JP2012163636A - Filter for display - Google Patents

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高史 吉田
Masayuki Ezoe
正之 江副
Akihiro Kosaka
明宏 高坂
Toshihiro Masaoka
俊裕 政岡
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a filter for display with excellent durability that contains a tetraazaporphyrin compound having a substituted group of a specific structure.SOLUTION: At least one kind of tetraazaporphyrin compound represented by general formula (1) is contained in the base material or on the base material surface of a filter for display.

Description

本発明は、特定構造の置換基を有するテトラアザポルフィリン化合物を含有してなるディスプレイ用フィルタに関する。詳しくは、プラズマディスプレイパネル(PDP)、液晶ディスプレイ(LCD)などに用いられるディスプレイ用フィルタに関する。   The present invention relates to a display filter comprising a tetraazaporphyrin compound having a substituent having a specific structure. Specifically, the present invention relates to a display filter used for a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display (LCD), and the like.

液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機電界発光素子などの各種ディスプレイは、例えば、テレビジョン用、パーソナルコンピューター用などの各種のディスプレイとして、広く普及している。
大型のディスプレイとして、注目されているプラズマディスプレイあるいは液晶ディスプレイは、その構造と動作原理から、表示画面より強度の不要な電磁波が発生しており、その電磁波を遮蔽することが必要となっている。
例えば、プラズマディスプレイのパネルは、キセノンガスおよびネオンガスが封入された発光セル内に高電圧を印加して面放電させ、発光セルで生じる紫外線により、発光セル上に形成された赤(R)発光、緑(G)発光、青(B)発光の蛍光体を励起発光させることにより画像を表示するものである。この、発光セル内にはネオンガスが封入されているため、紫外線と共に、ネオンガスに起因する波長590nm付近を中心波長とするネオン光も発生する。ネオン光がそのまま透過してしまうと、色純度・色再現性が低下する。
このような点を改良する方法として、例えば、不要なネオン光を選択的に吸収する化合物として、テトラアザポルフィリン化合物を含有してなるディスプレイ用フィルタが提案されており、例えば、波長570〜605nmの範囲に吸収極大を有する特定の置換基(例えば、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子など)を有するテトラアザポルフィリン化合物を含有してなるディスプレイ用フィルタが提案されている(特許文献1〜3)。また、ハロゲノアルコキシ基を置換基として有するテトラアザポルフィリン化合物を含有してなるディスプレイ用フィルタについての提案もある(特許文献4)。
Various displays such as a liquid crystal display, a plasma display, and an organic electroluminescent element are widely used as various displays for, for example, a television and a personal computer.
As a large-sized display, a plasma display or a liquid crystal display which has been attracting attention generates an unnecessary electromagnetic wave from the display screen because of its structure and operating principle, and it is necessary to shield the electromagnetic wave.
For example, in a plasma display panel, a red (R) light emission formed on a light emitting cell is generated by ultraviolet rays generated in the light emitting cell by applying a high voltage to the light emitting cell in which xenon gas and neon gas are sealed to cause surface discharge. An image is displayed by exciting and emitting green (G) emission and blue (B) emission phosphors. Since neon gas is sealed in the light emitting cell, neon light having a center wavelength around 590 nm due to neon gas is also generated along with ultraviolet rays. If neon light is transmitted as it is, color purity and color reproducibility deteriorate.
As a method for improving such a point, for example, a display filter containing a tetraazaporphyrin compound has been proposed as a compound that selectively absorbs unnecessary neon light. For example, a filter having a wavelength of 570 to 605 nm is proposed. There has been proposed a display filter containing a tetraazaporphyrin compound having a specific substituent (for example, an alkyl group, an aryl group, a halogen atom, etc.) having an absorption maximum in the range (Patent Documents 1 to 3). There is also a proposal for a display filter comprising a tetraazaporphyrin compound having a halogenoalkoxy group as a substituent (Patent Document 4).

テトラアザポルフィリン化合物を、例えば、ディスプレイ用フィルタに適用する場合には、該化合物を高分子フィルムの中に含有させたり、高分子フィルムの片面または両面に塗布したりする方法が適用される。また、ディスプレイの大型化に伴い、ディスプレイ用フィルタも軽量薄型化が求められており、このような場合には、高分子フィルムを張り合わせる際に使用する粘着層の中に、テトラアザポルフィリン化合物を含有させて表示装置の前面ガラス等に直接貼り付けたりする方法が適用される。
このようなディスプレイ用フィルタの作製にあたっては、テトラアザポルフィリン化合物自体が、例えば、有機溶媒に対する良好な溶解度を備えるなどの特性が必要となる。また、粘着層の中にテトラアザポルフィリン化合物を含有させたディスプレイ用フィルタを実際のプラズマディスプレイに装着し長期間に渡って使用した際には、テトラアザポルフィリン化合物の劣化によりネオン光吸収機能が失われてしまうことでプラズマディスプレイの色調が悪化する問題点が指摘されていることから、耐久性(例えば、耐光性、耐湿熱性)も必要となる。このためディスプレイ用フィルタに使用する特定波長を選択的に吸収する化合物にも化合物自体の耐久性および粘着剤中においての耐久性が要望されている。
一般的に、テトラアザポルフィリン化合物は、モル吸光係数が大きく、半値幅も小さいという優れた吸収特性を有しているが、特許文献1〜4に記載されている特定構造の化合物は、所定の特性、例えば、有機溶媒に対する溶解性、耐久性(耐湿熱性)に関しては、一定の特性を有しているものの、さらなる耐久性(例えば、耐光性)の向上が求められている。
When the tetraazaporphyrin compound is applied to, for example, a display filter, a method in which the compound is contained in a polymer film or applied to one side or both sides of the polymer film is applied. In addition, as the size of displays increases, display filters are also required to be lighter and thinner. In such cases, a tetraazaporphyrin compound is added to the adhesive layer used when laminating polymer films. A method of adding and directly attaching to the front glass or the like of the display device is applied.
In producing such a display filter, the tetraazaporphyrin compound itself must have characteristics such as, for example, good solubility in an organic solvent. In addition, when a display filter containing a tetraazaporphyrin compound in the adhesive layer is mounted on an actual plasma display and used for a long period of time, the neon light absorption function is lost due to the deterioration of the tetraazaporphyrin compound. Since it has been pointed out that the color tone of the plasma display deteriorates due to breakage, durability (for example, light resistance and heat and humidity resistance) is also required. For this reason, the compound which selectively absorbs the specific wavelength used for the display filter is also required to have durability of the compound itself and durability in the pressure-sensitive adhesive.
In general, tetraazaporphyrin compounds have excellent absorption characteristics such as a large molar extinction coefficient and a small half width, but compounds having specific structures described in Patent Documents 1 to 4 With respect to characteristics such as solubility in organic solvents and durability (moisture and heat resistance), although there are certain characteristics, further improvement in durability (for example, light resistance) is required.

特開2002−251144号公報JP 2002-251144 A 特開2002−40233号公報JP 2002-40233 A 特開2000−275432号公報JP 2000-275432 A 特開2008−268331号公報JP 2008-268331 A

本発明の課題は、特定構造の置換基を有するテトラアザポルフィリン化合物を含有してなる優れた光学特性、および優れた耐久性(例えば、耐光性)を有するディスプレイ用フィルタを提供することである。   An object of the present invention is to provide a display filter having excellent optical properties and a superior durability (for example, light resistance) obtained by containing a tetraazaporphyrin compound having a substituent having a specific structure.

本発明者等は、種々のテトラアザポルフィリン化合物を含有してなるディスプレイ用フィルタに関し、鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
(i)基材中または基材表面に、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物を少なくとも1種含有してなるディスプレイ用フィルタ。
〔式中、Mは2個の水素原子、2価の金属原子、あるいは酸化金属原子を表し、X〜Xはそれぞれ独立に、直鎖または分岐のアルキル基、あるいは直鎖または分岐のアルコキシ基を表し、Y〜Yはそれぞれ独立に、炭素数3〜5の直鎖もしくは分岐のアルキル基、下記の式(1−a)、式(1−b)、式(1−c)、または式(1−d)で示される基を表す〕
〔式(1−a)中、Zはフッ素原子、あるいは塩素原子を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す〕
〔式(1−b)中、Zはフッ素原子、あるいは塩素原子を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。但し、RおよびRが同時に水素原子を表すことはない〕
〔式(1−c)中、Rは水素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す〕
〔式(1−d)中、R〜R10はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。但し、RおよびR10が同時に水素原子を表すことはない〕
(ii)前記テトラアザポルフィリン化合物が、透明粘着層に含有されていることを特徴とする(i)に記載のディスプレイ用フィルタ。
さらに、本発明は、
(iii)上記(i)〜(ii)のいずれかに記載のディスプレイ用フィルタを具備してなるディスプレイ装置に関するものである。
As a result of intensive studies on display filters containing various tetraazaporphyrin compounds, the present inventors have completed the present invention.
That is, the present invention
(I) A display filter comprising at least one tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) in a substrate or on the substrate surface.
[Wherein, M represents two hydrogen atoms, a divalent metal atom, or a metal oxide atom, and X 1 to X 4 each independently represent a linear or branched alkyl group, or a linear or branched alkoxy group. Y 1 to Y 4 each independently represents a linear or branched alkyl group having 3 to 5 carbon atoms, the following formula (1-a), formula (1-b), formula (1-c) Or a group represented by the formula (1-d)]
[In Formula (1-a), Z 1 represents a fluorine atom or a chlorine atom, and R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a straight chain or branched chain having 1 to 5 carbon atoms. Or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms]
[In Formula (1-b), Z 2 represents a fluorine atom or a chlorine atom, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a straight chain or branched chain having 1 to 5 carbon atoms. Or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. However, R 3 and R 4 do not represent a hydrogen atom at the same time.
[In the formula (1-c), R 5 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and R 6 and R 7 each independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.
[In Formula (1-d), R 8 to R 10 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Represents. However, R 9 and R 10 do not represent a hydrogen atom at the same time.
(Ii) The display-use filter according to (i), wherein the tetraazaporphyrin compound is contained in a transparent adhesive layer.
Furthermore, the present invention provides
(Iii) The present invention relates to a display device comprising the display filter according to any one of (i) to (ii) above.

本発明により、特定構造の置換基を有するテトラアザポルフィリン化合物を含有してなる優れた光学特性、および耐久性に優れた各種ディスプレイ(例えば、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ)用途のフィルタを提供することが可能となった。   According to the present invention, it is possible to provide a filter for use in various displays (for example, a liquid crystal display and a plasma display) having excellent optical characteristics and a durability having a tetraazaporphyrin compound having a substituent having a specific structure. It has become possible.

本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention. 本発明のディスプレイ用フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the filter for displays of this invention.

以下、本発明に関し詳細に説明する。
本発明は、基材中または基材表面にテトラアザポルフィリン化合物を少なくとも1種含有してなるディスプレイ用フィルタ、さらには、該フィルタを具備してなるディスプレイ装置に関するものである。
テトラアザポルフィリン類としては特に限定されないが、赤色発光波長である610〜630nmに吸収極大を持たないことがより望ましい。また基材との相溶性、成形性に優れ、光学特性(例えば、光に対する吸収特性)、および耐久性(例えば、耐光性)に優れたものがより望ましい。特に好ましい化合物としては、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物が挙げられる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The present invention relates to a display filter comprising at least one tetraazaporphyrin compound in a substrate or on the substrate surface, and further relates to a display device comprising the filter.
Although it does not specifically limit as tetraazaporphyrins, It is more desirable not to have an absorption maximum in 610-630 nm which is red light emission wavelength. Further, it is more preferable to have excellent compatibility with the base material and moldability, and excellent optical characteristics (for example, light absorption characteristics) and durability (for example, light resistance). A particularly preferred compound is a tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1).

〔式中、Mは2個の水素原子、2価の金属原子、あるいは酸化金属原子を表し、X〜Xはそれぞれ独立に、直鎖または分岐のアルキル基、あるいは直鎖または分岐のアルコキシ基を表し、Y〜Yはそれぞれ独立に、炭素数3〜5の直鎖または分岐のアルキル基、式(1−a)、式(1−b)、式(1−c)、あるいは式(1−d)で示される基を表す〕 [Wherein, M represents two hydrogen atoms, a divalent metal atom, or a metal oxide atom, and X 1 to X 4 each independently represent a linear or branched alkyl group, or a linear or branched alkoxy group. Y 1 to Y 4 each independently represents a linear or branched alkyl group having 3 to 5 carbon atoms, Formula (1-a), Formula (1-b), Formula (1-c), or Represents a group represented by the formula (1-d)]

〔式(1−a)中、Zはフッ素原子、あるいは塩素原子を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す〕 [In Formula (1-a), Z 1 represents a fluorine atom or a chlorine atom, and R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a straight chain or branched chain having 1 to 5 carbon atoms. Or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms]

〔式(1−b)中、Zはフッ素原子、あるいは塩素原子を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。但し、RおよびRが同時に水素原子を表すことはない〕 [In Formula (1-b), Z 2 represents a fluorine atom or a chlorine atom, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a straight chain or branched chain having 1 to 5 carbon atoms. Or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. However, R 3 and R 4 do not represent a hydrogen atom at the same time.

〔式(1−c)中、Rは水素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す〕 [In the formula (1-c), R 5 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and R 6 and R 7 each independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.

〔式(1−d)中、R〜R10はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。但し、RおよびR10が同時に水素原子を表すことはない〕 [In Formula (1-d), R 8 to R 10 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Represents. However, R 9 and R 10 do not represent a hydrogen atom at the same time.

一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物において、Mは、2個の水素原子、2価の金属原子、あるいは酸化金属原子を表し、好ましくは、2価の金属原子、あるいは酸化金属原子である。   In the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1), M represents two hydrogen atoms, a divalent metal atom, or a metal oxide atom, preferably a divalent metal atom or a metal oxide atom. It is.

Mの具体例としては、例えば、Cu、Zn、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Pt、Mn、Mg、Ti、Be、Ca、Ba、Cd、Hg、Pb、Snなどの2価の金属原子、例えば、VO、MnO、TiOなどの酸化金属原子を挙げることができる。   Specific examples of M include divalent metals such as Cu, Zn, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd, Pt, Mn, Mg, Ti, Be, Ca, Ba, Cd, Hg, Pb, and Sn. Metal oxide atoms such as VO, MnO, TiO and the like.

Mは、より好ましくは、Cu、Zn、Fe、Co、Ni、Pd、Mn、Mg、VO、TiOであり、さらに好ましくは、Cu、Ni、Pd、VOであり、特に好ましくは、Cu、VOである。   M is more preferably Cu, Zn, Fe, Co, Ni, Pd, Mn, Mg, VO, TiO, still more preferably Cu, Ni, Pd, VO, and particularly preferably Cu, VO. It is.

一般式(1)で表される化合物において、X1 〜Xはそれぞれ独立に、直鎖または分岐のアルキル基、あるいは直鎖または分岐のアルコキシ基を表し、好ましくは、炭素数1〜10の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜10の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。 In the compound represented by the general formula (1), X 1 to X 4 each independently represents a linear or branched alkyl group or a linear or branched alkoxy group, preferably having 1 to 10 carbon atoms. A linear or branched alkyl group or a linear or branched alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms is represented.

