JP2012163525A - Temperature measuring instrument, deposition device and deposited substrate manufacturing method - Google Patents

Temperature measuring instrument, deposition device and deposited substrate manufacturing method Download PDF

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JP2012163525A JP2011026052A JP2011026052A JP2012163525A JP 2012163525 A JP2012163525 A JP 2012163525A JP 2011026052 A JP2011026052 A JP 2011026052A JP 2011026052 A JP2011026052 A JP 2011026052A JP 2012163525 A JP2012163525 A JP 2012163525A
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Makoto Takada
高田  誠
Masayuki Hirabayashi
誠之 平林
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Sumitomo Heavy Industries Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a temperature measuring instrument with improved heat insulation capacity and improved heat resistance, a deposition device equipped with the same and a deposited substrate manufacturing method using the same.SOLUTION: A temperature measuring instrument resists heat by keeping a logger 2, which logs a signal from a temperature detection part 1, in an inner container 3 and by keeping the inner container 3 in outer containers 4 to 6. The outer containers 4 to 6 comprise multiple wall bodies including space portions at prescribed intervals in a board thickness direction, which reduce heat conduction between adjacent wall bodies in the board thickness direction. Similarly, a space portion is formed between the outer container 4 and the inner container 3, and a space portion is formed between the inner container 3 and the logger 2. Moreover, the wall bodies of the outer containers are formed with materials with higher heat conductivity and smaller heat capacity than the material of the inner container. As a result, since heat received at the outer containers is transferred within the same wall bodies and is homogenized, generation of a local hot section is prevented.

Description

本発明は、温度測定器、成膜装置、及び成膜基板製造方法に関するものである。   The present invention relates to a temperature measuring device, a film forming apparatus, and a film forming substrate manufacturing method.

従来、例えば、真空チャンバ内で基板の処理などを行う成膜装置は、チャンバ内を加熱又は冷却すると共に、チャンバ内の温度を測定している。そのため、温度測定用のセンサがチャンバに固定されている。そして、成膜処理を行う真空チャンバ内は、高温環境であるため、センサ類を断熱材で保護する必要がある。   2. Description of the Related Art Conventionally, for example, a film forming apparatus that performs substrate processing in a vacuum chamber heats or cools the inside of the chamber and measures the temperature in the chamber. Therefore, a temperature measurement sensor is fixed to the chamber. And since the inside of the vacuum chamber which performs a film-forming process is a high temperature environment, it is necessary to protect sensors with a heat insulating material.

真空環境における断熱技術としては、下記特許文献1に記載の多層断熱ブランケットが知られている。この特許文献1に記載の技術では、断熱性能の改善を目的として、例えば、金属が蒸着されたフィルムを積層することで、ふく射による伝熱を抑制している。   As a heat insulation technique in a vacuum environment, a multilayer heat insulation blanket described in Patent Document 1 below is known. In the technique described in Patent Document 1, for the purpose of improving heat insulation performance, for example, by laminating films deposited with metal, heat transfer due to radiation is suppressed.

特開2004−251369号公報JP 2004-251369 A

ここで、成膜基板の製造工程において、品質管理の一貫として、基板の温度履歴を計測することが求められている。上記のチャンバに固定された温度センサでは、設置部近傍の温度しか計測することができないため、移動する基板の温度履歴を計測することは困難であった。また、成膜チャンバ内の温度は、高温環境となるため、断熱性能の向上が求められている。従来の断熱構造では、高温環境に耐えられず、センサに接続された記録部が壊れてしまい、温度履歴を計測することができないという問題があった。   Here, in the manufacturing process of the deposition substrate, it is required to measure the temperature history of the substrate as part of quality control. Since the temperature sensor fixed to the chamber can only measure the temperature in the vicinity of the installation part, it is difficult to measure the temperature history of the moving substrate. In addition, since the temperature in the film forming chamber becomes a high temperature environment, improvement in heat insulation performance is required. The conventional heat insulation structure has a problem that it cannot withstand a high temperature environment, the recording unit connected to the sensor is broken, and the temperature history cannot be measured.

本発明は、上記の課題を解決するために成されたものであり、断熱性能が向上され、耐熱温度の向上が図られた温度測定器を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a temperature measuring instrument with improved heat insulation performance and improved heat resistance temperature.

また、本発明は、上記の課題を解決するために成されたものであり、断熱性能が向上され、耐熱温度の向上が図られた温度測定器を備え、基板の温度履歴を測定することが可能な成膜装置を提供することを目的とする。   In addition, the present invention is made to solve the above-described problems, and includes a temperature measuring instrument with improved heat insulation performance and improved heat resistant temperature, and can measure the temperature history of the substrate. An object of the present invention is to provide a possible film forming apparatus.

また、本発明は、上記の課題を解決するために成されたものであり、基板の温度履歴を測定することが可能な成膜基板製造方法を提供することを目的とする。   Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a film-formed substrate that can measure the temperature history of the substrate.

本発明による温度測定器は、温度に関する信号を記録する記録部が断熱容器内に収容された温度測定器であって、断熱容器は、記録部との間に隙間部を形成し記録部を収容する内側容器と、内側容器との間に隙間部を形成し、内側容器を収容する外側容器と、を備え、外側容器の壁体は、内側容器の材質と比較して、熱伝導率が高く、かつ、熱容量が小さい材質によって形成されていることを特徴としている。   The temperature measuring device according to the present invention is a temperature measuring device in which a recording unit for recording a signal relating to temperature is accommodated in a heat insulating container, and the heat insulating container forms a gap between the recording unit and accommodates the recording unit. A gap between the inner container and the outer container. The outer container wall body has a higher thermal conductivity than the inner container material. And it is formed by the material with small heat capacity.

このような温度測定器は、温度検出部から出力された信号を記録する記録部が、内側容器に収容され、その内側容器は、外側容器に収容されることで断熱されている。具体的には、外側容器と内側容器との間に隙間部を有し、内側容器と記録部との間に隙間部を有する構成であるため、外側容器と記録部との間の熱伝導による伝熱を限りなく減らすことができる。温度測定器が真空環境で使用される場合には、対流熱伝達による伝熱を考慮する必要がないため、ほどんど、ふく射のみの伝熱とすることができる。さらに、温度測定器は、外側容器の壁体の材質が、内側容器の材質と比較して、熱伝導率が高く、かつ、熱容量が小さい材質によって形成されている。これにより、外側容器で受けた熱を、同一壁体において熱伝導により伝熱することで、同一壁体内の温度を均一化することができる。すなわち、外側容器において、局所的な高温部の発生を抑えて、熱を分散させることができる。また、内側容器を、外側容器と比較して熱容量が大きいものとすることが可能であるため、記録部に最も近い内側容器に対して、局所的な伝熱を回避すると共に、温度上昇を抑制することが可能となる。これらにより、断熱性能が向上され、耐熱温度の向上が図られた温度測定器を提供することができる。   In such a temperature measuring device, a recording unit for recording a signal output from the temperature detection unit is accommodated in the inner container, and the inner container is insulated by being accommodated in the outer container. Specifically, since the gap portion is provided between the outer container and the inner container and the gap portion is provided between the inner container and the recording portion, the heat conduction between the outer container and the recording portion is caused. Heat transfer can be reduced without limit. When the temperature measuring device is used in a vacuum environment, it is not necessary to consider heat transfer due to convective heat transfer, so that only heat transfer can be achieved. Further, in the temperature measuring device, the material of the wall of the outer container is made of a material having a higher thermal conductivity and a smaller heat capacity than the material of the inner container. Thereby, the temperature received in the outer container is transferred by heat conduction in the same wall body, so that the temperature in the same wall body can be made uniform. That is, in the outer container, it is possible to disperse heat while suppressing the occurrence of local high temperature portions. In addition, since the inner container can have a larger heat capacity than the outer container, local heat transfer is avoided and temperature rise is suppressed for the inner container closest to the recording unit. It becomes possible to do. Accordingly, it is possible to provide a temperature measuring instrument with improved heat insulation performance and improved heat resistant temperature.

ここで、外側容器は、板厚方向に互いに離間して配置された複数の壁体を有することが好適である。外側容器は、板厚方向に所定間隔の隙間部を有する複数枚の壁体により構成されているため、板厚方向に隣接する壁体同士の熱伝導による伝熱を限りなく減らすことができる。温度測定器が真空環境で使用される場合には、対流熱伝達による伝熱を考慮する必要がないため、ほとんど、ふく射のみで伝熱されることになる。このような構成の外側容器によれば、断熱性能を一層向上させることができる。   Here, it is preferable that the outer container has a plurality of wall bodies that are arranged apart from each other in the plate thickness direction. Since the outer container is composed of a plurality of wall bodies having gaps at a predetermined interval in the plate thickness direction, heat transfer due to heat conduction between the wall bodies adjacent in the plate thickness direction can be reduced as much as possible. When the temperature measuring device is used in a vacuum environment, it is not necessary to consider heat transfer due to convective heat transfer, so that the heat is transferred almost exclusively by radiation. According to the outer container having such a configuration, the heat insulation performance can be further improved.

また、内側容器及び外側容器の壁体には、温度検出部と記録部とを電気的に接続する配線を通過させる貫通孔が設けられ、各壁体に設けられた貫通孔は、互いの軸心がずれて配置されていることが好ましい。これにより、外側容器と、内側容器とに設けられた貫通孔が、同一の軸線上に配置されることを防止することができ、外側容器の外部と、内側容器の内部とが、一連の貫通孔によって直接的に連通することが防止される。その結果、断熱性能の向上を図ることができる。   Further, the inner container and the outer container wall are provided with through-holes through which wires for electrically connecting the temperature detection unit and the recording unit are passed. It is preferable that they are arranged out of focus. Thereby, it is possible to prevent the through holes provided in the outer container and the inner container from being arranged on the same axis, and the outside of the outer container and the inside of the inner container are connected through a series of through holes. Direct communication with the hole is prevented. As a result, the heat insulation performance can be improved.

