JP2012195030A - Substrate for suspension, suspension, suspension with device, hard disk drive, method for manufacturing substrate for suspension, and method for manufacturing suspension with device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for suspension suited to joining using a solder jet method and not impairing followability of a device.SOLUTION: The substrate for suspension includes: a metal support substrate; an insulating layer formed on the metal support substrate; and a wiring layer formed on the insulating layer. The insulating layer includes an insulating layer end portion which overhangs from an end face of a terminal section of the wiring layer and supports the device. A penetrating section in which the insulating layer end portion and a tongue portion of the metal support substrate are not superposed in a plan view is formed between the insulating layer end portion and the tongue portion of the metal support substrate. The present invention solves the problem by providing this substrate for suspension.

Description

本発明は、ソルダージェット法を用いた接合に適し、かつ、素子の追従性を阻害しないサスペンション用基板に関する。   The present invention relates to a suspension substrate that is suitable for bonding using a solder jet method and that does not hinder followability of an element.

近年、インターネットの普及等によりパーソナルコンピュータの情報処理量の増大や情報処理速度の高速化が要求されてきており、それに伴って、パーソナルコンピュータに組み込まれているハードディスクドライブ(HDD)も大容量化や情報伝達速度の高速化が必要となってきている。HDDに用いられるサスペンション用基板(フレキシャ)は、通常、金属支持基板(例えばステンレス鋼)、絶縁層(例えばポリイミド樹脂)、配線層(例えばCu)がこの順に積層された基本構造を有する。   In recent years, due to the spread of the Internet and the like, there has been a demand for an increase in the amount of information processing of personal computers and an increase in information processing speed, and along with this, the capacity of hard disk drives (HDD) incorporated in personal computers has increased. Increasing information transmission speed is required. A suspension substrate (flexure) used in an HDD usually has a basic structure in which a metal support substrate (for example, stainless steel), an insulating layer (for example, polyimide resin), and a wiring layer (for example, Cu) are laminated in this order.

サスペンション用基板の金属支持基板は、磁気ヘッドスライダ等の素子を実装するためのタング部を有する。タング部は、ディンプルと接触し、その接触点においてピボット運動を行う。このピボット運動により、ディスクに対する素子の距離および姿勢を維持する。ディスクに対する素子の追従性を向上させるために、タング部およびその近傍の金属支持基板を加工することが知られている(特許文献1、2)   The metal support substrate of the suspension substrate has a tongue portion for mounting an element such as a magnetic head slider. The tongue portion contacts the dimple and performs a pivoting motion at the contact point. This pivot movement maintains the distance and attitude of the element with respect to the disk. In order to improve the followability of the element to the disk, it is known to process the tongue portion and the metal support substrate in the vicinity thereof (Patent Documents 1 and 2).

また、配線層の端子部と、素子とを電気的に接続する一つの方法として、いわゆるボールプレイス法が知られている(特許文献3〜6)。ボールプレイス法は、配線層の端子部と素子との間に半田ボールを配置し、その半田ボールにレーザー光を照射し半田ボールを溶融させることにより、半田接合部を形成する方法である。ボールプレイス法では、通常、配置された半田ボールにレーザー光を照射するため、例えば特許文献3においては、レーザー光照射による絶縁層の劣化を防止するために、パターン終端部の端面を、その直下の絶縁層の端面と揃えるか、または絶縁層の端面よりも先端方向に張り出させている。   Also, a so-called ball place method is known as one method for electrically connecting a terminal portion of a wiring layer and an element (Patent Documents 3 to 6). The ball place method is a method in which a solder ball is formed between a terminal portion of a wiring layer and an element, and the solder ball is irradiated with a laser beam to melt the solder ball. In the ball place method, the arranged solder balls are usually irradiated with laser light. For example, in Patent Document 3, in order to prevent deterioration of the insulating layer due to laser light irradiation, the end surface of the pattern end portion is directly below it. The insulating layer is aligned with the end face of the insulating layer or protrudes in the tip direction from the end face of the insulating layer.

一方、配線層の端子部と、素子とを電気的に接続する他の方法として、いわゆるソルダージェット法が知られている(特許文献7〜9)。ソルダージェット法は、キャピラリー等の微小管内に半田ボールを装填し、その上で、レーザー光により半田ボールを溶融させると同時に不活性ガス等で押し出し、半田接合部を形成する方法である。   On the other hand, as another method for electrically connecting the terminal portion of the wiring layer and the element, a so-called solder jet method is known (Patent Documents 7 to 9). The solder jet method is a method in which a solder ball is loaded into a microtubule such as a capillary, and then the solder ball is melted by laser light and simultaneously extruded with an inert gas to form a solder joint.

特開2010−40115号公報JP 2010-40115 A 特開2009−259362号公報JP 2009-259362 A 特開2006−120288号公報JP 2006-120288 A 特開平10−79105号公報JP-A-10-79105 特開2003−123217号公報JP 2003-123217 A 特開2007−58999号公報JP 2007-58999 A 特開2007−128574号公報JP 2007-128574 A 特開2002−50018号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-50018 特許第3181600号Patent No. 3181600

ボールプレイス法を用いた接合では、レーザー光を照射する前に半田ボールの位置を安定させる必要があり、通常、端子部に凹部や孔部を形成する。一方、HDDの高機能化に伴って、必要とされる端子部の数は増加傾向にある。その結果、端子部のサイズは小さくなり、凹部や孔部を形成するスペースを確保することが困難になる。   In joining using the ball place method, it is necessary to stabilize the position of the solder ball before irradiating the laser beam, and usually a recess or a hole is formed in the terminal portion. On the other hand, the number of terminal portions required is increasing as the functionality of HDDs increases. As a result, the size of the terminal portion is reduced, and it is difficult to secure a space for forming the recess and the hole.

これに対して、ソルダージェット法を用いた接合では、端子部に凹部や孔部を形成する必要がないので、端子数増加に対応しやすいという利点がある。しかしながら、ソルダージェット法での接合に適し、かつ、素子の追従性というサスペンション用基板にとって重要な事項を考慮したサスペンション用基板は検討されていない。   On the other hand, in joining using the solder jet method, there is an advantage that it is easy to cope with an increase in the number of terminals because it is not necessary to form recesses or holes in the terminal portions. However, a suspension substrate that is suitable for joining by the solder jet method and that takes into consideration an important matter for the suspension substrate, such as element followability, has not been studied.

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、ソルダージェット法を用いた接合に適し、かつ、素子の追従性を阻害しないサスペンション用基板を提供することを主目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is a main object of the present invention to provide a suspension substrate that is suitable for bonding using the solder jet method and that does not hinder the followability of the element.

上記課題を解決するために、本発明においては、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線層とを有するサスペンション用基板であって、上記配線層は、素子と電気的に接続する端子部を有し、上記絶縁層は、上記端子部の端面よりも張り出し、かつ、上記素子を支持する絶縁層端部を有し、上記金属支持基板は、タング部を有し、上記絶縁層端部および上記タング部の間に、両者が平面視上重ならない貫通部が形成されていることを特徴とするサスペンション用基板を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention provides a suspension substrate having a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer. The wiring layer has a terminal portion that is electrically connected to the element, and the insulating layer extends beyond an end surface of the terminal portion, and has an insulating layer end portion that supports the element, and the metal The support substrate has a tongue portion, and a suspension substrate is provided in which a through portion is formed between the end portion of the insulating layer and the tongue portion so that they do not overlap in plan view.

本発明によれば、絶縁層端部および貫通部を設けることにより、ソルダージェット法を用いた接合に適し、かつ、素子の追従性を阻害しないサスペンション用基板とすることができる。   According to the present invention, by providing the insulating layer end portion and the penetrating portion, it is possible to provide a suspension substrate that is suitable for bonding using the solder jet method and does not hinder the followability of the element.

上記発明において、上記金属支持基板は、上記タング部と、上記タング部を支持する支持アーム部と、上記タング部との間に開口領域を介して配置されたアウトリガー部とを有し、上記絶縁層および上記配線層は、上記支持アーム部上を通過するように形成され、上記支持アーム部よりも先端側において、上記端子部が形成されていることが好ましい。素子の追従性をより良好なものとすることができるからである。   In the above invention, the metal support board includes the tongue portion, a support arm portion that supports the tongue portion, and an outrigger portion that is disposed between the tongue portion via an opening region, It is preferable that the layer and the wiring layer are formed so as to pass over the support arm portion, and the terminal portion is formed on the tip side of the support arm portion. This is because the followability of the element can be improved.

また、本発明においては、上述したサスペンション用基板と、上記サスペンション用基板の上記金属支持基板側の表面に設けられたロードビームと、を有することを特徴とするサスペンションを提供する。   The present invention also provides a suspension comprising the above-described suspension substrate and a load beam provided on the surface of the suspension substrate on the metal support substrate side.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、ソルダージェット法を用いた接合に適し、かつ、素子の追従性を阻害しないサスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the suspension substrate described above, it is possible to provide a suspension that is suitable for bonding using the solder jet method and does not hinder the followability of the element.

