JP2012189537A - Gas sensor - Google Patents

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Akira Mori
章 森
Eiji Kimura
英司 木村
Hajime Yamada
一 山田
Hidetoshi Fujii
英俊 藤井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To constitute a gas sensor whose selectivity of detection object gas is high, and which is small, low power consumption, and at low cost.SOLUTION: A cavity ES is vacuum or decompression environment. When there is hydrogen gas around a gas sensor 101, the hydrogen gas transmits glass layers 2 and 3 to infiltrate into the cavity ES. On the other hand, neither nitrogen gas nor oxygen gas does not transmit the glass layers 2 and 3. A Q value of a vibrator 11 in the cavity ES varies according to hydrogen gas partial pressure. The vibrator 11 is driven by a vibrator drive/detection circuit and the Q value is detected on the basis of its amplitude. Gas partial pressure is detected by variation of the Q value.

Description

本発明は例えば水素ガスなどの所定検知対象ガスを検知するガスセンサに関し、特に振動子を備えたガスセンサに関するものである。   The present invention relates to a gas sensor that detects a predetermined detection target gas such as hydrogen gas, and more particularly to a gas sensor including a vibrator.

従来、可燃性ガス漏れ警報器やガス濃度計に用いられるガスセンサとして、触媒表面での接触燃焼による温度上昇を検知する、接触燃焼式のガスセンサが一般的に普及している。この種のガスセンサは特許文献1に開示されているように、白金線コイル等の触媒表面でガスを接触燃焼させ、それによる白金線コイルの温度上昇を抵抗変化として測定するものである。   Conventionally, as a gas sensor used for a combustible gas leak alarm or a gas concentration meter, a catalytic combustion type gas sensor that detects a temperature rise due to catalytic combustion on a catalyst surface has been widely used. As disclosed in Patent Document 1, this type of gas sensor measures the temperature increase of the platinum wire coil as a resistance change by causing the gas to contact and burn on the surface of a catalyst such as a platinum wire coil.

また、NiO等の金属酸化物半導体表面でのガス吸着による電気伝導度の変化を抵抗変化として測定する半導体式のガスセンサも用いられている。   In addition, a semiconductor type gas sensor that measures a change in electrical conductivity due to gas adsorption on the surface of a metal oxide semiconductor such as NiO as a resistance change is also used.

また、パラジウムの水素貯蔵反応による重量変化を周波数変化として検出する水晶振動子水素ガスセンサも提案されている(特許文献2参照)。   A quartz vibrator hydrogen gas sensor that detects a change in weight due to a hydrogen storage reaction of palladium as a change in frequency has also been proposed (see Patent Document 2).

特開平10−90210号公報JP-A-10-90210 特開平2−110341号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-110341

現在普及している上記接触燃焼式のガスセンサは、白金やパラジウム等の触媒を用いた化学反応を利用しているので、それに伴い次のような解決すべき課題があった。   The above-mentioned catalytic combustion type gas sensor that is currently in widespread use of a chemical reaction using a catalyst such as platinum or palladium, and accordingly has the following problems to be solved.

(a)被検ガス中の各種ガスに反応してしまい、特定ガスに対する選択性が低い。 (A) It reacts with various gases in the test gas, and the selectivity for the specific gas is low.

(b)ガスセンサの動作温度が一般的に200〜500℃と高温を必要とするために大きな消費電力が必要である。また、高温のためにセンサ素子の劣化(経時変化)が顕著である。 (B) Since the operating temperature of the gas sensor generally requires a high temperature of 200 to 500 ° C., large power consumption is required. Further, the deterioration (time-dependent change) of the sensor element is remarkable due to the high temperature.

(c)白金・パラジウム等の貴金属材料が必要であるのでコストが高くなる。 (C) Since noble metal materials such as platinum and palladium are required, the cost is increased.

本発明はこれらの事情に鑑みてなされたものであり、その目的はガス種の選択性が高く、小型・低消費電力・低コストなガスセンサを提供することにある。   The present invention has been made in view of these circumstances, and an object of the present invention is to provide a gas sensor having high gas type selectivity, small size, low power consumption, and low cost.

本発明のガスセンサは次のように構成される。
(1)被検知対象である外部環境から隔離された内部空間を形成するキャビティと、このキャビティ内に配置された振動子と、を備え、
前記内部空間は真空または減圧されていて、前記キャビティの少なくとも一部はガス種による透過率が異なるガス選択透過性材料で構成されていることを特徴とする。
The gas sensor of the present invention is configured as follows.
(1) A cavity that forms an internal space that is isolated from the external environment that is the object to be detected, and a vibrator disposed in the cavity,
The internal space is evacuated or depressurized, and at least a part of the cavity is made of a gas selective permeable material having different permeability depending on the gas species.

(2)(1)において、検知対象ガスが水素ガスまたはヘリウムガスである場合、前記ガス選択透過性材料はガラスであることが好ましい。 (2) In (1), when the detection target gas is hydrogen gas or helium gas, the gas selective permeable material is preferably glass.

