JP2012116985A - Insulating material and laminated structure - Google Patents

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Hiroshi Maenaka
寛 前中
Yasunari Kusaka
康成 日下
Takuji Aoyama
卓司 青山
Ryosuke Takahashi
良輔 高橋
Shunsuke Kondo
峻右 近藤
Takanori Inoue
孝徳 井上
Takashi Watanabe
貴志 渡邉
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an insulating material used for bonding a thermal conductor having a thermal conductivity of ≥10 W/m-K to a conductive layer, having high heat releasability and high processability of a cured product after being cured.SOLUTION: This insulating material is used for bonding a thermal conductor 2 having a thermal conductivity of ≥10 W/m-K to a conductive layer 4. The insulating material contains a polymer having a weight average molecular weight of ≥10,000, a curable compound having a molecular weight of <10,000 and an epoxy group or an oxetanyl group, a curing agent, and alumina. The purity of alumina by fluorescent X-ray analysis is ≥90.0% and ≤99.0%.

Description

本発明は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられる絶縁材料に関し、より詳細には、硬化後の硬化物の放熱性及び加工性が高い絶縁材料、並びに該絶縁材料を用いた積層構造体に関する。   The present invention relates to an insulating material used for adhering a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer, and more specifically, the heat dissipation and workability of a cured product after curing. The present invention relates to a high insulating material and a laminated structure using the insulating material.

電子機器及び通信機器では、絶縁層を有するプリント配線板が用いられている。該絶縁層は、ペースト状又はシート状の絶縁接着材料を用いて形成されている。   In electronic devices and communication devices, printed wiring boards having an insulating layer are used. The insulating layer is formed using a paste-like or sheet-like insulating adhesive material.

上記絶縁接着材料の一例として、下記の特許文献1には、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂用硬化剤、硬化促進剤、エラストマー及び無機充填剤を含む接着剤組成物を、ガラスクロスに含浸させた絶縁接着シートが開示されている。   As an example of the above-mentioned insulating adhesive material, the following patent document 1 discloses an insulating adhesive in which a glass cloth is impregnated with an adhesive composition containing an epoxy resin, an epoxy resin curing agent, a curing accelerator, an elastomer and an inorganic filler. A sheet is disclosed.

ガラスクロスを含まない絶縁接着材料も知られている。例えば、下記の特許文献2の実施例には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、フェノールノボラック、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、及びアルミナを含む絶縁接着剤が開示されている。   Insulating adhesive materials that do not contain glass cloth are also known. For example, the example of Patent Document 2 below includes an insulating adhesive containing bisphenol A type epoxy resin, phenoxy resin, phenol novolak, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and alumina. Agents are disclosed.

特開2006−342238号公報JP 2006-342238 A 特開平8−332696号公報JP-A-8-332696

特許文献1に記載の絶縁接着シートでは、ハンドリング性を高めるために、ガラスクロスが用いられている。ガラスクロスを含む絶縁接着シートでは、薄膜化が困難であり、かつレーザー加工又はドリル穴開け加工等の各種加工が困難である。また、ガラスクロスを含む絶縁接着シートの硬化物の熱伝導率は比較的低いため、充分な放熱性が得られないことがある。さらに、ガラスクロスに接着剤組成物を含浸させるために、特殊な含浸設備を用意しなければならない。   In the insulating adhesive sheet described in Patent Document 1, a glass cloth is used in order to improve handling properties. With an insulating adhesive sheet including glass cloth, it is difficult to make a thin film, and various processes such as laser processing or drilling are difficult. Moreover, since the heat conductivity of the hardened | cured material of the insulation adhesive sheet containing a glass cloth is comparatively low, sufficient heat dissipation may not be obtained. Furthermore, special impregnation equipment must be prepared for impregnating the glass cloth with the adhesive composition.

特許文献2に記載の絶縁接着剤では、ガラスクロスが用いられていないため、未硬化状態ではそれ自体が自立性を有するシートではない。このため、絶縁接着剤のハンドリング性が低い。   In the insulating adhesive described in Patent Document 2, since glass cloth is not used, the sheet itself is not self-supporting in an uncured state. For this reason, the handling property of the insulating adhesive is low.

また、近年、電気機器の小型化及び高性能化が進行している。このため、上記電子機器及び通信機器に用いられるプリント配線板では、多層化及び薄膜化が進行しており、かつ電子部品の実装密度が高くなっている。これに伴って、電子部品から大きな熱量が発生しやすくなっており、発生した熱を放散させる必要が高まっている。熱を放散させるために、プリント配線板の絶縁層は、高い熱伝導率を有する必要がある。   In recent years, electric appliances have been reduced in size and performance. For this reason, in the printed wiring board used for the said electronic device and communication apparatus, multilayering and a thin film are progressing, and the mounting density of an electronic component is high. Along with this, a large amount of heat is easily generated from the electronic components, and the need to dissipate the generated heat is increasing. In order to dissipate heat, the insulating layer of the printed wiring board needs to have high thermal conductivity.

高い熱伝導率を上記絶縁層に付与するためには、例えば、該絶縁層を形成するための絶縁接着材料に、熱伝導率が10W/m・K以上の熱伝導性が高いフィラーを配合する方法が一般的に採用されている。また、熱伝導性が比較的高いフィラーとして、アルミナが知られている。しかしながら、従来のアルミナを含む絶縁接着材料では、硬化物の加工性が低いことがある。   In order to impart high thermal conductivity to the insulating layer, for example, a filler having high thermal conductivity with a thermal conductivity of 10 W / m · K or more is blended in the insulating adhesive material for forming the insulating layer. The method is generally adopted. Alumina is known as a filler having a relatively high thermal conductivity. However, in the conventional insulating adhesive material containing alumina, the processability of the cured product may be low.

本発明の目的は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられ、硬化後の硬化物の放熱性及び加工性が高い絶縁材料、並びに該絶縁材料を用いた積層構造体を提供することである。   An object of the present invention is to bond a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer, an insulating material having high heat dissipation and workability of a cured product after curing, and the It is to provide a laminated structure using an insulating material.

本発明の限定的な目的は、硬化後の硬化物の放熱性及び加工性が高いだけでなく、シート状の絶縁シートであって、未硬化状態での該絶縁シートのハンドリング性に優れている絶縁材料、並びに該絶縁材料を用いた積層構造体を提供することである。   A limited object of the present invention is not only high heat dissipation and workability of the cured product after curing, but also a sheet-like insulating sheet, which is excellent in handling properties of the insulating sheet in an uncured state. An insulating material, and a laminated structure using the insulating material are provided.

本発明の広い局面によれば、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられる絶縁材料であって、重量平均分子量が10000以上であるポリマーと、分子量が10000未満であり、かつエポキシ基又はオキセタニル基を有する硬化性化合物と、硬化剤と、蛍光X線分析による純度が90.0%以上、99.5%以下であるアルミナとを含み、絶縁材料100体積%中、上記アルミナの含有量が20体積%以上、70体積%以下である、絶縁材料が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided an insulating material used for bonding a thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer, and a polymer having a weight average molecular weight of 10,000 or more. A curable compound having a molecular weight of less than 10,000 and having an epoxy group or an oxetanyl group, a curing agent, and alumina having a purity by fluorescent X-ray analysis of 90.0% or more and 99.5% or less, An insulating material in which the content of alumina is 20% by volume to 70% by volume in 100% by volume of the insulating material is provided.

本発明に係る絶縁材料のある特定の局面では、上記アルミナは破砕アルミナである。   In a specific aspect of the insulating material according to the present invention, the alumina is crushed alumina.

本発明に係る絶縁材料の他の特定の局面では、上記アルミナの平均粒子径が10μm以下であり、かつ最大粒子径が35μm以下である。   In another specific aspect of the insulating material according to the present invention, the alumina has an average particle size of 10 μm or less and a maximum particle size of 35 μm or less.

本発明に係る絶縁材料は、チタン系又はジルコン系のカップリング剤をさらに含むことが好ましい。   The insulating material according to the present invention preferably further includes a titanium-based or zircon-based coupling agent.

本発明に係る絶縁材料の他の特定の局面では、該絶縁材料は、シート状の絶縁シートであり、上記絶縁シート100体積%中、上記アルミナの含有量は20体積%以上、70体積%以下である。   In another specific aspect of the insulating material according to the present invention, the insulating material is a sheet-like insulating sheet, and the content of the alumina is 20% by volume or more and 70% by volume or less in 100% by volume of the insulating sheet. It is.

本発明に係る積層構造体は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体と、該熱伝導体の少なくとも一方の表面に積層された絶縁層と、該絶縁層の上記熱伝導体が積層された表面とは反対側の表面に積層された導電層とを備えており、上記絶縁層が、本発明に従って構成された絶縁材料を硬化させることにより形成されている。上記熱伝導体は金属であることが好ましい。   The laminated structure according to the present invention includes a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more, an insulating layer laminated on at least one surface of the heat conductor, and the heat conduction of the insulating layer. A conductive layer laminated on a surface opposite to the surface on which the body is laminated, and the insulating layer is formed by curing an insulating material constituted according to the present invention. The heat conductor is preferably a metal.

本発明に係る絶縁材料は、重量平均分子量が10000以上であるポリマーと、分子量が10000未満でありかつエポキシ基又はオキセタニル基を有する硬化性化合物と、硬化剤と、蛍光X線分析による純度が90.0%以上、99.5%以下であるアルミナとを含み、絶縁材料100体積%中のアルミナの含有量が20体積%以上、70体積%以下であるので、本発明に係る絶縁材料を硬化させることにより形成された硬化物の放熱性及び加工性を高めることができる。   The insulating material according to the present invention has a polymer having a weight average molecular weight of 10,000 or more, a curable compound having a molecular weight of less than 10,000 and having an epoxy group or oxetanyl group, a curing agent, and a purity by fluorescent X-ray analysis of 90. 0.0% or more and 99.5% or less of alumina, and the content of alumina in 100% by volume of the insulating material is 20% by volume or more and 70% by volume or less, so that the insulating material according to the present invention is cured. The heat dissipation and workability of the cured product formed can be improved.

図1は、本発明の一実施形態に係る積層構造体を模式的に示す部分切欠正面断面図である。FIG. 1 is a partially cutaway front sectional view schematically showing a laminated structure according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

本発明に係る絶縁材料は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられる絶縁材料である。本発明に係る絶縁材料は、重量平均分子量が10000以上であるポリマー(A)と、分子量が10000未満であり、かつエポキシ基又はオキセタニル基を有する硬化性化合物(B)と、硬化剤(C)と、蛍光X線分析による純度が90.0%以上、99.5%以下であるアルミナ(D)とを含む。本発明に係る絶縁材料100体積%中、アルミナ(D)の含有量は、20体積%以上、70体積%以下である。   The insulating material according to the present invention is an insulating material used for bonding a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer. The insulating material according to the present invention includes a polymer (A) having a weight average molecular weight of 10,000 or more, a curable compound (B) having a molecular weight of less than 10,000 and having an epoxy group or oxetanyl group, and a curing agent (C). And alumina (D) having a purity by fluorescent X-ray analysis of 90.0% or more and 99.5% or less. In 100 volume% of the insulating material according to the present invention, the content of alumina (D) is 20 volume% or more and 70 volume% or less.

上記組成の採用により、特にアルミナの純度が90.0%以上、99.5%以下であり、該純度が比較的低いことにより、絶縁材料の硬化物の加工性を高くすることができる。さらに、本発明に係る絶縁材料では、熱伝導率が比較的高いアルミナを上記下限以上の含有量で用いているので、絶縁材料の硬化物の熱伝導性を高めることができる。この結果、硬化物の放熱性が高くなる。   By adopting the above composition, the purity of alumina is 90.0% or more and 99.5% or less, and the processability of the cured product of the insulating material can be enhanced by the relatively low purity. Furthermore, in the insulating material according to the present invention, alumina having a relatively high thermal conductivity is used in a content not less than the above lower limit, so that the thermal conductivity of the cured product of the insulating material can be increased. As a result, the heat dissipation of the cured product is increased.

本発明に係る絶縁材料は、液状の絶縁組成物であってもよく、シート状の絶縁シートであってもよい。取り扱い性を高めるために、本発明に係る絶縁材料は、シート状の絶縁シートであることが好ましい。本発明に係る絶縁材料は上記組成を有するので、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性を高めることができる。   The insulating material according to the present invention may be a liquid insulating composition or a sheet-like insulating sheet. In order to improve the handleability, the insulating material according to the present invention is preferably a sheet-like insulating sheet. Since the insulating material according to the present invention has the above composition, the handling property of the insulating sheet in an uncured state can be improved.

さらに、本発明に係る絶縁材料の上記組成の採用により、硬化物の耐熱性及び絶縁破壊特性も高めることができる。   Furthermore, by adopting the above composition of the insulating material according to the present invention, the heat resistance and dielectric breakdown characteristics of the cured product can be enhanced.