また、本発明においては、上述したサスペンションと、上記サスペンションに配置された素子と、上記端子部および上記素子を電気的に接続する半田接合部と、を有することを特徴とする素子付サスペンションを提供する。   According to the present invention, there is provided a suspension with an element, comprising the above-described suspension, an element disposed on the suspension, and a solder joint portion for electrically connecting the terminal portion and the element. To do.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、端子部の数が多い場合であっても接続信頼性が高く、かつ、素子の追従性が良好な素子付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the suspension described above, it is possible to provide a suspension with an element that has high connection reliability and good element followability even when the number of terminal portions is large.

また、本発明においては、上述した素子付サスペンションを有することを特徴とするハードディスクドライブを提供する。   The present invention also provides a hard disk drive having the above-described suspension with an element.

本発明によれば、上述した素子付サスペンションを用いることで、より高機能化されたハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a hard disk drive with higher functionality can be obtained by using the above-described suspension with an element.

また、本発明においては、金属支持部材と、上記金属支持部材上に形成された絶縁部材と、上記絶縁部材上に形成された導体部材とを有する積層部材を準備する積層部材準備工程と、上記導体部材をエッチングし、素子と電気的に接続する端子部を有する配線層を形成する配線層形成工程と、上記絶縁部材をエッチングし、上記端子部の端面よりも張り出し、かつ、上記素子を支持する絶縁層端部を有する絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、上記金属支持部材をエッチングし、タング部を有する金属支持基板を形成する金属支持基板形成工程と、を有し、上記絶縁層端部および上記タング部の間に、両者が平面視上重ならない貫通部を形成することを特徴とするサスペンション用基板の製造方法を提供する。   In the present invention, a laminated member preparation step of preparing a laminated member having a metal supporting member, an insulating member formed on the metal supporting member, and a conductor member formed on the insulating member, A wiring layer forming step of forming a wiring layer having a terminal portion electrically connected to the element by etching the conductor member; and etching the insulating member to protrude from an end face of the terminal portion and support the element An insulating layer forming step for forming an insulating layer having an insulating layer end portion, and a metal supporting substrate forming step for etching the metal supporting member to form a metal supporting substrate having a tongue portion. Provided is a method for manufacturing a suspension substrate, characterized in that a penetrating portion that does not overlap in plan view is formed between the end portion and the tongue portion.

本発明によれば、絶縁層端部および貫通部を形成することにより、ソルダージェット法を用いた接合に適し、かつ、素子の追従性を阻害しないサスペンション用基板を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain a suspension substrate that is suitable for bonding using the solder jet method and does not hinder the followability of the element by forming the insulating layer end portion and the through portion.

また、本発明においては、上述したサスペンションに素子を配置し、ソルダージェット法により、上記端子部および上記素子を電気的に接続する半田接合部を形成する半田接合部形成工程を有することを特徴とする素子付サスペンションの製造方法を提供する。   Further, the present invention is characterized by having a solder joint forming step in which an element is arranged on the suspension described above and a solder joint for electrically connecting the terminal portion and the element is formed by a solder jet method. A method for manufacturing a suspension with an element is provided.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、端子部の数が多い場合であっても接続信頼性が高く、かつ、素子の追従性が良好な素子付サスペンションを得ることができる。   According to the present invention, by using the suspension described above, it is possible to obtain a suspension with an element that has high connection reliability and good element followability even when the number of terminal portions is large.

本発明のサスペンション用基板は、ソルダージェット法を用いた接合に適し、かつ、素子の追従性を阻害しないという効果を奏する。   The suspension substrate of the present invention is suitable for bonding using the solder jet method, and has an effect of not inhibiting the followability of the element.

本発明のサスペンション用基板の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the board | substrate for suspensions of this invention. 図2のA−A断面図である。It is AA sectional drawing of FIG. 図2のサスペンション用基板を部材ごとに示した概略平面図である。FIG. 3 is a schematic plan view showing the suspension substrate of FIG. 2 for each member. 本発明における貫通部の効果を説明する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing explaining the effect of the penetration part in this invention. 本発明における貫通部の効果を説明する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing explaining the effect of the penetration part in this invention. 本発明における貫通部を例示する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which illustrates the penetration part in the present invention. 本発明のサスペンション用基板の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明における金属支持基板の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the metal support substrate in this invention. 本発明における金属支持基板の一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the metal support substrate in this invention. 本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension of this invention. 本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the suspension with an element of this invention. 本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the suspension with an element of this invention. 本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows an example of the hard disk drive of this invention. 本発明のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the board | substrate for suspensions of this invention. 本発明の素子付サスペンションの製造方法の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the suspension with an element of this invention.

以下、本発明のサスペンション用基板、サスペンション、素子付サスペンション、ハードディスクドライブ、サスペンション用基板の製造方法、および素子付サスペンションの製造方法について詳細に説明する。   Hereinafter, the suspension substrate, suspension, suspension with element, hard disk drive, suspension substrate manufacturing method, and element suspension manufacturing method of the present invention will be described in detail.

A.サスペンション用基板
本発明のサスペンション用基板は、金属支持基板と、上記金属支持基板上に形成された絶縁層と、上記絶縁層上に形成された配線層とを有するサスペンション用基板であって、上記配線層は、素子と電気的に接続する端子部を有し、上記絶縁層は、上記端子部の端面よりも張り出し、かつ、上記素子を支持する絶縁層端部を有し、上記金属支持基板は、タング部を有し、上記絶縁層端部および上記タング部の間に、両者が平面視上重ならない貫通部が形成されていることを特徴とするものである。
A. Suspension substrate The suspension substrate of the present invention is a suspension substrate having a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer, The wiring layer has a terminal portion that is electrically connected to the element, and the insulating layer protrudes from an end surface of the terminal portion and has an insulating layer end portion that supports the element, and the metal support substrate Has a tongue portion, and a penetration portion is formed between the end portion of the insulating layer and the tongue portion so that they do not overlap in plan view.

図1(a)は、本発明のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図であり、図1(b)は図1(a)のA−A断面図である。なお、図1(a)では、便宜上、カバー層の記載は省略している。図1(a)に示されるサスペンション用基板20は、一方の先端部分に形成された素子実装領域11と、他方の先端部分に形成された外部回路基板接続領域12と、素子実装領域11および外部回路基板接続領域12を電気的に接続する複数の配線層13a〜13dとを有するものである。配線層13aおよび配線層13bは一対の配線層であり、同様に、配線層13cおよび配線層13dも一対の配線層である。これらの2つの配線層は、一方がライト用配線層であり、他方がリード用配線層である。また、図1(b)に示すように、サスペンション用基板20は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された絶縁層2と、絶縁層2上に形成された配線層3と、配線層3を覆うように形成されたカバー層4とを有する。   FIG. 1A is a schematic plan view showing an example of a suspension substrate according to the present invention, and FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. In FIG. 1A, the cover layer is not shown for convenience. A suspension substrate 20 shown in FIG. 1A includes an element mounting region 11 formed at one tip portion, an external circuit board connection region 12 formed at the other tip portion, an element mounting region 11 and an external portion. A plurality of wiring layers 13a to 13d for electrically connecting the circuit board connection region 12 are provided. The wiring layer 13a and the wiring layer 13b are a pair of wiring layers. Similarly, the wiring layer 13c and the wiring layer 13d are also a pair of wiring layers. One of these two wiring layers is a write wiring layer, and the other is a read wiring layer. As shown in FIG. 1B, the suspension substrate 20 includes a metal support substrate 1, an insulating layer 2 formed on the metal support substrate 1, and a wiring layer 3 formed on the insulating layer 2. And a cover layer 4 formed so as to cover the wiring layer 3.

図2は本発明のサスペンション用基板の一例を示す概略平面図であり、図3は図2のA−A断面図である。図2に示すように、配線層3は、素子(図示せず)と電気的に接続する端子部3aを有する。端子部3aは、例えばパッド状であり、表面にAuめっき部等が形成されていることが好ましい。また、図3に示すように、絶縁層2は、端子部3aの端面3αよりも張り出し、かつ、素子31を支持する絶縁層端部2aを有する。さらに、絶縁層端部2aおよびタング部1aの間には、両者が平面視上重ならない貫通部Tが形成されている。   2 is a schematic plan view showing an example of the suspension substrate of the present invention, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. As shown in FIG. 2, the wiring layer 3 has a terminal portion 3a that is electrically connected to an element (not shown). The terminal portion 3a is, for example, in a pad shape, and it is preferable that an Au plated portion or the like is formed on the surface. Further, as shown in FIG. 3, the insulating layer 2 has an insulating layer end 2 a that protrudes beyond the end surface 3 α of the terminal portion 3 a and supports the element 31. Furthermore, between the insulating layer end 2a and the tongue 1a, there is formed a through-hole T where they do not overlap in plan view.

