JP2012068297A - 回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体および該レジスト防液構造体を備える回転傾斜露光装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】回転傾斜露光装置において、液体槽に溜められた液体にレジストが浸されることなく、液体を介してレジストに露光光を照射することができるようにすること。
【解決手段】光出射部１００からの光が液体槽４０を通過して、液体中に浸されたレジスト防液構造体１０の開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに照射される。レジスト防液構造体１０は、防液部材３０、回転モータ２２等から構成され、防液部材３０内に液体が浸入しないように、マスクＭの透明基板が防液部材３０の開口３１ａを覆い開口３１ａを密封する。回転モータ２２が回転すると、ステージ部２１は防液部材３０と共に回転し、ステージ２１上に載置されたマスクＭとレジストＲからなる被照射物Ｗが回転する。マスクＭが開口３１ａを密封しているので、液体中にレジストＲを浸すことなく大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。
【選択図】 図１
【解決手段】光出射部１００からの光が液体槽４０を通過して、液体中に浸されたレジスト防液構造体１０の開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに照射される。レジスト防液構造体１０は、防液部材３０、回転モータ２２等から構成され、防液部材３０内に液体が浸入しないように、マスクＭの透明基板が防液部材３０の開口３１ａを覆い開口３１ａを密封する。回転モータ２２が回転すると、ステージ部２１は防液部材３０と共に回転し、ステージ２１上に載置されたマスクＭとレジストＲからなる被照射物Ｗが回転する。マスクＭが開口３１ａを密封しているので、液体中にレジストＲを浸すことなく大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。
【選択図】 図１
Description
本発明は、マスク及び該マスクに密着したレジストから構成される被照射物を、液体中に浸して回転させながらマスク側から露光光を照射して露光する回転傾斜露光装置に適用される構造体であって、上記レジストが濡れないように防液するための構造体（以下、回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体という）及び該レジスト防液構造体を備えた回転傾斜露光装置に関する。
フォトリソグラフィ技術は、微細なパターンを形成する技術としてＬＳＩ（大規模集積回路）を中心として、電気回路、半導体素子のほか、ディスプレイなどの様々な用途に使用されている。特に、最近では、ナノテクノロジ技術の進歩に伴い、半導体集積回路作製技術を応用することにより、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ）への応用が広がっている。ＭＥＭＳとは、機械要素部品、センサー、アクチュエータ、電子回路を一つのシリコン基板、ガラス基板、有機材料等の上に集積したデバイスをいう。
このようなフォトリソグラフィ技術の広がりに伴い、照射パターンや光の質など、露光装置に要求される性能も多様化している。例えば、ある種のフォトリソグラフィでは、露光現像後のパターンが、深さ方向において形状が変化するように求められることがある。一例として、図１７に示すように、円錐形状や四角錐形状の斜面を有する３次元構造の露光パターンを作製することが望まれている。このようにして形成した露光パターンは、インクジェットのノズル形状や、マイクロ流体システムのチップに形成される微細な流路、導光板の作成用のインプリント用モールドの母型などに使用される。
このようなフォトリソグラフィ技術の広がりに伴い、照射パターンや光の質など、露光装置に要求される性能も多様化している。例えば、ある種のフォトリソグラフィでは、露光現像後のパターンが、深さ方向において形状が変化するように求められることがある。一例として、図１７に示すように、円錐形状や四角錐形状の斜面を有する３次元構造の露光パターンを作製することが望まれている。このようにして形成した露光パターンは、インクジェットのノズル形状や、マイクロ流体システムのチップに形成される微細な流路、導光板の作成用のインプリント用モールドの母型などに使用される。
ここで、例えば、フォトリソグラフィ技術をＭＥＭＳに応用する場合は、露光パターンの深さ方向において傾斜角を変化させることが望まれ、具体的には、傾斜角を緩やかに形成することが望まれることがある。特許文献１には、レジストに入射する露光光の入射角を大きくすることにより、レジストに形成される露光パターンの傾斜角を緩やかにすることに適した、傾斜露光可能な液浸露光装置が開示されている。
図１８に液浸露光装置の一例を示す。
