又は、前記伝熱部材よりも熱伝導率の高い接続部材を介して前記保持部材と接続されていてもよい。   In this electro-optical device, the electro-optical panel includes a holding member that holds the electro-optical panel and the dust-proof member, and the exposed portion of the heat transfer member is in direct contact with the holding member. Alternatively, it may be connected to the holding member via a connection member having a higher thermal conductivity than the heat transfer member.

この構成によれば、基板全体に蓄積される熱を、電気光学パネル及び防塵部材よりも表面積が大きい保持部材を介して放熱することができる。よって、基板全体に蓄積される熱を効率よく放熱することができる。   According to this configuration, heat accumulated in the entire substrate can be radiated through the holding member having a larger surface area than the electro-optical panel and the dustproof member. Therefore, the heat accumulated on the entire substrate can be efficiently radiated.

この電気光学装置においては、前記接続部材は弾性部材により構成されており、前記電気光学パネルと前記防塵部材とは、前記接続部材が弾性変形した状態で前記保持部材に保持されていてもよい。   In this electro-optical device, the connection member may be formed of an elastic member, and the electro-optical panel and the dustproof member may be held by the holding member in a state where the connection member is elastically deformed.

この構成によれば、伝熱部材の露出した部分と保持部材とがしっかりと接続される。よって、基板全体に蓄積される熱を確実に放熱することができる。   According to this configuration, the exposed portion of the heat transfer member and the holding member are firmly connected. Therefore, the heat accumulated on the entire substrate can be reliably radiated.

この電気光学装置においては、前記保持部材には前記伝熱部材に向けて突出する、表面が金属によって構成された突起部が形成され、前記電気光学パネルと前記防塵部材とは、前記保持部材との間に樹脂部材が充填されて前記保持部材に固定されており、前記突起部は前記樹脂部材を貫通して前記伝熱部材と接触していることが望ましい。   In this electro-optical device, the holding member is formed with a protrusion that protrudes toward the heat transfer member and has a metal surface, and the electro-optical panel and the dust-proof member include the holding member and It is desirable that the resin member is filled in between and fixed to the holding member, and the protruding portion penetrates the resin member and is in contact with the heat transfer member.

この構成によれば、電気光学パネルと防塵部材とが樹脂部材により保持部材に固定される場合であっても、突起部が樹脂部材を貫通するので、伝熱部材の露出した部分と保持部材に形成された突起部とがしっかりと接続される。よって、基板全体に蓄積される熱を確実に放熱することができる。   According to this configuration, even when the electro-optical panel and the dust-proof member are fixed to the holding member by the resin member, since the protruding portion penetrates the resin member, the exposed portion of the heat transfer member and the holding member The formed protrusion is firmly connected. Therefore, the heat accumulated on the entire substrate can be reliably radiated.

本発明の電子機器は、前記電気光学装置を備えていることを特徴とする。   According to another aspect of the invention, an electronic apparatus includes the electro-optical device.

この電子機器によれば、上述した電気光学装置を備えているので、高品質な画像表示が可能な信頼性に優れた電子機器を提供することができる。   According to this electronic apparatus, since the above-described electro-optical device is provided, it is possible to provide a highly reliable electronic apparatus capable of displaying a high-quality image.

本発明の第1実施形態に係る電気光学パネルの平面図である。1 is a plan view of an electro-optical panel according to a first embodiment of the present invention. 図1のII−II線に沿って切断した断面図である。It is sectional drawing cut | disconnected along the II-II line | wire of FIG. 本発明の第1実施形態に係る電気光学装置の分解斜視図である。1 is an exploded perspective view of an electro-optical device according to a first embodiment of the invention. 同、電気光学パネルの斜視図である。2 is a perspective view of the electro-optical panel. FIG. 同、電気光学装置の斜視図である。2 is a perspective view of the electro-optical device. FIG. 同、電気光学装置の断面図である。2 is a cross-sectional view of the electro-optical device. FIG. 本発明の第2実施形態に係る電気光学装置の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of an electro-optical device according to a second embodiment of the invention. 本発明の第3実施形態に係る電気光学装置の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of an electro-optical device according to a third embodiment of the invention. 本発明の第4実施形態に係る電気光学装置の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of an electro-optical device according to a fourth embodiment of the invention. 電子機器の一例であるプロジェクターの概略図である。It is the schematic of the projector which is an example of an electronic device.

以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等が異なっている。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. This embodiment shows one aspect of the present invention, and does not limit the present invention, and can be arbitrarily changed within the scope of the technical idea of the present invention. Moreover, in the following drawings, in order to make each structure easy to understand, an actual structure and a scale, a number, and the like in each structure are different.

(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る電気光学装置における電気光学パネルの平面図である。
図2は、図1のII−II線に沿って切断した断面図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a plan view of an electro-optical panel in the electro-optical device according to the first embodiment of the invention.
2 is a cross-sectional view taken along line II-II in FIG.

なお、以下に示す実施の形態において電気光学装置は、光透過型の液晶装置を例に挙げて説明する。よって、電気光学装置が具備する電気光学パネルは、液晶パネルを例に挙げて説明する。また、液晶パネルにおいて対向配置される一対の基板の内、一方の基板(第1基板)は、素子基板(以下、TFTアレイ基板と称す)を、また他方の基板(第2基板)は、TFTアレイ基板に対向する対向基板を例に挙げて説明する。   In the following embodiments, the electro-optical device will be described by taking a light transmission type liquid crystal device as an example. Therefore, the electro-optical panel included in the electro-optical device will be described using a liquid crystal panel as an example. Of the pair of substrates disposed opposite to each other in the liquid crystal panel, one substrate (first substrate) is an element substrate (hereinafter referred to as a TFT array substrate), and the other substrate (second substrate) is a TFT. An explanation will be given by taking a counter substrate facing the array substrate as an example.

図1、図2に示すように、液晶パネル100は、TFTアレイ基板10と当該TFTアレイ基板10に対向配置された対向基板20との間に電気光学物質である液晶50が介在されて構成される。対向配置されたTFTアレイ基板10と対向基板20とは、シール材52によって貼り合わされている。TFTアレイ基板10及び対向基板20に用いる基板としては、例えばガラス基板(熱伝導率:約1W/m・K)や石英基板(熱伝導率:約1.38〜1.47W/m・K)等を用いる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the liquid crystal panel 100 is configured by interposing a liquid crystal 50, which is an electro-optical material, between a TFT array substrate 10 and a counter substrate 20 disposed to face the TFT array substrate 10. The The TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 that are arranged to face each other are bonded together by a sealing material 52. As a substrate used for the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, for example, a glass substrate (thermal conductivity: about 1 W / m · K) or a quartz substrate (thermal conductivity: about 1.38 to 1.47 W / m · K). Etc. are used.

TFTアレイ基板10の液晶50と接する領域には、液晶パネル100の表示領域40を構成するTFTアレイ基板10の表示領域10hが構成されている。また、表面10f側における表示領域10hには、画素を構成しかつ対向電極21とともに液晶50に駆動電圧を印加する画素電極9aがマトリクス状に配置されている。   A display area 10 h of the TFT array substrate 10 that constitutes the display area 40 of the liquid crystal panel 100 is formed in an area in contact with the liquid crystal 50 of the TFT array substrate 10. In the display region 10h on the surface 10f side, pixel electrodes 9a that constitute pixels and apply a driving voltage to the liquid crystal 50 together with the counter electrode 21 are arranged in a matrix.

また、対向基板20の表面20f側における液晶50と接する領域には、液晶50に画素電極9aとともに駆動電圧を印加する対向電極21が設けられている。対向電極21の表示領域10hに対向する領域には、液晶パネル100の表示領域40を構成する対向基板20の表示領域20hが構成されている。   A counter electrode 21 that applies a driving voltage to the liquid crystal 50 together with the pixel electrode 9 a is provided in a region in contact with the liquid crystal 50 on the surface 20 f side of the counter substrate 20. In the region facing the display region 10 h of the counter electrode 21, the display region 20 h of the counter substrate 20 constituting the display region 40 of the liquid crystal panel 100 is configured.

TFTアレイ基板10の画素電極9a上には、ラビング処理が施された配向膜16が設けられている。また、対向基板20上の全面に渡って形成された対向電極21上においても、ラビング処理が施された配向膜26が設けられている。各配向膜16、26は、例えば、ポリイミド膜等の透明な有機膜からなる。   On the pixel electrode 9a of the TFT array substrate 10, an alignment film 16 subjected to a rubbing process is provided. An alignment film 26 that has been subjected to a rubbing process is also provided on the counter electrode 21 formed over the entire surface of the counter substrate 20. Each alignment film 16, 26 is made of a transparent organic film such as a polyimide film, for example.

また、TFTアレイ基板10の表示領域10hにおいては、複数本の図示しない走査線と複数本のデータ線(図示略)とが交差するように配線されている。走査線とデータ線とで区画された領域には、画素電極9aがマトリクス状に配置される。そして、走査線とデータ線との各交差部分に対応して図示しない薄膜トランジスター(TFT)が設けられている。このTFT毎に画素電極9aが接続されている。   In the display area 10h of the TFT array substrate 10, a plurality of scanning lines (not shown) and a plurality of data lines (not shown) are wired so as to intersect each other. The pixel electrodes 9a are arranged in a matrix in the area partitioned by the scanning lines and the data lines. A thin film transistor (TFT) (not shown) is provided corresponding to each intersection of the scanning line and the data line. A pixel electrode 9a is connected to each TFT.