本発明に係る絶縁材料は、上述の成分(A)〜(D)に加えて、チタン系又はジルコン系のカップリング剤(E)をさらに含むことが好ましい。成分(A)〜(D)とともに特定のカップリング剤(E)を用いることにより、接着対象部材である導電層及び熱伝導体に対する硬化物の接着性を高くすることができる。特に、本発明者は、上記成分(A)〜(D)とともに特定のカップリング剤(E)を用いることにより、絶縁材料の硬化物の銅により形成された導電層に対する接着性を高くすることができることを見出した。更に、カップリング剤(E)を含む上記組成の採用により、絶縁材料の硬化物の耐水性及び耐湿性を高くすることができる。   The insulating material according to the present invention preferably further includes a titanium-based or zircon-based coupling agent (E) in addition to the components (A) to (D) described above. By using the specific coupling agent (E) together with the components (A) to (D), it is possible to increase the adhesion of the cured product to the conductive layer and the heat conductor, which are members to be bonded. In particular, the present inventor uses a specific coupling agent (E) together with the components (A) to (D) to increase the adhesiveness to a conductive layer formed of copper as a cured product of an insulating material. I found out that I can. Furthermore, the water resistance and moisture resistance of the hardened | cured material of an insulating material can be made high by employ | adopting the said composition containing a coupling agent (E).

以下、先ず、本発明に係る絶縁材料に含まれている各材料の詳細を説明する。   Hereinafter, first, details of each material included in the insulating material according to the present invention will be described.

(ポリマー(A))
本発明に係る絶縁材料に含まれているポリマー(A)は、重量平均分子量が10000以上であれば特に限定されない。硬化物の耐熱性をより一層高める観点からは、ポリマー(A)は、芳香族骨格を有することが好ましい。ポリマー(A)が芳香族骨格を有する場合には、ポリマー(A)は、芳香族骨格をポリマー全体のいずれかの部分に有していればよく、主鎖骨格内に有していてもよく、側鎖中に有していてもよい。ポリマー(A)は、芳香族骨格を主鎖骨格内に有することが好ましい。この場合には、絶縁材料の硬化物の耐熱性がさらに一層高くなる。ポリマー(A)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Polymer (A))
The polymer (A) contained in the insulating material according to the present invention is not particularly limited as long as the weight average molecular weight is 10,000 or more. From the viewpoint of further improving the heat resistance of the cured product, the polymer (A) preferably has an aromatic skeleton. When the polymer (A) has an aromatic skeleton, the polymer (A) may have an aromatic skeleton in any part of the whole polymer, and may have in the main chain skeleton. , May be present in the side chain. The polymer (A) preferably has an aromatic skeleton in the main chain skeleton. In this case, the heat resistance of the cured product of the insulating material is further increased. As for a polymer (A), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記芳香族骨格は特に限定されない。上記芳香族骨格の具体例としては、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格及びビスフェノールA型骨格等が挙げられる。なかでも、ビフェニル骨格又はフルオレン骨格が好ましい。この場合には、絶縁材料の硬化物の耐熱性がより一層高くなる。   The aromatic skeleton is not particularly limited. Specific examples of the aromatic skeleton include naphthalene skeleton, fluorene skeleton, biphenyl skeleton, anthracene skeleton, pyrene skeleton, xanthene skeleton, adamantane skeleton, and bisphenol A skeleton. Of these, a biphenyl skeleton or a fluorene skeleton is preferable. In this case, the heat resistance of the hardened | cured material of an insulating material becomes still higher.

ポリマー(A)として、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂などの硬化性樹脂等を用いることができる。ポリマー(A)は硬化性樹脂であることが好ましい。   As the polymer (A), a curable resin such as a thermoplastic resin and a thermosetting resin can be used. The polymer (A) is preferably a curable resin.

上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂は、特に限定されない。上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂としては、例えば、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン又はポリエーテルケトン等の熱可塑性樹脂が挙げられる。また、上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂として、熱可塑性ポリイミド、熱硬化性ポリイミド、ベンゾオキサジン、及びポリベンゾオキサゾールとベンゾオキサジンとの反応物などのスーパーエンプラと呼ばれている耐熱性樹脂群等を使用できる。上記熱可塑性樹脂及び上記熱硬化性樹脂はそれぞれ、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の内のいずれか一方が用いられてもよく、熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とが併用されてもよい。   The thermoplastic resin and thermosetting resin are not particularly limited. Examples of the thermoplastic resin and thermosetting resin include thermoplastic resins such as polyphenylene sulfide, polyarylate, polysulfone, polyethersulfone, polyetheretherketone, and polyetherketone. In addition, as the thermoplastic resin and thermosetting resin, thermoplastic polyimide, thermosetting polyimide, benzoxazine, and heat-resistant resin group called super engineering plastics such as a reaction product of polybenzoxazole and benzoxazine, etc. Can be used. As for the said thermoplastic resin and the said thermosetting resin, only 1 type may respectively be used and 2 or more types may be used together. Either one of a thermoplastic resin and a thermosetting resin may be used, and a thermoplastic resin and a thermosetting resin may be used in combination.

ポリマー(A)は、エポキシ樹脂、スチレン系重合体、(メタ)アクリル系重合体又はフェノキシ樹脂であることが好ましく、エポキシ樹脂又はフェノキシ樹脂であることがより好ましく、フェノキシ樹脂であることが更に好ましい。この好ましいポリマーの使用により、絶縁材料の硬化物が酸化劣化し難くなり、かつ耐熱性がより一層高くなる。特に、エポキシ樹脂又はフェノキシ樹脂の使用により、硬化物の耐熱性がより一層高くなり、フェノキシ樹脂の使用により、硬化物の耐熱性が更に一層高くなる。   The polymer (A) is preferably an epoxy resin, a styrene polymer, a (meth) acrylic polymer or a phenoxy resin, more preferably an epoxy resin or a phenoxy resin, and further preferably a phenoxy resin. . Use of this preferable polymer makes it difficult for the cured product of the insulating material to undergo oxidative degradation and further increases the heat resistance. In particular, the use of epoxy resin or phenoxy resin further increases the heat resistance of the cured product, and the use of phenoxy resin further increases the heat resistance of the cured product.

上記エポキシ樹脂は、フェノキシ樹脂以外のエポキシ樹脂であることが好ましい。該エポキシ樹脂としては、スチレン骨格含有エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、アントラセン型エポキシ樹脂、アダマンタン骨格を有するエポキシ樹脂、トリシクロデカン骨格を有するエポキシ樹脂、及びトリアジン核を骨格に有するエポキシ樹脂等が挙げられる。   The epoxy resin is preferably an epoxy resin other than a phenoxy resin. Examples of the epoxy resin include styrene skeleton-containing epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, fluorene type epoxy resin. , Phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol aralkyl type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, anthracene type epoxy resin, epoxy resin having adamantane skeleton, epoxy resin having tricyclodecane skeleton, and epoxy resin having triazine nucleus in skeleton Etc.

上記スチレン系重合体として、具体的には、スチレン系モノマーの単独重合体、又はスチレン系モノマーとアクリル系モノマーとの共重合体等を用いることができる。中でも、スチレン−メタクリル酸グリシジルの構造を有するスチレン系重合体が好ましい。   Specifically, a homopolymer of a styrene monomer, a copolymer of a styrene monomer and an acrylic monomer, or the like can be used as the styrene polymer. Among these, a styrene polymer having a styrene-glycidyl methacrylate structure is preferable.

上記スチレン系モノマーとしては、例えば、スチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、p−クロロスチレン、p−エチルスチレン、p−n−ブチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、p−n−ヘキシルスチレン、p−n−オクチルスチレン、p−n−ノニルスチレン、p−n−デシルスチレン、p−n−ドデシルスチレン、2,4−ジメチルスチレン及び3,4−ジクロロスチレン等が挙げられる。   Examples of the styrene monomer include styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, p-phenylstyrene, p-chlorostyrene, p-ethylstyrene, and pn-. Butyl styrene, p-tert-butyl styrene, pn-hexyl styrene, pn-octyl styrene, pn-nonyl styrene, pn-decyl styrene, pn-dodecyl styrene, 2,4-dimethyl Examples include styrene and 3,4-dichlorostyrene.

上記アクリル系モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸−2−エチルヘキシル、メタクリル酸グリシジル、β−ヒドロキシアクリル酸エチル、γ−アミノアクリル酸プロピル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル及びメタクリル酸ジエチルアミノエチル等が挙げられる。   Examples of the acrylic monomer include acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, acrylate-2-ethylhexyl, cyclohexyl acrylate, phenyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, Examples include butyl methacrylate, hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, ethyl β-hydroxyacrylate, propyl γ-aminoacrylate, stearyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, and diethylaminoethyl methacrylate. It is done.

上記フェノキシ樹脂は、具体的には、例えばエピハロヒドリンと2価フェノール化合物とを反応させて得られる樹脂、又は2価のエポキシ化合物と2価のフェノール化合物とを反応させて得られる樹脂である。   Specifically, the phenoxy resin is, for example, a resin obtained by reacting an epihalohydrin and a divalent phenol compound, or a resin obtained by reacting a divalent epoxy compound and a divalent phenol compound.

上記フェノキシ樹脂は、ビスフェノールA型骨格、ビスフェノールF型骨格、ビスフェノールA/F混合型骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格、ビフェニル骨格、アントラセン骨格、ピレン骨格、キサンテン骨格、アダマンタン骨格及びジシクロペンタジエン骨格からなる群から選択された少なくとも1つの骨格を有することが好ましい。中でも、上記フェノキシ樹脂は、ビスフェノールA型骨格、ビスフェノールF型骨格、ビスフェノールA/F混合型骨格、ナフタレン骨格、フルオレン骨格及びビフェニル骨格からなる群から選択された少なくとも1種の骨格を有することがより好ましく、フルオレン骨格及びビフェニル骨格の内の少なくとも1種の骨格を有することが更に好ましい。これらの好ましい骨格を有するフェノキシ樹脂の使用により、絶縁材料の硬化物の耐熱性がさらに一層高くなる。   The phenoxy resin comprises a bisphenol A skeleton, a bisphenol F skeleton, a bisphenol A / F mixed skeleton, a naphthalene skeleton, a fluorene skeleton, a biphenyl skeleton, an anthracene skeleton, a pyrene skeleton, a xanthene skeleton, an adamantane skeleton, and a dicyclopentadiene skeleton. It is preferred to have at least one skeleton selected from the group. Among these, the phenoxy resin preferably has at least one skeleton selected from the group consisting of a bisphenol A skeleton, a bisphenol F skeleton, a bisphenol A / F mixed skeleton, a naphthalene skeleton, a fluorene skeleton, and a biphenyl skeleton. Preferably, it has at least one skeleton of a fluorene skeleton and a biphenyl skeleton. By using the phenoxy resin having these preferable skeletons, the heat resistance of the cured product of the insulating material is further increased.

上記フェノキシ樹脂は、主鎖中に多環式芳香族骨格を有することが好ましい。また、上記フェノキシ樹脂は、下記式(11)〜(16)で表される骨格の内の少なくとも1つの骨格を主鎖中に有することがより好ましい。   The phenoxy resin preferably has a polycyclic aromatic skeleton in the main chain. The phenoxy resin more preferably has at least one skeleton of the skeletons represented by the following formulas (11) to (16) in the main chain.

Figure 2012116985
Figure 2012116985

上記式(11)中、Rは互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり、Xは単結合、炭素数1〜7の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−、又は−CO−である。 In the above formula (11), R 1 may be the same or different from each other, and is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom, and X 1 is a single bond, having 1 to 1 carbon atoms. 7 divalent hydrocarbon group, —O—, —S—, —SO 2 —, or —CO—.

Figure 2012116985
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上記式(12)中、R1aは互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり、Rは、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり、Rは、水素原子又は炭素数1〜10の炭化水素基であり、mは0〜5の整数である。 In the above formula (12), R 1a may be the same or different and is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom, and R 2 is a hydrogen atom, carbon number 1 10 is a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom, R 3 is a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and m is an integer of 0 to 5.

Figure 2012116985
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上記式(13)中、R1bは互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり、Rは互いに同一であっても異なっていてもよく水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基又はハロゲン原子であり、lは0〜4の整数である。 In the above formula (13), R 1b may be the same or different from each other, and is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms or a halogen atom, and R 4 is the same or different from each other. It is a hydrogen atom, a C1-C10 hydrocarbon group, or a halogen atom, and l is an integer of 0-4.

Figure 2012116985
Figure 2012116985

Figure 2012116985
Figure 2012116985

上記式(15)中、R及びRは水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又はハロゲン原子であり、Xは−SO−、−CH−、−C(CH−、又は−O−であり、kは0又は1である。 In the above formula (15), R 5 and R 6 is a hydrogen atom, an alkyl group or a halogen atom having 1 to 5 carbon atoms, X 2 is -SO 2 -, - CH 2 - , - C (CH 3) 2 -Or -O-, and k is 0 or 1.

Figure 2012116985
Figure 2012116985

ポリマー(A)として、例えば、下記式(17)又は下記式(18)で表されるフェノキシ樹脂が好適に用いられる。   As the polymer (A), for example, a phenoxy resin represented by the following formula (17) or the following formula (18) is suitably used.

