JP2012193220A - Electron beam-curable composition for forming optical film or sheet, optical film or sheet, and polarizer protecting film and sheet polarizer - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学フィルムの形成に使用される電子線硬化型組成物、当該組成物を硬化して得られる光学フィルム又はシート、及びこれを偏光子保護フィルムとして用いた偏光板に関し、これら技術分野に属する。
尚、下記においては、便宜上、特に断りがない場合は、「光学フィルム又はシート」を「光学フィルム」と記載する。又、アクリレート又はメタクリレートを、(メタ)アクリレートと表す。
The present invention relates to an electron beam curable composition used for forming an optical film, an optical film or sheet obtained by curing the composition, and a polarizing plate using the same as a polarizer protective film. Belonging to.
In the following, for the sake of convenience, unless otherwise specified, “optical film or sheet” is described as “optical film”. Further, acrylate or methacrylate is represented as (meth) acrylate.
液晶表示装置には、その画像形成方式から液晶パネル表面を形成するガラス基板の両側に偏光板を配置することが必要不可欠である。偏光板は、一般的には、ポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素等の二色性材料からなる偏光子の両面に、トリアセチルセルロース等を用いた偏光子保護フィルムをポリビニルアルコール系接着剤により貼り合せたものが用いられている。 In the liquid crystal display device, it is indispensable to dispose polarizing plates on both sides of the glass substrate on which the liquid crystal panel surface is formed because of the image forming method. In general, a polarizing plate is obtained by bonding a polarizer protective film using triacetyl cellulose or the like to both surfaces of a polarizer made of a dichroic material such as a polyvinyl alcohol film and iodine with a polyvinyl alcohol adhesive. Things are used.
偏光子保護フィルムには、液晶や偏光子を紫外線劣化から防ぐ目的で、紫外線吸収性能が必要とされることがある。現在は、偏光子保護フィルムとしてのトリアセチルセルロースフィルム中に紫外線吸収剤(以下、「UVA」という)を添加し、紫外線吸収性能を持たせている。 The polarizer protective film may be required to have ultraviolet absorption performance for the purpose of preventing the liquid crystal and the polarizer from being deteriorated by ultraviolet rays. At present, an ultraviolet absorber (hereinafter referred to as “UVA”) is added to a triacetyl cellulose film as a polarizer protective film to impart ultraviolet absorption performance.
しかしながら、トリアセチルセルロースは耐湿熱性が十分でなく、トリアセチルセルロースフィルムを偏光子保護フィルムとして用いた偏光板を高温又は高湿下において使用すると、偏光度や色相等の偏光板の性能が低下するという欠点がある。又、トリアセチルセルロースフィルムは斜め方向の入射光に対するレタデーションや厚さ方向のレタデーションを有する。かかるレタデーションは、近年、液晶ディスプレイの大型化が進むにしたがって、顕著に視野角特性に影響を及ぼすようになっている。 However, triacetyl cellulose does not have sufficient heat and heat resistance, and when a polarizing plate using a triacetyl cellulose film as a polarizer protective film is used at a high temperature or under high humidity, the performance of the polarizing plate such as the degree of polarization and hue deteriorates. There is a drawback. The triacetyl cellulose film has a retardation with respect to incident light in the oblique direction and a retardation in the thickness direction. Such retardation is noticeably affecting viewing angle characteristics as the size of liquid crystal displays increases in recent years.
そこで、従来からのトリアセチルセルロースに代わる偏光子保護フィルムの材料として、透明性の熱可塑性樹脂が検討されている。 Therefore, a transparent thermoplastic resin has been studied as a material for a polarizer protective film that replaces conventional triacetyl cellulose.
特許文献1及び2には、透明性の熱可塑性樹脂にUVAを添加して紫外線吸収性能を持たせた偏光子保護フィルムが開示されているが、このような偏光子保護フィルムにおいては、樹脂の黄変が大きく、UVAを含む熱可塑性樹脂組成物を成形する際に加えられる熱によりUVAが蒸散して、得られた樹脂成形品の紫外線吸収能が低下したり、蒸散したUVAにより成形装置が汚染される等の問題が生じることがある。
UVAを含む熱可塑性樹脂組成物から偏光子保護フィルムを製造する場合、樹脂との相溶性が悪い場合や添加量が多い場合には、析出してしまい、ヘイズが高くなることを原因として、偏光度が低下してしまう問題があった。
When producing a polarizer protective film from a thermoplastic resin composition containing UVA, if the compatibility with the resin is poor or if the amount of addition is large, it will precipitate, resulting in an increase in haze. There was a problem that the degree would decrease.
特許文献3には、偏光子保護フィルム用として面内レタデーションが小さい熱可塑性アクリル系樹脂が開示されているが、耐溶剤性が不充分であり、表面に塗布されるハードコート剤の溶剤や偏光子と保護フィルムの接着に用いられる液状接着剤の浸食による透明性の低下等の問題が生じることがあった。
前記した通り従来からのトリアセチルセルロースに代わる偏光子保護フィルムの材料として検討されている透明性の熱可塑性樹脂は、UVAを含むものは樹脂の黄変が大きくなることがあり、又、耐溶剤性が不充分であるために溶剤や接着剤の浸食による透明性の低下等の問題が生じることがあった。 As described above, a transparent thermoplastic resin that has been studied as a material for a polarizer protective film that replaces the conventional triacetyl cellulose is one that contains a UVA, and the yellowing of the resin may increase. Insufficient properties may cause problems such as a decrease in transparency due to erosion of solvents and adhesives.
本発明は、UVAを含まずとも、又はUVAを含んだとしても、硬化物の透明性と耐光性試験後の黄変度のバランスに優れ、耐溶剤性が良好で、正面及び斜め方向の面内レタデーションや厚さ方向レタデーションが小さい光学フィルム形成用電子線硬化型組成物、当該組成物から得られた光学フィルム、偏光子保護フィルム及び偏光板を提供することを目的とする。 Even if UVA is not included or UVA is included, the present invention has an excellent balance between the transparency of the cured product and the yellowing degree after the light resistance test, good solvent resistance, and front and oblique surfaces. It aims at providing the electron beam curable composition for optical film formation with small internal retardation and thickness direction retardation, the optical film obtained from the said composition, a polarizer protective film, and a polarizing plate.
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、特定のジオール、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートから製造されるウレタン(メタ)アクリレート及び1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物を含み、硬化物のレタデーション及びヘイズが特定値を有する電子線硬化型組成物が、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have obtained urethane (meth) acrylate and one (() produced from a specific diol, a non-yellowing organic diisocyanate, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate. It has been found that an electron beam curable composition containing a compound having a (meth) acryloyl group and having a specific value of retardation and haze of the cured product can solve the above problems, and has completed the present invention.
本発明の組成物は、得られる硬化物の正面及び斜め方向の面内レタデーション及び厚さ方向レタデーションが10nm以下で、ヘイズが1.0%以下という小さいものであり、これにより硬化物が透明性と耐光性試験後のバランスに優れ、さらに耐溶剤性にも優れたものとなる。
従って、本発明の電子線硬化光学フィルムは、偏光子保護フィルム用途に好適に使用することができ、偏光度が低下してしまうという問題もない。
The composition of the present invention is such that the front and oblique in-plane retardation and thickness direction retardation of the resulting cured product are as small as 10 nm or less and haze is 1.0% or less, whereby the cured product is transparent. And the balance after the light resistance test is excellent, and the solvent resistance is also excellent.
Therefore, the electron beam curable optical film of the present invention can be suitably used for a polarizer protective film, and there is no problem that the degree of polarization is lowered.
本発明は、ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール又はポリエーテルジオールから選ばれる少なくともひとつのジオール、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートの反応物であるウレタン(メタ)アクリレート(A)〔以下、単に「(A)成分」という〕及び
1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B)〔以下、単に「(B)成分」という〕を含み、
硬化物のヘイズが1.0%以下で、かつ
厚さ80μmで測定した場合における硬化物の正面及び斜め40°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが10nm以下である
光学フィルム形成用電子線硬化型組成物に関する。
以下、本発明を詳細に説明する。尚、本明細書では、組成物に電子線照射して得られる架橋物及び硬化物を、まとめて「硬化物」と表す。
The present invention is a urethane (meth) acrylate (A) [hereinafter, a reaction product of at least one diol selected from polycarbonate diol, polyester diol or polyether diol, non-yellowing organic diisocyanate and hydroxyl group-containing (meth) acrylate. Simply (referred to as “component (A)”) and compound (B) having one (meth) acryloyl group (hereinafter simply referred to as “component (B)”),
For forming an optical film in which the haze of the cured product is 1.0% or less and all of the in-plane retardation and the in-plane retardation of the cured product and the thickness direction are 10 nm or less when measured at a thickness of 80 μm. The present invention relates to an electron beam curable composition.
Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, a crosslinked product and a cured product obtained by irradiating the composition with an electron beam are collectively referred to as a “cured product”.
1.(A)成分
本発明で使用する(A)成分は、ポリカーボネートジオール、ポリエステルジオール又はポリエーテルジオール(以下、これらをまとめて「ジオールa」という)、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートの反応物であるウレタン(メタ)アクリレートである。
当該(A)成分は、他のウレタン(メタ)アクリレートと比較して、ポリオールとしてジオールa、有機ジイソシアネートとして無黄変型を使用することにより、耐光性試験後の黄変度が小さいものとなる。
1. Component (A) Component (A) used in the present invention is polycarbonate diol, polyester diol or polyether diol (hereinafter collectively referred to as “diol a”), non-yellowing organic diisocyanate and hydroxyl group-containing (meth). It is urethane (meth) acrylate which is a reaction product of acrylate.