図4は、図2のサスペンション用基板を部材ごとに示した概略平面図である。図4(a)に示すように、金属支持基板1は、タング部1aと、タング部1aを支持する支持アーム部1bと、タング部1aとの間に開口領域Xを介して配置されたアウトリガー部1cとを有する。また、図4(b)に示すように、絶縁層2は絶縁層端部2aを有する。また、リミッタ5は、図4(a)における支持アーム部1bおよびアウトリガー部1cを開口領域Xを介して接続するものであり、枕部6は素子を支持するものである。リミッタ5および枕部6は、絶縁層2と同一の材料から構成されていることが好ましい。また、図4(c)に示すように、配線層3は端子部3aを有している。また、図4(d)に示すように、カバー層4は、図4(c)における配線層3を覆うように形成されている。   FIG. 4 is a schematic plan view showing the suspension substrate of FIG. 2 for each member. As shown in FIG. 4 (a), the metal support substrate 1 includes an outrigger disposed between the tongue portion 1a, the support arm portion 1b that supports the tongue portion 1a, and the tongue portion 1a via the opening region X. Part 1c. In addition, as shown in FIG. 4B, the insulating layer 2 has an insulating layer end 2a. Moreover, the limiter 5 connects the support arm part 1b and the outrigger part 1c in FIG. 4A via the opening area | region X, and the pillow part 6 supports an element. The limiter 5 and the pillow part 6 are preferably made of the same material as the insulating layer 2. Further, as shown in FIG. 4C, the wiring layer 3 has a terminal portion 3a. Further, as shown in FIG. 4D, the cover layer 4 is formed so as to cover the wiring layer 3 in FIG.

本発明によれば、絶縁層端部および貫通部を設けることにより、ソルダージェット法を用いた接合に適し、かつ、素子の追従性を阻害しないサスペンション用基板とすることができる。言い換えると、本発明によれば、絶縁層端部の端面の位置を所定の位置に調整することで、ソルダージェット法を用いた接合に適し、かつ、素子の追従性を阻害しないサスペンション用基板とすることができる。   According to the present invention, by providing the insulating layer end portion and the penetrating portion, it is possible to provide a suspension substrate that is suitable for bonding using the solder jet method and does not hinder the followability of the element. In other words, according to the present invention, by adjusting the position of the end face of the insulating layer end to a predetermined position, the suspension substrate is suitable for bonding using the solder jet method and does not hinder the followability of the element. can do.

すなわち、図3に示すように、本発明においては、絶縁層端部2aの端面2αの位置を、端子部3aの端面3αよりも張り出した位置にする。さらに、絶縁層端部2aの端面2αの位置を、素子31を支持できるように張り出させる。これにより、絶縁層端部2aが素子31を支持するための枕部として機能し、端子部3aの端面3αと、素子31の側面に形成された電極パッドとを直交する位置関係で密接させることができる。その結果、素子31の位置を安定させることができ、同時に、溶融した半田が端子部3aの端面3αと素子31の側面との間に落下することを防止できる。また、仮に溶融した半田が両者の間に落下した場合であっても、絶縁層端部2aが受け皿になるため、他製品に影響を与えないという利点もある。このように、本発明のサスペンション用基板は、ソルダージェット法を用いた接合に適したものとすることができる。   That is, as shown in FIG. 3, in the present invention, the position of the end surface 2α of the insulating layer end portion 2a is set to a position protruding from the end surface 3α of the terminal portion 3a. Further, the position of the end surface 2α of the insulating layer end 2a is projected so as to support the element 31. Thereby, the insulating layer end 2a functions as a pillow part for supporting the element 31, and the end surface 3α of the terminal part 3a and the electrode pad formed on the side surface of the element 31 are brought into close contact with each other in a perpendicular relationship. Can do. As a result, the position of the element 31 can be stabilized, and at the same time, the molten solder can be prevented from falling between the end face 3α of the terminal portion 3a and the side face of the element 31. In addition, even if the molten solder falls between the two, the insulating layer end 2a serves as a receiving tray, so there is an advantage that it does not affect other products. Thus, the suspension substrate of the present invention can be suitable for bonding using the solder jet method.

また、図3に示すように、本発明においては、絶縁層端部2aの端面2αの位置を、タング部1aとの間に貫通部Tが形成される位置にする。これにより、素子の追従性を阻害しないサスペンション用基板とすることができる。例えば図5に示すように、絶縁層端部2aがタング部1a上に形成され、貫通部が存在しない場合、絶縁層端部2aが、タング部1aのピボット運動を阻害し、実装される素子の追従性(柔軟性)が損なわれるという問題がある。これに対して、本発明のサスペンション用基板は、貫通部を有するため、このような問題が生じないという利点がある。   Further, as shown in FIG. 3, in the present invention, the position of the end surface 2α of the insulating layer end 2a is set to a position where the through-hole T is formed between the tongue 1a. Thereby, it can be set as the board | substrate for suspension which does not inhibit the followable | trackability of an element. For example, as shown in FIG. 5, when the insulating layer end portion 2a is formed on the tongue portion 1a and there is no penetrating portion, the insulating layer end portion 2a obstructs the pivoting movement of the tongue portion 1a and is mounted. There is a problem in that the followability (flexibility) is impaired. On the other hand, since the suspension substrate of the present invention has a through portion, there is an advantage that such a problem does not occur.

また、半田が固化する際に発生する応力を緩和するために、図6(a)に示すように、端子部3aに折り曲げ加工(図中の矢印の部分)を行う場合がある。その際、絶縁層端部2aおよびタング部1aの間に貫通部Tが存在していれば、折り曲げ加工によって、実装される素子の追従性(柔軟性)が損なわれることはない。これに対して、図6(b)に示すように、絶縁層端部2aがタング部1a上に形成され、貫通部が存在しない場合、折り曲げ加工によって、絶縁層端部2aおよびタング部1aの接触部分に応力が生じ、実装される素子の追従性(柔軟性)が損なわれてしまう。このように、貫通部を設けることで、端子部の折り曲げ加工を行いやすくなるという利点がある。なお、図7(a)に示すように、枕部6の端部はタング部1aの端部と面一の関係になっても良く、図7(b)に示すように、枕部6の端部はタング部1aの端部より張り出していても良い。
以下、本発明のサスペンション用基板について、サスペンション用基板の部材と、サスペンション用基板の構成とに分けて説明する。
Further, in order to relieve the stress generated when the solder is solidified, as shown in FIG. 6A, the terminal portion 3a may be bent (a portion indicated by an arrow in the drawing). At this time, if the penetrating portion T exists between the insulating layer end portion 2a and the tongue portion 1a, the followability (flexibility) of the mounted element is not impaired by the bending process. On the other hand, as shown in FIG. 6B, when the insulating layer end 2a is formed on the tongue 1a and there is no penetrating portion, the insulating layer end 2a and the tongue 1a are bent by bending. Stress is generated in the contact portion, and the followability (flexibility) of the mounted element is impaired. Thus, by providing the through portion, there is an advantage that the terminal portion can be easily bent. In addition, as shown to Fig.7 (a), the edge part of the pillow part 6 may become a flush relationship with the edge part of the tongue part 1a, and as shown to FIG. The end portion may protrude from the end portion of the tongue portion 1a.
Hereinafter, the suspension substrate of the present invention will be described separately for the suspension substrate member and the suspension substrate configuration.

1.サスペンション用基板の部材
まず、本発明のサスペンション用基板の部材について説明する。本発明のサスペンション用基板は、金属支持基板、絶縁層、配線層を少なくとも有するものである。
1. First, members of the suspension substrate of the present invention will be described. The suspension substrate of the present invention has at least a metal support substrate, an insulating layer, and a wiring layer.

本発明における金属支持基板は、サスペンション用基板の支持体として機能するものである。金属支持基板の材料は、ばね性を有する金属であることが好ましく、具体的にはステンレス鋼等を挙げることができる。また、金属支持基板の厚さは、その材料の種類により異なるものであるが、例えば10μm〜20μmの範囲内である。   The metal support substrate in the present invention functions as a support for the suspension substrate. The material of the metal support substrate is preferably a metal having a spring property, and specific examples include stainless steel. Moreover, although the thickness of a metal support substrate changes with kinds of the material, it exists in the range of 10 micrometers-20 micrometers, for example.

本発明における絶縁層は、金属支持基板上に形成されるものである。絶縁層の材料は、絶縁性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば樹脂を挙げることができる。上記樹脂としては、例えばポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリベンゾイミダゾール樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルニトリル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂およびポリ塩化ビニル樹脂を挙げることができ、中でもポリイミド樹脂が好ましい。絶縁性、耐熱性および耐薬品性に優れているからである。また、絶縁層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。絶縁層の厚さは、例えば5μm〜30μmの範囲内であることが好ましく、5μm〜18μmの範囲内であることがより好ましく、5μm〜12μmの範囲内であることがさらに好ましい。   The insulating layer in the present invention is formed on a metal support substrate. The material of the insulating layer is not particularly limited as long as it has insulating properties, and examples thereof include a resin. Examples of the resin include polyimide resin, polybenzoxazole resin, polybenzimidazole resin, acrylic resin, polyether nitrile resin, polyether sulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyethylene naphthalate resin, and polyvinyl chloride resin. Of these, polyimide resin is preferred. It is because it is excellent in insulation, heat resistance and chemical resistance. In addition, the material of the insulating layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the insulating layer is, for example, preferably in the range of 5 μm to 30 μm, more preferably in the range of 5 μm to 18 μm, and still more preferably in the range of 5 μm to 12 μm.