Figure 2012116985
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上記式(17)中、Aは上記式(11)〜(13)の内のいずれかで表される構造を有し、かつその構成は上記式(11)で表される構造が0〜60モル%、上記式(12)で表される構造が5〜95モル%、及び上記式(13)で表される構造が5〜95モル%であり、Aは水素原子、又は上記式(14)で表される基であり、nは平均値で25〜500の数である。上記式(17)中、上記式(11)で表される構造は含まれていなくてもよい。 In the above formula (17), A 1 has a structure represented by any one of the above formulas (11) to (13), and the structure thereof is the structure represented by the above formula (11) is 0 to 0. 60 mol%, the structure is 5 to 95 mol% of the formula (12), and a structure is 5 to 95 mol% of the formula (13), a 2 is a hydrogen atom, or the formula a group represented by (14), n 1 is a number of 25 to 500 in average. In the formula (17), the structure represented by the formula (11) may not be included.

Figure 2012116985
Figure 2012116985

上記式(18)中、Aは上記式(15)又は上記式(16)で表される構造を有し、nは少なくとも21以上の値である。 In the above formula (18), A 3 has a structure represented by the above formula (15) or the above formula (16), and n 2 is a value of at least 21 or more.

ポリマー(A)のガラス転移温度Tgは、好ましくは60℃以上、より好ましくは90℃以上、好ましくは200℃以下、より好ましくは180℃以下である。ポリマー(A)のTgが上記下限以上であると、樹脂が熱劣化し難い。ポリマー(A)のTgが上記上限以下であると、ポリマー(A)と他の樹脂との相溶性が高くなる。この結果、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性がより一層良好になり、かつ絶縁材料の硬化物の耐熱性がより一層高くなる。   The glass transition temperature Tg of the polymer (A) is preferably 60 ° C. or higher, more preferably 90 ° C. or higher, preferably 200 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower. When the Tg of the polymer (A) is not less than the above lower limit, the resin is hardly thermally deteriorated. When the Tg of the polymer (A) is not more than the above upper limit, the compatibility between the polymer (A) and another resin is increased. As a result, the handling property of the insulating sheet in an uncured state is further improved, and the heat resistance of the cured product of the insulating material is further increased.

ポリマー(A)がフェノキシ樹脂である場合には、フェノキシ樹脂のガラス転移温度Tgは、好ましくは95℃以上、より好ましくは110℃以上、好ましくは200℃以下、より好ましくは180℃以下である。フェノキシ樹脂のTgが上記下限以上であると、樹脂の熱劣化をより一層抑制できる。フェノキシ樹脂のTgが上記上限以下であると、フェノキシ樹脂と他の樹脂との相溶性が高くなる。この結果、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性、並びに絶縁材料の硬化物の耐熱性がより一層高くなる。   When the polymer (A) is a phenoxy resin, the glass transition temperature Tg of the phenoxy resin is preferably 95 ° C or higher, more preferably 110 ° C or higher, preferably 200 ° C or lower, more preferably 180 ° C or lower. When the Tg of the phenoxy resin is not less than the above lower limit, the thermal deterioration of the resin can be further suppressed. When the Tg of the phenoxy resin is not more than the above upper limit, the compatibility between the phenoxy resin and the other resin is increased. As a result, the handling property of the insulating sheet in an uncured state and the heat resistance of the cured product of the insulating material are further enhanced.

ポリマー(A)の重量平均分子量は、10000以上である。ポリマー(A)の重量平均分子量は、好ましくは30000以上、より好ましくは40000以上、好ましくは1000000以下、より好ましくは250000以下である。ポリマー(A)の重量平均分子量が上記下限以上であると、絶縁材料が熱劣化し難い。ポリマー(A)の重量平均分子量が上記上限以下であると、ポリマー(A)と他の樹脂との相溶性が高くなる。この結果、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性がより一層良好になり、並びに絶縁材料の硬化物の耐熱性がより一層高くなる。   The weight average molecular weight of the polymer (A) is 10,000 or more. The weight average molecular weight of the polymer (A) is preferably 30000 or more, more preferably 40000 or more, preferably 1000000 or less, more preferably 250,000 or less. When the weight average molecular weight of the polymer (A) is not less than the above lower limit, the insulating material is hardly thermally deteriorated. When the weight average molecular weight of the polymer (A) is not more than the above upper limit, the compatibility between the polymer (A) and another resin is increased. As a result, the handling property of the insulating sheet in an uncured state is further improved, and the heat resistance of the cured product of the insulating material is further increased.

ポリマー(A)は、原材料として添加されていてもよく、また本発明の絶縁材料又は絶縁シートの作製時における攪拌、塗工及び乾燥などの各工程中における反応を利用して生成されたポリマーであってもよい。   The polymer (A) may be added as a raw material, and is a polymer produced by utilizing a reaction in each step such as stirring, coating and drying at the time of producing the insulating material or insulating sheet of the present invention. There may be.

絶縁材料及び絶縁シートに含まれている全樹脂成分(以下、全樹脂成分Xと略記することがある)の合計100重量%中、ポリマー(A)の含有量は20重量%以上、60重量%以下であることが好ましい。全樹脂成分Xの合計100重量%中のポリマー(A)の含有量は、より好ましくは30重量%以上、より好ましくは50重量%以下である。ポリマー(A)の含有量が上記下限以上であると、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性がより一層良好になる。ポリマー(A)の含有量が上記上限以下であると、無機フィラー(D)の分散が容易になる。なお、全樹脂成分Xとは、ポリマー(A)、硬化性化合物(B)、硬化剤(C)及び必要に応じて添加される他の樹脂成分の総和をいう。全樹脂成分Xには、アルミナ(D)は含まれない。全樹脂成分Xには、カップリング剤(E)が含まれる。   The content of the polymer (A) is 20% by weight or more and 60% by weight in a total of 100% by weight of the total resin components (hereinafter sometimes abbreviated as “total resin component X”) contained in the insulating material and the insulating sheet. The following is preferable. The content of the polymer (A) in 100% by weight of the total resin component X is more preferably 30% by weight or more, and more preferably 50% by weight or less. When the content of the polymer (A) is at least the above lower limit, the handling properties of the insulating sheet in an uncured state are further improved. Dispersion | distribution of an inorganic filler (D) becomes easy that content of a polymer (A) is below the said upper limit. The total resin component X refers to the total of the polymer (A), the curable compound (B), the curing agent (C), and other resin components added as necessary. The total resin component X does not contain alumina (D). The total resin component X includes a coupling agent (E).

(エポキシ基又はオキセタニル基を有する硬化性化合物(B))
本発明に係る絶縁材料に含まれている硬化性化合物(B)は、分子量が10000未満であり、かつエポキシ基又はオキセタニル基を有していれば特に限定されない。エポキシ基又はオキセタニル基を有する硬化性化合物(B)として、従来公知のエポキシ化合物又はオキセタン化合物を用いることができる。硬化性化合物(B)は、硬化剤(C)の作用により硬化する。硬化性化合物(B)は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Curable compound having epoxy group or oxetanyl group (B))
The curable compound (B) contained in the insulating material according to the present invention is not particularly limited as long as it has a molecular weight of less than 10,000 and has an epoxy group or an oxetanyl group. As the curable compound (B) having an epoxy group or oxetanyl group, a conventionally known epoxy compound or oxetane compound can be used. The curable compound (B) is cured by the action of the curing agent (C). As for a curable compound (B), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

硬化性化合物(B)は、エポキシ基を有するエポキシ化合物(B1)を含んでいてもよく、オキセタニル基を有するオキセタン化合物(B2)を含んでいてもよい。   The curable compound (B) may contain an epoxy compound (B1) having an epoxy group, or may contain an oxetane compound (B2) having an oxetanyl group.

硬化物の耐熱性及び絶縁破壊特性をより一層高める観点からは、硬化性化合物(B)は、芳香族骨格を有することが好ましい。   From the viewpoint of further improving the heat resistance and dielectric breakdown characteristics of the cured product, the curable compound (B) preferably has an aromatic skeleton.

エポキシ基を有するエポキシ化合物(B1)の具体例としては、ビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー、ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマー、ナフタレン骨格を有するエポキシモノマー、アダマンタン骨格を有するエポキシモノマー、フルオレン骨格を有するエポキシモノマー、ビフェニル骨格を有するエポキシモノマー、バイ(グリシジルオキシフェニル)メタン骨格を有するエポキシモノマー、キサンテン骨格を有するエポキシモノマー、アントラセン骨格を有するエポキシモノマー、及びピレン骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。これらの水素添加物又は変性物を用いてもよい。エポキシ化合物(B1)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the epoxy compound (B1) having an epoxy group include an epoxy monomer having a bisphenol skeleton, an epoxy monomer having a dicyclopentadiene skeleton, an epoxy monomer having a naphthalene skeleton, an epoxy monomer having an adamantane skeleton, and an epoxy having a fluorene skeleton. Examples of the monomer include an epoxy monomer having a biphenyl skeleton, an epoxy monomer having a bi (glycidyloxyphenyl) methane skeleton, an epoxy monomer having a xanthene skeleton, an epoxy monomer having an anthracene skeleton, and an epoxy monomer having a pyrene skeleton. These hydrogenated products or modified products may be used. As for an epoxy compound (B1), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記ビスフェノール骨格を有するエポキシモノマーとしては、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型又はビスフェノールS型のビスフェノール骨格を有するエポキシモノマー等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a bisphenol skeleton include an epoxy monomer having a bisphenol A type, bisphenol F type, or bisphenol S type bisphenol skeleton.

上記ジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシモノマーとしては、ジシクロペンタジエンジオキシド、及びジシクロペンタジエン骨格を有するフェノールノボラックエポキシモノマー等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a dicyclopentadiene skeleton include dicyclopentadiene dioxide and a phenol novolac epoxy monomer having a dicyclopentadiene skeleton.

上記ナフタレン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1−グリシジルナフタレン、2−グリシジルナフタレン、1,2−ジグリシジルナフタレン、1,5−ジグリシジルナフタレン、1,6−ジグリシジルナフタレン、1,7−ジグリシジルナフタレン、2,7−ジグリシジルナフタレン、トリグリシジルナフタレン、及び1,2,5,6−テトラグリシジルナフタレン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a naphthalene skeleton include 1-glycidylnaphthalene, 2-glycidylnaphthalene, 1,2-diglycidylnaphthalene, 1,5-diglycidylnaphthalene, 1,6-diglycidylnaphthalene, 1,7-diglycidyl. Naphthalene, 2,7-diglycidylnaphthalene, triglycidylnaphthalene, 1,2,5,6-tetraglycidylnaphthalene and the like can be mentioned.

上記アダマンタン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1,3−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)アダマンタン、及び2,2−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)アダマンタン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having an adamantane skeleton include 1,3-bis (4-glycidyloxyphenyl) adamantane and 2,2-bis (4-glycidyloxyphenyl) adamantane.

上記フルオレン骨格を有するエポキシモノマーとしては、9,9−ビス(4−グリシジルオキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−ブロモフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−フルオロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3−メトキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジクロロフェニル)フルオレン、及び9,9−ビス(4−グリシジルオキシ−3,5−ジブロモフェニル)フルオレン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a fluorene skeleton include 9,9-bis (4-glycidyloxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-methylphenyl) fluorene, and 9,9-bis (4- Glycidyloxy-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-bromophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3-fluorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-Glycidyloxy-3-methoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dichlorophenyl) Fluorene and 9,9-bis (4-glycidyloxy-3,5-dibromophenyl) Fluorene, and the like.

上記ビフェニル骨格を有するエポキシモノマーとしては、4,4’−ジグリシジルビフェニル、及び4,4’−ジグリシジル−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニル等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a biphenyl skeleton include 4,4'-diglycidylbiphenyl and 4,4'-diglycidyl-3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl.

上記バイ(グリシジルオキシフェニル)メタン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1,1’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,1’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,1’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,8’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(2,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、1,2’−バイ(3,7−グリシジルオキシナフチル)メタン、及び1,2’−バイ(3,5−グリシジルオキシナフチル)メタン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a bi (glycidyloxyphenyl) methane skeleton include 1,1′-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,1′-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,8′-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,1′-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane 1,8'-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,2'-bi (2,7-glycidyloxynaphthyl) methane, 1,2'-bi (3,7-glycidyloxynaphthyl) Examples include methane and 1,2′-bi (3,5-glycidyloxynaphthyl) methane.

上記キサンテン骨格を有するエポキシモノマーとしては、1,3,4,5,6,8−ヘキサメチル−2,7−ビス−オキシラニルメトキシ−9−フェニル−9H−キサンテン等が挙げられる。   Examples of the epoxy monomer having a xanthene skeleton include 1,3,4,5,6,8-hexamethyl-2,7-bis-oxiranylmethoxy-9-phenyl-9H-xanthene.

