JP2012186274A - Light-emitting device, led chip, led wafer and package substrate - Google Patents

Light-emitting device, led chip, led wafer and package substrate Download PDF

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竜児 酒井
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light-emitting device which improves extraction efficiency for light radiated from an LED chip mounted on a package substrate and also can reduce color irregularities.SOLUTION: The light-emitting device includes a blue LED chip 81' disposed on a package substrate 8 and a wavelength conversion layer 7 covering the top and side surfaces of the blue LED ship 81', which converts the wavelength of light radiated from a light-emitting layer 2 of the blue LED chip 81'. It also includes, on the package substrate side rather than the light-emitting layer 2, a reflection plane 3 which reflects light from the light-emitting layer 2. A distance D1, regarding a direction perpendicular to the reflection plane 3, from the outermost surface 5b of a reflection plane forming layer 5 to the reflection plane 3 is set to be equal to or greater than a prescribed dimension which suits a thickness H of an outside extension part 7a of the wavelength conversion layer 7 extending from a region where the blue LED chip 81' on the package substrate 8 is disposed to the outside thereof.

Description

この発明はLEDウェハに関し、より詳しくは、分割することによってLEDチップとなるウェハに関する。   The present invention relates to an LED wafer, and more particularly to a wafer that becomes an LED chip by being divided.

また、この発明は、そのようなLEDウェハを分割して得られるLEDチップに関する。   The present invention also relates to an LED chip obtained by dividing such an LED wafer.

また、この発明は、LEDチップをパッケージ基板に実装した発光装置に関する。   The present invention also relates to a light emitting device in which an LED chip is mounted on a package substrate.

また、この発明は、そのような発光装置を構成するのに用いられるパッケージ基板に関する。   The present invention also relates to a package substrate used for constituting such a light emitting device.

一般的な青色LEDチップは、サファイア基板上にGaN層および電極(ITO(錫添加酸化インジウム)を含む。)を有するウェハ(これを「LEDウェハ」と呼ぶ。)を、ダイシングして複数に分割することで製造されている。   A general blue LED chip is obtained by dicing a wafer (called an “LED wafer”) having a GaN layer and an electrode (including ITO (tin-added indium oxide)) on a sapphire substrate into a plurality of pieces. It is manufactured by.

このような青色LEDチップは、白色光を発生する発光装置を構成するように、例えば次のようにしてパッケージに実装されている。まず、図16に示すように、パッケージ基板108上の所定の位置に青色LEDチップ100をダイボンド剤(図示せず)で固定し、パッケージ基板108上の電極110a,110bと青色LEDチップ100上の電極パターン104a,104bとの間にワイヤ配線109a,109bを設ける。次に、青色LEDチップ100の上面100aおよび側面100bを覆うように、波長変換層107として、蛍光体混錬樹脂を塗布した後、蛍光体を沈降させる。最後に、青色LEDチップ100および波長変換層107を透明樹脂(図示せず)で封止する。なお、青色LEDチップ100を確実に覆うように、波長変換層107には、上記パッケージ基板108上で青色LEDチップ100が配置された領域よりも外側へ延在する部分(これを「外側延在部分」と呼ぶ。)107aがマージンとして設けられる。   Such a blue LED chip is mounted on a package as follows, for example, so as to constitute a light emitting device that generates white light. First, as shown in FIG. 16, the blue LED chip 100 is fixed to a predetermined position on the package substrate 108 with a die bond agent (not shown), and the electrodes 110 a and 110 b on the package substrate 108 and the blue LED chip 100 are fixed. Wire wirings 109a and 109b are provided between the electrode patterns 104a and 104b. Next, after the phosphor kneaded resin is applied as the wavelength conversion layer 107 so as to cover the upper surface 100a and the side surface 100b of the blue LED chip 100, the phosphor is precipitated. Finally, the blue LED chip 100 and the wavelength conversion layer 107 are sealed with a transparent resin (not shown). The wavelength conversion layer 107 has a portion extending outward from the region where the blue LED chip 100 is disposed on the package substrate 108 (this is referred to as “outward extending”) so as to securely cover the blue LED chip 100. 107a "is provided as a margin.

動作時には、青色LEDチップ100が出射した青色光の一部が、波長変換層107に含まれた蛍光体を励起して、例えば蛍光として黄色光を発生させる。これにより、青色LEDチップ100が出射した青色光のうち変換されなかった部分と、波長変換層107が発生する黄色光との混色によって、白色光が発生する。   During operation, part of the blue light emitted from the blue LED chip 100 excites the phosphor contained in the wavelength conversion layer 107 to generate, for example, yellow light as fluorescence. As a result, white light is generated by the color mixture of the portion of the blue light emitted from the blue LED chip 100 that has not been converted and the yellow light generated by the wavelength conversion layer 107.

知られているように、青色LEDチップ100が発生した光の紫外線成分により、ダイボンド剤が変色などの劣化を起こすことがある。青色LEDチップのGaN層102からサファイア基板101を通してパッケージ基板108へ向かって出射された光は、この劣化したダイボンド剤によって吸収されるし、一般に反射率が高くないパッケージ基板108でも吸収される。このため、光の取り出し効率が低下する。   As is known, the die bonding agent may cause deterioration such as discoloration due to the ultraviolet component of the light generated by the blue LED chip 100. Light emitted from the GaN layer 102 of the blue LED chip through the sapphire substrate 101 toward the package substrate 108 is absorbed by the deteriorated die bond agent, and is also absorbed by the package substrate 108 that generally has a low reflectance. For this reason, the light extraction efficiency decreases.

また、青色LEDチップ100を覆う波長変換層107の厚さ、すなわち、蛍光体の量が部分的に異なると、青色LEDチップ100から放出されて外部に取り出される光量および蛍光体からの発光が外部に取り出される光量が部分的に異なる。このため、発光装置の発光面において、青色LEDチップ100から放出された光量が多くなったり、蛍光体から発光された光量が多くなったりするので、色むらが生じると考えられている。さらに、発光装置間で比較すると、発光装置間の色度に差が生じる原因となる。   Further, when the thickness of the wavelength conversion layer 107 covering the blue LED chip 100, that is, the amount of the phosphor is partially different, the amount of light emitted from the blue LED chip 100 and taken out to the outside and the light emitted from the phosphor are externally emitted. The amount of light extracted is partially different. For this reason, the amount of light emitted from the blue LED chip 100 increases or the amount of light emitted from the phosphor increases on the light emitting surface of the light emitting device, which is considered to cause color unevenness. Furthermore, when compared between light emitting devices, it causes a difference in chromaticity between the light emitting devices.

そこで、従来、特許文献1(特開2001-7397号公報)に開示されているように、青色LEDチップ100のパッケージ基板108側の面(サファイア基板101の下面)に、光を反射する反射層(図16中に符号103で示す。)を設ける構成が提案されている。動作時に、青色LEDチップ100のGaN層102からサファイア基板101を通してパッケージ基板108側へ向かって出射された光は、この反射層103によって反射されて、ダイボンド剤やパッケージ基板108によって吸収されることがない。   Therefore, as disclosed in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2001-7397), a reflective layer that reflects light on the surface of the blue LED chip 100 on the side of the package substrate 108 (the lower surface of the sapphire substrate 101). A configuration for providing (indicated by reference numeral 103 in FIG. 16) is proposed. During operation, light emitted from the GaN layer 102 of the blue LED chip 100 through the sapphire substrate 101 toward the package substrate 108 may be reflected by the reflective layer 103 and absorbed by the die bond agent or the package substrate 108. Absent.

また、従来、特許文献2(特開2009-94262号公報)に開示されているように、予め所望の厚さに形成した蛍光体シートで青色LEDチップ100を被覆する発光装置の製造方法が提案されている。蛍光体を高濃度に充填して厚さ分布が均一になるように作製した蛍光体シートを波長変換層107として用い、蛍光体シートで青色LEDチップ100の全面を被覆するようにしている。   Conventionally, as disclosed in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2009-94262), a method of manufacturing a light emitting device in which the blue LED chip 100 is covered with a phosphor sheet formed in a desired thickness in advance has been proposed. Has been. A phosphor sheet prepared so as to have a uniform thickness distribution by filling the phosphor with a high concentration is used as the wavelength conversion layer 107, and the entire surface of the blue LED chip 100 is covered with the phosphor sheet.

特開2001-7397号公報JP 2001-7397 A 特開2009-94262号公報JP 2009-94262 A

しかしながら、特許文献1に記載の素子では、反射層103の厚さDについて、特に反射層103の厚さDと波長変換層107の外側延在部分107aの厚さHとの関係について、何ら考慮されていない。このため、例えば図16に示すように、波長変換層107の外側延在部分107aの厚さHが反射層103の厚さDよりも厚い場合は、青色LEDチップ100の側面100b、特にサファイア基板101の側面から側方へ出射しようとする光が波長変換層107の外側延在部分107aによって遮られて、光の取り出し効率が低下する要因となる。   However, in the element described in Patent Document 1, no consideration is given to the thickness D of the reflective layer 103, particularly the relationship between the thickness D of the reflective layer 103 and the thickness H of the outer extending portion 107 a of the wavelength conversion layer 107. It has not been. Therefore, for example, as shown in FIG. 16, when the thickness H of the outer extending portion 107a of the wavelength conversion layer 107 is thicker than the thickness D of the reflective layer 103, the side surface 100b of the blue LED chip 100, particularly the sapphire substrate. The light which is going to be emitted from the side surface of the 101 sideways is blocked by the outer extending portion 107a of the wavelength conversion layer 107, which causes a reduction in light extraction efficiency.

また、特許文献2に記載の発光装置では、青色LEDチップ100から放出された光が青色LEDチップ100の上面からだけでなく側面からも放出される場合について、波長変換層107の外側延在部分107aの発光装置の発光面における色むらに対する影響について、何ら考慮されていない。例えば図17(a)に示すように、青色LEDチップ100からの光が、青色LEDチップ100の上面から上方へ破線矢印A1で示すように放出されるだけでなく、青色LEDチップ100の側面から側方へ破線矢印A2で示すようにも放出される場合、青色LEDチップ100の上面から放出された光が蛍光体シート107を通過する距離Lが、青色LEDチップ100の側面から放出された光が蛍光体シート107および外側延在部分107aを通過する距離Lbよりも短くなる。このため、青色LEDチップ100から放出された光の取り出し効率の低下および発光装置の発光面における色むらを生じる。   Further, in the light emitting device described in Patent Document 2, when the light emitted from the blue LED chip 100 is emitted not only from the upper surface of the blue LED chip 100 but also from the side surface, the outer extended portion of the wavelength conversion layer 107 No consideration is given to the influence on the color unevenness on the light emitting surface of the light emitting device 107a. For example, as shown in FIG. 17A, the light from the blue LED chip 100 is not only emitted upward from the upper surface of the blue LED chip 100 as indicated by the dashed arrow A1, but also from the side surface of the blue LED chip 100. When the light is also emitted sideways as indicated by the dashed arrow A2, the distance L that the light emitted from the upper surface of the blue LED chip 100 passes through the phosphor sheet 107 is the light emitted from the side surface of the blue LED chip 100. Becomes shorter than the distance Lb passing through the phosphor sheet 107 and the outer extending portion 107a. For this reason, the extraction efficiency of the light emitted from the blue LED chip 100 is lowered, and color unevenness occurs on the light emitting surface of the light emitting device.

仮に図17(b)に示すように、特許文献2に記載の発光装置の製造方法により、青色LEDチップ100の上面および側面のみを過不足なく被覆するように、蛍光体シート107をカットして青色LEDチップ100と蛍光体シート107とを位置合わせするものとする。この場合、上記距離Lと、青色LEDチップ100の側面から放出された光が蛍光体シート107を通過する距離Lcとを等しくできる。   As shown in FIG. 17B, the phosphor sheet 107 is cut by the light emitting device manufacturing method described in Patent Document 2 so as to cover only the upper surface and side surfaces of the blue LED chip 100 without excess or deficiency. Assume that the blue LED chip 100 and the phosphor sheet 107 are aligned. In this case, the distance L can be made equal to the distance Lc through which the light emitted from the side surface of the blue LED chip 100 passes through the phosphor sheet 107.

しかし、蛍光体シート107のカット寸法のばらつきにより、図18に示すように、蛍光体シート107のカット寸法が小さくなると、蛍光体シート107で青色LEDチップ100の周囲を完全に被覆することができず、青色LEDチップ100から放出される光が蛍光体シート107を通過する部分と通過しない部分で色度差が大きくなり、色むらの原因となる。一方、図19に示すように、蛍光体シート107のカット寸法が大きくなると、蛍光体シート107は青色LEDチップ100の周囲を完全に被覆することはできる。しかし、蛍光体シート107の余剰分は、外側延在部分107aとなり、図17(a)で説明したのと同様に、青色LEDチップ100から放出された光の取り出し効率の低下および発光装置の発光面における色むらを生じる。   However, as shown in FIG. 18, when the cut size of the phosphor sheet 107 becomes small due to the variation in the cut size of the phosphor sheet 107, the periphery of the blue LED chip 100 can be completely covered with the phosphor sheet 107. Therefore, the chromaticity difference between the portion where the light emitted from the blue LED chip 100 passes through the portion where the light passes through the phosphor sheet 107 and the portion where the light does not pass through becomes large, which causes uneven color. On the other hand, as shown in FIG. 19, when the cut size of the phosphor sheet 107 is increased, the phosphor sheet 107 can completely cover the blue LED chip 100. However, the surplus portion of the phosphor sheet 107 becomes the outer extending portion 107a, and as described with reference to FIG. 17A, the extraction efficiency of the light emitted from the blue LED chip 100 is reduced and the light emission of the light emitting device. Color unevenness occurs on the surface.

さらに、図20に示すように、蛍光体シート107のカット寸法が青色LEDチップ100の全面のみを過不足なく被覆する大きさであっても、青色LEDチップ100に対する蛍光体シート107の位置合わせがずれると、一方では蛍光体シート107で青色LEDチップ100を被覆することができず、他方では蛍光体シート107の余剰分が外側延在部分107aとなる。したがって、青色LEDチップ100の側面から放出された光の取り出し効率の低下および発光装置の発光面における色むらを生じる。   Furthermore, as shown in FIG. 20, even if the cut size of the phosphor sheet 107 is large enough to cover only the entire surface of the blue LED chip 100, the phosphor sheet 107 is aligned with the blue LED chip 100. When shifted, the blue LED chip 100 cannot be covered with the phosphor sheet 107 on the one hand, and the surplus portion of the phosphor sheet 107 becomes the outer extending portion 107a on the other hand. Therefore, the extraction efficiency of light emitted from the side surface of the blue LED chip 100 is lowered, and color unevenness occurs on the light emitting surface of the light emitting device.

そこで、この発明の課題は、パッケージ基板上に実装されたLEDチップから放出された光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる発光装置を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a light emitting device capable of improving the extraction efficiency of light emitted from an LED chip mounted on a package substrate and reducing color unevenness.

また、この発明の課題は、実装されたLEDチップから放出された光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できるLEDチップを提供することにある。   Another object of the present invention is to provide an LED chip capable of improving the extraction efficiency of light emitted from the mounted LED chip and reducing color unevenness.

また、この発明の課題は、分割することによってLEDチップとなるLEDウェハであって、実装されたLEDチップから放出された光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できるものを提供することにある。   Another object of the present invention is to provide an LED wafer that becomes an LED chip by dividing the LED wafer, which can improve the extraction efficiency of light emitted from the mounted LED chip and reduce color unevenness. It is in.

また、この発明の課題は、実装されたLEDチップから放出された光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できるパッケージ基板を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a package substrate capable of improving the extraction efficiency of light emitted from a mounted LED chip and reducing color unevenness.

上記課題を解決するため、この発明の発光装置は、
パッケージ基板上に配置されたLEDチップと、
上記LEDチップの上面および側面を覆って、上記LEDチップの発光層から放出された光の波長を変換する波長変換層とを有し、
上記波長変換層は、上記パッケージ基板上で上記LEDチップが配置された領域よりも外側へ延在する外側延在部分を有し、
上記LEDチップの上記発光層よりも上記パッケージ基板側に、上記パッケージ基板に沿って配置され、上記発光層から上記パッケージ基板側に放出される光を反射させる反射面を有し、
上記反射面に垂直な方向に関して、上記パッケージ基板のうち上記波長変換層の上記外側延在部分が延在する領域の上面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されていることを特徴とする。
In order to solve the above problems, a light-emitting device of the present invention includes:
An LED chip disposed on the package substrate;
A wavelength conversion layer that covers the upper and side surfaces of the LED chip and converts the wavelength of light emitted from the light emitting layer of the LED chip;
The wavelength conversion layer has an outer extending portion that extends outward from a region where the LED chip is disposed on the package substrate,
The LED chip has a reflective surface that is disposed on the package substrate side of the LED chip along the package substrate and reflects light emitted from the light emitting layer to the package substrate side,
With respect to the direction perpendicular to the reflecting surface, the distance from the upper surface of the region where the outer extending portion of the wavelength conversion layer extends in the package substrate to the reflecting surface is the outer extending portion of the wavelength converting layer. It is characterized by being set to a predetermined dimension or more according to the thickness.

この発明の発光装置では、LEDチップが、パッケージ基板上に配置され、このLEDチップの上面および側面を覆うように、上記LEDチップの発光層から放出された光の波長を変換する波長変換層が設けられている。この波長変換層には、上記パッケージ基板上で上記LEDチップが配置された領域よりも外側へ延在する外側延在部分がマージンとして設けられている。上記LEDチップの上記発光層よりも上記パッケージ基板側に、上記パッケージ基板に沿って反射面が配置されている。この反射面は、上記発光層から上記パッケージ基板側に放出される光を反射させる。ここで、上記反射面に垂直な方向に関して、上記パッケージ基板のうち上記波長変換層の上記外側延在部分が延在する領域の上面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されている。したがって、予め上記パッケージ基板のうち上記波長変換層の上記外側延在部分が延在する領域の上面から、上記反射面までの距離を、例えば上記波長変換層の外側延在部分の厚さよりも大きい寸法に設定しておけば、上記パッケージ基板上で上記反射面の高さが上記波長変換層の外側延在部分の高さを越えた状態になる。したがって、上記LEDチップの側面から側方へ出射される光が上記波長変換層の外側延在部分によって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In the light emitting device according to the present invention, the wavelength conversion layer for converting the wavelength of the light emitted from the light emitting layer of the LED chip is disposed so that the LED chip is disposed on the package substrate and covers the upper surface and the side surface of the LED chip. Is provided. The wavelength conversion layer is provided with an outer extending portion that extends outward from the region where the LED chip is disposed on the package substrate as a margin. A reflective surface is disposed along the package substrate closer to the package substrate than the light emitting layer of the LED chip. The reflecting surface reflects light emitted from the light emitting layer to the package substrate side. Here, with respect to the direction perpendicular to the reflection surface, the distance from the upper surface of the region of the package substrate where the outer extension portion of the wavelength conversion layer extends to the reflection surface is the outer side of the wavelength conversion layer. The predetermined dimension or more is set according to the thickness of the extending portion. Therefore, the distance from the upper surface of the region where the outer extension portion of the wavelength conversion layer of the package substrate extends in advance to the reflection surface is larger than the thickness of the outer extension portion of the wavelength conversion layer, for example. If the dimensions are set, the height of the reflecting surface on the package substrate exceeds the height of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface of the LED chip from being blocked by the outer extending portion of the wavelength conversion layer. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

一実施形態の発光装置では、
上記LEDチップは、
上記発光層を含む積層基板と、
上記積層基板の二つの主面のうち一方の主面に沿って、上記反射面を形成する反射面形成体と
を備え、
上記反射面形成体の最外面が上記パッケージ基板に接していることを特徴とする。
In the light emitting device of one embodiment,
The LED chip is
A laminated substrate including the light emitting layer;
A reflective surface forming body that forms the reflective surface along one main surface of the two main surfaces of the laminated substrate,
The outermost surface of the reflective surface forming body is in contact with the package substrate.

ここで、上記反射面形成体の「最外面」とは、上記積層基板から遠い側の面を意味する。   Here, the “outermost surface” of the reflecting surface forming body means a surface far from the laminated substrate.

この一実施形態の発光装置では、上記LEDチップは、上記反射面形成体を備え、上記パッケージ基板上に、上記反射面形成体の最外面がダイボンドされた状態で実装されている。したがって、LEDチップを実装するだけで、上記反射面を精度良く形成できて、生産性を向上することができる。   In the light emitting device according to this embodiment, the LED chip includes the reflective surface forming body, and is mounted on the package substrate in a state where the outermost surface of the reflective surface forming body is die-bonded. Therefore, the reflective surface can be formed with high accuracy simply by mounting the LED chip, and productivity can be improved.

一実施形態の発光装置では、
上記反射面形成体の最外面に構造物が設けられ、
上記構造物の最外面が上記パッケージ基板に接していることを特徴とする。
In the light emitting device of one embodiment,
A structure is provided on the outermost surface of the reflecting surface forming body,
The outermost surface of the structure is in contact with the package substrate.

ここで、上記構造物の「最外面」とは、上記積層基板から遠い側の面を意味する。   Here, the “outermost surface” of the structure means a surface far from the laminated substrate.

この一実施形態の発光装置では、上記LEDチップは、上記パッケージ基板上に、上記構造物を介して実装されているので、上記反射面形成体の材料を上記構造物の材料と異なるものとすることで、上記反射面形成体の厚さの設定の自由度が増す。   In the light emitting device of this embodiment, since the LED chip is mounted on the package substrate via the structure, the material of the reflective surface forming body is different from the material of the structure. Thereby, the freedom degree of the setting of the thickness of the said reflective surface formation body increases.

一実施形態の発光装置では、
上記LEDチップが上記反射面形成体または上記構造物の最外面をパッケージ基板に向けて配置されたとき、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さが10μm以上になるように、上記寸法が設定されていることを特徴とする。
In the light emitting device of one embodiment,
The dimensions are set so that the height of the reflective surface from the package substrate is 10 μm or more when the LED chip is disposed with the outermost surface of the reflective surface forming body or the structure facing the package substrate. It is characterized by being.

上記LEDチップの実装に現在よく用いられている蛍光体の粒子径が数μmであることから、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さは10μm以上であるのが望ましい。   Since the particle diameter of the phosphor that is often used for mounting the LED chip is several μm, the height of the reflecting surface from the package substrate is preferably 10 μm or more.

また、上記LEDチップの実装に用いられる波長変換層が、樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートからなる場合、現在よく用いられている蛍光体シートの厚さが概ね25μm〜30μmであることから、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さは30μm以上であることが望ましい。   Further, when the wavelength conversion layer used for mounting the LED chip is made of a phosphor sheet in which the phosphor is dispersed and held in advance in the resin, the thickness of the phosphor sheet that is often used at present is approximately 25 μm to Since the thickness is 30 μm, the height of the reflecting surface from the package substrate is preferably 30 μm or more.