Compared with other urethane (meth) acrylates, the component (A) has a low degree of yellowing after the light resistance test by using diol a as the polyol and non-yellowing type as the organic diisocyanate.
(A)成分としては、ジオールaと無黄変型有機ジイソシアネートを反応させてイソシアネート基含有化合物を製造し、これとヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートを反応させた化合物(以下、「化合物A1」という)、及びジオールa、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートを同時に反応させた化合物(以下、「化合物A2」という)等が挙げられ、分子量を制御しやすいという理由で化合物A1が好ましい。
(A)成分としては、オリゴマー及びポリマーのいずれも使用可能であり、重量平均分子量1,000〜5万のものが好ましく、より好ましくは3,000〜3万である。
尚、本発明において、重量平均分子量とは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定した分子量をポリスチレン換算した値である。
As the component (A), a diol a and a non-yellowing organic diisocyanate are reacted to produce an isocyanate group-containing compound, which is then reacted with a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (hereinafter referred to as “compound A1”). And a compound obtained by reacting diol a, a non-yellowing organic diisocyanate, and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate at the same time (hereinafter referred to as “compound A2”), and the compound A1 is preferable because the molecular weight is easily controlled. .
As the component (A), both oligomers and polymers can be used, and those having a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000 are preferable, and more preferably 3,000 to 30,000.
In the present invention, the weight average molecular weight is a value obtained by converting the molecular weight measured by gel permeation chromatography into polystyrene.
ジオールaにおいて、ポリカーボネートジオールとしては、低分子量ジオール、ポリエーテルジオール又は/及びビスフェノールA等のビスフェノールとエチレンカーボネート及び炭酸ジブチルエステル等の炭酸ジアルキルエステルの反応物等が挙げられる。
ここで、低分子量ジオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、シクロヘキサンジメタノール及び3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール等が挙げられる。
ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール、並びにポリエチレンポリプロポキシブロックポリマージオール等のブロック又はランダムポリマーのジオール等が挙げられる。
In the diol a, examples of the polycarbonate diol include a reaction product of a low molecular weight diol, a polyether diol, and / or a bisphenol such as bisphenol A and a dialkyl ester carbonate such as ethylene carbonate and dibutyl ester carbonate.
Here, examples of the low molecular weight diol include ethylene glycol, propylene glycol, cyclohexanedimethanol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, and the like.
Examples of polyether diols include polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol and polytetramethylene glycol, and block or random polymer diols such as polyethylene polypropoxy block polymer diols.
ジオールaにおいて、ポリエステルジオールとしては、前記低分子量ジオール又は/及び前記ポリエーテルジオールと、アジピン酸、コハク酸、フタル酸、テトラヒドルフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸及びテレフタル酸等の二塩基酸又はその無水物等の酸成分とのエステル化反応物等が挙げられる。 In the diol a, as the polyester diol, the low molecular weight diol or / and the polyether diol and a dibasic acid such as adipic acid, succinic acid, phthalic acid, tetrahydrphthalic acid, hexahydrophthalic acid and terephthalic acid, or The esterification reaction product with acid components, such as the anhydride, etc. are mentioned.
ジオールaにおいて、ポリエーテルジオールとしては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール;ポリエチレンポリプロポキシブロックポリマージオール等のブロック又はランダムポリマーのジオール;並びにビスフェノールAエチレンオキサイド付加物のジオール及びビスフェノールAプロピレンオキサイド付加物のビスフェノールAアルキレンオキサイド付加物のジオール等が挙げられる。 In the diol a, the polyether diol includes polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol and polytetramethylene glycol; block or random polymer diols such as polyethylene polypropoxy block polymer diol; and bisphenol A ethylene oxide adduct diol. And diol of bisphenol A alkylene oxide adduct of bisphenol A propylene oxide adduct.
これらのジオールaは、1種のみを使用しても、2種以上を併用しても良い。 These diols a may be used alone or in combination of two or more.
無黄変型有機ジイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート(以下、「IPDI」という)、4,4′−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)(以下、「H12MDI」という)及びω,ω′−ジイソシアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。 Non-yellowing organic diisocyanates include hexamethylene diisocyanate, lysine methyl ester diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, dimer acid diisocyanate and other aliphatic diisocyanates, isophorone diisocyanate (hereinafter referred to as “IPDI”), 4, 4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate) (hereinafter referred to as “H12MDI”) and alicyclic diisocyanates such as ω, ω′-diisocyanate dimethylcyclohexane and the like.
これらの有機ジイソシアネート化合物は、1種のみを使用しても、2種以上を併用しても良い。 These organic diisocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.
前記した化合物の中でも、硬化物に耐光性(耐候性)が要求される場合には、IPDI及びH12MDIが好ましい。 Among the above-mentioned compounds, when light resistance (weather resistance) is required for the cured product, IPDI and H12MDI are preferable.
ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートとしては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシペンチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシヘキシル(メタ)アクリレート、ヒドロキシオクチル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ、ジ又はモノ(メタ)アクリレート、及びトリメチロールプロパンジ又はモノ(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
前記した化合物の中でも、シートの柔軟性に優れるという点で、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート及びヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが好ましい。
As the hydroxyl group-containing (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, hydroxypentyl (meth) acrylate, hydroxyhexyl (meth) acrylate, hydroxy Examples include octyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri, di or mono (meth) acrylate, and hydroxyalkyl (meth) acrylate such as trimethylolpropane di or mono (meth) acrylate.
Among the above-described compounds, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate are preferable in terms of excellent sheet flexibility.
(A)成分は、常法に従い製造されたもので良い。
化合物A1を製造する場合は、ジブチルスズジラウレート等のウレタン化触媒存在下、使用するジオールa及び無黄変型有機ジイソシアネートを加熱攪拌し付加反応させ、さらにヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを添加し、加熱攪拌し付加反応させる方法等が挙げられ、化合物A2を製造する場合は、前記と同様の触媒の存在下に、ジオールa、無黄変型有機ジイソシアネート及びヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを同時に添加して加熱攪拌する方法等が挙げられる。
(A) A component may be manufactured according to the conventional method.
In the case of producing compound A1, in the presence of a urethanization catalyst such as dibutyltin dilaurate, the diol a and non-yellowing organic diisocyanate to be used are heated and stirred for addition reaction, and further hydroxyalkyl (meth) acrylate is added and heated and stirred. In the case of producing the compound A2, the diol a, the non-yellowing organic diisocyanate and the hydroxyalkyl (meth) acrylate are simultaneously added and stirred while heating in the presence of the same catalyst as described above. Methods and the like.
(A)成分は、1種のみを使用しても、2種以上を併用しても良い。 (A) A component may use only 1 type or may use 2 or more types together.
2.(B)成分
(B)成分は、1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物である。本発明では(B)成分を含むことにより、組成物の塗工性と硬化物の機械強度のバランスをとることができる。
2. Component (B) The component (B) is a compound having one (meth) acryloyl group. In the present invention, by including the component (B), the coating property of the composition and the mechanical strength of the cured product can be balanced.
(B)成分としては、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、トリメチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1−アダマンチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、о−フェニルフェノールEO変性(n=1〜4)(メタ)アクリレート、p−クミルフェノールEO変性(n=1〜4)(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、о−フェニルフェニル(メタ)アクリレート、p−クミルフェニル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン、N−ビニルホルムアミド、N−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、N−(メタ)アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド等が挙げられる。 As the component (B), isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, trimethylcyclohexyl (meth) acrylate, 1 -Adamantyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, hexyl (Meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, glycidyl (meth) Acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, о-phenylphenol EO Modified (n = 1-4) (meth) acrylate, p-cumylphenol EO modified (n = 1-4) (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, о-phenylphenyl (meth) acrylate, p-cumylphenyl (Meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine, N-vinylformamide, N- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide, N- (meth) acryloyloxyethyl tetrahydrophthalimide and the like can be mentioned.
(B)成分としては、前記した化合物の1種のみを使用しても、2種以上を併用しても良い。 As the component (B), only one kind of the aforementioned compounds may be used, or two or more kinds may be used in combination.
(B)成分としては、前記した化合物の中でも、ホモポリマーのガラス転移温度が50℃以上である(メタ)アクリレートが好ましい。
当該(メタ)アクリレートの具体例としては、さらに組成物の硬化物が耐熱性及び耐光性にも優れたものとなる点で、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン及びN−(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミドがより好ましい。
(B) As a component, (meth) acrylate whose glass transition temperature of a homopolymer is 50 degreeC or more is mentioned among the above-mentioned compounds.
Specific examples of the (meth) acrylate include isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, and dicyclopenta in that the cured product of the composition has excellent heat resistance and light resistance. Nyl (meth) acrylate, (meth) acryloylmorpholine and N- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalimide are more preferred.
3.光学フィルム形成用電子線硬化型組成物
本発明は、前記(A)成分及び(B)成分を必須成分として含む光学フィルム形成用電子線硬化型組成物である。
組成物の製造方法としては、常法に従えばよく、(A)成分及び(B)成分を使用し、必要に応じてその他の成分をさらに使用し、これらを攪拌・混合して得ることができる。
3. Electron beam curable composition for optical film formation This invention is an electron beam curable composition for optical film formation which contains the said (A) component and (B) component as an essential component.
As a manufacturing method of a composition, what is necessary is just to follow a conventional method, using (A) component and (B) component, using other components further as needed, and obtaining these by stirring and mixing. it can.