オキセタニル基を有するオキセタン化合物(B2)の具体例としては、例えば、4,4’−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ビフェニル、1,4−ベンゼンジカルボン酸ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メチル]エステル、1,4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル]ベンゼン、及びオキセタン変性フェノールノボラック等が挙げられる。オキセタン化合物(B2)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the oxetane compound (B2) having an oxetanyl group include, for example, 4,4′-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] biphenyl, 1,4-benzenedicarboxylate bis [(3- Ethyl-3-oxetanyl) methyl] ester, 1,4-bis [(3-ethyl-3-oxetanyl) methoxymethyl] benzene, and oxetane-modified phenol novolac. As for an oxetane compound (B2), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

硬化性化合物(B)の分子量は、10000未満である。硬化性化合物(B)の分子量は、好ましくは200以上、より好ましくは1200以下、更に好ましくは600以下、特に好ましくは550以下である。硬化性化合物(B)の分子量が上記下限以上であると、硬化性化合物(B)の揮発性が低くなり、絶縁材料の取扱い性がより一層高くなる。硬化性化合物(B)の分子量が上記上限以下であると、硬化物の接着性がより一層高くなる。さらに、絶縁材料が固くかつ脆くなり難く、硬化物の接着性がより一層高くなる。   The molecular weight of the curable compound (B) is less than 10,000. The molecular weight of the curable compound (B) is preferably 200 or more, more preferably 1200 or less, still more preferably 600 or less, and particularly preferably 550 or less. When the molecular weight of the curable compound (B) is not less than the above lower limit, the volatile property of the curable compound (B) is lowered, and the handling property of the insulating material is further enhanced. When the molecular weight of the curable compound (B) is not more than the above upper limit, the adhesiveness of the cured product is further enhanced. Furthermore, the insulating material is hard and difficult to be brittle, and the adhesiveness of the cured product is further enhanced.

なお、本明細書において、硬化性化合物(B)における分子量とは、重合体ではない場合、及び構造式が特定できる場合は、当該構造式から算出できる分子量を意味し、重合体である場合は、重量平均分子量を意味する。   In the present specification, the molecular weight in the curable compound (B) means a molecular weight that can be calculated from the structural formula when it is not a polymer and when the structural formula can be specified. Means weight average molecular weight.

上記全樹脂成分Xの合計100重量%中、硬化性化合物(B)の含有量は10重量%以上、60重量%以下であることが好ましい。全樹脂成分Xの合計100重量%中の硬化性化合物(B)の含有量は、より好ましくは20重量%以上、より好ましくは50重量%以下である。硬化性化合物(B)の含有量が上記下限以上であると、硬化物の接着性及び耐熱性がより一層高くなる。硬化性化合物(B)の含有量が上記上限以下であると、絶縁シートのハンドリング性がより一層高くなる。   In the total 100% by weight of all the resin components X, the content of the curable compound (B) is preferably 10% by weight or more and 60% by weight or less. The content of the curable compound (B) in 100% by weight of the total resin component X is more preferably 20% by weight or more, and more preferably 50% by weight or less. When the content of the curable compound (B) is not less than the above lower limit, the adhesiveness and heat resistance of the cured product are further increased. When the content of the curable compound (B) is not more than the above upper limit, the handling property of the insulating sheet is further enhanced.

(硬化剤(C))
本発明に係る絶縁材料に含まれている硬化剤(C)は、絶縁材料を硬化させることが可能であれば特に限定されない。硬化剤(C)は、熱硬化剤であることが好ましい。硬化剤(C)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Curing agent (C))
The curing agent (C) contained in the insulating material according to the present invention is not particularly limited as long as the insulating material can be cured. The curing agent (C) is preferably a thermosetting agent. As for a hardening | curing agent (C), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

硬化物の耐熱性をより一層高める観点からは、硬化剤(C)は、芳香族骨格又は脂環式骨格を有することが好ましい。   From the viewpoint of further improving the heat resistance of the cured product, the curing agent (C) preferably has an aromatic skeleton or an alicyclic skeleton.

硬化剤(C)は、ジシアンジアミド、フェノール樹脂又は芳香族骨格もしくは脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物であることが好ましい。この硬化剤の使用により、耐熱性、耐湿性及び電気物性のバランスに優れた硬化物を得ることができる。これらの硬化剤は、熱硬化剤である。   The curing agent (C) is preferably dicyandiamide, a phenol resin, an acid anhydride having an aromatic skeleton or an alicyclic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride. By using this curing agent, a cured product having an excellent balance of heat resistance, moisture resistance and electrical properties can be obtained. These curing agents are thermosetting agents.

未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性をより一層良好にする観点からは、硬化剤(C)は、酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はジシアンジアミドであることが好ましい。   From the viewpoint of further improving the handleability of the insulating sheet in an uncured state, the curing agent (C) is an acid anhydride, a water additive of the acid anhydride or a modified product of the acid anhydride, or dicyandiamide. It is preferable that

上記フェノール樹脂は特に限定されない。上記フェノール樹脂の具体例としては、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、t−ブチルフェノールノボラック、ジシクロペンタジエンクレゾール、ポリパラビニルフェノール、ビスフェノールA型ノボラック、キシリレン変性ノボラック、デカリン変性ノボラック、ポリ(ジ−o−ヒドロキシフェニル)メタン、ポリ(ジ−m−ヒドロキシフェニル)メタン、及びポリ(ジ−p−ヒドロキシフェニル)メタン等が挙げられる。なかでも、絶縁材料の柔軟性及び硬化物の難燃性をより一層高める観点からは、メラミン骨格を有するフェノール樹脂、トリアジン骨格を有するフェノール樹脂、又はアリル基を有するフェノール樹脂が好ましい。   The phenol resin is not particularly limited. Specific examples of the phenol resin include phenol novolak, o-cresol novolak, p-cresol novolak, t-butylphenol novolak, dicyclopentadiene cresol, polyparavinylphenol, bisphenol A type novolak, xylylene modified novolak, decalin modified novolak, Examples include poly (di-o-hydroxyphenyl) methane, poly (di-m-hydroxyphenyl) methane, and poly (di-p-hydroxyphenyl) methane. Among these, from the viewpoint of further enhancing the flexibility of the insulating material and the flame retardancy of the cured product, a phenol resin having a melamine skeleton, a phenol resin having a triazine skeleton, or a phenol resin having an allyl group is preferable.

上記フェノール樹脂の市販品としては、MEH−8005、MEH−8010及びMEH−8015(以上いずれも明和化成社製)、YLH903(三菱化学社製)、LA―7052、LA−7054、LA−7751、LA−1356及びLA−3018−50P(以上いずれもDIC社製)、並びにPS6313及びPS6492(群栄化学社製)等が挙げられる。   Commercially available products of the phenol resin include MEH-8005, MEH-8010 and MEH-8015 (all of which are manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.), YLH903 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), LA-7052, LA-7054, LA-7751, LA-1356 and LA-3018-50P (all of which are manufactured by DIC), PS6313 and PS6492 (manufactured by Gunei Chemical Co., Ltd.), and the like.

上記芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物は、特に限定されない。芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物としては、例えば、スチレン/無水マレイン酸コポリマー、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ピロメリット酸無水物、トリメリット酸無水物、4,4’−オキシジフタル酸無水物、フェニルエチニルフタル酸無水物、グリセロールビス(アンヒドロトリメリテート)モノアセテート、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、及びトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等が挙げられる。なかでも、メチルナジック酸無水物又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸が好ましい。メチルナジック酸無水物又はトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸の使用により、硬化物の耐水性が高くなる。   The acid anhydride having an aromatic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride is not particularly limited. Examples of the acid anhydride having an aromatic skeleton, a water addition of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride include, for example, a styrene / maleic anhydride copolymer, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, pyromellitic acid anhydride, Trimellitic anhydride, 4,4'-oxydiphthalic anhydride, phenylethynylphthalic anhydride, glycerol bis (anhydrotrimellitate) monoacetate, ethylene glycol bis (anhydrotrimellitate), methyltetrahydrophthalic anhydride Examples include acid, methylhexahydrophthalic anhydride, and trialkyltetrahydrophthalic anhydride. Of these, methyl nadic acid anhydride or trialkyltetrahydrophthalic anhydride is preferable. Use of methyl nadic anhydride or trialkyltetrahydrophthalic anhydride increases the water resistance of the cured product.

上記芳香族骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物の市販品としては、SMAレジンEF30、SMAレジンEF40、SMAレジンEF60及びSMAレジンEF80(以上いずれもサートマー・ジャパン社製)、ODPA−M及びPEPA(以上いずれもマナック社製)、リカシッドMTA−10、リカシッドMTA−15、リカシッドTMTA、リカシッドTMEG−100、リカシッドTMEG−200、リカシッドTMEG−300、リカシッドTMEG−500、リカシッドTMEG−S、リカシッドTH、リカシッドHT−1A、リカシッドHH、リカシッドMH−700、リカシッドMT−500、リカシッドDSDA及びリカシッドTDA−100(以上いずれも新日本理化社製)、並びにEPICLON B4400、EPICLON B650、及びEPICLON B570(以上いずれもDIC社製)等が挙げられる。   Examples of commercially available acid anhydrides having an aromatic skeleton, water additives of the acid anhydrides, or modified products of the acid anhydrides include SMA Resin EF30, SMA Resin EF40, SMA Resin EF60, and SMA Resin EF80 (any of the above Also manufactured by Sartomer Japan), ODPA-M and PEPA (all manufactured by Manac), Ricacid MTA-10, Ricacid MTA-15, Ricacid TMTA, Ricacid TMEG-100, Ricacid TMEG-200, Ricacid TMEG-300, Ricacid TMEG-500, Ricacid TMEG-S, Ricacid TH, Ricacid HT-1A, Ricacid HH, Ricacid MH-700, Ricacid MT-500, Ricacid DSDA and Ricacid TDA-100 (all of which are manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) PICLON B4400, EPICLON B650, and EPICLON B570 (all manufactured by both DIC Corporation).

上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物は、
多脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物もしくは該酸無水物の変性物、又はテルペン系化合物と無水マレイン酸との付加反応により得られる脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物であることが好ましい。これらの硬化剤の使用により、硬化物の柔軟性、並びに硬化物の耐湿性及び接着性がより一層高くなる。
The acid anhydride having the alicyclic skeleton, a water additive of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride,
An acid anhydride having a polyalicyclic skeleton, a water addition of the acid anhydride or a modified product of the acid anhydride, or an acid having an alicyclic skeleton obtained by an addition reaction between a terpene compound and maleic anhydride An anhydride, a water addition of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride is preferable. By using these curing agents, the flexibility of the cured product and the moisture resistance and adhesion of the cured product are further increased.

上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物としては、メチルナジック酸無水物、ジシクロペンタジエン骨格を有する酸無水物又は該酸無水物の変性物等も挙げられる。   Examples of the acid anhydride having an alicyclic skeleton, a water addition of the acid anhydride, or a modified product of the acid anhydride include methyl nadic acid anhydride, acid anhydride having a dicyclopentadiene skeleton, and the acid anhydride And the like.

上記脂環式骨格を有する酸無水物、該酸無水物の水添加物又は該酸無水物の変性物の市販品としては、リカシッドHNA及びリカシッドHNA−100(以上いずれも新日本理化社製)、並びにエピキュアYH306、エピキュアYH307、エピキュアYH308H及びエピキュアYH309(以上いずれも三菱化学社製)等が挙げられる。   Examples of commercially available acid anhydrides having the alicyclic skeleton, water additions of the acid anhydrides, or modified products of the acid anhydrides include Ricacid HNA and Ricacid HNA-100 (all of which are manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.) , And EpiCure YH306, EpiCure YH307, EpiCure YH308H, EpiCure YH309 (all of which are manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and the like.

硬化剤(C)は、下記式(1)〜(4)の内のいずれかで表される酸無水物、又はジシアンジアミドであることがより好ましい。また、硬化剤(C)は、下記式(1)〜(4)の内のいずれかで表される酸無水物であることが好ましい。この好ましい硬化剤の使用により、硬化物の柔軟性、耐湿性及び接着性がより一層高くなる。   The curing agent (C) is more preferably an acid anhydride represented by any of the following formulas (1) to (4) or dicyandiamide. Moreover, it is preferable that a hardening | curing agent (C) is an acid anhydride represented by either of following formula (1)-(4). By using this preferable curing agent, the flexibility, moisture resistance and adhesion of the cured product are further increased.

Figure 2012116985
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上記式(4)中、R1及びR2はそれぞれ水素、炭素数1〜5のアルキル基又は水酸基を示す。   In said formula (4), R1 and R2 show hydrogen, a C1-C5 alkyl group, or a hydroxyl group, respectively.

硬化速度又は硬化物の物性などを調整するために、上記硬化剤と硬化促進剤とを併用してもよい。   In order to adjust the curing speed or the physical properties of the cured product, the curing agent and the curing accelerator may be used in combination.

上記硬化促進剤は特に限定されない。硬化促進剤の具体例としては、例えば、3級アミン、イミダゾール類、イミダゾリン類、トリアジン類、有機リン系化合物、4級ホスホニウム塩類及び有機酸塩等のジアザビシクロアルケン類等が挙げられる。また、上記硬化促進剤としては、有機金属化合物類、4級アンモニウム塩類及び金属ハロゲン化物等が挙げられる。上記有機金属化合物類としては、オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫及びアルミニウムアセチルアセトン錯体等が挙げられる。   The said hardening accelerator is not specifically limited. Specific examples of the curing accelerator include tertiary amines, imidazoles, imidazolines, triazines, organic phosphorus compounds, quaternary phosphonium salts and diazabicycloalkenes such as organic acid salts. Examples of the curing accelerator include organometallic compounds, quaternary ammonium salts, metal halides, and the like. Examples of the organometallic compounds include zinc octylate, tin octylate and aluminum acetylacetone complex.