また、上記LEDチップの実装に用いられる上記波長変換層が、蛍光体混錬樹脂を塗布した後、蛍光体を沈降させて形成される場合、その波長変換層の厚さは概ね100μm〜150μmであり、波長変換層の外側延在部分の上部は蛍光体が低濃度となる。その場合、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さは50μm以上であることが望ましい。これにより、波長変換層の外側延在部分によって遮られる光量は十分に低減される。   Further, when the wavelength conversion layer used for mounting the LED chip is formed by applying a phosphor kneaded resin and then precipitating the phosphor, the thickness of the wavelength conversion layer is approximately 100 μm to 150 μm. There is a low concentration of the phosphor in the upper part of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. In that case, the height of the reflecting surface from the package substrate is preferably 50 μm or more. Thereby, the light quantity blocked | interrupted by the outer side extension part of a wavelength conversion layer is fully reduced.

一実施形態の発光装置では、
上記反射面形成体が、金属材料、白色の材料、および上記発光層の発光色と実質的に同色の不透明な材料のうちの一つまたは二つ以上からなることを特徴とする。
In the light emitting device of one embodiment,
The reflective surface forming body is made of one or more of a metal material, a white material, and an opaque material having substantially the same color as the light emission color of the light emitting layer.

この一実施形態の発光装置では、上記反射面を好ましく構成することができる。すなわち、上記反射面形成体が、金属材料、白色の材料、および上記発光層の発光色と実質的に同色の不透明な材料のうちの一つまたは二つ以上からなる場合、上記反射面で、上記発光層から達した光を、屈折率差や入射角に依らず、確実に反射することができる。   In the light emitting device of this embodiment, the reflection surface can be preferably configured. That is, when the reflective surface forming body is made of one or two or more of a metal material, a white material, and an opaque material having substantially the same color as the luminescent color of the light emitting layer, The light reaching from the light emitting layer can be reliably reflected regardless of the difference in refractive index and the incident angle.

また、例えば上記反射面形成体が金属材料と白色の絶縁材料との二つからなる場合、上記LEDチップの設計の自由度が増す。例えば上記積層基板の表面に形成される電極の金属材料を、上記反射面形成体の一部として利用することができる。   For example, when the reflective surface forming body is made of two materials, a metal material and a white insulating material, the degree of freedom in designing the LED chip is increased. For example, the metal material of the electrode formed on the surface of the laminated substrate can be used as a part of the reflecting surface forming body.

一実施形態の発光装置では、
上記反射面形成体が、上記積層基板のうちこの反射面形成体に沿った部分の屈折率よりも低い屈折率をもつ透明な材料からなる第1の反射面形成体と、金属材料からなる第2の反射面形成体とを含み、
上記第1の反射面形成体と上記第2の反射面形成体との間の界面が上記反射面を形成していることを特徴とする。
In the light emitting device of one embodiment,
The reflective surface forming body includes a first reflective surface forming body made of a transparent material having a refractive index lower than a refractive index of a portion along the reflective surface forming body of the laminated substrate, and a first made of a metal material. 2 reflective surface forming bodies,
An interface between the first reflecting surface forming body and the second reflecting surface forming body forms the reflecting surface.

この一実施形態の発光装置では、上記発光層から上記反射面形成体に達した光は、第1の反射面形成体をほぼ透過し、上記第1の反射面形成体と上記第2の反射面形成体との間の反射面によって反射される。この発光装置のLEDチップでは、上記反射面形成体が第1の反射面形成体と第2の反射面形成体との2層からなるので、上記反射面形成体を形成する材料の選択の自由度が増す。   In the light emitting device according to this embodiment, the light that has reached the reflecting surface forming body from the light emitting layer is substantially transmitted through the first reflecting surface forming body, and the first reflecting surface forming body and the second reflecting surface are formed. Reflected by the reflecting surface between the surface forming body. In the LED chip of this light emitting device, the reflective surface forming body is composed of two layers of the first reflective surface forming body and the second reflective surface forming body, so that the material for forming the reflective surface formed body can be freely selected. The degree increases.

一実施形態の発光装置では、
上記反射面形成体が、電極を構成していることを特徴とする。
In the light emitting device of one embodiment,
The reflective surface forming body constitutes an electrode.

この一実施形態の発光装置では、上記反射面形成体を電極として用いるので、上記積層基板の表面に形成されていた電極を設ける必要がなく、発光装置の構成を簡単にすることができる。   In the light emitting device of this embodiment, since the reflecting surface forming body is used as an electrode, it is not necessary to provide an electrode formed on the surface of the laminated substrate, and the configuration of the light emitting device can be simplified.

一実施形態の発光装置では、
上記パッケージ基板は、上記LEDチップを配置すべきLEDチップ配置領域上に上記LEDチップ配置領域に沿って配置された、上記反射面を形成する反射面形成体を有し、
上記反射面形成体の最外面が上記パッケージ基板に接していることを特徴とする。
In the light emitting device of one embodiment,
The package substrate has a reflective surface forming body that forms the reflective surface, which is disposed along the LED chip placement region on the LED chip placement region on which the LED chip is to be placed,
The outermost surface of the reflective surface forming body is in contact with the package substrate.

この一実施形態の発光装置では、上記パッケージ基板が反射面形成体を有しているので、上記LEDチップに反射面を設ける必要がない。   In the light emitting device of this embodiment, since the package substrate has a reflecting surface forming body, it is not necessary to provide a reflecting surface on the LED chip.

一実施形態の発光装置では、
上記反射面の高さは、上記パッケージ基板のうち、上記波長変換層の上記外側延在部分が延在する領域よりも外側に相当する外側領域の上面の高さよりも高いことを特徴とする。
In the light emitting device of one embodiment,
The height of the reflection surface is higher than the height of the upper surface of the outer region corresponding to the outer side of the region where the outer extending portion of the wavelength conversion layer extends in the package substrate.

この一実施形態の発光装置では、上記反射面の高さは、上記外側領域の上面の高さを越えた状態になる。したがって、上記LEDチップの側面から側方へ出射される光が、上記外側領域によって遮られるのを防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In the light emitting device according to this embodiment, the height of the reflection surface exceeds the height of the upper surface of the outer region. Therefore, the light emitted from the side surface of the LED chip to the side can be prevented from being blocked by the outer region. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

一実施形態の発光装置では、
上記パッケージ基板のうち、上記波長変換層の上記外側延在部分が延在する領域の上面の高さは、上記外側延在部分が延在する領域よりも外側に相当する外側領域の上面の高さよりも低いことを特徴とする。
In the light emitting device of one embodiment,
Of the package substrate, the height of the upper surface of the region where the outer extension portion of the wavelength conversion layer extends is higher than the upper surface of the outer region corresponding to the outer side of the region where the outer extension portion extends. It is characterized by being lower than that.

この一実施形態の発光装置では、上記パッケージ基板のうち、上記波長変換層の上記外側延在部分が延在する領域の上面の高さは、上記外側領域の上面の高さよりも低い。したがって、上記LEDチップの実装に用いられる波長変換層が、例えば樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートからなる場合、LEDチップに対する上記蛍光体シートの位置合わせが容易にできて、生産性を向上することができる。   In the light emitting device according to the embodiment, the height of the upper surface of the package substrate in which the outer extension portion of the wavelength conversion layer extends is lower than the height of the upper surface of the outer region. Therefore, when the wavelength conversion layer used for mounting the LED chip is made of a phosphor sheet in which a phosphor is dispersed and held in advance in a resin, for example, the phosphor sheet can be easily aligned with the LED chip. , Productivity can be improved.

この発明のLEDチップは、
パッケージ基板に実装されるLEDチップであって、
上記LEDチップは、上記パッケージ基板上に配置されたとき、上記LEDチップの上面および側面が上記LEDチップの発光層から放出された光の波長を変換する波長変換層で覆われ、上記波長変換層は、上記パッケージ基板上で上記LEDチップが配置された領域よりも外側へ延在する外側延在部分を有し、
上記LEDチップは、
上記発光層を含む積層基板と、
上記積層基板の二つの主面のうち一方の主面に沿って、上記反射面を形成する反射面形成体と
を備え、
上記積層基板の上記主面に垂直な方向に関して、上記反射面形成体の最外面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されていることを特徴とする。
The LED chip of this invention is
An LED chip mounted on a package substrate,
When the LED chip is disposed on the package substrate, the upper surface and the side surface of the LED chip are covered with a wavelength conversion layer that converts the wavelength of light emitted from the light emitting layer of the LED chip, and the wavelength conversion layer Has an outer extending portion that extends outward from a region where the LED chip is disposed on the package substrate,
The LED chip is
A laminated substrate including the light emitting layer;
A reflective surface forming body that forms the reflective surface along one main surface of the two main surfaces of the laminated substrate,
With respect to the direction perpendicular to the main surface of the multilayer substrate, the distance from the outermost surface of the reflecting surface forming body to the reflecting surface is a predetermined dimension or more according to the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. It is characterized by being set to.

この発明のLEDチップは、実装状態では、パッケージ基板上に、上記反射面形成体の最外面がダイボンドされた状態で実装され、上記LEDチップの上面および側面を覆うように、上記LEDチップの発光層から放出された光の波長を変換する波長変換層が設けられる。この波長変換層には、上記パッケージ基板上で上記LEDチップが配置された領域よりも外側へ延在する外側延在部分がマージンとして設けられる。ここで、上記積層基板の上記主面に垂直な方向に関して、上記反射面形成体の最外面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されている。したがって、予め上記反射面形成体の最外面から、上記反射面までの距離を、例えば上記波長変換層の外側延在部分の厚さよりも大きい寸法に設定しておけば、上記実装状態では、上記パッケージ基板上で上記反射面の高さが上記波長変換層の外側延在部分の高さを越えた状態になる。したがって、実装されたLEDチップの側面から側方へ出射される光が上記波長変換層の外側延在部分によって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In the mounted state, the LED chip of the present invention is mounted on the package substrate in a state where the outermost surface of the reflective surface forming body is die-bonded, and the LED chip emits light so as to cover the upper surface and the side surface of the LED chip. A wavelength conversion layer that converts the wavelength of the light emitted from the layer is provided. The wavelength conversion layer is provided with an outer extending portion that extends outward from the region where the LED chip is disposed on the package substrate as a margin. Here, with respect to the direction perpendicular to the main surface of the multilayer substrate, the distance from the outermost surface of the reflective surface forming body to the reflective surface is predetermined according to the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. It is set to more than the dimension. Therefore, if the distance from the outermost surface of the reflecting surface forming body to the reflecting surface is set to a dimension larger than the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer, for example, in the mounted state, On the package substrate, the height of the reflection surface exceeds the height of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface of the mounted LED chip from being laterally blocked by the outer extending portion of the wavelength conversion layer. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

一実施形態のLEDチップでは、
上記反射面形成体の最外面に構造物が設けられ、
上記積層基板の上記主面に垂直な方向に関して、上記反射面形成体の最外面に代えて、上記構造物の最外面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されていることを特徴とする。
In the LED chip of one embodiment,
A structure is provided on the outermost surface of the reflecting surface forming body,
The distance from the outermost surface of the structure to the reflecting surface in place of the outermost surface of the reflecting surface forming body in the direction perpendicular to the main surface of the multilayer substrate is the outer extended portion of the wavelength conversion layer. It is characterized by being set to a predetermined dimension or more according to the thickness.

この一実施形態のLEDチップでは、予め上記構造物の最外面から上記反射面までの距離を、例えば上記波長変換層の外側延在部分の厚さよりも大きい寸法に設定しておけば、上記実装状態では、上記パッケージ基板上で上記反射面の高さが上記波長変換層の外側延在部分の高さを越えた状態になる。したがって、実装されたLEDチップの側面から側方へ出射される光が上記波長変換層の外側延在部分によって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。しかも、上記LEDチップは、上記パッケージ基板上に、上記構造物を介して実装されているので、上記反射面形成体の材料を上記構造物の材料と異なるものとすることで、上記反射面形成体の厚さの設定の自由度が増す。   In the LED chip of this embodiment, if the distance from the outermost surface of the structure to the reflecting surface is set to a dimension larger than the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer, for example, the mounting is performed. In the state, the height of the reflection surface on the package substrate exceeds the height of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface of the mounted LED chip from being laterally blocked by the outer extending portion of the wavelength conversion layer. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced. In addition, since the LED chip is mounted on the package substrate via the structure, the reflective surface forming body is made different from the material of the structure by forming the reflective surface forming material. Increased freedom of body thickness setting.

一実施形態のLEDチップでは、
上記LEDチップが上記反射面形成体または上記構造物の最外面をパッケージ基板に向けて配置されたとき、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さが10μm以上になるように、上記寸法が設定されていることを特徴とする。
In the LED chip of one embodiment,
The dimensions are set so that the height of the reflective surface from the package substrate is 10 μm or more when the LED chip is disposed with the outermost surface of the reflective surface forming body or the structure facing the package substrate. It is characterized by being.

上記LEDチップの実装に現在よく用いられている蛍光体の粒子径が数μmであることから、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さは10μm以上であるのが望ましい。   Since the particle diameter of the phosphor that is often used for mounting the LED chip is several μm, the height of the reflecting surface from the package substrate is preferably 10 μm or more.

また、上記LEDチップの実装に用いられる波長変換層が、樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートからなる場合、現在よく用いられている蛍光体シートの厚さが概ね25μm〜30μmであることから、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さは30μm以上であることが望ましい。   Further, when the wavelength conversion layer used for mounting the LED chip is made of a phosphor sheet in which the phosphor is dispersed and held in advance in the resin, the thickness of the phosphor sheet that is often used at present is approximately 25 μm to Since the thickness is 30 μm, the height of the reflecting surface from the package substrate is preferably 30 μm or more.

また、上記LEDチップの実装に用いられる上記波長変換層が、蛍光体混錬樹脂を塗布した後、蛍光体を沈降させて形成される場合、その波長変換層の厚さは概ね100μm〜150μmであり、波長変換層の外側延在部分の上部は蛍光体が低濃度となる。その場合、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さは50μm以上であることが望ましい。これにより、波長変換層の外側延在部分によって遮られる光量は十分に低減される。   Further, when the wavelength conversion layer used for mounting the LED chip is formed by applying a phosphor kneaded resin and then precipitating the phosphor, the thickness of the wavelength conversion layer is approximately 100 μm to 150 μm. There is a low concentration of the phosphor in the upper part of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. In that case, the height of the reflecting surface from the package substrate is preferably 50 μm or more. Thereby, the light quantity blocked | interrupted by the outer side extension part of a wavelength conversion layer is fully reduced.

一実施形態のLEDチップでは、
上記反射面形成体が、金属材料、白色の材料、および上記発光層の発光色と実質的に同色の不透明な材料のうちの一つまたは二つ以上からなることを特徴とする。
In the LED chip of one embodiment,
The reflective surface forming body is made of one or more of a metal material, a white material, and an opaque material having substantially the same color as the light emission color of the light emitting layer.

この一実施形態のLEDチップでは、上記反射面を好ましく構成することができる。すなわち、上記反射面形成体が、金属材料、白色の材料、および上記発光層の発光色と実質的に同色の不透明な材料のうちの一つまたは二つ以上からなる場合、上記反射面で、上記発光層から達した光を、屈折率差や入射角に依らず、確実に反射することができる。   In the LED chip of this embodiment, the reflecting surface can be preferably configured. That is, when the reflective surface forming body is made of one or two or more of a metal material, a white material, and an opaque material having substantially the same color as the luminescent color of the light emitting layer, The light reaching from the light emitting layer can be reliably reflected regardless of the difference in refractive index and the incident angle.

また、例えば上記反射面形成体が金属材料と白色の絶縁材料との二つからなる場合、上記LEDチップの設計の自由度が増す。例えば上記積層基板の表面に形成される電極の金属材料を、上記反射面形成体の一部として利用することができる。   For example, when the reflective surface forming body is made of two materials, a metal material and a white insulating material, the degree of freedom in designing the LED chip is increased. For example, the metal material of the electrode formed on the surface of the laminated substrate can be used as a part of the reflecting surface forming body.

一実施形態のLEDチップでは、
上記反射面形成体が、上記積層基板のうちこの反射面形成体に沿った部分の屈折率よりも低い屈折率をもつ透明な材料からなる第1の反射面形成体と、金属材料からなる第2の反射面形成体とを含み、
上記第1の反射面形成体と上記第2の反射面形成体との間の界面が上記反射面を形成していることを特徴とする。
In the LED chip of one embodiment,
The reflective surface forming body includes a first reflective surface forming body made of a transparent material having a refractive index lower than a refractive index of a portion along the reflective surface forming body of the laminated substrate, and a first made of a metal material. 2 reflective surface forming bodies,
An interface between the first reflecting surface forming body and the second reflecting surface forming body forms the reflecting surface.

この一実施形態のLEDチップでは、上記発光層から上記反射面形成体に達した光は、第1の反射面形成体をほぼ透過し、上記第1の反射面形成体と上記第2の反射面形成体との間の反射面によって反射される。このLEDチップでは、上記反射面形成体が第1の反射面形成体と第2の反射面形成体との2層からなるので、上記反射面形成体を形成する材料の選択の自由度が増す。   In the LED chip of this embodiment, the light that has reached the reflecting surface forming body from the light emitting layer is substantially transmitted through the first reflecting surface forming body, and the first reflecting surface forming body and the second reflecting surface are formed. Reflected by the reflecting surface between the surface forming body. In this LED chip, since the reflective surface forming body is composed of two layers of the first reflective surface forming body and the second reflective surface forming body, the degree of freedom in selecting the material forming the reflective surface forming body is increased. .

一実施形態のLEDチップでは、
上記反射面形成体が、電極を構成していることを特徴とする。
In the LED chip of one embodiment,
The reflective surface forming body constitutes an electrode.

この一実施形態のLEDチップでは、上記反射面形成体を電極として用いるので、上記積層基板の表面に形成されていた電極を設ける必要がなく、LEDチップの構成を簡単にすることができる。   In the LED chip of this embodiment, since the reflective surface forming body is used as an electrode, it is not necessary to provide an electrode formed on the surface of the laminated substrate, and the configuration of the LED chip can be simplified.

この発明のLEDウェハは、
分割することによってLEDチップとなるLEDウェハであって、
上記LEDチップは、パッケージ基板上に配置されたとき、上記LEDチップの上面および側面が上記LEDチップの発光層から放出された光の波長を変換する波長変換層で覆われ、上記波長変換層は、上記パッケージ基板上で上記LEDチップが配置された領域よりも外側へ延在する外側延在部分を有し、
上記LEDウェハは、
上記発光層を含む積層基板と、
上記積層基板の二つの主面のうち一方の主面に沿って、上記反射面を形成する反射面形成体と
を備え、
上記積層基板の上記主面に垂直な方向に関して、上記反射面形成体の最外面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されていることを特徴とする。
The LED wafer of the present invention is
An LED wafer that becomes an LED chip by dividing,
When the LED chip is disposed on the package substrate, the upper surface and the side surface of the LED chip are covered with a wavelength conversion layer that converts the wavelength of light emitted from the light emitting layer of the LED chip, and the wavelength conversion layer is And having an outer extending portion that extends outward from a region where the LED chip is disposed on the package substrate,
The LED wafer is
A laminated substrate including the light emitting layer;
A reflective surface forming body that forms the reflective surface along one main surface of the two main surfaces of the laminated substrate,
With respect to the direction perpendicular to the main surface of the multilayer substrate, the distance from the outermost surface of the reflecting surface forming body to the reflecting surface is a predetermined dimension or more according to the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. It is characterized by being set to.

この発明のLEDウェハは、上記積層基板の上記主面に沿った面内で所定の寸法をもつように、上記主面に垂直な方向に切断又は劈開して分割することによって、LEDチップとなる。実装状態では、そのようなLEDチップは、パッケージ基板上に、上記反射面形成体の最外面がダイボンドされた状態で配置され、上記LEDチップの上面および側面を覆うように、上記LEDチップの発光層から放出された光の波長を変換する波長変換層が設けられる。この波長変換層には、上記パッケージ基板上で上記LEDチップが配置された領域よりも外側へ延在する外側延在部分がマージンとして設けられる。ここで、上記積層基板の上記主面に垂直な方向に関して、上記反射面形成体の最外面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されている。したがって、予め上記反射面形成体の最外面から上記反射面までの距離を、例えば上記波長変換層の外側延在部分の厚さよりも大きい寸法に設定しておけば、上記実装状態では、上記パッケージ基板上で上記反射面の高さが上記波長変換層の外側延在部分の高さを越えた状態になる。したがって、実装されたLEDチップの側面から側方へ出射される光が上記波長変換層の外側延在部分によって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   The LED wafer of the present invention becomes an LED chip by cutting or cleaving and dividing in a direction perpendicular to the main surface so as to have a predetermined dimension in a plane along the main surface of the multilayer substrate. . In the mounted state, such an LED chip is disposed on the package substrate in a state where the outermost surface of the reflecting surface forming body is die-bonded, and the LED chip emits light so as to cover the upper surface and the side surface of the LED chip. A wavelength conversion layer that converts the wavelength of the light emitted from the layer is provided. The wavelength conversion layer is provided with an outer extending portion that extends outward from the region where the LED chip is disposed on the package substrate as a margin. Here, with respect to the direction perpendicular to the main surface of the multilayer substrate, the distance from the outermost surface of the reflective surface forming body to the reflective surface is predetermined according to the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. It is set to more than the dimension. Therefore, if the distance from the outermost surface of the reflecting surface forming body to the reflecting surface is set to a dimension larger than the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer, for example, in the mounted state, the package On the substrate, the height of the reflection surface exceeds the height of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface of the mounted LED chip from being laterally blocked by the outer extending portion of the wavelength conversion layer. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

また、上記反射面形成体の形成および厚さの設定は、ウェハプロセスとして、ウェハ状態で一括して行うことが可能である。したがって、個々のパッケージ基板または個々のLEDチップに対して新たな工程を追加する必要がない。しかも、個々のパッケージ基板または個々のLEDチップを加工する場合に比して、ウェハ状態での加工は精度良く行われる。したがって、実装状態では、パッケージ基板上での上記反射面の高さの精度、およびパッケージ基板に対する上記反射面の平行度の精度が高まる。   Further, the formation of the reflecting surface forming body and the setting of the thickness can be collectively performed in a wafer state as a wafer process. Therefore, it is not necessary to add a new process to each package substrate or each LED chip. Moreover, the processing in the wafer state is performed with higher precision than when processing individual package substrates or individual LED chips. Therefore, in the mounted state, the accuracy of the height of the reflecting surface on the package substrate and the accuracy of the parallelism of the reflecting surface with respect to the package substrate are increased.