一般式(1)における、X1 〜Xの具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1,2−ジメチルプロピル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、4−メチル−2−ペンチル基、1,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、n−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、2,4−ジメチルペンチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、1−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル基、2−プロピルペンチル基、2,5−ジメチルヘキシル、2,5,5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、2,2−ジメチルヘプチル基、2,6−ジメチル−4−ヘプチル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、4−エチルオクチル基などの直鎖または分岐のアルキル基、 Specific examples of X 1 to X 4 in the general formula (1) include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl. Group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, n-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methyl Pentyl group, 4-methylpentyl group, 4-methyl-2-pentyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl Group, n-heptyl group, 1-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group, n-octyl group , Tert-octyl group, 1-methylheptyl group, 2-ethylhexyl group, 2-propylpentyl group, 2,5-dimethylhexyl, 2,5,5-trimethylhexyl group, n-nonyl group, 2,2-dimethyl Linear or branched alkyl groups such as heptyl, 2,6-dimethyl-4-heptyl, 3,5,5-trimethylhexyl, n-decyl, 4-ethyloctyl,

例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−ペントキシ基、ネオペントキシ基、n−ヘキシルオキシ基、3,3−ジメチルブチルオキシ基、2−エチルブチルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基などの直鎖または分岐のアルコキシ基を挙げることができる。   For example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, n-pentoxy group, neopentoxy group, n-hexyloxy group, 3,3-dimethylbutyl Examples include linear or branched alkoxy groups such as oxy group, 2-ethylbutyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, n-nonyloxy group, and n-decyloxy group. it can.

1 〜Xは、より好ましくは、炭素数1〜6の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜6の直鎖または分岐のアルコキシ基であり、さらに好ましくは、炭素数1〜4の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは、炭素数1〜4の直鎖または分岐のアルコキシ基である。
1 〜Xは、特に好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基、n−ブチル基、tert−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソブトキシ基である。
X 1 to X 4 are more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably 1 to C 1 carbon atoms. A linear or branched alkyl group having 4 or a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
X 1 to X 4 are particularly preferably a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a tert-butyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, or an isobutoxy group.

一般式(1)で表される化合物において、Y〜Yはそれぞれ独立に、炭素数3〜5の直鎖または分岐のアルキル基、下記の式(1−a)、式(1−b)、式(1−c)、あるいは式(1−d)で示される基を表す。 In the compound represented by the general formula (1), Y 1 to Y 4 are each independently a linear or branched alkyl group having 3 to 5 carbon atoms, the following formulas (1-a) and (1-b ), A group represented by formula (1-c) or formula (1-d).

〔式(1−a)中、Zはフッ素原子、あるいは塩素原子を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す〕 [In Formula (1-a), Z 1 represents a fluorine atom or a chlorine atom, and R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a straight chain or branched chain having 1 to 5 carbon atoms. Or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms]

〔式(1−b)中、Zはフッ素原子、あるいは塩素原子を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。但し、RおよびRが同時に水素原子を表すことはない〕 [In Formula (1-b), Z 2 represents a fluorine atom or a chlorine atom, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a straight chain or branched chain having 1 to 5 carbon atoms. Or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. However, R 3 and R 4 do not represent a hydrogen atom at the same time.

〔式(1−c)中、Rは水素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す〕 [In the formula (1-c), R 5 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and R 6 and R 7 each independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.

〔式(1−d)中、R〜R10はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。但し、RおよびR10が同時に水素原子を表すことはない〕 [In Formula (1-d), R 8 to R 10 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Represents. However, R 9 and R 10 do not represent a hydrogen atom at the same time.

一般式(1)において、Y1 〜Yはそれぞれ独立に、炭素数3〜5の直鎖または分岐のアルキル基を表し、具体例としては、例えば、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1,2−ジメチルプロピル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基などを挙げることができ、より好ましくは、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基であり、さらに好ましくは、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基である。 In the general formula (1), Y 1 to Y 4 each independently represent a linear or branched alkyl group having 3 to 5 carbon atoms, and specific examples thereof include, for example, an n-propyl group, an isopropyl group, and n- Butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, etc. More preferably, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl More preferably an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, A tert-butyl group.

一般式(1)において、Y1 〜Yはそれぞれ独立に、式(1−a)で表される基を表す。
式(1−a)中、Zはフッ素原子、あるいは塩素原子を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。
In General Formula (1), Y 1 to Y 4 each independently represent a group represented by Formula (1-a).
In formula (1-a), Z 1 represents a fluorine atom or a chlorine atom, and R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a straight or branched chain having 1 to 5 carbon atoms. An alkyl group or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms is represented.

およびRで表される炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1,2−ジメチルプロピル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基などを挙げることができる。 Specific examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms represented by R 1 and R 2 include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl. Group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group and the like. it can.

また、RおよびRで表される炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基の具体例としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−ペントキシ基、ネオペントキシ基などを挙げることができる。 Specific examples of the linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms represented by R 1 and R 2 include, for example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy Group, isobutoxy group, sec-butoxy group, n-pentoxy group, neopentoxy group and the like.

式(1−a)中、RおよびRは、より好ましくは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基であり、さらに好ましくは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基である。 In formula (1-a), R 1 and R 2 are more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec -Butoxy group, more preferably hydrogen atom, fluorine atom, chlorine atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group , A methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, and an isopropoxy group.

なお、式(1−a)で示される基の好ましい具体例としては、例えば、4−フルオロフェニル基、4−クロロフェニル基、3,4−ジフルオロフェニル基、3−クロロ−4−フルオロフェニル基、3−メチル−4−フルオロフェニル基、3,5−ジメチル−4−フルオロフェニル基、3−イソプロピル−4−フルオロフェニル基、3−tert−ペンチル−4−フルオロフェニル基、3−tert−ペンチル−4−クロロフェニル基、3−メトキシ−4−フルオロフェニル基、3,5−ジエトキシ−4−フルオロフェニル基、3−n−ペントキシ−4−フルオロフェニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Preferred examples of the group represented by the formula (1-a) include, for example, a 4-fluorophenyl group, a 4-chlorophenyl group, a 3,4-difluorophenyl group, a 3-chloro-4-fluorophenyl group, 3-methyl-4-fluorophenyl group, 3,5-dimethyl-4-fluorophenyl group, 3-isopropyl-4-fluorophenyl group, 3-tert-pentyl-4-fluorophenyl group, 3-tert-pentyl- Examples include 4-chlorophenyl group, 3-methoxy-4-fluorophenyl group, 3,5-diethoxy-4-fluorophenyl group, and 3-n-pentoxy-4-fluorophenyl group, but are not limited thereto. It is not something.

一般式(1)において、Y1 〜Yはそれぞれ独立に、式(1−b)で表される基を表す。
式(1−b)中、Zはフッ素原子、あるいは塩素原子を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。但し、RおよびRが同時に水素原子を表すことはない)。
In General Formula (1), Y 1 to Y 4 each independently represent a group represented by Formula (1-b).
In formula (1-b), Z 2 represents a fluorine atom or a chlorine atom, and R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a linear or branched group having 1 to 5 carbon atoms. An alkyl group or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms is represented. However, R 3 and R 4 do not represent a hydrogen atom at the same time).

およびRで表される炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基の具体例としては、式(1−a)中のRおよびRで例示したアルキル基、あるいはアルコキシ基を挙げることができる。 Specific examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or the linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms represented by R 3 and R 4 include those in the formula (1-a) The alkyl group illustrated by R < 1 > and R < 2 > of this, or an alkoxy group can be mentioned.

式(1−b)中、RおよびRは、より好ましくは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基であり、さらに好ましくは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、n−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基である。 In formula (1-b), R 3 and R 4 are more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, and an n-butoxy group, and more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, and an ethyl group. , N-butyl group, methoxy group and ethoxy group.

なお、式(1−b)で示される基の好ましい具体例としては、例えば、2−メチル−4−フルオロフェニル基、2−メチル−4−クロロフェニル基、2−クロロ−4−フルオロフェニル基、2,6−ジメチル−4−フルオロフェニル基、2−エチル−4−フルオロフェニル基、2−エチル−6−メチル−4−フルオロフェニル基、2,4−ジクロロフェニル基、2,4−ジフルオロフェニル基、2−イソプロピル−4−フルオロフェニル基、2−tert−ペンチル−4−フルオロフェニル基、2−メトキシ−4−フルオロフェニル基、2,6−ジエトキシ−4−フルオロフェニル基、2−n−ペントキシ−4−フルオロフェニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Preferred examples of the group represented by the formula (1-b) include, for example, a 2-methyl-4-fluorophenyl group, a 2-methyl-4-chlorophenyl group, a 2-chloro-4-fluorophenyl group, 2,6-dimethyl-4-fluorophenyl group, 2-ethyl-4-fluorophenyl group, 2-ethyl-6-methyl-4-fluorophenyl group, 2,4-dichlorophenyl group, 2,4-difluorophenyl group 2-isopropyl-4-fluorophenyl group, 2-tert-pentyl-4-fluorophenyl group, 2-methoxy-4-fluorophenyl group, 2,6-diethoxy-4-fluorophenyl group, 2-n-pentoxy Although a -4-fluorophenyl group etc. can be mentioned, it is not limited to these.

一般式(1)において、Y1 〜Yはそれぞれ独立に、式(1−c)で表される基を表す。
式(1−c)中、Rは水素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。
で表される炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基の具体例としては、式(1−a)中のRおよびRで例示したアルキル基、あるいはアルコキシ基を挙げることができる。
In General Formula (1), Y 1 to Y 4 each independently represent a group represented by Formula (1-c).
In formula (1-c), R 5 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.
Specific examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or the linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms represented by R 5 include R 1 in formula (1-a). And an alkyl group exemplified by R 2 or an alkoxy group.

式(1−c)中、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。
およびRで表される炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基の具体例としては、式(1−a)中のRおよびRで例示したアルキル基、あるいはアルコキシ基を挙げることができる。
In formula (1-c), R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear chain having 1 to 5 carbon atoms. Or represents a branched alkoxy group.
Specific examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or the linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms represented by R 6 and R 7 include those in the formula (1-a) The alkyl group illustrated by R < 1 > and R < 2 > of this, or an alkoxy group can be mentioned.

式(1−c)中、Rは、より好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基であり、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、n−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基である。 In formula (1-c), R 5 is more preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, or a tert-butyl group. , A methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, and an n-butoxy group, and more preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an n-butyl group, a methoxy group, and an ethoxy group.

式(1−c)中、RおよびRは、より好ましくは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基であり、さらに好ましくは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、n−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基である。 In formula (1-c), R 6 and R 7 are more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, and an n-butoxy group, and more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, and an ethyl group. , N-butyl group, methoxy group and ethoxy group.

なお、式(1−c)で示される基の好ましい具体例としては、例えば、フェニル基、3−フルオロフェニル基、3−クロロフェニル基、3−メチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、3−イソプロピルフェニル基、3−tert−ペンチルフェニル基、3−メトキシフェニル基、3,5−ジエトキシフェニル基、3−n−ペントキシフェニル基、3,5−ジフルオロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、3−メチル−5−フルオロフェニル基、3−メチル−5−クロロフェニル基、3,4−ジメチル−5−フルオロフェニル基、3−イソプロピル−5−フルオロフェニル基、3−tert−ペンチル−5−フルオロフェニル基、3−メトキシ−5−フルオロフェニル基、3,4−ジエトキシ−5−フルオロフェニル基、3−n−ペントキシ−5−フルオロフェニル基、4−メチルフェニル基、3−フルオロ−4−メチルフェニル基、3,4−ジメチルフェニル基、3,4,5−トリメチルフェニル基、3−イソプロピル−4−メチルフェニル基、3−tert−ペンチル−4−エチルフェニル基、3−メトキシ−4−メチルフェニル基、3,5−ジエトキシ−4−n−ペンチルフェニル基、3−n−ペントキシ−4−メチルフェニル基、4−メトキシフェニル基、3−フルオロ−4−メトキシフェニル基、3,4−ジメトキシフェニル基、3,5,−ジメチル−4−メトキシフェニル基、3−イソプロピル4−メトキシフェニル基、3−tert−ペンチル−4−エトキシフェニル基、3,5−ジエトキシ−4−n−ペントキシフェニル基、3−n−ペントキシ−4−メトキシフェニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Preferred examples of the group represented by the formula (1-c) include, for example, a phenyl group, a 3-fluorophenyl group, a 3-chlorophenyl group, a 3-methylphenyl group, a 3,5-dimethylphenyl group, 3 -Isopropylphenyl group, 3-tert-pentylphenyl group, 3-methoxyphenyl group, 3,5-diethoxyphenyl group, 3-n-pentoxyphenyl group, 3,5-difluorophenyl group, 3,5-dichlorophenyl Group, 3-methyl-5-fluorophenyl group, 3-methyl-5-chlorophenyl group, 3,4-dimethyl-5-fluorophenyl group, 3-isopropyl-5-fluorophenyl group, 3-tert-pentyl-5 -Fluorophenyl group, 3-methoxy-5-fluorophenyl group, 3,4-diethoxy-5-fluorophenyl group, 3-n Pentoxy-5-fluorophenyl group, 4-methylphenyl group, 3-fluoro-4-methylphenyl group, 3,4-dimethylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 3-isopropyl-4-methylphenyl group Group, 3-tert-pentyl-4-ethylphenyl group, 3-methoxy-4-methylphenyl group, 3,5-diethoxy-4-n-pentylphenyl group, 3-n-pentoxy-4-methylphenyl group, 4-methoxyphenyl group, 3-fluoro-4-methoxyphenyl group, 3,4-dimethoxyphenyl group, 3,5,5-dimethyl-4-methoxyphenyl group, 3-isopropyl 4-methoxyphenyl group, 3-tert- Pentyl-4-ethoxyphenyl group, 3,5-diethoxy-4-n-pentoxyphenyl group, 3-n-pentoxy-4 And the like can be mentioned methoxyphenyl group, but is not limited thereto.

一般式(1)において、Y1 〜Yはそれぞれ独立に、式(1−d)で表される基を表す。
式(1−d)中、R〜R10は水素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。但し、RおよびR10が同時に水素原子を表すことはない。
In General Formula (1), Y 1 to Y 4 each independently represent a group represented by Formula (1-d).
In formula (1-d), R 8 to R 10 represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. However, R 9 and R 10 do not represent a hydrogen atom at the same time.

〜R10で表される炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基の具体例としては、式(1−a)中のRおよびRで例示したアルキル基、あるいはアルコキシ基を挙げることができる。 Specific examples of the linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or the linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms represented by R 8 to R 10 include those in the formula (1-a) The alkyl group illustrated by R < 1 > and R < 2 > of this, or an alkoxy group can be mentioned.

式(1−d)中、R〜R10は、より好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基であり、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、n−ブチル基、メトキシ基、エトキシ基である。 In formula (1-d), R 8 to R 10 are more preferably a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert. -Butyl group, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, more preferably hydrogen atom, methyl group, ethyl group, n-butyl group, methoxy group, ethoxy group is there.