上記硬化促進剤として、高融点のイミダゾール硬化促進剤、高融点の分散型潜在性硬化促進剤、マイクロカプセル型潜在性硬化促進剤、アミン塩型潜在性硬化促進剤、及び高温解離型かつ熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤等を使用できる。上記硬化促進剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the curing accelerator include a high melting point imidazole curing accelerator, a high melting point dispersion type latent curing accelerator, a microcapsule type latent curing accelerator, an amine salt type latent curing accelerator, and a high temperature dissociation type and thermal cation. A polymerization type latent curing accelerator or the like can be used. As for the said hardening accelerator, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記高融点の分散型潜在性促進剤としては、ジシアンジアミド又はアミンがエポキシモノマー等に付加されたアミン付加型促進剤等が挙げられる。上記マイクロカプセル型潜在性促進剤としては、イミダゾール系、リン系又はホスフィン系の促進剤の表面がポリマーにより被覆されたマイクロカプセル型潜在性促進剤が挙げられる。上記高温解離型かつ熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤としては、ルイス酸塩及びブレンステッド酸塩等が挙げられる。   Examples of the high melting point dispersion type latent accelerator include amine addition type accelerators in which dicyandiamide or amine is added to an epoxy monomer or the like. Examples of the microcapsule type latent accelerator include a microcapsule type latent accelerator in which the surface of an imidazole, phosphorus or phosphine accelerator is coated with a polymer. Examples of the high-temperature dissociation type and thermal cationic polymerization type latent curing accelerator include Lewis acid salts and Bronsted acid salts.

上記硬化促進剤は、高融点のイミダゾール系硬化促進剤であることが好ましい。高融点のイミダゾール系硬化促進剤の使用により、反応系を容易に制御でき、かつ絶縁材料の硬化速度、及び硬化物の物性などをより一層容易に調整できる。融点100℃以上の高融点の硬化促進剤は、取扱性に優れている。従って、硬化促進剤の融点は100℃以上であることが好ましい。   The curing accelerator is preferably a high melting point imidazole curing accelerator. By using a high melting point imidazole curing accelerator, the reaction system can be easily controlled, and the curing speed of the insulating material and the physical properties of the cured product can be more easily adjusted. A high-melting point accelerator having a melting point of 100 ° C. or higher is excellent in handleability. Accordingly, the melting accelerator preferably has a melting point of 100 ° C. or higher.

上記全樹脂成分Xの合計100重量%中、硬化剤(C)の含有量は10重量%以上、40重量%以下であることが好ましい。全樹脂成分Xの合計100重量%中、硬化剤(C)の含有量は、より好ましくは12重量%以上、より好ましくは25重量%以下である。硬化剤(C)の含有量が上記下限以上であると、絶縁材料を充分に硬化させることが容易である。硬化剤(C)の含有量が上記上限以下であると、硬化に関与しない余剰な硬化剤(C)が発生し難くなる。このため、硬化物の耐熱性及び接着性がより一層高くなる。   In a total of 100% by weight of all the resin components X, the content of the curing agent (C) is preferably 10% by weight or more and 40% by weight or less. In the total 100% by weight of all the resin components X, the content of the curing agent (C) is more preferably 12% by weight or more, more preferably 25% by weight or less. When the content of the curing agent (C) is not less than the above lower limit, it is easy to sufficiently cure the insulating material. When the content of the curing agent (C) is not more than the above upper limit, it becomes difficult to generate an excessive curing agent (C) that does not participate in curing. For this reason, the heat resistance and adhesiveness of hardened | cured material become still higher.

(アルミナ(D))
本発明に係る絶縁材料に含まれているアルミナ(D)は、熱伝導率が高い。従って、アルミナ(D)の使用により、硬化物の放熱性を高めることができる。
(Alumina (D))
Alumina (D) contained in the insulating material according to the present invention has a high thermal conductivity. Therefore, the heat dissipation of the cured product can be enhanced by using alumina (D).

さらに、本発明に係る絶縁材料に含まれているアルミナ(D)の蛍光X線分析による純度(アルミナの純度)は、90.0%以上、99.5%以下である。このようなアルミナ(D)の使用により、硬化物の加工性が高くなる。純度が99.5%を超えるアルミナを用いた場合には、硬化物の加工性を十分に高めることは困難である。純度が90.0%以上であると、硬化物の放熱性が十分に高くなる。上記純度は、配合されるアルミナである無機フィラー100%中のアルミナ(Al)の含有量(%)である。蛍光X線分析による純度が90.0%以上、99.5%以下であるアルミナ(D)は、言い換えれば、蛍光X線分析によるアルミナの純度が90.0%以上、99.5%以下である無機フィラーである。蛍光X腺分析によるアルミナの純度は好ましくは95%以上、好ましくは99.0%以下である。 Further, the purity (alumina purity) of alumina (D) contained in the insulating material according to the present invention by fluorescent X-ray analysis is 90.0% or more and 99.5% or less. By using such alumina (D), the workability of the cured product is enhanced. When alumina with a purity exceeding 99.5% is used, it is difficult to sufficiently improve the workability of the cured product. When the purity is 90.0% or more, the heat dissipation of the cured product is sufficiently high. The purity, a content of alumina of the inorganic filler in 100% alumina formulated (Al 2 O 3) (% ). In other words, alumina (D) having a purity by fluorescent X-ray analysis of 90.0% or more and 99.5% or less has an alumina purity of 90.0% or more and 99.5% or less by fluorescent X-ray analysis. It is an inorganic filler. The purity of alumina by fluorescent X-ray analysis is preferably 95% or more, and preferably 99.0% or less.

アルミナ(D)の平均粒子径は、好ましくは0.3μm以上、より好ましくは0.4μm以上、好ましくは35μm以下、より好ましくは30μm以下である。アルミナ(D)の平均粒子径が上記下限以上であると、アルミナ(D)を高密度に分散させることができ、硬化物の放熱性を高めることができる。アルミナ(D)の平均粒子径が上記上限以下であると、アルミナ(D)を高密度に分散させることができ、硬化物の絶縁破壊特性がより一層高くなる。また、硬化物の厚みが100μm以下の薄膜においても高い耐電圧性を維持することができる。   The average particle diameter of alumina (D) is preferably 0.3 μm or more, more preferably 0.4 μm or more, preferably 35 μm or less, more preferably 30 μm or less. When the average particle diameter of the alumina (D) is not less than the above lower limit, the alumina (D) can be dispersed with high density, and the heat dissipation of the cured product can be enhanced. When the average particle diameter of the alumina (D) is not more than the above upper limit, the alumina (D) can be dispersed with high density, and the dielectric breakdown characteristics of the cured product are further enhanced. Moreover, high voltage resistance can be maintained even in a thin film having a thickness of 100 μm or less.

硬化物の加工性及び絶縁破壊特性をより一層高める観点からは、アルミナ(D)の平均粒子径は10μm以下であることが特に好ましい。   From the viewpoint of further improving the workability and dielectric breakdown characteristics of the cured product, the average particle diameter of alumina (D) is particularly preferably 10 μm or less.

上記「平均粒子径」とは、レーザー回折式粒度分布測定装置により測定した体積平均での粒度分布測定結果から求められる平均粒子径である。すなわち、上記「平均粒子径」は体積平均粒子径である。   The “average particle diameter” is an average particle diameter obtained from a volume average particle size distribution measurement result measured by a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus. That is, the “average particle size” is a volume average particle size.

硬化物の耐電圧性をより一層高める観点からは、アルミナ(D)の最大粒子径は、好ましくは35μm以下、より好ましくは30μm以下、更に好ましくは20μm以下である。絶縁材料が絶縁シートである場合に、硬化物の耐電圧性をより一層高める観点からは、アルミナ(D)の最大粒子径は、絶縁シートの厚みの1/2以下であることが好ましい。上記関係を満たすように、フィルタリング又は篩による分級などで、実質的に最大粒子径が大きいアルミナをほとんど存在しないように処理されたアルミナを用いてもよい。   From the viewpoint of further enhancing the voltage resistance of the cured product, the maximum particle size of alumina (D) is preferably 35 μm or less, more preferably 30 μm or less, and even more preferably 20 μm or less. In the case where the insulating material is an insulating sheet, the maximum particle diameter of alumina (D) is preferably 1/2 or less of the thickness of the insulating sheet from the viewpoint of further enhancing the voltage resistance of the cured product. In order to satisfy the above relationship, alumina treated so as to be substantially free of alumina having a large maximum particle diameter by filtering or classification using a sieve may be used.

アルミナ(D)は、破砕された破砕アルミナであってもよく、球状である球状アルミナであってもよい。球状アルミナは、高密度で充填可能であるため、球状アルミナの使用により、硬化物の放熱性をより一層高めることができる。この観点からは、アルミナ(D)は、球状であることが特に好ましい。   The alumina (D) may be crushed crushed alumina or spherical spherical alumina. Since spherical alumina can be filled at high density, the use of spherical alumina can further improve the heat dissipation of the cured product. From this viewpoint, the alumina (D) is particularly preferably spherical.

上記破砕アルミナは、例えば、一軸破砕機、二軸破砕機、ハンマークラッシャー又はボールミル等を用いて、塊状の無機物質を破砕することにより得られる。破砕アルミナの使用により、絶縁材料中の破砕アルミナが、橋掛け又は効率的に近接された構造となりやすい。従って、絶縁材料の硬化物の熱伝導性をより一層高めることができる。また、破砕アルミナは、一般的に安価である。このため、破砕アルミナの使用により、絶縁材料のコストを低減できる。   The crushed alumina can be obtained, for example, by crushing massive inorganic substances using a uniaxial crusher, a biaxial crusher, a hammer crusher, a ball mill, or the like. By using the crushed alumina, the crushed alumina in the insulating material tends to have a structure that is bridged or effectively brought close together. Therefore, the thermal conductivity of the cured product of the insulating material can be further enhanced. Also, crushed alumina is generally inexpensive. For this reason, the cost of an insulating material can be reduced by use of crushing alumina.

破砕アルミナの平均粒子径は、12μm以下であることが好ましい。平均粒子径が12μm以下であると、絶縁材料中に、破砕アルミナを高密度に分散させることができ、硬化物の絶縁破壊特性をより一層高くすることができる。破砕アルミナの平均粒子径は、より好ましくは10μm以下、好ましくは1μm以上である。破砕アルミナの平均粒子径が上記下限以上であると、破砕アルミナを高密度に充填させることが容易になる。   The average particle size of the crushed alumina is preferably 12 μm or less. When the average particle size is 12 μm or less, the crushed alumina can be dispersed at a high density in the insulating material, and the dielectric breakdown characteristics of the cured product can be further enhanced. The average particle size of the crushed alumina is more preferably 10 μm or less, and preferably 1 μm or more. When the average particle diameter of the crushed alumina is equal to or more than the above lower limit, it becomes easy to fill the crushed alumina with high density.

破砕アルミナのアスペクト比は、特に限定されない。破砕アルミナのアスペクト比は、1.5以上、20以下であることが好ましい。アスペクト比が1.5以上の破砕アルミナは、比較的高価である。従って、絶縁材料のコストが高くなる。上記アスペクト比が20以下であると、破砕アルミナ又は破砕シリカの充填が容易である。   The aspect ratio of crushed alumina is not particularly limited. The aspect ratio of crushed alumina is preferably 1.5 or more and 20 or less. Crushed alumina having an aspect ratio of 1.5 or more is relatively expensive. Therefore, the cost of the insulating material is increased. When the aspect ratio is 20 or less, filling with crushed alumina or crushed silica is easy.

破砕アルミナのアスペクト比は、例えば、デジタル画像解析方式粒度分布測定装置(商品名:FPA、日本ルフト社製)を用いて、破砕アルミナの破砕面を測定することにより求めることができる。   The aspect ratio of the crushed alumina can be determined by measuring the crushed surface of the crushed alumina using, for example, a digital image analysis type particle size distribution measuring device (trade name: FPA, manufactured by Nippon Luft).

絶縁材料100体積%中及び絶縁シート100体積%中、アルミナ(D)の含有量はそれぞれ、20体積%以上、70体積%以下である。このため、硬化物の放熱性及び加工性が十分に高くなる。硬化物の放熱性をより一層高める観点からは、絶縁材料100体積%中及び絶縁シート100体積%中、アルミナ(D)の含有量はそれぞれ、好ましくは25体積%以上、より好ましくは30体積%以上である。未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性及び硬化物の加工性をより一層高める観点からは、絶縁材料100体積%中及び絶縁シート100体積%中、アルミナ(D)の含有量はそれぞれ、60体積%以下であることが特に好ましい。   In 100% by volume of the insulating material and 100% by volume of the insulating sheet, the content of alumina (D) is 20% by volume or more and 70% by volume or less, respectively. For this reason, the heat dissipation of a hardened | cured material and workability become high enough. From the viewpoint of further improving the heat dissipation of the cured product, the content of alumina (D) is preferably 25% by volume or more, more preferably 30% by volume in 100% by volume of the insulating material and 100% by volume of the insulating sheet. That's it. From the viewpoint of further enhancing the handling properties of the insulating sheet in an uncured state and the workability of the cured product, the content of alumina (D) is 60 volumes in 100 volume% of the insulating material and 100 volume% of the insulating sheet, respectively. % Or less is particularly preferable.

