JP2012074519A - Multilayer printed board and method for manufacturing the same - Google Patents

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Atsuhiro Uratsuji
淳広 浦辻
Toshiyuki Inaoka
俊幸 稲岡
Yoshina Miyazaki
芳奈 宮崎
Tsukasa Nakamura
司 中村
Yoshio Omori
良男 大森
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve reliability of electric connection between conductive layers.SOLUTION: A first conductive layer 3 formed on one surface 2a of a first insulation layer 2 is electrically connected to a second conductive layer 4 formed on the other surface 2b through a first interlayer connection part 7 formed by filling a conductive material 6 in a first via hole 5. A second insulation layer 2 is laminated on a surface of the first insulation layer 2 where the second conductive layer 4 is formed, and a third conductive layer 9 is formed on a surface of the second insulation layer 2, which is opposite to the first insulation layer 2. A second interlayer connection part 12 is formed by filling a conductive paste 11 in a second via hole 10 and a recessed part 7a formed in the first interlayer connection part 7, and the first to third conductive layers 3, 4, and 9 are electrically connected with each other through the first and second interlayer connection parts 7 and 12.

Description

本発明は、複数積層された絶縁層に形成された配線パターンが層間接続により電気的に接続された多層プリント配線板及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a multilayer printed wiring board in which wiring patterns formed on a plurality of stacked insulating layers are electrically connected by interlayer connection and a method for manufacturing the same.

従来、多層プリント配線板では、絶縁層で絶縁された各配線パターンを電気的に接続するため、絶縁層を貫通し、内部に導電材が設けられたビアホールで層間接続している。この層間接続構造は、絶縁層に形成されたビアホール内に、導電材として銅メッキや導電性ペーストを充填する方法が用いられている。特に、導電性ペーストを用いた層間接続方法は、環境負荷が小さく製造方法も簡易である点で優れている。   Conventionally, in a multilayer printed wiring board, in order to electrically connect each wiring pattern insulated by an insulating layer, interlayer connection is made through a via hole penetrating the insulating layer and having a conductive material provided therein. In this interlayer connection structure, a method of filling a via hole formed in an insulating layer with copper plating or conductive paste as a conductive material is used. In particular, the interlayer connection method using the conductive paste is excellent in that the environmental load is small and the manufacturing method is simple.

この層間接続構造は、レーザ光により絶縁層にビアホールを形成し、このビアホールの一方の側に金属箔による回路配線のランド部やメッキ層による層間接続部が位置し、ビアホール内には導電性ペーストが充填され、そのビアホール内の導電性ペーストによる層間接続部と、さらに他層の回路配線のランド部等の層間接続部とが接続されたものとなっている。   In this interlayer connection structure, a via hole is formed in an insulating layer by laser light, and a land portion of a circuit wiring by a metal foil and an interlayer connection portion by a plating layer are located on one side of the via hole, and a conductive paste is placed in the via hole. Is filled, and the interlayer connection portion by the conductive paste in the via hole and the interlayer connection portion such as the land portion of the circuit wiring of the other layer are further connected.

このような層間接続構造の多層プリント配線板としては、特許文献1〜3に開示されたものがある。   As multilayer printed wiring boards having such an interlayer connection structure, there are those disclosed in Patent Documents 1 to 3.

特許文献1には、導電性ペーストを層間接続材として使用したフレックスリジッド基板が記載されている。   Patent Document 1 describes a flex-rigid board using a conductive paste as an interlayer connection material.

特許文献2には、内層の配線パターンを電気的に接続するスルーホール内に充填した導電ペースト上に積層した絶縁層にレーザ光でビアホールを形成し、ビアホール内にめっきを施して層間接続した多層プリント配線板が記載されている。   Patent Document 2 discloses a multilayer in which via holes are formed with a laser beam in an insulating layer stacked on a conductive paste filled in a through hole for electrically connecting an inner layer wiring pattern, and the via holes are plated and interlayer connected. A printed wiring board is described.

特許文献3には、一方の基板に設けられた層間導電部の突出部が、他方の基板に設けられた、ビアホール内に金属めっきを施した層間導電部に形成された窪み部に挿入されることによって、電気的に導通するようにした多層配線基板が記載されている。   In Patent Document 3, a protruding portion of an interlayer conductive portion provided on one substrate is inserted into a recess formed in an interlayer conductive portion provided with metal plating in a via hole provided on the other substrate. Thus, there is described a multilayer wiring board which is electrically connected.

以上のような多層プリント配線板においては、多様な層間接続方法が用いられている。   In the multilayer printed wiring board as described above, various interlayer connection methods are used.

特許第3744383号公報Japanese Patent No. 3744383 特開2007−235165号公報JP 2007-235165 A 特開2007−299943号公報JP 2007-299943 A

そこで、本発明は、新規な層間接続方法を提供するものであり、硬化済みの導電ペーストと未硬化の導電ペーストとを用いて、配線パターン間の電気的接続の信頼性を向上させた多層プリント配線板及びこの多層プリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。   Accordingly, the present invention provides a novel interlayer connection method, and uses a cured conductive paste and an uncured conductive paste to improve the reliability of electrical connection between wiring patterns. It is an object of the present invention to provide a wiring board and a method for producing the multilayer printed wiring board.

本発明に係る多層プリント配線板の製造方法は、第1の絶縁層に第1のビアホールを形成し、この第1のビアホールに導電材を充填し、硬化して第1の層間接続部を形成し、第1の絶縁層の両面に形成された第1及び第2の導電層間を上記第1の層間接続部で電気的に接続する。次に、一方の面に第3の導電層が形成された第2の絶縁層を他方の面を第1の絶縁層側にして、第1の絶縁層の第1の層間接続部が露出した面に積層し、第2の絶縁層及び第3の導電層を貫通する第2のビアホールを第2の絶縁層の第1の層間接続部上に形成すると共に、第1の層間接続部の第2の絶縁層側の表面に凹部を形成し、第2のビアホール内及び第1の層間接続部の上記凹部に導電性ペーストを充填する。次に、第2の絶縁層及び導電性ペーストを第1の絶縁層及び第1の層間接続部に対して加熱加圧し、第1の絶縁層と第2の絶縁層を一体化すると共に上記導電性ペーストを硬化させ、第1の層間接続部と共に第1乃至第3の導電層を電気的に接続する第2の層間接続部を形成することを特徴とする。   In the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present invention, a first via hole is formed in a first insulating layer, and a conductive material is filled in the first via hole and cured to form a first interlayer connection portion. Then, the first and second conductive layers formed on both surfaces of the first insulating layer are electrically connected by the first interlayer connection portion. Next, with the second insulating layer having the third conductive layer formed on one surface and the other surface facing the first insulating layer, the first interlayer connection portion of the first insulating layer is exposed. A second via hole is formed on the first insulating layer and the second conductive layer is formed on the first insulating layer and the third conductive layer is formed on the first interlayer connecting portion of the second insulating layer. A recess is formed in the surface on the insulating layer side of 2, and a conductive paste is filled in the recess in the second via hole and the first interlayer connection portion. Next, the second insulating layer and the conductive paste are heated and pressurized with respect to the first insulating layer and the first interlayer connection portion so that the first insulating layer and the second insulating layer are integrated and the conductive material is added. The adhesive paste is cured to form a second interlayer connection portion that electrically connects the first to third conductive layers together with the first interlayer connection portion.

本発明に係る多層プリント配線板は、第1の絶縁層の一方の面に形成された第1の導電層と他方の面に形成された第2の導電層とが、第1の絶縁層を貫通する第1のビアホール内に導電材が充填されて形成された第1の層間接続部によって電気的に接続され、第1の絶縁層の第2の導電層が形成された面に積層された第2の絶縁層の第1の絶縁層とは反対側の面に第3の導電層が形成され、第1の層間接続部上に形成された第2のビアホール及び第1の層間接続部の第2の絶縁層側に形成された凹部に導電性ペーストが充填された第2の層間接続部が形成され、第1及び第2の層間接続部によって、第1乃至第3の導電層が電気的に接続されていることを特徴とする。   In the multilayer printed wiring board according to the present invention, the first conductive layer formed on one surface of the first insulating layer and the second conductive layer formed on the other surface are the first insulating layer. The first via hole penetrating therethrough is electrically connected by a first interlayer connecting portion formed by filling a conductive material, and is laminated on the surface of the first insulating layer on which the second conductive layer is formed. A third conductive layer is formed on a surface of the second insulating layer opposite to the first insulating layer, and the second via hole and the first interlayer connecting portion formed on the first interlayer connecting portion are formed. A second interlayer connection portion in which a conductive paste is filled in a recess formed on the second insulating layer side is formed, and the first to third conductive layers are electrically connected by the first and second interlayer connection portions. It is characterized by being connected.

