JP2012208073A - Dimension measuring jig - Google Patents

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Akinari Ohira
晃也 大平
Hideyuki Tsutsui
英之 筒井
Naoko Ito
直子 伊藤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dimension measuring jig whose surface comprises a hard film excellent in abrasion resistance and adhesiveness and that can drastically reduce a frequency of replacement because of its longer-operating life.SOLUTION: A dimension measuring jig comprises a hard film 1 that is formed on a surface of a substrate 2. The hard film 1 comprises: a ground layer 1a that is formed directly on the surface of the substrate 2 and is mainly made of chrome; a mixed layer 1b that is formed on the ground layer 1a and is mainly made of tungsten carbide and diamond-like carbon; and a surface layer 1c that is formed on the mixed layer 1b and is mainly made of diamond-like carbon. With respect to the mixed layer 1b, a content percentage of tungsten carbide in the mixed layer 1b decreases and that of diamond-like carbon in the mixed layer 1b increases, in a continuous or step-by-step manner, in a direction from the ground layer 1a side toward the surface layer 1c side.

Description

本発明は、各種機械部品や各種成形金型の寸法、締め付けトルク、形状などを測定する際に使用する、ゲージ類、定盤、模範部品などの寸法測定治具に関し、特に、表面にダイヤモンドライクカーボンを含む硬質膜を成膜した寸法測定治具に関する。   The present invention relates to a jig for measuring dimensions such as gauges, surface plates, and model parts used for measuring the dimensions, tightening torque, shape, etc. of various machine parts and various molding dies. The present invention relates to a dimension measuring jig formed with a hard film containing carbon.

硬質カーボン膜は、一般にダイヤモンドライクカーボン(以下、DLCと記す。また、DLCを主体とする膜/層をDLC膜/層ともいう。)と呼ばれている硬質膜である。硬質カーボンはその他にも、硬質非晶質炭素、無定形炭素、硬質無定形型炭素、i−カーボン、ダイヤモンド状炭素など、様々な呼称があるが、これらの用語は明確に区別されていない。   The hard carbon film is a hard film generally called diamond-like carbon (hereinafter referred to as DLC. A film / layer mainly composed of DLC is also referred to as a DLC film / layer). In addition, hard carbon has various names such as hard amorphous carbon, amorphous carbon, hard amorphous carbon, i-carbon, diamond-like carbon, and these terms are not clearly distinguished.

このような用語が用いられるDLCの本質は、構造的にはダイヤモンドとグラファイトが混ざり合った両者の中間構造を有するものである。ダイヤモンドと同等に硬度が高く、耐摩耗性、固体潤滑性、熱伝導性、化学安定性、耐腐食性などに優れる。こうしたDLC膜を形成する方法として、スパッタリング法やイオンプレーティング法などの物理的蒸着(以下、PVDと記す)法、化学的蒸着(以下、CVDと記す)法、アンバランスド・マグネトロン・スパッタリング(以下、UBMSと記す)法などが採用されている。   The essence of DLC in which such terms are used is structurally an intermediate structure of both diamond and graphite mixed. It is as hard as diamond and has excellent wear resistance, solid lubricity, thermal conductivity, chemical stability, and corrosion resistance. As a method for forming such a DLC film, physical vapor deposition (hereinafter referred to as PVD) such as sputtering or ion plating, chemical vapor deposition (hereinafter referred to as CVD), unbalanced magnetron sputtering ( Hereinafter, a method such as UBMS) is employed.

一方、各種機械部品や各種成形金型などの寸法、締め付けトルク、形状などを測定する際に使用する、治具・器具・部品(以下、本発明において「寸法測定治具」という)として、ブロックゲージ、ピンゲージ、ダイヤルゲージ、栓ゲージ、プラグゲージ、フィルムゲージなどの各種ゲージ類、ブロックゲージを用いた寸法測定時に使用する定盤、製品形状の寸法模範(軸受内・外輪、ケージ、転動体)や締め付けトルク確認用模範などの模範部品、ノギス、マイクロメータなどの寸法測定器具などが知られている。   On the other hand, as a jig / apparatus / part (hereinafter referred to as “dimension measuring jig” in the present invention) used for measuring dimensions, tightening torque, shape, etc. of various machine parts and various molding dies, block Various gauges such as gauges, pin gauges, dial gauges, plug gauges, plug gauges, film gauges, surface plates used when measuring dimensions using block gauges, product model dimensions (bearing inner and outer rings, cages, rolling elements) Also known are model parts such as a tightening torque confirmation model, dimension measuring instruments such as calipers and micrometers, and the like.

機械部品の寸法管理用の模範部品の一例として、めねじの寸法を測定するプラグゲージがある。プラグゲージは、めねじのねじ穴内に嵌合されて寸法を検査するものである。めねじに対応するおねじが設けられたゲージ部を有し、めねじに外径や有効径、ピッチ径などを検査する通り側および止め側のねじプラグゲージや、めねじの内径に対応する円柱形状のゲージを有してめねじの内径を検査する内径用プラグゲージがJISなどで規定されている。   As an example of a model part for dimensional management of a machine part, there is a plug gauge for measuring the dimension of a female screw. The plug gauge is fitted into a screw hole of a female screw and inspects its dimensions. It has a gauge part with male threads corresponding to female threads, and it corresponds to the internal and external thread plug gauges and female thread internal diameters for checking the outer diameter, effective diameter, pitch diameter, etc. An inner diameter plug gauge having a cylindrical gauge and inspecting the inner diameter of the female screw is defined by JIS and the like.

このようなプラグゲージにおいて、表面にTiN、CrNなどの硬質被膜をコーティングすることにより、耐摩耗性を向上させる技術が提案されている。しかし、TiN膜やCrN膜は膜厚のばらつきが大きいため、プラグゲージに要求される高い寸法精度を満たすことが難しく、実質的に適用が困難である。また、TiN膜やCrN膜はAIP(アークイオンプレーティング)法で成膜されるため、ドロップレットと呼ばれる粗大粒子(アーク放電部で発生)が付着するので表面粗さが粗くなり、潤滑性が損なわれてプラグゲージとめねじの嵌合部で引っ掛かりが生じて作業性が悪化するという課題、あるいは耐摩耗性が十分でなく交換間隔が短いなどの課題があった。   In such a plug gauge, a technique for improving the wear resistance by coating a hard film such as TiN or CrN on the surface has been proposed. However, since TiN film and CrN film have large variations in film thickness, it is difficult to satisfy the high dimensional accuracy required for the plug gauge, and it is substantially difficult to apply. Moreover, since TiN film and CrN film are formed by the AIP (arc ion plating) method, coarse particles called droplets (generated at the arc discharge part) adhere to the surface, resulting in rough surface and lubricity. There is a problem that the workability is deteriorated due to damage at the fitting part between the plug gauge and the female screw, or a problem that the wear resistance is not sufficient and the replacement interval is short.

この課題に対して、プラグゲージの表面に2μm以下のDLC膜をCVD法で形成するものが提案されている(特許文献1参照)。また、対象物に加工した穴などの内径寸法を測定するのに使用する栓ゲージの表面にDLC膜を形成するものが提案されている(特許文献2参照)。   In order to solve this problem, a method of forming a DLC film of 2 μm or less on the surface of the plug gauge by the CVD method has been proposed (see Patent Document 1). Moreover, what forms a DLC film | membrane on the surface of the plug gauge used for measuring internal diameter dimensions, such as a hole processed into the target object, is proposed (refer patent document 2).

その他、DLC膜を形成する方法として、例えば、アーク放電部の陰極から発生するドロップレットと呼ばれる陰極材料粒子を除去できる機構を取り付け、表面に凹凸の少ないDLC膜を形成し得るアークイオンプレーティングのフィルタードアーク法が提案されている(特許文献3参照)。また、UBMS法でDLC膜を形成することで、密着性に優れるDLC膜が提案されている(特許文献4参照)。   In addition, as a method of forming a DLC film, for example, a mechanism that can remove cathode material particles called droplets generated from the cathode of an arc discharge part is attached, and arc ion plating that can form a DLC film with less unevenness on the surface is provided. A filtered arc method has been proposed (see Patent Document 3). Further, a DLC film having excellent adhesion by forming a DLC film by the UBMS method has been proposed (see Patent Document 4).

特開2006−208116号公報JP 2006-208116 A 特開2006−177908号公報JP 2006-177908 A 特開2007−046144号公報JP 2007-046144 A 特開2002−256415号公報JP 2002-256415 A

しかしながら、特許文献1のようにCVD法で成膜したDLC膜は、PVD法で成膜したDLC膜と比較して、耐摩耗性および密着性が劣ることから、寸法管理用の模範部品として最適とはいえない。また、特許文献1では、中間層を設けるなどの密着性向上対策がなされていない。   However, the DLC film formed by the CVD method as in Patent Document 1 is inferior in wear resistance and adhesion compared to the DLC film formed by the PVD method, and is therefore suitable as an exemplary part for dimensional control. That's not true. In Patent Document 1, no measures for improving adhesion such as providing an intermediate layer are taken.