(3)(1)または(2)において、前記振動子はシリコン基板の加工により構成され、前記シリコン基板に前記振動子を駆動する駆動電極と、前記振動子の変位を検出する検出電極とが形成されることが好ましい。 (3) In (1) or (2), the vibrator is formed by processing a silicon substrate, and a drive electrode for driving the vibrator on the silicon substrate and a detection electrode for detecting displacement of the vibrator are provided. Preferably it is formed.

(4)(1)~(3)のいずれかにおいて、前記振動子の共振Q値に相当する信号または共振Q値に応じて定まる信号を測定し、その測定結果を検知信号として出力する測定回路を備えることが好ましい。 (4) In any one of (1) to (3), a measurement circuit that measures a signal corresponding to the resonance Q value of the vibrator or a signal determined according to the resonance Q value and outputs the measurement result as a detection signal It is preferable to provide.

(5)(4)において、前記測定回路は、前記振動子の共振周波数で発振させる自励発振回路と、前記自励発振回路中の少なくとも一か所の発振信号振幅を検出する発振信号振幅検出回路と、で構成されることが好ましい。 (5) In (4), the measurement circuit includes a self-excited oscillation circuit that oscillates at a resonance frequency of the vibrator, and an oscillation signal amplitude detection that detects an oscillation signal amplitude in at least one of the self-excited oscillation circuits. And a circuit.

(6)(1)~(5)のいずれかにおいて、前記ガス選択透過性材料で構成される前記キャビティの一部に複数に分散された薄壁部が形成されることが好ましい。 (6) In any one of (1) to (5), it is preferable that a plurality of thin wall portions dispersed in a part of the cavity made of the gas selective permeable material is formed.

本発明によれば、ガス選択性が高く、化学反応を利用しないため経時劣化が極めて小さく、ガス反応のための貴金属材料が不要であり、センサコストを抑えられる。   According to the present invention, gas selectivity is high, chemical reaction is not used, deterioration due to aging is extremely small, no noble metal material for gas reaction is unnecessary, and sensor cost can be suppressed.

図1は第1の実施形態のガスセンサ101の主要部の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part of a gas sensor 101 according to the first embodiment. 図2は振動子11を用いた、振動子駆動/検出回路である。FIG. 2 shows a vibrator driving / detecting circuit using the vibrator 11. 図3はガスセンサ101の破断斜視図である。FIG. 3 is a cutaway perspective view of the gas sensor 101. 図4は、振動子11の共振Q(Q値)とキャビティES内の内圧Pとの関係を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the resonance Q (Q value) of the vibrator 11 and the internal pressure P in the cavity ES. 図5は第2の実施形態である三種のガスセンサの断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of three types of gas sensors according to the second embodiment. 図6は第3の実施形態のガスセンサにおけるシリコン層の振動子部分の平面図である。FIG. 6 is a plan view of the vibrator portion of the silicon layer in the gas sensor of the third embodiment. 図7は振動子のメカニズムをモデル化した等価回路である。FIG. 7 is an equivalent circuit that models the mechanism of the vibrator. 図8は第4の実施形態である三種のガスセンサの断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of three types of gas sensors according to the fourth embodiment. 図9は第5の実施形態の振動子駆動/検出回路のブロック図である。FIG. 9 is a block diagram of the vibrator driving / detecting circuit of the fifth embodiment. 図10は第5の実施形態の別の振動子駆動/検出回路のブロック図である。FIG. 10 is a block diagram of another transducer driving / detecting circuit of the fifth embodiment. 図11は第6の実施形態であるガスセンサの断面図である。FIG. 11 is a sectional view of a gas sensor according to the sixth embodiment.

《第1の実施形態》
図1は第1の実施形態のガスセンサ101の主要部の断面図である。このガスセンサ101は、シリコン層1とそれを上下から挟む絶縁性ガラス層2,3を備えている。上下のガラス層2,3は、このガラス層2,3で囲まれる密閉された空間(以下、「キャビティ」という。)ESを構成している。そして、シリコン層1の所定領域に振動子11が形成されている。この振動子11はガラス層2,3に接することなくキャビティES内で振動するように、シリコン層1およびガラス層2,3で支持されている。
<< First Embodiment >>
FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part of a gas sensor 101 according to the first embodiment. The gas sensor 101 includes a silicon layer 1 and insulating glass layers 2 and 3 sandwiching the silicon layer 1 from above and below. The upper and lower glass layers 2 and 3 constitute a sealed space (hereinafter referred to as “cavity”) ES surrounded by the glass layers 2 and 3. A vibrator 11 is formed in a predetermined region of the silicon layer 1. The vibrator 11 is supported by the silicon layer 1 and the glass layers 2 and 3 so as to vibrate in the cavity ES without contacting the glass layers 2 and 3.