本発明では、第1の絶縁層に設けた第1のビアホールに第1の導電性ペーストを充填してなる第1の層間接続部と、この第1の絶縁層上に設けた第2の絶縁層の第1の層間接続部上に形成した第2のビアホール及び第1の層間接続部の第2の絶縁層側に形成した凹部に第2の導電性ペーストを充填し、第1の絶縁層と第2の絶縁層を加熱加圧して一体化する際に、第2の導電性ペーストを第1の層間接続部の凹部に押し込んで、硬化させることによって、第1の層間接続部と第2の層間接続部との密着性が高くでき、電気的接続信頼性を高くすることができる。   In the present invention, the first interlayer connection portion formed by filling the first via hole provided in the first insulating layer with the first conductive paste, and the second insulation provided on the first insulating layer. Filling the second via hole formed on the first interlayer connection portion of the layer and the concave portion formed on the second insulating layer side of the first interlayer connection portion with the second conductive paste, the first insulating layer When the second insulating layer and the second insulating layer are integrated by heating and pressing, the second conductive paste is pushed into the concave portion of the first interlayer connection portion and cured, so that the first interlayer connection portion and the second insulating layer are cured. Adhesiveness with the interlayer connection portion can be increased, and electrical connection reliability can be increased.

本発明を適用した多層プリント配線板の製造方法によって製造された第1の実施の形態の多層プリント配線板の断面図である。It is sectional drawing of the multilayer printed wiring board of 1st Embodiment manufactured by the manufacturing method of the multilayer printed wiring board to which this invention is applied. 本発明を適用した多層プリント配線板の製造方法を説明する断面図であり、(A)は、両面に銅箔が設けられ、第1のスルーホールが形成された第1の絶縁層の断面図であり、(B)は、第1のスルーホールに第1の導電性ペーストを充填した状態を示す断面図であり、(C)は、第1及び第2の配線パターンを形成した状態を示す断面図であり、(D)は、第2の絶縁層を積層した状態を示す断面図であり、(E)は、第2のスルーホールを形成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing explaining the manufacturing method of the multilayer printed wiring board to which this invention is applied, (A) is sectional drawing of the 1st insulating layer in which the copper foil was provided in both surfaces and the 1st through-hole was formed. (B) is a cross-sectional view showing a state in which the first through-hole is filled with the first conductive paste, and (C) shows a state in which the first and second wiring patterns are formed. It is sectional drawing, (D) is sectional drawing which shows the state which laminated | stacked the 2nd insulating layer, (E) is sectional drawing which shows the state which formed the 2nd through hole. 本発明を適用した多層プリント配線板の製造方法によって製造された第2の実施の形態の多層プリント配線板の断面図である。It is sectional drawing of the multilayer printed wiring board of 2nd Embodiment manufactured by the manufacturing method of the multilayer printed wiring board to which this invention is applied. 本発明を適用したフレキシブルリジッド配線板の製造方法によって製造されたフレキシブルリジッド配線板の断面図である。It is sectional drawing of the flexible rigid wiring board manufactured by the manufacturing method of the flexible rigid wiring board to which this invention is applied. ビルドアップ部の製造方法であり、第1の絶縁層において第1及び第2の配線パターンを第1の層間接続部で電気的に接続した状態を示す断面図である。It is a manufacturing method of a buildup part, and is sectional drawing which shows the state which electrically connected the 1st and 2nd wiring pattern in the 1st insulating layer by the 1st interlayer connection part. 第1の絶縁層上に第2及び第3の絶縁層を積層した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which laminated | stacked the 2nd and 3rd insulating layer on the 1st insulating layer. 第2の絶縁層に第2のビアホールを形成した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which formed the 2nd via hole in the 2nd insulating layer. 第2のビアホールに第2の導電性ペーストを充填した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which filled the 2nd conductive paste in the 2nd via hole. 外形加工後の状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state after an external shape process. コア部とビルドアップ部の位置関係を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the positional relationship of a core part and a buildup part.

以下、本発明が適用された多層プリント配線板の製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。第1の実施の形態として、本発明を適用した2層からなる多層プリント配線板1(以下、多層プリント配線板1)の製造方法について説明する。多層プリント配線板1の製造方法の説明に先立って、この製造方法により製造される多層プリント配線板1について説明する。   Hereinafter, a method for producing a multilayer printed wiring board to which the present invention is applied will be described in detail with reference to the drawings. As a first embodiment, a method of manufacturing a multilayer printed wiring board 1 (hereinafter, multilayer printed wiring board 1) composed of two layers to which the present invention is applied will be described. Prior to the description of the method for manufacturing the multilayer printed wiring board 1, the multilayer printed wiring board 1 manufactured by this manufacturing method will be described.

多層プリント配線板1は、図1に示すように、第1の絶縁層2の一方の面2aに第1の導電層となる第1の配線パターン3が形成され、他方の面2bに第2の導電層となる第2の配線パターン4が形成され、第1の配線パターン3のランド部3aと、第2の配線パターン4のランド部4aとが第1のビアホール5に充填された導電材の第1の導電性ペースト6を硬化して形成された第1の層間接続部7によって電気的に接続されている。そして、多層プリント配線板1は、第1の絶縁層2の他方の面2bに第2の絶縁層8が積層され、この第2の絶縁層8の第1の絶縁層2とは反対側の面8aに第3の導電層となる第3の配線パターン9が形成され、第2の配線パターン4のランド部4aと第3の配線パターン9とが第2の絶縁層8の第1の層間接続部7上に形成した第2のビアホール10に第2の導電性ペースト11を充填して形成した第2の層間接続部12によって電気的に接続されている。多層プリント配線板1では、第1の層間接続部7の第2の層間接続部12側に凹部7aが形成されており、この凹部7a内にまで第2の層間接続部12を形成する第2の導電性ペースト11が充填されている。   As shown in FIG. 1, the multilayer printed wiring board 1 has a first wiring pattern 3 serving as a first conductive layer formed on one surface 2a of the first insulating layer 2, and a second wiring 2b formed on the other surface 2b. A conductive material in which the second wiring pattern 4 serving as a conductive layer is formed, and the land portion 3 a of the first wiring pattern 3 and the land portion 4 a of the second wiring pattern 4 are filled in the first via hole 5. The first conductive paste 6 is electrically connected by a first interlayer connection portion 7 formed by curing. In the multilayer printed wiring board 1, the second insulating layer 8 is laminated on the other surface 2 b of the first insulating layer 2, and the second insulating layer 8 is opposite to the first insulating layer 2. A third wiring pattern 9 serving as a third conductive layer is formed on the surface 8a, and the land portion 4a of the second wiring pattern 4 and the third wiring pattern 9 are connected to the first interlayer of the second insulating layer 8. The second via hole 10 formed on the connecting portion 7 is electrically connected by the second interlayer connecting portion 12 formed by filling the second conductive paste 11. In the multilayer printed wiring board 1, a recess 7 a is formed on the second interlayer connection portion 12 side of the first interlayer connection portion 7, and the second interlayer connection portion 12 is formed in the recess 7 a. The conductive paste 11 is filled.

この多層プリント配線板1は、次のようにして製造することができる。   The multilayer printed wiring board 1 can be manufactured as follows.

先ず、図2(A)に示すように、両面に銅箔20が設けられた第1の絶縁層2を用意する。この第1の絶縁層2には、耐熱性、機械的強度、電気的特性に優れ、ポリイミド、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、BTレジン等の両面銅張り板を用いることができる。   First, as shown in FIG. 2A, a first insulating layer 2 having a copper foil 20 provided on both sides is prepared. The first insulating layer 2 is excellent in heat resistance, mechanical strength, and electrical characteristics, and a double-sided copper-clad plate such as polyimide, epoxy resin, phenol resin, or BT resin can be used.

次に、図2(A)に示すように、第2の配線パターン4を形成する銅箔20が形成された第1の絶縁層2の他方の面2b側から、レーザ光L1を照射し、第1のビアホール5を形成する。第1のビアホール5は、第1の配線パターン3のランド部3aと第2の配線パターン4のランド部4aとを電気的に接続する位置に形成する。このとき、一方の面2aに形成された銅箔20は貫通させないようにレーザ光L1を照射する。   Next, as shown in FIG. 2A, laser light L1 is irradiated from the other surface 2b side of the first insulating layer 2 on which the copper foil 20 forming the second wiring pattern 4 is formed. A first via hole 5 is formed. The first via hole 5 is formed at a position where the land portion 3 a of the first wiring pattern 3 and the land portion 4 a of the second wiring pattern 4 are electrically connected. At this time, the laser beam L1 is irradiated so that the copper foil 20 formed on the one surface 2a does not penetrate.