本発明における配線層は、絶縁層上に形成されるものである。配線層の材料は、導電性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば金属を挙げることができ、中でも銅(Cu)が好ましい。また、配線層の材料は、圧延銅であっても良く、電解銅であっても良い。配線層の厚さは、例えば5μm〜18μmの範囲内であることが好ましく、9μm〜12μmの範囲内であることがより好ましい。また、配線層の一部の表面には、めっき部が形成されていることが好ましい。めっき部を設けることにより、配線層の劣化(腐食等)を防止できるからである。中でも、本発明においては、素子や外部回路基板との接続を行う端子部にめっき部が形成されていることが好ましい。めっき部の種類は特に限定されるものではないが、例えば、Auめっき、Niめっき、Agめっき等を挙げることができる。中でも、本発明においては、配線層の表面側から、NiめっきおよびAuめっきが形成されていることが好ましい。めっき部の厚さは、例えば0.1μm〜4μmの範囲内である。   The wiring layer in the present invention is formed on the insulating layer. The material of the wiring layer is not particularly limited as long as it has conductivity, but for example, a metal can be cited, and copper (Cu) is particularly preferable. Moreover, the material of the wiring layer may be rolled copper or electrolytic copper. The thickness of the wiring layer is preferably in the range of 5 μm to 18 μm, for example, and more preferably in the range of 9 μm to 12 μm. Moreover, it is preferable that the plating part is formed in the one part surface of a wiring layer. This is because the deterioration (corrosion or the like) of the wiring layer can be prevented by providing the plating portion. Especially, in this invention, it is preferable that the plating part is formed in the terminal part which connects with an element and an external circuit board. Although the kind of plating part is not specifically limited, For example, Au plating, Ni plating, Ag plating etc. can be mentioned. Especially, in this invention, it is preferable that Ni plating and Au plating are formed from the surface side of the wiring layer. The thickness of the plating portion is, for example, in the range of 0.1 μm to 4 μm.

また、本発明のサスペンション用基板は、配線層を覆うように形成されたカバー層を有していても良い。カバー層を設けることにより、配線層の劣化(腐食等)を防止できる。カバー層の材料としては、例えば、上述した絶縁層の材料として記載した樹脂を挙げることができ、中でもポリイミド樹脂が好ましい。また、カバー層の材料は、感光性材料であっても良く、非感光性材料であっても良い。配線層上(配線層の上面で)のカバー層の厚さは、例えば2μm〜30μmの範囲内であり、中でも2μm〜20μmの範囲内であることが好ましく、2μm〜15μmの範囲内であることがより好ましい。   The suspension substrate of the present invention may have a cover layer formed so as to cover the wiring layer. By providing the cover layer, deterioration (corrosion etc.) of the wiring layer can be prevented. Examples of the material for the cover layer include the resins described as the material for the insulating layer described above, and among them, a polyimide resin is preferable. The material of the cover layer may be a photosensitive material or a non-photosensitive material. The thickness of the cover layer on the wiring layer (on the upper surface of the wiring layer) is, for example, in the range of 2 μm to 30 μm, preferably in the range of 2 μm to 20 μm, and in the range of 2 μm to 15 μm. Is more preferable.

2.サスペンション用基板の構成
次に、本発明のサスペンション用基板の構成について説明する。本発明のサスペンション用基板は、絶縁層端部および貫通部を有することにより、ソルダージェット法を用いた接合に適し、かつ、素子の追従性を阻害しないサスペンション用基板とすることができる。
2. Next, the configuration of the suspension substrate of the present invention will be described. Since the suspension substrate of the present invention has the insulating layer end portion and the penetrating portion, the suspension substrate can be a suspension substrate that is suitable for bonding using the solder jet method and does not hinder the followability of the element.

本発明における絶縁層端部は、端子部の端面よりも張り出し、かつ、素子を支持するものである。図8に示すように、絶縁層端部2aの長さをLとした場合、Lは素子を支持できる長さである必要があり、例えば10μm以上であることが好ましく、20μm以上であることがより好ましく、30μm以上であることがさらに好ましい。一方、Lは例えば125μm以下であることが好ましく、62.5μm以下であることがより好ましい。また、Lは例えば素子(例えばスライダ)の長さの1/10以下であることが好ましく、1/20以下であることがより好ましい。 The end portion of the insulating layer in the present invention protrudes from the end face of the terminal portion and supports the element. As shown in FIG. 8, if the length of the insulating layer end 2a and a L 1, L 1 must be long enough to support the device, is preferably, 20 [mu] m or more that is for example 10μm or more More preferably, it is more preferably 30 μm or more. On the other hand, L 1 is preferably 125 μm or less, for example, and more preferably 62.5 μm or less. L 1 is preferably, for example, 1/10 or less of the length of the element (eg, slider), and more preferably 1/20 or less.

本発明における貫通部は、絶縁層端部およびタング部の間に形成され、両者が平面視上重ならない領域である。図8に示すように、貫通部Tの長さをLとした場合、Lは例えば30μm以上であることが好ましく、40μm以上であることがより好ましく、50μm以上であることがさらに好ましい。一方、Lは例えば125μm以下であることが好ましく、62.5μm以下であることがより好ましい。また、Lは例えば素子(例えばスライダ)の長さの1/10以下であることが好ましく、1/20以下であることがより好ましい。 The penetrating portion in the present invention is a region that is formed between the end portion of the insulating layer and the tongue portion and does not overlap in plan view. As shown in FIG. 8, if the length of the penetrating portion T was L 2, it is preferable that L 2 is, for example 30μm or more, more preferably 40μm or more, more preferably 50μm or more. On the other hand, L 2 is preferably 125 μm or less, for example, and more preferably 62.5 μm or less. In addition, L 2 is preferably, for example, 1/10 or less of the length of the element (eg, slider), and more preferably 1/20 or less.

本発明における配線層は、素子と電気的に接続されるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ライト用配線層、リード用配線層、グランド用配線層、電源用配線層、フライトハイトコントロール用配線層、センサー用配線層、アクチュエータ用配線層、熱アシスト用配線層等を挙げることができ、中でも、ライト用配線層、リード用配線層、グランド用配線層であることが好ましい。また、本発明における配線層は、素子と電気的に接続する端子部を有する。端子部の形状は、特に限定されるものではないが、例えばパッド状を挙げることができる。   The wiring layer in the present invention is not particularly limited as long as it is electrically connected to the element. For example, the wiring layer for writing, the wiring layer for reading, the wiring layer for ground, the wiring layer for power supply, Examples include a flight height control wiring layer, a sensor wiring layer, an actuator wiring layer, a heat assist wiring layer, and the like. Among these, a write wiring layer, a read wiring layer, and a ground wiring layer are preferable. . The wiring layer in the present invention has a terminal portion that is electrically connected to the element. Although the shape of a terminal part is not specifically limited, For example, a pad shape can be mentioned.

本発明における端子部の数は、特に限定されるものではないが、例えば4以上であり、6以上であることが好ましく、8〜12の範囲内であることがより好ましい。なお、一般的なボールプレイス法の場合、端子部の数が8以上になると、半田ボールの設置に問題が生じる可能性が高くなる。本発明のサスペンション用基板がソルダージェット法を用いた接合に適したものであることを考慮すると、端子部の数が8以上である場合に、本発明の効果をさらに発揮できる。   The number of terminal portions in the present invention is not particularly limited, but is, for example, 4 or more, preferably 6 or more, and more preferably in the range of 8-12. In the case of a general ball place method, if the number of terminal portions is 8 or more, there is a high possibility that a problem will occur in the installation of solder balls. Considering that the suspension substrate of the present invention is suitable for joining using the solder jet method, the effect of the present invention can be further exhibited when the number of terminal portions is 8 or more.

また、図9に示すように、端子部3aの幅をW、隣り合う端子部3aの間の幅をW、最も離れた端子部3aの間の幅をWとした場合、Wは、例えば20μm〜80μmの範囲内であることが好ましく、30μm〜60μmの範囲内であることがより好ましい。Wは、例えば20μm〜80μmの範囲内であることが好ましく、30μm〜60μmの範囲内であることがより好ましい。Wは、例えば400μm〜1000μmの範囲内であることが好ましく、600μm〜700μmの範囲内であることがより好ましい。 Further, as shown in FIG. 9, when W 1 width of the terminal portion 3a, width W 2 between the adjacent terminal portions 3a, the width between the most distant terminal portions 3a was set to W 3, W 1 Is preferably in the range of 20 μm to 80 μm, for example, and more preferably in the range of 30 μm to 60 μm. W 2 is preferably in the range of 20 μm to 80 μm, for example, and more preferably in the range of 30 μm to 60 μm. W 3 is preferably in the range of 400 μm to 1000 μm, for example, and more preferably in the range of 600 μm to 700 μm.

また、本発明における金属支持基板は、少なくともタング部を有する。タング部は、磁気ヘッドスライダ等の素子を実装する部位である。また、本発明における金属支持基板は、図2に示すように、支持アーム部およびアウトリガー部をさらに有することが好ましい。支持アームは、タング部を支持する部位であり、通常は、サスペンション用基板の幅方向(図2における幅方向W)に延びた部位をいう。   Moreover, the metal support board | substrate in this invention has a tongue part at least. A tongue part is a site | part which mounts elements, such as a magnetic head slider. Moreover, it is preferable that the metal support substrate in this invention further has a support arm part and an outrigger part, as shown in FIG. The support arm is a portion that supports the tongue portion, and usually refers to a portion that extends in the width direction of the suspension substrate (the width direction W in FIG. 2).