(カップリング剤(E))
本発明に係る絶縁材料は、チタン系又はジルコン系のカップリング剤(E)を含むことが好ましい。カップリング剤(E)の使用により、硬化物の接着性が高くなり、特に銅に対する硬化物の接着性が高くなる。カップリング剤(E)は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Coupling agent (E))
The insulating material according to the present invention preferably contains a titanium-based or zircon-based coupling agent (E). By using the coupling agent (E), the adhesiveness of the cured product is increased, and in particular, the adhesiveness of the cured product to copper is increased. As for a coupling agent (E), only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

ポリマー(A)、硬化性化合物(B)、硬化剤(C)及びアルミナ(D)とともに、カップリング剤(E)を用いることにより、硬化物の耐水性及び耐湿性、並びに絶縁材料の硬化物の接着対象部材に対する接着性がかなり高くなり、特に銅により形成された導電層に対する接着性がかなり高くなる。また、カップリング剤(E)の使用により、アルミナ(D)の凝集を抑制でき、かつ硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。   By using the coupling agent (E) together with the polymer (A), the curable compound (B), the curing agent (C) and the alumina (D), water resistance and moisture resistance of the cured product, and a cured product of the insulating material The adhesion to a member to be bonded is considerably high, and particularly the adhesion to a conductive layer made of copper is considerably high. Further, the use of the coupling agent (E) can suppress the aggregation of the alumina (D) and can further enhance the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product.

カップリング剤(E)は、チタン系のカップリング剤であってもよく、ジルコン系のカップリング剤であってもよい。硬化物の耐水性及び耐湿性、並びに絶縁材料の硬化物の接着対象部材に対する接着性をより一層高める観点からは、カップリング剤(E)は、チタン系のカップリング剤であることが好ましい。   The coupling agent (E) may be a titanium-based coupling agent or a zircon-based coupling agent. From the viewpoint of further improving the water resistance and moisture resistance of the cured product and the adhesion of the cured product of the insulating material to the bonding target member, the coupling agent (E) is preferably a titanium-based coupling agent.

チタン系のカップリング剤は、チタン原子を含む。チタン系のカップリング剤としては、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラプロポキシチタン、テトライソプロポキシチタン及びテトラブトキシチタン等が挙げられる。チタン系のカップリング剤の市販品としては、プレンアクトTTS、プレンアクト55、プレンアクト46B、プレンアクト338X、プレンアクト238S、プレンアクト38S、プレンアクト138S、プレンアクト41B、プレンアクト9SA及びプレンアクトKR44(いずれも味の素ファインテクト)等が挙げられる。これら以外のチタン系のカップリング剤を用いてもよい。チタン系のカップリング剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The titanium-based coupling agent contains a titanium atom. Examples of the titanium-based coupling agent include tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetrapropoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, and tetrabutoxy titanium. Examples of commercially available titanium coupling agents include Preneact TTS, Preneact 55, Preneact 46B, Preneact 338X, Preneact 238S, Preneact 38S, Preneact 138S, Preneact 41B, Preneact 9SA and Preneact KR44 (all Ajinomoto Finetect). Can be mentioned. Titanium-based coupling agents other than these may be used. Only one type of titanium coupling agent may be used, or two or more types may be used in combination.

硬化物の耐水性及び耐湿性、並びに絶縁材料の硬化物の接着対象部材に対する接着性をさらに一層高める観点からは、カップリング剤(E)は、リン原子を含むことが好ましく、下記式(20)で表される構造単位を有することがより好ましく、下記式(21)〜(23)の内のいずれかで表されるチタン系のカップリング剤であることが更に好ましい。   From the viewpoint of further enhancing the water resistance and moisture resistance of the cured product and the adhesion of the cured product of the insulating material to the bonding target member, the coupling agent (E) preferably contains a phosphorus atom, and the following formula (20 It is more preferable to have a structural unit represented by formula (21), and a titanium-based coupling agent represented by any one of the following formulas (21) to (23) is more preferable.

Figure 2012116985
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Figure 2012116985
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上記式(21)中、n及びmはそれぞれ1〜3の整数を示し、nとmとの合計は4である。   In said formula (21), n and m show the integer of 1-3, respectively, and the sum total of n and m is 4.

Figure 2012116985
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Figure 2012116985
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ジルコン系のカップリング剤は、ジルコン原子を含む。ジルコン系のカップリング剤の市販品としては、NZ01、NZ09、NZ12、NZ33、NZ37、NZ38、NZ39、NZ44、NZ66A、NZ97、NZ38J、KZTPP及びKZ55(いずれもケンリッチ・ペトロケミカル社製)等が挙げられる。これら以外のジルコン系のカップリング剤を用いてもよい。ジルコン系のカップリング剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The zircon-based coupling agent contains a zircon atom. Examples of commercially available zircon coupling agents include NZ01, NZ09, NZ12, NZ33, NZ37, NZ38, NZ39, NZ44, NZ66A, NZ97, NZ38J, KZTPP, and KZ55 (all manufactured by Kenrich Petrochemical). It is done. Zircon coupling agents other than these may be used. Only one type of zircon coupling agent may be used, or two or more types may be used in combination.

本発明に係る絶縁材料では、上記全樹脂成分Xの合計100重量%中、カップリング剤(E)の含有量は0.01重量%以上、20重量%以下であることが好ましい。絶縁材料における全樹脂成分Xの合計100重量%中、カップリング剤(E)の含有量は、より好ましくは0.05重量%以上、より好ましくは10重量%以下である。カップリング剤(E)の含有量が上記下限以上であると、絶縁材料の硬化物の銅箔との接着性、耐湿性がより一層高くなる。カップリング剤(E)の含有量が上記上限以下であると、絶縁材料の硬化物の耐熱性、及び未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性がより一層高くなる。さらに、カップリング剤(E)の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、アルミナ(D)の凝集をより一層抑制でき、かつ硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。   In the insulating material according to the present invention, the content of the coupling agent (E) is preferably 0.01% by weight or more and 20% by weight or less in the total 100% by weight of the total resin component X. In a total of 100% by weight of all resin components X in the insulating material, the content of the coupling agent (E) is more preferably 0.05% by weight or more, and more preferably 10% by weight or less. When the content of the coupling agent (E) is not less than the above lower limit, the adhesiveness and moisture resistance of the cured material of the insulating material to the copper foil are further enhanced. When the content of the coupling agent (E) is not more than the above upper limit, the heat resistance of the cured product of the insulating material and the handleability of the insulating sheet in an uncured state are further enhanced. Furthermore, when the content of the coupling agent (E) is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the aggregation of alumina (D) can be further suppressed, and the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product are further enhanced. be able to.

(他の成分)
本発明に係る絶縁材料は、ゴム粒子を含んでいてもよい。該ゴム粒子の使用により、絶縁材料の応力緩和性及び柔軟性を高めることができる。
(Other ingredients)
The insulating material according to the present invention may contain rubber particles. By using the rubber particles, the stress relaxation property and flexibility of the insulating material can be enhanced.

本発明に係る絶縁材料は、分散剤を含んでいてもよい。該分散剤の使用により、硬化物の熱伝導率及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。   The insulating material according to the present invention may contain a dispersant. Use of the dispersant can further enhance the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product.

上記分散剤は、水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有することが好ましい。上記分散剤が水素結合性を有する水素原子を含む官能基を有することで、硬化物の熱伝導率及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基としては、例えば、カルボキシル基(pKa=4)、リン酸基(pKa=7)、及びフェノール基(pKa=10)等が挙げられる。   The dispersant preferably has a functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties. When the dispersing agent has a functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties, the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product can be further enhanced. Examples of the functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding include a carboxyl group (pKa = 4), a phosphoric acid group (pKa = 7), a phenol group (pKa = 10), and the like.

上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基のpKaは、好ましくは2以上、より好ましくは3以上、好ましくは10以下、より好ましくは9以下である。上記官能基のpKaが上記下限以上であると、上記分散剤の酸性度が高くなりすぎない。従って、絶縁材料の貯蔵安定性がより一層高くなる。上記官能基のpKaが上記上限以下であると、上記分散剤としての機能が充分に果たされ、硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性がより一層高くなる。   The pKa of the functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding property is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, preferably 10 or less, more preferably 9 or less. When the pKa of the functional group is not less than the lower limit, the acidity of the dispersant does not become too high. Therefore, the storage stability of the insulating material is further enhanced. When the pKa of the functional group is not more than the above upper limit, the function as the dispersant is sufficiently fulfilled, and the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product are further enhanced.

上記水素結合性を有する水素原子を含む官能基は、カルボキシル基又はリン酸基であることが好ましい。この場合には、硬化物の熱伝導性及び絶縁破壊特性がさらに一層高くなる。   The functional group containing a hydrogen atom having hydrogen bonding properties is preferably a carboxyl group or a phosphate group. In this case, the thermal conductivity and dielectric breakdown characteristics of the cured product are further enhanced.

上記分散剤としては、具体的には、例えば、ポリエステル系カルボン酸、ポリエーテル系カルボン酸、ポリアクリル系カルボン酸、脂肪族系カルボン酸、ポリシロキサン系カルボン酸、ポリエステル系リン酸、ポリエーテル系リン酸、ポリアクリル系リン酸、脂肪族系リン酸、ポリシロキサン系リン酸、ポリエステル系フェノール、ポリエーテル系フェノール、ポリアクリル系フェノール、脂肪族系フェノール、及びポリシロキサン系フェノール等が挙げられる。上記分散剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Specific examples of the dispersant include a polyester carboxylic acid, a polyether carboxylic acid, a polyacrylic carboxylic acid, an aliphatic carboxylic acid, a polysiloxane carboxylic acid, a polyester phosphoric acid, and a polyether type. Examples thereof include phosphoric acid, polyacrylic phosphoric acid, aliphatic phosphoric acid, polysiloxane phosphoric acid, polyester phenol, polyether phenol, polyacrylic phenol, aliphatic phenol, and polysiloxane phenol. As for the said dispersing agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記全樹脂成分Xの合計100重量%中、上記分散剤の含有量は、好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、好ましくは20重量%以下、より好ましくは10重量%以下である。上記分散剤の含有量が上記下限以上及び上限以下であると、アルミナ(D)の凝集を抑制でき、かつ硬化物の放熱性及び絶縁破壊特性をより一層高めることができる。   In the total 100% by weight of the total resin component X, the content of the dispersant is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 20% by weight or less, more preferably 10% by weight. % By weight or less. When the content of the dispersant is not less than the above lower limit and not more than the upper limit, aggregation of alumina (D) can be suppressed, and the heat dissipation and dielectric breakdown characteristics of the cured product can be further enhanced.

ハンドリング性をより一層高めるために、上記絶縁シートは、ガラスクロス、ガラス不織布、アラミド不織布等の基材物質を含んでいてもよい。ただし、上記基材物質を含まなくても、上記組成を有するシート状の絶縁材料(絶縁シート)は室温(23℃)において自立性を有し、かつ優れたハンドリング性を有する。よって、絶縁シートは基材物質を含まないことが好ましく、特にガラスクロスを含まないことが好ましい。絶縁シートが上記基材物質を含まない場合には、絶縁シートの厚みを薄くすることができ、かつ硬化物の熱伝導性をより一層高めることができる。さらに、絶縁シートが上記基材物質を含まない場合には、必要に応じて絶縁シートにレーザー加工又はドリル穴開け加工等の各種加工を容易に行うこともできる。なお、自立性とは、PETフィルム又は銅箔といった支持体が存在しなくても、シートの形状を保持し、シートとして取り扱うことができることをいう。   In order to further improve handling properties, the insulating sheet may contain a base material such as glass cloth, glass nonwoven fabric, and aramid nonwoven fabric. However, even if the base material is not included, the sheet-like insulating material (insulating sheet) having the above composition has self-supporting property at room temperature (23 ° C.) and excellent handling properties. Therefore, the insulating sheet preferably does not contain a base material, and particularly preferably does not contain glass cloth. When an insulating sheet does not contain the said base material, the thickness of an insulating sheet can be made thin and the thermal conductivity of hardened | cured material can be improved further. Furthermore, when an insulating sheet does not contain the said base material, various processes, such as a laser processing or a drilling process, can also be easily performed to an insulating sheet as needed. In addition, self-supporting means that the shape of a sheet can be maintained and handled as a sheet even if there is no support such as a PET film or copper foil.

本発明に係る絶縁材料は、必要に応じて、粘着性付与剤、可塑剤、カップリング剤、チキソ性付与剤、難燃剤、光増感剤及び着色剤などを含んでいてもよい。さらに、本発明に係る絶縁材料は、アルミナ(D)以外のフィラーを含んでいてもよい。   The insulating material according to the present invention may contain a tackifier, a plasticizer, a coupling agent, a thixotropic agent, a flame retardant, a photosensitizer, a colorant, and the like as necessary. Furthermore, the insulating material according to the present invention may contain a filler other than alumina (D).

(絶縁材料)
本発明に係る絶縁材料は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられる。
(Insulation material)
The insulating material according to the present invention is used for bonding a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer.

上記絶縁シートの製造方法は特に限定されない。絶縁シートは、例えば、上述した材料を混合した混合物を溶剤キャスト法又は押し出し成膜法等の方法でシート状に成形することにより得ることができる。シート状に成形する際に、脱泡することが好ましい。   The manufacturing method of the said insulating sheet is not specifically limited. The insulating sheet can be obtained, for example, by forming a mixture obtained by mixing the above-described materials into a sheet shape by a method such as a solvent casting method or an extrusion film forming method. Defoaming is preferred when forming into a sheet.