TFTは走査線のON信号によってオンとなり、これにより、データ線に供給された画像信号が画素電極9aに供給される。この画素電極9aと対向基板20に設けられた対向電極21との間の電圧が液晶50に印加される。   The TFT is turned on by the ON signal of the scanning line, whereby the image signal supplied to the data line is supplied to the pixel electrode 9a. A voltage between the pixel electrode 9 a and the counter electrode 21 provided on the counter substrate 20 is applied to the liquid crystal 50.

対向基板20には、液晶パネル100の表示領域40を規定する額縁としての遮光膜53が設けられている。   The counter substrate 20 is provided with a light shielding film 53 as a frame that defines the display area 40 of the liquid crystal panel 100.

液晶50は、TFTアレイ基板10と対向基板20との間の空間に封入されている。液晶50は、既知の液晶注入方式で注入される。この場合、シール材52は、当該シール材52の1辺の一部が欠落した状態で塗布される。   The liquid crystal 50 is sealed in a space between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20. The liquid crystal 50 is injected by a known liquid crystal injection method. In this case, the sealing material 52 is applied in a state where a part of one side of the sealing material 52 is missing.

シール材52の欠落した箇所は、シール材52により囲まれた領域に液晶50を注入するための切り欠きである液晶注入口108を構成している。液晶注入口108は、液晶注入後、封止材109によって封止される。   The portion where the sealing material 52 is missing constitutes a liquid crystal injection port 108 that is a notch for injecting the liquid crystal 50 into a region surrounded by the sealing material 52. The liquid crystal injection port 108 is sealed with a sealing material 109 after the liquid crystal is injected.

シール材52の外側の領域に、データ線駆動回路101と外部回路との接続のための外部接続端子102とが、TFTアレイ基板10の1辺に沿って設けられている。データ線駆動回路101は、TFTアレイ基板10のデータ線(図示略)に画像信号を所定のタイミングで供給して該データ線を駆動するドライバーである。なお、外部接続端子102は、対向基板20に設けられていても構わない。   An external connection terminal 102 for connecting the data line driving circuit 101 and an external circuit is provided along one side of the TFT array substrate 10 in a region outside the sealing material 52. The data line driving circuit 101 is a driver that drives an image signal by supplying an image signal to a data line (not shown) of the TFT array substrate 10 at a predetermined timing. Note that the external connection terminal 102 may be provided on the counter substrate 20.

外部接続端子102には、液晶パネル100を、プロジェクター等の電子機器と電気的に接続するフレキシブル配線基板(Flexible Printed Circuits、以下FPCと称す)112の一端が接続されている。FPC112の他端がプロジェクター等の電子機器に接続されることにより、液晶パネル100と電子機器とが電気的に接続される。   One end of a flexible printed circuit (hereinafter referred to as FPC) 112 that electrically connects the liquid crystal panel 100 to an electronic device such as a projector is connected to the external connection terminal 102. By connecting the other end of the FPC 112 to an electronic device such as a projector, the liquid crystal panel 100 and the electronic device are electrically connected.

外部接続端子102が設けられたTFTアレイ基板10の1辺に隣接する2辺に沿って、走査線駆動回路103、104が設けられている。走査線駆動回路103、104は、TFTアレイ基板10の図示しない走査線及びゲート電極に、走査信号を所定のタイミングで供給することにより、ゲート電極を駆動するドライバーである。走査線駆動回路103、104は、シール材52の内側の遮光膜53に対向する位置において、TFTアレイ基板10上に形成されている。   Scanning line drive circuits 103 and 104 are provided along two sides adjacent to one side of the TFT array substrate 10 provided with the external connection terminals 102. The scanning line driving circuits 103 and 104 are drivers that drive the gate electrodes by supplying scanning signals to scanning lines and gate electrodes (not shown) of the TFT array substrate 10 at a predetermined timing. The scanning line driving circuits 103 and 104 are formed on the TFT array substrate 10 at a position facing the light shielding film 53 inside the sealing material 52.

また、TFTアレイ基板10上には、データ線駆動回路101、走査線駆動回路103、104、外部接続端子102及び上下導通端子107を接続する配線105が、遮光膜53の3辺に対向して設けられている。   On the TFT array substrate 10, the wiring 105 connecting the data line driving circuit 101, the scanning line driving circuits 103 and 104, the external connection terminal 102, and the vertical conduction terminal 107 faces the three sides of the light shielding film 53. Is provided.

上下導通端子107は、シール材52のコーナー部の4箇所のTFTアレイ基板10上に形成されている。そして、TFTアレイ基板10と対向基板20相互間に、下端が上下導通端子107に接触し上端が対向電極21に接触する上下導通材106が設けられている。当該上下導通材106によって、TFTアレイ基板10と対向基板20との間で電気的な導通がとられている。   The vertical conduction terminals 107 are formed on the four TFT array substrates 10 at the corners of the sealing material 52. A vertical conduction member 106 having a lower end in contact with the vertical conduction terminal 107 and an upper end in contact with the counter electrode 21 is provided between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20. Electrical conduction is established between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 by the vertical conduction member 106.

また、液晶パネル100を構成するTFTアレイ基板10の裏面10rには、TFTアレイ基板10の少なくとも表示領域10hと平面視した状態で同じ大きさを有する(即ちTFTアレイ基板10よりも平面視した状態で小さい)防塵ガラス30(防塵部材、熱伝導率:約1W/m・K)が貼着されている。   Further, the back surface 10r of the TFT array substrate 10 constituting the liquid crystal panel 100 has the same size as at least the display area 10h of the TFT array substrate 10 in a plan view (that is, in a state viewed in plan view from the TFT array substrate 10). Dust-proof glass 30 (dust-proof member, thermal conductivity: about 1 W / m · K) is attached.

同様に、液晶パネル100を構成する対向基板20の裏面20rには、対向基板20と平面視した状態で同じ大きさを有する防塵ガラス31(熱伝導率:約1W/m・K)が貼着されている。防塵ガラス30、31は、TFTアレイ基板10及び対向基板20の各裏面10r、20rの各表示領域10h、20hに塵埃等が付着するのを防止する。   Similarly, dust-proof glass 31 (thermal conductivity: about 1 W / m · K) having the same size as that of the counter substrate 20 is attached to the back surface 20r of the counter substrate 20 constituting the liquid crystal panel 100. Has been. The dustproof glasses 30 and 31 prevent dust and the like from adhering to the display areas 10h and 20h of the back surfaces 10r and 20r of the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, respectively.

防塵ガラス30のTFTアレイ基板10の側とは反対側の部分には、当該防塵ガラス30よりも熱伝導率の高い伝熱部材61が形成されている。伝熱部材61の表面(防塵ガラス30の側とは反対側の面)は、外部に露出している。   A heat transfer member 61 having a thermal conductivity higher than that of the dustproof glass 30 is formed on a part of the dustproof glass 30 opposite to the TFT array substrate 10 side. The surface of the heat transfer member 61 (the surface opposite to the dust-proof glass 30 side) is exposed to the outside.

TFTアレイ基板10の液晶50の側とは反対側の部分には、当該TFTアレイ基板10よりも熱伝導率の高い伝熱部材62が形成されている。伝熱部材62の側端面は、外部に露出している。   A heat transfer member 62 having a thermal conductivity higher than that of the TFT array substrate 10 is formed on a portion of the TFT array substrate 10 opposite to the liquid crystal 50 side. The side end surface of the heat transfer member 62 is exposed to the outside.

防塵ガラス30のTFTアレイ基板10の側の部分には、当該防塵ガラス30よりも熱伝導率の高い伝熱部材63が形成されている。伝熱部材63の側端面は、外部に露出している。   A heat transfer member 63 having a higher thermal conductivity than the dustproof glass 30 is formed on the dustproof glass 30 on the TFT array substrate 10 side. The side end surface of the heat transfer member 63 is exposed to the outside.

防塵ガラス31の対向基板20の側とは反対側の部分には、当該防塵ガラス31よりも熱伝導率の高い伝熱部材71が形成されている。伝熱部材71の表面(防塵ガラス31の側とは反対側の面)は、外部に露出している。   A heat transfer member 71 having a thermal conductivity higher than that of the dustproof glass 31 is formed on a portion of the dustproof glass 31 opposite to the counter substrate 20 side. The surface of the heat transfer member 71 (the surface opposite to the dustproof glass 31 side) is exposed to the outside.

対向基板20の液晶50の側とは反対側の部分には、当該対向基板20よりも熱伝導率の高い伝熱部材72が形成されている。伝熱部材72の側端面は、外部に露出している。   A heat transfer member 72 having a thermal conductivity higher than that of the counter substrate 20 is formed on a portion of the counter substrate 20 opposite to the liquid crystal 50 side. The side end surface of the heat transfer member 72 is exposed to the outside.

防塵ガラス31の対向基板20の側の部分には、当該防塵ガラス31よりも熱伝導率の高い伝熱部材73が形成されている。伝熱部材73の側端面は、外部に露出している。   A heat transfer member 73 having a thermal conductivity higher than that of the dustproof glass 31 is formed on a part of the dustproof glass 31 on the counter substrate 20 side. The side end surface of the heat transfer member 73 is exposed to the outside.