また、内側容器は、銅によって形成され、外側容器は、ステンレス鋼によって形成されていることが好適である。このように外側容器の壁体をステンレス鋼によって構成し、内側容器を銅によって構成することで、外側容器の壁体内の温度を均一化することができる。また、内側容器を、外側容器と比較して熱容量が大きいものとすることができ、断熱性能を向上させることが可能となる。   The inner container is preferably made of copper, and the outer container is preferably made of stainless steel. Thus, the wall body of an outer side container can be equalize | homogenized by comprising the wall body of an outer side container with stainless steel, and comprising an inner side container with copper. In addition, the inner container can have a larger heat capacity than the outer container, and the heat insulation performance can be improved.

また、記録部は、セラミックからなるブロック体によって支持されていることが好ましい。これにより、熱伝導率が比較的低いセラミックを用いて、内側容器と記録部との間の隙間を確保して記録部を支持することが可能である。   The recording unit is preferably supported by a block body made of ceramic. Accordingly, it is possible to support the recording unit by securing a gap between the inner container and the recording unit using a ceramic having a relatively low thermal conductivity.

また、本発明の成膜装置は、基板に薄膜層を成膜する成膜装置であって、薄膜層を成膜するための成膜材料が設置され、基板上に薄膜層を成膜する成膜室と、基板を搬送する搬送手段と、基板の搬送に連動して移動可能であり、基板の温度に関する信号を記録する記録部が断熱容器内に収容された温度測定器と、を具備し、温度測定器の断熱容器は、温度検出部から出力された温度に関する信号を記録する記録部と、記録部との間に隙間部を形成し記録部を収容する内側容器と、板厚方向に互いに離間して配置された複数の壁体を有し、内側容器との間に隙間部を形成し、内側容器を収容する外側容器と、を備え、外側容器の壁体は、内側容器の材質と比較して、熱伝導率が高く、かつ、熱容量が低い材質から形成されていることを特徴としている。   The film forming apparatus of the present invention is a film forming apparatus for forming a thin film layer on a substrate, and is provided with a film forming material for forming the thin film layer and forming the thin film layer on the substrate. A film chamber; a transport means for transporting the substrate; and a temperature measuring device that is movable in conjunction with the transport of the substrate and that has a recording unit that records a signal related to the temperature of the substrate housed in a heat insulating container. The heat insulation container of the temperature measuring device includes a recording unit that records a signal related to the temperature output from the temperature detection unit, an inner container that forms a gap portion between the recording unit and accommodates the recording unit, and a plate thickness direction. A plurality of wall bodies spaced apart from each other, forming a gap between the inner container and an outer container for accommodating the inner container, wherein the outer container wall body is made of a material of the inner container Compared to the above, it is made of a material with high thermal conductivity and low heat capacity. There.

このような成膜装置は、基板の搬送に連動して移動可能とされ、基板の温度履歴を測定可能な温度測定器を備えている。この温度測定器は、温度検出部から出力された信号を記録する記録部が、内側容器に収容され、その内側容器は、外側容器に収容されることで断熱されている。具体的には、外側容器と内側容器との間に隙間部を有し、内側容器と記録部との間に隙間部を有する構成であるため、外側容器と記録部との間の熱伝導による伝熱を限りなく減らすことができる。温度測定器が真空環境で使用される場合には、対流熱伝達による伝熱を考慮する必要がないため、ほとんど、ふく射のみで伝熱されることになる。さらに、温度測定器は、外側容器の壁体の材質が、内側容器の材質と比較して、熱伝導率が高く、かつ、熱容量が小さい材質によって形成されている。これにより、外側容器で受けた熱を、同一壁体において熱伝導により伝熱することで、同一壁体内の温度を均一化することができる。すなわち、外側容器において、局所的な高温部の発生を抑えて、熱を分散させることができる。また、内側容器を、外側容器と比較して熱容量が大きいものとすることが可能であるため、記録部に最も近い内側容器に対して、局所的な伝熱を回避すると共に、温度上昇を抑制することが可能となる。これらにより、断熱性能が向上され、耐熱温度の向上が図られた温度測定器を備えた成膜装置を提供することができる。なお、温度測定器の移動は、基板を搬送する搬送手段によって行われる温度測定器の搬送でもよく、基板の搬送手段とは別に記録部を搬送させる専用の搬送手段によって行われる温度測定器の搬送でもよい。基板の搬送に連動して温度測定器を移動可能とは、温度測定器を基板と共に搬送可能な場合に限定されず、温度測定器と基板とを併走可能な場合も含まれるものである。   Such a film forming apparatus includes a temperature measuring device that can move in conjunction with the transport of the substrate and can measure the temperature history of the substrate. In this temperature measuring device, a recording unit for recording a signal output from the temperature detection unit is accommodated in an inner container, and the inner container is insulated by being accommodated in an outer container. Specifically, since the gap portion is provided between the outer container and the inner container and the gap portion is provided between the inner container and the recording portion, the heat conduction between the outer container and the recording portion is caused. Heat transfer can be reduced without limit. When the temperature measuring device is used in a vacuum environment, it is not necessary to consider heat transfer due to convective heat transfer, so that the heat is transferred almost exclusively by radiation. Further, in the temperature measuring device, the material of the wall of the outer container is made of a material having a higher thermal conductivity and a smaller heat capacity than the material of the inner container. Thereby, the temperature received in the outer container is transferred by heat conduction in the same wall body, so that the temperature in the same wall body can be made uniform. That is, in the outer container, it is possible to disperse heat while suppressing the occurrence of local high temperature portions. In addition, since the inner container can have a larger heat capacity than the outer container, local heat transfer is avoided and temperature rise is suppressed for the inner container closest to the recording unit. It becomes possible to do. Accordingly, it is possible to provide a film forming apparatus including a temperature measuring instrument that has improved heat insulation performance and improved heat-resistant temperature. The temperature measuring device may be moved by a temperature measuring device transported by a transporting device that transports the substrate, or by a dedicated transporting device that transports the recording unit separately from the substrate transporting device. But you can. The fact that the temperature measuring device can be moved in conjunction with the conveyance of the substrate is not limited to the case where the temperature measuring device can be conveyed together with the substrate, but also includes the case where the temperature measuring device and the substrate can run together.

ここで、外側容器は、板厚方向に互いに離間して配置された複数の壁体を有することが好適である。外側容器は、板厚方向に所定間隔の隙間部を有する複数枚の壁体により構成されているため、板厚方向に隣接する壁体同士の熱伝導による伝熱を限りなく減らすことができる。温度測定器が真空環境で使用される場合には、対流熱伝達による伝熱を考慮する必要がないため、ほとんど、ふく射のみで伝熱されることになる。このような構成の外側容器によれば、断熱性能を一層向上させることができる。   Here, it is preferable that the outer container has a plurality of wall bodies that are arranged apart from each other in the plate thickness direction. Since the outer container is composed of a plurality of wall bodies having gaps at a predetermined interval in the plate thickness direction, heat transfer due to heat conduction between the wall bodies adjacent in the plate thickness direction can be reduced as much as possible. When the temperature measuring device is used in a vacuum environment, it is not necessary to consider heat transfer due to convective heat transfer, so that the heat is transferred almost exclusively by radiation. According to the outer container having such a configuration, the heat insulation performance can be further improved.

また、内側容器及び外側容器の壁体には、温度検出部と記録部とを電気的に接続する配線を通過させる貫通孔が設けられ、各壁体に設けられた貫通孔は、互いの軸心がずれて配置されていることが好ましい。これにより、外側容器と、内側容器とに設けられた貫通孔が、同一の軸線上に配置されることを防止することができ、外側容器の外部と、内側容器の内部とが、一連の貫通孔によって直接的に連通することが防止される。その結果、断熱性能の向上を図ることができる。   Further, the inner container and the outer container wall are provided with through-holes through which wires for electrically connecting the temperature detection unit and the recording unit are passed. It is preferable that they are arranged out of focus. Thereby, it is possible to prevent the through holes provided in the outer container and the inner container from being arranged on the same axis, and the outside of the outer container and the inside of the inner container are connected through a series of through holes. Direct communication with the hole is prevented. As a result, the heat insulation performance can be improved.

また、内側容器は、ステンレス鋼によって形成され、外側容器は、銅によって形成されていることが好適である。このように外側容器の壁体を銅によって構成し、内側容器をステンレス銅によって構成することで、外側容器の壁体内の温度を均一化することができる。また、内側容器を、外側容器と比較して熱容量が大きいものとすることができ、断熱性能を向上させることが可能となる。   Further, it is preferable that the inner container is made of stainless steel and the outer container is made of copper. Thus, the wall body of an outer side container can be equalize | homogenized by comprising the wall body of an outer side container with copper, and comprising an inner side container with stainless steel copper. In addition, the inner container can have a larger heat capacity than the outer container, and the heat insulation performance can be improved.

また、記録部は、セラミックからなるブロック体によって支持されていることが好ましい。これにより、熱伝導率が比較的低いセラミックを用いて、内側容器と記録部との間の隙間を確保して記録部を支持することが可能である。   The recording unit is preferably supported by a block body made of ceramic. Accordingly, it is possible to support the recording unit by securing a gap between the inner container and the recording unit using a ceramic having a relatively low thermal conductivity.

また、本発明の成膜基板製造方法は、基板上に薄膜層が成膜された成膜基板を製造する方法であって、薄膜層を成膜するための成膜材料が設置された成膜室内で、基板上に薄膜層を成膜する成膜工程と、基板を搬送する搬送工程と、基板の温度履歴を測定する温度測定器の記録部を断熱容器内に収容し、温度測定器を基板の搬送に連動して移動させながら温度履歴を測定する温度測定工程と、を備えることを特徴としている。   Further, the film formation substrate manufacturing method of the present invention is a method for manufacturing a film formation substrate in which a thin film layer is formed on a substrate, and a film formation material in which a film formation material for forming a thin film layer is installed is provided. In a room, a film forming process for forming a thin film layer on a substrate, a transporting process for transporting the substrate, and a recording unit of a temperature measuring device for measuring the temperature history of the substrate are housed in a heat insulating container, And a temperature measuring step of measuring a temperature history while moving in conjunction with the conveyance of the substrate.

