JP2012149287A

JP2012149287A - Support tool and array antenna type plasma cvd apparatus

Info

Publication number: JP2012149287A
Application number: JP2011007291A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Ogawa; 宏幸小川; Hirotsugu Chishina; 裕嗣千品
Original assignee: IHI Corp
Current assignee: IHI Corp
Priority date: 2011-01-17
Filing date: 2011-01-17
Publication date: 2012-08-09
Anticipated expiration: 2031-01-17
Also published as: JP5659809B2

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To further simplify attachment and detachment work of a plurality of inductively coupled electrodes 47 to and from a ceiling wall 15 of a vacuum chamber 3.SOLUTION: In a support tool, a pair of support towers 95 is removably installed on an outer wall of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3; spring balancers 101 are suspended from each support tower 95; a pair of vertically movable slide bars 111 that can be inserted into through-holes 17 of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3 is coupled to the tip of an operating member 107 of each spring balancer 101; and locking members 115 that can lock a holder 65 are coupled to the lower ends of each pair of slide bars 111.

Description

本発明は、アレイアンテナ式（誘導結合型）のＣＶＤプラズマ装置における真空チャンバーの天井壁に対する複数本の誘導結合型電極を着脱作業を補助する補助治具、及びアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置に関する。 The present invention relates to an auxiliary jig for assisting in attaching and detaching a plurality of inductively coupled electrodes to a ceiling wall of a vacuum chamber in an array antenna type (inductively coupled type) CVD plasma apparatus, and an array antenna type CVD plasma apparatus.

近年、太陽電池等に用いられるガラス基板等の基板の大面積化（大型化）に伴い、大面積基板（大型基板）の成膜に適したアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置について種々の開発がなされている。そして、一般的なアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置の構成等に説明すると、次のようになる。 In recent years, with the increase in area (larger size) of substrates such as glass substrates used in solar cells and the like, various developments have been made on array antenna type CVD plasma devices suitable for film formation on large area substrates (large substrates). ing. The configuration of a general array antenna type CVD plasma apparatus will be described as follows.

一般記なアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置は、内部を真空状態に減圧可能な真空チャンバーを具備しており、この真空チャンバーの天井壁には、高周波電源に電気的に接続した複数の天井側コネクタが幅方向（真空チャンバーの幅方向）に間隔を置いて配設されている。また、真空チャンバーの内部には、プラズマを発生させるアレイアンテナユニットが配設されており、このアレイアンテナは、鉛直状態で同一平面上に長さ方向に間隔を置いて配列された複数本の誘導結合型電極（アンテナ素子）を備えてあって、各誘導結合型電極の上端部には、対応関係にある天井側コネクタに接続可能なアンテナ側コネクタが設けられている。更に、アレイアンテナユニットの少なくとも片側には、鉛直状態の基板をセット可能な基板エリアが形成されている。そして、真空チャンバーの外側の適宜位置には、真空チャンバーの内部側へ材料ガスを供給するガス供給ボンベ等のガス供給源が設けられている。 A general array antenna type CVD plasma apparatus includes a vacuum chamber that can be evacuated to a vacuum state. The ceiling wall of the vacuum chamber has a plurality of ceiling-side connectors electrically connected to a high-frequency power source. Are arranged at intervals in the width direction (the width direction of the vacuum chamber). In addition, an array antenna unit for generating plasma is disposed inside the vacuum chamber, and this array antenna has a plurality of inductions arranged in the vertical direction at intervals in the length direction on the same plane. A coupling-type electrode (antenna element) is provided, and an antenna-side connector that can be connected to a corresponding ceiling-side connector is provided at the upper end of each inductive coupling-type electrode. Further, a substrate area in which a substrate in a vertical state can be set is formed on at least one side of the array antenna unit. A gas supply source such as a gas supply cylinder for supplying a material gas to the inside of the vacuum chamber is provided at an appropriate position outside the vacuum chamber.

従って、真空チャンバーの内部を真空状態に減圧して、基板エリアに基板をセットする。また、ガス供給源によって真空チャンバーの内部側へ材料ガスを供給する。そして、高周波電源によって複数本の誘導結合型電極に高周波波電力を供給することにより、アレイアンテナユニットの周辺にプラズマを発生させつつ、プラズマによって分解された材料ガスの成分を基板の表面に付着させる。これにより、基板の表面に非結晶シリコン膜又は微結晶シリコン膜等の薄膜を成膜（形成）することができる。 Accordingly, the inside of the vacuum chamber is decompressed to a vacuum state, and the substrate is set in the substrate area. Further, a material gas is supplied to the inside of the vacuum chamber by a gas supply source. Then, by supplying high-frequency wave power to a plurality of inductively coupled electrodes by a high-frequency power source, plasma is generated around the array antenna unit, and the component of the material gas decomposed by the plasma is attached to the surface of the substrate. . Thereby, a thin film such as an amorphous silicon film or a microcrystalline silicon film can be formed (formed) on the surface of the substrate.

なお、本発明に関連する先行技術として特許文献１から特許文献３に示すものがある。 In addition, there exist some which are shown to patent document 1-patent document 3 as a prior art relevant to this invention.

特開２００７−２６２５４１号公報JP 2007-262541 A 特開２００３−８６５８１号公報JP 2003-86581 A 特開２００３−１０９７９８号公報JP 2003-109798 A

ところで、誘導結合型電極の表面に皮膜等が付着し易く、通常、誘導結合型電極のメンテナンスが定期的に行われており、誘導結合型電極のメンテナンスの際には、真空チャンバーの天井壁側に対する誘導結合型電極の着脱（取付と取外し）が１本ずつ行われている。そのため、複数本の誘導結合型電極の着脱作業を含む一連の誘導結合型電極のメンテナンス作業が煩雑化して、誘導結合型電極のメンテナンス時間が長くなると共に、アレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置の停止によるスループットの低下量が大きくなるという問題がある。 By the way, a film or the like tends to adhere to the surface of the inductively coupled electrode, and maintenance of the inductively coupled electrode is usually performed regularly. The inductive coupling type electrode is attached to and detached from (attached to and detached from) one by one. This complicates maintenance work for a series of inductively coupled electrodes, including the work of attaching and detaching a plurality of inductively coupled electrodes, lengthens the maintenance time of the inductively coupled electrodes, and stops the array antenna CVD plasma apparatus. There is a problem that the amount of decrease in throughput becomes large.

そこで、本発明の発明者は、前述の問題を解決することができる新規な構成のアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置を開発した上で、更に、真空チャンバーの天井壁側に対する複数本の誘導結合型電極の着脱作業の容易化を図ることができる、新規な構成のアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置に用いられる新規な構成の補助治具等を提供することを目的とする。 Therefore, the inventor of the present invention has developed an array antenna type CVD plasma apparatus having a novel configuration capable of solving the above-described problems, and further, a plurality of inductively coupled types for the ceiling wall side of the vacuum chamber. It is an object of the present invention to provide an auxiliary jig with a new configuration used in an array antenna type CVD plasma apparatus with a new configuration, which can facilitate the attachment and detachment of electrodes.

本発明の第１の特徴は、天井壁に高周波電源に電気的に接続された複数の天井壁側コネクタが幅方向に間隔を置いて配設された真空チャンバーと、前記真空チャンバーの内部に配設されてあってかつ手動操作によって上下方向へ移動可能な可動支持部材を備えたアンテナ支持機構と、前記可動支持部材に着脱可能にセット（支持）されたアレイアンテナユニットと、を具備してあって、前記アレイアンテナユニットは、鉛直状態で同一平面上に前記幅方向に間隔を置いて配列（配列）されかつ上端部に対応関係にある前記天井壁側コネクタに接続可能なアンテナ側コネクタが設けられた複数本の誘導結合型電極（アンテナ素子）と、複数本の前記誘導結合型電極を一括して保持するホルダとを備えてなるアレイアンテナ式（誘導結合型）のプラズマＣＶＤ装置に用いられ、前記真空チャンバーの前記天井壁側に対する複数本の前記誘導結合型電極の着脱作業を補助する補助治具において、前記真空チャンバーの前記天井壁の外壁面に設けられた支持櫓と、前記支持櫓に設けられ、上方向へ付勢された作動部材を備え、前記アレイアンテナユニットに作用する荷重を軽減するバランサと、前記作動部材に連結され、前記真空チャンバーの前記天井壁に形成された通孔に挿通可能であって、上下方向へ移動可能なスライドバーと、前記スライドバーに連結され、前記ホルダを係止可能な係止部材と、を備えたことを要旨とする。 A first feature of the present invention is that a plurality of ceiling wall side connectors electrically connected to a high frequency power source on the ceiling wall are disposed at intervals in the width direction, and disposed inside the vacuum chamber. An antenna support mechanism provided with a movable support member that can be moved up and down by manual operation, and an array antenna unit that is detachably set (supported) on the movable support member. The array antenna unit is provided with an antenna-side connector that can be connected to the ceiling wall-side connector that is arranged (arranged) on the same plane in the vertical state at intervals in the width direction and that has a corresponding relationship at the upper end. A plurality of inductively coupled electrodes (antenna elements) and a holder for holding the plurality of inductively coupled electrodes together. In an auxiliary jig used for a zuma CVD apparatus and assisting in attaching / detaching a plurality of the inductively coupled electrodes to / from the ceiling wall side of the vacuum chamber, a support provided on the outer wall surface of the ceiling wall of the vacuum chamber A balancer provided on the support rod and provided with an actuating member biased upward; and a load balancer for reducing a load acting on the array antenna unit; and the ceiling wall of the vacuum chamber connected to the actuating member And a slide bar that can be inserted into the through-hole formed in the vertical direction and that is movable in the vertical direction, and a locking member that is connected to the slide bar and can lock the holder. .

