JP2012078466A - Antireflection film - Google Patents

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Eiichi Tokawa
栄一 東川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film that is excellent in scratch resistance, and in which color unevenness is suppressed in a high level, and cissing of the antireflection layer does not occur, by optimizing a surface state of a hard coat layer arranged at lower most layer in the antireflection layer.SOLUTION: The film is formed by sequentially laminating the hard coat layer and the antireflection layer on at least one face of a transparent substrate in this order. The hard coat layer is formed by applying a coating liquid containing an ionizing radiation-curable material to the transparent substrate and curing it with radiation of ionizing radiation. The antireflection layer is formed by applying a coating liquid containing an ionizing radiation-curable material and a surface modifying agent having both or either one of a fluorine-containing group and a silicone skelton to the hard coat layer, and curing it with radiation of ionizing radiation. A contact angle of pure water to the hard coat surface measured according to JIS R3257 (1999) is in the range of 60° or more and 90° or less.

Description

本発明は液晶ディスプレイ(LCD)、CRTディスプレイ、有機ELディスプレ、プラズマディスプレイ(PDP)、表面電界ディスプレイ(SED)などのディスプレイの表面に設けられる反射防止フィルムに関する。   The present invention relates to an antireflection film provided on the surface of a display such as a liquid crystal display (LCD), a CRT display, an organic EL display, a plasma display (PDP), and a surface electric field display (SED).

LCDやCRT、プラズマディスプレイ等の光学表示装置においては、室内外での使用を問わず、外光等が入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することが多く、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。   Optical display devices such as LCDs, CRTs, and plasma displays are used in an environment where external light or the like is incident, regardless of whether they are used indoors or outdoors. Incident light such as external light is specularly reflected on the display surface and the like, and the reflected image thereby mixes with the display image, thereby degrading the screen display quality. For this reason, an antireflection function is often imparted to the display surface or the like, and there is a demand for higher performance of the antireflection function and to combine functions other than the antireflection function.

ディスプレイの中でもLCDはその機構上、パネル表面に偏光板を用いる必要があり、偏光板は一般的にポリビニルアルコール(PVA)が使用される。偏光板(PVA)は強度、耐水性が極めて弱いため、保護フィルムとしてトリアセチルセルロース(TAC)フィルムを使用するのが一般的である。しかしTACフィルムも、その表面が比較的柔軟であることから、表面硬度を付与するために、一般にアクリル多官能化合物の重合体からなるハードコート層を設け、その上に反射防止多層膜を形成するという手法が用いられている。このハードコート層はアクリル樹脂の特性により、高い表面硬度、光沢性、透明性、耐擦傷性を有する。   Among the displays, the LCD needs to use a polarizing plate on the panel surface because of its mechanism, and the polarizing plate is generally made of polyvinyl alcohol (PVA). Since a polarizing plate (PVA) is extremely weak in strength and water resistance, a triacetyl cellulose (TAC) film is generally used as a protective film. However, since the surface of the TAC film is relatively flexible, in order to impart surface hardness, a hard coat layer generally made of a polymer of an acrylic polyfunctional compound is provided, and an antireflection multilayer film is formed thereon. The method is used. This hard coat layer has high surface hardness, gloss, transparency, and scratch resistance due to the properties of the acrylic resin.

一般に反射防止機能は、透明基材もしくは前記ハードコート層上にそれらより屈折率の低い反射防止層を形成することで得られる。さらに、反射防止性能を向上させるため、透明基材もしくは前記ハードコート層上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と反射防止層の繰り返し構造による多層構造を形成する場合もある。この多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着(CVD)法や、物理蒸着(PVD)法といったドライコーティング法により形成することができる。   In general, the antireflection function can be obtained by forming an antireflection layer having a refractive index lower than those on a transparent substrate or the hard coat layer. Furthermore, in order to improve the antireflection performance, a multilayer structure having a repeating structure of a high refractive index layer made of a transparent material such as a metal oxide and an antireflection layer may be formed on the transparent substrate or the hard coat layer. The antireflection layer having a multilayer structure can be formed by a dry coating method such as a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method.

ドライコーティング法を用いて反射防止層を形成するに当たっては、各層の膜厚を精密に制御できるという利点があるが、成膜を真空中で行わなければならないため大型の設備が必要であり、かつ生産性が低く大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として大面積化、連続生産、低コスト化が可能である塗液を用いたウェットコーティング法を用いた反射防止フィルムの生産が注目されている。   In forming an antireflection layer using the dry coating method, there is an advantage that the film thickness of each layer can be precisely controlled. However, since the film formation must be performed in a vacuum, a large facility is required, and There is a problem that productivity is low and it is not suitable for mass production. On the other hand, production of an antireflection film using a wet coating method using a coating liquid capable of increasing the area, continuous production, and cost is attracting attention as a method for forming an antireflection layer.

特開2007−102206号公報JP 2007-102206 A

ウェットコーティング法により製造された反射防止フィルムは、近年のLCD−TVの普及、大型化によって大量に用いられるようになったが、同時にさらなる高機能化、高品質化の要求が高まっている。中でも、反射防止フィルムはディスプレイの表面に設けられることから、表面への傷つきを防ぐための耐擦傷性の向上、色ムラを目立たなくするという要求は最も大きなものになっている。   The antireflection film manufactured by the wet coating method has been used in large quantities due to the recent popularization and enlargement of LCD-TV, but at the same time, there is an increasing demand for higher functionality and higher quality. Among them, since the antireflection film is provided on the surface of the display, the demands for improving the scratch resistance to prevent the surface from being scratched and making the color unevenness inconspicuous are the greatest.

ここで色ムラとは画面上に見られる反射色の差であり、これは反射防止層の微小な膜厚変動による反射分光スペクトルの変化に起因するものである。この色ムラを改善するために、反射防止層を形成する塗液にフッ素含有基、シリコーン骨格を有する表面調整剤を添加することが知られている。これらの表面調整剤は反射防止層最表面に局在化し、ウェット状態の塗膜の表面を均一化すると共に反射防止層最表面に滑り性を付与し、色ムラの発生の防止だけでなく、耐擦傷性の向上にも効果を発揮する。   Here, the color unevenness is a difference in reflected color seen on the screen, which is caused by a change in the reflection spectrum due to a minute film thickness variation of the antireflection layer. In order to improve the color unevenness, it is known to add a surface conditioner having a fluorine-containing group and a silicone skeleton to the coating liquid for forming the antireflection layer. These surface conditioners are localized on the outermost surface of the antireflection layer, uniformize the surface of the coating film in a wet state and impart slipperiness to the outermost surface of the antireflection layer, not only preventing the occurrence of color unevenness, Also effective in improving scratch resistance.

しかしながら、反射防止層における表面調整剤の局在化は反射防止層を積層する下層の表面状態にも依存し、反射防止層に含まれる表面調整剤の調整のみによっては耐擦傷性や色ムラを十分に解消することができなかった。また、下層の表面状態によっては、反射防止層をウェットコーティング法で形成する際にハジキが発生するといった不具合も発生する。   However, the localization of the surface conditioning agent in the antireflection layer also depends on the surface state of the lower layer on which the antireflection layer is laminated, and depending on the adjustment of the surface conditioning agent contained in the antireflection layer, scratch resistance and color unevenness may occur. It could not be resolved sufficiently. In addition, depending on the surface state of the lower layer, there is a problem that repelling occurs when the antireflection layer is formed by the wet coating method.

本発明にあっては、上記の問題点に鑑み、反射防止層の下層に位置するハードコート層表面の状態を最適化することで、耐擦傷性に優れ、色ムラが高いレベルで抑制され、かつ、反射防止層のハジキのない反射防止フィルムを提供することを課題とする。   In the present invention, in view of the above problems, by optimizing the state of the hard coat layer surface located in the lower layer of the antireflection layer, it is excellent in scratch resistance and color unevenness is suppressed at a high level, And let it be a subject to provide the antireflection film without the repellency of an antireflection layer.