このような成膜基板製造方法では、基板の搬送に連動させて、温度測定器を移動しながら基板の温度履歴を測定する温度測定工程を備える構成であるため、基板の温度履歴を計測することができる。なお、基板の搬送に連動して温度測定器を移動させるとは、温度測定器を基板と共に搬送させる場合に限定されず、温度測定器と基板とを併走させる場合も含まれるものである。   In such a film formation substrate manufacturing method, the temperature history of the substrate is measured because the temperature measurement step of measuring the temperature history of the substrate while moving the temperature measuring device is interlocked with the conveyance of the substrate. Can do. The movement of the temperature measuring device in conjunction with the transport of the substrate is not limited to the case where the temperature measuring device is transported together with the substrate, but includes the case where the temperature measuring device and the substrate are run together.

本発明の温度測定器によれば、記録部を保護する内側容器及び外側容器を備え、これらの内側容器及び外側容器によって断熱性能の向上が図られているため、耐熱温度の向上を図り、高温環境での温度測定を可能とすることができる。   According to the temperature measuring device of the present invention, the inner container and the outer container that protect the recording unit are provided, and the heat insulation performance is improved by the inner container and the outer container. Temperature measurement in the environment can be made possible.

本発明の成膜装置によれば、断熱性能が向上され、耐熱温度の向上が図られた温度測定器を備え、基板の温度履歴を測定することができる。   According to the film forming apparatus of the present invention, it is possible to measure the temperature history of the substrate by providing a temperature measuring device with improved heat insulation performance and improved heat resistant temperature.

本発明の成膜基板製造方法によれば、温度測定器を用いて、基板の温度履歴を測定することができる。   According to the method for producing a film formation substrate of the present invention, the temperature history of the substrate can be measured using a temperature measuring device.

本発明の実施形態に係る温度測定器を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the temperature measuring device which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る温度測定器が搭載された搬送トレイを示す平面図である。It is a top view which shows the conveyance tray with which the temperature measuring device which concerns on embodiment of this invention is mounted. 本発明の実施形態に係る温度測定器が搭載された搬送トレイを示す側面図である。It is a side view which shows the conveyance tray with which the temperature measuring device which concerns on embodiment of this invention is mounted. 本発明の実施形態に係る成膜装置を示す概略構成図である。It is a schematic block diagram which shows the film-forming apparatus which concerns on embodiment of this invention.

本発明に係る温度測定器、成膜装置、及び成膜基板製造方法について図面を参照して説明する。なお、「上」、「下」等の方向を示す語は、図面に示される状態に基づいており、便宜的なものである。   A temperature measuring device, a film forming apparatus, and a film forming substrate manufacturing method according to the present invention will be described with reference to the drawings. It should be noted that words indicating directions such as “up” and “down” are based on the state shown in the drawings and are for convenience.

(温度測定器)
図1は、本発明の実施形態に係る温度測定器を示す断面図である。図1に示すように、本実施形態に係る温度測定器10は、温度検出部1、ロガー(記録部)2、第1容器(内側容器)3、第2容器(外側容器)4、第3容器(外側容器)5、第4容器(外側容器)6を備えている。そして、第1容器3、第2容器4、第3容器5、及び第4容器6が、本発明の断熱容器に相当する。
(Temperature measuring device)
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a temperature measuring device according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the temperature measuring device 10 according to this embodiment includes a temperature detection unit 1, a logger (recording unit) 2, a first container (inner container) 3, a second container (outer container) 4, and a third container. A container (outer container) 5 and a fourth container (outer container) 6 are provided. And the 1st container 3, the 2nd container 4, the 3rd container 5, and the 4th container 6 are equivalent to the heat insulation container of this invention.

温度検出部1は、温度を検出するものであり、温度に関する信号を出力可能な構成とされている。例えば、熱電対温度計を適用することが可能である。温度検出部1には、電気信号を伝達可能な配線1aが接続されている。配線1aは、温度検出部1とロガー2とを電気的に接続する。   The temperature detection unit 1 detects temperature and is configured to output a signal related to temperature. For example, a thermocouple thermometer can be applied. A wiring 1a capable of transmitting an electrical signal is connected to the temperature detection unit 1. The wiring 1 a electrically connects the temperature detection unit 1 and the logger 2.

ロガー2は、温度検出部1から出力された信号を受信して記録するものである。ロガー2は、受信した信号を、所定の時間(例えば1秒)ごとに記録する。   The logger 2 receives and records the signal output from the temperature detection unit 1. The logger 2 records the received signal every predetermined time (for example, 1 second).

(第1容器:内側容器)
第1容器3は、ロガー2を収容する容器である。第1容器3は、例えば、箱型を成し、ロガー2を収容する容器本体31と、容器本体31の開口部を覆う蓋体32と、を備えている。容器本体31は、ロガー2を下方から覆う底板(壁体)31a、及びロガー2を側方(4方向)から覆う側板(壁体)31bによって構成されている。これらの底板31a及び側板31bは、隣接する壁体同士の縁部が例えば溶接等により接合されている。蓋体32は、ロガー2を上方から覆う天板(壁板)として機能するものである。蓋体32は、容器本体31に着脱可能な構成とされている。
(First container: inner container)
The first container 3 is a container that houses the logger 2. The first container 3 has, for example, a box shape and includes a container main body 31 that houses the logger 2 and a lid body 32 that covers the opening of the container main body 31. The container main body 31 includes a bottom plate (wall body) 31a that covers the logger 2 from below and a side plate (wall body) 31b that covers the logger 2 from the side (four directions). In these bottom plate 31a and side plate 31b, the edge portions of the adjacent wall bodies are joined by welding or the like, for example. The lid 32 functions as a top plate (wall plate) that covers the logger 2 from above. The lid 32 is configured to be detachable from the container main body 31.

第1容器3を構成する各壁体(31a,31b,32)は、例えば、銅板によって形成されている。銅板の厚さは、例えば0.1mm程度とされている。   Each wall (31a, 31b, 32) which comprises the 1st container 3 is formed with the copper plate, for example. The thickness of the copper plate is, for example, about 0.1 mm.

そして、ロガー2は、セラミック製のブロック体(支持体)12によって、下方から支持されて、底板31a上に載置されている。ロガー2を支持する支持体の形状として、立方体、直方体、円柱体、円筒体、角筒体、板材などが挙げられる。ブロック体12の形状としては、ロガー2と、第1容器3との接触面を小さくするものが、好ましく、これにより、熱伝導による伝熱を減らすことができる。ブロック体12を構成する材料としては、耐熱性を有し熱伝導率が低いセラミックなどが挙げられる。   The logger 2 is supported from below by a ceramic block body (support body) 12 and placed on the bottom plate 31a. Examples of the shape of the support that supports the logger 2 include a cube, a rectangular parallelepiped, a cylinder, a cylinder, a rectangular tube, and a plate material. As the shape of the block body 12, it is preferable to make the contact surface between the logger 2 and the first container 3 small, thereby reducing heat transfer due to heat conduction. Examples of the material constituting the block body 12 include a ceramic having heat resistance and low thermal conductivity.

また、ロガー2は、第1容器3を構成する各壁体(31a,31b,32)に対して、所定の隙間部を有するように配置されている。第1容器3の各壁体とロガー2との間の隙間部の大きさは、例えば1mm程度とされている。ロガー2は、平面視において、底板31aの中央に配置されている。また、第1容器3の壁体(例えば側板31b)には、板厚方向に貫通する貫通孔14が形成され、配線1aが挿通されている。   In addition, the logger 2 is arranged so as to have a predetermined gap portion with respect to each wall body (31a, 31b, 32) constituting the first container 3. The size of the gap between each wall of the first container 3 and the logger 2 is, for example, about 1 mm. The logger 2 is disposed at the center of the bottom plate 31a in plan view. Moreover, the through-hole 14 penetrated in the plate | board thickness direction is formed in the wall body (for example, side plate 31b) of the 1st container 3, and the wiring 1a is penetrated.

(第2容器:外側容器)
第2容器4は、第1容器3を収容する容器である。第2容器4は、例えば、箱型を成し、第1容器3を収容する容器本体41と、容器本体41の開口部を覆う蓋体42と、を備えている。容器本体41は、第1容器3を下方から覆う底板(壁板)41a、及び第1容器3を側方(4方向)から覆う側板(壁板)41bによって構成されている。これらの底板41a及び側板41bは、隣接する壁体同士の縁部が例えば溶接等により接合されている。蓋体42は、第1容器3を上方から覆う天板(壁板)として機能するものである。蓋体42は、容器本体41に着脱可能な構成とされている。
(Second container: outer container)
The second container 4 is a container that houses the first container 3. The second container 4 has, for example, a box shape, and includes a container body 41 that houses the first container 3 and a lid body 42 that covers the opening of the container body 41. The container main body 41 includes a bottom plate (wall plate) 41a that covers the first container 3 from below and a side plate (wall plate) 41b that covers the first container 3 from the side (four directions). In these bottom plate 41a and side plate 41b, the edges of adjacent wall bodies are joined together by welding or the like, for example. The lid body 42 functions as a top plate (wall plate) that covers the first container 3 from above. The lid body 42 is configured to be detachable from the container main body 41.

第2容器4を構成する各壁体(41a,41b,42)は、例えば、ステンレス鋼製の板材によって形成されている。ステンレス鋼製の板材の厚さは、例えば0.5mm程度とされている。   Each wall (41a, 41b, 42) constituting the second container 4 is formed of, for example, a stainless steel plate. The thickness of the stainless steel plate is, for example, about 0.5 mm.