次に、第1のビアホール5内をデスミア処理し、図2(B)に示すように、真空中において、導電材の第1の導電性ペースト6を第1のビアホール5内に充填する。   Next, the inside of the first via hole 5 is subjected to a desmear process, and the first conductive paste 6 made of a conductive material is filled in the first via hole 5 in a vacuum as shown in FIG.

第1の導電性ペースト6としては、熱可塑性樹脂中に高融点金属と低融点金属の金属粒子が混合され、後の加熱処理で合金化するもの等である。例えば、高融点金属は、少なくとも銅を含み、銅単体の粒子、又は銅と金、銀、亜鉛、及びニッケルの内1つ以上の金属とを含む合金の粒子である。また、これら金属粒子の表面は、金、銀、亜鉛、又はニッケル、又はそれらの合金がメッキ等により被覆されていてもよい。これらの金属粒子の平均粒径は、6〜10μm、例えば8μmであることが好ましい。また、低融点金属は、低温で金属拡散するSn、又はSnを含む合金(例えば、ハンダ)の粒子である。ハンダとしては、Sn−Cu系ハンダ、Sn−Ag系ハンダ、Sn−Ag−Cu系ハンダ、これらにIn、Zn、Biのいずれか一つ以上を添加し、さらに適宜混合して用いても良い。第1の導電性ペースト6のバインダ樹脂は、熱可塑性樹脂である。例えば、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアクリル、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリビニルブチラールなどの熱可塑性樹脂を用いることが出来る。   The first conductive paste 6 is a material in which metal particles of a high melting point metal and a low melting point metal are mixed in a thermoplastic resin and alloyed by a subsequent heat treatment. For example, the refractory metal includes at least copper, and is a particle of copper alone or an alloy particle including copper and one or more metals of gold, silver, zinc, and nickel. The surfaces of these metal particles may be coated with gold, silver, zinc, nickel, or an alloy thereof by plating or the like. The average particle diameter of these metal particles is preferably 6 to 10 μm, for example 8 μm. The low melting point metal is Sn or metal alloy (for example, solder) containing Sn that diffuses at a low temperature. As the solder, Sn-Cu solder, Sn-Ag solder, Sn-Ag-Cu solder, any one or more of In, Zn, and Bi may be added to these solders, and further mixed as appropriate. . The binder resin of the first conductive paste 6 is a thermoplastic resin. For example, thermoplastic resins such as polyester, polyolefin, polyacryl, polyamide, polyamideimide, polyetherimide, polyphenylene ether, polyphenylene sulfide, and polyvinyl butyral can be used.

第1の導電性ペースト6の充填方法は、スクリーン印刷、インクジェット印刷等の印刷などの方法が使用できる。また、剥離性のフィルムをマスク材として使用し、スクイーズにより充填する方法も用いることができる。   As the filling method of the first conductive paste 6, a method such as printing such as screen printing or ink jet printing can be used. Moreover, the method of using a peelable film as a mask material and filling by squeeze can also be used.

また、導電材としては、第1の導電性ペースト6に限らず、銅等を使用したフィルドメッキ等であってもよい。   Further, the conductive material is not limited to the first conductive paste 6 but may be filled plating using copper or the like.

次に、第1の絶縁層2を熱プレスして第1の導電性ペースト6を溶融・硬化させて、第1の層間接続部7を形成し、第1の配線パターン3のランド部3aと第2の配線パターン4のランド部4aとなる部分を接続する。   Next, the first insulating layer 2 is hot-pressed to melt and cure the first conductive paste 6 to form the first interlayer connection portion 7, and the land portion 3 a of the first wiring pattern 3 and A portion to be the land portion 4a of the second wiring pattern 4 is connected.

次に、図2(C)に示すように、第1及び第2の配線パターン3、4を形成する表裏面の銅箔20に、エッチングレジストのドライフィルムを貼り付け、所定の回路パターンに露光してエッチングし、第1及び第2の配線パターン3、4を形成する。これにより、第1の配線パターンのランド部3aと第2の配線パターン4のランド部4aとを、第1の層間接続部7を介して電気的に接続する。   Next, as shown in FIG. 2C, a dry film of an etching resist is pasted on the copper foils 20 on the front and back surfaces for forming the first and second wiring patterns 3 and 4, and exposure to a predetermined circuit pattern is performed. Then, the first and second wiring patterns 3 and 4 are formed by etching. Thereby, the land portion 3 a of the first wiring pattern and the land portion 4 a of the second wiring pattern 4 are electrically connected via the first interlayer connection portion 7.

次に、図2(D)に示すように、第3の配線パターン9となる銅箔22が一方の面8aに設けられた第2の絶縁層8を、他方の面8bを第1の絶縁層2側にして、第1の絶縁層2上に載せる。第2の絶縁層8としては、例えばエポキシ樹脂と硬化剤等とによって形成された片面銅張り板であり、例えば100℃〜250℃、10分以下の条件でBステージ状態のものを用いる。第2の絶縁層8を構成する樹脂としては、エポキシ樹脂の他に、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、フェノール樹脂、BTレジン等を用いることができる。なお、この第2の絶縁層8は、この図2(D)に示す積層工程では硬化させておらず、Bステージ状態である。   Next, as shown in FIG. 2D, the second insulating layer 8 in which the copper foil 22 to be the third wiring pattern 9 is provided on one surface 8a is used, and the other surface 8b is used as the first insulating material. The first insulating layer 2 is placed on the layer 2 side. The second insulating layer 8 is a single-sided copper-clad plate formed of, for example, an epoxy resin and a curing agent, and for example, a B-stage state is used under conditions of 100 ° C. to 250 ° C. for 10 minutes or less. As the resin constituting the second insulating layer 8, polyethylene terephthalate, polyimide, phenol resin, BT resin, or the like can be used in addition to the epoxy resin. The second insulating layer 8 is not cured in the lamination step shown in FIG. 2D, and is in a B stage state.

次に、図2(E)に示すように、炭酸ガスレーザやYAGレーザ、エキシマレーザ等を用いたレーザ光L2により、第2の絶縁層8及び銅箔22に第2のビアホール10を形成する。このとき、第1の層間接続部7上に第2のビアホール10を形成すると共に、第1の層間接続部7に凹部7aを形成する。このように、レーザ光L2で第2のビアホール10及び凹部7aが形成されるとともに、第1の導電性ペースト6の表面のバインダ樹脂が蒸散する。これにより、第1の導電性ペースト6は、凹部7aに充填される第2の導電性ペースト11と金属結合を形成しやすくなる。また、レーザ光L2が照射された第1の導電性ペースト6の表面は、再溶融して、融点の高い合金層を形成するため、耐熱衝撃性の高い凹部7aを形成することができる。   Next, as shown in FIG. 2E, the second via hole 10 is formed in the second insulating layer 8 and the copper foil 22 by laser light L2 using a carbon dioxide laser, YAG laser, excimer laser, or the like. At this time, the second via hole 10 is formed on the first interlayer connection portion 7 and the recess 7 a is formed in the first interlayer connection portion 7. Thus, the second via hole 10 and the recess 7a are formed by the laser beam L2, and the binder resin on the surface of the first conductive paste 6 is evaporated. Thereby, the first conductive paste 6 can easily form a metal bond with the second conductive paste 11 filled in the recess 7a. Further, since the surface of the first conductive paste 6 irradiated with the laser beam L2 is remelted to form an alloy layer having a high melting point, a concave portion 7a having a high thermal shock resistance can be formed.

また、他の方法としては、銅箔22の第2のビアホール10を形成する位置をエッチングにより開口し、その後レーザ光L2を照射して、第2の絶縁層8に第2のビアホール10を形成するようにしても良い。第2のビアホール10も、第1のビアホール5と同様に、レーザ光L2の熱によって、第2の絶縁層8の表面がやや硬化する。これにより、後の工程で第2のビアホール10に充填した第2の導電性ペースト11が第2の絶縁層8に入り込むことを防止することができる。そして、第2のビアホール10内をデスミア処理する。   As another method, the second via hole 10 is formed in the second insulating layer 8 by opening the position where the second via hole 10 of the copper foil 22 is formed by etching and then irradiating the laser beam L2. You may make it do. Similarly to the first via hole 5, the surface of the second insulating layer 8 is also slightly cured in the second via hole 10 by the heat of the laser beam L2. Thereby, it is possible to prevent the second conductive paste 11 filled in the second via hole 10 from entering the second insulating layer 8 in a later step. Then, desmear processing is performed in the second via hole 10.