また、上記波長変換層には、上記外側延在部分がマージンとして設けられるので、例えば波長変換層として、樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートを用いる場合、蛍光体シートのカット寸法や、LEDチップに対する蛍光体シートの位置合わせに必要な精度に余裕ができて、生産性を向上することができる。   Further, since the outer extension portion is provided as a margin in the wavelength conversion layer, for example, when using a phosphor sheet in which a phosphor is dispersed and held in advance as a wavelength conversion layer, The margin required for the cut dimensions and the accuracy required for alignment of the phosphor sheet with respect to the LED chip can be improved, and the productivity can be improved.

一実施形態のLEDウェハでは、
上記反射面形成体の最外面に構造物が設けられ、
上記積層基板の上記主面に垂直な方向に関して、上記反射面形成体の最外面に代えて、上記構造物の最外面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されていることを特徴とする。
In an LED wafer of one embodiment,
A structure is provided on the outermost surface of the reflecting surface forming body,
The distance from the outermost surface of the structure to the reflecting surface in place of the outermost surface of the reflecting surface forming body in the direction perpendicular to the main surface of the multilayer substrate is the outer extended portion of the wavelength conversion layer. It is characterized by being set to a predetermined dimension or more according to the thickness.

この一実施形態のLEDウェハでは、予め上記構造物の最外面から上記反射面までの距離を、例えば上記波長変換層の外側延在部分の厚さよりも大きい寸法に設定しておけば、上記実装状態では、上記パッケージ基板上で上記反射面の高さが上記波長変換層の外側延在部分の高さを越えた状態になる。したがって、実装されたLEDチップの側面から側方へ出射される光が上記波長変換層の外側延在部分によって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。しかも、上記LEDチップは、上記パッケージ基板上に、上記構造物を介して実装されているので、上記反射面形成体の材料を上記構造物の材料と異なるものとすることで、上記反射面形成体の厚さの設定の自由度が増す。   In the LED wafer of this embodiment, if the distance from the outermost surface of the structure to the reflecting surface is set to a dimension larger than the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer, for example, the mounting is performed. In the state, the height of the reflection surface on the package substrate exceeds the height of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface of the mounted LED chip from being laterally blocked by the outer extending portion of the wavelength conversion layer. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced. In addition, since the LED chip is mounted on the package substrate via the structure, the reflective surface forming body is made different from the material of the structure by forming the reflective surface forming material. Increased freedom of body thickness setting.

一実施形態のLEDウェハでは、
上記LEDチップが上記反射面形成体または上記構造物の最外面をパッケージ基板に向けて配置されたとき、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さが10μm以上になるように、上記寸法が設定されていることを特徴とする。
In an LED wafer of one embodiment,
The dimensions are set so that the height of the reflective surface from the package substrate is 10 μm or more when the LED chip is disposed with the outermost surface of the reflective surface forming body or the structure facing the package substrate. It is characterized by being.

上記LEDチップの実装に現在よく用いられている蛍光体の粒子径が数μmであることから、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さは10μm以上であるのが望ましい。   Since the particle diameter of the phosphor that is often used for mounting the LED chip is several μm, the height of the reflecting surface from the package substrate is preferably 10 μm or more.

また、上記LEDチップの実装に用いられる波長変換層が、樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートからなる場合、現在よく用いられている蛍光体シートの厚さが概ね25μm〜30μmであることから、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さは30μm以上であることが望ましい。   Further, when the wavelength conversion layer used for mounting the LED chip is made of a phosphor sheet in which the phosphor is dispersed and held in advance in the resin, the thickness of the phosphor sheet that is often used at present is approximately 25 μm to Since the thickness is 30 μm, the height of the reflecting surface from the package substrate is preferably 30 μm or more.

また、上記LEDチップの実装に用いられる上記波長変換層が、蛍光体混錬樹脂を塗布した後、蛍光体を沈降させて形成される場合、その波長変換層の厚さは概ね100μm〜150μmであり、波長変換層の外側延在部分の上部は蛍光体が低濃度となる。その場合、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さは50μm以上であることが望ましい。これにより、波長変換層の外側延在部分によって遮られる光量は十分に低減される。   Further, when the wavelength conversion layer used for mounting the LED chip is formed by applying a phosphor kneaded resin and then precipitating the phosphor, the thickness of the wavelength conversion layer is approximately 100 μm to 150 μm. There is a low concentration of the phosphor in the upper part of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. In that case, the height of the reflecting surface from the package substrate is preferably 50 μm or more. Thereby, the light quantity blocked | interrupted by the outer side extension part of a wavelength conversion layer is fully reduced.

一実施形態のLEDウェハでは、
上記反射面形成体が、金属材料、白色の材料、および上記発光層の発光色と実質的に同色の不透明な材料のうちの一つまたは二つ以上からなることを特徴とする。
In an LED wafer of one embodiment,
The reflective surface forming body is made of one or more of a metal material, a white material, and an opaque material having substantially the same color as the light emission color of the light emitting layer.

この一実施形態のLEDウェハでは、上記反射面を好ましく構成することができる。すなわち、上記反射面形成体が、金属材料、白色の材料、および上記発光層の発光色と実質的に同色の不透明な材料のうちの一つまたは二つ以上からなる場合、上記反射面で、上記発光層から達した光を、屈折率差や入射角に依らず、確実に反射することができる。   In the LED wafer of this embodiment, the reflecting surface can be preferably configured. That is, when the reflective surface forming body is made of one or two or more of a metal material, a white material, and an opaque material having substantially the same color as the luminescent color of the light emitting layer, The light reaching from the light emitting layer can be reliably reflected regardless of the difference in refractive index and the incident angle.

また、例えば上記反射面形成体が金属材料と白色の絶縁材料との二つからなる場合、上記LEDウェハを分割して得られるLEDチップの設計の自由度が増す。例えば上記積層基板の表面に形成される電極の金属材料を、上記反射面形成体の一部として利用することができる。   For example, when the reflective surface forming body is made of two materials, a metal material and a white insulating material, the degree of freedom in designing an LED chip obtained by dividing the LED wafer is increased. For example, the metal material of the electrode formed on the surface of the laminated substrate can be used as a part of the reflecting surface forming body.

一実施形態のLEDウェハでは、
上記反射面形成体が、上記積層基板のうちこの反射面形成体に沿った部分の屈折率よりも低い屈折率をもつ透明な材料からなる第1の反射面形成体と、金属材料からなる第2の反射面形成体とを含み、
上記第1の反射面形成体と上記第2の反射面形成体との間の界面が上記反射面を形成していることを特徴とする。
In an LED wafer of one embodiment,
The reflective surface forming body includes a first reflective surface forming body made of a transparent material having a refractive index lower than a refractive index of a portion along the reflective surface forming body of the laminated substrate, and a first made of a metal material. 2 reflective surface forming bodies,
An interface between the first reflecting surface forming body and the second reflecting surface forming body forms the reflecting surface.

この一実施形態のLEDウェハでは、上記発光層から上記反射面形成体に達した光は、第1の反射面形成体をほぼ透過し、上記第1の反射面形成体と上記第2の反射面形成体との間の反射面によって反射される。このLEDウェハでは、上記反射面形成体が第1の反射面形成体と第2の反射面形成体との2層からなるので、上記反射面形成体を形成する材料の選択の自由度が増す。   In the LED wafer according to this embodiment, the light that has reached the reflecting surface forming body from the light emitting layer is substantially transmitted through the first reflecting surface forming body, and the first reflecting surface forming body and the second reflecting surface. Reflected by the reflecting surface between the surface forming body. In this LED wafer, since the reflective surface forming body is composed of two layers of the first reflective surface forming body and the second reflective surface forming body, the degree of freedom in selecting the material for forming the reflective surface formed body is increased. .

一実施形態のLEDウェハでは、
上記反射面形成体が、電極を構成していることを特徴とする。
In an LED wafer of one embodiment,
The reflective surface forming body constitutes an electrode.

この一実施形態のLEDウェハでは、上記反射面形成体を電極として用いるので、上記積層基板の表面に形成されていた電極を設ける必要がなく、LEDウェハの構成を簡単にすることができる。   In the LED wafer of this embodiment, since the reflective surface forming body is used as an electrode, it is not necessary to provide an electrode formed on the surface of the laminated substrate, and the configuration of the LED wafer can be simplified.

この発明のパッケージ基板は、
LEDチップを搭載すべきパッケージ基板であって、
上記LEDチップを配置すべきLEDチップ配置領域と、
上記LEDチップ配置領域の外側を取り巻く枠状領域と、
上記LEDチップ配置領域上に上記LEDチップ配置領域に沿って配置された反射面形成体とを有し、
上記LEDチップは、上記反射面形成体上に配置されたとき、上記LEDチップの上面および側面が上記LEDチップの発光層から放出された光の波長を変換する波長変換層で覆われ、上記波長変換層は、上記枠状領域上に延在する外側延在部分を有し、
上記反射面形成体は、上記LEDチップの上記発光層から上記LEDチップ配置領域側に放出される光を反射させる反射面を形成するようになっており、
上記反射面に垂直な方向に関して、上記枠状領域の上面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されていることを特徴とする。
The package substrate of the present invention is
A package substrate on which an LED chip is to be mounted,
LED chip placement area where the LED chip should be placed;
A frame-like region surrounding the outside of the LED chip arrangement region;
A reflective surface forming body arranged along the LED chip arrangement area on the LED chip arrangement area;
When the LED chip is disposed on the reflective surface forming body, the upper surface and the side surface of the LED chip are covered with a wavelength conversion layer that converts the wavelength of light emitted from the light emitting layer of the LED chip, and the wavelength The conversion layer has an outer extending portion extending on the frame-shaped region,
The reflective surface forming body is configured to form a reflective surface that reflects light emitted from the light emitting layer of the LED chip to the LED chip arrangement region side,
With respect to the direction perpendicular to the reflecting surface, the distance from the upper surface of the frame-like region to the reflecting surface is set to a predetermined dimension or more according to the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. It is characterized by.

この発明のパッケージ基板には、上記LEDチップがダイボンドされた状態で実装され、上記LEDチップの上面および側面を覆うように、上記LEDチップの発光層から放出された光の波長を変換する波長変換層が設けられている。この波長変換層には、上記パッケージ基板の枠状領域上に延在する外側延在部分がマージンとして設けられている。上記パッケージ基板の上記LEDチップ配置領域上に、上記LEDチップ配置領域に沿って反射面が配置されている。この反射面は、上記発光層から上記パッケージ配置領域側に放出される光を反射させる。また、この反射面は上記反射面形成体によって形成されている。ここで、上記反射面に垂直な方向に関して、上記枠状領域の上面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されている。したがって、予め上記枠状領域の上面から上記反射面までの距離を、例えば上記波長変換層の外側延在部分の厚さよりも大きい寸法に設定しておけば、上記パッケージ基板上で上記反射面の高さが上記波長変換層の外側延在部分の高さを越えた状態になる。したがって、実装されたLEDチップの側面から側方へ出射される光が上記波長変換層の外側延在部分によって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。しかも、上記反射面は、上記パッケージ基板の上面に形成されるので、上記LEDチップに反射面を設ける必要がない。   The wavelength conversion for converting the wavelength of the light emitted from the light emitting layer of the LED chip so that the LED chip is mounted on the package substrate of the present invention in a die-bonded state and covers the upper surface and the side surface of the LED chip. A layer is provided. The wavelength conversion layer is provided with an outer extension portion extending as a margin on the frame region of the package substrate. A reflective surface is arranged along the LED chip arrangement area on the LED chip arrangement area of the package substrate. The reflecting surface reflects light emitted from the light emitting layer to the package arrangement region side. In addition, this reflecting surface is formed by the reflecting surface forming body. Here, with respect to the direction perpendicular to the reflecting surface, the distance from the upper surface of the frame-shaped region to the reflecting surface is set to a predetermined dimension or more according to the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. ing. Therefore, if the distance from the upper surface of the frame-shaped region to the reflection surface is set to a dimension larger than the thickness of the outer extension portion of the wavelength conversion layer, for example, the reflection surface on the package substrate is set. The height exceeds the height of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface of the mounted LED chip from being laterally blocked by the outer extending portion of the wavelength conversion layer. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced. Moreover, since the reflection surface is formed on the upper surface of the package substrate, it is not necessary to provide a reflection surface on the LED chip.

一実施形態のパッケージ基板では、
上記反射面の高さは、上記枠状領域よりも外側に相当する外側領域の上面の高さよりも高いことを特徴とする。
In the package substrate of one embodiment,
The height of the reflective surface is higher than the height of the upper surface of the outer region corresponding to the outer side of the frame-like region.

この一実施形態のパッケージ基板では、上記反射面の高さは、上記外側領域の上面の高さを越えた状態になる。したがって、上記LEDチップの側面から側方へ出射される光が、上記外側領域によって遮られるのを防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In the package substrate of this embodiment, the height of the reflection surface exceeds the height of the upper surface of the outer region. Therefore, the light emitted from the side surface of the LED chip to the side can be prevented from being blocked by the outer region. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

一実施形態のパッケージ基板では、
上記枠状領域の上面の高さは、上記枠状領域よりも外側に相当する外側領域の上面の高さよりも低いことを特徴とする。
In the package substrate of one embodiment,
The height of the upper surface of the frame-like region is lower than the height of the upper surface of the outer region corresponding to the outside of the frame-like region.

この一実施形態のパッケージ基板では、上記枠状領域の上面の高さは、上記外側領域の上面の高さよりも低い。したがって、上記LEDチップの実装に用いられる波長変換層が、例えば樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートからなる場合、LEDチップに対する上記蛍光体シートの位置合わせが容易にできて、生産性を向上することができる。   In the package substrate of this embodiment, the height of the upper surface of the frame-like region is lower than the height of the upper surface of the outer region. Therefore, when the wavelength conversion layer used for mounting the LED chip is made of a phosphor sheet in which a phosphor is dispersed and held in advance in a resin, for example, the phosphor sheet can be easily aligned with the LED chip. , Productivity can be improved.

以上より明らかなように、この発明の発光装置によれば、パッケージ基板上に実装されたLEDチップの側面から側方へ出射される光が遮られるのを防止でき、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   As apparent from the above, according to the light emitting device of the present invention, it is possible to prevent the light emitted from the side surface of the LED chip mounted on the package substrate from being blocked, and to improve the light extraction efficiency. At the same time, color unevenness can be reduced.

また、この発明のLEDチップによれば、実装状態では、側面から側方へ出射される光が遮られるのを防止でき、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   Further, according to the LED chip of the present invention, in the mounted state, it is possible to prevent the light emitted from the side surfaces from being blocked, thereby improving the light extraction efficiency and reducing the color unevenness.

また、この発明のLEDウェハによれば、実装されたLEDチップからの光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   Further, according to the LED wafer of the present invention, it is possible to improve the light extraction efficiency from the mounted LED chip and reduce the color unevenness.

また、この発明のパッケージ基板によれば、実装されたLEDチップの側面から側方へ出射される光が遮られるのを防止でき、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   Further, according to the package substrate of the present invention, it is possible to prevent the light emitted from the side surface of the mounted LED chip from being blocked, thereby improving the light extraction efficiency and reducing the color unevenness.

この発明の一実施形態のLEDウェハの断面構造を示す図である。It is a figure which shows the cross-section of the LED wafer of one Embodiment of this invention. この発明の一実施形態のLEDウェハの断面構造を示す図である。It is a figure which shows the cross-section of the LED wafer of one Embodiment of this invention. この発明の一実施形態のLEDウェハの断面構造を示す図である。It is a figure which shows the cross-section of the LED wafer of one Embodiment of this invention. この発明の一実施形態のLEDウェハの断面構造を示す図である。It is a figure which shows the cross-section of the LED wafer of one Embodiment of this invention. この発明の一実施形態のLEDウェハの断面構造を示す図である。It is a figure which shows the cross-section of the LED wafer of one Embodiment of this invention. この発明の一実施形態のLEDウェハの断面構造を示す図である。It is a figure which shows the cross-section of the LED wafer of one Embodiment of this invention. 図1のLEDウェハから得られたLEDチップをパッケージ基板上にフェイスアップ方式で実装した発光装置を示す図である。It is a figure which shows the light-emitting device which mounted the LED chip obtained from the LED wafer of FIG. 1 on the package board | substrate by the face-up system. 図2のLEDウェハから得られたLEDチップをパッケージ基板上にフェイスダウン方式で実装した発光装置を示す図である。It is a figure which shows the light-emitting device which mounted the LED chip obtained from the LED wafer of FIG. 2 on the package board | substrate by the face-down system. 図3のLEDウェハから得られたLEDチップをパッケージ基板上にフェイスアップ方式で実装した発光装置を示す図である。It is a figure which shows the light-emitting device which mounted the LED chip obtained from the LED wafer of FIG. 3 on the package board | substrate by the face-up system. 図4のLEDウェハから得られたLEDチップをパッケージ基板上にフェイスアップ方式で実装した発光装置を示す図である。It is a figure which shows the light-emitting device which mounted the LED chip obtained from the LED wafer of FIG. 4 on the package board | substrate by the face-up system. 図5のLEDウェハから得られたLEDチップをパッケージ基板上にフェイスダウン方式で実装した発光装置を示す図である。It is a figure which shows the light-emitting device which mounted the LED chip obtained from the LED wafer of FIG. 5 on the package board | substrate by the face-down system. 図6のLEDウェハから得られたLEDチップをパッケージ基板上にフェイスアップ方式で実装した発光装置を示す図である。It is a figure which shows the light-emitting device which mounted the LED chip obtained from the LED wafer of FIG. 6 on the package board | substrate by the face-up system. この発明の一実施形態のLEDチップの発光装置を示す図である。It is a figure which shows the light-emitting device of the LED chip of one Embodiment of this invention. この発明の一実施形態のLEDチップの発光装置を示す図である。It is a figure which shows the light-emitting device of the LED chip of one Embodiment of this invention. この発明の一実施形態のLEDチップの発光装置を示す図である。It is a figure which shows the light-emitting device of the LED chip of one Embodiment of this invention. 従来のLEDチップの発光装置を示す図である。It is a figure which shows the light-emitting device of the conventional LED chip. 図17(a)及び(b)は、従来の蛍光体シートを用いた場合におけるLEDチップの発光装置の問題を説明する図である。FIGS. 17A and 17B are diagrams for explaining the problem of the LED chip light-emitting device when a conventional phosphor sheet is used. 従来の蛍光体シートを用いた場合におけるLEDチップの発光装置の問題を説明する図である。It is a figure explaining the problem of the light-emitting device of the LED chip in the case of using the conventional fluorescent substance sheet. 従来の蛍光体シートを用いた場合におけるLEDチップの発光装置の問題を説明する図である。It is a figure explaining the problem of the light-emitting device of the LED chip in the case of using the conventional fluorescent substance sheet. 従来の蛍光体シートを用いた場合におけるLEDチップの発光装置の問題を説明する図である。It is a figure explaining the problem of the light-emitting device of the LED chip in the case of using the conventional fluorescent substance sheet.

以下、この発明を図示の実施の形態により詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the illustrated embodiments.

(第1実施形態)
図1は、一実施形態としての青色LEDウェハ81の断面構造を示している。
(First embodiment)
FIG. 1 shows a cross-sectional structure of a blue LED wafer 81 as one embodiment.

この青色LEDウェハ81は、透光性を有するサファイアからなる成長基板1と、この成長基板1の第1の主面1aに形成され、通電を受けたとき発光する発光層2と、この発光層2の表面に形成されたN電極41およびP電極42を備えている。これらの電極41,42は、発光層2の表面に沿って、一定のピッチで繰り返し配置されている。これらの要素1,2,41,42が積層基板を構成している。   The blue LED wafer 81 includes a growth substrate 1 made of sapphire having translucency, a light emitting layer 2 that is formed on the first main surface 1a of the growth substrate 1 and emits light when energized, and the light emitting layer. 2 and an N electrode 41 and a P electrode 42 formed on the surface. These electrodes 41 and 42 are repeatedly arranged at a constant pitch along the surface of the light emitting layer 2. These elements 1, 2, 41, and 42 constitute a laminated substrate.

また、この青色LEDウェハ81は、成長基板1の第1の主面1aと反対側の第2の主面1bに沿って反射面形成体5を備えている。反射面形成体5は、例えば、アルミニウムや銀などの金属材料からなり、成長基板1と反射面形成体5との間の界面に、発光層2から成長基板1を通して達した光を鏡面反射するように平坦な反射面3を形成している。反射面3の反射率は高い方が好ましく、90%以上であることが望ましい。主面1a,1bに垂直な方向に関して、反射面形成体5の最外面5bから上記反射面3までの距離、つまり反射面形成体5の厚さD1が、後述する波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。   The blue LED wafer 81 includes a reflective surface forming body 5 along a second main surface 1b opposite to the first main surface 1a of the growth substrate 1. The reflective surface forming body 5 is made of, for example, a metal material such as aluminum or silver, and specularly reflects light reaching the interface between the growth substrate 1 and the reflective surface forming body 5 from the light emitting layer 2 through the growth substrate 1. Thus, the flat reflective surface 3 is formed. The reflectance of the reflective surface 3 is preferably higher and is desirably 90% or more. With respect to the direction perpendicular to the main surfaces 1a and 1b, the distance from the outermost surface 5b of the reflecting surface forming body 5 to the reflecting surface 3, that is, the thickness D1 of the reflecting surface forming body 5 is the outer extension of the wavelength conversion layer 7 described later. It is set to a predetermined dimension or more according to the thickness H of the existing portion 7a.

この青色LEDウェハ81は、成長基板1の第1の主面1aに沿った面内で所定の寸法をもつように、主面1a,1bに垂直な方向に切断又は劈開して分割される。この例では、この青色LEDウェハ81は、図1中に示す破線Xに沿ってダイシングされて、チップ化される。これにより、図7中に示す青色LEDチップ81′が得られる。   The blue LED wafer 81 is divided by cutting or cleaving in a direction perpendicular to the main surfaces 1a and 1b so as to have a predetermined dimension in a plane along the first main surface 1a of the growth substrate 1. In this example, the blue LED wafer 81 is diced along a broken line X shown in FIG. Thereby, the blue LED chip 81 ′ shown in FIG. 7 is obtained.