上記課題を解決するために請求項1記載の発明としては、透明基材の少なくとも一方の面にハードコート層と反射防止層をこの順番で積層したフィルムであって、前記ハードコート層が電離放射線硬化型材料を含む塗液を前記透明基材上に塗布し電離放射線照射により硬化させたものであり、かつ、前記反射防止層が電離放射線硬化型材料とフッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤を含む塗液を前記ハードコート層上に塗布し、電離放射線照射により硬化させたものであり、かつ、JIS R3257(1999)により測定されるハードコート層表面の純水の接触角が60°以上90°以下の範囲内であることを特徴とする反射防止フィルムとした。
また、請求項2記載の発明としては、前記JIS R3257(1999)により測定されるハードコート層表面の純水の接触角が70°以上80°以下の範囲内であることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルムとした。
また、請求項3記載の発明としては、前記ハードコート層がフッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤が含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の反射防止フィルムとした。
また、請求項4記載の発明としては、請求項1乃至3のいずれかに記載の反射防止フィルムと、該反射防止フィルムの透明基材の非形成面に該透明基材側から順に偏光層と透明基材フィルムとを備える偏光板とした。
また、請求項5記載の発明としては、観察者側から順に、請求項4記載の偏光板と、液晶セルと、第2の偏光板と、バックライトユニットをこの順に備え、かつ、前記反射防止層が観察者側の最表面に位置することを特徴とする透過型液晶ディスプレイとした。
また、請求項6記載の発明としては、透明基材の少なくとも一方の面にハードコート層と反射防止層をこの順番で積層したフィルムの製造方法であって、電離放射線硬化型材料を含む塗液を前記透明基材上に塗布し電離放射線照射により硬化させハードコート層を形成する工程と、電離放射線硬化型材料とフッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤を含む塗液を前記ハードコート層上に塗布し、電離放射線照射により硬化させ反射防止層を形成する工程とを備え、かつ、前記反射防止層を形成する前のJIS R3257(1999)により測定されるハードコート層表面の純水の接触角が60°以上90°以下の範囲内であることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法とした。
In order to solve the above-mentioned problem, the invention according to claim 1 is a film in which a hard coat layer and an antireflection layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent substrate, and the hard coat layer is ionizing radiation. A coating liquid containing a curable material is applied on the transparent substrate and cured by irradiation with ionizing radiation, and the antireflection layer includes both an ionizing radiation curable material, a fluorine-containing group, and a silicone skeleton, or A coating liquid containing a surface conditioner having either one is applied onto the hard coat layer and cured by ionizing radiation irradiation, and the purity of the hard coat layer surface measured by JIS R3257 (1999) The antireflection film was characterized in that the water contact angle was in the range of 60 ° to 90 °.
The invention according to claim 2 is characterized in that the contact angle of pure water on the surface of the hard coat layer measured by JIS R3257 (1999) is in the range of 70 ° to 80 °. The antireflection film described in 1 was used.
The invention according to claim 3 is characterized in that the hard coat layer contains a surface conditioner having both or one of fluorine-containing groups and a silicone skeleton. Antireflection film.
Moreover, as invention of Claim 4, as for the antireflection film in any one of Claims 1 thru | or 3, a polarizing layer in order from this transparent base material side to the non-formation surface of the transparent base material of this antireflection film, It was set as the polarizing plate provided with a transparent base film.
According to a fifth aspect of the invention, in order from the observer side, the polarizing plate according to the fourth aspect, a liquid crystal cell, a second polarizing plate, and a backlight unit are provided in this order, and the antireflection is provided. A transmissive liquid crystal display characterized in that the layer is located on the outermost surface on the viewer side.
The invention according to claim 6 is a method for producing a film in which a hard coat layer and an antireflection layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent substrate, and the coating liquid contains an ionizing radiation curable material. A surface adjusting agent having a step of forming a hard coat layer by applying it onto the transparent substrate and curing by irradiation with ionizing radiation, and an ionizing radiation curable material, a fluorine-containing group, and / or a silicone skeleton. And a step of applying a coating liquid onto the hard coat layer and curing it by irradiation with ionizing radiation to form an antireflection layer, and measuring the hardness measured by JIS R3257 (1999) before forming the antireflection layer. The method for producing an antireflection film is characterized in that the contact angle of pure water on the surface of the coating layer is in the range of 60 ° to 90 °.

本発明にあっては、ハードコート層表面の状態を最適化することで、耐擦傷性に優れ、色ムラが高いレベルで抑制され、かつ、反射防止層のハジキのない反射防止フィルムとすることができた。   In the present invention, by optimizing the surface state of the hard coat layer, the anti-reflection film has excellent scratch resistance, color unevenness is suppressed at a high level, and the anti-reflection layer has no repellency. I was able to.

本発明の一実施例の反射防止フィルムを示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the antireflection film of one Example of this invention. 本発明の一実施例の反射防止フィルムを有する偏光板を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the polarizing plate which has the antireflection film of one Example of this invention. (a)及び(b)は、本発明の一実施例の反射防止フィルムを有する透過型液晶ディスプレイを示す概略断面図である。(A) And (b) is a schematic sectional drawing which shows the transmissive liquid crystal display which has the anti-reflective film of one Example of this invention.

以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しつつ、説明する。実施の形態において、同一構成要素には同一符号を付け、実施の形態において重複する説明は省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the embodiments, the same components are denoted by the same reference numerals, and redundant description in the embodiments is omitted.

図1は、本発明の実施の形態に係る反射防止フィルム(10)を示す概略断面図である。   FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an antireflection film (10) according to an embodiment of the present invention.

図1に示すように、本発明の実施の形態に係る反射防止フィルム(10)は、透明基材(11)、ハードコート層(12)、反射防止層(13)を備えており、透明基材(11)上に、ハードコート層(12)およびハードコート層(12)上に反射防止層(13)が積層されている。   As shown in FIG. 1, the antireflection film (10) according to the embodiment of the present invention includes a transparent substrate (11), a hard coat layer (12), and an antireflection layer (13). An antireflection layer (13) is laminated on the hard coat layer (12) and the hard coat layer (12) on the material (11).

本発明にあっては、ハードコート層(12)は電離放射線硬化型材料を含む塗液を透明基材(11)上に塗布し電離放射線照射により硬化させて形成される。また、反射防止層(13)にあっても電離放射線硬化型材料を含む塗液をハードコート層(12)上に塗布し電離放射線照射により硬化させて形成される。このようにハードコート層(12)及び反射防止層(13)は塗液を用いたウェットコーティング法により形成される。ウェットコーティング法を用いてハードコート層、反射防止フィルムを形成することにより、ドライコーティング法でこれらの層を形成する場合と比較して、大面積化、連続生産、低コスト化を容易とすることができる。また、本発明の反射防止フィルムにあっては、電離放射線硬化型材料含む塗液を用い、塗液の塗布、電離放射線照射による硬化という工程により、ハードコート層及び反射防止層を形成する。電離放射線硬化型材料を用い、塗布・硬化によりハードコート層、反射防止層を形成することにより、ハードコート層および反射防止層を硬質の膜とすることができ、反射防止フィルム表面に耐擦傷性を付与することができる。   In the present invention, the hard coat layer (12) is formed by applying a coating liquid containing an ionizing radiation curable material on the transparent substrate (11) and curing it by irradiation with ionizing radiation. Even in the antireflection layer (13), a coating liquid containing an ionizing radiation curable material is applied on the hard coat layer (12) and cured by irradiation with ionizing radiation. Thus, the hard coat layer (12) and the antireflection layer (13) are formed by a wet coating method using a coating liquid. By forming a hard coat layer and an antireflection film using the wet coating method, it is easier to increase the area, continuously produce, and reduce costs than when these layers are formed by the dry coating method. Can do. Further, in the antireflection film of the present invention, a hard coat layer and an antireflection layer are formed by a coating liquid containing an ionizing radiation curable material and a coating liquid coating and curing by irradiation with ionizing radiation. By using an ionizing radiation curable material and forming a hard coat layer and an antireflection layer by coating and curing, the hard coat layer and the antireflection layer can be made into a hard film, and the antireflection film surface is scratch resistant. Can be granted.

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止層が、フッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤を含むことを特徴とする。フッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤を含むことにより、これらの表面調整剤は反射防止層最表面に局在化し、ウェット状態の塗膜の表面を均一化すると共に反射防止層最表面に滑り性を付与し、色ムラの発生の防止だけでなく、耐擦傷性の向上にも効果を発揮する。   Moreover, in the antireflection film of the present invention, the antireflection layer includes a surface conditioner having both or one of a fluorine-containing group and a silicone skeleton. By including a surface conditioner having either or both of a fluorine-containing group and a silicone skeleton, these surface conditioners are localized on the outermost surface of the antireflection layer and make the surface of the wet coating film uniform. At the same time, it provides slipperiness to the outermost surface of the antireflection layer, and is effective not only in preventing the occurrence of color unevenness but also in improving the scratch resistance.

本発明の反射防止フィルムにあっては、JIS R3257(1999)により測定されるハードコート層表面(12)の純水の接触角が60°以上90°以下の範囲内であることを特徴とする。本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止フィルムが形成される前のハードコート層表面の純水接触角を60°以上90°以下とすることにより耐擦傷性に優れ、色ムラがなく、かつ、反射防止層のハジキのない反射防止フィルムとすることができた。   In the antireflection film of the present invention, the contact angle of pure water on the hard coat layer surface (12) measured by JIS R3257 (1999) is in the range of 60 ° to 90 °. . In the antireflection film of the present invention, the pure water contact angle on the surface of the hard coat layer before forming the antireflection film is 60 ° or more and 90 ° or less so that it has excellent scratch resistance and no color unevenness. And it was able to be set as the antireflection film without the repellency of an antireflection layer.

本発明の反射防止フィルムにおいて、反射防止層(13)の膜厚(d)は、その膜厚(d)に低屈折率層の屈折率(n)をかけることによって得られる光学膜厚(nd)が可視光の波長(λ)の1/4と等しくなるように設計される。反射防止層の光学膜厚をλ/4とすることにより、光学干渉により反射防止フィルム表面に反射防止機能を付与することができる。反射防止層の層厚はきわめて薄く、また、上述したように反射防止層は光学干渉により反射防止機能を付与することができるため、反射防止フィルムの膜厚変動による色ムラが発生しやすい。特に、反射防止層をウェットコーティング法で形成する場合にはドライコーティング法と比較して膜厚を一定に制御することが困難が伴う。本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層表面の純水接触角を60°以上90°以下とすることにより耐擦傷性に優れ、色ムラがなく、かつ、反射防止層のハジキのない反射防止フィルムとすることができた。   In the antireflection film of the present invention, the film thickness (d) of the antireflection layer (13) is the optical film thickness (nd) obtained by multiplying the film thickness (d) by the refractive index (n) of the low refractive index layer. ) Is designed to be equal to ¼ of the wavelength (λ) of visible light. By setting the optical film thickness of the antireflection layer to λ / 4, an antireflection function can be imparted to the antireflection film surface by optical interference. The thickness of the antireflection layer is extremely thin. Further, as described above, the antireflection layer can provide an antireflection function by optical interference, and therefore, color unevenness due to film thickness variation of the antireflection film is likely to occur. In particular, when the antireflection layer is formed by a wet coating method, it is difficult to control the film thickness to be constant as compared with the dry coating method. In the antireflection film of the present invention, the pure water contact angle on the surface of the hard coat layer is 60 ° or more and 90 ° or less, so that it has excellent scratch resistance, no color unevenness, and repellency of the antireflection layer. There could be no anti-reflection film.