なお、特許請求の範囲及び明細書において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、別部材を介して間接的に設けられたことを含む意であって、「配設され」とは、直接的に配設されたことの他に、別部材を介して間接的に配設されたことを含む意である。また、「支持され」とは、直接的に支持されたことの他に、別部材を介して間接的に支持されたことを含む意であって、「連結され」とは、直接的に連結されたことの他に、別部材を介して間接的に連結されたことを含む意である。 In the claims and specification, “provided” means not only directly provided but also indirectly provided through another member, and The term “provided” is intended to include being disposed directly via another member in addition to being disposed directly. “Supported” means not only directly supported but also indirectly supported by another member, and “connected” means directly connected. In addition to what has been done, it is meant to include being indirectly connected through another member.

第１の特徴によると、まず、前記アレイアンテナユニットを前記真空チャンバーの内部に挿入する。次に、前記係止部材を前記ホルダに係止させることにより、前記バランサによって前記アレイアンテナユニットに作用する荷重を軽減する。また、前記ホルダを前記可動支持部材に支持させて、前記アレイアンテナユニットを前記可動支持部材にセットする。そして、前記アレイアンテナユニットに作用する荷重を軽減した状態で、手動操作によって前記可動支持部材を上方向へ移動させることにより、前記アレイアンテナユニットを上方向へ移動させて、各アンテナ側コネクタを対応関係にある前記天井壁側コネクタに接続せる。これにより、前記アレイアンテナに作用する荷重を軽減しつつ、複数本の前記誘導結合型電極を前記真空チャンバーの前記天井壁側に一括して取付けることができる。 According to the first feature, first, the array antenna unit is inserted into the vacuum chamber. Next, the load acting on the array antenna unit by the balancer is reduced by locking the locking member to the holder. The holder is supported by the movable support member, and the array antenna unit is set on the movable support member. Then, in a state where the load acting on the array antenna unit is reduced, the array antenna unit is moved upward by moving the movable support member upward by manual operation, so that each antenna side connector is supported. It can be connected to the ceiling wall side connector in the relationship. Thereby, a plurality of the inductively coupled electrodes can be collectively attached to the ceiling wall side of the vacuum chamber while reducing the load acting on the array antenna.

また、前述の動作と反対の動作を行うことにより、前記アレイアンテナユニットに作用する荷重を軽減しつつ、複数本の前記誘導結合型電極を前記真空チャンバーの前記天井側から一括して取外すことができる。 Further, by performing an operation opposite to the above-described operation, it is possible to remove a plurality of the inductively coupled electrodes from the ceiling side of the vacuum chamber at a time while reducing a load acting on the array antenna unit. it can.

要するに、前記真空チャンバーの前記天井壁の外壁面に前記支持櫓が設けられ、前記支持櫓に前記バランサが設けられ、前記バランサの前記作動部材に前記真空チャンバーの前記天井壁の前記通孔に挿通可能かつ上下方向へ移動可能な前記スライドバーが連結され、前記スライドバーに前記ホルダを係止可能な前記係止部材が連結されているため、前述のように、前記アレイアンテナユニットに作用する荷重を軽減しつつ、複数本の前記誘導結合型電極を前記真空チャンバーの前記天井壁側に対して一括して着脱（取付と取外し）することができる。 In short, the support rod is provided on the outer wall surface of the ceiling wall of the vacuum chamber, the balancer is provided on the support rod, and the operation member of the balancer is inserted into the through hole of the ceiling wall of the vacuum chamber. Since the slide bar that can move in the vertical direction is connected, and the locking member that can lock the holder is connected to the slide bar, the load acting on the array antenna unit as described above The plurality of inductively coupled electrodes can be attached to and detached from (attached to or removed from) the ceiling wall side of the vacuum chamber in a lump.

本発明の第２の特徴は、真空雰囲気中でプラズマを発生させつつ、プラズマによって分解された材料ガスの成分を基板の表面に付着させることにより、基板の表面に薄膜を成膜するアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置において、内部を真空状態に減圧可能であって、天井壁に高周波電源に電気的に接続された複数の天井壁側コネクタが幅方向に間隔を置いて配設された真空チャンバーと、前記真空チャンバーの内部に配設され、手動操作によって上下方向へ移動可能な可動支持部材を備えたアンテナ支持機構と、前記可動支持部材に着脱可能にセット（支持）され、少なくとも片側に基板をセットする基板エリアが形成され、プラズマを発生させるアレイアンテナユニットと、前記真空チャンバーの内部側へ材料ガスを供給するガス供給源と、複数本の前記誘導結合型電極を前記真空チャンバーの前記天井壁に対する着脱作業を補助する補助装置と、を具備し、前記アレイアンテナユニットは、鉛直状態で同一平面上に前記幅方向に間隔を置いて配列（配設）され、上端部に対応関係にある前記天井壁側コネクタに接続可能なアンテナ側コネクタが設けられた複数本の誘導結合型電極（アンテナ素子）と、前記可動支持部材に着脱可能に支持され、複数本の前記誘導結合型電極を一括して保持するホルダと、を備え、第１の特徴からなる補助治具を前記補助装置として用いたことを用いたことを要旨とする。 The second feature of the present invention is an array antenna type in which a thin film is formed on the surface of a substrate by generating a plasma in a vacuum atmosphere and attaching a component of a material gas decomposed by the plasma to the surface of the substrate. And a vacuum chamber in which a plurality of ceiling wall side connectors electrically connected to a high frequency power source on the ceiling wall are arranged at intervals in the width direction. An antenna support mechanism that is disposed inside the vacuum chamber and includes a movable support member that can be moved up and down by manual operation, and is detachably set (supported) on the movable support member, and has a substrate on at least one side. A substrate area to be set is formed, an array antenna unit for generating plasma, and a gas supply for supplying a material gas to the inside of the vacuum chamber And an auxiliary device that assists in attaching and detaching the plurality of inductively coupled electrodes to the ceiling wall of the vacuum chamber, and the array antenna units are spaced apart in the width direction on the same plane in a vertical state. A plurality of inductively coupled electrodes (antenna elements) provided with antenna-side connectors that can be connected to the ceiling wall-side connectors that are arranged (arranged) in correspondence with each other at the upper end, and the movable support member And a holder that holds the plurality of inductively coupled electrodes in a lump, and uses an auxiliary jig having the first feature as the auxiliary device. And

第２の特徴によると、前記真空チャンバーの内部を真空状態に減圧して、前記基板エリアに基板をセットする。また、前記ガス供給源によって前記真空チャンバーの内部側へ材料ガスを供給する。そして、前記高周波電源によって複数本の誘導結合型電極に高周波波電力を供給することにより、前記アレイアンテナユニットの周辺にプラズマを発生させつつ、プラズマによって分解された材料ガスの成分を基板の表面に付着させる。これにより、基板の表面に薄膜を成膜（形成）することができる。なお、前記基板エリアに基板をセットした状態で、前記真空チャンバーの内部を真空状態に減圧しても構わない。 According to the second feature, the inside of the vacuum chamber is decompressed to a vacuum state, and the substrate is set in the substrate area. Further, a material gas is supplied to the inside of the vacuum chamber by the gas supply source. Then, by supplying high frequency wave power to a plurality of inductively coupled electrodes by the high frequency power supply, while generating plasma around the array antenna unit, the component of the material gas decomposed by the plasma is applied to the surface of the substrate. Adhere. Thereby, a thin film can be formed (formed) on the surface of the substrate. The inside of the vacuum chamber may be decompressed to a vacuum state with the substrate set in the substrate area.

また、第２の特徴によると、前述の作用の他に、第１の特徴による作用と同様の作用を奏する。 Further, according to the second feature, in addition to the above-described action, the same action as the action according to the first feature is achieved.

本発明によれば、前記アレイアンテナユニットに作用する荷重を軽減しつつ、複数本の前記誘導結合型電極を前記真空チャンバーの前記天井壁側に対して一括して着脱できるため、前記真空チャンバーの前記天井壁側に対する複数本の前記誘導結合型電極の着脱作業の容易化をより一層図ることができる。 According to the present invention, a plurality of inductively coupled electrodes can be attached to and detached from the ceiling wall side of the vacuum chamber while reducing the load acting on the array antenna unit. It is possible to further facilitate the attaching / detaching work of the plurality of inductively coupled electrodes with respect to the ceiling wall side.