これら伝熱部材61,62,63,71,72,73の形成材料としては、例えばITO(インジウム錫酸化物、熱伝導率:約8.18W/m・K)、AL(アルミナ、熱伝導率:約21W/m・K)、水晶(熱伝導率:約9.3W/m・K)、サファイア(熱伝導率:約42W/m・K)等を用いることができる。本実施形態においては、伝熱部材61,62,63,71,72,73の形成材料として、光透過性を有する材料であるITOを用いる。 As a material for forming these heat transfer members 61, 62, 63, 71, 72, 73, for example, ITO (indium tin oxide, thermal conductivity: about 8.18 W / m · K), AL 2 O 3 (alumina, Thermal conductivity: about 21 W / m · K), quartz (thermal conductivity: about 9.3 W / m · K), sapphire (thermal conductivity: about 42 W / m · K), or the like can be used. In the present embodiment, ITO, which is a light transmissive material, is used as a material for forming the heat transfer members 61, 62, 63, 71, 72, 73.

これら伝熱部材61,62,63,71,72,73は、例えば伝熱配線であり、基板全体に蓄積される熱を外部に逃がす経路を形成する。伝熱部材61,62,63,71,72,73の形成材料として、光透過性を有する材料であるITOを用いることにより、液晶パネル100の表示表域40を含めて伝熱配線を配置することができる。なお、伝熱配線は、非表示領域に配置されていてもよい。   These heat transfer members 61, 62, 63, 71, 72, 73 are, for example, heat transfer wirings, and form a path for releasing heat accumulated in the entire substrate to the outside. As a material for forming the heat transfer members 61, 62, 63, 71, 72, 73, the heat transfer wiring including the display surface area 40 of the liquid crystal panel 100 is arranged by using ITO, which is a light transmissive material. be able to. The heat transfer wiring may be arranged in the non-display area.

図3は、液晶装置1の分解斜視図である。図4は、液晶パネル100の斜視図である。図5は、液晶装置1の斜視図である。図6は、液晶装置1の断面図である。   FIG. 3 is an exploded perspective view of the liquid crystal device 1. FIG. 4 is a perspective view of the liquid crystal panel 100. FIG. 5 is a perspective view of the liquid crystal device 1. FIG. 6 is a cross-sectional view of the liquid crystal device 1.

図3に示すように、液晶装置1は、液晶パネル100と、防塵ガラス30,31と、伝熱部材61,62,63,71,72,73と、保持部材200と、フック部材300とから主要部が構成されている。   As shown in FIG. 3, the liquid crystal device 1 includes a liquid crystal panel 100, dustproof glasses 30 and 31, heat transfer members 61, 62, 63, 71, 72, 73, a holding member 200, and a hook member 300. The main part is composed.

保持部材200は、液晶パネル100と防塵ガラス30,31を収容する、平面形状が略矩形の枠状の部材である。保持部材200には、液晶パネル100が収容される段付き穴から構成された収容部210が形成されている。保持部材200は、例えばAl(アルミニウム、熱伝導率:約236W/m・K)等の金属材料によって構成されている。なお、保持部材200は少なくとも表面が金属によって構成されていればよい。   The holding member 200 is a frame-shaped member that accommodates the liquid crystal panel 100 and the dustproof glasses 30 and 31 and has a substantially rectangular planar shape. The holding member 200 is formed with an accommodating portion 210 configured with a stepped hole in which the liquid crystal panel 100 is accommodated. The holding member 200 is made of a metal material such as Al (aluminum, thermal conductivity: about 236 W / m · K). Note that at least the surface of the holding member 200 may be made of metal.

収容部210には、該収容部210に液晶パネル100が収容された際、液晶パネル100の表示領域40が露出する開口201が形成されている。開口201は、表示領域40と平面視した状態で同じ大きさに形成されている。   The accommodating part 210 is formed with an opening 201 through which the display area 40 of the liquid crystal panel 100 is exposed when the liquid crystal panel 100 is accommodated in the accommodating part 210. The opening 201 is formed in the same size as the display area 40 in a plan view.

保持部材200の収容部210には、液晶パネル100が、例えば対向基板20側から収容される構成となっている。収容部210は、第1の保持部220を具備している。   In the accommodating part 210 of the holding member 200, the liquid crystal panel 100 is accommodated, for example, from the counter substrate 20 side. The accommodating part 210 includes a first holding part 220.

第1の保持部220は、平面視した状態で対向基板20よりも若干大きい大きさに形成されている。第1の保持部220は、対向基板20、防塵ガラス31、伝熱部材71、伝熱部材72、及び伝熱部材73の5枚の厚みと略同じ深さに形成されている。第1の保持部220は、底部202及び側壁203を有して形成されている。   The first holding unit 220 is formed to be slightly larger than the counter substrate 20 in a plan view. The first holding part 220 is formed to have substantially the same depth as the five thicknesses of the counter substrate 20, the dustproof glass 31, the heat transfer member 71, the heat transfer member 72, and the heat transfer member 73. The first holding part 220 is formed having a bottom part 202 and a side wall 203.

底部202には、収容部210に液晶パネル100が収容された際、防塵ガラス31の裏面31rの表示領域40以外の部分が例えば熱硬化型の樹脂等の接着剤(樹脂部材)80を介して載置される。   When the liquid crystal panel 100 is accommodated in the accommodating portion 210, the bottom 202 has a portion other than the display area 40 on the back surface 31 r of the dust-proof glass 31 via an adhesive (resin member) 80 such as a thermosetting resin. Placed.

底部202には、伝熱部材71に向けて突出する突起部90が形成されている。突起部90は、接着剤80を貫通して伝熱部材71と接触している。突起部90は、液晶装置1に光が入射することにより基板全体に生じる熱を伝熱部材71から保持部材200へと導く経路となる。突起部90は、例えばAl(アルミニウム、熱伝導率:約236W/m・K)等の金属材料によって構成されている。なお、突起部90は少なくとも表面が金属によって構成されていればよい。   The bottom portion 202 is formed with a protrusion 90 that protrudes toward the heat transfer member 71. The protrusion 90 is in contact with the heat transfer member 71 through the adhesive 80. The protrusion 90 serves as a path for guiding heat generated in the entire substrate when light enters the liquid crystal device 1 from the heat transfer member 71 to the holding member 200. The protrusion 90 is made of a metal material such as Al (aluminum, thermal conductivity: about 236 W / m · K). In addition, the protrusion part 90 should just be the surface comprised with the metal at least.

収容部210は、第1の保持部220よりも平面視した状態で大きい第2の保持部230を具備している。第2の保持部230は、平面視した状態でTFTアレイ基板10よりも若干大きい大きさに形成されている。第2の保持部230は、TFTアレイ基板10、防塵ガラス30、伝熱部材61、伝熱部材62、及び伝熱部材63の5枚の厚みよりも若干大きい深さに形成されている(図6参照)。第2の保持部230は、底部204及び側壁205を有して形成されている。   The storage unit 210 includes a second holding unit 230 that is larger than the first holding unit 220 in a plan view. The second holding unit 230 is formed to be slightly larger than the TFT array substrate 10 in a plan view. The second holding part 230 is formed to a depth slightly larger than the thickness of the five elements of the TFT array substrate 10, the dustproof glass 30, the heat transfer member 61, the heat transfer member 62, and the heat transfer member 63 (see FIG. 6). The second holding part 230 is formed to have a bottom part 204 and a side wall 205.

底部204には、収容部210に液晶パネル100が収容された際、TFTアレイ基板10の一部が接着剤を介して載置される。   When the liquid crystal panel 100 is accommodated in the accommodating portion 210, a part of the TFT array substrate 10 is placed on the bottom portion 204 via an adhesive.

また、保持部材200の対向する辺200i、200tの各々には、係止凸部250が形成されている。係止凸部250には、フック部材300に形成された係止部材310の係止孔310hが係止される。   Further, a locking projection 250 is formed on each of the opposing sides 200 i and 200 t of the holding member 200. A locking hole 310 h of a locking member 310 formed in the hook member 300 is locked to the locking projection 250.

フック部材300は、平面形状が略矩形を有する枠状の薄板状部材から形成されている。フック部材300は、例えばAl(アルミニウム、熱伝導率:約236W/m・K)等の金属材料によって構成されている。なお、フック部材300は少なくとも表面が金属によって構成されていればよい。   The hook member 300 is formed from a frame-like thin plate member having a substantially rectangular planar shape. The hook member 300 is made of a metal material such as Al (aluminum, thermal conductivity: about 236 W / m · K). Note that at least the surface of the hook member 300 may be made of metal.

フック部材300の対向する辺300i、300tの各々には、係止孔310hを有する係止部材310が形成されている。係止部材310は、フック部材300を保持部材200に対し嵌合させた後、保持部材200の係止凸部250に係止される部分である(図5参照)。   A locking member 310 having a locking hole 310 h is formed on each of the opposing sides 300 i and 300 t of the hook member 300. The locking member 310 is a portion that is locked to the locking projection 250 of the holding member 200 after the hook member 300 is fitted to the holding member 200 (see FIG. 5).