本発明の組成物は、その硬化物のヘイズが1.0%以下であり、このようなヘイズを有するものは、特に、偏光子保護フィルム用として好適である。
硬化物のヘイズが1.0%を超えるものは、偏光解消による偏光度が低下してしまう。
本発明においてヘイズとは、フィルムの濁度を表し、フィルムへの入射光のうち、拡散透過光の全光線透過光に対する割合から求められるものを意味する。
In the composition of the present invention, the cured product has a haze of 1.0% or less, and those having such a haze are particularly suitable for a polarizer protective film.
When the haze of the cured product exceeds 1.0%, the degree of polarization due to depolarization decreases.
In the present invention, haze represents the turbidity of a film, and means what is calculated | required from the ratio with respect to the total light transmitted light of diffuse transmitted light among the incident light to a film.
又、本発明の組成物は、厚さ80μmで測定した場合における硬化物の正面及び斜め40°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが10nm以下である必要がある。これにより、偏光子保護フィルムとして用いた場合、視野角特性に優れた液晶ディスプレイを得ることができる。硬化物のレタデーションが10nmより大きいものは、視野角特性が劣るという問題がある。
さらに、厚さ80μmで測定した場合における硬化物の正面の面内レタデーションが1nm以下で、斜め40°の面内レタデーションが5nm以下で、厚さ方向のレタデーションが10nm以下であるものが好ましい。
Further, the composition of the present invention needs to have a front surface of the cured product, an in-plane retardation of 40 ° oblique and a retardation in the thickness direction of 10 nm or less when measured at a thickness of 80 μm. Thereby, when it uses as a polarizer protective film, the liquid crystal display excellent in the viewing angle characteristic can be obtained. A cured product having a retardation larger than 10 nm has a problem of poor viewing angle characteristics.
Further, it is preferable that the in-plane retardation of the cured product when measured at a thickness of 80 μm is 1 nm or less, the in-plane retardation at an oblique angle of 40 ° is 5 nm or less, and the retardation in the thickness direction is 10 nm or less.
本発明においてレタデーションとは、光学フィルムに直線偏光が入射したとき透過光を直交する2つの直線偏光に分解して考えたときの複屈折により生じる位相差を意味する。
具体的には、面内のレタデーション(Re)及び厚さ方向のレタデーション(Rth)は、フィルム面内の主屈折率をnx、ny(但し、nx≧ny)、厚さ方向の屈折率をnz、フィルム厚さをdとしたとき、下式で定義される値である。
Re =(nx−ny)×d
Rth={(nx+ny)/2−nz)}×d
さらに、本発明において、斜め40°の面内レタデーションとは、光学フィルムに対して斜め40°で直線偏光を入射したときの面内レタデーションを意味する。
In the present invention, the retardation means a phase difference caused by birefringence when the transmitted light is considered to be decomposed into two linearly polarized lights orthogonal to each other when the linearly polarized light enters the optical film.
Specifically, the in-plane retardation (Re) and the thickness direction retardation (Rth) are nx, ny (where nx ≧ ny), and nz is the refractive index in the thickness direction. When the film thickness is d, it is a value defined by the following formula.
Re = (Nx-ny) * d
Rth = {(nx + ny) / 2−nz)} × d
Furthermore, in the present invention, the in-plane retardation at an angle of 40 ° means an in-plane retardation when linearly polarized light is incident on the optical film at an angle of 40 °.
(A)成分及び(B)成分の割合としては、目的に応じて適宜設定すれば良いが、(A)成分及び(B)成分の合計量を基準として(A)成分20〜95重量%及び(B)成分5〜80重量%が好ましく、より好ましくは(A)成分30〜90重量%及び(B)成分10〜70重量%である。
(A)成分の割合が20重量%以上とすることで、得られる硬化物の柔軟性に優れるものとすることができ、他方95重量%以下とすることで、組成物の粘度を低くし、塗工性に優れるものとすることができる。
The proportion of the component (A) and the component (B) may be appropriately set according to the purpose. However, the amount of the component (A) is 20 to 95% by weight based on the total amount of the component (A) and the component (B). The component (B) is preferably 5 to 80% by weight, more preferably (A) 30 to 90% by weight and (B) component 10 to 70% by weight.
By making the ratio of the component (A) 20% by weight or more, the cured product obtained can be excellent in flexibility, and by making it 95% by weight or less, the viscosity of the composition is lowered, It can be excellent in coatability.
本発明の組成物は、電子線硬化型組成物であり、必要に応じて従来公知の光重合開始剤を配合できるが、光重合開始剤を含まないものが好ましい。光重合開始剤を含まないことにより、得られる硬化物の耐熱性や耐光性に優れるものとすることができる。 The composition of the present invention is an electron beam curable composition, and a conventionally known photopolymerization initiator can be blended if necessary, but preferably does not contain a photopolymerization initiator. By not containing a photopolymerization initiator, the obtained cured product can be excellent in heat resistance and light resistance.
本発明の組成物は、前記(A)成分及び(B)成分を必須とするものであるが、目的に応じて種々の成分を配合することができる。
具体的には、(A)及び(B)成分以外のエチレン性不飽和化合物〔以下、(C)成分という〕、有機溶剤〔以下、(D)成分という〕、重合禁止剤又は/及び酸化防止剤、耐光性向上剤等を挙げることができる。
以下これらの成分について説明する。
The composition of the present invention essentially comprises the component (A) and the component (B), but various components can be blended depending on the purpose.
Specifically, an ethylenically unsaturated compound other than the components (A) and (B) [hereinafter referred to as component (C)], an organic solvent [hereinafter referred to as component (D)], a polymerization inhibitor and / or an antioxidant. Agents, light resistance improvers and the like.
Hereinafter, these components will be described.
●(C)成分
(C)成分は、(A)及び(B)成分以外のエチレン性不飽和化合物である。
(C)成分は、組成物全体の粘度を低下させる目的や、その他の物性を調整する目的で必要に応じて配合する成分である。
-Component (C) The component (C) is an ethylenically unsaturated compound other than the components (A) and (B).
(C) A component is a component mix | blended as needed for the purpose of reducing the viscosity of the whole composition, and the purpose of adjusting other physical properties.
(C)成分の具体例としては、(A)及び(B)成分以外の(メタ)アクリレート〔以下、「その他(メタ)アクリレート」という〕等が挙げられる。 Specific examples of the component (C) include (meth) acrylates (hereinafter referred to as “other (meth) acrylates”) other than the components (A) and (B).
その他(メタ)アクリレートとしては、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する化合物〔以下、「多官能(メタ)アクリレート」という〕等が挙げられる。 Other (meth) acrylates include compounds having two or more (meth) acryloyl groups (hereinafter referred to as “polyfunctional (meth) acrylates”).
多官能(メタ)アクリレートの具体例としては、ビスフェノールA EO変性(n=1〜2)ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(n=5〜14)ジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(n=5〜14)ジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコール(n=3〜16)ジ(メタ)アクリレート、ポリ(1−メチルブチレングリコール)(n=5〜20)ジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレートの二官能(メタ)アクリレート等が挙げられる。
尚、上記においてEO変性とは、エチレンオキサイド変性を意味し、nはアルキレンオキサイド単位の繰返し数を意味する。
Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate include bisphenol A EO-modified (n = 1 to 2) di (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, and diethylene glycol di (meth). Acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol (n = 5-14) di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) Acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, tetrapropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol (n = 5-14) di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol Di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, polybutylene glycol (n = 3 to 16) di (meth) acrylate, poly (1-methylbutylene glycol) (n = 5 to 20) di (Meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, Examples thereof include dicyclopentanediol di (meth) acrylate and bifunctional (meth) acrylate of tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate.
In the above, EO modification means ethylene oxide modification, and n means the number of repeating alkylene oxide units.
(C)成分としては、前記した化合物の1種のみを使用しても、2種以上を併用しても良い。 As the component (C), only one kind of the aforementioned compounds may be used, or two or more kinds may be used in combination.
(C)成分の割合としては、目的に応じて適宜設定すれば良く、得られる硬化物の柔軟性を低下させない量であれば良いが、(A)成分及び(B)成分の合計量100重量部に対して1〜100重量%が好ましく、より好ましくは1〜80重量%である。 The proportion of the component (C) may be appropriately set according to the purpose, and may be an amount that does not decrease the flexibility of the obtained cured product, but the total amount of the component (A) and the component (B) is 100 weights. The amount is preferably 1 to 100% by weight, more preferably 1 to 80% by weight based on the part.
●(D)成分
本発明の組成物は、基材への塗工性を改善する等の目的で、(D)成分の有機溶剤を含むものが好ましい。
-(D) component The composition of this invention contains the organic solvent of (D) component for the objective, such as improving the coating property to a base material.
