JP2012123144A - Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic equipment - Google Patents

Liquid crystal device, method for manufacturing liquid crystal device, and electronic equipment Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid crystal device in which uneven distribution of ionic impurities in a liquid crystal is suppressed and excellent display quality can be obtained, a method for manufacturing the liquid crystal device, and an electronic equipment having the liquid crystal device.SOLUTION: The liquid crystal device includes a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy held between a pair of substrates, and a display region E1 including a plurality of pixels. The liquid crystal device also includes: a first alignment layer formed on each of sides facing the liquid crystal layer of the pair of substrates in the display region E1, and subjected to substantially vertical alignment treatment in a first orientation direction θa; and a second alignment layer formed on each of the sides facing the liquid crystal layer of the pair of substrates in at least a part of a peripheral region E2 enclosing the display region E1, and subjected to a substantially vertical alignment treatment in a second orientation direction θd intersecting with the first orientation direction θa.

Description

本発明は、液晶装置、液晶装置の製造方法、電子機器に関する。   The present invention relates to a liquid crystal device, a method for manufacturing a liquid crystal device, and an electronic apparatus.

液晶装置は、一般的に配向処理が施された一対の基板間に液晶が注入封止された構造となっている。このような液晶装置の製造過程において、イオン性不純物が例えば液晶注入時に混入したり、液晶層を取り囲むシール材から溶出すると、表示領域に拡散・凝集して表示特性の劣化を招くことが知られている。   A liquid crystal device generally has a structure in which liquid crystal is injected and sealed between a pair of substrates subjected to an alignment treatment. In the manufacturing process of such a liquid crystal device, it is known that, for example, when ionic impurities are mixed during liquid crystal injection or are eluted from a sealing material surrounding the liquid crystal layer, they diffuse and aggregate in the display area, resulting in deterioration of display characteristics. ing.

このようなイオン性不純物に起因する表示特性の劣化を抑制することを目的として、例えば特許文献1には、一対の基板のうち、一方の基板は画素領域に形成された画素電極と、画素領域の周辺領域に形成された周辺電極とを含み、他方の基板は、該画素領域に形成された画素電極部と、該周辺領域に形成された周辺電極とを含み、少なくとも一方の周辺電極は隣接する複数の電極により構成され、該周辺電極の隣り合う電極間で印加する駆動電圧の電圧値が異なる液晶表示装置が開示されている。   For the purpose of suppressing degradation of display characteristics caused by such ionic impurities, for example, Patent Document 1 discloses that, out of a pair of substrates, one substrate is a pixel electrode formed in the pixel region, and the pixel region. A peripheral electrode formed in the peripheral region, and the other substrate includes a pixel electrode portion formed in the pixel region and a peripheral electrode formed in the peripheral region, and at least one peripheral electrode is adjacent There is disclosed a liquid crystal display device that includes a plurality of electrodes and that has different drive voltage values applied between adjacent electrodes of the peripheral electrode.

上記特許文献1の液晶表示装置によれば、上記周辺電極の隣接する電極間の電位を変化させることにより、該電極間に横方向の電界が生じ、液晶の微小な揺らぎによる流れに加えて、画素領域内のイオン性不純物を画素領域の外側に移動させることができ、イオン性不純物に起因する焼き付きなどの表示不良を防止できるとしている。   According to the liquid crystal display device of Patent Document 1, by changing the potential between adjacent electrodes of the peripheral electrode, a lateral electric field is generated between the electrodes, in addition to the flow caused by minute fluctuations of the liquid crystal, The ionic impurities in the pixel region can be moved to the outside of the pixel region, and display defects such as image sticking caused by the ionic impurities can be prevented.

また、特許文献2には、マトリクス状に配置された複数の表示画素からなる表示部に画像を表示させるために、液晶層に印加される最低電圧の大きさが1.2v以上である液晶表示装置が開示されている。
特許文献2の液晶表示装置によれば、上記最低電圧を規定することにより、イオン性不純物の流れ(フロー)が存在する部分と存在しない部分との境界近傍において焼き付きが発生することを防止できるとしている。つまり、液晶中のイオン性不純物の滞留を防止できるとしている。
Further, Patent Document 2 discloses a liquid crystal display in which the minimum voltage applied to the liquid crystal layer is 1.2 V or more in order to display an image on a display unit including a plurality of display pixels arranged in a matrix. An apparatus is disclosed.
According to the liquid crystal display device of Patent Document 2, it is possible to prevent image sticking from occurring in the vicinity of the boundary between the portion where the flow of ionic impurities is present and the portion where it does not exist by defining the minimum voltage. Yes. That is, the retention of ionic impurities in the liquid crystal can be prevented.

特開2008−58497号公報JP 2008-58497 A 特開2010−113148号公報JP 2010-113148 A

上記特許文献1あるいは特許文献2の液晶表示装置は、用いられる液晶の電気光学特性に応じた専用の駆動用ICなどの電子部品が必要となったり、駆動電圧(駆動波形)の調整が必要となり、製造コストの上昇、生産性の低下を招くおそれがあるという課題があった。   The liquid crystal display device of Patent Document 1 or Patent Document 2 described above requires electronic components such as a dedicated drive IC corresponding to the electro-optical characteristics of the liquid crystal used, and requires adjustment of the drive voltage (drive waveform). There is a problem that the manufacturing cost may increase and the productivity may decrease.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本適用例の液晶装置は、一対の基板間に挟持された負の誘電異方性の液晶層と、複数の画素を含む表示領域とを有する液晶装置であって、前記表示領域における前記一対の基板の前記液晶層に面する側のそれぞれに設けられ、第1方位角方向に略垂直配向処理が施されてなる第1配向膜と、前記表示領域を囲む周辺領域の少なくとも一部における前記一対の基板の前記液晶層に面する側のそれぞれに設けられ、前記第1方位角方向と交差する第2方位角方向に略垂直配向処理が施されてなる第2配向膜と、を備えることを特徴とする。   Application Example 1 A liquid crystal device according to this application example is a liquid crystal device having a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy sandwiched between a pair of substrates and a display region including a plurality of pixels. A first alignment film provided on each side of the pair of substrates facing the liquid crystal layer in the region and subjected to a substantially vertical alignment process in a first azimuth angle direction; and at least a peripheral region surrounding the display region A second alignment film provided on each side of the pair of substrates facing the liquid crystal layer and subjected to a substantially vertical alignment process in a second azimuth angle direction intersecting the first azimuth angle direction; It is characterized by providing.

この構成によれば、液晶中に含まれたイオン性不純物は表示領域において第1方位角方向に沿って移動するも、周辺領域では第1方位角方向と交差する第2方位角方向に移動するので、イオン性不純物が第1方位角方向に偏在することを抑制できる。それゆえに、イオン性不純物の偏在に起因する焼き付きなどの表示不良が低減された液晶装置を提供できる。   According to this configuration, the ionic impurities contained in the liquid crystal move along the first azimuth direction in the display region, but move in the second azimuth direction intersecting the first azimuth direction in the peripheral region. Therefore, it can suppress that an ionic impurity is unevenly distributed in a 1st azimuth angle direction. Therefore, it is possible to provide a liquid crystal device in which display defects such as image sticking due to uneven distribution of ionic impurities are reduced.

[適用例2]上記適用例の液晶装置において、前記第1配向膜は、前記第1方位角方向にカラムが傾斜した無機配向膜であり、前記第2配向膜は、前記第2方位角方向にカラムが傾斜した無機配向膜であることを特徴とする。
これによれば、無機配向膜は、有機配向膜に比べてイオン性不純物の偏在による表示不良が発生し易いので、無機配向膜を備えた液晶装置に対して適用することは特に有効である。
Application Example 2 In the liquid crystal device according to the application example, the first alignment film is an inorganic alignment film in which a column is inclined in the first azimuth angle direction, and the second alignment film is the second azimuth angle direction. It is an inorganic alignment film in which the column is inclined.
According to this, since the inorganic alignment film is more likely to cause display defects due to uneven distribution of ionic impurities than the organic alignment film, it is particularly effective to be applied to a liquid crystal device including the inorganic alignment film.

[適用例3]上記適用例の液晶装置において、前記表示領域は平面視で四角形であり、前記第1方位角方向は、前記表示領域の辺部に対して斜めに交差する方向であるとしてもよい。
これによれば、液晶中のイオン性不純物は表示領域における第1方位角方向の角部に向かって移動するが、その後は上記角部の周辺領域において第1方位角方向と交差する第2方位角方向に移動する。つまり、イオン性不純物が表示領域の第1方位角方向の角部に偏在することを低減できる。
Application Example 3 In the liquid crystal device according to the application example, the display area may be a quadrangle when seen in a plan view, and the first azimuth angle direction may be a direction that obliquely intersects a side portion of the display area. Good.
According to this, the ionic impurities in the liquid crystal move toward the corner portion in the first azimuth angle direction in the display region, but thereafter, the second azimuth intersecting the first azimuth angle direction in the peripheral region of the corner portion. Move in the angular direction. That is, it is possible to reduce uneven distribution of ionic impurities at the corners in the first azimuth angle direction of the display region.

[適用例4]上記適用例の液晶装置において、前記第1方位角方向は、前記表示領域の辺部に対して略45度の角度で交差し、前記第2方位角方向は、前記表示領域の辺部に対して平行とならない角度で前記第1方位角方向と交差していることが好ましい。
第2方位角方向が表示領域の辺部と平行していると、周辺領域に移動したイオン性不純物が周辺領域の角部に集中し易く、イオン性不純物の量が多いとその影響は表示領域の角部に及ぶおそれがある。これによれば、第2方位角方向は、表示領域の辺部に対して平行とならない角度で第1方位角方向と交差しているので、イオン性不純物が表示領域の第1方位角方向の角部に偏在することをより低減できる。
Application Example 4 In the liquid crystal device according to the application example described above, the first azimuth angle direction intersects the side of the display area at an angle of approximately 45 degrees, and the second azimuth angle direction corresponds to the display area. It is preferable that the first azimuth angle direction intersects at an angle that is not parallel to the side of the first azimuth.
When the second azimuth angle direction is parallel to the side of the display area, the ionic impurities that have moved to the peripheral area tend to concentrate on the corner of the peripheral area. There is a risk of reaching the corners. According to this, since the second azimuth angle direction intersects the first azimuth angle direction at an angle that is not parallel to the side portion of the display area, the ionic impurities are in the first azimuth direction of the display area. The uneven distribution at the corners can be further reduced.

