JP2012162514A - ジチエノゲルモール重合体及びそれを含有した有機半導体デバイス - Google Patents
ジチエノゲルモール重合体及びそれを含有した有機半導体デバイス Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012162514A JP2012162514A JP2011125732A JP2011125732A JP2012162514A JP 2012162514 A JP2012162514 A JP 2012162514A JP 2011125732 A JP2011125732 A JP 2011125732A JP 2011125732 A JP2011125732 A JP 2011125732A JP 2012162514 A JP2012162514 A JP 2012162514A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- chemical formula
- substituent
- independently
- following chemical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 83
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 79
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 88
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 52
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 39
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 136
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 53
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 34
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 31
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 18
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 claims description 13
- ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N boronic acid Chemical compound OBO ZADPBFCGQRWHPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims description 11
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 125000005620 boronic acid group Chemical group 0.000 claims description 8
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 8
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 5
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 11
- -1 2-ethylhexyl group Chemical group 0.000 description 75
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 66
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 57
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 description 33
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 33
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- GMRJIOFCAMKRNJ-UHFFFAOYSA-N 1$l^{2}-germole Chemical class [Ge]1C=CC=C1 GMRJIOFCAMKRNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 21
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 20
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 20
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 13
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 13
- CYPYTURSJDMMMP-WVCUSYJESA-N (1e,4e)-1,5-diphenylpenta-1,4-dien-3-one;palladium Chemical compound [Pd].[Pd].C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1.C=1C=CC=CC=1\C=C\C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 CYPYTURSJDMMMP-WVCUSYJESA-N 0.000 description 12
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 12
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 12
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 11
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 10
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 10
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006880 cross-coupling reaction Methods 0.000 description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 7
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002585 base Substances 0.000 description 6
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 6
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 6
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=CC=C1 ODLMAHJVESYWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 6
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 5
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 5
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 5
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 5
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006619 Stille reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XRWSZZJLZRKHHD-WVWIJVSJSA-N asunaprevir Chemical compound O=C([C@@H]1C[C@H](CN1C(=O)[C@@H](NC(=O)OC(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=NC=C(C2=CC=C(Cl)C=C21)OC)N[C@]1(C(=O)NS(=O)(=O)C2CC2)C[C@H]1C=C XRWSZZJLZRKHHD-WVWIJVSJSA-N 0.000 description 4
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000001460 carbon-13 nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 229940125961 compound 24 Drugs 0.000 description 4
- BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N copper(i) oxide Chemical compound [Cu]O[Cu] BERDEBHAJNAUOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 4
- FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-benzothiadiazole Chemical group C1=CC=C2SN=NC2=C1 FNQJDLTXOVEEFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HYFLWBNQFMXCPA-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2-methylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C HYFLWBNQFMXCPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N benzonitrile Chemical compound N#CC1=CC=CC=C1 JFDZBHWFFUWGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KGNDCEVUMONOKF-UGPLYTSKSA-N benzyl n-[(2r)-1-[(2s,4r)-2-[[(2s)-6-amino-1-(1,3-benzoxazol-2-yl)-1,1-dihydroxyhexan-2-yl]carbamoyl]-4-[(4-methylphenyl)methoxy]pyrrolidin-1-yl]-1-oxo-4-phenylbutan-2-yl]carbamate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1CO[C@H]1CN(C(=O)[C@@H](CCC=2C=CC=CC=2)NC(=O)OCC=2C=CC=CC=2)[C@H](C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(O)(O)C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C1 KGNDCEVUMONOKF-UGPLYTSKSA-N 0.000 description 3
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- KWTSZCJMWHGPOS-UHFFFAOYSA-M chloro(trimethyl)stannane Chemical compound C[Sn](C)(C)Cl KWTSZCJMWHGPOS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229940125833 compound 23 Drugs 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 3
- YDHDOTSQQIONDZ-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(2-ethylhexyl)germane Chemical compound CCCCC(CC)C[Ge](Cl)(Cl)CC(CC)CCCC YDHDOTSQQIONDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000002290 gas chromatography-mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 3
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 3
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 3
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010248 power generation Methods 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- WWTBZEKOSBFBEM-SPWPXUSOSA-N (2s)-2-[[2-benzyl-3-[hydroxy-[(1r)-2-phenyl-1-(phenylmethoxycarbonylamino)ethyl]phosphoryl]propanoyl]amino]-3-(1h-indol-3-yl)propanoic acid Chemical compound N([C@@H](CC=1C2=CC=CC=C2NC=1)C(=O)O)C(=O)C(CP(O)(=O)[C@H](CC=1C=CC=CC=1)NC(=O)OCC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 WWTBZEKOSBFBEM-SPWPXUSOSA-N 0.000 description 2
- KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene Chemical compound [Fe+2].C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CXBDYQVECUFKRK-UHFFFAOYSA-N 1-methoxybutane Chemical compound CCCCOC CXBDYQVECUFKRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PDQRQJVPEFGVRK-UHFFFAOYSA-N 2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound C1=CC=CC2=NSN=C21 PDQRQJVPEFGVRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N Dimethyl sulfoxide Chemical group [2H]C([2H])([2H])S(=O)C([2H])([2H])[2H] IAZDPXIOMUYVGZ-WFGJKAKNSA-N 0.000 description 2
- JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N Diphenyl sulfoxide Chemical group C=1C=CC=CC=1S(=O)C1=CC=CC=C1 JJHHIJFTHRNPIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N Methoxyethane Chemical compound CCOC XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N N-chlorosuccinimide Chemical compound ClN1C(=O)CCC1=O JRNVZBWKYDBUCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQZMLBORDGWNPD-UHFFFAOYSA-N N-iodosuccinimide Chemical compound IN1C(=O)CCC1=O LQZMLBORDGWNPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OPFJDXRVMFKJJO-ZHHKINOHSA-N N-{[3-(2-benzamido-4-methyl-1,3-thiazol-5-yl)-pyrazol-5-yl]carbonyl}-G-dR-G-dD-dD-dD-NH2 Chemical compound S1C(C=2NN=C(C=2)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CCCN=C(N)N)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@H](CC(O)=O)C(N)=O)=C(C)N=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1 OPFJDXRVMFKJJO-ZHHKINOHSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 2
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000944 Soxhlet extraction Methods 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DSKBYCZRBZSQBB-UHFFFAOYSA-N [Li+].[Li+].[NH2-].CC(C)[N-]C(C)C Chemical class [Li+].[Li+].[NH2-].CC(C)[N-]C(C)C DSKBYCZRBZSQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 2
- ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N boron tribromide Chemical compound BrB(Br)Br ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008422 chlorobenzenes Chemical class 0.000 description 2
- 229940126086 compound 21 Drugs 0.000 description 2
- 229940126208 compound 22 Drugs 0.000 description 2
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002933 cyclohexyloxy group Chemical group C1(CCCCC1)O* 0.000 description 2
- CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfoxide Chemical group CCS(=O)CC CCAFPWNGIUBUSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001760 dimethyl sulfoxide Drugs 0.000 description 2
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N dipropyl ether Chemical compound CCCOCCC POLCUAVZOMRGSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 2
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 2
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- 239000012336 iodinating agent Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N lithium bis(trimethylsilyl)amide Chemical compound [Li+].C[Si](C)(C)[N-][Si](C)(C)C YNESATAKKCNGOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N lithium;butane Chemical compound [Li+].CC[CH-]C WGOPGODQLGJZGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 2
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N methyllithium Chemical compound C[Li] DVSDBMFJEQPWNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 2
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000006608 n-octyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005029 naphthylthio group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)S* 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N phenyllithium Chemical compound [Li]C1=CC=CC=C1 NHKJPPKXDNZFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 2
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 230000004936 stimulating effect Effects 0.000 description 2
- 125000003375 sulfoxide group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 2
- RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N trichloro(octyl)silane Chemical compound CCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl RCHUVCPBWWSUMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N trimethyl borate Chemical compound COB(OC)OC WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005019 vapor deposition process Methods 0.000 description 2
- PGOLTJPQCISRTO-UHFFFAOYSA-N vinyllithium Chemical compound [Li]C=C PGOLTJPQCISRTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAOUIVVJBYDFKD-XKCDOFEDSA-N (1R,9R,10S,11R,12R,15S,18S,21R)-10,11,21-trihydroxy-8,8-dimethyl-14-methylidene-4-(prop-2-enylamino)-20-oxa-5-thia-3-azahexacyclo[9.7.2.112,15.01,9.02,6.012,18]henicosa-2(6),3-dien-13-one Chemical compound C([C@@H]1[C@@H](O)[C@@]23C(C1=C)=O)C[C@H]2[C@]12C(N=C(NCC=C)S4)=C4CC(C)(C)[C@H]1[C@H](O)[C@]3(O)OC2 UAOUIVVJBYDFKD-XKCDOFEDSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-2,2-bis(chloromethyl)propane Chemical compound ClCC(CCl)(CCl)CCl KPZGRMZPZLOPBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYTPIVIDHMVGSX-UHFFFAOYSA-N 2,1,3-benzoselenadiazole Chemical compound C1=CC=CC2=N[se]N=C21 AYTPIVIDHMVGSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMXVZPYDLNBHAQ-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(5-bromo-4-hexylthiophen-2-yl)-[1,3]thiazolo[5,4-d][1,3]thiazole Chemical compound BrC1=C(C=C(S1)C=1SC=2N=C(SC=2N=1)C=1SC(=C(C=1)CCCCCC)Br)CCCCCC VMXVZPYDLNBHAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUIQYOGTINQIN-UZFYAQMZSA-N 2-amino-9-[(1S,6R,8R,9S,10R,15R,17R,18R)-8-(6-aminopurin-9-yl)-9,18-difluoro-3,12-dihydroxy-3,12-bis(sulfanylidene)-2,4,7,11,13,16-hexaoxa-3lambda5,12lambda5-diphosphatricyclo[13.2.1.06,10]octadecan-17-yl]-1H-purin-6-one Chemical compound NC1=NC2=C(N=CN2[C@@H]2O[C@@H]3COP(S)(=O)O[C@@H]4[C@@H](COP(S)(=O)O[C@@H]2[C@@H]3F)O[C@H]([C@H]4F)N2C=NC3=C2N=CN=C3N)C(=O)N1 YSUIQYOGTINQIN-UZFYAQMZSA-N 0.000 description 1
- TVTJUIAKQFIXCE-HUKYDQBMSA-N 2-amino-9-[(2R,3S,4S,5R)-4-fluoro-3-hydroxy-5-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]-7-prop-2-ynyl-1H-purine-6,8-dione Chemical compound NC=1NC(C=2N(C(N(C=2N=1)[C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H]1O)F)CO)=O)CC#C)=O TVTJUIAKQFIXCE-HUKYDQBMSA-N 0.000 description 1
- SXNCMLQAQIGJDO-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-5-(5-bromothiophen-2-yl)thiophene Chemical compound S1C(Br)=CC=C1C1=CC=C(Br)S1 SXNCMLQAQIGJDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MARXMDRWROUXMD-UHFFFAOYSA-N 2-bromoisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(Br)C(=O)C2=C1 MARXMDRWROUXMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDRFYIPWHMGQPN-UHFFFAOYSA-N 2-chloroisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(Cl)C(=O)C2=C1 WDRFYIPWHMGQPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISZGNNPTDCJIIS-UHFFFAOYSA-N 2-iodoisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(I)C(=O)C2=C1 ISZGNNPTDCJIIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USMRYMUZKSMTRL-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,3,2-dioxaborolane Chemical compound CB1OCCO1 USMRYMUZKSMTRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUTQEANNTJYSHJ-UHFFFAOYSA-N 3,6-bis(5-bromo-4-hexylthiophen-2-yl)-1,2,4,5-tetrazine Chemical compound S1C(Br)=C(CCCCCC)C=C1C1=NN=C(C=2SC(Br)=C(CCCCCC)C=2)N=N1 VUTQEANNTJYSHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZWIYPLSXWYKLH-UHFFFAOYSA-N 3-(bromomethyl)heptane Chemical compound CCCCC(CC)CBr NZWIYPLSXWYKLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QBWKPGNFQQJGFY-QLFBSQMISA-N 3-[(1r)-1-[(2r,6s)-2,6-dimethylmorpholin-4-yl]ethyl]-n-[6-methyl-3-(1h-pyrazol-4-yl)imidazo[1,2-a]pyrazin-8-yl]-1,2-thiazol-5-amine Chemical compound N1([C@H](C)C2=NSC(NC=3C4=NC=C(N4C=C(C)N=3)C3=CNN=C3)=C2)C[C@H](C)O[C@H](C)C1 QBWKPGNFQQJGFY-QLFBSQMISA-N 0.000 description 1
- UCFSYHMCKWNKAH-UHFFFAOYSA-N 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane Chemical compound CC1(C)OBOC1(C)C UCFSYHMCKWNKAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRWWWZLJWNIEEJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,5,5-tetramethyl-2-propan-2-yloxy-1,3,2-dioxaborolane Chemical compound CC(C)OB1OC(C)(C)C(C)(C)O1 MRWWWZLJWNIEEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHWADSHFLSDMBJ-UHFFFAOYSA-N 4,7-bis(4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl)-2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1C(C1=NSN=C11)=CC=C1B1OC(C)(C)C(C)(C)O1 DHWADSHFLSDMBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIIMIGRZSUYQGW-UHFFFAOYSA-N 4,7-bis(5-bromothiophen-2-yl)-2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound S1C(Br)=CC=C1C(C1=NSN=C11)=CC=C1C1=CC=C(Br)S1 ZIIMIGRZSUYQGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVYRQFKGUCDJAB-UHFFFAOYSA-N 4,7-dibromo-2,1,3-benzoselenadiazole Chemical compound BrC1=CC=C(Br)C2=N[se]N=C12 MVYRQFKGUCDJAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEOWHLLJXAECMU-UHFFFAOYSA-N 4,7-dibromo-2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound BrC1=CC=C(Br)C2=NSN=C12 FEOWHLLJXAECMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGERJWSXTKVPSV-UHFFFAOYSA-N 4,7-dithiophen-2-yl-2,1,3-benzothiadiazole Chemical compound C1=CSC(C=2C3=NSN=C3C(C=3SC=CC=3)=CC=2)=C1 XGERJWSXTKVPSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 0 CCC(C)c1cc([Ge](*)(*)c2c-3[s]c([Al])c2)c-3[s]1 Chemical compound CCC(C)c1cc([Ge](*)(*)c2c-3[s]c([Al])c2)c-3[s]1 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005839 GeS 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910000799 K alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N Methyl butyrate Chemical compound CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001665 Poly-4-vinylphenol Polymers 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCTFWCDSFPMHHS-UHFFFAOYSA-M Tributyltin chloride Chemical compound CCCC[Sn](Cl)(CCCC)CCCC GCTFWCDSFPMHHS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJOOWESTVASNOG-UFJKPHDISA-N [(1s,3r,4ar,7s,8s,8as)-3-hydroxy-8-[2-[(4r)-4-hydroxy-6-oxooxan-2-yl]ethyl]-7-methyl-1,2,3,4,4a,7,8,8a-octahydronaphthalen-1-yl] (2s)-2-methylbutanoate Chemical compound C([C@H]1[C@@H](C)C=C[C@H]2C[C@@H](O)C[C@@H]([C@H]12)OC(=O)[C@@H](C)CC)CC1C[C@@H](O)CC(=O)O1 LJOOWESTVASNOG-UFJKPHDISA-N 0.000 description 1
- MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N [60]pcbm Chemical compound C123C(C4=C5C6=C7C8=C9C%10=C%11C%12=C%13C%14=C%15C%16=C%17C%18=C(C=%19C=%20C%18=C%18C%16=C%13C%13=C%11C9=C9C7=C(C=%20C9=C%13%18)C(C7=%19)=C96)C6=C%11C%17=C%15C%13=C%15C%14=C%12C%12=C%10C%10=C85)=C9C7=C6C2=C%11C%13=C2C%15=C%12C%10=C4C23C1(CCCC(=O)OC)C1=CC=CC=C1 MCEWYIDBDVPMES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQHJESKHUUVSIC-UHFFFAOYSA-N antimony lead Chemical compound [Sb].[Pb] QQHJESKHUUVSIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKGULQGPBMIJU-UHFFFAOYSA-N benzene;hydron;bromide Chemical compound Br.C1=CC=CC=C1 ULKGULQGPBMIJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000435 bromine oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ANUZKYYBDVLEEI-UHFFFAOYSA-N butane;hexane;lithium Chemical compound [Li]CCCC.CCCCCC ANUZKYYBDVLEEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- PIMYDFDXAUVLON-UHFFFAOYSA-M chloro(triethyl)stannane Chemical compound CC[Sn](Cl)(CC)CC PIMYDFDXAUVLON-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 229940125810 compound 20 Drugs 0.000 description 1
- 229940125846 compound 25 Drugs 0.000 description 1
- 229940125851 compound 27 Drugs 0.000 description 1
- 229940127204 compound 29 Drugs 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- KVBKAPANDHPRDG-UHFFFAOYSA-N dibromotetrafluoroethane Chemical compound FC(F)(Br)C(F)(F)Br KVBKAPANDHPRDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphine Chemical compound C=1C=CC=CC=1PC1=CC=CC=C1 GPAYUJZHTULNBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- JAXFJECJQZDFJS-XHEPKHHKSA-N gtpl8555 Chemical compound OC(=O)C[C@H](N)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N1CCC[C@@H]1C(=O)N[C@H](B1O[C@@]2(C)[C@H]3C[C@H](C3(C)C)C[C@H]2O1)CCC1=CC=C(F)C=C1 JAXFJECJQZDFJS-XHEPKHHKSA-N 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- 238000004768 lowest unoccupied molecular orbital Methods 0.000 description 1
- CFPKVQBKKLRQHZ-UHFFFAOYSA-M magnesium;3-methanidylheptane;bromide Chemical compound [Mg+2].[Br-].CCCCC([CH2-])CC CFPKVQBKKLRQHZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000000813 microcontact printing Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- MSMWWVPVYSKCIM-UHFFFAOYSA-N n-(2-methoxyphenyl)-2,5-dimethylaniline Chemical compound COC1=CC=CC=C1NC1=CC(C)=CC=C1C MSMWWVPVYSKCIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- FMSOWMGJJIHFTQ-UHFFFAOYSA-N oxidobromine(.) Chemical compound Br[O] FMSOWMGJJIHFTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052706 scandium Inorganic materials 0.000 description 1
- SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N scandium atom Chemical compound [Sc] SIXSYDAISGFNSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000002174 soft lithography Methods 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001936 tantalum oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKSOPLXZQNSWAS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl bromide Chemical compound CC(C)(C)Br RKSOPLXZQNSWAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- LGQXXHMEBUOXRP-UHFFFAOYSA-N tributyl borate Chemical compound CCCCOB(OCCCC)OCCCC LGQXXHMEBUOXRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N triethyl borate Chemical compound CCOB(OCC)OCC AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWYVVBKROXXHEB-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[3-(1-methyl-2,3,4,5-tetraphenylsilol-1-yl)propyl]azanium;iodide Chemical compound [I-].C[N+](C)(C)CCC[Si]1(C)C(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 PWYVVBKROXXHEB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N tripropan-2-yl borate Chemical compound CC(C)OB(OC(C)C)OC(C)C NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTEHWCSSIHAVOQ-UHFFFAOYSA-N tripropyl borate Chemical compound CCCOB(OCCC)OCCC LTEHWCSSIHAVOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Thin Film Transistor (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
【課題】耐久性及び半導体特性の安定性に優れた有機半導体材料として有用である熱安定性の高いジチエノゲルモール重合体、及びそれを含有する有機半導体材料より形成される有機半導体デバイスを提供する。
【解決手段】ジチエノゲルモール重合体は、下記化学式(1)
【化1】
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立して置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基であり、Arは置換基を有してもよい2価の芳香環と、芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環と、置換基を有してもよい2価の芳香環及び/又は芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環を複数連結させた2価のアリーレン基とから選ばれる何れかであり、nは少なくとも2の正数)で示されるものである。有機半導体デバイスは、このジチエノゲルモール重合体を有機半導体層とするものである。
【選択図】なし
【解決手段】ジチエノゲルモール重合体は、下記化学式(1)
【化1】
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立して置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基であり、Arは置換基を有してもよい2価の芳香環と、芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環と、置換基を有してもよい2価の芳香環及び/又は芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環を複数連結させた2価のアリーレン基とから選ばれる何れかであり、nは少なくとも2の正数)で示されるものである。有機半導体デバイスは、このジチエノゲルモール重合体を有機半導体層とするものである。
【選択図】なし
Description
本発明は、含ゲルモール縮環構造の重合体及びその重合体を有機半導体材料として含有する有機半導体デバイスに関するものである。
太陽電池は現在深刻さを増すエネルギー問題に対して有力なエネルギー源として着目されている。太陽電池における光起電力素子用の半導体材料としては、化合物半導体、アモルファスシリコン、多結晶シリコン、単結晶シリコンなどの無機半導体が使用されている。しかし、太陽電池発電は、その無機半導体の製造コストが高いために、現在主流となっている火力発電や原子力発電と比較して高コストとなる。製造コストが高くなる主要因としては薄膜作製時に高温・真空条件での蒸着工程を含むという点が挙げられる。一方で共役高分子などの有機材料を半導体材料として用いた場合、蒸着工程が不要となり製造プロセスが簡略化できるといった利点がある。そのため、有機半導体や有機色素を用いた有機太陽電池の検討が進められている。
太陽電池の性能を決める要素としては、主に短絡電流密度(JSC)、開放電圧(VOC)、フィルファクター(FF)が挙げられる。中でも、短絡電流密度は半導体材料の光吸収特性に大きく依存していることから、材料の光吸収領域が広い材料の方がより多くの光を電気へと変換することが可能となる。有機材料において、広い光吸収領域を有する化合物の条件としては最高被占軌道(HOMO)準位と最低空軌道(LUMO)とのエネルギー差(バンドギャップ)が小さいことが必要となる。また、素子作製時における化合物の加工性の観点から、低分子よりも高分子の研究が盛んに進められている。
これらの特徴を有する化合物としてローバンドギャップポリマー(LBGP)が挙げられる。例えば、特許文献1に、主鎖にチオフェンとケイ素原子とを含む繰り返し単位からなるポリマーまたはオリゴマーからなる有機半導体材料およびこれを用いた電子デバイスが開示されている。また、非特許文献1及び非特許文献2に、シクロペンタジチオフェン骨格やジチエノシロール骨格を含むLBGPを半導体材料として用いた有機薄膜太陽電池において高効率な光電変換特性を示すことが報告されている。
しかし、有機物は無機物と比較して一般的に安定性が低く、素子の耐久性が低いため、化合物の安定性向上が求められている。
ジャンフィ ホウ(Jianhui Hou),ヤン ヤン(Yang Yang)、ジャーナル オブザ アメリカン ケミカル ソサエティ(Journal of the American Chemical Society)、2008年、第30巻、pp.16144-16145
ジェイ.ピート(J.Peet),エイ.ジェイ.ヒーガー(A.J.Heeger), ジイ.シー.バザン(G.C.Bazan)ら、ネイチャー マテリアルズ(Nature Materials)、2007年、第6巻、pp.497-500
本発明は前記の課題を解決するためになされたもので、耐久性及び半導体特性の安定性に優れた有機半導体材料として有用である熱安定性の高いジチエノゲルモール重合体、及びそれを含有する有機半導体材料より形成される有機半導体デバイスを提供することを目的とする。
前記の目的を達成するためになされた、特許請求の範囲の請求項1に記載されたジチエノゲルモール重合体は、下記化学式(1)
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立して置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基であり、Arは置換基を有してもよい2価の芳香環と、芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環と、置換基を有してもよい2価の芳香環及び/又は芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環を複数連結させた2価のアリーレン基とから選ばれる何れかであり、nは少なくとも2の正数)で示されることを特徴とする。
請求項2に記載のジチエノゲルモール化合物は、下記化学式(2)
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立して置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基であり、Y及びY’はそれぞれ独立してハロゲン原子、−Si(R3)3(R3は炭素数1〜6の炭化水素基)、−Sn(R4)3(R4は炭素数1〜6の炭化水素基)、ボロン酸基及びボロン酸エステル基から選ばれる1つである)で示されることを特徴とする。
請求項3に記載の発明は、下記化学式(3)
(式中、R3はそれぞれ独立して置換基を有してもよい炭素数1〜6の炭化水素基であり、X1及びX2はそれぞれ独立してハロゲン原子である)で示される化合物を有機リチウム化合物の存在下で、下記化学式(4)
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立して置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基であり、X3及びX4はそれぞれ独立してハロゲン原子である)で示される化合物と反応させて、下記化学式(5)
(式中、R1、R2及びR3は前記と同じである)で示される第一中間体を得て、前記第一中間体とハロゲン化剤とを反応させることにより、下記化学式(6)
(式中、R1及びR2は前記と同じであり、X5及びX6はそれぞれ独立してハロゲン原子である)で示される第二中間体を得た後、
前記第二中間体と、ハロゲン化トリアルキルスズ、ボロン酸化剤、若しくはボロン酸エステル化剤とを反応させることにより、下記化学式(7)
(式中、R1及びR2は前記と同じであり、Z及びZ’はそれぞれ独立して−Sn(R4)3(R4は、炭素数1〜6の炭化水素基)、ボロン酸基及びボロン酸エステル基から選ばれる1つである)で示される第三中間体を得て、次いで下記化学式(8)
X7−Ar−X8 ・・・(8)
(式中、Arは置換基を有してもよい2価の芳香環と、芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環と、前記置換基を有してもよい2価の芳香環及び/又は前記芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環を複数連結させた2価のアリーレン基とから選ばれる何れかであり、X7及びX8はハロゲン原子である)で示される化合物と貴金属錯体存在下でカップリング反応させ、
又は
前記第二中間体と、下記化学式(9)
Z−Ar−Z’ ・・・(9)
(式中、Ar、Z及びZ’は前記と同じである)で示される化合物とを貴金属錯体存在下でカップリング反応させることにより、下記化学式(1)
(式中、R1、R2及びArは前記と同じであり、nは少なくとも2の正数)で示されるジチエノゲルモール重合体を製造する方法である。
前記第二中間体と、ハロゲン化トリアルキルスズ、ボロン酸化剤、若しくはボロン酸エステル化剤とを反応させることにより、下記化学式(7)
X7−Ar−X8 ・・・(8)
(式中、Arは置換基を有してもよい2価の芳香環と、芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環と、前記置換基を有してもよい2価の芳香環及び/又は前記芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環を複数連結させた2価のアリーレン基とから選ばれる何れかであり、X7及びX8はハロゲン原子である)で示される化合物と貴金属錯体存在下でカップリング反応させ、
又は
前記第二中間体と、下記化学式(9)
Z−Ar−Z’ ・・・(9)
(式中、Ar、Z及びZ’は前記と同じである)で示される化合物とを貴金属錯体存在下でカップリング反応させることにより、下記化学式(1)
請求項4に記載の発明は、ジチエノゲルモール重合体を合成するための中間体の製造方法であって、
下記化学式(3)
(式中、R3はそれぞれ独立して置換基を有してもよい炭素数1〜6の炭化水素基であり、X1及びX2はそれぞれ独立してハロゲン原子である)で示される化合物を有機リチウム化合物の存在下で、下記化学式(4)
(式中、R1及びR2はそれぞれ独立して置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基であり、X3及びX4はそれぞれ独立してハロゲン原子である)で示される化合物と反応させること、
下記化学式(5)
(式中、R1及びR2、R3は前記と同じである)で示される化合物とハロゲン化剤とを反応させること、
又は
下記化学式(6)
