JP2012193224A - Polyestylene-based porous film - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polyestylene-based porous film having good optical reflection characteristics.SOLUTION: The polyestylene-based porous film is a film having pores obtained when a film obtained by using a polyestylen-based resin composition including a component (A) and a component (B) is extended in at least one direction, wherein the component (A) is a stylene-based resin, and the component (B) is a polypropylene-based resin whose heat quantity of crystallization measured when it is heated to 200°C at a heating rate of 10°C/min, held at 200°C for 5 min and thereafter cooled to a room temperature at a cooling rate of 10°C/min using a differential scanning calorimeter is ≤40 J/g. The pores are required to satisfy the following conditions: (a) the average major axis cell diameter of the pore is in the range of 0.1 to 1.0 μm; (b) the aspect ratio (average value) of the pore is in the range of 1.0 to 6.0; and (c) the cell density of the pore is in the range of 1.0E+10 to 1.0E+12.

Description

本発明は、ポリスチレン系多孔性フィルムに関し、特に、反射シートとして用いられるポリスチレン系多孔性フィルムに関する。   The present invention relates to a polystyrene-based porous film, and particularly to a polystyrene-based porous film used as a reflective sheet.

近年、液晶表示装置用の反射板、投影用スクリーンや面状光源の部材、照明器具用反射板、及び照明看板用反射板等の分野で、反射シートが使用されている。例えば、液晶表示装置のディスプレイ用反射板では、装置の大型化及び表示性能の高度化の要求から、少しでも多くの光を液晶に供給するべくバックライトユニットの性能向上のために反射性能の高い反射シートが求められている。   In recent years, reflective sheets have been used in fields such as reflectors for liquid crystal display devices, projection screens and planar light source members, reflectors for lighting fixtures, and reflectors for lighting signs. For example, a reflective plate for a display of a liquid crystal display device has a high reflection performance in order to improve the performance of the backlight unit so as to supply as much light as possible to the liquid crystal due to the demand for larger size of the device and higher display performance. There is a need for a reflective sheet.

反射シートとして、例えば、特許文献1には、脂肪族ポリエステル系樹脂に酸化チタン等の微粉状充填剤を添加した内部に空隙を有する反射フィルムが開示されており、特許文献2には、芳香族ポリエステル樹脂に高融点の非相溶ポリマーを添加し、延伸させてシート内に微細気泡を形成させて光拡散反射を生じさせた白色ポリエステルフィルムが開示されている。また、例えば、特許文献3には、ポリプロピレン樹脂に無機充填剤を添加して延伸させた多孔性樹脂シートが開示されている。これらの反射シートは、充填剤等を添加して延伸することにより、充填剤等とマトリックスとの間に空孔が形成されて、光学反射特性が付与されている。   As a reflective sheet, for example, Patent Document 1 discloses a reflective film having voids inside by adding a fine powder filler such as titanium oxide to an aliphatic polyester resin, and Patent Document 2 discloses an aromatic film. A white polyester film is disclosed in which an incompatible polymer having a high melting point is added to a polyester resin and stretched to form fine bubbles in the sheet to cause light diffuse reflection. For example, Patent Document 3 discloses a porous resin sheet obtained by adding an inorganic filler to a polypropylene resin and stretching it. These reflective sheets are stretched by adding a filler or the like, whereby pores are formed between the filler or the like and the matrix to impart optical reflection characteristics.

上記方法以外でも、シート内に空孔を形成させる方法があり、例えば、化学発泡法や物理発泡法による発泡技術が挙げられる。化学発泡法は、低分子量の化学発泡剤をベース樹脂に混合し、発泡剤の分解温度以上に加熱することにより発泡成形する方法である。また、物理発泡法は、ブタン等の低沸点有機化合物をベース樹脂に供給して混練した後、低圧域に押し出すことにより発泡する方法である。物理発泡法は、樹脂中への発泡剤の添加量を調整すれば、低倍率から高倍率まで種々の発泡体を容易に製造できるという特徴を有する。   In addition to the above method, there is a method of forming pores in the sheet, and examples thereof include a foaming technique using a chemical foaming method or a physical foaming method. The chemical foaming method is a method of foam molding by mixing a low molecular weight chemical foaming agent into a base resin and heating it above the decomposition temperature of the foaming agent. The physical foaming method is a method of foaming by supplying a low-boiling organic compound such as butane to a base resin and kneading, and then extruding it into a low-pressure region. The physical foaming method has a feature that various foams can be easily produced from a low magnification to a high magnification by adjusting the amount of the foaming agent added to the resin.

一般的に化学発泡法では、化学発泡剤の種類によっては分解時の残留物が生じることがあり、そのため、得られる発泡体が変色したり、食品衛生上等の問題を生じやすい。また、化学発泡剤自体が粒度分布を有しているため、樹脂を溶融押出すると、得られる成形体の厚みは密度が不均一になる等の問題が生じる。   In general, in the chemical foaming method, depending on the type of chemical foaming agent, a residue at the time of decomposition may be generated. Therefore, the obtained foam is likely to be discolored or easily cause problems such as food hygiene. In addition, since the chemical foaming agent itself has a particle size distribution, when the resin is melt-extruded, there arises a problem that the thickness of the resulting molded product becomes non-uniform in density.

また、一般的に物理発泡では得られる多孔体の空孔サイズが大きく、反射シートとしては所望する反射特性を得ることができないものであった。   In general, the pore size of the porous body obtained by physical foaming is large, and the reflective properties desired as a reflective sheet cannot be obtained.

このような物理発泡法に対して、発泡体の気泡を極微細化することにより、発泡倍率の増加に伴う強度低下の抑制または強度の向上を図ることが可能な技術としてマイクロセルラープラスチックと呼ばれる技術がある。この技術は、具体的には(1)高圧容器内で熱可塑性樹脂に窒素や二酸化炭素などの不活性ガスを高圧もしくは超臨界状態で浸透させ、次いで(2)不活性ガスを浸透させた熱可塑性樹脂を高圧容器より取り出し、オイルバス等で熱可塑性樹脂のガラス転移温度以上の温度まで昇温し、(3)核生成を誘発して気泡成長させることにより微細気泡の発泡体を得る方法である。   A technology called microcellular plastic as a technology capable of suppressing the strength reduction or the strength improvement accompanying the increase in the foaming ratio by making the foam bubbles extremely fine against such a physical foaming method. There is. Specifically, this technique is as follows: (1) An inert gas such as nitrogen or carbon dioxide is permeated into a thermoplastic resin in a high-pressure or supercritical state in a high-pressure vessel, and then (2) heat is permeated with the inert gas. By taking out the plastic resin from the high-pressure vessel and raising the temperature to a temperature equal to or higher than the glass transition temperature of the thermoplastic resin with an oil bath or the like, and (3) a method of obtaining a fine-bubble foam by inducing nucleation and growing bubbles. is there.

上記技術を用いてなる発泡体としては、例えば特許文献4に超臨界状態の流体を樹脂組成物内に浸透させ、核生成を誘発して形成された多孔構造を有する樹脂発泡体を含む光反射部材が開示されている。この技術を用いれば、光反射効率が従来の反射部材と比較して優れたものが得られるが、樹脂組成物中に超臨界状態の流体を浸透させるのに時間がかかるため生産効率が悪いという問題があった。   Examples of the foam using the above technique include a light reflection including a resin foam having a porous structure formed by infiltrating a supercritical fluid into a resin composition and inducing nucleation in Patent Document 4, for example. A member is disclosed. If this technology is used, a light reflection efficiency superior to that of a conventional reflection member can be obtained. However, it takes time to infiltrate a fluid in a supercritical state into the resin composition, so that the production efficiency is poor. There was a problem.

WO2004/104077WO2004 / 104077 特開平4−239540号公報JP-A-4-239540 特開平11−174213号公報JP-A-11-174213 特開2006−146120号公報JP 2006-146120 A

本発明の目的は、光学反射特性が良好なポリスチレン系多孔性フィルムを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a polystyrene-based porous film having good optical reflection characteristics.

本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、特定のポリスチレン系樹脂組成物を用いてなるフィルムを少なくとも1方向に延伸して空孔を形成し、多孔性フィルムとすることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies, the present inventors solved the above problem by forming pores by stretching a film made of a specific polystyrene-based resin composition in at least one direction, thereby forming a porous film. The present inventors have found that this can be done and have completed the present invention.

すなわち、本発明のポリスチレン系多孔性フィルムは、
(A)成分と(B)成分とを含むポリスチレン系樹脂組成物を用いて成るフィルムを、少なくとも1方向に延伸した空孔を有するフィルムであり、該(A)成分がポリスチレン系樹脂であり、該(B)成分が示差走査熱量計を用いて、加熱速度10℃/分で200℃まで昇温し、200℃で5分間保持した後、冷却速度10℃/分で室温まで降温した時に測定される結晶化熱量が40J/g以下であるポリプロピレン系樹脂であり、かつ、
(a)該空孔の平均長径セル径が0.1〜1.0μmの範囲内であり、
(b)該空孔のアスペクト比(平均値)が1.0〜6.0の範囲内であり、
(c)該空孔のセル密度(g/cm)が1.0E+10〜1.0E+12の範囲内であることを特徴とする。
That is, the polystyrene-based porous film of the present invention is
A film comprising a polystyrene resin composition containing the component (A) and the component (B) is a film having pores stretched in at least one direction, and the component (A) is a polystyrene resin. Measured when the component (B) was heated to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min using a differential scanning calorimeter, held at 200 ° C. for 5 minutes, and then cooled to room temperature at a cooling rate of 10 ° C./min. A polypropylene resin having a crystallization heat amount of 40 J / g or less, and
(A) The average major axis cell diameter of the pores is in the range of 0.1 to 1.0 μm,
(B) the aspect ratio (average value) of the pores is in the range of 1.0 to 6.0;
(C) The cell density (g / cm 3 ) of the holes is in the range of 1.0E + 10 to 1.0E + 12.

ここで、前記ポリスチレン系樹脂組成物の(A)成分と(B)成分との割合は、質量比で、(A)/(B)=55〜80/20〜45(但し、(A)+(B)=100)であることが好ましい。   Here, the ratio of the (A) component and the (B) component of the polystyrene-based resin composition is (A) / (B) = 55-80 / 20-45 (provided that (A) + (B) = 100) is preferable.