(D)成分の具体例としては、n−ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン及びシクロヘキサン等の炭化水素系溶剤;
メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブチルアルコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−(メトキシメトキシ)エタノール、2−イソプロポキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−イソペンチルオキシエタノール、2−ヘキシルオキシエタノール、2−フェノキシエタノール、2−ベンジルオキシエタノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノール及び1−エトキシ−2−プロパノール等のアルコール系溶剤;
テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ビス(2−メトキシエチル)エーテル、ビス(2−エトキシエチル)エーテル及びビス(2−ブトキシエチル)エーテル等のエーテル系溶剤;
アセトン、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、ジエチルケトン、ブチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルペンチルケトン、ジ−n−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、ホロン、イソホロン、シクロヘキサノン及びメチルシクロヘキサノン等のケトン系溶剤が挙げられる。
Specific examples of the component (D) include hydrocarbon solvents such as n-hexane, benzene, toluene, xylene, ethylbenzene and cyclohexane;
Methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, isobutyl alcohol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2- (methoxymethoxy) ethanol, 2-isopropoxyethanol, 2-butoxy Ethanol, 2-isopentyloxyethanol, 2-hexyloxyethanol, 2-phenoxyethanol, 2-benzyloxyethanol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, diethylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, 1 Alcohol-based solvents such as methoxy-2-propanol and 1-ethoxy-2-propanol;
Ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, bis (2-methoxyethyl) ether, bis (2-ethoxyethyl) ether and bis (2-butoxyethyl) ether;
Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, diethyl ketone, butyl methyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl pentyl ketone, di-n-propyl ketone, diisobutyl ketone, phorone, isophorone, cyclohexanone and methylcyclohexanone Can be mentioned.
(D)成分としては、前記した化合物の1種又は2種以上用いることができる。 As the component (D), one or more of the aforementioned compounds can be used.
(D)成分の割合としては、適宜設定すれば良いが、好ましくは組成物中に10〜90重量%が好ましく、より好ましくは40〜80重量%である。 The proportion of the component (D) may be set as appropriate, but is preferably 10 to 90% by weight, more preferably 40 to 80% by weight in the composition.
●重合禁止剤又は/及び酸化防止剤
本発明の組成物には、重合禁止剤又は/及び酸化防止剤を添加することが、本発明の組成物の保存安定性を向上させことができ、好ましい。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、並びに種々のフェノール系酸化防止剤が好ましいが、イオウ系二次酸化防止剤、リン系二次酸化防止剤等を添加することもできる。
これら重合禁止剤又は/及び酸化防止剤の総配合割合は、(A)成分及び(B)成分の合計量100重量部に対して、0.001〜3重量%であることが好ましく、より好ましくは0.01〜0.5重量%である。
● Polymerization inhibitor or / and antioxidant It is preferable to add a polymerization inhibitor or / and an antioxidant to the composition of the present invention, which can improve the storage stability of the composition of the present invention. .
As the polymerization inhibitor, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, and various phenolic antioxidants are preferable. A secondary antioxidant or the like can also be added.
The total blending ratio of these polymerization inhibitors or / and antioxidants is preferably 0.001 to 3% by weight, more preferably 100 parts by weight of the total amount of component (A) and component (B). Is 0.01 to 0.5% by weight.
●耐光性向上剤
本発明の組成物には、紫外線吸収剤や光安定剤等の耐光性向上材を添加しても良い。
紫外線吸収剤としては、2−(2'−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−3',5'−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2'−ヒドロキシ−3'−t−ブチル−5'−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物;
2,4−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−イソ−オクチルオキシフェニル)−s−トリアジン等のトリアジン化合物;
2,4−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−4'−メチルベンゾフェノン、2,2'−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2、4、4'−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,2',4,4'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4,4'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2,3',4,4'−テトラヒドロキシベンゾフェノン、又は2、2'−ジヒドロキシ−4,4'−ジメトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物等を挙げることができる。
光安定性剤としては、N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−N,N′−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス(1,2,6,6−)ペンタメチル−4−ピペリジル)−2−(3,5−ジターシャリーブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2−n−ブチルマロネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケート、等の低分子量ヒンダードアミン化合物;N,N′−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−N,N′−ジホルミルヘキサメチレンジアミン、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジニル)セバケート等の高分子量ヒンダードアミン化合物等のヒンダードアミン系光安定剤を挙げることができる。
耐光性向上剤の配合割合は、(A)成分及び(B)成分の合計量100重量部に対して、0〜5重量%であることが好ましく、より好ましくは0〜1重量%である。
-Light resistance improver You may add light resistance improvement materials, such as a ultraviolet absorber and a light stabilizer, to the composition of this invention.
Examples of the ultraviolet absorber include 2- (2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2 Benzotriazole compounds such as'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl)benzotriazole;
Triazine compounds such as 2,4-bis (2,4-dimethylphenyl) -6- (2-hydroxy-4-iso-octyloxyphenyl) -s-triazine;
2,4-dihydroxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-4'-methylbenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2, 4, 4 ' -Trihydroxybenzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2,3,4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2,3', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, or 2,2 Examples include benzophenone compounds such as'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone.
Examples of the light stabilizer include N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -N, N′-diformylhexamethylenediamine, bis (1,2,6,6). -) Pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-ditertiarybutyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4- Low molecular weight hindered amine compounds such as piperidinyl) sebacate; N, N′-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) -N, N′-diformylhexamethylenediamine, bis (1,2 Hindered amine light stabilizers such as high molecular weight hindered amine compounds such as 2,6,6-pentamethyl-4-piperidinyl) sebacate.
The blending ratio of the light fastness improver is preferably 0 to 5% by weight, more preferably 0 to 1% by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the component (A) and the component (B).
4.使用方法
本発明の組成物は、光学フィルム形成の目的に応じて種々の使用方法を採用することができる。
具体的には、基材に組成物を塗工し電子線を照射して硬化させる方法、基材に組成物を塗工し別の基材と貼り合せた後さらに電子線を照射して硬化させる方法、凹部を有する型枠に組成物を流し込み、電子線を照射して硬化させる方法等が挙げられる。
4). Method of Use The composition of the present invention can employ various methods of use depending on the purpose of forming the optical film.
Specifically, a method of applying a composition to a substrate and irradiating it with an electron beam to cure, applying a composition to a substrate and bonding it to another substrate, and further irradiating with an electron beam and curing And a method of pouring the composition into a mold having a recess and irradiating it with an electron beam to cure.
基材としては、剥離可能な基材及び離型性を有しない基材(以下、「非離型性基材」という)のいずれも使用することができる。
剥離可能な基材としては、離型処理されたフィルム及び剥離性を有する表面未処理フィルム(以下、まとめて「離型材」という)等が挙げられる。
離型材としては、シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、表面未処理シクロオレフィンポリマーフィルム及び表面未処理OPPフィルム(ポリプロピレン)等が挙げられる。
本発明の組成物の硬化物のヘイズを1.0%以下に抑えるためには、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理OPPフィルム(ポリプロピレン)を使用することが好ましい。
As the substrate, any of a peelable substrate and a substrate having no releasability (hereinafter referred to as “non-releasing substrate”) can be used.
Examples of the peelable substrate include a release-treated film and a surface untreated film having peelability (hereinafter collectively referred to as “release material”).
Examples of the release material include silicone-treated polyethylene terephthalate film, surface untreated polyethylene terephthalate film, surface untreated cycloolefin polymer film, and surface untreated OPP film (polypropylene).
In order to suppress the haze of the cured product of the composition of the present invention to 1.0% or less, it is preferable to use a surface untreated polyethylene terephthalate film or a surface untreated OPP film (polypropylene).
本願発明の組成物から得られる光学フィルムに対して、低いヘイズにしたり表面平滑性を付与するためには、剥離可能な基材として表面粗さRaが150nm以下の基材を使用することが好ましい。
当該基材の具体例としては、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムや表面未処理OPPフィルム(ポリプロピレン)等が挙げられる。
尚、本発明において表面粗さRaとは、フィルムの表面の凹凸を測定し、平均の粗さを計算したものを意味する。
In order to achieve low haze or impart surface smoothness to the optical film obtained from the composition of the present invention, it is preferable to use a substrate having a surface roughness Ra of 150 nm or less as a peelable substrate. .
Specific examples of the substrate include a surface untreated polyethylene terephthalate film and a surface untreated OPP film (polypropylene).
In the present invention, the surface roughness Ra means a value obtained by measuring the surface roughness of the film and calculating an average roughness.
非離型性基材としては、前記以外の各種プラスチックが挙げられ、ポリビニルアルコール、トリアセチルセルロース及びジアセチルセルロース等のセルロースアセテート樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルサルホン、ノルボルネン等の環状オレフィンをモノマーとする環状ポリオレフィン樹脂等が挙げられる。 Examples of the non-releasable base material include various plastics other than the above, cellulose acetate resins such as polyvinyl alcohol, triacetyl cellulose and diacetyl cellulose, acrylic resins, polyesters, polycarbonates, polyarylates, polyethersulfones, norbornene, etc. And cyclic polyolefin resins having a cyclic olefin as a monomer.
塗工方法としては、目的に応じて適宜設定すれば良く、従来公知のバーコート、アプリケーター、ドクターブレード、ナイフコーター、コンマコーター、リバースロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター及びマイクログラビアコーター等で塗工する方法が挙げられる。 As a coating method, it may be appropriately set depending on the purpose, and it is applied with a conventionally known bar coater, applicator, doctor blade, knife coater, comma coater, reverse roll coater, die coater, gravure coater, micro gravure coater, etc. The method of doing is mentioned.
電子線照射における、線量等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。 What is necessary is just to set suitably irradiation conditions, such as a dose in electron beam irradiation, according to the composition to be used, a base material, the objective, etc.
5.光学フィルム
本発明の組成物は、光学フィルムの製造に好ましく使用できる。
以下、光学フィルムについて説明する。
尚、以下においては、図1及び図2に基づき一部説明する。
5). Optical Film The composition of the present invention can be preferably used for the production of an optical film.
Hereinafter, the optical film will be described.
Hereinafter, a part of the description will be given with reference to FIGS. 1 and 2.