図7は、青色LEDチップ81′をパッケージ基板8上にフェイスアップ方式で実装した発光装置を示している。この実装は次のようにして行われる。まず、パッケージ基板8上の所定の位置に、反射面形成体5の最外面5bがパッケージ基板8に接するように青色LEDチップ81′を配置して、ダイボンド剤(図示せず)で固定する。そして、パッケージ基板8上の電極10a,10bと青色LEDチップ81′上の電極41,42との間にワイヤ配線91,92を設ける。次に、青色LEDチップ81′の上面81aおよび側面81bを覆うように、波長変換層7として、樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートを設ける。または、波長変換層7として、蛍光体混錬樹脂を塗布した後、蛍光体を沈降させる。最後に、青色LEDチップ81′および波長変換層7を透明樹脂(図示せず)で封止する。なお、青色LEDチップ81′を確実に覆うように、波長変換層7には、上記パッケージ基板8上で青色LEDチップ81′が配置された領域(これを「LEDチップ配置領域」と呼ぶ。)よりも外側へ延在する部分(これを「外側延在部分」と呼ぶ。)7aがマージンとして設けられる。   FIG. 7 shows a light emitting device in which a blue LED chip 81 ′ is mounted on the package substrate 8 in a face-up manner. This implementation is done as follows. First, the blue LED chip 81 ′ is arranged at a predetermined position on the package substrate 8 so that the outermost surface 5 b of the reflective surface forming body 5 is in contact with the package substrate 8, and fixed with a die bond agent (not shown). Wire wires 91 and 92 are provided between the electrodes 10a and 10b on the package substrate 8 and the electrodes 41 and 42 on the blue LED chip 81 '. Next, a phosphor sheet in which a phosphor is dispersed and held in advance in a resin is provided as the wavelength conversion layer 7 so as to cover the upper surface 81a and the side surface 81b of the blue LED chip 81 ′. Alternatively, after the phosphor kneaded resin is applied as the wavelength conversion layer 7, the phosphor is precipitated. Finally, the blue LED chip 81 ′ and the wavelength conversion layer 7 are sealed with a transparent resin (not shown). In the wavelength conversion layer 7, an area in which the blue LED chip 81 ′ is arranged on the package substrate 8 (referred to as “LED chip arrangement area”) so as to securely cover the blue LED chip 81 ′. A portion extending outward (referred to as an “outside extending portion”) 7a is provided as a margin.

動作時には、青色LEDチップ81′が上面81aおよび側面81bから出射した青色光の一部が、波長変換層7に含まれた蛍光体を励起して、この例では蛍光として黄色光を発生させる。これにより、青色LEDチップ81′が出射した青色光のうち変換されなかった部分と、波長変換層7が発生する黄色光との混色によって、白色光が発生する。この白色光は、上方および側方へ出射される。   In operation, a part of the blue light emitted from the upper surface 81a and the side surface 81b of the blue LED chip 81 ′ excites the phosphor contained in the wavelength conversion layer 7 to generate yellow light as fluorescence in this example. As a result, white light is generated by the color mixture of the portion of the blue light emitted from the blue LED chip 81 ′ that has not been converted and the yellow light generated by the wavelength conversion layer 7. This white light is emitted upward and laterally.

また、動作時に、青色LEDチップ81′の発光層2から成長基板1を通してパッケージ基板8側へ向かって出射された光は、上記反射面3によって反射されて、ダイボンド剤やパッケージ基板8によって吸収されることがない。   In operation, light emitted from the light emitting layer 2 of the blue LED chip 81 ′ through the growth substrate 1 toward the package substrate 8 is reflected by the reflective surface 3 and absorbed by the die bond agent or the package substrate 8. There is nothing to do.

この発光装置の例では、パッケージ基板8上での反射面3の高さは、反射面形成体5の厚さD1に略等しい。ここで、既述のように、ウェハ状態で予め反射面形成体5の厚さD1が、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。したがって、実装された青色LEDチップ81′の側面81bから側方へ出射される光が波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In this example of the light emitting device, the height of the reflecting surface 3 on the package substrate 8 is substantially equal to the thickness D1 of the reflecting surface forming body 5. Here, as described above, the thickness D1 of the reflecting surface forming body 5 is set in advance in a wafer state to a predetermined dimension or more according to the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. . Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface 81b of the mounted blue LED chip 81 ′ from being laterally blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

具体的には、青色LEDチップの実装に現在よく用いられている蛍光体の粒子径が数μmであることから、反射面3のパッケージ基板8からの高さ(反射面形成体5の厚さ)D1は少なくとも10μm以上に設定される。   Specifically, since the particle diameter of the phosphor that is currently used for mounting the blue LED chip is several μm, the height of the reflecting surface 3 from the package substrate 8 (the thickness of the reflecting surface forming body 5). ) D1 is set to at least 10 μm or more.

また、波長変換層7が、樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートからなる場合、現在よく用いられている蛍光体シートの厚さHが概ね25μm〜30μmであることから、反射面形成体5の厚さD1は30μm以上であることが望ましい。   Further, when the wavelength conversion layer 7 is made of a phosphor sheet in which the phosphor is dispersed and held in advance in the resin, the thickness H of the phosphor sheet that is often used at present is approximately 25 μm to 30 μm. The thickness D1 of the reflecting surface forming body 5 is desirably 30 μm or more.

なお、反射面形成体5の厚さD1は、必ずしも蛍光体シートの厚さHと同等以上でなければならないものではない。波長変換層7の外側延在部分7aで遮られる光の量を少なくできれば、反射面3の高さが蛍光体シートの厚さHよりも或る程度低くてもよい。例えば、蛍光体シートの厚さHが50μm、蛍光体濃度が20体積%である場合、反射面3の高さを波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHよりも20μm低い位置にしても、実際問題として、波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られる光量は十分に低減される。したがって、その場合は、反射面形成体5の厚さD1は30μm以上であればよい。   In addition, the thickness D1 of the reflective surface forming body 5 does not necessarily have to be equal to or greater than the thickness H of the phosphor sheet. If the amount of light blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7 can be reduced, the height of the reflecting surface 3 may be somewhat lower than the thickness H of the phosphor sheet. For example, when the thickness H of the phosphor sheet is 50 μm and the phosphor concentration is 20% by volume, the height of the reflecting surface 3 is set to a position 20 μm lower than the thickness H of the outer extending portion 7 a of the wavelength conversion layer 7. However, as a practical matter, the amount of light blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7 is sufficiently reduced. Therefore, in that case, the thickness D1 of the reflecting surface forming body 5 may be 30 μm or more.

また、波長変換層7が、樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートからなる場合、波長変換層7には、外側延在部分7aがマージンとして設けられるので、蛍光体シートのカット寸法や、LEDチップに対する蛍光体シートの位置合わせに必要な精度に余裕ができて、生産性を向上することができる。   Further, when the wavelength conversion layer 7 is made of a phosphor sheet in which a phosphor is dispersed and held in advance in the resin, the wavelength conversion layer 7 is provided with an outer extending portion 7a as a margin. The margin required for the cut dimensions and the accuracy required for alignment of the phosphor sheet with respect to the LED chip can be improved, and the productivity can be improved.

また、波長変換層7が、蛍光体混錬樹脂を塗布した後、蛍光体を沈降させて形成される場合、その波長変換層7の厚さHは概ね100μm〜150μmであり、波長変換層7の外側延在部分7aの上部は蛍光体が低濃度となる。その場合、反射面3の高さを波長変換層7の外側延在部分7aの上面の高さHよりも50μm程度低い位置としても、波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られる光量は十分に低減される。結果として、反射面形成体5の厚さD1は50μm以上であれば良い。   When the wavelength conversion layer 7 is formed by applying a phosphor kneaded resin and then precipitating the phosphor, the thickness H of the wavelength conversion layer 7 is approximately 100 μm to 150 μm, and the wavelength conversion layer 7 The upper portion of the outer extending portion 7a has a low phosphor concentration. In that case, even if the height of the reflective surface 3 is set at a position lower by about 50 μm than the height H of the upper surface of the outer extension portion 7 a of the wavelength conversion layer 7, the amount of light blocked by the outer extension portion 7 a of the wavelength conversion layer 7 is It is sufficiently reduced. As a result, the thickness D1 of the reflecting surface forming body 5 may be 50 μm or more.

また、上記反射面形成体5の形成および厚さの設定は、ウェハプロセスとして、ウェハ状態で一括して行うことが可能である。したがって、個々のパッケージ基板または個々のLEDチップに対して新たな工程を追加する必要がない。しかも、個々のパッケージ基板または個々のLEDチップを加工する場合に比して、ウェハ状態での加工は精度良く行われる。したがって、実装状態では、パッケージ基板8上での反射面3の高さの精度、およびパッケージ基板8に対する反射面3の平行度の精度が高まる。   The formation of the reflecting surface forming body 5 and the setting of the thickness can be collectively performed in a wafer state as a wafer process. Therefore, it is not necessary to add a new process to each package substrate or each LED chip. Moreover, the processing in the wafer state is performed with higher precision than when processing individual package substrates or individual LED chips. Therefore, in the mounted state, the accuracy of the height of the reflecting surface 3 on the package substrate 8 and the accuracy of the parallelism of the reflecting surface 3 with respect to the package substrate 8 are increased.

上記反射面形成体5が、金属材料からなる場合だけでなく、白色の材料、上記発光層の発光色と実質的に同色の不透明な材料からなる場合も、上記反射面3を好ましく構成することができる。すなわち、反射面形成体5が、金属材料、白色の材料、または上記発光層の発光色と実質的に同色の不透明な材料からなる場合、上記反射面3で、発光層2から成長基板1を通して達した光を、屈折率差や入射角に依らず、確実に反射することができる。   The reflective surface 3 is preferably configured not only when the reflective surface forming body 5 is made of a metal material but also when it is made of a white material and an opaque material having substantially the same color as the light emission color of the light emitting layer. Can do. That is, when the reflecting surface forming body 5 is made of a metal material, a white material, or an opaque material having substantially the same color as the light emitting color of the light emitting layer, the reflecting surface 3 passes through the growth substrate 1 from the light emitting layer 2. The reached light can be reliably reflected regardless of the refractive index difference or the incident angle.

例えば、反射面形成体5を金属材料とする場合は、アルミニウムや銀などを用いればよい。なお、反射面形成体5を金属材料とする場合において、金属材料からなる反射面形成体5とパッケージ基板8との間の短絡が問題となる場合は、パッケージ基板8に対して青色LEDチップ81′の固定のために絶縁性のダイボンド剤を用いたり、反射面形成体5の最外面5bを絶縁性の材料で被膜したりして、短絡を防止するのが望ましい。   For example, when the reflective surface forming body 5 is made of a metal material, aluminum, silver, or the like may be used. When the reflective surface forming body 5 is made of a metal material, when a short circuit between the reflective surface forming body 5 made of a metal material and the package substrate 8 becomes a problem, the blue LED chip 81 with respect to the package substrate 8 is used. It is desirable to prevent short-circuiting by using an insulating die-bonding agent for fixing 'and coating the outermost surface 5b of the reflecting surface forming body 5 with an insulating material.

また、反射面形成体5を白色の材料とする場合は、白色ソルダーレジストや白色モールド剤などを用いれば良い。   Further, when the reflective surface forming body 5 is made of a white material, a white solder resist or a white molding agent may be used.

また、本実施形態のように発光層2の発光色が青色である場合は、反射面形成体5を発光層2の発光色と実質的に同色の不透明な材料として、青色ソルダーレジストや青色モールド剤などを用いればよい。   When the emission color of the light emitting layer 2 is blue as in the present embodiment, a blue solder resist or a blue mold is formed by using the reflecting surface forming body 5 as an opaque material having substantially the same color as the emission color of the light emitting layer 2. An agent or the like may be used.

また、青色LEDチップ81′が、パッケージ基板8上に反射面形成体5の最外面5bがパッケージ基板8に接するように配置して固定されているので、青色LEDチップ81′を実装するだけで、反射面3を精度良く形成できて、生産性を向上することができる。   Further, since the blue LED chip 81 ′ is arranged and fixed on the package substrate 8 so that the outermost surface 5 b of the reflecting surface forming body 5 is in contact with the package substrate 8, it is only necessary to mount the blue LED chip 81 ′. The reflective surface 3 can be formed with high accuracy and the productivity can be improved.

(第2実施形態)
図2は、一実施形態としての青色LEDウェハ82の断面構造を示している。なお、図2において図1中の要素と同一の要素には同じ符号を付して、重複する説明を省略する(後述の図3〜図6等において同様。)。
(Second Embodiment)
FIG. 2 shows a cross-sectional structure of a blue LED wafer 82 as one embodiment. In FIG. 2, the same elements as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and redundant description will be omitted (the same applies to FIGS. 3 to 6 described later).

この青色LEDウェハ82では、N電極41、P電極42上にそれぞれ構造物としての円柱状のバンプ電極61,62が設けられている。これは、この青色LEDウェハ82から得られた青色LEDチップをフェイスダウン方式で実装することを予定しているからである。バンプ電極61,62の最外面61a,62aは、同一の高さレベルになっている。   In the blue LED wafer 82, columnar bump electrodes 61 and 62 as structures are provided on the N electrode 41 and the P electrode 42, respectively. This is because the blue LED chip obtained from the blue LED wafer 82 is scheduled to be mounted in a face-down manner. The outermost surfaces 61a and 62a of the bump electrodes 61 and 62 are at the same height level.

N電極41とP電極42との間の隙間には、電極41,42間の短絡防止のために、この例では白色ソルダーレジスト12が埋め込まれている。   In this example, a white solder resist 12 is embedded in the gap between the N electrode 41 and the P electrode 42 to prevent a short circuit between the electrodes 41 and 42.

この例では、電極41,42と白色ソルダーレジスト12とが一体となって、反射面形成体13を構成している。つまり、電極41,42を構成する金属材料が反射面形成体13の一部として利用されている。発光層2と反射面形成体13との間の界面が、発光層2からの光を反射する反射面3となっている。   In this example, the electrodes 41 and 42 and the white solder resist 12 are integrated to form the reflective surface forming body 13. That is, the metal material constituting the electrodes 41 and 42 is used as a part of the reflecting surface forming body 13. An interface between the light emitting layer 2 and the reflecting surface forming body 13 is a reflecting surface 3 that reflects light from the light emitting layer 2.

この青色LEDウェハ82では、成長基板1の主面1a,1bに垂直な方向に関して、バンプ電極61,62の最外面61a,62aから上記反射面3までの距離D2が、後述する波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。   In this blue LED wafer 82, the distance D2 from the outermost surfaces 61a, 62a of the bump electrodes 61, 62 to the reflecting surface 3 in the direction perpendicular to the main surfaces 1a, 1b of the growth substrate 1 is a wavelength conversion layer 7 described later. Is set to a predetermined dimension or more according to the thickness H of the outer extending portion 7a.

この青色LEDウェハ82は、図2中に示す破線Xに沿ってダイシングされて、チップ化される。これにより、図8中に示す青色LEDチップ82′が得られる。   The blue LED wafer 82 is diced along a broken line X shown in FIG. Thereby, the blue LED chip 82 'shown in FIG. 8 is obtained.

図8は、青色LEDチップ82′をパッケージ基板8上にフェイスダウン方式で実装した発光装置を示している。この実装は次のようにして行われる。まず、パッケージ基板8上の所定の位置に青色LEDチップ82′を、パッケージ基板8上の電極10a,10bと青色LEDチップ82′の電極41,42とをそれぞれ対応させた状態で接合して固定する。次に、青色LEDチップ82′の上面82a(成長基板1の第2の主面1b)および側面82bを覆うように、波長変換層7として、樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートを設ける。または、波長変換層7として、蛍光体混錬樹脂を塗布した後、蛍光体を沈降させる。最後に、青色LEDチップ82′および波長変換層7を透明樹脂(図示せず)で封止する。なお、青色LEDチップ82′を確実に覆うように、波長変換層7には外側延在部分7aがマージンとして設けられる。   FIG. 8 shows a light emitting device in which a blue LED chip 82 ′ is mounted on the package substrate 8 in a face-down manner. This implementation is done as follows. First, the blue LED chip 82 'is bonded and fixed at a predetermined position on the package substrate 8 with the electrodes 10a and 10b on the package substrate 8 and the electrodes 41 and 42 of the blue LED chip 82' corresponding to each other. To do. Next, a fluorescent material in which a phosphor is dispersed and held in advance as a wavelength conversion layer 7 so as to cover the upper surface 82a (second main surface 1b of the growth substrate 1) and the side surface 82b of the blue LED chip 82 '. A body sheet is provided. Alternatively, after the phosphor kneaded resin is applied as the wavelength conversion layer 7, the phosphor is precipitated. Finally, the blue LED chip 82 'and the wavelength conversion layer 7 are sealed with a transparent resin (not shown). The wavelength conversion layer 7 is provided with an outer extending portion 7a as a margin so as to reliably cover the blue LED chip 82 '.

動作時には、青色LEDチップ82′が上面82aおよび側面82bから出射した青色光の一部が、波長変換層7に含まれた蛍光体を励起して、この例では蛍光として黄色光を発生させる。これにより、青色LEDチップ82′が出射した青色光のうち変換されなかった部分と、波長変換層7が発生する黄色光との混色によって、白色光が発生する。この白色光は、上方および側方へ出射される。   In operation, part of the blue light emitted from the upper surface 82a and the side surface 82b of the blue LED chip 82 'excites the phosphor contained in the wavelength conversion layer 7, and in this example, yellow light is generated as fluorescence. As a result, white light is generated by the color mixture of the portion of the blue light emitted from the blue LED chip 82 ′ that has not been converted and the yellow light generated by the wavelength conversion layer 7. This white light is emitted upward and laterally.

また、動作時に、青色LEDチップ82′の発光層2からパッケージ基板8側へ向かって出射された光は、上記反射面3によって反射されて、パッケージ基板8によって吸収されることがない。   Further, during operation, light emitted from the light emitting layer 2 of the blue LED chip 82 ′ toward the package substrate 8 is reflected by the reflective surface 3 and is not absorbed by the package substrate 8.

この発光装置の例では、パッケージ基板8上での反射面3の高さは、バンプ電極61,62の最外面61a,62aから上記反射面3までの距離D2に略等しい。ここで、既述のように、ウェハ状態で予めバンプ電極61,62の最外面61a,62aから上記反射面3までの距離D2が、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。したがって、実装された青色LEDチップ82′の側面82bから側方へ出射される光が波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In this example of the light emitting device, the height of the reflective surface 3 on the package substrate 8 is substantially equal to the distance D2 from the outermost surfaces 61a, 62a of the bump electrodes 61, 62 to the reflective surface 3. Here, as described above, the distance D2 from the outermost surfaces 61a, 62a of the bump electrodes 61, 62 to the reflecting surface 3 in advance in the wafer state is the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. It is set to a predetermined size or more. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface 82b of the mounted blue LED chip 82 'from being laterally blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

また、この例のように、上記反射面形成体13が金属材料と白色の絶縁材料との二つからなる場合、電極41,42を構成する金属材料を反射面形成体13の一部として利用することができ、青色LEDチップ82′の設計の自由度が増す。   Further, as in this example, when the reflection surface forming body 13 is composed of two materials, a metal material and a white insulating material, the metal material constituting the electrodes 41 and 42 is used as a part of the reflection surface forming body 13. This increases the degree of freedom in designing the blue LED chip 82 '.

(第3実施形態)
図3は、一実施形態としての青色LEDウェハ83の断面構造を示している。
(Third embodiment)
FIG. 3 shows a cross-sectional structure of a blue LED wafer 83 as one embodiment.

この青色LEDウェハ83では、反射面形成体5の最外面5bに、構造物として、反射面形成体5の材料と異なる材料からなるスペーサ層6が設けられている点が、図1中に示した青色LEDウェハ81と異なっている。この青色LEDウェハ83では、図1中に示した青色LEDウェハ81におけるのと同様に、成長基板1と反射面形成体5との間の界面が、発光層2からの光を反射する反射面3となっている。   In this blue LED wafer 83, the outermost surface 5b of the reflecting surface forming body 5 is provided with a spacer layer 6 made of a material different from the material of the reflecting surface forming body 5 as a structure as shown in FIG. Different from the blue LED wafer 81. In this blue LED wafer 83, as in the blue LED wafer 81 shown in FIG. 1, the interface between the growth substrate 1 and the reflecting surface forming body 5 reflects the light from the light emitting layer 2. 3

この青色LEDウェハ83では、成長基板1の主面1a,1bに垂直な方向に関して、反射面形成体5の最外面5bに代えて、スペーサ層6の最外面6bから上記反射面3までの距離D3が、後述する波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。   In this blue LED wafer 83, the distance from the outermost surface 6b of the spacer layer 6 to the reflecting surface 3 in place of the outermost surface 5b of the reflecting surface forming body 5 in the direction perpendicular to the main surfaces 1a and 1b of the growth substrate 1. D3 is set to be equal to or larger than a predetermined dimension according to the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7 described later.

この青色LEDウェハ83は、図3中に示す破線Xに沿ってダイシングされて、チップ化される。これにより、図9中に示す青色LEDチップ83′が得られる。   The blue LED wafer 83 is diced along a broken line X shown in FIG. Thereby, the blue LED chip 83 ′ shown in FIG. 9 is obtained.

図9は、青色LEDチップ81′をパッケージ基板8上にフェイスアップ方式で実装した発光装置を示している。この実装は、図7に関して説明したのと同様の手順で行われる(詳細は省略する。)。   FIG. 9 shows a light emitting device in which a blue LED chip 81 ′ is mounted on the package substrate 8 in a face-up manner. This mounting is performed in the same procedure as described with reference to FIG. 7 (details are omitted).

この発光装置の例では、パッケージ基板8上での上記反射面3の高さは、スペーサ層6の最外面6bから上記反射面3までの距離D3に略等しい。ここで、既述のように、ウェハ状態で予めスペーサ層6の最外面6bから上記反射面3までの距離D3が、後述する波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。したがって、実装された青色LEDチップ83′の側面83bから側方へ出射される光が波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In this example of the light emitting device, the height of the reflective surface 3 on the package substrate 8 is substantially equal to the distance D3 from the outermost surface 6b of the spacer layer 6 to the reflective surface 3. Here, as described above, the distance D3 from the outermost surface 6b of the spacer layer 6 to the reflecting surface 3 in advance in the wafer state corresponds to the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7 described later. It is set to a predetermined dimension or more. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface 83b of the mounted blue LED chip 83 'from being sideways blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. Thereby, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

しかも、反射面形成体5の最外面5bに構造物としてのスペーサ層6が設けられているので、反射面形成体5の厚さの設定の自由度が増す。   In addition, since the spacer layer 6 as a structure is provided on the outermost surface 5b of the reflecting surface forming body 5, the degree of freedom in setting the thickness of the reflecting surface forming body 5 is increased.

(第4実施形態)
図4は、一実施形態としての青色LEDウェハ84の断面構造を示している。
(Fourth embodiment)
FIG. 4 shows a cross-sectional structure of a blue LED wafer 84 as one embodiment.

この青色LEDウェハ84では、成長基板1の第2の主面1bに設けられた反射面形成体14が2層構造となっている点が、図1中に示した青色LEDウェハ81と異なっている。   The blue LED wafer 84 is different from the blue LED wafer 81 shown in FIG. 1 in that the reflecting surface forming body 14 provided on the second main surface 1b of the growth substrate 1 has a two-layer structure. Yes.

この例では、反射面形成体14は、成長基板1の第2の主面1bに沿って設けられた第1の反射面形成体15と、第1の反射面形成体15の最外面15bに沿って設けられた第2の反射面形成体16とからなっている。   In this example, the reflecting surface forming body 14 is formed on the first reflecting surface forming body 15 provided along the second main surface 1 b of the growth substrate 1 and the outermost surface 15 b of the first reflecting surface forming body 15. The second reflecting surface forming body 16 is provided along the second reflecting surface forming body 16.