図１は、本発明の実施形態に係る補助治具を真空チャンバーの天井壁に取付けた状態を示すアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置の正断面図である。FIG. 1 is a front sectional view of an array antenna type CVD plasma apparatus showing a state in which an auxiliary jig according to an embodiment of the present invention is attached to a ceiling wall of a vacuum chamber. 図２は、本発明の実施形態に係る補助治具を真空チャンバーの天井壁に取付けた状態を示すアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置の側断面図である。FIG. 2 is a side sectional view of an array antenna type CVD plasma apparatus showing a state in which the auxiliary jig according to the embodiment of the present invention is attached to the ceiling wall of the vacuum chamber. 図３（ａ）（ｂ）は、本発明の実施形態の作用を説明する図である。3A and 3B are diagrams for explaining the operation of the embodiment of the present invention. 図４（ａ）（ｂ）は、本発明の実施形態の作用を説明する図である。4 (a) and 4 (b) are diagrams illustrating the operation of the embodiment of the present invention. 図５は、本発明の実施形態に係るアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置の正面断面図である。FIG. 5 is a front sectional view of an array antenna type CVD plasma apparatus according to an embodiment of the present invention. 図６は、本発明の実施形態に係るアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置の側面断面図である。FIG. 6 is a side sectional view of an array antenna type CVD plasma apparatus according to an embodiment of the present invention. 図７は、真空チャンバーの内部からアレイアンテナユニット及び台車等を取り除いた状態を示す本発明の実施形態に係るアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置の正面断面図である。FIG. 7 is a front cross-sectional view of an array antenna type CVD plasma apparatus according to an embodiment of the present invention showing a state in which an array antenna unit, a carriage and the like are removed from the inside of a vacuum chamber. 図８は、本発明の実施形態に係るアレイアンテナユニットの正面図である。FIG. 8 is a front view of the array antenna unit according to the embodiment of the present invention. 図９は、図８における矢視部IXの拡大図であって、図９中にガイド支柱、係止部材等を仮想線で示している。FIG. 9 is an enlarged view of the arrow IX in FIG. 8, and guide struts, locking members and the like are indicated by phantom lines in FIG. 9. 図１０は、図９におけるX-X線に沿った断面図である。10 is a cross-sectional view taken along line XX in FIG. 図１１は、図１０におけるXI-XI線に沿った断面図である。11 is a cross-sectional view taken along line XI-XI in FIG. 図１２は、図９におけるXII-XII線に沿った断面図である。12 is a cross-sectional view taken along line XII-XII in FIG.

本発明の実施形態に係るアレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置の構成、本発明の実施形態に係る補助治具の構成等について図１から図１２を参照して順次説明する。なお、図面中、「ＦＦ」は前方向、「ＦＲ」は後方向、「Ｌ」は左方向、「Ｒ」は右方向、「Ｕ」は上方向、「Ｄ」は下方向をそれぞれ指してある。 A configuration of an array antenna type CVD plasma apparatus according to an embodiment of the present invention, a configuration of an auxiliary jig according to an embodiment of the present invention, and the like will be sequentially described with reference to FIGS. In the drawings, “FF” indicates the forward direction, “FR” indicates the backward direction, “L” indicates the left direction, “R” indicates the right direction, “U” indicates the upward direction, and “D” indicates the downward direction. is there.

図５から図７に示すように、本発明の実施形態に係るアレイアンテナ方式（誘導結合型）のＣＶＤプラズマ装置１は、真空雰囲気中でプラズマを発生させつつ、プラズマによって分解された材料ガスの成分を基板Ｗの表面に付着させることにより、基板Ｗの表面に非結晶シリコン膜又は微結晶シリコン膜等の薄膜（図示省略）を成膜（形成）する装置である。 As shown in FIGS. 5 to 7, the array antenna type (inductive coupling type) CVD plasma apparatus 1 according to the embodiment of the present invention generates plasma in a vacuum atmosphere and generates a material gas decomposed by the plasma. This is an apparatus for forming (forming) a thin film (not shown) such as an amorphous silicon film or a microcrystalline silicon film on the surface of the substrate W by attaching components to the surface of the substrate W.

アレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置１は、箱型の真空チャンバー３を具備しており、この真空チャンバー３は、真空圧を発生させる真空ポンプ等の真空圧発生源５に接続されてあって、内部を真空状態に減圧可能である。また、真空チャンバー３は、チャンバー本体７の備えており、このチャンバー本体７は、正面側（前側）にフロント開口部７ａ、背面側（後側）にリア開口部７ｂ、両側面側（左側面側及び右側面側）にサイド開口部７ｃをそれぞれ有している。更に、チャンバー本体７の正面部（前部）には、フロント開口部７ａを開閉可能なフロント壁９が設けられており、チャンバー本体７の背面部（後部）には、リア開口部７ｂを開閉可能なリア壁１１が設けられている。そして、チャンバー本体７の両側部（左側部及び右側部）には、サイド開口部７ｃを開閉可能なサイド壁（ゲートバルブを含む）１３がそれぞれ設けられており、チャンバー本体７の上部には、天井壁１５が設けられてあって、天井壁１５の左右両端部（左端部及び右端部）には、一対の通孔１７がそれぞれ形成されている。 The array antenna type CVD plasma apparatus 1 includes a box-shaped vacuum chamber 3, which is connected to a vacuum pressure generating source 5 such as a vacuum pump for generating a vacuum pressure, and has an internal structure. Can be reduced to a vacuum state. The vacuum chamber 3 is provided with a chamber body 7. The chamber body 7 has a front opening 7a on the front side (front side), a rear opening 7b on the back side (rear side), and both side surfaces (left side). Side openings 7c on the side and right side). Further, a front wall 9 capable of opening and closing the front opening 7a is provided on the front surface (front) of the chamber body 7, and the rear opening 7b is opened and closed on the back surface (rear) of the chamber body 7. A possible rear wall 11 is provided. Side walls (including gate valves) 13 that can open and close the side openings 7c are respectively provided on both side portions (left side portion and right side portion) of the chamber body 7. A ceiling wall 15 is provided, and a pair of through holes 17 are formed in the left and right ends (left end and right end) of the ceiling wall 15, respectively.

真空チャンバー３の天井壁１５には、第１天井側コネクタ１９と第２天井側コネクタ２１が真空チャンバー３の幅方向（左右方向）に交互に配設されており、換言すれば、真空チャンバー３の天井壁１５には、複数の天井側コネクタ（複数の第１天井側コネクタ１９と複数の第２天井側コネクタ２１）が左右方向に間隔を置いて配設されている。ここで、各第１天井側コネクタ１９は、高周波電力を供給する高周波電源２３の供給側（非接地側）に電気的に接続されており、各第２天井側コネクタ２１は、高周波電源２３の接地側に電気的に接続されている。 On the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3, the first ceiling side connector 19 and the second ceiling side connector 21 are alternately arranged in the width direction (left-right direction) of the vacuum chamber 3, in other words, the vacuum chamber 3. A plurality of ceiling-side connectors (a plurality of first ceiling-side connectors 19 and a plurality of second ceiling-side connectors 21) are disposed on the ceiling wall 15 at intervals in the left-right direction. Here, each first ceiling-side connector 19 is electrically connected to a supply side (non-grounded side) of a high-frequency power source 23 that supplies high-frequency power, and each second ceiling-side connector 21 is connected to the high-frequency power source 23. It is electrically connected to the ground side.

真空チャンバー３の天井壁１５の内壁面における左右方向の中央部には、センターガイドブッシュ２５が設けられており、真空チャンバー３の天井壁１５の内壁面における左部及び右部には、サイドガイドブッシュ２７がそれぞれ設けられている。換言すれば、真空チャンバー３の天井壁１５の内壁面には、複数のガイドブッシュ（センターガイドブッシュ２５と一対のサイドガイドブッシュ２７）が左右方向に間隔を置いて配設されている。 A center guide bush 25 is provided at the center in the left-right direction on the inner wall surface of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3, and side guides are provided on the left and right sides of the inner wall surface of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3. Each bush 27 is provided. In other words, a plurality of guide bushes (the center guide bush 25 and the pair of side guide bushes 27) are disposed on the inner wall surface of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3 with a space in the left-right direction.

真空チャンバー３の内部には、アンテナ支持機構（アンテナセット機構）２９が配設されている。具体的には、真空チャンバー３の天井壁１５の内壁面には、一対のガイド支柱３１が左右方向に離隔しかつ垂下して設けられており、各ガイド支柱３１の上部には、段差部３１ａが形成されている。また、各ガイド支柱３１には、可動支持部材３３が嵌挿して設けられており、各可動支持部材３３は、対応関係にあるガイド支柱３１に対して上下方向へ移動可能かつ着脱可能である。更に、各ガイド支柱３１における可動支持部材３３の下側には、手動操作（回転操作）によって可動支持部材３３を上下方向へ移動させる操作ナット（操作部材の一例）３５が螺合して設けられており、各操作ナット３５は、ガイド支柱３１に対して着脱可能である。 An antenna support mechanism (antenna set mechanism) 29 is arranged inside the vacuum chamber 3. Specifically, a pair of guide columns 31 are provided on the inner wall surface of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3 so as to be separated in the left-right direction and suspended from each other. Is formed. Each guide column 31 is provided with a movable support member 33 fitted therein, and each movable support member 33 is movable in the vertical direction with respect to the corresponding guide column 31 and is detachable. Further, an operation nut (an example of an operation member) 35 for moving the movable support member 33 in the vertical direction by manual operation (rotation operation) is screwed and provided below the movable support member 33 in each guide column 31. Each operation nut 35 can be attached to and detached from the guide column 31.

アンテナ支持機構２９における一対の可動支持部材３３には、プラズマを発生させるアレイアンテナユニット３７が架け渡すようにセット（支持）されており、このアレイアンテナユニット３７は、一対の可動支持部材３３に対して真空チャンバー３の正面側又は側面側からチャンバー本体７のフロント開口部７ａ又はサイド開口部７ｃを介して着脱可能である。また、アレイアンテナユニット３７の前後両側（前側及び後側）には、鉛直状態の基板Ｗをセット可能な基板エリアＡがそれぞれ形成されている。 An array antenna unit 37 that generates plasma is set (supported) on a pair of movable support members 33 in the antenna support mechanism 29, and the array antenna unit 37 is attached to the pair of movable support members 33. The vacuum chamber 3 can be detached from the front side or the side of the vacuum chamber 3 through the front opening 7a or the side opening 7c of the chamber body 7. In addition, on both the front and rear sides (front side and rear side) of the array antenna unit 37, substrate areas A on which a substrate W in a vertical state can be set are formed.