フック部材300の略中央には、防塵ガラス30よりも平面視のサイズが小さい開口320が形成されている。フック部材300は、防塵ガラス30を液晶パネル100に向けて押圧するための部材である。   In the approximate center of the hook member 300, an opening 320 having a smaller size in plan view than the dustproof glass 30 is formed. The hook member 300 is a member for pressing the dust-proof glass 30 toward the liquid crystal panel 100.

フック部材300の開口320周辺には、伝熱部材61に向けて突出する突起部91が形成されている。突起部91は、伝熱部材61と直接接触している。突起部91は、液晶装置1に光が入射することにより基板全体に生じる熱を伝熱部材61からフック部材300へと導く経路となる。突起部91は、例えばAl(アルミニウム、熱伝導率:約236W/m・K)等の金属材料によって構成されている。なお、突起部91は少なくとも表面が金属によって構成されていればよい。   A protrusion 91 that protrudes toward the heat transfer member 61 is formed around the opening 320 of the hook member 300. The protrusion 91 is in direct contact with the heat transfer member 61. The protrusion 91 serves as a path for guiding heat generated in the entire substrate when light enters the liquid crystal device 1 from the heat transfer member 61 to the hook member 300. The protruding portion 91 is made of a metal material such as Al (aluminum, thermal conductivity: about 236 W / m · K). In addition, the protrusion part 91 should just be the surface comprised by the metal at least.

次に、このように構成された液晶装置の製造方法について説明する。
先ず、図3に示すように、保持部材200の収容部210に例えば熱硬化型の接着剤80を塗布する。その後、液晶パネル100を、対向基板20の裏面20r側(伝熱部材71側)から、収容部210に挿入する。
Next, a manufacturing method of the liquid crystal device configured as described above will be described.
First, as shown in FIG. 3, for example, a thermosetting adhesive 80 is applied to the housing portion 210 of the holding member 200. Thereafter, the liquid crystal panel 100 is inserted into the housing portion 210 from the back surface 20r side (heat transfer member 71 side) of the counter substrate 20.

第1の保持部220の底部202には、伝熱部材71に向けて突出する突起部90が形成されていることから、突起部90が接着剤80を貫通し、対向基板20の裏面20rに形成された伝熱部材71に接触する。   Since the projection 202 that protrudes toward the heat transfer member 71 is formed on the bottom 202 of the first holding unit 220, the projection 90 penetrates the adhesive 80 and is formed on the back surface 20 r of the counter substrate 20. It contacts the heat transfer member 71 formed.

次いで、接着剤80を硬化させる。具体的には、保持部材200に熱を付与し、液晶パネル100と保持部材200との間、防塵ガラス30,31と保持部材200との間、及び伝熱部材61,62,63,71,72,73と保持部材200との間の各熱硬化型接着剤を硬化させる。   Next, the adhesive 80 is cured. Specifically, heat is applied to the holding member 200, between the liquid crystal panel 100 and the holding member 200, between the dust-proof glass 30, 31 and the holding member 200, and the heat transfer members 61, 62, 63, 71, Each thermosetting adhesive between 72 and 73 and the holding member 200 is cured.

次いで、防塵ガラス30の上方(伝熱部材61の上方)から、保持部材200に対してフック部材300を嵌合させる。具体的には、保持部材200の各係止凸部250に、フック部材300の各係止部材310の係止孔310hをそれぞれ係止させる。   Next, the hook member 300 is fitted to the holding member 200 from above the dust-proof glass 30 (above the heat transfer member 61). Specifically, the locking holes 310h of the locking members 310 of the hook member 300 are locked to the locking protrusions 250 of the holding member 200, respectively.

フック部材300の開口320周辺には、伝熱部材61に向けて突出する突起部91が形成されていることから、突起部91がTFTアレイ基板10の裏面10rに形成された伝熱部材61に接触する。   Since a protrusion 91 protruding toward the heat transfer member 61 is formed around the opening 320 of the hook member 300, the protrusion 91 is formed on the heat transfer member 61 formed on the back surface 10 r of the TFT array substrate 10. Contact.

以上の工程により、伝熱部材71の露出した部分は、保持部材200の突起部90と直接接続される。また、伝熱部材61の露出した部分は、フック部材300の突起部91と直接接続される。   Through the above steps, the exposed portion of the heat transfer member 71 is directly connected to the protrusion 90 of the holding member 200. The exposed portion of the heat transfer member 61 is directly connected to the protrusion 91 of the hook member 300.

その結果、図5に示すように、本実施形態に係る液晶装置1が製造される。その後、液晶装置1を、FPC112により、プロジェクター等の電子機器と電気的に接続する。   As a result, as shown in FIG. 5, the liquid crystal device 1 according to the present embodiment is manufactured. Thereafter, the liquid crystal device 1 is electrically connected to an electronic device such as a projector by the FPC 112.

本実施形態の液晶装置1によれば、液晶装置1に対して大きな光量の光が照射される用途に適用した場合であっても、外部に露出した伝熱部材61,62,63,71,72,73により、基板全体に蓄積される熱を放熱することができる。このため、照射された光に起因して発生する熱により液晶50が劣化することを抑制することができる。また、伝熱部材が一対の基板の内面側に形成された構成とはなっていないので、熱が液晶に拡散することを抑制することができる。よって、表示不良を抑制しつつ装置を冷却することが可能な液晶装置1を提供することができる。   According to the liquid crystal device 1 of the present embodiment, the heat transfer members 61, 62, 63, 71, exposed to the outside, even when applied to applications where a large amount of light is irradiated to the liquid crystal device 1. 72 and 73 can dissipate heat accumulated in the entire substrate. For this reason, it can suppress that the liquid crystal 50 deteriorates with the heat | fever which originates in the irradiated light. In addition, since the heat transfer member is not formed on the inner surfaces of the pair of substrates, heat can be prevented from diffusing into the liquid crystal. Therefore, it is possible to provide the liquid crystal device 1 that can cool the device while suppressing display defects.

また、この構成によれば、伝熱部材61,62,63,71,72,73が光透過性を有する材料によって形成されているので、伝熱部材61,62,63,71,72,73を、非表示領域に限らず、表示領域40を含めて配置することができる。例えば、伝熱部材61,62,63,71,72,73を、防塵ガラス30,31やTFTアレイ基板10,対向基板20の表面全体を覆って配置することができる。よって、基板全体に蓄積される熱を効率よく放熱することができる。   Moreover, according to this structure, since the heat-transfer members 61, 62, 63, 71, 72, and 73 are formed of a light-transmitting material, the heat-transfer members 61, 62, 63, 71, 72, and 73 are formed. Can be arranged including the display area 40 as well as the non-display area. For example, the heat transfer members 61, 62, 63, 71, 72, 73 can be disposed so as to cover the entire surfaces of the dustproof glasses 30, 31, the TFT array substrate 10, and the counter substrate 20. Therefore, the heat accumulated on the entire substrate can be efficiently radiated.

また、この構成によれば、基板全体に蓄積される熱を、液晶パネル100及び防塵ガラス30,31よりも表面積が大きい保持部材200を介して放熱することができる。よって、基板全体に蓄積される熱を効率よく放熱することができる。   Further, according to this configuration, the heat accumulated in the entire substrate can be dissipated through the holding member 200 having a larger surface area than the liquid crystal panel 100 and the dust-proof glasses 30 and 31. Therefore, the heat accumulated on the entire substrate can be efficiently radiated.

また、この構成によれば、液晶パネル100と防塵ガラス30,31とが樹脂部材80により保持部材200に固定される場合であっても、突起部90が樹脂部材80を貫通するので、伝熱部材71(伝熱部材61)の露出した部分と保持部材200に形成された突起部90(フック部材300に形成された突起部91)とがしっかりと接続される。よって、基板全体に蓄積される熱を確実に放熱することができる。   Further, according to this configuration, even when the liquid crystal panel 100 and the dustproof glasses 30 and 31 are fixed to the holding member 200 by the resin member 80, the protrusion 90 penetrates the resin member 80. The exposed portion of the member 71 (heat transfer member 61) and the protrusion 90 formed on the holding member 200 (the protrusion 91 formed on the hook member 300) are firmly connected. Therefore, the heat accumulated on the entire substrate can be reliably radiated.