なお、なお、式(1−d)で示される基の好ましい具体例としては、例えば、2−メチルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、2−エチルフェニル基、2−エチル−6−メチルフェニル基、2−イソプロピルフェニル基、2−tert−ペンチルフェニル基、2−メトキシフェニル基、2,6−ジエトキシフェニル基、2−n−ペントキシフェニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,4,6−トリメチルフェニル基、2−エチル−4−メチルフェニル基、2−エチル−6−メチル−4−エチルフェニル基、2−イソプロピル−4−n−プロピルフェニル基、2−tert−ペンチル−4−メチルフェニル基、2−メトキシ−4−エチルフェニル基、2,6−ジエトキシ−4−メチルフェニル基、2−n−ペントキシ−4−tert−ブチルフェニル基、2−メチル−4−メトキシフェニル基、2,6−ジメチル−4−メトキシフェニル基、2−エチル−4−エトキシフェニル基、2−エチル−6−メチル−4−メトキシフェニル基、2−イソプロピル−4−エトキシフェニル基、2−tert−ペンチル−4−n−ペントキシフェニル基、2,4−ジメトキシフェニル基、2,6−ジエトキシ−4−メトキシフェニル基、2−n−ペントキシ−4−n−ブトキシフェニル基などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   In addition, preferable specific examples of the group represented by the formula (1-d) include, for example, 2-methylphenyl group, 2,6-dimethylphenyl group, 2-ethylphenyl group, 2-ethyl-6-methyl. Phenyl group, 2-isopropylphenyl group, 2-tert-pentylphenyl group, 2-methoxyphenyl group, 2,6-diethoxyphenyl group, 2-n-pentoxyphenyl group, 2,4-dimethylphenyl group, 2 , 4,6-trimethylphenyl group, 2-ethyl-4-methylphenyl group, 2-ethyl-6-methyl-4-ethylphenyl group, 2-isopropyl-4-n-propylphenyl group, 2-tert-pentyl -4-methylphenyl group, 2-methoxy-4-ethylphenyl group, 2,6-diethoxy-4-methylphenyl group, 2-n-pentoxy-4-tert Butylphenyl group, 2-methyl-4-methoxyphenyl group, 2,6-dimethyl-4-methoxyphenyl group, 2-ethyl-4-ethoxyphenyl group, 2-ethyl-6-methyl-4-methoxyphenyl group, 2-isopropyl-4-ethoxyphenyl group, 2-tert-pentyl-4-n-pentoxyphenyl group, 2,4-dimethoxyphenyl group, 2,6-diethoxy-4-methoxyphenyl group, 2-n-pentoxy Examples thereof include, but are not limited to, a -4-n-butoxyphenyl group.

一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物は、Y〜Yの種類に応じて、好ましくは、以下の一般式(1−0)〜一般式(1−4)で表される化合物に分類することができる。
〔式(1−0)中、X〜XおよびMは一般式(1)の場合と同じ意味を表し、Rは炭素数3〜5の直鎖または分岐のアルキル基を表す。〕
The tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) is preferably represented by the following general formula (1-0) to general formula (1-4) according to the types of Y 1 to Y 4. It can be classified into compounds.
[In the formula (1-0), X 1 to X 4 and M represent the same meaning as in the general formula (1), and R 0 represents a linear or branched alkyl group having 3 to 5 carbon atoms. ]


〔式(1−1)中、X〜XおよびMは一般式(1)の場合と同じ意味を表し、Z、RおよびRは式(1−a)の場合と同じ意味を表す。〕

[In the formula (1-1), X 1 to X 4 and M represent the same meaning as in the general formula (1), and Z 1 , R 1 and R 2 have the same meaning as in the formula (1-a). Represents. ]

〔式(1−2)中、X〜XおよびMは一般式(1)の場合と同じ意味を表し、Z、RおよびRは式(1−b)の場合と同じ意味を表す。〕 [In the formula (1-2), X 1 to X 4 and M represent the same meaning as in the general formula (1), and Z 2 , R 3 and R 4 have the same meaning as in the formula (1-b). Represents. ]

〔式(1−3)中、X〜XおよびMは一般式(1)の場合と同じ意味を表し、R〜Rは式(1−c)の場合と同じ意味を表す〕 [In Formula (1-3), X 1 to X 4 and M represent the same meaning as in Formula (1), and R 5 to R 7 represent the same meaning as in Formula (1-c)]

〔式(1−4)中、X〜XおよびMは一般式(1)の場合と同じ意味を表し、R〜R10は式(1−d)の場合と同じ意味を表す〕 [In formula (1-4), X 1 to X 4 and M represent the same meaning as in formula (1), and R 8 to R 10 represent the same meaning as in formula (1-d).]

一般式(1)で示されるテトラアザポルフィリン化合物の具体例を次の表−A(表−A−1〜表−A−7)に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。



Specific examples of the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) are shown in the following Table-A (Table-A-1 to Table-A-7), but the present invention is not limited thereto.








































<テトラアザポルフィリン化合物の製造方法>
一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物は、それ自体公知の方法を参考にして製造することができる。
すなわち、一般式(1)で表される化合物は、例えば、一般式(2)〜一般式(5)で表される化合物と、金属あるいは金属塩(例えば、ハロゲン化金属、カルボン酸金属)とを、所望により塩基(例えば、モリブデン酸アンモニウム、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン、トリアルキルアミン、アンモニア)の存在下で反応させることにより製造することができる〔例えば、米国特許2850505号、英国特許689387号、J.Gen.Chem.USSR,47,1954(1977)、特開平11−43619号公報、特開2006−321925号公報に記載の方法に従って製造することができる〕。
<Method for producing tetraazaporphyrin compound>
The tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) can be produced with reference to a method known per se.
That is, the compound represented by the general formula (1) includes, for example, a compound represented by the general formula (2) to the general formula (5), a metal or a metal salt (for example, a metal halide or a metal carboxylate). Optionally with a base (eg, ammonium molybdate, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonene, trialkylamine, (For example, U.S. Pat. No. 2,850,505, British Patent No. 689387, J. MoI.). Gen. Chem. USSR, 47, 1954 (1977), Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-43619, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-321925].

〔式中、X〜XおよびY〜Yは一般式(1)の場合と同じ意味を表す〕 [Wherein, X 1 to X 4 and Y 1 to Y 4 represent the same meaning as in the general formula (1)]

なお、一般式(2)〜一般式(5)で表される化合物は、それ自体公知の方法を参考にして製造することができる。
一例として挙げると、例えば、一般式(2)で表される化合物は、例えば、一般式(6)で表される化合物と一般式(7)で表される化合物、あるいは一般式(8)で表される化合物と一般式(9)で表される化合物を、酸性触媒(例えば、酢酸、四塩化チタン、塩化亜鉛、三フッ化ホウ素)および塩基性触媒(例えば、ピリジン、ピペリジン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルフォリン、トリエチルアミン、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム)の存在下で、反応させることにより製造することができる〔例えば、特開平11−43619号公報に記載の方法に従って製造することができる〕。
In addition, the compound represented by General formula (2)-General formula (5) can be manufactured with reference to a method known per se.
As an example, for example, the compound represented by the general formula (2) is, for example, a compound represented by the general formula (6) and a compound represented by the general formula (7), or the general formula (8). A compound represented by formula (9) and an acidic catalyst (for example, acetic acid, titanium tetrachloride, zinc chloride, boron trifluoride) and a basic catalyst (for example, pyridine, piperidine, N-methyl) It can be produced by reacting in the presence of piperidine, N-methylmorpholine, triethylamine, sodium acetate, potassium acetate, ammonium acetate, sodium carbonate, potassium carbonate) [for example, in JP-A-11-43619 Can be produced according to the methods described].

〔式中、XおよびYは一般式(1)の場合と同じ意味を表す〕
また、一般式(2)で表される化合物は、例えば、一般式(10)で表される化合物とオキシ塩化リンを作用させて製造することができる〔例えば、J.Chem.Soc.,4839(1952)に記載の方法に従って製造することができる〕。
[Wherein, X 1 and Y 1 represent the same meaning as in the general formula (1)]
The compound represented by the general formula (2) can be produced, for example, by reacting the compound represented by the general formula (10) with phosphorus oxychloride [see, for example, J. Org. Chem. Soc. , 4839 (1952)].

〔式中、XおよびYは一般式(1)の場合と同じ意味を表す〕
さらに、一般式(2)で表される化合物は、例えば、一般式(11)で表される化合物とシアン化銅を作用させて製造することができる〔例えば、J.Gen.Chem.USSR,47、1954(1977)に記載の方法に従って製造することができる〕。
[Wherein, X 1 and Y 1 represent the same meaning as in the general formula (1)]
Furthermore, the compound represented by the general formula (2) can be produced, for example, by reacting the compound represented by the general formula (11) with copper cyanide [for example, J. Org. Gen. Chem. USSR, 47, 1954 (1977)].

〔式中、XおよびYは一般式(1)の場合と同じ意味を表す〕
一般式(2)〜一般式(5)で表される化合物と、例えば、金属あるいは金属塩を反応させて、一般式(1)で表される化合物を製造すると、一般には、環化の際に複数の異性体が生成する。
本明細書においては、一般式(1)で表される化合物とは、実際には、一般式(1−A)〜一般式(1−D)で表される化合物から選ばれる1種の化合物、または2種以上の異性体から成る混合物を表している〔例えば、Chemistry of Heterocyclic Compounds、24、1043(1988)、特開平11−43619号公報〕。
このような複数の異性体から成る混合物の構造の記載に際しても、本明細書においては、便宜上、例えば、一般式(1−A)で表される一つの構造式を記載しているものである。
[Wherein, X 1 and Y 1 represent the same meaning as in the general formula (1)]
When a compound represented by the general formula (1) is produced by reacting the compound represented by the general formula (2) to the general formula (5) with, for example, a metal or a metal salt, A plurality of isomers are formed.
In the present specification, the compound represented by the general formula (1) is actually one compound selected from the compounds represented by the general formula (1-A) to the general formula (1-D). Or a mixture composed of two or more isomers [for example, Chemistry of Heterocyclic Compounds, 24, 1043 (1988), JP-A-11-43619].
In describing the structure of such a mixture of a plurality of isomers, for the sake of convenience, in this specification, for example, one structural formula represented by the general formula (1-A) is described. .

〔式中、X〜X、Y〜YおよびMは一般式(1)の場合と同じ意味を表す〕
具体例として、例えば、例示化合物番号(P−2)の化合物として記載した構造の化合物は、式(P−2−A)〜式(P−2−D)で表される化合物から選ばれる1種の化合物、または2種以上の異性体から成る混合物を表すものである。
[Wherein, X 1 to X 4 , Y 1 to Y 4 and M represent the same meaning as in the general formula (1)]
As a specific example, for example, the compound having the structure described as the compound of exemplary compound number (P-2) is selected from compounds represented by formula (P-2-A) to formula (P-2-D) 1 It represents a compound of a kind or a mixture of two or more isomers.

一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物とは、結晶は勿論であるが、無定型(アモルファス体)をも包含するものであり、好ましくは、550〜620nmに吸収極大を有する化合物、より好ましくは、570〜605nmに吸収極大を有する化合物が、本発明のディスプレイ用フィルタに好適に使用することができる。
なお、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物は、複数の異性体から成る混合物として1種を単独で使用してもよく、または複数の種類を併用してもよい。
また、所望により、該混合物から各異性体を分離し、異性体の内の1種の化合物を単独で使用することができ、さらには、任意の割合から成る複数の異性体を使用することができる。
The tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) includes not only crystals but also amorphous (amorphous), preferably a compound having an absorption maximum at 550 to 620 nm, More preferably, a compound having an absorption maximum at 570 to 605 nm can be suitably used for the display filter of the present invention.
In addition, the tetraazaporphyrin compound represented by General formula (1) may be used individually by 1 type as a mixture which consists of several isomers, or may use several types together.
Further, if desired, each isomer can be separated from the mixture, and one of the isomers can be used alone, or a plurality of isomers having an arbitrary ratio can be used. it can.

<ディスプレイ用フィルタ>
本発明のディスプレイ用フィルタは、基材中または基材表面に、特定構造の置換基を有する一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物を少なくとも1種含有することを特徴とする。本発明でいう基材とは、本発明のディスプレイフィルタを構成する各種部材または膜などから成る各層を意味する。
基材としては、特に限定するものではないが、一般には、機能性透明層(A)、基体(B)および透明粘着層(C)が挙げられ、機能性透明層(A)、基体(B)および透明粘着層(C)を構成する少なくとも1つの層、あるいは部材に、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物を少なくとも含有してなる。なお、本明細書において、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物のディスプレイ用フィルタへの含有とは、各種部材または膜などから成る各層の内部に含有されることは勿論、部材または各層の表面に、塗布された状態を包含するものである。
<Filter for display>
The display filter of the present invention is characterized in that it contains at least one tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) having a substituent having a specific structure in the substrate or on the substrate surface. The base material as used in the field of this invention means each layer which consists of various members or a film | membrane which comprises the display filter of this invention.
Although it does not specifically limit as a base material, Generally, a functional transparent layer (A), a base | substrate (B), and a transparent adhesion layer (C) are mentioned, A functional transparent layer (A), a base | substrate (B) And at least one layer or member constituting the transparent adhesive layer (C) contains at least the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1). In the present specification, the inclusion of the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) in the display filter is, of course, contained in each layer composed of various members or films. It includes the state of being applied to the surface of each layer.

一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物を、ディスプレイ用フィルタに含有させる方法としては、特に制限はないが、例えば、以下の(ア)〜(ウ)の方法がある。
(ア)透明粘着剤に添加して、透明粘着層(C)に含有させる方法
(イ)高分子成形体へ含有させる方法、
(ウ)高分子成形体またはガラス表面にコーティングする方法、
等が挙げられる。
なお、本発明のディスプレイ用フィルタの実施形態としては、特に制限はないが、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物と樹脂を含有させることが好ましい。樹脂は、粘着剤やバインダーとして使用されるものであってもよく、樹脂モノマーに本発明に係るテトラアザポルフィリン化合物を含有させた後、重合させたものであってもよい。
Although there is no restriction | limiting in particular as a method to contain the tetraaza porphyrin compound represented by General formula (1) in the filter for a display, For example, there exists the method of the following (a)-(c).
(A) A method of adding to a transparent adhesive and causing it to be contained in a transparent adhesive layer (C)
(C) a method of coating a polymer molded body or glass surface;
Etc.
In addition, although there is no restriction | limiting in particular as embodiment of the filter for displays of this invention, It is preferable to contain the tetraaza porphyrin compound and resin represented by General formula (1). The resin may be used as a pressure-sensitive adhesive or a binder, or may be polymerized after the resin monomer contains the tetraazaporphyrin compound according to the present invention.

上記(ア)の方法において、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物の含有量は、特に限定するものではないが、一般に、透明粘着剤に対して、10ppm〜30質量%、好ましくは、10ppm〜20質量%である。透明粘着剤の具体的な例としては、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール粘着剤(PVB)、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤(EVA)等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状または液状の粘着剤等を挙げることができ、この中でもアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤が好ましい。   In the method (a), the content of the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) is not particularly limited, but is generally 10 ppm to 30% by mass, preferably based on the transparent adhesive. Is from 10 ppm to 20 mass%. Specific examples of the transparent adhesive include acrylic adhesive, silicone adhesive, urethane adhesive, polyvinyl butyral adhesive (PVB), ethylene-vinyl acetate adhesive (EVA), polyvinyl ether, saturated A sheet-like or liquid pressure-sensitive adhesive such as amorphous polyester and melamine resin can be mentioned, among which an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, and a polyvinyl butyral-based pressure-sensitive adhesive are preferable.

上記(イ)の方法において、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物の含有量は、特に限定するものではないが、一般に、高分子樹脂または樹脂モノマーに対して、10ppm〜30質量%、好ましくは、10ppm〜20質量%である。   In the method (a), the content of the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) is not particularly limited, but is generally 10 ppm to 30 mass with respect to the polymer resin or resin monomer. %, Preferably 10 ppm to 20% by mass.