絶縁シートの厚みは特に限定されない。絶縁シートの厚みは、好ましくは10μm以上、より好ましくは50μm以上、更に好ましくは70μm以上、好ましくは300μm以下、より好ましくは200μm以下、更に好ましくは120μm以下である。厚みが上記下限以上であると、絶縁シートの硬化物の絶縁性が高くなる。厚みが上記上限以下であると、金属体を導電層に接着したときに放熱性が高くなる。   The thickness of the insulating sheet is not particularly limited. The thickness of the insulating sheet is preferably 10 μm or more, more preferably 50 μm or more, further preferably 70 μm or more, preferably 300 μm or less, more preferably 200 μm or less, and still more preferably 120 μm or less. When the thickness is not less than the above lower limit, the insulating property of the cured product of the insulating sheet is increased. When the thickness is less than or equal to the above upper limit, the heat dissipation becomes high when the metal body is bonded to the conductive layer.

未硬化状態での絶縁材料のガラス転移温度Tgは、25℃以下であることが好ましい。ガラス転移温度が25℃以下であると、絶縁材料が室温において固く、かつ脆くなり難い。このため、未硬化状態での絶縁シートのハンドリング性が高くなる。   The glass transition temperature Tg of the insulating material in the uncured state is preferably 25 ° C. or lower. When the glass transition temperature is 25 ° C. or lower, the insulating material is hard and hardly brittle at room temperature. For this reason, the handleability of the insulating sheet in an uncured state is enhanced.

絶縁材料の硬化物の熱伝導率は、好ましくは0.7W/m・K以上、より好ましくは1.0W/m・K以上、更に好ましくは1.5W/m・K以上である。熱伝導率が高いほど、絶縁材料の硬化物の放熱性が十分に高くなる。   The thermal conductivity of the cured material of the insulating material is preferably 0.7 W / m · K or more, more preferably 1.0 W / m · K or more, and further preferably 1.5 W / m · K or more. The higher the thermal conductivity, the higher the heat dissipation of the cured material of the insulating material.

絶縁材料の硬化物の絶縁破壊電圧は、好ましくは40kV/mm以上、より好ましくは60kV/mm以上、更に好ましくは80kV/mm以上、特に好ましくは100kV/mm以上である。絶縁破壊電圧が高いほど、絶縁材料が例えば電力素子用のような大電流用途に用いられた場合に、絶縁性を十分に確保できる。   The dielectric breakdown voltage of the cured product of the insulating material is preferably 40 kV / mm or more, more preferably 60 kV / mm or more, still more preferably 80 kV / mm or more, and particularly preferably 100 kV / mm or more. The higher the dielectric breakdown voltage, the more sufficient insulation can be ensured when the insulating material is used for large current applications such as for power devices.

(積層構造体)
本発明に係る絶縁材料は、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体の少なくとも片面に、絶縁層を介して導電層が積層されている積層構造体の絶縁層を構成するために好適に用いられる。
(Laminated structure)
The insulating material according to the present invention constitutes an insulating layer of a laminated structure in which a conductive layer is laminated on at least one surface of a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more via an insulating layer. Is preferably used.

図1に、本発明の一実施形態に係る絶縁材料を用いた積層構造体の一例を示す。   FIG. 1 shows an example of a laminated structure using an insulating material according to an embodiment of the present invention.

図1に示す積層構造体1は、熱伝導体2と、熱伝導体2の第1の表面2aに積層された絶縁層3と、絶縁層3の熱伝導体2が積層された表面とは反対側の表面に積層された導電層4とを備える。熱伝導体2の第1の表面2aとは反対の第2の表面2bには、絶縁層及び導電層は積層されていない。絶縁層3は、本発明に係る絶縁材料を硬化させることにより形成されている。熱伝導体2の熱伝導率は10W/m・K以上である。   The laminated structure 1 shown in FIG. 1 includes a heat conductor 2, an insulating layer 3 laminated on the first surface 2a of the heat conductor 2, and a surface on which the heat conductor 2 of the insulating layer 3 is laminated. And a conductive layer 4 laminated on the opposite surface. The insulating layer and the conductive layer are not laminated on the second surface 2b opposite to the first surface 2a of the heat conductor 2. The insulating layer 3 is formed by curing the insulating material according to the present invention. The heat conductivity of the heat conductor 2 is 10 W / m · K or more.

熱伝導体の少なくとも一方の面に、絶縁層と導電層とがこの順に積層されていればよく、熱伝導体の他方の面にも、絶縁層と導電層とがこの順に積層されていてもよい。   It is sufficient that the insulating layer and the conductive layer are laminated in this order on at least one surface of the heat conductor, and the insulating layer and the conductive layer are laminated in this order on the other surface of the heat conductor. Good.

積層構造体1では、絶縁層3が高い熱伝導率を有するので、導電層4側からの熱が絶縁層3を介して熱伝導体2に伝わりやすい。積層構造体1では、熱伝導体2によって熱を効率的に放散させることができる。   In the laminated structure 1, since the insulating layer 3 has a high thermal conductivity, heat from the conductive layer 4 side is easily transmitted to the thermal conductor 2 through the insulating layer 3. In the laminated structure 1, heat can be efficiently dissipated by the heat conductor 2.

例えば、両面に銅回路が設けられた積層板又は多層配線板、銅箔、銅板、半導体素子又は半導体パッケージ等の各導電層に、絶縁材料を介して金属体を接着した後、絶縁材料を硬化させることにより、積層構造体1を得ることができる。   For example, after bonding a metal body to each conductive layer such as a laminated board or multilayer wiring board provided with copper circuits on both sides, copper foil, copper plate, semiconductor element or semiconductor package via an insulating material, the insulating material is cured. By doing so, the laminated structure 1 can be obtained.

上記熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体は特に限定されない。上記熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体としては、例えば、アルミニウム、銅、アルミナ、ベリリア、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化アルミニウム及びグラファイトシート等が挙げられる。中でも、上記熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体は、銅又はアルミニウムであることが好ましい。銅又はアルミニウムは、放熱性に優れている。   The heat conductor whose heat conductivity is 10 W / m · K or more is not particularly limited. Examples of the heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more include aluminum, copper, alumina, beryllia, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, and graphite sheet. Especially, it is preferable that the heat conductor whose said heat conductivity is 10 W / m * K or more is copper or aluminum. Copper or aluminum is excellent in heat dissipation.

本発明に係る絶縁材料は、基板上に半導体素子が実装されている半導体装置の導電層に、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を接着するために好適に用いられる。   The insulating material according to the present invention is suitably used for bonding a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer of a semiconductor device on which a semiconductor element is mounted on a substrate.

本発明に係る絶縁材料は、半導体素子以外の電子部品素子が基板上に搭載されている電子部品装置の導電層に、熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を接着するためにも好適に用いられる。   The insulating material according to the present invention adheres a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer of an electronic component device in which an electronic component element other than a semiconductor element is mounted on a substrate. Also preferably used.

以下、本発明の具体的な実施例及び比較例を挙げることにより、本発明を明らかにする。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be clarified by giving specific examples and comparative examples of the present invention. The present invention is not limited to the following examples.

以下の材料を用意した。   The following materials were prepared.

[ポリマー(A)]
(1)ビスフェノールA型フェノキシ樹脂(三菱化学社製、商品名:E1256、Mw=51000、Tg=98℃)
(2)高耐熱フェノキシ樹脂(東都化成社製、商品名:FX−293、Mw=43700、Tg=163℃)
(3)エポキシ基含有スチレン樹脂(日油社製、商品名:マープルーフG−1010S、Mw=100000、Tg=93℃)
[Polymer (A)]
(1) Bisphenol A type phenoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name: E1256, Mw = 51000, Tg = 98 ° C.)
(2) High heat resistance phenoxy resin (manufactured by Toto Kasei Co., Ltd., trade name: FX-293, Mw = 43700, Tg = 163 ° C.)
(3) Epoxy group-containing styrene resin (manufactured by NOF Corporation, trade name: Marproof G-1010S, Mw = 100000, Tg = 93 ° C.)

[エポキシ化合物(B1)]
(1)ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(三菱化学社製、商品名:エピコート828US、Mw=370)
(2)ビスフェノールF型液状エポキシ樹脂(三菱化学社製、商品名:エピコート806L、Mw=370)
(3)3官能グリシジルジアミン型液状エポキシ樹脂(三菱化学社製、商品名:エピコート630、Mw=300)
(4)フルオレン骨格エポキシ樹脂(大阪ガスケミカル社製、商品名:オンコートEX1011、Mw=486)
(5)ナフタレン骨格液状エポキシ樹脂(DIC社製、商品名:EPICLON HP−4032D、Mw=304)
(6)ヘキサヒドロフタル酸骨格液状エポキシ樹脂(日本化薬社製、商品名:AK−601、Mw=284)
(7)ビスフェノールA型固体状エポキシ樹脂(三菱化学社製、商品名:1003、Mw=1300)
[Epoxy compound (B1)]
(1) Bisphenol A type liquid epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation, trade name: Epicoat 828US, Mw = 370)
(2) Bisphenol F type liquid epoxy resin (product name: Epicoat 806L, Mw = 370, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
(3) Trifunctional glycidyldiamine type liquid epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name: Epicoat 630, Mw = 300)
(4) Fluorene skeleton epoxy resin (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., trade name: ONCOAT EX1011, Mw = 486)
(5) Naphthalene skeleton liquid epoxy resin (manufactured by DIC, trade name: EPICLON HP-4032D, Mw = 304)
(6) Hexahydrophthalic acid skeleton liquid epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: AK-601, Mw = 284)
(7) Bisphenol A type solid epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name: 1003, Mw = 1300)

[オキセタン化合物(B2)]
(1)ベンゼン骨格含有オキセタン樹脂(宇部興産社製、商品名:エタナコールOXTP、Mw=362.4)
[Oxetane compound (B2)]
(1) Oxetane resin containing benzene skeleton (manufactured by Ube Industries, trade name: etanacol OXTP, Mw = 362.4)

[硬化剤(C)]
(1)脂環式骨格酸無水物(新日本理化社製、商品名:MH−700)
(2)芳香族骨格酸無水物(サートマー・ジャパン社製、商品名:SMAレジンEF60)
(3)多脂環式骨格酸無水物(新日本理化社製、商品名:HNA−100)
(4)テルペン系骨格酸無水物(三菱化学社製、商品名:エピキュアYH−306)
(5)ビフェニル骨格フェノール樹脂(明和化成社製、商品名:MEH−7851−S)
(6)アリル基含有骨格フェノール樹脂(三菱化学社製、商品名:YLH−903)
(7)トリアジン骨格系フェノール樹脂(DIC社製、商品名:フェノライトKA−7052−L2)
(8)メラミン骨格系フェノール樹脂(群栄化学工業社製、商品名:PS−6492)
(9)ジシアンジアミド
(10)イソシアヌル変性固体分散型イミダゾール(イミダゾール系硬化促進剤、四国化成社製、商品名:2MZA−PW)
[Curing agent (C)]
(1) Alicyclic skeleton acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Chemical Co., Ltd., trade name: MH-700)
(2) Aromatic skeleton acid anhydride (manufactured by Sartomer Japan, trade name: SMA resin EF60)
(3) Polyalicyclic skeleton acid anhydride (manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd., trade name: HNA-100)
(4) Terpene-based skeleton acid anhydride (trade name: Epicure YH-306, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
(5) Biphenyl skeleton phenolic resin (Madewa Kasei Co., Ltd., trade name: MEH-7851-S)
(6) Allyl group-containing skeletal phenol resin (trade name: YLH-903, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
(7) Triazine skeleton phenolic resin (manufactured by DIC, trade name: Phenolite KA-7052-L2)
(8) Melamine skeleton phenolic resin (manufactured by Gunei Chemical Industry Co., Ltd., trade name: PS-6492)
(9) Dicyandiamide (10) Isocyanur-modified solid dispersion type imidazole (imidazole curing accelerator, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., trade name: 2MZA-PW)

[アルミナ(D)]
(1)破砕アルミナ1(昭和電工社製、商品名:A−172、平均粒子径1.8μm、最大粒子径32μm、蛍光X線分析による純度99.4%、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
(2)破砕アルミナ2(昭和電工社製、商品名:A−50N、平均粒子径1.2μm、最大粒子径32μm、蛍光X線分析による純度99.0%、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
(3)破砕アルミナ3(昭和電工社製、商品名:A−50−F、平均粒子径1.2μm、最大粒子径32μm、蛍光X線分析による純度98.8%、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
(4)破砕アルミナ4(キンセイマテック社製、商品名:セラフ02050、平均粒子径2μm、最大粒子径32μm、蛍光X線分析による純度98.2%、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
[Alumina (D)]
(1) Crushed alumina 1 (manufactured by Showa Denko KK, trade name: A-172, average particle size 1.8 μm, maximum particle size 32 μm, purity 99.4% by X-ray fluorescence analysis, thermal conductivity 36 W / m · K New Mohs hardness 12)
(2) Crushed alumina 2 (manufactured by Showa Denko KK, trade name: A-50N, average particle size 1.2 μm, maximum particle size 32 μm, purity 99.0% by X-ray fluorescence analysis, thermal conductivity 36 W / m · K New Mohs hardness 12)
(3) Crushed alumina 3 (manufactured by Showa Denko KK, trade name: A-50-F, average particle size 1.2 μm, maximum particle size 32 μm, purity 98.8% by fluorescent X-ray analysis, thermal conductivity 36 W / m・ K, new Mohs hardness 12)
(4) Crushed Alumina 4 (manufactured by Kinsei Matec Co., Ltd., trade name: Seraph 02050, average particle size 2 μm, maximum particle size 32 μm, purity by fluorescent X-ray analysis 98.2%, thermal conductivity 36 W / m · K, new Morse Hardness 12)

