JP2012121277A - Heat ray shielding glass, and double-glazed glass using the same - Google Patents

Heat ray shielding glass, and double-glazed glass using the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a heat ray shielding glass that has superior heat ray shielding properties, especially, thermal insulation, is manufactured at low cost, has high visible light transmittance, and has durability in the presence of water.SOLUTION: The heat ray shielding glass 10 includes: a glass plate 11; and a heat ray reflective layer 14 disposed on a surface of the glass plate and made of a conductive polymer. A low-refractive index layer 15 is formed on a surface of the heat ray reflective layer 14, and a refractive index of the low-refractive index layer 15 is lower than that of the heat ray reflective layer 14. A double-glazed glass using the heat ray shielding glass is also provided.

Description

本発明は、熱線遮蔽性又は熱線反射性を有する熱線遮蔽ガラス、及びその熱線遮蔽ガラスを用いた複層ガラスに関する。   The present invention relates to a heat ray shielding glass having heat ray shielding property or heat ray reflection property, and a multilayer glass using the heat ray shielding glass.

従来から、オフィスビル等の建築物及びバス、乗用車、電車等の車両・鉄道等の空調負荷を低減するために、これらの窓に、太陽光中の近赤外線(熱線)を遮蔽する機能や、室内から放射される熱線を反射して断熱する機能が求められている。熱線を遮蔽又は反射するガラスとして、ガラス自体にFe、Cr、Tiなどのイオンを導入して熱線吸収性を持たせた練り込み型の熱線吸収ガラス、金属酸化物膜を蒸着させた熱線反射ガラス、インジウム錫酸化物(ITO)や酸化錫(ATO)などの透明導電膜の薄膜を乾式成膜したもの、金属酸化物膜/Ag膜等を主成分とする貴金属膜/金属酸化物膜を積層した熱線遮蔽膜(Low−E膜ともいう)が形成された熱線遮蔽ガラス(特許文献1)等が開発され、実用化されている。この内、Low−E膜は比較的短波長の太陽光の近赤外線は透過し、室内から放射される暖房等の遠赤外線は反射して逃がさない機能(断熱性)を有する。   Conventionally, in order to reduce the air conditioning load of buildings such as office buildings and buses, passenger cars, trains, etc., railways, etc., these windows have a function of shielding near infrared rays (heat rays) in sunlight, There is a demand for a function of reflecting and insulating heat rays radiated from the room. As a glass that shields or reflects heat rays, a kneading type heat ray absorbing glass in which ions such as Fe, Cr, Ti, etc. are introduced into the glass itself to give heat ray absorption, or a heat ray reflecting glass in which a metal oxide film is deposited. A thin film of a transparent conductive film such as indium tin oxide (ITO) or tin oxide (ATO) is formed into a dry film, and a noble metal film / metal oxide film mainly composed of a metal oxide film / Ag film is laminated. A heat ray shielding glass (Patent Document 1) on which a heat ray shielding film (also referred to as Low-E film) is formed has been developed and put into practical use. Among these, the Low-E film has a function (heat insulation) that transmits near infrared rays of sunlight having a relatively short wavelength and does not escape by reflecting far infrared rays such as heating emitted from the room.

このような熱線遮蔽ガラス(特に、Low−E膜が形成されたもの)は、他のガラス板と所定の間隔(空気層)を介して対向するように配置させて、複層ガラスとすることで、更に断熱性を向上されたものも開発されている(特許文献2)。これにより、冷暖房による消費エネルギーを、更に軽減することができる。   Such heat ray-shielding glass (particularly, the one on which the Low-E film is formed) is arranged to be opposed to another glass plate with a predetermined interval (air layer) to form a multilayer glass. And what improved the heat insulation is also developed (patent document 2). Thereby, the energy consumption by air conditioning can be further reduced.

但し、Low−E膜はスパッタリング法等の真空成膜方式により形成されるため大型装置が必要となり、これを用いた熱線遮蔽ガラスの製造コストは高くなる。また、金属膜は腐食され易く、長期間の使用により外観特性が低下するとの問題がある。   However, since the Low-E film is formed by a vacuum film formation method such as a sputtering method, a large-sized apparatus is required, and the manufacturing cost of the heat ray shielding glass using the device increases. Further, the metal film is easily corroded, and there is a problem that the appearance characteristics are deteriorated by long-term use.

また、高い熱線遮蔽性を有し、且つ高い可視光透過率を実現する熱線遮蔽ガラスとして、タングステン酸化物及び/又は複合タングステン酸化物((複合)タングステン酸化物ともいう)の微粒子とUV励起着色防止剤を含むコーティング膜をガラス基板上に形成したものが開発されている(特許文献3)。このような熱線遮蔽ガラスは、太陽光の近赤外線を遮蔽する機能に優れているが、室内から放射される暖房等の熱線を反射する断熱性は低いため、用途によっては満足する性能が得られない場合がある。   Further, as heat ray shielding glass having high heat ray shielding properties and realizing high visible light transmittance, fine particles of tungsten oxide and / or composite tungsten oxide (also referred to as (composite) tungsten oxide) and UV excitation coloring. The thing which formed the coating film containing an inhibitor on the glass substrate is developed (patent document 3). Such a heat ray-shielding glass is excellent in the function of shielding the near-infrared rays of sunlight, but since the heat insulation property that reflects the heat rays emitted from the room is low, satisfactory performance can be obtained depending on the application. There may not be.

更に、赤外線を吸収する特性は、導電性高分子においても知られており、表面保護層、導電性高分子を使用した遮熱層、基材、紫外線吸収層、粘着剤層からなる透明遮熱フィルムが開発されている(特許文献4)。   Furthermore, the property of absorbing infrared rays is also known for conductive polymers, and is a transparent heat shield composed of a surface protective layer, a heat shield layer using a conductive polymer, a substrate, an ultraviolet absorbing layer, and an adhesive layer. A film has been developed (Patent Document 4).

特開2001−226148号公報JP 2001-226148 A 特開2007−70146号公報JP 2007-70146 A 特開2007−269523号公報JP 2007-269523 A 特開2005−288867号公報JP 2005-288867 A

しかしながら、特許文献4の導電性高分子を用いた遮蔽フィルムでは熱線遮蔽性が十分とはいえず。熱線遮蔽性を高めると、十分な可視光透過率が得られないという問題がある(特許文献4、表1参照)。   However, it cannot be said that the shielding film using the conductive polymer of Patent Document 4 has sufficient heat ray shielding properties. When the heat ray shielding property is increased, there is a problem that sufficient visible light transmittance cannot be obtained (see Patent Document 4, Table 1).

更に、本発明者らの検討により、導電性高分子からなる熱線反射層を有する熱線遮蔽ガラスは、条件によって高い断熱性を有するが、水分の存在下(高湿度条件下)における耐久性(本発明において「耐水性」とも称する)が低いという問題も明らかになっている。   Further, according to the study by the present inventors, a heat ray shielding glass having a heat ray reflective layer made of a conductive polymer has high heat insulation properties depending on conditions, but durability in the presence of moisture (high humidity conditions) The problem of low water resistance (also referred to as “water resistance” in the invention) has also become apparent.

従って、本発明の目的は、熱線遮蔽性、特に断熱性に優れ、低コストで製造可能であり、可視光透過率が高く、且つ水分の存在下(高湿度条件下)における耐久性が高い熱線遮蔽ガラスを提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is a heat ray that has excellent heat ray shielding properties, particularly heat insulation properties, can be produced at low cost, has high visible light transmittance, and has high durability in the presence of moisture (high humidity conditions). It is to provide a shielding glass.

また、本発明の目的は、この熱線遮蔽ガラスを用いた複層ガラスを提供することにもある。   Moreover, the objective of this invention is also providing the multilayer glass using this heat ray shielding glass.

上記目的は、ガラス板、及びその表面に設けられた導電性高分子からなる熱線反射層を含む熱線遮蔽ガラスであって、前記熱線反射層の表面に低屈折率層が形成されており、且つ該低屈折率層の屈折率が前記熱線反射層よりも低いことを特徴とする熱線遮蔽ガラスによって達成される。   The object is a heat ray shielding glass comprising a glass plate and a heat ray reflective layer comprising a conductive polymer provided on the surface thereof, wherein a low refractive index layer is formed on the surface of the heat ray reflective layer, and This is achieved by a heat ray shielding glass characterized in that the refractive index of the low refractive index layer is lower than that of the heat ray reflective layer.

導電性高分子からなる熱線反射層は、高い熱線反射性(断熱性)を得るために、自由電子密度が十分に高いことが必要である。従って、可視光透過率を向上させるため、又は耐水性を向上するために、導電性高分子の層に物理特性や耐水性の高い材料を混合した場合は、一般に、自由電子密度が低下し、十分な断熱性を得ることができない。また、通常、導電性高分子の層の表面に別の層(例えば保護層)を形成した場合も、別の層の赤外線吸収により、十分な断熱性を得ることができない。   The heat ray reflective layer made of a conductive polymer needs to have a sufficiently high free electron density in order to obtain high heat ray reflectivity (heat insulation). Therefore, in order to improve the visible light transmittance or to improve the water resistance, when a material having high physical properties and water resistance is mixed in the conductive polymer layer, the free electron density is generally lowered, Sufficient heat insulation cannot be obtained. Also, normally, when another layer (for example, a protective layer) is formed on the surface of the conductive polymer layer, sufficient heat insulation cannot be obtained due to infrared absorption of the other layer.

本発明においては、導電性高分子からなる熱線反射層の表面に、熱線反射層より低い屈折率の低屈折率層を形成することで、導電性高分子からなる熱線反射層の高い断熱性を損なうことなく、可視光透過率を向上し、且つ熱線反射層を雨水、結露、湿気等の水分から保護することが可能となっている。これにより、可視光透過率が高く、且つ十分な耐水性(水分の存在下(高湿度条件下)における耐久性)が高く、長期間にわたり断熱性能が維持された熱線遮蔽ガラスとすることができる。また、導電性高分子は有機高分子製のため、低コストの塗工法等による層形成が可能であり、本発明の熱線遮蔽ガラスは低コストで製造可能である。   In the present invention, by forming a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the heat ray reflective layer on the surface of the heat ray reflective layer made of a conductive polymer, high heat insulation of the heat ray reflective layer made of the conductive polymer is achieved. Without damaging, it is possible to improve the visible light transmittance and protect the heat ray reflective layer from moisture such as rain water, condensation, and moisture. Thereby, it can be set as the heat ray shielding glass with high visible light transmittance, sufficient water resistance (durability in the presence of moisture (high humidity condition)), and heat insulation performance maintained for a long period of time. . Further, since the conductive polymer is made of an organic polymer, it is possible to form a layer by a low cost coating method or the like, and the heat ray shielding glass of the present invention can be manufactured at a low cost.

本発明の熱線遮蔽ガラスの好ましい態様は以下の通りである。   Preferred embodiments of the heat ray shielding glass of the present invention are as follows.