真空チャンバー３の内部の床面には、左右方向へ延びた一対のガイドレール３９が設けられており、一対のガイドレール３９には、台車４１が左右方向へ移動可能に支持されている。換言すれば、真空チャンバー３の内部の床面には、台車４１が一対のガイドレール３９を介して左右方向へ移動可能に設けられている。また、台車４１は、チャンバー本体７のサイド開口部７ｃを介して真空チャンバー３の内部に送り出し及び引き入れ可能である。そして、台車４１には、鉛直状態の基板Ｗを保持する枠状の一対の基板ホルダ４３が前後に離隔して立設されてある。なお、台車４１を真空チャンバー３の内部における基準の台車送り出し位置（図５に実線で示す台車４１の位置）に送り出すことによって２枚の基板Ｗが対応関係にある基板エリアＡにセットされるようになっている。 A pair of guide rails 39 extending in the left-right direction are provided on the floor surface inside the vacuum chamber 3, and a carriage 41 is supported on the pair of guide rails 39 so as to be movable in the left-right direction. In other words, the carriage 41 is provided on the floor inside the vacuum chamber 3 so as to be movable in the left-right direction via the pair of guide rails 39. Further, the carriage 41 can be sent out and drawn into the vacuum chamber 3 through the side opening 7 c of the chamber body 7. The carriage 41 is provided with a pair of frame-like substrate holders 43 that hold the substrate W in a vertical state and are vertically spaced apart. The two substrates W are set in the corresponding substrate area A by sending the carriage 41 to the reference carriage delivery position inside the vacuum chamber 3 (the position of the carriage 41 shown by the solid line in FIG. 5). It has become.

なお、本発明の実施形態にあっては、基板エリアＡに基板Ｗをセットするために台車４１等を用いているが、別のセット手段を用いて基板エリアＡに基板Ｗをセットするようにしても構わない。 In the embodiment of the present invention, the carriage 41 or the like is used to set the substrate W in the substrate area A. However, the substrate W is set in the substrate area A using another setting means. It doesn't matter.

真空チャンバー３の外側の適宜位置には、真空チャンバー３の内部（具体的には基板エリアＡ）へ材料ガスを供給するガス供給ボンベ等のガス供給源４５が配設されている。 A gas supply source 45 such as a gas supply cylinder for supplying a material gas to the inside of the vacuum chamber 3 (specifically, the substrate area A) is disposed at an appropriate position outside the vacuum chamber 3.

続いて、本発明の実施形態の要部であるアレイアンテナユニット３７の構成の詳細について説明する。 Then, the detail of a structure of the array antenna unit 37 which is the principal part of embodiment of this invention is demonstrated.

図７、図８、及び図１０に示すように、アレイアンテナユニット３７は、鉛直状態で同一平面上に左右方向（真空チャンバー３の幅方向又はアレイアンテナユニット３７のアレイ方向）に間隔を置いて配列（配設）された複数本の誘導結合型電極４７を備えており、各誘導結合型電極４７は、Ｕ字形状を呈したアンテナ素子である。また、各誘導結合型電極４７は、上端部（基端部）に対応関係にある第１天井側コネクタ１９に接続可能な第１アンテナ側コネクタ４９が設けられた第１電極棒５１、第１電極棒５１に対して平行であってかつ上端部（基端部）に対応関係にある第２天井側コネクタ２１に接続可能な第２アンテナ側コネクタ５３が設けられたパイプ状の第２電極棒５５、及び第１電極棒５１の下端部（先端部）と第２電極棒５５の下端部（先端部）の間に電気的に接続するように設けられた接続金具５７を備えている。更に、各第２電極棒５５の外周面には、材料ガスを噴出する噴出孔６１が形成されている。なお、複数本の第１電極棒５１の下端部及び複数本の第２電極棒５５の下端部には、左右方向へ延びた連結棒６３が連結されている。 As shown in FIGS. 7, 8, and 10, the array antenna units 37 are spaced in the vertical direction on the same plane in the left-right direction (the width direction of the vacuum chamber 3 or the array direction of the array antenna units 37). A plurality of inductively coupled electrodes 47 arranged (arranged) are provided, and each inductively coupled electrode 47 is an antenna element having a U shape. Each inductively coupled electrode 47 includes a first electrode bar 51 provided with a first antenna-side connector 49 that can be connected to the first ceiling-side connector 19 that has a corresponding relationship with the upper end portion (base end portion). A pipe-shaped second electrode rod provided with a second antenna-side connector 53 that can be connected to the second ceiling-side connector 21 that is parallel to the electrode rod 51 and has a corresponding relationship with the upper end (base end). 55 and a connection fitting 57 provided so as to be electrically connected between the lower end portion (tip portion) of the first electrode rod 51 and the lower end portion (tip portion) of the second electrode rod 55. Further, on the outer peripheral surface of each second electrode rod 55, an ejection hole 61 for ejecting a material gas is formed. A connecting rod 63 extending in the left-right direction is connected to the lower ends of the plurality of first electrode bars 51 and the lower ends of the plurality of second electrode bars 55.

ここで、各第１アンテナ側コネクタ４９は、上端部側から、大径部（大形部の一例）４９ａと、この大径部４９ａに連続しかつ横断面積が大径部４９ａよりも小さい小径部（小形部の一例）４９ｂとを有してあって、同様に、各第２アンテナ側コネクタ５３は、上端側から、大径部５３ａと、この大径部５３ａに連続しかつ横断面積が大径部５３ａよりも小さい小径部５３ｂとを有している。 Here, each first antenna-side connector 49 has a large diameter portion (an example of a large portion) 49a from the upper end portion side, a small diameter that is continuous to the large diameter portion 49a and has a transverse area smaller than that of the large diameter portion 49a. Similarly, each second antenna-side connector 53 has a large-diameter portion 53a and a large-diameter portion 53a continuous from the upper end side and having a cross-sectional area. The small-diameter portion 53b is smaller than the large-diameter portion 53a.

図５、図８から図１２に示すように、アンテナ支持機構２９における一対の可動支持部材３３には、複数本の誘導結合型電極４７を一括して保持するホルダ６５が着脱可能に支持されており、このホルダ６５の具体的な構成は、次のようになる。 As shown in FIGS. 5 and 8 to 12, a pair of movable support members 33 in the antenna support mechanism 29 includes a holder 65 that holds a plurality of inductively coupled electrodes 47 in a detachable manner. The specific configuration of the holder 65 is as follows.

即ち、ホルダ６５は、アンテナ支持機構２９における一対の可動支持部材３３に着脱可能に支持された断面コ字形状の梁部材６７を備えており、この梁部材６７は、左右方向へ延びている。また、梁部材６７には、スリット開口部６７ａが左右方向に沿って形成されており、梁部材６７の両端部（左端部及び右端部）には、対応関係にあるガイド支柱３１に上下方向へ移動可能に係合する切欠（凹部）６７ｂがそれぞれ形成されている。ここで、梁部材６７の両端部は、対応関係にあるガイド支柱３１の段差部３１ａに下方向から当接可能であって、換言すれば、一対のガイド支柱３１の段差部３１ａが梁部材６７の上方向の移動を規制するストッパとしての機能を有している。 That is, the holder 65 includes a beam member 67 having a U-shaped cross section that is detachably supported by the pair of movable support members 33 in the antenna support mechanism 29, and the beam member 67 extends in the left-right direction. The beam member 67 is formed with slit openings 67a along the left-right direction, and the opposite ends (left end and right end) of the beam member 67 are vertically connected to the guide struts 31 having a corresponding relationship. Cutouts (recesses) 67b that are movably engaged are formed. Here, both end portions of the beam member 67 can come into contact with the stepped portion 31 a of the guide column 31 having a corresponding relationship from the lower side. In other words, the stepped portion 31 a of the pair of guide columns 31 corresponds to the beam member 67. It has a function as a stopper for restricting the upward movement.

梁部材６７の上面における左右方向の中央部には、センターガイドブッシュ２５に下方向から係合するセンター位置決めピン６９が設けられており、梁部材６７の上面における左部及び右部には、対応関係にあるサイドガイドブッシュ２７に下方向から係合するサイド位置決めピン７１がそれぞれ設けられている。換言すれば、梁部材６７の上面には、複数の位置決めピン（センター位置決めピン６９と一対のサイド位置決めピン７１）が左右方向に間隔を置いて配設されている。ここで、センター位置決めピン６９は、係合状態にあるセンターガイドブッシュ２５に対して左右方向に移動不能であって、センターガイドブッシュ２５に対する前後方向の変位が許容されている。また、サイド位置決めピン７１は、係合状態にあるサイドガイドブッシュ２７に対して前後方向に移動不能であって、ガイドブッシュ２７に対する左右方向の変位が許容されるようになっている。換言すれば、梁部材６７は、真空チャンバー３の天井壁１５に対して左右方向の変位が許容されるようになっている。 A center positioning pin 69 that engages with the center guide bush 25 from below is provided at the center of the upper surface of the beam member 67 in the left-right direction. Side positioning pins 71 that are engaged with the side guide bushes 27 in a related relationship from below are provided. In other words, on the upper surface of the beam member 67, a plurality of positioning pins (a center positioning pin 69 and a pair of side positioning pins 71) are arranged at intervals in the left-right direction. Here, the center positioning pin 69 cannot move in the left-right direction with respect to the center guide bush 25 in the engaged state, and displacement in the front-rear direction with respect to the center guide bush 25 is allowed. Further, the side positioning pin 71 is not movable in the front-rear direction with respect to the engaged side guide bush 27, and is allowed to be displaced in the left-right direction with respect to the guide bush 27. In other words, the beam member 67 is allowed to be displaced in the left-right direction with respect to the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3.