[アルミナ(D)以外の他のフィラー]
(1)破砕アルミナA(日本軽金属社製、商品名:LS−242C、平均粒子径2μm、蛍光X線分析による純度99.9%、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
(2)球状アルミナA(デンカ社製、商品名:DAM−10、平均粒子径10μm、蛍光X線分析による純度99.9%、熱伝導率36W/m・K、新モース硬度12)
(3)タルク(日本タルク社製、商品名:K−1、平均粒子径8μm)
[Fillers other than alumina (D)]
(1) Crushed Alumina A (Nippon Light Metal Co., Ltd., trade name: LS-242C, average particle size 2 μm, purity 99.9% by X-ray fluorescence analysis, thermal conductivity 36 W / m · K, new Mohs hardness 12)
(2) Spherical alumina A (manufactured by Denka Co., Ltd., trade name: DAM-10, average particle size 10 μm, purity 99.9% by X-ray fluorescence analysis, thermal conductivity 36 W / m · K, new Mohs hardness 12)
(3) Talc (Nippon Talc Co., Ltd., trade name: K-1, average particle size 8 μm)

[カップリング剤(E)]
(1)チタン系のカップリング剤1(味の素ファインテクノ社製、商品名:プレンアクト138S)
(2)チタン系のカップリング剤2(味の素ファインテクノ社製、商品名:プレンアクト238S)
(3)チタン系のカップリング剤3(味の素ファインテクノ社製、商品名:プレンアクト338X)
(4)チタン系のカップリング剤4(味の素ファインテクノ社製、商品名:プレンアクト38S)
(5)ジルコン系のカップリング剤(ケンリッチペトロケミカル社製、商品名:NZ38)
[Coupling agent (E)]
(1) Titanium-based coupling agent 1 (manufactured by Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd., trade name: Plenact 138S)
(2) Titanium coupling agent 2 (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., trade name: Plenact 238S)
(3) Titanium coupling agent 3 (manufactured by Ajinomoto Fine-Techno Co., Ltd., trade name: Plenact 338X)
(4) Titanium-based coupling agent 4 (manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., trade name: Plenact 38S)
(5) Zircon coupling agent (Kenrich Petrochemical Co., Ltd., trade name: NZ38)

[カップリング剤(E)以外の他のカップリング剤]
(1)フェニルトリエトキシシラン(信越化学工業社製、商品名:KBE103)
[Coupling agents other than coupling agent (E)]
(1) Phenyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KBE103)

[溶剤]
(1)メチルエチルケトン
[solvent]
(1) Methyl ethyl ketone

(実施例1〜27及び比較例1〜7)
ホモディスパー型撹拌機を用いて、下記の表1〜4に示す割合(配合単位は重量部)で各原料を配合し、混練し、絶縁材料を調製した。
(Examples 1-27 and Comparative Examples 1-7)
Using a homodisper-type stirrer, each raw material was blended in the proportions shown in Tables 1 to 4 below (blending unit is parts by weight) and kneaded to prepare an insulating material.

厚み50μmの離型PETシートに、上記絶縁材料を100μmの厚みになるように塗工し、90℃のオーブン内で30分乾燥して、PETシート上に絶縁シートを作製した。   The insulating material was applied to a release PET sheet having a thickness of 50 μm so as to have a thickness of 100 μm, and dried in an oven at 90 ° C. for 30 minutes to produce an insulating sheet on the PET sheet.

(評価)
(1)ハンドリング性
PETシートと、該PETシート上に形成された絶縁シートとを有する積層シートを460mm×610mmの大きさに切り出して、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを用いて、室温(23℃)でPETシートから熱硬化前の絶縁シートを剥離したときのハンドリング性を下記の基準で評価した。
(Evaluation)
(1) Handling property A laminate sheet having a PET sheet and an insulating sheet formed on the PET sheet was cut into a size of 460 mm x 610 mm to obtain a test sample. Using the obtained test sample, handling properties when the insulating sheet before thermosetting was peeled from the PET sheet at room temperature (23 ° C.) were evaluated according to the following criteria.

[ハンドリング性の判定基準]
〇:絶縁シートの変形がなく、容易に剥離可能
△:絶縁シートを剥離できるものの、シート伸び又は破断が発生する
×:絶縁シートを剥離できない
[Handling criteria]
○: The insulating sheet is not deformed and can be easily peeled. Δ: The insulating sheet can be peeled, but the sheet is stretched or broken.

(2)ガラス転移温度
示差走査熱量測定装置「DSC220C」(セイコーインスツルメンツ社製)を用いて、3℃/分の昇温速度で、未硬化状態での絶縁シートのガラス転移温度を測定した。
(2) Glass transition temperature Using a differential scanning calorimeter “DSC220C” (manufactured by Seiko Instruments Inc.), the glass transition temperature of the insulating sheet in an uncured state was measured at a rate of temperature increase of 3 ° C./min.

(3)熱伝導率
京都電子工業社製熱伝導率計「迅速熱伝導率計QTM−500」を用いて、絶縁シートの熱伝導率を測定した。
(3) Thermal conductivity The thermal conductivity of the insulating sheet was measured using a thermal conductivity meter “quick thermal conductivity meter QTM-500” manufactured by Kyoto Electronics Industry Co., Ltd.

(4)半田耐熱試験(耐熱性)
厚み1.5mmのアルミニウム板と厚み35μmの電解銅箔との間に絶縁シートを挟み、真空プレス機で4MPaの圧力を保持しながら120℃で1時間、更に200℃で1時間、絶縁シートをプレス硬化し、銅張り積層板を形成した。この銅張り積層板を50mm×60mmの大きさに切り出し、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを288℃の半田浴に銅箔側を下に向けて浮かべ、銅箔の膨れ又は剥がれが発生するまでの時間を測定し、以下の基準で判定した。
(4) Solder heat resistance test (heat resistance)
An insulating sheet is sandwiched between an aluminum plate having a thickness of 1.5 mm and an electrolytic copper foil having a thickness of 35 μm. Press-cured to form a copper-clad laminate. This copper-clad laminate was cut into a size of 50 mm × 60 mm to obtain a test sample. The obtained test sample was floated in a solder bath at 288 ° C. with the copper foil side facing down, and the time until the copper foil swelled or peeled off was measured and judged according to the following criteria.

[半田耐熱試験の判定基準]
〇:3分経過しても膨れ及び剥離の発生無し
△:1分経過後、かつ3分経過する前に膨れ又は剥離が発生
×:1分経過する前に膨れ又は剥離が発生
[Criteria for solder heat resistance test]
○: No swelling or peeling even after 3 minutes △: Swelling or peeling occurs after 1 minute and before 3 minutes ×: Swelling or peeling occurs after 1 minute

(5)絶縁破壊電圧(耐電圧性)
絶縁シートを100mm×100mmの大きさに切り出して、テストサンプルを得た。得られたテストサンプルを120℃のオーブン内で1時間、更に200℃のオーブン内で1時間硬化させ、絶縁シートの硬化物を得た。耐電圧試験器(MODEL7473、EXTECH Electronics社製)を用いて、絶縁シートの硬化物間に1kV/秒の速度で電圧が上昇するように、交流電圧を印加した。絶縁シートの硬化物が破壊した電圧を、絶縁破壊電圧とした。
(5) Dielectric breakdown voltage (voltage resistance)
The insulating sheet was cut into a size of 100 mm × 100 mm to obtain a test sample. The obtained test sample was cured in an oven at 120 ° C. for 1 hour and further in an oven at 200 ° C. for 1 hour to obtain a cured product of an insulating sheet. An AC voltage was applied using a withstand voltage tester (MODEL7473, manufactured by EXTECH Electronics) so that the voltage increased at a rate of 1 kV / second between the cured products of the insulating sheet. The voltage at which the cured product of the insulating sheet was broken was defined as the dielectric breakdown voltage.

(6)加工性
上記(4)の評価で得られた銅張り積層板を用意した。この銅張り積層板を直径2.0mmのドリル(ユニオンツール社製、RA series)を用いて、回転数60000及びテーブル送り速度0.3m/分の条件でルーター加工した。ばりが発生するまでの加工距離を測定し、加工性を以下の基準で評価した。
(6) Workability A copper-clad laminate obtained by the evaluation in (4) above was prepared. This copper-clad laminate was subjected to router processing using a drill having a diameter of 2.0 mm (RA series, manufactured by Union Tool Co., Ltd.) under conditions of a rotational speed of 60000 and a table feed speed of 0.3 m / min. The processing distance until the flash was generated was measured, and the workability was evaluated according to the following criteria.

[加工性の判定基準]
A:ばりが発生することなく20m以上加工可能
B:ばりが発生することなく10m以上、20m未満加工可能
C:ばりが発生することなく5m以上、10m未満加工可能
D:ばりが発生することなく1m以上、5m未満加工可能
E:1m未満の加工によりばりが発生
[Criteria for workability]
A: Processing is possible for 20 m or more without generating burr B: Processing is possible for 10 m or more and less than 20 m without generating burr C: Processing is possible for 5 m or more and less than 10 m without generating burr D: Without generating burr 1m or more and less than 5m can be processed. E: Burrs are generated by processing less than 1m.

結果を下記の表1〜4に示す。下記の表1〜4において、*1は全樹脂成分X100重量%中の含有量(重量%)を示す。*2は、絶縁シート100体積%中の含有量(体積%)を示す。「−」は評価していないことを示す。   The results are shown in Tables 1 to 4 below. In the following Tables 1 to 4, * 1 represents the content (% by weight) in 100% by weight of the total resin component X. * 2 shows content (volume%) in 100 volume% of insulating sheets. “-” Indicates that evaluation is not performed.

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1…積層構造体
2…熱伝導体
2a…第1の表面
2b…第2の表面
3…絶縁層
4…導電層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Laminated structure 2 ... Thermal conductor 2a ... 1st surface 2b ... 2nd surface 3 ... Insulating layer 4 ... Conductive layer

Claims (7)

熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体を導電層に接着するために用いられる絶縁材料であって、
重量平均分子量が10000以上であるポリマーと、
分子量が10000未満であり、かつエポキシ基又はオキセタニル基を有する硬化性化合物と、
硬化剤と、
蛍光X線分析による純度が90.0%以上、99.5%以下であるアルミナとを含み、
絶縁材料100体積%中、前記アルミナの含有量が20体積%以上、70体積%以下である、絶縁材料。
An insulating material used for bonding a heat conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more to a conductive layer,
A polymer having a weight average molecular weight of 10,000 or more;
A curable compound having a molecular weight of less than 10,000 and having an epoxy group or an oxetanyl group;
A curing agent;
Including alumina having a purity by fluorescent X-ray analysis of 90.0% or more and 99.5% or less,
The insulating material whose content of the said alumina is 20 volume% or more and 70 volume% or less in 100 volume% of insulating materials.
前記アルミナが破砕アルミナである、請求項1に記載の絶縁材料。   The insulating material according to claim 1, wherein the alumina is crushed alumina. 前記アルミナの平均粒子径が10μm以下であり、かつ最大粒子径が35μm以下である、請求項1又は2に記載の絶縁材料。   The insulating material according to claim 1 or 2, wherein the average particle size of the alumina is 10 µm or less and the maximum particle size is 35 µm or less. チタン系又はジルコン系のカップリング剤をさらに含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の絶縁材料。   The insulating material according to claim 1, further comprising a titanium-based or zircon-based coupling agent. シート状の絶縁シートであり、
絶縁シート100体積%中、前記アルミナの含有量が20体積%以上、70体積%以下である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の絶縁材料。
A sheet-like insulation sheet,
The insulating material according to any one of claims 1 to 4, wherein a content of the alumina is 20% by volume or more and 70% by volume or less in 100% by volume of the insulating sheet.
熱伝導率が10W/m・K以上である熱伝導体と、
前記熱伝導体の少なくとも一方の表面に積層された絶縁層と、
前記絶縁層の前記熱伝導体が積層された表面とは反対側の表面に積層された導電層とを備え、
前記絶縁層が、請求項1〜5のいずれか1項に記載の絶縁材料を硬化させることにより形成されている、積層構造体。
A thermal conductor having a thermal conductivity of 10 W / m · K or more;
An insulating layer laminated on at least one surface of the thermal conductor;
A conductive layer laminated on a surface opposite to the surface on which the thermal conductor of the insulating layer is laminated,
The laminated structure in which the said insulating layer is formed by hardening the insulating material of any one of Claims 1-5.
前記熱伝導体が金属である、請求項6に記載の積層構造体。   The laminated structure according to claim 6, wherein the heat conductor is a metal.
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