本発明者らは、反射防止層の耐擦傷性を優れたものとし、色ムラを高いレベルで抑制するにあっては、反射防止層(塗液)を最適化するだけでなく、反射防止層の下層に位置するハードコート層の表面状態を最適化する必要があることを見出し、本発明にいたった。   In order to suppress the color unevenness at a high level, the present inventors have not only optimized the antireflection layer (coating liquid) but also an antireflection layer. The present inventors have found that it is necessary to optimize the surface state of the hard coat layer located in the lower layer of the present invention, and have arrived at the present invention.

ハードコート層(12)表面の純水における接触角を60°以上90°以下の範囲内とすることで、反射防止層中に存在する表面調整剤が最適に局在化され、耐擦傷性および色ムラに優れた反射防止フィルムを提供することができる。ハードコート層(12)表面の純水における接触角が60°未満の場合、反射防止層に含有される表面調整剤の局在化が促進されないため、耐擦傷性の低下および色ムラの悪化を招いてしまう。一方、ハードコート層(12)表面の純水における接触角が90°を超える場合、ハードコート層(12)表面における反射防止層(13)の塗液の濡れ性が悪化してしまうために、反射防止層(13)の形成用塗液をハードコート層(12)上にウェットコーティング法により塗布する際にハジキ、ムラが発生してしまう場合がある。また、ハジキ、ムラが発生しなかった場合でもハードコート層(12)と反射防止層(13)の層間密着力が発現せず、簡単に反射防止層(13)が剥離してしまい、耐擦傷性が低下する。   By setting the contact angle in the pure water on the surface of the hard coat layer (12) within the range of 60 ° or more and 90 ° or less, the surface conditioner existing in the antireflection layer is optimally localized, and scratch resistance and An antireflection film excellent in color unevenness can be provided. When the contact angle of pure water on the surface of the hard coat layer (12) is less than 60 °, the localization of the surface conditioner contained in the antireflection layer is not promoted, resulting in a decrease in scratch resistance and a deterioration in color unevenness. I will invite you. On the other hand, when the contact angle in the pure water on the surface of the hard coat layer (12) exceeds 90 °, the wettability of the coating liquid of the antireflection layer (13) on the surface of the hard coat layer (12) is deteriorated. When the coating liquid for forming the antireflection layer (13) is applied onto the hard coat layer (12) by the wet coating method, repelling and unevenness may occur. Further, even when no repellency or unevenness occurs, the interlayer adhesion between the hard coat layer (12) and the antireflection layer (13) does not appear, and the antireflection layer (13) peels off easily, resulting in scratch resistance. Sex is reduced.

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、JIS R3257(1999)により測定されるハードコート層表面の純水の接触角が70°以上80°以下の範囲内であることがさらに好ましい。るハードコート層表面の純水の接触角が70°以上80°以下の範囲内とすることにより、耐擦傷性をきわめて高いものとすることができ、また、色ムラを極めて高いレベルで抑制することができる。なお、JIS R3257(1999)により測定されるハードコート層表面の純水の接触角は、静滴法により測定される。   In the antireflection film of the present invention, it is more preferable that the contact angle of pure water on the surface of the hard coat layer measured by JIS R3257 (1999) is in the range of 70 ° to 80 °. When the contact angle of pure water on the surface of the hard coat layer is in the range of 70 ° or more and 80 ° or less, the scratch resistance can be made extremely high, and color unevenness can be suppressed at a very high level. be able to. In addition, the contact angle of the pure water on the hard coat layer surface measured by JIS R3257 (1999) is measured by a sessile drop method.

ハードコート表面の状態を示す方法については、表面エネルギーを用いることができる。そして表面エネルギーの測定には複数の試薬を用いて接触角の測定しその値から算出する方法が知られているが、本発明における効果を表現するためには純水を用いた接触角の測定のみで十分である。   For the method of indicating the condition of the hard coat surface, surface energy can be used. For measuring the surface energy, a method of measuring a contact angle using a plurality of reagents and calculating the value is known. In order to express the effect in the present invention, the contact angle is measured using pure water. Only is enough.

また、本発明の反射防止フィルムにあっては、ハードコート層がフッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤が含むことが好ましい。ハードコート層がフッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤を含むことにより、ハードコート層表面の純水の接触角を容易に最適化することが可能となる。   Moreover, in the antireflection film of the present invention, it is preferable that the hard coat layer contains a surface conditioner having both or one of a fluorine-containing group and a silicone skeleton. When the hard coat layer contains a surface conditioner having either or both of a fluorine-containing group and a silicone skeleton, the contact angle of pure water on the hard coat layer surface can be easily optimized.

さらに詳細に本発明の反射防止フィルム及びその製造方法について説明する。   The antireflection film of the present invention and the production method thereof will be described in detail.

本発明の実施の形態に係る反射防止フィルム(10)の透明基材(11)は、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される透明基材(11)が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、6−ナイロン、6,6−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。中でも特にトリアセチルセルロースを透明基材として好適に用いることができる。さらに、これらの有機高分子に添加剤、例えば紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものを用いることができる。   As the transparent substrate (11) of the antireflection film (10) according to the embodiment of the present invention, films or sheets made of various organic polymers can be used. For example, a transparent base material (11) usually used for optical members such as a display can be mentioned, and optical properties such as transparency and refractive index of light, as well as various physical properties such as impact resistance, heat resistance and durability. In consideration, polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, celluloses such as triacetylcellulose, diacetylcellulose and cellophane, polyamides such as 6-nylon and 6,6-nylon, An acrylic polymer such as polymethyl methacrylate, or an organic polymer such as polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, or ethylene vinyl alcohol is used. Among these, triacetyl cellulose can be particularly preferably used as the transparent substrate. Furthermore, it is possible to use those organic polymers that have been added with functions by adding additives such as ultraviolet absorbers, infrared absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, flame retardants, and the like. it can.

次に、透明基材(11)上には、ハードコート層(12)がウェットコーティング法により形成される。ハードコート層は、電離放射線硬化型材料を含む塗液を透明基材(11)上に塗布し電離放射線照射により硬化させて形成される。   Next, a hard coat layer (12) is formed on the transparent substrate (11) by a wet coating method. The hard coat layer is formed by applying a coating liquid containing an ionizing radiation curable material on the transparent substrate (11) and curing it by irradiation with ionizing radiation.

電離放射線硬化型材料として、不飽和結合を備える化合物を用いることができ、具体的には、(メタ)アクリル基を有する化合物を用いることができる。電離放射線硬化型材料としての(メタ)アクリル基を有する化合物としては、例えば多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような単官能または多官能の(メタ)アクリレート化合物、ジイソシアネートと多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタン(メタ)アクリレート化合物を使用することができる。またこれらの他にも、電離放射線型材料として、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等を使用することができる。   As the ionizing radiation curable material, a compound having an unsaturated bond can be used, and specifically, a compound having a (meth) acryl group can be used. Examples of the compound having a (meth) acrylic group as the ionizing radiation curable material include monofunctional or polyfunctional (meth) acrylate compounds such as acrylic acid or methacrylic acid ester of polyhydric alcohol, diisocyanate and polyhydric alcohol, and A polyfunctional urethane (meth) acrylate compound synthesized from a hydroxy ester of acrylic acid or methacrylic acid can be used. Besides these, as ionizing radiation type materials, polyether resins having an acrylate functional group, polyester resins, epoxy resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and the like can be used. .

なお、本発明において「(メタ)アクリル基」とは「アクリル基」と「メタクリル基」の両方を示している。同様に、「(メタ)アクリレート」とは「アクリレート」と「メタクリレート」の両方を示している。たとえば、「ウレタン(メタ)アクリレート」は「ウレタンアクリレート」と「ウレタンメタアクリレート」の両方を示している。   In the present invention, “(meth) acrylic group” refers to both “acrylic group” and “methacrylic group”. Similarly, “(meth) acrylate” indicates both “acrylate” and “methacrylate”. For example, “urethane (meth) acrylate” indicates both “urethane acrylate” and “urethane methacrylate”.

単官能の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、N−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリールアクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、3−メトキシブチル(メタ)アクリレート、エチルカルビトール(メタ)アクリレート、リン酸(メタ)アクリレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、ノニルフェノール(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルヘキサヒドロハイドロゲンフタレート、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒドロハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−アダマンタンおよびアダマンタンジオールから誘導される1価のモノ(メタ)アクリレートを有するアダマンチルアクリレートなどのアダマンタン誘導体モノ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the monofunctional (meth) acrylate compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl ( (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) ) Acrylate, isodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, benzyl (Meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 3-methoxybutyl (meth) acrylate, ethyl carbitol (meth) acrylate, phosphoric acid (meth) acrylate, phenoxy (meth) acrylate, nonylphenol (meth) acrylate, methoxy Diethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypropylene glycol (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate 2- (meth) acryloyloxyethyl hydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl hydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyl Oxypropyl hexahydrohydrogen phthalate, 2- (meth) acryloyloxypropyl tetrahydro phthalate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, hexafluoropropyl (meth) acrylate Adamantane derivative mono (meth) acrylates such as adamantyl acrylate having monovalent mono (meth) acrylate derived from octafluoropropyl (meth) acrylate, octafluoropropyl (meth) acrylate, 2-adamantane and adamantanediol Can be mentioned.