液浸露光装置１３０は、光源及び光学系１３１を備えている。レジストＲが塗布されたマスクＭは、レジストＲがステージ１３２に接するようにして、ステージ１３２により密着固定されている。マスクＭは、ステージ１３２と共に液体タンクである液浸用の液体容器１３４の中に設置されている。液体容器１３４には純水１３５が溜められている。ステージ１３２のマスクＭの固定された反対面は、ステージ１３２の面に垂直に回転軸１３３が取付けられ、この回転軸１３３を中心にステージ１３２全体が回転する構成である。ステージ１３２と回転軸１３３とは、露光光Ｌに対して全体が揺動する機構となっており、この機構により露光光Ｌを被照射物Ｗに対して斜めに照射することが可能になっている。また、回転軸１３３は、液体容器１３４を貫通しており、独立して回転することが出きるようになっている。
このような液浸露光装置１３０において、傾斜露光を行う場合は、不図示の揺動機構によってステージ１３２を露光光Ｌに対して傾斜させ、回転軸１３３によりステージ１３２および被照射物Ｗを回転させながら露光を行う。
図１８に液浸露光装置の一例を示す。
液浸露光装置１３０は、光源及び光学系１３１を備えている。レジストＲが塗布されたマスクＭは、レジストＲがステージ１３２に接するようにして、ステージ１３２により密着固定されている。マスクＭは、ステージ１３２と共に液体タンクである液浸用の液体容器１３４の中に設置されている。液体容器１３４には純水１３５が溜められている。ステージ１３２のマスクＭの固定された反対面は、ステージ１３２の面に垂直に回転軸１３３が取付けられ、この回転軸１３３を中心にステージ１３２全体が回転する構成である。ステージ１３２と回転軸１３３とは、露光光Ｌに対して全体が揺動する機構となっており、この機構により露光光Ｌを被照射物Ｗに対して斜めに照射することが可能になっている。また、回転軸１３３は、液体容器１３４を貫通しており、独立して回転することが出きるようになっている。
このような液浸露光装置１３０において、傾斜露光を行う場合は、不図示の揺動機構によってステージ１３２を露光光Ｌに対して傾斜させ、回転軸１３３によりステージ１３２および被照射物Ｗを回転させながら露光を行う。
通常の露光装置では、マスクＭの周辺は空気と接していることから、屈折によりマスクに塗布されたレジスト（屈折率１．６）に入射する露光光の入射角は約３８度が上限である。これに対し、上記の液浸露光装置では、純水の屈折率（約１．３）が空気（１）よりも大きいことから、マスクＭに塗布されたレジストＲ（屈折率１．６）に入射する露光光の入射角が３８度よりも大きくなる。そのため、液浸露光装置では、レジストＲに形成されるパターンの深さ方向における傾斜角が緩やかになるので、図１７に示す円錐形状などの斜面を緩やかに形成することができる。
しかしながら、上記の液浸露光装置では、レジストが液体に浸かっているため、次のような問題が発生する。
（１）液体とレジストの組合せによっては、レジストが溶解、膨潤したり、レジストがマスクから剥離することがあり、３次元構造の露光パターンの造形に悪影響を与える。
（２）例えば、アルコールやアセトン等は屈折率が大きい液体であるが、これらはレジストを溶かすおそれがあるので使用することができない。
本発明は上記従来技術の問題点を解決するものであって、本発明の目的は、液体槽に溜められた液体にレジストが浸されることなく、液体を介してレジストに露光光を照射することができる回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体及びこのレジスト防液構造体を用いた回転傾斜露光装置を提供することである。
（１）液体とレジストの組合せによっては、レジストが溶解、膨潤したり、レジストがマスクから剥離することがあり、３次元構造の露光パターンの造形に悪影響を与える。
（２）例えば、アルコールやアセトン等は屈折率が大きい液体であるが、これらはレジストを溶かすおそれがあるので使用することができない。
本発明は上記従来技術の問題点を解決するものであって、本発明の目的は、液体槽に溜められた液体にレジストが浸されることなく、液体を介してレジストに露光光を照射することができる回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体及びこのレジスト防液構造体を用いた回転傾斜露光装置を提供することである。
上記課題を解決するため、本発明においては、防液部材内にレジストを収容し、該レジストに密着したマスクを上記防液部材に設けた開口に取り付け、該開口から防液部材内に液体が浸入しないように密封した。
上記防液部材は、液体槽に溜められた液体に浸され、露光光が液体槽内の液体を介して上記防液部材の上記開口から入射し、マスクを介して防液部材内のレジストに照射される。このように回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体を構成することで、レジストが液体に浸されることがない。
すなわち、本発明のレジスト防液構造体は、内部にレジストが収納され、開口にマスクが取り付けられた上記防液部材と、回転機構とから構成され、露光光は、上記開口およびマスクを介してレジストに照射され、このレジストおよびマスクは上記回転機構により回転する。