(イ)における高分子成形体の具体的な例としては、板またはフィルム状に作製した際に、できるだけ透明性の高いものが好ましく、具体的にはポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエーテルスルフォン(PES)、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン6等のポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロース等のセルロース樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニル等のビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン等のビニリデン化合物、フッ化ビニリデン/トリフルオロエチレン共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物またはフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシド等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等を挙げることができる。
加工条件としては、本発明に係るテトラアザポルフィリン化合物をベース高分子の粉体或いはペレットに添加、混合し、150〜350℃に加熱、溶解させた後、成形して板を作製する方法、押し出し機でフィルム化する方法、押し出し機で原反を作製し、30〜120℃で2〜5倍に1軸〜2軸に延伸して、10〜200μm厚のフィルムにする方法が挙げられる。なお、混錬する際に可塑性等の通常の樹脂成形に用いる添加剤を加えてもよい。
また、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物を、樹脂または樹脂モノマーの有機溶剤溶液もしくは有機溶剤に添加・溶解させ、必要であれば可塑剤、重合開始剤、酸化防止剤を加え、必要とする面状態を有する金型やドラム上へ流し込み、溶剤揮発・乾燥または重合・溶剤揮発・乾燥させる方法等が挙げられる。
使用される樹脂としては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂(PVA、EVA等)或いはそれらの共重合樹脂の樹脂モノマーが挙げられる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、或いはそれらの混合物系等を挙げることができる。
Specific examples of the polymer molded body in (a) are preferably as highly transparent as possible when produced in the form of a plate or film. Specifically, polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES) ), Polyethylene naphthalate, Polyarylate, Polyetherketone, Polycarbonate, Polyethylene, Polypropylene, Nylon 6 and other polyamides, Polyimide, Triacetylcellulose and other cellulose resins, Polyurethane, Polytetrafluoroethylene and other fluororesins, Polyvinyl chloride Vinyl compounds such as polyacrylic acid, polyacrylic acid esters, polyacrylonitrile, addition polymers of vinyl compounds, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid esters, polyvinylidene chloride and other vinylidene compounds, vinylidene fluoride / t Fluoroethylene copolymer, copolymers of ethylene / vinyl compound-vinyl acetate copolymer, or a fluorine-based compound, polyether such as polyethylene oxide, epoxy resins, polyvinyl alcohol, and polyvinyl butyral.
As processing conditions, the tetraazaporphyrin compound according to the present invention is added to a base polymer powder or pellet, mixed, heated and dissolved at 150 to 350 ° C., and then molded to produce a plate, extrusion Examples thereof include a method of forming a film with a machine and a method of preparing a raw material with an extruder and stretching the film from 1 to 2 axes at 30 to 120 ° C. 2 to 5 times to form a film having a thickness of 10 to 200 μm. In addition, when kneading, an additive used for ordinary resin molding such as plasticity may be added.
Further, the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) is added and dissolved in an organic solvent solution or an organic solvent of a resin or a resin monomer, and if necessary, a plasticizer, a polymerization initiator and an antioxidant are added. And a method of pouring onto a mold or drum having a required surface state and volatilizing / drying the solvent or volatilizing / drying the polymerization / solvent.
Examples of resins used include aliphatic ester resins, acrylic resins, melamine resins, urethane resins, aromatic ester resins, polycarbonate resins, aliphatic polyolefin resins, aromatic polyolefin resins, polyvinyl resins, polyvinyl alcohol resins, Examples thereof include polyvinyl modified resins (PVA, EVA, etc.) or resin monomers of those copolymer resins. Examples of the solvent include halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvents, and mixtures thereof.

上記(ウ)の方法においては、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物の含有量は、特に限定するものではないが、一般に、バインダー樹脂に対して、10ppm〜30質量%、好ましくは、10ppm〜20質量%である。また、バインダー樹脂濃度は、塗料全体に対して、一般に、1〜50質量%である。   In the method (c), the content of the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) is not particularly limited, but is generally 10 ppm to 30% by mass with respect to the binder resin, preferably Is from 10 ppm to 20 mass%. Moreover, generally binder resin density | concentration is 1-50 mass% with respect to the whole coating material.

(ウ)の方法としては、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させた後に塗料化する方法などがあり、バインダーとしては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂(PVB、EVA等)或いはそれらの共重合樹脂等が挙げられる。溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、或いはそれらの混合物系等が挙げられる。なお、上記の方法で作製した塗料は、高分子成形体またはガラス表面上にバーコーダー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、或いはスプレー等のコーティング法等の公知の方法で薄膜を形成することにより、塗工することができる。
なお、本発明のディスプレイ用フィルタの実施態様としては、特に制限はないが、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物を透明粘着層(C)に含有させる(ア)の方法が、接着性と所望のディスプレイ用フィルタ機能を共存することから好ましい。
Examples of the method (c) include a method in which the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) is dissolved in a binder resin and an organic solvent and then formed into a paint, and the binder is an aliphatic ester resin. Acrylic resin, melamine resin, urethane resin, aromatic ester resin, polycarbonate resin, aliphatic polyolefin resin, aromatic polyolefin resin, polyvinyl resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl modified resin (PVB, EVA, etc.) or Examples thereof include copolymer resins thereof. Examples of the solvent include halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvents, and mixtures thereof. The paint produced by the above method forms a thin film on the polymer molded body or glass surface by a known method such as a bar coder, blade coater, spin coater, reverse coater, die coater, or spray coating method. By doing so, it can be applied.
The embodiment of the display filter of the present invention is not particularly limited, but the method (a) in which the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) is contained in the transparent adhesive layer (C), It is preferable because adhesiveness and a desired display filter function coexist.

本発明のディスプレイ用フィルタには、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物以外に、本発明の所望の効果を損なわない範囲で、光吸収化合物を1種以上併用することができる。係る光吸収化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、可視光域に所望の吸収を有する化合物を挙げることができ、例えば、アントラキノン化合物、フタロシアニン化合物、メチン化合物、アゾメチン化合物、オキサジン化合物、アゾ化合物、スチリル化合物、クマリン化合物、ポルフィリン化合物、ジベンゾフラノン化合物、ジケトピロロピロール化合物、ローダミン化合物、キサンテン化合物、ピロメテン化合物などを挙げることができる。また、本発明のディスプレイ用フィルタが、近赤外線カットフィルタの形態の場合には、さらに近赤外線吸収化合物が1種類以上含有されていてもよい。
なお、近赤外線吸収化合物としては、好ましくは、800〜1100nm程度に吸収極大を有する化合物である。係る近赤外線吸収化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、フタロシアニン化合物(例えば、金属フタロシアニン錯体)、ナフタロシアニン化合物(例えば、金属ナフタロシアニン錯体)、アントラキノン化合物、ジチオール化合物(例えば、ニッケルジチオール錯体)、ジイモニウム塩化合物などを挙げることができる。これら光吸収化合物、近赤外線吸収化合物の濃度は、該化合物の吸収波長、吸光係数、さらには、所望のディスプレイ用フィルタの光学特性(例えば、色純度、透過特性)を考慮し任意に設定することができる。
In the display filter of the present invention, in addition to the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1), one or more light absorbing compounds can be used in combination as long as the desired effects of the present invention are not impaired. Examples of such a light absorbing compound include, but are not limited to, compounds having desired absorption in the visible light region, such as anthraquinone compounds, phthalocyanine compounds, methine compounds, azomethine compounds, oxazine compounds, Examples include azo compounds, styryl compounds, coumarin compounds, porphyrin compounds, dibenzofuranone compounds, diketopyrrolopyrrole compounds, rhodamine compounds, xanthene compounds, and pyromethene compounds. When the display filter of the present invention is in the form of a near infrared cut filter, one or more near infrared absorbing compounds may be further contained.
In addition, as a near-infrared absorption compound, Preferably, it is a compound which has an absorption maximum in about 800-1100 nm. The near-infrared absorbing compound is not particularly limited. For example, phthalocyanine compounds (for example, metal phthalocyanine complexes), naphthalocyanine compounds (for example, metal naphthalocyanine complexes), anthraquinone compounds, dithiol compounds (for example, nickel dithiol) Complex) and diimonium salt compounds. The concentration of these light-absorbing compounds and near-infrared-absorbing compounds should be set arbitrarily in consideration of the absorption wavelength and extinction coefficient of the compound, and the desired optical characteristics (for example, color purity and transmission characteristics) of the display filter. Can do.

本発明のディスプレイ用フィルタは、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機電界発光ディスプレイ、FED(Field Emission Display)、CRT(Cathode Ray
Tube)などの各種ディスプレイ用に適用可能なフィルタであり、各種ディスプレイに装着して使用される。なお、液晶ディスプレイにおいては、例えば、透過型、反射型などの各種態様に適用可能である。
The display filter of the present invention includes a plasma display, a liquid crystal display, an organic electroluminescence display, an FED (Field Emission Display), a CRT (Cathode Ray).
This is a filter applicable to various displays such as Tube) and is used by being mounted on various displays. In addition, in a liquid crystal display, it can apply to various aspects, such as a transmission type and a reflection type, for example.

本発明のディスプレイ用フィルタは、プラズマディスプレイの輝度、視認性を著しく損なうことなく、優れた透過特性などを有し、プラズマディスプレイの光学特性(例えば、色純度およびコントラスト)を向上させることができる。また、液晶ディスプレイの光学特性(例えば、色純度)を向上させることができる。さらに、本発明のディスプレイ用フィルタは、ディスプレイ画面の可視光スペクトルを補正する調光フィルム、面抵抗0.01〜30Ω/□の透明導電層(D)を備えることによって、ディスプレイ画面からの電磁波を遮断する特性を有する電磁波シールド体、さらに、波長800〜1100nm程度に吸収極大を有する近赤外線吸収化合物を含有することによって、ディスプレイ画面からの近赤外線を遮断する特性を有する近赤外線カットフィルタ等としても機能することができる。   The display filter of the present invention has excellent transmission characteristics and the like without significantly impairing the brightness and visibility of the plasma display, and can improve the optical characteristics (for example, color purity and contrast) of the plasma display. In addition, the optical characteristics (for example, color purity) of the liquid crystal display can be improved. Furthermore, the display filter of the present invention includes a light control film that corrects the visible light spectrum of the display screen, and a transparent conductive layer (D) having a surface resistance of 0.01 to 30Ω / □, thereby preventing electromagnetic waves from the display screen. An electromagnetic shielding body having the property of blocking, and a near-infrared cut filter having the property of blocking near-infrared rays from the display screen by containing a near-infrared absorbing compound having an absorption maximum at a wavelength of about 800 to 1100 nm Can function.

<ディスプレイ用フィルタの構成要素>
例えば、プラズマディスプレイに、本発明のディスプレイ用フィルタを適用する場合、一般には、外気側に設けられた機能性透明層(A)と、ディスプレイ側に設けられ、画面に接着するための透明粘着層(C)と、機能性透明層(A)と透明粘着層(C)との間に基体(B)を備えている。また、プラズマディスプレイから発生する電磁波を遮蔽する目的で、フィルタには、さらに、透明導電層(D)が設けられていてもよい。この場合、透明導電層(D)は、機能性透明層(A)と基体(B)との間に設けられる。また、透明導電層(D)は、基体(B)と透明粘着層(C)との間に設けられていてもよい。
勿論、所望の要求特性を考慮し、その他種々の構成とすることができる。例えば、ハードコート層(E)、さらなる透明粘着層(C)を設けることができる。また、複数の機能性透明層(A)を設けてなるフィルタとすることもできる。なお、これらの層にも一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物が含有されていてもよい。
<Components of display filter>
For example, when the display filter of the present invention is applied to a plasma display, in general, a functional transparent layer (A) provided on the outside air side and a transparent adhesive layer provided on the display side and adhered to the screen A substrate (B) is provided between (C) and the functional transparent layer (A) and the transparent adhesive layer (C). Further, for the purpose of shielding electromagnetic waves generated from the plasma display, the filter may further be provided with a transparent conductive layer (D). In this case, the transparent conductive layer (D) is provided between the functional transparent layer (A) and the substrate (B). The transparent conductive layer (D) may be provided between the substrate (B) and the transparent adhesive layer (C).
Of course, various other configurations can be made in consideration of desired required characteristics. For example, a hard coat layer (E) and a further transparent adhesive layer (C) can be provided. Moreover, it can also be set as the filter which provides a some functional transparent layer (A). These layers may also contain a tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1).

例えば、液晶ディスプレイに、本発明のディスプレイ用フィルタを適用する場合、一般には、基体(B)から成るフィルタ、透明粘着層(C)から成るフィルタ、基体(B)と透明粘着層(C)から成るフィルタ、および基体(B)と機能性透明層(A)から成るフィルタなどがあり、液晶ディスプレイ内の光源から視認部最表面に至る任意の経路中に設けられる。例えば、透過型の液晶ディスプレイの場合、フィルタは、液晶ディスプレイ画面上は勿論であるが、例えば、導光板、バックライト、偏光板、カラーフィルタなどに、例えば、透明粘着層(C)を介して設けることができる。   For example, when the display filter of the present invention is applied to a liquid crystal display, generally, a filter comprising a substrate (B), a filter comprising a transparent adhesive layer (C), a substrate (B) and a transparent adhesive layer (C). And a filter composed of a base (B) and a functional transparent layer (A), etc., and is provided in an arbitrary path from the light source in the liquid crystal display to the outermost surface of the visual recognition part. For example, in the case of a transmissive liquid crystal display, the filter is of course on the liquid crystal display screen. For example, a light guide plate, a backlight, a polarizing plate, a color filter, etc. are provided via a transparent adhesive layer (C), for example. Can be provided.

以下、本発明のディスプレイ用フィルタの構成要素について説明する。
<機能性透明層(A)>
本発明のディスプレイ用フィルタには、ディスプレイに対する設置方法や要求される機能に応じて、反射防止機能、防眩機能、反射防止防眩機能、ハードコート機能(耐摩擦機能)、帯電防止機能、防汚機能、ガスバリア機能、紫外線カット機能のいずれか一つ以上の機能を有し、且つ、可視光線を透過する機能性透明層(A)が設けられる。なお、一般式(1)で表されるディスプレイ用フィルタにおいて、機能性透明層(A)は、表示装置の前面に配置されれば、表示装置の前面に配置された基体(B)に接着剤を介して直接貼り付けて使用されても、他の機能層間や基体(B)との間に配置されてそれらの層を接着するために使用されてもよい。
機能性透明層(A)は、前記の各機能を一つ以上有する機能膜そのもの、あるいは機能膜を塗布法、印刷法、あるいは従来公知の各種成膜法により形成された支持体、さらには各機能を有する支持体を使用することができる。支持体は、透明な支持体が好ましく、一般には、透明ガラス、透明高分子フィルムである。なお、透明高分子フィルムとしては、例えば、後述する基体(B)で例示する透明高分子フィルムを挙げることができる。支持体の厚さに関しては特に制限するものではない。
機能性透明層(A)は、外光反射を抑制するための反射防止(AR:アンチリフレクション)機能、防眩(AG:アンチグレア)機能、あるいはその両機能を備えた反射防止防眩(ARAG)機能のいずれかの機能を有していることは好ましい。
Hereinafter, components of the display filter of the present invention will be described.
<Functional transparent layer (A)>
The display filter of the present invention has an antireflection function, an antiglare function, an antireflection antiglare function, a hard coat function (friction resistance function), an antistatic function, an antistatic function, depending on the installation method for the display and the required functions. A functional transparent layer (A) that has one or more of a fouling function, a gas barrier function, and an ultraviolet cut function and transmits visible light is provided. In the display filter represented by the general formula (1), if the functional transparent layer (A) is disposed on the front surface of the display device, the adhesive is applied to the substrate (B) disposed on the front surface of the display device. It may be used by directly attaching via a layer, or may be disposed between other functional layers or the substrate (B) and used to bond these layers.
The functional transparent layer (A) is a functional film itself having one or more of the above functions, or a support formed by applying a functional film to a coating method, a printing method, or various conventionally known film forming methods, A functional support can be used. The support is preferably a transparent support, and is generally a transparent glass or a transparent polymer film. In addition, as a transparent polymer film, the transparent polymer film illustrated by the base | substrate (B) mentioned later can be mentioned, for example. The thickness of the support is not particularly limited.
The functional transparent layer (A) has an anti-reflection (AR: anti-reflection) function for suppressing external light reflection, an anti-glare (AG: anti-glare) function, or both functions. It is preferable to have any of the functions.