前記2官能の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートなどのジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the bifunctional (meth) acrylate compound include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, and nonanediol di (meth). ) Acrylate, ethoxylated hexanediol di (meth) acrylate, propoxylated hexanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (Meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol Ruji (meth) acrylate, di (meth) acrylate, such as hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate.

前記3官能以上の(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス2−ヒドロキシエチルイソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート等のトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等の3官能の(メタ)アクリレート化合物や、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンヘキサ(メタ)アクリレート等の3官能以上の多官能(メタ)アクリレート化合物や、これら(メタ)アクリレートの一部をアルキル基やε−カプロラクトンで置換した多官能(メタ)アクリレート化合物等が挙げられる。   Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and tris 2-hydroxy. Ethyl isocyanurate tri (meth) acrylate, tri (meth) acrylate such as glycerin tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, etc. Trifunctional (meth) acrylate compounds, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol te Trifunctional or higher polyfunctionality such as la (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ditrimethylolpropane hexa (meth) acrylate ( Examples thereof include a (meth) acrylate compound and a polyfunctional (meth) acrylate compound obtained by substituting a part of these (meth) acrylates with an alkyl group or ε-caprolactone.

また、ウレタン(メタ)アクリレートは、多価アルコール、多価イソシアネート及び水酸基含有アクリレートを反応させることによって得られる。具体的には、共栄社化学社製、UA−306H、UA−306T、UA−306l等、日本合成化学社製、UV−1700B、UV−6300B、UV−7600B、UV−7605B、UV−7640B、UV−7650B等、新中村化学社製、U−4HA、U−6HA、UA−100H、U−6LPA、U−15HA、UA−32P、U−324A等、ダイセルユーシービー社製、Ebecryl−1290、Ebecryl−1290K、Ebecryl−5129等、根上工業社製、UN−3220HA、UN−3220HB、UN−3220HC、UN−3220HS等を用いることができるがこの限りではない。   Urethane (meth) acrylate is obtained by reacting a polyhydric alcohol, a polyvalent isocyanate, and a hydroxyl group-containing acrylate. Specifically, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., UA-306H, UA-306T, UA-306l, etc., Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., UV-1700B, UV-6300B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7640B, UV -7650B, etc., manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., U-4HA, U-6HA, UA-100H, U-6LPA, U-15HA, UA-32P, U-324A, etc., manufactured by Daicel UCB, Ebecryl-1290, Ebecryl -1290K, Ebecryl-5129, etc., manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., UN-3220HA, UN-3220HB, UN-3220HC, UN-3220HS, etc. can be used, but not limited thereto.

また、電離放射線硬化型材料にあっては、これら(メタ)アクリル基を有する化合物の変性物を用いることもできる。変性物としては、例えばエチレンオキサイド(EO)変性物、プロピレンオキサイド(PO)変性物が挙げられる。   In the case of ionizing radiation curable materials, modified products of these (meth) acrylic group-containing compounds can also be used. Examples of the modified product include an ethylene oxide (EO) modified product and a propylene oxide (PO) modified product.

電離放射線硬化型材料としては、ハードコート層(12)表面及び反射防止層(13)表面のスチールウールラビング試験による耐擦傷性、鉛筆引っかき試験による表面硬度、粘着テープ剥離試験による密着性、最小曲げ試験によるクラック性等の諸特性について、要求されるスペックを満足させるように材料を選択して使用することができる。   As ionizing radiation curable materials, the hard coat layer (12) surface and antireflection layer (13) surface are scratch resistant by steel wool rubbing test, surface hardness by pencil scratch test, adhesion by adhesive tape peeling test, minimum bending Materials can be selected and used so as to satisfy the required specifications for various properties such as cracking properties by testing.

また、ハードコート層を形成する塗液には、必要に応じて光重合開始剤が加えられる。光重合開始剤としては、例えばアセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等を用いても良い。   In addition, a photopolymerization initiator is added to the coating liquid for forming the hard coat layer, if necessary. As the photopolymerization initiator, for example, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, etc. may be used.

また、ハードコート層を形成する塗液には、必要に応じて溶媒が加えられる。溶媒を加えることにより、塗工適性を向上させることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、n−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸n−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン醸エチル、酢酸n−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類等の中から塗工適性等を考慮して適宜選択される。   Moreover, a solvent is added to the coating liquid for forming the hard coat layer as necessary. By adding a solvent, coating suitability can be improved. Solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane. , Ethers such as tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, and methylcyclohexanone, Ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, propion brewed ethyl, n-pentyl acetate, Ester, such as γ-ptyrolactone, cellosolves such as methyl cellosolve, cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, etc. Is done.

また、ハードコート層を形成する塗液には、フッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤が含むことが好ましい。表面調整剤は、その働きに応じて、レベリング剤、消泡剤、界面張力調整剤、表面張力調整剤とも呼ばれるが、いずれも形成される塗膜の表面張力を低下させる働きを備える。この表面調整剤の添加によって、形成される塗膜においてハジキ、ムラといった塗膜欠陥の発生を防止することができる。ハードコート層(12)表面の純水における接触角を調整するために、表面調整剤を好適に使用することができる。一般に、表面調整剤の添加量を増加させると接触角は大きくなり、添加量を減少させることで接触角は小さくなる。なお、他にもハードコート層(12)の形成用塗液を調整する際の組成等でも接触角の調整は可能であるが、いずれの方法を用いたとしても、本発明の効果は同様に発揮される。   Moreover, it is preferable that the coating liquid which forms a hard-coat layer contains the surface conditioning agent which has both a fluorine-containing group and a silicone frame | skeleton, or any one. The surface modifier is also called a leveling agent, an antifoaming agent, an interfacial tension modifier, or a surface tension modifier depending on its function, and all have a function of reducing the surface tension of the coating film to be formed. By adding this surface conditioner, it is possible to prevent the occurrence of coating film defects such as repellency and unevenness in the formed coating film. In order to adjust the contact angle in pure water on the surface of the hard coat layer (12), a surface conditioner can be suitably used. In general, the contact angle increases as the amount of the surface modifier added increases, and the contact angle decreases as the amount added decreases. In addition, the contact angle can be adjusted by the composition when the coating liquid for forming the hard coat layer (12) is adjusted, but the effect of the present invention is the same regardless of which method is used. Demonstrated.

フッ素含有基を有する表面調整剤としては、パーフルオロアルキル基またはフッ素化アルケニル基を主鎖ないし側鎖に有する化合物を用いることができる。具体的には、ビックケミージャパン社製BYK−340、ネオス社製フタージェント222F、DIC社製 メガファックF−470、大阪有機化学工業社製 V−8FM等を用いることができるがこれらに限定されるものではない。   As the surface conditioner having a fluorine-containing group, a compound having a perfluoroalkyl group or a fluorinated alkenyl group in the main chain or side chain can be used. Specifically, BYK-340 manufactured by Big Chemie Japan Co., Ltd., Neoters Inc.'s Footgent 222F, DIC Co., Ltd. MegaFuck F-470, Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. V-8FM, and the like can be used. It is not something.

また、シリコーン骨格を有する表面調整剤としては、具体的には、ビックケミージャパン社製BYK−300、BYK−306、BYK−307、BYK−310、BYK−315、BYK−322、BYK−323、BYK−325、BYK−330、BYK−331、BYK−333、BYK−337、BYK−341、BYK−344、BYK−345、BYK−347、BYK−348、BYK−349、BYK−370、BYK−375、BYK−377、BYK−378、BYK−UV3500、BYK−UV3510、BYK−UV3570、BYK−Silclean3700、BYK−Silclean3720や、モメンティブ社製TSF410、TSF411、TSF4700、TSF4701、XF42−B0970、TSF4730、YF3965、TSF4421、XF42−334、XF42−B3629、XF42−A3161、TSF4440、TSF4441、TSF4445、TSF4450、TSF4446、TSF4452、TSF4460等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the surface conditioner having a silicone skeleton include BYK-300, BYK-306, BYK-307, BYK-310, BYK-315, BYK-322, BYK-323, manufactured by BYK Japan. BYK-325, BYK-330, BYK-331, BYK-333, BYK-337, BYK-341, BYK-344, BYK-345, BYK-347, BYK-348, BYK-349, BYK-370, BYK- 375, BYK-377, BYK-378, BYK-UV3500, BYK-UV3510, BYK-UV3570, BYK-Silclean3700, BYK-Silclean3720, Momentive TSF410, TSF411, TSF4700, TSF4701, XF42-B097 , TSF4730, YF3965, TSF4421, XF42-334, XF42-B3629, XF42-A3161, TSF4440, TSF4441, TSF4445, TSF4450, TSF4446, TSF4452, can be used TSF4460 like, but is not limited thereto.

また、反射防止フィルムに帯電防止機能を付与するため、ハードコート層を形成する塗液に導電剤を添加することもできる。導電剤は特に限定されるものではなく、イオン伝導機構を有する4級アンモニウム塩、電子伝導機構を有する金属酸化物微粒子、π共役系導電性高分子等が挙げられる。これらの導電剤をハードコート層に添加することにより、反射防止フィルム表面に帯電防止機能を付与することができ、帯電による埃等の反射防止フィルム表面への付着を防止することができる。   In order to impart an antistatic function to the antireflection film, a conductive agent may be added to the coating liquid for forming the hard coat layer. The conductive agent is not particularly limited, and examples thereof include a quaternary ammonium salt having an ion conduction mechanism, metal oxide fine particles having an electron conduction mechanism, and a π-conjugated conductive polymer. By adding these conductive agents to the hard coat layer, an antistatic function can be imparted to the surface of the antireflection film, and adhesion of dust or the like to the antireflection film surface due to charging can be prevented.