上記防液部材は、上記レジストを収納する本体部から構成されるが、本体部としては、マスクが取り付けられる開口を有する筒状体、あるいはマスクが取り付けられる開口を有する可撓性部材で構成することができる。要は、本体部の内部においてレジストを濡れないように収納する空間が形成されていれば良い。
また、上記レジスト防液構造体を角度可変アームを有する角度調整機構に取り付けることにより、液体槽中のレジスト防液構造体の姿勢（角度）を変えることができる。
以上のように本発明においては、以下のようにして前記課題を解決する。
（１）透明基板上に遮光部のパターンが形成されてなるマスク及び該マスクに密着したレジストから構成される被照射物を、露光光の入射方向に対して傾斜して配置し、該被照射物をマスク面に対して垂直方向を軸として回転させながら、該被照射物のマスク側から露光光を照射して露光する回転傾斜露光装置に適用され、露光光を透過させる液体中に浸されて使用される回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体を、内部に前記レジストが収納される防液部材と、上記被照射物を回転させる回転機構とから構成する。前記防液部材は前記露光光が入射する開口を有し、該開口に前記マスクの透明基板が取り付けられ、前記レジストが液体に濡れないように前記透明基板により前記開口が密封される。
（２）上記（１）において、前記防液部材を前記開口を有する筒状の本体部から構成する。（３）上記（１）において、前記防液部材を、前記開口を有する可撓性部材で形成された本体部から構成し、該開口が設けられていない側を、前記防液部材内に液体が浸入しないように形成する。
（４）前記（１）（２）（３）の回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体を、露光光を透過する液体が溜められ、前記露光光がその壁面もしくは底面を通じて入射する液体槽の液体中に浸し、前記露光光がマスク面に斜め方向から入射するように配置して回転傾斜露光装置を構成する。
上記防液部材は、液体槽に溜められた液体に浸され、露光光が液体槽内の液体を介して上記防液部材の上記開口から入射し、マスクを介して防液部材内のレジストに照射される。このように回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体を構成することで、レジストが液体に浸されることがない。
すなわち、本発明のレジスト防液構造体は、内部にレジストが収納され、開口にマスクが取り付けられた上記防液部材と、回転機構とから構成され、露光光は、上記開口およびマスクを介してレジストに照射され、このレジストおよびマスクは上記回転機構により回転する。
上記防液部材は、上記レジストを収納する本体部から構成されるが、本体部としては、マスクが取り付けられる開口を有する筒状体、あるいはマスクが取り付けられる開口を有する可撓性部材で構成することができる。要は、本体部の内部においてレジストを濡れないように収納する空間が形成されていれば良い。
また、上記レジスト防液構造体を角度可変アームを有する角度調整機構に取り付けることにより、液体槽中のレジスト防液構造体の姿勢（角度）を変えることができる。
以上のように本発明においては、以下のようにして前記課題を解決する。
（１）透明基板上に遮光部のパターンが形成されてなるマスク及び該マスクに密着したレジストから構成される被照射物を、露光光の入射方向に対して傾斜して配置し、該被照射物をマスク面に対して垂直方向を軸として回転させながら、該被照射物のマスク側から露光光を照射して露光する回転傾斜露光装置に適用され、露光光を透過させる液体中に浸されて使用される回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体を、内部に前記レジストが収納される防液部材と、上記被照射物を回転させる回転機構とから構成する。前記防液部材は前記露光光が入射する開口を有し、該開口に前記マスクの透明基板が取り付けられ、前記レジストが液体に濡れないように前記透明基板により前記開口が密封される。
（２）上記（１）において、前記防液部材を前記開口を有する筒状の本体部から構成する。（３）上記（１）において、前記防液部材を、前記開口を有する可撓性部材で形成された本体部から構成し、該開口が設けられていない側を、前記防液部材内に液体が浸入しないように形成する。
（４）前記（１）（２）（３）の回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体を、露光光を透過する液体が溜められ、前記露光光がその壁面もしくは底面を通じて入射する液体槽の液体中に浸し、前記露光光がマスク面に斜め方向から入射するように配置して回転傾斜露光装置を構成する。
本発明のレジスト防液構造体は、内部に前記レジストが収納される防液部材を備えており、防液部材は前記露光光が入射する開口を有し、該開口に前記マスクの透明基板が取り付けられ、該透明基板により上記開口は防液部材内に液体が浸入しないように密封され、この防液部材が液体槽に溜められた液体に浸されている。
したがって、本発明によれば、レジストに入射する光の入射角を大きくしレジストに緩やかな斜面を形成することができる、といった従来の液浸露光装置の効果に加えて、レジストが液体に浸されることがないため、以下の効果を得ることができる。