第1の反射面形成体15は、サファイアからなる成長基板1の屈折率1.77よりも小さい屈折率(屈折率1.47)をもつSiOからなっている。第2の反射面形成体16は、金属材料(この例では、アルミニウムまたは銀)からなっている。 The first reflecting surface forming body 15 is made of SiO 2 having a refractive index (refractive index 1.47) smaller than the refractive index 1.77 of the growth substrate 1 made of sapphire. The second reflecting surface forming body 16 is made of a metal material (in this example, aluminum or silver).

この青色LEDウェハ84では、成長基板1と第1の反射面形成体15との間の界面は、発光層2からの光をあまり反射することができない。第1の反射面形成体15と第2の反射面形成体16との間の界面が、実質的に発光層2からの光を反射する反射面3となっている。   In the blue LED wafer 84, the interface between the growth substrate 1 and the first reflecting surface forming body 15 cannot reflect light from the light emitting layer 2 so much. The interface between the first reflecting surface forming body 15 and the second reflecting surface forming body 16 is the reflecting surface 3 that substantially reflects the light from the light emitting layer 2.

この青色LEDウェハ84では、成長基板1の主面1a,1bに垂直な方向に関して、第2の反射面形成体16の最外面16bから上記反射面3までの距離、つまり第2の反射面形成体16の厚さD4が、後述する波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。   In the blue LED wafer 84, the distance from the outermost surface 16b of the second reflecting surface forming body 16 to the reflecting surface 3 in the direction perpendicular to the main surfaces 1a and 1b of the growth substrate 1, that is, the formation of the second reflecting surface. The thickness D4 of the body 16 is set to be equal to or greater than a predetermined dimension according to the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7 described later.

この青色LEDウェハ84は、図4中に示す破線Xに沿ってダイシングされて、チップ化される。これにより、図10中に示す青色LEDチップ84′が得られる。   The blue LED wafer 84 is diced along a broken line X shown in FIG. Thereby, the blue LED chip 84 'shown in FIG. 10 is obtained.

図10は、青色LEDチップ84′をパッケージ基板8上にフェイスアップ方式で実装した発光装置を示している。この実装は、図7に関して説明したのと同様の手順で行われる(詳細は省略する。)。   FIG. 10 shows a light emitting device in which a blue LED chip 84 ′ is mounted on the package substrate 8 in a face-up manner. This mounting is performed in the same procedure as described with reference to FIG. 7 (details are omitted).

この発光装置の例では、パッケージ基板8上での上記反射面3の高さは、第2の反射面形成体16の厚さD4に略等しい。ここで、既述のように、ウェハ状態で予め第2の反射面形成体16の厚さD4が、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。したがって、実装された青色LEDチップ84′の側面84bから側方へ出射される光が波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In the example of the light emitting device, the height of the reflective surface 3 on the package substrate 8 is substantially equal to the thickness D4 of the second reflective surface forming body 16. Here, as described above, the thickness D4 of the second reflecting surface forming body 16 is set in advance in a wafer state to be equal to or larger than a predetermined dimension corresponding to the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. Has been. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface 84b of the mounted blue LED chip 84 'from being laterally blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

この例では、上記反射面形成体14が第1の反射面形成体15と第2の反射面形成体16との2層からなるので、上記反射面形成体14を形成する材料の選択の自由度が増す。   In this example, the reflective surface forming body 14 is composed of two layers of the first reflective surface forming body 15 and the second reflective surface forming body 16, so that the material for forming the reflective surface forming body 14 can be freely selected. The degree increases.

(第5実施形態)
図5は、一実施形態としての青色LEDウェハ85の断面構造を示している。
(Fifth embodiment)
FIG. 5 shows a cross-sectional structure of a blue LED wafer 85 as an embodiment.

この青色LEDウェハ85では、N電極41とP電極42との間の隙間に、電極41,42間の短絡防止のために、この例では白色ソルダーレジスト12が埋め込まれ、電極41,42と白色ソルダーレジスト12とが一体となって、反射面形成体13を構成している点が、図1中に示した青色LEDウェハ81と異なっている。電極41,42を構成する金属材料が反射面形成体13の一部として利用されている。発光層2と反射面形成体13との間の界面が、発光層2からの光を反射する反射面3となっている。   In this blue LED wafer 85, in this example, the white solder resist 12 is embedded in the gap between the N electrode 41 and the P electrode 42 to prevent a short circuit between the electrodes 41, 42. 1 differs from the blue LED wafer 81 shown in FIG. 1 in that the reflecting surface forming body 13 is formed integrally with the solder resist 12. A metal material constituting the electrodes 41 and 42 is used as a part of the reflecting surface forming body 13. An interface between the light emitting layer 2 and the reflecting surface forming body 13 is a reflecting surface 3 that reflects light from the light emitting layer 2.

この青色LEDウェハ85では、反射面形成体13の厚さD5が、後述する波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。   In this blue LED wafer 85, the thickness D5 of the reflecting surface forming body 13 is set to a predetermined dimension or more according to the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7 described later.

この青色LEDウェハ85は、図5中に示す破線Xに沿ってダイシングされて、チップ化される。これにより、図11中に示す青色LEDチップ85′が得られる。   The blue LED wafer 85 is diced along a broken line X shown in FIG. Thereby, the blue LED chip 85 ′ shown in FIG. 11 is obtained.

図11は、青色LEDチップ85′をパッケージ基板8上にフェイスダウン方式で実装した発光装置を示している。この実装は次のようにして行われる。まず、パッケージ基板8上の所定の位置に青色LEDチップ85′を、電極10a,10bと青色LEDチップ85′の電極41,42とをそれぞれ対応させた状態で接合して固定する。次に、青色LEDチップ85′の上面85a(成長基板1の第2の主面1b)および側面85bを覆うように、波長変換層7として、樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートを設ける。または、波長変換層7として、蛍光体混錬樹脂を塗布した後、蛍光体を沈降させる。最後に、青色LEDチップ85′および波長変換層7を透明樹脂(図示せず)で封止する。なお、青色LEDチップ85′を確実に覆うように、波長変換層7には外側延在部分7aがマージンとして設けられる。   FIG. 11 shows a light emitting device in which a blue LED chip 85 ′ is mounted on the package substrate 8 in a face-down manner. This implementation is done as follows. First, the blue LED chip 85 ′ is bonded and fixed to a predetermined position on the package substrate 8 in a state where the electrodes 10 a and 10 b and the electrodes 41 and 42 of the blue LED chip 85 ′ correspond to each other. Next, a fluorescent material in which a phosphor is dispersed and held in advance as a wavelength conversion layer 7 so as to cover the upper surface 85a (second main surface 1b of the growth substrate 1) and the side surface 85b of the blue LED chip 85 ′. A body sheet is provided. Alternatively, after the phosphor kneaded resin is applied as the wavelength conversion layer 7, the phosphor is precipitated. Finally, the blue LED chip 85 ′ and the wavelength conversion layer 7 are sealed with a transparent resin (not shown). The wavelength conversion layer 7 is provided with an outer extending portion 7a as a margin so as to reliably cover the blue LED chip 85 '.

動作時には、青色LEDチップ85′が上面85aおよび側面85bから出射した青色光の一部が、波長変換層7に含まれた蛍光体を励起して、この例では蛍光として黄色光を発生させる。これにより、青色LEDチップ85′が出射した青色光のうち変換されなかった部分と、波長変換層7が発生する黄色光との混色によって、白色光が発生する。この白色光は、上方および側方へ出射される。   During operation, part of the blue light emitted from the upper surface 85a and the side surface 85b of the blue LED chip 85 'excites the phosphor contained in the wavelength conversion layer 7 to generate yellow light as fluorescence in this example. As a result, white light is generated by the color mixture of the portion of the blue light emitted from the blue LED chip 85 ′ that has not been converted and the yellow light generated by the wavelength conversion layer 7. This white light is emitted upward and laterally.

また、動作時に、青色LEDチップ85′の発光層2からパッケージ基板8側へ向かって出射された光は、上記反射面3によって反射されて、パッケージ基板8によって吸収されることがない。   Further, during operation, light emitted from the light emitting layer 2 of the blue LED chip 85 ′ toward the package substrate 8 is reflected by the reflective surface 3 and is not absorbed by the package substrate 8.

この発光装置の例では、パッケージ基板8上での反射面3の高さは、反射面形成体13の厚さD5に略等しい。ここで、既述のように、ウェハ状態で予め反射面形成体13の厚さD5が、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。したがって、実装された青色LEDチップ85′の側面85bから側方へ出射される光が波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In this example of the light emitting device, the height of the reflecting surface 3 on the package substrate 8 is substantially equal to the thickness D5 of the reflecting surface forming body 13. Here, as described above, the thickness D5 of the reflecting surface forming body 13 is set in advance in a wafer state to a predetermined dimension or more according to the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. . Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface 85b of the mounted blue LED chip 85 ′ from being blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

また、この例のように、上記反射面形成体13が金属材料と白色の絶縁材料との二つからなる場合、電極41,42を構成する金属材料を反射面形成体13の一部として利用することができ、青色LEDチップ85′の設計の自由度が増す。   Further, as in this example, when the reflection surface forming body 13 is composed of two materials, a metal material and a white insulating material, the metal material constituting the electrodes 41 and 42 is used as a part of the reflection surface forming body 13. This increases the degree of freedom in designing the blue LED chip 85 '.

(第6実施形態)
図6は、一実施形態としての青色LEDウェハ86の断面構造を示している。
(Sixth embodiment)
FIG. 6 shows a cross-sectional structure of a blue LED wafer 86 as one embodiment.

この青色LEDウェハ86では、成長基板1の第1の主面1aと発光層2との間に反射面形成体5が設けられている。この反射面形成体5は、P電極42として利用され、反射面形成体5上の一部には、発光層2と適当な距離を置いて円柱状のバンプ電極62が配置されている。発光層2上には、N電極41が設けられ、このN電極41上には、円柱状のバンプ電極61と絶縁層17が設けられている。発光層2と反射面形成体5との間の界面が、発光層2からの光を鏡面反射する平坦な反射面3となっている。なお、バンプ電極62は、N電極41および絶縁層17とも適当な距離を置いて配置されている。   In the blue LED wafer 86, the reflective surface forming body 5 is provided between the first main surface 1 a of the growth substrate 1 and the light emitting layer 2. The reflecting surface forming body 5 is used as a P electrode 42, and a cylindrical bump electrode 62 is disposed on a part of the reflecting surface forming body 5 at an appropriate distance from the light emitting layer 2. An N electrode 41 is provided on the light emitting layer 2, and a cylindrical bump electrode 61 and an insulating layer 17 are provided on the N electrode 41. The interface between the light emitting layer 2 and the reflecting surface forming body 5 is a flat reflecting surface 3 that specularly reflects light from the light emitting layer 2. The bump electrode 62 is arranged at an appropriate distance from the N electrode 41 and the insulating layer 17.

この青色LEDウェハ86では、成長基板1の主面1a,1bに垂直な方向に関して、反射面形成体5の最外面5bに代えて、成長基板1の最外面1bから反射面3までの距離D6が、後述する波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。   In this blue LED wafer 86, the distance D6 from the outermost surface 1b of the growth substrate 1 to the reflection surface 3 is replaced with the outermost surface 5b of the reflection surface forming body 5 in the direction perpendicular to the main surfaces 1a, 1b of the growth substrate 1. Is set to a predetermined dimension or more according to the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7 described later.

この青色LEDウェハ86は、図6中に示す破線Xに沿ってダイシングされて、チップ化される。これにより、図12中に示す青色LEDチップ86′が得られる。   The blue LED wafer 86 is diced along a broken line X shown in FIG. Thereby, the blue LED chip 86 'shown in FIG. 12 is obtained.

図12は、青色LEDチップ86′をパッケージ基板8上にフェイスアップ方式で実装した発光装置を示している。この実装は、図7に関して説明したのと同様の手順で行われる(詳細は省略する。)。   FIG. 12 shows a light emitting device in which a blue LED chip 86 'is mounted on the package substrate 8 in a face-up manner. This mounting is performed in the same procedure as described with reference to FIG. 7 (details are omitted).

この発光装置の例では、パッケージ基板8上での反射面3の高さは、成長基板1の最外面1bから反射面3までの距離D6に略等しい。ここで、既述のように、ウェハ状態で予め成長基板1の最外面1bから反射面3までの距離D6が、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。したがって、実装された青色LEDチップ86′の側面86bから側方へ出射される光が波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In this example of the light emitting device, the height of the reflection surface 3 on the package substrate 8 is substantially equal to the distance D6 from the outermost surface 1b of the growth substrate 1 to the reflection surface 3. Here, as described above, the distance D6 from the outermost surface 1b of the growth substrate 1 to the reflecting surface 3 in a wafer state is a predetermined dimension corresponding to the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. It is set above. Accordingly, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface 86b of the mounted blue LED chip 86 'from being sideways blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

(第7実施形態)
図13は、一実施形態としての青色LEDチップ87の発光装置を示している。
(Seventh embodiment)
FIG. 13 shows a light emitting device of a blue LED chip 87 as one embodiment.

この発光装置では、パッケージ基板8上に突起した状態に反射面形成体51が設けられている。さらに、この反射面形成体51の上面に反射面3が形成され、反射面3の上面に青色LEDチップ87が設けられている。すなわち、反射面形成体5の代わりに、反射面形成体51がLEDチップとは別体で設けられている点が、図7中に示した青色LEDチップ81’の発光装置と異なっている。   In this light emitting device, the reflective surface forming body 51 is provided in a state of protruding on the package substrate 8. Further, the reflection surface 3 is formed on the upper surface of the reflection surface forming body 51, and the blue LED chip 87 is provided on the upper surface of the reflection surface 3. That is, the point that the reflecting surface forming body 51 is provided separately from the LED chip instead of the reflecting surface forming body 5 is different from the light emitting device of the blue LED chip 81 'shown in FIG.

この青色LEDチップ87は、透光性を有するサファイアからなる成長基板1と、この成長基板1の第1の主面1aに形成され、通電を受けたとき発光する発光層2と、この発光層2の表面に形成されたN電極41およびP電極42を備えている。   The blue LED chip 87 includes a growth substrate 1 made of translucent sapphire, a light emitting layer 2 that is formed on the first main surface 1a of the growth substrate 1 and emits light when energized, and the light emitting layer. 2 and an N electrode 41 and a P electrode 42 formed on the surface.

上記反射面形成体51は、例えば、アルミニウムや銀などの金属材料からなり、青色LEDチップ87の成長基板1と反射面形成体51との間の界面に、青色LEDチップ87の発光層2から成長基板1を通して達した光を鏡面反射するように平坦な反射面3を形成している。   The reflective surface forming body 51 is made of, for example, a metal material such as aluminum or silver. From the light emitting layer 2 of the blue LED chip 87 to the interface between the growth substrate 1 of the blue LED chip 87 and the reflective surface forming body 51. A flat reflecting surface 3 is formed so that the light reaching through the growth substrate 1 is specularly reflected.

この実装は次のようにして行われる。まず、パッケージ基板8上に固定した反射面形成体51上に、青色LEDチップ87を配置してダイボンド剤(図示せず)で固定し、パッケージ基板8上の電極10a,10bと青色LEDチップ87上の電極41,42との間にワイヤ配線91,92を設ける。次に、青色LEDチップ87の上面87aおよび側面87bと、反射面形成体51の側面51bとを覆うように、波長変換層7として、樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートを設ける。または、波長変換層7として、蛍光体混錬樹脂を塗布した後、蛍光体を沈降させる。最後に、青色LEDチップ87、反射面形成体51および波長変換層7を透明樹脂(図示せず)で封止する。なお、青色LEDチップ87および反射面形成体51を確実に覆うように、波長変換層7には、上記パッケージ基板8上で青色LEDチップ87が配置された領域よりも外側へ延在する部分(これを「外側延在部分」と呼ぶ。)7aがマージンとして設けられる。   This implementation is done as follows. First, the blue LED chip 87 is arranged on the reflecting surface forming body 51 fixed on the package substrate 8 and fixed with a die bond agent (not shown), and the electrodes 10a and 10b on the package substrate 8 and the blue LED chip 87 are fixed. Wire wirings 91 and 92 are provided between the upper electrodes 41 and 42. Next, a phosphor sheet in which the phosphor is dispersed and held in advance as a wavelength conversion layer 7 so as to cover the upper surface 87a and the side surface 87b of the blue LED chip 87 and the side surface 51b of the reflecting surface forming body 51. Is provided. Alternatively, after the phosphor kneaded resin is applied as the wavelength conversion layer 7, the phosphor is precipitated. Finally, the blue LED chip 87, the reflective surface forming body 51, and the wavelength conversion layer 7 are sealed with a transparent resin (not shown). In addition, in the wavelength conversion layer 7, a portion extending outward from the region where the blue LED chip 87 is disposed on the package substrate 8 so as to securely cover the blue LED chip 87 and the reflection surface forming body 51 ( This is called an “outside extending portion.” 7a is provided as a margin.

動作時には、青色LEDチップ87が上面87aおよび側面87bから出射した青色光の一部が、波長変換層7に含まれた蛍光体を励起して、この例では蛍光として黄色光を発生させる。これにより、青色LEDチップ87が出射した青色光のうち変換されなかった部分と、波長変換層7が発生する黄色光との混色によって、白色光が発生する。この白色光は、上方および側方へ出射される。   During operation, part of the blue light emitted from the upper surface 87a and the side surface 87b of the blue LED chip 87 excites the phosphor contained in the wavelength conversion layer 7, and in this example, yellow light is generated as fluorescence. Thereby, white light is generated by the color mixture of the portion of the blue light emitted from the blue LED chip 87 that has not been converted and the yellow light generated by the wavelength conversion layer 7. This white light is emitted upward and laterally.

また、動作時に、青色LEDチップ87の発光層2から成長基板1を通してパッケージ基板8側へ向かって出射された光は、上記反射面3によって反射されて、ダイボンド剤やパッケージ基板8によって吸収されることがない。   In operation, light emitted from the light emitting layer 2 of the blue LED chip 87 toward the package substrate 8 through the growth substrate 1 is reflected by the reflective surface 3 and absorbed by the die bond agent or the package substrate 8. There is nothing.

この発光装置の例では、パッケージ基板8上で上記反射面3の高さは、反射面形成体51の厚さD7に略等しく、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHに応じた所定の寸法以上に設定されている。したがって、実装された青色LEDチップ87の側面87bから側方へ出射される光が波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In this example of the light emitting device, the height of the reflection surface 3 on the package substrate 8 is substantially equal to the thickness D7 of the reflection surface forming body 51, and depends on the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. It is set to a predetermined dimension or more. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface 87b of the mounted blue LED chip 87 from being blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

この例では、上記反射面形成体51が青色LEDチップ87とは別体となっているので、反射面形成体51を形成する材料の選択の自由度が増す。   In this example, since the reflective surface forming body 51 is separate from the blue LED chip 87, the degree of freedom in selecting a material for forming the reflective surface forming body 51 is increased.

(第8実施形態)
図14は、一実施形態としての青色LEDチップ87の発光装置を示している。なお、図14において図13中の要素と同一の要素には同じ符号を付して、重複する説明を省略する。
(Eighth embodiment)
FIG. 14 shows a light emitting device of a blue LED chip 87 as one embodiment. In FIG. 14, the same elements as those in FIG. 13 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

この発光装置では、パッケージ基板8に凸部28が形成されている。この凸部28の上面に青色LEDチップ87を配置すべきLEDチップ配置領域28aを有し、LEDチップ配置領域28aの外側を取り巻いて枠状領域38が形成されている。LEDチップ配置領域28a上には、反射面形成体52が形成され、この反射面形成体52上に反射面3が形成されて、反射面3上に青色LEDチップ87が固定されている。すなわち、反射面形成体51の代わりに、凸部28および反射面形成体52が設けられている点が、図13中に示した青色LEDチップ87の発光装置と異なっている。   In this light emitting device, a convex portion 28 is formed on the package substrate 8. An LED chip arrangement area 28a on which the blue LED chip 87 is to be arranged is provided on the upper surface of the convex portion 28, and a frame-shaped area 38 is formed around the outside of the LED chip arrangement area 28a. A reflective surface forming body 52 is formed on the LED chip arrangement region 28 a, the reflective surface 3 is formed on the reflective surface forming body 52, and the blue LED chip 87 is fixed on the reflective surface 3. That is, the point which the convex part 28 and the reflective surface formation body 52 are provided instead of the reflective surface formation body 51 differs from the light-emitting device of the blue LED chip 87 shown in FIG.

具体的には、パッケージ基板8の凸部28は、例えば、白色レジストインキを印刷して硬化させることで形成され、青色LEDチップ87の成長基板1と反射面形成体52との間の界面に、青色LEDチップ87の発光層2から成長基板1を通して達した光を鏡面反射するように平坦な反射面3を形成している。   Specifically, the convex portion 28 of the package substrate 8 is formed by printing and curing a white resist ink, for example, at the interface between the growth substrate 1 of the blue LED chip 87 and the reflective surface forming body 52. The flat reflecting surface 3 is formed so that the light reaching the light emitting layer 2 of the blue LED chip 87 through the growth substrate 1 is specularly reflected.

この実装は次のようにして行われる。まず、パッケージ基板8のLEDチップ配置領域28a上に反射面形成体52を形成し、反射面形成体52上に青色LEDチップ87を配置してダイボンド剤(図示せず)で固定し、パッケージ基板8上の電極10a,10bと青色LEDチップ87上の電極41,42との間にワイヤ配線91,92を設ける。次に、青色LEDチップ87の上面87aおよび側面87bと、反射面形成体52の側面と、凸部28の側面28bとを覆うように、波長変換層7として、樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートを設ける。または、波長変換層7として、蛍光体混錬樹脂を塗布した後、蛍光体を沈降させる。最後に、青色LEDチップ87、反射面形成体52、凸部28および波長変換層7を透明樹脂(図示せず)で封止する。なお、青色LEDチップ87、反射面形成体52および凸部28を確実に覆うように、波長変換層7には、上記パッケージ基板8上で青色LEDチップ87が配置された領域よりも外側へ延在する部分(これを「外側延在部分」と呼ぶ。)7aがパッケージ基板8の枠状領域38上にマージンとして設けられる。   This implementation is done as follows. First, the reflective surface forming body 52 is formed on the LED chip placement region 28a of the package substrate 8, the blue LED chip 87 is placed on the reflective surface forming body 52, and fixed with a die bond agent (not shown). Wire wirings 91 and 92 are provided between the electrodes 10 a and 10 b on 8 and the electrodes 41 and 42 on the blue LED chip 87. Next, a phosphor is dispersed in advance in the resin as the wavelength conversion layer 7 so as to cover the upper surface 87a and the side surface 87b of the blue LED chip 87, the side surface of the reflecting surface forming body 52, and the side surface 28b of the convex portion 28. A phosphor sheet held in place is provided. Alternatively, after the phosphor kneaded resin is applied as the wavelength conversion layer 7, the phosphor is precipitated. Finally, the blue LED chip 87, the reflective surface forming body 52, the convex portion 28, and the wavelength conversion layer 7 are sealed with a transparent resin (not shown). The wavelength conversion layer 7 extends outward from the region where the blue LED chip 87 is disposed on the package substrate 8 so as to reliably cover the blue LED chip 87, the reflecting surface forming body 52, and the convex portion 28. An existing portion (referred to as an “outside extending portion”) 7 a is provided as a margin on the frame-like region 38 of the package substrate 8.