そして、第1容器3は、セラミック製のブロック体(支持体)12によって、下方から支持されて、底板41a上に載置されている。第1容器3を支持する支持体の形状として、立方体、直方体、円柱体、円筒体、角筒体、板材などが挙げられる。ブロック体12の形状としては、第1容器3と、第2容器4との接触面を小さくするものが、好ましく、これにより、熱伝導による伝熱を減らすことができる。ブロック体12を構成する材料としては、耐熱性を有し熱伝導率が低いセラミックなどが挙げられる。   The first container 3 is supported from below by a ceramic block body (support body) 12 and placed on the bottom plate 41a. Examples of the shape of the support that supports the first container 3 include a cube, a rectangular parallelepiped, a cylinder, a cylinder, a rectangular tube, and a plate material. As the shape of the block body 12, it is preferable to make the contact surface between the first container 3 and the second container 4 small, and this can reduce heat transfer by heat conduction. Examples of the material constituting the block body 12 include a ceramic having heat resistance and low thermal conductivity.

また、第1容器3は、第2容器4を構成する各壁体(41a,41b,42)に対して、所定の隙間部を有するように配置されている。第2容器4の各壁体と第1容器3の各壁体との間の隙間部の大きさは、例えば1mm程度とされている。第1容器3は、平面視において、底板41aの中央に配置されている。また、第2容器4の壁体(例えば側板41b)には、板厚方向に貫通する貫通孔14が形成され、配線1aが挿通されている。   Further, the first container 3 is disposed so as to have a predetermined gap portion with respect to each wall body (41 a, 41 b, 42) constituting the second container 4. The size of the gap between each wall of the second container 4 and each wall of the first container 3 is, for example, about 1 mm. The first container 3 is disposed at the center of the bottom plate 41a in plan view. Moreover, the through-hole 14 penetrated in the plate | board thickness direction is formed in the wall body (for example, side plate 41b) of the 2nd container 4, and the wiring 1a is penetrated.

(第3容器:外側容器)
第3容器5は、第2容器4を収容する容器である。第3容器5は、例えば、箱型を成し、第2容器4を収容する容器本体51と、容器本体51の開口部を覆う蓋体52と、を備えている。容器本体51は、第2容器4を下方から覆う底板(壁板)51a、及び第2容器4を側方(4方向)から覆う側板(壁板)51bによって構成されている。これらの底板51a及び側板51bは、隣接する壁体同士の縁部が例えば溶接等により接合されている。蓋体52は、第2容器5を上方から覆う天板(壁板)として機能するものである。蓋体52は、容器本体51に着脱可能な構成とされている。
(Third container: outer container)
The third container 5 is a container that houses the second container 4. The third container 5 has, for example, a box shape and includes a container main body 51 that houses the second container 4 and a lid body 52 that covers the opening of the container main body 51. The container body 51 includes a bottom plate (wall plate) 51a that covers the second container 4 from below, and a side plate (wall plate) 51b that covers the second container 4 from the side (four directions). In these bottom plate 51a and side plate 51b, the edges of adjacent wall bodies are joined together by welding or the like, for example. The lid 52 functions as a top plate (wall plate) that covers the second container 5 from above. The lid body 52 is configured to be detachable from the container main body 51.

第3容器5を構成する各壁体(51a,51b,52)は、例えば、ステンレス鋼製の板材によって形成されている。ステンレス鋼製の板材の厚さは、例えば0.5mm程度とされている。   Each wall (51a, 51b, 52) which comprises the 3rd container 5 is formed with the board | plate material made from stainless steel, for example. The thickness of the stainless steel plate is, for example, about 0.5 mm.

そして、第2容器4は、セラミック製のブロック体(支持体)12によって、下方から支持されて、底板51a上に載置されている。第2容器4を支持する支持体の形状として、立方体、直方体、円柱体、円筒体、角筒体、板材などが挙げられる。ブロック体12の形状としては、第2容器4と、第3容器5との接触面を小さくするものが、好ましく、これにより、熱伝導による伝熱を減らすことができる。ブロック体12を構成する材料としては、耐熱性を有し熱伝導率が低いセラミックなどが挙げられる。   The second container 4 is supported from below by a ceramic block body (support body) 12 and placed on the bottom plate 51a. Examples of the shape of the support that supports the second container 4 include a cube, a rectangular parallelepiped, a cylinder, a cylinder, a rectangular tube, and a plate material. As the shape of the block body 12, it is preferable to make the contact surface between the second container 4 and the third container 5 small, thereby reducing heat transfer due to heat conduction. Examples of the material constituting the block body 12 include a ceramic having heat resistance and low thermal conductivity.

また、第2容器4は、第3容器5構成する各壁体(51a,51b,52)に対して、所定の隙間部を有するように配置されている。第3容器5の各壁体と第2容器4の各壁体との間の隙間部の大きさは、例えば1mm程度とされている。第2容器4は、平面視において、底板51aの中央に配置されている。また、第3容器5の壁体(例えば側板51b)には、板厚方向に貫通する貫通孔14が形成され、配線1aが挿通されている。   Further, the second container 4 is arranged so as to have a predetermined gap with respect to each wall body (51a, 51b, 52) constituting the third container 5. The size of the gap between each wall of the third container 5 and each wall of the second container 4 is, for example, about 1 mm. The second container 4 is disposed at the center of the bottom plate 51a in plan view. Further, a through hole 14 penetrating in the thickness direction is formed in the wall body (for example, the side plate 51b) of the third container 5, and the wiring 1a is inserted therethrough.

(第4容器:外側容器)
第4容器6は、第3容器5を収容する容器である。第4容器6は、例えば、箱型を成し、第3容器5を収容する容器本体61と、容器本体61の開口部を覆う蓋体62と、を備えている。容器本体61は、第3容器5を下方から覆う底板(壁板)61a、及び第3容器5を側方(4方向)から覆う側板(壁板)61bによって構成されている。これらの底板61a及び側板61bは、隣接する壁体同士の縁部が例えば溶接等により接合されている。蓋体62は、第3容器6を上方から覆う天板(壁板)として機能するものである。蓋体62は、容器本体61に着脱可能な構成とされている。
(4th container: outer container)
The fourth container 6 is a container that houses the third container 5. The fourth container 6 has, for example, a box shape, and includes a container main body 61 that houses the third container 5, and a lid 62 that covers the opening of the container main body 61. The container main body 61 includes a bottom plate (wall plate) 61a that covers the third container 5 from below, and a side plate (wall plate) 61b that covers the third container 5 from the side (four directions). In these bottom plate 61a and side plate 61b, the edges of adjacent wall bodies are joined together by welding or the like, for example. The lid 62 functions as a top plate (wall plate) that covers the third container 6 from above. The lid 62 is configured to be detachable from the container main body 61.

第4容器6を構成する各壁体(61a,61b,62)は、例えば、ステンレス鋼製の板材によって形成されている。ステンレス鋼製の板材の厚さは、例えば0.5mm程度とされている。   Each wall (61a, 61b, 62) which comprises the 4th container 6 is formed with the board | plate material made from stainless steel, for example. The thickness of the stainless steel plate is, for example, about 0.5 mm.

そして、第3容器5は、セラミック製のブロック体(支持体)12によって、下方から支持されて、底板61a上に載置されている。第3容器5を支持する支持体の形状として、立方体、直方体、円柱体、円筒体、角筒体、板材などが挙げられる。ブロック体12の形状としては、第3容器5と、第4容器6との接触面を小さくするものが、好ましく、これにより、熱伝導による伝熱を減らすことができる。ブロック体12を構成する材料としては、耐熱性を有し熱伝導率が低いセラミックなどが挙げられる。   The third container 5 is supported from below by a ceramic block body (support body) 12 and placed on the bottom plate 61a. Examples of the shape of the support that supports the third container 5 include a cube, a rectangular parallelepiped, a cylinder, a cylinder, a rectangular tube, and a plate material. As the shape of the block body 12, it is preferable to make the contact surface between the third container 5 and the fourth container 6 small, thereby reducing heat transfer due to heat conduction. Examples of the material constituting the block body 12 include a ceramic having heat resistance and low thermal conductivity.

また、第3容器5は、第4容器6構成する各壁体(61a,61b,62)に対して、所定の隙間部を有するように配置されている。第4容器6の各壁体と第3容器5の各壁体との間の隙間部の大きさは、例えば1mm程度とされている。第3容器5は、平面視において、底板61aの中央に配置されている。また、第4容器6の壁体(例えば側板61b)には、板厚方向に貫通する貫通孔14が形成され、配線1aが挿通されている。なお、第4容器6の外形は、例えば、長さL30cm×幅W20cm×高さH15cm程度とすることができる。   Further, the third container 5 is arranged so as to have a predetermined gap portion with respect to each wall body (61a, 61b, 62) constituting the fourth container 6. The size of the gap between each wall of the fourth container 6 and each wall of the third container 5 is, for example, about 1 mm. The third container 5 is disposed at the center of the bottom plate 61a in plan view. Moreover, the through-hole 14 penetrated in the plate | board thickness direction is formed in the wall body (for example, side plate 61b) of the 4th container 6, and the wiring 1a is penetrated. In addition, the external shape of the 4th container 6 can be made into length L30cm x width W20cm x height H15cm grade, for example.

(作用)
本実施形態の温度測定器10を用いた温度測定について説明する。温度測定器10は、移動する測定対象と共に移動しながらの測定が可能である。温度検出部1は、測定対象部位(例えば、基板上)に配置されている。温度検出部1は、検出した温度に関する信号を出力する。ロガー2は、温度検出部1から出力された信号を受信して記録する。温度測定終了後、ロガー2によって記録された信号を解析することで、温度履歴を取得することができる。
(Function)
Temperature measurement using the temperature measuring device 10 of the present embodiment will be described. The temperature measuring instrument 10 can perform measurement while moving together with a moving measurement object. The temperature detection unit 1 is disposed at a measurement target site (for example, on a substrate). The temperature detector 1 outputs a signal related to the detected temperature. The logger 2 receives and records the signal output from the temperature detection unit 1. After the temperature measurement is completed, the temperature history can be acquired by analyzing the signal recorded by the logger 2.