（１）レジストが溶解、膨潤したり、また、レジストがマスクから剥離することが防止され、３次元構造の露光パターンを精度良く造形することができる。
（２）使用可能な液体の選択肢が広げることができる。例えば、アルコールやアセトン等のように屈折率は高いが、レジストを溶かすような液体であっても、使用することができる。
（３）レジスト防液構造体は液体槽等とは独立した構造体であり、液体外で被照射物の取り付け等を行い、液体中に浸すことができ、取り扱いが容易である。また、任意の形状の液体槽に適用することが可能である。
（４）レジスト防液構造体を、角度調整機構に取り付けることにより、レジスト防液構造体の液体槽中における姿勢（角度）を任意に設定することができる。このため、液体槽に入射する露光光の方向に合わせて、レジスト防液構造体の姿勢（角度）を調整することができる。
したがって、本発明によれば、レジストに入射する光の入射角を大きくしレジストに緩やかな斜面を形成することができる、といった従来の液浸露光装置の効果に加えて、レジストが液体に浸されることがないため、以下の効果を得ることができる。
（１）レジストが溶解、膨潤したり、また、レジストがマスクから剥離することが防止され、３次元構造の露光パターンを精度良く造形することができる。
（２）使用可能な液体の選択肢が広げることができる。例えば、アルコールやアセトン等のように屈折率は高いが、レジストを溶かすような液体であっても、使用することができる。
（３）レジスト防液構造体は液体槽等とは独立した構造体であり、液体外で被照射物の取り付け等を行い、液体中に浸すことができ、取り扱いが容易である。また、任意の形状の液体槽に適用することが可能である。
（４）レジスト防液構造体を、角度調整機構に取り付けることにより、レジスト防液構造体の液体槽中における姿勢（角度）を任意に設定することができる。このため、液体槽に入射する露光光の方向に合わせて、レジスト防液構造体の姿勢（角度）を調整することができる。
図１は、本発明の第１の実施例の回転傾斜露光装置の構成を示す図であり、装置全体の断面図を示す。同図に示すように、本発明の回転傾斜露光装置は、光出射部１００、光出射部１００からの光が通過する液体槽４０、液体槽４０に溜められた液体４２に浸されたレジスト防液構造体１０を備える。レジスト防液構造体１０は、防液部材３０、レジストＲが接するステージ２１などを有する動力部２０から構成される。
光出射部１００は、光源としてのショートアーク型のランプ１、楕円集光鏡２、第１の平面鏡３、インテグレータレンズ４、シャッタ５、第２の平面鏡６、コリメータレンズ７などを備える。
ランプ１は露光光（紫外線）を含む光を出射する。ランプ１から出射した露光光Ｌは、楕円集光鏡２により反射されて集光され、第１の平面鏡３を介してインテグレータレンズ４に入射する。インテグレータレンズ４から出射した光は、シャッタ５、第２の平面鏡６を介してコリメータレンズ７に入射し、コリメータレンズ７によって平行光となって光出射部１００から出射する。
光出射部１００は、光源としてのショートアーク型のランプ１、楕円集光鏡２、第１の平面鏡３、インテグレータレンズ４、シャッタ５、第２の平面鏡６、コリメータレンズ７などを備える。
ランプ１は露光光（紫外線）を含む光を出射する。ランプ１から出射した露光光Ｌは、楕円集光鏡２により反射されて集光され、第１の平面鏡３を介してインテグレータレンズ４に入射する。インテグレータレンズ４から出射した光は、シャッタ５、第２の平面鏡６を介してコリメータレンズ７に入射し、コリメータレンズ７によって平行光となって光出射部１００から出射する。
液体槽４０は、底面（下面）に、露光光（紫外線）を透過する平面状の紫外線透過性ガラスなる窓部４１が設けられる。光出射部１００からの光は、この液体槽４０の下面の窓部４１から入射する。液体槽４０には、空気の屈折率よりも大きい屈折率を持つ液体４２が溜められる。液体４２は、例えば、純水（屈折率約１．３）、グリセリン（Ｃ３Ｈ５（ＯＨ）３）（屈折率１．４７）、液浸顕微鏡に用いられるアニソール（ＣＨ３ＯＣ６Ｈ５）（屈折率１．５）が使用される。液体４２は、窓部４１およびマスクＭの、液体側のそれぞれの面に気泡が残留しないように液体槽４０に溜められる。
レジスト防液構造体１０を構成する防液部材３０は、その長手方向が光出射部１００からの露光光に対して傾斜した状態で、液体４２に浸されている。
防液部材３０の底板には露光光（紫外線）が入射する開口が設けられ、この開口には、上記防液部材３０内のレジストＲが配置された部分に液体が浸入しないように、被照射物ＷのマスクＭが密着して取り付けられる。また、防液部材３０の開口と反対側の端部は液体４２の液面４２Ａから伸び出している。
本実施例では、この防液部材３０の内部に、ステージ２１と、ステージ２１に接するレジストＲとが収容されており、ステージ２１及びレジストＲが液体４２に濡れないようになっている。
レジスト防液構造体１０を構成する防液部材３０は、その長手方向が光出射部１００からの露光光に対して傾斜した状態で、液体４２に浸されている。