[適用例5]上記適用例の液晶装置において、前記第2配向膜は、前記表示領域の前記第1方位角方向の角部に沿った前記周辺領域の部分に設けられており、前記表示領域の他の角部に沿った前記周辺領域の部分には、前記第1配向膜が設けられていることを特徴とする。
これによれば、表示領域の各角部におけるイオン性不純物の偏在をより低減できる。
Application Example 5 In the liquid crystal device according to the application example, the second alignment film is provided in a portion of the peripheral region along a corner of the display region in the first azimuth direction, and the display region The first alignment film is provided in a portion of the peripheral region along the other corner.
According to this, uneven distribution of ionic impurities at each corner of the display region can be further reduced.

[適用例6]上記適用例の液晶装置において、前記周辺領域には、駆動可能なダミー画素が設けられていることを特徴とする。
これによれば、画素の電気的な駆動に伴って液晶分子の配向が第1方位角方向において変化することで第1方位角方向の流れが生じ、液晶中のイオン性不純物は当該流れに沿って移動する。したがって、周辺領域にも駆動可能なダミー画素を設けておくことで、周辺領域に運ばれたイオン性不純物を第2方位角方向に積極的に移動させることができる。つまり、イオン性不純物の偏在をより効率的に抑制することができる。
Application Example 6 In the liquid crystal device according to the application example described above, drivable dummy pixels are provided in the peripheral region.
According to this, the flow of the first azimuth direction is caused by the change in the orientation of the liquid crystal molecules in the first azimuth direction as the pixel is electrically driven, and the ionic impurities in the liquid crystal follow the flow. Move. Therefore, by providing dummy pixels that can be driven in the peripheral region, ionic impurities carried to the peripheral region can be positively moved in the second azimuth direction. That is, uneven distribution of ionic impurities can be more efficiently suppressed.

[適用例7]本適用例の液晶装置の製造方法は、一対の基板間に挟持された負の誘電異方性の液晶層と、複数の画素を含む表示領域とを有する液晶装置の製造方法であって、前記一対の基板のそれぞれにおいて、前記表示領域に略垂直配向処理を第1方位角方向に施した第1配向膜を形成する第1配向膜形成工程と、前記表示領域を囲む周辺領域の少なくとも一部に前記略垂直配向処理を前記第1方位角方向と交差する第2方位角方向に施した第2配向膜を形成する第2配向膜形成工程と、を備えたことを特徴とする。   Application Example 7 A method for manufacturing a liquid crystal device according to this application example includes a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy sandwiched between a pair of substrates and a display region including a plurality of pixels. In each of the pair of substrates, a first alignment film forming step of forming a first alignment film in which a substantially vertical alignment process is performed on the display region in a first azimuth angle direction, and a periphery surrounding the display region And a second alignment film forming step of forming a second alignment film in which at least a part of the region is subjected to the substantially vertical alignment treatment in a second azimuth angle direction intersecting the first azimuth angle direction. And

この方法によれば、表示領域の第1配向膜と、周辺領域の第2配向膜とは共に略垂直配向処理が施されているものの、方位角方向が異なるので、液晶中に含まれたイオン性不純物が表示領域において第1方位角方向に沿って移動するも、周辺領域では第1方位角方向と交差する第2方位角方向に移動する。したがって、イオン性不純物が第1方位角方向に偏在することが抑制され、イオン性不純物の偏在に起因する焼き付きなどの表示不良が低減された液晶装置を製造することができる。   According to this method, although the first alignment film in the display region and the second alignment film in the peripheral region are both subjected to the substantially vertical alignment treatment, the azimuth angle direction is different, so that the ions contained in the liquid crystal Although the ionic impurities move along the first azimuth direction in the display region, they move in the second azimuth direction intersecting the first azimuth direction in the peripheral region. Therefore, uneven distribution of ionic impurities in the first azimuth angle direction is suppressed, and a liquid crystal device in which display defects such as image sticking due to uneven distribution of ionic impurities is reduced can be manufactured.

[適用例8]上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記第1配向膜形成工程は、前記第1方位角方向にカラムが傾斜した無機の前記第1配向膜を形成し、前記第2配向膜形成工程は、前記第2方位角方向にカラムが傾斜した無機の前記第2配向膜を形成することを特徴とする。
この方法によれば、無機配向膜は、有機配向膜に比べてイオン性不純物の偏在による表示不良が発生し易いので、無機配向膜の形成工程を備えた液晶装置の製造方法に対して適用することは特に有効である。
Application Example 8 In the method of manufacturing a liquid crystal device according to the application example, in the first alignment film forming step, the inorganic first alignment film in which a column is inclined in the first azimuth angle direction is formed, and the second alignment film is formed. In the alignment film forming step, the inorganic second alignment film having a column inclined in the second azimuth angle direction is formed.
According to this method, the inorganic alignment film is more likely to cause a display defect due to uneven distribution of ionic impurities than the organic alignment film, and is therefore applied to a method of manufacturing a liquid crystal device including an inorganic alignment film forming step. This is particularly effective.

[適用例9]上記適用例の液晶装置の製造方法において、前記第1配向膜形成工程は、前記第2配向膜形成工程の後に行われることが好ましい。
この方法によれば、表示領域に第1配向膜を形成した後に第2配向膜を形成する場合に比べて、表示領域に後から第2配向膜が回り込んで形成される不具合を防止して、表示領域における安定的な配向状態を確保できる。
Application Example 9 In the method for manufacturing a liquid crystal device according to the application example described above, it is preferable that the first alignment film formation step is performed after the second alignment film formation step.
According to this method, compared with the case where the second alignment film is formed after the first alignment film is formed in the display region, the problem that the second alignment film wraps around the display region later is prevented. A stable orientation state in the display area can be ensured.

[適用例10]本適用例の電子機器は、上記適用例の液晶装置を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、イオン性不純物の偏在による表示不良が低減され、優れた表示品質を有する電子機器を提供できる。
Application Example 10 An electronic apparatus according to this application example includes the liquid crystal device according to the application example described above.
According to this configuration, display defects due to uneven distribution of ionic impurities are reduced, and an electronic device having excellent display quality can be provided.

(a)は液晶装置の構成を示す概略平面図、(b)は(a)のH−H’線で切った概略断面図。(A) is a schematic plan view which shows the structure of a liquid crystal device, (b) is a schematic sectional drawing cut | disconnected by the H-H 'line | wire of (a). 液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram illustrating an electrical configuration of the liquid crystal device. (a)は液晶装置における無機配向膜の形成状態と液晶分子の配向状態とを示す概略断面図、(b)は液晶分子の挙動を示す概略図。(A) is a schematic sectional drawing which shows the formation state of the inorganic alignment film in a liquid crystal device, and the orientation state of a liquid crystal molecule, (b) is the schematic which shows the behavior of a liquid crystal molecule. (a)は表示領域と周辺領域との関係を示す概略平面図、(b)は周辺領域におけるダミー画素の配置の一例を示す要部拡大平面図。(A) is a schematic plan view which shows the relationship between a display area and a peripheral area, (b) is a principal part enlarged plan view which shows an example of arrangement | positioning of the dummy pixel in a peripheral area. 略垂直配向処理における方位角方向と表示ムラとの関係を示す概略平面図。The schematic plan view which shows the relationship between the azimuth angle direction and display nonuniformity in a substantially vertical alignment process. 液晶装置の製造方法を示すフローチャート。6 is a flowchart showing a method for manufacturing a liquid crystal device. 略垂直配向処理における方位角方向を示す概略平面図。The schematic plan view which shows the azimuth angle direction in a substantially vertical alignment process. 電子機器としての投射型表示装置の構成を示す概略図。Schematic which shows the structure of the projection type display apparatus as an electronic device. 変形例の略垂直配向処理の方法を示す概略平面図。The schematic plan view which shows the method of the substantially vertical alignment process of a modification.

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings to be used are appropriately enlarged or reduced so that the part to be described can be recognized.

なお、以下の形態において、「基板上に」と記載された場合、基板の上に接するように配置される場合、または基板の上に他の構成物を介して配置される場合、または基板の上に一部が接するように配置され、一部が他の構成物を介して配置される場合を表すものとする。   In the following embodiments, when “on the substrate” is described, the substrate is disposed so as to be in contact with the substrate, or is disposed on the substrate via another component, or the substrate. It is assumed that a part is arranged so as to be in contact with the upper part and a part is arranged via another component.

本実施形態では、薄膜トランジスター(Thin Film Transistor;TFT)を画素のスイッチング素子として備えたアクティブマトリクス型の液晶装置を例に挙げて説明する。この液晶装置は、例えば後述する投射型表示装置(液晶プロジェクター)の光変調素子(液晶ライトバルブ)として好適に用いることができるものである。   In the present embodiment, an active matrix liquid crystal device including a thin film transistor (TFT) as a pixel switching element will be described as an example. This liquid crystal device can be suitably used as, for example, a light modulation element (liquid crystal light valve) of a projection type display device (liquid crystal projector) described later.

<液晶装置>
まず、本実施形態の液晶装置について、図1および図2を参照して説明する。図1(a)は液晶装置の構成を示す概略平面図、同図(b)は同図(a)のH−H’線で切った概略断面図、図2は液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。
<Liquid crystal device>
First, the liquid crystal device of this embodiment will be described with reference to FIGS. 1A is a schematic plan view showing the configuration of the liquid crystal device, FIG. 1B is a schematic cross-sectional view taken along line HH ′ of FIG. 1A, and FIG. 2 is an electrical configuration of the liquid crystal device. FIG.