(1)前記低屈折率層の層厚が、50〜350nmである。導電性高分子からなる熱線反射層の表面に形成する層の層厚が厚すぎると、熱線反射層の断熱性を損なう場合があり、薄すぎると、可視光透過率及び耐水性の向上効果が十分得られない場合がある。従って、低屈折率層の層厚は上記の範囲が好ましい。低屈折率層の層厚は、50〜250nmが更に好ましく、50〜150nmが特に好ましい。
(2)前記低屈折率層の屈折率が、1.48以下である。屈折率は1.45以下が更に好ましく、1.42以下が特に好ましい。これにより、より十分に可視光透過率を向上することができる。
(3)前記低屈折率層が、多孔性微粒子、中空微粒子、酸化物微粒子及びフッ素樹脂微粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の屈折率調整材料を含む。多孔性微粒子としては、例えば多孔性シリカ微粒子等の多孔性酸化物微粒子が挙げられ、中空微粒子としては、例えば中空シリカ微粒子等の中空酸化物微粒子が挙げられる。これらの屈折率調整材料は上記の低屈折率層を形成するために好適な材料である。
(4)前記低屈折率層が、フッ素樹脂又はシリコーン樹脂を含む。これらの屈折率調整材料を含む有機薄膜も上記の低屈折率層として好ましい。
(5)前記導電性高分子が、下記式(I):
(1) The layer thickness of the low refractive index layer is 50 to 350 nm. If the thickness of the layer formed on the surface of the heat ray reflective layer made of a conductive polymer is too thick, the heat insulation property of the heat ray reflective layer may be impaired, and if it is too thin, the visible light transmittance and water resistance are improved. You may not get enough. Therefore, the thickness of the low refractive index layer is preferably in the above range. The layer thickness of the low refractive index layer is more preferably 50 to 250 nm, and particularly preferably 50 to 150 nm.
(2) The refractive index of the low refractive index layer is 1.48 or less. The refractive index is more preferably 1.45 or less, and particularly preferably 1.42 or less. Thereby, visible light transmittance can be improved more sufficiently.
(3) The low refractive index layer includes at least one refractive index adjusting material selected from the group consisting of porous fine particles, hollow fine particles, oxide fine particles, and fluororesin fine particles. Examples of the porous fine particles include porous oxide fine particles such as porous silica fine particles, and examples of the hollow fine particles include hollow oxide fine particles such as hollow silica fine particles. These refractive index adjusting materials are suitable materials for forming the low refractive index layer.
(4) The low refractive index layer contains a fluororesin or a silicone resin. An organic thin film containing these refractive index adjusting materials is also preferable as the low refractive index layer.
(5) The conductive polymer has the following formula (I):

Figure 2012121277
Figure 2012121277

(式中、R及びRは、それぞれ独立して水素原子若しくは炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、又はR及びRが一緒になって任意に置換されていても良い炭素原子数1〜4のアルキレン基を表し、nは50〜1000の整数を表す)で表される繰り返し単位を含むポリチオフェン誘導体である。上記のポリチオフェン誘導体は導電性が高いので本発明における熱線反射層に使用する導電性高分子として好適である。
(6)前記熱線反射層の表面抵抗値が、100000Ω/□以下である。
(7)前記熱線反射層の層厚が、10〜3000nmである。
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or R 1 and R 2 together may be optionally substituted carbon. An alkylene group having 1 to 4 atoms, and n represents an integer of 50 to 1000). Since the above polythiophene derivative has high conductivity, it is suitable as a conductive polymer used for the heat ray reflective layer in the present invention.
(6) The surface resistance value of the heat ray reflective layer is 100000Ω / □ or less.
(7) The heat ray reflective layer has a thickness of 10 to 3000 nm.

また、上記目的は、本発明の熱線遮蔽ガラスと、別のガラス板とが、間隙をおいて、前記低屈折率層が当該別のガラス板に対向するように配置され、その間隙により中空層が形成されていることを特徴とする複層ガラスによっても達成される。   Further, the object is to arrange the heat ray shielding glass of the present invention and another glass plate so that the low refractive index layer faces the other glass plate with a gap therebetween, and the gap forms a hollow layer. It is also achieved by a double-glazed glass characterized in that is formed.

このような複層ガラスとすることで、中空層による断熱性を付与するとともに、更に、熱線反射層を、雨水、結露、湿気等の水分から保護することができ、更に長期間、断熱性能を維持することができる。なお、前記中空層は、前記熱線遮蔽ガラスと前記別のガラス板がスペーサーを介して配置されることで形成されていることが好ましい。更にスペーサー内には乾燥剤を入れておくのが好ましい。   By making such a double-glazed glass, heat insulation by the hollow layer is imparted, and further, the heat ray reflective layer can be protected from moisture such as rainwater, condensation, moisture, etc. Can be maintained. In addition, it is preferable that the said hollow layer is formed when the said heat ray shielding glass and said another glass plate are arrange | positioned through a spacer. Furthermore, it is preferable to put a desiccant in the spacer.

本発明によれば、熱線遮蔽ガラスの熱線反射層が導電性高分子で形成され、その表面に熱線反射層より屈折率が低い屈折率の低屈折率層が形成されているので、室内から放射される暖房等の熱線を反射して逃がさず、外気の熱を室内に取り込まない熱線反射層の断熱性を損なうことなく、可視光透過率を向上するとともに、熱線反射層を雨水、結露、湿気等の水分から保護することができる。   According to the present invention, the heat ray reflective layer of the heat ray shielding glass is formed of a conductive polymer, and a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the heat ray reflective layer is formed on the surface thereof. Reflects heat rays such as heating that does not escape and does not take the heat of the outside into the room Improves the visible light transmittance without impairing the heat insulation of the heat ray reflective layer, and makes the heat ray reflective layer rainwater, condensation, moisture It can be protected from moisture such as.

従って、本発明の熱線遮蔽ガラスは、断熱性に優れ、可視光透過率が高く、外光を十分に取り入れることができ、且つ耐水性が高い熱線遮蔽ガラスであるということができる。また、導電性高分子は有機高分子製のため、低コストの塗工法等による層形成が可能であり、本発明の熱線遮蔽ガラスは低コストで製造可能であると言える。   Therefore, it can be said that the heat ray shielding glass of the present invention is a heat ray shielding glass having excellent heat insulation, high visible light transmittance, sufficient external light, and high water resistance. Further, since the conductive polymer is made of an organic polymer, it is possible to form a layer by a low cost coating method or the like, and it can be said that the heat ray shielding glass of the present invention can be manufactured at a low cost.

更に、本発明の複層ガラスは、本発明の熱線遮蔽ガラスが用いられているので、断熱性に優れ、耐久性、耐候性が高く、安価な複層ガラスであると言える。   Furthermore, since the heat ray shielding glass of the present invention is used for the multilayer glass of the present invention, it can be said that the multilayer glass is excellent in heat insulation, durability and weather resistance, and inexpensive.

図1は本発明の熱線遮蔽ガラスの代表的な一例を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing a typical example of the heat ray shielding glass of the present invention. 図2は本発明の複層ガラスの代表的な一例を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing a typical example of the multilayer glass of the present invention.

以下に図面を参照しながら本発明の実施の形態を詳細に説明する。図1は本発明の熱線遮蔽ガラスの代表的な一例を示す概略断面図である。なお、本発明において、熱線遮蔽ガラスにおける「ガラス」とは透明基板全般を意味するもので、ガラス板の他、透明プラスチック製基板であっても良い。したがって、熱線遮蔽ガラスとは、熱線遮蔽性が付与された透明基板を意味する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing a typical example of the heat ray shielding glass of the present invention. In the present invention, “glass” in the heat-shielding glass means a transparent substrate in general, and may be a transparent plastic substrate in addition to a glass plate. Accordingly, the heat ray shielding glass means a transparent substrate provided with heat ray shielding properties.

図1に示した熱線遮蔽ガラス10においては、ガラス板11の表面上に接着剤層12、透明プラスチックフィルム13、導電性高分子からなる熱線反射層14、屈折率調整材料とバインダ樹脂とからなる低屈折率層15がこの順に積層一体化されている。ここで、低屈折率層15の屈折率は熱線反射層14の屈折率よりも低くなっている。通常、熱線遮蔽ガラス10は、透明プラスチックフィルム13の一方の表面上に導電性高分子からなる熱線反射層14を形成し、更にその表面に低屈折率層15を形成し、その後、透明プラスチックフィルム13を、熱線反射層14が形成された面の反対面で、接着剤層12を介してガラス板11に接着したものである。本発明の熱線遮蔽ガラス10は、導電性高分子からなる熱線反射層14が形成されていることにより、近赤外線を効果的に遮蔽し、断熱性を発揮することができる。これは、導電性高分子の自由電子によるプラズマ吸収波長が、地上気温付近の物体の放射よりも短波長側にあり、そのプラズマ吸収波長より高波長の電磁波を反射するためと考えられる。   In the heat ray shielding glass 10 shown in FIG. 1, an adhesive layer 12, a transparent plastic film 13, a heat ray reflective layer 14 made of a conductive polymer, a refractive index adjusting material and a binder resin are formed on the surface of the glass plate 11. The low refractive index layer 15 is laminated and integrated in this order. Here, the refractive index of the low refractive index layer 15 is lower than the refractive index of the heat ray reflective layer 14. Usually, the heat ray-shielding glass 10 forms a heat ray reflective layer 14 made of a conductive polymer on one surface of a transparent plastic film 13, and further forms a low refractive index layer 15 on the surface, and then a transparent plastic film. 13 is bonded to the glass plate 11 through the adhesive layer 12 on the surface opposite to the surface on which the heat ray reflective layer 14 is formed. The heat ray shielding glass 10 of the present invention can effectively shield near-infrared rays and exhibit heat insulation properties by forming the heat ray reflective layer 14 made of a conductive polymer. This is thought to be because the plasma absorption wavelength due to free electrons of the conductive polymer is shorter than the radiation of an object near the ground temperature, and reflects electromagnetic waves having a wavelength higher than the plasma absorption wavelength.

しかしながら、導電性高分子の層を形成した熱線遮蔽ガラスは、可視光透過率が低くなるという問題や、導電性高分子の層の耐水性が低いという問題がある。可視光透過率を向上させるため、又は耐水性を向上するために、導電性高分子の層に物理特性や耐水性の高い材料を混合した場合は、一般に、自由電子密度が低下し、十分な断熱性を得ることができない。また、通常、導電性高分子の層の表面に別の層(例えば保護層)が形成されている場合も、別の層の赤外線吸収により、十分な断熱性を得ることができない。   However, the heat ray-shielding glass on which the conductive polymer layer is formed has a problem that the visible light transmittance is low and a water resistance of the conductive polymer layer is low. In order to improve the visible light transmittance or to improve the water resistance, when a material having high physical properties or high water resistance is mixed in the conductive polymer layer, in general, the free electron density is lowered and sufficient. Insulation cannot be obtained. Moreover, normally, when another layer (for example, protective layer) is formed on the surface of the conductive polymer layer, sufficient heat insulation cannot be obtained due to infrared absorption of the other layer.