反射防止機能を有する機能性透明層(A)は、反射防止膜を形成する支持体の光学特性を考慮し、光学設計により、反射防止膜の構成部材および各構成部材の膜厚を決定することができる。反射防止機能を有する機能性透明層(A)としては、例えば、可視光域において屈折率が1.5以下のフッ素系透明高分子樹脂、フッ化マグネシウム、シリコン系樹脂、酸化珪素などの薄膜を、例えば、1/4波長の光学膜厚で単層形成したもの、あるいは屈折率の異なる金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物などから成る無機化合物薄膜、あるいはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂などから成る有機化合物薄膜を支持体から見て、高屈折率層、低屈折率層の順に2層以上積層したものがある。なお、無機化合物薄膜の成膜法は、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、湿式塗工法などの公知の方法を適用することができる。有機化合物薄膜の成膜法は、例えば、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、コンマコート法などの公知の方法を適用することができる。反射防止機能を有する機能性透明層(A)の表面の可視光線反射率は、一般に、2%以下、好ましくは、1.3%以下、より好ましくは、0.8%以下であるように調製する。   The functional transparent layer (A) having an antireflection function is to determine the constituent members of the antireflection film and the film thickness of each constituent member by optical design in consideration of the optical characteristics of the support that forms the antireflection film. Can do. As the functional transparent layer (A) having an antireflection function, for example, a thin film made of a fluorine-based transparent polymer resin, magnesium fluoride, silicon-based resin, silicon oxide or the like having a refractive index of 1.5 or less in the visible light region is used. , For example, a single layer formed with an optical film thickness of ¼ wavelength, or an inorganic compound thin film made of metal oxide, fluoride, silicide, boride, carbide, nitride, sulfide, etc. having different refractive index, Alternatively, an organic compound thin film made of a silicon-based resin, an acrylic resin, a fluorine-based resin, or the like is viewed from the support, and two or more layers are laminated in the order of a high refractive index layer and a low refractive index layer. As a method for forming the inorganic compound thin film, for example, a known method such as a sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, or a wet coating method can be applied. As a method for forming the organic compound thin film, for example, a known method such as a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, or a comma coating method can be applied. The visible light reflectance of the surface of the functional transparent layer (A) having an antireflection function is generally adjusted to 2% or less, preferably 1.3% or less, more preferably 0.8% or less. To do.

防眩機能を有する機能性透明層(A)は、一般に、0.1μm〜10μm程度の微少な凹凸の表面状態を有する可視光域に対して透明な層のことである。防眩機能を有する機能性透明層(A)は、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型樹脂、または光硬化型樹脂に、シリカ、有機ケイ素化合物などの無機化合物粒子、あるいはメラミン、アクリルなどの有機化合物粒子を分散させてインク化したものを、例えば、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、コンマコート法などの方法によって支持体上に塗布、硬化させて形成することができる。係る無機化合物粒子、および有機化合物粒子の平均粒径は、一般に、1〜40μmである。また、防眩機能を有する機能性透明層(A)は、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型樹脂、あるいは光硬化型樹脂を支持体上に塗布した後、所望のヘイズまたは表面状態を有する型を押しつけて、表面を凹凸に硬化させることにより形成することができる。防眩機能の指標となるヘイズ値は、一般に、0.5〜20%である。
反射防止防眩機能を有する機能性透明層(A)は、防眩機能を有する膜、あるいは防眩機能を有する支持体上に、反射防止膜を形成することにより調製することができる。反射防止防眩機能を有する機能性透明層(A)の表面の可視光線反射率は、一般に、1.5%以下、好ましくは、1.0%以下になるように調製する。
本発明のディスプレイ用フィルタに耐擦傷性能を付加する目的で、機能性透明層(A)がハードコート機能(耐摩擦機能)を有していることは好適である。ハードコート機能を有する機能性透明層(A)は、ハードコート機能を有する膜、あるいは支持体上にハードコート膜を形成することにより調製することができる。ハードコート膜としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型樹脂、あるいは光硬化型樹脂などが挙げられる。ハードコート膜の厚さは、一般に、1〜100μm程度である。ハードコート膜は、反射防止機能を有する透明機能層の高屈折率層、あるいは低屈折率層に用いることもできる。また、ハードコート膜上に反射防止膜が形成されて、機能性透明層(A)が反射防止機能とハードコート機能の両機能を備えていてもよい。同様に、機能性透明層(A)が防眩機能とハードコート機能の両機能を備えていてもよい。
防眩機能とハードコート機能の両機能を備える機能性透明層(A)は、例えば、粒子の分散などにより凹凸を有するハードコート膜の上に、反射防止膜を形成することにより調製することができる。ハードコート機能を有する機能性透明層(A)の表面硬度は、JISK5600に従った鉛筆硬度が、少なくともH以上、好ましくは、2H以上である。
The functional transparent layer (A) having an antiglare function is generally a transparent layer with respect to a visible light region having a minute uneven surface state of about 0.1 μm to 10 μm. The functional transparent layer (A) having an antiglare function is, for example, a thermosetting resin such as an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, a fluorine resin, or a photocurable resin. Inorganic resin particles such as silica and organosilicon compounds or organic compounds particles such as melamine and acrylic dispersed in a resin to form an ink, for example, bar coating method, reverse coating method, gravure coating method, die coating method, It can be formed by applying and curing on a support by a method such as a roll coating method or a comma coating method. The average particle diameter of the inorganic compound particles and the organic compound particles is generally 1 to 40 μm. In addition, the functional transparent layer (A) having an antiglare function is, for example, a thermosetting resin such as an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, a fluorine resin, or light. It can be formed by applying a curable resin on a support and then pressing a mold having a desired haze or surface state to cure the surface to irregularities. The haze value that serves as an index of the antiglare function is generally 0.5 to 20%.
The functional transparent layer (A) having an antireflection antiglare function can be prepared by forming an antireflection film on a film having an antiglare function or a support having an antiglare function. The visible light reflectance of the surface of the functional transparent layer (A) having an antireflection antiglare function is generally adjusted to 1.5% or less, preferably 1.0% or less.
For the purpose of adding scratch resistance to the display filter of the present invention, it is preferable that the functional transparent layer (A) has a hard coat function (friction resistance function). The functional transparent layer (A) having a hard coat function can be prepared by forming a film having a hard coat function or a hard coat film on a support. Examples of the hard coat film include thermosetting resins such as acrylic resins, silicon resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, and fluorine resins, or photocurable resins. The thickness of the hard coat film is generally about 1 to 100 μm. The hard coat film can also be used for a high refractive index layer or a low refractive index layer of a transparent functional layer having an antireflection function. Further, an antireflection film may be formed on the hard coat film, and the functional transparent layer (A) may have both functions of an antireflection function and a hard coat function. Similarly, the functional transparent layer (A) may have both functions of an antiglare function and a hard coat function.
The functional transparent layer (A) having both the antiglare function and the hard coat function can be prepared, for example, by forming an antireflection film on a hard coat film having irregularities by dispersing particles or the like. it can. As for the surface hardness of the functional transparent layer (A) having a hard coat function, the pencil hardness according to JISK5600 is at least H, preferably 2H or more.

一般に、ディスプレイ用フィルタは、静電気が帯電しやすく、ホコリの付着防止、人体への悪影響防止などを考慮し、帯電防止機能が必要とされる場合がある。この場合、帯電防止機能を付与するために、機能性透明層(A)が一定の導電性を有していてもよい。なお、導電性は、一般に、面抵抗で1011Ω/□程度以下であればよい。係る導電性材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)などの公知の透明導電膜、ITO超微粒子、酸化スズ超微粒子などの導電性超微粒子を分散させた導電性膜が挙げられる。また、反射防止機能、防眩機能、反射防止防眩機能、ハードコート機能のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層(A)を構成する層が導電性を有していることは好ましい。機能性透明膜が、例えば、環境中の物質、あるいは水分に対して、ガスバリア機能を有することは好ましいことである。なお、必要とされるガスバリア機能は、一般に、透湿度で10g/m・day以下である。ガスバリア機能を有する膜としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化イットリウム、酸化マグネシウムなど、またはこれらの混合物、またはこれらに他の元素を添加した金属酸化物薄膜、あるいはポリ塩化ビニリデン、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂などの各種樹脂から成る膜を挙げることができる。ガスバリア機能を有する膜の厚さは、金属酸化物薄膜の場合、一般に、10〜200nmであり、樹脂の場合、一般に、1〜100μmである。なお、ガスバリア機能を有する膜は、単層構造でもよく、あるいは多層構造であってもよい。また、水分に対してガスバリア機能を有する膜としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンと塩化ビニル、塩化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、フッ素系樹脂などの各種樹脂から成る膜を挙げることができる。
また、反射防止機能、防眩機能、反射防止防眩機能、帯電防止機能、ハードコート機能のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層(A)を構成する層が、さらにガスバリア機能を兼ねる層とすることができる。さらに、指紋などの汚れ防止、あるいは汚れ除去が容易になるように、機能性透明層(A)の表面に防汚機能を付与することができる。防汚機能を有する化合物としては、水および/または油脂に対して非濡性を有する化合物であり、例えば、フッ素化合物、ケイ素化合物などが挙げられる。
Generally, a display filter is easily charged with static electricity, and an antistatic function may be required in consideration of prevention of dust adhesion and prevention of adverse effects on the human body. In this case, in order to provide an antistatic function, the functional transparent layer (A) may have a certain conductivity. In general, the conductivity may be about 1011Ω / □ or less in terms of surface resistance. Examples of the conductive material include known transparent conductive films such as ITO (Indium Tin Oxide), and conductive films in which conductive ultrafine particles such as ITO ultrafine particles and tin oxide ultrafine particles are dispersed. Further, the layer constituting the functional transparent layer (A) having at least one of the antireflection function, the antiglare function, the antireflection antiglare function, and the hard coat function has conductivity. Is preferred. It is preferable that the functional transparent film has a gas barrier function with respect to, for example, environmental substances or moisture. The required gas barrier function is generally 10 g / m 2 · day or less in terms of moisture permeability. Examples of the film having a gas barrier function include silicon oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, yttrium oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof, or a metal oxide thin film obtained by adding other elements to these, Examples thereof include films made of various resins such as vinylidene chloride, acrylic resin, silicon resin, melamine resin, urethane resin, and fluorine resin. The thickness of the film having a gas barrier function is generally 10 to 200 nm in the case of a metal oxide thin film, and is generally 1 to 100 μm in the case of a resin. Note that the film having a gas barrier function may have a single-layer structure or a multilayer structure. Examples of the film having a gas barrier function against moisture include, for example, polyethylene, polypropylene, nylon, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride and vinyl chloride, vinylidene chloride and acrylonitrile copolymers, and various resins such as fluorine resins. Mention may be made of membranes.
In addition, the layer constituting the functional transparent layer (A) having any one or more of an antireflection function, an antiglare function, an antireflection antiglare function, an antistatic function, and a hard coat function is further provided with a gas barrier function. It can be set as the layer which serves as. Furthermore, an antifouling function can be imparted to the surface of the functional transparent layer (A) so that dirt such as fingerprints can be prevented or removed easily. The compound having an antifouling function is a compound having non-wetting properties with respect to water and / or fats and oils, and examples thereof include fluorine compounds and silicon compounds.

また、機能性透明層(A)に、例えば、紫外線を吸収する無機薄膜単層、あるいは無機薄膜多層から成る反射防止膜、または紫外線吸収化合物を含有する透明膜を形成することにより、機能性透明層(A)に、さらに、紫外線カット機能を付与することができる。機能性透明層(A)が、機能膜そのものの場合、例えば、透明導電層(D)の主面に塗布法、印刷法などの各種成膜法により形成されていてもよく、機能性透明層(A)が、機能膜を形成した透明な基体(B)、各機能を有する透明な基体(B)の場合は、例えば、透明導電層(D)の主面に形成されていてもよい。   In addition, for example, an inorganic thin film single layer that absorbs ultraviolet rays, an antireflection film composed of an inorganic thin film multilayer, or a transparent film that contains an ultraviolet absorbing compound is formed on the functional transparent layer (A). The layer (A) can be further provided with an ultraviolet cut function. When the functional transparent layer (A) is the functional film itself, for example, the functional transparent layer (D) may be formed on the main surface of the transparent conductive layer (D) by various film forming methods such as a coating method and a printing method. When (A) is a transparent substrate (B) on which a functional film is formed and a transparent substrate (B) having each function, it may be formed on the main surface of the transparent conductive layer (D), for example.

<基体(B)>
基体(B)は、フィルタの支持体として機能し、一般に、可視光域において、透明ガラス、透明高分子フィルムが用いられる。透明高分子フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン6などのポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニリデン化合物、フッ化ビニリデン/トリフルオロエチレン共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重体などのビニル化合物、またはフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシドなどのポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。基体(B)は、一般に、厚さが、10〜250μmであり、好ましくは、50〜250μmである。
基体(B)は、製造効率の点から、好ましくは、可撓性の透明高分子フィルムであり、さらに、ディスプレイ表面に、直接貼合された透明高分子フィルムを基体(B)とするフィルタは、ディスプレイの基板ガラスが破損した場合、ガラスの飛散防止ができるという利点がある。本発明においては、基体(B)の表面は、スパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理、あるいは下塗り処理が施されていてもよい。
<Substrate (B)>
The substrate (B) functions as a filter support, and generally transparent glass or transparent polymer film is used in the visible light region. Examples of the transparent polymer film include polyethylene terephthalate, polyether sulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyether ether ketone, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, nylon 6 and other celluloses, polyimide, triacetyl cellulose and the like. Resins, polyurethane resins, fluorine resins such as polytetrafluoroethylene, vinyl compounds such as polyvinyl chloride, polyacrylic acid, polyacrylic acid esters, polyacrylonitrile, addition polymers of vinyl compounds, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid esters , Vinylidene compounds such as polyvinylidene chloride, vinyl compounds such as vinylidene fluoride / trifluoroethylene copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer Or copolymers of fluorine-based compound, polyether such as polyethylene oxide, epoxy resins, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, but is not limited thereto. The substrate (B) generally has a thickness of 10 to 250 μm, preferably 50 to 250 μm.
The substrate (B) is preferably a flexible transparent polymer film from the viewpoint of production efficiency. Further, a filter having a substrate (B) with the transparent polymer film directly bonded to the display surface is used. When the substrate glass of the display is broken, there is an advantage that the glass can be prevented from scattering. In the present invention, the surface of the substrate (B) may be subjected to etching treatment such as sputtering treatment, corona treatment, flame treatment, ultraviolet ray irradiation and electron beam irradiation, or undercoating treatment.

基体(B)の少なくとも一方の主面にハードコート層(E)が形成されていてもよい。ハードコート層(E)となるハードコート膜としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型樹脂、あるいは光硬化型樹脂などが挙げられる。ハードコート層(E)の厚さは、1〜100μm程度である。また、ハードコート層(E)に、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物が1種以上含有されていてもよい。
本発明のディスプレイ用フィルタ、特にプラズマディスプレイ用フィルタが、ディスプレイ画面からの電磁波を遮蔽する特性を有する電磁波シールド体として機能することは好ましく、プラズマディスプレイ用フィルタには、機能性透明層(A)、基体(B)、透明粘着層(C)の他に、さらに透明導電層(D)を備えていることが好ましい。
A hard coat layer (E) may be formed on at least one main surface of the substrate (B). Examples of the hard coat film to be the hard coat layer (E) include thermosetting resins such as acrylic resins, silicon resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, and fluorine resins, or photocurable types. Resin etc. are mentioned. The thickness of the hard coat layer (E) is about 1 to 100 μm. Further, the hard coat layer (E) may contain one or more tetraazaporphyrin compounds represented by the general formula (1).
The display filter of the present invention, in particular the plasma display filter, preferably functions as an electromagnetic wave shield having the property of shielding electromagnetic waves from the display screen. The plasma display filter includes a functional transparent layer (A), In addition to the substrate (B) and the transparent adhesive layer (C), a transparent conductive layer (D) is preferably further provided.