この発光装置の例では、枠状領域38の上面から反射面3までの高さD8は、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHより大きい。したがって、実装された青色LEDチップ87の側面87bから側方へ出射される光が波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。また、パッケージ基板8が反射面形成体52を有しているので、青色LEDチップ87に反射面3を設ける必要がない。   In this example of the light emitting device, the height D8 from the upper surface of the frame-shaped region 38 to the reflecting surface 3 is larger than the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface 87b of the mounted blue LED chip 87 from being blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced. Further, since the package substrate 8 has the reflecting surface forming body 52, it is not necessary to provide the reflecting surface 3 on the blue LED chip 87.

(第9実施形態)
図15は、一実施形態としての青色LEDチップ87の発光装置を示している。なお、図15において図13および図14中の要素と同一の要素には同じ符号を付して、重複する説明を省略する。
(Ninth embodiment)
FIG. 15 shows a light emitting device of a blue LED chip 87 as one embodiment. In FIG. 15, the same elements as those in FIGS. 13 and 14 are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

この発光装置では、パッケージ基板8の枠状領域38よりも外側に外側領域48が形成され、パッケージ基板8において、枠状領域38の上面は、外側領域48の上面よりも高さが低くなっている。LEDチップ配置領域28a上には反射面形成体52が形成され、この反射面形成体52上に反射面3が形成されて、反射面3上に青色LEDチップ87が固定されている。すなわち、枠状領域38がパッケージ基板8上で陥没している点が、図14中に示した青色LEDチップ87の発光装置と異なっている。   In this light emitting device, the outer region 48 is formed outside the frame region 38 of the package substrate 8, and the upper surface of the frame region 38 is lower than the upper surface of the outer region 48 in the package substrate 8. Yes. A reflective surface forming body 52 is formed on the LED chip arrangement region 28 a, the reflective surface 3 is formed on the reflective surface forming body 52, and the blue LED chip 87 is fixed on the reflective surface 3. That is, the point that the frame-like region 38 is depressed on the package substrate 8 is different from the light emitting device of the blue LED chip 87 shown in FIG.

この実装は次のようにして行われる。まず、パッケージ基板8のLEDチップ配置領域28a上に反射面形成体52を形成し、反射面形成体52上に青色LEDチップ87を配置してダイボンド剤(図示せず)で固定し、パッケージ基板8上の電極10a,10bと青色LEDチップ87上の電極41,42との間にワイヤ配線91,92を設ける。次に、青色LEDチップ87の上面87aおよび側面87bと、反射面形成体52の側面と、凸部28の側面28bとを覆うように、波長変換層7として、樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートを設ける。または、波長変換層7として、蛍光体混錬樹脂を塗布した後、蛍光体を沈降させる。最後に、青色LEDチップ87、反射面形成体52、凸部28および波長変換層7を透明樹脂(図示せず)で封止する。なお、青色LEDチップ87、反射面形成体52および凸部28を確実に覆うように、波長変換層7には、上記パッケージ基板8の凹部38上で青色LEDチップ87が配置された領域よりも外側へ延在する部分(これを「外側延在部分」と呼ぶ。)7aがパッケージ基板8の枠状領域38上にマージンとして設けられる。   This implementation is done as follows. First, the reflective surface forming body 52 is formed on the LED chip placement region 28a of the package substrate 8, the blue LED chip 87 is placed on the reflective surface forming body 52, and fixed with a die bond agent (not shown). Wire wirings 91 and 92 are provided between the electrodes 10 a and 10 b on 8 and the electrodes 41 and 42 on the blue LED chip 87. Next, a phosphor is dispersed in advance in the resin as the wavelength conversion layer 7 so as to cover the upper surface 87a and the side surface 87b of the blue LED chip 87, the side surface of the reflecting surface forming body 52, and the side surface 28b of the convex portion 28. A phosphor sheet held in place is provided. Alternatively, after the phosphor kneaded resin is applied as the wavelength conversion layer 7, the phosphor is precipitated. Finally, the blue LED chip 87, the reflective surface forming body 52, the convex portion 28, and the wavelength conversion layer 7 are sealed with a transparent resin (not shown). It should be noted that the wavelength conversion layer 7 has a wavelength conversion layer 7 that covers the concave portion 38 of the package substrate 8 more than the region where the blue LED chip 87 is disposed so as to securely cover the blue LED chip 87, the reflecting surface forming body 52, and the convex portion 28. A portion 7 a extending outward (referred to as an “outer extending portion”) 7 a is provided as a margin on the frame-shaped region 38 of the package substrate 8.

この発光装置の例では、枠状領域38の上面から反射面3までの高さD8は、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHより大きい。したがって、実装された青色LEDチップ87の側面87bから側方へ出射される光が波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In this example of the light emitting device, the height D8 from the upper surface of the frame-shaped region 38 to the reflecting surface 3 is larger than the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface 87b of the mounted blue LED chip 87 from being blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

また、反射面3の高さは、外側領域48の上面の高さよりも高いので、実装された青色LEDチップ87の側面87bから側方へ出射される光が、パッケージ基板8の外側領域48によって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   Further, since the height of the reflective surface 3 is higher than the height of the upper surface of the outer region 48, the light emitted from the side surface 87 b of the mounted blue LED chip 87 to the side is transmitted by the outer region 48 of the package substrate 8. It can be effectively prevented from being blocked. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

また、枠状領域38の上面の高さは、外側領域48の上面の高さよりも低い。したがって、波長変換層7として、例えば樹脂に予め蛍光体を分散して保持させた蛍光体シートを設ける場合、青色LEDチップ87に対する上記蛍光体シートの位置合わせが容易にできて、生産性を向上することができる。   Further, the height of the upper surface of the frame-shaped region 38 is lower than the height of the upper surface of the outer region 48. Therefore, when a phosphor sheet in which phosphors are dispersed and held in advance, for example, as the wavelength conversion layer 7 is provided, the phosphor sheet can be easily aligned with the blue LED chip 87 to improve productivity. can do.

なお、凹部38の深さは、波長変換層7の外側延在部分7aの厚みに対して約2分の1以上であればよい。さらに詳細には、凹部38の底面から反射面までの高さD9が、波長変換層7の外側延在部分7aの厚みに対して約2分の1以上であればよい。   In addition, the depth of the recessed part 38 should just be about 1/2 or more with respect to the thickness of the outer side extension part 7a of the wavelength conversion layer 7. FIG. More specifically, the height D9 from the bottom surface of the concave portion 38 to the reflecting surface may be about one half or more with respect to the thickness of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7.

(実施例1)
次に、第1実施形態で説明した青色LEDウェハ81の製造方法と、その青色LEDウェハ81から得られた青色LEDチップ81′の実装方法について、具体的に説明する。
Example 1
Next, the manufacturing method of the blue LED wafer 81 described in the first embodiment and the mounting method of the blue LED chip 81 ′ obtained from the blue LED wafer 81 will be specifically described.

予め、図7中の青色LEDチップ81′を実装するために波長変換層7として用いられる蛍光体シートを作製した。この例では、蛍光体シートは、シリコーン樹脂にYAG(イットリウム・アルミニウム・ガーネット)蛍光体を濃度が20体積%となるように混練して蛍光体混錬樹脂を用意し、この蛍光体混錬樹脂を均一な厚さ50μmのシート状に成型することで作製した。この蛍光体シートは、蛍光として黄色光を発生させることができる。   A phosphor sheet used as the wavelength conversion layer 7 for mounting the blue LED chip 81 ′ in FIG. 7 was prepared in advance. In this example, the phosphor sheet is prepared by kneading a YAG (yttrium, aluminum, garnet) phosphor in a silicone resin so that the concentration is 20% by volume, and preparing the phosphor kneaded resin. Was formed into a sheet having a uniform thickness of 50 μm. This phosphor sheet can generate yellow light as fluorescence.

青色LEDウェハ81を作製するために、まず、図1に示すように、サファイアからなる成長基板1の第1の主面1a上に、GaN層とITO(錫添加酸化インジウム)からなる透明導電層とを順次積層することで発光層2を形成した。この後、発光層2上に金からなる電極41,42を形成した(積層基板の作製完了)。   In order to manufacture the blue LED wafer 81, first, as shown in FIG. 1, a transparent conductive layer made of GaN and ITO (tin-added indium oxide) is formed on the first main surface 1a of the growth substrate 1 made of sapphire. Are sequentially laminated to form the light emitting layer 2. Thereafter, electrodes 41 and 42 made of gold were formed on the light emitting layer 2 (production of the laminated substrate was completed).

次に、成長基板1の第2の主面1bに沿って、反射面形成体5を形成するために銀ペーストを均一な厚さで印刷し、加熱して銀ペーストを再溶融した後、硬化させた。これにより、上記蛍光体シートの厚さH(50μm)に対して同等以上の厚さD1(目標60μm)を有する反射面形成体5を形成した(青色LEDウェハ81の作製完了)。   Next, in order to form the reflecting surface forming body 5 along the second main surface 1b of the growth substrate 1, the silver paste is printed with a uniform thickness, heated to remelt the silver paste, and then cured. I let you. Thereby, the reflective surface forming body 5 having a thickness D1 (target 60 μm) equal to or greater than the thickness H (50 μm) of the phosphor sheet was formed (production of the blue LED wafer 81 was completed).

この後、青色LEDウェハ81を、成長基板1の第1の主面1aに沿った面内で所定の寸法をもつように図1中の破線Xに沿ってダイシングして分割して、図7中に示すような青色LEDチップ81′を複数得た。この例では、青色LEDチップ81′は、成長基板1の第1の主面1aに沿った面内で0.2mm角の寸法をもち、厚さ0.15mmの直方体状のチップである。   Thereafter, the blue LED wafer 81 is diced and divided along the broken line X in FIG. 1 so as to have a predetermined dimension in the plane along the first main surface 1a of the growth substrate 1, and FIG. A plurality of blue LED chips 81 ′ as shown in the figure were obtained. In this example, the blue LED chip 81 ′ is a rectangular parallelepiped chip having a size of 0.2 mm square in the plane along the first main surface 1 a of the growth substrate 1 and a thickness of 0.15 mm.

この例では、作製された複数の青色LEDチップ81′の反射面形成体5の厚さD1は、平均で58μm、バラツキで±2μmであり、波長変換層7として用いられる蛍光体シートの厚さH(50μm)に比べて同等以上であった。このように、反射面形成体5の形成および厚さの設定を、ウェハプロセスとして、ウェハ状態で一括して精度良く行うことができた。   In this example, the thickness D1 of the reflecting surface forming body 5 of the produced blue LED chips 81 ′ is 58 μm on average and ± 2 μm in variation, and the thickness of the phosphor sheet used as the wavelength conversion layer 7 Compared to H (50 μm), it was equivalent or better. As described above, the formation of the reflecting surface forming body 5 and the setting of the thickness can be accurately performed collectively in the wafer state as a wafer process.

得られた青色LEDチップ81′を、次のようにしてフェイスアップ方式で実装した。   The obtained blue LED chip 81 ′ was mounted by the face-up method as follows.

まず、図7に示すように、パッケージ基板8上の所定の位置に青色LEDチップ81′を、反射面形成体5をパッケージ基板8へ向けてダイボンド剤(図示せず)で固定した。   First, as shown in FIG. 7, a blue LED chip 81 ′ was fixed at a predetermined position on the package substrate 8, and the reflecting surface forming body 5 was fixed to the package substrate 8 with a die bond agent (not shown).

さらに、上記蛍光体シート(0.7mm角の寸法で切り出したもの)を、青色LEDチップ81′に被せ、シリコーンゴムで押圧しながら加熱して接着した。これにより、青色LEDチップ81′の上面81aおよび側面81bを覆う波長変換層7を形成した。このとき、波長変換層7の外側延在部分7aは、パッケージ基板8に沿った方向に関して、片側で0.1mm生ずる設計であった。実際に形成された波長変換層(この例では蛍光体シート)7の寸法を計測したところ、図7において例えば左側の外側延在部分7aの寸法は0.09mm、右側の外側延在部分7aの寸法は0.11mmであった。   Further, the phosphor sheet (cut out with a size of 0.7 mm square) was placed on the blue LED chip 81 ′ and heated and bonded while being pressed with silicone rubber. Thereby, the wavelength conversion layer 7 covering the upper surface 81a and the side surface 81b of the blue LED chip 81 ′ was formed. At this time, the outer extending portion 7 a of the wavelength conversion layer 7 was designed to be 0.1 mm on one side with respect to the direction along the package substrate 8. When the dimension of the actually formed wavelength conversion layer (phosphor sheet in this example) 7 was measured, in FIG. 7, for example, the dimension of the left outer extension part 7a is 0.09 mm, and the right outer extension part 7a is The dimension was 0.11 mm.

次に、波長変換層7のうち電極41,42上の部分を除去して開口した。そして、N電極41にワイヤ配線91の一端を熱および超音波を用いて接合した後、パッケージ基板8の表面に設けられたN電極パターン10aにワイヤ配線91の他端を熱および超音波を用いて接合した。同様に、P電極42にワイヤ配線92の一端を熱および超音波を用いて接合した後、パッケージ基板8の表面に設けられたP電極パターン10bにワイヤ配線92の他端を熱および超音波を用いて接合した。このようにして、電極41,42と電極パターン10a,10bとをそれぞれワイヤ配線91,92を介して電気的に接続した。   Next, portions of the wavelength conversion layer 7 on the electrodes 41 and 42 were removed and opened. Then, after one end of the wire wiring 91 is bonded to the N electrode 41 using heat and ultrasonic waves, the other end of the wire wiring 91 is bonded to the N electrode pattern 10a provided on the surface of the package substrate 8 using heat and ultrasonic waves. And joined. Similarly, after joining one end of the wire wiring 92 to the P electrode 42 using heat and ultrasonic waves, heat and ultrasonic waves are applied to the other end of the wire wiring 92 on the P electrode pattern 10 b provided on the surface of the package substrate 8. And joined. In this way, the electrodes 41 and 42 and the electrode patterns 10a and 10b were electrically connected via the wire wirings 91 and 92, respectively.

最後に、青色LEDチップ81′および波長変換層7を透明樹脂(図示せず)で封止した。   Finally, the blue LED chip 81 ′ and the wavelength conversion layer 7 were sealed with a transparent resin (not shown).

このようにして実装された青色LEDチップ81′では、パッケージ基板8上で反射面3の高さD1(目標60μm、実測58μm±2μm)が波長変換層7の外側延在部分7aの厚さH(50μm)を超えている。したがって、実装された青色LEDチップ81′の側面81bから側方へ出射される光が上記波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In the blue LED chip 81 ′ thus mounted, the height D 1 (target 60 μm, measured 58 μm ± 2 μm) of the reflecting surface 3 on the package substrate 8 is the thickness H of the outer extending portion 7 a of the wavelength conversion layer 7. (50 μm) is exceeded. Therefore, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface 81b of the mounted blue LED chip 81 ′ from being laterally blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

実際に、上記実装された青色LEDチップ81′(実施例1)の色度バラツキおよび輝度を測定した。それとともに、比較例として、パッケージ基板8上で反射面3の高さが2μmであり、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さH(50μm)を下回るもの(それ以外の点は実施例1と同じもの)を作製し、その色度バラツキおよび輝度を測定した。その結果、上記実装された青色LEDチップ81′(実施例1)は、比較例に比して、色度バラツキが低減し、かつ輝度が向上した。   Actually, chromaticity variation and luminance of the mounted blue LED chip 81 ′ (Example 1) were measured. In addition, as a comparative example, the height of the reflection surface 3 on the package substrate 8 is 2 μm, and is less than the thickness H (50 μm) of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7 (other points are implemented) The same thing as Example 1) was produced, and the chromaticity variation and the brightness | luminance were measured. As a result, the mounted blue LED chip 81 ′ (Example 1) has reduced chromaticity variation and improved luminance as compared with the comparative example.

(実施例2)
次に、第2実施形態で説明した青色LEDウェハ82の製造方法と、その青色LEDウェハ82から得られた青色LEDチップ82′の実装方法について、具体的に説明する。
(Example 2)
Next, the manufacturing method of the blue LED wafer 82 described in the second embodiment and the mounting method of the blue LED chip 82 ′ obtained from the blue LED wafer 82 will be specifically described.

予め、実施例1におけるのと同様に、図8中の青色LEDチップ82′を実装するために波長変換層7として用いられる蛍光体シートを作製した。この例では、蛍光体シートは、シリコーン樹脂にYAG蛍光体を濃度が20体積%となるように混練して蛍光体混錬樹脂を用意し、この蛍光体混錬樹脂を均一な厚さ50μmのシート状に成型することで作製した。この蛍光体シートは、蛍光として黄色光を発生させることができる。   In the same manner as in Example 1, a phosphor sheet used as the wavelength conversion layer 7 for mounting the blue LED chip 82 'in FIG. In this example, the phosphor sheet is prepared by kneading a YAG phosphor with a silicone resin so that the concentration becomes 20% by volume, and preparing a phosphor kneaded resin. The phosphor kneaded resin has a uniform thickness of 50 μm. It was produced by molding into a sheet. This phosphor sheet can generate yellow light as fluorescence.

青色LEDウェハ82を作製するために、まず、図2に示すように、サファイアからなる成長基板1の第1の主面1a上に、GaN層とITOからなる透明導電層とを順次積層することで発光層2を形成した(積層基板の作製完了)。   In order to produce the blue LED wafer 82, first, as shown in FIG. 2, a GaN layer and a transparent conductive layer made of ITO are sequentially laminated on the first main surface 1a of the growth substrate 1 made of sapphire. Thus, the light emitting layer 2 was formed (completed production of the laminated substrate).

この後、発光層2上に、均一な厚さをもつように銀を蒸着し、その銀をパターン加工して電極41,42を形成した。続いて、N電極41とP電極42との間の隙間に白色ソルダーレジスト12を埋め込んだ。これにより、電極41,42と白色ソルダーレジスト12とからなる反射面形成体13を形成した。   Thereafter, silver was deposited on the light emitting layer 2 so as to have a uniform thickness, and the silver was patterned to form electrodes 41 and 42. Subsequently, the white solder resist 12 was embedded in the gap between the N electrode 41 and the P electrode 42. Thereby, the reflecting surface forming body 13 composed of the electrodes 41 and 42 and the white solder resist 12 was formed.

さらに、N電極41、P電極42上にそれぞれ構造物としての円柱状の金からなるバンプ電極61,62を形成した(青色LEDウェハ82の作製完了)。ここで、バンプ電極61,62の最外面61a,62aは、同一の高さレベルとした。成長基板1の主面1a,1bに垂直な方向に関して、バンプ電極61,62の最外面61a,62aから上記反射面3までの距離D2を、波長変換層7として用いられる蛍光体シートの厚さH(50μm)に比べて同等以上に設定し、目標60μmとした。   Furthermore, bump electrodes 61 and 62 made of cylindrical gold as a structure were formed on the N electrode 41 and the P electrode 42, respectively (production of the blue LED wafer 82 was completed). Here, the outermost surfaces 61a and 62a of the bump electrodes 61 and 62 have the same height level. The distance D2 from the outermost surfaces 61a, 62a of the bump electrodes 61, 62 to the reflecting surface 3 in the direction perpendicular to the main surfaces 1a, 1b of the growth substrate 1 is the thickness of the phosphor sheet used as the wavelength conversion layer 7. It was set equal to or higher than H (50 μm), and the target was 60 μm.

この後、青色LEDウェハ82を、成長基板1の第1の主面1aに沿った面内で所定の寸法をもつように図2中の破線Xに沿ってダイシングして分割して、図8中に示すような青色LEDチップ82′を複数得た。この例では、青色LEDチップ82′は、成長基板1の第1の主面1aに沿った面内で0.2mm角の寸法をもち、厚さ0.15mmの直方体状のチップである。   Thereafter, the blue LED wafer 82 is divided by dicing along the broken line X in FIG. 2 so as to have a predetermined dimension in the plane along the first main surface 1a of the growth substrate 1, and FIG. A plurality of blue LED chips 82 'as shown in the figure were obtained. In this example, the blue LED chip 82 ′ is a rectangular parallelepiped chip having a size of 0.2 mm square in the plane along the first main surface 1 a of the growth substrate 1 and a thickness of 0.15 mm.

この例では、作製された複数の青色LEDチップ82′の、バンプ電極61,62の最外面61a,62aから上記反射面3までの距離D2は、実測したところ、平均で59μm、バラツキで±3μmであり、波長変換層7として用いられる蛍光体シートの厚さ50μmに比べて同等以上であった。   In this example, the distance D2 from the outermost surfaces 61a, 62a of the bump electrodes 61, 62 to the reflecting surface 3 of the plurality of blue LED chips 82 ′ thus manufactured is 59 μm on average and ± 3 μm in variation when measured. The phosphor sheet used as the wavelength conversion layer 7 was equal to or greater than the thickness of 50 μm.

このように、反射面形成体13およびバンプ電極61,62の形成、バンプ電極61,62の最外面61a,62aから上記反射面3までの距離D2の設定を、ウェハプロセスとして、ウェハ状態で一括して精度良く行うことができた。   As described above, the formation of the reflecting surface forming body 13 and the bump electrodes 61 and 62 and the setting of the distance D2 from the outermost surfaces 61a and 62a of the bump electrodes 61 and 62 to the reflecting surface 3 are collectively performed in a wafer state as a wafer process. And was able to be performed with high accuracy.

得られた青色LEDチップ82′を、次のようにしてフェイスダウン方式で実装した。   The obtained blue LED chip 82 'was mounted by the face-down method as follows.

まず、図8に示すように、パッケージ基板8上の所定の位置に青色LEDチップ82′を、パッケージ基板8上の電極10a,10bと青色LEDチップ82′の電極41,42とをそれぞれ対応させた状態で接合して固定した。これにより、電極41,42と電極パターン10a,10bとをそれぞれバンプ電極61,62を介して電気的に接続した。   First, as shown in FIG. 8, the blue LED chip 82 'is made to correspond to a predetermined position on the package substrate 8, and the electrodes 10a and 10b on the package substrate 8 are made to correspond to the electrodes 41 and 42 of the blue LED chip 82', respectively. In this state, they were joined and fixed. Thus, the electrodes 41 and 42 and the electrode patterns 10a and 10b were electrically connected via the bump electrodes 61 and 62, respectively.