次に、高温真空環境での使用について説明する。本実施形態に係る温度測定器10は、例えば600℃以上の高温環境において、温度測定が可能な構成とされている。図1では、温度測定器10が図示右側へ移動し、上下方向から加熱されている状態を示している。加熱源からの熱は、ふく射によって伝熱され、第4容器6の蓋体62及び底板61aが加熱される。蓋体62及び底板61aに伝達された熱は、熱伝導によって、側板61bに伝達される。第4容器6を構成する各壁体(61a,61b,62)は、略同一の温度となる。   Next, use in a high temperature vacuum environment will be described. The temperature measuring device 10 according to the present embodiment is configured to be able to measure temperature in a high temperature environment of, for example, 600 ° C. or higher. FIG. 1 shows a state in which the temperature measuring device 10 moves to the right side in the figure and is heated from above and below. Heat from the heating source is transferred by radiation, and the lid 62 and the bottom plate 61a of the fourth container 6 are heated. The heat transferred to the lid 62 and the bottom plate 61a is transferred to the side plate 61b by heat conduction. Each wall body (61a, 61b, 62) which comprises the 4th container 6 becomes substantially the same temperature.

第4容器6を構成する壁体(61a,61b,62)に伝達された熱は、ふく射によって、第3容器5を構成する壁体(51a,51b,52)に伝達される。第3容器5を構成する各壁体は略同一の温度となる。第3容器5を構成する壁体に伝達された熱は、ふく射によって、第2容器4を構成する壁体(41a,41b,42)に伝達される。第3容器5を構成する各壁体は略同一の温度となる。また、第2容器4を構成する壁体に伝達された熱は、ふく射によって、第1容器3を構成する壁体(31a,31b,32)に伝達される。第1容器3を構成する各壁体は略同一の温度となり、第1容器3内の温度は、30℃〜40℃程度に維持される。   The heat transmitted to the wall bodies (61a, 61b, 62) constituting the fourth container 6 is transmitted to the wall bodies (51a, 51b, 52) constituting the third container 5 by radiation. Each wall body which comprises the 3rd container 5 becomes substantially the same temperature. The heat transferred to the wall constituting the third container 5 is transferred to the wall (41a, 41b, 42) constituting the second container 4 by radiation. Each wall body which comprises the 3rd container 5 becomes substantially the same temperature. Moreover, the heat transmitted to the wall body which comprises the 2nd container 4 is transmitted to the wall body (31a, 31b, 32) which comprises the 1st container 3 by radiation. Each wall body which comprises the 1st container 3 becomes substantially the same temperature, and the temperature in the 1st container 3 is maintained at about 30 to 40 degreeC.

このような本実施形態に係る温度測定器10によれば、ロガー2が断熱容器によって保護され、断熱容器内が高温環境となることが防止されるため、ロガー2に測定結果に関する信号を記録することで、温度履歴に関する情報を取得することができる。断熱容器は、内側容器及び外側容器を備え、外側容器は、第2容器、第3容器、及び第4容器によって、板厚方向に所定間隔の隙間部を有する複数間の壁体により構成されているため、板厚方向に隣接する壁体同士の熱伝導による伝熱を限りなく減らすことができる。温度測定器10が真空環境で使用される場合には、対流熱伝達による伝熱を考慮する必要がないため、ほとんど、ふく射のみで伝熱されることになる。   According to such a temperature measuring instrument 10 according to the present embodiment, the logger 2 is protected by the heat insulating container and the inside of the heat insulating container is prevented from becoming a high temperature environment, so a signal related to the measurement result is recorded on the logger 2. As a result, information on the temperature history can be acquired. The heat insulating container includes an inner container and an outer container, and the outer container is constituted by a plurality of wall bodies having gap portions with a predetermined interval in the plate thickness direction by the second container, the third container, and the fourth container. Therefore, heat transfer due to heat conduction between the wall bodies adjacent in the plate thickness direction can be reduced as much as possible. When the temperature measuring device 10 is used in a vacuum environment, it is not necessary to consider heat transfer due to convective heat transfer, so that the heat is transferred almost only by radiation.

温度測定器10では、第2容器4と第1容器3との間に隙間部が形成されると共に、第1容器3とロガー2との間に隙間部が形成される構成であるため、熱伝導による伝熱を限りなく減らすことが可能となり、ほどんど、ふく射のみの伝熱とすることができる。   In the temperature measuring instrument 10, a gap is formed between the second container 4 and the first container 3, and a gap is formed between the first container 3 and the logger 2. It becomes possible to reduce heat transfer by conduction as much as possible, and almost only heat transfer can be achieved.

さらに、温度測定器10は、外側容器4〜6の壁体が、第1容器3の材質(銅)と比較して、熱伝導率が高く、かつ、熱容量が小さい材質(ステンレス:SUS304)によって形成されている。これにより、第4容器6で受けた熱を、同一容器の壁体において熱伝導により伝熱することで、同一容器の壁体の温度を均一化することができる。すなわち、第4容器6において、局所的な高温部の発生を抑えて、熱を分散させることができる。同様に、第3容器5において、壁体の温度を均一化することができ、第2容器4において、壁体の温度を均一化することができる。   Furthermore, the temperature measuring instrument 10 is made of a material (stainless steel: SUS304) in which the walls of the outer containers 4 to 6 have higher thermal conductivity and smaller heat capacity than the material (copper) of the first container 3. Is formed. Thereby, the temperature of the wall body of the same container can be equalize | homogenized by transferring the heat received by the 4th container 6 by heat conduction in the wall body of the same container. That is, in the 4th container 6, generation | occurrence | production of a local high temperature part can be suppressed and heat can be disperse | distributed. Similarly, the temperature of the wall body can be made uniform in the third container 5, and the temperature of the wall body can be made uniform in the second container 4.

また、内側の第1容器3は、外側の容器4〜6と比較して熱容量が大きいため、ロガー2に最も近い第1容器3に対して、局所的な伝熱を回避すると共に温度上昇を抑制することが可能となる。これらにより、断熱性能が向上され、耐熱温度の向上が図られた温度測定器が実現されている。   Moreover, since the inner first container 3 has a larger heat capacity than the outer containers 4 to 6, it avoids local heat transfer to the first container 3 closest to the logger 2 and increases the temperature. It becomes possible to suppress. As a result, a temperature measuring instrument with improved heat insulation performance and improved heat resistant temperature is realized.

また、温度測定器10は、容器3〜6の壁体31b,41b,51b,61bに、温度検出部1とロガー2とを電気的に接続する配線1aを通過させる貫通孔14が設けられ、各壁体31b,41b,51b,61bに設けられた貫通孔14は、互いの軸心がずれて配置されている構成である。そのため、各容器3〜6に設けられた貫通孔14が、同一の軸線上に配置されることが防止され、外側の容器4〜6と内側の第1容器3とが、一連の貫通孔によって直線的に連通することが防止される。その結果、断熱性能の向上が図られている。   In addition, the temperature measuring instrument 10 is provided with through holes 14 through the wirings 1a that electrically connect the temperature detection unit 1 and the logger 2 to the walls 31b, 41b, 51b, 61b of the containers 3 to 6, The through-holes 14 provided in the respective wall bodies 31b, 41b, 51b, 61b are configured such that their axis centers are shifted from each other. Therefore, the through holes 14 provided in the containers 3 to 6 are prevented from being arranged on the same axis, and the outer containers 4 to 6 and the inner first container 3 are formed by a series of through holes. A linear communication is prevented. As a result, the heat insulation performance is improved.

(温度測定器を備えた搬送トレイ)
図2は、本発明の実施形態に係る温度測定器が搭載された搬送トレイを示す平面図、図3は、本発明の実施形態に係る温度測定器が搭載された搬送トレイを示す側面図である。図2及び図3に示すように、温度測定器10は、例えば、基板搬送トレイ80に設置されて使用される。
(Conveyer tray with temperature measuring device)
FIG. 2 is a plan view showing a transport tray on which the temperature measuring device according to the embodiment of the present invention is mounted, and FIG. 3 is a side view showing the transport tray on which the temperature measuring device according to the embodiment of the present invention is mounted. is there. As shown in FIGS. 2 and 3, the temperature measuring device 10 is used by being installed on a substrate transfer tray 80, for example.

搬送トレイ80は、矩形の板材から形成され、基板81を載置し搬送する。搬送トレイ80には、板厚方向に貫通する開口部80aが形成されている。搬送トレイ80には、搬送トレイ80の長さに対して2/3程度の長さ(搬送方向の長さ)の基板81が、配置されている。すなわち、搬送トレイ80の開口部80aの2/3程度の領域が、基板81に覆われ、残りの領域が、温度測定器10を配置する領域として利用可能な構成である。なお、温度測定器10は、搬送トレイ80の中央部に配置されていてもよく、長手方向の一端側に配置されていてもよい。   The transport tray 80 is formed from a rectangular plate material, and places and transports the substrate 81. The conveyance tray 80 is formed with an opening 80a penetrating in the thickness direction. A substrate 81 having a length of about 2/3 of the length of the transport tray 80 (length in the transport direction) is disposed on the transport tray 80. That is, an area of about 2/3 of the opening 80 a of the transport tray 80 is covered with the substrate 81, and the remaining area can be used as an area where the temperature measuring device 10 is arranged. In addition, the temperature measuring device 10 may be arrange | positioned at the center part of the conveyance tray 80, and may be arrange | positioned at the one end side of the longitudinal direction.

搬送トレイ80の開口部80aには、温度測定器10を支持するための支持部材82が設けられている。図2では、搬送トレイ80の幅方向に延在する棒状の支持部材82が複数設けられている。このような搬送トレイ80は、搬送手段91によって搬送されて、基板の温度履歴の測定に利用される。   A support member 82 for supporting the temperature measuring device 10 is provided in the opening 80 a of the transport tray 80. In FIG. 2, a plurality of rod-like support members 82 extending in the width direction of the transport tray 80 are provided. Such a transport tray 80 is transported by the transport means 91 and used for measuring the temperature history of the substrate.