前記ポリスチレン系樹脂組成物は、(C)成分としてビニル芳香族化合物と共役ジエン化合物との共重合体を、更に含有することが好ましい。   The polystyrene resin composition preferably further contains a copolymer of a vinyl aromatic compound and a conjugated diene compound as the component (C).

ここで、該(A)成分と該(B)成分と該(C)成分との割合は、質量比で、(A)/(B)/(C)=50〜80/20〜45/1〜20(但し、(A)+(B)=100)であることが好ましい。   Here, the ratio of the component (A), the component (B), and the component (C) is a mass ratio, and (A) / (B) / (C) = 50-80 / 20-45 / 1. It is preferable that it is -20 (however, (A) + (B) = 100).

本発明においては、前記ポリスチレン系樹脂組成物が、動的粘弾性測定により周波数10Hzで測定した時の損失正接のピーク温度が少なくとも2つ存在し、かつ、低温側のピーク温度が−100℃〜−30℃の範囲内に存在し、かつ高温側のピーク温度が100〜150℃の範囲内に存在することが好ましい。   In the present invention, the polystyrene-based resin composition has at least two loss tangent peak temperatures when measured at a frequency of 10 Hz by dynamic viscoelasticity measurement, and the peak temperature on the low temperature side is from −100 ° C. to It is preferable that it exists in the range of -30 degreeC, and the peak temperature of a high temperature side exists in the range of 100-150 degreeC.

本発明によれば、優れた光反射特性を備えたポリスチレン系多孔性フィルムを得ることができた。   According to the present invention, a polystyrene-based porous film having excellent light reflection characteristics could be obtained.

図1は、実施例1で得られたポリスチレン系多孔性フィルムの空孔の状態を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the state of pores in the polystyrene-based porous film obtained in Example 1. FIG.

以下、本発明について詳しく説明する。
なお、本発明において、「主成分」と表記した場合には、特にことわりのない限り、当該主成分の機能を妨げない範囲で他の成分を含有することを許容する意を包含し、特に当該主成分の含有割合を限定するものではないが、主成分とは例えば組成物中の50質量%以上、好ましくは70質量%以上、特に好ましくは90質量%以上(100質量%も含む)を占めることをいう。
The present invention will be described in detail below.
In the present invention, the expression “main component” includes the intention to allow other components to be contained within a range that does not interfere with the function of the main component, unless otherwise specified. Although the content ratio of the main component is not limited, the main component is, for example, 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more, particularly preferably 90% by mass or more (including 100% by mass) in the composition. That means.

また、「X〜Y」(X,Yは任意の数字)と表記した場合には、特にことわりのない限り「X以上Y以下」の意と共に、「好ましくはXより大きい」及び「好ましくはYより小さい」の意を包含するものとする。ここで、本発明における数値範囲の上限値及び下限値は、本発明が特定する数値範囲内から僅かに外れる場合であっても、当該数値範囲内と同様の作用効果を備えている限り本発明の均等範囲に包含する。   In addition, when expressed as “X to Y” (X and Y are arbitrary numbers), “X is preferably greater than X” and “preferably Y”, with the meaning of “X to Y” unless otherwise specified. It is meant to include “less than”. Here, the upper limit value and the lower limit value of the numerical range in the present invention are not limited to those within the numerical range specified by the present invention. It is included in the equivalent range.

本発明のポリスチレン系多孔性フィルムは、(A)成分と(B)成分とを主成分として含むポリスチレン系樹脂組成物を用いて成る。この(A)成分は、ポリスチレン系樹脂であり、(B)成分は、示差走査熱量計を用いて加熱速度10℃/分で200℃まで昇温し、200℃で5分間保持した後、冷却速度10℃/分で室温まで降温した時に測定される結晶化熱量が40J/g以下であるポリプロピレン系樹脂である。なお、本発明では、「フィルム」と称する場合には肉厚が比較的厚い500μm以上のものも含み、フィルムと称してもシートの概念も含むものとする。   The polystyrene-based porous film of the present invention is formed by using a polystyrene-based resin composition containing (A) component and (B) component as main components. The component (A) is a polystyrene resin, and the component (B) is heated to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min using a differential scanning calorimeter, held at 200 ° C. for 5 minutes, and then cooled. This is a polypropylene resin having a crystallization heat amount of 40 J / g or less measured when the temperature is lowered to room temperature at a rate of 10 ° C./min. In the present invention, the term “film” includes a relatively thick film having a thickness of 500 μm or more, and the term “film” includes the concept of a sheet.

(A)成分と(B)成分との混合割合は、質量比で、(A)/(B)=55〜80/20〜45(但し、(A)+(B)=100)であることが好ましい。(A)成分と(B)成分との配合割合がかかる範囲内であれば、延伸により空孔を形成することができる。なお、上記範囲外であっても空孔を形成することができる場合があり、それについては後述する。   The mixing ratio of the component (A) and the component (B) is (A) / (B) = 55-80 / 20-45 (provided that (A) + (B) = 100) in mass ratio. Is preferred. If the blending ratio of the component (A) and the component (B) is within such a range, pores can be formed by stretching. In addition, a void | hole can be formed even if it is out of the said range, and it mentions later.

(A)成分を構成するポリスチレン系樹脂は、例えば、スチレンのみからなる単独重合体が挙げられ、GPPS(General Purpose Polystyrene)等が代表的なものとして例示される。また、ポリスチレン系樹脂には共重合体も含まれ、スチレンに、アクリロニトリル、メチルメタクリレート、ブチルアクリレート等の共重合体成分を20モル%以下程度の範囲で共重合させた共重合体、あるいは、スチレンにメタクリル酸を共重合させた耐熱性を有するポリスチレン系共重合体、あるいは、ポリスチレンに少量のブタジエンゴム粒子を混合したもの、いわゆる耐衝撃性ポリスチレン(HIPS)等も用いることができる。   Examples of the polystyrene-based resin constituting the component (A) include a homopolymer composed only of styrene, and GPPS (General Purpose Polystyrene) is exemplified as a representative one. The polystyrene resin also includes a copolymer. A copolymer obtained by copolymerizing styrene with a copolymer component such as acrylonitrile, methyl methacrylate, or butyl acrylate in a range of about 20 mol% or less, or styrene. It is also possible to use a heat-resistant polystyrene copolymer obtained by copolymerizing methacrylic acid, or a mixture of polystyrene with a small amount of butadiene rubber particles, so-called impact-resistant polystyrene (HIPS).

上記したように、(B)成分は示差走査熱量計を用いて加熱速度10℃/分で200℃まで昇温し、200℃で5分間保持した後、冷却速度10℃/分で室温まで降温した時に測定される結晶化熱量(ΔHc)が40J/g以下であるポリプロピレン系樹脂である。   As described above, the component (B) was heated to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min using a differential scanning calorimeter, held at 200 ° C. for 5 minutes, and then cooled to room temperature at a cooling rate of 10 ° C./min. It is a polypropylene resin having a crystallization heat quantity (ΔHc) of 40 J / g or less.

本発明に用いられるポリプロピレン系樹脂(B)は、延伸による多孔化のし易さの観点より、結晶化熱量(ΔHc)が40J/g以下であることが重要である。本発明では、一般的なポリプロピレン系樹脂(結晶化熱量ΔHc>40J/gであり、通常ΔHcが60〜100J/g程度)よりも低い結晶化熱量を有する特定のポリプロピレン系樹脂(B)を使用しているので、ポリスチレン系樹脂(A)との弾性率差が大きくなり、延伸による多孔化が向上し易くなる。延伸による多孔化のし易さをより向上させるという観点からは、ポリプロピレン系樹脂(B)の結晶化熱量(ΔHc)は30J/g以下であることが好ましく、25J/g以下であることが更に好ましく、20J/g以下であることが特に好ましい。また結晶化熱量が発現しない非晶性のポリプロピレン系樹脂も好適に用いることができる。   It is important for the polypropylene resin (B) used in the present invention that the amount of crystallization heat (ΔHc) is 40 J / g or less from the viewpoint of easy porosity by stretching. In the present invention, a specific polypropylene resin (B) having a crystallization heat quantity lower than that of a general polypropylene resin (crystallization heat quantity ΔHc> 40 J / g and usually ΔHc is about 60 to 100 J / g) is used. Therefore, the difference in elastic modulus from the polystyrene resin (A) is increased, and the porosity due to stretching is easily improved. From the viewpoint of further improving the easiness of porosity formation by stretching, the heat of crystallization (ΔHc) of the polypropylene resin (B) is preferably 30 J / g or less, and more preferably 25 J / g or less. Preferably, it is particularly preferably 20 J / g or less. Also, an amorphous polypropylene resin that does not express the amount of crystallization heat can be suitably used.

ポリプロピレン系樹脂(B)の結晶化熱量(ΔHc)を40J/g以下に設定するための手段としては、例えば、共集合体とする手段や、立体規則性を低減させる手段などが好適なものとして挙げられる。前者の手段に好適に用いられるポリプロピレン系樹脂の共重合体としては、例えば、プロピレン−α−オレフィン共重合体が挙げられる。この共重合成分であるα−オレフィンとしては、好ましくは炭素数2乃至20のα−オレフィンが挙げられ、具体的には、エチレン、1−ブテン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセンなどが例示される。本発明においては、結晶化熱量を40J/g以下に設定し易くするという観点から、α−オレフィン単位の含有量が5質量%以上、好ましくは7質量%以上30質量%以下であるプロピレン−α−オレフィン共重合体が好適に用いられる。また共重合成分であるα−オレフィンは、1種のみを単独で、又は2種以上を組み合わせて用いても構わない。   As a means for setting the heat of crystallization (ΔHc) of the polypropylene resin (B) to 40 J / g or less, for example, a means for forming a co-aggregate or a means for reducing stereoregularity is preferable. Can be mentioned. Examples of the polypropylene resin copolymer suitably used for the former means include a propylene-α-olefin copolymer. The α-olefin as the copolymer component is preferably an α-olefin having 2 to 20 carbon atoms, specifically, ethylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-heptene, Examples include 1-octene, 1-nonene, 1-decene and the like. In the present invention, from the viewpoint of facilitating setting the crystallization heat quantity to 40 J / g or less, the content of α-olefin units is 5% by mass or more, preferably 7% by mass or more and 30% by mass or less. -Olefin copolymers are preferably used. Moreover, you may use the alpha-olefin which is a copolymerization component individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

本発明においては、延伸による多孔化のし易さと耐熱性とのバランス、及び、工業的に比較的容易に入手可能であること等を考慮すると、ポリプロピレン系樹脂(B)としてプロピレン−エチレンランダム共重合体を用いることが好ましい。   In the present invention, considering the balance between easiness of porosity by stretching and heat resistance, and the fact that it is relatively easy to obtain industrially, etc., a propylene-ethylene random copolymer is used as the polypropylene resin (B). It is preferable to use a polymer.