また、特許文献2では、UBMS法を用いて成膜しており、DLC層と基材との間にめっき層を設けているが、めっき層と基材との密着力は、UBMS法で成膜した中間層と比べて大幅に劣る。このため、膜全体としての密着力としては十分とはいえない。また、めっき層の膜厚の管理は難しく、薄肉化が困難であるため、模範部品として最適とはいえない。また、密着性を高めるため、中間層に金属元素を使用する旨が提案されているが、中間層の膜構造や成膜条件などによっては、密着性向上が図れない場合もある。   In Patent Document 2, a film is formed using the UBMS method, and a plating layer is provided between the DLC layer and the base material. The adhesion between the plating layer and the base material is achieved by the UBMS method. Significantly inferior to the filmed intermediate layer. For this reason, it cannot be said that the adhesion strength of the entire film is sufficient. In addition, since it is difficult to manage the thickness of the plating layer and it is difficult to reduce the thickness, it is not optimal as an exemplary part. Further, in order to improve the adhesion, it has been proposed to use a metal element in the intermediate layer. However, the adhesion may not be improved depending on the film structure or film formation conditions of the intermediate layer.

このように、既存の模範部品は、その表面に硬質膜処理(CrN、TiN、DLCなど)を施し、長寿命化を試みているものの、寸法精度、耐摩耗性、密着性の面で不十分であり、長期間使用することが困難である。   In this way, the existing model parts are hard film treated (CrN, TiN, DLC, etc.) on the surface to try to extend the life, but are insufficient in terms of dimensional accuracy, wear resistance, and adhesion It is difficult to use for a long time.

寸法測定治具の表面の曲面部などにDLC膜を成膜する場合では、その膜構造や成膜条件によっては、膜内の残留応力が大きくなり、成膜直後に剥離するおそれがある。成膜直後には剥離しなくとも、使用時に負荷を受けると剥離するおそれがある。このため、高い密着性が要求される。また、締め付けトルク確認用模範部品の場合、ハウジングの寸法を管理するため、該模範部品を圧入し、模範部品を往復摺動させた時のトルクを検出するものであり、摩耗粉が摺動界面に残存し易く、高い耐摩耗性が要求される。   When a DLC film is formed on a curved surface portion of the surface of the dimension measuring jig, the residual stress in the film increases depending on the film structure and film formation conditions, and there is a possibility that the film is peeled off immediately after the film formation. Even if it does not peel off immediately after film formation, it may peel off when subjected to a load during use. For this reason, high adhesiveness is required. In addition, in the case of an exemplary part for confirming the tightening torque, in order to manage the dimensions of the housing, the exemplary part is press-fitted and the torque when the exemplary part is slid back and forth is detected. It is necessary to have high wear resistance.

DLC膜の形成方法として、特許文献3の方法では、耐摩耗性を優先しており、密着性に劣るため、寸法測定治具への適用は困難であると考えられる。また、特許文献4の方法では、基材との密着性のみに着目しているため、従来の成膜条件では、寸法測定治具としての十分な耐摩耗性を付与することは困難であると考えられる。   As a method for forming a DLC film, the method of Patent Document 3 gives priority to wear resistance and is inferior in adhesiveness, and thus is considered difficult to apply to a dimension measuring jig. Further, in the method of Patent Document 4, since attention is paid only to the adhesion with the base material, it is difficult to provide sufficient wear resistance as a dimension measuring jig under the conventional film forming conditions. Conceivable.

本発明はこのような問題に対処するためになされたものであり、耐摩耗性と密着性に優れる硬質膜を表面に有し、長寿命で交換回数を大幅に削減し得る寸法測定治具を提供することを目的とする。   The present invention has been made in order to cope with such a problem, and has a hard film having excellent wear resistance and adhesion on the surface, a long-life dimension measuring jig that can greatly reduce the number of replacements. The purpose is to provide.

本発明寸法測定治具は、基材の表面に硬質膜が成膜されてなり、上記硬質膜は、上記基材の表面上に直接成膜されるクロム(以下、Crと記す)を主体とする下地層と、該下地層の上に成膜されるタングステンカーバイト(以下、WCと記す)とDLCとを主体とする混合層と、該混合層の上に成膜されるDLCを主体とする表面層とからなる構造の膜であり、上記混合層は、上記下地層側から上記表面層側へ向けて連続的または段階的に、該混合層中のWCの含有率が小さくなり、該混合層中のDLCの含有率が高くなる層であることを特徴とする。   The dimension measuring jig according to the present invention has a hard film formed on the surface of a base material, and the hard film is mainly composed of chromium (hereinafter referred to as Cr) formed directly on the surface of the base material. A mixed layer mainly composed of tungsten carbide (hereinafter referred to as WC) and DLC formed on the underlying layer, and mainly composed of DLC formed on the mixed layer. The mixed layer has a WC content in the mixed layer that decreases continuously or stepwise from the base layer side to the surface layer side, It is a layer in which the content of DLC in the mixed layer increases.

上記基材の表面に、曲面部を有することを特徴とする。ここで、曲面部とは、硬質膜が成膜される基材表面の少なくとも一部を構成する部分であり、かつ、平面でない部分である。   It has a curved surface on the surface of the substrate. Here, the curved surface portion is a portion that constitutes at least a part of the surface of the base material on which the hard film is formed, and is a portion that is not a flat surface.

上記硬質膜は、表面粗さRa:0.01μm以下、ビッカース硬度Hv:780であるSUJ2焼入れ鋼を相手材として、ヘルツの最大接触面圧0.5GPaの荷重を印加して接触させ、0.05m/sの回転速度で30分間、上記相手材を回転させたときの該硬質膜の比摩耗量が200×10−10mm/(N・m)未満であることを特徴とする。 The hard film is brought into contact with SUJ2 hardened steel having a surface roughness Ra of 0.01 μm or less and a Vickers hardness Hv of 780 by applying a load with a maximum contact surface pressure of 0.5 GPa of Hertz. The specific wear amount of the hard film is less than 200 × 10 −10 mm 3 / (N · m) when the counterpart material is rotated for 30 minutes at a rotational speed of 05 m / s.

上記硬質膜は、押し込み硬さの平均値と標準偏差値との合計が25〜45GPaであることを特徴とする。   The hard film is characterized in that the sum of the indentation hardness average value and the standard deviation value is 25 to 45 GPa.

上記硬質膜は、スクラッチテストにおける臨界剥離荷重が50N以上であることを特徴とする。   The hard film has a critical peel load in a scratch test of 50 N or more.

上記表面層は、上記混合層との隣接側に、上記混合層側から硬度が連続的または段階的に高くなる傾斜層部分を有することを特徴とする。   The surface layer has an inclined layer portion whose hardness increases continuously or stepwise from the mixed layer side on the side adjacent to the mixed layer.

上記表面層は、スパッタリングガスとしてアルゴン(以下、Arと記す)ガスを用いたUBMS装置を使用して成膜した層であり、炭素供給源として黒鉛ターゲットと炭化水素系ガスとを併用し、上記Arガスの上記装置内への導入量100に対する上記炭化水素系ガスの導入量の割合が1〜5であり、上記装置内の真空度が0.2〜0.8Paであり、上記基材に印加するバイアス電圧が70〜150Vである条件下で、上記炭素供給源から生じる炭素原子を、上記混合層上に堆積させて成膜されたものであることを特徴とする。また、上記炭化水素系ガスが、メタンガスであることを特徴とする。   The surface layer is a layer formed using a UBMS apparatus using argon (hereinafter referred to as Ar) gas as a sputtering gas, and a graphite target and a hydrocarbon-based gas are used in combination as a carbon supply source. The ratio of the introduction amount of the hydrocarbon-based gas to the introduction amount 100 of Ar gas into the device is 1 to 5, the degree of vacuum in the device is 0.2 to 0.8 Pa, The film is formed by depositing carbon atoms generated from the carbon supply source on the mixed layer under a condition in which a bias voltage to be applied is 70 to 150 V. Further, the hydrocarbon gas is methane gas.

なお、基材に対するバイアスの電位は、アース電位に対してマイナスとなるように印加しており、例えば、バイアス電圧150Vとは、アース電位に対して基材のバイアス電位が−150Vであることを示す。   Note that the bias potential with respect to the base material is applied so as to be negative with respect to the ground potential. For example, the bias voltage of 150 V means that the bias potential of the base material is −150 V with respect to the ground potential. Show.

上記表面層の傾斜層部分は、上記基材に印加するバイアス電圧を連続的または段階的に上げながら成膜されたものであることを特徴とする。   The inclined layer portion of the surface layer is formed while raising the bias voltage applied to the substrate continuously or stepwise.

上記下地層および上記混合層は、スパッタリングガスとしてArガスを用いたUBMS装置を使用して成膜した層であり、上記混合層は、連続的または段階的に、炭素供給源となる黒鉛ターゲットに印加するスパッタ電力を上げながら、かつ、WCターゲットに印加する電力を下げながら成膜されたものであることを特徴とする。   The underlayer and the mixed layer are layers formed using a UBMS apparatus using Ar gas as a sputtering gas, and the mixed layer is formed on a graphite target serving as a carbon supply source continuously or stepwise. The film is formed while increasing the sputtering power applied and decreasing the power applied to the WC target.

上記硬質膜の膜厚が0.5〜3μmであり、かつ該硬質膜の膜厚に占める上記表面層の厚さの割合が0.8以下であることを特徴とする。   The hard film has a thickness of 0.5 to 3 μm, and the ratio of the thickness of the surface layer to the thickness of the hard film is 0.8 or less.