(式中、R1及びR2は前記と同じであり、X5及びX6はそれぞれ独立してハロゲン原子である)で示される化合物と、ハロゲン化トリアルキルスズ、ボロン酸化剤、若しくはボロン酸エステル化剤とを反応させることにより、下記化学式(2)
(式中、R1及びR2は前記と同じであり、Y及びY’はそれぞれ独立してハロゲン原子、−Si(R3)3(R3は炭素数1〜6の炭化水素基)、−Sn(R4)3(R4は炭素数1〜6の炭化水素基)、ボロン酸基及びボロン酸エステル基から選ばれる1つである)で示されるジチエノゲルモール化合物を製造する方法である。
下記化学式(3)
下記化学式(5)
又は
下記化学式(6)
請求項5に記載の有機半導体用組成物は、請求項1に記載のジチエノゲルモール重合体を含むことを特徴とする。
請求項6に記載の有機半導体用材料は、請求項1に記載のジチエノゲルモール重合体からなることを特徴とする。
請求項7に記載の有機半導体デバイスは、請求項1に記載のジチエノゲルモール重合体を有機半導体層とすることを特徴とする。
請求項8に記載の有機半導体デバイスは、請求項7に記載されたものであって、光電変換素子であることを特徴とする。
請求項9に記載の有機半導体デバイスは、請求項7に記載されたものであって、有機トランジスタであることを特徴とする。
本発明のジチエノゲルモール重合体は、高い熱安定性を有しているため、高安定性を示す有機半導体材料を提供することができる。
本発明のジチエノゲルモール化合物は、含ゲルモール縮合環に芳香環が結合している化合物の繰返し単位を有するジチエノゲルモール重合体を合成する中間体であり、芳香族化合物とカップリング重合反応を行うことでその共重合体を得ることができる。
本発明の有機半導体デバイスは、ジチエノゲルモール重合体を含有した有機半導体材料から形成されており、優れた耐久性及び半導体特性の安定性を示すことができる。
以下、本発明を実施するための好ましい形態について詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらの形態に限定されるものではない。
本発明のジチエノゲルモール重合体は、下記化学式(1)で示されるように、含ゲルモール縮環構造の重合体、即ちジチエノゲルモールとArとの完全交互共重合体である。
前記化学式(1)において、nは数平均重合度を表し2以上の数である。数平均重合度の上限は、本発明の重合体が効果を奏する観点からは特定されないが、2000以下であるのが好ましい。R1及びR2は、それぞれ独立して同一又は異なる置換基を有してもよい直鎖状、分岐鎖状、又は環状の炭素数1〜20の炭化水素基である。例えば、置換基を有してもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、置換基を有してもよいシクロアルキル基などが挙げられる。
置換基を有してもよいアルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙げられる。
置換基を有してもよいアリール基とはフェニル基、ナフチル基、ピリジル基、チエニル基、フリル基、ピロリル基などが挙げられる。
かかる置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などのアルキル基;フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、チエニル基、フリル基、ピロリル基などのアリール基;メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基などのアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、フェニルチオ基、ナフチルチオ基などのアルキルチオ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基;メチルスルフォキシド基、エチルスルフォキシド基、フェニルスルフォキシド基などのスルフォキシド基;メチルスルフォニルオキシ基、エチルスルフォニルオキシ基、フェニルスルフォニルオキシ基、メトキシスルフォニル基、エトキシスルフォニル基、フェニルオキシスルフォニル基などのスルフォン酸エステル基;ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基などの1級または2級のアミノ基;アセチル基、ベンゾイル基、ベンゼンスルホニル基、tert−ブトキシカルボニル基などで置換された、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、フェニル基などのアルキル基またはアリール基などで置換されていてもよいアミノ基;シアノ基;ニトロ基;などが挙げられる。
前記化学式(1)において、Arは置換基を有してもよい2価の芳香環と、芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環と、置換基を有してもよい2価の芳香環及び/又は芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環を複数連結させた2価のアリーレン基とから選ばれる1つである。
置換又は未置換の2価の芳香環の具体例を化学式(a)〜(g)に示す。
これらの置換又は未置換の2価の芳香環の中でも、特に化合物(b)の構造が望ましい。
置換もしくは未置換の芳香環数2〜7の2価の多核芳香環の具体例を化学式(h)〜(s)に示す。
これらの置換もしくは未置換の芳香環数2〜7の2価の多核芳香環の中でも、(k),(l),(m)に示される構造のような含ヘテロ原子芳香環が好ましく、特に(k)の構造であるベンゾチアジアゾール骨格が望ましい。
pは、可能であれば、0、1、2、3又は4の数である。
R5及びR5’はそれぞれ独立して置換基を有してもよい直鎖状、分岐鎖状、環状の炭素数1〜20の炭化水素基であり、この炭化水素基が酸素又は硫黄原子などで中断されてもよく、R5及びR5’は環を形成してもよい。
R6及びR6’はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を有してもよい直鎖状、分岐鎖状、環状の炭素数1〜20の炭化水素基であり、この炭化水素基が酸素または硫黄原子などで中断されてもよく、あるいは、R6及びR6’は環を形成してもよい。
R7及びR7’はそれぞれ独立して置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基であり、この炭化水素基が酸素または硫黄原子などで中断されてもよい。
R8及びR8’はそれぞれ独立して置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基であり、この炭化水素基が酸素または硫黄原子などで中断されてもよく、あるいは、R8及びR8’は環を形成してもよい。
R9及びR9’はそれぞれ独立して水素原子又は置換基を有してもよい炭素数1〜20の炭化水素基である。
R10及びR10’はそれぞれ独立して置換基を有しても良い炭素数1〜20の炭化水素基である。
かかる置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などのアルキル基;フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、チエニル基、フリル基、ピロリル基などのアリール基;メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、n−ブトキシ基、n−ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−オクチルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基などのアルコキシ基;メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、フェニルチオ基、ナフチルチオ基などのアルキルチオ基;メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−ブトキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基;メチルスルフォキシド基、エチルスルフォキシド基、フェニルスルフォキシド基などのスルフォキシド基;メチルスルフォニルオキシ基、エチルスルフォニルオキシ基、フェニルスルフォニルオキシ基、メトキシスルフォニル基、エトキシスルフォニル基、フェニルオキシスルフォニル基などのスルフォン酸エステル基;ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基などの1級または2級のアミノ基;アセチル基、ベンゾイル基、ベンゼンスルホニル基、tert−ブトキシカルボニル基などで置換された、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、フェニル基などのアルキル基またはアリール基などで置換されていてもよいアミノ基;シアノ基;ニトロ基;などが挙げられる。
本発明のジチエノゲルモール重合体は、下記化学式(2)に示されるジチエノゲルモール化合物である中間体から合成することができる。
前記化学式(2)において、Y及びY’はそれぞれ独立して同一又は異なり、ハロゲン原子、−Si(R3)3、−Sn(R4)3、ボロン酸及びボロン酸エステル基から選ばれる1つである。R3及びR4は、炭素数1〜6の炭化水素基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などの直鎖アルキル基;シクロヘキシル基などの環状アルキル基;フェニル基などのアリール基が挙げられる。
本発明のジチエノゲルモール重合体の製造方法の一実施例としてその製造工程を下記式(A)に示す。
本発明のジチエノゲルモール重合体は、5段階の反応工程1〜5により得られる。テトラハロゲノゲルマニウム(10)から合成された前記化学式(4)で示されるジアルキルジハロゲノゲルマニウムと、前記化学式(3)で示される5,5’−ビス(トリアルキルシリル)−3,3’−ハロ−2,2’−ビチオフェン誘導体とを塩基である有機リチウム化合物存在下で反応させることで、前記化学式(2)で示されるY及びY’が−Si(R3)3であり前記化学式(5)に示される第一中間体(5)を得る。前記化学式(3)で示される化合物および以降の中間体または反応生成物では、2つのチオフェン環の4−位および4’−位の炭素原子に結合する水素原子が所望によりメチル基、エチル基などの低級アルキル基で置換された構造の化合物を用いてもよい。
この第一中間体(5)にハロゲン化剤を反応させることで、前記化学式(2)で示されるY及びY’がハロゲン原子であり前記化学式(6)に示される第二中間体(6)を得る。
この第二中間体(6)を塩基と共にハロゲン化トリアルキルスズ誘導体、ボロン酸化剤、又はボロン酸エステル化剤と反応させることで、前記化学式(2)で示されるY及びY’が−Sn(R4)3、ボロン酸基及びボロン酸エステル基から選ばれる1つであり前記化学式(7)に示される第三中間体(7)を得る。この第三中間体(7)とジハロアリール誘導体とをクロスカップリング反応させることで、前記化学式(1)に示されるジチエノゲルモール重合体であるポリ(1,1−ジアルキルジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール)−3,6−ジイル−alt−アリーレンを得る。
反応式(A)中、R1〜R3は前記と同じであり、X,X’,X1〜X8はハロゲン原子であり、Z及びZ’は−Sn(R4)3、ボロン酸基及びボロン酸エステル基から選ばれる1つである。また、−Sn(R4)3におけるR4も前記と同じである。
このジチエノゲルモール重合体の製造方法における各反応工程について詳細に説明する。
反応工程1は、ヤロッシュ オー.ジイ(Yarosh O. G),コルトワ アイ.エム.(Korotaeva I. M.)ら、ロシアン ジャーナル オブ ゼネラル ケミストリー(Russian Journal of General Chemistry)、2005年、第75巻、pp.714-718に記載された合成方法を用いることができる。反応工程1の具体例を下記反応式(I)に示す。
反応工程1は、溶媒存在下で、四塩化ゲルマニウム(10−1)と有機マグネシウムハロゲン化物とを反応させることでジアルキルジハロゲノゲルマニウム(4―1)を合成する方法が挙げられる。
反応工程2であり、前記化学式(3)に示される5,5’−ビス(トリアルキルシリル)−3,3’−ハロ−2,2’−ビチオフェン誘導体と前記化学式(4)で示されるジアルキルジハロゲルマニウムとを反応させ、前記化学式(5)で示される第一中間体を合成する具体例を下記反応式(II)に示す。
反応工程2は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下において、溶媒に、5,5’−ビス(トリアルキルシリル)−3,3’−ハロ−2,2’−ビチオフェン誘導体(3−1)を加え、次いで塩基と共にジアルキルジハロゲノゲルマニウム(4−1)を加えて反応させることで、第一中間体である1,1−ジアルキル−3,6−ビス(トリアルキルシリル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(5)を合成する方法が挙げられる。
反応工程2は、溶媒の存在下で行われることが好ましい。かかる溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロヘキサンなどの飽和脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、キシレン、エチルトルエンなどの芳香族炭化水素;ジメチルエーテル、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどのエーテルなどが挙げられる。
これらの中でも、エーテルを用いることが好ましく、具体的には、ジエチルエーテルやテトラヒドロフランを使用するのが好ましい。溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。かかる溶媒の使用量は、5,5’−ビス(トリアルキルシリル)−3,3’−ハロ−2,2’−ビチオフェン誘導体(3)1質量部に対して、1〜100質量部であることが好ましく、1〜50質量部であることがより好ましい。
反応工程2で用いられる塩基としては、有機リチウム化合物が好適に用いられる。有機リチウム化合物としては、例えば、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム化合物;フェニルリチウムなどのアリールリチウム化合物;ビニルリチウムなどのアルケニルリチウム化合物;リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビストリメチルシリルアミドなどのリチウムアミド化合物などが使用される。これらの中でもアルキルリチウム化合物を用いることが好ましい。有機リチウム化合物の使用量については特に限定されず、ジアルキルジハロゲノゲルマニウム(4)1モルに対して、0.5〜5molであることが好ましい。有機リチウム化合物の使用量が5molを超える場合、副反応や生成物の分解を促進する恐れがあり、4mol以下であることが好ましい。また、有機リチウム化合物の使用量は、1mol以上であることがより好ましい。
反応工程2において、ジアルキルジハロゲノゲルマニウム(4)と5,5’−ビス(トリアルキルシリル)−3,3’−ハロ−2,2’−ビチオフェン誘導体(3)とを反応させる際の反応温度については、特に限定されず、−100〜100℃の範囲であることが好ましい。反応温度が−100℃未満の場合、反応速度が極めて遅くなるおそれがあり、−80℃以上であることがより好ましい。一方、反応温度が100℃を超える場合、生成物の分解を促進するおそれがあり、50℃以下であることがより好ましく、0℃以下であることが更に好ましい。反応時間は、1分〜20時間であることが好ましく、0.5〜5時間であることがより好ましい。また、反応圧力は、0〜3MPa(ゲージ圧)であることが好ましい。
反応工程3である、前記化学式(5)に示される第一中間体とハロゲン化剤と反応させ、前記化学式(6)に示される第二中間体を合成する具体例を下記反応式(III)に示す。
反応工程3は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下において、溶媒に、1,1−ジアルキル−3,6−ビス(トリアルキルシリル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール誘導体(5)を加え、次いでハロゲン化剤を加えて反応させることで、第二中間体である1,1−ジアルキル−3,6−ジハロジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(6−1)を合成する方法が挙げられる。
反応工程3の反応は、溶媒の存在下で行われることが好ましい。かかる溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロヘキサンなどの飽和脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、キシレン、エチルトルエンなどの芳香族炭化水素;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、ジメトキシエタン、ジブチルエーテルなどのエーテル;アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド及びN−メチルピロリドンなどのアミド;塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2−ジクロロエタン、1,1−ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼンなどが挙げられる。これらの中でも、エーテルを用いることが好ましく、具体的には、ジエチルエーテルやテトラヒドロフランを使用するのが好ましい。溶媒は、単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。かかる溶媒の使用量は、1,1−ジアルキル−3,6−ビス(トリアルキルシリル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール誘導体(5)1質量部に対して、1〜100質量部の範囲であるのが好ましい。
反応工程3で用いられるハロゲン化剤としては、例えば、N−クロロスクシンイミド、N−クロロフタル酸イミド、塩素、五塩化リン、塩化チオニル、1,2−ジクロロ−1,1,2,2−テトラフルオロエタンなどの塩素化剤;N−ブロモスクシンイミド、N−ブロモフタル酸イミド、N−ブロモジトリフルオロメチルアミン、臭素、三臭化ホウ素、臭化銅、臭化銀、臭化−t−ブチル、酸化臭素、1,2−ジブロモ−1,1,2,2−テトラフルオロエタンなどの臭素化剤;ヨウ素、ヨウドトリクロライド、N−ヨードフタル酸イミド、N−ヨードスクシンイミドなどのヨウ素化剤などが挙げられる。これらの中でも、臭素化剤またはヨウ素化剤を用いることが好ましく、臭素化剤を用いることがより好ましい。