本発明においては、導電性高分子からなる熱線反射層14の表面に、熱線反射層14より低い屈折率の低屈折率層15を形成することで、導電性高分子からなる熱線反射層14の放射抑制効果を妨げず、高い断熱性を損なうことなく、可視光透過率を向上し、且つ熱線反射層14を雨水、結露、湿気等の水分から保護することが可能となっている。   In the present invention, the low refractive index layer 15 having a refractive index lower than that of the heat ray reflective layer 14 is formed on the surface of the heat ray reflective layer 14 made of a conductive polymer, so that the heat ray reflective layer 14 made of the conductive polymer is formed. The visible light transmittance can be improved without impairing the radiation suppressing effect, and the high heat insulating property is not impaired, and the heat ray reflective layer 14 can be protected from moisture such as rain water, condensation, and moisture.

低屈折率層15の層厚は、本発明の効果が達成できれば、特に制限は無いが、厚すぎると、導電性高分子からなる熱線反射層14の断熱性を損なう場合があり、薄すぎると、可視光透過率及び耐水性の向上する効果が十分得られない場合がある。従って、低屈折率層15の層厚は、50〜350nmが好ましく、50〜250nmが更に好ましく、50〜150nmが特に好ましい。   The layer thickness of the low refractive index layer 15 is not particularly limited as long as the effects of the present invention can be achieved. However, if it is too thick, the heat insulation property of the heat ray reflective layer 14 made of a conductive polymer may be impaired. In some cases, the effects of improving the visible light transmittance and water resistance cannot be sufficiently obtained. Therefore, the layer thickness of the low refractive index layer 15 is preferably 50 to 350 nm, more preferably 50 to 250 nm, and particularly preferably 50 to 150 nm.

また、低屈折率層15は、導電性高分子からなる熱線反射層14より低い屈折率であれば良い。両者の屈折率の差が大きい方が、熱線遮蔽ガラスの可視光透過率を向上することができる。導電性高分子からなる熱線反射層14の屈折率は、一般に、1.5以上であり、好ましくは1.51〜1.54である。従って、低屈折率層の屈折率は、1.48以下が好ましく、更に1.45以下が好ましく、1.42以下が特に好ましい。   Moreover, the low refractive index layer 15 should just be a refractive index lower than the heat ray reflective layer 14 which consists of conductive polymers. The one where the difference of both refractive indexes is large can improve the visible light transmittance of heat ray shielding glass. The refractive index of the heat ray reflective layer 14 made of a conductive polymer is generally 1.5 or more, preferably 1.51 to 1.54. Therefore, the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.48 or less, more preferably 1.45 or less, and particularly preferably 1.42 or less.

なお、熱線反射層14と低屈折率層15の間に、熱線反射層14より屈折率が高い高屈折率層が形成されていても良い(図示していない)。これにより、更に熱線遮蔽ガラスの表面の界面における屈折率差が大きくできるので、更に可視光透過率が向上できる。高屈折率層の屈折率は1.54以上が好ましく、1.60以上が更に好ましく、1.69〜1.80が特に好ましい。   A high refractive index layer having a higher refractive index than that of the heat ray reflective layer 14 may be formed between the heat ray reflective layer 14 and the low refractive index layer 15 (not shown). Thereby, since the refractive index difference at the interface of the surface of the heat ray shielding glass can be further increased, the visible light transmittance can be further improved. The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.54 or more, more preferably 1.60 or more, and particularly preferably 1.69 to 1.80.

低屈折率層15は、上述のような屈折率が得られればどのような材料で形成されていても良い。例えば、後述する熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂等のバインダ樹脂に多孔性微粒子、中空微粒子、酸化物微粒子及びフッ素樹脂微粒子などの屈折率調整材料を分散させた組成物を塗工し、硬化させることで形成することができる。   The low refractive index layer 15 may be formed of any material as long as the above refractive index is obtained. For example, a composition in which a refractive index adjusting material such as porous fine particles, hollow fine particles, oxide fine particles and fluororesin fine particles is dispersed in a binder resin such as a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin, which will be described later, is applied and cured. Can be formed.

多孔性微粒子及び中空微粒子は、内部に空気を含むため、屈折率を低くすることができる。材質はどのようなものでも良いが、酸化物の多孔性微粒子及び中空微粒子が好ましく、特に多孔性シリカ微粒子及び中空シリカ微粒子が好ましい。酸化物微粒子としては、例えば、シリカ、酸化アルミニウム、ジルコニア等の酸化物の微粒子が挙げられ、特にシリカ微粒子が好ましい。多孔性シリカ微粒子は、例えばシリカ微粒子のコロイド液を噴霧乾燥することでシリカ微粒子の集合体を形成させること等により得られる。また、中空シリカ微粒子は、例えば多孔性シリカ微粒子を有機ケイ素化合物等で表面被覆してその細孔入り口を塞ぐこと等により得られる。中空シリカ微粒子は、通常のシリカ微粒子の屈折率(約1.46)より、低い屈折率(約1.24〜1.44)を示すので好ましく使用できる。   Since the porous fine particles and the hollow fine particles contain air inside, the refractive index can be lowered. Any material may be used, but oxide porous fine particles and hollow fine particles are preferable, and porous silica fine particles and hollow silica fine particles are particularly preferable. Examples of the oxide fine particles include fine particles of oxides such as silica, aluminum oxide, and zirconia, and silica fine particles are particularly preferable. The porous silica fine particles can be obtained, for example, by forming an aggregate of silica fine particles by spray drying a colloidal solution of silica fine particles. The hollow silica fine particles can be obtained, for example, by covering the surface of the porous silica fine particles with an organosilicon compound and closing the pore entrance. Hollow silica fine particles can be preferably used because they exhibit a refractive index (about 1.24 to 1.44) lower than that of ordinary silica fine particles (about 1.46).

フッ素樹脂微粒子としては、例えば、FET(フルオロエチレン/プロピレン共重合体)、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)、ETFE(エチレン/テトラフルオロエチレン)、PVF(ポリフッ化ビニル)、PVD(ポリフッ化ビニリデン)等からなる微粒子が挙げられる。   Examples of the fluororesin fine particles include FET (fluoroethylene / propylene copolymer), PTFE (polytetrafluoroethylene), ETFE (ethylene / tetrafluoroethylene), PVF (polyvinyl fluoride), PVD (polyvinylidene fluoride), and the like. Fine particles consisting of

低屈折率層15における屈折率調整材料として微粒子を用いる場合は、平均粒径は1〜200nmが好ましい。この平均粒径であれば、透明性に大きな影響を与えないようにすることができる。中空シリカ微粒子を用いる場合は、平均粒径5〜200nmが好ましく、10〜100nmが更に好ましく、特に20〜70nmが好ましい。   When fine particles are used as the refractive index adjusting material in the low refractive index layer 15, the average particle diameter is preferably 1 to 200 nm. With this average particle size, the transparency can be prevented from being greatly affected. When hollow silica fine particles are used, the average particle size is preferably 5 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm, and particularly preferably 20 to 70 nm.

微粒子の配合量は、特に制限はないが、紫外線硬化性樹脂等のバインダ樹脂100質量部に対して5〜90質量部が好ましく、10〜70質量部が更に好ましい。
また、低屈折率層15は、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、又はアクリルシリコーン樹脂等を含む有機薄膜層としても良い。フッ素樹脂としては、上述のフッ素樹脂微粒子と同様なフッ素樹脂が挙げられる。有機薄膜を形成する場合、例えば、これらの屈折率調整材料を、後述する紫外線硬化樹脂等のバインダ樹脂と混合した組成物を塗工し、硬化させることで形成することができる。
Although the compounding quantity of microparticles | fine-particles does not have a restriction | limiting in particular, 5-90 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of binder resins, such as ultraviolet curable resin, and 10-70 mass parts is still more preferable.
Moreover, the low refractive index layer 15 is good also as an organic thin film layer containing a fluororesin, a silicone resin, or an acrylic silicone resin. Examples of the fluororesin include the same fluororesins as the above-mentioned fluororesin fine particles. In the case of forming an organic thin film, for example, these refractive index adjusting materials can be formed by applying and curing a composition in which a binder resin such as an ultraviolet curable resin described later is mixed.

熱線反射層14と低屈折率層15の間に、高屈折率層を形成する場合、例えば、後述する紫外線硬化樹脂等のバインダ樹脂に金属酸化物微粒子等の屈折率調整材料を分散させた組成物を塗工し、硬化させることで形成することができる。高屈折率層に用いられる金属酸化物微粒子としては、ITO、ATO、Sb25、Sb23、SbO2、In23、SnO2、ZnO、ZrO2、AlをドープしたZnO、TiO2等が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、平均粒径10〜50nmのものが好ましく、特にZrO2の微粒子が好ましい。高屈折率層を形成する場合、高屈折率層の層厚は、20〜300nmが好ましく、40〜200nmが更に好ましい。 When a high refractive index layer is formed between the heat ray reflective layer 14 and the low refractive index layer 15, for example, a composition in which a refractive index adjusting material such as metal oxide fine particles is dispersed in a binder resin such as an ultraviolet curable resin described later. It can be formed by applying and curing an object. As metal oxide fine particles used for the high refractive index layer, ITO, ATO, Sb 2 O 5 , Sb 2 O 3 , SbO 2 , In 2 O 3 , SnO 2 , ZnO, ZrO 2 , ZnO doped with Al, TiO 2 and the like. As the metal oxide fine particles, those having an average particle diameter of 10 to 50 nm are preferable, and ZrO 2 fine particles are particularly preferable. When forming a high refractive index layer, the thickness of the high refractive index layer is preferably 20 to 300 nm, and more preferably 40 to 200 nm.

本発明において、導電性高分子からなる熱線反射層14の表面抵抗値は、好ましく は100000Ω/□以下である。この表面抵抗値であれば、低屈折率層15が形成されていても自由電子密度が十分高く、十分な断熱性が得られる。表面抵抗値は、更に好ましくは10000Ω/□以下であり、特に1000Ω/□以下である。   In the present invention, the surface resistance value of the heat ray reflective layer 14 made of a conductive polymer is preferably 100000Ω / □ or less. With this surface resistance value, even if the low refractive index layer 15 is formed, the free electron density is sufficiently high and sufficient heat insulation is obtained. The surface resistance value is more preferably 10000Ω / □ or less, particularly 1000Ω / □ or less.

導電性高分子からなる熱線反射層14の層厚は、好ましくは10〜3000nmであり、更に好ましくは100〜2000nm、特に150〜1500nmである。   The layer thickness of the heat ray reflective layer 14 made of a conductive polymer is preferably 10 to 3000 nm, more preferably 100 to 2000 nm, and particularly 150 to 1500 nm.

本発明において、接着剤層12、透明プラスチックフィルム13は無くても良く、熱線反射層14がガラス板11の表面上に直接形成されていても良い。   In the present invention, the adhesive layer 12 and the transparent plastic film 13 may be omitted, and the heat ray reflective layer 14 may be directly formed on the surface of the glass plate 11.