<透明導電層(D)>
ディスプレイ用フィルタが、電磁波シールド体の形態の場合、基体(B)の一方の主面上に透明導電層(D)が形成される。本発明における透明導電層(D)とは、単層または多層薄膜から成る透明導電層(D)である。なお、電磁波シールド体においては、透明導電層(D)と外部との電気的接続が必要あり、例えば、機能性透明層(A)、透明粘着層(C)などは、透明導電層(D)の周縁部を残して、導通部を確保することが必要となる。単層の透明導電層(D)としては、金属メッシュ、導電性格子状パターン膜などの導電性メッシュ、さらには金属薄膜や酸化物半導体薄膜などの透明導電性薄膜がある。多層薄膜から成る透明導電層(D)としては、金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜がある。金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性、およびその自由電子による近赤外線反射特性、および特定波長領域における金属による反射を高屈折率透明薄膜により防止できることから、導電性、近赤外線カット機能、可視光線透過率に関して好ましい特性を有している。電磁波シールド機能、近赤外線カット機能を有するディスプレイ用フィルタを得るためには、電磁波吸収のための高い導電性と電磁波反射のための反射界面を多く有する金属薄膜と、高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜から成る透明導電層(D)は好ましい。高い可視光線透過率と低い可視光線反射率に加え、プラズマディスプレイに必要な電磁波シールド機能を有するには、透明導電層(D)が、面抵抗が、一般に、0.01〜30Ω/□、より好ましくは、0.1〜15Ω/□、さらに好ましくは、0.1〜5Ω/□であることが望ましい。また、透明導電層(D)自体に、近赤外線カット機能を持たせることもでき、近赤外線波長領域、例えば、800〜1100nmにおける光線透過率極小を、20%以下にすることができる。
<Transparent conductive layer (D)>
When the display filter is in the form of an electromagnetic wave shield, a transparent conductive layer (D) is formed on one main surface of the substrate (B). The transparent conductive layer (D) in the present invention is a transparent conductive layer (D) composed of a single layer or a multilayer thin film. In the electromagnetic wave shield, the transparent conductive layer (D) needs to be electrically connected to the outside. For example, the functional transparent layer (A), the transparent adhesive layer (C) and the like are transparent conductive layer (D). Therefore, it is necessary to secure the conduction part while leaving the peripheral part. As the single transparent conductive layer (D), there are a conductive mesh such as a metal mesh and a conductive lattice pattern film, and a transparent conductive thin film such as a metal thin film and an oxide semiconductor thin film. As the transparent conductive layer (D) composed of a multilayer thin film, there is a multilayer thin film in which a metal thin film and a high refractive index transparent thin film are laminated. Multi-layer thin film composed of metal thin film and high refractive index transparent thin film prevents the reflection of metal in the specific wavelength region by the high-refractive index transparent thin film, the conductivity of silver and other metals and the near-infrared reflection characteristics due to free electrons. Since it can be performed, it has preferable characteristics with respect to conductivity, near-infrared cut function, and visible light transmittance. In order to obtain a display filter having an electromagnetic wave shielding function and a near-infrared cut function, a metal thin film having a high conductivity for electromagnetic wave absorption and a reflective interface for electromagnetic wave reflection and a high refractive index transparent thin film were laminated. The transparent conductive layer (D) composed of a multilayer thin film is preferred. In order to have an electromagnetic wave shielding function necessary for a plasma display in addition to high visible light transmittance and low visible light reflectance, the transparent conductive layer (D) generally has a surface resistance of 0.01 to 30 Ω / □. Preferably, it is 0.1 to 15Ω / □, and more preferably 0.1 to 5Ω / □. Also, the transparent conductive layer (D) itself can be provided with a near-infrared cut function, and the light transmittance minimum in the near-infrared wavelength region, for example, 800 to 1100 nm can be reduced to 20% or less.

本発明において好ましい透明導電層(D)は、基体(B)の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層(Dt)、金属薄膜層(Dm)の順に、(Dt)/(Dm)を繰り返し単位として、2〜4回繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層を積層して形成され、該透明導電層(D)の面抵抗が、0.1〜5Ω/□である。金属薄膜層の材料として、好ましくは、銀、金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ、さらには銀と金、白金、パラジウム、銅、インジウムまたはスズとの合金である。銀を含む合金中の銀の含有率は、特に限定されるものではないが、一般に、50質量%以上、100質量%未満である。なお、複数層から成る金属薄膜の場合は、少なくとも1つの層は銀を合金にしないで用いることや、基体(B)から見て、最初の層および/または最外層にある金属薄膜層のみを銀の合金とすることができる。金属薄膜層は、導電性などの点から薄膜は不連続な島状構造ではなく、連続状態であることが必要であり、またその厚さは、4〜30nmが好ましい。複数層から成る金属薄膜の場合は、各層が全て同じ厚さである必要はなく、さらに、各層全てが銀、あるいは同じ組成の銀の合金でなくてもよい。金属薄膜層の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、メッキ法などの公知の方法を挙げることができる。
高屈折率透明薄膜層を形成する透明薄膜としては、可視光領域において透明性を有し、金属薄膜層の可視光領域における光線反射を防止する機能を有するものであれば特に限定されるものではなく、一般に、可視光線に対する屈折率が、1.6以上、好ましくは、1.8以上の材料が用いられる。このような透明薄膜を形成する材料としては、例えば、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウムなどの酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などを挙げることができ、より好ましくは、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化インジウムと酸化スズの混合物(ITO)である。高屈折率透明薄膜層の厚さは、特に限定されるものではないが、一般に、5〜200nmである。高屈折率透明薄膜層の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、真空蒸着法、湿式塗工法などの公知の方法を挙げることができる。透明導電層(D)の耐環境性などの向上を目的に、透明導電層(D)の表面に、導電性、光学特性などの諸特性を著しく損なわない程度に、有機物あるいは無機物から成る保護層を設けることができる。また、金属薄膜層の耐環境性、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着性などを向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層の間に、導電性、光学特性などの諸特性を損なわない程度に、無機物層を設けることができる。なお、無機物層を形成する材料としては、例えば、銅、ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウムなど、あるいはこれらの材料の2種類以上からなる合金が挙げられる。無機物層の厚さは、好ましくは、0.2〜2nm程度である。透明導電層(D)の形成方法としては、透明導電性薄膜を用いる方法の他に、導電性メッシュを用いる方法がある。導電性メッシュの一例として、単層の金属メッシュについて説明する。単層の金属メッシュとしては、例えば、基体(B)上に銅メッシュ層を形成したものがあり、一般には、基体(B)上に銅箔を貼合わせた後、メッシュ状に加工して形成される。銅箔としては、圧延銅、電解銅が用いられ、好ましくは、孔径0.5〜5μmの多孔性の銅箔である。銅箔のポロシティーとしては、0.01〜20%が好ましく、より好ましくは、0.02〜5%である。なお、ポロシティーとは、体積をRとし、孔容積をPとした場合に、P/Rで定義される値である。銅箔は、各種表面処理(例えば、クロメート処理、粗面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理)を施されていてもよい。銅箔の厚さは、一般に、3〜30μmである。金属メッシュの光透過部分の開口率は、一般に、60〜95%である。開口部の形状は、特に限定されるものではないが、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形などに形がそろっており、面内に並んでいることが好ましい。光透過部分の開口部の大きさは、一般に、1辺あるいは直径が、5〜200μmであることが好ましい。また、開口部を形成しない部分の金属の幅は、5〜50μmが好ましい。光透過部分を有する金属層の実質的な面抵抗は、好ましくは、0.01〜0.5Ω/□である。なお、透明導電層(D)と表示装置のアース部(グランド導体)とを電気的に接続させるため、導電性粘着層を設ける。
In the present invention, the transparent conductive layer (D) is preferably (Dt) / (Dm) in the order of the high refractive index transparent thin film layer (Dt) and the metal thin film layer (Dm) on one main surface of the substrate (B). Is repeated 2 to 4 times, and is formed by further laminating at least a high refractive index transparent thin film layer thereon, and the surface resistance of the transparent conductive layer (D) is 0.1-5 Ω / □. It is. The material for the metal thin film layer is preferably silver, gold, platinum, palladium, copper, indium, tin, or an alloy of silver and gold, platinum, palladium, copper, indium or tin. Although the content rate of the silver in the alloy containing silver is not specifically limited, Generally, it is 50 to less than 100 mass%. In the case of a metal thin film composed of a plurality of layers, at least one layer should be used without alloying silver, or only the metal thin film layer in the first layer and / or the outermost layer as viewed from the substrate (B). It can be a silver alloy. The metal thin film layer is required to be in a continuous state rather than a discontinuous island structure from the viewpoint of conductivity, and the thickness is preferably 4 to 30 nm. In the case of a metal thin film composed of a plurality of layers, it is not necessary that all the layers have the same thickness, and further, all the layers may not be silver or a silver alloy having the same composition. Examples of the method for forming the metal thin film layer include known methods such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, and plating.
The transparent thin film forming the high refractive index transparent thin film layer is not particularly limited as long as it has transparency in the visible light region and has a function of preventing light reflection in the visible light region of the metal thin film layer. In general, a material having a refractive index with respect to visible light of 1.6 or more, preferably 1.8 or more is used. Examples of the material for forming such a transparent thin film include oxides such as indium, titanium, zirconium, bismuth, tin, zinc, antimony, tantalum, cerium, neodymium, lanthanum, thorium, magnesium, gallium, and the like. And zinc sulfide, and more preferably zinc oxide, titanium oxide, indium oxide, and a mixture of indium oxide and tin oxide (ITO). The thickness of the high refractive index transparent thin film layer is not particularly limited, but is generally 5 to 200 nm. Examples of the method for forming the high refractive index transparent thin film layer include known methods such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, and wet coating. For the purpose of improving the environmental resistance of the transparent conductive layer (D), a protective layer made of an organic or inorganic material on the surface of the transparent conductive layer (D) to such an extent that various properties such as conductivity and optical properties are not significantly impaired. Can be provided. In addition, in order to improve the environmental resistance of the metal thin film layer and the adhesion between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer, conductivity, optical characteristics, etc. are provided between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer. An inorganic layer can be provided to such an extent that these properties are not impaired. In addition, as a material which forms an inorganic substance layer, copper, nickel, chromium, gold | metal | money, platinum, zinc, zirconium, titanium, tungsten, tin, palladium etc. or the alloy which consists of 2 or more types of these materials is mentioned, for example. . The thickness of the inorganic layer is preferably about 0.2 to 2 nm. As a method for forming the transparent conductive layer (D), there is a method using a conductive mesh in addition to a method using a transparent conductive thin film. A single-layer metal mesh will be described as an example of the conductive mesh. As a single-layer metal mesh, for example, there is one in which a copper mesh layer is formed on a substrate (B). Generally, a copper foil is pasted on a substrate (B) and then processed into a mesh shape. Is done. As the copper foil, rolled copper or electrolytic copper is used, and a porous copper foil having a pore diameter of 0.5 to 5 μm is preferable. The porosity of the copper foil is preferably 0.01 to 20%, more preferably 0.02 to 5%. The porosity is a value defined by P / R where R is the volume and P is the pore volume. The copper foil may be subjected to various surface treatments (for example, chromate treatment, roughening treatment, pickling, zinc / chromate treatment). The thickness of the copper foil is generally 3 to 30 μm. The aperture ratio of the light transmission portion of the metal mesh is generally 60 to 95%. The shape of the opening is not particularly limited, but it is preferably in the form of a regular triangle, a regular square, a regular hexagon, a circle, a rectangle, a rhombus, and the like, and is arranged in the plane. In general, it is preferable that one side or diameter of the opening of the light transmitting portion is 5 to 200 μm. Further, the width of the metal in the portion where the opening is not formed is preferably 5 to 50 μm. The substantial sheet resistance of the metal layer having the light transmitting portion is preferably 0.01 to 0.5Ω / □. In order to electrically connect the transparent conductive layer (D) and the earth portion (ground conductor) of the display device, a conductive adhesive layer is provided.

導電性粘着層に用いる導電性接着剤、導電性粘着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤(PVB)、エチレン−酢酸ビニル系接着剤(EVA)、ポリビニルエーテル、飽和ポリエステル、メラミン樹脂などのベース材料に、導電性粒子として、例えば、カーボン、Cu、Ni、Ag、Feなどの金属粒子を分散させたものがある。なお、導電性接着剤、導電性粘着剤の体積固有抵抗は、一般に、1×10−4〜1×10Ω・cmである。導電性接着剤、導電性粘着剤としては、シート状、液体状のものがある。導電性粘着剤としては、シート状の感圧型粘着剤が好適に使用できる。シート状粘着剤を貼付けた後、または接着剤の塗布後にラミネートして貼合わせる。液体状の導電性接着剤は、塗布、貼合わせ後に、室温または高温下で処理することにより、あるいは紫外線照射することにより硬化させることができる。液体状の導電性接着剤の塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷法、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、コンマコート法などが挙げられる。なお、導電性粘着層の厚さは、体積固有抵抗と必要な導電性を考慮して設定され、一般には、0.5〜50μm、好ましくは、1〜30μmである。また、両面に導電性を有する両面接着タイプの導電性テープも使用できる。 Examples of conductive adhesives and conductive adhesives used for the conductive adhesive layer include acrylic adhesives, silicon adhesives, urethane adhesives, polyvinyl butyral adhesives (PVB), and ethylene-vinyl acetate adhesives. There are materials in which metal particles such as carbon, Cu, Ni, Ag, and Fe are dispersed as conductive particles in a base material such as (EVA), polyvinyl ether, saturated polyester, and melamine resin. In addition, generally the volume specific resistance of a conductive adhesive and a conductive adhesive is 1 * 10 < -4 > -1 * 10 < 3 > ohm * cm. Examples of the conductive adhesive and the conductive pressure-sensitive adhesive include a sheet form and a liquid form. As the conductive adhesive, a sheet-like pressure sensitive adhesive can be suitably used. After pasting the sheet-like pressure-sensitive adhesive or after applying the adhesive, it is laminated and pasted. The liquid conductive adhesive can be cured by treatment at room temperature or high temperature after application and bonding, or by irradiation with ultraviolet rays. Examples of the method for applying the liquid conductive adhesive include a screen printing method, a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, and a comma coating method. In addition, the thickness of the conductive adhesive layer is set in consideration of the volume resistivity and necessary conductivity, and is generally 0.5 to 50 μm, preferably 1 to 30 μm. A double-sided adhesive type conductive tape having conductivity on both sides can also be used.

<透明粘着層(C)>
本発明において、透明粘着層(C)は、任意の透明粘着剤(接着剤、粘着剤)から成る層である。透明粘着層(C)は、例えば、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール粘着剤(PVB)、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤(EVA)など、ポリビニルエーテル、飽和ポリエステル、メラミン樹脂などから形成される。なかでもアクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤が好ましい。
なお、粘着剤としては、シート状、または液体状のものが使用できる。粘着剤として、例えば、シート状の感圧型粘着剤を使用する場合は、シート状粘着剤を貼付け後、または接着剤を塗布後、ラミネートして貼り合わせる。
<Transparent adhesive layer (C)>
In this invention, a transparent adhesion layer (C) is a layer which consists of arbitrary transparent adhesives (an adhesive agent, an adhesive). The transparent adhesive layer (C) is, for example, an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a polyvinyl butyral adhesive (PVB), an ethylene-vinyl acetate adhesive (EVA), a polyvinyl ether, or a saturated polyester. Formed from melamine resin and the like. Of these, acrylic adhesives, urethane adhesives, and polyvinyl butyral adhesives are preferred.
In addition, as an adhesive, a sheet form or a liquid form can be used. As a pressure-sensitive adhesive, for example, when a sheet-like pressure-sensitive pressure-sensitive adhesive is used, the sheet-like pressure-sensitive adhesive is applied or an adhesive is applied and then laminated and bonded.

