JP2012102732A5

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Publication number: JP2012102732A5
Application number: JP2011243087A
Authority: JP
Filing date: 2011-11-07
Publication date: 2014-12-18
Anticipated expiration: 2031-11-07

Claims

構成部品（１００）を製造する方法であって、
基材（１１０）の表面（１１２）に１つまたは複数の溝（１３２）を形成するステップであり、前記基材（１１０）が少なくとも１つの中空の内部空間（１１４）を有し、前記１つまたは複数の溝（１３２）の各々が前記基材（１１０）の前記表面（１１２）に少なくとも部分的に沿って延在し、また、底面（１３４）および頂部（１３６）を有し、前記底面（１３４）が前記頂部（１３６）より広く、したがって、前記１つまたは複数の溝（１３２）の各々が窪み形状の溝（１３２）を有する、ステップと、
前記溝（１３２）を前記少なくとも１つの中空の内部空間（１１４）のそれぞれの１つに流体連通させて接続するために、それぞれ１つの前記１つまたは複数の溝（１３２）の前記底面（１３４）を通るように１つまたは複数のアクセス孔（１４０）を形成するステップと、
前記基材（１１０）の前記表面（１１２）の少なくとも一部分の上にコーティング（１５０）を堆積させるステップであり、前記１つまたは複数の溝（１３２）および前記コーティング（１５０）が、前記構成部品（１００）を冷却するための１つまたは複数の窪み形状のチャネル（１３０）を画定する、ステップと、
を含み、
前記１つまたは複数の窪み形状の溝（１３２）が、前記基材（１１０）の前記表面（１１２）に前記研磨液噴射（１６０）を方向付けることによって形成され、
前記１つまたは複数の窪み形状の溝（１３２）が、研磨液噴射（１６０）が最初に通過するときに前記基材（１１０）の前記表面（１１２）に対して外側の角度をつけて前記研磨液噴射（１６０）を方向付けて、次いで次に通過するときに前記外側の角度と実質的に反対の角度にすることにより、形成される、
方法。
それぞれ１つの前記１つまたは複数の窪み形状の溝（１３２）の前記底面（１３４）が前記それぞれの溝（１３２）の前記頂部（１３６）の約３倍〜４倍の範囲内の幅を有する、請求項１に記載の方法。
それぞれ１つの前記１つまたは複数の窪み形状の溝（１３２）の壁（１３８）が表面法線（５２）に対して約２０度〜４５度の範囲内にある角度φで方向付けられる、請求項１に記載の方法。
前記基材（１１０）の前記表面（１１２）の少なくとも一部分の上にコーティング（１５０）を堆積させるステップが、
イオンプラズマ蒸着、
高速フレーム溶射（ＨＶＯＦ）、
高速空気燃料溶射（ＨＶＡＦ）、または、
低圧プラズマ溶射（ＬＰＰＳ）プロセス
のうちの少なくとも１つを実行するステップを含む、請求項１に記載の方法。
基材（１１０）と、少なくとも１つのコーティング（１５０）とを備える構成部品（１００）であって、
前記基材（１１０）が、外側表面（１１２）および内側表面（１１６）を含み、前記内側表面（１１６）が少なくとも１つの中空の内部空間（１１４）を画定し、前記外側表面（１１２）が１つまたは複数の溝（１３２）を画定し、前記１つまたは複数の溝（１３２）の各々が前記基材（１１０）の前記表面（１１２）に少なくとも部分的に沿って延在し、また、底面（１３４）および頂部（１３６）を有し、前記底面（１３４）が前記頂部（１３６）より広く、したがって、前記１つまたは複数の溝（１３２）の各々が窪み形状の溝（１３２）を有し、１つまたは複数のアクセス孔（１４０）が、前記１つまたは複数の溝（１３２）のそれぞれの１つを前記少なくとも１つの中空の内部空間（１１４）のそれぞれの１つに流体連通させて接続するために、それぞれ１つの前記１つまたは複数の溝（１３２）の前記底面（１３４）を通るように形成され、
前記少なくとも１つのコーティング（１５０）が、前記基材（１１０）の前記表面（１１２）の少なくとも一部分の上に堆積され、前記１つまたは複数の溝（１３２）および前記コーティング（１５０）が、構成部品（１００）を冷却するための１つまたは複数の窪み形状のチャネル（１３０）を画定する、構成部品（１００）。
それぞれ１つの前記１つまたは複数の窪み形状の溝（１３２）の前記底面（１３４）が前記それぞれの溝（１３２）の前記頂部（１３６）の約３〜４倍の範囲内にある幅を有し、それぞれ１つの前記１つまたは複数の窪み形状の溝（１３２）の壁（１３８）が表面法線（５２）に対して約２０度〜４５度の範囲内にある角度φで方向付けられる、請求項５に記載の構成部品（１００）。
前記コーティング（１５０）が前記個別の１つまたは複数の溝（１３２）を完全に架橋し、したがって、前記コーティング（１５０）が前記それぞれのチャネル（１３０）を密閉する、請求項５に記載の構成部品（１００）。
前記コーティング（１５０）が１つまたは複数の多孔性の隙間（１４４）を画定し、したがって、前記コーティング（１５０）が前記個別の１つまたは複数の溝（１３２）の各々を完全には架橋しない、請求項５に記載の構成部品（１００）。
犠牲充填材を使用することなく構成部品（１００）を被覆する方法であって、
基材（１１０）の表面（１１２）に１つまたは複数の溝（１３２）を形成するステップであり、前記基材（１１０）が少なくとも１つの中空の内部空間（１１４）を有し、前記１つまたは複数の溝（１３２）の各々が前記基材（１１０）の前記表面（１１２）に少なくとも部分的に沿って延在し、また、底面（１３４）および頂部（１３６）を有し、前記頂部（１３６）の幅が約０．１ｍｍから約０．５ｍｍである、ステップと、
前記基材（１１０）の前記表面（１１２）の少なくとも一部分の上に、前記１つまたは複数の溝（１３２）のうちの空いている溝の上に直接にコーティング（１５０）を堆積させるステップであり、前記１つまたは複数の溝（１３２）および前記コーティング（１５０）が、前記構成部品（１００）を冷却するための１つまたは複数のチャネル（１３０）を画定する、ステップと、
前記基材（１１０）の前記表面（１１２）に前記１つまたは複数の溝（１３２）を形成する前に前記基材（１１０）を注型するステップと、
前記溝（１３２）を前記少なくとも１つの中空の内部空間（１１４）のそれぞれの１つに流体連通させて接続するために、それぞれ１つの前記溝（１３２）の前記底面（１３４）を通るように１つまたは複数のアクセス孔（１４０）を形成するステップと
を含み、
前記コーティング（１５０）には、金属コーティング、ボンドコーティング、および、遮熱コーティングのうちの少なくとも１つが含まれ、前記基材（１１０）の前記表面（１１２）の少なくとも一部分の上にコーティング（１５０）を堆積させるステップが、
イオンプラズマ蒸着、
高速フレーム溶射（ＨＶＯＦ）プロセス、
高速酸素燃料溶射（ＨＶＡＦ）プロセス、または、
低圧プラズマ溶射（ＬＰＰＳ）プロセス、
のうちの少なくとも１つを実行するステップを含む、
方法。