梁部材６７の下面には、断面コ字形状のサポート部材７３が取付ボルト７５を介して左右方向に沿って設けられており、このサポート部材７３は、左右方向に沿って分割された複数の分割サポート部材７３Ｓからなり、各分割サポート部材７３Ｓは、長穴７７を介して梁部材６７に対する左右方向の変位が許容されるようになっている。また、各分割サポート部材７３Ｓには、第１電極棒５１（第１アンテナ側コネクタ４９）を梁部材６７のスリット開口部６７ａを介して挿通した状態で支持する第１支持孔（第１電極支持部）７９、及び第２電極棒５５（第２アンテナ側コネクタ５３）を梁部材６７のスリット開口部６７ａを介して挿通した状態で支持する第２支持孔（第２電極支持部）８１が交互に形成されている。換言すれば、サポート部材７３には、複数の支持孔（複数の第１支持孔７９及び複数の第２支持孔８１）が左右方向に沿って形成されている。更に、各第２支持孔８１は、第２電極棒５５の噴出孔６１が指定の向きを指向するように位置決めピン等によって第２電極棒５５（第２アンテナ側コネクタ５３）を軸心周りに位置決め可能になっている。 A support member 73 having a U-shaped cross section is provided on the lower surface of the beam member 67 via a mounting bolt 75 along the left-right direction, and the support member 73 is divided into a plurality of parts divided along the left-right direction. Each split support member 73S is configured to be allowed to be displaced in the left-right direction with respect to the beam member 67 through the long hole 77. Each split support member 73S has a first support hole (first electrode support) for supporting the first electrode rod 51 (first antenna side connector 49) in a state of being inserted through the slit opening 67a of the beam member 67. Portion) 79 and second support holes 81 (second electrode support portions) 81 for supporting the second electrode rod 55 (second antenna side connector 53) in a state of being inserted through the slit opening 67a of the beam member 67. Is formed. In other words, the support member 73 has a plurality of support holes (a plurality of first support holes 79 and a plurality of second support holes 81) formed in the left-right direction. Further, each second support hole 81 has the second electrode rod 55 (second antenna-side connector 53) around the axis center by a positioning pin or the like so that the ejection hole 61 of the second electrode rod 55 is oriented in a specified direction. Positioning is possible.

そして、アンテナ支持機構２９における一対の可動支持部材３３にアレイアンテナユニット３７をセットした状態（支持させた状態）で、一対の可動支持部材３３を上方向へ移動させると、各第１アンテナ側コネクタ４９が対応関係にある第１天井側コネクタ１９に接続しかつ各第２アンテナ側コネクタ５３が対応関係にある第２天井側コネクタ２１に接続するようになっている。 Then, when the pair of movable support members 33 is moved upward in a state where the array antenna unit 37 is set (supported) on the pair of movable support members 33 in the antenna support mechanism 29, each first antenna side connector is connected. 49 is connected to the first ceiling side connector 19 in a corresponding relationship, and each second antenna side connector 53 is connected to the second ceiling side connector 21 in a corresponding relationship.

梁部材６７の上面には、複数の第１アンテナ側コネクタ４９及び複数の第２アンテナ側コネクタ５３を整列する整列プレート８３が一対のガイド部材（ガイドボルト）８５を介して上下方向へ移動可能に設けられており、この整列プレート８３は、左右方向へ延びてある。また、整列プレート８３には、第１アンテナ側コネクタ４９の大径部４９ａに嵌合可能な第１嵌合孔８７及び第２アンテナ側コネクタ５３の大径部５３ａに嵌合可能な第２嵌合孔８９が交互に形成されており、換言すれば、整列プレート８３には、複数の嵌合孔（複数の第１嵌合孔８７及び複数の第２嵌合孔８９）が左右方向に沿って形成されている。更に、整列プレート８３は、センターガイドブッシュ２５の端面及びサイドガイドブッシュ２７の端面（真空チャンバー３の天井壁１５の一部）に当接可能であって、各ガイド部材８５の外周側に弾装されたスプリング９１によって上方向へ付勢されている。 On the upper surface of the beam member 67, an alignment plate 83 for aligning the plurality of first antenna side connectors 49 and the plurality of second antenna side connectors 53 is movable up and down via a pair of guide members (guide bolts) 85. The alignment plate 83 extends in the left-right direction. The alignment plate 83 has a first fitting hole 87 that can be fitted into the large-diameter portion 49 a of the first antenna-side connector 49 and a second fitting that can be fitted into the large-diameter portion 53 a of the second antenna-side connector 53. In other words, the alignment plate 83 has a plurality of fitting holes (a plurality of first fitting holes 87 and a plurality of second fitting holes 89) along the left-right direction. Is formed. Furthermore, the alignment plate 83 can abut on the end surface of the center guide bush 25 and the end surface of the side guide bush 27 (a part of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3), and is arranged on the outer peripheral side of each guide member 85. The spring 91 is biased upward.

そして、整列プレート８３は、センターガイドブッシュ２５の端面及びサイドガイドブッシュ２７の端面に当接した状態でスプリング９１の付勢力に抗しつつ梁部材６７に対して相対的に下方向へ移動すると、嵌合状態から解除状態に切り替わるようになっている。ここで、嵌合状態とは、図１０及び図１２に実線で示されるように、各第１アンテナ側コネクタ４９の大径部４９ａと対応関係にある第１嵌合孔８７が嵌合しかつ各第２アンテナ側コネクタ５３の大径部５３ａと対応関係にある第２嵌合孔８９が嵌合した状態のことをいい、解除状態とは、図１２に仮想線で示すように、嵌合状態を解除した状態であって、各第１アンテナ側コネクタ４９の小径部４９ｂと対応関係にある第１嵌合孔８７が遊嵌しかつ各第２アンテナ側コネクタ５３の小径部５３ｂと対応関係にある第２嵌合孔８９が遊嵌した状態のことをいう。 Then, when the alignment plate 83 moves downward relative to the beam member 67 while resisting the urging force of the spring 91 in contact with the end surface of the center guide bush 25 and the end surface of the side guide bush 27, The fitting state is switched to the releasing state. Here, the fitting state means that the first fitting hole 87 corresponding to the large-diameter portion 49a of each first antenna-side connector 49 is fitted, as shown by a solid line in FIGS. The second fitting hole 89 corresponding to the large-diameter portion 53a of each second antenna side connector 53 is in a fitted state, and the released state is a fitting state as shown by a virtual line in FIG. In a state where the state is released, the first fitting hole 87 corresponding to the small diameter portion 49 b of each first antenna side connector 49 is loosely fitted and has a corresponding relationship to the small diameter portion 53 b of each second antenna side connector 53. The second fitting hole 89 is loosely fitted.

なお、整列プレート８３に対する各位置決めピン６９（７１）の相対位置を決定するため、整列プレート８３には、各位置決めピン６９（７１）を挿通可能な長穴８３ｈ（図９及び図１０に１つのみ図示）がそれぞれ形成されている。 In order to determine the relative position of each positioning pin 69 (71) with respect to the alignment plate 83, a long hole 83h (one in FIGS. 9 and 10) through which each positioning pin 69 (71) can be inserted. Only shown).

続いて、本発明の実施形態に係る補助治具９３について説明する。 Next, the auxiliary jig 93 according to the embodiment of the present invention will be described.

図１及び図２に示すように、本発明の実施形態に係る補助治具９３は、アレイアンテナ式のプラズマＣＶＤ装置１に用いられる付属品であって、真空チャンバー３の天井壁１５側に対する複数本の誘導結合型電極４７の着脱作業を補助するものである。そして、補助治具９３の具体的な構成は、次のようになる。 As shown in FIGS. 1 and 2, the auxiliary jig 93 according to the embodiment of the present invention is an accessory used for the array antenna type plasma CVD apparatus 1, and includes a plurality of auxiliary jigs 93 on the ceiling wall 15 side of the vacuum chamber 3. This is for assisting the attaching / detaching operation of the inductively coupled electrode 47. The specific configuration of the auxiliary jig 93 is as follows.

真空チャンバー３の天井壁１５の外壁面（上面）には、一対の門型の支持櫓９５が着脱可能かつ左右方向に離隔して設けられている。また、各支持櫓９５は、前後に対向した一対の支柱９７と、一対の支柱９７の上部の間に連結するように設けられた上部プレート９９とを備えている。 A pair of gate-shaped support rods 95 are detachably provided on the outer wall surface (upper surface) of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3 and are separated in the left-right direction. Each support rod 95 includes a pair of support columns 97 opposed to each other in the front-rear direction and an upper plate 99 provided so as to be connected between the upper portions of the pair of support columns 97.