次に、図1に示すように、第3の配線パターン9、第2のビアホール10及び第1の層間接続部7の凹部7aに第2の導電性ペースト11を充填する。第2の導電性ペースト11は、上述した第1の層間接続部7を構成する第1の導電性ペースト6と同様のものを用いる。第2の導電性ペースト11の充填方法についても上述した第1の導電性ペースト6と同様である。なお、第1の導電性ペースト6と第2の導電性ペースト11は、異なる種類であってもよい。   Next, as shown in FIG. 1, the second conductive paste 11 is filled in the third wiring pattern 9, the second via hole 10, and the recess 7 a of the first interlayer connection portion 7. The second conductive paste 11 is the same as the first conductive paste 6 that constitutes the first interlayer connection portion 7 described above. The filling method of the second conductive paste 11 is also the same as that of the first conductive paste 6 described above. Note that the first conductive paste 6 and the second conductive paste 11 may be of different types.

次に、第1の絶縁層2と第2の絶縁層8を一体化する。一体化する方法は、所定の温度と圧力で第2の絶縁層8を第1の絶縁層2に対して加熱加圧して、第1の絶縁層2と第2の絶縁層8とを貼り合せて一体化する。一体化の条件は、例えば温度170℃〜250℃、圧力2〜6MPa/cmで10分以上とする。一体化した際に、第2の絶縁層8が圧縮されるため、第2のビアホール10内に充填された第2の導電性ペースト11が第1の層間接続部7の凹部7aに押し込まれた状態で硬化する。これにより、第2の層間接続部12が形成され、第2の層間接続部12の第2の導電性ペースト11が第1の層間接続部7の第1の導電性ペースト6と隙間なく強固に結合し、金属結合が形成され、層間の電気的、機械的強度が向上する。 Next, the first insulating layer 2 and the second insulating layer 8 are integrated. As a method of integration, the second insulating layer 8 is heated and pressed against the first insulating layer 2 at a predetermined temperature and pressure, and the first insulating layer 2 and the second insulating layer 8 are bonded together. And integrate. The integration conditions are, for example, a temperature of 170 ° C. to 250 ° C. and a pressure of 2 to 6 MPa / cm 2 for 10 minutes or more. When integrated, the second insulating layer 8 is compressed, so that the second conductive paste 11 filled in the second via hole 10 is pushed into the recess 7 a of the first interlayer connection portion 7. Cure in state. As a result, the second interlayer connection portion 12 is formed, and the second conductive paste 11 of the second interlayer connection portion 12 and the first conductive paste 6 of the first interlayer connection portion 7 are firmly formed without a gap. Bonding results in the formation of a metal bond, improving the electrical and mechanical strength between the layers.

そして、図1に示すように、第1の配線パターン3乃至第3の配線パターン9が、第1及び第2の層間接続部7、12を介して電気的に接続された多層プリント配線板1を製造することができる。   As shown in FIG. 1, the multilayer printed wiring board 1 in which the first wiring pattern 3 to the third wiring pattern 9 are electrically connected via the first and second interlayer connection portions 7 and 12. Can be manufactured.

以上のような多層プリント配線板1の製造方法では、第2のビアホール10内に第2の導電性ペースト11を充填した第2の絶縁層8を硬化せずに、第1の絶縁層2上に載せて、第1の絶縁層2と第2の絶縁層8とを加熱加圧して一体化することで、第2の絶縁層8が圧縮されると共に、第2のビアホール10に充填した第2の導電性ペースト11が第1の層間接続部7の凹部7aに押し込まれるようになる。これにより、多層プリント配線板1の製造方法では、第2の層間接続部12の第2の導電性ペースト11が第1の層間接続部7の第1の導電性ペースト6と隙間なく強固に結合し、金属結合が形成され、層間接続強度を向上させることができる。したがって、得られた多層プリント配線板1は、第1の配線パターン3乃至第3の配線パターン9の電気的接続の信頼性が向上する。   In the manufacturing method of the multilayer printed wiring board 1 as described above, the second insulating layer 8 filled with the second conductive paste 11 in the second via hole 10 is not cured, and the first insulating layer 2 is not cured. The first insulating layer 2 and the second insulating layer 8 are integrated by heating and pressurizing, whereby the second insulating layer 8 is compressed and the second via hole 10 is filled. The second conductive paste 11 is pushed into the recess 7 a of the first interlayer connection 7. Thereby, in the manufacturing method of the multilayer printed wiring board 1, the 2nd conductive paste 11 of the 2nd interlayer connection part 12 couple | bonds firmly with the 1st conductive paste 6 of the 1st interlayer connection part 7 without gap. In addition, a metal bond is formed, and interlayer connection strength can be improved. Therefore, the obtained multilayer printed wiring board 1 improves the reliability of electrical connection of the first wiring pattern 3 to the third wiring pattern 9.

また、この多層プリント配線板1の製造方法では、メッキに比べて導体厚を薄くすることができ、導体厚が薄いとエッチファクタが高くなるため、ファインパターンが形成しやすい方法である。   Further, in this method of manufacturing the multilayer printed wiring board 1, the conductor thickness can be reduced as compared with the plating, and the etch factor increases when the conductor thickness is thin, so that a fine pattern is easily formed.

更に、この多層プリント配線板1の製造方法では、ドライプロセスであるため、水資源を使用せずに多層プリント配線板1を製造することができる。   Furthermore, since this multilayer printed wiring board 1 manufacturing method is a dry process, the multilayer printed wiring board 1 can be manufactured without using water resources.

次に、第2の実施の形態として、図3に示すように、両面多層プリント配線板30(以下、単に多層プリント配線板30という。)について説明する。なお、上述した多層プリント配線板1と同様の構成については、同一符号を付して詳細な説明を省略する。   Next, as a second embodiment, a double-sided multilayer printed wiring board 30 (hereinafter simply referred to as a multilayer printed wiring board 30) will be described as shown in FIG. In addition, about the structure similar to the multilayer printed wiring board 1 mentioned above, the same code | symbol is attached | subjected and detailed description is abbreviate | omitted.

この多層プリント配線板30は、第1の絶縁層2の一方の面2aに第1の配線パターン3が形成され、他方の面2bに第2の配線パターン4が形成され、第1の配線パターン3のランド部3aと第2の配線パターン4のランド部4aが第1の層間接続部7によって電気的に接続されている。   This multilayer printed wiring board 30 has a first wiring pattern 3 formed on one surface 2a of the first insulating layer 2 and a second wiring pattern 4 formed on the other surface 2b. 3 lands 3 a and the land 4 a of the second wiring pattern 4 are electrically connected by the first interlayer connection 7.

この多層プリント配線板30は、第1の絶縁層2の他方の面2bに、第2の絶縁層8、第3の配線パターン9が積層され、第2の絶縁層8に形成された第2の層間接続部12によって、第1の配線パターン3乃至第3の配線パターン9が電気的に接続されている。この多層プリント配線板30においても、上述した多層プリント配線板1と同様に、第1の層間接続部7に形成された凹部7aに第2の層間接続部12を形成する第2の導電性ペースト11が押し込まれているため、第1の層間接続部7と第2の層間接続部12とが隙間なく強固に結合し、金属結合が形成され、層間接続強度を向上している。   The multilayer printed wiring board 30 includes a second insulating layer 8 formed on the second insulating layer 8 by laminating a second insulating layer 8 and a third wiring pattern 9 on the other surface 2 b of the first insulating layer 2. The first wiring pattern 3 to the third wiring pattern 9 are electrically connected by the interlayer connection portion 12. In this multilayer printed wiring board 30 as well, as in the multilayer printed wiring board 1 described above, the second conductive paste for forming the second interlayer connection portion 12 in the recess 7 a formed in the first interlayer connection portion 7. 11 is pushed in, the first interlayer connection 7 and the second interlayer connection 12 are firmly bonded without a gap, a metal bond is formed, and the interlayer connection strength is improved.

この多層プリント配線板30は、第1の絶縁層2の一方の面2aに、第3の絶縁層31及び銅箔32が積層された多層構造となっている。   The multilayer printed wiring board 30 has a multilayer structure in which a third insulating layer 31 and a copper foil 32 are laminated on one surface 2 a of the first insulating layer 2.

第3の絶縁層31としては、第2の絶縁層8と同様に、エポキシ樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、フェノール樹脂、BTレジン等からなる片面銅張り板を用いることができる。この第3の絶縁層31は、第1の絶縁層2の一方の面2aに形成された第1の配線パターン3を保護している。   As the third insulating layer 31, as with the second insulating layer 8, a single-sided copper-clad plate made of epoxy resin, polyethylene terephthalate, polyimide, phenol resin, BT resin, or the like can be used. The third insulating layer 31 protects the first wiring pattern 3 formed on one surface 2 a of the first insulating layer 2.