本発明において、プロピレン系樹脂(B)のメルトフローレート(MFR)は、特に制限されるものではないが、通常、MFR(JIS K7210、温度:230℃、荷重:21.18N)が0.5g/10分以上、好ましくは1.0g/10分以上であり、15g/10分以下、好ましくは10g/10分以下であるものが用いられる。ここで、MFRは、溶融混練性を考慮した場合、ポリスチレン系樹脂(A)に近い溶融粘度の材料を選ぶことが好ましい。   In the present invention, the melt flow rate (MFR) of the propylene-based resin (B) is not particularly limited, but is usually 0.5 g of MFR (JIS K7210, temperature: 230 ° C., load: 21.18 N). / 10 minutes or more, preferably 1.0 g / 10 minutes or more, and 15 g / 10 minutes or less, preferably 10 g / 10 minutes or less. Here, considering the melt kneadability, it is preferable to select a material having a melt viscosity close to that of the polystyrene resin (A).

上記ポリプロピレン系樹脂(B)の製造方法としては、特に限定されるものではなく、公知のオレフィン重合用触媒を用いた公知の重合方法、例えばチーグラー・ナッタ型触媒に代表されるマルチサイト触媒やメタロセン系触媒に代表されるシングルサイト触媒を用いた、スラリー重合、溶融重合法、塊状重合法、気相重合法、またラジカル開始剤を用いた塊状重合法などが挙げられる。   The method for producing the polypropylene resin (B) is not particularly limited, and a known polymerization method using a known olefin polymerization catalyst, for example, a multisite catalyst represented by a Ziegler-Natta type catalyst or a metallocene. Examples thereof include slurry polymerization, melt polymerization, bulk polymerization, gas phase polymerization using a single site catalyst typified by a system catalyst, and bulk polymerization using a radical initiator.

本発明におけるポリスチレン系樹脂組成物を用いて形成された成形体は、ポリスチレン系樹脂(A)のマトリックスとポリプロピレン系樹脂(B)のドメインからなる海島構造を有するものである。本発明においては、該ドメインの平均粒径(ドメインサイズ)が0.5〜3.0μmの範囲内にあることが好ましく、0.5〜2.0μmの範囲内であることが更に好ましい。本発明において、ドメインサイズとは、ドメインの直径の平均値を言う。本発明において、ドメインサイズは、形成された成形体に染色前処理(Ru4気相染色)を施し、透過電子顕微鏡(日本電子製のJEM−1200EX)を用いて、成形体の断面中心付近を観察し、無造作に100個のドメインを選択して直径を測定し、その平均値を求めることにより得られる。   The molded body formed using the polystyrene resin composition in the present invention has a sea-island structure comprising a polystyrene resin (A) matrix and a polypropylene resin (B) domain. In the present invention, the average particle size (domain size) of the domains is preferably in the range of 0.5 to 3.0 μm, and more preferably in the range of 0.5 to 2.0 μm. In the present invention, the domain size refers to an average value of domain diameters. In the present invention, the domain size is obtained by subjecting the formed molded body to pre-dyeing treatment (Ru4 gas phase dyeing) and observing the vicinity of the cross-sectional center of the molded body using a transmission electron microscope (JEM-1200EX manufactured by JEOL). Then, it is obtained by randomly selecting 100 domains, measuring the diameter, and determining the average value.

本発明においては、海島構造におけるドメインの大きさ(粒径)を制御し易くするために、ポリスチレン系樹脂組成物には、ポリスチレン系樹脂(A)およびポリプロピレン系樹脂(B)のほかに、さらに(C)成分としてビニル芳香族化合物と共役ジエン化合物との共重合体が混合されていることが好ましい。該(C)成分を更に混合することにより、(A)成分中の(B)成分であるドメインの大きさ(粒径)を容易に調整することができるようになる。(A)成分と(B)成分と(C)成分との混合割合は、質量比で、(A)/(B)/(C)=55〜80/20〜45/1〜20(但し、(A)+(B)=100)であることが好ましい。   In the present invention, in order to easily control the size (particle size) of the domain in the sea-island structure, the polystyrene-based resin composition includes, in addition to the polystyrene-based resin (A) and the polypropylene-based resin (B), As the component (C), a copolymer of a vinyl aromatic compound and a conjugated diene compound is preferably mixed. By further mixing the component (C), the size (particle size) of the domain as the component (B) in the component (A) can be easily adjusted. The mixing ratio of the component (A), the component (B), and the component (C) is a mass ratio of (A) / (B) / (C) = 55-80 / 20-45 / 1-20 (however, (A) + (B) = 100) is preferable.

上記ビニル芳香族化合物と共役ジエン化合物との共重合体(C)を構成するビニル芳香族化合物としては、スチレンが代表的なものであるが、α−メチルスチレンなどのスチレン同族体も用いることができる。また(C)成分を構成する共役ジエン化合物としては、1,3−ブタジエン、イソプレン、1,3−ペンタジエン等を用いることができる。本発明におけるビニル芳香族と共役ジエン化合物との共重合体(C)は、第3成分として、ビニル芳香族化合物及び共役ジエン化合物以外の成分を少量含んでいてもよい。また、上記ビニル芳香族化合物と共役ジエン化合物との共重合体(C)は、共重合体の二重結合部分に水素を添加した水添誘導体でも良い。   As the vinyl aromatic compound constituting the copolymer (C) of the vinyl aromatic compound and the conjugated diene compound, styrene is representative, but a styrene homologue such as α-methylstyrene may also be used. it can. As the conjugated diene compound constituting the component (C), 1,3-butadiene, isoprene, 1,3-pentadiene and the like can be used. The copolymer (C) of the vinyl aromatic and the conjugated diene compound in the present invention may contain a small amount of components other than the vinyl aromatic compound and the conjugated diene compound as the third component. The copolymer (C) of the vinyl aromatic compound and the conjugated diene compound may be a hydrogenated derivative in which hydrogen is added to the double bond portion of the copolymer.

ビニル芳香族化合物と共役ジエン化合物との共重合体としては、例えば、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体(SBS)、スチレン−ブタジエン・ブチレン−スチレンブロック共重合体(SBBS)、スチレン−エチレン・ブチレン−スチレンブロック共重合体(SEBS)、スチレン−エチレン・ブチレンブロック共重合体(SEB)、スチレン−エチレン・プロピレン−スチレンブロック共重合体(SEPS)、スチレン−エチレン・プロピレンブロック共重合体(SEP)、スチレン−イソプレン−スチレン共重合体(SIS)、および、その他ランダムSBRの水素添加ポリマー(HSBR)等が挙げられる。本発明においては、(A)成分中の(B)成分のドメインの大きさ(粒径)の調整の観点から、ビニル芳香族化合物と共役ジエン化合物との共重合体(C)としてスチレン−ブタジエン・ブチレン−スチレンブロック共重合体(SBBS)を用いることが好ましく、スチレン含有量が20〜80質量%となるSBBSが更に好ましく、スチレン含有量が60〜80質量%となるSBBSが特に好ましく用いられる。   Examples of the copolymer of the vinyl aromatic compound and the conjugated diene compound include styrene-butadiene-styrene block copolymer (SBS), styrene-butadiene-butylene-styrene block copolymer (SBBS), styrene-ethylene, Butylene-styrene block copolymer (SEBS), styrene-ethylene-butylene block copolymer (SEB), styrene-ethylene-propylene-styrene block copolymer (SEPS), styrene-ethylene-propylene block copolymer (SEP) ), Styrene-isoprene-styrene copolymer (SIS), and other random SBR hydrogenated polymers (HSBR). In the present invention, from the viewpoint of adjusting the domain size (particle size) of the component (B) in the component (A), styrene-butadiene is used as the copolymer (C) of the vinyl aromatic compound and the conjugated diene compound. -It is preferable to use a butylene-styrene block copolymer (SBBS), more preferably SBBS having a styrene content of 20 to 80% by mass, and particularly preferably SBBS having a styrene content of 60 to 80% by mass. .

本発明におけるポリスチレン系樹脂組成物は、動的粘弾性測定により周波数10Hzで測定した損失正接のピーク温度が少なくとも2つ存在し、かつ、低温側のピーク温度が−100℃〜−30℃の範囲に存在し、高温側のピーク温度が100℃〜150℃の範囲に存在することが好ましい。なお、本発明における損失正接のピーク温度とは、損失正接(tanδ)がピーク値(極大値)を示す温度のことである。損失正接のピーク温度が上記範囲に少なくとも2つ存在することにより、延伸性と延伸による多孔化のし易さとを両立できるようになる。すなわち、損失正接のピーク温度が低温側(−100℃〜−30℃)に少なくとも1つ以上存在すれば、少なくとも1方向に延伸した際に良好な延伸性を示し、延伸時にフィルムの破断トラブルが生じにくくなり、高温側(100℃〜150℃)にピーク温度が少なくとも1つ以上存在すれば、延伸時の多孔化のし易さが良好になると共に、得られるポリスチレン系多孔性フィルムの耐熱性が良好になる。本発明においては、上記損失正接のピーク温度は3つ以上存在しても構わないが、現実的な損失正接のピーク温度の個数の上限は5つである。   The polystyrene-based resin composition in the present invention has at least two loss tangent peak temperatures measured at a frequency of 10 Hz by dynamic viscoelasticity measurement, and the peak temperature on the low temperature side is in the range of −100 ° C. to −30 ° C. The peak temperature on the high temperature side is preferably in the range of 100 ° C to 150 ° C. In the present invention, the loss tangent peak temperature is a temperature at which the loss tangent (tan δ) exhibits a peak value (maximum value). When at least two peak temperatures of loss tangent exist in the above range, both stretchability and easiness of porosity by stretching can be achieved. That is, if at least one peak loss tangent temperature is present on the low temperature side (-100 ° C to -30 ° C), good stretchability is exhibited when stretched in at least one direction, and film breakage troubles occur during stretching. If it becomes difficult to occur and at least one peak temperature exists on the high temperature side (100 ° C. to 150 ° C.), it becomes easy to be porous at the time of stretching and the heat resistance of the resulting polystyrene-based porous film Will be better. In the present invention, there may be three or more peak temperatures of the loss tangent, but the upper limit of the number of peak temperatures of the actual loss tangent is five.