また、ハードコート層を形成する塗液には、表面調整剤や導電剤のほかにも、他の添加剤を加えても良い。機能性添加剤としては、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、密着性向上剤、硬化剤などを用いることができる。また、ハードコート層を形成する塗液には熱可塑性樹脂を加えることもできる。   In addition to the surface conditioner and the conductive agent, other additives may be added to the coating liquid for forming the hard coat layer. As the functional additive, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an adhesion improver, a curing agent, or the like can be used. Moreover, a thermoplastic resin can also be added to the coating liquid which forms a hard-coat layer.

上述した材料を調整して得られるハードコート層を形成する塗液をウェットコーティング法により透明基材(11)上に塗布し、必要に応じて塗膜の乾燥を行ったあとに、電離放射線である紫外線もしくは電子線を照射することにより、ハードコート層(12)が形成される。このとき、ウェットコーティング法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。   After applying the coating liquid for forming the hard coat layer obtained by adjusting the above-mentioned materials onto the transparent substrate (11) by the wet coating method and drying the coating film as necessary, ionizing radiation is used. A hard coat layer (12) is formed by irradiating a certain ultraviolet ray or electron beam. At this time, as the wet coating method, a coating method using a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, or a dip coater can be used.

次に、ハードコート層(12)上には反射防止層(13)が形成される。反射防止層は、電離放射線硬化型材料と、フッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤を含む塗液をハードコート層(12)上に塗布し電離放射線照射により硬化させて形成される。   Next, an antireflection layer (13) is formed on the hard coat layer (12). The antireflective layer is coated with a coating liquid containing a surface conditioning agent having an ionizing radiation curable material and / or a fluorine-containing group and / or a silicone skeleton on the hard coat layer (12) and cured by irradiation with ionizing radiation. Formed.

反射防止層を形成する塗液に含まれる電離放射線硬化型材料としては、(メタ)アクリル基を有する化合物を用いることができる。具体的には、ハードコート層を形成する塗液に含まれる電離放射線硬化型材料の項で例示した材料を用いることができる。   As the ionizing radiation curable material contained in the coating liquid forming the antireflection layer, a compound having a (meth) acryl group can be used. Specifically, the materials exemplified in the section of ionizing radiation curable material contained in the coating liquid for forming the hard coat layer can be used.

反射防止層を形成する塗液に含まれるフッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤は、反射防止層最表面に局在化し、ウェット状態の塗膜の表面を均一化すると共に反射防止層最表面に滑り性を付与し、色ムラの発生の防止だけでなく、耐擦傷性の向上にも効果を発揮する。反射防止層を形成する塗液に含まれるフッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤としては、具体的には、ハードコート層を形成する塗液に含まれる表面調整剤の項で例示した材料を用いることができる。   The surface conditioning agent that has both fluorine-containing groups and / or silicone skeleton contained in the coating solution that forms the antireflection layer is localized on the outermost surface of the antireflection layer, and the surface of the wet coating film is uniform. In addition to providing slipperiness to the outermost surface of the antireflection layer, it is effective not only in preventing the occurrence of color unevenness but also in improving the scratch resistance. Specifically, as a surface conditioner having either or both of a fluorine-containing group and a silicone skeleton contained in the coating liquid for forming the antireflection layer, surface conditioning contained in the coating liquid for forming the hard coat layer The materials exemplified in the section of the agent can be used.

ただし、耐擦傷性および色ムラの向上を目的として反射防止層を形成する塗液に多量の表面調整剤を添加した場合、反射防止層中の低屈折率成分が相対的に減少してしまうことによる反射率の上昇を招いてしまう。   However, when a large amount of a surface conditioner is added to the coating liquid for forming the antireflection layer for the purpose of improving scratch resistance and color unevenness, the low refractive index component in the antireflection layer is relatively reduced. Will increase the reflectance.

本発明の反射防止フィルムにあっては、反射防止層(13)表面の表面調整剤由来のフッ素およびケイ素含有量が、それぞれ0.01atom%以上10atom%以下の範囲内であることが好ましい。反射防止層表面における表面調整剤由来のフッ素およびケイ素含有量が0.01atom%以下である場合、十分な表面調整剤の効果が現れず、色ムラの悪化および耐擦傷性の悪化が発生する場合がある。一方、表面調整剤由来のフッ素およびケイ素含有量が10atom%以上である場合、反射防止層中の表面調整剤含有量が過剰となってしまい、反射防止層表面に油状に浮き上がってしまう不具合が発生したり、反射防止層中の低屈折率成分が相対的に減少してしまうことによって反射防止層の屈折率が上昇し、反射防止フィルムの反射防止機能が低下するといった不具合が発生することがある。   In the antireflection film of the present invention, the fluorine and silicon contents derived from the surface conditioning agent on the surface of the antireflection layer (13) are preferably in the range of 0.01 atom% or more and 10 atom% or less, respectively. When the content of fluorine and silicon derived from the surface adjusting agent on the antireflection layer surface is 0.01 atom% or less, the effect of the sufficient surface adjusting agent does not appear, and the deterioration of color unevenness and scratch resistance occurs. There is. On the other hand, when the fluorine and silicon contents derived from the surface adjusting agent are 10 atom% or more, the surface adjusting agent content in the antireflection layer becomes excessive, resulting in a problem that the surface of the antireflection layer floats in an oily state. Or the low refractive index component in the antireflection layer relatively decreases, and thus the refractive index of the antireflection layer increases and the antireflection function of the antireflection film decreases. .

反射防止層表面の表面調整剤由来のフッ素およびケイ素含有量は、X線光電子分光分析装置(XPS)により求めることができる。   The fluorine and silicon contents derived from the surface conditioning agent on the antireflection layer surface can be determined by an X-ray photoelectron spectrometer (XPS).

X線光電子分光分析装置(XPS)において、試料にエネルギー(hν)のX線を照射すると、光電効果により元素内の内核電子が放出される。この時の光電子の運動エネルギー(Ek)は、Ek=hν−Eb−φで表される。ここでEbは内核電子のエネルギーレベルであり、これは元素固有の値であり、その元素の化学状態によって変化する。φは装置や試料の仕事関数である。また、固体内で電子がエネルギーを保持したまま通過できる距離は数十Å程度である。X線光電子分光分析装置(XPS)により試料表面から放出された光電子のEkとその数量を測定することによって、試料表面から数十Åの深さまでに存在する元素の種類、含有量、および化学状態を分析することができる。   In an X-ray photoelectron spectrometer (XPS), when a sample is irradiated with X-rays of energy (hν), inner core electrons in the element are emitted by the photoelectric effect. The kinetic energy (Ek) of the photoelectron at this time is expressed by Ek = hν−Eb−φ. Here, Eb is the energy level of the inner core electron, which is a value unique to the element, and changes depending on the chemical state of the element. φ is the work function of the device or sample. Further, the distance that electrons can pass while maintaining energy in a solid is about several tens of kilometers. By measuring the Ek and the quantity of photoelectrons emitted from the sample surface with an X-ray photoelectron spectrometer (XPS), the type, content, and chemical state of the elements present to a depth of several tens of kilometers from the sample surface Can be analyzed.

また、反射防止層を形成する塗液には、必要に応じて光重合開始剤が加えられる。具体的には、ハードコート層を形成する塗液に含まれる光重合開始剤の項で例示した材料を用いることができる。   In addition, a photopolymerization initiator is added to the coating liquid for forming the antireflection layer as necessary. Specifically, the materials exemplified in the section of the photopolymerization initiator contained in the coating liquid for forming the hard coat layer can be used.

また、反射防止層を形成する塗液には、必要に応じて溶媒が加えられる。具体的には、ハードコート層を形成する塗液に含まれる溶媒の項で例示した材料を用いることができる。   Moreover, a solvent is added to the coating liquid for forming the antireflection layer as necessary. Specifically, the materials exemplified in the section of the solvent contained in the coating liquid for forming the hard coat layer can be used.

反射防止層を形成する塗液には、必要に応じて低屈折粒子が加えられる。形成される反射防止層に低屈折率粒子を含有させることにより、反射防止層の屈折率を低下させることができ、反射防止層表面の反射率を低下させ、反射防止フィルムの反射防止機能を向上させることができる。   If necessary, low refractive particles are added to the coating liquid for forming the antireflection layer. By including low refractive index particles in the formed antireflection layer, the refractive index of the antireflection layer can be lowered, the reflectance of the surface of the antireflection layer is lowered, and the antireflection function of the antireflection film is improved. Can be made.

低屈折粒子としては、LiF、MgF、3NaF・AlFまたはAlF(いずれも、屈折率1.4)、または、NaAlF(氷晶石、屈折率1.33)等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができるが、よりよい反射防止性能(低屈折率)を得るためには、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子にあっては、空隙の部分を空気の屈折率(≒1)とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、多孔質シリカ粒子、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。 The low-refractive particles are made of a low-refractive material such as LiF, MgF, 3NaF.AlF or AlF (all having a refractive index of 1.4), or Na 3 AlF 6 (cryolite, having a refractive index of 1.33). Although low refractive index particles can be used, in order to obtain better antireflection performance (low refractive index), particles having voids inside the particles can be suitably used. In the case of particles having voids inside the particles, the voids can be made to have a refractive index of air (≈1), so that they can be low refractive index particles having a very low refractive index. Specifically, porous silica particles and low refractive index silica particles having voids inside can be used.