この多層プリント配線板30の製造方法は、第1乃至第3の配線パターン3、4、9の形成方法、第1及び第2の層間接続部7、12の形成方法、第1の絶縁層2と第2の絶縁層8との一体化の方法は、上述した多層プリント配線板1と同様である。   The method for manufacturing the multilayer printed wiring board 30 includes a method for forming the first to third wiring patterns 3, 4, 9, a method for forming the first and second interlayer connection portions 7, 12, and the first insulating layer 2. And the second insulating layer 8 are integrated in the same manner as the multilayer printed wiring board 1 described above.

第3の絶縁層31は、第1の絶縁層2の一方の面2aと対向し、第2の絶縁層8と共に、又は第2の絶縁層8とは別に、所定の温度と圧力で第1の絶縁層2に対して加熱加圧して、第1の絶縁層2及び第2の絶縁層8と一体化する。   The third insulating layer 31 faces the one surface 2 a of the first insulating layer 2, and together with the second insulating layer 8 or separately from the second insulating layer 8, the first insulating layer 31 is formed at a predetermined temperature and pressure. The insulating layer 2 is heated and pressed to be integrated with the first insulating layer 2 and the second insulating layer 8.

この多層プリント配線板30においても、上述した多層プリント配線板1と同様に、第1の層間接続部7と第2の層間接続部12とが隙間なく強固に結合し、金属結合が形成され、層間接続強度が高くなっているため、第1の配線パターン3乃至第3の配線パターン9の電気的接続の信頼性が高いものとなっている。   Also in this multilayer printed wiring board 30, like the multilayer printed wiring board 1 described above, the first interlayer connection 7 and the second interlayer connection 12 are firmly bonded without a gap, and a metal bond is formed, Since the interlayer connection strength is high, the reliability of the electrical connection of the first wiring pattern 3 to the third wiring pattern 9 is high.

次に、第3の実施の形態として、図4に示すような、フレックスリジッドプリント配線板40について説明する。フレックスリジッドプリント配線板40は、第1のリジッド部41と、第2のリジッド部42と、可撓性を有するフレックス部43とが形成されている。   Next, a flex-rigid printed wiring board 40 as shown in FIG. 4 will be described as a third embodiment. The flex-rigid printed wiring board 40 is formed with a first rigid portion 41, a second rigid portion 42, and a flexible flex portion 43.

第1及び第2のリジッド部41、42は、第1のビルドアップ部51、第2のビルドアップ部52が、フレキシブルなコア部53の両面53a、53bに積層された構成からなる。フレックス部43は、コア部53のみからなる。   The 1st and 2nd rigid parts 41 and 42 consist of the structure where the 1st buildup part 51 and the 2nd buildup part 52 were laminated | stacked on both surfaces 53a and 53b of the flexible core part 53. As shown in FIG. The flex part 43 includes only the core part 53.

第1のビルドアップ部51は、第1の絶縁層61の一方の面61aに第1の配線パターン62が形成され、他方の面61bに第2の配線パターン63が形成され、第1の配線パターン62のランド部62aと第2の配線パターン63のランド部63aとが第1の絶縁層61に形成された第1のビアホール64に充填された導電材の第1の導電性ペースト65を硬化して形成された第1の層間接続部66によって電気的に接続されている。そして、第1のビルドアップ部51は、第1の絶縁層61の他方の面61bに第2の絶縁層67が積層されている。第2の絶縁層67には、第1の層間接続部66と対向するように形成した第2のビアホール68に第2の導電性ペースト69を充填が充填され、第2の配線パターン63とコア部53に形成された第3の配線パターン71とを電気的に接続する第2の層間接続部70が形成されている。   The first build-up portion 51 has a first wiring pattern 62 formed on one surface 61a of the first insulating layer 61 and a second wiring pattern 63 formed on the other surface 61b. The first conductive paste 65 made of a conductive material filling the first via hole 64 formed in the first insulating layer 61 with the land portion 62a of the pattern 62 and the land portion 63a of the second wiring pattern 63 is cured. The first interlayer connection portion 66 formed in this way is electrically connected. In the first buildup part 51, the second insulating layer 67 is laminated on the other surface 61 b of the first insulating layer 61. The second insulating layer 67 is filled with a second conductive paste 69 filled in a second via hole 68 formed so as to face the first interlayer connection 66, and the second wiring pattern 63 and the core are filled. A second interlayer connection portion 70 that electrically connects the third wiring pattern 71 formed in the portion 53 is formed.

また、第1のビルドアップ部51は、第1の絶縁層61の一方の面61aに第3の絶縁層72及び第4の配線パターン73が積層され、第3の絶縁層72に形成された第3の導電性ペースト74からなる第3の層間接続部75によって、第1の配線パターン62や第2の配線パターン63等の内層の配線パターンと第4の配線パターン73が電気的に接続されている。   Further, the first buildup portion 51 is formed in the third insulating layer 72 by laminating the third insulating layer 72 and the fourth wiring pattern 73 on one surface 61 a of the first insulating layer 61. By the third interlayer connection portion 75 made of the third conductive paste 74, the inner wiring pattern such as the first wiring pattern 62 and the second wiring pattern 63 and the fourth wiring pattern 73 are electrically connected. ing.

第2のビルドアップ部52は、コア部53を介して第1のビルドアップ部51と対向してコア部53に積層されている。第2のビルドアップ部52は、第1のビルドアップ部51と同様に、第4の絶縁層76の両面76a、76bに形成された第5及び第6の配線パターン77、78が第4の導電性ペースト79からなる第4の層間接続部80によって電気的に接続されている。第4の絶縁層76の他方の面76bには、第5の絶縁層81が積層されている。第5の絶縁層81には、第4の層間接続部80と対向する位置に、第5の導電性ペースト82からなる第5の層間接続部83が形成されている。第2のビルドアップ部52では、第4の層間接続部80と第5の層間接続部83とによって、第5及び第6の配線パターン77、78とコア部53の最表面に形成された第7の配線パターン84とが電気的に接続されている。第4の絶縁層76の一方の面76aには、第6の絶縁層85及び第8の配線パターン86が積層され、第6の導電性ペースト87からなる第6の層間接続部88によって、第8の配線パターン86と内層に形成された配線パターンとが電気的に接続されている。   The second buildup unit 52 is stacked on the core unit 53 so as to face the first buildup unit 51 through the core unit 53. Similar to the first buildup unit 51, the second buildup unit 52 includes fifth and sixth wiring patterns 77 and 78 formed on both surfaces 76 a and 76 b of the fourth insulating layer 76. They are electrically connected by a fourth interlayer connection portion 80 made of a conductive paste 79. A fifth insulating layer 81 is stacked on the other surface 76 b of the fourth insulating layer 76. In the fifth insulating layer 81, a fifth interlayer connection portion 83 made of the fifth conductive paste 82 is formed at a position facing the fourth interlayer connection portion 80. In the second buildup portion 52, the fourth and fifth wiring patterns 77 and 78 and the first surface formed on the outermost surface of the core portion 53 by the fourth interlayer connection portion 80 and the fifth interlayer connection portion 83. 7 wiring patterns 84 are electrically connected. A sixth insulating layer 85 and an eighth wiring pattern 86 are stacked on one surface 76 a of the fourth insulating layer 76, and the sixth interlayer connection portion 88 made of the sixth conductive paste 87 causes the Eight wiring patterns 86 and the wiring patterns formed in the inner layer are electrically connected.

第1のリジッド部41のコア部53は、可撓性を有するフレキシブル基板からなる第7の絶縁層90に第9の配線パターン91及び第10の配線パターン92が形成され、第8の導電性ペースト93からなる第8の層間接続部94によって電気的に接続されている。また、第7の絶縁層90の一方の面には、カバーレイとなる第8の絶縁層95及び第3の配線パターン71が形成され、第9の導電性ペースト96からなる第9の層間接続部97と第8の層間接続部94とによって、第3の配線パターン71が第9の配線パターン91及び第10の配線パターン92と電気的に接続されている。第7の絶縁層90の他方の面には、カバーレイとなる第9の絶縁層98及び第7の配線パターン84が形成され、第10の導電性ペースト99からなる第10の層間接続部100と第8の層間接続部93とによって、第7の配線パターン84が第9の配線パターン91及び第10の配線パターン92と電気的に接続されている。   The core portion 53 of the first rigid portion 41 has a ninth wiring pattern 91 and a tenth wiring pattern 92 formed on a seventh insulating layer 90 made of a flexible flexible substrate. They are electrically connected by an eighth interlayer connection portion 94 made of paste 93. Further, an eighth insulating layer 95 and a third wiring pattern 71 serving as a cover lay are formed on one surface of the seventh insulating layer 90, and a ninth interlayer connection made of the ninth conductive paste 96 is formed. The third wiring pattern 71 is electrically connected to the ninth wiring pattern 91 and the tenth wiring pattern 92 by the portion 97 and the eighth interlayer connection portion 94. On the other surface of the seventh insulating layer 90, a ninth insulating layer 98 and a seventh wiring pattern 84 to be a cover lay are formed, and a tenth interlayer connection portion 100 made of a tenth conductive paste 99 is formed. The eighth wiring pattern 84 is electrically connected to the ninth wiring pattern 91 and the tenth wiring pattern 92 by the eighth interlayer connection portion 93.