各支持櫓９５における上部プレート９９には、スプリング（図示省略）の弾発力（付勢力）を利用してアレイアンテナユニット３７に作用する荷重を軽減するスプリングバランサ１０１が吊すように着脱可能に設けられており、このスプリングバランサ１０１は、長穴等を介して上部プレート９９に対して前後方向へ位置調節可能である。また、各スプリングバランサ１０１は、公知の構成からなり、円筒状のバランサケース（バランサ本体）１０３と、バランサケース１０３の上部に設けられかつ上部プレート９９に着脱可能なロープ状の取付部材１０５と、バランサケース１０３内に回転可能に設けられかつ前記スプリングを内蔵した回転ドラム（図示省略）と、この回転ドラムに巻回されかつバランサケース１０３に送り出し及び引き入れ可能なワイヤ状の作動部材１０７とを備えている。ここで、作動部材１０７は、前記スプリングによって上方向（換言すれば、引き入れ方向又は巻回方向）へ付勢されている。 The upper plate 99 of each support rod 95 is detachably provided so as to suspend a spring balancer 101 that reduces the load acting on the array antenna unit 37 using the elastic force (biasing force) of a spring (not shown). The position of the spring balancer 101 can be adjusted in the front-rear direction with respect to the upper plate 99 through a long hole or the like. Each spring balancer 101 has a known configuration, and includes a cylindrical balancer case (balancer body) 103, a rope-like attachment member 105 provided on the balancer case 103 and attachable to and detachable from the upper plate 99, A rotating drum (not shown) provided rotatably in the balancer case 103 and having the spring built therein, and a wire-like actuating member 107 wound around the rotating drum and fed into and out of the balancer case 103. ing. Here, the actuating member 107 is biased upward (in other words, the pulling-in direction or the winding direction) by the spring.

各スプリングバランサ１０１における作動部材１０７の先端部（下端部）には、連結部材１０９が着脱可能に連結されており、この連結部材１０９は、真空チャンバー３の外側に位置している。また、連結部材１０９には、上下方向へ延びた一対のスライドバー１１１の上端部が取付ナット１１３を介して着脱可能に連結されている。換言すれば、各スプリングバランサ１０１における作動部材１０７の先端部には、一対のスライドバー１１１の上端部が連結部材１０９等を介して着脱可能に連結されている。そして、各スライドバー１１１は、天井壁１５に対して上下方向へ移動可能であって、真空チャンバー３の天井壁１５の通孔１７に挿通してある。更に、各一対のスライドバー１１１の下端部には、ホルダ６５（梁部材６７）の端部（左端部又は右端部）を下方向から係止可能な係止部材１１５が取付ナット１１７を介して着脱可能に設けられており（図９参照）、この係止部材１１５は、真空チャンバー３の内部（内側）に位置している。 A connecting member 109 is detachably connected to the distal end (lower end) of the operating member 107 in each spring balancer 101, and the connecting member 109 is located outside the vacuum chamber 3. In addition, upper ends of a pair of slide bars 111 extending in the vertical direction are detachably connected to the connecting member 109 via mounting nuts 113. In other words, the upper end portions of the pair of slide bars 111 are detachably connected to the distal end portion of the operating member 107 in each spring balancer 101 via the connecting member 109 or the like. Each slide bar 111 is movable in the vertical direction with respect to the ceiling wall 15 and is inserted into the through hole 17 of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3. Furthermore, a locking member 115 capable of locking the end portion (left end portion or right end portion) of the holder 65 (beam member 67) from below is provided at the lower end portion of each pair of slide bars 111 via a mounting nut 117. The locking member 115 is provided inside and outside the vacuum chamber 3 (see FIG. 9).

なお、補助治具９３は、前記スプリングの弾発力を利用してアレイアンテナユニット３７に作用する荷重を軽減するスプリングバランサ１０１の代わりに、エアの圧力（付勢力）を利用してアレイアンテナユニット３７に作用する荷重を軽減するエアバランサ等の別のバランサを用いても構わない。 The auxiliary jig 93 uses the pressure (biasing force) of air instead of the spring balancer 101 that reduces the load acting on the array antenna unit 37 using the elastic force of the spring. Another balancer such as an air balancer that reduces the load acting on 37 may be used.

続いて、本発明の実施形態の作用及び効果について説明する。 Then, the effect | action and effect of embodiment of this invention are demonstrated.

作業者による誘導結合型電極４７の着脱（取付と取外し）に関する作用
真空チャンバー３の外側において、整列プレート８３の第１嵌合孔８７を第１アンテナ側コネクタ４９の大径部４９ａを嵌合させつつ、各分割サポート部材７３Ｓの各第１支持孔７９に第１電極棒５１（第１アンテナ側コネクタ４９）を挿通した状態で支持させる。同様に、整列プレート８３の第２嵌合孔８９を第２アンテナ側コネクタ５３の大径部５３ａを嵌合させつつ、各分割サポート部材７３Ｓの各第２支持孔８１に第２電極棒５５（第２アンテナ側コネクタ５３）を挿通した状態で支持させる。これにより、図８に示すように、複数本の誘導結合型電極４７を一括してまとめて、アレイアンテナユニット３７を形成することできる。 Action related to attachment / detachment (attachment / detachment) of the inductively coupled electrode 47 by the operator On the outside of the vacuum chamber 3, the first fitting hole 87 of the alignment plate 83 is fitted to the large diameter portion 49 a of the first antenna side connector 49. However, the first electrode rod 51 (first antenna-side connector 49) is inserted into each first support hole 79 of each divided support member 73S and supported. Similarly, while the second fitting hole 89 of the alignment plate 83 is fitted to the large diameter portion 53a of the second antenna side connector 53, the second electrode rod 55 ( The second antenna side connector 53) is supported in the inserted state. As a result, as shown in FIG. 8, the array antenna unit 37 can be formed by collectively collecting a plurality of inductively coupled electrodes 47.

複数本の誘導結合型電極４７を一括してまとめた後に、図３（ａ）に示すように、真空チャンバー３の正面側又は側面側からアレイアンテナユニット３７を真空チャンバー３の内部に挿入して、ガイド支柱３１の下側に位置させる。次に、図３（ｂ）に示すように、各一対のスライドバー１１１の下端部に係止部材１１５を連結させ、かつ各係止部材１１５をホルダ６５（梁部材６７）の端部に下方向から係止させることにより、スプリングバランサ１０１の弾発力によってアレイアンテナユニット３７に作用する荷重を軽減する。更に、アレイアンテナユニット３７に作用する荷重を軽減した状態で、アレイアンテナユニット３７を上方向へ移動させることにより、梁部材６７の各切欠６７ｂを対応関係にあるガイド支柱３１に下方向から係合させると共に、各位置決めピン６９（７１）を対応関係にあるガイドブッシュ２５（２７）に下方向から係合させる。そして、各ガイド支柱３１に可動支持部材３３を下方向から嵌挿させて、各ガイド支柱３１における可動支持部材３３の下側に操作ナット３５を螺合させる（締め付ける）ことにより、一対の可動支持部材３３にホルダ６５（梁部材６７）の両端部を支持させる。これにより、アレイアンテナユニット３７を真空チャンバー３の正面側又は側面側から一対の可動支持部材３３にセットすることができる。なお、梁部材６７の各切欠６７ｂを対応関係にあるガイド支柱３１に下方向から係合させた後に、各係止部材１１５をホルダ６５の端部に下方向から係止させたり、一対の可動支持部材３３にホルダ６５の両端部を支持させた後に、各位置決めピン６９（７１）を対応関係にあるガイドブッシュ２５（２７）に下方向から係合させたりしても構わない。 After the plurality of inductively coupled electrodes 47 are collectively collected, the array antenna unit 37 is inserted into the vacuum chamber 3 from the front side or side surface side of the vacuum chamber 3 as shown in FIG. , Located below the guide column 31. Next, as shown in FIG. 3B, a locking member 115 is connected to the lower end of each pair of slide bars 111, and each locking member 115 is lowered to the end of the holder 65 (beam member 67). By locking from the direction, the load acting on the array antenna unit 37 due to the elastic force of the spring balancer 101 is reduced. Further, by moving the array antenna unit 37 upward while reducing the load acting on the array antenna unit 37, each notch 67b of the beam member 67 is engaged with the corresponding guide column 31 from below. At the same time, the positioning pins 69 (71) are engaged with the guide bushes 25 (27) in a corresponding relationship from below. Then, the movable support member 33 is inserted into each guide column 31 from below, and the operation nut 35 is screwed (tightened) to the lower side of the movable support member 33 in each guide column 31, thereby a pair of movable supports. The member 33 supports both ends of the holder 65 (beam member 67). Thereby, the array antenna unit 37 can be set on the pair of movable support members 33 from the front side or the side surface side of the vacuum chamber 3. In addition, after engaging each notch 67b of the beam member 67 with the corresponding guide column 31 from below, each locking member 115 is locked to the end of the holder 65 from below, or a pair of movable members After the both ends of the holder 65 are supported by the support member 33, the positioning pins 69 (71) may be engaged with the guide bushes 25 (27) having a corresponding relationship from below.