[熱線反射層]
熱線反射層14を形成する導電性高分子は、一般に共役型の二重結合を基本骨格に有する有機高分子で、具体的にはポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリフラン、ポリフルオレン、ポリフェニレンビニレン、これらの誘導体、及びこれらを構成する単量体の共重合物から選ばれた導電性高分子のいずれか1種又は2種以上の混合物が好ましく挙げられる。中でも、水又はその他の溶媒に対して可溶性、又は分散性を有し、高い導電性及び透明性を示す、ポリチオフェン誘導体が好ましい。特に、下記式(I):
[Heat ray reflective layer]
The conductive polymer forming the heat ray reflective layer 14 is generally an organic polymer having a conjugated double bond as a basic skeleton, specifically, polythiophene, polypyrrole, polyaniline, polyacetylene, polyparaphenylene, polyfuran, polyfluorene. , Polyphenylene vinylene, derivatives thereof, and any one or a mixture of two or more conductive polymers selected from copolymers of monomers constituting them are preferable. Among these, polythiophene derivatives that are soluble or dispersible in water or other solvents and exhibit high conductivity and transparency are preferable. In particular, the following formula (I):

Figure 2012121277
Figure 2012121277

(式中、R及びRは、それぞれ独立して水素原子若しくは炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、又はR及びRが一緒になって任意に置換されていても良い炭素原子数1〜4のアルキレン基を表し、nは50〜1000の整数を表す)で表される繰り返し単位を含むポリチオフェン誘導体が好ましい。 (In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or R 1 and R 2 together may be optionally substituted carbon. A polythiophene derivative containing a repeating unit represented by an alkylene group having 1 to 4 atoms and n represents an integer of 50 to 1000 is preferable.

式(I)において、R及びRが一緒になって、形成する置換基としていても良い炭素原子数1〜4のアルキレン基としては、具体的にはアルキル基で置換されたメチレン基、任意に炭素原子数1〜12のアルキル基又はフェニル基で置換されたエチレン−1,2基、プロピレン−1,3基、ブテン−1,4基を形成する基等が挙げられる。 In the formula (I), R 1 and R 2 are combined to form an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms which may be used as a substituent, specifically, a methylene group substituted with an alkyl group, Examples thereof include groups that form ethylene-1,2 groups, propylene-1,3 groups, butene-1,4 groups optionally substituted with alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms or phenyl groups.

式(I)におけるR1及びR2として、好ましくはメチル基又はエチル基であるか、R及びRが一緒になって形成するメチレン基、エチレン−1,2基又はプロピレン−1,3基である。特に好ましいポリチオフェン誘導体としては、下記式(II): As R1 and R2 in formula (I), preferably either a methyl group or an ethyl group, methylene group R 1 and R 2 form together an ethylene-1,2 radical or propylene-1,3 radical is there. Particularly preferred polythiophene derivatives include the following formula (II):

Figure 2012121277
Figure 2012121277

(式中、pは50〜1000の整数を表す)で示される繰り返し単位、即ち、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)単位を有するポリチオフェン誘導体である。 (Wherein p represents an integer of 50 to 1000), that is, a polythiophene derivative having a poly (3,4-ethylenedioxythiophene) unit.

導電性高分子は、更にドーパント(電子供与剤)を含むことが好ましい。ドーパントとしては、例えば、ポリスチレンスルホン酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリマレイン酸、ポリビニルスルホン酸が好ましく挙げられる。特に、ポリスチレンスルホン酸が好ましい。これらにより導電性高分子の導電性を向上することができ、熱線反射層14の近赤外線遮蔽効果を高めることができる。ドーパントの数平均分子量Mnは、好ましくは1,000〜2,000,000であり、特に好ましくは2,000〜500,000である。   The conductive polymer preferably further contains a dopant (electron donor). Preferred examples of the dopant include polystyrene sulfonic acid, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polymaleic acid, and polyvinyl sulfonic acid. In particular, polystyrene sulfonic acid is preferable. By these, the electroconductivity of a conductive polymer can be improved and the near-infrared shielding effect of the heat ray reflective layer 14 can be improved. The number average molecular weight Mn of the dopant is preferably 1,000 to 2,000,000, particularly preferably 2,000 to 500,000.

ドーパントの含有量は導電性高分子100質量部に対して、通常20〜2000質量部であり、好ましくは、40〜200質量部である。例えば、式(II)のポリチオフェン誘導体を導電性高分子とし、ポリスチレンスルホン酸をドーパントとして使用する場合はポリチオフェン100質量部に対して、ポリスチレンスルホン酸100〜200質量部が好ましく、特に120〜180質量部が好ましい。   Content of a dopant is 20-2000 mass parts normally with respect to 100 mass parts of conductive polymers, Preferably, it is 40-200 mass parts. For example, when the polythiophene derivative of the formula (II) is a conductive polymer and polystyrene sulfonic acid is used as a dopant, 100 to 200 parts by mass of polystyrene sulfonic acid is preferable with respect to 100 parts by mass of polythiophene, and particularly 120 to 180 parts by mass. Part is preferred.

導電性高分子からなる熱線反射層は、従来公知の方法で形成できる。例えば、導電性高分子が溶解又は分散した塗工液を透明プラスチックフィルム又はガラス板又は接着剤層の表面上に、バーコーター法、ロールコーター法、カーテンフロー法、スプレー法など適当な方法を用いて塗工し、乾燥して形成する。塗工液に用いる溶媒としては、水;メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類;アセトフェノン、メチルエチルケトン等のケトン類;四塩化炭素及びフッ化炭化水素等のハロゲン化炭化水素;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類;テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル等のエーテル類;N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類が好ましく挙げられる。特に、水、アルコール類が好ましい。   The heat ray reflective layer made of a conductive polymer can be formed by a conventionally known method. For example, a coating solution in which a conductive polymer is dissolved or dispersed is applied to the surface of a transparent plastic film or glass plate or an adhesive layer using an appropriate method such as a bar coater method, a roll coater method, a curtain flow method, or a spray method. Apply and dry to form. Solvents used in the coating liquid include water; alcohols such as methanol, ethanol and propanol; ketones such as acetophenone and methyl ethyl ketone; halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride and fluorinated hydrocarbons; ethyl acetate and butyl acetate. Preferred examples include esters such as tetrahydrofuran, dioxane and diethyl ether; and amides such as N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide and N-methylpyrrolidone. In particular, water and alcohols are preferable.

[バインダ樹脂]
低屈折率層15(必要に応じて高屈折率層)に用いるバインダ樹脂としては、熱線反射層14を雨水、結露、湿気等の水分から保護することができれば特に制限は無いが、更に表面を擦り傷、欠き傷等の物理的な損傷から保護するために、硬化性の合成樹脂である紫外線硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂を用いることが好ましい。特に、紫外線硬化性樹脂は、より短時間で硬化させることができ、生産性に優れているので好ましい。紫外線硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコーン樹脂などを挙げることができ、紫外線硬化性樹脂は光重合開始剤等とともに紫外線硬化性樹脂組成物とし、熱硬化性樹脂は熱重合開始剤等とともに熱硬化性樹脂組成物として使用する。
紫外線硬化性樹脂(モノマー、オリゴマー)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルポリエトキシ(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、フェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンモノ(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、N−ビニルカプロラクタム、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、o−フェニルフェニルオキシエチル(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリス〔(メタ)アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートモノマー類;ポリオール化合物(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールAポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等)と有機ポリイソシアネート(例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、2,4,4′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、2,2′−4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等)と水酸基含有(メタ)アクリレート(例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキサン−1,4−ジメチロールモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等)の反応物であるポリウレタン(メタ)アクリレート、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は1種又は2種以上、混合して使用することができる。
[Binder resin]
The binder resin used for the low refractive index layer 15 (high refractive index layer as necessary) is not particularly limited as long as the heat ray reflective layer 14 can be protected from moisture such as rainwater, condensation, moisture, etc. In order to protect from physical damage such as scratches and notches, it is preferable to use an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin which is a curable synthetic resin. In particular, an ultraviolet curable resin is preferable because it can be cured in a shorter time and has excellent productivity. Examples of the ultraviolet curable resin or thermosetting resin include phenolic resin, resorcinol resin, urea resin, melamine resin, epoxy resin, acrylic resin, urethane resin, furan resin, and silicone resin. An ultraviolet curable resin composition is used together with a photopolymerization initiator and the like, and a thermosetting resin is used as a thermosetting resin composition together with a thermal polymerization initiator and the like.
Examples of the ultraviolet curable resin (monomer, oligomer) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl polyethoxy (meth) acrylate. , Benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, phenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecane mono (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, acryloylmorpholine , N-vinylcaprolactam, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylate, o-phenylphenyloxyethyl (meth) acrylate, neopentylglyce Di (meth) acrylate, neopentyl glycol dipropoxy di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate hydroxypivalate, tricyclodecane dimethylol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) Acrylate, nonanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, ditrimethylolpropane (Meth) acrylate monomers such as tetra (meth) acrylate; polyol compounds (for example, ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, , 6-hexanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,9-nonanediol, 2-ethyl-2-butyl-1,3-propanediol, trimethylolpropane, diethylene glycol, dipropylene glycol, polypropylene Polyols such as glycol, 1,4-dimethylolcyclohexane, bisphenol A polyethoxydiol, polytetramethylene glycol, the polyols and succinic acid, maleic acid, itaconic acid, adipic acid, hydrogenated dimer acid, phthalic acid, isophthalic acid Polyester polyols which are reaction products of polybasic acids such as acid and terephthalic acid or acid anhydrides thereof, polycaprolactone polyols which are reaction products of the polyols and ε-caprolactone, the polyols and the above, Polybasic acid or this Reaction products of these acid anhydrides with ε-caprolactone, polycarbonate polyols, polymer polyols, etc.) and organic polyisocyanates (for example, tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, diisocyanate) Cyclopentanyl diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 2,4,4′-trimethylhexamethylene diisocyanate, 2,2′-4-trimethylhexamethylene diisocyanate, etc.) and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate (for example, 2-hydroxyethyl (meta ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acrylic Rate, cyclohexane-1,4-dimethylol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, etc.) (Meth) such as bisphenol type epoxy (meth) acrylate, which is a reaction product of bisphenol type epoxy resin such as polyurethane (meth) acrylate, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin and (meth) acrylic acid which is a reaction product Examples include acrylate oligomers. These compounds can be used alone or in combination.

これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。   These ultraviolet curable resins may be used as a thermosetting resin together with a thermal polymerization initiator.

低屈折率層15をハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂(モノマー、オリゴマー)の内、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。   In order to make the low refractive index layer 15 a hard coat layer, among the above-mentioned ultraviolet curable resins (monomer, oligomer), pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meta) ) It is preferable to mainly use hard polyfunctional monomers such as acrylate and trimethylolpropane tri (meth) acrylate.

紫外線硬化性樹脂とともに用いる光重合開始剤としては、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、2−4−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル)−2−モルホリノプロパン−1、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、4−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第3級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の1種または2種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの1種又は2種以上の混合で使用することができる。特に1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)が好ましい。光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に0.1〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。   As the photopolymerization initiator used together with the ultraviolet curable resin, any compound suitable for the properties of the ultraviolet curable resin can be used. For example, acetophenone such as 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1 Benzoin series such as benzyl dimethyl ketal, benzophenone, 4-phenylbenzophenone, benzophenone series such as hydroxybenzophenone, thioxanthone series such as isopropylthioxanthone, 2-4-diethylthioxanthone, and other special types include methylphenyl glyoxylate Etc. can be used. Particularly preferably, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-1- (4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropane-1, Examples include benzophenone. These photopolymerization initiators may be optionally selected from one or more known photopolymerization accelerators such as benzoic acid type or tertiary amine type such as 4-dimethylaminobenzoic acid. It can be used by mixing at a ratio. Moreover, it can be used by 1 type, or 2 or more types of mixture of only a photoinitiator. Particularly preferred is 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals). Generally the quantity of a photoinitiator is 0.1-10 mass% with respect to a resin composition, Preferably it is 0.1-5 mass%.