反応工程3において、ハロゲン化剤の使用量については特に限定されず、1,1−ジアルキル−3,6−ビス(トリアルキルシリル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール誘導体(5)1モルに対して、2〜8モルであることが好ましい。ハロゲン化剤の使用量が2モル未満の場合、臭素の置換反応が不十分となる、原料である第一中間体(5)との分離精製作業が煩雑になる、等の恐れがある。一方、ハロゲン化剤の使用量が8モルを超える場合、ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール骨格の3位、6位以外への置換反応が起こる、未反応のハロゲン化剤の除去作業が煩雑になる、等の恐れがあり、4モル以下であることがより好ましい。
1,1−ジアルキル−3,6−ビス(トリアルキルシリル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール誘導体(5)とハロゲン化剤とを反応させる際の反応温度については特に限定されず、−100〜100℃の範囲であることが好ましい。反応温度が−100℃未満の場合、反応速度が極めて遅くなるおそれがあり、−20℃以上であることがより好ましい。一方、反応温度が100℃を超える場合、生成物の分解を促進するおそれがあり、50℃以下であることがより好ましく、10℃以下であることが更に好ましい。反応時間は、1分〜20時間であることが好ましく、0.5〜10時間であることがより好ましい。また、反応圧力は、0〜3MPa(ゲージ圧)であることが好ましい。
反応工程4であり、前記化学式(6)で示される第二中間体と塩基と共にハロゲン化トリアルキルスズ誘導体、ボロン酸化剤、又はボロン酸エステル化剤と反応させ、前記化学式(7)に示される第三中間体を合成する具体例を下記化学式(IV)に示す。
反応工程4は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で、溶媒の存在下に1,1−ジアルキル−3,6−ジハロジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール誘導体(6−1)を加え、次いでハロゲン化トリアルキルスズ誘導体を反応させることで、第三中間体である1,1−ジアルキル−3,6−ビス(トリアルキルスズ)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(7−1)を合成する方法が挙げられる。
第二中間体(6)と反応させる化合物は、ハロゲン化トリアルキルスズ誘導体に限られず、ボロン酸化剤又はボロン酸エステル化剤であってもよい。反応させる化合物により、それぞれ前記化学式(7)に示される1,1−ジアルキルジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール−3,6−ボロン酸又は1,1−ジアルキルジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール−3,6−ボロン酸エステルが得られる。
反応工程4は、溶媒の存在下で行われることが好ましい。かかる溶媒としては、例えば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、シクロヘキサンなどの飽和脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、キシレン、エチルトルエンなどの芳香族炭化水素;ジメチルエーテル、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、t−ブチルメチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどのエーテルなどが挙げられる。これらの中でも、エーテルを用いることが好ましく、具体的には、ジエチルエーテルやテトラヒドロフランを使用するのが好ましい。溶媒は、単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。かかる溶媒の使用量は、第二中間体(6)1質量部に対して、1〜100質量部であることが好ましく、1〜50質量部であることがより好ましい。
反応工程4で用いられる塩基としては、有機リチウム化合物が好適に用いられる。有機リチウム化合物としては、例えば、メチルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム化合物;フェニルリチウムなどのアリールリチウム化合物;ビニルリチウムなどのアルケニルリチウム化合物;リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビストリメチルシリルアミドなどのリチウムアミド化合物などが使用される。これらの中でもアルキルリチウム化合物を用いることが好ましい。有機リチウム化合物の使用量については特に限定されず、第二中間体(6)1モルに対して、0.5〜5molであることが好ましい。有機リチウム化合物の使用量が5molを超える場合、副反応や生成物の分解を促進する恐れがあり、4mol以下であることが好ましい。また、有機リチウム化合物の使用量は、1mol以上であることがより好ましい。
反応工程4で用いられるハロゲン化トリアルキルスズとしては、例えば、塩化トリメチルスズ、塩化トリエチルスズ、塩化トリ−n−プロピルスズ、塩化トリ−n−ブチルスズなどが挙げられ、中でも塩化トリメチルスズを用いることが望ましい。また、前記反応工程4で用いられるボロン酸化剤としては、例えば、ほう酸トリメチル、ほう酸トリエチル、ほう酸トリ−n−プロピル、ほう酸トリ−n−ブチル、ほう酸トリイソプロピルなどが挙げられ、中でも反応効率の観点からほう酸トリメチルを用いることが望ましい。また、前記反応工程4で用いられるボロン酸エステル化剤は、例えば、4、4、5、5−テトラメチル−1、3、2−ジオキサボロラン、2−メトキシ−4、4、5、5−テトラメチル−1、3、2−ジオキサボロラン、2−イソプロポキシ−4、4、5、5−テトラメチル−1、3、2−ジオキサボロランなどが挙げられ、中でも2−イソプロポキシ−4、4、5、5−テトラメチル−1、3、2−ジオキサボロランを用いることが望ましい。
反応工程4において、1,1−ジアルキル−3,6−ジハロジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール誘導体とハロゲン化トリアルキルスズ、ボロン酸化剤又はボロン酸エステル化剤とを反応させる際の反応温度については、特に限定されず、−100〜100℃の範囲であることが好ましい。反応温度が−100℃未満の場合、反応速度が極めて遅くなるおそれがあり、−80℃以上であることがより好ましい。一方、反応温度が100℃を超える場合、生成物の分解を促進するおそれがあり、50℃以下であることがより好ましく、0℃以下であることが更に好ましい。反応時間は、1分〜20時間であることが好ましく、0.5〜5時間であることがより好ましい。また、反応圧力は、0〜3MPa(ゲージ圧)であることが好ましい。
反応工程5であり、前記化学式(7)に示される第三中間体とジハロアリール誘導体(8)とを反応させ、前記化学式(1)に示されるジチエノゲルモール重合体を合成する具体例を下記反応式(V)に示す。
反応工程5は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下において、溶媒及び貴金属錯体の存在下で、1,1−ジアルキル−3,6−ビス(トリアルキルスズ)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(7−1)とジハロアリール誘導体(8−1)とをクロスカップリング反応させることで、前記化学式(1)に示されるジチエノゲルモール重合体を合成する方法が挙げられる。
反応工程5では、通常、有機溶媒又は水などの溶媒が用いられ、好適には有機溶媒が用いられる。用いられる有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジイソプロピエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素などが挙げられ、中でも非プロトン性溶媒又はエーテルが好ましく用いられる。かかる溶媒はそれぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。また、かかる有機溶媒の使用量は、第三中間体(7)1質量部に対して、1〜200質量部であることが好ましく、5〜100質量部であることがより好ましい。
反応工程5に用いられる貴金属錯体としては、例えば、パラジウムなどの貴金属錯体が挙げられ、特にテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(Pd(PPh3)4)や塩化〔1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン〕パラジウム(PdCl2(dppf))などのようにホスフィン類が配位している貴金属錯体を用いることが好ましい。
反応工程5におけるクロスカップリング反応としては、例えば、Stilleカップリング反応、Suzukiカップリング反応が好適に採用される。なお、Stilleカップリング反応は、第三中間体(7)中のZ及びZ’が−Sn(R4)3で示される基である有機スズ化合物を用いた反応であり、Suzukiカップリング反応は、第三中間体(7)中のZ及びZ’がボロン酸基又はボロン酸エステル基である有機ホウ素化合物を用いた反応である。
このような本発明の製造方法によって得られるジチエノゲルモール重合体は、その末端基がハロゲン原子、トリアルキルスズ基、ボロン酸基、ボロン酸エステル基、又はそれらの原子若しくは基が脱離した水素原子であるものであってもよく、これらの末端基が臭化ベンゼンなどの芳香族ハロゲン化物や、芳香族ボロン酸化合物からなる末端封止剤で置換された末端構造であるものであってもよい。また、反応工程5では、ジチエノゲルモール重合体の効果を損なわない範囲の少量であれば、ジハロアリール誘導体(8)と反応させる第三中間体に、前記化学式(7)に示される以外のジチエノゲルモール縮環構造を有さない化合物を共存させてもよい。
反応工程5のクロスカップリング反応における反応温度については特に限定されず、−50〜200℃の範囲であることが好ましい。反応温度が−50℃未満の場合、反応速度が極めて遅くなるおそれがあり、−20℃以上であることがより好ましい。一方、反応温度が200℃を超える場合、生成物または触媒である金属錯体の分解を促進するおそれがあり、170℃以下であることがより好ましい。反応時間は、1分〜100時間であることが好ましく、0.5〜80時間であることがより好ましい。また、反応圧力は、0〜3MPa(ゲージ圧)であることが好ましい。
このようにして得られたジチエノゲルモール重合体(1)は、有機重合体の一般的な精製方法であるソックスレー抽出法により、残留触媒の除去および低分子量成分の除去、それに伴う分子量分布の狭化を達成することができる。ソックスレー抽出に用いる溶媒としては、例えば、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ヘキサン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1、4−ジオキサン、酢酸エチル、トルエン、塩化メチレン、1,2−ジクロロエタン、クロロホルム、モノクロロベンゼンなどが挙げられる。
これらの反応工程で重合及び精製を行った場合、ジチエノゲルモール重合体(1)の数平均分子量(Mn)は、通常、200〜1,000,000であり、重量平均分子量(Mw)は、通常、200〜1,000,000である。
次に、本発明のジチエノゲルモール重合体の別の製造方法について説明する。
本発明のジチエノゲルモール重合体の製造方法は、その重合前駆体の置換基の組み合わせにより反応工程が異なるものである。前記反応工程3まで同様の方法で行なって得られた第二中間体(6)と、前記化学式(9)に示される化合物とをクロスカップリング反応させることで、ジチエノゲルモール重合体(1)を得ることができる。この反応を反応工程4−aとする。
第二中間体(6)と前記化学式(9)に示される化合物とのクロスカップリング反応における具体例を下記反応式(VI)に示す。
反応工程4−aは、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下において、溶媒及び貴金属錯体の存在下で、1,1−ジアルキル−3,6−ジハロジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール誘導体(6−1)と前記化学式(9)に示される化合物とをクロスカップリング反応させる方法が挙げられる。
反応工程4−aでは、通常、有機溶媒又は水などの溶媒が用いられ、好適には有機溶媒が用いられる。用いられる有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノールなどのアルコール;N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの非プロトン性極性溶媒;ジエチルエーテル、ジイソプロピエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素などが挙げられ、中でも非プロトン性溶媒又はエーテルが好ましく用いられる。かかる溶媒はそれぞれ単独で用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。また、かかる有機溶媒の使用量は、第二中間体(6)1質量部に対して、1〜200質量部であることが好ましく、5〜100質量部であることがより好ましい。
反応工程4−aで用いられる貴金属錯体としては、例えば、パラジウムなどの貴金属錯体が挙げられ、特にPd(PPh3)4やPdCl2(dppf)などのようにホスフィン類が配位している貴金属錯体を用いることが好ましい。
反応工程4−aにおけるクロスカップリング反応としては、例えば、Stilleカップリング反応、Suzukiカップリング反応が好適に採用される。なお、Stilleカップリング反応は、前記化学式(9)で示される化合物中のZ及びZ’が−Sn(R4)3で示される基である有機スズ化合物を用いた反応であり、Suzukiカップリング反応は、前記化学式(9)で示される化合物中のZ及びZ’がボロン酸基及びボロン酸エステル基である有機ホウ素化合物を用いた反応である。
反応工程4−aのクロスカップリング反応における反応温度については、特に限定されず、−50〜200℃の範囲であることが好ましい。反応温度が−50℃未満の場合、反応速度が極めて遅くなるおそれがあり、−20℃以上であることがより好ましい。一方、反応温度が200℃を超える場合、生成物または触媒である金属錯体の分解を促進するおそれがあり、170℃以下であることがより好ましい。反応時間は、1分〜100時間であることが好ましく、0.5〜80時間であることがより好ましい。また、反応圧力は、0〜3MPa(ゲージ圧)であることが好ましい。
このようにして得られたジチエノゲルモール重合体(1)は、前記反応工程5で例示した精製方法と同様の方法で精製することができる。
反応工程4−aの方法で重合及び精製を行った場合、ジチエノゲルモール重合体(1)の数平均分子量(Mn)は、通常、200〜1,000,000であり、重量平均分子量(Mw)は、通常、200〜1,000,000である。
また、前記化学式(9)に示される化合物を得る方法としては、下記反応式(VII)で示されるように、前記反応式(IV)で示される反応工程4と同様の方法により、前記化学式(8)で示されるジハロアリール誘導体から合成することが好ましい。
これらの各反応工程における反応式(I)〜(VII)に示される、R1〜R4,X,X’,X1〜X8,Z,Z’,Arはそれぞれ前記と同じである。
これらの反応工程により製造された本発明のジチエノゲルモール重合体は、非特許文献1に記載されている既報のLBGPであるジチエノシロールと類似の構造を有するが、そのC−Si結合と比較してより強固な結合であるC−Ge結合を構造中に含むため、より高い熱安定性を有するという特徴を有する。
それらの結合解離エネルギーD0 298(kJ mol−1)は、デビット アール.リーデ(David R.Lide)ら、シーアールシー ハンドブック オヴ ケミストリー アンド フィジックス第90版 2009-2010年(CRC Handbook of Chemistry and Physics.90TH EDITTION 2009-2010.)、2009年、pp.9−64〜9−69の記載によると、C−Si結合で447kJ mol−1であり、C−Ge結合で470kJ mol−1である。この高い熱安定性を示すジチエノゲルモール重合体は、新しい有機半導体材料として使用することができ、光電変換素子、有機電界効果トランジスタ、有機薄膜トランジスタ素子などの有機半導体デバイスを製造することができる。
本発明の有機半導体デバイスの一実施例として有機電界効果トランジスタについて説明する。
有機電界効果トランジスタは、基板上で、電圧が印加されるゲート電極層と、絶縁体層と、電流路となるソース−ドレイン電極層と、有機半導体層とが、積層されているものである。それらの各層の積層配置の違いにより、ボトムゲート・トップコンタクト型、ボトムゲート・ボトムコンタクト型、トップゲート・ボトムコンタクト型、およびトップゲート・トップコンタクト型がある。この有機半導体層1を形成する有機半導体材料として本発明のジチエノゲルモール重合体が用いられる。
有機電界効果トランジスタの好ましい一形態について、図1に示す。
有機電界効果トランジスタ10は、図1(a)に示されるように、基板である絶縁性支持基板6上に、ゲート電極5からなるゲート電極層、絶縁体層4、ソース電極2とドレイン電極3とからなるソース−ドレイン電極層2−3、及びジチエノゲルモール重合体を含有している有機半導体層1が、順次積層されているボトムゲート・ボトムコンタクト型である。ゲート電極5は、電流路に流れる電流を制御しており、絶縁体層4によって有機半導体層1およびソース−ドレイン電極層2−3から隔離されている。ソース−ドレイン電極層2−3は、有機半導体層1に蒸着されており、ソース電極2及びドレイン電極3の間の電流路となるチャネル領域を形成している。
これらの各層や電極の配置は、電子デバイスの用途により適宜選択することができる。有機電界効果トランジスタ10は、図1(b)に示されるように、絶縁体性基板6上に、ゲート電極5、絶縁体層4、有機半導体層1及びソース電極2とドレイン電極3とであるソース−ドレイン電極層2−3が、順次積層されて形成されているボトムゲート・トップコンタクト型であってもよい。有機電界効果トランジスタ10の構造は、特に限定されず、例えば、有機半導体層1が露出している場合、有機半導体層1への外気の影響を最小限するための保護膜がその有機半導体層1の上に形成されているものであってもよい。