粘着剤として、例えば、液体状の接着剤を使用する場合は、塗布、貼合わせ後に、室温または高温下で処理することにより、あるいは紫外線照射することにより硬化させて貼り合わせる。その塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷法、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、コンマコート法などを挙げることができる。
透明粘着層(C)の厚みは、特に限定されるものではないが、一般に、0.5〜50μmである。透明粘着層(C)が形成される面、および貼合わされる面は、予め易接着コートまたはコロナ放電処理などの易接着処理されていることは好ましい。さらに、透明粘着層(C)を介して貼合わせた後、貼合わせ時に部材間に混入した空気を、脱泡、または粘着剤に固溶させて、さらには部材間の密着力を向上させる目的で、加圧、加温条件下で処理を施すことは好ましい。
For example, when a liquid adhesive is used as the pressure-sensitive adhesive, it is cured and bonded by treatment at room temperature or high temperature after application and bonding, or by ultraviolet irradiation. Examples of the coating method include a screen printing method, a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, and a comma coating method.
Although the thickness of a transparent adhesion layer (C) is not specifically limited, Generally, it is 0.5-50 micrometers. The surface on which the transparent adhesive layer (C) is formed and the surface to be bonded are preferably subjected to an easy adhesion treatment such as an easy adhesion coat or a corona discharge treatment in advance. Furthermore, after bonding through the transparent adhesive layer (C), the air mixed between the members at the time of bonding is defoamed or dissolved in the adhesive to further improve the adhesion between the members Thus, it is preferable to perform the treatment under pressure and heating conditions.

以下、製造例、および実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although a production example and an Example demonstrate this invention further in detail, this invention is not limited to these.

製造例1
<例示化合物番号(P−2)の化合物の製造>
窒素雰囲気下、シアン化銅7.47g、1,2−ジブロモ−3,3−ジメチル−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ブテン14.0gを、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)70mlに加え、130℃に加熱して10時間保持した。混合物を室温まで冷却した後、28質量%アンモニア水140mlを加え、さらに、室温で1時間撹拌した後、固形物を濾過した。濾過した固形物を乾燥した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー〔展開液:トルエン/ヘキサン(体積比:2/1)〕にて精製し、1,2−ジシアノ−3,3−ジメチル−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ブテンの、シス体とトランス体の混合物を9.07g得た。
得られた混合物をガスクロマトグラフィーで測定した結果、クロマトグラフ上のピーク面積比はシス体59.8%、トランス体22.2%であった。
なお、この混合物をn−ヘキサン100mlで再結晶により精製を行い、cis−1,2−ジシアノ−3,3−ジメチル−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ブテンの化合物2.5gを淡青色の固体として得た。融点82.9℃
次いで、窒素雰囲気下、このcis−1,2−ジシアノ−3,3−ジメチル−1−(4’−フルオロフェニル)−1−ブテンの化合物2.28gをn−ペンタノール30mlに加え、70℃に加熱後、混合物に、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)1.52gを加えた。混合物を90℃に昇温した後、塩化第一銅0.33gを加え、さらに、125℃で18時間撹拌した。混合物から、n−ペンタノール25mlを留去した後、残渣に、メタノール水(50質量%)50mlを加えた後、固形物を濾過した。濾過した固形物を乾燥した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー〔展開液:トルエン/クロロホルム(体積比:2/1)〕にて精製し、例示化合物番号(P−2)の化合物1.4gを青色の固体として得た。この化合物は、トルエン中、モル吸光係数137000で、波長595.0nmに吸収極大を示した。なお、この固体は、式(P−2−A)〜式(P−2−D)で表される化合物の混合物であった。
Production Example 1
<Production of Compound with Illustrative Compound Number (P-2)>
Under nitrogen atmosphere, 7.47 g of copper cyanide, 14.0 g of 1,2-dibromo-3,3-dimethyl-1- (4′-fluorophenyl) -1-butene were added to N, N-dimethylformamide (DMF). In addition to 70 ml, heated to 130 ° C. and held for 10 hours. After the mixture was cooled to room temperature, 140 ml of 28% by mass aqueous ammonia was added, and the mixture was further stirred at room temperature for 1 hour, and then the solid was filtered. The filtered solid was dried and purified by silica gel column chromatography [developing solution: toluene / hexane (volume ratio: 2/1)], and 1,2-dicyano-3,3-dimethyl-1- (4 9.07 g of a mixture of cis- and trans-isomers of '-fluorophenyl) -1-butene was obtained.
As a result of measuring the obtained mixture by gas chromatography, the peak area ratio on the chromatograph was 59.8% cis-isomer and 22.2% trans-isomer.
The mixture was purified by recrystallization with 100 ml of n-hexane, and 2.5 g of cis-1,2-dicyano-3,3-dimethyl-1- (4′-fluorophenyl) -1-butene compound was obtained. Obtained as a light blue solid. Melting point 82.9 ° C
Next, under a nitrogen atmosphere, 2.28 g of this cis-1,2-dicyano-3,3-dimethyl-1- (4′-fluorophenyl) -1-butene compound was added to 30 ml of n-pentanol, and 70 ° C. After heating, 1.52 g of 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) was added to the mixture. After heating the mixture to 90 ° C., 0.33 g of cuprous chloride was added, and the mixture was further stirred at 125 ° C. for 18 hours. After distilling off 25 ml of n-pentanol from the mixture, 50 ml of methanol water (50% by mass) was added to the residue, and the solid was filtered. After the filtered solid was dried, it was purified by silica gel column chromatography [developing solution: toluene / chloroform (volume ratio: 2/1)], and 1.4 g of Compound of Exemplified Compound No. (P-2) was converted to blue Obtained as a solid. This compound had an absorption maximum at a wavelength of 595.0 nm with a molar extinction coefficient of 137,000 in toluene. The solid was a mixture of compounds represented by formula (P-2-A) to formula (P-2-D).

実施例1
ポリエステル樹脂(バイロン200;東洋紡績(株)製)100gと、例示化合物番号(P−2)の化合物2gを秤量した。さらにポリエステル樹脂固形分質量が25質量%となるようにシクロヘキサノン400gを加え、超音波分散機で十分に分散させた。
この分散液をガラス基板上にバーコーターで塗工、乾燥して試験サンプルとした。
なお、上記で作製した試験サンプルに付いて、耐光性試験を行い評価した。評価結果を表1に示した。
<耐光性試験>
7.5kw 2槽独立型スーパーキセノンウエザーメーター(SX2D−75;スガ試験機(株)製)を使用し、JIS
K7350−2(日本工業規格)記載のA法に従い、短波長カットフィルタ(LU0400;朝日分光(株)製)で400nm以下をカットし、放射照度60W/m2の条件で、3日間照射した後、波長590nmでの吸収変化から色素残存量を測定した。
色素の残存量は、日立製作所製の分光光度計(U−300)を用いて波長590nmでの透過率(T%)を測定し、耐光性試験前の波透過率(T0%)を、耐光性試験後の透過率(T1%)から引いた数値として求めた。数値が小さいほど色素残存量が多く、耐光性に優れていることを表している。
Example 1
100 g of a polyester resin (Byron 200; manufactured by Toyobo Co., Ltd.) and 2 g of the compound of the exemplified compound number (P-2) were weighed. Further, 400 g of cyclohexanone was added so that the solid content of the polyester resin was 25% by mass, and the mixture was sufficiently dispersed with an ultrasonic disperser.
This dispersion was coated on a glass substrate with a bar coater and dried to prepare a test sample.
In addition, it attached to the test sample produced above and evaluated it by performing the light resistance test. The evaluation results are shown in Table 1.
<Light resistance test>
7.5 kw 2 tank independent super xenon weather meter (SX2D-75; manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.)
According to method A described in K7350-2 (Japanese Industrial Standard), after cutting 400 nm or less with a short wavelength cut filter (LU0400; manufactured by Asahi Spectroscopy Co., Ltd.) and irradiating for 3 days under the condition of irradiance 60 W / m2, The residual amount of dye was measured from the change in absorption at a wavelength of 590 nm.
The remaining amount of the dye was measured by measuring the transmittance (T%) at a wavelength of 590 nm using a spectrophotometer (U-300) manufactured by Hitachi, Ltd., and calculating the wave transmittance (T0%) before the light resistance test. It was determined as a numerical value subtracted from the transmittance (T1%) after the property test. The smaller the numerical value, the greater the residual amount of the dye and the better the light resistance.

実施例2〜6
実施例1において、例示化合物番号(P−2)の化合物を使用する代わりに、テトラアザポルフィリン化合物を表1に示す通りに変更した以外は、実施例1に記載の方法により試験サンプルを作製した。作製した試験サンプルに関して、実施例1と同様に測定、評価した結果を表1に示した。
Examples 2-6
In Example 1, instead of using the compound of the exemplified compound number (P-2), a test sample was prepared by the method described in Example 1 except that the tetraazaporphyrin compound was changed as shown in Table 1. . Table 1 shows the results of measurement and evaluation on the produced test samples in the same manner as in Example 1.

比較例1
実施例1において、例示化合物番号(P−2)の化合物を使用する代わりに、比較化合物として、特開2006−321925号公報の実施例3に記載の化合物(G−1)を使用した以外は、実施例1に記載の方法により試験サンプルを作製した。作製した試験サンプルに関して、実施例1と同様に測定、評価した結果を表1に示した。
Comparative Example 1
In Example 1, instead of using the compound of exemplary compound number (P-2), the compound (G-1) described in Example 3 of JP-A-2006-321925 was used as a comparative compound. A test sample was prepared by the method described in Example 1. Table 1 shows the results of measurement and evaluation on the produced test samples in the same manner as in Example 1.

比較例2
実施例1において、例示化合物番号(P−2)のテトラアザポルフィリン化合物を使用する代わりに、比較化合物として、特開2002−129052号公報の合成例1に記載の化合物(G−2)を使用した以外は、実施例1に記載の方法により試験サンプルを作製した。作製した試験サンプルに関して、実施例1と同様に測定、評価した結果を表1に示した。
Comparative Example 2
In Example 1, instead of using the tetraazaporphyrin compound of the exemplified compound number (P-2), the compound (G-2) described in Synthesis Example 1 of JP-A No. 2002-129052 is used as a comparative compound. A test sample was prepared by the method described in Example 1 except that. Table 1 shows the results of measurement and evaluation on the produced test samples in the same manner as in Example 1.

表1に示した結果より、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物を含有する本発明の試験サンプルは、比較例で示したテトラアザポルフィリン化合物を含有した比較の試験サンプルに比べ、耐光性に優れることがわかった。 From the results shown in Table 1, the test sample of the present invention containing the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) is compared with the comparative test sample containing the tetraazaporphyrin compound shown in the comparative example. It was found to be excellent in light resistance.

実施例7
メチルエチルケトン/シクロヘキサノン(50:50質量%)溶媒に、アクリル系粘着剤(SKダイン1310;綜研化学(株)製)を超音波分散機で十分に溶解させて、不揮発分濃度5重量%となるように希釈液を調整した。さらに、この希釈液に、例示化合物番号(P−2)の化合物を溶解させて分散液とし、ガラス基板上にスピンコーターで塗工、乾燥して試験サンプルとした。
なお、例示化合物番号(P−2)は、乾燥したアクリル系粘着剤の中で0.2(質量)%含有するように分散液を調整した。
上記で作製した試験サンプルに付いて実施例1と同様に測定、評価した結果を表2に示した。
Example 7
Acrylic adhesive (SK Dyne 1310; manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) is sufficiently dissolved in a methyl ethyl ketone / cyclohexanone (50:50 mass%) solvent with an ultrasonic disperser so that the nonvolatile content concentration becomes 5% by weight. The diluted solution was adjusted. Furthermore, the compound of Exemplified Compound No. (P-2) was dissolved in this diluted solution to obtain a dispersion, which was coated on a glass substrate with a spin coater and dried to obtain a test sample.
In addition, exemplary compound number (P-2) adjusted the dispersion liquid so that it might contain 0.2 (mass)% in the dry acrylic adhesive.
Table 2 shows the results of measurement and evaluation performed on the test sample prepared above in the same manner as in Example 1.

実施例8〜12
実施例7において、例示化合物番号(P−2)の化合物、およびアクリル系粘着剤(SKダイン1310;綜研化学(株)製)を使用する代わりに、テトラアザポルフィリン化合物、およびアクリル系粘着剤を表2に示す通りに変更した以外は、実施例7に記載の方法により試験サンプルを作製した。作製した試験サンプルに関して、実施例7と同様に測定、評価した結果を表2に示した。
Examples 8-12
In Example 7, instead of using the compound of exemplary compound number (P-2) and the acrylic pressure-sensitive adhesive (SK Dyne 1310; manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), a tetraazaporphyrin compound and an acrylic pressure-sensitive adhesive were used. Test samples were prepared by the method described in Example 7 except that the changes were made as shown in Table 2. Table 2 shows the results of measurement and evaluation on the produced test sample in the same manner as in Example 7.

比較例3〜4
実施例7において、例示化合物番号(P−2)の化合物、およびアクリル系粘着剤(SKダイン1310;綜研化学(株)製)を使用する代わりに、比較例1〜2で使用したテトラアザポルフィリン化合物、およびアクリル系粘着剤を表2に示す通りに変更した以外は、実施例7に記載の方法により試験サンプルを作製した。作製した試験サンプルに関して、実施例7と同様に測定、評価した結果を表2に示した。
Comparative Examples 3-4
In Example 7, instead of using the compound of exemplary compound number (P-2) and the acrylic pressure-sensitive adhesive (SK Dyne 1310; manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), tetraazaporphyrin used in Comparative Examples 1 and 2 A test sample was prepared by the method described in Example 7 except that the compound and the acrylic pressure-sensitive adhesive were changed as shown in Table 2. Table 2 shows the results of measurement and evaluation on the produced test sample in the same manner as in Example 7.

SK1310 ; アクリル系粘着剤(SKダイン1310;綜研化学(株)製)
SK2094 ; アクリル系粘着剤(SKダイン2094;綜研化学(株)製)
BPS5896; アクリル系粘着剤
(オリバインBPS5896;東洋インキ製造(株)製)
表2に示した結果より、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物と粘着剤を含有する本発明の試験サンプルは、比較例で示したテトラアザポルフィリン化合物を含有した比較の試験サンプルに比べ、耐光性に優れることがわかった。
SK1310; Acrylic adhesive (SK Dyne 1310; manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)
SK2094; Acrylic adhesive (SK Dyne 2094; manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)
BPS5896; acrylic adhesive
(Olivein BPS5896; manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.)
From the results shown in Table 2, the test sample of the present invention containing the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) and the pressure-sensitive adhesive is a comparative test sample containing the tetraazaporphyrin compound shown in the comparative example. It was found to be superior in light resistance compared to.