熱硬化性樹脂とともに用いる熱重合開始剤として、加熱により重合を開始させる官能基を含む化合物である有機過酸化物やカチオン重合開始剤が挙げられ、中でも有機過酸化物が好ましい。例えば、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン(、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサネート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカルボネート等が好ましく挙げられる。特に好ましくは、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルパーオキシ)ヘキサンである。熱重合開始剤は、1種又は2種以上の混合で使用することができる。熱重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して、一般に0.01〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。   Examples of the thermal polymerization initiator used together with the thermosetting resin include organic peroxides and cationic polymerization initiators which are compounds containing a functional group that initiates polymerization by heating, and organic peroxides are preferred. For example, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane (2,5-dimethyl) Preferred examples include -2,5-bis (t-butylperoxy) hexane, t-butylperoxy 2-ethylhexanate, t-butylperoxybenzoate, and t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate. Are 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane and 2,5-dimethyl-2,5-bis (t-butylperoxy) hexane. The amount of the thermal polymerization initiator is generally 0.01 to 10% by mass relative to the resin composition. Mashiku is 0.1 to 5 mass%.

低屈折率層15は、必要に応じて、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいても良い。その量は、樹脂組成物に対して一般に0.1〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。   The low refractive index layer 15 may contain a small amount of an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an anti-aging agent, a paint processing aid, a colorant, and the like, if necessary. The amount thereof is generally 0.1 to 10% by mass, preferably 0.1 to 5% by mass, based on the resin composition.

低屈折率層15(必要に応じて高屈折率層)を形成するには、例えば、上記屈折率調整材料、バインダ樹脂組成物(好ましくは紫外線硬化性樹脂と光重合開始剤、又は熱硬化性樹脂と熱重合開始剤)及び必要に応じてその他の添加剤を配合した塗工液を、熱線反射層14の表面に塗工し、次いで乾燥した後、紫外線照射による硬化、又は熱処理による硬化をすればよい。   In order to form the low refractive index layer 15 (a high refractive index layer as necessary), for example, the refractive index adjusting material, the binder resin composition (preferably an ultraviolet curable resin and a photopolymerization initiator, or thermosetting). Resin and thermal polymerization initiator) and, if necessary, a coating solution containing other additives is applied to the surface of the heat ray reflective layer 14 and then dried, followed by curing by ultraviolet irradiation or curing by heat treatment. do it.

紫外線硬化樹脂の場合、塗工の具体的な方法として、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂組成物をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。   In the case of an ultraviolet curable resin, as a specific method of coating, a gravure coater or the like is used to coat a coating solution obtained by dissolving an ultraviolet curable resin composition containing an acrylic monomer or the like with a solvent such as toluene, and then dried. Then, a method of curing with ultraviolet rays can be mentioned. This wet coating method has the advantage that the film can be uniformly formed at high speed at low cost. After this coating, for example, by irradiating with ultraviolet rays and curing, effects of improving adhesion and increasing the hardness of the film can be obtained.

紫外線硬化樹脂の場合、窒素雰囲気下で硬化させると、空気中の酸素による重合阻害を排除することができるので、より硬度が高い低屈折率層15とすることができる。本発明においては、低屈折率層は、好ましくは50〜350nmの薄層であるため、窒素雰囲気下での紫外線硬化は、薄層でより硬度の高い低屈折率層15とすることができる点で有効である。   In the case of an ultraviolet curable resin, when it is cured in a nitrogen atmosphere, polymerization inhibition due to oxygen in the air can be eliminated, so that the low refractive index layer 15 having higher hardness can be obtained. In the present invention, since the low refractive index layer is preferably a thin layer having a thickness of 50 to 350 nm, ultraviolet curing under a nitrogen atmosphere can be made into a thin and higher hardness low refractive index layer 15. It is effective in.

紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザ光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を40〜120℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。   In the case of ultraviolet curing, many light sources that emit light in the ultraviolet to visible range can be used as the light source, such as ultra-high pressure, high pressure, low pressure mercury lamp, chemical lamp, xenon lamp, halogen lamp, mercury lamp, carbon arc lamp, incandescent lamp. And laser light. The irradiation time cannot be determined unconditionally depending on the type of lamp and the intensity of the light source, but is about several seconds to several minutes. Moreover, in order to accelerate curing, the laminate may be preheated to 40 to 120 ° C. and irradiated with ultraviolet rays.

熱線反射層14と低屈折率層15との間に高屈折率層を形成する場合、熱線反射層14の表面に高屈折率層、低屈折率層15をこの順で塗工した後、一度に紫外線照射等で硬化しても良く、熱線反射層14の表面に高屈折率層を塗工し、紫外線照射等で硬化し、次いで低屈折率層15を塗工し紫外線照射等で硬化しても良い。硬化前の塗工層は傷がつき易いので、各層毎に硬化することが好ましい。   When a high refractive index layer is formed between the heat ray reflective layer 14 and the low refractive index layer 15, the high refractive index layer and the low refractive index layer 15 are applied to the surface of the heat ray reflective layer 14 in this order, and then once. It may be cured by ultraviolet irradiation or the like, and a high refractive index layer is coated on the surface of the heat ray reflective layer 14 and cured by ultraviolet irradiation or the like, and then a low refractive index layer 15 is coated and cured by ultraviolet irradiation or the like. May be. Since the coating layer before curing is easily damaged, it is preferable to cure each layer.

以下に、本発明の熱線遮蔽ガラスを構成する他の要素について説明する。   Below, the other element which comprises the heat ray shielding glass of this invention is demonstrated.

[ガラス板]
本発明におけるガラス板は透明基板であれば良く、例えば、グリーンガラス、珪酸塩ガラス、無機ガラス板、無着色透明ガラス板などのガラス板の他、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチレンブチレート、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等のプラスチック製の基板又はフィルムを用いてもよい。耐候性、耐衝撃性等の点でガラス板が好ましい。ガラス板の厚さは、1〜20mm程度が一般的である。
[Glass plate]
The glass plate in the present invention may be a transparent substrate, for example, a glass plate such as green glass, silicate glass, inorganic glass plate, non-colored transparent glass plate, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN). Alternatively, a plastic substrate or film such as polyethylene butyrate or polymethyl methacrylate (PMMA) may be used. A glass plate is preferable in terms of weather resistance, impact resistance and the like. As for the thickness of a glass plate, about 1-20 mm is common.

[透明プラスチックフィルム]
本発明における透明プラスチックフィルムは、透明(「可視光に対して透明」を意味する。)なプラスチックフィルムであれば特に制限はない。プラスチックフィルムの例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム、ポリメチルメタクリレート(PMMA)フィルム、ポリカーボネート(PC)フィルム、ポリエチレンブチレートフィルム等を挙げることができ、特に加工時の熱、溶剤、折り曲げ等の負荷に対する耐性が高く、透明性が高い点で、PETフィルムが好ましい。また、透明プラスチックフィルム表面には、接着性を向上させるために、予めコロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、プライマー層コート処理などの接着処理を施してもよく、共重合ポリエステル樹脂やポリウレタン樹脂等の熱硬化性樹脂等の易接着層を設けてもよい。透明プラスチックフィルムの厚さは、一般に、1μm〜10mm、好ましくは10〜400μmであり、特に20〜200μmが好ましい。
[Transparent plastic film]
The transparent plastic film in the present invention is not particularly limited as long as it is a transparent plastic film (meaning “transparent to visible light”). Examples of plastic films include polyethylene terephthalate (PET) film, polyethylene naphthalate (PEN) film, polymethyl methacrylate (PMMA) film, polycarbonate (PC) film, polyethylene butyrate film, especially during processing. A PET film is preferred because of its high resistance to heat, solvent, bending and other loads, and high transparency. Moreover, in order to improve adhesiveness, the transparent plastic film surface may be subjected to adhesion treatment such as corona treatment, plasma treatment, flame treatment, primer layer coating treatment in advance, such as copolymer polyester resin and polyurethane resin. An easily adhesive layer such as a thermosetting resin may be provided. The thickness of the transparent plastic film is generally 1 μm to 10 mm, preferably 10 to 400 μm, and particularly preferably 20 to 200 μm.

[接着剤層]
本発明における接着剤層は、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−(メタ)アクリレート共重合体などのエチレン系共重合体を使用することができる(なお、「(メタ)アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。)。また、接着剤層には、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、SEBS及びSBS等の熱可塑性エラストマー等も用いることができる。なかでも、優れた接着性を示し、高い透明性を有することからEVAを用いるのが好ましい。
[Adhesive layer]
The adhesive layer in the present invention comprises an ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), an ethylene-methyl acrylate copolymer, an ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, an ethylene- (meth) ethyl acrylate copolymer. , Ethylene- (meth) acrylate methyl copolymer, metal ion cross-linked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, carboxylated ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene- ( Ethylene-based copolymers such as (meth) acrylic-maleic anhydride copolymer and ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymer can be used ("(meth) acryl" means "acrylic or methacrylic" Is shown.) For the adhesive layer, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, phenol resin, silicone resin, polyester resin, urethane resin, rubber adhesive, thermoplastic elastomer such as SEBS and SBS, and the like can also be used. Among these, EVA is preferably used because it exhibits excellent adhesiveness and high transparency.

接着剤層に用いられるEVAは、酢酸ビニル含有率が、EVA100質量部に対して、23〜38質量部であり、特に23〜28質量部であることが好ましい。これにより接着性及び透明性に優れる接着剤層を得ることができる。またEVAのメルト・フロー・インデックス(MFR)が、4.0〜30.0g/10分、特に8.0〜18.0g/10分であることが好ましい。予備圧着が容易になる。   EVA used for the adhesive layer has a vinyl acetate content of 23 to 38 parts by mass, particularly preferably 23 to 28 parts by mass with respect to 100 parts by mass of EVA. Thereby, the adhesive bond layer excellent in adhesiveness and transparency can be obtained. Moreover, it is preferable that the melt flow index (MFR) of EVA is 4.0-30.0 g / 10min, especially 8.0-18.0g / 10min. Pre-crimping becomes easy.

接着剤層にエチレン系共重合体を用いる場合、更に有機過酸化物を含むのが好ましい。有機過酸化物により架橋硬化させることにより、隣接する層とガラス板等を更に接合一体化することができる。有機過酸化物としては、100℃以上の温度で分解してラジカルを発生するものであれば、どのようなものでも併用することもできる。有機過酸化物は、一般に、成膜温度、組成物の調整条件、硬化(貼り合わせ)温度、被着体の耐熱性、貯蔵安定性を考慮して選択される。特に、半減期10時間の分解温度が70℃以上のものが好ましい。   When using an ethylene-type copolymer for an adhesive bond layer, it is preferable to contain an organic peroxide further. By crosslinking and curing with an organic peroxide, adjacent layers and a glass plate can be further joined and integrated. Any organic peroxide may be used in combination as long as it decomposes at a temperature of 100 ° C. or higher and generates radicals. The organic peroxide is generally selected in consideration of the film formation temperature, the adjustment conditions of the composition, the curing (bonding) temperature, the heat resistance of the adherend, and the storage stability. In particular, those having a decomposition temperature of 70 hours or more with a half-life of 10 hours are preferred.