前記シリコン層1はSiウェハーで構成され、前記振動子11はSiウェハーに対する微細加工技術(MEMS技術)で形成される。シリコン層1に対してガラス層2,3は陽極接合等の接合技術により貼り合わされる。   The silicon layer 1 is composed of a Si wafer, and the vibrator 11 is formed by a fine processing technique (MEMS technique) for the Si wafer. The glass layers 2 and 3 are bonded to the silicon layer 1 by a bonding technique such as anodic bonding.

ガラス層2,3の振動子周辺エリアにはビア開口部6が形成されている。このビア開口部6の内表面およびビア開口の外部には外部電極7が導電性材料(例えばアルミニウム)の成膜により形成されている。この外部電極7により振動子11の電気信号を外部に取り出すようにしている。   A via opening 6 is formed in the area around the vibrator of the glass layers 2 and 3. An external electrode 7 is formed by depositing a conductive material (for example, aluminum) on the inner surface of the via opening 6 and outside the via opening. The electric signal of the vibrator 11 is taken out by the external electrode 7.

ここでガスセンサとして重要な構成要件は下記の3点である。
(1)密閉されたキャビティES内に振動子が形成されること。
(2)キャビティES内が真空又は減圧環境であること。
(3)キャビティESの壁、すなわちキャビティESと外部環境との間の仕切る部材がガス選択透過性を有すること。
Here, the following three points are important as gas sensors.
(1) A vibrator is formed in a sealed cavity ES.
(2) The cavity ES is in a vacuum or reduced pressure environment.
(3) The wall of the cavity ES, that is, the member that partitions the cavity ES and the external environment has gas selective permeability.

ガラスはランダム構造を有しているため、結晶よりは空隙が大きく、特にシリカガラスは低分子ガス(例えば水素ガスやヘリウムガス)に対して比較的高いガス透過率を有し、一般空気中に存在するガス(窒素、酸素、アルゴン、二酸化炭素)の透過率が極めて低い。すなわち、低分子ガスの選択透過性を有する。   Since glass has a random structure, it has larger voids than crystals. In particular, silica glass has a relatively high gas permeability to low-molecular gases (for example, hydrogen gas and helium gas), and in general air The permeability of the existing gas (nitrogen, oxygen, argon, carbon dioxide) is very low. That is, it has a low molecular gas selective permeability.

図2は前記振動子11を用いた、振動子駆動/検出回路である。図2において、振動子11はMEMS素子であり、グランド電極(共通電極)と駆動電極との間に電圧が印加されると静電引力によって可動部が変位する。したがって、駆動電極に交流の駆動電圧が印加されることによって可動部は振動する。そして、この駆動電圧の周波数が可動部の共振周波数と一致したとき、可動部は効率良く大きな振幅で振動することになる。また、振動子11の検出電極とグランド電極との間には可動部の振動に応じた容量変化が発生する。   FIG. 2 shows a vibrator driving / detecting circuit using the vibrator 11. In FIG. 2, the vibrator 11 is a MEMS element, and when a voltage is applied between the ground electrode (common electrode) and the drive electrode, the movable part is displaced by electrostatic attraction. Therefore, the movable part vibrates when an alternating drive voltage is applied to the drive electrode. When the frequency of the drive voltage coincides with the resonance frequency of the movable part, the movable part efficiently vibrates with a large amplitude. Further, a capacitance change corresponding to the vibration of the movable part occurs between the detection electrode of the vibrator 11 and the ground electrode.

発振回路12は前記振動子11の検出電極に発生する容量変化を検出するとともに、その検出電圧信号に応じて駆動電極に駆動電圧を印加する。すなわち、振動子11と発振回路12とで自励発振回路を構成している。   The oscillation circuit 12 detects a change in capacitance generated at the detection electrode of the vibrator 11 and applies a drive voltage to the drive electrode according to the detection voltage signal. That is, the vibrator 11 and the oscillation circuit 12 constitute a self-excited oscillation circuit.

発振回路振幅検出回路13は発振回路12の発振振幅を検出し、この発振振幅に応じて変化する電圧信号をセンサ出力信号として出力する。この発振回路12の発振振幅は振動子11の振動振幅に比例または強い相関関係があるので、センサ出力信号は振動子11の振幅に関する信号である。   The oscillation circuit amplitude detection circuit 13 detects the oscillation amplitude of the oscillation circuit 12, and outputs a voltage signal that changes according to the oscillation amplitude as a sensor output signal. Since the oscillation amplitude of the oscillation circuit 12 is proportional or strongly correlated with the vibration amplitude of the vibrator 11, the sensor output signal is a signal related to the amplitude of the vibrator 11.

ここで、ガス検知の原理を説明する。図3はガスセンサ101の破断斜視図である。図3に模式的に示すように、キャビティESは真空または減圧環境である。ガスセンサ101の周囲に水素ガスがあれば、水素ガスはガラス層2,3を透過してキャビティES内に浸入する。一方、窒素ガスや酸素ガスは透過しない。   Here, the principle of gas detection will be described. FIG. 3 is a cutaway perspective view of the gas sensor 101. As schematically shown in FIG. 3, the cavity ES is a vacuum or a reduced pressure environment. If there is hydrogen gas around the gas sensor 101, the hydrogen gas permeates the glass layers 2 and 3 and enters the cavity ES. On the other hand, nitrogen gas and oxygen gas do not permeate.