図1(a)および(b)に示すように、本実施形態の液晶装置100は、対向配置された素子基板10および対向基板20と、これら一対の基板によって挟持された液晶層50とを有する。素子基板10および対向基板20は、透明な例えば石英などのガラス基板が用いられている。   As shown in FIGS. 1A and 1B, a liquid crystal device 100 according to the present embodiment includes an element substrate 10 and a counter substrate 20 that are disposed to face each other, and a liquid crystal layer 50 that is sandwiched between the pair of substrates. . As the element substrate 10 and the counter substrate 20, a transparent glass substrate such as quartz is used.

素子基板10は対向基板20よりも一回り大きく、両基板は、額縁状に配置されたシール材40を介して接合され、その隙間に液晶が封入されて液晶層50を構成している。シール材40は、例えば熱硬化性または紫外線硬化性のエポキシ樹脂などの接着剤が採用されている。シール材40には、一対の基板の間隔を一定に保持するためのスペーサー(図示省略)が混入されている。   The element substrate 10 is slightly larger than the counter substrate 20, and both substrates are bonded via a sealing material 40 arranged in a frame shape, and liquid crystal is sealed in the gap to form a liquid crystal layer 50. For the sealing material 40, for example, an adhesive such as a thermosetting or ultraviolet curable epoxy resin is employed. A spacer (not shown) is mixed in the sealing material 40 to keep the distance between the pair of substrates constant.

額縁状に配置されたシール材40の内側には、同じく額縁状に遮光膜21が設けられている。遮光膜21は、例えば遮光性の金属あるいは金属酸化物などからなり、遮光膜21の内側が複数の画素Pを有する画素領域Eとなっている。なお、図1では図示省略したが、画素領域Eにおいても複数の画素Pを平面的に区分する遮光部が設けられている。   A light shielding film 21 is similarly provided in a frame shape inside the sealing material 40 arranged in a frame shape. The light shielding film 21 is made of, for example, a light shielding metal or metal oxide, and the inside of the light shielding film 21 is a pixel region E having a plurality of pixels P. Although not shown in FIG. 1, the pixel region E is also provided with a light-shielding portion that divides a plurality of pixels P in a plane.

素子基板10の1辺部に沿ったシール材40との間にデータ線駆動回路101が設けられている。また、該1辺部に対向する他の1辺部に沿ったシール材40の内側に検査回路103が設けられている。さらに、該1辺部と直交し互いに対向する他の2辺部に沿ったシール材40の内側に走査線駆動回路102が設けられている。該1辺部と対向する他の1辺部のシール材40の内側には、2つの走査線駆動回路102を繋ぐ複数の配線105が設けられている。これらデータ線駆動回路101、走査線駆動回路102に繋がる配線は、該1辺部に沿って配列した複数の外部接続端子104に接続されている。
以降、該1辺部に沿った方向をX方向とし、該1辺部と直交し互いに対向する他の2辺部に沿った方向をY方向として説明する。
A data line driving circuit 101 is provided between the element substrate 10 and the sealing material 40 along one side. Further, an inspection circuit 103 is provided inside the sealing material 40 along the other one side facing the one side. Further, a scanning line driving circuit 102 is provided inside the sealing material 40 along the other two sides orthogonal to the one side and facing each other. A plurality of wirings 105 that connect the two scanning line driving circuits 102 are provided inside the sealing material 40 on the other side facing the one side. Wirings connected to the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 102 are connected to a plurality of external connection terminals 104 arranged along the one side.
Hereinafter, the direction along the one side will be referred to as the X direction, and the direction along the other two sides orthogonal to the one side and facing each other will be described as the Y direction.

図1(b)に示すように、素子基板10の液晶層50側の表面には、画素Pごとに設けられた光透過性を有する画素電極15およびスイッチング素子としての薄膜トランジスター(TFT;Thin Film Transistor)30と、信号配線と、これらを覆う配向膜18とが形成されている。
また、TFT30における半導体層に光が入射して光リーク電流が流れ、不適切なスイッチング動作となることを防ぐ遮光構造が採用されている。
As shown in FIG. 1B, on the surface of the element substrate 10 on the liquid crystal layer 50 side, a light-transmitting pixel electrode 15 provided for each pixel P and a thin film transistor (TFT; Thin Film) as a switching element. Transistor) 30, signal wiring, and an alignment film 18 covering these are formed.
Further, a light shielding structure is employed that prevents light from entering the semiconductor layer in the TFT 30 and causing a light leakage current to flow, resulting in an inappropriate switching operation.

対向基板20の液晶層50側の表面には、遮光膜21と、これを覆うように成膜された層間膜層22と、層間膜層22を覆うように設けられた共通電極23と、共通電極23を覆う配向膜24とが設けられている。   On the surface of the counter substrate 20 on the liquid crystal layer 50 side, a light shielding film 21, an interlayer film layer 22 formed so as to cover the light shielding film 21, and a common electrode 23 provided so as to cover the interlayer film layer 22 are shared. An alignment film 24 covering the electrode 23 is provided.

遮光膜21は、図1(a)に示すように平面的にデータ線駆動回路101や走査線駆動回路102、検査回路103と重なる位置において額縁状に設けられている。これにより対向基板20側から入射する光を遮蔽して、これらの駆動回路を含む周辺回路の光による誤動作を防止する役目を果たしている。また、不必要な迷光が画素領域Eに入射しないように遮蔽して、画素領域Eの表示における高いコントラストを確保している。   As shown in FIG. 1A, the light shielding film 21 is provided in a frame shape at a position where the data line driving circuit 101, the scanning line driving circuit 102, and the inspection circuit 103 overlap in plan view. Thus, the light incident from the counter substrate 20 side is shielded, and the malfunction of the peripheral circuits including these drive circuits due to the light is prevented. Further, unnecessary stray light is shielded from entering the pixel region E to ensure high contrast in the display of the pixel region E.

層間膜層22は、例えば酸化シリコンなどの無機材料からなり、光透過性を有して遮光膜21を覆うように設けられている。このような層間膜層22の形成方法としては、例えばプラズマCVD法などを用いて成膜する方法が挙げられる。   The interlayer film layer 22 is made of an inorganic material such as silicon oxide, for example, and is provided so as to cover the light shielding film 21 with light transmittance. Examples of a method for forming such an interlayer film layer 22 include a method of forming a film using a plasma CVD method or the like.

共通電極23は、例えばITOなどの透明導電膜からなり、層間膜層22を覆うと共に、図1(a)に示すように対向基板20の四隅に設けられた上下導通部106により素子基板10側の配線に電気的に接続している。   The common electrode 23 is made of, for example, a transparent conductive film such as ITO, and covers the interlayer film layer 22 and, as shown in FIG. 1A, the element substrate 10 side by the vertical conduction parts 106 provided at the four corners of the counter substrate 20. It is electrically connected to the wiring.

画素電極15を覆う配向膜18および共通電極23を覆う配向膜24は、液晶装置100の光学設計に基づいて選定される。本実施形態では、負の誘電異方性を有する液晶分子が配向膜面に対してプレチルト角を有して略垂直配向するように施されたものであって、例えば、SiOx(酸化シリコン)などの無機材料を物理気相成長法を用いて成膜した無機配向膜が用いられている。物理気相成長法としては、無機材料を真空中で気化して被成膜物上に到達させ成膜する、真空蒸着法、真空スパッタ法などが挙げられる。無機配向膜の形成方法や液晶分子の詳しい配向状態については後述する。   The alignment film 18 covering the pixel electrode 15 and the alignment film 24 covering the common electrode 23 are selected based on the optical design of the liquid crystal device 100. In the present embodiment, the liquid crystal molecules having negative dielectric anisotropy are applied so as to be substantially vertically aligned with a pretilt angle with respect to the alignment film surface, such as SiOx (silicon oxide). An inorganic alignment film formed by using a physical vapor deposition method is used. Examples of the physical vapor deposition method include a vacuum vapor deposition method and a vacuum sputtering method in which an inorganic material is vaporized in a vacuum and reaches a film-forming object to form a film. The method for forming the inorganic alignment film and the detailed alignment state of the liquid crystal molecules will be described later.

また、本実施形態では、画素領域Eは実効的な表示がなされる表示領域と表示領域を囲む周辺領域とを含むものである。さらには、表示領域と周辺領域とにおける略垂直配向処理の方位角方向が異なっている。このような配向膜18,24の形成方法については後述する。   In the present embodiment, the pixel area E includes a display area where effective display is performed and a peripheral area surrounding the display area. Furthermore, the azimuth angle direction of the substantially vertical alignment process is different between the display area and the peripheral area. A method of forming such alignment films 18 and 24 will be described later.

図2に示すように、液晶装置100は、少なくとも画素領域Eにおいて互いに絶縁されて直交する信号線としての複数の走査線3aおよび複数のデータ線6aと、データ線6a沿って平行するように配置された容量線3bとを有する。
走査線3aが延在する方向がX方向であり、データ線6aが延在する方向がY方向である。
As shown in FIG. 2, the liquid crystal device 100 is disposed so as to be parallel to the plurality of scanning lines 3 a and the plurality of data lines 6 a as signal lines that are insulated and orthogonal to each other at least in the pixel region E along the data lines 6 a. Capacitance line 3b.
The direction in which the scanning line 3a extends is the X direction, and the direction in which the data line 6a extends is the Y direction.

走査線3aとデータ線6aならびに容量線3bと、これらの信号線類により区分された領域に、画素電極15と、TFT30と、保持容量16とが設けられ、これらが画素Pの画素回路を構成している。   A pixel electrode 15, a TFT 30, and a storage capacitor 16 are provided in a region divided by the scanning line 3a, the data line 6a, the capacitor line 3b, and these signal lines, and these constitute a pixel circuit of the pixel P. is doing.