本発明のポリスチレン系多孔性フィルムは、ポリスチレン系樹脂組成物を用いて成形体を形成し、次いで、少なくとも1方向に延伸して空孔を形成することにより得られる。なお、本発明においては、延伸する前のシート状物(シート、フィルム等)を「成形体」と表示する。   The polystyrene-based porous film of the present invention is obtained by forming a molded body using a polystyrene-based resin composition and then stretching in at least one direction to form pores. In the present invention, a sheet-like material (sheet, film, etc.) before stretching is indicated as “molded body”.

以下に、本発明の成形体の製造方法について説明する。本発明の成形体は、公知の方法、例えばTダイを用いる押出キャスト法やカレンダー法、インフレーション法等により製造することができるが、製膜性や生産安定性等の観点からはTダイを用いる押出キャスト法を採用することが好ましい。この押出キャスト法での成形温度は、スチレン系樹脂組成物の流動特性や製膜性等を考慮して適宜調整されることが好ましいが、概ねスチレン系樹脂組成物の流動開始温度以上260℃以下の範囲であることが好ましく、更に好ましくは180℃〜230℃の範囲である。   Below, the manufacturing method of the molded object of this invention is demonstrated. The molded body of the present invention can be produced by a known method, for example, an extrusion casting method using a T die, a calendar method, an inflation method, or the like. From the viewpoint of film forming property, production stability, etc., a T die is used. It is preferable to employ an extrusion casting method. The molding temperature in this extrusion casting method is preferably adjusted as appropriate in consideration of the flow characteristics and film forming properties of the styrene resin composition, but is generally not less than the flow start temperature of the styrene resin composition and not more than 260 ° C. It is preferable that it is the range of 180 degreeC, More preferably, it is the range of 180 to 230 degreeC.

成形体の厚みは、通常300μm〜5mmの範囲であることが好ましい。成形体の厚みが300μm未満では、得られるポリスチレン系多孔性フィルムの光学反射特性が劣る傾向にあり、一方、5mmを越えると、(後述する)延伸時の延伸(応)力が高くなりすぎるので生産性が低下し易い。   The thickness of the molded body is preferably in the range of usually 300 μm to 5 mm. If the thickness of the molded body is less than 300 μm, the optical reflection characteristics of the resulting polystyrene-based porous film tend to be inferior. On the other hand, if it exceeds 5 mm, the stretching (responding) force during stretching (described later) becomes too high. Productivity tends to decrease.

次に本発明の成形体を延伸する方法について説明する。延伸方法としては、従来より公知の種々の方法を採用することができる。例えば、一対以上のロール群を用いて延伸するロール延伸、ロールを用いた圧延、テンターを用いて延伸するテンター延伸等を挙げることができるが、これらの中ではロール延伸及び/又はテンター延伸が、延伸条件の選択幅が広いために単独であるいは組み合わせて適用することができ、少なくとも1方向に延伸することができるので、好適に用いられる。具体的には、ロール延伸等により縦方向(MD)に延伸する一軸延伸法、縦方向への延伸後、引き続きテンター延伸等により横方向(TD)に延伸する逐次二軸延伸法、又はテンター延伸により縦方向および横方向に同時に延伸する同時二軸延伸法が用いられる。   Next, a method for stretching the molded article of the present invention will be described. As the stretching method, conventionally known various methods can be employed. For example, roll stretching that stretches using a pair of rolls, rolling using a roll, tenter stretching that stretches using a tenter, and the like, among these, roll stretching and / or tenter stretching, Since the selection range of stretching conditions is wide, it can be applied alone or in combination, and it can be stretched in at least one direction, so that it is preferably used. Specifically, a uniaxial stretching method for stretching in the machine direction (MD) by roll stretching or the like, a sequential biaxial stretching method for continuously stretching in the transverse direction (TD) by stretching in the longitudinal direction after stretching in the longitudinal direction, or tenter stretching. A simultaneous biaxial stretching method in which stretching is performed simultaneously in the machine direction and the transverse direction is used.

以下に一軸延伸法、逐次二軸延伸法および同時二軸延伸法について説明する。
(一軸延伸法)
一軸延伸法とは、成形体を一方向に延伸する方法である。その延伸温度は10〜100℃であることが好ましく、より好ましくは15〜80℃である。延伸温度が10℃未満では、スチレン系樹脂組成物のガラス転移温度以下となるため、延伸時に脆化し易く、延伸が困難となる場合が多い。一方、延伸温度が100℃を超えると、延伸時の多孔化性が乏しくなり易く、得られるポリスチレン系多孔性フィルムの光学反射特性が大幅に低下し易い。
The uniaxial stretching method, sequential biaxial stretching method and simultaneous biaxial stretching method will be described below.
(Uniaxial stretching method)
The uniaxial stretching method is a method of stretching a molded body in one direction. The stretching temperature is preferably 10 to 100 ° C, more preferably 15 to 80 ° C. When the stretching temperature is less than 10 ° C., it is not higher than the glass transition temperature of the styrenic resin composition, so that it tends to become brittle during stretching and it is often difficult to stretch. On the other hand, when the stretching temperature exceeds 100 ° C., the porosity at the time of stretching tends to be poor, and the optical reflection characteristics of the resulting polystyrene-based porous film are likely to be greatly deteriorated.

また、延伸倍率は、1.3倍〜10倍であることが好ましい。延伸倍率が1.3倍未満では、得られるポリスチレン系多孔性フィルムの多孔構造のムラが大きくなり易く、延伸倍率が10倍を超えると、延伸中に高度に配向して延伸応力が高くなりすぎる傾向にあり、延伸時に破れを生じ易い等の問題が発生したり、得られるフィルムの光学反射特性が逆に悪くなる場合がある。延伸倍率の条件は延伸温度との兼ね合いもあり一概には言えないが1.5倍〜8.0倍が特に好ましく、1.75倍〜5.0倍が更に好ましい。   Moreover, it is preferable that a draw ratio is 1.3 times-10 times. When the draw ratio is less than 1.3 times, the unevenness of the porous structure of the resulting polystyrene-based porous film tends to be large, and when the draw ratio exceeds 10 times, the orientation stress is excessively high due to high orientation during drawing. There is a tendency that the film tends to be broken at the time of stretching, or the optical reflection characteristics of the obtained film may be deteriorated. The condition of the draw ratio is not unequivocally due to the balance with the draw temperature, but is preferably 1.5 times to 8.0 times, more preferably 1.75 times to 5.0 times.

ロール延伸、圧延、テンター延伸等による延伸時の延伸速度は、100〜100,000%/minの範囲であることが好ましく、100〜80,000%/minの範囲が更に好ましく、500〜50,000%/minの範囲が特に好ましい。延伸速度が100%/min未満では工業生産的に非効率であり、100,000%/minを超えると、延伸製膜時のハンドリングが難しくなる等の問題が発生する場合がある。   The stretching speed during stretching by roll stretching, rolling, tenter stretching or the like is preferably in the range of 100 to 100,000% / min, more preferably in the range of 100 to 80,000% / min, and 500 to 50, A range of 000% / min is particularly preferred. If the stretching speed is less than 100% / min, it is inefficient in terms of industrial production. If it exceeds 100,000% / min, problems such as difficulty in handling during stretching film formation may occur.

(逐次二軸延伸法)
逐次二軸延伸法とは、成形体を一方向に延伸(一段目の延伸)した後、該方向とは直角の方向に延伸(二段目の延伸)する方法である。その延伸温度は上述の一軸延伸法と同様の理由から、一段目の延伸および二段目の延伸共に10℃〜150℃であることが好ましく、15℃〜120℃がであることが更に好ましい。
(Sequential biaxial stretching method)
The sequential biaxial stretching method is a method in which the molded body is stretched in one direction (first-stage stretching) and then stretched in a direction perpendicular to the direction (second-stage stretching). The stretching temperature is preferably 10 ° C. to 150 ° C., more preferably 15 ° C. to 120 ° C. for both the first and second stages, for the same reason as in the uniaxial stretching method described above.

延伸倍率は、一段目で1.3倍〜4.0倍に延伸し、二段目で1.5倍〜4倍に延伸することが好ましい。一段目の延伸倍率が1.3倍未満では、得られるポリスチレン系多孔性フィルムの多孔構造のムラが大きくなり易く、光学反射特性が乏しくなる場合があり、一方、延伸倍率が4.0倍を超えると、二段目の延伸時に破断するといったトラブルが発生することがある。   The stretching ratio is preferably 1.3 to 4.0 times in the first stage and 1.5 to 4 times in the second stage. If the stretch ratio of the first stage is less than 1.3 times, unevenness of the porous structure of the resulting polystyrene-based porous film tends to be large and the optical reflection characteristics may be poor, while the stretch ratio is 4.0 times. If it exceeds, troubles such as breakage at the time of second-stage stretching may occur.

逐次二軸延伸法では、一段目の延伸をロール延伸等により縦方向(MD)に延伸し、二段目の延伸をテンター延伸等により横方向(TD)に延伸することができる。   In the sequential biaxial stretching method, the first-stage stretching can be stretched in the machine direction (MD) by roll stretching or the like, and the second-stage stretching can be stretched in the transverse direction (TD) by tenter stretching or the like.

延伸速度については、上述した一軸延伸法と同様の観点から、一軸延伸法と同様の条件が好ましい。また、予熱条件については、延伸温度以下であることが好ましい。予熱温度が延伸温度を超えると延伸時の多孔化性が乏しくなり易く、得られるポリスチレン系多孔性フィルムの光学反射特性が大幅に低下し易くなる場合がある。   About the extending | stretching speed, the conditions similar to the uniaxial stretching method are preferable from the same viewpoint as the uniaxial stretching method mentioned above. Moreover, about preheating conditions, it is preferable that it is below extending | stretching temperature. When the preheating temperature exceeds the stretching temperature, the porosity at the time of stretching tends to be poor, and the optical reflection characteristics of the resulting polystyrene-based porous film may be greatly deteriorated.