有機電界効果トランジスタ10は、ゲート電極5に電圧を印加すると電界が生じ、ソース−ドレイン電極層2−3において、ソース電極2とドレイン電極3との間で電流路となるチャネル領域Lを形成する。そのソース−ドレイン電極層2−3と有機半導体層1とにおいて、ソース電極2から有機半導体層1へ電子の供給が行われ、また有機半導体層1からドレイン電極3へ電子の排出が行われ、電流が流れる。有機半導体層1と絶縁体層4のキャリア密度を変化させ、ソース電極2およびドレイン電極3の間に流れる電流量を変化させることで、トランジスタ動作が行われる。
絶縁性支持基板6の材料としては、具体的に、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ガラス、石英、シリコン、セラミック、プラスチックなどが挙げられる。
絶縁性支持基板5の厚みは、0.05〜2mm程度であると好ましく、0.1〜1mm程度であるとより好ましい。
絶縁体層4の材料としては、絶縁性を有する種々の材料を用いることができる。かかる材料としては、具体的に、酸化シリコン、窒化シリコン、アモルファスシリコン、酸化アルミニウム、酸化タンタルなどが挙げられる。また、ポリスチレン、ポリビニルフェノール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン、ポリスルホン、(メタ)アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シアノ基を有する炭化水素樹脂およびフェノール樹脂、ポリイミド樹脂およびポリパラキシリレン樹脂からなる群から選択される1種又は2種以上の樹脂を主成分とする樹脂または樹脂組成物から形成してもよい。
絶縁体層4の膜厚は、好ましくは50nm〜2μm程度であり、更に好ましくは100nm〜1μm程度である。
絶縁体層4は、室温における電気伝導度が、1.0MV/cmの電界強度下においてリーク電流が10−2A/cm2以下のものであると好ましい。また、その比誘電率は、通常で4.0程度であり、高い値を示すものであると好ましい。
絶縁体層4の形成方法は、用いる材料に応じて適宜選択することができる。例えば、スピンコートやブレードコートなどの塗布法、蒸着法、スパッタ法、スクリーン印刷やインクジェット、静電荷像現像方法などの印刷法などにより形成することができる。また、絶縁体の前駆物質としてモノマーを塗布した後、光を照射して硬化させることにより絶縁体を形成する光硬化樹脂を用いてもよい。
ゲート電極5、ソース電極2およびドレイン電極3の材料は、特に制限されず導電性を示すものであればよい。具体的に、白金、金、銀、ニッケル、クロム、銅、鉄、錫、アンチモン鉛、タンタル、インジウム、パラジウム、テルル、レニウム、イリジウム、アルミニウム、ルテニウム、ゲルマニウム、モリブデン、タングステン、酸化スズ・アンチモン、酸化インジウム・スズ(ITO)、フッ素ドープ酸化亜鉛、亜鉛、シリコン、炭素、グラファイト、クラッシーカーボン、銀ペーストおよびカーボンペースト、リチウム、ベリリウム、ナトリウム、マグネシウム、カリウム、カルシウム、スカンジウム、チタン、マンガン、ジルコニウム、ガリウム、ニオブ、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/銀混合物、マグネシウム/アルミニウム混合物、マグネシウム/インジウム混合物、アルミニウム/酸化アルミニウム混合物、リチウム/アルミニウム混合物、アモルファスシリコンなどが挙げられる。また、ドーピングなどで導電率を向上させた、公知の導電性ポリマー、例えば、導電性ポリアニリン、導電性ポリピロール、導電性ポリチオフェン、ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸の錯体なども好適に用いられる。
ゲート電極5、ソース電極2、ドレイン電極3の膜厚は、0.01〜2μmであると好ましく、0.2〜1μmであるとより好ましい。
また、ソース電極2とドレイン電極3との間の距離であるチャネル長(L)は、作成するデバイスの大きさや目的に応じて適宜選択すればよく、特に限定されるものではない。チャネル長(L)は、通常では100μm以下であり、50μm以下であると好ましい。一方、チャネル幅Wは、通常では2000μm以下であり、500μm以下であると好ましい。L/Wは、通常では0.1以下であり、0.05以下であると好ましい。
ゲート電極5、ソース電極2およびドレイン電極3は、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、塗布法、印刷法、ゾルゲル法などにより形成することができる。更に、それらのパターニング法としては、フォトリソグラフィー法、インクジェット印刷、スクリーン印刷、オフセット印刷、凸版印刷などの印刷法、マイクロコンタクトプリンティング法などのソフトリソグラフィーの手法およびこれらの手法を複数組み合わせた手法などが挙げられる。また、レーザーや電子線などのエネルギー線を照射して材料を除去する方法などによっても形成することができる。
有機半導体層1の材料は、本発明のジチエノゲルモール重合体又はそれを含有している有機半導体材料である。
有機半導体層1の膜厚は、1nm〜10μm程度であると好ましく、10〜500nm程度であるとより好ましい。
有機半導体層1は、ジチエノゲルモール重合体を溶媒に溶解してキャスト、ディップ、スピンコート法などにより塗布する方法や、真空蒸着法などにより製膜することができる。
保護膜の材料として、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン、ポリイミド、ポリビニルアルコールなどのポリマーや酸化珪素、窒化珪素、酸化アルミニウムなどの無機酸化物や窒化物などが挙げられる。保護膜は、塗布法や真空蒸着法などで形成することができる。
本発明の有機半導体デバイスは、ジチエノゲルモール重合体を含有する有機半導体材料を用いた光電変換素子であってもよい。
光電変換素子20は、図2に示されるように、基板26上に、透明電極である陽極25、任意の平滑層である陽極緩衝層24、チエノゲルモール重合体を含有している光活性層23、アルカリハロゲン化物、特にフッ化リチウムのような任意の遷移層である陰極緩衝層22、及び陰極(電極)21が、順次積層されているものである。光電変換素子の構造は、これらに限定されるものではない。
以下、本発明の実施例を詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
本発明のジチエノゲルモール重合体の合成を実施例1に示し、それを有機半導体材料として用いた有機電界効果トランジスタ及び光電変換素子の作製をそれぞれ実施例2及び3に示す。
(実施例1)
本発明のジチエノゲルモール重合体の製造方法である反応工程1〜5を合成例1〜5、反応工程4−aを合成例6に示し、別の反応工程を合成例7〜11に示す。
本発明のジチエノゲルモール重合体の製造方法である反応工程1〜5を合成例1〜5、反応工程4−aを合成例6に示し、別の反応工程を合成例7〜11に示す。
(合成例1)
反応工程1で得られるジアルキルジハロゲノゲルマニウムを下記化学式(20)に示す。
反応工程1で得られるジアルキルジハロゲノゲルマニウムを下記化学式(20)に示す。
窒素雰囲気下、250mL三口フラスコに四塩化ゲルマニウム(14.4g、67mmol)とジエチルエーテル(80mL)を加え氷塩浴で0℃まで冷却した。2−エチルヘキシルブロマイド(25.8g、134mmol)とマグネシウム(3.28g、134mmol)から調製した2.68Mの2−エチルヘキシルマグネシウムブロマイドをゆっくりと滴下した。滴下終了後、混合液を24時間室温下で攪拌した後に、真空下で溶媒を留去することで粘性のある固体を得た。得られた固体をヘキサン(300mL×3)で抽出し、抽出液を硫酸マグネシウムにて乾燥した後に、減圧下で溶媒を留去することで油状の物質を得た。得られた油状物質を減圧蒸留することにより無色透明な油状物質としてジクロロビス(2−エチルヘキシル)ゲルマニウム(化合物20)を得た。その収量及び収率は、11.4g,71%であった。
得られた化合物の質量分析及び核磁気共鳴(NMR)の測定結果を以下に示す。
質量分析 GC−MS:m/z 370(M+)
1H−NMRスペクトル:(CDCl3、400 MHz)δ1.43(quint、2H)、1.39−1.25(m、8H)、0.92(d、4H)、0.90(t、6H)、0.88(t、6H)
13C−NMRスペクトル:(CDCl3、400MHz) δ36.17、34.80、34.50、28.48、27.72、22.87、14.08、10.48
質量分析 GC−MS:m/z 370(M+)
1H−NMRスペクトル:(CDCl3、400 MHz)δ1.43(quint、2H)、1.39−1.25(m、8H)、0.92(d、4H)、0.90(t、6H)、0.88(t、6H)
13C−NMRスペクトル:(CDCl3、400MHz) δ36.17、34.80、34.50、28.48、27.72、22.87、14.08、10.48
(合成例2)
反応工程2で得られる第一中間体を下記化学式(21)に示す。
反応工程2で得られる第一中間体を下記化学式(21)に示す。
窒素雰囲気下、100mL三口フラスコに5,5’−ビス(トリメチルシリル)−3,3’−ブロモ−2,2’−ビチオフェン(5.25g、11.2mmol)とテトラヒドロフラン(40mL)を加え−78℃に冷却した。1.66Mブチルリチウムヘキサン溶液(14.8mL、24.6mmol)を5分以上かけて−78℃でゆっくりと滴下し、混合液を−78℃で1時間攪拌した。その後、ジクロロビス(2−エチルヘキシル)ゲルマニウム(20)(4.44g、11.2mmol)を加え、室温下で5時間攪拌した。攪拌終了後、反応溶液を水(200mL)に注ぎ、エーテル(100mL×3)で抽出した。有機層を分離し、硫酸マグネシウムで乾燥した後に減圧下で溶媒を留去した。得られた粗生成物を、ヘキサンを展開溶媒としたシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することで、黄色の油状物質として1,1−ビス(2−エチルヘキシル)−3,6−ビス(トリメチルシリル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(化合物21)を得た。その収量及び収率は、4.77g、70%であった。
得られた化合物の質量分析及びNMRの測定結果を以下に示す。
質量分析 GC−MS:m/z=608(M+)
1H−NMRスペクトル:(CDCl3、400 MHz)δ7.12 (s、2H)、1.47(quint、2H)、1.31−1.04(m、16H)、0.91(t、6H)、0.84(t、6H)、0.79(m、4H)、0.32(s、18H)
13C−NMRスペクトル:(CDCl3、400MHz)δ154.70、145.86、140.57、136.77、36.94、35.44、28.90、28.76、23.02、20.54、14.16、10.89、0.1
Anal. Calcd for C30H54GeS2Si2:C、59.29;H、8.96.Found:C、59.0;H、9.03
質量分析 GC−MS:m/z=608(M+)
1H−NMRスペクトル:(CDCl3、400 MHz)δ7.12 (s、2H)、1.47(quint、2H)、1.31−1.04(m、16H)、0.91(t、6H)、0.84(t、6H)、0.79(m、4H)、0.32(s、18H)
13C−NMRスペクトル:(CDCl3、400MHz)δ154.70、145.86、140.57、136.77、36.94、35.44、28.90、28.76、23.02、20.54、14.16、10.89、0.1
Anal. Calcd for C30H54GeS2Si2:C、59.29;H、8.96.Found:C、59.0;H、9.03
(合成例3)
反応工程3で得られる第二中間体を下記化学式(22)に示す。
反応工程3で得られる第二中間体を下記化学式(22)に示す。
窒素雰囲気下、50mL三口フラスコに1,1−ビス(2−エチルヘキシル)−3,6−ビス(トリメチルシリル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(化合物21)(3.8g、6.25mmol)とテトラヒドロフラン(20mL)とを加えた後に、室温でN−ブロモスクシンイミド(2.45g、13.75mmol)を加えた。室温下で4時間攪拌した後に、反応溶液を水(50mL)に注ぎ、ジエチルエーテル(50mL×3)で抽出した。減圧下で溶媒を留去することで、得られた粗生成物を用いてヘキサンを展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより黄色の油状物質として3,6−ジブロモ−1,1−ビス(2−エチルヘキシル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(化合物22)を得た。その収量及び収率は、3.73g、96%であった。
得られた化合物の質量分析及びNMRの測定結果を以下に示す。
質量分析 GC−MS:m/z 622(M+)
1H−NMRスペクトル:(CDCl3、400MHz)δ6.97(s、2H)、1.45(quint、2H)、1.31−1.04(m、16H)、0.91(t、6H)、0.84(t、6H)、0.79(m、4H)
13C−NMRスペクトル:(CDCl3、400MHz)δ146.16、143.10、132.26、111.01、36.89、35.41、28.87、28.71、22.97、20.77、14.10、10.84
質量分析 GC−MS:m/z 622(M+)
1H−NMRスペクトル:(CDCl3、400MHz)δ6.97(s、2H)、1.45(quint、2H)、1.31−1.04(m、16H)、0.91(t、6H)、0.84(t、6H)、0.79(m、4H)
13C−NMRスペクトル:(CDCl3、400MHz)δ146.16、143.10、132.26、111.01、36.89、35.41、28.87、28.71、22.97、20.77、14.10、10.84
(合成例4)
反応工程4で得られる第三中間体を下記化学式(23)に示す。
反応工程4で得られる第三中間体を下記化学式(23)に示す。
窒素雰囲気下、100mL三口フラスコに3,6−ジブロモ−1,1−ビス(2−エチルヘキシル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(化合物22)(0.3g、0.48mmol)とテトラヒドロフラン(40mL)とを加え−78℃に冷却し、1.66M n−ブチルリチウム(0.64mL、1.06mmol)を5分以上かけてゆっくりと滴下した。反応溶液を−78℃で15分攪拌した後に、塩化トリメチルすず(0.197mL、1.06mmol)を加え、室温まで昇温して2時間攪拌した。攪拌終了後、反応溶液を水(100mL)に注ぎ、ジエチルエーテル(50mL×3)で抽出した。硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、減圧下で溶媒を留去することにより透明緑色油状化合物として1,1−ビス(2−エチルヘキシル)−3,6−ビス(トリメチルスタニル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(化合物23)を得た。その収量及び収率は、0.36g、96%であった。これ以上の精製作業は行わずに続く反応を行った。
得られた化合物のNMR測定結果を以下に示す。
1H−NMRスペクトル(CDCl3、400MHz)δ7.07(s、2H)、1.45(quint、2H)、1.31−1.04(m、16H)、0.91(t、6H)、0.84(t、6H)、0.79(m、4H)、0.37(s、18H)
13C−NMRスペクトル(CDCl3、400MHz)δ157.61、145.11、137.75、137.13、36.95、35.43、28.90、28.75、23.02、20.65、14.17、10.87、8.18
1H−NMRスペクトル(CDCl3、400MHz)δ7.07(s、2H)、1.45(quint、2H)、1.31−1.04(m、16H)、0.91(t、6H)、0.84(t、6H)、0.79(m、4H)、0.37(s、18H)
13C−NMRスペクトル(CDCl3、400MHz)δ157.61、145.11、137.75、137.13、36.95、35.43、28.90、28.75、23.02、20.65、14.17、10.87、8.18
(合成例5)
反応工程5で得られるジチエノゲルモール重合体を下記化学式(24)に示す。
反応工程5で得られるジチエノゲルモール重合体を下記化学式(24)に示す。
25mL三口フラスコに4,7−ジブロモベンゾ[c][1,2,5]チアジアゾール(87.1mg,0.296mmol)、1,1−ビス(2−エチルヘキシル)−3,6−ビス(トリメチルスタニル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(化合物23)(0.234g、0.296mmol)、クロロベンゼン(7mL)を加え、10分間かけてアルゴン置換を行った。置換終了後、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(6.1mg、0.00592mmol)、トリ(o−トリル)ホスフィン(14.4mg、0.0474mol)、酸化銅(I)(25mg、0.296mmol)を加え、150℃で72時間還流した。反応終了後、反応溶液を室温まで冷却し、メタノール(100mL)を加え、析出した固体を濾取した。その後、ソックスレー抽出機を用いてメタノール(100mL)、ヘキサン(100mL)の順に洗浄を行い、不溶成分をクロロホルム(100mL)により抽出した。得られた溶液から減圧下で溶媒を留去することで得られた固体を24時間真空下で乾燥することにより黒色固体としてポリ(1,1−ビス(2−エチルヘキシル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール)−3,6−ジイル−alt−(2,1,3−ベンゾチアジアゾール)−4,7−ジイル(化合物24)を得た。その収量及び収率は、80mg、40%であった。また、GPCで測定したその数平均分子量(Mn)は8000であり、重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)で求められる分子量分布(PDI)は、1.38であった。
得られた化合物のNMR測定結果を以下に示す。
1H−NMRスペクトル(CDCl3、400MHz)δ8.19(br、s、2H)、7.80(br、s、2H)、2.10(br、s、2H)、1.25−1.08(m、20H)、0.89−0.75(m、12H)
1H−NMRスペクトル(CDCl3、400MHz)δ8.19(br、s、2H)、7.80(br、s、2H)、2.10(br、s、2H)、1.25−1.08(m、20H)、0.89−0.75(m、12H)
(合成例6:鈴木カップリングで合成)
反応工程4−aで得られるジチエノゲルモール重合体を下記化学式(24)に示す。
反応工程4−aで得られるジチエノゲルモール重合体を下記化学式(24)に示す。