走査線3aはTFT30のゲートに電気的に接続され、データ線6aはTFT30のソースに電気的に接続されている。画素電極15はTFT30のドレインに電気的に接続されている。
データ線6aはデータ線駆動回路101(図1参照)に接続されており、データ線駆動回路101から供給される画像信号D1,D2,…,Dnを画素Pに供給する。走査線3aは走査線駆動回路102(図1参照)に接続されており、走査線駆動回路102から供給される走査信号SC1,SC2,…,SCmを各画素Pに供給する。データ線駆動回路101からデータ線6aに供給される画像信号D1〜Dnは、この順に線順次で供給してもよく、互いに隣接する複数のデータ線6a同士に対してグループごとに供給してもよい。走査線駆動回路102は、走査線3aに対して、走査信号SC1〜SCmを所定のタイミングでパルス的に線順次で供給する。
The scanning line 3 a is electrically connected to the gate of the TFT 30, and the data line 6 a is electrically connected to the source of the TFT 30. The pixel electrode 15 is electrically connected to the drain of the TFT 30.
The data line 6a is connected to the data line driving circuit 101 (see FIG. 1), and supplies image signals D1, D2,..., Dn supplied from the data line driving circuit 101 to the pixels P. The scanning line 3a is connected to a scanning line driving circuit 102 (see FIG. 1), and supplies scanning signals SC1, SC2,..., SCm supplied from the scanning line driving circuit 102 to each pixel P. The image signals D1 to Dn supplied from the data line driving circuit 101 to the data lines 6a may be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied for each of a plurality of adjacent data lines 6a for each group. Good. The scanning line driving circuit 102 supplies the scanning signals SC1 to SCm to the scanning line 3a in a pulse-sequential manner at a predetermined timing.

液晶装置100は、スイッチング素子であるTFT30が走査信号SC1〜SCmの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線6aから供給される画像信号D1〜Dnが所定のタイミングで画素電極15に書き込まれる構成となっている。そして、画素電極15を介して液晶層50に書き込まれた所定レベルの画像信号D1〜Dnは、画素電極15と液晶層50を介して対向配置された共通電極23との間で一定期間保持される。
保持された画像信号D1〜Dnがリークするのを防止するため、画素電極15と共通電極23との間に形成される液晶容量と並列に保持容量16が接続されている。保持容量16は、TFT30のドレインと容量線3bとの間に設けられている。容量線3bは、固定電位に接続されている。固定電位としては例えばGNDや共通電極23に与えられる共通電位(LCCOM)である。
In the liquid crystal device 100, the TFT 30 that is a switching element is turned on for a certain period by the input of the scanning signals SC1 to SCm, so that the image signals D1 to Dn supplied from the data line 6a are supplied to the pixel electrode 15 at a predetermined timing. It is the structure written in. The predetermined level of image signals D1 to Dn written to the liquid crystal layer 50 via the pixel electrode 15 is held for a certain period between the pixel electrode 15 and the common electrode 23 arranged to face each other via the liquid crystal layer 50. The
In order to prevent the held image signals D1 to Dn from leaking, the holding capacitor 16 is connected in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 15 and the common electrode 23. The storage capacitor 16 is provided between the drain of the TFT 30 and the capacitor line 3b. The capacitor line 3b is connected to a fixed potential. The fixed potential is, for example, a common potential (LCCOM) applied to GND or the common electrode 23.

なお、図1(a)に示した検査回路103には、データ線6aが接続されており、液晶装置100の製造過程において、上記画像信号を検出することで液晶装置100の動作欠陥などを確認できる構成となっているが、図2の等価回路では省略している。また、検査回路103は、上記画像信号をサンプリングしてデータ線6aに供給するサンプリング回路、データ線6aに所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して供給するプリチャージ回路を含むものとしてもよい。   Note that a data line 6a is connected to the inspection circuit 103 shown in FIG. 1A, and an operation defect or the like of the liquid crystal device 100 is confirmed by detecting the image signal in the manufacturing process of the liquid crystal device 100. Although it can be configured, it is omitted in the equivalent circuit of FIG. The inspection circuit 103 includes a sampling circuit that samples the image signal and supplies it to the data line 6a, and a precharge circuit that supplies a precharge signal of a predetermined voltage level to the data line 6a prior to the image signal. Also good.

このような液晶装置100は透過型であって、画素Pが非駆動時に明表示となるノーマリーホワイトモードや、非駆動時に暗表示となるノーマリーブラックモードの光学設計が採用される。光の入射側と射出側とにそれぞれ偏光素子が光学設計に応じて配置されて用いられる。   Such a liquid crystal device 100 is a transmission type, and adopts an optical design of a normally white mode in which the pixel P is brightly displayed when not driven and a normally black mode in which the pixel P is darkly displayed when not driven. Polarizing elements are arranged and used according to the optical design on the light incident side and the light exit side, respectively.

次に、液晶装置100における液晶分子の配向状態について、図3を参照して説明する。図3(a)は液晶装置における無機配向膜の形成状態と液晶分子の配向状態とを示す概略断面図、同図(b)は液晶分子の挙動を示す概略図である。
図3(a)に示すように、液晶装置100における画素電極15および共通電極23の表面には、酸化シリコンを物理気相成長法の一例である真空蒸着法により斜め蒸着して得られた配向膜18および配向膜24が形成されている。具体的には、液晶層50に面した基板面に対する蒸着方向の角度θbはおよそ45°である。このような斜め蒸着により基板面には蒸着方向に向って酸化シリコンの結晶体が柱状に成長する。この柱状結晶体をカラム18a,24aと呼ぶ。配向膜18,24はこのようなカラム18a,24aの集合体である。また、基板面に対するカラム18a,24aの成長方向の角度θcは蒸着方向の角度θbと必ずしも一致せず、この場合およそ70°となっている。
Next, the alignment state of the liquid crystal molecules in the liquid crystal device 100 will be described with reference to FIG. FIG. 3A is a schematic sectional view showing the formation state of the inorganic alignment film and the alignment state of the liquid crystal molecules in the liquid crystal device, and FIG. 3B is a schematic view showing the behavior of the liquid crystal molecules.
As shown in FIG. 3A, the orientation obtained by obliquely depositing silicon oxide on the surfaces of the pixel electrode 15 and the common electrode 23 in the liquid crystal device 100 by vacuum vapor deposition which is an example of physical vapor deposition. A film 18 and an alignment film 24 are formed. Specifically, the angle θb of the vapor deposition direction with respect to the substrate surface facing the liquid crystal layer 50 is approximately 45 °. By such oblique vapor deposition, silicon oxide crystals grow in a columnar shape on the substrate surface in the vapor deposition direction. These columnar crystals are called columns 18a and 24a. The alignment films 18 and 24 are aggregates of such columns 18a and 24a. Further, the angle θc in the growth direction of the columns 18a and 24a with respect to the substrate surface does not necessarily coincide with the angle θb in the vapor deposition direction, and in this case, is approximately 70 °.

このような配向膜18,24の表面において略垂直配向する液晶分子LCのプレチルト角θpはおよそ85°である。また、基板面の法線方向から見た液晶分子LCのプレチルトの方向すなわち方位角方向は、配向膜18,24における斜め蒸着の平面的な蒸着方向と同じである。略垂直配向処理の上記方位角方向は、液晶装置100の光学設計条件に基づいて適宜設定される。   The pretilt angle θp of the liquid crystal molecules LC that are substantially vertically aligned on the surfaces of the alignment films 18 and 24 is about 85 °. Further, the pretilt direction of the liquid crystal molecules LC viewed from the normal direction of the substrate surface, that is, the azimuth angle direction, is the same as the planar deposition direction of the oblique deposition in the alignment films 18 and 24. The azimuth angle direction of the substantially vertical alignment process is appropriately set based on the optical design conditions of the liquid crystal device 100.

対向配置された素子基板10および対向基板20ならびにこれら一対の基板間に挟持された液晶層50を含めたものを液晶パネル110と呼ぶ。液晶装置100は、液晶パネル110の光の入射側と射出側とにそれぞれ配置された偏光素子41,42を有して用いられる。また、偏光素子41,42は、偏光素子41,42のうちの一方の透過軸または吸収軸がX方向またはY方向に対して平行となるように、且つ互いの透過軸または吸収軸が直交するように液晶パネル110に対してそれぞれ配置されている。   A device including the element substrate 10 and the counter substrate 20 arranged to face each other and the liquid crystal layer 50 sandwiched between the pair of substrates is referred to as a liquid crystal panel 110. The liquid crystal device 100 is used with polarizing elements 41 and 42 disposed on the light incident side and the light exit side of the liquid crystal panel 110, respectively. Further, the polarizing elements 41 and 42 are such that one transmission axis or absorption axis of the polarizing elements 41 and 42 is parallel to the X direction or the Y direction, and the transmission axes or absorption axes thereof are orthogonal to each other. In this manner, the liquid crystal panel 110 is disposed.

本実施形態では、表示領域において偏光素子41,42の透過軸または吸収軸に対して液晶分子LCのプレチルトの方位角が45°で交差するように略垂直配向処理が施されている。したがって、図3(b)に示すように画素電極15と共通電極23との間に駆動電圧を印加して液晶層50を駆動すると、液晶分子LCがプレチルトの方位角方向に倒れることにより、高い透過率が得られる光学的な配置となっている。液晶層50の駆動(ON/OFF)を繰り返すと、液晶分子LCはプレチルトの方位角方向に倒れたり、初期の配向状態に戻ったりする挙動を繰り返す。このような液晶分子LCの挙動が起る略垂直配向処理を1軸の略垂直配向処理という。   In the present embodiment, a substantially vertical alignment process is performed in the display region so that the azimuth angle of the pretilt of the liquid crystal molecules LC intersects with the transmission axis or absorption axis of the polarizing elements 41 and 42 at 45 °. Therefore, as shown in FIG. 3B, when the liquid crystal layer 50 is driven by applying a driving voltage between the pixel electrode 15 and the common electrode 23, the liquid crystal molecules LC are tilted in the azimuth direction of the pretilt. An optical arrangement is obtained to obtain transmittance. When driving (ON / OFF) of the liquid crystal layer 50 is repeated, the liquid crystal molecules LC repeatedly behave in the direction of the pretilt azimuth or return to the initial alignment state. Such a substantially vertical alignment treatment in which the behavior of the liquid crystal molecules LC occurs is referred to as a uniaxial substantially vertical alignment treatment.