なお、本実施形態において、各伝熱部材の配置位置は、伝熱部材61が防塵ガラス30のTFTアレイ基板10の側とは反対側の部分に形成され、伝熱部材62がTFTアレイ基板10の液晶50の側とは反対側の部分に形成され、伝熱部材63が防塵ガラス30のTFTアレイ基板10の側の部分に形成され、伝熱部材71が防塵ガラス31の対向基板20の側とは反対側の部分に形成され、伝熱部材72が対向基板20の液晶50の側とは反対側の部分に形成され、伝熱部材73が防塵ガラス31の対向基板20の側の部分に形成され、液晶装置1のTFTアレイ基板10の側に3枚の伝熱部材61,62,63が形成され、対向基板20の側に3枚の伝熱部材71,72,73が形成されているが、これに限らない。例えば、TFTアレイ基板10の側には伝熱部材61のみが形成され、対向基板20の側には伝熱部材71のみが形成されていてもよい。すなわち、少なくともTFTアレイ基板10と対向基板20との間(一対の基板の少なくとも一方の内面側)を除いた部分に伝熱部材が配置されていればよい。   In this embodiment, the heat transfer member 61 is formed on the opposite side of the dust-proof glass 30 from the TFT array substrate 10 side, and the heat transfer member 62 is arranged on the TFT array substrate 10 in the present embodiment. The heat transfer member 63 is formed on the portion of the dust-proof glass 30 on the TFT array substrate 10 side, and the heat transfer member 71 is on the side of the counter substrate 20 of the dust-proof glass 31. The heat transfer member 72 is formed on the portion of the counter substrate 20 opposite to the liquid crystal 50 side, and the heat transfer member 73 is formed on the portion of the dust-proof glass 31 on the counter substrate 20 side. The three heat transfer members 61, 62, 63 are formed on the TFT array substrate 10 side of the liquid crystal device 1, and the three heat transfer members 71, 72, 73 are formed on the counter substrate 20 side. However, it is not limited to this. For example, only the heat transfer member 61 may be formed on the TFT array substrate 10 side, and only the heat transfer member 71 may be formed on the counter substrate 20 side. That is, it is only necessary that the heat transfer member is arranged at least in a portion excluding the space between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 (at least one inner surface side of the pair of substrates).

また、本実施形態においては、保持部材200に伝熱部材71と接触する突起部90が形成され、フック部材300に伝熱部材61と接触する突起部91が形成されているが、これに限らない。例えば、保持部材200に伝熱部材71と接触するバンプ(例えば金バンプ、内部樹脂をコアとして表面が金で覆われた構造、金(Au)の熱伝導率:約320W/m・K)が形成されていてもよいし、フック部材300に伝熱部材61と接触するバンプ(例えば金バンプ)が形成されていてもよい。   In this embodiment, the holding member 200 is formed with the protrusion 90 that contacts the heat transfer member 71, and the hook member 300 is formed with the protrusion 91 that contacts the heat transfer member 61. Absent. For example, a bump (for example, a gold bump, a structure in which an inner resin is used as a core and the surface is covered with gold, and a thermal conductivity of gold (Au): about 320 W / m · K) is in contact with the heat transfer member 71 on the holding member 200. A bump (for example, a gold bump) that contacts the heat transfer member 61 may be formed on the hook member 300.

また、本実施形態においては、保持部材200に形成された突起部90と伝熱部材71とが直接接触し、フック部材300に形成された突起部91と伝熱部材61とが直接接触しているが、これに限らない。例えば、ロウ材(例えば銀ロウ、銀(Ag)の熱伝導率:約420W/m・K)を用いて、保持部材200と伝熱部材71とが接触されていてもよいし、フック部材300と伝熱部材61とが接触されていてもよい。   In the present embodiment, the protrusion 90 formed on the holding member 200 and the heat transfer member 71 are in direct contact, and the protrusion 91 formed on the hook member 300 and the heat transfer member 61 are in direct contact. However, it is not limited to this. For example, the holding member 200 and the heat transfer member 71 may be in contact with each other using a brazing material (for example, thermal conductivity of silver brazing or silver (Ag): about 420 W / m · K), or the hook member 300. And the heat transfer member 61 may be in contact with each other.

また、本実施形態においては、液晶装置1が液晶パネル100と防塵ガラス30,31とを保持する保持部材200とフック部材300とを含む構成を例に挙げて説明したが、これに限らない。例えば、液晶装置が保持部材200及びフック部材300を含まずに液晶パネルと防塵ガラスとにより構成されていてもよい。   Moreover, in this embodiment, although the liquid crystal device 1 demonstrated and demonstrated as an example the structure containing the holding member 200 and the hook member 300 which hold | maintain the liquid crystal panel 100 and dustproof glass 30,31, it is not restricted to this. For example, the liquid crystal device may include a liquid crystal panel and dust-proof glass without including the holding member 200 and the hook member 300.

また、液晶パネルは、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上述した液晶パネルは、TFT(薄膜トランジスター)等のアクティブ素子(能動素子)を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示モジュールを例に挙げて説明したが、これに限らず、TFD(薄膜ダイオード)等のアクティブ素子(能動素子)を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示モジュールであっても構わない。   Further, the liquid crystal panel is not limited to the above-described illustrated examples, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention. For example, the liquid crystal panel described above has been described by taking an active matrix type liquid crystal display module using an active element (active element) such as a TFT (thin film transistor) as an example. However, the present invention is not limited to this, and a TFD (thin film diode) is used. An active matrix type liquid crystal display module using an active element such as an active element may also be used.

さらに、本実施形態においては、電気光学装置は、液晶装置を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されず、エレクトロルミネッセンス装置、特に、有機エレクトロルミネッセンス装置、無機エレクトロルミネッセンス装置等や、プラズマディスプレイ装置、FED(Field Emission Display)装置、SED(Surface−Conduction Electron−Emitter Display)装置、LED(発光ダイオード)表示装置、電気泳動表示装置、薄型のブラウン管または液晶シャッター等を用いた装置などの各種の電気光学装置に適用することもできる。   Furthermore, in the present embodiment, the electro-optical device has been described by taking a liquid crystal device as an example, but the present invention is not limited to this, and an electroluminescence device, in particular, an organic electroluminescence device, an inorganic electroluminescence device, etc. , Plasma display devices, field emission display (FED) devices, surface-conduction electron-emitter display (SED) devices, LED (light-emitting diode) display devices, electrophoretic display devices, devices using thin cathode ray tubes or liquid crystal shutters, etc. It can also be applied to various electro-optical devices.

また、電気光学装置は、半導体基板に素子を形成する表示用デバイス、例えばLCOS(Liquid Crystal On Silicon)等であっても構わない。LCOSでは、素子基板として単結晶シリコン基板を用い、画素や周辺回路に用いるスイッチング素子としてトランジスターを単結晶シリコン基板に形成する。また、画素には、反射型の画素電極を用い、画素電極の下層に画素の各素子を形成する。   The electro-optical device may be a display device that forms elements on a semiconductor substrate, for example, LCOS (Liquid Crystal On Silicon). In LCOS, a single crystal silicon substrate is used as an element substrate, and a transistor is formed on a single crystal silicon substrate as a switching element used for a pixel or a peripheral circuit. In addition, a reflective pixel electrode is used for the pixel, and each element of the pixel is formed below the pixel electrode.

また、電気光学装置は、片側の基板の同一層に、一対の電極が形成される表示用デバイス、例えばIPS(In-Plane Switching)や、片側の基板において、絶縁膜を介して一対の電極が形成される表示用デバイスFFS(Fringe Field Switching)等であっても構わない。   In addition, the electro-optical device has a display device in which a pair of electrodes are formed on the same layer of a substrate on one side, for example, IPS (In-Plane Switching), or a pair of electrodes on one substrate via an insulating film. It may be a display device FFS (Fringe Field Switching) formed.

(第2実施形態)
図7は、本発明の第2実施形態に係る液晶装置2の断面図である。
図7に示すように、本実施形態の液晶装置2は、平面視においてTFTアレイ基板10Aの大きさが防塵ガラス30Aよりも大きい点、平面視において対向基板20Aの大きさが防塵ガラス31Aよりも大きい点、伝熱部材62A,63A,72A,73Aの露出した部分が接続部材92を介して保持部材200と接続されている点、で上述の第1実施形態に係る液晶装置1と異なっている。その他の点は上述の構成と同様であるので、図6と同様の要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
(Second Embodiment)
FIG. 7 is a cross-sectional view of the liquid crystal device 2 according to the second embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 7, the liquid crystal device 2 of the present embodiment has a point that the size of the TFT array substrate 10A is larger than that of the dust-proof glass 30A in plan view, and the size of the counter substrate 20A is larger than that of the dust-proof glass 31A in plan view. It differs from the liquid crystal device 1 according to the first embodiment described above in that the exposed portions of the heat transfer members 62A, 63A, 72A, and 73A are connected to the holding member 200 via the connection member 92. . Since the other points are the same as the above-described configuration, the same elements as those in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

液晶装置2は、液晶パネル100Aと、防塵ガラス30A,31Aと、伝熱部材61A,62A,63A,71A,72A,73Aと、保持部材200と、フック部材300とから主要部が構成されている。   The liquid crystal device 2 includes a liquid crystal panel 100A, dustproof glasses 30A and 31A, heat transfer members 61A, 62A, 63A, 71A, 72A, and 73A, a holding member 200, and a hook member 300. .

TFTアレイ基板10Aは、平面視の大きさが防塵ガラス30Aよりも大きく形成されている。防塵ガラス30AのTFTアレイ基板10Aの側とは反対側の部分には、当該防塵ガラス30Aよりも熱伝導率の高い伝熱部材61Aが形成されている。伝熱部材61Aの表面(防塵ガラス30Aの側とは反対側の面)は、外部に露出している。   The TFT array substrate 10A has a larger size in plan view than the dustproof glass 30A. A heat transfer member 61A having a thermal conductivity higher than that of the dustproof glass 30A is formed on a portion of the dustproof glass 30A opposite to the TFT array substrate 10A. The surface of the heat transfer member 61A (the surface opposite to the dustproof glass 30A side) is exposed to the outside.