(成膜装置)
図4は、本発明の実施形態に係る成膜装置を示す概略構成図である。図4に示す成膜装置100は、基板に対して成膜等の処理を施すためのものである。成膜装置100は、例えば、RPD(Reactive Plasma Deposition)法を用いて、イオン化された蒸発材料を、基板上に蒸着することで成膜する装置である。
(Deposition system)
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a film forming apparatus according to an embodiment of the present invention. A film forming apparatus 100 shown in FIG. 4 is for performing a film forming process on a substrate. The film forming apparatus 100 is an apparatus that forms a film by evaporating an ionized evaporation material on a substrate using, for example, an RPD (Reactive Plasma Deposition) method.

成膜装置100は、ロードロックチャンバ121、バッファチャンバ122、成膜チャンバ(成膜室)123、バッファチャンバ124、ロードロックチャンバ125を備えている。これらのチャンバ121〜125は、この順に並んで配置されている。全てのチャンバ121〜125が真空容器にて構成され、チャンバ121〜125の出入口には、開閉ゲート131〜136が設けられている。成膜装置100には、基板を搬送するための搬送装置91(図3参照)が設けられている。搬送装置91は例えば公知のローラー91aとこのローラー91aを回転させる駆動機構(図示せず)から構成されている。そして、基板は、搬送装置91によって搬送され、チャンバ121〜125内を順次通過する。また、成膜装置100では、基板を載置すると共に、基板の温度を測定可能な温度測定器10を載置する搬送トレイ80が搬送され、基板の温度測定の計測が可能である。   The film forming apparatus 100 includes a load lock chamber 121, a buffer chamber 122, a film forming chamber (film forming chamber) 123, a buffer chamber 124, and a load lock chamber 125. These chambers 121 to 125 are arranged in this order. All the chambers 121 to 125 are constituted by vacuum containers, and open / close gates 131 to 136 are provided at the entrances and exits of the chambers 121 to 125. The film forming apparatus 100 is provided with a transfer device 91 (see FIG. 3) for transferring the substrate. The transport device 91 includes, for example, a known roller 91a and a drive mechanism (not shown) that rotates the roller 91a. Then, the substrate is transferred by the transfer device 91 and sequentially passes through the chambers 121 to 125. Further, in the film forming apparatus 100, a substrate is placed and a transport tray 80 on which the temperature measuring device 10 capable of measuring the temperature of the substrate is placed is transported to measure the temperature of the substrate.

ロードロックチャンバ121は、入口側に設けられた開閉ゲート131を開放することで、大気開放され、処理される基板が導入されるチャンバである。ロードロックチャンバ121の出口側は、開閉ゲート132を介して、バッファチャンバ122の入口側に接続されている。また、ロードロックチャンバ121には、基板を加熱するためのヒータ92が設けられている。このヒータ92は、基板の上下両面を加熱すべく、上下方向の両側に各々設置されている。ロードロックチャンバ121では、基板温度が例えば200℃程度になるように加熱される。   The load lock chamber 121 is a chamber into which the substrate to be processed is introduced by opening the open / close gate 131 provided on the inlet side to open the atmosphere. The outlet side of the load lock chamber 121 is connected to the inlet side of the buffer chamber 122 through an open / close gate 132. The load lock chamber 121 is provided with a heater 92 for heating the substrate. The heaters 92 are respectively installed on both sides in the vertical direction in order to heat both the upper and lower surfaces of the substrate. In the load lock chamber 121, the substrate temperature is heated to about 200 ° C., for example.

バッファチャンバ122は、入口側に設けられた開閉ゲート132を開放することで、ロードロックチャンバ121と連通され、ロードロックチャンバ121を通過した基板が導入される圧力調整用チャンバである。バッファチャンバ122の出口側は、開閉ゲート133を介して、成膜チャンバ123の入口側に接続されている。また、バッファチャンバ122には、基板を加熱するためのヒータ92が設けられている。このヒータ92は、基板の上下両面を加熱すべく、上下方向の両側に各々設置されている。バッファチャンバ122では、基板温度が例えば400℃程度になるように加熱される。   The buffer chamber 122 is a pressure adjusting chamber that is communicated with the load lock chamber 121 by opening the open / close gate 132 provided on the inlet side and into which the substrate that has passed through the load lock chamber 121 is introduced. The outlet side of the buffer chamber 122 is connected to the inlet side of the film forming chamber 123 through an open / close gate 133. The buffer chamber 122 is provided with a heater 92 for heating the substrate. The heaters 92 are respectively installed on both sides in the vertical direction in order to heat both the upper and lower surfaces of the substrate. In the buffer chamber 122, the substrate temperature is heated to about 400 ° C., for example.

成膜チャンバ123は、入口側に設けられた開閉ゲート133を開放することで、バッファチャンバ122と連通され、バッファチャンバ22を通過した基板が導入され、基板に薄膜層を成膜する処理チャンバである。成膜チャンバ123の出口側は、開閉ゲート134を介して、バッファチャンバ124の入口側に接続されている。成膜チャンバ123内には、薄膜層を成膜するための成膜材料(図示せず)が設置されている。また、成膜チャンバ123には、基板を加熱するためのヒータ92が設けられている。このヒータ92は、基板の上下両面を加熱すべく、上下方向の両側に各々設置されている。成膜チャンバ123では、基板温度が例えば600℃程度に維持されている。   The film forming chamber 123 is a processing chamber that opens the open / close gate 133 provided on the inlet side, communicates with the buffer chamber 122, introduces the substrate that has passed through the buffer chamber 22, and forms a thin film layer on the substrate. is there. The outlet side of the film forming chamber 123 is connected to the inlet side of the buffer chamber 124 via an open / close gate 134. A film forming material (not shown) for forming a thin film layer is installed in the film forming chamber 123. The film formation chamber 123 is provided with a heater 92 for heating the substrate. The heaters 92 are respectively installed on both sides in the vertical direction in order to heat the upper and lower surfaces of the substrate. In the film forming chamber 123, the substrate temperature is maintained at about 600 ° C., for example.

バッファチャンバ124は、入口側に設けられた開閉ゲート134を開放することで、成膜チャンバ123と連通され、成膜チャンバ123によって成膜された基板が導入される圧力調整用チャンバである。バッファチャンバ124の出口側は、開閉ゲート135を介して、ロードロックチャンバ125の入口側に接続されている。また、バッファチャンバ124には、基板を冷却するための冷却板(不図示)が設けられている。この冷却板は、基板の上下両面を冷却すべく、上下方向の両側に各々設置されている。バッファチャンバ124では、基板温度が例えば400℃程度になるように冷却される。   The buffer chamber 124 is a pressure adjusting chamber that is communicated with the film forming chamber 123 by opening an open / close gate 134 provided on the inlet side, and into which a substrate formed by the film forming chamber 123 is introduced. The outlet side of the buffer chamber 124 is connected to the inlet side of the load lock chamber 125 via an open / close gate 135. The buffer chamber 124 is provided with a cooling plate (not shown) for cooling the substrate. The cooling plates are respectively installed on both sides in the vertical direction in order to cool both the upper and lower surfaces of the substrate. In the buffer chamber 124, the substrate temperature is cooled to about 400 ° C., for example.

ロードロックチャンバ125は、入口側に設けられた開閉ゲート35を開放することで、バッファチャンバ124と連通され、バッファチャンバ124を通過した基板が導入されるチャンバである。ロードロックチャンバ125の出口側には、開閉ゲート36が設けられ、開閉ゲート36を開放することで、ロードロックチャンバ125が大気開放される。また、ロードロックチャンバ125には、基板を冷却するための冷却板(不図示)が設けられている。この冷却板は、基板の上下両面を冷却すべく、上下方向の両側に各々設置されている。ロードロックチャンバ125では、基板温度が例えば200℃程度になるように冷却される。   The load lock chamber 125 is a chamber that communicates with the buffer chamber 124 by opening the open / close gate 35 provided on the inlet side, and into which the substrate that has passed through the buffer chamber 124 is introduced. An opening / closing gate 36 is provided on the outlet side of the load lock chamber 125, and the load lock chamber 125 is opened to the atmosphere by opening the opening / closing gate 36. The load lock chamber 125 is provided with a cooling plate (not shown) for cooling the substrate. The cooling plates are respectively installed on both sides in the vertical direction in order to cool both the upper and lower surfaces of the substrate. In the load lock chamber 125, the substrate temperature is cooled to about 200 ° C., for example.

成膜装置100は、チャンバ121〜125内の圧力を調整するチャンバ圧力調整装置(不図示)を備えている。成膜装置100では、成膜チャンバ123が最も低い圧力(例えば真空状態)に維持される。すなわち、成膜チャンバ123に隣接するバッファチャンバ122,124の圧力は、成膜チャンバ123の圧力を基準として調節され、バッファチャンバ122,124に隣接するロードロックチャンバ121,125の圧力は、バッファチャンバ122,124の圧力を基準として調節される。   The film forming apparatus 100 includes a chamber pressure adjusting device (not shown) that adjusts the pressure in the chambers 121 to 125. In the film forming apparatus 100, the film forming chamber 123 is maintained at the lowest pressure (for example, in a vacuum state). That is, the pressure of the buffer chambers 122 and 124 adjacent to the film forming chamber 123 is adjusted based on the pressure of the film forming chamber 123, and the pressure of the load lock chambers 121 and 125 adjacent to the buffer chambers 122 and 124 is adjusted to It adjusts on the basis of the pressure of 122,124.

本実施形態の成膜装置100では、基板ともに、温度測定器10を搬送トレイ80に搭載し、この搬送トレイ80を、搬送手段を用いて搬送することができる。温度測定器10のロガー2は、断熱容器によって保護されて断熱される構成であるため、例えば660℃の高温真空環境において、第1容器3内の温度を30℃〜40℃程度に維持することができる。その結果、ロガー2の破損を防止し、基板の温度履歴を測定することが可能である。   In the film forming apparatus 100 of this embodiment, the temperature measuring device 10 can be mounted on the transport tray 80 together with the substrate, and the transport tray 80 can be transported using a transport means. Since the logger 2 of the temperature measuring device 10 is protected and insulated by the heat insulating container, the temperature in the first container 3 is maintained at about 30 ° C. to 40 ° C. in a high temperature vacuum environment of 660 ° C., for example. Can do. As a result, damage to the logger 2 can be prevented and the temperature history of the substrate can be measured.