キャビティESに浸入するガスの量は下記の式で表わされる。   The amount of gas that enters the cavity ES is expressed by the following equation.

q=K・S・t・ΔP/d
ここで、
q:透過ガス量
K:透過係数
S:キャビティの表面積
d:ガラス層の厚さ
t:時間
ΔP:キャビティES内外の圧力差
である。
q = K ・ S ・ t ・ ΔP / d
here,
q: Permeated gas amount
K: Transmission coefficient
S: Cavity surface area
d: Glass layer thickness
t: Time ΔP: Pressure difference inside and outside the cavity ES.

水素ガスの浸入に伴い、キャビティES内の水素ガス分圧は上昇する。キャビティES内部の水素ガス分圧がガスセンサ101周辺雰囲気の水素ガス分圧と同じになった時点で(ΔPがゼロとなったとき)、キャビティESへの浸入は止まる。   As the hydrogen gas enters, the hydrogen gas partial pressure in the cavity ES increases. When the hydrogen gas partial pressure inside the cavity ES becomes the same as the hydrogen gas partial pressure around the gas sensor 101 (when ΔP becomes zero), the penetration into the cavity ES stops.

図4は、振動子11の共振Q(Q値)とキャビティES内の内圧Pとの関係を示す図である。振動子11が受ける粘性抵抗はキャビティESの内圧の上昇にともない増大する。粘性抵抗が増大する程、図4に示すように振動子11のQ値が低下して発振振幅は減少する。したがって、前記センサ出力信号のレベルを確認する事により、ガスセンサ101の周辺雰囲気の水素ガス分圧を検出することができる。   FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the resonance Q (Q value) of the vibrator 11 and the internal pressure P in the cavity ES. The viscous resistance that the vibrator 11 receives increases as the internal pressure of the cavity ES increases. As the viscous resistance increases, the Q value of the vibrator 11 decreases and the oscillation amplitude decreases as shown in FIG. Therefore, the hydrogen gas partial pressure in the atmosphere around the gas sensor 101 can be detected by checking the level of the sensor output signal.

前記キャビティES内外の水素ガス分圧差ΔPがゼロになる方向に水素ガスが透過するので、ガスセンサ101の周辺雰囲気の水素ガス分圧がキャビティESの水素ガス分圧より低下すれば、キャビティES内の水素ガス分圧も低下する。すなわち、定常状態ではキャビティES内の水素ガス分圧はガスセンサ101の周辺雰囲気の水素ガス分圧と等しくなり、ガスセンサ101は一定の応答性のもとで周辺雰囲気の水素ガス分圧に応じたセンサ出力信号が得られる。   Since hydrogen gas permeates in a direction in which the hydrogen gas partial pressure difference ΔP inside and outside the cavity ES becomes zero, if the hydrogen gas partial pressure in the atmosphere around the gas sensor 101 is lower than the hydrogen gas partial pressure in the cavity ES, The hydrogen gas partial pressure also decreases. That is, in a steady state, the hydrogen gas partial pressure in the cavity ES becomes equal to the hydrogen gas partial pressure in the ambient atmosphere of the gas sensor 101, and the gas sensor 101 is a sensor corresponding to the hydrogen gas partial pressure in the ambient atmosphere with a constant response. An output signal is obtained.

《第2の実施形態》
第2の実施形態ではガスセンサの幾つかの構造の例を示す。図5は第2の実施形態である三種のガスセンサの断面図である。
第1の実施形態では、図1に示したとおり、シリコン層1を挟み込む上下のガラス層2,3にキャビティES形成用の凹部を形成したが、振動子を囲むキャビティは図5に示すように各種の形態をとることができる。
<< Second Embodiment >>
In the second embodiment, examples of some structures of the gas sensor are shown. FIG. 5 is a cross-sectional view of three types of gas sensors according to the second embodiment.
In the first embodiment, as shown in FIG. 1, recesses for forming the cavity ES are formed in the upper and lower glass layers 2 and 3 sandwiching the silicon layer 1, but the cavity surrounding the vibrator is as shown in FIG. It can take various forms.

図5(A)の例では、上部のガラス層3に上部キャビティES1形成用の凹部を形成し、シリコン層1の下面に下部キャビティES2形成用の凹部を形成している。このようにして、下部のガラス層2に平板のガラス板を用いてもよい。   In the example of FIG. 5A, a recess for forming the upper cavity ES1 is formed in the upper glass layer 3, and a recess for forming the lower cavity ES2 is formed on the lower surface of the silicon layer 1. In this way, a flat glass plate may be used for the lower glass layer 2.