なお、液晶パネル110に対する光の入射方向は、図3(a)に示すように素子基板10側から入射することに限定されない。また、光の入射側または射出側に位相差板などの光学補償素子を備える構成としてもよい。   In addition, the incident direction of the light with respect to the liquid crystal panel 110 is not limited to entering from the element substrate 10 side, as shown to Fig.3 (a). In addition, an optical compensation element such as a phase difference plate may be provided on the light incident side or the light emitting side.

図4(a)は表示領域と周辺領域との関係を示す概略平面図、同図(b)は周辺領域におけるダミー画素の配置の一例を示す要部拡大平面図である。   FIG. 4A is a schematic plan view showing the relationship between the display area and the peripheral area, and FIG. 4B is an enlarged plan view of a main part showing an example of the arrangement of dummy pixels in the peripheral area.

図4(a)に示すように、液晶装置100における画素領域Eは、実効的な表示がなされる表示領域E1とこれを取り囲む周辺領域E2とにより構成されている。   As shown in FIG. 4A, the pixel area E in the liquid crystal device 100 includes a display area E1 where effective display is performed and a peripheral area E2 surrounding the display area E1.

図4(b)に示すように、表示領域E1には画素P1がマトリクス状に配置されている。周辺領域E2には、表示領域E1を取り囲むようにX方向に複数のダミー画素P2からなる列が3列配置され、Y方向に複数のダミー画素P2からなる行が3行配置されている。画素P1およびダミー画素P2は、共に前述した画素Pの電気的な構成を備えるものであって、それぞれに与えられた信号によって駆動することができる。なお、周辺領域E2におけるダミー画素P2の配置数は、これに限定されるものではない。   As shown in FIG. 4B, pixels P1 are arranged in a matrix in the display area E1. In the peripheral area E2, three columns of a plurality of dummy pixels P2 are arranged in the X direction so as to surround the display area E1, and three rows of a plurality of dummy pixels P2 are arranged in the Y direction. Both the pixel P1 and the dummy pixel P2 have the electrical configuration of the pixel P described above, and can be driven by a signal given thereto. Note that the number of dummy pixels P2 arranged in the peripheral region E2 is not limited to this.

図5は略垂直配向処理における方位角方向と表示ムラとの関係を示す概略平面図である。図5に示すように、表示領域E1において1軸の略垂直配向処理の方位角方向をY方向となす方位角θaが45°となるように設定する。具体的には、破線で示した矢印方向が素子基板10に対する斜め蒸着の方向であり、右上から左下に向かう方向である。一方、実線で示した矢印方向が素子基板10に対向配置される対向基板20に対する斜め蒸着の方向であり、左下から右上に向かう方向である(図3参照)。このような表示領域E1における方位角方向を方位角θaをそのまま利用して第1方位角方向θaと呼ぶこともある。   FIG. 5 is a schematic plan view showing the relationship between the azimuth angle direction and display unevenness in the substantially vertical alignment process. As shown in FIG. 5, in the display area E1, an azimuth angle θa that makes the azimuth angle direction of the uniaxial substantially vertical alignment process the Y direction is set to 45 °. Specifically, an arrow direction indicated by a broken line is a direction of oblique deposition with respect to the element substrate 10 and is a direction from the upper right to the lower left. On the other hand, the arrow direction indicated by the solid line is the direction of oblique vapor deposition with respect to the counter substrate 20 disposed to face the element substrate 10, and is the direction from the lower left to the upper right (see FIG. 3). Such an azimuth angle direction in the display area E1 may be referred to as a first azimuth angle direction θa using the azimuth angle θa as it is.

このような第1方位角方向θaによれば、液晶層50つまり前述した画素P1(図4(b)参照)を駆動することにより、基板面に対して略垂直配向した液晶分子LCが第1方位角方向θaに振られる挙動を示す。これにより、第1方位角方向θaに向かう液晶分子LCの挙動すなわち流れ(フロー)が生じて、液晶中に含まれたイオン性不純物はこの流れ(フロー)に沿って液晶中を移動し、やがて第1方位角方向θaに位置する表示領域E1の角部に運ばれてイオン性不純物の偏在が生ずる。そうすると、図5に示すように表示領域E1の角部においてイオン性不純物の偏在に起因する例えば焼き付きや輝度ムラなどの表示ムラが発生する。
なお、第1方位角方向θaが45°とは、図5に示すように右上がり45°だけでなく、右下がり45°でもよく、その場合には図5において表示領域E1の左上と右下の角部に表示ムラが発生する。
According to the first azimuth angle direction θa, the liquid crystal layer 50, that is, the pixel P1 (see FIG. 4B) described above is driven, so that the liquid crystal molecules LC aligned substantially perpendicular to the substrate surface are first. The behavior swung in the azimuth angle direction θa is shown. As a result, the behavior of the liquid crystal molecules LC toward the first azimuth angle direction θa, that is, the flow (flow) occurs, and the ionic impurities contained in the liquid crystal move in the liquid crystal along this flow (flow). It is carried to the corner of the display area E1 located in the first azimuth angle direction θa and uneven distribution of ionic impurities occurs. Then, as shown in FIG. 5, display unevenness such as image sticking and brightness unevenness due to uneven distribution of ionic impurities occurs at the corners of the display region E1.
Note that the first azimuth angle direction θa of 45 ° may be 45 ° to the right as well as 45 ° to the right as shown in FIG. 5. In this case, the upper left and lower right of the display area E1 in FIG. Display unevenness occurs at the corners.

本実施形態では、表示領域E1と周辺領域E2とにおいて略垂直配向処理の方位角方向を異ならせることにより、表示領域E1の角部に運ばれるイオン性不純物を周辺領域E2において第1方位角方向θaとは異なる方向に移動させる。これにより、このような表示領域E1の角部におけるイオン性不純物の偏在を抑制し、表示ムラを低減している。より具体的な略垂直配向処理の方法については、以降の液晶装置の製造方法において説明する。   In the present embodiment, by changing the azimuth angle direction of the substantially vertical alignment process between the display area E1 and the peripheral area E2, the ionic impurities carried to the corner of the display area E1 are changed in the first azimuth angle direction in the peripheral area E2. It is moved in a direction different from θa. Thereby, uneven distribution of ionic impurities at the corners of the display region E1 is suppressed, and display unevenness is reduced. A more specific method of the substantially vertical alignment treatment will be described in the following liquid crystal device manufacturing method.

<液晶装置の製造方法>
次に、本実施形態の液晶装置100の製造方法について、図6および図7を参照して説明する。図6は液晶装置の製造方法を示すフローチャート、図7は略垂直配向処理における方位角方向を示す概略平面図である。
<Method for manufacturing liquid crystal device>
Next, a method for manufacturing the liquid crystal device 100 of the present embodiment will be described with reference to FIGS. FIG. 6 is a flowchart showing a method for manufacturing a liquid crystal device, and FIG. 7 is a schematic plan view showing an azimuth direction in a substantially vertical alignment process.

図6に示すように、本実施形態の液晶装置100の製造方法は、素子基板10側における製造工程を示す、画素形成工程(ステップS1)と、第2配向膜形成工程(ステップS2)と、第1配向膜形成工程(ステップS3)とを備えている。また、対向基板20側における製造工程を示す、対向電極形成工程(ステップS4)と、第2配向膜形成工程(ステップS5)と、第1配向膜形成工程(ステップS6)とを備えている。そして、それぞれに配向膜が形成された素子基板10と対向基板20との間に液晶を注入・封止する液晶注入・封止工程(ステップS7)を備えている。   As shown in FIG. 6, the manufacturing method of the liquid crystal device 100 of the present embodiment includes a pixel forming process (step S1), a second alignment film forming process (step S2), and a manufacturing process on the element substrate 10 side. A first alignment film forming step (step S3). In addition, a counter electrode forming process (step S4), a second alignment film forming process (step S5), and a first alignment film forming process (step S6), which show manufacturing processes on the counter substrate 20 side, are provided. Then, a liquid crystal injection / sealing step (step S7) for injecting and sealing liquid crystal between the element substrate 10 and the counter substrate 20 each having an alignment film formed thereon is provided.

まず、ステップS1の画素形成工程では、素子基板10に走査線3aとデータ線6aならびに容量線3bと、これらの信号線類により区分された領域に、画素電極15と、TFT30と、保持容量16とを形成する。このような画素回路を形成する方法としては、公知の方法を採用することができる。また、このような画素回路は、表示領域E1においては画素P1として機能し、周辺領域E2ではダミー画素P2として機能するように形成される。つまり、画素形成工程は、ダミー画素P2を形成する工程を含むものである。そして、ステップS2へ進む。   First, in the pixel formation process of step S1, the pixel electrode 15, the TFT 30, and the storage capacitor 16 are arranged in a region partitioned by the scanning line 3a, the data line 6a, the capacitor line 3b, and these signal lines on the element substrate 10. And form. As a method for forming such a pixel circuit, a known method can be employed. Further, such a pixel circuit is formed so as to function as the pixel P1 in the display area E1 and to function as the dummy pixel P2 in the peripheral area E2. That is, the pixel forming process includes a process of forming the dummy pixel P2. Then, the process proceeds to step S2.