5−1.光学フィルムの製造方法
光学フィルムの製造方法としては常法に従えば良く、例えば、組成物を基材に塗布した後、電子線を照射して製造することができる。
5-1. Production method of optical film The production method of the optical film may be in accordance with conventional methods. For example, the composition can be produced by applying the composition to a substrate and then irradiating it with an electron beam.
図1は、離型材/硬化物から構成される光学フィルムの好ましい製造方法の一例を示す。
図1において、(1)は離型材を意味する。
組成物が無溶剤型の場合(図1:F1)は、組成物を離型材〔図1:(1)〕に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合(図1:F2)は、組成物を離型材〔図1:(1)〕に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる(図1:1−1)。
離型材に組成物層(2)が形成されてなるシートに対して電子線を照射することで、離型材/硬化物から構成される光学フィルムが得られる。電子線の照射は、通常、組成物層側から照射するが、離型材側からも照射できる。
上記において、基材(1)として離型材を使用すれば、離型材/硬化物から構成される光学フィルムを製造することができる。
FIG. 1 shows an example of a preferable method for producing an optical film composed of a release material / cured product.
In FIG. 1, (1) means a release material.
When the composition is a solventless type (FIG. 1: F1), the composition is applied to a release material [FIG. 1: (1)]. When the composition contains an organic solvent or the like (FIG. 1: F2), the composition is applied to a release material [FIG. 1: (1)] and then dried to evaporate the organic solvent or the like (FIG. 1: 1). -1).
By irradiating an electron beam onto the sheet having the composition layer (2) formed on the release material, an optical film composed of the release material / cured product is obtained. The electron beam is usually irradiated from the composition layer side, but can also be irradiated from the release material side.
In the above, if a release material is used as the substrate (1), an optical film composed of the release material / cured product can be produced.
本発明の組成物の塗工量としては、使用する用途に応じて適宜選択すればよいが、有機溶剤等を乾燥した後の膜厚が5〜200μmとなるよう塗工するのが好ましく、より好ましくは10〜100μmである。 The coating amount of the composition of the present invention may be appropriately selected according to the application to be used, but it is preferable that the coating is performed so that the film thickness after drying the organic solvent or the like is 5 to 200 μm. Preferably it is 10-100 micrometers.
組成物が有機溶剤等を含む場合は、塗布後に乾燥させ、有機溶剤等を蒸発させる。
乾燥条件は、使用する有機溶剤等に応じて適宜設定すれば良く、40〜150℃の温度に加熱する方法等が挙げられる。
When the composition contains an organic solvent or the like, it is dried after coating to evaporate the organic solvent or the like.
What is necessary is just to set drying conditions suitably according to the organic solvent etc. to be used, and the method of heating to the temperature of 40-150 degreeC etc. are mentioned.
電子線照射における、線量等の照射条件は、使用する組成物、基材及び目的等に応じて適宜設定すれば良い。 What is necessary is just to set suitably irradiation conditions, such as a dose in electron beam irradiation, according to the composition to be used, a base material, the objective, etc.
図2は、離型材/硬化物/離型材から構成される光学フィルムの好ましい製造方法の一例を示す。
図2において、(1)、(3)、(4)は離型材を意味する。
組成物が無溶剤型の場合(図2:F1)は、組成物を離型材〔図2:(1)〕に塗工する。組成物が有機溶剤等を含む場合(図2:F2)は、組成物を離型材〔図2:(1)〕に塗工した後に、乾燥させて有機溶剤等を蒸発させる(図2:2−1)。組成物層(2)には離型材(3)をラミネートした後電子線照射したり、電子線照射した後に離型材をラミネートすることで、離型材、硬化物及び離型材が、この順に形成されてなる光学フィルムが得られる。
FIG. 2 shows an example of a preferable method for producing an optical film composed of a release material / cured product / release material.
In FIG. 2, (1), (3), and (4) mean release materials.
When the composition is a solventless type (FIG. 2: F1), the composition is applied to a release material [FIG. 2: (1)]. When the composition contains an organic solvent or the like (FIG. 2: F2), the composition is applied to a release material [FIG. 2: (1)] and then dried to evaporate the organic solvent (FIG. 2: 2). -1). In the composition layer (2), a release material (3) is laminated and then irradiated with an electron beam, or after being irradiated with an electron beam, a release material, a cured product and a release material are formed in this order. An optical film is obtained.
上記図1及び2では基材として離型材を使用した例を記載したが、非離型性基材を使用して、光学フィルムを製造することもできる。
例えば、図1において、(1)の離型材に代え非離型性基材を使用し、前記と同様に電子線照射して硬化させ、非離型性基材/硬化物から構成される光学フィルムを製造することもできる。
又、図2において、(1)、(3)及び(4)のいずれかの離型材として、非離型性基材を使用し、前記と同様の方法で電子線照射して硬化させ、離型材/硬化物/非離型性基材から構成される光学フィルムや、非離型性基材/硬化物/非離型性基材から構成される光学フィルムを製造することもできる。
当該実施態様の具体例としては、非離型性基材として偏光子を使用し、組成物を塗工して電子線を照射し、偏光子に保護膜を直接形成させる方法等が挙げられる。
Although the example which used the mold release material as a base material was described in the said FIG. 1 and 2, an optical film can also be manufactured using a non-mold release base material.
For example, in FIG. 1, a non-releasable substrate is used instead of the release material of (1), and is cured by irradiation with an electron beam in the same manner as described above. A film can also be produced.
In FIG. 2, a non-releasable base material is used as the release material of any one of (1), (3) and (4) and cured by electron beam irradiation in the same manner as described above. An optical film composed of a mold material / cured product / non-releasable substrate and an optical film composed of non-releasing substrate / cured product / non-releasing substrate can also be produced.
Specific examples of the embodiment include a method in which a polarizer is used as a non-releasing substrate, a composition is applied, and an electron beam is irradiated to directly form a protective film on the polarizer.
又、前記の例では、組成物を基材に塗工して光学フィルムを製造する例を挙げたが、膜厚が大きい光学フィルムを製造する場合は、特定の凹部を有する型枠等に組成物を流し込み、前記と同様にして電子線を照射して組成物を硬化させ光学フィルムを製造することもできる。 In the above example, the optical film is produced by applying the composition to a substrate. However, when producing an optical film having a large film thickness, the composition is formed on a mold having a specific recess. An optical film can also be produced by pouring an object and irradiating an electron beam in the same manner as described above to cure the composition.
5−2.光学フィルムの用途
本発明の組成物から形成される光学フィルムは、ヘイズが1.0%以下で、かつ厚さ80μmで測定した場合における正面及び斜め40°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが10nm以下である。
当該光学フィルムは、種々の光学用途に使用できるものであり、より具体的には、液晶表示装置等に使用される偏光板の偏光子保護フィルム、プリズムシート用支持フィルム及び導光フィルム等が挙げられる。
本発明の組成物から形成される光学フィルムは、これらの中でも偏光子保護フィルムに公的に使用できるものである。
5-2. Use of optical film The optical film formed from the composition of the present invention has a haze of 1.0% or less and an in-plane retardation of 40 ° front and oblique directions and a retardation in the thickness direction when measured at a thickness of 80 μm. Are all 10 nm or less.
The optical film can be used for various optical applications, and more specifically, includes a polarizer protective film for polarizing plates used in liquid crystal display devices, a prism sheet support film, a light guide film, and the like. It is done.
Among these, the optical film formed from the composition of the present invention can be used publicly for a polarizer protective film.
以下、本発明の組成物から形成される偏光子保護フィルム(以下、単に「保護フィルム」という)を使用した偏光板について説明する。 Hereinafter, a polarizing plate using a polarizer protective film (hereinafter simply referred to as “protective film”) formed from the composition of the present invention will be described.
●偏光板
偏光板は、偏光子の少なくとも片面に保護フィルムが積層された構成である。
偏光子としては、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過する機能を有するものであれば種々の材料が使用できる。
例えば、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着・配向させたヨウ素系偏光フィルム、ポリビニルアルコール系フィルムに二色性の染料を吸着・配向させた染料系偏光フィルム、二色性染料をコーティングし、配向・固定化した塗布型偏光子等が挙げられる。これら、ヨウ素系偏光フィルム、染料系偏光フィルム及び塗布型偏光子は、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過し、もう一方向の直線偏光を吸収する機能を有するもので、吸収型偏光子と呼ばれている。これらの偏光子の中でも、視認性に優れている吸収型偏光子を用いるのが好ましい。吸収型偏光子の厚みは、5〜40μmが好ましい。
本発明の偏光板は、偏光子の少なくとも片面に、保護フィルムとして本発明の光学フィルムが積層された偏光板であって、接着剤により接着される。
-Polarizing plate A polarizing plate is the structure by which the protective film was laminated | stacked on the at least single side | surface of the polarizer.
As the polarizer, various materials can be used as long as they have a function of selectively transmitting linearly polarized light in one direction from natural light.
For example, an iodine polarizing film in which iodine is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol film, a dye polarizing film in which a dichroic dye is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol film, and a dichroic dye is coated. Examples include a fixed coating type polarizer. These iodine-based polarizing films, dye-based polarizing films, and coating-type polarizers have a function of selectively transmitting linearly polarized light in one direction from natural light and absorbing linearly polarized light in the other direction. It is called a polarizer. Among these polarizers, it is preferable to use an absorption type polarizer having excellent visibility. The thickness of the absorption polarizer is preferably 5 to 40 μm.
The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate in which the optical film of the present invention is laminated as a protective film on at least one surface of a polarizer, and is bonded by an adhesive.