図5(B)はSOI基板10の表面にガラス層3を貼り付けた例である。SOI基板10はSi基板10A表面にSiO2膜10Bが形成され、その表面にSi膜10Cが形成された基板であり、表面のSi膜に振動子11が形成され、SiO2膜10Bに下部キャビティES2形成用のエッチング除去部が形成されている。 FIG. 5B shows an example in which the glass layer 3 is attached to the surface of the SOI substrate 10. The SOI substrate 10 is a substrate in which a SiO 2 film 10B is formed on the surface of the Si substrate 10A, and a Si film 10C is formed on the surface. The vibrator 11 is formed on the Si film on the surface, and the lower cavity is formed in the SiO 2 film 10B. An etching removal portion for forming ES2 is formed.

図5(C)もSOI基板10の表面にガラス層3を貼り付けた例である。この例では、上部キャビティES1形成用の凹部をSi膜10Cの表面に形成している。なお、外部電極は、図5(C)のように、SIO基板10の下面に取り出すようにしてもよい。   FIG. 5C is also an example in which the glass layer 3 is attached to the surface of the SOI substrate 10. In this example, a recess for forming the upper cavity ES1 is formed on the surface of the Si film 10C. The external electrode may be taken out on the lower surface of the SIO substrate 10 as shown in FIG.

《第3の実施形態》
第3の実施形態では振動子11の具体的な構造の例を示す。図6はシリコン層の振動子部分の平面図である。ガスセンサ全体の構造は第1の実施形態で示したとおりである。
<< Third Embodiment >>
In the third embodiment, an example of a specific structure of the vibrator 11 is shown. FIG. 6 is a plan view of the vibrator portion of the silicon layer. The overall structure of the gas sensor is as shown in the first embodiment.

シリコン層1のうちクロスハッチングを施した部分は固定部、クロスハッチングを施していない部分は振動子部110である。振動子部110はその中央部にある梁111で固定部に弾性保持されている。図6に示す向きで振動子部110は左右方向に変位する。振動子部110は後述の駆動電極および検出電極と対向する位置に櫛歯状の電極を複数有している。   Of the silicon layer 1, the portion that is cross-hatched is the fixed portion, and the portion that is not cross-hatched is the vibrator portion 110. The vibrator portion 110 is elastically held by the fixed portion with a beam 111 at the center thereof. The vibrator unit 110 is displaced in the left-right direction in the direction shown in FIG. The vibrator unit 110 has a plurality of comb-like electrodes at positions facing drive electrodes and detection electrodes described later.

振動子部110の左右には駆動固定電極120および検出固定電極130が配置されている。駆動固定電極120には振動子駆動電圧Vdが印加される。この振動子駆動電圧Vdと振動子部110の電位Vcomとの差の電圧により駆動固定電極と振動子の櫛歯間に静電引力が作用し、この静電引力が駆動力となる。そして、振動子部110の振動に応じて、検出固定電極130と振動子部110のそれぞれの櫛歯間の容量Cmが変化する。   A drive fixed electrode 120 and a detection fixed electrode 130 are arranged on the left and right of the vibrator unit 110. The vibrator driving voltage Vd is applied to the driving fixed electrode 120. An electrostatic attractive force acts between the driving fixed electrode and the comb teeth of the vibrator due to the voltage difference between the vibrator driving voltage Vd and the potential Vcom of the vibrator portion 110, and this electrostatic attraction becomes a driving force. Then, according to the vibration of the vibrator unit 110, the capacitance Cm between the comb teeth of the detection fixed electrode 130 and the vibrator unit 110 changes.

図7は上記のメカニズムをモデル化した等価回路である。振動子部110は駆動固定電極120に対する駆動電圧Vdに応じて変位し、振動子部110と検出固定電極130との間の容量Cmが変化する。   FIG. 7 is an equivalent circuit modeling the above mechanism. The vibrator unit 110 is displaced according to the drive voltage Vd applied to the drive fixed electrode 120, and the capacitance Cm between the vibrator unit 110 and the detection fixed electrode 130 changes.

キャビティES内の内圧は振動子部110および梁111による振動子の共振特性に大きな影響を与える。キャビティES内に存在するガスの粘性が櫛歯間の粘性要因となり、この粘性が振動子部110の振動を阻害するからである。この特性が図4に示したP−Q相関曲線として現れる。振動子部110、駆動固定電極120および検出固定電極130の櫛歯によって、キャビティES内の内圧変化に対するガスの粘性変化を大きくなるので、ガス検知感度を高めることができる。   The internal pressure in the cavity ES greatly affects the resonance characteristics of the vibrator by the vibrator portion 110 and the beam 111. This is because the viscosity of the gas existing in the cavity ES becomes a factor of the viscosity between the comb teeth, and this viscosity inhibits the vibration of the vibrator unit 110. This characteristic appears as a PQ correlation curve shown in FIG. Since the change in the viscosity of the gas with respect to the change in the internal pressure in the cavity ES is increased by the comb teeth of the vibrator unit 110, the drive fixed electrode 120, and the detection fixed electrode 130, the gas detection sensitivity can be increased.