反射防止層に用いられる低屈折率粒子としては、粒径が1nm以上100nm以下であることが好ましい。さらに好ましくは、粒径が30nm以上70nm以下である。粒径が100nmを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、反射防止層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が1nm未満の場合、粒子の凝集による反射防止層における粒子の不均一性等の問題が生じる。   The low refractive index particles used for the antireflection layer preferably have a particle size of 1 nm to 100 nm. More preferably, the particle size is 30 nm or more and 70 nm or less. When the particle size exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, the antireflection layer is whitened, and the transparency of the antireflection film tends to be lowered. On the other hand, when the particle size is less than 1 nm, problems such as non-uniformity of particles in the antireflection layer due to aggregation of particles occur.

また、反射防止層を形成する塗液には、表面調整剤や低屈折率粒子のほかにも、他の添加剤を加えても良い。機能性添加剤としては、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、密着性向上剤、硬化剤などを用いることができる。   In addition to the surface conditioner and the low refractive index particles, other additives may be added to the coating liquid for forming the antireflection layer. As the functional additive, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, an adhesion improver, a curing agent, or the like can be used.

上述した材料を調整して得られる反射防止層を形成する塗液をウェットコーティング法により透明基材(11)上に塗布し、必要に応じて塗膜の乾燥を行ったあとに、電離放射線である紫外線もしくは電子線を照射することにより、ハードコート層(12)が形成される。このとき、ウェットコーティング法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いた塗布方法を用いることができる。   After applying the coating liquid for forming the antireflection layer obtained by adjusting the above-mentioned materials on the transparent substrate (11) by the wet coating method and drying the coating film as necessary, ionizing radiation is used. A hard coat layer (12) is formed by irradiating a certain ultraviolet ray or electron beam. At this time, as the wet coating method, a coating method using a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, a micro gravure coater, a knife coater, a bar coater, a wire bar coater, a die coater, or a dip coater can be used.

次に本発明の反射防止フィルムを用いた偏光板及び透過型液晶ディスプレイについて説明する。   Next, a polarizing plate and a transmissive liquid crystal display using the antireflection film of the present invention will be described.

図2は、本発明の実施の形態に係る反射防止フィルム(10)を有する偏光板(20)を示す概略断面図である。   FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a polarizing plate (20) having an antireflection film (10) according to an embodiment of the present invention.

本発明の実施の形態に係る偏光板(20)は、透明基材(11)の反射防止層(13)の形成面と反対側の面に偏光層(22)と透明基材(21)を順に備えている。   In the polarizing plate (20) according to the embodiment of the present invention, the polarizing layer (22) and the transparent substrate (21) are provided on the surface of the transparent substrate (11) opposite to the surface on which the antireflection layer (13) is formed. In order.

図3(a)及び(b)は、本発明の実施の形態に係る反射防止フィルム(10)を有する透過型液晶ディスプレイ(60、70)を示す概略断面図である。図3(a)に示す透過型液晶ディスプレイ(60)においては、バックライトユニット(50)、偏光板(40)、液晶セル(30)、偏光板(20)、ハードコートフィルム(10)を順に備えている。このとき、反射防止フィルム(10)の形成面側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。   FIGS. 3A and 3B are schematic cross-sectional views showing a transmissive liquid crystal display (60, 70) having an antireflection film (10) according to an embodiment of the present invention. In the transmissive liquid crystal display (60) shown in FIG. 3A, a backlight unit (50), a polarizing plate (40), a liquid crystal cell (30), a polarizing plate (20), and a hard coat film (10) are sequentially arranged. I have. At this time, the formation side of the antireflection film (10) is the observation side, that is, the display surface.

バックライトユニット(50)は、光源と光拡散板を備える。液晶セル(30)は、一方の基材にTFT電極を備え、もう一方の基材に電極及びカラーフィルタを備え、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セル(30)を挟むように設けられる偏光板(20)及び(40)にあっては、それぞれの基材(21、23、41、43)間に偏光層(22、42)を挟持した構造となっている。   The backlight unit (50) includes a light source and a light diffusion plate. The liquid crystal cell (30) has a structure in which a TFT electrode is provided on one base material, an electrode and a color filter are provided on the other base material, and liquid crystal is sealed between both electrodes. In the polarizing plates (20) and (40) provided so as to sandwich the liquid crystal cell (30), the polarizing layer (22, 42) is sandwiched between the respective base materials (21, 23, 41, 43). It has a structure.

図3(a)に示す透過型液晶ディスプレイ(60)は、反射防止フィルム(10)の透明基材(11)と偏光板(20)の透明基材(21)及び透明基材(23)を別々に備える透過型液晶ディスプレイ(60)となっている。一方、図3(b)に示す透過型液晶ディスプレイ(70)は、図3に示す偏光板(20)を有する透過型液晶ディスプレイ(70)であり、反射防止フィルム(10)の透明基材(11)の反射防止層(13)の反対側の面に偏光層(22)が設けられており、透明基材(11)が反射防止フィルム(10)と偏光板(20)の透明基材(21)を兼ねる構造となっている。   A transmissive liquid crystal display (60) shown in FIG. 3 (a) includes a transparent substrate (11) of an antireflection film (10), a transparent substrate (21) and a transparent substrate (23) of a polarizing plate (20). A transmissive liquid crystal display (60) is provided separately. On the other hand, the transmissive liquid crystal display (70) shown in FIG. 3B is a transmissive liquid crystal display (70) having the polarizing plate (20) shown in FIG. 11) is provided with a polarizing layer (22) on the opposite side of the antireflection layer (13), and the transparent substrate (11) is a transparent substrate (10) and a polarizing substrate (20) transparent substrate (10). 21).

また、本発明の実施の形態に係る透過型液晶ディスプレイ(60、70)においては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトユニット(50)から発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セル(30)や偏光板(20、40)の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の実施の形態に係る透過型液晶ディスプレイ(60、70)はこれらに限定されるものではない。   Moreover, the transmissive liquid crystal display (60, 70) according to the embodiment of the present invention may include other functional members. Other functional members include, for example, a diffusion film, a prism sheet, a brightness enhancement film, a liquid crystal cell (30), and a polarizing plate (20, 40) for effectively using light emitted from the backlight unit (50). ) Retardation film for compensating for the retardation of the transmissive liquid crystal display (60, 70) according to the embodiment of the present invention is not limited thereto.

以下に実施例を示す。   Examples are shown below.

まず、以下のようにハードコート層を形成するための塗液1〜6(ハードコート層形成用塗液1〜6)及び反射防止層を形成するための塗液1〜3(反射防止層形成用塗液1〜3)を調整した。   First, coating liquids 1 to 6 (hard coating layer forming coating liquids 1 to 6) for forming a hard coat layer and coating liquids 1 to 3 (antireflection layer formation) for forming an antireflection layer as described below. Coating liquids 1 to 3) were prepared.

(ハードコート層形成用塗液1)
ウレタンアクリレート(共栄社化学社製UA−306H) 100重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 50重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 50重量部
・光重合開始剤
(チバ・ジャパン社製、イルガキュア184) 10重量部
・アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル
(モメンティブ社製、TSF4460) 0.2重量部
・メチルエチルケトン 50重量部
・酢酸メチル 150重量部
を用いてハードコート層形成用塗液1を調整した。
(Hardcoat layer forming coating solution 1)
For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306H manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
Dipentaerythritol hexaacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Photopolymerization initiator (Ciba Japan, Irgacure 184) 10 parts by weight Alkyl polyether-modified silicone oil (Momentive, TSF4460) 0 .2 parts by weight · Methyl ethyl ketone 50 parts by weight · Methyl acetate 150 parts by weight was used to prepare hard coat layer forming coating solution 1.

(ハードコート層形成用塗液2)
ウレタンアクリレート(共栄社化学社製UA−306H) 100重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 50重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 50重量部
・光重合開始剤
(チバ・ジャパン社製、イルガキュア184) 10重量部
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー
(DIC社製、メガファックF−470) 0.2重量部
・メチルエチルケトン 50重量部
・酢酸メチル 150重量部
を用いてハードコート層の形成用塗液2を調整した。
(Hardcoat layer forming coating solution 2)
For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306H manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
-Dipentaerythritol hexaacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Ciba Japan, Irgacure 184) 10 parts by weight-Perfluoroalkyl group, hydrophilic group, lipophilic group-containing oligomer (Manufactured by DIC Corporation, MegaFuck F-470) A coating liquid 2 for forming a hard coat layer was prepared using 0.2 parts by weight, 50 parts by weight of methyl ethyl ketone, and 150 parts by weight of methyl acetate.

(ハードコート層形成用塗液3)
ウレタンアクリレート(共栄社化学社製UA−306H) 100重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 50重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 50重量部
・光重合開始剤
(チバ・ジャパン社製、イルガキュア184) 10重量部
・アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル
(モメンティブ社製、TSF4460) 0.1重量部
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー
(DIC社製、メガファックF−470) 0.1重量部
・メチルエチルケトン 50重量部
・酢酸メチル 150重量部
を用いてハードコート層の形成用塗液3を調整した。
(Hard coat layer forming coating liquid 3)
For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306H manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
Dipentaerythritol hexaacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Photopolymerization initiator (Ciba Japan, Irgacure 184) 10 parts by weight Alkyl polyether-modified silicone oil (Momentive, TSF4460) 0 .1 part by weight / perfluoroalkyl group / hydrophilic group / lipophilic group-containing oligomer (manufactured by DIC, Megafac F-470) 0.1 part by weight / methyl ethyl ketone 50 parts by weight / methyl acetate 150 parts by weight A coating solution 3 for forming a coat layer was prepared.

