JP2012132756A - X線分析装置及びx線分析方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】照射X線用の開口部36と参照X線用の孔38とが形成されたマスク18と、供試体20を支持する支持部19と、マスクを介して供試体にX線を照射することにより得られるホログラム像を取得する2次元X線検出器22とを有し、マスクと支持部とが相対的に移動自在である。
【選択図】図2
Description
一実施形態によるX線分析装置及びX線分析方法を図1乃至図9を用いて説明する。
まず、本実施形態によるX線分析装置について図1乃至図3を用いて説明する。図1は、本実施形態によるX線分析装置を示すブロック図である。
次に、本実施形態によるX線分析装置を用いたX線分析方法について図1乃至図7を用いて説明する。
次に、本実施形態によるX線分析装置及びX線分析方法の評価結果について図8を用いて説明する。
上記実施形態に限らず種々の変形が可能である。
照射X線用の開口部と参照X線用の孔とが形成されたマスクと、
供試体を支持する支持部と、
前記マスクを介して前記供試体にX線を照射することにより得られるホログラム像を取得する2次元X線検出器とを有し、
前記マスクと前記支持部とが相対的に移動自在である
ことを特徴とするX線分析装置。
付記1記載のX線分析装置において、
前記供試体に電圧を印加する電圧印加手段を更に有し、
前記マスクは、前記供試体に電圧を印加するための電極を更に有し、
前記電圧印加手段は、前記マスクの前記電極を介して前記供試体に電圧を印加する
ことを特徴とするX線分析装置。
付記1又は2記載のX線分析装置において、
前記ホログラム像をフーリエ変換する処理手段を更に有する
ことを特徴とするX線分析装置。
照射X線用の開口部と参照X線用の孔とが形成されたマスクと、支持部により支持された供試体との位置合わせを行うステップと、
前記マスクを介して前記供試体にX線を照射することにより得られるホログラム像を2次元X線検出器により取得するステップと
を有することを特徴とするX線分析方法。
付記4記載のX線分析方法において、
前記ホログラム像を取得するステップでは、前記マスクに形成された電極を介して前記供試体に電圧を印加しながら前記ホログラム像を取得する
ことを特徴とするX線分析方法。
付記4又は5記載のX線分析方法において、
前記ホログラム像を取得するステップでは、前記供試体に印加する電圧の大きさ又は極性を変化させ、各々の電圧における前記ホログラム像を取得する
ことを特徴とするX線分析方法。
付記4乃至6のいずれかに記載のX線分析方法において、
前記ホログラム像をフーリエ変換するステップを更に有する
ことを特徴とするX線分析方法。
付記4又は5記載のX線分析方法において、
前記供試体は、強誘電体を含み、
前記ホログラム像を取得するステップでは、前記強誘電体に第1の極性の電圧を印加した際に得られる前記ホログラム像である第1のホログラム像と、前記強誘電体に前記第1の極性と反対の第2の極性の電圧を印加した際に得られる前記ホログラム像である第2のホログラム像とを取得し、
前記第1のホログラム像をフーリエ変換することにより第1のフーリエ変換像を取得し、前記第2のホログラム像をフーリエ変換することにより第2のフーリエ変換像を取得するステップと、
前記第1のフーリエ変換像と前記第2のフーリエ変換像との差分像を求めるステップとを更に有する
ことを特徴とするX線分析方法。
12…モノクロメータ
14…シャッタ
16…照射領域制限手段
17…ピンホール
18…マスク
19…支持部
20…供試体
22…2次元X線検出器
24…X線源制御部
26…駆動機構制御部
28…検出制御部
30…基板
32…X線吸収層
34a、34b…電極
36…開口部
38…孔
40…電圧印加手段
42…制御処理部
44…表示部
46…X線
48…回折X線
50…参照X線
52…下部電極
53…強誘電体膜
54…上部電極
58…強誘電体キャパシタ
Claims (5)
- 照射X線用の開口部と参照X線用の孔とが形成されたマスクと、
供試体を支持する支持部と、
前記マスクを介して前記供試体にX線を照射することにより得られるホログラム像を取得する2次元X線検出器とを有し、
前記マスクと前記支持部とが相対的に移動自在である
ことを特徴とするX線分析装置。 - 請求項1記載のX線分析装置において、
前記供試体に電圧を印加する電圧印加手段を更に有し、
前記マスクは、前記供試体に電圧を印加するための電極を更に有し、
前記電圧印加手段は、前記マスクの前記電極を介して前記供試体に電圧を印加する
ことを特徴とするX線分析装置。 - 照射X線用の開口部と参照X線用の孔とが形成されたマスクと、支持部により支持された供試体との位置合わせを行うステップと、
前記マスクを介して前記供試体にX線を照射することにより得られるホログラム像を2次元X線検出器により取得するステップと
を有することを特徴とするX線分析方法。 - 請求項3記載のX線分析方法において、
前記ホログラム像を取得するステップでは、前記マスクに形成された電極を介して前記供試体に電圧を印加しながら前記ホログラム像を取得する
ことを特徴とするX線分析方法。 - 請求項3又は4記載のX線分析方法において、
前記供試体は、強誘電体を含み、
前記ホログラム像を取得するステップでは、前記強誘電体に第1の極性の電圧を印加した際に得られる前記ホログラム像である第1のホログラム像と、前記強誘電体に前記第1の極性と反対の第2の極性の電圧を印加した際に得られる前記ホログラム像である第2のホログラム像とを取得し、
前記第1のホログラム像をフーリエ変換することにより第1のフーリエ変換像を取得し、前記第2のホログラム像をフーリエ変換することにより第2のフーリエ変換像を取得するステップと、
前記第1のフーリエ変換像と前記第2のフーリエ変換像との差分像を求めるステップとを更に有する
ことを特徴とするX線分析方法。
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---|---|---|---|---|
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Non-Patent Citations (1)
Title |
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JPN6012039140; Lensless imaging of magnetic nanostructures by X-ray spectro-holography: 'S. Eisebitt他' Nature 432, 20041216, 885-888 * |
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