防液部材３０の底板には露光光（紫外線）が入射する開口が設けられ、この開口には、上記防液部材３０内のレジストＲが配置された部分に液体が浸入しないように、被照射物ＷのマスクＭが密着して取り付けられる。また、防液部材３０の開口と反対側の端部は液体４２の液面４２Ａから伸び出している。
本実施例では、この防液部材３０の内部に、ステージ２１と、ステージ２１に接するレジストＲとが収容されており、ステージ２１及びレジストＲが液体４２に濡れないようになっている。
図２は液体槽に浸されたレジスト防液構造体１０の構造を示す部分拡大断面図である。図３は被照射物の構造、及び被照射物と防液部材の本体部との連結方法を示す図である。
図２に示すように、レジスト防液構造体１０は、防液部材３０を有し、防液部材３０は、円筒形状を有する本体部３１を有する。その本体部３１の一端側の底板３２に設けられた開口３１ａには、透明基板Ｋに遮光部ＳＨが設けられたマスクＭと、レジストＲからなる被照射物Ｗが取り付けられる。被照射物Ｗは、支柱２３ａに取り付けられたステージ２１に取り付けられており、マスクＭの透明基板Ｋ側が、上記開口３１ａに対向するように本体部３１に取り付けられ、ネジ３３により固定される。上記支柱２３ａを設けることにより、ステージ２１を上下方向からしっかり固定することができる。
図３（ａ）に示すように、被照射物Ｗは、例えばガラス材料で構成される透明基板Ｋ上に、例えばクロムからなる遮光部ＳＨのパターンが形成されてなるマスクＭと、該マスクＭの遮光部ＳＨ上に形成されたレジストＲとで構成される。
マスクＭの透明基板Ｋは、図３（ｂ−１）に示すように、防液部材３０の露光光が入射する開口３１ａに取り付けられ、透明基板ＫはレジストＲが液体４２に濡れないようにするための防液壁としての機能を果たす。
本体部３１は械的強度に優れる金属等で作製される。上記露光光が入射する開口３１ａに取り付けられる透明基板Ｋは、紫外波長域の露光光を透過する紫外線透過性のガラスによって作製される。尚、本体部３１がガラスによって作製されていても良い。
図２に示すように、レジスト防液構造体１０は、防液部材３０を有し、防液部材３０は、円筒形状を有する本体部３１を有する。その本体部３１の一端側の底板３２に設けられた開口３１ａには、透明基板Ｋに遮光部ＳＨが設けられたマスクＭと、レジストＲからなる被照射物Ｗが取り付けられる。被照射物Ｗは、支柱２３ａに取り付けられたステージ２１に取り付けられており、マスクＭの透明基板Ｋ側が、上記開口３１ａに対向するように本体部３１に取り付けられ、ネジ３３により固定される。上記支柱２３ａを設けることにより、ステージ２１を上下方向からしっかり固定することができる。
図３（ａ）に示すように、被照射物Ｗは、例えばガラス材料で構成される透明基板Ｋ上に、例えばクロムからなる遮光部ＳＨのパターンが形成されてなるマスクＭと、該マスクＭの遮光部ＳＨ上に形成されたレジストＲとで構成される。
マスクＭの透明基板Ｋは、図３（ｂ−１）に示すように、防液部材３０の露光光が入射する開口３１ａに取り付けられ、透明基板ＫはレジストＲが液体４２に濡れないようにするための防液壁としての機能を果たす。
本体部３１は械的強度に優れる金属等で作製される。上記露光光が入射する開口３１ａに取り付けられる透明基板Ｋは、紫外波長域の露光光を透過する紫外線透過性のガラスによって作製される。尚、本体部３１がガラスによって作製されていても良い。
図３（ｂ−１）に示すようにマスクＭの透明基板Ｋは、板状であり、該透明基板Ｋの縦横のサイズは、円筒状の本体部３１の底板３２に設けられた四角形状の開口３１ａの縦横のサイズ（径）よりもやや大きめに形成されている。かかる透明基板Ｋは、本体部３１の開口３１ａを塞ぐように、本体部３１の内部において、開口３１ａの開口端に沿って配置される。
図３（ｂ−２）（ｂ−３）に示すように、被照射物Ｗは、レジストＲが液体に濡れることがないように、マスクＭの透明基板Ｋが本体部３１の開口３１ａの開口端に当接し、透明基板ＫのレジストＲと反対側の面のみが本体部３１外に露出するように配置される。
被照射物Ｗは、ステージ２１と本体部３１との間に挟まれるようにして配置され、本体部３１の底板３２に設けたネジ穴３１ｂと、ステージ２１に設けたネジ穴２１ａのそれぞれを貫通するように挿入されたネジ３３によって、ステージ２１と本体部３１にネジ止めされて固定される。
図３（ｂ−２）（ｂ−３）に示すように、被照射物Ｗは、レジストＲが液体に濡れることがないように、マスクＭの透明基板Ｋが本体部３１の開口３１ａの開口端に当接し、透明基板ＫのレジストＲと反対側の面のみが本体部３１外に露出するように配置される。
被照射物Ｗは、ステージ２１と本体部３１との間に挟まれるようにして配置され、本体部３１の底板３２に設けたネジ穴３１ｂと、ステージ２１に設けたネジ穴２１ａのそれぞれを貫通するように挿入されたネジ３３によって、ステージ２１と本体部３１にネジ止めされて固定される。
さらに、被照射物Ｗの固定を行うにあたり、本体部３１の底板３２とマスクＭの透明基板Ｋとの間には、ゴムなどの樹脂製の枠状（リング状）の弾性材Ｄが挟持され、弾性材Ｄと防液部材３０の底板３２間は接着剤などで固定される。このように弾性材Ｄを配置することによって、本体部３１と透明基板Ｋとの間が気密に封止され、本体部３１内の密閉空間Ｓ（図２に示す）に液体が侵入することが防止される。