さらに、上記蛍光体シート(0.7mm角の寸法で切り出したもの)を、青色LEDチップ82′に被せ、シリコーンゴムで押圧しながら加熱して接着した。これにより、青色LEDチップ82′の上面82aおよび側面82bを覆う波長変換層7を形成した。このとき、波長変換層7の外側延在部分7aは、パッケージ基板8に沿った方向に関して、片側で0.1mm生ずる設計であった。実際に形成された波長変換層(この例では蛍光体シート)7の寸法を計測したところ、図8において例えば左側の外側延在部分7aの寸法は0.08mm、右側の外側延在部分7aの寸法は0.12mmであった。   Further, the phosphor sheet (cut out with a size of 0.7 mm square) was placed on the blue LED chip 82 ′ and heated and bonded while being pressed with silicone rubber. Thereby, the wavelength conversion layer 7 covering the upper surface 82a and the side surface 82b of the blue LED chip 82 'was formed. At this time, the outer extending portion 7 a of the wavelength conversion layer 7 was designed to be 0.1 mm on one side with respect to the direction along the package substrate 8. When the dimension of the actually formed wavelength conversion layer (phosphor sheet in this example) 7 was measured, in FIG. 8, for example, the dimension of the left outer extension part 7a is 0.08 mm, and the right outer extension part 7a is The dimension was 0.12 mm.

最後に、青色LEDチップ82′および波長変換層7を透明樹脂(図示せず)で封止した。   Finally, the blue LED chip 82 'and the wavelength conversion layer 7 were sealed with a transparent resin (not shown).

このようにして実装された青色LEDチップ82′では、パッケージ基板8上で反射面3の高さ(目標60μm、実測59μm±3μm)が波長変換層7の外側延在部分7aの厚さ(50μm)を超えている。したがって、実装された青色LEDチップ82′の側面82bから側方へ出射される光が上記波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In the blue LED chip 82 ′ mounted in this manner, the height of the reflection surface 3 (target 60 μm, actual measurement 59 μm ± 3 μm) on the package substrate 8 is the thickness (50 μm) of the outer extending portion 7 a of the wavelength conversion layer 7. ) Is exceeded. Accordingly, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface 82b of the mounted blue LED chip 82 'from being laterally blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

実際に、上記実装された青色LEDチップ82′(実施例2)の色度バラツキおよび輝度を測定した。それとともに、比較例として、パッケージ基板8上で反射面3の高さが2μmであり、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さ(50μm)を下回るもの(それ以外の点は実施例2と同じもの)を作製し、その色度バラツキおよび輝度を測定した。その結果、上記実装された青色LEDチップ82′(実施例2)は、比較例に比して、色度バラツキが低減し、かつ輝度が向上した。   Actually, chromaticity variation and luminance of the mounted blue LED chip 82 '(Example 2) were measured. In addition, as a comparative example, the height of the reflection surface 3 on the package substrate 8 is 2 μm, and is less than the thickness (50 μm) of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7 (other points are the examples) 2), and the chromaticity variation and luminance were measured. As a result, the mounted blue LED chip 82 '(Example 2) has reduced chromaticity variation and improved luminance as compared with the comparative example.

(実施例3)
実施例3では、図2に示した青色LEDウェハ82を、バンプ電極61,62の最外面61a,62aから上記反射面3までの距離D2を、目標30μmの条件で作製した。それ以外の点は、実施例2と同じにした。
(Example 3)
In Example 3, the blue LED wafer 82 shown in FIG. 2 was produced under the condition that the distance D2 from the outermost surfaces 61a and 62a of the bump electrodes 61 and 62 to the reflecting surface 3 was a target of 30 μm. The other points were the same as in Example 2.

そのようにして作製された青色LEDウェハ82を、実施例2におけるのと同じ条件で分割して、青色LEDチップ82′を複数得た。   The blue LED wafer 82 thus produced was divided under the same conditions as in Example 2 to obtain a plurality of blue LED chips 82 '.

この例では、作製された複数の青色LEDチップ82′の、バンプ電極61,62の最外面61a,62aから上記反射面3までの距離D2は、実測したところ、平均で31μm、バラツキで±4μmであり、波長変換層7として用いられる蛍光体シートの厚さ50μmに比べて約3/5に相当した。   In this example, the distance D2 from the outermost surfaces 61a, 62a of the bump electrodes 61, 62 to the reflecting surface 3 of the plurality of blue LED chips 82 ′ thus produced is measured to be 31 μm on average and ± 4 μm in variation. This corresponds to about 3/5 of the thickness of the phosphor sheet used as the wavelength conversion layer 7 of 50 μm.

得られた青色LEDチップ82′を、実施例2におけるのと同様に、図8に示すようにフェイスダウン方式で実装した。   The obtained blue LED chip 82 'was mounted in a face-down manner as shown in FIG.

このようにして実装された青色LEDチップ82′では、パッケージ基板8上で反射面3の高さ(目標30μm、実測31μm±4μm)が波長変換層7の外側延在部分7aの厚さ(50μm)に比べて約3/5に相当している。反射面3の高さは、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さ(50μm)よりも若干低い。しかし、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さ(50μm)の半分以上の高さになっている。したがって、実装された青色LEDチップ82′の側面82bから側方へ出射される光が上記波長変換層7の外側延在部分7aによって遮られるのを有効に防止できる。これにより、光の取り出し効率を向上すると共に、色むらを低減できる。   In the blue LED chip 82 ′ mounted in this manner, the height of the reflection surface 3 (target 30 μm, actual measurement 31 μm ± 4 μm) on the package substrate 8 is the thickness (50 μm) of the outer extending portion 7 a of the wavelength conversion layer 7. ) Is equivalent to about 3/5. The height of the reflecting surface 3 is slightly lower than the thickness (50 μm) of the outer extending portion 7 a of the wavelength conversion layer 7. However, the height is more than half of the thickness (50 μm) of the outer extending portion 7 a of the wavelength conversion layer 7. Accordingly, it is possible to effectively prevent the light emitted from the side surface 82b of the mounted blue LED chip 82 'from being laterally blocked by the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. As a result, the light extraction efficiency can be improved and color unevenness can be reduced.

実際に、上記実装された青色LEDチップ82′(実施例3)の色度バラツキおよび輝度を測定した。それとともに、比較例として、パッケージ基板8上で反射面3の高さが2μmであり、波長変換層7の外側延在部分7aの厚さ(50μm)を下回るもの(それ以外の点は実施例3と同じもの)を作製し、その色度バラツキおよび輝度を測定した。その結果、上記実装された青色LEDチップ82′(実施例3)は、比較例に比して、色度バラツキが低減し、かつ輝度が向上した。   Actually, chromaticity variation and luminance of the mounted blue LED chip 82 '(Example 3) were measured. In addition, as a comparative example, the height of the reflection surface 3 on the package substrate 8 is 2 μm, and is less than the thickness (50 μm) of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7 (other points are the examples) 3), and the chromaticity variation and luminance were measured. As a result, the mounted blue LED chip 82 '(Example 3) has reduced chromaticity variation and improved luminance as compared with the comparative example.

(実施例4)
次に、第5実施形態で説明した青色LEDウェハ85の製造方法と、その青色LEDウェハ85から得られた青色LEDチップ85′の実装方法について、具体的に説明する。
Example 4
Next, a method for manufacturing the blue LED wafer 85 described in the fifth embodiment and a method for mounting the blue LED chip 85 ′ obtained from the blue LED wafer 85 will be specifically described.

予め、実施例1におけるのと同様に、図11中の青色LEDチップ85′を実装するために波長変換層7として用いられる蛍光体シートを作製した。この例では、蛍光体シートは、シリコーン樹脂にYAG蛍光体を濃度が20体積%となるように混練して蛍光体混錬樹脂を用意し、この蛍光体混錬樹脂を均一な厚さ10μmのシート状に成型した後、0.8mm角で切り出すことで作製した。この蛍光体シートは、蛍光として黄色光を発生させることができる。   In the same manner as in Example 1, a phosphor sheet used as the wavelength conversion layer 7 for mounting the blue LED chip 85 ′ in FIG. 11 was prepared in advance. In this example, a phosphor sheet is prepared by kneading a YAG phosphor with a silicone resin so that the concentration becomes 20% by volume, and preparing a phosphor kneaded resin. The phosphor kneaded resin has a uniform thickness of 10 μm. After forming into a sheet shape, it was produced by cutting out at 0.8 mm square. This phosphor sheet can generate yellow light as fluorescence.

青色LEDウェハ85を作製するために、まず、図5に示すように、サファイアからなる成長基板1の第1の主面1a上に、GaN層とITOからなる透明導電層とを順次積層することで発光層2を形成した(積層基板の作製完了)。   In order to produce the blue LED wafer 85, first, as shown in FIG. 5, a GaN layer and a transparent conductive layer made of ITO are sequentially laminated on the first main surface 1a of the growth substrate 1 made of sapphire. Thus, the light emitting layer 2 was formed (completed production of the laminated substrate).

この後、発光層2上に、均一な厚さをもつように銀を蒸着し、その銀をパターン加工して電極41,42を形成した。続いて、N電極41とP電極42との間の隙間に白色ソルダーレジスト12を埋め込んだ。これにより、電極41,42と白色ソルダーレジスト12とからなる反射面形成体13を形成した。反射面形成体10の厚さは、上記蛍光体シートの厚さに対して同等以上の厚さである12μmとした。   Thereafter, silver was deposited on the light emitting layer 2 so as to have a uniform thickness, and the silver was patterned to form electrodes 41 and 42. Subsequently, the white solder resist 12 was embedded in the gap between the N electrode 41 and the P electrode 42. Thereby, the reflecting surface forming body 13 composed of the electrodes 41 and 42 and the white solder resist 12 was formed. The thickness of the reflective surface forming body 10 was 12 μm, which is equal to or greater than the thickness of the phosphor sheet.

この後、青色LEDウェハ85を、成長基板1の第1の主面1aに沿った面内で所定の寸法をもつように図5中の破線Xに沿ってダイシングして分割して、図11中に示すような青色LEDチップ85’を複数得た。この例では、青色LEDチップ85’は、成長基板1の第1の主面1aに沿った面内で0.2mm角の寸法をもち、厚さ0.1mmの直方体状のチップである。   Thereafter, the blue LED wafer 85 is diced and divided along the broken line X in FIG. 5 so as to have a predetermined dimension in the plane along the first main surface 1a of the growth substrate 1. A plurality of blue LED chips 85 ′ as shown in the figure were obtained. In this example, the blue LED chip 85 ′ is a rectangular parallelepiped chip having a size of 0.2 mm square in the plane along the first main surface 1 a of the growth substrate 1 and a thickness of 0.1 mm.

得られた青色LEDチップ85’を、次のようにしてフェイスダウン方式で実装した。   The obtained blue LED chip 85 'was mounted by the face-down method as follows.

まず、図11に示すように、パッケージ基板8上の所定の位置に青色LEDチップ85′を、パッケージ基板8a,8b上の電極10a,10bと青色LEDチップ85′の電極41,42とをそれぞれ対応させた状態で接合して固定した。これにより、電極41,42と電極パターン10a,10bとを電気的に接続した。   First, as shown in FIG. 11, the blue LED chip 85 'is placed at a predetermined position on the package substrate 8, the electrodes 10a, 10b on the package substrates 8a, 8b and the electrodes 41, 42 on the blue LED chip 85' are respectively connected. Bonded and fixed in a corresponding state. Thereby, the electrodes 41 and 42 and the electrode patterns 10a and 10b were electrically connected.

さらに、上記蛍光体シート(0.8mm角の寸法で切り出したもの)を、青色LEDチップ85′に被せ、シリコーンゴムで押圧しながら加熱して接着した。これにより、青色LEDチップ85′の上面85aおよび側面85bを覆う波長変換層7を形成した。このとき、波長変換層7の外側延在部分7aは、パッケージ基板8に沿った方向に関して、片側で0.2mm生ずる設計であった。実際に形成された波長変換層(この例では蛍光体シート)7の寸法を計測したところ、図11において例えば左側の外側延在部分7aの寸法は0.1mm、右側の外側延在部分7aの寸法は0.3mmであった。一方、青色LEDチップ85′の上面部分の寸法は、10μmであった。   Further, the phosphor sheet (cut out with a 0.8 mm square size) was placed on a blue LED chip 85 'and heated and bonded while being pressed with silicone rubber. Thereby, the wavelength conversion layer 7 covering the upper surface 85a and the side surface 85b of the blue LED chip 85 'was formed. At this time, the outer extending portion 7 a of the wavelength conversion layer 7 was designed to be 0.2 mm on one side with respect to the direction along the package substrate 8. When the dimension of the actually formed wavelength conversion layer (phosphor sheet in this example) 7 was measured, in FIG. 11, for example, the dimension of the left outer extension part 7a is 0.1 mm, and the right outer extension part 7a is The dimension was 0.3 mm. On the other hand, the dimension of the upper surface portion of the blue LED chip 85 ′ was 10 μm.

最後に、青色LEDチップ85′および波長変換層7を透明樹脂(図示せず)で封止した。   Finally, the blue LED chip 85 ′ and the wavelength conversion layer 7 were sealed with a transparent resin (not shown).

実際に、上記実装された青色LEDチップ85′(実施例4)の色度バラツキおよび輝度を測定した。それとともに、比較例として、パッケージ基板8上に反射面3を形成して実装したものを作製し、その色度バラツキおよび輝度を測定した。その結果、上記実装された青色LEDチップ85′(実施例4)は、比較例に比して、色度バラツキが低減した。   Actually, chromaticity variation and luminance of the mounted blue LED chip 85 ′ (Example 4) were measured. At the same time, as a comparative example, a package in which the reflection surface 3 was formed on the package substrate 8 was fabricated, and the chromaticity variation and luminance were measured. As a result, the mounted blue LED chip 85 ′ (Example 4) showed less chromaticity variation than the comparative example.

よって、パッケージ基板8上で反射面3の高さD5が波長変換層7の外側延在部分7aの厚さHを越えるように形成することで、蛍光体シートを青色LEDチップ側面に対して長めに作製しても、青色LEDチップの上面に均一な厚さの波長変換層7を形成することができた。その結果、高精度な蛍光体シートの分断と位置決めがそれぞれの必要精度が不要となり、量産時でも、青色LEDチップの上面に均一な厚さの波長変換層7を形成することが可能となった。   Therefore, the phosphor sheet is made longer than the side surface of the blue LED chip by forming the height D5 of the reflecting surface 3 on the package substrate 8 so as to exceed the thickness H of the outer extending portion 7a of the wavelength conversion layer 7. The wavelength conversion layer 7 having a uniform thickness could be formed on the upper surface of the blue LED chip. As a result, it is possible to form the wavelength conversion layer 7 having a uniform thickness on the upper surface of the blue LED chip even during mass production, because the required accuracy for dividing and positioning the phosphor sheet with high accuracy is not necessary. .

(実施例5)
次に、第8実施形態で説明した青色LEDチップ87の実装方法について、具体的に説明する。
(Example 5)
Next, the mounting method of the blue LED chip 87 described in the eighth embodiment will be specifically described.

予め、実施例1におけるのと同様に、図14中の青色LEDチップ87を実装するために波長変換層7として用いられる蛍光体シートを作製した。この例では、蛍光体シートは、シリコーン樹脂にYAG蛍光体を濃度が20体積%となるように混練して蛍光体混錬樹脂を用意し、この蛍光体混錬樹脂を均一な厚さ50μmのシート状に成型した後、縦1300μm、横1100μmの大きさで切り出すことで作製した。この蛍光体シートは、蛍光として黄色光を発生させることができる。   In the same manner as in Example 1, a phosphor sheet used as the wavelength conversion layer 7 for mounting the blue LED chip 87 in FIG. In this example, the phosphor sheet is prepared by kneading a YAG phosphor with a silicone resin so that the concentration becomes 20% by volume, and preparing a phosphor kneaded resin. The phosphor kneaded resin has a uniform thickness of 50 μm. After forming into a sheet shape, it was produced by cutting out in a size of 1300 μm in length and 1100 μm in width. This phosphor sheet can generate yellow light as fluorescence.

また、青色LEDチップ87として、図14に示すように、サファイアからなる成長基板1と、この成長基板1の第1の主面1a上に、GaN層とITOからなる透明導電層とを順次積層することで形成された発光層2と、この発光層2上に、均一な厚さをもつように銀を蒸着し、その銀をパターン加工して形成された電極41,42とを有するLEDチップを用いた。このLEDチップは、縦500μm、横300μm、厚さ100μmの直方体状のチップである。   As a blue LED chip 87, as shown in FIG. 14, a growth substrate 1 made of sapphire, and a GaN layer and a transparent conductive layer made of ITO are sequentially stacked on the first main surface 1a of the growth substrate 1. An LED chip having a light emitting layer 2 formed by vapor deposition, and electrodes 41 and 42 formed by depositing silver on the light emitting layer 2 so as to have a uniform thickness and patterning the silver. Was used. This LED chip is a rectangular parallelepiped chip having a length of 500 μm, a width of 300 μm, and a thickness of 100 μm.

さらに、上記青色LEDチップ87を実装するために、パッケージ基板8を作製した。この例では、パッケージ基板8は、酸化アルミニウムの焼結体に白色レジストインキを印刷して硬化させることで、中央に凸部28を有するパッケージ基板8を形成した。この凸部28の上面には、反射面3を形成する反射面形成体52を形成した。また、比較のため、パッケージ基板8上に凸部28を形成せず平坦なものを準備した。凸部28を除いたパッケージ基板8は、いずれも縦3mm、横3mm、厚さ1mmの大きさとした。   Further, in order to mount the blue LED chip 87, a package substrate 8 was produced. In this example, the package substrate 8 was formed by printing a white resist ink on a sintered body of aluminum oxide and curing it, thereby forming the package substrate 8 having a convex portion 28 at the center. A reflective surface forming body 52 that forms the reflective surface 3 was formed on the upper surface of the convex portion 28. For comparison, a flat product was prepared without forming the convex portion 28 on the package substrate 8. All of the package substrates 8 excluding the protrusions 28 were 3 mm in length, 3 mm in width, and 1 mm in thickness.

上記青色LEDチップ87を、次のようにしてフェイスアップ方式で実装した。   The blue LED chip 87 was mounted by the face-up method as follows.

まず、図14に示すように、パッケージ基板8の凸部28上に形成した反射面形成体52上に青色LEDチップ87を、成長基板1を凸部28へ向けてダイボンド剤(図示せず)で固定した。   First, as shown in FIG. 14, the blue LED chip 87 is placed on the reflective surface forming body 52 formed on the convex portion 28 of the package substrate 8, and the die bond agent (not shown) is directed toward the convex portion 28. Fixed with.

次に、上記蛍光体シートで、電極41,42を除く青色LEDチップ87の上面および側面と、反射面形成体52と、凸部28とを被覆して波長変換層7を形成した。このとき、蛍光体シートとLED素子との間に空気層ができないように、蛍光体シートと青色LEDチップ87、反射面形成体52および凸部28との間にシリコーン樹脂を微少量塗布し、加熱硬化させることで蛍光体シートと青色LEDチップ87、反射面形成体52および凸部28とを接着固定した。   Next, the wavelength conversion layer 7 was formed by covering the top and side surfaces of the blue LED chip 87 excluding the electrodes 41 and 42, the reflection surface forming body 52, and the convex portions 28 with the phosphor sheet. At this time, a small amount of silicone resin is applied between the phosphor sheet and the blue LED chip 87, the reflecting surface forming body 52, and the convex portion 28 so that an air layer is not formed between the phosphor sheet and the LED element. The phosphor sheet, the blue LED chip 87, the reflecting surface forming body 52, and the convex portion 28 were bonded and fixed by heating and curing.

次に、N電極41にワイヤ配線91の一端を熱および超音波を用いて接合した後、パッケージ基板8の表面に設けられたN電極パターン10aにワイヤ配線91の他端を熱および超音波を用いて接合した。同様に、P電極42にワイヤ配線92の一端を熱および超音波を用いて接合した後、パッケージ基板8の表面に設けられたP電極パターン10bにワイヤ配線92の他端を熱および超音波を用いて接合した。このようにして、電極41,42と電極パターン10a,10bとをそれぞれワイヤ配線91,92を介して電気的に接続した。   Next, after one end of the wire wiring 91 is joined to the N electrode 41 using heat and ultrasonic waves, the other end of the wire wiring 91 is heated and ultrasonically applied to the N electrode pattern 10 a provided on the surface of the package substrate 8. And joined. Similarly, after joining one end of the wire wiring 92 to the P electrode 42 using heat and ultrasonic waves, heat and ultrasonic waves are applied to the other end of the wire wiring 92 on the P electrode pattern 10 b provided on the surface of the package substrate 8. And joined. In this way, the electrodes 41 and 42 and the electrode patterns 10a and 10b were electrically connected via the wire wirings 91 and 92, respectively.

最後に、青色LEDチップ87および波長変換層7を透明樹脂(図示せず)で封止した。   Finally, the blue LED chip 87 and the wavelength conversion layer 7 were sealed with a transparent resin (not shown).

このようにして実装された青色LEDチップ87の光学特性を測定するため、この実装された青色LEDチップ87を10個作成した。一方、比較のため、平坦なパッケージ基板上に青色LEDチップ87をフェイスアップ方式で実装し、青色LEDチップ87を蛍光体シートで上面および側面を被覆して波長形成層7を形成したサンプルも10個作成した。上記各サンプルのLEDチップに電流を印可して光学特性を測定した結果、本発明の実施例であるパッケージ基板8に凸部28を形成したサンプルは、全光束が平均で8ルーメンであったのに対し、従来のパッケージ基板8が平坦なサンプルは、全光束が平均で7ルーメンであった。したがって、本発明の構成とすることで、従来よりも全光束を向上、すなわち、光の取り出し効率を向上することができた。また、本発明の実施例であるパッケージ基板8に凸部28を形成したサンプルは、色度座標でx=0.2588〜0.2633、y=0.2407〜0.2452の範囲であったのに対し、従来のパッケージ基板8が平坦なサンプルは、色度座標でx=0.2570〜0.2666、y=0.2389〜0.2482の範囲であった。したがって、本発明の構成とすることで、従来よりもサンプル間の色度差を小さくすることができた。   In order to measure the optical characteristics of the blue LED chip 87 mounted in this manner, ten mounted blue LED chips 87 were prepared. On the other hand, for comparison, a sample in which the blue LED chip 87 is mounted on a flat package substrate by a face-up method, and the wavelength forming layer 7 is formed by coating the blue LED chip 87 with a phosphor sheet on the upper surface and side surfaces. Created. As a result of applying an electric current to the LED chip of each sample and measuring the optical characteristics, the sample in which the convex portion 28 was formed on the package substrate 8 according to the embodiment of the present invention had an average total luminous flux of 8 lumens. On the other hand, the sample with the flat package substrate 8 has an average total luminous flux of 7 lumens. Therefore, with the configuration of the present invention, the total luminous flux can be improved as compared with the conventional case, that is, the light extraction efficiency can be improved. Moreover, the sample which formed the convex part 28 in the package board | substrate 8 which is an Example of this invention was the range of x = 0.2588-0.2633 and y = 0.2407-0.2452 in a chromaticity coordinate. On the other hand, the sample in which the conventional package substrate 8 is flat was in the range of x = 0.2570 to 0.2666 and y = 0.2389 to 0.2482 in chromaticity coordinates. Therefore, by adopting the configuration of the present invention, the chromaticity difference between samples can be made smaller than before.