ステップS2の第2配向膜形成工程では、図7に示すように、素子基板10の周辺領域E2に対して第2方位角方向θdの略垂直配向処理を施す。具体的には、素子基板10の表示領域E1を例えばマスクなどで遮蔽した状態で、周辺領域E2に第1方位角方向θaに対して交差する第2方位角方向θdから酸化シリコンを斜め蒸着する。より具体的には、素子基板10における略垂直配向処理面を上にしたときに、図面上で右下から左上に向かう45°の方向または左上から右下に向かう45°の方向から斜め蒸着する。つまり、第1方位角方向θaと第2方位角方向θdとは直交することになる。これにより、素子基板10の周辺領域E2には第2方位角方向θdの略垂直配向処理が施された第2配向膜(無機配向膜)が形成される。そして、ステップS3へ進む。   In the second alignment film forming step in step S2, as shown in FIG. 7, a substantially vertical alignment process in the second azimuth angle direction θd is performed on the peripheral region E2 of the element substrate 10. Specifically, silicon oxide is obliquely deposited from the second azimuth angle direction θd intersecting the first azimuth angle direction θa to the peripheral area E2 in a state where the display area E1 of the element substrate 10 is shielded by, for example, a mask. . More specifically, when the substantially vertical alignment processing surface of the element substrate 10 is turned upward, oblique deposition is performed from a 45 ° direction from the lower right to the upper left or a 45 ° direction from the upper left to the lower right in the drawing. . That is, the first azimuth angle direction θa and the second azimuth angle direction θd are orthogonal to each other. As a result, a second alignment film (inorganic alignment film) subjected to the substantially vertical alignment process in the second azimuth angle direction θd is formed in the peripheral region E2 of the element substrate 10. Then, the process proceeds to step S3.

ステップS3の第1配向膜形成工程では、同じく図7に示すように、素子基板10の表示領域E1に対して第1方位角方向θaの略垂直配向処理を施す。具体的には、素子基板10の周辺領域E2を例えばマスクなどで遮蔽した状態で、表示領域E1に第1方位角方向θaから酸化シリコンを斜め蒸着する。より具体的には、素子基板10における略垂直配向処理面を上にしたときに、図面上で右上から左下に向かう45°の方向から斜め蒸着する。これにより、素子基板10の表示領域E1には第1方位角方向θaの略垂直配向処理が施された第1配向膜(無機配向膜)つまり配向膜18(図3(a)参照)が形成される。そして、ステップS4へ進む。   In the first alignment film forming step of step S3, as shown in FIG. 7, a substantially vertical alignment process in the first azimuth angle direction θa is performed on the display region E1 of the element substrate 10. Specifically, silicon oxide is obliquely evaporated from the first azimuth angle direction θa to the display region E1 in a state where the peripheral region E2 of the element substrate 10 is shielded by, for example, a mask. More specifically, when the substantially vertical alignment processing surface of the element substrate 10 is turned upward, the oblique deposition is performed from a 45 ° direction from the upper right to the lower left in the drawing. As a result, a first alignment film (inorganic alignment film), that is, an alignment film 18 (see FIG. 3A) that has been subjected to a substantially vertical alignment process in the first azimuth angle direction θa is formed in the display region E1 of the element substrate 10. Is done. Then, the process proceeds to step S4.

ステップS4の対向電極形成工程では、対向基板20の液晶層50に面する側に共通電極23を形成する。具体的には、ITOなどの透明導電膜を例えばスパッタ法により成膜してパターニングすることにより共通電極23を形成する。なお、遮光膜21と、これを覆う層間膜層22の形成方法は公知の方法を用いることができる。そして、ステップS5へ進む。   In the counter electrode forming step of step S4, the common electrode 23 is formed on the side of the counter substrate 20 facing the liquid crystal layer 50. Specifically, the common electrode 23 is formed by patterning a transparent conductive film such as ITO by sputtering, for example. A known method can be used for forming the light shielding film 21 and the interlayer film layer 22 covering the light shielding film 21. Then, the process proceeds to step S5.

ステップS5の第2配向膜形成工程では、素子基板10と同様にして、図7に示すように、対向基板20の周辺領域E2に対して第2方位角方向θdの略垂直配向処理を施す。具体的には、対向基板20の表示領域E1を例えばマスクなどで遮蔽した状態で、周辺領域E2に第1方位角方向θaに対して交差する第2方位角方向θdから酸化シリコンを斜め蒸着する。より具体的には、対向基板20における略垂直配向処理面を下にしたときに、図面上で右下から左上に向かう45°の方向または左上から右下に向かう45°の方向から斜め蒸着する。つまり、第1方位角方向θaと第2方位角方向θdとは直交することになる。これにより、対向基板20の周辺領域E2には第2方位角方向θdの略垂直配向処理が施された第2配向膜(無機配向膜)が形成される。そして、ステップS6へ進む。   In the second alignment film forming step of step S5, as in the element substrate 10, as shown in FIG. 7, a substantially vertical alignment process in the second azimuth angle direction θd is performed on the peripheral region E2 of the counter substrate 20. Specifically, silicon oxide is obliquely deposited from the second azimuth angle direction θd intersecting the first azimuth angle direction θa in the peripheral area E2 in a state where the display area E1 of the counter substrate 20 is shielded by, for example, a mask. . More specifically, when the substantially vertical alignment processing surface of the counter substrate 20 is turned down, oblique deposition is performed from a 45 ° direction from the lower right to the upper left or a 45 ° direction from the upper left to the lower right in the drawing. . That is, the first azimuth angle direction θa and the second azimuth angle direction θd are orthogonal to each other. As a result, a second alignment film (inorganic alignment film) subjected to the substantially vertical alignment process in the second azimuth angle direction θd is formed in the peripheral region E2 of the counter substrate 20. Then, the process proceeds to step S6.

ステップS6の第1配向膜形成工程では、素子基板10と同様にして、図7に示すように、対向基板20の表示領域E1に対して第1方位角方向θaの略垂直配向処理を施す。具体的には、対向基板20の周辺領域E2を例えばマスクなどで遮蔽した状態で、表示領域E1に第1方位角方向θaから酸化シリコンを斜め蒸着する。より具体的には、対向基板20における略垂直配向処理面を下にしたときに、図面上で左下から右上に向かう45°の方向から斜め蒸着する。これにより、対向基板20の表示領域E1には第1方位角方向θaの略垂直配向処理が施された第1配向膜(無機配向膜)つまり配向膜24(図3(a)参照)が形成される。そして、ステップS7へ進む。   In the first alignment film formation step of step S6, as in the element substrate 10, as shown in FIG. 7, a substantially vertical alignment process in the first azimuth angle direction θa is performed on the display region E1 of the counter substrate 20. Specifically, silicon oxide is obliquely evaporated from the first azimuth angle direction θa to the display region E1 in a state where the peripheral region E2 of the counter substrate 20 is shielded by, for example, a mask. More specifically, when the substantially vertical alignment processing surface of the counter substrate 20 is turned down, oblique deposition is performed from a 45 ° direction from the lower left to the upper right in the drawing. As a result, a first alignment film (inorganic alignment film), that is, an alignment film 24 (see FIG. 3A) that has been subjected to a substantially vertical alignment process in the first azimuth angle direction θa is formed in the display region E1 of the counter substrate 20. Is done. Then, the process proceeds to step S7.

ステップS7の液晶注入・封止工程では、略垂直配向処理がそれぞれ施された素子基板10と対向基板20のうちいずれか一方にシール材40を例えば印刷法や吐出法を用いて所定の位置に配置する。素子基板10と対向基板20とを所定の間隔をおいて対向配置してシール材40を硬化させる。そして、素子基板10と対向基板20との隙間に負の誘電異方性を有する液晶を注入する。液晶の注入方法としては、例えば素子基板10と対向基板20との隙間を減圧してシール材40に設けられた注入口から液晶を該隙間に注入する真空注入法が挙げられる。シール材40に設けられた注入口は液晶注入後に例えば紫外線硬化型の接着剤を用いて封止される。なお、液晶の注入・封止方法としてはこれに限定されず、シール材40を額縁状に配置してこれを土手とし、シール材40で囲まれた内側に減圧下で液晶を滴下した後に素子基板10と対向基板20とを貼り合わせる、所謂ODF(One Drop Fill)法を用いてもよい。   In the liquid crystal injection / sealing process in step S7, the sealing material 40 is placed at a predetermined position using, for example, a printing method or a discharging method on either the element substrate 10 or the counter substrate 20 that has been subjected to the substantially vertical alignment process. Deploy. The element substrate 10 and the counter substrate 20 are arranged to face each other at a predetermined interval, and the sealing material 40 is cured. Then, liquid crystal having negative dielectric anisotropy is injected into the gap between the element substrate 10 and the counter substrate 20. Examples of the liquid crystal injection method include a vacuum injection method in which the gap between the element substrate 10 and the counter substrate 20 is decompressed and liquid crystal is injected into the gap from an injection port provided in the sealing material 40. The injection port provided in the sealing material 40 is sealed with, for example, an ultraviolet curable adhesive after the liquid crystal is injected. The liquid crystal injection / sealing method is not limited to this, and the sealing material 40 is arranged in a frame shape, and this is used as a bank, and the liquid crystal is dropped under reduced pressure on the inner side surrounded by the sealing material 40. A so-called ODF (One Drop Fill) method in which the substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded together may be used.

上記実施形態の液晶装置100およびその製造方法によれば、以下の効果が得られる。
(1)複数の画素P1が設けられた表示領域E1の略垂直配向処理が施された第1配向膜は、Y方向に対する方位角θaが45°となるように酸化シリコンを斜め蒸着することによって形成される。これに対して、複数のダミー画素P2が設けられた周辺領域E2の略垂直配向処理が施された第2配向膜は、第1方位角方向θaに対して直交する第2方位角方向θdから同じく酸化シリコンを斜め蒸着することにより形成される。したがって、液晶中のイオン性不純物は、第1方位角方向θaに沿って移動し、表示領域E1の第1方位角方向θaの角部に向かって運ばれるも、周辺領域E2では第1方位角方向θaと交差する第2方位角方向θdに移動する。ゆえに、表示領域E1の第1方位角方向θaの角部にイオン性不純物が偏在することが抑制され、イオン性不純物の偏在に起因する表示ムラが低減される。
According to the liquid crystal device 100 and the manufacturing method thereof according to the above embodiment, the following effects are obtained.
(1) The first alignment film subjected to the substantially vertical alignment process of the display area E1 provided with the plurality of pixels P1 is formed by obliquely depositing silicon oxide so that the azimuth angle θa with respect to the Y direction is 45 °. It is formed. On the other hand, the second alignment film that has been subjected to the substantially vertical alignment process in the peripheral region E2 in which the plurality of dummy pixels P2 are provided has a second azimuth angle direction θd that is orthogonal to the first azimuth angle direction θa. Similarly, it is formed by obliquely depositing silicon oxide. Accordingly, the ionic impurities in the liquid crystal move along the first azimuth angle direction θa and are transported toward the corners of the first azimuth angle direction θa of the display region E1, but the first azimuth angle in the peripheral region E2 It moves in the second azimuth angle direction θd that intersects the direction θa. Therefore, uneven distribution of ionic impurities at the corners in the first azimuth angle direction θa of the display region E1 is suppressed, and display unevenness due to the uneven distribution of ionic impurities is reduced.