弾性材Ｄの内周面には、図３（ｂ−２）に示すように、マスクＭ面と弾性材Ｄの内周面とが成す角が鈍角となるような傾斜面（泡逃がし用面取り）が形成されている。すなわち、弾性材Ｄの開口の内周面には、弾性材ＤのマスクＭに接する面側の開口径より、底板３２に接する面側の開口径が大きくなるように傾斜面が形成されている。このように、弾性材Ｄの内周面に傾斜面を設けることにより、弾性材Ｄの周辺に液体の泡が溜まりにくくなり、入射光の入射角が変化するといった不具合が生じない。
なお、マスクＭと弾性材Ｄの間を固定せずに、押し付けて気密を保つようにすることで、マスクＭを防液部材３０から着脱可能にすることができる。
弾性材Ｄの内周面には、図３（ｂ−２）に示すように、マスクＭ面と弾性材Ｄの内周面とが成す角が鈍角となるような傾斜面（泡逃がし用面取り）が形成されている。すなわち、弾性材Ｄの開口の内周面には、弾性材ＤのマスクＭに接する面側の開口径より、底板３２に接する面側の開口径が大きくなるように傾斜面が形成されている。このように、弾性材Ｄの内周面に傾斜面を設けることにより、弾性材Ｄの周辺に液体の泡が溜まりにくくなり、入射光の入射角が変化するといった不具合が生じない。
なお、マスクＭと弾性材Ｄの間を固定せずに、押し付けて気密を保つようにすることで、マスクＭを防液部材３０から着脱可能にすることができる。
図２に示すように、本体部３１の開口３１ａと反対側の開口には円柱形状を有するホルダ部２６が取付けられている。ホルダ部２６は本体部３１よりも径が大きい。本体部３１、マスクＭの透明基板Ｋ、及びホルダ部２６によって密閉空間Ｓが形成され、該密閉空間Ｓの内部に、被照射物ＷにおけるレジストＲと、ステージ２１とが密封されている。
ステージ２１のホルダ２６側の端面の中心と、ホルダ部２６のステージ２１側の端面の中心とに亘って支柱２３ａが接続され、ステージ２１の回転中心は回転モータ２２の回転軸に連結した回転軸２３ｂ一致するように配置されている。
すなわち、図２に示すレジスト防液構造体１０は、ホルダ部２６を介して、本体部３１と本体部３１内に収容されたステージ部２１とに回転モータ２２からの動力が伝達される。つまり、回転モータ２２から回転軸２３ｂに動力が伝達されることにより、ホルダ部２６を介して、ステージ部２１は本体部３１と共に回転する。これにより、ステージ２１上に載置された被照射物Ｗが回転する。
ステージ２１のホルダ２６側の端面の中心と、ホルダ部２６のステージ２１側の端面の中心とに亘って支柱２３ａが接続され、ステージ２１の回転中心は回転モータ２２の回転軸に連結した回転軸２３ｂ一致するように配置されている。
すなわち、図２に示すレジスト防液構造体１０は、ホルダ部２６を介して、本体部３１と本体部３１内に収容されたステージ部２１とに回転モータ２２からの動力が伝達される。つまり、回転モータ２２から回転軸２３ｂに動力が伝達されることにより、ホルダ部２６を介して、ステージ部２１は本体部３１と共に回転する。これにより、ステージ２１上に載置された被照射物Ｗが回転する。
図１に示すように、動力部２０の回転モータ２２には、角度調整機構２２０が接続されている。角度調整機構２２０は、回転モータ２２を把持する把持部２２１と、支柱２２３と、把持部２２１および支柱２２３とを連結する角度可変アーム２２２とで構成されている。把持部２２１の中心軸はステージ２１の回転軸２３ａに一致する。
角度可変アーム２２２は、把持部２２１と支柱２２３との間の角度を自在に調整すると共に、両者をロックすることおよびロック解除することができる。つまり、被照射物Ｗの法線Ｈと露光光Ｌの光軸ＬＡとの角度θは、角度可変アーム２２２によって把持部２２１と支柱２２３との間の角度を調整すれば、自在に調整することができる。
角度可変アーム２２２は、把持部２２１と支柱２２３との間の角度を自在に調整すると共に、両者をロックすることおよびロック解除することができる。つまり、被照射物Ｗの法線Ｈと露光光Ｌの光軸ＬＡとの角度θは、角度可変アーム２２２によって把持部２２１と支柱２２３との間の角度を調整すれば、自在に調整することができる。
ここで、図１に示す回転傾斜露光装置を用いた露光の手順を説明する。
被照射物Ｗの法線Ｈと露光光Ｌの光軸ＬＡとの角度θは、液体槽４０に溜められた液体４２及びレジストＲのそれぞれの屈折率に基く計算や実験などにより、あらかじめ求められ設定されている。
角度可変アーム２２２のロックを解除することにより、把持部２２１と支柱２２３との間の角度を調整し、被照射物Ｗの法線Ｈと露光光Ｌの光軸ＬＡとの角度θを所定の角度にすると共に、角度可変アーム２２２をロックする。
図２に示すように、マスクＭの遮光部ＳＨ上にレジストＲを密着させた被照射物Ｗを、本体部３１の底板３２に設けた開口３１ａを塞ぐように、該開口３１ａの開口端に沿って置く。このとき、透明基板ＫのレジストＲと反対側の面のみが本体部３１外に露出するように留意する。
次に、液体槽４０に空気の屈折率よりも高い屈折率を持つ液体４２を満たす。レジストＲ及びステージ２１を収容した防液部材３０を液体槽４０に沈め、被照射物Ｗを液面４２Ａよりも下方側に位置させる。このとき、被照射物Ｗの法線Ｈが光出射部１００からの露光光Ｌの光軸ＬＡに対して傾斜するように、防液部材３０を液面４２Ａに対して傾斜させる。