アレイアンテナユニット３７を一対の可動支持部材３３にセットした後に、図４（ａ）に示すように、操作ナット３５の回転操作によって一対の可動支持部材３３を上方向へ移動させることにより、アレイアンテナユニット３７に作用する荷重を軽減した状態で、アレイアンテナユニット３７を上方向へ移動させて、整列プレート８３をセンターガイドブッシュ２５の端面及び一対のサイドガイドブッシュ２７の端面に当接させる。更に、図４（ｂ）に示すように、操作ナット３５の回転操作によって一対の可動支持部材３３を上方向へ移動させることにより、アレイアンテナユニット３７に作用する荷重を軽減した状態で、ホルダ６５（梁部材６７）を上方向へ移動させて、梁部材６７の両端部を対応関係にあるガイド支柱３１の段差部３１ａに下方向から当接させる。これにより、複数の第１アンテナ側コネクタ４９及び複数の第２アンテナ側コネクタ５３の整列状態を保ちつつ、各第１アンテナ側コネクタ４９を対応関係にある第１天井側コネクタ１９に接続させかつ各第２アンテナ側コネクタ５３を対応関係にある第２天井側コネクタ２１に接続させることができる。併せて、整列プレート８３をスプリング９１の付勢力に抗しつつホルダ６５（梁部材６７）に対して相対的に下方向へ移動させて、各第１アンテナ側コネクタ４９及び各第２アンテナ側コネクタ５３の接続完了と略同時に、嵌合状態から解除状態に切り替えることができる。 After the array antenna unit 37 is set on the pair of movable support members 33, as shown in FIG. 4A, the pair of movable support members 33 are moved upward by rotating the operation nuts 35, so that the array antenna is obtained. With the load acting on the unit 37 reduced, the array antenna unit 37 is moved upward to bring the alignment plate 83 into contact with the end surface of the center guide bush 25 and the end surfaces of the pair of side guide bushes 27. Further, as shown in FIG. 4B, the holder 65 is moved in a state in which the load acting on the array antenna unit 37 is reduced by moving the pair of movable support members 33 upward by rotating the operation nut 35. The (beam member 67) is moved upward, and both end portions of the beam member 67 are brought into contact with the stepped portion 31a of the guide column 31 having a corresponding relationship from below. Accordingly, the first antenna-side connectors 49 are connected to the corresponding first ceiling-side connectors 19 while maintaining the alignment state of the plurality of first antenna-side connectors 49 and the plurality of second antenna-side connectors 53, and The second antenna-side connector 53 can be connected to the second ceiling-side connector 21 that has a corresponding relationship. At the same time, the alignment plate 83 is moved downward relative to the holder 65 (beam member 67) while resisting the urging force of the spring 91, so that each first antenna side connector 49 and each second antenna side connector is moved. Almost simultaneously with the completion of the connection of 53, the fitted state can be switched to the released state.

以上により、アレイアンテナユニット３７に作用する荷重を軽減しつつ、複数本の誘導結合型電極４７を真空チャンバー３の天井壁１５側に一括して取付けることができる。また、前述の動作と反対の動作を行うことにより、アレイアンテナユニット３７に作用する荷重を軽減しつつ、複数本の誘導結合型電極４７を真空チャンバー３の天井壁１５側から一括して取外して、真空チャンバー３から取り出すことができる。 As described above, a plurality of inductively coupled electrodes 47 can be collectively attached to the ceiling wall 15 side of the vacuum chamber 3 while reducing the load acting on the array antenna unit 37. Further, by performing the operation opposite to the above-described operation, the plurality of inductively coupled electrodes 47 are collectively removed from the ceiling wall 15 side of the vacuum chamber 3 while reducing the load acting on the array antenna unit 37. The vacuum chamber 3 can be taken out.

なお、複数本の誘導結合型電極４７の着脱作業の終了後に、補助治具９３を真空チャンバー３の天井壁１５側から取外しておくと共に、真空チャンバー３の天井壁１５の各通孔１７を気密に塞いでおく。 After the attachment / detachment operation of the plurality of inductively coupled electrodes 47 is completed, the auxiliary jig 93 is removed from the ceiling wall 15 side of the vacuum chamber 3 and each through hole 17 of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3 is airtight. Keep it closed.

要するに、真空チャンバー３の天井壁１５の外壁面に一対の支持櫓９５が着脱可能に設けられ、各支持櫓９５にスプリングバランサ１０１が吊すように設けられ、各スプリングバランサ１０１の作動部材１０７の先端部に真空チャンバー３の天井壁１５の通孔１７に挿通可能かつ上下方向へ移動可能な一対のスライドバー１１１が連結され、各一対のスライドバー１１１の下端部にホルダ６５を係止可能な係止部材１１５が連結されているため、前述のように、アレイアンテナユニット３７に作用する荷重を軽減しつつ、複数本の誘導結合型電極４７を真空チャンバー３の天井壁１５側に対して一括して着脱（取付と取外し）することができる。 In short, a pair of support rods 95 are detachably provided on the outer wall surface of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3, the spring balancer 101 is provided so as to be suspended from each support rod 95, and the distal end of the operating member 107 of each spring balancer 101. A pair of slide bars 111 that can be inserted into the through-hole 17 of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3 and that can move in the vertical direction are connected to each other, and a holder 65 can be locked to the lower end of each pair of slide bars 111. Since the stop member 115 is connected, as described above, a plurality of inductively coupled electrodes 47 are collectively attached to the ceiling wall 15 side of the vacuum chamber 3 while reducing the load acting on the array antenna unit 37. Can be attached and detached.

成膜処理に関する作用
まず、真空圧発生源５によって真空チャンバー３の内部へ真空状態に減圧する。次に、台車４１を真空チャンバー３の内部における基準の台車送り出し位置に送り出すことにより、各基板エリアＡに基板Ｗをセットする。また、ガス供給源４５によって真空チャンバー３の内部側へ材料ガスを供給することにより、各第２電極棒５５の各噴出孔６１から基板エリアＡに向かって材料ガスを噴射する。そして、高周波電源２３によって複数本の誘導結合型電極４７に高周波波電力を供給することにより、アレイアンテナユニット３７の周辺にプラズマを発生させつつ、プラズマによって分解された材料ガスの成分を２枚の基板Ｗの表面に付着させる。これにより、２枚の基板Ｗの表面に非結晶シリコン膜又は微結晶シリコン膜等の薄膜を成膜（形成）することができる。 First, the vacuum pressure generating source 5 depressurizes the vacuum chamber 3 to a vacuum state. Next, the substrate W is set in each substrate area A by sending the carriage 41 to the reference carriage delivery position inside the vacuum chamber 3. Further, by supplying the material gas to the inside of the vacuum chamber 3 by the gas supply source 45, the material gas is ejected from the ejection holes 61 of the second electrode rods 55 toward the substrate area A. Then, by supplying high-frequency wave power to the plurality of inductively coupled electrodes 47 by the high-frequency power source 23, two components of the material gas decomposed by the plasma are generated while generating plasma around the array antenna unit 37. It adheres to the surface of the substrate W. Thereby, a thin film such as an amorphous silicon film or a microcrystalline silicon film can be formed (formed) on the surfaces of the two substrates W.

ここで、梁部材６７は真空チャンバー３に対する左右方向の変位が許容され、各分割サポート部材７３Ｓ（サポート部材７３）は梁部材６７に対する左右方向の変位が許容され、整列プレート８３が嵌合状態から解除状態に切り替わっているため、成膜処理中に、梁部材６７、各分割サポート部材７３Ｓ、及び整列プレート８３の左右方向の熱膨張を構造的に逃がすことができる。 Here, the beam member 67 is allowed to be displaced in the left-right direction with respect to the vacuum chamber 3, and each divided support member 73 </ b> S (support member 73) is allowed to be displaced in the left-right direction relative to the beam member 67. Since the state is switched to the released state, the thermal expansion in the left-right direction of the beam member 67, each divided support member 73S, and the alignment plate 83 can be structurally released during the film forming process.

本発明の実施形態の効果
以上の如く、本発明の実施形態によれば、アレイアンテナユニット３７に作用する荷重を軽減しつつ、複数本の誘導結合型電極４７を真空チャンバー３の天井壁１５側に対して一括して着脱できるため、真空チャンバー３の天井壁１５側に対する複数本の誘導結合型電極４７の着脱作業の容易化をより一層図ることができる。 As described above, according to the embodiment of the present invention, the plurality of inductively coupled electrodes 47 are arranged on the ceiling wall 15 side of the vacuum chamber 3 while reducing the load acting on the array antenna unit 37. Therefore, the work of attaching / detaching the plurality of inductively coupled electrodes 47 to / from the ceiling wall 15 side of the vacuum chamber 3 can be further facilitated.

本発明は、前述の実施形態の説明に限るものでなく、例えば、次のように種々の態様で実施可能である。即ち、アレイアンテナユニット３７にＵ字形状の複数本の誘導結合型電極４７を用いる代わりに、Ｉ字形状の複数本の誘導結合型電極を用いても構わない。また、補助治具９３を真空チャンバー３の天井壁１５に対して着脱可能な付属品として用いる代わりに、アレイアンテナユニット３７の一部を構成する補助装置として用いても構わない。なお、補助治具９３をアレイアンテナユニット３７の一部を構成する補助装置として用いた場合には、各スライドバー１１１を真空チャンバー３の天井壁１５の通孔１７に気密に挿通させておく。 The present invention is not limited to the description of the above-described embodiment, and can be implemented in various modes as follows, for example. That is, instead of using a plurality of U-shaped inductive coupling electrodes 47 for the array antenna unit 37, a plurality of I-shaped inductive coupling electrodes may be used. Further, instead of using the auxiliary jig 93 as an accessory that can be attached to and detached from the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3, it may be used as an auxiliary device that constitutes a part of the array antenna unit 37. When the auxiliary jig 93 is used as an auxiliary device constituting a part of the array antenna unit 37, each slide bar 111 is inserted into the through hole 17 of the ceiling wall 15 of the vacuum chamber 3 in an airtight manner.