TFTアレイ基板10Aの液晶50の側とは反対側の部分には、当該TFTアレイ基板10Aよりも熱伝導率の高い伝熱部材62Aが形成されている。伝熱部材62Aの側端部(TFTアレイ基板10Aの防塵ガラス30Aよりも大きく形成された部分に形成された伝熱部材62Aの部分)は、防塵ガラス30Aから露出している。   A heat transfer member 62A having a higher thermal conductivity than that of the TFT array substrate 10A is formed on the opposite side of the TFT array substrate 10A from the liquid crystal 50 side. A side end portion of the heat transfer member 62A (a portion of the heat transfer member 62A formed in a portion formed larger than the dustproof glass 30A of the TFT array substrate 10A) is exposed from the dustproof glass 30A.

防塵ガラス30AのTFTアレイ基板10Aの側の部分には、当該防塵ガラス30Aよりも熱伝導率の高い伝熱部材63Aが形成されている。伝熱部材63Aの側端面は、外部に露出している。   A heat transfer member 63A having a higher thermal conductivity than that of the dustproof glass 30A is formed on the portion of the dustproof glass 30A on the TFT array substrate 10A side. The side end surface of the heat transfer member 63A is exposed to the outside.

対向基板20Aは、平面視の大きさが防塵ガラス31Aよりも大きく形成されている。 防塵ガラス31Aの対向基板20Aの側とは反対側の部分には、当該防塵ガラス31Aよりも熱伝導率の高い伝熱部材71Aが形成されている。伝熱部材71Aの表面(防塵ガラス31Aの側とは反対側の面)は、外部に露出している。   The counter substrate 20A is formed to have a larger size in plan view than the dust-proof glass 31A. A heat transfer member 71A having a thermal conductivity higher than that of the dustproof glass 31A is formed on a part of the dustproof glass 31A opposite to the side of the counter substrate 20A. The surface of the heat transfer member 71A (the surface opposite to the dust-proof glass 31A) is exposed to the outside.

対向基板20Aの液晶50の側とは反対側の部分には、当該対向基板20Aよりも熱伝導率の高い伝熱部材72Aが形成されている。伝熱部材72Aの側端部(対向基板20Aの防塵ガラス31Aよりも大きく形成された部分に形成された伝熱部材72Aの部分)は、防塵ガラス31Aから露出している。   A heat transfer member 72A having a thermal conductivity higher than that of the counter substrate 20A is formed on a portion of the counter substrate 20A opposite to the liquid crystal 50 side. A side end portion of the heat transfer member 72A (a portion of the heat transfer member 72A formed in a portion formed larger than the dustproof glass 31A of the counter substrate 20A) is exposed from the dustproof glass 31A.

防塵ガラス31Aの対向基板20Aの側の部分には、当該防塵ガラス31Aよりも熱伝導率の高い伝熱部材73Aが形成されている。伝熱部材73Aの側端面は、外部に露出している。   A heat transfer member 73A having a higher thermal conductivity than the dust-proof glass 31A is formed on a part of the dust-proof glass 31A on the side of the counter substrate 20A. The side end surface of the heat transfer member 73A is exposed to the outside.

伝熱部材62A,63A,72A,73Aの露出した部分は、当該伝熱部材62A,63A,72A,73Aよりも熱伝導率の高い接続部材92を介して保持部材200と接続されている。接続部材92は、例えば半田(熱伝導率:約21〜66W/m・K)等の材料によって構成されている。伝熱部材62A,63A,72A,73Aの露出した部分と保持部材200との接続方法は、例えば、保持部材200に予め孔200hを開けておき、当該孔200hから半田を注入して伝熱部材62A,63A,72A,73Aの露出した部分と保持部材200とを半田付けする方法がある。   The exposed portions of the heat transfer members 62A, 63A, 72A, and 73A are connected to the holding member 200 via the connection member 92 that has a higher thermal conductivity than the heat transfer members 62A, 63A, 72A, and 73A. The connection member 92 is made of a material such as solder (thermal conductivity: about 21 to 66 W / m · K), for example. As for the method of connecting the exposed portions of the heat transfer members 62A, 63A, 72A, 73A and the holding member 200, for example, a hole 200h is previously formed in the holding member 200, and solder is injected from the hole 200h to heat transfer member. There is a method of soldering the exposed portions of 62A, 63A, 72A, 73A and the holding member 200.

本実施形態の液晶装置2によれば、基板全体に蓄積される熱を、液晶パネル100A及び防塵ガラス30A,31Aよりも表面積が大きい保持部材200を介して放熱することができる。よって、基板全体に蓄積される熱を効率よく放熱することができる。   According to the liquid crystal device 2 of the present embodiment, the heat accumulated on the entire substrate can be radiated through the holding member 200 having a surface area larger than that of the liquid crystal panel 100A and the dustproof glasses 30A and 31A. Therefore, the heat accumulated on the entire substrate can be efficiently radiated.

(第3実施形態)
図8は、本発明の第3実施形態に係る液晶装置3の断面図である。
図8に示すように、本実施形態の液晶装置3は、平面視において防塵ガラス30Bの大きさがTFTアレイ基板10Bよりも大きい点、平面視において防塵ガラス31Bの大きさが対向基板20Bよりも大きい点、伝熱部材62B,63B,72B,73Bの露出した部分が接続部材92を介して保持部材200と接続されている点、突起部90,91に替えて弾性部材により構成された接続部材93が設けられている点、で上述の第1実施形態に係る液晶装置1と異なっている。その他の点は上述の構成と同様であるので、図6と同様の要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
(Third embodiment)
FIG. 8 is a cross-sectional view of the liquid crystal device 3 according to the third embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 8, the liquid crystal device 3 of the present embodiment has a point that the size of the dustproof glass 30B is larger than that of the TFT array substrate 10B in plan view, and the size of the dustproof glass 31B is larger than that of the counter substrate 20B in plan view. A large point, a point where the exposed portions of the heat transfer members 62B, 63B, 72B, 73B are connected to the holding member 200 via the connection member 92, and a connection member constituted by an elastic member instead of the protrusions 90, 91 93 is different from the liquid crystal device 1 according to the first embodiment described above in that 93 is provided. Since the other points are the same as the above-described configuration, the same elements as those in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

液晶装置3は、液晶パネル100Bと、防塵ガラス30B,31Bと、伝熱部材61B,62B,63B,71B,72B,73Bと、保持部材200と、フック部材300とから主要部が構成されている。   The liquid crystal device 3 includes a liquid crystal panel 100B, dustproof glasses 30B and 31B, heat transfer members 61B, 62B, 63B, 71B, 72B, and 73B, a holding member 200, and a hook member 300. .

防塵ガラス30Bは、平面視の大きさがTFTアレイ基板10Bよりも大きく形成されている。防塵ガラス30BのTFTアレイ基板10Bの側とは反対側の部分には、当該防塵ガラス30Bよりも熱伝導率の高い伝熱部材61Bが形成されている。伝熱部材61Bの表面(防塵ガラス30Bの側とは反対側の面)は、外部に露出している。   The dustproof glass 30B is formed to have a larger size in plan view than the TFT array substrate 10B. A heat transfer member 61B having a thermal conductivity higher than that of the dust-proof glass 30B is formed on a portion of the dust-proof glass 30B opposite to the TFT array substrate 10B. The surface of the heat transfer member 61B (the surface opposite to the dustproof glass 30B) is exposed to the outside.

TFTアレイ基板10Bの液晶50の側とは反対側の部分には、当該TFTアレイ基板10Bよりも熱伝導率の高い伝熱部材62Bが形成されている。伝熱部材62Bの側端面は、外部に露出している。   A heat transfer member 62B having a higher thermal conductivity than that of the TFT array substrate 10B is formed on the opposite side of the TFT array substrate 10B from the liquid crystal 50 side. The side end surface of the heat transfer member 62B is exposed to the outside.

防塵ガラス30BのTFTアレイ基板10Bの側の部分には、当該防塵ガラス30Bよりも熱伝導率の高い伝熱部材63Bが形成されている。伝熱部材63Bの側端部(防塵ガラス30BのTFTアレイ基板10Bよりも大きく形成された部分に形成された伝熱部材63Bの部分)は、TFTアレイ基板10Bから露出している。   A heat transfer member 63B having a higher thermal conductivity than the dustproof glass 30B is formed on the portion of the dustproof glass 30B on the TFT array substrate 10B side. A side end portion of the heat transfer member 63B (a portion of the heat transfer member 63B formed in a portion of the dust-proof glass 30B formed larger than the TFT array substrate 10B) is exposed from the TFT array substrate 10B.

防塵ガラス31Bは、平面視の大きさが対向基板20Bよりも大きく形成されている。防塵ガラス31Bの対向基板20Bの側とは反対側の部分には、当該防塵ガラス31Bよりも熱伝導率の高い伝熱部材71Bが形成されている。伝熱部材71Bの表面(防塵ガラス31Bの側とは反対側の面)は、外部に露出している。   The dustproof glass 31B is formed to have a larger size in plan view than the counter substrate 20B. A heat transfer member 71B having a thermal conductivity higher than that of the dustproof glass 31B is formed on a portion of the dustproof glass 31B opposite to the counter substrate 20B. The surface of the heat transfer member 71B (the surface opposite to the dustproof glass 31B) is exposed to the outside.