アウトリガー部は、タング部との間に開口領域を介して配置された部位である。タング部に対して、開口領域(図2における開口領域X)を介してアウトリガー部を配置することで、ディスクに対する素子の追従性を良好にすることができる。また、アウトリガー部は、通常、支持アーム部と、間接的または直接的に連結されている。   An outrigger part is a site | part arrange | positioned through an opening area | region between tongue parts. By disposing the outrigger portion with respect to the tongue portion via the opening region (opening region X in FIG. 2), the followability of the element with respect to the disk can be improved. Moreover, the outrigger part is normally connected with the support arm part indirectly or directly.

図10(a)は、本発明における金属支持基板の一例を示す概略平面図であり、支持アーム部1bおよびアウトリガー部1cが間接的に連結されている場合を示している。支持アーム部1bはリアアーム部1eと連結し、リアアーム部1eがフロントアーム部1dと連結している。このフロントアーム部1dが、本発明におけるアウトリガー部1cに該当する。また、図10(a)における金属支持基板は、タング部1aよりもヘッド側に形成され、第一固定点101を含む第一支持領域と、第一支持領域に結合しているリング状のバネ構造であり、ピール剛性を与え、フロントアーム部1dから構成されるフロントリングFRと、タング部1aよりもテール側に形成され、第二固定点102を含む第二支持領域と、第二支持領域と結合しているリング状のバネ構造であり、上記フロントリングよりも大きなヨー剛性および上記フロントリングよりも小さなピール剛性を与え、リアアーム部1eから構成されるリアリングRRとを有している。このような構成により、大きなピール剛性と、小さいロール剛性およびピッチ剛性を維持しつつ、ヨー剛性を大きくすることができる。なお、図10(b)は図10(a)のA−A断面図である、図10(b)に示すように、ロードビーム21に対して、タング部1a、支持アーム部1b、フロントアーム部1d、リアアーム部1eが連動することにより、素子31はディスクに対して良好な追従性を発揮できる。なお、タング部1aは、一方の表面に素子31を実装し、他方の表面にディンプル22が接触している。   FIG. 10A is a schematic plan view showing an example of a metal support substrate in the present invention, and shows a case where the support arm portion 1b and the outrigger portion 1c are indirectly connected. The support arm portion 1b is connected to the rear arm portion 1e, and the rear arm portion 1e is connected to the front arm portion 1d. The front arm portion 1d corresponds to the outrigger portion 1c in the present invention. The metal support substrate in FIG. 10A is formed on the head side with respect to the tongue portion 1a, and includes a first support region including the first fixing point 101, and a ring-shaped spring coupled to the first support region. A front ring FR that has a structure and gives peel rigidity and is constituted by the front arm portion 1d; a second support region that is formed on the tail side of the tongue portion 1a and includes the second fixing point 102; and a second support region A ring-shaped spring structure coupled to the rear ring RR, which has a yaw rigidity larger than that of the front ring and a peel rigidity smaller than that of the front ring, and a rear ring RR composed of the rear arm portion 1e. With such a configuration, it is possible to increase the yaw rigidity while maintaining a large peel rigidity, a small roll rigidity and a pitch rigidity. 10B is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 10A. As shown in FIG. 10B, the tongue portion 1a, the support arm portion 1b, and the front arm with respect to the load beam 21 are illustrated. By interlocking the part 1d and the rear arm part 1e, the element 31 can exhibit good followability to the disk. In the tongue 1a, the element 31 is mounted on one surface, and the dimple 22 is in contact with the other surface.

一方、図11は、本発明における金属支持基板の他の例を示す概略平面図である。図11に示すように、支持アーム部1bおよびアウトリガー部1cは直接的に連結されていても良い。   On the other hand, FIG. 11 is a schematic plan view showing another example of the metal support substrate in the present invention. As shown in FIG. 11, the support arm part 1b and the outrigger part 1c may be directly connected.

また、本発明においては、図2に示すように、金属支持基板が、タング部1aと、タング部1aを支持する支持アーム部1bと、タング部1aとの間に開口領域Xを介して配置されたアウトリガー部1cとを有し、絶縁層2および配線層3が、支持アーム部1b上を通過するように形成され、支持アーム部1bよりも先端側において、端子部3aが形成されていることが好ましい。素子の追従性をより良好なものとすることができるからである。なお、図2では、絶縁層2および配線層3がタング部1aを囲むように配置されている。   Further, in the present invention, as shown in FIG. 2, the metal support board is disposed between the tongue portion 1a, the support arm portion 1b that supports the tongue portion 1a, and the tongue portion 1a via the opening region X. The insulating layer 2 and the wiring layer 3 are formed so as to pass over the support arm portion 1b, and the terminal portion 3a is formed on the tip side of the support arm portion 1b. It is preferable. This is because the followability of the element can be improved. In FIG. 2, the insulating layer 2 and the wiring layer 3 are disposed so as to surround the tongue portion 1a.

B.サスペンション
次に、本発明のサスペンションについて説明する。本発明のサスペンションは、上述したサスペンション用基板と、上記サスペンション用基板の上記金属支持基板側の表面に設けられたロードビームと、を有することを特徴とするものである。
B. Suspension Next, the suspension of the present invention will be described. The suspension according to the present invention includes the suspension substrate described above and a load beam provided on the surface of the suspension substrate on the metal support substrate side.

図12は、本発明のサスペンションの一例を示す概略平面図である。図12に示されるサスペンション30は、上述したサスペンション用基板20と、サスペンション用基板20の金属支持基板側の表面に設けられたロードビーム21とを有するものである。   FIG. 12 is a schematic plan view showing an example of the suspension of the present invention. A suspension 30 shown in FIG. 12 has the suspension substrate 20 described above and a load beam 21 provided on the surface of the suspension substrate 20 on the metal support substrate side.

本発明によれば、上述したサスペンション用基板を用いることで、ソルダージェット法を用いた接合に適し、かつ、素子の追従性を阻害しないサスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the suspension substrate described above, it is possible to provide a suspension that is suitable for bonding using the solder jet method and does not hinder the followability of the element.

本発明のサスペンションは、少なくともサスペンション用基板およびロードビームを有する。本発明におけるサスペンション用基板については、上記「A.サスペンション用基板」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。一方、本発明におけるロードビームは、サスペンション用基板の金属支持基板側の表面に設けられるものである。ロードビームの材料は、特に限定されるものではないが、例えば金属を挙げることができ、ステンレス鋼であることが好ましい。   The suspension of the present invention has at least a suspension substrate and a load beam. The suspension substrate in the present invention is the same as the content described in the above “A. Suspension substrate”, and therefore description thereof is omitted here. On the other hand, the load beam in the present invention is provided on the surface of the suspension substrate on the metal support substrate side. Although the material of the load beam is not particularly limited, for example, a metal can be used, and stainless steel is preferable.

C.素子付サスペンション
次に、本発明の素子付サスペンションについて説明する。本発明の素子付サスペンションは、上述したサスペンションと、上記サスペンションに配置された素子と、上記端子部および上記素子を電気的に接続する半田接合部と、を有することを特徴とするものである。
C. Next, the suspension with an element of the present invention will be described. A suspension with an element of the present invention includes the above-described suspension, the element disposed on the suspension, and the solder joint portion that electrically connects the terminal portion and the element.

図13は、本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略平面図である。図13に示される素子付サスペンション40は、上述したサスペンション30と、サスペンション30(サスペンション用基板20の素子実装領域11)に実装された素子31とを有するものである。また、図14は、本発明の素子付サスペンションの一例を示す概略断面図であり、図3と同様に、図2のA−A断面図に相当するものである。図14に示すように、素子31は、絶縁層端子2aおよび枕部6の表面上に直接配置されている。例えば、絶縁層端子2aおよび枕部6を、同一の絶縁部材をエッチングすることにより形成する場合は、絶縁層端子2aおよび枕部6の高さが同一になるので、素子31の水平性が維持されやすくなる。また、端子部3aの端面3αと、素子31の側面に形成された電極パッドとは、直交する位置関係で密接している。端子部3aおよび素子の電極パッドは、半田接合部32により電気的に接続されている。   FIG. 13 is a schematic plan view showing an example of the suspension with an element of the present invention. A suspension with an element 40 shown in FIG. 13 includes the above-described suspension 30 and an element 31 mounted on the suspension 30 (the element mounting region 11 of the suspension substrate 20). FIG. 14 is a schematic cross-sectional view showing an example of the suspension with an element of the present invention, and corresponds to the cross-sectional view taken along the line AA of FIG. As shown in FIG. 14, the element 31 is directly disposed on the surfaces of the insulating layer terminal 2 a and the pillow portion 6. For example, when the insulating layer terminal 2a and the pillow portion 6 are formed by etching the same insulating member, the insulating layer terminal 2a and the pillow portion 6 have the same height, so that the horizontality of the element 31 is maintained. It becomes easy to be done. Further, the end surface 3α of the terminal portion 3a and the electrode pad formed on the side surface of the element 31 are in close contact with each other in a perpendicular relationship. The terminal portion 3 a and the electrode pad of the element are electrically connected by a solder joint portion 32.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、端子部の数が多い場合であっても接続信頼性が高く、かつ、素子の追従性が良好な素子付サスペンションとすることができる。   According to the present invention, by using the suspension described above, it is possible to provide a suspension with an element that has high connection reliability and good element followability even when the number of terminal portions is large.

本発明の素子付サスペンションは、少なくともサスペンション、素子および半田接合部を有する。本発明におけるサスペンションについては、上記「B.サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。   The suspension with an element of the present invention has at least a suspension, an element, and a solder joint. The suspension according to the present invention is the same as the content described in “B. Suspension” above, and thus the description thereof is omitted here.