100mL三口フラスコに3,6−ジブロモ−1,1−ビス(2−エチルヘキシル)−ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(1.79g,2.88mmol)、4,7−ビス(3,3,4,4−テトラメチル−2,5,1−ジオキサボロラン−1−イル)ベンゾ[c][1,2,5]チアジアゾール(1.12g,2.88mmol)、トルエン(55mL)、2M炭酸カリウム水溶液(55mL)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)(67.0mg,58.0μmol)、aliquat336(4mg,9.90μmol)を加えた後に80℃で2時間攪拌した。反応終了後、反応溶液をメタノール(500mL)に注ぎ、析出した固体を濾取し、水(100mL)、メタノール(100mL)で洗浄し、得られた固体を減圧乾燥することで粗生成物を得た。粗生成物を、ソックスレー抽出機を用いてアセトン(200mL)、ヘキサン(200mL)で洗浄した後に、不溶成分をクロロホルム(200mL)で抽出した。得られた溶液をメタノール(2L)に注ぎ、析出した固体を濾取した後に減圧乾燥することで黒紫色の固体としてポリ(1,1−ビス(2−エチルヘキシル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール)−3,6−ジイル−alt−(2,1,3−ベンゾチアジアゾール)−4,7−ジイル(化合物24)を得た。その収量および収率は0.66g,38%であった。また、Mnは10000であり、PDIは、1.38であった。
得られた化合物のNMR測定結果を以下に示す。
1H−NMRスペクトル(CDCl3、400MHz)δ8.18(br、s、2H)、7.81(br、s、2H)、2.10(br、s、2H)、1.26−1.09(m、20H)、0.89−0.74(m、12H)
1H−NMRスペクトル(CDCl3、400MHz)δ8.18(br、s、2H)、7.81(br、s、2H)、2.10(br、s、2H)、1.26−1.09(m、20H)、0.89−0.74(m、12H)
反応工程4−aでジチエノゲルモール重合体(化合物24)を製造した場合でも、反応工程5で得られる化合物24と同様の重合体が得られた。
(合成例7)
反応工程5で得られる別のジチエノゲルモール重合体を下記化学式(25)に示す。
反応工程5で得られる別のジチエノゲルモール重合体を下記化学式(25)に示す。
25mL三口フラスコに5,5’−ジブロモ−2,2’−ビチオフェン(0.154g、0.476mmol)、1,1’−ビス(2−エチルヘキシル)−3,6’−ビス(トリメチルスタニル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(化合物23)(0.376g、0.476mmol)、クロロベンゼン(10mL)を加え、10分間かけてアルゴン置換を行った。置換終了後、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(9.8mg、0.00952mol)、トリ(o−トリル)ホスフィン(23.2mg、0.0762mol)、酸化銅(I)(37.8mg、0.476mmol)を加え、150℃で72時間還流した。反応終了後、反応溶液を室温まで冷却し、メタノール(100mL)を加え、析出した固体を濾取した。その後、ソックスレー抽出機を用いてメタノール(100mL)、ヘキサン(100mL)の順に洗浄を行い、不溶成分をクロロホルム(100mL)により抽出した。得られた溶液から減圧下で溶媒を留去することで得られた固体を24時間真空下で乾燥することにより黒色固体としてポリ(1,1’−ビス(2−エチルヘキシル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール)−3,6−ジイル−alt−2,2’−ビチオフェン−5,5’−ジイレン(化合物25)を得た。その収量及び収率は、200mg、70%であった。また、Mnは10000であり、PDIは2.7であった。
得られた化合物のNMR測定結果を以下に示す。
1H−NMRスペクトル(CDCl3、400MHz)δ7.17−6.86(b,6H)、1.26−1.09(m,22H),0.90−0.74(m,12H)
1H−NMRスペクトル(CDCl3、400MHz)δ7.17−6.86(b,6H)、1.26−1.09(m,22H),0.90−0.74(m,12H)
(合成例8)
反応工程5で得られる別のジチエノゲルモール重合体を下記化学式(26)に示す。
反応工程5で得られる別のジチエノゲルモール重合体を下記化学式(26)に示す。
25mL三口フラスコに、4,7−ビス(5−ブロモ−2−チエニル)−2,1,3−ベンゾチアジアゾール(160mg、0.353mmol)と1,1−ビス(2−エチルヘキシル)−3,6−トリメチルスタニルジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(279mg、0.353mmol)と脱水クロロベンゼン(7mL)を加えた後に、フラスコ内に10分間アルゴンガスを流しアルゴン置換を行った。トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(8.0mg、2mol%)とトリ(o−トリル)ホスフィン(18.7mg、16mol%)、酸化銅(29.6mg、0.353mmol)を加え、150℃で72時間攪拌を行った。反応終了後、室温まで冷却しメタノール(100mL)に加え析出した固体をろ取した。粗ポリマーを円筒ろ紙に入れ、ソックスレー抽出機を用いてメタノール(200mL)、ヘキサン(200mL)で洗浄した後に、メタノール、ヘキサン不溶分をクロロホルム(200mL)で抽出した。抽出液を濃縮した後にメタノールに注ぎ析出した固体をろ取し、減圧下室温で24時間乾燥することで、黒色の固体としてポリ{(1,1−ビス(2−エチルヘキシル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール)−3,6−ジイル−alt−(4,7−ビス(チエニル)−2,1,3−ベンゾチアジアゾール)−5,5’−ジイル}(化合物26)を得た。その収量及び収率は、100mg、50%であった。また、Mnは3800であり、PDIは3.15であった。
得られた化合物のNMR測定結果を以下に示す。
1H−NMRスペクトル(CDCl3,400MHz)δ8.30−6.32(br,8H)、1.53−1.43(br,4H)、1.41−1.05(m,20H)、0.93−0.72(m、10H)
1H−NMRスペクトル(CDCl3,400MHz)δ8.30−6.32(br,8H)、1.53−1.43(br,4H)、1.41−1.05(m,20H)、0.93−0.72(m、10H)
(合成例9)
反応工程5で得られる別のジチエノゲルモール重合体を下記化学式(27)に示す。
反応工程5で得られる別のジチエノゲルモール重合体を下記化学式(27)に示す。
100mL三口フラスコに、4,7−ジブロモベンゾ[c][1,2,5]セレナジアゾール(81.5mg、0.239mmol)と1,1’−ビス(2−エチルヘキシル)−3,6−トリメチルスタニルジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(188.6mg、0.239mmol)と脱水トルエン(15mL)を加えた後に、フラスコ内に10分間アルゴンガスを流しアルゴン置換を行った。トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(24.7mg、10mol%)とトリ(o−トリル)ホスフィン(29.1mg、40mol%)を加え、72時間還流を行った。反応終了後、室温まで冷却しメタノール(100mL)に加え析出した固体をろ取した。粗ポリマーを円筒ろ紙に入れ、ソックスレー抽出機を用いてアセトン(200mL)、ヘキサン(200mL)で洗浄した後に、クロロホルム(200mL)で抽出した。抽出液を濃縮した後にメタノールに注ぎ析出した固体をろ取し、減圧下室温で24時間乾燥することで、暗紫色の固体としてポリ{(1,1’‐ビス(2−エチルヘキシル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール)−3,6−ジイル‐アルト−(2,1,3−ベンゾセレナジアゾール)−4,7−ジイル}(化合物27)を得た。その収量及び収率は、130mg、70%であった。また、Mnは12000であり、PDIは11.0であった。
得られた化合物のNMR測定結果を以下に示す。
1H−NMRスペクトル(CDCl3,400MHz)δ8.10(br,s,2H)、7.81(br,s,2H),2.03(br,s,2H),1.39−1.16(m,20H),0.89−0.78(m,12H)
1H−NMRスペクトル(CDCl3,400MHz)δ8.10(br,s,2H)、7.81(br,s,2H),2.03(br,s,2H),1.39−1.16(m,20H),0.89−0.78(m,12H)
(合成例10)
反応工程5で得られる別のジチエノゲルモール重合体を下記化学式(28)に示す。
反応工程5で得られる別のジチエノゲルモール重合体を下記化学式(28)に示す。
5mL三口フラスコに、2,5−ビス(5−ブロモ−4−ヘキシルチオフェン−2−イル)−チアゾロ[5,4−d]チアゾール(200mg、0.316mmol)と1,1−ビス(2−エチルヘキシル)−3,6−トリメチルスタニルジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(250mg、0.316mmol)と脱水クロロベンゼン(10mL)を加えた後に、フラスコ内に10分間アルゴンガスを流しアルゴン置換を行った。トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(7.0mg、2mol%)とトリ(o−トリル)ホスフィン(16.5mg、16mol%)、酸化銅(27mg、0.316mmol)を加え、150℃で72時間攪拌を行った。反応終了後、室温まで冷却しメタノール(100mL)に加え析出した固体をろ取した。粗ポリマーを円筒ろ紙に入れ、ソックスレー抽出機を用いてメタノール(200mL)、ヘキサン(200mL)で洗浄した後に、メタノール、ヘキサン不溶分をクロロホルム(200mL)で抽出した。抽出液を濃縮した後にメタノールに注ぎ析出した固体をろ取し、減圧下室温で24時間乾燥することで、暗緑色の固体としてポリ{(1,1‐ビス(2−エチルヘキシル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール)−3,6−ジイル‐アルト−(2,5−ビス(4−ヘキシルチオフェン−2−イル)チアゾロ[5,4−d]チアゾール)−5,5‘−ジイル}(化合物28)を得た。その収量及び収率は、230mg、75%であった。また、Mnは11000であり、PDIは2.34であった。
得られた化合物のNMR測定結果を以下に示す。
1H−NMRスペクトル(CDCl3,400MHz)δ7.41(br,2H)、7.20(br,2H)、2.80(br,4H)、1.72(br,6H)、1.50−1.06(m,30H)、1.05−0.66(m、20H)
1H−NMRスペクトル(CDCl3,400MHz)δ7.41(br,2H)、7.20(br,2H)、2.80(br,4H)、1.72(br,6H)、1.50−1.06(m,30H)、1.05−0.66(m、20H)
(合成例11)
反応工程5で得られる別のジチエノゲルモール重合体を下記化学式(29)に示す。
反応工程5で得られる別のジチエノゲルモール重合体を下記化学式(29)に示す。
100mL三口フラスコに、3,6−ビス(5−ブロモ−4−ヘキシルチオフェン−2−イル)−1,2,4,5−テトラジン(162mg、0.284mmol)と1,1’−ビス(2−エチルヘキシル)−3,6−トリメチルスタニルジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール(227mg、0.284mmol)と脱水トルエン(17mL)を加えた後に、フラスコ内に10分間アルゴンガスを流しアルゴン置換を行った。トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)(28.0mg、10mol%)とトリ(o−トリル)ホスフィン(33.0mg、40mol%)を加え、72時間還流を行った。反応終了後、室温まで冷却しメタノール(100mL)に加え析出した固体をろ取した。粗ポリマーを円筒ろ紙に入れ、ソックスレー抽出機を用いてアセトン(200mL)、ヘキサン(200mL)で洗浄した後に、クロロホルム(200mL)で抽出し、不溶物をo−ジクロロベンゼン(200mL)で抽出した。抽出液を濃縮した後にメタノールに注ぎ析出した固体をろ取し、減圧下室温で24時間乾燥することで、暗紫色の固体としてポリ{(1,1‐ビス(2−エチルヘキシル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール)−3,6−ジイル‐アルト−(2,5−ビス(4−ヘキシルチオフェン−2−イル)−1,2,4,5−テトラジン)−5,5‘−ジイル}(化合物29)を得た。その収量及び収率は、180mg、60%であった。また、Mnは27000であり、PDIは23.5であった。
得られた化合物のNMR測定結果を以下に示す。
1H−NMRスペクトル(CDCl3,400MHz)δ8.10(s,2H)、7.32(s,2H)、2.90(t,4H)、2.04(br,s,4H)、1.78(m、4H)、1.46(m、4H)、1.42−1.21(m,24H),0.92(t,6H)、0.84(t、6H)
1H−NMRスペクトル(CDCl3,400MHz)δ8.10(s,2H)、7.32(s,2H)、2.90(t,4H)、2.04(br,s,4H)、1.78(m、4H)、1.46(m、4H)、1.42−1.21(m,24H),0.92(t,6H)、0.84(t、6H)
(分解温度の測定)
前記化学式(24)で示されるポリ(1,1−ビス(2−エチルヘキシル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール)−3,6−ジイル−alt−(2,1,3−ベンゾチアジアゾール)−4,7−ジイルと、そのゲルマニウム原子が、ケイ素原子で置換した構造を有する化合物との分解温度を測定した。
前記化学式(24)で示されるポリ(1,1−ビス(2−エチルヘキシル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]ゲルモール)−3,6−ジイル−alt−(2,1,3−ベンゾチアジアゾール)−4,7−ジイルと、そのゲルマニウム原子が、ケイ素原子で置換した構造を有する化合物との分解温度を測定した。
ケイ素原子で置換した構造を有するポリ(1,1−ビス(2−エチルヘキシル)ジチエノ[3,2−b:2’,3’−d]シロール)−3,6−ジイル−alt−(2,1,3−ベンゾチアジアゾール)−4,7−ジイルを下記化学式(30)に示す。
本発明のジチエノゲルモール重合体である化合物(24)と比較例である化合物(30)との分解温度の測定結果を表1に示す。
以下、Si体はケイ素原子で置換した構造を有する比較例を示し、Ge体は本発明のジチエノゲルモール重合体を示す。表1に示されるように、本発明のジチエノゲルモール重合体であるGe体は、比較例であるSi体に比べてその分解温度が高く、優れた熱安定性を有するものである。
(実施例2)
合成例5及び7で得られた前記化学式(24)及び(25)で示されるジチエノゲルモール重合体を有機半導体材料として用いた有機薄膜トランジスタを作製した。
厚さ500μmのシリコンウェハを3.5×2.5cmの大きさに切り出し、このフィルムを絶縁性支持基板とした。この基板に、オゾン処理、またはオゾン処理後にヘキサメチルジシラザン(HMDS)かオクチルトリクロロシラン(OTS)かの処理をした。この処理基板上に、n型シリコンウェハを形成し、これをゲート電極とした。このゲート電極上に、熱酸化法を用いて200nmの酸化シリコン(SiO2)絶縁体層を形成した。次いで、SiO2上にスピンコート法を用いて、合成例5及び7で得られたジチエノゲルモール重合体を塗布し、有機半導体層を形成した。さらに、その有機半導体層上に、真空蒸着法を用いて、金を50nmの厚みで蒸着し、図3で示される有機薄膜ランジスタを得た。なお、チャネル長(L)が50、75および100μm、チャネル幅(W)が1000μmとなるようにして蒸着を行った。
合成例5及び7で得られた前記化学式(24)及び(25)で示されるジチエノゲルモール重合体を有機半導体材料として用いた有機薄膜トランジスタを作製した。
厚さ500μmのシリコンウェハを3.5×2.5cmの大きさに切り出し、このフィルムを絶縁性支持基板とした。この基板に、オゾン処理、またはオゾン処理後にヘキサメチルジシラザン(HMDS)かオクチルトリクロロシラン(OTS)かの処理をした。この処理基板上に、n型シリコンウェハを形成し、これをゲート電極とした。このゲート電極上に、熱酸化法を用いて200nmの酸化シリコン(SiO2)絶縁体層を形成した。次いで、SiO2上にスピンコート法を用いて、合成例5及び7で得られたジチエノゲルモール重合体を塗布し、有機半導体層を形成した。さらに、その有機半導体層上に、真空蒸着法を用いて、金を50nmの厚みで蒸着し、図3で示される有機薄膜ランジスタを得た。なお、チャネル長(L)が50、75および100μm、チャネル幅(W)が1000μmとなるようにして蒸着を行った。
得られた有機薄膜ランジスタについて、エレクトロメーターを用いて、ソース電極およびドレイン電極間に−10〜−60Vの電圧を印加し、ゲート電圧を20〜−100Vの範囲で変化させて、電圧−電流曲線を25℃の温度において求め、そのトランジスタ特性を評価した。トランジスタ特性は、負バイアスについてのみ観察された。このことは、得られた有機薄膜ランジスタがp型有機薄膜ランジスタであることを意味する。
電界効果移動度(μ)は、ドレイン電流Idを表わす下記式[A]を用いて算出した。
Id=(W/2L)μCi(Vg−Vt)2・・・[A]
前記式[A]において、Lはゲート長であり、Wはゲート幅である。また、Ciは絶縁層の単位面積当たりの容量であり、Vgはゲート電圧であり、Vtは閾値電圧である。
また、オン/オフ比は、最大及び最小ドレイン電流値(Id)の比より算出した。
Id=(W/2L)μCi(Vg−Vt)2・・・[A]
前記式[A]において、Lはゲート長であり、Wはゲート幅である。また、Ciは絶縁層の単位面積当たりの容量であり、Vgはゲート電圧であり、Vtは閾値電圧である。
また、オン/オフ比は、最大及び最小ドレイン電流値(Id)の比より算出した。
得られたトランジスタ特性評価結果を表2に示す。
表2に示されるように、本発明のジチエノゲルモール重合体(Ge体)を有機半導体材料として用いたp型有機薄膜ランジスタは、既存の重合体であるSi体を用いた場合と同などのキャリア移動度を示すことが明らかになった。
(実施例3)