第2のリジッド部42は、第1のリジッド部41と同様に、コア部53の一方の面53aに第1のビルドアップ部51が積層され、他方の面53bに第2のビルドアップ部52が積層されている。第1のリジッド部41と同じ符号を付して詳細な説明を省略する。   Similar to the first rigid portion 41, the second rigid portion 42 has a first buildup portion 51 laminated on one surface 53 a of the core portion 53, and a second buildup portion 52 on the other surface 53 b. Are stacked. The same reference numerals as those of the first rigid portion 41 are given and detailed description thereof is omitted.

フレックス部43は、第1のリジッド部41のコア部53と同様の構成からなる。   The flex part 43 has the same configuration as the core part 53 of the first rigid part 41.

このフレックスリジッドプリント配線板40は、以下のように製造することができる。先ず、第1及び第2のビルドアップ部51、52の製造方法について説明する。第1及び第2のビルドアップ部51、52は、図5〜図9に示すように、上述した多層プリント配線板30と同様に、3層構造からなる多層プリント配線板を製造する。第1のビルドアップ部51と第2のビルドアップ部52は、同様にして製造することができるため、第1のビルドアップ部51について説明し、第2のビルドアップ部52の製造方法について省略する。   The flex-rigid printed wiring board 40 can be manufactured as follows. First, the manufacturing method of the 1st and 2nd buildup parts 51 and 52 is demonstrated. As shown in FIGS. 5 to 9, the first and second buildup parts 51 and 52 manufacture a multilayer printed wiring board having a three-layer structure, as in the multilayer printed wiring board 30 described above. Since the first buildup unit 51 and the second buildup unit 52 can be manufactured in the same manner, the first buildup unit 51 will be described, and the manufacturing method of the second buildup unit 52 will be omitted. To do.

先ず、図5に示すように、第1の絶縁層61に形成した第1の導電性ペースト65からなる第1の層間接続部66で第1の配線パターン62と第2の配線パターン63とを電気的に接続する。   First, as shown in FIG. 5, the first wiring pattern 62 and the second wiring pattern 63 are formed by the first interlayer connection portion 66 made of the first conductive paste 65 formed in the first insulating layer 61. Connect electrically.

次に、図6に示すように、第1の絶縁層61の他方の面61bに第2の絶縁層67、一方の面61aに銅箔72aが一方の面に設けられた第3の絶縁層72となる片面銅張り板をそれぞれ載せる。なお、図6に示す工程では、第2の絶縁層67及び第3の絶縁層72は、Bステージの状態となっている。   Next, as shown in FIG. 6, the third insulating layer 61 is provided with a second insulating layer 67 on the other surface 61b of the first insulating layer 61 and a copper foil 72a on one surface 61a. A single-sided copper-clad plate to be 72 is placed. In the process shown in FIG. 6, the second insulating layer 67 and the third insulating layer 72 are in a B-stage state.

次に、図7に示すように、第2の絶縁層67の第1の層間接続部66と対向する位置にレーザ光で第2のビアホール68、及び第1の層間接続部66の第2の絶縁層67側に凹部66aを形成する。このように、レーザ光で第2のビアホール68を形成することによって、凹部66aが形成されるとともに、第1の導電性ペースト65の表面のバインダ樹脂が蒸散する。これにより、第1の導電性ペースト65は、凹部66aに充填される第2の導電性ペースト69と金属結合を形成しやすくなる。また、レーザ光が照射された第1の導電性ペースト65の表面は、再溶融して、融点の高い合金相を形成するため、耐熱衝撃性の高い凹部66aを形成することができる。   Next, as shown in FIG. 7, the second via hole 68 and the second interlayer connection portion 66 in the second insulating layer 67 are opposed to the first interlayer connection portion 66 by laser light. A recess 66a is formed on the insulating layer 67 side. Thus, by forming the second via hole 68 with the laser beam, the recess 66a is formed and the binder resin on the surface of the first conductive paste 65 is evaporated. Thereby, the first conductive paste 65 easily forms a metal bond with the second conductive paste 69 filled in the recess 66a. Further, since the surface of the first conductive paste 65 irradiated with the laser light is remelted to form an alloy phase having a high melting point, a recess 66a having a high thermal shock resistance can be formed.

次に、図8に示すように、第2のビアホール68及び凹部66aに第2の導電性ペースト69を充填する。   Next, as shown in FIG. 8, a second conductive paste 69 is filled in the second via hole 68 and the recess 66a.

次に、図9に示すように、第2の導電性ペースト69及び第2及び第3の絶縁層67、72を未硬化のまま、所定の大きさにルータ加工を行う。これにより、第1のリジッド部41及び第2のリジッド部42の第1の絶縁層61乃至第3の絶縁層72からなる多層プリント配線板を製造することができる。なお、この工程では、ルータ加工に限らず、金型により外形加工を行ってもよい。   Next, as shown in FIG. 9, the second conductive paste 69 and the second and third insulating layers 67 and 72 are uncured, and a router process is performed to a predetermined size. Thereby, the multilayer printed wiring board which consists of the 1st insulating layer 61 thru | or the 3rd insulating layer 72 of the 1st rigid part 41 and the 2nd rigid part 42 can be manufactured. In this step, not only the router processing but also the outer shape processing may be performed by a mold.

同様に、第1のリジッド部41及び第2のリジッド部42の第4の絶縁層76乃至第6の絶縁層85が積層され、第4の層間接続部80及び第5の層間接続部83によって第5の配線パターン77、第6の配線パターン78が電気的に接続された多層プリント配線板を製造する。   Similarly, the fourth insulating layer 76 to the sixth insulating layer 85 of the first rigid portion 41 and the second rigid portion 42 are laminated, and the fourth interlayer connecting portion 80 and the fifth interlayer connecting portion 83 A multilayer printed wiring board in which the fifth wiring pattern 77 and the sixth wiring pattern 78 are electrically connected is manufactured.

コア部53は、第1のビルドアップ部51及び第2のビルドアップ部52とは別の工程で製造する。コア部53は、第7の絶縁層90の両面に形成した第9の配線パターン91と第10の配線パターン92とを第8の層間接続部93で電気的に接続する。次に、第7の絶縁層90の一方の面に第8の絶縁層95を積層し、この第8の絶縁層95上に第3の配線パターン71を形成し、他方の面に第9の絶縁層98を積層し、この第9の絶縁層98上に第7の配線パターン84を形成して、コア部53を製造する。   The core part 53 is manufactured in a separate process from the first buildup part 51 and the second buildup part 52. The core portion 53 electrically connects the ninth wiring pattern 91 and the tenth wiring pattern 92 formed on both surfaces of the seventh insulating layer 90 through the eighth interlayer connection portion 93. Next, an eighth insulating layer 95 is stacked on one surface of the seventh insulating layer 90, a third wiring pattern 71 is formed on the eighth insulating layer 95, and a ninth wiring layer is formed on the other surface. The insulating layer 98 is laminated, and the seventh wiring pattern 84 is formed on the ninth insulating layer 98 to manufacture the core portion 53.

次に、図10に示すように、以上のようにして製造した第1及び第2のビルドアップ部51、52をコア部53と一体化する。   Next, as shown in FIG. 10, the first and second buildup parts 51 and 52 manufactured as described above are integrated with the core part 53.

先ず、図10に示すように、コア部53の最表面53a、53bに形成されている第3の配線パターン71と第2の層間接続部70を形成する第2の導電性ペースト69が対向し、第7の配線パターン84と第5の層間接続部83を形成する第5の導電性ペースト82が対向するように、第8の絶縁層95上に第2の絶縁層67を、第9の絶縁層98上に第5の絶縁層81を積層する。   First, as shown in FIG. 10, the third wiring pattern 71 formed on the outermost surfaces 53 a and 53 b of the core portion 53 and the second conductive paste 69 forming the second interlayer connection portion 70 face each other. The second insulating layer 67 is formed on the eighth insulating layer 95 so that the fifth conductive paste 82 forming the seventh wiring pattern 84 and the fifth interlayer connecting portion 83 are opposed to each other. A fifth insulating layer 81 is stacked over the insulating layer 98.