(同時二軸延伸法)
同時二軸延伸法とは、成形体を互いに直交する二方向に同時に延伸する方法である。その延伸温度は、上述の一軸延伸法及び逐次二軸延伸法と同様の観点から、10℃〜100℃であることが好ましく、更に好ましくは、15℃〜85℃である。
(Simultaneous biaxial stretching method)
The simultaneous biaxial stretching method is a method in which a molded body is simultaneously stretched in two directions orthogonal to each other. The stretching temperature is preferably 10 ° C to 100 ° C, more preferably 15 ° C to 85 ° C, from the same viewpoint as the uniaxial stretching method and the sequential biaxial stretching method described above.

また、延伸倍率は、面積倍率で1.3倍〜10倍であることが好ましく、更に好ましくは、1.5倍〜10倍である。延伸倍率が1.3倍未満では、得られるポリスチレン系多孔性フィルムの多孔構造のムラが大きくなり易く、光学反射特性が乏しくなる場合があり、延伸倍率が10.0倍を超えると、延伸中に高度に配向し易く、延伸応力が高くなりすぎて延伸時に破れを起こしたりすることがあったり、得られるポリスチレン系多孔性フィルムの光学反射特性が逆に悪くなる場合がある。延伸速度は、上述の一軸延伸法及び逐次二軸延伸法と同様の観点から、同様の速度範囲が好ましい。   In addition, the draw ratio is preferably 1.3 times to 10 times, more preferably 1.5 times to 10 times in terms of area magnification. If the draw ratio is less than 1.3 times, the resulting porous structure of the polystyrene-based porous film is likely to be uneven in the porous structure and optical reflection characteristics may be poor. If the draw ratio exceeds 10.0 times, In some cases, the orientation stress is too high, the stretching stress becomes too high and the film may be broken during stretching, or the optical reflection characteristics of the resulting polystyrene-based porous film may be deteriorated. The stretching speed is preferably in the same speed range from the same viewpoint as the uniaxial stretching method and the sequential biaxial stretching method described above.

本発明のポリスチレン系多孔性フィルムは空孔を有する。空孔は、ポリスチレン系樹脂組成物を用いて形成された成形体を延伸することにより形成される。例えば、上記したように、ポリスチレン系樹脂組成物の(A)成分と(B)成分との混合割合を、質量比で、55〜80/20〜45にすることにより、空孔を形成することができるし、あるいは、(A)成分と(B)成分との混合割合が上記範囲外であっても、(B)成分のドメイン粒径の異方性を所定範囲内とすることにより空孔を形成することができる、すなわち、ポリスチレン系樹脂組成物を用いて形成された成形体中の(B)成分である特定のポリプロピレン系樹脂(示差走査熱量計を用いて加熱速度10℃/分で200℃まで昇温し、200℃で5分間保持した後、冷却速度10℃/分で室温まで降温した時に測定される結晶化熱量が40J/g以下であるポリプロピレン系樹脂)のドメイン直径のMD(成形体の流れ方向)とTD(MDと垂直をなす方向)の異方性を1.0〜2.0の範囲とすることで、空孔を形成することができる。上記範囲内のドメイン直径の異方性の数値は、(A)成分と(B)成分の溶融粘度比を調整すること、具体的には(A)成分に対する(B)成分の溶融粘度を高くすることや、(A)成分と(B)成分を混練する際の混練スピードを調整すること、具体的には混練りスピードを上げることで達成することができる。   The polystyrene-based porous film of the present invention has pores. A void | hole is formed by extending | stretching the molded object formed using the polystyrene-type resin composition. For example, as described above, pores are formed by setting the mixing ratio of the component (A) and the component (B) of the polystyrene-based resin composition to 55 to 80/20 to 45 in terms of mass ratio. Or even if the mixing ratio of the component (A) and the component (B) is outside the above range, the anisotropy of the domain particle diameter of the component (B) is within the predetermined range. That is, a specific polypropylene resin (component (B) in a molded body formed using a polystyrene resin composition) (at a heating rate of 10 ° C./min using a differential scanning calorimeter). MD of the domain diameter of the polypropylene resin whose crystallization heat quantity is 40 J / g or less measured when the temperature is raised to 200 ° C., held at 200 ° C. for 5 minutes, and then cooled to room temperature at a cooling rate of 10 ° C./min. (Flow direction of the molded body) and The anisotropy of D (MD and a direction perpendicular) in a range of from 1.0 to 2.0, it is possible to form pores. The numerical value of the anisotropy of the domain diameter within the above range is adjusted by adjusting the melt viscosity ratio of the component (A) and the component (B), specifically, the melt viscosity of the component (B) with respect to the component (A) is increased. This can be achieved by adjusting the kneading speed when kneading the component (A) and the component (B), specifically by increasing the kneading speed.

本発明においては、(a)空孔の平均セル径が0.1〜1.0μmの範囲内であること、(b)空孔のアスペクト比(平均値)が1.0〜6.0の範囲であること、(c)空孔のセル密度(g/cm)が1.0E+10〜1.0E+12の範囲であることが必要である。 In the present invention, (a) the average cell diameter of the pores is in the range of 0.1 to 1.0 μm, and (b) the aspect ratio (average value) of the pores is 1.0 to 6.0. (C) The cell density (g / cm 3 ) of the holes needs to be in the range of 1.0E + 10 to 1.0E + 12.

空孔サイズ(平均セル径)及び空孔のアスペクト比は、形成されたポリスチレン系多孔性フィルムのMD断面(Edge View)の中心付近を、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて倍率3,000倍で観察し、顕微鏡視野の像中のすべての空孔の短径と長径を測定し、また、アスペクト比を求め、各々、その平均値を求めて平均セル径およびアスペクト比(平均値)とする。また、空孔のセル密度(N)は、像中の空孔の数(n)と、像全体の面積(A)を求めて、下記式に代入して算出した値である。
=(n/A)3/2
The pore size (average cell diameter) and the aspect ratio of the pores were measured at a magnification of 3,000 using a scanning electron microscope (SEM) in the vicinity of the center of the MD cross section (Edge View) of the formed polystyrene-based porous film. And measure the short diameter and long diameter of all the holes in the image of the microscope field of view, find the aspect ratio, find the average value of each, and the average cell diameter and aspect ratio (average value) To do. The cell density (N f ) of the holes is a value calculated by calculating the number of holes (n) in the image and the area (A) of the entire image and substituting them into the following equation.
N f = (n / A) 3/2

本発明のポリスチレン系多孔性フィルムは、ポリスチレン系樹脂をベース樹脂とするフィルム中に空孔を有することで光学反射特性を向上させている。すなわち、ポリスチレン系樹脂の平均屈折率は1.59前後であり、空気の平均屈折率は1.0であるのでフィルム中に空孔が形成されると、ポリスチレン系樹脂と空孔との界面で光の反射が生じて、光学反射特性を向上させることができる。よって、ポリスチレン系多孔性フィルムの多孔構造は光学特性に大きく影響するものである。   The polystyrene-based porous film of the present invention has improved optical reflection characteristics by having pores in a film having a polystyrene-based resin as a base resin. That is, the average refractive index of polystyrene resin is around 1.59, and the average refractive index of air is 1.0. Therefore, when voids are formed in the film, the interface between the polystyrene resin and the voids is formed. Light reflection occurs, and the optical reflection characteristics can be improved. Therefore, the porous structure of the polystyrene-based porous film greatly affects the optical characteristics.

空孔の平均セル径が上記範囲内であれば、可視光領域の光(一般的な可視光の波長領域は380〜750nm)を反射するのに十分な大きさであり、厚みを大幅に厚くしなくても反射特性を付与することができる。また、空孔のアスペクト比が上記範囲内であれば、得られるポリスチレン系多孔性フィルム中の空孔の厚み方向の空孔のサイズが可視光領域の光よりも小さくなることがなく、空孔形成による光学反射特性の向上効果が得られる。また、空孔のセル密度が上記範囲内であれば、光学反射特性を付与することができ、かつ、得られるポリスチレン系多孔性フィルムの機械物性の低下を最小限にすることができる。   If the average cell diameter of the pores is within the above range, it is large enough to reflect light in the visible light region (a general visible light wavelength region is 380 to 750 nm), and the thickness is greatly increased. Even if it does not do, a reflective characteristic can be provided. Moreover, if the aspect ratio of the pores is within the above range, the pore size in the thickness direction of the pores in the resulting polystyrene-based porous film does not become smaller than the light in the visible light region, The effect of improving the optical reflection characteristics by the formation can be obtained. Moreover, if the cell density of a void | hole is in the said range, an optical reflection characteristic can be provided, and the fall of the mechanical physical property of the polystyrene type porous film obtained can be minimized.

空孔の平均セル径を上記範囲内とするためには、成形体を形成するスチレン系樹脂組成物において、(B)成分である、示差走査熱量計を用いて加熱速度10℃/分で200℃まで昇温し、200℃で5分間保持した後、冷却速度10℃/分で室温まで降温した時に測定される結晶化熱量が40J/g以下であるポリプロピレン系樹脂(B)のドメインサイズを0.5〜3μmにすることが好ましく、0.5〜2μmにすることが更に好ましい。かかる範囲へのドメインサイズの調整は、上述したように、(A)成分と(B)成分の溶融粘度比の調整、(A)成分と(B)成分を混練する際の混練スピードの調整、あるいは、(A)成分及び(B)成分に更に(C)成分を混合することにより達成することができる。   In order to make the average cell diameter of the pores within the above range, 200 parts at a heating rate of 10 ° C./min using a differential scanning calorimeter, which is the component (B), in the styrene resin composition forming the molded body. The domain size of the polypropylene resin (B) having a crystallization calorific value of 40 J / g or less measured when the temperature is raised to 50 ° C. and held at 200 ° C. for 5 minutes and then cooled to room temperature at a cooling rate of 10 ° C./min. The thickness is preferably 0.5 to 3 μm, and more preferably 0.5 to 2 μm. Adjustment of the domain size to such a range, as described above, adjustment of the melt viscosity ratio of the component (A) and the component (B), adjustment of the kneading speed when the components (A) and (B) are kneaded, Alternatively, it can be achieved by further mixing the component (C) with the component (A) and the component (B).