本発明における素子としては、例えば、磁気ヘッドスライダ、アクチュエータ、半導体等を挙げることができる。また、上記アクチュエータは、磁気ヘッドを有するものであっても良く、磁気ヘッドを有しないものであっても良い。また、本発明における素子は、磁気ヘッドスライダのように、ディスクに対して記録再生を行う素子(記録再生用素子)であることが好ましい。   Examples of the element in the present invention include a magnetic head slider, an actuator, and a semiconductor. The actuator may have a magnetic head or may not have a magnetic head. Further, the element in the present invention is preferably an element (recording / reproducing element) that performs recording / reproducing with respect to a disk, such as a magnetic head slider.

本発明における半田接合部は、端子部および素子を電気的に接続するものである。半田接合部の材料としては、鉛含有半田、鉛フリー半田等を挙げることができる。鉛含有半田は、例えば鉛(Pb)およびスズ(Sn)を主成分とするものであることが好ましい。具体的には、Sn−Pb系、Sn−Ag−Pb系、Sn−Pb−Bi系、Sn−Sb−Pb系、Sn−Ag−Sb−Pb系の半田等を挙げることができる。一方、鉛フリー半田は、例えば鉛(Pb)を含まずスズ(Sn)を主成分とするものであることが好ましい。具体的には、Sn−Sb系、Sn−Cu系、Sn−Cu−Ni系、Sn−Ag系、Sn−Ag−Cu系、Sn−Ag−Cu−Bi系、Sn−Zn系、Sn−Ag−In−Bi系、Sn−Zn系、Sn−Bi系、およびSn−In系、Sn−Sb系の半田等を挙げることができる。また、本発明における半田接合部は、ソルダージェット法により形成されたものであることが好ましい。   The solder joint portion in the present invention is for electrically connecting the terminal portion and the element. Examples of the material for the solder joint include lead-containing solder and lead-free solder. The lead-containing solder is preferably composed mainly of lead (Pb) and tin (Sn), for example. Specific examples include Sn—Pb, Sn—Ag—Pb, Sn—Pb—Bi, Sn—Sb—Pb, and Sn—Ag—Sb—Pb solders. On the other hand, it is preferable that the lead-free solder contains, for example, lead (Pb) and contains tin (Sn) as a main component. Specifically, Sn—Sb, Sn—Cu, Sn—Cu—Ni, Sn—Ag, Sn—Ag—Cu, Sn—Ag—Cu—Bi, Sn—Zn, Sn— Examples thereof include Ag—In—Bi, Sn—Zn, Sn—Bi, Sn—In, and Sn—Sb solders. Moreover, it is preferable that the solder joint part in this invention is formed by the solder jet method.

D.ハードディスクドライブ
次に、本発明のハードディスクドライブについて説明する。本発明のハードディスクドライブは、上述した素子付サスペンションを有することを特徴とするものである。
D. Next, the hard disk drive of the present invention will be described. The hard disk drive of the present invention has the above-described suspension with an element.

図15は、本発明のハードディスクドライブの一例を示す概略平面図である。図15に示されるハードディスクドライブ50は、上述した素子付サスペンション40と、素子付サスペンション40がデータの書き込みおよび読み込みを行うディスク41と、ディスク41を回転させるスピンドルモータ42と、素子付サスペンション40の素子を移動させるアーム43およびボイスコイルモータ44と、上記の部材を密閉するケース45とを有するものである。   FIG. 15 is a schematic plan view showing an example of the hard disk drive of the present invention. A hard disk drive 50 shown in FIG. 15 includes the above-described suspension 40 with an element, a disk 41 on which data is written and read by the suspension 40 with an element, a spindle motor 42 that rotates the disk 41, and the elements of the suspension 40 with an element. Arm 43 and voice coil motor 44, and a case 45 for sealing the above-described members.

本発明によれば、上述した素子付サスペンションを用いることで、より高機能化されたハードディスクドライブとすることができる。   According to the present invention, a hard disk drive with higher functionality can be obtained by using the above-described suspension with an element.

本発明のハードディスクドライブは、少なくとも素子付サスペンションを有し、通常は、さらにディスク、スピンドルモータ、アームおよびボイスコイルモータを有する。素子付サスペンションについては、上記「C.素子付サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、その他の部材についても、一般的なハードディスクドライブに用いられる部材と同様のものを用いることができる。   The hard disk drive of the present invention has at least a suspension with an element, and usually further includes a disk, a spindle motor, an arm, and a voice coil motor. Since the suspension with an element is the same as the content described in “C. Suspension with an element”, description thereof is omitted here. As other members, the same members as those used in a general hard disk drive can be used.

E.サスペンション用基板の製造方法
次に、本発明のサスペンション用基板の製造方法について説明する。本発明のサスペンション用基板の製造方法は、金属支持部材と、上記金属支持部材上に形成された絶縁部材と、上記絶縁部材上に形成された導体部材とを有する積層部材を準備する積層部材準備工程と、上記導体部材をエッチングし、素子と電気的に接続する端子部を有する配線層を形成する配線層形成工程と、上記絶縁部材をエッチングし、上記端子部の端面よりも張り出し、かつ、上記素子を支持する絶縁層端部を有する絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、上記金属支持部材をエッチングし、タング部を有する金属支持基板を形成する金属支持基板形成工程と、を有し、上記絶縁層端部および上記タング部の間に、両者が平面視上重ならない貫通部を形成することを特徴とするものである。
E. Next, a method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention will be described. The manufacturing method of the suspension substrate according to the present invention provides a laminated member preparation for preparing a laminated member having a metal supporting member, an insulating member formed on the metal supporting member, and a conductor member formed on the insulating member. Etching the conductor member to form a wiring layer having a terminal layer electrically connected to the element; etching the insulating member; projecting from the end surface of the terminal portion; and An insulating layer forming step of forming an insulating layer having an insulating layer end portion supporting the element; and a metal supporting substrate forming step of etching the metal supporting member to form a metal supporting substrate having a tongue portion. In addition, a penetrating portion that does not overlap in plan view is formed between the insulating layer end portion and the tongue portion.

図16は、本発明のサスペンション用基板の製造方法の一例を示す概略断面図である。なお、図16は図2のA−A断面図に相当する断面図である。図16においては、まず、金属支持部材1A、絶縁部材2Aおよび導体部材3Aがこの順に積層された積層部材を準備する(図16(a))。次に、導体部材3Aに対して、ウェットエッチングによるパターニングを行い、端子部3aを有する配線層3を形成する(図16(b))。次に、配線層3を覆うようにカバー層4を形成する(図16(c))。   FIG. 16 is a schematic cross-sectional view showing an example of a method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention. 16 is a cross-sectional view corresponding to the AA cross-sectional view of FIG. In FIG. 16, first, a laminated member in which the metal supporting member 1A, the insulating member 2A, and the conductor member 3A are laminated in this order is prepared (FIG. 16 (a)). Next, the conductive member 3A is patterned by wet etching to form the wiring layer 3 having the terminal portions 3a (FIG. 16B). Next, the cover layer 4 is formed so as to cover the wiring layer 3 (FIG. 16C).

その後、絶縁部材2Aに対して、ウェットエッチングによるパターニングを行い、絶縁層端部2aを有する絶縁層2を形成する(図16(d))。この際、枕部6を同時に形成することが好ましい。また、図示しないが、図2に示したリミッタ5を同時に形成することが好ましい。最後に、金属支持部材1Aに対して、ウェットエッチングによるパターニングを行い、タング部1aを有する金属支持基板1を形成する(図16(e))。この際、貫通部Tが形成されるように、金属支持部材1Aのエッチングを行う。これにより、サスペンション用基板を得る。   Thereafter, the insulating member 2A is patterned by wet etching to form the insulating layer 2 having the insulating layer end 2a (FIG. 16D). At this time, it is preferable to form the pillow portion 6 at the same time. Further, although not shown, it is preferable to simultaneously form the limiter 5 shown in FIG. Finally, the metal support member 1A is patterned by wet etching to form the metal support substrate 1 having the tongue 1a (FIG. 16E). At this time, the metal support member 1 </ b> A is etched so that the through portion T is formed. Thereby, a suspension substrate is obtained.

本発明によれば、絶縁層端部および貫通部を形成することにより、ソルダージェット法を用いた接合に適し、かつ、素子の追従性を阻害しないサスペンション用基板を得ることができる。
以下、本発明のサスペンション用基板の製造方法について、工程ごとに説明する。
According to the present invention, it is possible to obtain a suspension substrate that is suitable for bonding using the solder jet method and does not hinder the followability of the element by forming the insulating layer end portion and the through portion.
Hereinafter, the manufacturing method of the suspension substrate according to the present invention will be described step by step.

1.積層部材準備工程
本発明における積層部材準備工程は、金属支持部材と、上記金属支持部材上に形成された絶縁部材と、上記絶縁部材上に形成された導体部材とを有する積層部材を準備する工程である。
1. Laminated member preparation step The laminated member preparation step in the present invention is a step of preparing a laminated member having a metal supporting member, an insulating member formed on the metal supporting member, and a conductor member formed on the insulating member. It is.