そして、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。 The scope of rights encompassed by the present invention is not limited to these embodiments.

Ａ基板エリア
Ｗ基板
１アレイアンテナ式のＣＶＤプラズマ装置
３真空チャンバー
５真空圧発生源
１５天井壁
１７通孔
１９第１天井側コネクタ
２１第２天井側コネクタ
２３高周波電源
２５センターガイドブッシュ
２７サイドガイドブッシュ
２９アンテナ支持機構（アンテナセット機構）
３１ガイド支柱
３１ａガイド支柱の段差部
３３可動支持部材
３５操作ナット
３７アレイアンテナユニット
４１台車
４３基板ホルダ
４５ガス供給源
４７誘導結合型電極
４９第１アンテナ側コネクタ
４９ａ第１アンテナ側コネクタの大径部
４９ｂ第１アンテナ側コネクタの小径部
５１第１電極棒
５３第２アンテナ側コネクタ
５３ａ第２アンテナ側コネクタの大径部
５３ｂ第２アンテナ側コネクタの小径部
５５第２電極棒
５７接続金具
６１噴出孔
６５ホルダ
６７梁部材
６７ａ梁部材のスリット開口部
６７ｂ梁部材の切欠
６９センター位置決めピン
７１サイド位置決めピン
７３サポート部材
７３Ｓ分割サポート部材
７９第１支持孔
８１第２支持孔
８３整列プレート
８７第１嵌合孔
８９第２嵌合孔
９１スプリング
９３補助治具
９５支持櫓
９７支柱
９９上部プレート
１０１スプリングバランサ
１０３バランサケース
１０５取付部材
１０７作動部材
１０９連結部材
１１１スライドバー
１１５係止部材 A Substrate area W Substrate 1 Array antenna type CVD plasma device 3 Vacuum chamber 5 Vacuum pressure generation source 15 Ceiling wall 17 Through hole 19 First ceiling side connector 21 Second ceiling side connector 23 High frequency power supply 25 Center guide bush 27 Side guide bush 27 29 Antenna support mechanism (antenna set mechanism)
31 Guide post 31a Step part of guide post 33 Movable support member 35 Operation nut 37 Array antenna unit 41 Cart 43 Substrate holder 45 Gas supply source 47 Inductive coupling type electrode 49 First antenna side connector 49a Large diameter part of first antenna side connector 49b Small-diameter portion of the first antenna-side connector 51 First electrode rod 53 Second-antenna-side connector 53a Large-diameter portion of the second-antenna-side connector 53b Small-diameter portion of the second-antenna-side connector 55 Second-electrode rod 57 Connection fitting 61 Ejection hole 65 Holder 67 Beam member 67a Beam member slit opening 67b Beam member notch 69 Center positioning pin 71 Side positioning pin 73 Support member 73S Split support member 79 First support hole 81 Second support hole 83 Alignment plate 87 First fitting Hole 89 Second fitting hole 91 Ring 93 auxiliary jig 95 support tower 97 posts 99 top plate 101 spring balancer 103 balancer case 105 mounting member 107 actuating member 109 connecting member 111 slide bar 115 engagement member

Claims

A vacuum chamber in which a plurality of ceiling wall side connectors electrically connected to a high frequency power source on the ceiling wall are disposed at intervals in the width direction, and disposed in the vacuum chamber and manually operated An antenna support mechanism having a movable support member movable in the vertical direction; and an array antenna unit detachably set on the movable support member, wherein the array antenna unit is the same in a vertical state. A plurality of inductively coupled electrodes provided with antenna-side connectors that can be connected to the ceiling wall-side connector that are arranged on the plane at intervals in the width direction and that correspond to the upper end portions; It is used in an array antenna type plasma CVD apparatus comprising a holder that holds inductively coupled electrodes together,
In an auxiliary jig that assists in attaching and detaching a plurality of the inductively coupled electrodes to the ceiling wall side of the vacuum chamber,
A support rod provided on the outer wall surface of the ceiling wall of the vacuum chamber;
A balancer that is provided on the support rod and includes an actuating member biased upward, and that reduces a load acting on the array antenna unit;
A slide bar connected to the actuating member and capable of being inserted into a through hole formed in the ceiling wall of the vacuum chamber, and movable in a vertical direction;
An auxiliary jig connected to the slide bar and capable of locking the holder.

The number of the support rods is plural, and the plurality of support rods are provided on the outer peripheral surface of the ceiling wall of the vacuum chamber so as to be separated in the width direction, and the balancer is provided on each support rod, and each operation The auxiliary jig according to claim 1, wherein the slide bar is connected to a member, and the locking member is connected to each slide bar.

3. The auxiliary jig according to claim 1, wherein the balancer is a spring balancer using a spring force of a spring. 4.

In an array antenna type CVD plasma apparatus that forms a thin film on the surface of a substrate by attaching a component of a material gas decomposed by the plasma to the surface of the substrate while generating plasma in a vacuum atmosphere,
A vacuum chamber in which the inside can be decompressed to a vacuum state and a plurality of ceiling wall side connectors electrically connected to the high frequency power supply on the ceiling wall are disposed at intervals in the width direction;
An antenna support mechanism provided with a movable support member disposed inside the vacuum chamber and movable in a vertical direction by a manual operation;
An array antenna unit that is detachably set on the movable support member, has a substrate area for setting a substrate on at least one side, and generates plasma;
A gas supply source for supplying a material gas to the inside of the vacuum chamber;
An auxiliary device that assists in attaching and detaching a plurality of the inductively coupled electrodes to the ceiling wall of the vacuum chamber,
The array antenna unit is
A plurality of inductively coupled electrodes provided with antenna-side connectors that are arranged on the same plane in the vertical state with a gap in the width direction and that can be connected to the ceiling wall-side connector in a corresponding relationship at the upper end portion;
A holder that is detachably supported by the movable support member and holds a plurality of the inductively coupled electrodes in a lump.
An array antenna type CVD plasma apparatus, wherein the auxiliary jig according to any one of claims 1 to 3 is used as the auxiliary jig.

The holder is
A beam member that is detachably supported by the movable support member, extends in the width direction, has an opening formed along the width direction, and is allowed to be displaced in the width direction with respect to the vacuum chamber;
The beam member is provided along the width direction, the inductively coupled electrode is allowed to be displaced in the width direction with respect to the beam member, and the inductively coupled electrode is inserted through the opening of the beam member. The array antenna type CVD plasma apparatus according to claim 4, further comprising: a support member in which a plurality of support holes to be supported in a state are formed along the width direction.

6. The array antenna type CVD according to claim 5, wherein the support member is composed of a plurality of divided support members which are divided along the width direction and allowed to be displaced in the width direction with respect to the beam member. Plasma device.

The antenna support mechanism is provided with a pair of guide columns provided on the inner wall of the ceiling wall of the vacuum chamber so as to be separated in the width direction and suspended, and attachable to and detachable from each guide column and vertically movable. The movable support member includes an operation member that is detachably screwed to the lower side of the movable support member in each guide column and that moves the movable support member in a vertical direction by manual operation. An array antenna type CVD plasma apparatus according to any one of claims 4 to 6.

A plurality of guide bushes are arranged at intervals in the width direction on the ceiling wall of the vacuum chamber,
A plurality of positioning pins that engage with the guide bushes that correspond to the upper surface of the holder are disposed at intervals in the width direction, and any one of the plurality of positioning pins is engaged. It is impossible to move in the width direction with respect to the guide bush in the state, and the remaining positioning pins are allowed to be displaced in the width direction with respect to the guide bush in the engaged state. The array antenna type CVD plasma apparatus according to any one of claims 4 to 7.

The array antenna type CVD according to any one of claims 4 to 8, wherein a stopper for restricting the upward movement of the holder is provided in the vacuum chamber. Plasma device.

The plurality of ceiling-side connectors include a plurality of first ceiling-side connectors electrically connected to the high-frequency power supply side and a plurality of second ceiling-side connectors electrically connected to the ground side of the high-frequency power source. The plurality of first ceiling side connectors and the plurality of second ceiling side connectors are alternately arranged along the width direction,
Each inductively coupled electrode is
A first electrode rod provided with a first antenna side connector connectable to the first ceiling side connector at the upper end portion, parallel to the first electrode rod and at the upper end portion to the second ceiling side connector A second electrode rod provided with a connectable second antenna-side connector, and a connection fitting provided so as to be electrically connected between a lower end portion of the first electrode rod and a lower end portion of the second electrode rod With
The plurality of insertion holes are composed of a plurality of first insertion holes and a plurality of second insertion holes, and the first insertion holes and the second insertion holes are alternately formed along the width direction in the support member, Each first support hole can be supported in a state where the first electrode rod is inserted, and each second support hole can be supported in a state where the second electrode rod is inserted;
When the movable support member is moved upward with the holder set on the movable support member, each first antenna-side connector is connected to the corresponding first ceiling-side connector and each second antenna is connected. 10. The array antenna type CVD plasma according to claim 4, wherein a side connector is connected to the second ceiling side connector in a corresponding relationship. 10. apparatus.

Each second electrode rod has a pipe shape, the inside of each second electrode rod is connected to the gas supply source, and an ejection hole for ejecting a material gas is formed on the outer peripheral surface,
11. The array antenna type CVD plasma apparatus according to claim 10, wherein the second support hole is capable of rotating and positioning the second electrode rod so that the ejection hole is oriented in a specified direction. .