空孔のアスペクト(平均値)の上記範囲内への調整は、延伸時の延伸倍率を調整することにより達成することができる。例えば、空孔のアスペクト比が大きすぎる場合には延伸倍率を下げればアスペクト比を小さくすることができる。   Adjustment of the aspect ratio (average value) of the pores to the above range can be achieved by adjusting the draw ratio at the time of drawing. For example, when the aspect ratio of the pores is too large, the aspect ratio can be reduced by reducing the draw ratio.

空孔のセル密度の上記範囲内への調整は、延伸時の延伸条件を調整することにより達成することができる。例えば、空孔のセル密度が小さすぎる場合には、延伸温度を下げたり、延伸倍率を上げることでセル密度を大きくすることができ、逆に、空孔のセル密度が大きすぎる場合には、延伸温度を上げたり、延伸倍率を下げることでセル密度を小さくすることができる。   Adjustment of the cell density of the pores to the above range can be achieved by adjusting the stretching conditions during stretching. For example, if the cell density of the vacancies is too small, the cell density can be increased by lowering the stretching temperature or increasing the draw ratio. Conversely, if the cell density of the vacancies is too large, The cell density can be reduced by increasing the stretching temperature or decreasing the stretching ratio.

本発明のポリスチレン系多孔性フィルムは、必要に応じて、延伸後に熱処理を行っても良い。熱処理温度については60〜120℃であることが好ましい。熱処理温度が60℃未満では、熱処理の効果がほとんど無く、熱収縮率の軽減には効果が無い場合がある。一方、120℃を超えると、熱処理により延伸時に形成された空孔が閉塞してしまう場合があり、熱処理により光学反射特性が低下する場合がある。ここで熱処理の方式や時間は、特に制限されるものではないが、例えば、製膜ライン内で、熱処理ロールや熱風炉等により熱処理する方法(インライン熱処理)、製膜ライン外で、熱処理ロールや熱風炉等により熱処理する方法、恒温槽や熱プレス等により熱処理する方法(アウトライン熱処理)等の熱処理方法を用いることができる。また、熱処理時間は、数秒〜数時間であることが好ましく、数十秒から数十分であることが更に好ましい。   The polystyrene porous film of the present invention may be subjected to heat treatment after stretching, if necessary. The heat treatment temperature is preferably 60 to 120 ° C. When the heat treatment temperature is less than 60 ° C., there is almost no effect of heat treatment, and there are cases where there is no effect in reducing the heat shrinkage rate. On the other hand, when the temperature exceeds 120 ° C., pores formed during stretching may be blocked by the heat treatment, and the optical reflection characteristics may be deteriorated by the heat treatment. Here, the heat treatment method and time are not particularly limited. For example, a heat treatment method (in-line heat treatment) using a heat treatment roll or a hot air furnace in the film production line, a heat treatment roll or the like outside the film production line. A heat treatment method such as a heat treatment method using a hot stove or the like, a heat treatment method using a thermostatic bath, a hot press or the like (outline heat treatment) can be used. The heat treatment time is preferably several seconds to several hours, and more preferably several tens of seconds to several tens of minutes.

本発明のポリスチレン系多孔性フィルムは、ポリスチレン系樹脂組成物を用いてなる単層フィルムでも、ポリスチレン系樹脂を用いてなる2層以上の層を積層した積層フィルムであっても良い。2層以上の積層フィルムの場合には、各層は同一でも異なっていても良い。あるいはまた、2層以上の積層フィルムは、更に、他の層を積層した積層フィルムであっても良い。他の層を形成する樹脂としては、フィルム状に成形できる熱可塑性樹脂であり、本発明の効果を阻害しないものであれば、特に限定されることなく使用することができる。例えば、良好な平面性を付与できるという観点から、ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、フッ素系樹脂等を主成分として使用することが好ましい。   The polystyrene-based porous film of the present invention may be a single-layer film using a polystyrene-based resin composition or a laminated film in which two or more layers using a polystyrene-based resin are stacked. In the case of a laminated film having two or more layers, each layer may be the same or different. Alternatively, the laminated film having two or more layers may be a laminated film obtained by further laminating other layers. The resin forming the other layer is a thermoplastic resin that can be formed into a film shape, and any resin that does not impair the effects of the present invention can be used without particular limitation. For example, it is preferable to use a polyolefin-based resin, a polyester-based resin, a polycarbonate-based resin, an acrylic resin, a fluorine-based resin, or the like as a main component from the viewpoint that good flatness can be imparted.

このような積層フィルムの層構成としては、ポリスチレン系樹脂組成物を用いてなる層をα層と表示し、他の層をβ層と表示すると、α層/β層/α層、或いは、β層/α層/β層の三層構造を例示することができる。また、更に多くの層を有する四層以上の構造とすることもできるし、あるいはα層とβ層の二層構造でも良い。本発明において、積層構造のフィルムは、例えば、押出しラミネート、サンドラミネート、共押出等の方法により形成することができる。また、α層とβ層の間に接着剤(接着性フィルムを含む)を介在させて積層しても良いし、α層とβ層を熱融着して積層しても良い。   As a layer structure of such a laminated film, when a layer made of a polystyrene-based resin composition is expressed as an α layer and another layer is expressed as a β layer, α layer / β layer / α layer, or β A three-layer structure of layer / α layer / β layer can be exemplified. Further, a structure of four or more layers having more layers may be used, or a two-layer structure of an α layer and a β layer may be used. In the present invention, a film having a laminated structure can be formed by a method such as extrusion lamination, sand lamination, or coextrusion. Further, the α layer and the β layer may be laminated with an adhesive (including an adhesive film) interposed therebetween, or the α layer and the β layer may be laminated by thermal fusion.

本発明のポリスチレン系多孔性フィルムには、該フィルムの裏面側(すなわち反射使用面とは反対側)に金属薄膜層を設けてもよい。   In the polystyrene-based porous film of the present invention, a metal thin film layer may be provided on the back side of the film (that is, the side opposite to the reflective use surface).

金属薄膜層は、金属を蒸着することにより形成することができ、例えば、真空蒸着法、イオン蒸着法、スパッタリング蒸着法、イオンプレーティング法等によって形成することができる。蒸着する金属材料としては、反射率が高い材料であれば特に制限されることなく使用することができるが、一般的には、銀、アルミニウム等が好ましく、これらの中では光学反射特性の観点から銀が特に好ましい。   The metal thin film layer can be formed by depositing a metal, and can be formed by, for example, a vacuum deposition method, an ion deposition method, a sputtering deposition method, an ion plating method, or the like. As a metal material to be vapor-deposited, any material having a high reflectance can be used without any particular limitation. In general, silver, aluminum, and the like are preferable. Among these, from the viewpoint of optical reflection characteristics. Silver is particularly preferred.

金属薄膜層は、金属の単層でも積層でも良く、あるいは、金属酸化物の単層でも積層でも良い。また、1層以上の金属の単層と、1層以上の金属酸化物の単層との積層体であっても良い。金属薄膜層の厚みは、材料の種類や層形成方法等によっても異なるが、通常は10nm〜300nmの範囲内であることが好ましく、20nm〜200nmの範囲内であることが更に好ましい。金属薄膜層の厚みが300nm以下であれば、生産効率が良好である。   The metal thin film layer may be a metal single layer or a laminate, or may be a metal oxide single layer or a laminate. Further, it may be a laminate of one or more single metal layers and one or more single metal oxide layers. The thickness of the metal thin film layer varies depending on the type of material, the layer forming method, and the like, but is usually preferably in the range of 10 nm to 300 nm, and more preferably in the range of 20 nm to 200 nm. If the thickness of the metal thin film layer is 300 nm or less, the production efficiency is good.

金属薄膜層は、ポリスチレン系多孔性フィルムに、直接、金属蒸着して形成しても良いが、予め、別の樹脂フィルム等に金属薄膜層を形成した積層体を作製しておき、この積層体をポリスチレン系多孔性フィルムと積層させても良い。積層の仕方は、積層体の金属薄膜層とポリスチレン系多孔性フィルムとを重ねても良いし、あるいは、別の樹脂フィルム面とポリスチレン系多孔性フィルムとを重ね合わせて積層しても良い。積層には、各種接着剤を用いて公知の方法により接着しても良いし、公知の熱接着法等を使用して接着しても良い。   The metal thin film layer may be formed by directly vapor-depositing a metal on a polystyrene-based porous film, but a laminate in which a metal thin film layer is formed on another resin film or the like is prepared in advance. May be laminated with a polystyrene-based porous film. As for the method of lamination, the metal thin film layer of the laminate and the polystyrene-based porous film may be stacked, or another resin film surface and the polystyrene-based porous film may be stacked and stacked. For the lamination, various adhesives may be used for bonding by a known method, or a known thermal bonding method or the like may be used for bonding.

本発明のポリスチレン系多孔性フィルムに金属薄膜層を設けた場合の層構成を例示すると、ポリスチレン系多孔性フィルム/(必要に応じて、アンカーコート層)/金属薄膜層/(必要に応じて保護層)の層構成、或いは、ポリスチレン系多孔性フィルム/別の樹脂フィルム/(必要に応じて、アンカーコート層)/金属薄膜層/(必要に応じて保護層)の層構成等が挙げられる。ただし、ポリスチレン系多孔性フィルムは光が照射される側に配置される。なお、保護層、アンカーコート層等は一般的に使用されているものを使用することができる。また、これらの層の間に、更に他の層を有しても良いし、ポリスチレン系多孔性フィルム、金属薄膜層などがそれぞれ独立に複数の構成となっていても良い。   An example of the layer structure when a metal thin film layer is provided on the polystyrene-based porous film of the present invention is: polystyrene-based porous film / (anchor coat layer if necessary) / metal thin film layer / (protection if necessary) Layer) or a layer structure of polystyrene-based porous film / another resin film / (an anchor coat layer if necessary) / a metal thin film layer / (a protective layer if necessary). However, the polystyrene-based porous film is disposed on the side irradiated with light. In addition, as the protective layer, the anchor coat layer, etc., those generally used can be used. Further, another layer may be provided between these layers, or a plurality of polystyrene-based porous films, metal thin film layers, and the like may be independently formed.