この有機過酸化物の例としては、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン−3−ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジクミルパーオキサイド、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、メチルエチルケトンパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオキシベンゾエート、ブチルハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキサイド、ヒドロキシヘプチルパーオキサイド、クロロヘキサノンパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、クミルパーオキシオクトエート、コハク酸パーオキサイド、アセチルパーオキサイド、m−トルオイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソブチレーオ及び2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイドを挙げることができる。
また、接着剤層は、更に架橋助剤や接着向上剤としてシランカップリング剤を含むのが好ましい。
Examples of this organic peroxide include 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane-3-di- t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, dicumyl peroxide, α, α′-bis (t-butylperoxy) Isopropyl) benzene, n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3 , 3,5-trimethylcyclohexane, t-butyl peroxybenzoate, benzoyl peroxide, t-butyl peroxyacetate, methyl ethyl ketone pero Side, 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisperoxybenzoate, butyl hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, p-chlorobenzoyl peroxide, hydroxyheptyl peroxide, chlorohexanone peroxide, octanoyl peroxide Oxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide, cumyl peroxy octoate, succinic acid peroxide, acetyl peroxide, m-toluoyl peroxide, t-butyl peroxyisobutylene and 2,4-dichlorobenzoyl peroxide Can be mentioned.
The adhesive layer preferably further contains a silane coupling agent as a crosslinking aid or adhesion improver.

架橋助剤としては、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等に複数のアクリル酸あるいはメタクリル酸をエステル化したエステル、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートなどの多官能化合物を挙げることができる。   Examples of the crosslinking aid include polyfunctional compounds such as esters obtained by esterifying a plurality of acrylic acid or methacrylic acid with glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, and the like, triallyl cyanurate, and triallyl isocyanurate.

シランカップリング剤の例として、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランを挙げることができる。これらシランカップリング剤は、単独で使用しても、又は2種以上組み合わせて使用しても良い。また上記化合物の含有量は、エチレン系共重合体100質量部に対して5質量部以下であることが好ましい。   Examples of silane coupling agents include γ-chloropropylmethoxysilane, vinylethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy. Silane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β Mention may be made of-(aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more. Moreover, it is preferable that content of the said compound is 5 mass parts or less with respect to 100 mass parts of ethylene-type copolymers.

接着樹脂層は、種々の物性(機械的強度、接着性、透明性等の光学的特性、耐熱性、耐光性、架橋速度等)の改良あるいは調整、特に機械的強度、耐光性の改良のため、アクリロキシ基含有化合物、メタクリロキシ基含有化合物、エポキシ基含有化合物、可塑剤、紫外線吸収剤を含んでいることが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾエート系化合物及び、ヒンダードアミン系化合物を挙げることができる。黄変を抑制する観点から、ベンゾフェノン系化合物が好ましい。上記紫外線吸収剤は、エチレン系共重合体100質量部に対して0.01〜1.5質量部(特に0.5〜1.0質量部)使用することが好ましい。   The adhesive resin layer is used to improve or adjust various physical properties (optical properties such as mechanical strength, adhesiveness, and transparency, heat resistance, light resistance, crosslinking speed, etc.), especially to improve mechanical strength and light resistance. It preferably contains an acryloxy group-containing compound, a methacryloxy group-containing compound, an epoxy group-containing compound, a plasticizer, and an ultraviolet absorber. Examples of the ultraviolet absorber include benzophenone compounds, triazine compounds, benzoate compounds, and hindered amine compounds. From the viewpoint of suppressing yellowing, benzophenone compounds are preferred. The ultraviolet absorber is preferably used in an amount of 0.01 to 1.5 parts by mass (particularly 0.5 to 1.0 part by mass) with respect to 100 parts by mass of the ethylene copolymer.

接着剤層の厚さは、100〜2000μm、特に400〜1000μmであるのが好ましい。   The thickness of the adhesive layer is preferably 100 to 2000 μm, particularly 400 to 1000 μm.

エチレン系共重合体を含む接着剤層を作製するには、例えば、エチレン系共重合体及び有機過酸化物等を含む組成物を、通常の押出成形、カレンダ成形(カレンダリング)等により成形して層状物を得る方法などを用いることができる。組成物の混合は、40〜90℃、特に60〜80℃の温度で加熱混練することにより行うのが好ましい。また、製膜時の加熱温度は、架橋剤が反応しない或いはほとんど反応しない温度とすることが好ましい。例えば、40〜90℃、特に50〜80℃とするのが好ましい。接着剤層は透明プラスチックフィルムやガラス板の表面に直接形成しても良く、別途、フィルム状の接着剤シートを使用して形成しても良い。   In order to produce an adhesive layer containing an ethylene copolymer, for example, a composition containing an ethylene copolymer and an organic peroxide is formed by ordinary extrusion molding, calendar molding (calendering), or the like. For example, a method for obtaining a layered product can be used. The composition is preferably mixed by heating and kneading at a temperature of 40 to 90 ° C, particularly 60 to 80 ° C. The heating temperature during film formation is preferably a temperature at which the crosslinking agent does not react or hardly reacts. For example, it is preferably 40 to 90 ° C, particularly 50 to 80 ° C. The adhesive layer may be formed directly on the surface of a transparent plastic film or glass plate, or may be formed separately using a film-like adhesive sheet.

本発明に係る熱線遮蔽ガラスを製造するには、例えば、熱線反射層を形成した透明プラスチックフィルム(必要に応じて、熱線遮蔽層を熱線反射層の下層側に形成しても良い)、及びガラス板を用意し、上記のような接着剤層(透明プラスチックフィルムの熱線反射層等を形成した面と反対側の表面に形成するか、接着剤シートをガラス板上に積層する)を介して、上記の熱線反射層等を形成した透明プラスチックフィルムとガラス板を積層した積層体を脱気した後、加熱下(好ましくは40〜200℃で1〜120分間、特に60〜150℃で1〜20分間)に押圧(好ましくは1.0×10Pa〜5.0×10Paの圧力)して接着一体化すれば良い。これらの工程は例えば、真空袋方式、ニップロール方式等で行うことができる。 In order to produce the heat ray shielding glass according to the present invention, for example, a transparent plastic film having a heat ray reflecting layer (if necessary, the heat ray shielding layer may be formed on the lower layer side of the heat ray reflecting layer), and glass Prepare a plate, through the adhesive layer as described above (formed on the surface opposite to the surface on which the heat ray reflective layer etc. of the transparent plastic film is formed, or laminate the adhesive sheet on the glass plate), After deaeration of the laminate obtained by laminating the transparent plastic film and the glass plate on which the heat ray reflective layer or the like is formed, heating is performed (preferably at 40 to 200 ° C. for 1 to 120 minutes, particularly at 60 to 150 ° C. for 1 to 20). It is sufficient that the pressure is pressed (preferably a pressure of 1.0 × 10 3 Pa to 5.0 × 10 7 Pa) for one minute to bond and integrate. These steps can be performed, for example, by a vacuum bag method, a nip roll method, or the like.

例えば、接着剤層にEVAを使用した場合、一般に100〜150℃(特に130℃付近)で、10分〜1時間架橋させる。これは、積層体を脱気したのち、例えば80〜120℃の温度で予備圧着し、100〜150℃(特に130℃付近)で、10分〜1時間加熱処理することにより行われる。架橋後の冷却は一般に室温で行われるが、特に、冷却は速いほど好ましい。
透明プラスチックフィルムを使用しない場合でも、熱線遮蔽層及び熱線反射層のガラス板への密着性を高めるため、ガラス板上に接着剤層を設けることもできる。
For example, when EVA is used for the adhesive layer, it is generally crosslinked at 100 to 150 ° C. (particularly around 130 ° C.) for 10 minutes to 1 hour. This is performed by degassing the laminated body, and pre-pressing at a temperature of, for example, 80 to 120 ° C., and performing a heat treatment at 100 to 150 ° C. (particularly around 130 ° C.) for 10 minutes to 1 hour. Cooling after crosslinking is generally performed at room temperature, and in particular, the faster the cooling, the better.
Even when a transparent plastic film is not used, an adhesive layer can be provided on the glass plate in order to improve the adhesion of the heat ray shielding layer and the heat ray reflective layer to the glass plate.

[複層ガラス]
本発明の熱線遮蔽ガラスは、複層ガラスに用いられるのが好ましい。本発明の熱線遮蔽ガラスを複層ガラスとすることにより、更に、熱線反射層を雨水、結露、湿気等の水分から保護するとともに擦り傷、掻き傷等の物理的損傷からも保護することができるので、更に長期間性能を維持することができる。
[Multilayer glass]
It is preferable that the heat ray shielding glass of the present invention is used for a multilayer glass. By making the heat ray shielding glass of the present invention into a multilayer glass, the heat ray reflective layer can be further protected from moisture such as rain water, condensation, moisture and the like, as well as from physical damage such as scratches and scratches. Further, the performance can be maintained for a longer period.

図2は、本発明の複層ガラスの代表的な一例を表す概略断面図である。図示の通り、本発明の複層ガラス30は、本発明の熱線遮蔽ガラス20(ガラス板21の表面上に接着剤層22、透明プラスチックフィルム23、導電性高分子からなる熱線反射層24、低屈折率層25が順に積層一体化されている)、熱線遮蔽ガラス20と間隙をおいて対向するように配置された別のガラス板27、これらの外周部に配置され接着剤(図示していない)によりこれらを接合しているスペーサー29、及びスペーサー29によって熱線遮蔽ガラス20とガラス板27との間に形成された中空層28から構成されている。中空層28が形成されていることにより、更に断熱性を付与される。また、複層ガラス30において、熱線遮蔽ガラス20は、低屈折率層25が表面に形成された熱線反射層24がガラス板27に対向するように配置されている。これにより、熱線反射層24を雨水、結露、湿気等の水分から保護するとともに擦り傷、掻き傷等の物理的損傷からも保護することができ、更に長期間、熱線遮蔽性、可視光透過性等の性能を維持することができる。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a typical example of the multilayer glass of the present invention. As shown in the drawing, the multilayer glass 30 of the present invention is composed of a heat ray shielding glass 20 of the present invention (an adhesive layer 22, a transparent plastic film 23, a heat ray reflective layer 24 made of a conductive polymer on the surface of a glass plate 21, a low The refractive index layer 25 is laminated and integrated in order), another glass plate 27 disposed so as to face the heat ray shielding glass 20 with a gap, and an adhesive (not shown) disposed on the outer peripheral portion thereof. ), And a hollow layer 28 formed between the heat ray shielding glass 20 and the glass plate 27 by the spacer 29. By forming the hollow layer 28, further heat insulation is imparted. In the multi-layer glass 30, the heat ray shielding glass 20 is disposed so that the heat ray reflective layer 24 having the low refractive index layer 25 formed on the surface thereof faces the glass plate 27. As a result, the heat ray reflective layer 24 can be protected from moisture such as rain water, dew condensation, moisture and the like, and can be protected from physical damage such as scratches and scratches. Performance can be maintained.