上記基材が、超硬合金材料または鉄系材料からなることを特徴とする。また、上記硬質膜が形成される面において、上記硬質膜形成前に、窒化処理により窒化層が形成されていることを特徴とする。また、上記窒化処理が、プラズマ窒化処理であり、上記窒化処理後の表面の硬さが、ビッカース硬さでHv1000以上であることを特徴とする。   The base material is made of a cemented carbide material or an iron-based material. Further, a nitride layer is formed by nitriding treatment on the surface on which the hard film is formed before the hard film is formed. Further, the nitriding treatment is a plasma nitriding treatment, and the surface hardness after the nitriding treatment is Vvs hardness of Hv1000 or more.

上記寸法測定治具が、ゲージ類、定盤、および模範部品、または、これらを構成する部材であることを特徴とする。また、上記寸法測定治具が、マイクロメータまたはノギスであることを特徴とする。   The dimension measuring jig is a gauge, a surface plate, model parts, or a member constituting them. The dimension measuring jig is a micrometer or a caliper.

本発明の寸法測定治具は、基材の表面にDLCを含む所定の膜構造を有する硬質膜が成膜されてなる。各面上に直接成膜されるCrからなる下地層は鉄系材料等と相性がよく、WやSiと比較して密着性に優れる。また、混合層に用いるWCは、CrとDLCとの中間的な硬さや弾性率を有し、成膜後の残留応力の集中も発生し難い。さらに、WCとDLCとの混合層を傾斜組成とすることで、WCとDLCとが物理的に結合する構造となっている。   The dimension measuring jig of the present invention is formed by forming a hard film having a predetermined film structure containing DLC on the surface of a base material. The underlayer made of Cr formed directly on each surface has good compatibility with iron-based materials and the like, and has excellent adhesion compared to W and Si. In addition, WC used for the mixed layer has intermediate hardness and elastic modulus between Cr and DLC, and concentration of residual stress after film formation hardly occurs. Further, the mixed layer of WC and DLC has a gradient composition, so that WC and DLC are physically coupled.

該硬質膜は、上記構造により、往復摺動などされる寸法測定治具の基材表面に形成されながら耐剥離性に優れ、DLC本来の特性を発揮できる。この結果、本発明の寸法測定治具は、表面の硬質膜の密着性や耐摩耗性に優れ、長寿命で交換回数を大幅に削減することができる。   Due to the above structure, the hard film has excellent peeling resistance while being formed on the surface of the base material of a dimension measuring jig that is reciprocally slid, and can exhibit the original characteristics of DLC. As a result, the dimension measuring jig of the present invention is excellent in the adhesion and wear resistance of the hard film on the surface, has a long life, and can greatly reduce the number of replacements.

本発明の寸法測定治具に成膜される硬質膜の構造を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the structure of the hard film | membrane formed into a film by the dimension measuring jig of this invention. UBMS法の成膜原理を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the film-forming principle of UBMS method. AIP機能を備えたUBMS装置の模式図である。It is a schematic diagram of the UBMS apparatus provided with the AIP function. 摩擦試験機を示す図である。It is a figure which shows a friction tester. 密着性評価基準を示す図である。It is a figure which shows adhesive evaluation criteria.

DLC膜などの硬質膜は膜内に残留応力があり、残留応力は膜構造や成膜条件、基材形状の影響を受け大きく異なる。本発明者らは、鋭意検討の結果、寸法測定治具の基材表面に形成する硬質膜を、下地層(Cr)と混合層(WC/DLCの傾斜)と表面層(DLC)とからなる所定の構造に限定することで、基材表面に曲面部を含む場合であっても、耐剥離性の大幅な向上が図れ、治具の使用時に該硬質膜の剥離や摩耗を防止できることを見出した。本発明はこのような知見に基づきなされたものである。   A hard film such as a DLC film has a residual stress in the film, and the residual stress varies greatly depending on the film structure, film forming conditions, and substrate shape. As a result of intensive studies, the inventors of the present invention have a hard film formed on the substrate surface of the dimension measuring jig, which is composed of a base layer (Cr), a mixed layer (WC / DLC slope), and a surface layer (DLC). By limiting to a predetermined structure, it has been found that even when a curved surface is included on the surface of the base material, the peel resistance can be greatly improved, and peeling and wear of the hard film can be prevented when using a jig. It was. The present invention has been made based on such findings.

本発明の対象とする寸法測定治具は、各種機械部品や各種成形金型などの寸法、締め付けトルク、形状などを測定する際に使用する治具・器具・部品である。例えば、ブロックゲージ、ピンゲージ、ダイヤルゲージ、栓ゲージ、プラグゲージ、フィルムゲージなどの各種ゲージ類、ブロックゲージを用いた寸法測定時に使用する定盤(ブロックゲージや製品との摺動あり)、製品形状の寸法模範(軸受内・外輪、ケージ、転動体)や締め付けトルク確認用模範などの模範部品、ノギス、マイクロメータなどの寸法測定器具などが挙げられる。模範部品は、具体的には、軸受内輪内径、軸受外輪外径、もしくは転動体の寸法測定時に使用をするものや、球面軸受外輪をはめ込んで使用するハウジングの内径寸法測定時に使用をするものなどがある。   The dimension measuring jig which is the object of the present invention is a jig, tool, or part used when measuring dimensions, tightening torque, shape, or the like of various machine parts or various molding dies. For example, various gauges such as block gauges, pin gauges, dial gauges, plug gauges, plug gauges, film gauges, surface plates used when measuring dimensions using block gauges (with sliding with block gauges and products), product shapes Dimensional examples (bearing inner / outer rings, cages, rolling elements), dimensional measuring instruments such as vernier calipers, micrometers, etc. Specifically, the model parts are used when measuring the inner diameter of the bearing inner ring, the outer diameter of the outer ring of the bearing, or the dimension of the rolling element, or used when measuring the inner diameter dimension of the housing that is fitted with the outer ring of the spherical bearing. There is.

本発明の寸法測定治具の基材の材質としては、特に限定されないが、超硬合金材料または鉄系材料を用いることができる。超硬合金材料としては、機械的特性が最も優れるWC−Co系合金の他に、切削工具として、耐酸化性を向上させた、WC−TiC−Co系合金、WC−TaC−Co系合金、WC−TiC−TaC−Co系合金などが挙げられる。鉄系材料としては、炭素工具鋼、高速度工具鋼、合金工具鋼、ステンレス鋼、軸受鋼、快削鋼などが挙げられる。   Although it does not specifically limit as a material of the base material of the dimension measuring jig of this invention, A cemented carbide material or an iron-type material can be used. As a cemented carbide material, in addition to a WC-Co alloy having the most excellent mechanical properties, a WC-TiC-Co alloy, a WC-TaC-Co alloy having improved oxidation resistance as a cutting tool, WC-TiC-TaC-Co based alloys and the like can be mentioned. Examples of iron-based materials include carbon tool steel, high-speed tool steel, alloy tool steel, stainless steel, bearing steel, and free-cutting steel.

これらの基材において、硬質膜が形成される面の硬さが、ビッカース硬さでHv650以上であることが好ましい。Hv650以上とすることで、硬質膜(下地層)との硬度差を少なくし、密着性を向上させることができる。   In these substrates, the hardness of the surface on which the hard film is formed is preferably Hv650 or higher in terms of Vickers hardness. By setting it as Hv650 or more, a hardness difference with a hard film | membrane (underlayer) can be decreased and adhesiveness can be improved.

硬質膜が形成される面において、硬質膜形成前に、窒化処理により窒化層が形成されていることが好ましい。窒化処理としては、基材表面に密着性を妨げる酸化層が生じ難いプラズマ窒化処理を施すことが好ましい。また、窒化処理後の表面の硬さがビッカース硬さでHv1000以上であることが、硬質膜(下地層)との密着性をさらに向上させるために好ましい。   On the surface on which the hard film is formed, it is preferable that a nitride layer is formed by nitriding before forming the hard film. As the nitriding treatment, it is preferable to perform a plasma nitriding treatment in which an oxide layer that hinders adhesion is hardly generated on the surface of the base material. Further, the surface hardness after nitriding is preferably Vickers hardness of Hv1000 or more in order to further improve the adhesion to the hard film (underlayer).

硬質膜が形成される面の表面粗さRaは、0.05μm以下であることが好ましい。表面粗さRaが0.05μmをこえると、粗さの突起先端に硬質膜が形成され難くなり、局所的に膜厚が小さくなる。   The surface roughness Ra of the surface on which the hard film is formed is preferably 0.05 μm or less. When the surface roughness Ra exceeds 0.05 μm, it is difficult to form a hard film at the tip of the projection having the roughness, and the film thickness is locally reduced.