本発明においては、ポリスチレン系多孔性フィルム、上記別の樹脂フィルム等には、本発明の効果を阻害しない範囲内で添加剤等を適宜配合することができる。添加剤としては、例えば、熱安定剤、酸化防止剤、光安定剤、帯電防止剤、着色剤、滑剤、難燃剤などの各種添加剤が挙げられる。   In this invention, an additive etc. can be suitably mix | blended with the polystyrene type porous film, said another resin film, etc. in the range which does not inhibit the effect of this invention. Examples of the additive include various additives such as a heat stabilizer, an antioxidant, a light stabilizer, an antistatic agent, a colorant, a lubricant, and a flame retardant.

本発明のポリスチレン系多孔性フィルムを用いて反射板を形成することができる。すなわち、本発明のポリスチレン系多孔性フィルム、あるいは、ポリスチレン系多孔性フィルムを含む上記したような層構成の積層体等(以下、「ポリスチレン系多孔性フィルム等」と称すこともある)を、金属板もしくは樹脂板に被覆して反射板を形成することができる。この反射板は、液晶表示装置、照明機器、照明看板等に組み込まれる。   A reflector can be formed using the polystyrene-based porous film of the present invention. That is, the polystyrene-based porous film of the present invention, or a laminate having a layer structure as described above including the polystyrene-based porous film (hereinafter sometimes referred to as “polystyrene-based porous film”) is a metal. A reflecting plate can be formed by covering a plate or a resin plate. This reflector is incorporated in a liquid crystal display device, a lighting device, a lighting signboard, or the like.

ポリスチレン系多孔性フィルム等を金属板もしくは樹脂板に被覆するには、接着剤を使用しても良いし、接着剤を使用せずに熱融着しても良いし、接着性シートを介して接着しても、押出しコーティングにより接着しても良い。例えば、金属板もしくは樹脂板の貼り合わせ側面に、ポリエステル系、ポリウレタン系、エポキシ系等の接着剤を塗布し、ポリスチレン系多孔性フィルム等を貼り合わせることができる。この方法においては、リバースロールコーター、キスロールコーター等の一般的なコーティング設備を使用して、金属板等の表面に乾燥後の膜厚が2〜4μm程度となるように接着剤を塗布した後、赤外線ヒーター及び熱風加熱炉により塗布面の乾燥及び加熱を行い、金属板等の表面を所定温度に保持しつつ、直ちにロールラミネーターを用いて、ポリスチレン系多孔性フィルム等を被覆し、冷却することにより得ることができる。
In order to coat a polystyrene-based porous film or the like on a metal plate or a resin plate, an adhesive may be used, heat fusion may be performed without using an adhesive, or through an adhesive sheet. It may be adhered or it may be adhered by extrusion coating. For example, a polyester-based, polyurethane-based, or epoxy-based adhesive can be applied to the bonding side surface of a metal plate or resin plate, and a polystyrene-based porous film or the like can be bonded. In this method, after applying an adhesive so that the film thickness after drying is about 2 to 4 μm on the surface of a metal plate or the like using a general coating facility such as a reverse roll coater or a kiss roll coater. The coated surface is dried and heated with an infrared heater and a hot-air heating furnace, and the surface of the metal plate or the like is kept at a predetermined temperature and immediately covered with a porous porous film using a roll laminator and cooled. Can be obtained.

以下に、実施例および比較例を示して本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら制限を受けるものではない。なお、実施例に示す測定値は以下のようにして行った。ここで、フィルムの押出機からの引き取り(流れ)方向を縦方向(MD)、その直交方向を横方向(TD)と記載する。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited by these. In addition, the measured value shown in the Example was performed as follows. Here, the drawing (flow) direction of the film from the extruder is described as the vertical direction (MD), and the orthogonal direction is described as the horizontal direction (TD).

測定方法および評価方法:
(1)結晶化温度(Tc)、結晶融解温度(Tm)
「Pyris 1 DSC」(株式会社パーキンエルマージャパン製)を用いて、使用したポリオレフィン系樹脂10mgを、日本工業規格JIS K7121に準じて、加熱速度10℃/分で200℃まで昇温し、200℃で5分間保持した後、冷却速度10℃/分で室温まで降温した時に測定されたサーモグラムから結晶融解温度(Tm)(℃)、および、結晶化温度(Tc)(℃)を求めた。
Measurement method and evaluation method:
(1) Crystallization temperature (Tc), crystal melting temperature (Tm)
Using “Pyris 1 DSC” (manufactured by PerkinElmer Japan Co., Ltd.), 10 mg of the polyolefin-based resin used was heated to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min according to Japanese Industrial Standard JIS K7121, and 200 ° C. The crystal melting temperature (Tm) (° C.) and the crystallization temperature (Tc) (° C.) were determined from the thermogram measured when the temperature was lowered to room temperature at a cooling rate of 10 ° C./min.

(2)結晶化熱量(ΔHc)
「Pyris 1 DSC」(株式会社パーキンエルマージャパン製)を用いて、使用しポリオレフィン系樹脂10mgを、JIS K7122に準じて、加熱速度10℃/分で200℃まで昇温し、200℃で5分間保持した後、冷却速度10℃/分で室温まで降温した時に測定されたサーモグラムから結晶化熱量(ΔHc)(J/g)を求めた。
(2) Heat of crystallization (ΔHc)
Using “Pyris 1 DSC” (manufactured by PerkinElmer Japan Co., Ltd.), 10 mg of polyolefin resin was heated to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min according to JIS K7122, and at 200 ° C. for 5 minutes. After holding, the heat of crystallization (ΔHc) (J / g) was determined from the thermogram measured when the temperature was lowered to room temperature at a cooling rate of 10 ° C./min.

(3)空孔の平均セル径、平均アスペクト比、セル密度
多孔性フィルムのMD断面(Edge View)の中心付近を、走査型電子顕微鏡(日立製作所製の「S−4500」)を用いて倍率3,000倍で観察し、顕微鏡視野の像中のすべての空孔の短径と長径を測定し、また、アスペクト比を得た。空孔の長径の平均値、および、アスペクト比の平均値を求めて、平均セル径および平均アスペクト比とした。
また、像中の空孔の数(n)と、顕微鏡視野の像全体の面積(A)を求めて、下記式に代入し、空孔のセル密度(N)を算出した。

=(n/A)3/2
(3) Pore average cell diameter, average aspect ratio, cell density Magnification using the scanning electron microscope ("S-4500" manufactured by Hitachi, Ltd.) near the center of the MD cross section (Edge View) of the porous film Observation was performed at a magnification of 3,000, and the short diameter and long diameter of all the holes in the image of the microscopic field were measured, and the aspect ratio was obtained. The average value of the major axis of the pores and the average value of the aspect ratio were determined and used as the average cell diameter and average aspect ratio.
Further, the number (n) of holes in the image and the area (A) of the entire image in the microscope field were determined and substituted into the following formula to calculate the cell density (N f ) of the holes.

N f = (n / A) 3/2

(4)動的粘弾性の測定
延伸する前の成形体について、JIS K−7198 A法に記載の動的粘弾性測定法に基づき、岩本製作所(株)製の粘弾性スペクトロメーター「VES−F3」を用いて、振動周波数10Hz、歪み0.1%、昇温速度が3℃/分、温度範囲が−100℃〜150℃で動的粘弾性測定を行い、損失正接(tanδ)のピーク温度を求めた。
(4) Measurement of dynamic viscoelasticity For the molded body before stretching, a viscoelastic spectrometer “VES-F3” manufactured by Iwamoto Seisakusho Co., Ltd. is used based on the dynamic viscoelasticity measurement method described in JIS K-7198 A method. Is used to perform dynamic viscoelasticity measurement at a vibration frequency of 10 Hz, a strain of 0.1%, a heating rate of 3 ° C./min, and a temperature range of −100 ° C. to 150 ° C., and the peak temperature of loss tangent (tan δ) Asked.

(5)反射率(%)
(株)日立製作所製の分光光度計「U−4000」に積分球を取り付け、波長550nmの光に対する反射率を測定した。ただし、測定前にアルミナ白板の反射率が100%となるよう光度計を設定してから、反射率の測定を実施した。
(5) Reflectance (%)
An integrating sphere was attached to a spectrophotometer “U-4000” manufactured by Hitachi, Ltd., and the reflectance with respect to light having a wavelength of 550 nm was measured. However, the reflectance was measured after setting the photometer so that the reflectance of the white alumina plate was 100% before the measurement.

(6)フィルム厚み
1/1000mmのダイヤルゲージを用いて、フィルムの面内の不特定の10箇所を測定し、その平均値を算出した。
(6) Film thickness Using a dial gauge having a thickness of 1/1000 mm, 10 unspecified positions in the plane of the film were measured, and the average value was calculated.

(実施例1)
ポリスチレン系樹脂(A)としてHIPS(PSジャパン社製の「H9152」(MFR=5.5:200℃×5kgf)(以下、「A−1」と略記することがある)を70質量%と、ポリプロピレン系樹脂(B)としてプロピレン−α−オレフィン共重合体であるダウケミカル社製の「バーシファイ2400」(α−オレフィン:エチレン(比率11.5%))、ΔHc=6.8J/g、Tc=34℃、Tm=126℃、MFR=2.0g/10min:230℃×2.16kgf)(以下、「B−1」と略記することがある)を30質量%と、ビニル芳香族化合物と共役ジエン化合物との共重合体(C)として、旭化成(株)製の「タフテックP2000」(スチレン含有量=67%、MFR=3.0g/10min:190℃×2.16kg)(以下「C−1」と略記することがある)を6質量%とからなる混合物を、Tダイを具備した押出機を用いて、設定温度210℃で溶融混練し、賦形し、キャストロールで急冷製膜して成形体を形成した。次いで、得られた成形体をフィルムロール縦延伸機を用いて、表1に示す条件1の延伸温度及び延伸倍率で延伸を行ってポリスチレン系多孔性フィルムを得た。
Example 1
As polystyrene resin (A), 70 mass% of HIPS (“H9152” (MFR = 5.5: 200 ° C. × 5 kgf) manufactured by PS Japan (hereinafter sometimes abbreviated as “A-1”), “Versify 2400” (α-olefin: ethylene (ratio 11.5%)) manufactured by Dow Chemical Co., which is a propylene-α-olefin copolymer, as the polypropylene resin (B), ΔHc = 6.8 J / g, Tc = 34 ° C., Tm = 126 ° C., MFR = 2.0 g / 10 min: 230 ° C. × 2.16 kgf) (hereinafter sometimes abbreviated as “B-1”), 30% by mass, vinyl aromatic compound, As a copolymer (C) with a conjugated diene compound, “Tuftec P2000” manufactured by Asahi Kasei Corporation (styrene content = 67%, MFR = 3.0 g / 10 min: 190 ° C. × 2.16 kg) A mixture of 6% by mass (hereinafter sometimes abbreviated as “C-1”) is melt-kneaded at a set temperature of 210 ° C. using an extruder equipped with a T die, shaped, and cast roll Was formed into a formed body by rapid cooling. Subsequently, the obtained molded body was stretched using a film roll longitudinal stretching machine at a stretching temperature and a stretching ratio of Condition 1 shown in Table 1 to obtain a polystyrene-based porous film.