非特許文献1に記載の方法に従い、合成例5及び7で得られた前記化学式(24)及び(25)で示されるジチエノゲルモール重合体を有機半導体材料として用いた光電変換素子を作製した。
洗浄を行ったインジウム−スズ酸化物(ITO)を150nm積層させたガラス基板上にポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン):ポリ(スチレンスルフォネート)をスピンコート法により積層させた。真空下、150℃で30分間熱処理を行った後に、合成例5及び7で得られたジチエノゲルモール重合体とフェニルC61酪酸メチルエステル(PCBM)との混合物(1:1、w/w)を10mg/mLでクロロベンゼンに溶解させた溶液をスピンコート法により塗布することで光活性層を作製した。作製した光活性層を真空下、150℃で30分間熱処理を行った。この際、光活性層の膜厚は80nmであった。作製した膜上にマスクを用いてフッ化リチウム(0.1nm)とAlパターン(80nm)を蒸着した。
非特許文献1に記載の方法に従い、合成例5及び7で得られた前記化学式(24)及び(25)で示されるジチエノゲルモール重合体を有機半導体材料として用いた光電変換素子を作製した。
洗浄を行ったインジウム−スズ酸化物(ITO)を150nm積層させたガラス基板上にポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン):ポリ(スチレンスルフォネート)をスピンコート法により積層させた。真空下、150℃で30分間熱処理を行った後に、合成例5及び7で得られたジチエノゲルモール重合体とフェニルC61酪酸メチルエステル(PCBM)との混合物(1:1、w/w)を10mg/mLでクロロベンゼンに溶解させた溶液をスピンコート法により塗布することで光活性層を作製した。作製した光活性層を真空下、150℃で30分間熱処理を行った。この際、光活性層の膜厚は80nmであった。作製した膜上にマスクを用いてフッ化リチウム(0.1nm)とAlパターン(80nm)を蒸着した。
作製した光電変換素子を用いて、擬似太陽光(AM1.5、100mW/cm2)を照射し、光電変換効率を測定した。測定結果を表3に示す。
表3に示したとおり、本発明のGe体は既存のLBGPであるSi体と比較して、同等またはそれ以上の良好な性能を示すことが明らかになった。
本発明のジチエノゲルモール重合体は、半導体特性の安定性に優れた有機半導体材料として電界効果トランジスタ、有機薄膜太陽電池などの電子デバイスに用いることができる。また、ジチエノゲルモール化合物は、このジチエノゲルモール重合体を製造するための中間体として用いることができる。ジチエノゲルモール重合体は、既存と有機半導体材料に比べて耐熱性に優れ、熱に対する安定性が高い。従って、軽量で柔軟性を有する電子デバイスの提供、真空プロセスを必要としないことによる電子デバイス製造コストの抑制、大画面デバイス製造の容易化など有機半導体材料の利点をさらに活かし有効に利用できる。本発明のジチエノゲルモール重合体は、有機半導体材料の製造を行う化学工業やこれを利用する種々の電子デバイスを製造する半導体工業において利用可能であるのみならず、電子デバイスを組み込んだ各種製品を製造する電子機器製造工業などにおいても有用である。
1は有機半導体層、2はソース電極、3はドレイン電極、4は絶縁体層、5はゲート電極、6は絶縁性支持基板、7はゲート電極基板、8はゲートコンタクト、10は有機電界効果トランジスタ、10aは有機薄膜トランジスタ、20は光電変換素子、21は陰極、22は陰極緩衝層、23は光活性層、24は陽極緩衝層、25は陽極、26は基板である。Lはチャネル領域である。
Claims (9)
- 下記化学式(3)
前記第二中間体と、ハロゲン化トリアルキルスズ、ボロン酸化剤、若しくはボロン酸エステル化剤とを反応させることにより、下記化学式(7)
X7−Ar−X8 ・・・(8)
(式中、Arは置換基を有してもよい2価の芳香環と、芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環と、前記置換基を有してもよい2価の芳香環及び/又は前記芳香環数2〜7の置換基を有してもよい2価の多核芳香環を複数連結させた2価のアリーレン基とから選ばれる何れかであり、X7及びX8はハロゲン原子である)で示される化合物と貴金属錯体存在下でカップリング反応させ、
又は
前記第二中間体と、下記化学式(9)
Z−Ar−Z’ ・・・(9)
(式中、Ar、Z及びZ’は前記と同じである)で示される化合物とを貴金属錯体存在下でカップリング反応させることにより、下記化学式(1)
- ジチエノゲルモール重合体を合成するための中間体の製造方法であって、
下記化学式(3)
下記化学式(5)
又は
下記化学式(6)
- 請求項1に記載のジチエノゲルモール重合体を含むことを特徴とする有機半導体用組成物。
- 請求項1に記載のジチエノゲルモール重合体からなることを特徴とする有機半導体用材料。
- 請求項1に記載のジチエノゲルモール重合体を有機半導体層とすることを特徴とする有機半導体デバイス。
- 光電変換素子であることを特徴とする請求項7に記載の有機半導体デバイス。
- 有機トランジスタであることを特徴とする請求項7に記載の有機半導体デバイス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011125732A JP2012162514A (ja) | 2011-01-20 | 2011-06-03 | ジチエノゲルモール重合体及びそれを含有した有機半導体デバイス |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011009661 | 2011-01-20 | ||
JP2011009661 | 2011-01-20 | ||
JP2011125732A JP2012162514A (ja) | 2011-01-20 | 2011-06-03 | ジチエノゲルモール重合体及びそれを含有した有機半導体デバイス |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012162514A true JP2012162514A (ja) | 2012-08-30 |
Family
ID=46842299
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011125732A Pending JP2012162514A (ja) | 2011-01-20 | 2011-06-03 | ジチエノゲルモール重合体及びそれを含有した有機半導体デバイス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012162514A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012233072A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | 新規コポリマー、有機半導体材料、及びこれを用いた有機電子デバイス並びに太陽電池モジュール |
CN103848970A (zh) * | 2012-11-29 | 2014-06-11 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 含二噻吩并噻唑单元的聚合物及其制备方法和太阳能电池器件 |
JP2014221871A (ja) * | 2013-05-13 | 2014-11-27 | 国立大学法人東京工業大学 | ジチエノゲルモール骨格を有する有機ヘテロ高分子およびその製造方法 |
CN104211914A (zh) * | 2013-05-29 | 2014-12-17 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 共轭聚合物及其制备方法与应用 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005255573A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Tokuyama Corp | ジチエノ化合物およびエレクトロルミネッセント材料 |
WO2009115413A2 (en) * | 2008-03-17 | 2009-09-24 | Basf Se | Substituted oligo- or polythiophenes |
WO2010062948A2 (en) * | 2008-11-26 | 2010-06-03 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Black soluble conjugated polymers with high charge carrier mobilities |
WO2010136401A2 (en) * | 2009-05-27 | 2010-12-02 | Basf Se | Polycyclic dithiophenes |
WO2010149451A1 (en) * | 2009-06-05 | 2010-12-29 | Basf Se | Fused bithiophene-vinylene polymers |
WO2012099000A1 (ja) * | 2011-01-18 | 2012-07-26 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 有機光電変換素子および太陽電池 |
-
2011
- 2011-06-03 JP JP2011125732A patent/JP2012162514A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005255573A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Tokuyama Corp | ジチエノ化合物およびエレクトロルミネッセント材料 |
WO2009115413A2 (en) * | 2008-03-17 | 2009-09-24 | Basf Se | Substituted oligo- or polythiophenes |
WO2010062948A2 (en) * | 2008-11-26 | 2010-06-03 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Black soluble conjugated polymers with high charge carrier mobilities |
WO2010136401A2 (en) * | 2009-05-27 | 2010-12-02 | Basf Se | Polycyclic dithiophenes |
WO2010149451A1 (en) * | 2009-06-05 | 2010-12-29 | Basf Se | Fused bithiophene-vinylene polymers |
WO2012099000A1 (ja) * | 2011-01-18 | 2012-07-26 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 有機光電変換素子および太陽電池 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012233072A (ja) * | 2011-04-28 | 2012-11-29 | Mitsubishi Chemicals Corp | 新規コポリマー、有機半導体材料、及びこれを用いた有機電子デバイス並びに太陽電池モジュール |
CN103848970A (zh) * | 2012-11-29 | 2014-06-11 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 含二噻吩并噻唑单元的聚合物及其制备方法和太阳能电池器件 |
JP2014221871A (ja) * | 2013-05-13 | 2014-11-27 | 国立大学法人東京工業大学 | ジチエノゲルモール骨格を有する有機ヘテロ高分子およびその製造方法 |
CN104211914A (zh) * | 2013-05-29 | 2014-12-17 | 海洋王照明科技股份有限公司 | 共轭聚合物及其制备方法与应用 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Sonar et al. | Furan containing diketopyrrolopyrrole copolymers: synthesis, characterization, organic field effect transistor performance and photovoltaic properties | |
JP5779233B2 (ja) | ブロック共重合体および光電変換素子 | |
JP5742422B2 (ja) | 高分子化合物、化合物およびその用途 | |
Kim et al. | Benzotriazole-based donor–acceptor type semiconducting polymers with different alkyl side chains for photovoltaic devices | |
JP5954814B2 (ja) | 含窒素縮合環化合物、含窒素縮合環重合体、有機薄膜及び有機薄膜素子 | |
JP5721824B2 (ja) | 有機半導体用組成物及びそれを用いた光電変換素子 | |
Mahmood et al. | Novel isoindigo-based conjugated polymers for solar cells and field effect transistors | |
KR20100128279A (ko) | 분지형 화합물, 이것을 이용한 유기 박막 및 유기 박막 소자 | |
Dang et al. | Novel wide band-gap polymer utilizing fused hetero-aromatic unit for efficient polymer solar cells and field-effect transistors | |
Liu et al. | Indacenodithiophene core-based small molecules with tunable side chains for solution-processed bulk heterojunction solar cells | |
Busireddy et al. | Dithienopyrrole-benzodithiophene based donor materials for small molecular BHJSCs: Impact of side chain and annealing treatment on their photovoltaic properties | |
JP6140482B2 (ja) | 化合物、該化合物の製造方法および該化合物を重合して得られる高分子化合物、並びに該高分子化合物を含む有機薄膜および有機半導体素子 | |
Cheon et al. | DTBDT-TTPD: a new dithienobenzodithiophene-based small molecule for use in efficient photovoltaic devices | |
Qiu et al. | An asymmetric small molecule based on thieno [2, 3-f] benzofuran for efficient organic solar cells | |
Hou et al. | Synthesis, characterization, and photovoltaic performance of the polymers based on thiophene-2, 5-bis ((2-ethylhexyl) oxy) benzene-thiophene | |
Gao et al. | Efficient polymer solar cells based on poly (thieno [2, 3-f] benzofuran-co-thienopyrroledione) with a high open circuit voltage exceeding 1 V | |
JP2012162514A (ja) | ジチエノゲルモール重合体及びそれを含有した有機半導体デバイス | |
Hai et al. | Synthesis and photovoltaic characterization of thiadiazole based low bandgap polymers | |
JP2013237813A (ja) | π電子共役重合体及びそれを用いた有機半導体デバイス | |
KR101495152B1 (ko) | 유기 반도체 화합물 및 제조방법과 이를 포함하는 유기전자소자 | |
Wu et al. | Synthesis and photovoltaic properties of an alternating polymer based fluorene and fluorine substituted quinoxaline derivatives | |
Wang et al. | Alternating polymers based on alkoxy-phenyl substituted indacenodithiophene and fluorinated quinoxaline derivatives for photovoltaic cells | |
JP5987237B2 (ja) | 高分子化合物、それを用いた有機半導体材料、有機トランジスタ及び有機太陽電池 | |
Huang et al. | Tailoring π-conjugated dithienosilole–benzothiadiazole oligomers for organic solar cells | |
Qu et al. | Synthesis of two benzo [1, 2-b: 3, 4-b′] dithiophene-based conjugated polymers with different side chains and their applications in photovoltaic devices |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140512 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150618 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150630 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20151222 |