対向基板20Bの液晶50の側とは反対側の部分には、当該対向基板20Bよりも熱伝導率の高い伝熱部材72Bが形成されている。伝熱部材72Bの側端面は、外部に露出している。   A heat transfer member 72B having a thermal conductivity higher than that of the counter substrate 20B is formed on a portion of the counter substrate 20B opposite to the liquid crystal 50 side. The side end surface of the heat transfer member 72B is exposed to the outside.

防塵ガラス31Bの対向基板20Bの側の部分には、当該防塵ガラス31Bよりも熱伝導率の高い伝熱部材73Bが形成されている。伝熱部材73Bの側端部(防塵ガラス31Bの対向基板20Bよりも大きく形成された部分に形成された伝熱部材73Bの部分)は、対向基板20Bから露出している。   A heat transfer member 73B having a higher thermal conductivity than that of the dustproof glass 31B is formed on a portion of the dustproof glass 31B on the counter substrate 20B side. A side end portion of the heat transfer member 73B (a portion of the heat transfer member 73B formed in a portion formed larger than the counter substrate 20B of the dustproof glass 31B) is exposed from the counter substrate 20B.

伝熱部材61Bの露出した部分は、接続部材93を介してフック部材300と接続されている。伝熱部材71Bの露出した部分は、接続部材93を介して保持部材200と接続されている。接続部材93は弾性部材である。接続部材93としては例えばU字状のバネ部材を用いることができる。液晶パネル100Bと防塵ガラス30B,31Bとは、接続部材93が弾性変形した状態でフック部材300に保持されている。   The exposed portion of the heat transfer member 61 </ b> B is connected to the hook member 300 via the connection member 93. The exposed part of the heat transfer member 71 </ b> B is connected to the holding member 200 via the connection member 93. The connection member 93 is an elastic member. For example, a U-shaped spring member can be used as the connection member 93. The liquid crystal panel 100B and the dustproof glasses 30B and 31B are held by the hook member 300 in a state where the connecting member 93 is elastically deformed.

伝熱部材62B,63B,72B,73Bの露出した部分は、当該伝熱部材62B,63B,72B,73Bよりも熱伝導率の高い接続部材92を介して保持部材200と接続されている。接続部材92は、例えば半田(熱伝導率:約21〜66W/m・K)等の材料によって構成されている。伝熱部材62B,63B,72B,73Bの露出した部分と保持部材200との接続方法は、例えば、保持部材200に予め孔200hを開けておき、当該孔200hから半田を注入して伝熱部材62B,63B,72B,73Bの露出した部分と保持部材200とを半田付けする方法がある。   The exposed portions of the heat transfer members 62B, 63B, 72B, and 73B are connected to the holding member 200 via a connection member 92 that has a higher thermal conductivity than the heat transfer members 62B, 63B, 72B, and 73B. The connection member 92 is made of a material such as solder (thermal conductivity: about 21 to 66 W / m · K), for example. As for the method of connecting the exposed portions of the heat transfer members 62B, 63B, 72B, 73B and the holding member 200, for example, a hole 200h is previously formed in the holding member 200, and solder is injected from the hole 200h to heat transfer member. There is a method in which the exposed portions of 62B, 63B, 72B, and 73B and the holding member 200 are soldered.

本実施形態の液晶装置3によれば、弾性部材により構成される接続部材93によって、伝熱部材61Bの露出した部分とフック部材300とがしっかりと接続され、伝熱部材71Bの露出した部分と保持部材200とがしっかりと接続される。よって、基板全体に蓄積される熱を確実に放熱することができる。   According to the liquid crystal device 3 of the present embodiment, the exposed portion of the heat transfer member 61B and the hook member 300 are firmly connected by the connecting member 93 formed of an elastic member, and the exposed portion of the heat transfer member 71B. The holding member 200 is firmly connected. Therefore, the heat accumulated on the entire substrate can be reliably radiated.

(第4実施形態)
図9は、本発明の第4実施形態に係る液晶装置4の断面図である。
図9に示すように、本実施形態の液晶装置4は、伝熱部材61C,62C,63C,71C,72C,73Cの露出した部分が保持部材200と直接接続されている点で上述の第1実施形態に係る液晶装置1と異なっている。その他の点は上述の構成と同様であるので、図6と同様の要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
(Fourth embodiment)
FIG. 9 is a cross-sectional view of the liquid crystal device 4 according to the fourth embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 9, the liquid crystal device 4 of the present embodiment has the above-described first configuration in that the exposed portions of the heat transfer members 61C, 62C, 63C, 71C, 72C, and 73C are directly connected to the holding member 200. This is different from the liquid crystal device 1 according to the embodiment. Since the other points are the same as the above-described configuration, the same elements as those in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.

液晶装置4は、液晶パネル100と、防塵ガラス30,31と、伝熱部材61C,62C,63C,71C,72C,73Cと、保持部材200と、フック部材300とから主要部が構成されている。   The liquid crystal device 4 includes a liquid crystal panel 100, dust-proof glasses 30, 31, heat transfer members 61C, 62C, 63C, 71C, 72C, 73C, a holding member 200, and a hook member 300. .

防塵ガラス30のTFTアレイ基板10の側とは反対側の部分には、当該防塵ガラス30よりも熱伝導率の高い伝熱部材61Cが形成されている。伝熱部材61Cの表面(防塵ガラス30の側とは反対側の面)は、外部に露出している。   A heat transfer member 61 </ b> C having a higher thermal conductivity than the dust-proof glass 30 is formed on the part of the dust-proof glass 30 opposite to the TFT array substrate 10. The surface of the heat transfer member 61C (the surface opposite to the dustproof glass 30 side) is exposed to the outside.

TFTアレイ基板10の液晶50の側とは反対側の部分には、当該TFTアレイ基板10よりも熱伝導率の高い伝熱部材62Cが形成されている。   A heat transfer member 62C having a thermal conductivity higher than that of the TFT array substrate 10 is formed on the opposite side of the TFT array substrate 10 from the liquid crystal 50 side.

防塵ガラス30のTFTアレイ基板10の側の部分には、当該防塵ガラス30よりも熱伝導率の高い伝熱部材63Cが形成されている。   A heat transfer member 63 </ b> C having a higher thermal conductivity than that of the dust-proof glass 30 is formed on the portion of the dust-proof glass 30 on the TFT array substrate 10 side.

伝熱部材61C,62C,63Cは、平面視の大きさがTFTアレイ基板10よりも大きく形成されている。伝熱部材61C,62C,63CのTFTアレイ基板10よりも大きく形成された部分は、保持部材200と直接接続されている。   The heat transfer members 61 </ b> C, 62 </ b> C, and 63 </ b> C are formed so as to be larger in plan view than the TFT array substrate 10. The portions of the heat transfer members 61C, 62C, and 63C that are formed larger than the TFT array substrate 10 are directly connected to the holding member 200.

防塵ガラス31の対向基板20の側とは反対側の部分には、当該防塵ガラス31よりも熱伝導率の高い伝熱部材71Cが形成されている。伝熱部材71Cの表面(防塵ガラス31の側とは反対側の面)は、外部に露出している。   A heat transfer member 71 </ b> C having a higher thermal conductivity than that of the dust-proof glass 31 is formed on the part of the dust-proof glass 31 opposite to the side of the counter substrate 20. The surface of the heat transfer member 71C (the surface opposite to the dustproof glass 31) is exposed to the outside.

対向基板20の液晶50の側とは反対側の部分には、当該対向基板20よりも熱伝導率の高い伝熱部材72Cが形成されている。   A heat transfer member 72 </ b> C having a higher thermal conductivity than that of the counter substrate 20 is formed on a portion of the counter substrate 20 opposite to the liquid crystal 50 side.

防塵ガラス31の対向基板20の側の部分には、当該防塵ガラス31よりも熱伝導率の高い伝熱部材73Cが形成されている。   A heat transfer member 73 </ b> C having a higher thermal conductivity than that of the dustproof glass 31 is formed on a part of the dustproof glass 31 on the counter substrate 20 side.

伝熱部材71C,72C,73Cは、平面視の大きさが対向基板20よりも大きく形成されている。伝熱部材71C,72C,73Cの対向基板20よりも大きく形成された部分は、保持部材200と直接接触されている。   The heat transfer members 71 </ b> C, 72 </ b> C, and 73 </ b> C are formed so as to be larger in plan view than the counter substrate 20. The portions of the heat transfer members 71C, 72C, and 73C that are formed larger than the counter substrate 20 are in direct contact with the holding member 200.

本実施形態の液晶装置4によれば、基板全体に蓄積される熱を、液晶パネル100及び防塵ガラス30,31よりも表面積が大きい保持部材200を介して放熱することができる。よって、基板全体に蓄積される熱を効率よく放熱することができる。   According to the liquid crystal device 4 of the present embodiment, heat accumulated in the entire substrate can be dissipated through the holding member 200 having a larger surface area than the liquid crystal panel 100 and the dust-proof glasses 30 and 31. Therefore, the heat accumulated on the entire substrate can be efficiently radiated.