キャストロールで急冷製膜して得られた成形体および得られたポリスチレン系多孔性フィルムについて、上述の測定および評価を行った。その結果を表2に示す。また、ここで得られたポリスチレン系多孔性フィルムの空孔の状態を図1に示すが、図1は、走査電子顕微鏡を用いて倍率3,000倍で観察した時の顕微鏡写真である。   The above-mentioned measurement and evaluation were performed about the molded object obtained by quench-casting with a cast roll, and the obtained polystyrene-type porous film. The results are shown in Table 2. Moreover, although the state of the void | hole of the polystyrene type porous film obtained here is shown in FIG. 1, FIG. 1 is a microscope picture when it observes by 3000 times of magnification using a scanning electron microscope.

(比較例1)
実施例1において、A−1とB−1の混合割合をA−1/B−1=50/50質量%に変更した以外は実施例1と同様にしてフィルムを作製した。得られたフィルムには内部に空孔が形成されていなかった。このフィルムについて、動的粘弾性測定および反射率の測定を行った。その結果を表2に示す。
(Comparative Example 1)
A film was produced in the same manner as in Example 1 except that the mixing ratio of A-1 and B-1 in Example 1 was changed to A-1 / B-1 = 50/50% by mass. In the obtained film, no pores were formed inside. The film was subjected to dynamic viscoelasticity measurement and reflectance measurement. The results are shown in Table 2.

(実施例2)
実施例1において、延伸条件を表1に示す条件2の延伸温度及び延伸倍率に変更した以外は実施例1と同様にしてポリスチレン系多孔性フィルムを作製した。得られたポリスチレン系多孔性フィルムについて実施例1と同様の測定及び評価を行った。その結果を表2に示す。
(Example 2)
In Example 1, a polystyrene-based porous film was produced in the same manner as in Example 1 except that the stretching conditions were changed to the stretching temperature and the stretching ratio in Condition 2 shown in Table 1. The obtained polystyrene-based porous film was subjected to the same measurement and evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.

(実施例3)
実施例1において、延伸条件を表1に示す条件3の延伸温度及び延伸倍率に変更した以外は実施例1と同様にしてポリスチレン系多孔性フィルムを作製した。得られたポリスチレン系多孔性フィルムについて実施例1と同様の測定及び評価を行った。その結果を表2に示す。
(Example 3)
In Example 1, a polystyrene-based porous film was produced in the same manner as in Example 1 except that the stretching conditions were changed to the stretching temperature and the stretching ratio in Condition 3 shown in Table 1. The obtained polystyrene-based porous film was subjected to the same measurement and evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.

(実施例4)
実施例1において、延伸条件を表1に示す条件4の延伸温度及び延伸倍率に変更した以外は実施例1と同様にしてポリスチレン系多孔性フィルムを作製した。得られたポリスチレン系多孔性フィルムについて実施例1と同様の測定及び評価を行った。その結果を表2に示す。
Example 4
In Example 1, a polystyrene-based porous film was produced in the same manner as in Example 1 except that the stretching conditions were changed to the stretching temperature and the stretching ratio in Condition 4 shown in Table 1. The obtained polystyrene-based porous film was subjected to the same measurement and evaluation as in Example 1. The results are shown in Table 2.

(比較例2)
実施例1において、A−1とB−1の混合割合をA−1/B−1=100/0質量%に変更し、かつ、(C)成分を含有しないこと(すなわち、(C)成分=0)にした以外は実施例1と同様にしてフィルムを作製した。得られたフィルムには延伸直後に破断した。
(Comparative Example 2)
In Example 1, the mixing ratio of A-1 and B-1 is changed to A-1 / B-1 = 100/0% by mass, and the component (C) is not contained (that is, the component (C) = 0) A film was produced in the same manner as in Example 1. The obtained film was broken immediately after stretching.

表2から明らかなように、本発明の実施例1〜4のポリスチレン系多孔性フィルムは、反射率が97%以上であり光学反射特性に優れていていることがわかった。   As is clear from Table 2, it was found that the polystyrene-based porous films of Examples 1 to 4 of the present invention had a reflectance of 97% or more and excellent optical reflection characteristics.

一方、空孔が形成されていない比較例1のフィルムは、反射率が低く、光学反射特性が発現されないことがわかった。また比較例2の場合には延伸時に破断することがわかった。   On the other hand, it was found that the film of Comparative Example 1 in which no pores were formed had a low reflectance and no optical reflection characteristics were exhibited. Moreover, in the case of the comparative example 2, it turned out that it fractures | ruptures at the time of extending | stretching.

本発明のポリスチレン系多孔性フィルムは、優れた光学反射特性を有し、優れた光学反射性能が要求される用途に好適に利用することができる。例えば、反射シートとして好適であり、この反射シートは、液晶表示装置、照明器具、照明看板等に使用される。あるいはまた、反射シートを金属板、樹脂板等に被覆してなる反射板として使用され、液晶表示装置、照明器具、照明看板等に組み込まれる。   The polystyrene-based porous film of the present invention has excellent optical reflection characteristics and can be suitably used for applications that require excellent optical reflection performance. For example, it is suitable as a reflection sheet, and this reflection sheet is used for a liquid crystal display device, a lighting fixture, a lighting signboard, and the like. Alternatively, it is used as a reflection plate obtained by coating a reflection sheet on a metal plate, a resin plate or the like, and is incorporated in a liquid crystal display device, a lighting fixture, a lighting signboard, or the like.

Claims (5)

(A)成分と(B)成分とを含むポリスチレン系樹脂組成物を用いて成るフィルムを、少なくとも1方向に延伸した空孔を有するフィルムであり、該(A)成分がスチレン系樹脂であり、該(B)成分が示差走査熱量計を用いて加熱速度10℃/分で200℃まで昇温し、200℃で5分間保持した後、冷却速度10℃/分で室温まで降温した時に測定される結晶化熱量が40J/g以下であるポリプロピレン系樹脂であり、かつ、(a)該空孔の平均長径セル径が0.1〜1.0μmの範囲内であり、(b)該空孔のアスペクト比(平均値)が1.0〜6.0の範囲内であり、(c)該空孔のセル密度が1.0E+10〜1.0E+12の範囲内であることを特徴とするポリスチレン系多孔性フィルム。   (A) A film comprising a polystyrene resin composition containing a component and a component (B) is a film having pores stretched in at least one direction, and the component (A) is a styrene resin. Measured when the component (B) was heated to 200 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min using a differential scanning calorimeter, held at 200 ° C. for 5 minutes, and then cooled to room temperature at a cooling rate of 10 ° C./min. And (a) the average long diameter cell diameter of the pores is in the range of 0.1 to 1.0 μm, and (b) the pores. The aspect ratio (average value) of A is in the range of 1.0 to 6.0, and (c) the cell density of the pores is in the range of 1.0E + 10 to 1.0E + 12. Porous film. 前記ポリスチレン系樹脂組成物の(A)成分と(B)成分との割合が、質量比で、(A)/(B)=55〜80/20〜45(但し、(A)+(B)=100)であることを特徴とする請求項1に記載のポリスチレン系多孔性フィルム。   The ratio of the (A) component and the (B) component of the polystyrene resin composition is (A) / (B) = 55 to 80/20 to 45 (provided that (A) + (B)). = 100). The polystyrene-based porous film according to claim 1, wherein: 前記ポリスチレン系樹脂組成物は更に(C)成分を含有し、該(C)成分がビニル芳香族化合物と共役ジエン化合物との共重合体であることを特徴とする請求項1又は2に記載のポリスチレン系多孔性フィルム。   The polystyrene-based resin composition further contains a component (C), and the component (C) is a copolymer of a vinyl aromatic compound and a conjugated diene compound. Polystyrene porous film. 前記ポリスチレン系樹脂組成物の(A)成分と(B)成分と(C)成分との割合が、質量比で、(A)/(B)/(C)=55〜80/20〜45/1〜20(但し、(A)+(B)=100)であることを特徴とする請求項3に記載のポリスチレン系多孔性フィルム。   The ratio of the (A) component, the (B) component, and the (C) component of the polystyrene resin composition is (A) / (B) / (C) = 55-80 / 20-45 / It is 1-20 (however, (A) + (B) = 100), The polystyrene type porous film of Claim 3 characterized by the above-mentioned. 前記ポリスチレン系樹脂組成物は、動的粘弾性測定により周波数10Hzで測定した時の損失正接のピーク温度が少なくとも2つ存在し、かつ、低温側のピーク温度が−100℃〜−30℃の範囲内に存在し、かつ高温側のピーク温度が100〜150℃の範囲内に存在することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のポリスチレン系多孔性フィルム。   The polystyrene resin composition has at least two loss tangent peak temperatures when measured at a frequency of 10 Hz by dynamic viscoelasticity measurement, and the peak temperature on the low temperature side is in the range of −100 ° C. to −30 ° C. 5. The polystyrene-based porous film according to claim 1, wherein the polystyrene-based porous film is present in the interior and has a peak temperature on the high temperature side in a range of 100 to 150 ° C. 5.
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