(2)また、偏光素子41,42の透過軸または吸収軸に対して略垂直配向処理における第1方位角方向θaが45°となるように設定され、第1方位角方向θaと第2方位角方向θdとが直交しているので、表示領域E1と周辺領域E2とにおいて光学特性上での差が生じない。つまり、表示領域E1における第1方位角方向θaと周辺領域E2における第2方位角方向θdとを異ならせても周辺領域E2から光漏れが発生しない。   (2) In addition, the first azimuth angle direction θa in the substantially vertical alignment process with respect to the transmission axis or absorption axis of the polarizing elements 41 and 42 is set to 45 °, and the first azimuth angle direction θa and the second azimuth direction are set. Since the angular direction θd is orthogonal, there is no difference in optical characteristics between the display area E1 and the peripheral area E2. That is, even if the first azimuth direction θa in the display area E1 is different from the second azimuth direction θd in the peripheral area E2, light leakage does not occur from the peripheral area E2.

(3)表示領域E1に第1方位角方向θaの略垂直配向処理が施された第1配向膜を形成する第1配向膜形成工程は、周辺領域E2に第2方位角方向θdの略垂直配向処理が施された第2配向膜を形成する第2配向膜形成工程の後に行われる。したがって、表示領域E1における第1方位角方向θaの略垂直配向処理に対して第2方位角方向θdの略垂直配向処理の影響が及ばないので、表示領域E1において安定した液晶分子LCの配向状態が得られる。   (3) The first alignment film forming step of forming the first alignment film in which the display area E1 is subjected to the substantially vertical alignment process in the first azimuth angle direction θa is substantially perpendicular to the peripheral area E2 in the second azimuth angle direction θd. This is performed after the second alignment film forming step of forming the second alignment film subjected to the alignment treatment. Therefore, since the influence of the substantially vertical alignment treatment in the second azimuth angle direction θd does not affect the substantially vertical alignment treatment in the first azimuth angle direction θa in the display region E1, a stable alignment state of the liquid crystal molecules LC in the display region E1. Is obtained.

<電子機器>
次に、本実施形態の電子機器について図8を参照して説明する。図8は電子機器としての投射型表示装置の構成を示す概略図である。
<Electronic equipment>
Next, the electronic apparatus of this embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 8 is a schematic diagram illustrating a configuration of a projection display device as an electronic apparatus.

図8に示すように、本実施形態の電子機器としての投射型表示装置1000は、システム光軸Lに沿って配置された偏光照明装置1100と、光分離素子としての2つのダイクロイックミラー1104,1105と、3つの反射ミラー1106,1107,1108と、5つのリレーレンズ1201,1202,1203,1204,1205と、3つの光変調手段としての透過型の液晶ライトバルブ1210,1220,1230と、光合成素子としてのクロスダイクロイックプリズム1206と、投射レンズ1207とを備えている。   As shown in FIG. 8, a projection display apparatus 1000 as an electronic apparatus according to this embodiment includes a polarized illumination apparatus 1100 arranged along the system optical axis L, and two dichroic mirrors 1104 and 1105 as light separation elements. Three reflection mirrors 1106, 1107, 1108, five relay lenses 1201, 1202, 1203, 1204, 1205, three transmissive liquid crystal light valves 1210, 1220, 1230 as light modulation means, and a light combining element As a cross dichroic prism 1206 and a projection lens 1207.

偏光照明装置1100は、超高圧水銀灯やハロゲンランプなどの白色光源からなる光源としてのランプユニット1101と、インテグレーターレンズ1102と、偏光変換素子1103とから概略構成されている。   The polarized light illumination device 1100 is generally configured by a lamp unit 1101 as a light source composed of a white light source such as an ultra-high pressure mercury lamp or a halogen lamp, an integrator lens 1102, and a polarization conversion element 1103.

ダイクロイックミラー1104は、偏光照明装置1100から射出された偏光光束のうち、赤色光(R)を反射させ、緑色光(G)と青色光(B)とを透過させる。もう1つのダイクロイックミラー1105は、ダイクロイックミラー1104を透過した緑色光(G)を反射させ、青色光(B)を透過させる。   The dichroic mirror 1104 reflects red light (R) and transmits green light (G) and blue light (B) among the polarized light beams emitted from the polarization illumination device 1100. Another dichroic mirror 1105 reflects the green light (G) transmitted through the dichroic mirror 1104 and transmits the blue light (B).

ダイクロイックミラー1104で反射した赤色光(R)は、反射ミラー1106で反射した後にリレーレンズ1205を経由して液晶ライトバルブ1210に入射する。
ダイクロイックミラー1105で反射した緑色光(G)は、リレーレンズ1204を経由して液晶ライトバルブ1220に入射する。
ダイクロイックミラー1105を透過した青色光(B)は、3つのリレーレンズ1201,1202,1203と2つの反射ミラー1107,1108とからなる導光系を経由して液晶ライトバルブ1230に入射する。
The red light (R) reflected by the dichroic mirror 1104 is reflected by the reflection mirror 1106 and then enters the liquid crystal light valve 1210 via the relay lens 1205.
Green light (G) reflected by the dichroic mirror 1105 enters the liquid crystal light valve 1220 via the relay lens 1204.
The blue light (B) transmitted through the dichroic mirror 1105 enters the liquid crystal light valve 1230 via a light guide system including three relay lenses 1201, 1202, 1203 and two reflection mirrors 1107, 1108.

液晶ライトバルブ1210,1220,1230は、クロスダイクロイックプリズム1206の色光ごとの入射面に対してそれぞれ対向配置されている。液晶ライトバルブ1210,1220,1230に入射した色光は、映像情報(映像信号)に基づいて変調されクロスダイクロイックプリズム1206に向けて射出される。このプリズムは、4つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が合成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ1207によってスクリーン1300上に投射され、画像が拡大されて表示される。   The liquid crystal light valves 1210, 1220, and 1230 are disposed to face the incident surfaces of the cross dichroic prism 1206 for each color light. The color light incident on the liquid crystal light valves 1210, 1220, and 1230 is modulated based on video information (video signal) and emitted toward the cross dichroic prism 1206. In this prism, four right-angle prisms are bonded together, and a dielectric multilayer film that reflects red light and a dielectric multilayer film that reflects blue light are formed in a cross shape on the inner surface thereof. The three color lights are synthesized by these dielectric multilayer films, and the light representing the color image is synthesized. The synthesized light is projected on the screen 1300 by the projection lens 1207 which is a projection optical system, and the image is enlarged and displayed.

液晶ライトバルブ1210は、上述した液晶装置100が適用されたものである。液晶装置100は、色光の入射側と射出側とにおいてクロスニコルに配置された一対の偏光素子の間に隙間を置いて配置されている。他の液晶ライトバルブ1220,1230も同様である。   The liquid crystal light valve 1210 is the one to which the liquid crystal device 100 described above is applied. The liquid crystal device 100 is arranged with a gap between a pair of polarizing elements arranged in crossed Nicols on the incident side and the emission side of colored light. The same applies to the other liquid crystal light valves 1220 and 1230.

このような投射型表示装置1000によれば、液晶中のイオン性不純物の偏在が抑制された液晶装置100を備え、高い表示品位が実現されている。   According to such a projection display device 1000, the liquid crystal device 100 in which uneven distribution of ionic impurities in the liquid crystal is suppressed is provided, and high display quality is realized.

上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。   Various modifications other than the above embodiment are conceivable. Hereinafter, a modification will be described.

(変形例1)液晶装置100における周辺領域E2の略垂直配向処理の方法は、これに限定されない。図9は変形例の略垂直配向処理の方法を示す概略平面図である。例えば、図9に示すように、第1方位角方向θaにおける角部に沿った周辺領域E3,E4では、第1方位角方向θaに直交する第2方位角方向θdの略垂直配向処理が施された第2配向膜を設ける。他の角部に沿った周辺領域E5,E6では、第1方位角方向θaに略垂直配向処理が施された第1配向膜を設ける。これによれば、表示領域E1のすべての角部にイオン性不純物が移動してきたとしてもそれぞれの角部に対応する周辺領域E3,E4,E5,E6において該角部に偏在しないようにイオン性不純物を移動させることができる。つまり、周辺領域E2における略垂直配向処理は一様な方位角方向に施さなくてもよく、表示領域E1における1軸の略垂直配向処理の方位角方向を鑑みてイオン性不純物が偏在し難くなるように設定すればよい。   (Modification 1) The method of the substantially vertical alignment treatment of the peripheral region E2 in the liquid crystal device 100 is not limited to this. FIG. 9 is a schematic plan view showing a method of a substantially vertical alignment process according to a modification. For example, as shown in FIG. 9, in the peripheral regions E3 and E4 along the corners in the first azimuth angle direction θa, a substantially vertical alignment process in the second azimuth angle direction θd orthogonal to the first azimuth angle direction θa is performed. A second alignment film is provided. In the peripheral regions E5 and E6 along the other corners, a first alignment film subjected to a substantially vertical alignment process in the first azimuth angle direction θa is provided. According to this, even if the ionic impurities have moved to all corners of the display area E1, the ionicity is prevented from being unevenly distributed at the corners in the peripheral areas E3, E4, E5, E6 corresponding to the respective corners. Impurities can be moved. That is, the substantially vertical alignment process in the peripheral region E2 may not be performed in a uniform azimuth direction, and ionic impurities are less likely to be unevenly distributed in view of the azimuth direction of the uniaxial substantially vertical alignment process in the display region E1. It should be set as follows.