硬質膜の構造を図1に基づいて説明する。図1は、本発明の寸法測定治具において基材表面に成膜される硬質膜1の構造を示す模式断面図である。図1に示すように、該硬質膜1は、(1)基材2の表面2a上に直接成膜されるCrを主体とする下地層1aと、(2)下地層1aの上に成膜されるWCとDLCとを主体とする混合層1bと、(3)混合層1bの上に成膜されるDLCを主体とする表面層1cとからなる3層構造を有する。ここで、混合層1bは、下地層1a側から表面層1c側へ向けて連続的または段階的に、該混合層中のWCの含有率が小さくなり、かつ、該混合層中のDLCの含有率が高くなる層である。   The structure of the hard film will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of a hard film 1 formed on the surface of a substrate in the dimension measuring jig of the present invention. As shown in FIG. 1, the hard film 1 includes (1) an underlayer 1a mainly composed of Cr directly formed on the surface 2a of the base material 2, and (2) formed on the underlayer 1a. The mixed layer 1b mainly composed of WC and DLC and (3) the surface layer 1c mainly composed of DLC formed on the mixed layer 1b. Here, in the mixed layer 1b, the content of WC in the mixed layer decreases continuously or stepwise from the base layer 1a side to the surface layer 1c side, and the DLC content in the mixed layer This is a layer with a higher rate.

下地層1aがCrを主体とする層であることから、超硬合金材料や鉄系材料からなる基材との相性がよく、W、Ti、Siなどを用いる場合と比較して基材との密着性に優れる。   Since the underlayer 1a is a layer mainly composed of Cr, it has good compatibility with a base material made of a cemented carbide material or an iron-based material, and compared with the case where W, Ti, Si or the like is used. Excellent adhesion.

混合層1bに用いるWCは、CrとDLCとの中間的な硬さや弾性率を有し、成膜後の残留応力の集中も発生し難い。後述の各比較例に示すように、下地層をCr以外とする場合や、下地層に合わせて混合層をCrとDLCとを主体とする層とする場合では、ロックウェル圧痕試験での剥離性に劣る。このように、寸法測定治具の表面において、耐剥離性に優れたDLCを含む硬質膜を形成しようとする場合では、中間層(下地層1aおよび混合層1b)における材料選定も重要な要素となる。   The WC used for the mixed layer 1b has intermediate hardness and elastic modulus between Cr and DLC, and concentration of residual stress after film formation hardly occurs. As shown in each comparative example to be described later, when the underlayer is other than Cr, or when the mixed layer is a layer mainly composed of Cr and DLC in accordance with the underlayer, the peelability in the Rockwell indentation test Inferior to Thus, in the case where a hard film containing DLC having excellent peel resistance is to be formed on the surface of the dimension measuring jig, material selection in the intermediate layer (the base layer 1a and the mixed layer 1b) is also an important factor. Become.

また、混合層1bが表面層1c側に向けてWCの含有率が小さく、かつ、DLCの含有率が高くなる傾斜組成であるので、下地層1aと表面層1cとの両面での密着性に優れる。特に、該混合層内において、WCとDLCとが物理的に結合する構造となり、表面層1c側ではDLC含有率が高められているので、表面層1cと混合層1bとの密着性に優れる。   In addition, since the mixed layer 1b has a gradient composition in which the content of WC is small toward the surface layer 1c side and the content of DLC is high, the adhesion between both the base layer 1a and the surface layer 1c is improved. Excellent. In particular, in the mixed layer, WC and DLC are physically bonded, and the DLC content is increased on the surface layer 1c side, so that the adhesion between the surface layer 1c and the mixed layer 1b is excellent.

表面層1cは、DLCを主体とする膜である。表面層1cにおいて、混合層1bとの隣接側に、混合層1b側から硬度が連続的または段階的に高くなる傾斜層部分1dを有することが好ましい。これは、混合層1bと表面層1cとでバイアス電圧が異なる場合、バイアス電圧の急激な変化を避けるためにバイアス電圧を連続的または段階的に変化させる(上げる)ことで得られる部分である。傾斜層部分1dは、このようにバイアス電圧を変化させることで、結果として上記のように硬度が傾斜する。硬度が連続的または段階的に上昇するのは、DLC構造におけるグラファイト構造(sp)とダイヤモンド構造(sp)との構成比率が、バイアス電圧の上昇により後者に偏っていくためである。これにより、混合層と表面層との急激な硬度差がなくなり、混合層1bと表面層1cとの密着性がさらに優れる。 The surface layer 1c is a film mainly composed of DLC. The surface layer 1c preferably has an inclined layer portion 1d whose hardness increases continuously or stepwise from the mixed layer 1b side on the side adjacent to the mixed layer 1b. This is a portion obtained by changing (raising) the bias voltage continuously or stepwise in order to avoid a sudden change in the bias voltage when the bias voltage is different between the mixed layer 1b and the surface layer 1c. The inclined layer portion 1d changes the bias voltage in this way, and as a result, the hardness is inclined as described above. The reason why the hardness increases continuously or stepwise is that the composition ratio between the graphite structure (sp 2 ) and the diamond structure (sp 3 ) in the DLC structure is biased toward the latter as the bias voltage increases. Thereby, there is no sudden hardness difference between the mixed layer and the surface layer, and the adhesion between the mixed layer 1b and the surface layer 1c is further improved.

硬質膜1の膜厚(3層の合計)は0.5〜3.0μmとすることが好ましい。膜厚が0.5μm未満であれば、耐摩耗性および機械的強度に劣る場合があり、3.0μmをこえると剥離し易くなる。さらに、該硬質膜1の膜厚に占める表面層1cの厚さの割合が0.8以下であることが好ましい。この割合が0.8をこえると、混合層1bにおけるWCとDLCの物理結合するための傾斜組織が不連続な組織となるため、密着性が劣化する可能性が高い。   The thickness of the hard film 1 (total of three layers) is preferably 0.5 to 3.0 μm. If the film thickness is less than 0.5 μm, the abrasion resistance and mechanical strength may be inferior, and if it exceeds 3.0 μm, the film is easily peeled off. Furthermore, the ratio of the thickness of the surface layer 1c to the thickness of the hard film 1 is preferably 0.8 or less. If this ratio exceeds 0.8, the gradient structure for physical coupling of WC and DLC in the mixed layer 1b becomes a discontinuous structure, so that the adhesiveness is likely to deteriorate.

硬質膜1を以上のような組成の下地層1a、混合層1b、表面層1cとの3層構造とすることで、耐剥離性に優れる。   By making the hard film 1 into a three-layer structure of the base layer 1a, the mixed layer 1b, and the surface layer 1c having the above composition, the peel resistance is excellent.

硬質膜1の物性としては、表面粗さRa:0.01μm以下、ビッカース硬度Hv:780であるSUJ2焼入れ鋼を相手材として、ヘルツの最大接触面圧0.5GPaの荷重を印加して接触させ、0.05m/sの回転速度で30分間、上記相手材を回転させたときの該硬質膜の比摩耗量が200×10−10mm/(N・m)未満であることが好ましい。該試験で比摩耗量が200×10−10mm/(N・m)未満であれば、耐摩耗性に優れ、治具を往復摺動させた場合でも摩耗粉の発生を防止し得る。 The physical properties of the hard film 1 are SUJ2 hardened steel having a surface roughness Ra of 0.01 μm or less and a Vickers hardness Hv of 780, and a contact with a load of 0.5 GPa maximum contact surface pressure of Hertz. The specific wear amount of the hard film is preferably less than 200 × 10 −10 mm 3 / (N · m) when the counterpart material is rotated for 30 minutes at a rotational speed of 0.05 m / s. If the specific wear amount is less than 200 × 10 −10 mm 3 / (N · m) in this test, the wear resistance is excellent, and generation of wear powder can be prevented even when the jig is slid back and forth.

また、押し込み硬さの平均値と標準偏差値との合計が25〜45GPaであることが好ましい。この範囲であると、摺動面に硬質な異物が介入した場合に発生するアブレッシブ摩耗にも高い効果を発揮する。   Moreover, it is preferable that the sum total of the average value of indentation hardness and a standard deviation value is 25-45 GPa. Within this range, a high effect is exhibited even in abrasive wear that occurs when a hard foreign object intervenes on the sliding surface.

また、スクラッチテストにおける臨界剥離荷重が50N以上であることが好ましい。スクラッチテストにおける臨界剥離荷重の測定方法は、後述の実施例に示すとおりである。臨界剥離荷重が50N未満である場合には、高荷重条件で治具を使用した場合に硬質膜が剥離する可能性が高い。また、臨界剥離荷重が50N以上であっても、本発明のような膜構造でなければ場合によっては容易に剥離することもある。   Moreover, it is preferable that the critical peeling load in a scratch test is 50 N or more. The method for measuring the critical peel load in the scratch test is as shown in the examples described later. When the critical peel load is less than 50 N, the hard film is likely to peel when the jig is used under high load conditions. Even if the critical peeling load is 50 N or more, the film may be easily peeled off depending on the case unless it is a film structure as in the present invention.

以下、硬質膜の形成方法について説明する。硬質膜は、寸法測定治具の基材表面に対して、下地層1a、混合層1b、表面層1cをこの順に成膜して得られる。   Hereinafter, a method for forming the hard film will be described. The hard film is obtained by forming the base layer 1a, the mixed layer 1b, and the surface layer 1c in this order on the substrate surface of the dimension measuring jig.