(ハードコート層形成用塗液4)
ウレタンアクリレート(共栄社化学社製UA−306H) 100重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 50重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 50重量部
・光重合開始剤
(チバ・ジャパン社製、イルガキュア184) 10重量部
・アルキルポリエーテル変性シリコーンオイル
(モメンティブ社製、TSF4460) 4重量部
・メチルエチルケトン 50重量部
・酢酸メチル 150重量部
を用いてハードコート層の形成用塗液4を調整した。
(Hard coat layer forming coating solution 4)
For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306H manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
Dipentaerythritol hexaacrylate 50 parts by weight Pentaerythritol triacrylate 50 parts by weight Photoinitiator (Ciba Japan, Irgacure 184) 10 parts by weight Alkyl polyether-modified silicone oil (Momentive, TSF4460) 4 The coating liquid 4 for forming a hard coat layer was prepared using 50 parts by weight, 50 parts by weight of methyl ethyl ketone, and 150 parts by weight of methyl acetate.

(ハードコート層形成用塗液5)
ウレタンアクリレート(共栄社化学社製UA−306H) 100重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 50重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 50重量部
・光重合開始剤
(チバ・ジャパン社製、イルガキュア184) 10重量部
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー
(DIC社製、メガファックF−470) 4重量部
・メチルエチルケトン 50重量部
・酢酸メチル 150重量部
を用いてハードコート層の形成用塗液5を調整した。
(Hardcoat layer forming coating solution 5)
For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306H manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
-Dipentaerythritol hexaacrylate 50 parts by weight-Pentaerythritol triacrylate 50 parts by weight-Photopolymerization initiator (Ciba Japan, Irgacure 184) 10 parts by weight-Perfluoroalkyl group, hydrophilic group, lipophilic group-containing oligomer (Manufactured by DIC Corporation, MegaFuck F-470) A coating solution 5 for forming a hard coat layer was prepared using 4 parts by weight, 50 parts by weight of methyl ethyl ketone, and 150 parts by weight of methyl acetate.

(ハードコート層形成用塗液6)
ウレタンアクリレート(共栄社化学社製UA−306H) 100重量部 に対して、
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 50重量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート 50重量部
・光重合開始剤
(チバ・ジャパン社製、イルガキュア184) 10重量部
・メチルエチルケトン 100重量部
・酢酸メチル 300重量部
を用いてハードコート層の形成用塗液6を調整した。
(Coating liquid 6 for forming hard coat layer)
For 100 parts by weight of urethane acrylate (UA-306H manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.)
• 50 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate • 50 parts by weight of pentaerythritol triacrylate • Photopolymerization initiator (Ciba Japan, Irgacure 184) 10 parts by weight • 100 parts by weight of methyl ethyl ketone • 300 parts by weight of methyl acetate A coating liquid 6 for forming a coat layer was prepared.

(反射防止層形成用塗液1)
・多孔質シリカ微粒子分散液(平均粒子径50nm、固形分20%、溶剤:メチルイソブチルケトン) 15重量部
・EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(日本化薬社製、DPEA−12) 2重量部
・光重合開始剤
(チバ・ジャパン社製、イルガキュア184) 0.1重量部
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー
(DIC社製、メガファックF−470) 0.1重量部
を用いて、溶媒であるメチルイソブチルケトン82重量部で希釈して反射防止層形成用塗液1を調整した。
(Antireflection layer-forming coating solution 1)
-Porous silica fine particle dispersion (average particle diameter 50 nm, solid content 20%, solvent: methyl isobutyl ketone) 15 parts by weight-EO-modified dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., DPEA-12) 2 parts by weight Photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Japan, Irgacure 184) 0.1 part by weight / perfluoroalkyl group / hydrophilic group / lipophilic group-containing oligomer (manufactured by DIC, MegaFuck F-470) 0.1 part by weight Was diluted with 82 parts by weight of methyl isobutyl ketone as a solvent to prepare a coating solution 1 for forming an antireflection layer.

(反射防止層形成用塗液2)
・多孔質シリカ微粒子分散液 (平均粒子径50nm、固形分20%、溶剤:メチルイソブチルケトン) 15重量部
・EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(日本化薬社製、DPEA−12) 2重量部
・光重合開始剤
(チバ・ジャパン社製、イルガキュア184) 0.1重量部
・パーフルオロアルキル基・親水性基・親油性基含有オリゴマー
(DIC社製、メガファックF−470) 0.5重量部
を用いて、溶媒であるメチルイソブチルケトン82重量部で希釈して反射防止層形成用塗液2を調整した。
(Antireflection layer-forming coating solution 2)
-Porous silica fine particle dispersion (average particle size 50 nm, solid content 20%, solvent: methyl isobutyl ketone) 15 parts by weight-EO-modified dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., DPEA-12) 2 parts by weight Photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Japan, Irgacure 184) 0.1 part by weight / perfluoroalkyl group / hydrophilic group / lipophilic group-containing oligomer (manufactured by DIC, MegaFuck F-470) 0.5 part by weight Was diluted with 82 parts by weight of methyl isobutyl ketone as a solvent to prepare a coating solution 2 for forming an antireflection layer.

(反射防止層形成用塗液3)
・多孔質シリカ微粒子分散液(平均粒子径50nm、固形分20%、溶剤:メチルイソブチルケトン) 15重量部
・EO変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(日本化薬社製、DPEA−12) 2重量部
・光重合開始剤
(チバ・ジャパン社製、イルガキュア184) 0.1重量部
を用いて、溶媒であるメチルイソブチルケトン82重量部で希釈して反射防止層形成用塗液3を調整した。
(Antireflection layer forming coating solution 3)
-Porous silica fine particle dispersion (average particle diameter 50 nm, solid content 20%, solvent: methyl isobutyl ketone) 15 parts by weight-EO-modified dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., DPEA-12) 2 parts by weight Photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Japan Co., Ltd., Irgacure 184) Using 0.1 parts by weight, the coating solution 3 for forming an antireflection layer was prepared by diluting with 82 parts by weight of methyl isobutyl ketone as a solvent.

(実施例1)
(ハードコート層の形成)
まず、透明基材として、膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム(富士フィルム製)を用意した。次に、透明基材上にハードコート層形成用塗液1を塗布し、60℃・60秒オーブンで乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン、光源Hバルブ)を用いて照射線量300mJ/mで紫外線照射を行うことにより乾燥膜厚5μmの透明なハードコート層(12)を形成した。
Example 1
(Formation of hard coat layer)
First, a 80 μm-thick triacetyl cellulose film (manufactured by Fuji Film) was prepared as a transparent substrate. Next, the coating liquid 1 for forming a hard coat layer is applied onto a transparent substrate, dried in an oven at 60 ° C. for 60 seconds, dried, and then irradiated using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb). A transparent hard coat layer (12) having a dry film thickness of 5 μm was formed by performing ultraviolet irradiation at a dose of 300 mJ / m 2 .

(反射防止層の形成)
形成されたハードコート層上に反射防止層形成用塗液1を塗布し、60℃・60秒オーブンで乾燥し、乾燥後、窒素雰囲気下にて紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン、光源Hバルブ)を用いて照射線量300mJ/mで紫外線照射を行うことにより乾燥膜厚0.1μmの反射防止層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
(Formation of antireflection layer)
Coating solution 1 for forming an antireflection layer is applied on the formed hard coat layer, dried in an oven at 60 ° C. for 60 seconds, dried, and then irradiated with an ultraviolet ray irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb) in a nitrogen atmosphere. ) Was used to form an antireflection film having a dry film thickness of 0.1 μm by performing ultraviolet irradiation at an irradiation dose of 300 mJ / m 2 .

(実施例2)
ハードコート層の形成用塗液2を使用した以外は、(実施例1)と同様に形成し、反射防止フィルムを得た。
(Example 2)
An antireflection film was obtained in the same manner as in (Example 1) except that the hard coat layer forming coating solution 2 was used.

(実施例3)
ハードコート層の形成用塗液3を使用した以外は、(実施例1)と同様に形成し、反射防止フィルムを得た。
(Example 3)
An antireflection film was obtained in the same manner as in (Example 1) except that the hard coat layer forming coating solution 3 was used.

(実施例4)
反射防止層の形成用塗液2を使用した以外は、(実施例1)と同様に形成し、反射防止フィルムを得た。
Example 4
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid 2 for forming the antireflection layer was used.

(比較例1)
ハードコート層の形成用塗液4を使用した以外は、(実施例1)と同様に形成し、反射防止フィルムを得た。
(Comparative Example 1)
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer forming coating solution 4 was used.

(比較例2)
ハードコート層の形成用塗液5を使用した以外は、(実施例1)と同様に形成し、反射防止フィルムを得た。
(Comparative Example 2)
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer forming coating solution 5 was used.

(比較例3)
ハードコート層の形成用塗液6を使用した以外は、(実施例1)と同様に形成し、反射防止フィルムを得た。
(Comparative Example 3)
An antireflection film was obtained in the same manner as in (Example 1) except that the hard coat layer forming coating solution 6 was used.

(比較例4)
ハードコート層の形成用塗液3を使用し、反射防止層の形成用塗液3を使用した以外は、(実施例1)と同様に形成し、反射防止フィルムを得た。
(Comparative Example 4)
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid 3 for forming the hard coat layer was used and the coating liquid 3 for forming the antireflection layer was used.

(実施例1)〜(実施例3)、(比較例1)〜(比較例5)で得られた反射防止フィルムついて、以下の方法で評価を行った。 The antireflection films obtained in (Example 1) to (Example 3) and (Comparative Example 1) to (Comparative Example 5) were evaluated by the following methods.