(変形例2)液晶装置100における対向基板20の遮光膜21は、表示領域E1と周辺領域E2とを含む画素領域Eを取り囲むように配置されていたが、これに限定されない。例えば、平面的に周辺領域E2と重なり表示領域E1を取り囲むように設けてもよい。そうすると、周辺領域E2が遮光されるので、周辺領域E2において光漏れが生じても問題とならない。つまり、周辺領域E2における略垂直配向処理の第2方位角方向θdは、第1方位角方向θaと直交する必要はない。それゆえに、第2方位角方向θdはY方向に対する交差角度が45°である必要はなく、角部へのイオン性不純物の偏在を抑制する観点では、表示領域E1の辺部に対して平行とならない角度で第1方位角方向θaと交差するように設定すればよい。言い換えれば、第2方位角方向θdの設定における自由度が向上する。これにより、例えば斜め蒸着装置において、略垂直配向処理が施される基板の配置などの設計自由度が向上し、よりコンパクトな蒸着装置設計が可能となる。   (Modification 2) Although the light shielding film 21 of the counter substrate 20 in the liquid crystal device 100 is disposed so as to surround the pixel region E including the display region E1 and the peripheral region E2, it is not limited to this. For example, the display area E1 may be provided so as to overlap the peripheral area E2 in plan view. Then, since the peripheral area E2 is shielded from light, there is no problem even if light leakage occurs in the peripheral area E2. That is, the second azimuth angle direction θd of the substantially vertical alignment process in the peripheral region E2 does not need to be orthogonal to the first azimuth angle direction θa. Therefore, the second azimuth angle direction θd does not need to have an intersecting angle of 45 ° with respect to the Y direction. From the viewpoint of suppressing the uneven distribution of ionic impurities at the corners, the second azimuth angle direction θd is parallel to the sides of the display region E1. What is necessary is just to set so that it may cross | intersect 1st azimuth angle direction (theta) a at the angle which does not become. In other words, the degree of freedom in setting the second azimuth angle direction θd is improved. Thereby, for example, in an oblique vapor deposition apparatus, the degree of freedom in design such as the arrangement of a substrate on which a substantially vertical alignment process is performed is improved, and a more compact vapor deposition apparatus design is possible.

(変形例3)液晶装置100における表示領域E1は四角形に限定されない。例えば、角部を有する三角形や五角形などの多角形であっても、本発明を適用できる。   (Modification 3) The display area E1 in the liquid crystal device 100 is not limited to a quadrangle. For example, the present invention can be applied to a polygon such as a triangle having a corner and a pentagon.

(変形例4)液晶装置100における配向膜18,24は無機配向膜に限定されない。例えば、光反応性の有機膜に紫外線などの光を配向方向に基づいて照射して略垂直配向処理が施された有機配向膜を用いても、本発明を適用することができる。   (Modification 4) The alignment films 18 and 24 in the liquid crystal device 100 are not limited to inorganic alignment films. For example, the present invention can also be applied to an organic alignment film in which a light-reactive organic film is irradiated with light such as ultraviolet rays based on the alignment direction and subjected to a substantially vertical alignment process.

(変形例5)液晶装置100は透過型に限定されない。画素電極15が光反射性を有する反射型の液晶装置100であっても、本発明を適用することができる。   (Modification 5) The liquid crystal device 100 is not limited to the transmission type. The present invention can be applied even if the pixel electrode 15 is a reflective liquid crystal device 100 having light reflectivity.

(変形例6)上記液晶装置100が適用される電子機器は、投射型表示装置1000に限定されない。例えば、投射型のHUD(ヘッドアップディスプレイ)や直視型のHMD(ヘッドマウントディプレイ)、または電子ブック、パーソナルコンピューター、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダー型あるいはモニター直視型のビデオレコーダー、カーナビゲーションシステム、電子手帳、POSなどの情報端末機器の表示部として好適に用いることができる。   (Modification 6) The electronic apparatus to which the liquid crystal device 100 is applied is not limited to the projection display device 1000. For example, a projection-type HUD (head-up display), a direct-view HMD (head-mounted display), an electronic book, a personal computer, a digital still camera, an LCD TV, a viewfinder-type or monitor-direct-view video recorder, car navigation It can be suitably used as a display unit of an information terminal device such as a system, electronic notebook, or POS.

10…素子基板、18,24…配向膜、20…対向基板、50…液晶層、100…液晶装置、1000…電子機器としての投射型表示装置、E1…表示領域、E2…周辺領域、P,P1…画素、P2…ダミー画素。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Element substrate, 18, 24 ... Alignment film | membrane, 20 ... Opposite substrate, 50 ... Liquid crystal layer, 100 ... Liquid crystal device, 1000 ... Projection type display apparatus as an electronic device, E1 ... Display area | region, E2 ... Peripheral area | region, P, P1... Pixel, P2... Dummy pixel.

Claims (10)

一対の基板間に挟持された負の誘電異方性の液晶層と、複数の画素を含む表示領域とを有する液晶装置であって、
前記表示領域における前記一対の基板の前記液晶層に面する側のそれぞれに設けられ、第1方位角方向に略垂直配向処理が施されてなる第1配向膜と、
前記表示領域を囲む周辺領域の少なくとも一部における前記一対の基板の前記液晶層に面する側のそれぞれに設けられ、前記第1方位角方向と交差する第2方位角方向に略垂直配向処理が施されてなる第2配向膜と、
を備えることを特徴とする液晶装置。
A liquid crystal device having a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy sandwiched between a pair of substrates and a display region including a plurality of pixels,
A first alignment film provided on each of the pair of substrates facing the liquid crystal layer in the display region, and subjected to a substantially vertical alignment process in a first azimuth angle direction;
A substantially vertical alignment process is performed in a second azimuth angle direction that is provided on each of the pair of substrates facing the liquid crystal layer in at least a part of a peripheral area surrounding the display area and intersects the first azimuth angle direction. A second alignment film formed;
A liquid crystal device comprising:
前記第1配向膜は、前記第1方位角方向にカラムが傾斜した無機配向膜であり、
前記第2配向膜は、前記第2方位角方向にカラムが傾斜した無機配向膜であることを特徴とする請求項1に記載の液晶装置。
The first alignment film is an inorganic alignment film in which a column is inclined in the first azimuth angle direction,
The liquid crystal device according to claim 1, wherein the second alignment film is an inorganic alignment film in which a column is inclined in the second azimuth angle direction.
前記表示領域は平面視で四角形であり、
前記第1方位角方向は、前記表示領域の辺部に対して斜めに交差する方向であることを特徴とする請求項1または2に記載の液晶装置。
The display area is square in plan view,
3. The liquid crystal device according to claim 1, wherein the first azimuth angle direction is a direction that obliquely intersects a side portion of the display region.
前記第1方位角方向は、前記表示領域の辺部に対して略45度の角度で交差し、
前記第2方位角方向は、前記表示領域の辺部に対して平行とならない角度で前記第1方位角方向と交差していることを特徴とする請求項3に記載の液晶装置。
The first azimuth angle direction intersects the side of the display area at an angle of approximately 45 degrees,
The liquid crystal device according to claim 3, wherein the second azimuth angle direction intersects the first azimuth angle direction at an angle that is not parallel to a side portion of the display region.
前記第2配向膜は、前記表示領域の前記第1方位角方向の角部に沿った前記周辺領域の部分に設けられており、
前記表示領域の他の角部に沿った前記周辺領域の部分には、前記第1配向膜が設けられていることを特徴とする請求項3または4に記載の液晶装置。
The second alignment film is provided in a portion of the peripheral region along a corner of the display region in the first azimuth direction,
5. The liquid crystal device according to claim 3, wherein the first alignment film is provided in a portion of the peripheral region along another corner of the display region.
前記周辺領域には、駆動可能なダミー画素が設けられていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の液晶装置。   The liquid crystal device according to claim 1, wherein a drivable dummy pixel is provided in the peripheral region. 一対の基板間に挟持された負の誘電異方性の液晶層と、複数の画素を含む表示領域とを有する液晶装置の製造方法であって、
前記一対の基板のそれぞれにおいて、
前記表示領域に略垂直配向処理を第1方位角方向に施した第1配向膜を形成する第1配向膜形成工程と、
前記表示領域を囲む周辺領域の少なくとも一部に前記略垂直配向処理を前記第1方位角方向と交差する第2方位角方向に施した第2配向膜を形成する第2配向膜形成工程と、を備えたことを特徴とする液晶装置の製造方法。
A method of manufacturing a liquid crystal device having a liquid crystal layer having negative dielectric anisotropy sandwiched between a pair of substrates and a display region including a plurality of pixels,
In each of the pair of substrates,
A first alignment film forming step of forming a first alignment film in which a substantially vertical alignment process is performed on the display region in a first azimuth angle direction;
A second alignment film forming step of forming a second alignment film in which at least a part of a peripheral region surrounding the display region is subjected to the substantially vertical alignment process in a second azimuth angle direction intersecting the first azimuth angle direction; A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising:
前記第1配向膜形成工程は、前記第1方位角方向にカラムが傾斜した無機の前記第1配向膜を形成し、
前記第2配向膜形成工程は、前記第2方位角方向にカラムが傾斜した無機の前記第2配向膜を形成することを特徴とする請求項7に記載の液晶装置の製造方法。
In the first alignment film forming step, the inorganic first alignment film having a column inclined in the first azimuth angle direction is formed;
8. The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 7, wherein in the second alignment film forming step, the inorganic second alignment film having a column inclined in the second azimuth angle direction is formed.
前記第1配向膜形成工程は、前記第2配向膜形成工程の後に行われることを特徴とする請求項7または8に記載の液晶装置の製造方法。   The method of manufacturing a liquid crystal device according to claim 7, wherein the first alignment film forming step is performed after the second alignment film forming step. 請求項1乃至6のいずれか一項に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the liquid crystal device according to claim 1.
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