下地層1aおよび混合層1bの形成は、スパッタリングガスとしてArガスを用いたUBMS装置を使用してなされることが好ましい。UBMS装置を用いたUBMS法の成膜原理を図2に示す模式図を用いて説明する。図中において、基材12は、成膜対象の寸法測定治具の基材であるが、模式的に平板で示してある。図2に示すように、丸形ターゲット15の中心部と周辺部で異なる磁気特性を有する内側磁石14a、外側磁石14bが配置され、ターゲット15付近で高密度プラズマ19を形成しつつ、上記磁石14a、14bにより発生する磁力線16の一部16aがバイアス電源11に接続された基材12近傍まで達するようにしたものである。この磁力線16aに沿ってスパッタリング時に発生したArプラズマが基材12付近まで拡散する効果が得られる。このようなUBMS法では、基材12付近まで達する磁力線16aに沿って、Arイオン17および電子が、通常のスパッタリングに比べてイオン化されたターゲット18をより多く基材12に到達させるイオンアシスト効果によって、緻密な膜(層)13を成膜できる。   The underlayer 1a and the mixed layer 1b are preferably formed using a UBMS apparatus using Ar gas as a sputtering gas. The film forming principle of the UBMS method using the UBMS apparatus will be described with reference to the schematic diagram shown in FIG. In the drawing, the base material 12 is a base material of a dimension measuring jig to be formed, but is schematically shown as a flat plate. As shown in FIG. 2, an inner magnet 14 a and an outer magnet 14 b having different magnetic characteristics are arranged in the central portion and the peripheral portion of the round target 15, and the magnet 14 a is formed while forming a high-density plasma 19 near the target 15. , 14 b, a part 16 a of the magnetic force lines 16 reaches the vicinity of the base material 12 connected to the bias power source 11. The Ar plasma generated during the sputtering along the magnetic force lines 16a can be diffused to the vicinity of the base material 12. In such a UBMS method, an ion assist effect that causes Ar ions 17 and electrons to reach the base material 12 in a larger amount than the ordinary sputtering along the magnetic field lines 16a reaching the vicinity of the base material 12 due to the ion assist effect. A dense film (layer) 13 can be formed.

ターゲット15として、下地層1aを形成する際にはCrターゲットを用い、混合層1bを形成する際にはWCターゲットおよび黒鉛ターゲットを併用する。各層の形成毎に、それぞれに用いるターゲットを逐次取り替える。   As the target 15, a Cr target is used when forming the base layer 1a, and a WC target and a graphite target are used together when forming the mixed layer 1b. The target used for each layer is sequentially replaced every time the layers are formed.

混合層1bは、連続的または段階的に、炭素供給源となる黒鉛ターゲットに印加するスパッタ電力を上げながら、かつ、WCターゲットに印加する電力を下げながら成膜する。これにより表面層1c側に向けてWCの含有率が小さく、かつ、DLCの含有率が高くなる傾斜組成の層とできる。   The mixed layer 1b is formed in a continuous or stepwise manner while increasing the sputtering power applied to the graphite target serving as the carbon supply source and decreasing the power applied to the WC target. Thereby, it can be set as the layer of the gradient composition which the content rate of WC becomes small toward the surface layer 1c side, and the content rate of DLC becomes high.

表面層1cの形成も、上記のスパッタリングガスとしてArガスを用いたUBMS装置を使用してなされることが好ましい。より詳細には、表面層1cは、この装置を利用して、炭素供給源として黒鉛ターゲットと炭化水素系ガスとを併用し、上記Arガスの上記装置内への導入量100に対する上記炭化水素系ガスの導入量の割合を1〜5とし、上記装置内の真空度を0.2〜0.8Paとし、基材に印加するバイアス電圧を70〜150Vでとした条件下で、上記炭素供給源から生じる炭素原子を、混合層1b上に堆積させて成膜されたものとすることが好ましい。この好適条件について以下に説明する。   The formation of the surface layer 1c is also preferably performed using a UBMS apparatus using Ar gas as the sputtering gas. More specifically, the surface layer 1c uses this apparatus, uses a graphite target and a hydrocarbon-based gas in combination as a carbon supply source, and the hydrocarbon system with respect to the introduction amount 100 of the Ar gas into the apparatus. Under the conditions that the ratio of the amount of gas introduced is 1 to 5, the degree of vacuum in the apparatus is 0.2 to 0.8 Pa, and the bias voltage applied to the substrate is 70 to 150 V, the carbon source It is preferable that the carbon atoms generated from the above are deposited on the mixed layer 1b. This preferable condition will be described below.

炭素供給源として黒鉛ターゲットと炭化水素系ガスとを併用することで、混合層1bとの密着性を向上させることができる。炭化水素系ガスとしては、メタンガス、アセチレンガス、ベンゼンなどが使用でき、特に限定されないが、コストおよび取り扱い性の点からメタンガスが好ましい。   Adhesiveness with the mixed layer 1b can be improved by using a graphite target and a hydrocarbon-based gas in combination as a carbon supply source. As the hydrocarbon-based gas, methane gas, acetylene gas, benzene and the like can be used, and are not particularly limited. However, methane gas is preferable from the viewpoint of cost and handleability.

上記炭化水素系ガスの導入量の割合を、ArガスのUBMS装置内(成膜チャンバー内)への導入量100(体積部)に対して1〜5(体積部)とすることで、表面層1cの耐摩耗性などを悪化させずに、混合層1bとの密着性の向上が図れる。   By setting the ratio of the introduction amount of the hydrocarbon-based gas to 1 to 5 (volume part) with respect to 100 introduction (volume part) of Ar gas into the UBMS apparatus (in the film formation chamber), the surface layer The adhesion with the mixed layer 1b can be improved without deteriorating the wear resistance of 1c.

UBMS装置内(成膜チャンバー内)の真空度は上記のとおり0.2〜0.8Paであることが好ましい。より好ましくは、0.25〜0.8Paである。真空度が0.2Pa未満であると、チャンバー内のArガス量が少ないため、Arプラズマが発生せず、成膜できない場合がある。また、真空度が0.8Paより高いと、逆スパッタ現象が起こり易くなり、耐摩耗性が悪化するおそれがある。   The degree of vacuum in the UBMS apparatus (inside the film forming chamber) is preferably 0.2 to 0.8 Pa as described above. More preferably, it is 0.25 to 0.8 Pa. If the degree of vacuum is less than 0.2 Pa, the amount of Ar gas in the chamber is small, so that Ar plasma is not generated and film formation may not be possible. On the other hand, if the degree of vacuum is higher than 0.8 Pa, the reverse sputtering phenomenon tends to occur and the wear resistance may be deteriorated.

基材に印加するバイアス電圧は上記のとおり70〜150Vであることが好ましい。より好ましくは、100〜150Vである。バイアス電圧が70V未満であると、緻密化が進行せず、耐摩耗性が極端に悪化するので好ましくない。また、バイアス電圧が150Vをこえると、逆スパッタ現象が起こり易くなり、耐摩耗性が悪化するおそれがある。また、バイアス電圧が高すぎると、表面層が硬くなりすぎ、治具の使用時に剥離しやすくなるおそれがある。   The bias voltage applied to the substrate is preferably 70 to 150 V as described above. More preferably, it is 100-150V. When the bias voltage is less than 70V, densification does not proceed and the wear resistance is extremely deteriorated, which is not preferable. On the other hand, when the bias voltage exceeds 150 V, reverse sputtering tends to occur, and the wear resistance may be deteriorated. On the other hand, if the bias voltage is too high, the surface layer becomes too hard and may be easily peeled off when the jig is used.

また、スパッタリングガスであるArガスの導入量は40〜150ml/minであることが好ましい。より好ましくは50〜150ml/minである。Arガス流量が40ml/min未満であると、Arプラズマが発生せず、成膜できない場合がある。また、Arガス流量が150ml/minよりも多いと、逆スパッタ現象が起こり易くなるため、耐摩耗性が悪化するおそれがある。Arガス導入量が多いと、成膜チャンバー内でAr原子と炭素原子の衝突確率が増す。その結果、膜表面に到達するAr原子数が減少し、Ar原子による膜の押し固め効果が低下し、膜の耐摩耗性が悪化する。   Moreover, it is preferable that the introduction amount of Ar gas which is sputtering gas is 40-150 ml / min. More preferably, it is 50-150 ml / min. When the Ar gas flow rate is less than 40 ml / min, Ar plasma is not generated and film formation may not be possible. On the other hand, if the Ar gas flow rate is higher than 150 ml / min, the reverse sputtering phenomenon tends to occur, so that the wear resistance may be deteriorated. When the amount of Ar gas introduced is large, the collision probability between Ar atoms and carbon atoms increases in the film forming chamber. As a result, the number of Ar atoms reaching the film surface is reduced, the effect of compacting the film by Ar atoms is reduced, and the wear resistance of the film is deteriorated.

表面層1cの傾斜層部分1dは、上記のように、基材に印加するバイアス電圧を連続的または段階的に上げながら成膜することで得られる。   As described above, the inclined layer portion 1d of the surface layer 1c is obtained by forming a film while increasing the bias voltage applied to the substrate continuously or stepwise.

本発明の寸法測定治具に形成する硬質膜として、所定の基材に対して硬質膜を形成し、該硬質膜の物性に関する評価した。これらを実施例、比較例、参考例として以下に説明する。   As a hard film to be formed on the dimension measuring jig of the present invention, a hard film was formed on a predetermined substrate, and the physical properties of the hard film were evaluated. These will be described below as examples, comparative examples, and reference examples.