《第4の実施形態》
第4の実施形態ではガスセンサの幾つかのパッケージングの例を示す。図8は第4の実施形態である三種のガスセンサの断面図である。
第1・第2の実施形態では、ガスセンサチップにガラス層を備えたが、第4の実施形態は、パッケージにガラスカバーを設けて、そのパッケージ内にガスセンサチップを収納したものである。
<< Fourth Embodiment >>
The fourth embodiment shows several packaging examples of the gas sensor. FIG. 8 is a cross-sectional view of three types of gas sensors according to the fourth embodiment.
In the first and second embodiments, the gas sensor chip is provided with the glass layer, but in the fourth embodiment, a glass cover is provided in the package, and the gas sensor chip is accommodated in the package.

図8(A)の例では、セラミックパッケージ8内にガスセンサチップ100がダイボンド材を介して接合され、セラミックパッケージ8の開口部がガラスカバー4で密閉されている。ガスセンサチップ100は図5(B)に示したSOI基板10に相当するものである。すなわち、ガスセンサチップ100は、Si基板10A表面にSiO2膜10Bが形成され、その表面にSi膜10Cが形成された基板で構成されている。表面のSi膜に振動子11が形成され、SiO2膜10Bに下部キャビティES2形成用のエッチング除去部が形成されている。ガスセンサチップ100の上面にはアルミ電極パッドが形成されていて、ワイヤーボンディングによりセラミックパッケージ8の電極に対して電気的に接続されている。 In the example of FIG. 8A, the gas sensor chip 100 is bonded to the ceramic package 8 via a die bond material, and the opening of the ceramic package 8 is sealed with the glass cover 4. The gas sensor chip 100 corresponds to the SOI substrate 10 shown in FIG. That is, the gas sensor chip 100 is configured by a substrate in which the SiO 2 film 10B is formed on the surface of the Si substrate 10A and the Si film 10C is formed on the surface. The vibrator 11 is formed on the Si film on the surface, and the etching removal portion for forming the lower cavity ES2 is formed on the SiO 2 film 10B. Aluminum electrode pads are formed on the upper surface of the gas sensor chip 100, and are electrically connected to the electrodes of the ceramic package 8 by wire bonding.

前記ガラスカバー4はガス選択透過性材料であり、ガラスフリット等で接着されている。セラミックパッケージ8の内部は真空または減圧封止されている。水素ガスセンサ/ヘリウムガスセンサとしての作用は前述のとおりである。   The glass cover 4 is a gas selective permeable material, and is bonded with a glass frit or the like. The inside of the ceramic package 8 is sealed under vacuum or reduced pressure. The operation as a hydrogen gas sensor / helium gas sensor is as described above.

図8(B)の例では、セラミックパッケージ8の開口部がガラスカバー(窓)付きの金属カバー5で密閉されている。金属カバー5は例えばコバール材であり、セラミックパッケージ8にろう付け、溶接固定等で接合される。   In the example of FIG. 8B, the opening of the ceramic package 8 is sealed with a metal cover 5 with a glass cover (window). The metal cover 5 is, for example, a Kovar material, and is joined to the ceramic package 8 by brazing, welding, or the like.

図8(C)の例では、セラミックパッケージ8の内部にガスセンサチップ100だけでなく、信号処理回路チップ200が収納されている。信号処理回路チップ200は、ガスセンサチップ100の振動子を駆動するとともに振幅を検出する振動子駆動/検出回路を備えている。この信号処理回路チップは例えばガス分圧に比例した電圧信号を外部へ出力する。   In the example of FIG. 8C, not only the gas sensor chip 100 but also the signal processing circuit chip 200 is accommodated in the ceramic package 8. The signal processing circuit chip 200 includes a vibrator driving / detecting circuit that drives the vibrator of the gas sensor chip 100 and detects the amplitude. This signal processing circuit chip outputs, for example, a voltage signal proportional to the gas partial pressure to the outside.

《第5の実施形態》
第5の実施形態では、振動子駆動/検出回路の具体的な二つの構成例を示す。
図9・図10は振動子駆動/検出回路のブロック図である。両図において、振動子11の検出電極はCV変換回路に接続され、CV変換回路12Aは振動子11の振動に伴う容量変化を電圧変化の信号に変換する。この電圧信号からフィルター(LPF、HPF、BPF等)で必要な信号成分が抽出される。フィルター回路の出力信号は位相制御回路12Cで必要な位相調整が施され、AGC回路(Auto Gain Control Amp)12Dに入力される。AGC回路12Dでは自動利得制御された駆動信号が形成され、振動子11の駆動電極に入力される。これにより閉ループの自励振発振回路が構成され、振動子11は共振周波数で振動する。
<< Fifth Embodiment >>
In the fifth embodiment, two specific configuration examples of the vibrator driving / detecting circuit are shown.
9 and 10 are block diagrams of the vibrator driving / detecting circuit. In both figures, the detection electrode of the vibrator 11 is connected to a CV conversion circuit, and the CV conversion circuit 12A converts the capacitance change accompanying the vibration of the vibrator 11 into a voltage change signal. Necessary signal components are extracted from this voltage signal by a filter (LPF, HPF, BPF, etc.). The output signal of the filter circuit is subjected to necessary phase adjustment by the phase control circuit 12C, and is input to an AGC circuit (Auto Gain Control Amp) 12D. In the AGC circuit 12D, a drive signal subjected to automatic gain control is formed and input to the drive electrode of the vibrator 11. Thus, a closed-loop self-excited oscillation circuit is configured, and the vibrator 11 vibrates at the resonance frequency.