偏光子と保護フィルムとの接着に用いる接着剤は、それぞれの接着性を考慮して任意のものを用いることができる。
接着剤としては、具体的には、ポリビニルアルコール系水系接着剤、溶剤系接着剤、ホットメルト系接着剤及び無溶剤系接着剤等が挙げられ、無溶剤系の活性エネルギー線硬化型接着剤を好適に用いることができる。
活性エネルギー線硬化型接着剤としては、光カチオン硬化型接着剤、光ラジカル硬化型接着剤、及び光カチオン硬化と光ラジカル硬化を併用するハイブリッド型接着剤が挙げられる。
光カチオン硬化型接着剤としては、エポキシ化合物及びオキセタン化合物等の光カチオン硬化性化合物、並びに光カチオン重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。
光ラジカル硬化型接着剤としては、(メタ)アクリレート、ビニルエーテル、ビニル化合物等の光ラジカル硬化性化合物、並びに光ラジカル重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。
ハイブリッド型接着剤としては、前記した光カチオン硬化性化合物、光ラジカル硬化性化合物、光カチオン重合開始剤及び光ラジカル重合開始剤を含む接着剤等が挙げられる。
Any adhesive can be used for the adhesive between the polarizer and the protective film in consideration of the respective adhesiveness.
Specific examples of the adhesive include polyvinyl alcohol-based water-based adhesives, solvent-based adhesives, hot-melt-based adhesives, and solvent-free adhesives, and solvent-free active energy ray-curable adhesives. It can be used suitably.
Examples of the active energy ray curable adhesive include a photo cation curable adhesive, a photo radical curable adhesive, and a hybrid adhesive that uses both photo cation curing and photo radical curing.
Examples of the photo cation curable adhesive include photo cation curable compounds such as epoxy compounds and oxetane compounds, and adhesives including a photo cation polymerization initiator.
Examples of the photo-radical curable adhesive include photo-radical curable compounds such as (meth) acrylates, vinyl ethers and vinyl compounds, and adhesives containing a photo-radical polymerization initiator.
Examples of the hybrid adhesive include an adhesive containing the above-described photocationic curable compound, photoradical curable compound, photocationic polymerization initiator, and photoradical polymerization initiator.
偏光子の両面に保護フィルムを有する場合、本発明の保護フィルムを両面に有するものが最も好ましい。但し、必要に応じて本発明の保護フィルムを片面に使用し、もう片面には本願発明の保護フィルム以外の保護フィルム(以下、「その他保護フィルム」という)を使用することもできる。
その他保護フィルムとしては、例えば、トリアセチルセルロースやジアセチルセルロースのようなセルロースアセテート樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム、ノルボルネンのような環状オレフィンをモノマーとする環状ポリオレフィン樹脂フィルム等が挙げられる。又、これらをディスプレイ側の保護フィルムとして使用する場合には位相差を有するフィルムであっても良い。
When it has a protective film on both surfaces of a polarizer, what has the protective film of this invention on both surfaces is the most preferable. However, if necessary, the protective film of the present invention can be used on one side, and a protective film other than the protective film of the present invention (hereinafter referred to as “other protective film”) can be used on the other side.
Examples of other protective films include cellulose acetate resin films such as triacetyl cellulose and diacetyl cellulose, acrylic resin films, polyester resin films, and cyclic polyolefin resin films containing cyclic olefins such as norbornene as monomers. Moreover, when using these as a protective film of a display side, the film which has phase difference may be sufficient.
以下に、実施例及び比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。尚、下記において「部」とは、重量部を意味する。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. In the following, “parts” means parts by weight.
○製造例1〔(A)成分の製造〕
攪拌機を備えた500mL反応容器に、数平均分子量が2,000のポリエステルポリオール((株)クラレ製 P−2020、テレフタル酸と3−メチル−1,5−ペンタンジオールのエステル化物)を200g(0.098モル)、希釈剤としてイソボルニルアクリレートを114.2g、触媒としてジブチルスズジラウレートを290mg(反応溶液中に1,000ppm)、重合禁止剤として2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノールを290mg仕込み、5容量%の酸素を含む窒素の雰囲気下、これらを攪拌しながら液温が70℃になるまで加温した。反応溶液にIPDI43.7g(0.196モル)を一括で添加し、2時間反応させた。
その後、2−ヒドロキシエチルアクリレートを22.8g(0.196モル)を添加し、3時間反応させ、赤外線吸収スペクトル装置(Perkin Elmer製FT−IR Spectrum100)によりスペクトルを測定し、イソシアネート基が完全に消費されたことを確認し、ウレタンアクリレート(以下、「UA−1」という)を含む30%イソボルニルアクリレート希釈溶液を得た。
UA−1のポリスチレン換算重量平均分子量(以下、Mwという)を、ゲル浸透クロマトグラフィー(溶媒:テトラヒドロフラン、カラム:Waters製HSPgel HR MB−L)により測定した結果、9,300であった。
○ Production Example 1 [Production of component (A)]
In a 500 mL reaction vessel equipped with a stirrer, 200 g (0 of polyester polyol (P-2020 made by Kuraray Co., Ltd., esterified product of terephthalic acid and 3-methyl-1,5-pentanediol) having a number average molecular weight of 2,000 was added. 0.098 mol), 114.2 g of isobornyl acrylate as a diluent, 290 mg of dibutyltin dilaurate as a catalyst (1,000 ppm in the reaction solution), and 2,6-di-t-butyl-4-methyl as a polymerization inhibitor In a nitrogen atmosphere containing 5% by volume of oxygen, 290 mg of phenol was charged, and the mixture was heated to 70 ° C. while stirring. To the reaction solution, 43.7 g (0.196 mol) of IPDI was added all at once and reacted for 2 hours.
Thereafter, 22.8 g (0.196 mol) of 2-hydroxyethyl acrylate was added and reacted for 3 hours. The spectrum was measured with an infrared absorption spectrum apparatus (FT-IR Spectrum 100 manufactured by Perkin Elmer). After confirming consumption, a 30% isobornyl acrylate diluted solution containing urethane acrylate (hereinafter referred to as “UA-1”) was obtained.
The weight average molecular weight of UA-1 in terms of polystyrene (hereinafter referred to as Mw) was measured by gel permeation chromatography (solvent: tetrahydrofuran, column: HSPgel HR MB-L manufactured by Waters), and was 9,300.
○製造例2〔(A)成分以外のウレタンアクリレートの製造〕
製造例1においてイソシアネートをm−キシリレンジイソシアネート37gとした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート(以下、「UA−2」という)を含む30%イソボルニルアクリレート希釈溶液を得た。
得られたUA−2のMwは、10,400であった。
○ Production Example 2 [ Production of urethane acrylate other than component (A)]
The same operation was performed except that the isocyanate was changed to 37 g of m-xylylene diisocyanate in Production Example 1, and a 30% isobornyl acrylate diluted solution containing urethane acrylate (hereinafter referred to as “UA-2”) was obtained.
The Mw of the obtained UA-2 was 10,400.
○製造例3〔(A)成分以外のウレタンアクリレートの製造〕
製造例1においてイソシアネートをトリレン−2,6−ジイソシアネート34.2gとした以外は同様の操作を行い、ウレタンアクリレート(以下、「UA−3」という)を含む30%イソボルニルアクリレート希釈溶液を得た。
得られたUA−3のMwは、8,500であった。
○ Production Example 3 [ Production of urethane acrylate other than component (A)]
The same operation as in Production Example 1 except that the isocyanate was changed to 34.2 g of tolylene-2,6-diisocyanate was performed to obtain a 30% isobornyl acrylate diluted solution containing urethane acrylate (hereinafter referred to as “UA-3”). It was.
Mw of UA-3 obtained was 8,500.
○製造例4〔偏光子の製造〕
厚さ80μmのポリビニルアルコールフィルムを、30℃の水浴で膨潤させた後、5重量%(重量比:ヨウ素/ヨウ化カリウム=1/10)のヨウ素水溶液中で染色した。次いで、3重量%のホウ酸および2重量%ヨウ化カリウムを含む水溶液に浸漬し、さらに55℃の4重量%のホウ酸および3重量%のヨウ化カリウムを含む水溶液中で5.5倍まで一軸延伸した後、5重量%のヨウ化カリウム水溶液に浸漬した。その後、70℃のオーブンで1分間乾燥を行い、厚さ30μmの偏光子(以下、偏光子Pという)を得た。
得られた偏光子Pについて、偏光プリズム付き分光光度計((株)島津製作所製UV−2200)を用いて偏光度及び単体透過率を測定したところ、それぞれ99.99%及び43.1%であった。
○ Production Example 4 [ Production of Polarizer]
A polyvinyl alcohol film having a thickness of 80 μm was swelled in a 30 ° C. water bath and then dyed in an aqueous iodine solution of 5 wt% (weight ratio: iodine / potassium iodide = 1/10). Then, it is immersed in an aqueous solution containing 3% by weight boric acid and 2% by weight potassium iodide, and further up to 5.5 times in an aqueous solution containing 4% by weight boric acid and 3% by weight potassium iodide at 55 ° C. After uniaxial stretching, it was immersed in a 5 wt% potassium iodide aqueous solution. Then, it dried for 1 minute in 70 degreeC oven, and obtained the 30-micrometer-thick polarizer (henceforth polarizer P).
About the obtained polarizer P, when the polarization degree and the single transmittance were measured using the spectrophotometer with a polarizing prism (Shimadzu Corporation UV-2200), it was 99.99% and 43.1%, respectively. there were.