硬質膜の評価用に用いた基材、UBMS装置、スパッタリングガス、下地層および混合層の形成条件は以下のとおりである。
(1)基材材質:各表に示す基材
(2)基材寸法:鏡面(Ra0.005μm程度)の円板(φ48mm×φ8mm×7mm)
(3)UBMS装置:神戸製鋼所製;UBMS202/AIP複合装置
(4)スパッタリングガス:Arガス
(5)下地層および混合層の形成条件
下地層:成膜チャンバー内を5×10−3Pa程度まで真空引きし、ヒータで基材をベーキングして、Arプラズマにて基材表面をエッチング後、UBMS法にてCrターゲットを用いCr層を形成した。なお、Cr以外の下地層とする場合は、対応するターゲットを用いる以外は、同条件で形成した。
混合層:成膜チャンバー内を5×10−3Pa程度まで真空引きし、ヒータで基材をベーキングして、Arプラズマにて基材表面(または上記Cr層表面)をエッチング後、WCターゲットと黒鉛ターゲットに印加するスパッタ電力を調整し、WCとDLCの組成比を傾斜させた。なお、WC以外との混合層とする場合は、対応するターゲットを用いる以外は、同条件で形成した。
(6)表面層の形成条件は、各表に示す。
The formation conditions of the base material, UBMS apparatus, sputtering gas, underlayer and mixed layer used for evaluation of the hard film are as follows.
(1) Base material: Base material shown in each table (2) Base material dimension: Mirror surface (about Ra 0.005 μm) disc (φ48 mm × φ8 mm × 7 mm)
(3) UBMS device: manufactured by Kobe Steel; UBMS202 / AIP composite device (4) Sputtering gas: Ar gas (5) Formation conditions of underlayer and mixed layer Underlayer: about 5 × 10 −3 Pa in the film formation chamber The substrate was baked with a heater, the substrate was baked with a heater, the substrate surface was etched with Ar plasma, and a Cr layer was formed using a Cr target by the UBMS method. In addition, when using it as base layers other than Cr, it formed on the same conditions except using a corresponding target.
Mixed layer: The inside of the film forming chamber is evacuated to about 5 × 10 −3 Pa, the substrate is baked with a heater, the substrate surface (or the Cr layer surface) is etched with Ar plasma, and then the WC target and The sputtering power applied to the graphite target was adjusted to incline the composition ratio of WC and DLC. In addition, when it was set as the mixed layer other than WC, it formed on the same conditions except using a corresponding target.
(6) The conditions for forming the surface layer are shown in each table.

UBMS202/AIP複合装置の概要を図3に示す。図3はアークイオンプレーティング(以下、AIPと記す)機能を備えたUBMS装置の模式図である。図3に示すように、UBMS202/AIP複合装置は、円盤22上に配置された基材23に対し、真空アーク放電を利用して、AIP蒸発源材料21を瞬間的に蒸気化・イオン化し、これを基材23上に堆積させて被膜を成膜するAIP機能と、スパッタ蒸発源材料(ターゲット)24を非平衡な磁場により、基材23近傍のプラズマ密度を上げてイオンアシスト効果を増大すること(図2参照)によって、基材上に堆積する被膜の特性を制御できるUBMS機能を備える装置である。この装置により、基材上に、AIP被膜および複数のUBMS被膜(組成傾斜を含む)を任意に組合せた複合被膜を成膜することができる。この実施例では、基材に、下地層、混合層、表面層をUBMS被膜として成膜している。   An outline of the UBMS 202 / AIP combined apparatus is shown in FIG. FIG. 3 is a schematic diagram of a UBMS apparatus having an arc ion plating (hereinafter referred to as AIP) function. As shown in FIG. 3, the UBMS 202 / AIP combined device instantaneously vaporizes and ionizes the AIP evaporation source material 21 by using vacuum arc discharge to the base material 23 arranged on the disk 22. This is deposited on the base material 23 to increase the plasma density in the vicinity of the base material 23 and increase the ion assist effect by the non-equilibrium magnetic field of the sputtering evaporation source material (target) 24. (See FIG. 2), this is an apparatus having a UBMS function capable of controlling the characteristics of the film deposited on the substrate. By this apparatus, a composite film in which an AIP film and a plurality of UBMS films (including a composition gradient) are arbitrarily combined can be formed on a substrate. In this embodiment, a base layer, a mixed layer, and a surface layer are formed as a UBMS film on a base material.

実施例1〜実施例8、実施例10、実施例11、比較例1〜比較例4、参考例1〜参考例7
表1〜表3に示す基材をアセトンで超音波洗浄した後、乾燥した。乾燥後、基材をUBMS/AIP複合装置に取り付け、上述の形成条件にて各表に示す材質の下地層および混合層を形成した。その上に、各表に示す成膜条件にて表面層であるDLC膜を成膜し、硬質膜を有する試験片を得た。なお、各表における「真空度」は上記装置における成膜チャンバー内の真空度である。得られた試験片を以下に示す摩耗試験、ロックウェル圧痕試験(参考例以外)、膜厚試験、硬度試験、およびスクラッチテストに供した。結果を各表に併記する。
Example 1 to Example 8, Example 10, Example 11, Comparative Example 1 to Comparative Example 4, Reference Example 1 to Reference Example 7
The substrates shown in Tables 1 to 3 were ultrasonically cleaned with acetone and then dried. After drying, the substrate was attached to a UBMS / AIP composite apparatus, and an underlayer and a mixed layer of the materials shown in each table were formed under the above-described formation conditions. On top of that, a DLC film as a surface layer was formed under the film forming conditions shown in each table to obtain a test piece having a hard film. Note that “degree of vacuum” in each table is the degree of vacuum in the film forming chamber in the above apparatus. The obtained specimens were subjected to the following abrasion test, Rockwell indentation test (other than the reference example), film thickness test, hardness test, and scratch test. The results are shown in each table.

実施例9
日本電子工業社製:ラジカル窒化装置を用いてプラズマ窒素処理が施された基材(ビッカース硬さHv1000)をアセトンで超音波洗浄した後、乾燥した。乾燥後、基材をUBMS/AIP複合装置に取り付け、上述の形成条件にて表1に示す材質の下地層(Cr)および混合層(WC/DLC)を形成した。その上に、表1に示す成膜条件にて表面層であるDLC膜を成膜し、硬質膜を有する試験片を得た。得られた試験片について、実施例1と同様の試験に供し、その結果を表1に併記する。
Example 9
Manufactured by JEOL Ltd .: A substrate (Vickers hardness Hv1000) subjected to plasma nitrogen treatment using a radical nitriding apparatus was ultrasonically cleaned with acetone and then dried. After drying, the base material was attached to a UBMS / AIP composite apparatus, and an underlayer (Cr) and a mixed layer (WC / DLC) having the materials shown in Table 1 were formed under the above-described formation conditions. A DLC film, which is a surface layer, was formed on the film formation conditions shown in Table 1 to obtain a test piece having a hard film. About the obtained test piece, it uses for the test similar to Example 1, and the result is written together in Table 1. FIG.

<摩擦試験>
得られた試験片を、図4に示す摩擦試験機用いて摩擦試験を行なった。図4(a)は正面図を、図4(b)は側面図を、それぞれ表す。表面粗さRaが0.01μm以下であり、ビッカース硬度Hvが780であるSUJ2焼入れ鋼を相手材32として回転軸に取り付け、試験片31をアーム部33に固定して所定の荷重34を図面上方から印加して、ヘルツの最大接触面圧0.5GPa、室温(25℃)下、0.05m/sの回転速度で30分間、試験片31と相手材32との間に潤滑剤を介在させることなく、相手材32を回転させたときに、相手材32と試験片31との間に発生する摩擦力をロードセル35により検出した。これより、比摩耗量を算出した。
<Friction test>
The obtained specimen was subjected to a friction test using a friction tester shown in FIG. 4A shows a front view, and FIG. 4B shows a side view. SUJ2 hardened steel having a surface roughness Ra of 0.01 μm or less and a Vickers hardness Hv of 780 is attached to the rotating shaft as a mating member 32, the test piece 31 is fixed to the arm portion 33, and a predetermined load 34 is applied to the upper part of the drawing. And a lubricant is interposed between the test piece 31 and the mating member 32 for 30 minutes at a rotation speed of 0.05 m / s under a maximum contact surface pressure of 0.5 GPa at room temperature (25 ° C.). Instead, the load cell 35 detected the frictional force generated between the counterpart material 32 and the test piece 31 when the counterpart material 32 was rotated. From this, the specific wear amount was calculated.

<ロックウェル圧痕試験>
ダイヤモンド圧子を150kgの荷重で試験片基材に打ち込んだ際、その圧痕周囲の剥離発生状況を観察した。観察した剥離発生状況を図5に示す評価基準により、試験片の密着性を評価した。剥離発生量が図5(a)に示すように軽微であれば密着性に優れると評価して「○」印を、剥離が図5(b)に示すように部分的に発生している場合は密着性が劣ると評価して「△」印を、剥離が図5(c)に示すように全周に発生している場合は密着性に著しく劣ると評価して「×」印を記録した。
<Rockwell indentation test>
When the diamond indenter was driven into the test piece substrate with a load of 150 kg, the state of occurrence of peeling around the indentation was observed. The observed peeling occurrence state was evaluated according to the evaluation criteria shown in FIG. When the amount of peeling generated is small as shown in FIG. 5A, it is evaluated that the adhesiveness is excellent, and “◯” mark is given, and peeling is partially generated as shown in FIG. 5B. Is evaluated as having poor adhesion, and a mark “△” is recorded, and when peeling occurs all around as shown in FIG. did.