以上の実施形態では、LEDウェハの発光層が青色光を発生し、波長変換層が黄色の蛍光を発生する場合について述べたが、これに限られるものではない。この発明は、LEDウェハの発光層が青色以外の色の光を発生し、波長変換層が黄色以外の蛍光を発生する場合にも適用することができる。   In the above embodiment, the case where the light emitting layer of the LED wafer generates blue light and the wavelength conversion layer generates yellow fluorescence has been described, but the present invention is not limited to this. The present invention can also be applied to the case where the light emitting layer of the LED wafer generates light of a color other than blue and the wavelength conversion layer generates fluorescence other than yellow.

また、波長変換層は、樹脂に予め蛍光体を均一に分散した蛍光体シートからなるものとしたが、これに限られるものではない。波長変換層は、蛍光体混錬樹脂を塗布した後、蛍光体を沈降させるものであっても良い。   Further, although the wavelength conversion layer is made of a phosphor sheet in which the phosphor is uniformly dispersed in advance in the resin, the wavelength conversion layer is not limited to this. The wavelength conversion layer may be one in which the phosphor is precipitated after the phosphor kneaded resin is applied.

本発明の発光装置、LEDチップ、LEDウェハ、およびパッケージ基板は、LEDを用いた光源、特に白色光源を構成するのに好ましく利用され得る。   The light-emitting device, LED chip, LED wafer, and package substrate of the present invention can be preferably used to construct a light source using LEDs, particularly a white light source.

1 成長基板
2 発光層
3 反射面
5,13,14,51、52 反射面形成体
5b 最外面
6 スペーサ層
7 波長変換層
7a 外側延在部分
8 パッケージ基板
15 第1の反射面形成体
16 第2の反射面形成体
28a LEDチップ配置領域
38 枠状領域
48 外側領域
61,62 バンプ電極
81,82,83,84,85,86 LEDウェハ
81’,82’,83’,84’,85’,86’,87’ LEDチップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Growth substrate 2 Light emitting layer 3 Reflective surface 5, 13, 14, 51, 52 Reflective surface formation body 5b Outermost surface 6 Spacer layer 7 Wavelength conversion layer 7a Outer extension part 8 Package substrate 15 1st reflective surface formation body 16 1st 2 reflective surface forming body 28a LED chip arrangement area 38 Frame area 48 Outer area 61, 62 Bump electrode 81, 82, 83, 84, 85, 86 LED wafer 81 ', 82', 83 ', 84', 85 ' , 86 ', 87' LED chip

Claims (25)

パッケージ基板上に配置されたLEDチップと、
上記LEDチップの上面および側面を覆って、上記LEDチップの発光層から放出された光の波長を変換する波長変換層とを有し、
上記波長変換層は、上記パッケージ基板上で上記LEDチップが配置された領域よりも外側へ延在する外側延在部分を有し、
上記LEDチップの上記発光層よりも上記パッケージ基板側に、上記パッケージ基板に沿って配置され、上記発光層から上記パッケージ基板側に放出される光を反射させる反射面を有し、
上記反射面に垂直な方向に関して、上記パッケージ基板のうち上記波長変換層の上記外側延在部分が延在する領域の上面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されていることを特徴とする発光装置。
An LED chip disposed on the package substrate;
A wavelength conversion layer that covers the upper and side surfaces of the LED chip and converts the wavelength of light emitted from the light emitting layer of the LED chip;
The wavelength conversion layer has an outer extending portion that extends outward from a region where the LED chip is disposed on the package substrate,
The LED chip has a reflective surface that is disposed on the package substrate side of the LED chip along the package substrate and reflects light emitted from the light emitting layer to the package substrate side,
With respect to the direction perpendicular to the reflecting surface, the distance from the upper surface of the region where the outer extending portion of the wavelength conversion layer extends in the package substrate to the reflecting surface is the outer extending portion of the wavelength converting layer. The light emitting device is set to have a predetermined dimension or more according to the thickness of the light emitting device.
請求項1に記載の発光装置において、
上記LEDチップは、
上記発光層を含む積層基板と、
上記積層基板の二つの主面のうち一方の主面に沿って、上記反射面を形成する反射面形成体と
を備え、
上記反射面形成体の最外面が上記パッケージ基板に接していることを特徴とする発光装置。
The light-emitting device according to claim 1.
The LED chip is
A laminated substrate including the light emitting layer;
A reflective surface forming body that forms the reflective surface along one main surface of the two main surfaces of the laminated substrate,
The light emitting device, wherein an outermost surface of the reflecting surface forming body is in contact with the package substrate.
請求項2に記載の発光装置において、
上記反射面形成体の最外面に構造物が設けられ、
上記構造物の最外面が上記パッケージ基板に接していることを特徴とする発光装置。
The light-emitting device according to claim 2.
A structure is provided on the outermost surface of the reflecting surface forming body,
A light-emitting device, wherein an outermost surface of the structure is in contact with the package substrate.
請求項2または3に記載の発光装置において、
上記LEDチップが上記反射面形成体または上記構造物の最外面を上記パッケージ基板に向けて配置されたとき、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さが10μm以上になるように、上記寸法が設定されていることを特徴とする発光装置。
The light-emitting device according to claim 2 or 3,
When the LED chip is arranged with the outermost surface of the reflecting surface forming body or the structure facing the package substrate, the dimensions are set so that the height of the reflecting surface from the package substrate is 10 μm or more. A light-emitting device that is set.
請求項2から4のいずれか1つに記載の発光装置において、
上記反射面形成体が、金属材料、白色の材料、および上記半導体層の発光色と実質的に同色の不透明な材料のうちの一つまたは二つ以上からなることを特徴とする発光装置。
The light emitting device according to any one of claims 2 to 4,
The light emitting device, wherein the reflecting surface forming body is made of one or more of a metal material, a white material, and an opaque material having substantially the same color as the light emission color of the semiconductor layer.
請求項2から4のいずれか1つに記載の発光装置において、
上記反射面形成体が、上記積層基板のうちこの反射面形成体に沿った部分の屈折率よりも低い屈折率をもつ透明な材料からなる第1の反射面形成体と、金属材料からなる第2の反射面形成体とを含み、
上記第1の反射面形成体と上記第2の反射面形成体との間の界面が上記反射面を形成していることを特徴とする発光装置。
The light emitting device according to any one of claims 2 to 4,
The reflective surface forming body includes a first reflective surface forming body made of a transparent material having a refractive index lower than a refractive index of a portion along the reflective surface forming body of the laminated substrate, and a first made of a metal material. 2 reflective surface forming bodies,
A light emitting device, wherein an interface between the first reflecting surface forming body and the second reflecting surface forming body forms the reflecting surface.
請求項2から6のいずれか1つに記載の発光装置において、
上記反射面形成体が、電極を構成していることを特徴とする発光装置。
The light emitting device according to any one of claims 2 to 6,
The light emitting device, wherein the reflective surface forming body constitutes an electrode.
請求項1に記載の発光装置において、
上記パッケージ基板は、上記LEDチップを配置すべきLEDチップ配置領域上に上記LEDチップ配置領域に沿って配置された、上記反射面を形成する反射面形成体を有し、
上記反射面形成体の最外面が上記パッケージ基板に接していることを特徴とする発光装置。
The light-emitting device according to claim 1.
The package substrate has a reflective surface forming body that forms the reflective surface, which is disposed along the LED chip placement region on the LED chip placement region on which the LED chip is to be placed,
The light emitting device, wherein an outermost surface of the reflecting surface forming body is in contact with the package substrate.
請求項8に記載の発光装置において、
上記反射面の高さは、上記パッケージ基板のうち、上記波長変換層の上記外側延在部分が延在する領域よりも外側に相当する外側領域の上面の高さよりも高いことを特徴とする発光装置。
The light-emitting device according to claim 8.
The height of the reflection surface is higher than the height of the upper surface of the outer region corresponding to the outer side of the package substrate, the region extending outside the wavelength conversion layer. apparatus.
請求項8に記載の発光装置において、
上記パッケージ基板のうち、上記波長変換層の上記外側延在部分が延在する領域の上面の高さは、上記外側延在部分が延在する領域よりも外側に相当する外側領域の上面の高さよりも低いことを特徴とする発光装置。
The light-emitting device according to claim 8.
Of the package substrate, the height of the upper surface of the region where the outer extension portion of the wavelength conversion layer extends is higher than the upper surface of the outer region corresponding to the outer side of the region where the outer extension portion extends. A light emitting device characterized by being lower than the above.
パッケージ基板に実装されるLEDチップであって、
上記LEDチップは、上記パッケージ基板上に配置されたとき、上記LEDチップの上面および側面が上記LEDチップの発光層から放出された光の波長を変換する波長変換層で覆われ、上記波長変換層は、上記パッケージ基板上で上記LEDチップが配置された領域よりも外側へ延在する外側延在部分を有し、
上記LEDチップは、
上記発光層を含む積層基板と、
上記積層基板の二つの主面のうち一方の主面に沿って、上記反射面を形成する反射面形成体と
を備え、
上記積層基板の上記主面に垂直な方向に関して、上記反射面形成体の最外面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されていることを特徴とするLEDチップ。
An LED chip mounted on a package substrate,
When the LED chip is disposed on the package substrate, the upper surface and the side surface of the LED chip are covered with a wavelength conversion layer that converts the wavelength of light emitted from the light emitting layer of the LED chip, and the wavelength conversion layer Has an outer extending portion that extends outward from a region where the LED chip is disposed on the package substrate,
The LED chip is
A laminated substrate including the light emitting layer;
A reflective surface forming body that forms the reflective surface along one main surface of the two main surfaces of the laminated substrate,
With respect to the direction perpendicular to the main surface of the multilayer substrate, the distance from the outermost surface of the reflecting surface forming body to the reflecting surface is a predetermined dimension or more according to the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. LED chip characterized by being set to.
請求項11に記載のLEDチップにおいて、
上記反射面形成体の最外面に構造物が設けられ、
上記積層基板の上記主面に垂直な方向に関して、上記反射面形成体の最外面に代えて、上記構造物の最外面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されていることを特徴とするLEDチップ。
The LED chip according to claim 11,
A structure is provided on the outermost surface of the reflecting surface forming body,
The distance from the outermost surface of the structure to the reflecting surface in place of the outermost surface of the reflecting surface forming body in the direction perpendicular to the main surface of the multilayer substrate is the outer extended portion of the wavelength conversion layer. An LED chip characterized in that it is set to have a predetermined dimension or more according to the thickness of the LED.
請求項11または12に記載のLEDチップにおいて、
上記LEDチップが上記反射面形成体または上記構造物の最外面を上記パッケージ基板に向けて配置されたとき、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さが10μm以上になるように、上記寸法が設定されていることを特徴とするLEDチップ。
The LED chip according to claim 11 or 12,
When the LED chip is arranged with the outermost surface of the reflecting surface forming body or the structure facing the package substrate, the dimensions are set so that the height of the reflecting surface from the package substrate is 10 μm or more. An LED chip characterized by being set.
請求項11から13のいずれか1つに記載のLEDチップにおいて、
上記反射面形成体が、金属材料、白色の材料、および上記半導体層の発光色と実質的に同色の不透明な材料のうちの一つまたは二つ以上からなることを特徴とするLEDチップ。
The LED chip according to any one of claims 11 to 13,
The LED chip, wherein the reflective surface forming body is made of one or more of a metal material, a white material, and an opaque material having substantially the same color as the emission color of the semiconductor layer.
請求項11から13のいずれか1つに記載のLEDチップにおいて、
上記反射面形成体が、上記積層基板のうちこの反射面形成体に沿った部分の屈折率よりも低い屈折率をもつ透明な材料からなる第1の反射面形成体と、金属材料からなる第2の反射面形成体とを含み、
上記第1の反射面形成体と上記第2の反射面形成体との間の界面が上記反射面を形成していることを特徴とするLEDチップ。
The LED chip according to any one of claims 11 to 13,
The reflective surface forming body includes a first reflective surface forming body made of a transparent material having a refractive index lower than a refractive index of a portion along the reflective surface forming body of the laminated substrate, and a first made of a metal material. 2 reflective surface forming bodies,
The LED chip, wherein an interface between the first reflecting surface forming body and the second reflecting surface forming body forms the reflecting surface.
請求項11から13のいずれか1つに記載のLEDチップにおいて、
上記反射面形成体が、電極を構成していることを特徴とするLEDチップ。
The LED chip according to any one of claims 11 to 13,
The LED chip, wherein the reflective surface forming body constitutes an electrode.
分割することによってLEDチップとなるLEDウェハであって、
上記LEDチップは、パッケージ基板上に配置されたとき、上記LEDチップの上面および側面が上記LEDチップの発光層から放出された光の波長を変換する波長変換層で覆われ、上記波長変換層は、上記パッケージ基板上で上記LEDチップが配置された領域よりも外側へ延在する外側延在部分を有し、
上記LEDウェハは、
上記発光層を含む積層基板と、
上記積層基板の二つの主面のうち一方の主面に沿って、上記反射面を形成する反射面形成体と
を備え、
上記積層基板の上記主面に垂直な方向に関して、上記反射面形成体の最外面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されていることを特徴とするLEDウェハ。
An LED wafer that becomes an LED chip by dividing,
When the LED chip is disposed on the package substrate, the upper surface and the side surface of the LED chip are covered with a wavelength conversion layer that converts the wavelength of light emitted from the light emitting layer of the LED chip, and the wavelength conversion layer is And having an outer extending portion that extends outward from a region where the LED chip is disposed on the package substrate,
The LED wafer is
A laminated substrate including the light emitting layer;
A reflective surface forming body that forms the reflective surface along one main surface of the two main surfaces of the laminated substrate,
With respect to the direction perpendicular to the main surface of the multilayer substrate, the distance from the outermost surface of the reflecting surface forming body to the reflecting surface is a predetermined dimension or more according to the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. LED wafer characterized by being set to.
請求項17に記載のLEDウェハにおいて、
上記反射面形成体の最外面に構造物が設けられ、
上記積層基板の上記主面に垂直な方向に関して、上記反射面形成体の最外面に代えて、上記構造物の最外面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されていることを特徴とするLEDウェハ。
The LED wafer according to claim 17,
A structure is provided on the outermost surface of the reflecting surface forming body,
The distance from the outermost surface of the structure to the reflecting surface in place of the outermost surface of the reflecting surface forming body in the direction perpendicular to the main surface of the multilayer substrate is the outer extended portion of the wavelength conversion layer. An LED wafer characterized by being set to a predetermined dimension or more according to the thickness of the LED.
請求項17または18に記載のLEDウェハにおいて、
上記LEDチップが上記反射面形成体または上記構造物の最外面を上記パッケージ基板に向けて配置されたとき、上記反射面の上記パッケージ基板からの高さが10μm以上になるように、上記寸法が設定されていることを特徴とするLEDウェハ。
The LED wafer according to claim 17 or 18,
When the LED chip is arranged with the outermost surface of the reflecting surface forming body or the structure facing the package substrate, the dimensions are set so that the height of the reflecting surface from the package substrate is 10 μm or more. An LED wafer characterized by being set.
請求項17から19のいずれか1つに記載のLEDウェハにおいて、
上記反射面形成体が、金属材料、白色の材料、および上記半導体層の発光色と実質的に同色の不透明な材料のうちの一つまたは二つ以上からなることを特徴とするLEDウェハ。
The LED wafer according to any one of claims 17 to 19,
The LED wafer, wherein the reflective surface forming body is made of one or more of a metal material, a white material, and an opaque material having substantially the same color as the emission color of the semiconductor layer.
請求項17から19のいずれか1つに記載のLEDウェハにおいて、
上記反射面形成体が、上記積層基板のうちこの反射面形成体に沿った部分の屈折率よりも低い屈折率をもつ透明な材料からなる第1の反射面形成体と、金属材料からなる第2の反射面形成体とを含み、
上記第1の反射面形成体と上記第2の反射面形成体との間の界面が上記反射面を形成していることを特徴とするLEDウェハ。
The LED wafer according to any one of claims 17 to 19,
The reflective surface forming body includes a first reflective surface forming body made of a transparent material having a refractive index lower than a refractive index of a portion along the reflective surface forming body of the laminated substrate, and a first made of a metal material. 2 reflective surface forming bodies,
An LED wafer, wherein an interface between the first reflecting surface forming body and the second reflecting surface forming body forms the reflecting surface.
請求項17から19のいずれか1つに記載のLEDウェハにおいて、
上記反射面形成体が、電極を構成していることを特徴とするLEDウェハ。
The LED wafer according to any one of claims 17 to 19,
The LED wafer, wherein the reflective surface forming body constitutes an electrode.
LEDチップを搭載すべきパッケージ基板であって、
上記LEDチップを配置すべきLEDチップ配置領域と、
上記LEDチップ配置領域の外側を取り巻く枠状領域と、
上記LEDチップ配置領域上に上記LEDチップ配置領域に沿って配置された反射面形成体とを有し、
上記LEDチップは、上記反射面形成体上に配置されたとき、上記LEDチップの上面および側面が上記LEDチップの発光層から放出された光の波長を変換する波長変換層で覆われ、上記波長変換層は、上記枠状領域上に延在する外側延在部分を有し、
上記反射面形成体は、上記LEDチップの上記発光層から上記LEDチップ配置領域側に放出される光を反射させる反射面を形成するようになっており、
上記反射面に垂直な方向に関して、上記枠状領域の上面から上記反射面までの距離が、上記波長変換層の上記外側延在部分の厚さに応じた所定の寸法以上に設定されていることを特徴とするパッケージ基板。
A package substrate on which an LED chip is to be mounted,
LED chip placement area where the LED chip should be placed;
A frame-like region surrounding the outside of the LED chip arrangement region;
A reflective surface forming body arranged along the LED chip arrangement area on the LED chip arrangement area;
When the LED chip is disposed on the reflective surface forming body, the upper surface and the side surface of the LED chip are covered with a wavelength conversion layer that converts the wavelength of light emitted from the light emitting layer of the LED chip, and the wavelength The conversion layer has an outer extending portion extending on the frame-shaped region,
The reflective surface forming body is configured to form a reflective surface that reflects light emitted from the light emitting layer of the LED chip to the LED chip arrangement region side,
With respect to the direction perpendicular to the reflecting surface, the distance from the upper surface of the frame-like region to the reflecting surface is set to a predetermined dimension or more according to the thickness of the outer extending portion of the wavelength conversion layer. Package substrate characterized by.
請求項23に記載のパッケージ基板において、
上記反射面の高さは、上記枠状領域よりも外側に相当する外側領域の上面の高さよりも高いことを特徴とするパッケージ基板。
The package substrate according to claim 23,
The package substrate according to claim 1, wherein a height of the reflection surface is higher than a height of an upper surface of an outer region corresponding to an outer side of the frame-like region.
請求項23に記載のパッケージ基板において、
上記枠状領域の上面の高さは、上記枠状領域よりも外側に相当する外側領域の上面の高さよりも低いことを特徴とするパッケージ基板。
The package substrate according to claim 23,
A package substrate, wherein a height of an upper surface of the frame-like region is lower than a height of an upper surface of an outer region corresponding to the outside of the frame-like region.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015046513A (en) * 2013-08-28 2015-03-12 日亜化学工業株式会社 Wavelength conversion member, light-emitting device, and method of manufacturing light-emitting device
WO2015060289A1 (en) * 2013-10-24 2015-04-30 東レ株式会社 Phosphor composition, phosphor sheet, phosphor sheet laminate, led chip and led package each using said phosphor composition, phosphor sheet or phosphor sheet laminate, and method for manufacturing led package
JP2017520917A (en) * 2014-06-13 2017-07-27 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ LED package having red light emitting phosphor
US9859475B2 (en) 2015-03-27 2018-01-02 Samsung Display Co., Ltd. Light emitting diode package including color absorbing body member
WO2020137760A1 (en) * 2018-12-27 2020-07-02 デンカ株式会社 Phosphor substrate, light-emitting substrate, and lighting device
CN113228316A (en) * 2018-12-27 2021-08-06 电化株式会社 Phosphor substrate, light-emitting substrate, and lighting device
JP2022184689A (en) * 2021-05-31 2022-12-13 日亜化学工業株式会社 light emitting device

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015046513A (en) * 2013-08-28 2015-03-12 日亜化学工業株式会社 Wavelength conversion member, light-emitting device, and method of manufacturing light-emitting device
WO2015060289A1 (en) * 2013-10-24 2015-04-30 東レ株式会社 Phosphor composition, phosphor sheet, phosphor sheet laminate, led chip and led package each using said phosphor composition, phosphor sheet or phosphor sheet laminate, and method for manufacturing led package
JPWO2015060289A1 (en) * 2013-10-24 2017-03-09 東レ株式会社 Phosphor composition, phosphor sheet, phosphor sheet laminate, LED chip using them, LED package, and method for producing the same
JP2017520917A (en) * 2014-06-13 2017-07-27 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ LED package having red light emitting phosphor
US9859475B2 (en) 2015-03-27 2018-01-02 Samsung Display Co., Ltd. Light emitting diode package including color absorbing body member
CN113228316A (en) * 2018-12-27 2021-08-06 电化株式会社 Phosphor substrate, light-emitting substrate, and lighting device
WO2020137760A1 (en) * 2018-12-27 2020-07-02 デンカ株式会社 Phosphor substrate, light-emitting substrate, and lighting device
JPWO2020137760A1 (en) * 2018-12-27 2021-11-11 デンカ株式会社 Fluorescent substrate, light emitting substrate and lighting equipment
US20220059730A1 (en) * 2018-12-27 2022-02-24 Denka Company Limited Phosphor substrate, light emitting substrate, and lighting device
US20220085253A1 (en) * 2018-12-27 2022-03-17 Denka Company Limited Phosphor substrate, light emitting substrate, and lighting device
JP7491849B2 (en) 2018-12-27 2024-05-28 デンカ株式会社 Phosphor substrate, light-emitting substrate, and lighting device
JP2022184689A (en) * 2021-05-31 2022-12-13 日亜化学工業株式会社 light emitting device
JP7303453B2 (en) 2021-05-31 2023-07-05 日亜化学工業株式会社 light emitting device

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