○製造例5〔紫外線硬化型接着剤の製造〕
ビスフェノールAジグリシジルエーテル(ジャパンエポキシレジン(株)製jER807)50部、テトラヒドロフルフリルアクリレート(大阪有機化学工業(株)製THF−A)20部、4−ヒドロキシルブチルアクリレート(日本化成(株)製4−HBA)30部、光重合開始剤(以下、「光開始剤」という)のヨードニウム(4−メチルフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]−ヘキサフルオルフォスフェート(BASFジャパン(株)製IRGACURE250)4部、2,4−ジエチルチオキサントン(日本化薬(株)製カヤキュアDETX−s)1部をステンレス製容器に投入し、マグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、紫外線硬化型接着剤(以下、接着剤UVXという)を得た。
○ Production Example 5 [ Production of UV-curable adhesive]
50 parts of bisphenol A diglycidyl ether (Japan Epoxy Resin Co., Ltd. jER807), 20 parts of tetrahydrofurfuryl acrylate (THF-A, Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), 4-hydroxylbutyl acrylate (Nippon Kasei Co., Ltd.) 4-HBA), 30 parts of photopolymerization initiator (hereinafter referred to as “photoinitiator”) iodonium (4-methylphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl] -hexafluorophosphate (BASF Japan ( IRGACURE250 (made by Co., Ltd.) 4 parts, 1,4-diethylthioxanthone (Nippon Kayaku Co., Ltd. Kayacure DETX-s) 1 part is put into a stainless steel container, and stirred with a magnetic stirrer until it is uniform, UV curing A mold adhesive (hereinafter referred to as adhesive UVX) was obtained.
(1)実施例(組成物の製造)
後記表1に示す成分を表1に示す割合でステンレス製容器に投入し、加温しながらマグネチックスターラーで均一になるまで撹拌し、組成物を得た。
(1) Example (Production of composition)
The components shown in Table 1 below were charged in a stainless steel container at the ratio shown in Table 1, and stirred with a magnetic stirrer while heating to obtain a composition.
表1における略号は、下記を意味する。
・UCA002:ポリカーボネート系無黄変型ウレタンアクリレート、根上工業(株)製アートレジンUCA−002〔Mw7,000〕
・M1600:ポリエーテル系ウレタンアクリレート、東亞合成(株)製アロニックスM−1600
・IBXA:イソボルニルアクリレート、大阪有機化学工業(株)製IBXA
・M140:N−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、東亞合成(株)製アロニックスM−140
・Dc1173:2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、BASFジャパン(株)製DAROCUR−1173
The abbreviations in Table 1 mean the following.
UCA002: Polycarbonate-based non-yellowing urethane acrylate, Art Resin UCA-002 [Mw 7,000] manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.
M1600: Polyether urethane acrylate, Aronix M-1600 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
-IBXA: Isobornyl acrylate, IBXA manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.
M140: N-acryloyloxyethylhexahydrophthalimide, Aronix M-140 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
Dc1173: 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, DAROCUR-1173 manufactured by BASF Japan
(3)実施例5〜8及び比較例7〜8(電子線硬化による光学フィルムの製造)
幅300mm×長さ300mmの東レ(株)製フィルム「ルミラー50−T60」(表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ50μm、表面粗さRa111nm、以下「ルミラー」という)に、実施例1〜4及び比較例3〜4で得られた組成物を加温し、膜厚が80μmになるようアプリケーターで塗工した。
その後、組成物層に、幅300mm×長さ300mmのルミラーをラミネートした後、(株)NHVコーポレーション製の電子線照射装置により、加速電圧200kV、線量50kGy(ビーム電流及び搬送速度により調整)、酸素濃度300ppm以下の条件下で電子線照射を行い、光学フィルムを得た。
硬化後、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離し、後記する全光線透過率、ヘイズ、耐光性試験、面内及び厚さ方向レタデーション、耐溶剤性の評価に用いた。
(3) Examples 5 to 8 and Comparative Examples 7 to 8 (Production of optical film by electron beam curing)
Examples 1 to 4 and a film “Lumirror 50-T60” manufactured by Toray Industries, Inc. having a width of 300 mm and a length of 300 mm (surface-untreated polyethylene terephthalate film, thickness 50 μm, surface roughness Ra111 nm, hereinafter referred to as “Lumirror”) The compositions obtained in Comparative Examples 3 to 4 were heated and coated with an applicator so that the film thickness was 80 μm.
Then, after laminating 300 mm width x 300 mm length on the composition layer, an acceleration voltage of 200 kV, a dose of 50 kGy (adjusted by the beam current and the conveyance speed), oxygen by an electron beam irradiation device manufactured by NHV Corporation, oxygen Electron beam irradiation was performed under conditions of a concentration of 300 ppm or less to obtain an optical film.
After curing, the film was peeled off from the untreated polyethylene terephthalate film, and used for evaluation of total light transmittance, haze, light resistance test, in-plane and thickness direction retardation, and solvent resistance described later.
(4)比較例5〜6(紫外線硬化による光学フィルムの製造)
幅300mm×長さ300mmのルミラーに、比較例1及び同2で得られた紫外線硬化型組成物を加温し、膜厚が80μmになるようアプリケーターで塗工した。
その後、組成物層に、幅300mm×長さ300mmのルミラーをラミネートした後、アイグラフィックス(株)製のコンベア式紫外線照射装置(高圧水銀灯、ランプ高さ12cm、365nmの照射強度400mW/cm2(フュージョンUVシステムズ・ジャパン(株)社製UV POWER PUCKの測定値))によりコンベア速度を調整して、積算光量1,000mJ/cm2の紫外線照射を行い、紫外線硬化型光学フィルムを得た。
硬化後、表面未処理ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離し、後記する評価に用いた。
(4) Comparative Examples 5 to 6 (Production of optical film by ultraviolet curing)
The UV curable composition obtained in Comparative Examples 1 and 2 was heated on a Lumirror having a width of 300 mm and a length of 300 mm, and coated with an applicator so that the film thickness was 80 μm.
Then, after laminating 300 mm width x 300 mm length on the composition layer, a conveyor type ultraviolet irradiation device (high pressure mercury lamp, lamp height 12 cm, 365 nm irradiation intensity 400 mW / cm 2 manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) (Measurement value of UV POWER PUCK manufactured by Fusion UV Systems Japan Co., Ltd.) was adjusted to carry out ultraviolet irradiation with an integrated light amount of 1,000 mJ / cm 2 to obtain an ultraviolet curable optical film.
After curing, the film was peeled off from the untreated polyethylene terephthalate film and used for evaluation described later.
(5)比較例9(電子線硬化による光学フィルムの製造)
離型材として東レフィルム加工(株)製離型フィルム「セラピールBX8」(シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ38μm、表面粗さRa363nm、以下「セラピール」という)、組成物として実施例1を用いた以外は、実施例5〜8及び比較例7〜8と同様にして、電子線硬化により光学フィルムを得た。
硬化後、シリコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥離し、後記する評価に用いた。
(5) Comparative Example 9 (Production of optical film by electron beam curing)
A release film “Celapeel BX8” manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd. (silicone-treated polyethylene terephthalate film, thickness 38 μm, surface roughness Ra 363 nm, hereinafter referred to as “therapy”) as a release material, and Example 1 except that Example 1 was used as a composition Produced optical films by electron beam curing in the same manner as in Examples 5-8 and Comparative Examples 7-8.
After curing, it was peeled off from the silicone-treated polyethylene terephthalate film and used for the evaluation described later.
〔全光線透過率及びヘイズ〕
実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、ヘイズメーター〔日本電色工業(株)製NDH2000〕を用いて全光線透過率及びヘイズを測定した。それらの結果を表2に示す。
[Total light transmittance and haze]
About the optical film obtained by the Example and the comparative example, the total light transmittance and haze were measured using the haze meter [Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. NDH2000]. The results are shown in Table 2.
〔耐光性試験〕
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの初期YI(Yellowing Index)及び、紫外線フェードメーター〔スガ試験機(株)製紫外線ロングライフフェードメーターFAL−5H型〕に500時間放置した後のYI変化(△YI)を測定することで
、光学フィルムの耐光性を評価した。それらの結果を表2に示す。
尚、YI値は、高速積分球式分光透過率測定器〔(株)村上色彩技術研究所製SPECTROPHOTOMETER DOT−3C〕を用いて測定した。
(Light resistance test)
Initial YI (Yellowing Index) of optical films obtained in Examples and Comparative Examples, and YI change after being left for 500 hours in an ultraviolet fade meter (UV Long Life Fade Meter FAL-5H type manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) The light resistance of the optical film was evaluated by measuring (ΔYI). The results are shown in Table 2.
In addition, the YI value was measured using a high-speed integrating sphere type spectral transmittance measuring device [SPECTROTOPOMETER DOT-3C manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.].
〔面内及び厚さ方向レタデーション〕
実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、位相差測定器(王子計測機器(株)製KOBRA-21ADH)を用いて正面及び斜め40°の面内レタデーション(以下、それぞれ「0°Re」及び「40°Re」という)及び厚さ方向レタデーション(以下、「Rth」という)を測定した。それらの結果を表2に示す。
[In-plane and thickness direction retardation]
About the optical film obtained by the Example and the comparative example, in-plane retardation (henceforth "0 degree Re" respectively) using the phase difference measuring device (Oji Scientific Instruments Co., Ltd. product KOBRA-21ADH) and diagonal 40 degrees. And “40 ° Re”) and thickness direction retardation (hereinafter referred to as “Rth”). The results are shown in Table 2.