(成膜基板の製造方法)
次に、本発明の実施形態に係る成膜基板の製造方法について説明する。本実施形態では、図4に示す成膜装置100を用いた成膜基板の製造方法について説明する。この製造方法は、加熱工程(搬送工程)、成膜工程、冷却工程(搬送工程)、及び温度測定工程を備えている。
(Method for manufacturing a film formation substrate)
Next, a method for manufacturing a film formation substrate according to an embodiment of the present invention will be described. In this embodiment, a method for manufacturing a film formation substrate using the film formation apparatus 100 shown in FIG. 4 will be described. This manufacturing method includes a heating process (conveying process), a film forming process, a cooling process (conveying process), and a temperature measuring process.

(予熱工程、搬送工程)
まず、基板は、搬送トレイに載置されて搬送されて、ロードロックチャンバ121内に導入される。ロードロックチャンバ121内は、開閉ゲート131,132が閉じられて密閉状態とされ、所定の圧力まで減圧される。また、ロードロックチャンバ122内は、ヒータ92によって加熱されて、基板が加熱される。基板は、ロードロックチャンバ121内を搬送され、隣接するバッファチャンバ122内に導入される。バッファチャンバ122内は、開閉ゲート132,133が閉じられて密閉状態とされ、所定の圧力(真空状態)まで減圧される。また、バッファチャンバ122内は、ヒータ92によって加熱されて、基板が加熱される。基板は、成膜に適した温度まで加熱される。基板は、バッファチャンバ122内を搬送され、隣接する成膜チャンバ123内に導入される。
(Preheating process, transport process)
First, the substrate is placed on the transfer tray, transferred, and introduced into the load lock chamber 121. In the load lock chamber 121, the open / close gates 131 and 132 are closed to be sealed, and the pressure is reduced to a predetermined pressure. The load lock chamber 122 is heated by the heater 92 to heat the substrate. The substrate is transported in the load lock chamber 121 and introduced into the adjacent buffer chamber 122. In the buffer chamber 122, the open / close gates 132 and 133 are closed and sealed, and the pressure is reduced to a predetermined pressure (vacuum state). The buffer chamber 122 is heated by the heater 92 to heat the substrate. The substrate is heated to a temperature suitable for film formation. The substrate is transferred through the buffer chamber 122 and introduced into the adjacent film formation chamber 123.

(成膜工程)
成膜チャンバ123内は、基板が導入される前に、真空状態とされている。基板が成膜チャンバ123内に導入されると、開閉ゲート133,134が閉じられて密閉状態とされる。また、成膜チャンバ123内は、ヒータ91によって加熱されて、基板温度が維持されて状態となる。そして、基板上に成膜処理が行われ、基板上に金属膜が成膜される。
(Film formation process)
The film formation chamber 123 is in a vacuum state before the substrate is introduced. When the substrate is introduced into the film formation chamber 123, the open / close gates 133 and 134 are closed to be hermetically sealed. In addition, the inside of the film forming chamber 123 is heated by the heater 91 to maintain the substrate temperature. Then, a film forming process is performed on the substrate, and a metal film is formed on the substrate.

(冷却工程、搬送工程)
基板は、成膜チャンバ123内を搬送され、隣接するバッファチャンバ124内に導入される。バッファチャンバ124内は、開閉ゲート134,135が閉じられて密閉状態とされ、真空状態から所定の圧力まで、加圧される。また、バッファチャンバ124内は、冷却板によって冷却されて、基板が冷却される。基板は、バッファチャンバ124内を搬送され、隣接するロードロックチャンバ125内に導入される。ロードロックチャンバ125内は、開閉ゲート135,136が閉じられて密閉状態とされ、大気圧まで加圧される。また、ロードロックチャンバ125内は、冷却板によって冷却されて、基板が冷却される。
(Cooling process, transport process)
The substrate is transported through the film forming chamber 123 and introduced into the adjacent buffer chamber 124. Inside the buffer chamber 124, the open / close gates 134 and 135 are closed and sealed, and the pressure is increased from a vacuum state to a predetermined pressure. In addition, the inside of the buffer chamber 124 is cooled by a cooling plate to cool the substrate. The substrate is transported through the buffer chamber 124 and introduced into the adjacent load lock chamber 125. Inside the load lock chamber 125, the open / close gates 135 and 136 are closed to be hermetically sealed and pressurized to atmospheric pressure. In addition, the load lock chamber 125 is cooled by a cooling plate to cool the substrate.

(温度測定工程)
温度測定工程では、まず、基板の温度履歴を測定する温度測定器10のロガー2を断熱容器(容器3〜6)内に収容する。温度測定器10は、基板と共に搬送トレイ80に搭載される。基板の所定の位置に、温度測定器10の温度検出部1が配置される。温度測定工程では、温度測定用の搬送トレイ80に搭載された基板に対して、上記の予熱(搬送)工程、成膜工程、冷却(搬送)工程を実行する。ロガー2は、上記の一連の工程において、温度検出部1によって検出された温度に関する情報を記録する。
(Temperature measurement process)
In the temperature measurement step, first, the logger 2 of the temperature measuring device 10 that measures the temperature history of the substrate is accommodated in a heat insulating container (containers 3 to 6). The temperature measuring device 10 is mounted on the transfer tray 80 together with the substrate. The temperature detector 1 of the temperature measuring device 10 is disposed at a predetermined position on the substrate. In the temperature measurement process, the preheating (transfer) process, the film forming process, and the cooling (transfer) process are performed on the substrate mounted on the transfer tray 80 for temperature measurement. The logger 2 records information on the temperature detected by the temperature detection unit 1 in the series of steps described above.

本実施形態の成膜基板製造方法によれば、基板と共に温度測定器10を搬送しながら、基板の温度履歴を測定する温度測定工程を有するため、基板の温度履歴を計測することができる。また、ロガー2が、断熱性能が向上された断熱容器内に収容されているため、ロガー2が高温環境において損傷するおそれがない。また、本実施形態の成膜基板製造方法では、温度測定工程を備え、基板の温度履歴に関する情報を取得することができるため、取得された温度履歴に関する情報に基づいて、温度管理を調整することができる。その結果、成膜基板の品質向上を図ることができる。   According to the film formation substrate manufacturing method of the present embodiment, the temperature history of the substrate can be measured because the temperature measurement step of measuring the temperature history of the substrate is performed while the temperature measuring device 10 is being transported with the substrate. Further, since the logger 2 is housed in a heat insulating container with improved heat insulating performance, the logger 2 is not likely to be damaged in a high temperature environment. In addition, since the film formation substrate manufacturing method of the present embodiment includes a temperature measurement step and can acquire information on the temperature history of the substrate, the temperature management is adjusted based on the acquired information on the temperature history. Can do. As a result, the quality of the film formation substrate can be improved.

以上、本発明をその実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態では、内側容器3の材質をステンレス鋼としているが、その他の材質でもよい。内側容器3の材質としては、例えば、チタン合金、タングステンなどを使用してもよい。また、複数の内側容器を備える構成としてもよい。複数の内側容器3は、同一の材質により構成されていてもよく、容器ごとに異なる材質によって構成されていてもよい。熱伝導率が低く、かつ、熱容量が大きい材質ほど、ロガー2側に配置されることが好ましい。   As mentioned above, although this invention was concretely demonstrated based on the embodiment, this invention is not limited to the said embodiment. In the above embodiment, the material of the inner container 3 is stainless steel, but other materials may be used. As a material of the inner container 3, for example, a titanium alloy, tungsten, or the like may be used. Moreover, it is good also as a structure provided with several inner side containers. The plurality of inner containers 3 may be made of the same material, or may be made of a different material for each container. A material having a lower thermal conductivity and a larger heat capacity is preferably arranged on the logger 2 side.

また、上記実施形態では、外側容器4〜6の材質を銅としているが、その他の材質でもよい。外側容器4〜6の材質としては、例えば、アルミニウム合金などを使用してもよい。また、複数の外側容器4〜6は、全て同一の材質によって構成されていてもよく、容器ごとに異なる材質によって構成されていてもよい。熱伝導率が高く、かつ、熱容量が小さい材質ほど、外側に配置されることが好ましい。上記実施形態の外側容器は、第2容器4、第3容器5、及び第4容器6によって構成されているが、外側容器は、1つの容器によって構成されていてもよく、4つ以上の容器によって構成されていてもよい。また、外側容器は、板厚方向(内外方向)に複数の壁体を有する一つの容器によって構成されていてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the material of the outer containers 4-6 is made into copper, another material may be sufficient. As a material of the outer containers 4 to 6, for example, an aluminum alloy may be used. Further, the plurality of outer containers 4 to 6 may all be made of the same material, or may be made of a different material for each container. A material having a higher thermal conductivity and a smaller heat capacity is preferably arranged on the outer side. The outer container of the above embodiment is composed of the second container 4, the third container 5, and the fourth container 6, but the outer container may be composed of one container, and four or more containers. It may be constituted by. Further, the outer container may be constituted by a single container having a plurality of wall bodies in the plate thickness direction (inner and outer directions).

また、温度測定器10の断熱容器の熱容量としては、例えば、1000J/K以上であることが好ましい。また、温度測定器10の断熱容器の熱伝導率としては、例えば、200W/m/K以上であることが好ましい。   Moreover, as a heat capacity of the heat insulation container of the temperature measuring device 10, it is preferable that it is 1000 J / K or more, for example. Moreover, as a heat conductivity of the heat insulation container of the temperature measuring device 10, it is preferable that it is 200 W / m / K or more, for example.