<膜厚試験>
得られた試験片の硬質膜の膜厚を表面形状・表面粗さ測定器(テーラーホブソン社製:フォーム・タリサーフPGI830)を用いて測定した。膜厚は成膜部の一部にマスキングを施し、非成膜部と成膜部の段差から膜厚を求めた。
<Film thickness test>
The film thickness of the hard film of the obtained test piece was measured using a surface shape / surface roughness measuring instrument (Taylor Hobson Co., Ltd .: Foam Talisurf PGI830). The film thickness was obtained by masking a part of the film forming portion and determining the level difference between the non-film forming portion and the film forming portion.

<硬度試験>
得られた試験片の押し込み硬さをアジレントテクノロジー社製:ナノインデンタ(G200)を用いて測定した。なお、測定値は表面粗さの影響を受けない深さ(硬さが安定している箇所)の平均値を示しており、各試験片10箇所ずつ測定している。
<Hardness test>
The indentation hardness of the obtained test piece was measured using a nanoindenter (G200) manufactured by Agilent Technologies. In addition, the measured value has shown the average value of the depth (location where hardness is stabilized) which is not influenced by surface roughness, and is measuring 10 each test piece.

<スクラッチテスト>
得られた試験片について、ナノテック社製:レベテストRSTを用いてスクラッチテストを行ない臨界剥離荷重を測定した。具体的には、得られた試験片について、先端半径200μmのダイヤモンド圧子で、スクラッチ速度10mm/min、荷重負荷速度10N/mm(連続的に荷重を増加)で試験し、試験機画面で判定し、画面上の摩擦痕(摩擦方向長さ375μm、幅約100μm)に対し露出した基材の面積が50%に達する荷重を臨界剥離荷重として測定した。
<Scratch test>
The obtained test piece was subjected to a scratch test using Nanotech: Level Test RST, and the critical peel load was measured. Specifically, the obtained test piece was tested with a diamond indenter with a tip radius of 200 μm at a scratch speed of 10 mm / min and a load load speed of 10 N / mm (continuously increasing the load), and judged on the testing machine screen. Then, the load at which the area of the exposed base material reached 50% with respect to the frictional trace on the screen (length in the friction direction 375 μm, width about 100 μm) was measured as the critical peel load.

表1に示すように、各実施例の硬質膜は、耐摩耗性や密着性に優れることが分かる。また、下地層や中間層が本発明と異なる比較例1〜4では、ロックウェル圧痕試験において剥離が見られた。   As shown in Table 1, it can be seen that the hard film of each example is excellent in wear resistance and adhesion. Further, in Comparative Examples 1 to 4 in which the underlayer and the intermediate layer were different from the present invention, peeling was observed in the Rockwell indentation test.

次に、寸法測定治具の耐久性を確認するため、以下の試験を行なった。   Next, in order to confirm the durability of the dimension measuring jig, the following test was performed.

<栓ゲージ試験A>
栓ゲージ材質:SUJ2(ビッカース硬度780Hv)、φ22mm×φ8mm×t6mmの焼結金属部品(銅−鉄系)について、φ8の孔に栓ゲージ通し試験を実施した。試験に使用した焼結金属部品の内径寸法は、φ8.01mm±0.01mmの寸法に入るように調整してある。この焼結部品内径部に、表4に示す条件で表面処理を施した栓ゲージ(φ8mm±0.005mm×L50mm、Ra=0.01μm、真円度0.001mm)を通し、内径寸法を確認した。焼結部品内径部と栓ゲージは摺動するため、通し回数が増加すると栓ゲージに傷、摩耗が生じる。なお、真円度測定には、テーラーホブソン社製タリロンド365を用いた。100万個の焼結金属部品について通し試験を行ない、栓ゲージの真円度が0.002mm未満(変化量0.001mm未満)のものを「○」、真円度が0.002〜0.004mmのものを「△」、真円度が0.004mmをこえるものを「×」として記録した。結果を表4に示す。
<Plug gauge test A>
Plug gauge material: SUJ2 (Vickers hardness 780 Hv), φ22 mm × φ8 mm × t6 mm sintered metal parts (copper-iron system) were subjected to a plug gauge pass test through a hole of φ8. The inner diameter dimension of the sintered metal part used for the test is adjusted so as to fall within a dimension of φ8.01 mm ± 0.01 mm. Pass the plug gauge (φ8mm ± 0.005mm × L50mm, Ra = 0.01μm, roundness 0.001mm) surface-treated under the conditions shown in Table 4 through this sintered part inner diameter to confirm the inner diameter did. Since the inner diameter portion of the sintered part and the plug gauge slide, the plug gauge is damaged and worn when the threading number increases. For measuring the roundness, Talirond 365 manufactured by Taylor Hobson was used. One million sintered metal parts were tested, and the plug gauge with a roundness of less than 0.002 mm (amount of change less than 0.001 mm) was “◯”, and the roundness was 0.002-0. Those with 004 mm were recorded as “Δ”, and those with roundness exceeding 0.004 mm were recorded as “x”. The results are shown in Table 4.

<栓ゲージ試験B>
栓ゲージ材質:SUJ2(ビッカース硬度780Hv)、φ50mm×φ100mm×t50mmのFC200(鋳鉄)製ハウジングについて、φ50mmの孔に栓ゲージ通し試験を実施した。試験に使用したFC200製ハウジングの内径寸法は、φ50(0.000〜+0.02mm)の寸法に入るように調整してある。このハウジングに、表4に示す条件で表面処理を施した栓ゲージ(φ50mm±0.002mm×L80mm、Ra=0.5μm)を通し、内径寸法を確認した。ハウジングと栓ゲージは摺動するため、通し回数が増加すると栓ゲージに傷、摩耗が生じる。10万個のハウジングについて通し試験を行い、栓ゲージの真円度が0.002mm未満(変化量0.001mm未満)のものを「○」、真円度が0.002〜0.004mmのものを「△」、真円度が0.004mmをこえるものを「×」として記録した。結果を表4に示す。
<Plug gauge test B>
Plug gauge material: SUJ2 (Vickers hardness 780 Hv), φ50 mm × φ100 mm × t50 mm housing made of FC200 (cast iron) was subjected to a plug gauge pass test through a hole of φ50 mm. The inner diameter of the FC200 housing used for the test is adjusted so as to fall within the dimension of φ50 (0.000 to +0.02 mm). A plug gauge (φ50 mm ± 0.002 mm × L80 mm, Ra = 0.5 μm) subjected to surface treatment under the conditions shown in Table 4 was passed through this housing, and the inner diameter was confirmed. Since the housing and the plug gauge slide, the plug gauge is damaged and worn when the number of passes increases. Thorough tests were conducted on 100,000 housings, and the roundness of the plug gauge was less than 0.002 mm (change amount less than 0.001 mm), and the roundness was 0.002 to 0.004 mm. Was recorded as “Δ”, and the roundness exceeding 0.004 mm was recorded as “x”. The results are shown in Table 4.

<ノギス測定試験>
ノギス材質:SUS304(ビッカース硬度780Hv)、ノギス稼動部:0〜150mm(寸法測定用の圧子平坦部:4mm×10mm、平坦部の面粗さ:0.005μm、この部分で製品寸法を測定、寸法測定時の押し付け力:100g)のノギスを用いて、608相当軸受100万個の外輪外径を測定し、ノギス平坦部の摩耗状況を観察した。表面粗さ測定器(テーラーホブソン社製:フォーム・タリサーフPGI830)を用い、基準面に対する摩耗深さを求めた。摩耗深さが1μm未満の場合を「○」、1μm以上かつ3μm未満の場合を「△」、3μm以上の場合を「×」として記録した。結果を表4に示す。
<Caliper measurement test>
Vernier caliper material: SUS304 (Vickers hardness 780 Hv), Vernier caliper working part: 0 to 150 mm (indenter flat part for dimension measurement: 4 mm × 10 mm, flat part surface roughness: 0.005 μm, product dimensions are measured at this part, dimensions Using a caliper with a pressing force of 100 g), the outer ring outer diameter of 1 million bearings corresponding to 608 was measured, and the wear state of the caliper flat portion was observed. The wear depth with respect to the reference surface was determined using a surface roughness measuring instrument (made by Taylor Hobson: Foam Talysurf PGI830). The case where the wear depth was less than 1 μm was recorded as “◯”, the case where the wear depth was 1 μm or more and less than 3 μm was “Δ”, and the case where it was 3 μm or more was recorded as “X”. The results are shown in Table 4.

表4に示すように、本発明の寸法測定治具は、10万〜100万個の製品測定後においても、変形量が小さく、大幅に寿命が延長できることが分かる。   As shown in Table 4, it can be seen that the dimension measuring jig of the present invention has a small deformation amount and can extend the life significantly even after measuring 100,000 to 1,000,000 products.