〔耐溶剤性〕
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの耐溶剤性(酢酸エチル)について、スポット試験により下記基準で評価した。それらの結果を表2に示す。
○:外観変化なし
×:溶剤浸食による白化
[Solvent resistance]
About the solvent resistance (ethyl acetate) of the optical film obtained by the Example and the comparative example, it evaluated on the following reference | standard by the spot test. The results are shown in Table 2.
○: No change in appearance ×: Whitening due to solvent erosion
表2における略号は、下記を意味する。
・TAC:トリアセチルセルロースフィルム、富士フイルム(株)製フジタック(UVA入り、80μm)
The abbreviations in Table 2 mean the following.
-TAC: Triacetyl cellulose film, Fujifilm manufactured by Fuji Film Co., Ltd. (with UVA, 80 μm)
実施例5〜8は、本発明の組成物である実施例1〜4から組成物を電子線照射して得られた光学フィルムであり、UVAを含まずとも耐光性試験後の黄変度が小さく、ヘイズ、斜め40°正面及び厚さ方向のレタデーションが小さく、耐溶剤性が良好であった。
これに対して、比較例5及び6は、(A)及び(B)成分を含むものの、さらに光開始剤を含む比較例1及び同2の組成物を紫外線照射して製造された光学フィルムであり、実施例5〜8の光学フィルムよりも耐光性試験後の黄変度が大きく、特に、厚さ方向レタデーションが大きかった。
比較例7は、(A)成分とは異なる難黄変型有機ジイソシアネートから製造されるウレタンアクリレート(UA−2)を含む比較例3の組成物から製造された光学フィルムであり、耐光性試験後の黄変度が大きかった。
比較例8は、(A)成分とは異なる黄変型有機ジイソシアネートから製造されるウレタンアクリレート(UA−3)を含む比較例4の組成物から製造された光学フィルムであり、耐光性試験後の黄変度が非常に大きかった。
比較例9は、実施例1の組成物を使用したものであるが、離型材の表面粗さRaが150nmより大きいために硬化物のヘイズが1.0%よりも大きかった。
比較例10は、従来のトリアセチルセルロースであるが、UVAを含むために初期黄変が大きかった。又、斜め40°正面及び厚さ方向のレタデーションが大きく、熱可塑性樹脂であるために耐溶剤性が悪かった。
Examples 5 to 8 are optical films obtained by irradiating the compositions from Examples 1 to 4 which are the compositions of the present invention with an electron beam, and have a yellowing degree after a light resistance test even without UVA. Small, haze, oblique 40 ° front and retardation in the thickness direction were small, and the solvent resistance was good.
On the other hand, Comparative Examples 5 and 6 are optical films produced by irradiating the compositions of Comparative Examples 1 and 2 containing a photoinitiator with ultraviolet rays, although they contain the components (A) and (B). Yes, the yellowing degree after the light resistance test was larger than those of the optical films of Examples 5 to 8, and particularly the thickness direction retardation was large.
Comparative Example 7 is an optical film produced from the composition of Comparative Example 3 containing urethane acrylate (UA-2) produced from a slightly yellowing organic diisocyanate different from component (A), and after the light resistance test The degree of yellowing was large.
Comparative Example 8 is an optical film produced from the composition of Comparative Example 4 containing urethane acrylate (UA-3) produced from a yellowing organic diisocyanate different from component (A), and the yellow after the light resistance test. The degree of change was very large.
In Comparative Example 9, the composition of Example 1 was used, but since the surface roughness Ra of the release material was larger than 150 nm, the haze of the cured product was larger than 1.0%.
Comparative Example 10 is a conventional triacetyl cellulose, but the initial yellowing was large because it contained UVA. In addition, the retardation in the oblique 40 ° front and thickness directions was large, and the solvent resistance was poor due to the thermoplastic resin.
(6)実施例9〜10及び比較例11〜12(偏光板の製造)
偏光子保護フィルムとして実施例5〜6及び比較例9で得られた光学フィルムやTACフィルムを用い、偏光子Pの両面に接着剤UVXを介して貼り合わせた後、アイグラフィックス(株)製のコンベア式紫外線照射装置(高圧水銀灯、ランプ高さ15cm、365nmの照射強度370mW/cm2(フュージョンUVシステムズ・ジャパン(株)社製UV POWER PUCKの測定値))によりコンベア速度を調整して、積算光量220mJ/cm2の紫外線照射を行い、偏光板(幅100mm×長さ100mm)を得た。
なお、いずれの偏光子保護フィルムに対してもコロナ処理は行わなかった。
(6) Examples 9 to 10 and Comparative Examples 11 to 12 (Production of Polarizing Plate)
The optical film or TAC film obtained in Examples 5 to 6 and Comparative Example 9 was used as a polarizer protective film, and was bonded to both sides of the polarizer P via an adhesive UVX, and then manufactured by Eye Graphics Co., Ltd. The conveyor speed is adjusted by a conveyor type ultraviolet irradiation device (high pressure mercury lamp, lamp height 15 cm, irradiation intensity 370 mW / cm 2 of 365 nm (measured value of UV POWER PUCK manufactured by Fusion UV Systems Japan Co., Ltd.)) An ultraviolet ray with an integrated light quantity of 220 mJ / cm 2 was applied to obtain a polarizing plate (width 100 mm × length 100 mm).
In addition, no corona treatment was performed on any of the polarizer protective films.
〔偏光度及び単体透過率の測定〕
実施例及び比較例で得られた偏光板について、偏光プリズム付き分光光度計((株)島津製作所製UV−2200)を用いて偏光度及び単体透過率を測定した。それらの結果を表3に示す。
(Measurement of degree of polarization and single transmittance)
About the polarizing plate obtained by the Example and the comparative example, the polarization degree and the single-piece | unit transmittance were measured using the spectrophotometer with a polarizing prism (Shimadzu Corporation UV-2200). The results are shown in Table 3.
〔偏光子保護フィルムと偏光子の接着性〕
実施例及び比較例で得られた偏光板における、偏光子保護フィルムと偏光子Pの接着性を手でひねりを加えてねじ切ったときの状態を以下の基準で評価した。それらの結果を表3に示す。
○:偏光子と偏光子保護フィルムとが一体化して剥がれが生じない。
×:偏光子と偏光子保護フィルムとの間に剥がれが認められる。
[Adhesiveness between polarizer protective film and polarizer]
In the polarizing plates obtained in the examples and comparative examples, the adhesive properties of the polarizer protective film and the polarizer P were evaluated by the following criteria when twisted by hand twisting. The results are shown in Table 3.
A: The polarizer and the polarizer protective film are integrated with each other so that peeling does not occur.
X: Peeling is recognized between the polarizer and the polarizer protective film.
実施例9及び10は、本発明の組成物である実施例5〜6で得られた光学フィルムを用いた偏光板であり、偏光子Pの性能が維持されており、コロナ処理を行わずとも接着性が良好であった。
これに対して、比較例11は、比較例9で得られた光学フィルムを用いた偏光板であるが、接着性は良好なものの、光学フィルムのヘイズが高いため、偏光子Pの性能が維持されず偏光度が低下した。又、比較例12は、従来のTACフィルムを用いた偏光板であるが、偏光子Pの性能が維持されたものの、コロナ処理を行わなかったため接着性が悪かった。
Examples 9 and 10 are polarizing plates using the optical films obtained in Examples 5 to 6 which are the compositions of the present invention, the performance of the polarizer P is maintained, and the corona treatment is not performed. Adhesiveness was good.
On the other hand, although the comparative example 11 is a polarizing plate using the optical film obtained in the comparative example 9, although adhesiveness is favorable, since the haze of an optical film is high, the performance of the polarizer P is maintained. The degree of polarization was not reduced. Moreover, although the comparative example 12 is a polarizing plate using the conventional TAC film, although the performance of the polarizer P was maintained, since the corona treatment was not performed, adhesiveness was bad.
本発明の光学フィルム形成用電子線硬化型組成物は、光学フィルムの製造に好適に使用することができる。
さらに、本発明の光学フィルムは、前記で詳述した通り、偏光子保護フィルム用途において好適に使用される。
The electron beam curable composition for forming an optical film of the present invention can be suitably used for the production of an optical film.
Furthermore, as described in detail above, the optical film of the present invention is suitably used in a polarizer protective film application.
Claims (17)
1個の(メタ)アクリロイル基を有する化合物(B)を含み、
硬化物のヘイズが1.0%以下で、かつ
厚さ80μmで測定した場合における硬化物の正面及び斜め40°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが10nm以下である
光学フィルム又はシート形成用電子線硬化型組成物。 Urethane (meth) acrylate (A) and one (meth) which is a reaction product of at least one diol selected from polycarbonate diol, polyester diol or polyether diol, non-yellowing organic diisocyanate and hydroxyl group-containing (meth) acrylate Including a compound (B) having an acryloyl group,
An optical film or sheet in which the haze of the cured product is 1.0% or less and all of the front and oblique in-plane retardation of the cured product and the retardation in the thickness direction are 10 nm or less when measured at a thickness of 80 μm. An electron beam curable composition for forming.
ヘイズが1.0%以下で、かつ
厚さ80μmで測定した場合における正面及び斜め40°の面内レタデーション並びに厚さ方向のレタデーションの全てが10nm以下である
光学フィルム又はシート。 The electron beam irradiation cured product of the composition according to any one of claims 1 to 5, is formed into a film or a sheet,
An optical film or sheet having a haze of 1.0% or less and an in-plane retardation of 40 ° and an in-plane retardation and a retardation in the thickness direction of 10 nm or less when measured at a thickness of 80 μm.
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