図9と図10とでは、前記AGC回路の自動利得制御機能が異なる。
図9は駆動信号振幅一定型の振動子駆動/検出回路であり、駆動信号の振幅が常に一定振幅となるよう自動利得制御する。この場合、振動子11の検出信号の振幅が、雰囲気ガス分圧、つまり振動子11のQ値に応答する。従って、例えばCV変換回路12Aの出力信号の振幅を検出することによりガス分圧を検知できる。
9 and 10 differ in the automatic gain control function of the AGC circuit.
FIG. 9 shows a vibrator driving / detecting circuit having a constant driving signal amplitude type, and performs automatic gain control so that the driving signal always has a constant amplitude. In this case, the amplitude of the detection signal of the vibrator 11 responds to the atmospheric gas partial pressure, that is, the Q value of the vibrator 11. Therefore, for example, the gas partial pressure can be detected by detecting the amplitude of the output signal of the CV conversion circuit 12A.

図10は検出信号振幅一定型の振動子駆動/検出回路であり、検出信号の振幅が常に一定振幅となるよう自動利得制御する。この場合、振動子11の駆動信号の振幅が、雰囲気ガス分圧、つまり振動子11のQ値に応答する。従って、例えばAGC回路12Dの出力信号の振幅を検出することによりガス分圧を検知できる。   FIG. 10 illustrates a transducer drive / detection circuit with a constant detection signal amplitude, and performs automatic gain control so that the detection signal always has a constant amplitude. In this case, the amplitude of the drive signal of the vibrator 11 responds to the atmospheric gas partial pressure, that is, the Q value of the vibrator 11. Therefore, for example, the gas partial pressure can be detected by detecting the amplitude of the output signal of the AGC circuit 12D.

図9・図10において、発振回路振幅検出回路の信号処理について説明する。発振回路12の出力信号は整流回路13Aで整流され、フィルター回路(LPF)13Bで振幅に応じた直流信号に変換される。更に増幅回路13Cにより信号が必要なレベルにまで増幅され補正回路13Dに入力される。補正回路13Dでは温度特性等の補正が行われ、雰囲気ガス分圧に応じた直流電圧信号が出力される。   9 and 10, signal processing of the oscillation circuit amplitude detection circuit will be described. The output signal of the oscillation circuit 12 is rectified by the rectifier circuit 13A and converted to a DC signal corresponding to the amplitude by the filter circuit (LPF) 13B. Further, the signal is amplified to a necessary level by the amplifier circuit 13C and input to the correction circuit 13D. The correction circuit 13D corrects temperature characteristics and the like, and outputs a DC voltage signal corresponding to the atmospheric gas partial pressure.

このように図9と図10とでは検出信号が異なるが、いずれも発振回路の特定個所の振幅を検出することにより、雰囲気ガス分圧に伴うセンサ素子共振におけるP-Qカーブの変化を検出することができる。   Thus, although the detection signals are different between FIG. 9 and FIG. 10, it is possible to detect the change of the PQ curve in the sensor element resonance due to the atmospheric gas partial pressure by detecting the amplitude of a specific part of the oscillation circuit. it can.

《第6の実施形態》
図11は第6の実施形態であるガスセンサの断面図である。
ガスセンサの応答性や感度を高めるには、ガスの透過速度を速めることが重要である。このためには以下の手法が有効である。
<< Sixth Embodiment >>
FIG. 11 is a sectional view of a gas sensor according to the sixth embodiment.
In order to increase the responsiveness and sensitivity of the gas sensor, it is important to increase the gas permeation speed. For this purpose, the following method is effective.

・ガス透過層を薄くする。
・ガス透過層面積を大きくする。
・動作温度を上げる。
・ Make the gas permeable layer thinner.
-Increase the gas permeable layer area.
• Increase operating temperature.

しかし、ガス透過層を薄く、面積を広くした場合、センサ内の密閉空間の真空/減圧環境と外気との圧力差から機械的強度を保てなくなる懸念がある。そこで、図11のような、ガラス材料に複数の非貫通キャビティNCを設けることにより、強度を保ったままガス透過層を薄くできる。   However, when the gas permeable layer is thin and the area is widened, there is a concern that the mechanical strength cannot be maintained due to the pressure difference between the vacuum / depressurized environment of the sealed space in the sensor and the outside air. Therefore, by providing a plurality of non-penetrating cavities NC in the glass material as shown in FIG. 11, the gas permeable layer can be made thin while maintaining the strength.