そして、所定の温度及び加圧でコア部53に対して第1及び第2のビルドアップ部51、52を加熱加圧して、コア部53と第1及び第2のビルドアップ部51、52を一体化する。一体化する際は、第2及び5の絶縁層67、81、第2の導電性ペースト69、第5の導電性ペースト82が未硬化の状態であるため、第2の導電性ペースト69が第1の層間接続部66の凹部66a、第5の導電性ペースト82が第4の層間接続部80の凹部80aに押し込まれて、硬化する。これにより、第2の層間接続部70及び第5の層間接続部83が形成され、第1の層間接続部66と第2の層間接続部70とが、第4の層間接続部80と第5の層間接続部83とが隙間なく強固に結合し、金属結合が形成され、層間接続強度が向上する。   And the 1st and 2nd buildup parts 51 and 52 are heat-pressed with respect to the core part 53 with predetermined | prescribed temperature and pressurization, and the core part 53 and the 1st and 2nd buildup parts 51 and 52 are made. Integrate. When integrated, the second and fifth insulating layers 67 and 81, the second conductive paste 69, and the fifth conductive paste 82 are in an uncured state. The recess 66a of the first interlayer connection 66 and the fifth conductive paste 82 are pushed into the recess 80a of the fourth interlayer connection 80 and hardened. Thus, the second interlayer connection 70 and the fifth interlayer connection 83 are formed, and the first interlayer connection 66 and the second interlayer connection 70 are connected to the fourth interlayer connection 80 and the fifth interlayer connection 70. The interlayer connection portion 83 is firmly bonded without a gap, a metal bond is formed, and the interlayer connection strength is improved.

次に、第1のビルドアップ部51の第3の絶縁層72上に第4の配線パターン73を形成し、第2のビルドアップ部52の第6の絶縁層85上に第8の配線パターン86を形成する。   Next, a fourth wiring pattern 73 is formed on the third insulating layer 72 of the first buildup portion 51, and an eighth wiring pattern is formed on the sixth insulating layer 85 of the second buildup portion 52. 86 is formed.

以上のような、フレックスリジッドプリント配線板40の製造方法では、第1及び第2のビルドアップ部51、52を上述した多層プリント配線板1のように、第1の層間接続部66の凹部66a及び第4の層間接続部80の凹部80aに、第2の導電性ペースト69及び第5の導電性ペースト82が押し込まれるため、第1の層間接続部66と第2の層間接続部70、第4の層間接続部80と第5の層間接続部83とを隙間なく強固に結合させ、金属結合させることができ、層間接続強度を向上させることができる。したがって、得られたフレックスリジッドプリント配線板40は、第1の配線パターン62乃至第10の配線パターン92の電気的接続の信頼性が向上する。   In the manufacturing method of the flex-rigid printed wiring board 40 as described above, the first and second buildup portions 51 and 52 are formed in the concave portions 66a of the first interlayer connection portion 66 as in the multilayer printed wiring board 1 described above. In addition, since the second conductive paste 69 and the fifth conductive paste 82 are pushed into the recess 80a of the fourth interlayer connection 80, the first interlayer connection 66, the second interlayer connection 70, the second The fourth interlayer connection portion 80 and the fifth interlayer connection portion 83 can be firmly bonded without a gap and can be metal-bonded, and the interlayer connection strength can be improved. Therefore, in the obtained flex-rigid printed wiring board 40, the reliability of electrical connection of the first wiring pattern 62 to the tenth wiring pattern 92 is improved.

また、このフレックスリジッドプリント配線板40の製造方法では、第1及び第2のビルドアップ部51、52と、コア部53とを別の工程で生産できるので、製造リードタイムを約半分ほどに短くすることができる。   In the manufacturing method of the flex-rigid printed wiring board 40, the first and second build-up parts 51 and 52 and the core part 53 can be produced in separate processes, so that the manufacturing lead time is shortened by about half. can do.

また、一般にフレックスリジッドプリント配線板をビルドアップ法により製造した場合には、1層毎にケーブル部分となるフレックス部43が位置する箇所に窓抜き加工をする必要があるが、上述したこのフレックスリジッドプリント配線板40の製造方法では、第1及び第2のビルドアップ部51、52の多層構造の各層を事前に組み合わせてあるので、一体化する際にコア部53の両面各1回の加工で済ますことができる。   In general, when a flex-rigid printed wiring board is manufactured by a build-up method, it is necessary to perform a window cutting process at a position where the flex portion 43 serving as a cable portion is located for each layer. In the method of manufacturing the printed wiring board 40, since the layers of the multilayer structure of the first and second buildup parts 51 and 52 are combined in advance, when the two parts of the core part 53 are integrated, each process is performed once. I can do it.

また、このフレックスリジッドプリント配線板40の製造方法は、ドライプロセスであるため、第1及び第2のビルドアップ部51、52の第2の絶縁層67及び第5の絶縁層81がBステージ状態であっても、問題無く、フレックスリジッドプリント配線板40を製造することができる。   Further, since the manufacturing method of the flex-rigid printed wiring board 40 is a dry process, the second insulating layer 67 and the fifth insulating layer 81 of the first and second buildup portions 51 and 52 are in the B stage state. Even so, the flex-rigid printed wiring board 40 can be manufactured without any problem.

1 多層プリント配線板、2 第1の絶縁層、3 第1の配線パターン、4 第2の配線パターン、5 第1のビアホール、6 第1の導電性ペースト、7 第1の層間接続部、7a 凹部、8 第2の絶縁層、9 第3の配線パターン、10 第2のビアホール、11 第2の導電性ペースト、12 第2の層間接続部   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Multilayer printed wiring board, 2 1st insulating layer, 1st wiring pattern, 4 2nd wiring pattern, 5 1st via hole, 6 1st conductive paste, 7 1st interlayer connection part, 7a Recess, 8 2nd insulating layer, 9 3rd wiring pattern, 10 2nd via hole, 11 2nd conductive paste, 12 2nd interlayer connection part

Claims (18)