実施例13
メチルエチルケトン/シクロヘキサノン(50:50質量%)溶媒に、アクリル系粘着剤(SKダイン1310;綜研化学(株)製)を超音波分散機で十分に溶解させて、不揮発分濃度5質量%となるように希釈液を調整した。さらに、この希釈液に、例示化合物番号(P−2)の化合物と、近赤外線吸収化合物として、ジイモニウム塩化合物(Q−1)を溶解させて分散液とし、ガラス基板上にスピンコーターで塗工、乾燥して試験サンプルとした。

なお、例示化合物番号(P−2)の化合物は、乾燥したアクリル系粘着剤の中で0.2質量%、ジイモニウム塩化合物(Q−1)は、乾燥したアクリル系粘着剤の中で0.7質量%含有するように分散液を調整した。
上記で作製した試験サンプルに付いて実施例1と同様に測定、評価した結果を表3に示した。
Example 13
Acrylic adhesive (SK Dyne 1310; manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) is sufficiently dissolved in a methyl ethyl ketone / cyclohexanone (50:50 mass%) solvent with an ultrasonic disperser so that the nonvolatile content concentration becomes 5 mass%. The diluted solution was adjusted. Further, the compound of the exemplified compound number (P-2) and the diimonium salt compound (Q-1) as a near infrared ray absorbing compound are dissolved in this diluted solution to form a dispersion, which is coated on a glass substrate with a spin coater. The sample was dried and used as a test sample.

In addition, the compound of exemplary compound number (P-2) is 0.2 mass% in the dry acrylic adhesive, and the diimonium salt compound (Q-1) is 0.00 in the dry acrylic adhesive. The dispersion was adjusted to contain 7% by mass.
Table 3 shows the results of measurement and evaluation performed on the test sample prepared above in the same manner as in Example 1.

実施例14〜22
実施例13において、例示化合物番号(P−2)の化合物、アクリル系粘着剤(SKダイン1310;綜研化学(株)製)、およびジイモニウム塩化合物(Q−1)を使用する代わりに、テトラアザポルフィリン化合物、アクリル系粘着剤、およびジイモニウム塩化合物を表3に示す通りに変更した以外は、実施例13に記載の方法により試験サンプルを作製した。
作製した試験サンプルに関して、実施例13と同様に測定、評価した結果を表3に示した。
Examples 14-22
In Example 13, instead of using the compound of Exemplified Compound No. (P-2), the acrylic pressure-sensitive adhesive (SK Dyne 1310; manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), and the diimonium salt compound (Q-1), tetraaza A test sample was prepared by the method described in Example 13 except that the porphyrin compound, the acrylic pressure-sensitive adhesive, and the diimonium salt compound were changed as shown in Table 3.
Table 3 shows the results of measurement and evaluation on the produced test sample in the same manner as in Example 13.

比較例5〜6
実施例13において、例示化合物番号(P−2)の化合物、アクリル系粘着剤(SKダイン1310;綜研化学(株)製)、およびジイモニウム塩化合物(Q−1)を使用する代わりに、比較例1〜2で使用したテトラアザポルフィリン化合物、アクリル系粘着剤、およびジイモニウム塩化合物を表3に示す通りに変更した以外は、実施例13に記載の方法により試験サンプルを作製した。
作製した試験サンプルに関して、実施例13と同様に測定、評価した結果を表3に示した。
Comparative Examples 5-6
In Example 13, instead of using the compound of the exemplified compound number (P-2), the acrylic pressure-sensitive adhesive (SK Dyne 1310; manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.), and the diimonium salt compound (Q-1), a comparative example was used. A test sample was prepared by the method described in Example 13, except that the tetraazaporphyrin compound, the acrylic pressure-sensitive adhesive, and the diimonium salt compound used in 1-2 were changed as shown in Table 3.
Table 3 shows the results of measurement and evaluation on the produced test sample in the same manner as in Example 13.

SK1310 ; アクリル系粘着剤(SKダイン1310;綜研化学(株)製)
SK2094 ; アクリル系粘着剤(SKダイン2094;綜研化学(株)製)
BPS5896; アクリル系粘着剤
(オリバインBPS5896;東洋インキ製造(株)製)
ジイモニウム塩化合物 ; Q−2

表1に示した結果より、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物と粘着剤、さらに近赤外線吸収色素としてジイモニウム塩化合物を含有する本発明の試験サンプルは、比較例で示したテトラアザポルフィリン化合物を含有した比較の試験サンプルに比べ、耐光性に優れることがわかった。
SK1310; Acrylic adhesive (SK Dyne 1310; manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)
SK2094; Acrylic adhesive (SK Dyne 2094; manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)
BPS5896; acrylic adhesive
(Olivein BPS5896; manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.)
Diimonium salt compound; Q-2

From the results shown in Table 1, the test sample of the present invention containing the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1), the pressure-sensitive adhesive, and the diimonium salt compound as the near-infrared absorbing dye is the tetra-type shown in the comparative example. It was found to be superior in light resistance as compared with a comparative test sample containing an azaporphyrin compound.

実施例23
トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(厚さ:80μm)を基体とし、その一方の面に、機能性透明層として、次の機能性透明膜をロール・ツー・ロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにITO微粒子(平均粒径:10nm)を分散させた塗工液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化させて、導電性ハードコート膜(膜厚:3μm)を形成した。その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工し、90℃で乾燥、熱硬化させて、屈折率1.4の反射防止膜(膜厚:100nm)を形成し、ハードコート機能(鉛筆硬度:2H)、反射防止機能(表面の可視光線反射率:0.9%)、帯電防止機能(面抵抗:7×10Ω/□)、防汚機能を有する機能性透明膜を形成した。
Example 23
A triacetyl cellulose (TAC) film (thickness: 80 μm) was used as a substrate, and the following functional transparent film was continuously formed on one surface as a functional transparent layer by roll-to-roll. That is, a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin, and a coating liquid in which ITO fine particles (average particle size: 10 nm) are further dispersed is applied with a gravure coater and UV cured to form a conductive hard coat film. (Film thickness: 3 μm) was formed. A fluorine-containing organic compound solution is coated on the microgravure coater, dried at 90 ° C and thermally cured to form an antireflective film (film thickness: 100 nm) with a refractive index of 1.4. Hard coat function (Pencil hardness: 2H), antireflection function (surface visible light reflectance: 0.9%), antistatic function (surface resistance: 7 × 10 9 Ω / □), functional transparent film having antifouling function Formed.

一方、酢酸エチル/トルエン(50:50質量%)溶媒に、例示化合物番号(P−2)の化合物を溶解させて希釈液とした。
アクリル系粘着剤(80質量%)と、この例示化合物番号(P−2)の化合物を含む希釈液(20質量%)を混合し、機能性透明膜/TACフィルムのTAC面上に、コンマコーターにより乾燥膜厚25μmに塗工し、乾燥させて、透明粘着層を形成した。透明粘着層面に離型フィルムをラミネートしてロール状に巻き取り、離型フィルムを有するディスプレイ用フィルタを作製した。
なお、例示化合物番号(P−2)の化合物は、乾燥した粘着剤の中で1650質量ppm含有するように、希釈液を調製した。
On the other hand, the compound of Exemplified Compound No. (P-2) was dissolved in an ethyl acetate / toluene (50:50 mass%) solvent to prepare a diluted solution.
An acrylic pressure-sensitive adhesive (80% by mass) and a diluent (20% by mass) containing the compound of this exemplified compound number (P-2) are mixed, and a comma coater is formed on the TAC surface of the functional transparent film / TAC film. Was applied to a dry film thickness of 25 μm and dried to form a transparent adhesive layer. A release film was laminated on the surface of the transparent adhesive layer and wound into a roll to produce a display filter having a release film.
In addition, the dilution liquid was prepared so that the compound of exemplary compound number (P-2) might contain 1650 mass ppm in the dried adhesive.

さらに、該ディスプレイ用フィルタをシート状に裁断し、離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面(表示部920mm×520mm)に、枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、表示部全体に透明粘着層部を貼合わせるようにシート裁断、貼り位置合わせを行なった。貼合わせた後、60℃、2×10Paの条件下でオートクレーブ処理し、ディスプレイ用フィルタを装着した表示装置を得た。
次に、上記で作製した表示装置に関して、発光色の色純度を測定し評価した。評価結果を表2に示した。
<発光色の色純度>
三原色である赤色(R)表示、緑色(G)表示、青色(B)表示において、ミノルタ(株)製のCRTカラーアナライザ(CA100)を用いて、RGB色度(x、y)を測定した。三原色の色度がNTSC方式で定められた色度に近いほど好ましいといえる。
Furthermore, the display filter was cut into a sheet shape, the release film was peeled off, and was bonded to the front surface of the plasma display panel (display portion 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator. At this time, sheet cutting and bonding position alignment were performed so that the transparent adhesive layer portion was bonded to the entire display portion. After pasting, it was autoclaved at 60 ° C. and 2 × 10 5 Pa to obtain a display device equipped with a display filter.
Next, regarding the display device produced above, the color purity of the luminescent color was measured and evaluated. The evaluation results are shown in Table 2.
<Color purity of luminescent color>
In the three primary colors red (R), green (G) and blue (B), RGB chromaticity (x, y) was measured using a CRT color analyzer (CA100) manufactured by Minolta. It can be said that the closer the chromaticity of the three primary colors is to the chromaticity determined by the NTSC system, the better.

実施例24〜27
実施例23において、粘着層の形成に際し、例示化合物番号(P−2)の化合物を使用する代わりに、例示化合物番号(P−16)の化合物(実施例22)、例示化合物番号(P−32)の化合物(実施例23)、例示化合物番号(P−57)の化合物(実施例24)、例示化合物番号(P−81)の化合物(実施例25)、を使用した以外は、実施例23に記載の方法により、ディスプレイ用フィルタを作製し、さらに、該ディスプレイ用フィルタを装着した表示装置を得た。
上記で作製した表示装置に関して、実施例23と同様に測定、評価した結果を表4に示した。
Examples 24-27
In Example 23, instead of using the compound of exemplary compound number (P-2) in forming the adhesive layer, the compound of exemplary compound number (P-16) (Example 22), the exemplary compound number (P-32) ), The compound of Example Compound No. (P-57) (Example 24), and the compound of Example Compound No. (P-81) (Example 25). A display filter was produced by the method described in 1. and a display device equipped with the display filter was obtained.
Table 4 shows the results of measurement and evaluation on the display device manufactured as described above in the same manner as in Example 23.

比較例7
実施例23において、粘着層の形成に際し、例示化合物番号(P−2)の化合物を使用しない以外は、実施例23に記載の方法により、ディスプレイ用フィルタを作製し、さらに、該ディスプレイ用フィルタを装着した表示装置を得た。
上記で作製した表示装置に関して、実施例23と同様に測定、評価した結果を表4に示した。
Comparative Example 7
In Example 23, a display filter was prepared by the method described in Example 23 except that the compound of the exemplified compound number (P-2) was not used in forming the adhesive layer. A mounted display device was obtained.
Table 4 shows the results of measurement and evaluation on the display device manufactured as described above in the same manner as in Example 23.

比較例8
実施例23において、粘着層の形成に際し、例示化合物番号(P−2)の化合物を使用する代わりに、比較化合物として、特開2002−129052号公報の合成例1に記載の化合物(G−2)を使用した以外は、実施例23に記載の方法により、ディスプレイ用フィルタを作製し、さらに、該ディスプレイ用フィルタを装着した表示装置を得た。
上記で作製した表示装置に関して、実施例23と同様に測定、評価した結果を表4に示した。
Comparative Example 8
In Example 23, instead of using the compound of Exemplified Compound No. (P-2) in forming the adhesive layer, the compound (G-2 described in Synthesis Example 1 of JP-A No. 2002-129052 was used as a comparative compound. ) Was used to produce a display filter by the method described in Example 23, and a display device equipped with the display filter was obtained.
Table 4 shows the results of measurement and evaluation on the display device manufactured as described above in the same manner as in Example 23.

表4から、本発明のディスプレイ用フィルタを装着したプラズマディスプレイの色純度、特に赤色の色純度が、大きく改善されていることが判る。
From Table 4, it can be seen that the color purity of the plasma display equipped with the display filter of the present invention, particularly the color purity of red, is greatly improved.

特定構造のテトラアザポルフィリン化合物を含有してなる本発明のディスプレイ用フィルタは、光学特性に優れ、且つ耐久性に優れており、各種ディスプレイ用のフィルタとして使用することができる。
The display filter of the present invention containing a tetraazaporphyrin compound having a specific structure is excellent in optical properties and durability, and can be used as a filter for various displays.

11:機能性透明層(A)
12:基体(B)
13:透明粘着層(C)

21:機能性透明層(A)
22:基体(B)
23:透明粘着層(C)
24:透明導電層(D)

31:機能性透明層(A)
32:基体(B)
33:透明粘着層(C)
34:透明導電層(D)

42:基体(B)

53:透明粘着層(C)

62:基体(B)
63:透明粘着層(C)

71:機能性透明層(A)
72:基体(B)



11: Functional transparent layer (A)
12: Substrate (B)
13: Transparent adhesive layer (C)

21: Functional transparent layer (A)
22: Substrate (B)
23: Transparent adhesive layer (C)
24: Transparent conductive layer (D)

31: Functional transparent layer (A)
32: Substrate (B)
33: Transparent adhesive layer (C)
34: Transparent conductive layer (D)

42: Substrate (B)

53: Transparent adhesive layer (C)

62: Substrate (B)
63: Transparent adhesive layer (C)

71: Functional transparent layer (A)
72: Substrate (B)



Claims (3)

基材中または基材表面に、一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物を少なくとも1種含有してなるディスプレイ用フィルタ。
〔式中、Mは2個の水素原子、2価の金属原子、あるいは酸化金属原子を表し、X〜Xはそれぞれ独立に、直鎖または分岐のアルキル基、あるいは直鎖または分岐のアルコキシ基を表し、Y〜Yはそれぞれ独立に、炭素数3〜5の直鎖もしくは分岐のアルキル基、下記の式(1−a)、式(1−b)、式(1−c)、または式(1−d)で示される基を表す〕
〔式(1−a)中、Zはフッ素原子、あるいは塩素原子を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す〕
〔式(1−b)中、Zはフッ素原子、あるいは塩素原子を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。但し、RおよびRが同時に水素原子を表すことはない〕
〔式(1−c)中、Rは水素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表し、RおよびRはそれぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す〕
〔式(1−d)中、R〜R10はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルキル基、あるいは炭素数1〜5の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。但し、RおよびR10が同時に水素原子を表すことはない〕
A display filter comprising at least one tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) in a substrate or on a substrate surface.
[Wherein, M represents two hydrogen atoms, a divalent metal atom, or a metal oxide atom, and X 1 to X 4 each independently represent a linear or branched alkyl group, or a linear or branched alkoxy group. Y 1 to Y 4 each independently represents a linear or branched alkyl group having 3 to 5 carbon atoms, the following formula (1-a), formula (1-b), formula (1-c) Or a group represented by the formula (1-d)]
[In Formula (1-a), Z 1 represents a fluorine atom or a chlorine atom, and R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a straight chain or branched chain having 1 to 5 carbon atoms Or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms]
[In Formula (1-b), Z 2 represents a fluorine atom or a chlorine atom, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a straight chain or branched chain having 1 to 5 carbon atoms Or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. However, R 3 and R 4 do not represent a hydrogen atom at the same time.
[In the formula (1-c), R 5 represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and R 6 and R 7 each independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.
[In Formula (1-d), R 8 to R 10 are each independently a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a linear or branched alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Represents. However, R 9 and R 10 do not represent a hydrogen atom at the same time.
前記一般式(1)で表されるテトラアザポルフィリン化合物が、透明粘着層に含有されていることを特徴とする請求項1に記載のディスプレイ用フィルタ。   The display-use filter according to claim 1, wherein the tetraazaporphyrin compound represented by the general formula (1) is contained in a transparent adhesive layer. 請求項1〜2のいずれかに記載のディスプレイ用フィルタを具備してなるディスプレイ装置。
























A display device comprising the display filter according to claim 1.
























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