中空層としては、空気層、不活性ガス層などが用いられる。これらの中空層によれば、複層ガラスに求められる断熱性を向上するとともに、熱線反射層24の経時的劣化を抑制することができる。空気層は、スペーサー29内に乾燥剤を入れることにより乾燥空気を用いてもよい。不活性ガス層は、例えばクリプトンガス、アルゴンガス、及びキセノンガスなどの不活性ガスを含む。中空層の厚さは、6〜12mmであるのが好ましい。   An air layer, an inert gas layer, or the like is used as the hollow layer. According to these hollow layers, it is possible to improve the heat insulating properties required for the multilayer glass and to suppress the deterioration of the heat ray reflective layer 24 over time. The air layer may use dry air by placing a desiccant in the spacer 29. The inert gas layer includes an inert gas such as krypton gas, argon gas, and xenon gas. The thickness of the hollow layer is preferably 6 to 12 mm.

本発明の複層ガラスは、上述したように優れた熱線遮蔽性を長期間に亘り維持することができる。本発明の熱線遮蔽ガラスは低屈折率層により、熱線反射層が保護されているので、このような効果は、中空層として空気層を用いたとしても十分に得ることができる。この場合、乾燥剤を使用しない又は乾燥剤の使用量を低減することも可能であり、より簡易な構成とすることができる。   As described above, the multilayer glass of the present invention can maintain excellent heat ray shielding properties over a long period of time. Since the heat ray reflective layer of the heat ray shielding glass of the present invention is protected by the low refractive index layer, such an effect can be sufficiently obtained even when an air layer is used as the hollow layer. In this case, the desiccant is not used or the amount of the desiccant used can be reduced, and a simpler configuration can be obtained.

ガラス板としては、フロートガラス、型板ガラス、表面処理により光り拡散機能を備えたすりガラス、網入りガラス、線入板ガラス、強化ガラス、倍強化ガラス、低反射ガラス、高透過板ガラス、セラミック印刷ガラス、熱線や紫外線吸収機能を備えた特殊ガラスなど、種々のガラスを適宜選択して実施することができる。また、ガラス板の組成についても、ソーダ珪酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、ほう珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、各種結晶化ガラスなどを使用することができる。   As glass plates, float glass, template glass, ground glass with light diffusion function by surface treatment, netted glass, lined glass, tempered glass, double tempered glass, low reflection glass, high transmission plate glass, ceramic printing glass, heat ray Various glass such as special glass having a UV absorbing function can be selected as appropriate. Moreover, about the composition of a glass plate, soda silicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, various crystallized glass, etc. can be used.

複層ガラスの形状は、用途に応じて、矩形状、丸状、菱形状など、種々の形状とすることができる。複層ガラスの用途についても、建築物や乗り物(自動車、鉄道車両、船舶)用の窓ガラス、あるいは、プラズマディスプレイなどの機器要素をはじめとして、冷蔵庫や保温装置などのような各種装置の扉や壁部など、種々の用途に使用することができる。   The shape of the multi-layer glass can be various shapes such as a rectangular shape, a round shape, and a rhombus shape depending on applications. As for the use of double glazing, doors of various devices such as window glass for buildings and vehicles (automobiles, railway vehicles, ships), and equipment elements such as plasma displays, refrigerators, heat insulation devices, etc. It can be used for various applications such as walls.

本発明の複層ガラスを、比較的、緯度が低い地域など、温暖な地域において複層ガラスを建築物や車両などに使用する場合には、ガラス板が室内側、熱線遮蔽ガラスが室外側に配置されるのが好ましい。太陽光や室外から照射される近赤外線を効果的に遮蔽できるからである。一方、本発明の複層ガラスを比較的、緯度が高い地域など、寒冷地域で使用する場合には、ガラス板が室外側、熱線遮蔽ガラスが室内側に配置されるのが好ましい。
室内から放射される暖房等の赤外線を反射して逃がさず(断熱性)、暖房効率を高めることができるからである。本発明の複層ガラスは断熱性に優れるので、寒冷地域でより有効に使用することができる。
When the double-glazed glass of the present invention is used for a building or vehicle in a warm area such as a relatively low latitude area, the glass plate is on the indoor side and the heat ray shielding glass is on the outdoor side. Preferably it is arranged. This is because sunlight and the near infrared rays irradiated from the outside can be effectively shielded. On the other hand, when the double-glazed glass of the present invention is used in a cold region such as a region having a relatively high latitude, it is preferable that the glass plate is disposed on the outdoor side and the heat ray shielding glass is disposed on the indoor side.
This is because infrared rays such as heating emitted from the room are reflected and not escaped (heat insulation), and the heating efficiency can be improved. Since the double-glazed glass of the present invention is excellent in heat insulating properties, it can be used more effectively in cold regions.

以下に、実施例を示し、本発明についてさらに詳述する。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

1.熱線遮蔽ガラスの作製
[実施例1]
(1)熱線反射層の形成
PETフィルム(厚さ100μm)上に、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホン酸の混合物の水分散液(PT−400MF(ナガセケムテック社製)固形分1.3質量%)を、バーコーターを用いて塗布し、135℃、1分間乾燥させ、PETフィルム上に熱線反射層(厚さ300nm)を形成した。
(2)低屈折率層の形成
上記熱線反射層の表面に、下記配合の塗布液をロールコーターにより塗布し、80℃、1分乾燥後、塗布層の表面に紫外線照射(高圧水銀灯、照射距離20cm、照射時間5秒)して、厚さ90nmの低屈折率層を形成した。
(配合)
ジペンタヘキサアクリレート(DPHA): 20質量部
光重合開始剤(イルガキュア(登録商標)184(チバ・スペシャリティー・ケミカル(株)製)):2質量部
中空シリカ微粒子(平均粒径60nm)(スルーリア1420(触媒化成社製))(固形分20%):200質量部
(3)接着剤層の作製
下記配合の組成物を、カレンダ成形法によりシート状に圧延し、接着剤層(厚さ0.4mm)を得た。なお、配合物の混練は80℃で15分行い、またカレンダロールの温度は80℃、加工速度は5m/分であった。
(配合)
EVA(EVA100質量部に対する酢酸ビニルの含有量25質量部;ウルトラセン635(東ソー社製)):100質量部、
有機過酸化物(tert−ブチルパ−オキシ−2−エチルヘキシルカーボネート;トリゴノックス117(化薬アクゾ社製):2.5質量部、
架橋助剤(トリアリルイソシアヌレート;TAIC(登録商標)(日本化成社製)):2質量部、
シランカップリング剤(γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン;KBM503(信越化学社製)):0.5質量部
紫外線吸収剤:(ユビナール3049(BASF社製)):0.5質量部
(4)熱線遮蔽ガラスの作製
ガラス板(厚さ3mm)上に、接着剤層、上記PETフィルム(表面に熱線反射層、低屈折率層がこの順で形成されている)この順で積層した。得られた積層体を、100℃で30分間加熱することにより仮圧着を行った後、オートクレーブ中で圧力13×10Pa、温度140℃の条件で30分間加熱した。これにより、接着剤層を硬化させて、ガラス板とPETフィルム間が接着一体化された熱線遮蔽ガラス(図1)を得た。
1. Preparation of heat ray shielding glass [Example 1]
(1) Formation of heat ray reflective layer An aqueous dispersion of a mixture of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid on a PET film (thickness 100 μm) (PT-400MF (manufactured by Nagase Chemtech)) A solid content of 1.3% by mass was applied using a bar coater and dried at 135 ° C. for 1 minute to form a heat ray reflective layer (thickness 300 nm) on the PET film.
(2) Formation of a low refractive index layer A coating liquid having the following composition was applied to the surface of the heat ray reflective layer by a roll coater, dried at 80 ° C. for 1 minute, and then irradiated with ultraviolet rays (high pressure mercury lamp, irradiation distance). 20 cm, irradiation time 5 seconds), and a low refractive index layer having a thickness of 90 nm was formed.
(Combination)
Dipentahexaacrylate (DPHA): 20 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure (registered trademark) 184 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)): 2 parts by mass Hollow silica fine particles (average particle size 60 nm) (Thruria 1420 (manufactured by Catalyst Kasei Co., Ltd.)) (solid content 20%): 200 parts by mass (3) Production of Adhesive Layer A composition having the following composition was rolled into a sheet by a calendering method, and an adhesive layer (thickness 0) 4 mm). The blend was kneaded at 80 ° C. for 15 minutes, the calender roll temperature was 80 ° C., and the processing speed was 5 m / min.
(Combination)
EVA (content of vinyl acetate with respect to 100 parts by mass of EVA: 25 parts by mass; Ultrasen 635 (manufactured by Tosoh Corporation)): 100 parts by mass,
Organic peroxide (tert-butyl peroxy-2-ethylhexyl carbonate; Trigonox 117 (manufactured by Kayaku Akzo)): 2.5 parts by mass,
Cross-linking assistant (triallyl isocyanurate; TAIC (registered trademark) (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.)): 2 parts by mass,
Silane coupling agent (γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane; KBM503 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)): 0.5 part by mass UV absorber: (Ubinal 3049 (manufactured by BASF)): 0.5 part by mass (4) Production of heat ray shielding glass On a glass plate (thickness 3 mm), an adhesive layer and the PET film (a heat ray reflective layer and a low refractive index layer were formed in this order on the surface) were laminated in this order. The obtained laminate was temporarily pressed by heating at 100 ° C. for 30 minutes, and then heated in an autoclave for 30 minutes under conditions of a pressure of 13 × 10 5 Pa and a temperature of 140 ° C. Thereby, the adhesive layer was cured to obtain heat ray shielding glass (FIG. 1) in which the glass plate and the PET film were bonded and integrated.

[実施例2]
熱線反射層のポリチオフェン誘導体として、ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)及びポリスチレンスルホン酸の混合物の水分散液(Baytron P HC V4(HC スタルク社製)固形分1.3質量%)を用いた以外は、実施例1と同様に熱線遮蔽ガラスを作製した。
[Example 2]
As a polythiophene derivative of the heat ray reflective layer, an aqueous dispersion of a mixture of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid (Baytron P HC V4 (HC Starck Co., Ltd., solid content: 1.3% by mass)) is used. A heat ray shielding glass was produced in the same manner as in Example 1 except that.

[実施例3]
低屈折率層の層厚を200nmとした以外は実施例1と同様に熱線遮蔽ガラスを作製した。
[Example 3]
A heat ray shielding glass was produced in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the low refractive index layer was 200 nm.

[実施例4]
低屈折率層の層厚を200nmとした以外は実施例2と同様に熱線遮蔽ガラスを作製した。
[Example 4]
A heat ray shielding glass was produced in the same manner as in Example 2 except that the thickness of the low refractive index layer was 200 nm.