また、上記実施形態では、配線を挿通させるための貫通孔が、壁体ごとに異なる軸心となるように、ずれた位置に形成されているが、複数の貫通孔が同一軸線上配置されている構成でもよい。また、貫通孔は、底板や蓋体(天板)に形成されていてもよい。なお、貫通孔が側板に形成されている場合には、蓋を取り外すことで、配線の位置を上方から容易に観察することができる。また、容器の壁体にその他の貫通孔が形成されていてもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the through-hole for inserting wiring is formed in the position shifted so that it may become a different axial center for every wall body, a plurality of through-holes are arranged on the same axis. It may be configured. Moreover, the through hole may be formed in the bottom plate or the lid (top plate). When the through hole is formed in the side plate, the position of the wiring can be easily observed from above by removing the lid. Further, other through holes may be formed in the wall of the container.

また、上記の容器では、天板部分が、蓋体として、利用されているが、その他の側板、底板などを、着脱可能な蓋体として利用してもよい。   In the above container, the top plate portion is used as a lid, but other side plates, bottom plates, and the like may be used as removable lids.

また、上記実施形態では、温度測定器10を成膜装置100に適用する場合について、説明しているが、成膜装置以外の処理装置における温度測定に、温度測定器10を適用してもよい。また、温度測定器10を搬送しないで使用してもよい。また、成膜装置は、RFD法を用いたものに限定されず、その他の成膜装置でもよい。成膜装置及び基板製造方法としては、イオンプレーティング法、スパッタリング法、物理的または化学的蒸着法を用いるものがある。   Moreover, although the case where the temperature measuring device 10 is applied to the film forming apparatus 100 has been described in the above embodiment, the temperature measuring device 10 may be applied to temperature measurement in a processing apparatus other than the film forming apparatus. . Further, the temperature measuring device 10 may be used without being conveyed. Further, the film forming apparatus is not limited to the one using the RFD method, and other film forming apparatuses may be used. As a film forming apparatus and a substrate manufacturing method, there are those using an ion plating method, a sputtering method, a physical or chemical vapor deposition method.

また、上記実施形態では、基板81を搬送する搬送トレイ80に温度測定器10を載置して搬送する場合について説明しているが、温度測定器10は基板81を搬送する搬送トレイ80に載置されて搬送されるものに限定されず、例えば温度測定器10を搬送するための専用の搬送機構によって搬送されるものでもよい。   Moreover, although the said embodiment demonstrated the case where the temperature measuring device 10 was mounted and conveyed on the conveyance tray 80 which conveys the board | substrate 81, the temperature measuring device 10 is mounted in the conveyance tray 80 which conveys the board | substrate 81. FIG. For example, it may be transported by a dedicated transport mechanism for transporting the temperature measuring device 10.

また基板製造方法は、成膜工程、搬送工程、温度測定工程以外の工程を備えるものでもよい。   The substrate manufacturing method may include a process other than the film forming process, the transport process, and the temperature measurement process.

10…温度測定器、1…温度検出部、12…ブロック体(支持体)、2…ロガー(記録部)、3…第1容器(内側容器)、31…容器本体、31a…底板(壁体)、31b…側板(壁体)、32…蓋体(壁体)、4…第2容器(外側容器)、41…容器本体、41a…底板(壁体)、41b…側板(壁体)、42…蓋体(壁体)、5…第3容器(外側容器)、51…容器本体、51a…底板(壁体)、51b…側板(壁体)、52…蓋体(壁体)、6…第4容器(外側容器)、61…容器本体、61a…底板(壁体)、61b…側板(壁体)、62…蓋体(壁体)、80…搬送トレイ、81…基板、82…支持バー、91…搬送手段、92…ヒータ、100…成膜装置。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Temperature measuring device, 1 ... Temperature detection part, 12 ... Block body (support body), 2 ... Logger (recording part), 3 ... 1st container (inner container), 31 ... Container main body, 31a ... Bottom plate (wall body) ), 31b ... side plate (wall body), 32 ... lid body (wall body), 4 ... second container (outer container), 41 ... container body, 41a ... bottom plate (wall body), 41b ... side plate (wall body), 42 ... Lid (wall), 5 ... Third container (outer container), 51 ... Container body, 51a ... Bottom plate (wall), 51b ... Side plate (wall), 52 ... Lid (wall), 6 ... 4th container (outer container), 61 ... Container body, 61a ... Bottom plate (wall body), 61b ... Side plate (wall body), 62 ... Lid body (wall body), 80 ... Transport tray, 81 ... Substrate, 82 ... Support bar, 91 ... conveying means, 92 ... heater, 100 ... film forming apparatus.

Claims (11)

温度に関する信号を記録する記録部が断熱容器内に収容された温度測定器であって、
前記断熱容器は、
前記記録部との間に隙間部を形成し前記記録部を収容する内側容器と、
前記内側容器との間に隙間部を形成し、前記内側容器を収容する外側容器と、を備え、
前記外側容器の壁体は、前記内側容器の材質と比較して、熱伝導率が高く、かつ、熱容量が小さい材質によって形成されていることを特徴とする温度測定器。
A temperature measuring device in which a recording unit for recording a signal related to temperature is housed in an insulated container,
The insulated container is
An inner container for accommodating the recording unit by forming a gap between the recording unit,
Forming a gap between the inner container and an outer container for accommodating the inner container;
The temperature measuring instrument characterized in that the wall of the outer container is made of a material having a higher thermal conductivity and a smaller heat capacity than the material of the inner container.
前記外側容器は、板厚方向に互いに離間して配置された複数の壁体を有することを特徴とする請求項1記載の温度測定器。   The temperature measuring device according to claim 1, wherein the outer container has a plurality of wall bodies that are arranged apart from each other in the plate thickness direction. 前記内側容器及び前記外側容器の壁体には、前記温度検出部と前記記録部とを電気的に接続する配線を通過させる貫通孔が設けられ、
各壁体に設けられた前記貫通孔は、互いの軸心がずれて配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の温度測定器。
The inner container and the outer container wall body is provided with a through-hole through which a wiring for electrically connecting the temperature detection part and the recording part passes.
The temperature measuring device according to claim 1, wherein the through-holes provided in each wall body are arranged with their axis centers shifted from each other.
前記内側容器は、ステンレス鋼によって形成され、前記外側容器は、銅によって形成されていることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の温度測定器。   The temperature measuring device according to any one of claims 1 to 3, wherein the inner container is made of stainless steel, and the outer container is made of copper. 前記記録部は、セラミックからなるブロック体によって支持されていることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の温度測定器。   The temperature measuring device according to claim 1, wherein the recording unit is supported by a block body made of ceramic. 基板に薄膜層を成膜する成膜装置であって、
前記薄膜層を成膜するための成膜材料が設置され、前記基板上に前記薄膜層を成膜する成膜室と、
前記基板を搬送する搬送手段と、
前記基板の搬送に連動して移動可能であり、前記基板の温度に関する信号を記録する記録部が断熱容器内に収容された温度測定器と、を具備し、
前記温度測定器の断熱容器は、
温度検出部から出力された温度に関する信号を記録する記録部と、
前記記録部との間に隙間部を形成し前記記録部を収容する内側容器と、
前記内側容器との間に隙間部を形成し、前記内側容器を収容する外側容器と、を備え、
前記外側容器の壁体は、前記内側容器の材質と比較して、熱伝導率が高く、かつ、熱容量が低い材質から形成されていることを特徴とする成膜装置。
A film forming apparatus for forming a thin film layer on a substrate,
A film forming material for forming the thin film layer is installed, and a film forming chamber for forming the thin film layer on the substrate;
Transport means for transporting the substrate;
A temperature measuring instrument that is movable in conjunction with the conveyance of the substrate, and in which a recording unit that records a signal related to the temperature of the substrate is housed in a heat insulating container,
The insulated container of the temperature measuring instrument is
A recording unit that records a temperature-related signal output from the temperature detection unit;
An inner container for accommodating the recording unit by forming a gap between the recording unit,
Forming a gap between the inner container and an outer container for accommodating the inner container;
The film forming apparatus, wherein the wall of the outer container is made of a material having a higher thermal conductivity and a lower heat capacity than the material of the inner container.
前記外側容器は、板厚方向に互いに離間して配置された複数の壁体を有することを特徴とする請求項6記載の成膜装置。   The film forming apparatus according to claim 6, wherein the outer container has a plurality of wall bodies that are arranged apart from each other in the plate thickness direction. 前記内側容器及び前記外側容器の壁体には、前記温度検出部と前記記録部とを電気的に接続する配線が通過する貫通孔が設けられ、
各壁体に設けられた前記貫通孔は、互いの軸心がずれていることを特徴とする請求項6又は7に記載の成膜装置。
The inner container and the outer container are provided with through-holes through which wires for electrically connecting the temperature detection unit and the recording unit pass,
The film forming apparatus according to claim 6, wherein the through holes provided in each wall body are misaligned with each other.
前記内側容器は、銅によって形成され、前記外側容器は、ステンレス鋼によって形成されていることを特徴とする請求項6〜8の何れか一項に記載の成膜装置。   The film forming apparatus according to claim 6, wherein the inner container is made of copper, and the outer container is made of stainless steel. 前記記録部は、セラミックからなるブロック体によって支持されていることを特徴とする請求項6〜9の何れか一項に記載の成膜装置。   The film forming apparatus according to claim 6, wherein the recording unit is supported by a block body made of ceramic. 基板上に薄膜層が成膜された成膜基板を製造する方法であって、
前記薄膜層を成膜するための成膜材料が設置された成膜室内で、前記基板上に前記薄膜層を成膜する成膜工程と、
前記基板を搬送する搬送工程と、
前記基板の温度履歴を測定する温度測定器の記録部を断熱容器内に収容し、前記温度測定器を前記基板の搬送に連動して移動させながら前記温度履歴を測定する温度測定工程と、を備えることを特徴とする成膜基板製造方法。
A method of manufacturing a film formation substrate in which a thin film layer is formed on a substrate,
A film forming step of forming the thin film layer on the substrate in a film forming chamber provided with a film forming material for forming the thin film layer;
A transporting process for transporting the substrate;
A temperature measuring step for measuring the temperature history while accommodating a recording unit of a temperature measuring device for measuring the temperature history of the substrate in a heat insulating container, and moving the temperature measuring device in conjunction with conveyance of the substrate; A film forming substrate manufacturing method comprising:
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