本発明においては、積層部材の金属支持部材をエッチングすることにより金属支持基板が得られ、積層部材の絶縁部材をエッチングすることにより絶縁層が得られ、積層体の導体部材をエッチングすることにより配線層が得られる。積層部材は、市販の三層材であっても良く、金属支持部材に対して絶縁層および導体部材を順次形成して得られたものであっても良い。   In the present invention, the metal support substrate is obtained by etching the metal support member of the laminate member, the insulating layer is obtained by etching the insulation member of the laminate member, and the wiring is obtained by etching the conductor member of the laminate. A layer is obtained. The laminated member may be a commercially available three-layer material, or may be obtained by sequentially forming an insulating layer and a conductor member on a metal support member.

2.配線層形成工程
本発明における配線層形成工程は、上記導体部材をエッチングし、素子と電気的に接続する端子部を有する配線層を形成する工程である。
2. Wiring layer forming step The wiring layer forming step in the present invention is a step of etching the conductor member to form a wiring layer having a terminal portion electrically connected to the element.

配線層の形成方法としては、例えば、積層部材の導体部材上に、ドライフィルムレジスト(DFR)等を用いてレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出する導体部材をウェットエッチングする方法を挙げることができる。ウェットエッチングに用いられるエッチング液の種類は、導体部材の種類に応じて適宜選択することが好ましく、例えば導体部材の材料がCuである場合には、塩化鉄系エッチング液等を用いることができる。   Examples of the method for forming the wiring layer include a method in which a resist pattern is formed on a conductive member of a laminated member using a dry film resist (DFR) or the like, and the conductive member exposed from the resist pattern is wet-etched. Can do. The type of etching solution used for wet etching is preferably selected as appropriate according to the type of conductor member. For example, when the material of the conductor member is Cu, an iron chloride-based etching solution or the like can be used.

また、本発明においては、導体部材のエッチングと同時に、金属支持部材のエッチングを行っても良い。金属支持部材のエッチングは、例えば、治具孔の形成のためのエッチングを挙げることができる。また、必要であれば、後述する金属支持基板形成工程で行う加工の少なくとも一部を、導体部材のエッチングと同時に行っても良い。   In the present invention, the metal support member may be etched simultaneously with the etching of the conductor member. Examples of the etching of the metal support member include etching for forming a jig hole. Further, if necessary, at least a part of the processing performed in the metal support substrate forming step described later may be performed simultaneously with the etching of the conductor member.

3.カバー層形成工程
本発明のサスペンション用基板の製造方法は、上記配線層を覆うようにカバー層を形成するカバー層形成工程を有することが好ましい。配線層の劣化(腐食等)を防止できるからである。
3. Cover Layer Forming Step The suspension substrate manufacturing method of the present invention preferably includes a cover layer forming step of forming a cover layer so as to cover the wiring layer. This is because deterioration (corrosion, etc.) of the wiring layer can be prevented.

カバー層の形成方法は、特に限定されるものではなく、カバー層の材料に応じて適宜選択することが好ましい。例えば、カバー層の材料が感光性材料である場合には、全面形成したカバー層に露光現像を行うことによりパターン状のカバー層を得ることができる。また、カバー層の材料が非感光性材料である場合は、全面形成したカバー層の表面に所定のレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出した部分を、ウェットエッチングにより除去することによりパターン状のカバー層を得ることができる。   The method for forming the cover layer is not particularly limited, and is preferably selected as appropriate according to the material of the cover layer. For example, when the material of the cover layer is a photosensitive material, a patterned cover layer can be obtained by exposing and developing the cover layer formed on the entire surface. In addition, when the cover layer material is a non-photosensitive material, a predetermined resist pattern is formed on the entire surface of the cover layer, and a portion exposed from the resist pattern is removed by wet etching. The cover layer can be obtained.

4.絶縁層形成工程
本発明における絶縁層形成工程は、上記絶縁部材をエッチングし、上記端子部の端面よりも張り出し、かつ、上記素子を支持する絶縁層端部を有する絶縁層を形成する工程である。
4). Insulating layer forming step The insulating layer forming step in the present invention is a step of etching the insulating member to form an insulating layer that protrudes from the end face of the terminal portion and has an insulating layer end portion that supports the element. .

絶縁層の形成方法としては、例えば、絶縁部材に対して、ドライフィルムレジスト(DFR)等を用いてレジストパターンを形成し、そのレジストパターンから露出する絶縁部材をウェットエッチングする方法を挙げることができる。ウェットエッチングに用いるエッチング液の種類は、絶縁部材の種類に応じて適宜選択することが好ましく、例えば絶縁部材の材料がポリイミド樹脂である場合は、アルカリ系エッチング液等を用いることができる。   Examples of the method for forming the insulating layer include a method of forming a resist pattern on the insulating member using a dry film resist (DFR) or the like, and wet etching the insulating member exposed from the resist pattern. . The type of etchant used for wet etching is preferably selected as appropriate according to the type of insulating member. For example, when the material of the insulating member is a polyimide resin, an alkaline etchant or the like can be used.

5.金属支持基板形成工程
本発明における金属支持基板形成工程は、上記金属支持部材をエッチングし、タング部を有する金属支持基板を形成する工程である。
5. Metal support substrate forming step The metal support substrate forming step in the present invention is a step of etching the metal support member to form a metal support substrate having a tongue portion.

本工程において、通常は、金属支持基板の外形加工を行う。なお、タング部の形成は、絶縁層形成工程の後に行っても良く、上述した配線層形成工程と同時に行っても良い。また、本工程において、タング部の他に、上述した支持アーム部およびアウトリガー部の形成を行うことが好ましい。   In this step, the outer shape of the metal support substrate is usually processed. Note that the tongue portion may be formed after the insulating layer forming step or simultaneously with the wiring layer forming step described above. In this step, it is preferable to form the above-described support arm portion and outrigger portion in addition to the tongue portion.

金属支持部材をエッチングする方法は特に限定されるものでないが、具体的には、ウェットエッチング等を挙げることができる。ウェットエッチングに用いるエッチング液の種類は、金属支持部材の種類に応じて適宜選択することが好ましく、例えば金属支持部材の材料がステンレス鋼である場合は、塩化鉄系エッチング液等を用いることができる。   Although the method for etching the metal support member is not particularly limited, specific examples include wet etching. The type of etchant used for wet etching is preferably selected as appropriate according to the type of metal support member. For example, when the material of the metal support member is stainless steel, an iron chloride-based etchant or the like can be used. .

6.その他の工程
本発明のサスペンション用基板の製造方法は、配線層の端子部に、めっき部を形成するめっき部形成工程を有していても良い。めっき部を形成する方法としては、具体的には、電解めっき法を挙げることができる。また、本発明のサスペンション用基板の製造方法は、配線層および金属支持基板(金属支持部材)を電気的に接続するビアを形成するビア形成工程を有していても良い。ビアを形成する方法としては、具体的には、電解めっき法を挙げることができる。
6). Other Steps The method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention may include a plating portion forming step of forming a plating portion on the terminal portion of the wiring layer. Specific examples of the method for forming the plated portion include an electrolytic plating method. In addition, the method for manufacturing a suspension substrate according to the present invention may include a via forming step of forming a via for electrically connecting the wiring layer and the metal support substrate (metal support member). Specific examples of the method for forming the via include an electrolytic plating method.

F.素子付サスペンションの製造方法
次に、本発明の素子付サスペンションの製造方法について説明する。本発明の素子付サスペンションの製造方法は、上述したサスペンションに素子を配置し、ソルダージェット法により、上記端子部および上記素子を電気的に接続する半田接合部を形成する半田接合部形成工程を有することを特徴とするものである。
F. Next, a method for manufacturing the suspension with elements of the present invention will be described. The method for manufacturing a suspension with an element of the present invention includes a solder joint forming step in which an element is disposed on the suspension described above and a solder joint for electrically connecting the terminal portion and the element is formed by a solder jet method. It is characterized by this.

図17は、本発明の素子付サスペンションの製造方法の一例を示す概略断面図である。なお、図17は図2のA−A断面図に相当する断面図である。図17においては、まず、上述したサスペンション30を準備する(図17(a))。なお、便宜上、ロードビームの記載は省略する。次に、素子31を所定の位置に配置し、ソルダージェット装置33により、溶融した半田ボール34を噴射する(図17(b))。これにより、端子部3aおよび素子31を電気的に接続する半田接合部32を形成し、素子付サスペンションを得る。   FIG. 17 is a schematic cross-sectional view showing an example of a method for manufacturing a suspension with an element of the present invention. FIG. 17 is a cross-sectional view corresponding to the AA cross-sectional view of FIG. In FIG. 17, first, the suspension 30 described above is prepared (FIG. 17A). For convenience, the description of the load beam is omitted. Next, the element 31 is disposed at a predetermined position, and the molten solder ball 34 is sprayed by the solder jet device 33 (FIG. 17B). As a result, the solder joint portion 32 that electrically connects the terminal portion 3a and the element 31 is formed, and a suspension with an element is obtained.

本発明によれば、上述したサスペンションを用いることで、端子部の数が多い場合であっても接続信頼性が高く、かつ、素子の追従性が良好な素子付サスペンションを得ることができる。   According to the present invention, by using the suspension described above, it is possible to obtain a suspension with an element that has high connection reliability and good element followability even when the number of terminal portions is large.