[実施例5]
低屈折率層に下記配合の塗工液を用いた以外は、実施例1と同様に熱線遮蔽ガラスを作製した。
(配合)
ジペンタヘキサアクリレート(DPHA):10質量部
光重合開始剤(イルガキュア(登録商標)184(BASFジャパン社製)):2質量部
フッ素樹脂(オプツールAR−110(ダイキン工業社製)(固形分15質量%):200質量部
メチルイソブチルケトン:10質量部
[Example 5]
A heat ray shielding glass was produced in the same manner as in Example 1 except that a coating liquid having the following composition was used for the low refractive index layer.
(Combination)
Dipentahexaacrylate (DPHA): 10 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure (registered trademark) 184 (manufactured by BASF Japan)): 2 parts by mass Fluororesin (OPTOOL AR-110 (manufactured by Daikin Industries) (solid content 15) % By mass): 200 parts by mass Methyl isobutyl ketone: 10 parts by mass

[実施例6]
低屈折率層に下記配合の塗工液を用いた以外は、実施例2と同様に熱線遮蔽ガラスを作製した。
(配合)
ジペンタヘキサアクリレート(DPHA):10質量部
光重合開始剤(イルガキュア(登録商標)184(BASFジャパン社製)):2質量部
フッ素樹脂(オプツールAR−110(ダイキン工業社製)(固形分15質量%):200質量部
メチルイソブチルケトン:10質量部
[Example 6]
A heat ray shielding glass was produced in the same manner as in Example 2 except that a coating liquid having the following composition was used for the low refractive index layer.
(Combination)
Dipentahexaacrylate (DPHA): 10 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure (registered trademark) 184 (manufactured by BASF Japan)): 2 parts by mass Fluororesin (OPTOOL AR-110 (manufactured by Daikin Industries) (solid content 15) % By mass): 200 parts by mass Methyl isobutyl ketone: 10 parts by mass

[比較例1]
低屈折率層の代わりに下記配合の塗工液を用いたアクリル樹脂層を形成した以外は実施例1と同様に熱線遮蔽ガラスを作製した。
(配合)
ジペンタヘキサアクリレート(DPHA):40質量部
光重合開始剤(イルガキュア(登録商標)184(BASFジャパン社製)):2質量部
メチルイソブチルケトン:180質量部
[Comparative Example 1]
A heat ray shielding glass was prepared in the same manner as in Example 1 except that an acrylic resin layer using a coating liquid having the following composition was formed instead of the low refractive index layer.
(Combination)
Dipentahexaacrylate (DPHA): 40 parts by mass Photopolymerization initiator (Irgacure (registered trademark) 184 (manufactured by BASF Japan)): 2 parts by mass Methyl isobutyl ketone: 180 parts by mass

[比較例2]
(1)熱線反射層の形成
実施例1(1)と同様に、熱線反射層(厚さ300nm)を形成した。
(2)接着剤層の作製
実施例1(3)と同様に、接着剤層を作製した。
(3)熱線遮蔽ガラスの作製
低屈折率層が形成されていないこと以外は、実施例1(4)と同様に、熱線遮蔽ガラスを作製した。
[Comparative Example 2]
(1) Formation of heat ray reflective layer A heat ray reflective layer (thickness 300 nm) was formed in the same manner as in Example 1 (1).
(2) Production of adhesive layer An adhesive layer was produced in the same manner as in Example 1 (3).
(3) Production of heat ray shielding glass A heat ray shielding glass was produced in the same manner as in Example 1 (4) except that the low refractive index layer was not formed.

[比較例3]
(1)接着剤層の作製
実施例1(3)と同様に、接着剤層を作製した。
(2)合わせガラスの作製
ガラス板(厚さ3mm)上に、接着剤層、PETフィルム(厚さ100μm)を積層した。得られた積層体を、100℃で30分間加熱することにより仮圧着を行った後、オートクレーブ中で圧力13×10Pa、温度140℃の条件で30分間加熱した。これにより、接着剤層を硬化させて、ガラス板とPETフィルム間が接着一体化された合わせガラスを得た。
[Comparative Example 3]
(1) Production of adhesive layer An adhesive layer was produced in the same manner as in Example 1 (3).
(2) Production of laminated glass An adhesive layer and a PET film (thickness 100 μm) were laminated on a glass plate (thickness 3 mm). The obtained laminate was temporarily pressed by heating at 100 ° C. for 30 minutes, and then heated in an autoclave for 30 minutes under conditions of a pressure of 13 × 10 5 Pa and a temperature of 140 ° C. As a result, the adhesive layer was cured to obtain a laminated glass in which the glass plate and the PET film were bonded and integrated.

2.評価方法
(1)放射率
JISR3106に準拠して測定した。
(2)可視光透過率
分光光度計UV3100PC(島津製作所(株)製)により測定した透過スペクトルを用い、XYZ表色系の三刺激値のYを計算し、視感透過率(Y)を得た。計算方法は、C光源2°(JIS Z8722−2000)にて計算した。
(3)耐候性
各ガラス試料を、温度40℃、湿度90%RHの雰囲気中に1000時間放置し、外観を評価した。外観変化がない場合を○、膜の剥がれ等の外観に変化があった場合を×とした。
2. Evaluation Method (1) Emissivity Measured according to JIS R3106.
(2) Visible light transmittance Using the transmission spectrum measured by a spectrophotometer UV3100PC (manufactured by Shimadzu Corporation), Y of the tristimulus value of the XYZ color system is calculated to obtain luminous transmittance (Y). It was. The calculation method was performed using a C light source of 2 ° (JIS Z8722-2000).
(3) Weather resistance Each glass sample was left in an atmosphere of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH for 1000 hours to evaluate the appearance. The case where there was no change in appearance was marked as ◯, and the case where there was a change in appearance such as film peeling was marked as x.

3.評価結果
各ガラス試料の評価結果を表1に示す。
3. Evaluation results Table 1 shows the evaluation results of the respective glass samples.

Figure 2012121277
Figure 2012121277

表1に示す通り、低屈折率層が形成された実施例1〜6の熱線遮蔽ガラスは、低屈折率層がない比較例1及び比較例2と放射率が同等で、高い断熱性が維持されており、且つ可視光透過率が向上していることが認められた。更に、表面に保護層が無い比較例2と比較して、耐候性が向上し水分から保護されていることが示された。   As shown in Table 1, the heat ray shielding glasses of Examples 1 to 6 in which the low refractive index layer is formed have the same emissivity as Comparative Examples 1 and 2 without the low refractive index layer, and high heat insulation is maintained. It was confirmed that the visible light transmittance was improved. Furthermore, it was shown that the weather resistance was improved and protected from moisture as compared with Comparative Example 2 having no protective layer on the surface.

なお、本発明は上記の実施の形態及び実施例に限定されるものではなく、発明の要旨の範囲内で種々変形が可能である。   In addition, this invention is not limited to said embodiment and Example, A various deformation | transformation is possible within the range of the summary of invention.

オフィスビル等の建築物及びバス、乗用車、電車等の車両・鉄道等の空調負荷を長期間に渡って低減できる熱線遮蔽ガラス又は複層ガラスを低コストで提供することができる。   It is possible to provide heat ray shielding glass or multi-layer glass that can reduce the air-conditioning load of buildings such as office buildings and buses, passenger cars, trains and other vehicles and railways over a long period of time.

10:熱線遮蔽ガラス
11、21、27:ガラス板
12、22: 接着剤層
13、23:透明プラスチックフィルム
14、24:熱線反射層
15、25:低屈折率層
28:中空層
29:スペーサー
30:複層ガラス
10: Heat ray shielding glass 11, 21, 27: Glass plate 12, 22: Adhesive layer 13, 23: Transparent plastic film 14, 24: Heat ray reflective layer 15, 25: Low refractive index layer 28: Hollow layer 29: Spacer 30 : Multi-layer glass

Claims (9)

ガラス板、及びその表面に設けられた導電性高分子からなる熱線反射層を含む熱線遮蔽ガラスであって、前記熱線反射層の表面に低屈折率層が形成されており、且つ該低屈折率層の屈折率が前記熱線反射層よりも低いことを特徴とする熱線遮蔽ガラス。   A heat ray shielding glass comprising a glass plate and a heat ray reflective layer made of a conductive polymer provided on the surface thereof, wherein a low refractive index layer is formed on the surface of the heat ray reflective layer, and the low refractive index A heat ray-shielding glass, wherein the refractive index of the layer is lower than that of the heat ray reflective layer. 前記低屈折率層の層厚が、50〜350nmである請求項1に記載の熱線遮蔽ガラス。   The heat ray-shielding glass according to claim 1, wherein the low refractive index layer has a thickness of 50 to 350 nm. 前記低屈折率層の屈折率が、1.48以下である請求項1又は2に記載の熱線遮蔽ガラス。   The heat ray shielding glass according to claim 1 or 2, wherein a refractive index of the low refractive index layer is 1.48 or less. 前記低屈折率層が、前記低屈折率層が、多孔性微粒子、中空微粒子、酸化物微粒子及びフッ素樹脂微粒子からなる群から選ばれる少なくとも1種の屈折率調整材料を含む請求項1〜3のいずれか1項に記載の熱線遮蔽ガラス。   The low refractive index layer includes the low refractive index layer containing at least one refractive index adjusting material selected from the group consisting of porous fine particles, hollow fine particles, oxide fine particles, and fluororesin fine particles. Heat ray shielding glass given in any 1 paragraph. 前記低屈折率層が、フッ素樹脂又はシリコーン樹脂を含む請求項1〜4のいずれか1項に記載の熱線遮蔽ガラス。   The heat ray shielding glass according to any one of claims 1 to 4, wherein the low refractive index layer contains a fluororesin or a silicone resin. 前記導電性高分子が、下記式(I):
Figure 2012121277
(式中、R及びRは、それぞれ独立して水素原子若しくは炭素原子数1〜4のアルキル基を表し、又はR及びRが一緒になって任意に置換されていても良い炭素原子数1〜4のアルキレン基を表し、nは50〜1000の整数を表す)で表される繰り返し単位を含むポリチオフェン誘導体である請求項1〜5のいずれか1項に記載の熱線遮蔽ガラス。
The conductive polymer has the following formula (I):
Figure 2012121277
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or R 1 and R 2 together may be optionally substituted carbon. The heat ray shielding glass according to any one of claims 1 to 5, which is a polythiophene derivative containing a repeating unit represented by an alkylene group having 1 to 4 atoms and n representing an integer of 50 to 1000.
前記熱線反射層の表面抵抗値が、100000Ω/□以下である請求項1〜6のいずれか1項に記載の熱線遮蔽ガラス。   The heat ray shielding glass according to any one of claims 1 to 6, wherein a surface resistance value of the heat ray reflective layer is 100,000 Ω / □ or less. 前記熱線反射層の層厚が、10〜3000nmである請求項1〜7のいずれか1項に記載の熱線遮蔽ガラス。   The layer thickness of the said heat ray reflective layer is 10-3000 nm, The heat ray shielding glass of any one of Claims 1-7. 請求項1〜8のいずれか1項に記載の熱線遮蔽ガラスと、別のガラス板とが、間隙をおいて、前記低屈折率層が当該別のガラス板に対向するように配置され、その間隙により中空層が形成されていることを特徴とする複層ガラス。   The heat ray-shielding glass according to any one of claims 1 to 8 and another glass plate are disposed so that the low refractive index layer faces the other glass plate with a gap therebetween, A multilayer glass, wherein a hollow layer is formed by a gap.
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