本発明の寸法測定治具は、耐摩耗性と密着性に優れる硬質膜を表面に有し、長寿命で交換回数を大幅に削減できるので、各種機械部品や各種成形金型の寸法、締め付けトルク、形状などを測定する際に使用する、ゲージ類、定盤、模範部品などとして好適に利用できる。   The dimension measuring jig of the present invention has a hard film with excellent wear resistance and adhesion on the surface, and has a long life and can greatly reduce the number of replacements. Therefore, the dimensions and tightening torque of various machine parts and various molds It can be suitably used as gauges, surface plates, model parts, etc. used when measuring the shape and the like.

1 硬質膜
2 基材
11 バイアス電源
12 基材
13 膜(層)
15 ターゲット
16 磁力線
17 Arイオン
18 イオン化されたターゲット
19 高密度プラズマ
21 AIP蒸発源材料
22 円盤
23 基材
24 スパッタ蒸発源材料(ターゲット)
31 試験片
32 相手材
33 アーム部
34 荷重
35 ロードセル
1 Hard Film 2 Base Material 11 Bias Power Supply 12 Base Material 13 Film (Layer)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 15 Target 16 Magnetic field line 17 Ar ion 18 Ionized target 19 High density plasma 21 AIP evaporation source material 22 Disc 23 Base material 24 Sputter evaporation source material (target)
31 Test piece 32 Counterpart 33 Arm part 34 Load 35 Load cell

Claims (16)

基材の表面に硬質膜が成膜されてなる寸法測定治具であって、
前記硬質膜は、前記基材の表面上に直接成膜されるクロムを主体とする下地層と、該下地層の上に成膜されるタングステンカーバイトとダイヤモンドライクカーボンとを主体とする混合層と、該混合層の上に成膜されるダイヤモンドライクカーボンを主体とする表面層とからなる構造の膜であり、
前記混合層は、前記下地層側から前記表面層側へ向けて連続的または段階的に、該混合層中の前記タングステンカーバイトの含有率が小さくなり、該混合層中の前記ダイヤモンドライクカーボンの含有率が高くなる層であることを特徴とする寸法測定治具。
A dimension measuring jig formed by forming a hard film on the surface of a substrate,
The hard film includes a base layer mainly composed of chromium directly formed on the surface of the base material, and a mixed layer mainly composed of tungsten carbide and diamond-like carbon formed on the base layer. And a film having a structure composed of a surface layer mainly composed of diamond-like carbon formed on the mixed layer,
In the mixed layer, the content of the tungsten carbide in the mixed layer decreases continuously or stepwise from the base layer side to the surface layer side, and the diamond-like carbon in the mixed layer decreases. A dimension measuring jig characterized by being a layer having a high content rate.
前記基材の表面に、曲面部を有することを特徴とする請求項1記載の寸法測定治具。   The dimension measuring jig according to claim 1, further comprising a curved surface portion on the surface of the base material. 前記硬質膜は、表面粗さRa:0.01μm以下、ビッカース硬度Hv:780であるSUJ2焼入れ鋼を相手材として、ヘルツの最大接触面圧0.5GPaの荷重を印加して接触させ、0.05m/sの回転速度で30分間、前記相手材を回転させたときの該硬質膜の比摩耗量が200×10−10mm/(N・m)未満であることを特徴とする請求項1または請求項2記載の寸法測定治具。 The hard film is brought into contact with SUJ2 hardened steel having a surface roughness Ra of 0.01 μm or less and a Vickers hardness Hv of 780 by applying a load with a maximum contact surface pressure of 0.5 GPa of Hertz. The specific wear amount of the hard film when the counterpart material is rotated for 30 minutes at a rotational speed of 05 m / s is less than 200 × 10 −10 mm 3 / (N · m). The dimension measuring jig according to claim 1 or 2. 前記硬質膜は、押し込み硬さの平均値と標準偏差値との合計が25〜45GPaであることを特徴とする請求項3記載の寸法測定治具。   The dimension measurement jig according to claim 3, wherein the hard film has a sum of an average value of indentation hardness and a standard deviation value of 25 to 45 GPa. 前記硬質膜は、スクラッチテストにおける臨界剥離荷重が50N以上であることを特徴とする請求項3または請求項4記載の寸法測定治具。   The dimension measuring jig according to claim 3 or 4, wherein the hard film has a critical peel load in a scratch test of 50 N or more. 前記表面層は、前記混合層との隣接側に、前記混合層側から硬度が連続的または段階的に高くなる傾斜層部分を有することを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項記載の寸法測定治具。   6. The surface layer according to claim 1, wherein the surface layer has an inclined layer portion whose hardness increases continuously or stepwise from the mixed layer side on the side adjacent to the mixed layer. The dimension measuring jig according to the item. 前記表面層は、スパッタリングガスとしてアルゴンガスを用いたアンバランスド・マグネトロン・スパッタリング装置を使用して成膜した層であり、
炭素供給源として黒鉛ターゲットと炭化水素系ガスとを併用し、前記アルゴンガスの前記装置内への導入量100に対する前記炭化水素系ガスの導入量の割合が1〜5であり、前記装置内の真空度が0.2〜0.8Paであり、前記基材に印加するバイアス電圧が70〜150Vである条件下で、前記炭素供給源から生じる炭素原子を、前記混合層上に堆積させて成膜されたものであることを特徴とする請求項1ないし請求項6のいずれか1項記載の寸法測定治具。
The surface layer is a layer formed using an unbalanced magnetron sputtering apparatus using argon gas as a sputtering gas,
A graphite target and a hydrocarbon gas are used in combination as a carbon supply source, and the ratio of the introduction amount of the hydrocarbon gas to the introduction amount 100 of the argon gas into the device is 1 to 5, Under the condition that the degree of vacuum is 0.2 to 0.8 Pa and the bias voltage applied to the substrate is 70 to 150 V, carbon atoms generated from the carbon supply source are deposited on the mixed layer. The dimension measuring jig according to any one of claims 1 to 6, wherein the dimension measuring jig is a film.
前記炭化水素系ガスが、メタンガスであることを特徴とする請求項7記載の寸法測定治具。   The dimension measuring jig according to claim 7, wherein the hydrocarbon-based gas is methane gas. 前記表面層の傾斜層部分は、前記基材に印加するバイアス電圧を連続的または段階的に上げながら成膜されたものであることを特徴とする請求項6、請求項7または請求項8記載の寸法測定治具。   9. The gradient layer portion of the surface layer is formed while raising a bias voltage applied to the substrate continuously or stepwise. Dimension measuring jig. 前記下地層および前記混合層は、スパッタリングガスとしてアルゴンガスを用いたアンバランスド・マグネトロン・スパッタリング装置を使用して成膜した層であり、
前記混合層は、連続的または段階的に、炭素供給源となる黒鉛ターゲットに印加するスパッタ電力を上げながら、かつ、タングステンカーバイトターゲットに印加する電力を下げながら成膜されたものであることを特徴とする請求項1ないし請求項9のいずれか1項記載の寸法測定治具。
The underlayer and the mixed layer are layers formed using an unbalanced magnetron sputtering apparatus using argon gas as a sputtering gas,
The mixed layer is formed in a continuous or stepwise manner while increasing the sputtering power applied to the graphite target serving as the carbon supply source and decreasing the power applied to the tungsten carbide target. The dimension measuring jig according to any one of claims 1 to 9, wherein the dimension measuring jig is characterized.
前記硬質膜の膜厚が0.5〜3μmであり、かつ該硬質膜の膜厚に占める前記表面層の厚さの割合が0.8以下であることを特徴とする請求項1ないし請求項10のいずれか1項記載の寸法測定治具。   The film thickness of the hard film is 0.5 to 3 µm, and the ratio of the thickness of the surface layer to the film thickness of the hard film is 0.8 or less. The dimension measuring jig according to any one of 10. 前記基材が、超硬合金材料または鉄系材料からなることを特徴とする請求項1ないし請求項11のいずれか1項記載の寸法測定治具。   The dimension measuring jig according to any one of claims 1 to 11, wherein the substrate is made of a cemented carbide material or an iron-based material. 前記硬質膜が形成される面において、前記硬質膜形成前に、窒化処理により窒化層が形成されていることを特徴とする請求項12記載の寸法測定治具。   13. The dimension measuring jig according to claim 12, wherein a nitride layer is formed by nitriding treatment on the surface on which the hard film is formed before the hard film is formed. 前記窒化処理が、プラズマ窒化処理であり、前記窒化処理後の表面の硬さが、ビッカース硬さでHv1000以上であることを特徴とする請求項13記載の寸法測定治具。   14. The dimension measuring jig according to claim 13, wherein the nitriding treatment is a plasma nitriding treatment, and the hardness of the surface after the nitriding treatment is Hv 1000 or more in terms of Vickers hardness. 前記寸法測定治具が、ゲージ類、定盤、および模範部品、または、これらを構成する部材であることを特徴とする請求項1ないし請求項14のいずれか1項記載の寸法測定治具。   The dimension measuring jig according to any one of claims 1 to 14, wherein the dimension measuring jig is a gauge, a surface plate, an exemplary part, or a member constituting them. 前記寸法測定治具が、マイクロメータまたはノギスであることを特徴とする請求項1ないし請求項14のいずれか1項記載の寸法測定治具。   The dimension measuring jig according to claim 1, wherein the dimension measuring jig is a micrometer or a caliper.
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