(電子機器)
図10は、電子機器の一例であるプロジェクター1000の概略構成図である。プロジェクター1000は、前記液晶装置1を含む液晶モジュール3個を、各々RGB用のライトバルブ1100R、1100G、1100Bとして用いたプロジェクターとして構成されている。
(Electronics)
FIG. 10 is a schematic configuration diagram of a projector 1000 that is an example of an electronic apparatus. The projector 1000 is configured as a projector using three liquid crystal modules including the liquid crystal device 1 as RGB light valves 1100R, 1100G, and 1100B, respectively.

このプロジェクター1000では、メタルハライドランプなどの白色光源のランプユニット1102から光が出射されると、3枚のミラー1106および2枚のダイクロイックミラー1108によって、R、G、Bの3原色に対応する光成分R、G、Bに分離され(光分離手段)、対応するライトバルブ1100R、1100G、1100B(液晶装置1、液晶ライトバルブ)に各々導かれる。この際に、光成分Bは、光路が長いので、光損失を防ぐために入射レンズ1122、リレーレンズ1123、および出射レンズ1124からなるリレーレンズ系1121を介して導かれる。   In this projector 1000, when light is emitted from a lamp unit 1102 of a white light source such as a metal halide lamp, light components corresponding to the three primary colors R, G, and B are emitted by three mirrors 1106 and two dichroic mirrors 1108. The light is separated into R, G, and B (light separating means) and led to the corresponding light valves 1100R, 1100G, and 1100B (liquid crystal device 1, liquid crystal light valve), respectively. At this time, since the optical component B has a long optical path, the light component B is guided through a relay lens system 1121 including an incident lens 1122, a relay lens 1123, and an exit lens 1124 in order to prevent light loss.

そして、ライトバルブ1100R、1100G、1100Bによって各々変調された3原色に対応する光成分R、G、Bは、ダイクロイックプリズム1112(光合成手段)に3方向から入射され、再度合成された後、投射レンズ1114を介してスクリーン1120にカラー画像として投射される。   Then, the light components R, G, and B corresponding to the three primary colors modulated by the light valves 1100R, 1100G, and 1100B are incident on the dichroic prism 1112 (light combining means) from three directions and are combined again, and then the projection lens. A color image is projected on the screen 1120 via 1114.

上記プロジェクター1000によれば、ライトバルブ1100R、1100G、1100Bとして上記本発明の液晶装置1が用いられているので、高品質な画像表示が可能な信頼性に優れたプロジェクター1000を提供することができる。   According to the projector 1000, since the liquid crystal device 1 of the present invention is used as the light valves 1100R, 1100G, and 1100B, it is possible to provide a highly reliable projector 1000 that can display a high-quality image. .

なお、電子機器としては、上記プロジェクター1000以外にも、マルチメディア対応のパーソナルコンピューター(PC)、およびエンジニアリング・ワークステーション(EWS)、ページャ、あるいは携帯電話、ワープロ、テレビ、ビューファインダー型またはモニター直視型のビデオテープレコーダー、電子手帳、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、POS端末、タッチパネルなどを挙げることができる。   In addition to the projector 1000, the electronic device includes a personal computer (PC) compatible with multimedia, an engineering workstation (EWS), a pager, a mobile phone, a word processor, a TV, a viewfinder type, or a monitor direct view type. Video tape recorders, electronic notebooks, electronic desk calculators, car navigation devices, POS terminals, touch panels, and the like.

1,2,3,4…液晶装置(電気光学装置)、10,10A,10B…TFTアレイ基板(第1基板)、20,20A,20B…対向基板(第2基板)、30,30A,30B,31,31A,31B…防塵ガラス(防塵部材)、50…液晶(電気光学物質)、61,62,63,61A,62A,63A,61B,62B,63B,61C,62C,63C,71,72,73,71A,72A,73A,71B,72B,73B,71C,72C,73C…伝熱部材、80…接着剤(樹脂部材)、90,91…突起部、92,93…接続部材、100…液晶パネル(電気光学パネル)、200…保持部材、1000…プロジェクター(電子機器) 1, 2, 3, 4 ... Liquid crystal device (electro-optical device), 10, 10A, 10B ... TFT array substrate (first substrate), 20, 20A, 20B ... Counter substrate (second substrate), 30, 30A, 30B , 31, 31A, 31B ... dustproof glass (dustproof member), 50 ... liquid crystal (electro-optic material), 61, 62, 63, 61A, 62A, 63A, 61B, 62B, 63B, 61C, 62C, 63C, 71, 72 73, 71A, 72A, 73A, 71B, 72B, 73B, 71C, 72C, 73C ... Heat transfer member, 80 ... Adhesive (resin member), 90, 91 ... Projection, 92, 93 ... Connection member, 100 ... Liquid crystal panel (electro-optical panel), 200 ... holding member, 1000 ... projector (electronic device)

Claims (8)

第1基板と第2基板との間に電気光学物質を挟持してなる電気光学パネルと、
前記第1基板の前記電気光学物質の側とは反対側に配置された防塵部材と、
前記防塵部材の前記第1基板の側とは反対側の部分に配置された、前記防塵部材よりも熱伝導率の高い伝熱部材と、を含み、
前記伝熱部材の少なくとも一部が外部に露出していることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optic panel comprising an electro-optic material sandwiched between a first substrate and a second substrate;
A dust-proof member disposed on a side opposite to the electro-optical material side of the first substrate;
A heat transfer member having a higher thermal conductivity than the dustproof member, disposed on a portion of the dustproof member opposite to the first substrate,
An electro-optical device, wherein at least a part of the heat transfer member is exposed to the outside.
第1基板と第2基板との間に電気光学物質を挟持してなる電気光学パネルと、
前記第1基板の前記電気光学物質の側とは反対側に配置された防塵部材と、
前記第1基板の前記防塵部材の側の部分に配置された、前記第1基板よりも熱伝導率の高い伝熱部材と、を含み、
前記第1基板は、平面視の大きさが前記防塵部材よりも大きく形成されており、
前記伝熱部材の少なくとも一部が平面視において前記防塵部材から露出していることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optic panel comprising an electro-optic material sandwiched between a first substrate and a second substrate;
A dust-proof member disposed on a side opposite to the electro-optical material side of the first substrate;
A heat transfer member disposed on a portion of the first substrate on the dust-proof member side and having a higher thermal conductivity than the first substrate;
The first substrate is formed to have a larger size in plan view than the dustproof member,
An electro-optical device, wherein at least a part of the heat transfer member is exposed from the dust-proof member in a plan view.
第1基板と第2基板との間に電気光学物質を挟持してなる電気光学パネルと、
前記第1基板の前記電気光学物質の側とは反対側に配置された防塵部材と、
前記防塵部材の前記第1基板の側の部分に配置された、前記防塵部材よりも熱伝導率の高い伝熱部材と、を含み、
前記防塵部材は、平面視の大きさが前記第1基板よりも大きく形成されており、
前記伝熱部材の少なくとも一部が平面視において前記第1基板から露出していることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optic panel comprising an electro-optic material sandwiched between a first substrate and a second substrate;
A dust-proof member disposed on a side opposite to the electro-optical material side of the first substrate;
A heat transfer member having a higher thermal conductivity than the dustproof member, disposed on the first substrate side of the dustproof member,
The dustproof member is formed larger in plan view than the first substrate,
An electro-optical device, wherein at least part of the heat transfer member is exposed from the first substrate in a plan view.
前記伝熱部材は光透過性を有する材料によって形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の電気光学装置。   The electro-optical device according to claim 1, wherein the heat transfer member is made of a light transmissive material. 前記電気光学パネルと前記防塵部材とを保持する、表面が金属によって構成された保持部材を含み、
前記伝熱部材の露出した部分は、前記保持部材と直接接触されるか、又は、前記伝熱部材よりも熱伝導率の高い接続部材を介して前記保持部材と接続されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の電気光学装置。
A holding member that holds the electro-optical panel and the dust-proof member, and that has a surface made of metal,
The exposed portion of the heat transfer member is in direct contact with the holding member, or is connected to the holding member via a connection member having a higher thermal conductivity than the heat transfer member. The electro-optical device according to claim 1.
前記接続部材は弾性部材により構成されており、
前記電気光学パネルと前記防塵部材とは、前記接続部材が弾性変形した状態で前記保持部材に保持されていることを特徴とする請求項5に記載の電気光学装置。
The connecting member is made of an elastic member,
The electro-optical device according to claim 5, wherein the electro-optical panel and the dust-proof member are held by the holding member in a state where the connection member is elastically deformed.
前記保持部材には前記伝熱部材に向けて突出する、表面が金属によって構成された突起部が形成され、
前記電気光学パネルと前記防塵部材とは、前記保持部材との間に樹脂部材が充填されて前記保持部材に固定されており、
前記突起部は前記樹脂部材を貫通して前記伝熱部材と接触していることを特徴とする請求項5または6に記載の電気光学装置。
The holding member is formed with a protrusion that protrudes toward the heat transfer member and has a metal surface.
The electro-optical panel and the dustproof member are fixed to the holding member by being filled with a resin member between the holding member,
The electro-optical device according to claim 5, wherein the protruding portion penetrates the resin member and is in contact with the heat transfer member.
請求項1〜7のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016031457A (en) * 2014-07-29 2016-03-07 パナソニックIpマネジメント株式会社 Liquid crystal display device
JP2017083699A (en) * 2015-10-29 2017-05-18 日本精機株式会社 Display device

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