被照射物Ｗの法線Ｈと露光光Ｌの光軸ＬＡとの角度θは、液体槽４０に溜められた液体４２及びレジストＲのそれぞれの屈折率に基く計算や実験などにより、あらかじめ求められ設定されている。
角度可変アーム２２２のロックを解除することにより、把持部２２１と支柱２２３との間の角度を調整し、被照射物Ｗの法線Ｈと露光光Ｌの光軸ＬＡとの角度θを所定の角度にすると共に、角度可変アーム２２２をロックする。
図２に示すように、マスクＭの遮光部ＳＨ上にレジストＲを密着させた被照射物Ｗを、本体部３１の底板３２に設けた開口３１ａを塞ぐように、該開口３１ａの開口端に沿って置く。このとき、透明基板ＫのレジストＲと反対側の面のみが本体部３１外に露出するように留意する。
次に、液体槽４０に空気の屈折率よりも高い屈折率を持つ液体４２を満たす。レジストＲ及びステージ２１を収容した防液部材３０を液体槽４０に沈め、被照射物Ｗを液面４２Ａよりも下方側に位置させる。このとき、被照射物Ｗの法線Ｈが光出射部１００からの露光光Ｌの光軸ＬＡに対して傾斜するように、防液部材３０を液面４２Ａに対して傾斜させる。
そして、回転モータ２２を動作させ、回転軸２３ｂを介して防液部材３０と共にステージ２１を回転させる。ステージ２１の回転により被照射物Ｗが回転する。
この状態で、光出射部１００から光を出射する。光出射部１００から出射した光は、液体槽４０の窓部４１から液体槽４０内に入射し、その内部の空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を通過し、開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに入射する。このようにして、レジストＲには、空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を介して斜め方向から光が入射する。
この状態で、光出射部１００から光を出射する。光出射部１００から出射した光は、液体槽４０の窓部４１から液体槽４０内に入射し、その内部の空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を通過し、開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに入射する。このようにして、レジストＲには、空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を介して斜め方向から光が入射する。
図４は上記の回転傾斜露光装置の実施例による露光プロセスを説明する図である。
図４（ａ）は、露光を開始した時点の状態を示す図である。マスクＭの黒い部分はパターンが形成され光が透過されない部分である。レジストＲのハッチングの部分は光が照射されて露光されている部分である。上記したように、マスクＭを光が入射する側に向けておいた被照射物Ｗに対して、斜めに光が照射されるので、レジストＲは傾斜して露光される。
図４（ｂ）は被照射物Ｗが、同図（ａ）の状態から１８０°回転した状態を示す図である。レジストＲの露光された領域が増え、露光されない領域は、マスクＭのパターンを底辺として徐々に細くなる。
図４（ｃ）は、被照射物Ｗを１回転させて露光を終え、現像した状態を示す図である。使用したレジストＲがポジ型レジストであれば、同図に示すように、光が照射された部分のレジストＲが現像液に溶けて、マスクＭに形成したパターンの形状を底面とする斜面を持った立体パターンが形成される。マスクＭに形成したパターンの形状が円であれば円錐形状になり、マスクＭのパターンの形状が四角であれば四角錐形状になる。
使用したレジストがネガ型レジストの場合は、露光されない部分のレジストが現像液に溶ける。したがって、残ったレジストには、例えば円錐状や角錐状の空洞が形成される。
図４（ａ）は、露光を開始した時点の状態を示す図である。マスクＭの黒い部分はパターンが形成され光が透過されない部分である。レジストＲのハッチングの部分は光が照射されて露光されている部分である。上記したように、マスクＭを光が入射する側に向けておいた被照射物Ｗに対して、斜めに光が照射されるので、レジストＲは傾斜して露光される。
図４（ｂ）は被照射物Ｗが、同図（ａ）の状態から１８０°回転した状態を示す図である。レジストＲの露光された領域が増え、露光されない領域は、マスクＭのパターンを底辺として徐々に細くなる。
図４（ｃ）は、被照射物Ｗを１回転させて露光を終え、現像した状態を示す図である。使用したレジストＲがポジ型レジストであれば、同図に示すように、光が照射された部分のレジストＲが現像液に溶けて、マスクＭに形成したパターンの形状を底面とする斜面を持った立体パターンが形成される。マスクＭに形成したパターンの形状が円であれば円錐形状になり、マスクＭのパターンの形状が四角であれば四角錐形状になる。
使用したレジストがネガ型レジストの場合は、露光されない部分のレジストが現像液に溶ける。したがって、残ったレジストには、例えば円錐状や角錐状の空洞が形成される。