(平均視感反射率)
得られた反射防止フィルムの反射防止層表面について、自動分光光度計(日立製作所製、U−4000)を用い、入射角5°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち反射防止層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。その結果を(表1)に示す。
(Average luminous reflectance)
About the surface of the antireflection layer of the obtained antireflection film, the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured using an automatic spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000). Further, the average luminous reflectance was obtained from the obtained spectral reflectance curve. In the measurement, a matte black paint was applied to the surface of the triacetylcellulose film, which is a transparent base material, on which the antireflection layer was not formed, and an antireflection treatment was performed. The results are shown in (Table 1).

(耐擦傷性)
スチールウール「ボンスター#0000」(日本スチールウール製)により荷重200g/cm、500g/cm で各10回擦り、傷の有無を目視判定した。その結果を(表1)に示す。また、判定基準を下記に示す。
丸印 :傷を確認することが出来ない。
三角印:僅かに傷を確認できる。
バツ印:明確に傷を確認できる。
(Abrasion resistance)
Steel wool “Bonster # 0000” (manufactured by Nippon Steel Wool) was rubbed 10 times each at a load of 200 g / cm 2 and 500 g / cm 2 to visually determine the presence or absence of scratches. The results are shown in (Table 1). In addition, criteria for determination are shown below.
Circle mark: Scratches cannot be confirmed.
Triangle mark: Scratches can be confirmed slightly.
X: Marks can be clearly seen.

(色ムラ)
得られた反射防止フィルムのうち反射防止層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった上で、3波長蛍光灯下で色ムラの観察を行った。その結果を(表1)に示す。また、判定基準を下記に示す。
丸印 :色ムラが見られない
三角印:僅かに色ムラが見られる
バツ印:明確に色ムラが見られる
(Color unevenness)
A matte black paint was applied to the surface of the obtained antireflection film where the antireflection layer was not formed, and after antireflection treatment, color unevenness was observed under a three-wavelength fluorescent lamp. The results are shown in (Table 1). In addition, criteria for determination are shown below.
Circle: No color unevenness is seen Triangle mark: Slight color unevenness is seen X: Clear color unevenness is seen

(ハジキ)
得られた反射防止フィルムの反射防止層表面について、ハジキの有無を目視判定した。なお、測定の際には透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち反射防止層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。その結果を(表1)に示す。
丸印 :ハジキを確認することが出来ない。
三角印:僅かにハジキを確認できる。
バツ印:明確にハジキを確認できる。
(Repel)
The surface of the antireflection layer of the obtained antireflection film was visually judged for the presence of repelling. In the measurement, a matte black paint was applied to the surface of the triacetylcellulose film, which is a transparent base material, on which the antireflection layer was not formed, and an antireflection treatment was performed. The results are shown in (Table 1).
Circle: Cannot confirm repellency.
Triangle mark: Slight repelling can be confirmed.
Cross: You can clearly see the repellency.

(純水接触角)
得られた反射防止フィルムの反射防止層表面について、JIS R3257(1999)に記載の静滴法に準拠し、純水の接触角を測定した。その結果を(表1)に示す。
(Pure water contact angle)
About the surface of the antireflection layer of the obtained antireflection film, the contact angle of pure water was measured according to the sessile drop method described in JIS R3257 (1999). The results are shown in (Table 1).

(フッ素含有量)
得られた反射防止フィルムの反射防止層について、JEOL製X線電子分光分析装置JSP−90MXVを用いてフッ素含有量を測定した。なお、XPS測定におけるX線照射条件は、加速電圧10kV、エミッション電流10mAとした。その結果を(表1)に示す。
(Fluorine content)
About the anti-reflective layer of the obtained anti-reflective film, fluorine content was measured using JEOL X-ray electron-spectral-analysis apparatus JSP-90MXV. The X-ray irradiation conditions in XPS measurement were an acceleration voltage of 10 kV and an emission current of 10 mA. The results are shown in (Table 1).

Figure 2012078466
Figure 2012078466

(表1)に示すように、(実施例1)〜(実施例4)では耐擦傷性が高く、色ムラが抑制されており、反射防止層のハジキが発生しない、反射防止フィルムが得られていることが確認された。なお、(実施例4)の反射防止フィルムにあっては、反射防止フィルム表面を目視で観察した結果、反射防止層表面に油状に表面調整剤が浮き上がっている様子が確認された。なお、反射防止層表面に油状に表面調整剤が浮き上がっている様子は、(実施例1)〜(実施例3)、(比較例1)〜(比較例4)の反射防止フィルムからは確認されなかった。   As shown in (Table 1), in (Example 1) to (Example 4), anti-reflection films having high scratch resistance, suppressed color unevenness, and no repellency of the anti-reflection layer are obtained. It was confirmed that In addition, in the antireflection film of (Example 4), as a result of observing the surface of the antireflection film with the naked eye, it was confirmed that the surface conditioner was floated in an oily manner on the surface of the antireflection layer. In addition, it is confirmed from the antireflection films of (Example 1) to (Example 3) and (Comparative Example 1) to (Comparative Example 4) that the surface conditioner floats in an oily manner on the surface of the antireflection layer. There wasn't.

10 ・・・反射防止フィルム
11、21、23、41、43・・・透明基材
12 ・・・ハードコート層
13 ・・・反射防止層
20、40 ・・・偏光板
22、42 ・・・偏光層
30 ・・・液晶セル
40 ・・・反射防止フィルム
50 ・・・バックライトユニット
60、70 ・・・透過型液晶ディスプレイ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Antireflection film 11, 21, 23, 41, 43 ... Transparent base material 12 ... Hard-coat layer 13 ... Antireflection layer 20, 40 ... Polarizing plate 22, 42 ... Polarizing layer 30 ... Liquid crystal cell 40 ... Antireflection film 50 ... Backlight unit 60, 70 ... Transmission type liquid crystal display

Claims (6)

透明基材の少なくとも一方の面にハードコート層と反射防止層をこの順番で積層したフィルムであって、
前記ハードコート層が電離放射線硬化型材料を含む塗液を前記透明基材上に塗布し電離放射線照射により硬化させたものであり、かつ、
前記反射防止層が電離放射線硬化型材料とフッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤を含む塗液を前記ハードコート層上に塗布し、電離放射線照射により硬化させたものであり、かつ、
JIS R3257(1999)により測定されるハードコート層表面の純水の接触角が60°以上90°以下の範囲内であることを特徴とする反射防止フィルム。
A film in which a hard coat layer and an antireflection layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent substrate,
The hard coat layer is a coating liquid containing an ionizing radiation curable material applied on the transparent substrate and cured by irradiation with ionizing radiation, and
The antireflection layer was applied on the hard coat layer with a coating solution containing a surface conditioning agent having an ionizing radiation curable material and / or a fluorine-containing group and / or a silicone skeleton, and cured by irradiation with ionizing radiation. And
An antireflection film characterized in that the contact angle of pure water on the surface of the hard coat layer measured in accordance with JIS R3257 (1999) is in the range of 60 ° to 90 °.
前記JIS R3257(1999)により測定されるハードコート層表面の純水の接触角が70°以上80°以下の範囲内であることを特徴とする請求項1記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the contact angle of pure water on the surface of the hard coat layer measured by JIS R3257 (1999) is in the range of 70 ° to 80 °. 前記ハードコート層がフッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤が含むことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の反射防止フィルム。   The antireflection film according to claim 1, wherein the hard coat layer contains a surface conditioner having both or one of a fluorine-containing group and a silicone skeleton. 請求項1乃至3のいずれかに記載の反射防止フィルムと、該反射防止フィルムの透明基材の非形成面に該透明基材側から順に偏光層と透明基材フィルムとを備える偏光板。   A polarizing plate comprising: the antireflection film according to any one of claims 1 to 3; and a polarizing layer and a transparent substrate film in order from the transparent substrate side on a non-formation surface of the transparent substrate of the antireflection film. 観察者側から順に、請求項4記載の偏光板と、液晶セルと、第2の偏光板と、バックライトユニットをこの順に備え、かつ、前記反射防止層が観察者側の最表面に位置することを特徴とする透過型液晶ディスプレイ。   In order from the observer side, the polarizing plate according to claim 4, the liquid crystal cell, the second polarizing plate, and the backlight unit are provided in this order, and the antireflection layer is located on the outermost surface on the observer side. A transmissive liquid crystal display characterized by that. 透明基材の少なくとも一方の面にハードコート層と反射防止層をこの順番で積層したフィルムの製造方法であって、
電離放射線硬化型材料を含む塗液を前記透明基材上に塗布し電離放射線照射により硬化させハードコート層を形成する工程と、
電離放射線硬化型材料とフッ素含有基とシリコーン骨格の両方、もしくはどちらか一方を有する表面調整剤を含む塗液を前記ハードコート層上に塗布し、電離放射線照射により硬化させ反射防止層を形成する工程とを備え、かつ、
前記反射防止層を形成する前のJIS R3257(1999)により測定されるハードコート層表面の純水の接触角が60°以上90°以下の範囲内であることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
A method for producing a film in which a hard coat layer and an antireflection layer are laminated in this order on at least one surface of a transparent substrate,
Applying a coating liquid containing an ionizing radiation curable material on the transparent substrate and curing it by irradiation with ionizing radiation to form a hard coat layer;
An antireflection layer is formed by applying a coating liquid containing a surface conditioning agent having an ionizing radiation curable material and / or a fluorine-containing group and / or a silicone skeleton on the hard coat layer and curing it by irradiation with ionizing radiation. A process, and
Production of an antireflection film, wherein the contact angle of pure water on the surface of the hard coat layer measured by JIS R3257 (1999) before forming the antireflection layer is in the range of 60 ° to 90 °. Method.
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