第1の絶縁層に第1のビアホールを形成し、この第1のビアホールに導電材を充填し、硬化して第1の層間接続部を形成し、上記第1の絶縁層の両面に形成された第1及び第2の導電層間を上記第1の層間接続部で電気的に接続し、
一方の面に第3の導電層が形成された第2の絶縁層を他方の面を第1の絶縁層側にして、上記第1の絶縁層の上記第1の層間接続部が露出した面に積層し、
上記第2の絶縁層及び上記第3の導電層を貫通する第2のビアホールを上記第2の絶縁層の上記第1の層間接続部上に形成すると共に、上記第1の層間接続部の上記第2の絶縁層側の表面に凹部を形成し、
上記第2のビアホール内及び上記第1の層間接続部の上記凹部に導電性ペーストを充填し、
上記第2の絶縁層及び上記導電性ペーストを上記第1の絶縁層及び第1の層間接続部に対して加熱加圧し、上記第1の絶縁層と上記第2の絶縁層を一体化すると共に上記導電性ペーストを硬化させ、上記第1の層間接続部と共に上記第1乃至第3の導電層を電気的に接続する上記第2の層間接続部を形成することを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
A first via hole is formed in the first insulating layer, a conductive material is filled in the first via hole, and cured to form a first interlayer connection portion, which is formed on both surfaces of the first insulating layer. Electrically connecting the first and second conductive layers at the first interlayer connection,
The surface of the first insulating layer on which the first interlayer connection portion is exposed, with the second insulating layer having the third conductive layer formed on one surface and the other surface facing the first insulating layer. Laminated to
A second via hole penetrating the second insulating layer and the third conductive layer is formed on the first interlayer connection portion of the second insulating layer, and the first interlayer connection portion Forming a recess in the surface on the second insulating layer side;
Filling the concave portion of the second via hole and the first interlayer connection portion with a conductive paste,
The second insulating layer and the conductive paste are heated and pressurized with respect to the first insulating layer and the first interlayer connection portion to integrate the first insulating layer and the second insulating layer. A multilayer printed wiring board comprising: curing the conductive paste to form the second interlayer connection portion that electrically connects the first to third conductive layers together with the first interlayer connection portion. Manufacturing method.
上記第2の絶縁層は、加熱される前はBステージ状態であることを特徴とする請求項1記載の多層プリント配線板の製造方法。   2. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the second insulating layer is in a B-stage state before being heated. 上記導電性ペーストは、金属粒子として錫を含有している請求項1又は請求項2記載の多層プリント配線板の製造方法。 The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the conductive paste contains tin as metal particles. 上記第1の絶縁層はポリイミドであり、上記第2の絶縁層はガラスエポキシである請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method for producing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 3, wherein the first insulating layer is polyimide and the second insulating layer is glass epoxy. 第1の絶縁層の一方の面に形成された第1の導電層と他方の面に形成された第2の導電層とが、上記第1の絶縁層を貫通する第1のビアホール内に導電材が充填されて形成された第1の層間接続部によって電気的に接続され、
上記第1の絶縁層の上記第2の導電層が形成された面に積層された第2の絶縁層の上記第1の絶縁層とは反対側の面に第3の導電層が形成され、上記第1の層間接続部上に形成された第2のビアホール及び上記第1の層間接続部の上記第2の絶縁層側に形成された凹部に導電性ペーストが充填された第2の層間接続部が形成され、
上記第1及び第2の層間接続部によって、上記第1乃至第3の導電層が電気的に接続されていることを特徴とする多層プリント配線板。
A first conductive layer formed on one surface of the first insulating layer and a second conductive layer formed on the other surface are electrically connected in the first via hole penetrating the first insulating layer. Electrically connected by a first interlayer connection formed by filling the material,
A third conductive layer is formed on a surface of the first insulating layer opposite to the first insulating layer of the second insulating layer laminated on the surface on which the second conductive layer is formed; Second interlayer connection in which conductive paste is filled in a second via hole formed on the first interlayer connection and a recess formed on the second insulating layer side of the first interlayer connection Part is formed,
The multilayer printed wiring board, wherein the first to third conductive layers are electrically connected by the first and second interlayer connection portions.
上記導電性ペーストは、金属粒子として錫を含有している請求項5記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 5, wherein the conductive paste contains tin as metal particles. 上記第1の絶縁層はポリイミドであり、上記第2の絶縁層はガラスエポキシである請求項5又は請求項6記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 5 or 6, wherein the first insulating layer is polyimide, and the second insulating layer is glass epoxy. コア部上にビルドアップ部を積層した多層プリント配線板の製造方法において、
上記ビルドアップ部は、第1の絶縁層の一方の面に形成された第1の導電層と他方の面に形成された第2の導電層とを上記第1の絶縁層を貫通する第1のビアホール内に導電材を充填して形成した第1の層間接続部によって電気的に接続し、上記第1の絶縁層の上記第2の導電層が形成された面に積層された上記第2の絶縁層に、上記第1の層間接続部上に形成された第2のビアホール及び上記第1の層間接続部の上記第2の絶縁層側に形成された凹部に導電性ペーストが充填された第2の層間接続部が第2の絶縁層から露出して形成され、
上記コア部は、コア部の最表面に第3の導電層が形成され、
上記第3の導電層と上記第2の層間接続部が対向するように、上記コア部の最表面に上記ビルドアップ部を積層し、上記ビルドアップ部を上記コア部に対して加熱加圧して一体化し、上記第1及び第2の層間接続部によって、第1乃至第3の導電層を電気的に接続する多層プリント配線板の製造方法。
In the manufacturing method of the multilayer printed wiring board in which the build-up part is laminated on the core part,
The build-up unit includes a first conductive layer formed on one surface of the first insulating layer and a second conductive layer formed on the other surface that penetrates the first insulating layer. Electrically connected by a first interlayer connection portion formed by filling a conductive material in the via hole of the first via layer, and the second insulating layer laminated on the surface on which the second conductive layer is formed. The conductive layer is filled with the second via hole formed on the first interlayer connection and the recess formed on the second insulation layer side of the first interlayer connection. A second interlayer connection is formed exposed from the second insulating layer;
The core part has a third conductive layer formed on the outermost surface of the core part,
The build-up part is laminated on the outermost surface of the core part so that the third conductive layer and the second interlayer connection part face each other, and the build-up part is heated and pressed against the core part. A method for producing a multilayer printed wiring board, which is integrated and electrically connects the first to third conductive layers by the first and second interlayer connection portions.
上記ビルドアップ部は、上記第1の絶縁層に上記第1のビアホールを形成し、この第1のビアホールに上記導電材を充填し、硬化して上記第1の層間接続部を形成し、上記第1の絶縁層の両面に設けた上記第1及び第2の導電層間を上記第1の層間接続部で電気的に接続し、
上記第2の絶縁層を上記第1の絶縁層の上記第1の層間接続部が露出した面に積層し、
上記第2の絶縁層を貫通する上記第2のビアホールを上記第1の層間接続部上に形成すると共に、上記第1の層間接続部の上記第2の絶縁層側の表面に凹部を形成し、
上記第2のビアホール内及び上記第1の層間接続部の上記凹部に導電性ペーストを充填して形成することを特徴とする請求項8記載の多層プリント配線板の製造方法。
The build-up portion forms the first via hole in the first insulating layer, fills the first via hole with the conductive material, and cures to form the first interlayer connection portion. Electrically connecting the first and second conductive layers provided on both sides of the first insulating layer at the first interlayer connection;
Laminating the second insulating layer on the surface of the first insulating layer where the first interlayer connection is exposed;
The second via hole penetrating the second insulating layer is formed on the first interlayer connection portion, and a recess is formed on the surface of the first interlayer connection portion on the second insulating layer side. ,
9. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 8, wherein a conductive paste is filled in the second via hole and in the concave portion of the first interlayer connection portion.
上記導電性ペーストは、金属粒子として錫を含有している請求項8又は請求項9記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 8 or 9, wherein the conductive paste contains tin as metal particles. 上記ビルドアップ部は、上記コア部の一部に積層されていることを特徴とする請求項8乃至請求項10のいずれか1項記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 8 to 10, wherein the build-up part is laminated on a part of the core part. 上記コア部は、一方の面に複数の上記ビルドアップ部が積層されるとともに、上記ビルドアップ部が積層されていないフレキシブル部が上記ビルドアップ部間に設けられていることを特徴とする請求項8乃至請求項12のいずれか1項記載の多層プリント配線板の製造方法。   The core portion includes a plurality of build-up portions stacked on one surface, and a flexible portion where the build-up portions are not stacked is provided between the build-up portions. The manufacturing method of the multilayer printed wiring board of any one of Claim 8 thru | or 12. 上記ビルドアップ部は、上記コア部の両面に積層されていることを特徴とする請求項8乃至請求項12のうちいずれか1項記載の多層プリント配線板の製造方法。   The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to any one of claims 8 to 12, wherein the build-up part is laminated on both surfaces of the core part. コア部上にビルドアップ部を積層した多層プリント配線板において、
上記ビルドアップ部は、第1の絶縁層の一方の面に形成された第1の導電層と他方の面に形成された第2の導電層とが、上記第1の絶縁層を貫通する第1のビアホール内に導電材が充填されて形成された第1の層間接続部によって電気的に接続され、上記第1の絶縁層の上記第2の導電層が形成された面に積層された上記第2の絶縁層に、上記第1の層間接続部上に形成された第2のビアホール及び上記第1の層間接続部の上記第2の絶縁層側に形成された凹部に導電性ペーストが充填された第2の層間接続部が形成され、
上記コア部は、最表面に第3の導電層が形成され、
上記第3の導電層と上記導電性ペーストが対向するように、上記コア部の最表面に上記ビルドアップ部が積層、一体化され、上記第1及び第2の層間接続部によって、第1乃至第3の導電層が電気的に接続されていることを特徴とする多層プリント配線板。
In the multilayer printed wiring board in which the build-up part is laminated on the core part,
The build-up unit includes a first conductive layer formed on one surface of the first insulating layer and a second conductive layer formed on the other surface through the first insulating layer. The first interlayer connection portion formed by filling a conductive material in one via hole and electrically connected, and laminated on the surface of the first insulating layer on which the second conductive layer is formed The second insulating layer is filled with the conductive paste in the second via hole formed on the first interlayer connection and the recess formed on the second insulating layer side of the first interlayer connection. A second interlayer connection is formed,
The core portion has a third conductive layer formed on the outermost surface,
The build-up part is laminated and integrated on the outermost surface of the core part so that the third conductive layer and the conductive paste face each other, and the first to second interlayer connection parts make the first to A multilayer printed wiring board, wherein the third conductive layer is electrically connected.
上記導電性ペーストは、金属粒子として錫を含有している請求項14記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 14, wherein the conductive paste contains tin as metal particles. 上記ビルドアップ部は、上記コア部の一部に積層されていることを特徴とする請求項14又は請求項15記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to claim 14 or 15, wherein the build-up part is laminated on a part of the core part. 上記コア部は、一方の面に複数の上記ビルドアップ部が積層されるとともに、上記ビルドアップ部が積層されていないフレキシブル部が上記ビルドアップ部間に設けられていることを特徴とする請求項14乃至請求項16のいずれか1項記載の多層プリント配線板。   The core portion includes a plurality of build-up portions stacked on one surface, and a flexible portion where the build-up portions are not stacked is provided between the build-up portions. The multilayer printed wiring board according to any one of claims 14 to 16. 上記ビルドアップは、上記コア部の両面に積層されていることを特徴とする請求項14乃至請求項17のうちいずれか1項記載の多層プリント配線板。   The multilayer printed wiring board according to any one of claims 14 to 17, wherein the build-up is laminated on both surfaces of the core portion.
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