《他の実施形態》
ガス選択透過性材料としてガラス以外に、他にも同様の選択的ガス透過性を有する金属材料や高分子材料を用いてもよい。金属材料の例としてPd系合金やニオブ系合金が挙げられる。
<< Other embodiments >>
In addition to glass, a metal material or polymer material having the same selective gas permeability may be used as the gas selective permeability material. Examples of metal materials include Pd-based alloys and niobium-based alloys.

ガス選択透過性材料のガラスは、シリカガラスなどのケイ酸塩を主成分とするガラスに限らず有機ガラス、金属ガラスであってもよい。   The glass of the gas selective permeable material is not limited to glass mainly composed of silicate such as silica glass, but may be organic glass or metal glass.

また、検知対象ガスは水素やヘリウムガスに限らず、検知対象のガス種に応じたガス選択透過性材料があれば、その所定のガスセンサを構成できる。   The detection target gas is not limited to hydrogen or helium gas, and if there is a gas selective permeable material corresponding to the gas type of the detection target, the predetermined gas sensor can be configured.

ES…キャビティ
ES1…上部キャビティ
ES2…下部キャビティ
NC…非貫通キャビティ
1…シリコン層
2,3…ガラス層
4…ガラスカバー
5…金属カバー
6…ビア開口部
7…外部電極
8…セラミックパッケージ
10…SOI基板
10A…Si基板
10B…SiO2
10C…Si膜
11…振動子
12…発振回路
12A…CV変換回路
12C…位相制御回路
12D…AGC回路
13…発振回路振幅検出回路
100…ガスセンサチップ
101…ガスセンサ
110…振動子部
111…梁
120…駆動固定電極
130…検出固定電極
200…信号処理回路チップ
ES ... cavity ES1 ... upper cavity ES2 ... lower cavity NC ... non-penetrating cavity 1 ... silicon layer 2, 3 ... glass layer 4 ... glass cover 5 ... metal cover 6 ... via opening 7 ... external electrode 8 ... ceramic package 10 ... SOI Substrate 10A ... Si substrate 10B ... SiO 2 film 10C ... Si film 11 ... oscillator 12 ... oscillation circuit 12A ... CV conversion circuit 12C ... phase control circuit 12D ... AGC circuit 13 ... oscillation circuit amplitude detection circuit 100 ... gas sensor chip 101 ... gas sensor DESCRIPTION OF SYMBOLS 110 ... Vibrator part 111 ... Beam 120 ... Drive fixed electrode 130 ... Detection fixed electrode 200 ... Signal processing circuit chip

Claims (6)

被検知対象である外部環境から隔離された内部空間を形成するキャビティと、このキャビティ内に配置された振動子と、を備え、
前記内部空間は真空または減圧されていて、前記キャビティの少なくとも一部はガス種による透過率が異なるガス選択透過性材料で構成されていることを特徴とするガスセンサ。
A cavity forming an internal space isolated from the external environment to be detected, and a vibrator disposed in the cavity,
The gas sensor according to claim 1, wherein the internal space is vacuumed or depressurized, and at least a part of the cavity is made of a gas selective permeable material having different permeability depending on the gas type.
前記ガス選択透過性材料はガラスであり、検知対象ガスは水素ガスまたはヘリウムガスである、請求項1に記載のガスセンサ。   The gas sensor according to claim 1, wherein the gas selective permeable material is glass, and the detection target gas is hydrogen gas or helium gas. 前記振動子はシリコン基板の加工により構成され、前記シリコン基板に前記振動子を駆動する駆動電極と、前記振動子の変位を検出する検出電極とが形成された、請求項1または2に記載のガスセンサ。   The said vibrator | oscillator is comprised by the process of the silicon substrate, The drive electrode which drives the said vibrator | oscillator, and the detection electrode which detects the displacement of the said vibrator | oscillator were formed in the said silicon substrate. Gas sensor. 前記振動子の共振Q値に相当する信号または共振Q値に応じて定まる信号を測定し、その測定結果を検知信号として出力する測定回路を備えた、請求項1〜3のいずれかに記載のガスセンサ。   The measurement circuit according to claim 1, further comprising a measurement circuit that measures a signal corresponding to the resonance Q value of the vibrator or a signal determined according to the resonance Q value, and outputs the measurement result as a detection signal. Gas sensor. 前記測定回路は、前記振動子の共振周波数で発振させる自励発振回路と、前記自励発振回路中の少なくとも一か所の発振信号振幅を検出する発振信号振幅検出回路と、で構成された、請求項4に記載のガスセンサ。   The measurement circuit includes a self-excited oscillation circuit that oscillates at a resonance frequency of the vibrator, and an oscillation signal amplitude detection circuit that detects an oscillation signal amplitude of at least one of the self-excited oscillation circuits. The gas sensor according to claim 4. 前記ガス選択透過性材料で構成される前記キャビティの一部に複数に分散された薄壁部が形成された、請求項1〜5のいずれかに記載のガスセンサ。   The gas sensor according to any one of claims 1 to 5, wherein a plurality of thin wall portions dispersed in a part of the cavity made of the gas selective permeable material are formed.
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