本発明に用いられるサスペンションについては、上記「B.サスペンション」に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。また、本発明におけるソルダージェット法は、従来と同様の方法を用いることができる。使用する半田ボールの大きさは、例えば0.03mm〜0.1mmの範囲内であることが好ましく、0.04mm〜0.07mmの範囲内であることがより好ましい。   The suspension used in the present invention is the same as that described in “B. Suspension”, and therefore, the description thereof is omitted here. Moreover, the solder jet method in this invention can use the method similar to the past. The size of the solder ball used is preferably in the range of 0.03 mm to 0.1 mm, for example, and more preferably in the range of 0.04 mm to 0.07 mm.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the technical idea described in the claims of the present invention has substantially the same configuration and exhibits the same function and effect regardless of the case. It is included in the technical scope of the invention.

以下、実施例を用いて、本発明をさらに具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

[実施例]
まず、厚さ18μmのSUS304(金属支持部材)、厚さ10μmのポリイミド樹脂層(絶縁部材)、厚さ9μmの電解銅層(導体部材)を有する積層部材を準備した(図16(a))。次に、ドライフィルムレジストを積層部材の両面にラミネートし、レジストパターンを形成した。次に、塩化第二鉄液を用いてエッチングし、エッチング後レジスト剥膜を行った。これにより、導体部材から端子部を有する配線層を形成した(図16(b))。なお、図示しないが、金属支持部材には治具孔を形成した。
[Example]
First, a laminated member having SUS304 (metal support member) having a thickness of 18 μm, a polyimide resin layer (insulating member) having a thickness of 10 μm, and an electrolytic copper layer (conductor member) having a thickness of 9 μm was prepared (FIG. 16A). . Next, a dry film resist was laminated on both surfaces of the laminated member to form a resist pattern. Next, etching was performed using a ferric chloride solution, and a resist film was removed after the etching. Thereby, the wiring layer which has a terminal part was formed from the conductor member (FIG.16 (b)). Although not shown, a jig hole was formed in the metal support member.

その後、パターニングされた配線層を覆うように、ポリイミド前駆体溶液をダイコーターでコーティングした。乾燥後、レジスト製版し現像と同時にポリイミド前駆体膜をエッチングし、その後、窒素雰囲気下、加熱することにより硬化(イミド化)させ、カバー層を形成した(図16(c))。次に、絶縁部材をパターニングするために、レジスト製版し、露出する部位のポリイミド樹脂をウェットエッチングで除去し、絶縁層端部を有する絶縁層を形成した(図16(d))。得られた絶縁層端部の長さ(図8におけるL)は、25μmであった。 Thereafter, the polyimide precursor solution was coated with a die coater so as to cover the patterned wiring layer. After drying, resist engraving was performed and the polyimide precursor film was etched simultaneously with development, and then cured (imidized) by heating in a nitrogen atmosphere to form a cover layer (FIG. 16C). Next, in order to pattern the insulating member, resist plate-making was performed, and the exposed polyimide resin was removed by wet etching to form an insulating layer having an insulating layer end (FIG. 16D). The length of the obtained insulating layer end (L 1 in FIG. 8) was 25 μm.

その後、電解めっき法により、配線層の端子部にAuめっき部を形成した。最後に、金属支持部材にウェットエッチングを行い、タング部、支持アーム部、アウトリガー部を有する金属支持基板を形成すると同時に、貫通部を形成した(図16(e))。これにより、サスペンション用基板を得た。得られた貫通部の長さ(図8におけるL)は、45μmであった。 Thereafter, an Au plating portion was formed on the terminal portion of the wiring layer by electrolytic plating. Finally, wet etching was performed on the metal support member to form a metal support substrate having a tongue portion, a support arm portion, and an outrigger portion, and at the same time, a penetration portion was formed (FIG. 16E). As a result, a suspension substrate was obtained. The length of the obtained through portion (L 2 in FIG. 8) was 45 μm.

1…金属支持基板、 1a…タング部、 1b…支持アーム部、 1c…アウトリガー部、 1d…フロントアーム部、 1a…リアアーム部、 2…絶縁層、 2a…絶縁層端部、 3…配線層、 3a…端子部、 4…カバー層、 5…リミッタ、 6…枕部、 11…素子実装領域、 12…外部回路基板接続領域、 13…配線層、 20…サスペンション用基板、 21…ロードビーム、 22…ディンプル、 31…素子、 32…半田接合部、 33…ソルダージェット装置、 34…溶融した半田ボール、 X…開口領域   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Metal support board | substrate, 1a ... tongue part, 1b ... support arm part, 1c ... outrigger part, 1d ... front arm part, 1a ... rear arm part, 2 ... insulating layer, 2a ... insulating layer edge part, 3 ... wiring layer, 3 ... Terminal part, 4 ... Cover layer, 5 ... Limiter, 6 ... Pillow part, 11 ... Device mounting area, 12 ... External circuit board connection area, 13 ... Wiring layer, 20 ... Suspension board, 21 ... Load beam, 22 DESCRIPTION OF SYMBOLS ... Dimple, 31 ... Element, 32 ... Solder junction part, 33 ... Solder jet apparatus, 34 ... Molten solder ball, X ... Opening area | region

Claims (7)

金属支持基板と、前記金属支持基板上に形成された絶縁層と、前記絶縁層上に形成された配線層とを有するサスペンション用基板であって、
前記配線層は、素子と電気的に接続する端子部を有し、
前記絶縁層は、前記端子部の端面よりも張り出し、かつ、前記素子を支持する絶縁層端部を有し、
前記金属支持基板は、タング部を有し、
前記絶縁層端部および前記タング部の間に、両者が平面視上重ならない貫通部が形成されていることを特徴とするサスペンション用基板。
A suspension substrate having a metal support substrate, an insulating layer formed on the metal support substrate, and a wiring layer formed on the insulating layer,
The wiring layer has a terminal portion that is electrically connected to the element,
The insulating layer protrudes from the end surface of the terminal portion, and has an insulating layer end portion that supports the element,
The metal support substrate has a tongue portion,
A suspension substrate, wherein a penetrating portion that does not overlap in plan view is formed between the insulating layer end portion and the tongue portion.
前記金属支持基板は、前記タング部と、前記タング部を支持する支持アーム部と、前記タング部との間に開口領域を介して配置されたアウトリガー部とを有し、
前記絶縁層および前記配線層は、前記支持アーム部上を通過するように形成され、
前記支持アーム部よりも先端側において、前記端子部が形成されていることを特徴とする請求項1に記載のサスペンション用基板。
The metal support board includes the tongue portion, a support arm portion that supports the tongue portion, and an outrigger portion that is disposed between the tongue portion via an opening region,
The insulating layer and the wiring layer are formed so as to pass over the support arm portion,
The suspension substrate according to claim 1, wherein the terminal portion is formed on a tip side of the support arm portion.
請求項1または請求項2に記載のサスペンション用基板と、前記サスペンション用基板の前記金属支持基板側の表面に設けられたロードビームと、を有することを特徴とするサスペンション。   A suspension board comprising: the suspension substrate according to claim 1; and a load beam provided on a surface of the suspension substrate on the metal support substrate side. 請求項3に記載のサスペンションと、前記サスペンションに配置された素子と、前記端子部および前記素子を電気的に接続する半田接合部と、を有することを特徴とする素子付サスペンション。   4. A suspension with an element, comprising: the suspension according to claim 3; an element disposed on the suspension; and a solder joint that electrically connects the terminal portion and the element. 請求項4に記載の素子付サスペンションを有することを特徴とするハードディスクドライブ。   A hard disk drive comprising the suspension with an element according to claim 4. 金属支持部材と、前記金属支持部材上に形成された絶縁部材と、前記絶縁部材上に形成された導体部材とを有する積層部材を準備する積層部材準備工程と、
前記導体部材をエッチングし、素子と電気的に接続する端子部を有する配線層を形成する配線層形成工程と、
前記絶縁部材をエッチングし、前記端子部の端面よりも張り出し、かつ、前記素子を支持する絶縁層端部を有する絶縁層を形成する絶縁層形成工程と、
前記金属支持部材をエッチングし、タング部を有する金属支持基板を形成する金属支持基板形成工程と、を有し、
前記絶縁層端部および前記タング部の間に、両者が平面視上重ならない貫通部を形成することを特徴とするサスペンション用基板の製造方法。
A laminated member preparing step of preparing a laminated member having a metal supporting member, an insulating member formed on the metal supporting member, and a conductor member formed on the insulating member;
A wiring layer forming step of etching the conductor member to form a wiring layer having a terminal portion electrically connected to the element;
An insulating layer forming step of etching the insulating member, projecting from an end face of the terminal portion, and forming an insulating layer having an insulating layer end portion supporting the element;
A metal support substrate forming step of etching the metal support member to form a metal support substrate having a tongue portion,
A method for manufacturing a suspension substrate, wherein a through-portion is formed between the end portion of the insulating layer and the tongue portion so that they do not overlap in plan view.
請求項3に記載のサスペンションに素子を配置し、ソルダージェット法により、前記端子部および前記素子を電気的に接続する半田接合部を形成する半田接合部形成工程を有することを特徴とする素子付サスペンションの製造方法。   An element is disposed on the suspension according to claim 3, and has a solder joint forming step for forming a solder joint for electrically connecting the terminal part and the element by a solder jet method. Suspension manufacturing method.
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