形成されるレジストによる３次元構造の傾斜角θは、被照射物Ｗの法線Ｈと露光光Ｌの光軸ＬＡとの角度を変えることによって変えることができる。
例えば、図５に示すように、レジストＲ（屈折率約１．６）を有する被照射物Ｗに対し、液体槽４０に溜めた純水（屈折率約１．３）中で入射角８９°の光を照射した場合は、レジストＲへの入射角度は約５３°になり、形成されるレジストの傾斜角は３７°になる。
詳しくは、マスクＭの材質がガラス（屈折率約１．８）の場合、被照射物Ｗに対して入射角８９°の光が照射されると、水からマスクＭへの入射角が４６°、マスクＭからレジストＲへの入射角が約５３°となる。即ち、水中での露光は、大気中での露光よりも緩やかな斜面を形成することができる。
例えば、図５に示すように、レジストＲ（屈折率約１．６）を有する被照射物Ｗに対し、液体槽４０に溜めた純水（屈折率約１．３）中で入射角８９°の光を照射した場合は、レジストＲへの入射角度は約５３°になり、形成されるレジストの傾斜角は３７°になる。
詳しくは、マスクＭの材質がガラス（屈折率約１．８）の場合、被照射物Ｗに対して入射角８９°の光が照射されると、水からマスクＭへの入射角が４６°、マスクＭからレジストＲへの入射角が約５３°となる。即ち、水中での露光は、大気中での露光よりも緩やかな斜面を形成することができる。
以上の本発明の第１の実施例の回転傾斜露光装置によれば、空気よりも屈折率の高い液体を介して斜め方向から被照射物Ｗに光を照射しているので、大気中で露光するよりもマスクＭに塗布されたレジストＲに入射する光の入射角度を大きくすることができるため、レジストの表面に緩やかな斜面を形成することができる。
しかも、第１の実施例の回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体は、レジストＲを防液部材３０の内部に収容することによって、レジストＲが液体４２に濡れることを防止しているので、レジストＲが溶解、膨潤したり、また、レジストＲがマスクＭから剥離することが防止され、３次元構造の露光パターンを精度良く造形することができる。さらに、屈折率は高い反面、レジストＲを溶かすような液体であっても使用することができるため、使用可能な液体の選択肢を広げることができる。
しかも、第１の実施例の回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体は、レジストＲを防液部材３０の内部に収容することによって、レジストＲが液体４２に濡れることを防止しているので、レジストＲが溶解、膨潤したり、また、レジストＲがマスクＭから剥離することが防止され、３次元構造の露光パターンを精度良く造形することができる。さらに、屈折率は高い反面、レジストＲを溶かすような液体であっても使用することができるため、使用可能な液体の選択肢を広げることができる。
次に上記第１の実施例の変形例について説明する。
図６は本発明の前記第１の実施例の変形例（１）を示す図であり、同図は、前記図２と同様、レジスト防液構造体の構成を示す部分拡大断面図である。
上記図２、図３に示した実施例では、本体部３１に円柱形状を有するホルダ部２６を取付け、本体部３１とマスクＭの透明基板Ｋとホルダ部２６とによって密閉空間Ｓを形成し、当該密閉空間Ｓの内部にレジストＲとそれを載置したステージ２１とを密封し、ステージ２１と防液部材３０とを同時に回転させていた。
図６に示す変形例（１）では、上記ステージ２１に取り付けられた支柱２３ａを省略し、ステージ２１と被照射物Ｗを本体部３１の底板３２に取り付け、ホルダ部２６を回転させることにより、本体部３１とともに、被照射物Ｗを回転させるように構成したものである。図２と共通する箇所については図２と同一の符号が付されている。
図６に示すように、ステージ２１と本体部３１の開口３１ａとの間に、マスクＭの透明基板Ｋが開口３１ａの縁部に接するように配置し、ねじ３３により締め付けて固定されている。なお、本変形例において、ステージ２１は被照射物Ｗを本体部３１の底板３２に固定するための部材として機能しているだけであり、固定用の基板であればよい。
図６は本発明の前記第１の実施例の変形例（１）を示す図であり、同図は、前記図２と同様、レジスト防液構造体の構成を示す部分拡大断面図である。
上記図２、図３に示した実施例では、本体部３１に円柱形状を有するホルダ部２６を取付け、本体部３１とマスクＭの透明基板Ｋとホルダ部２６とによって密閉空間Ｓを形成し、当該密閉空間Ｓの内部にレジストＲとそれを載置したステージ２１とを密封し、ステージ２１と防液部材３０とを同時に回転させていた。
図６に示す変形例（１）では、上記ステージ２１に取り付けられた支柱２３ａを省略し、ステージ２１と被照射物Ｗを本体部３１の底板３２に取り付け、ホルダ部２６を回転させることにより、本体部３１とともに、被照射物Ｗを回転させるように構成したものである。図２と共通する箇所については図２と同一の符号が付されている。
図６に示すように、ステージ２１と本体部３１の開口３１ａとの間に、マスクＭの透明基板Ｋが開口３１ａの縁部に接するように配置し、ねじ３３により締め付けて固定されている。なお、本変形例において、ステージ２１は被照射物Ｗを本体部３１の底板３２に固定するための部材として機能しているだけであり、固定用の基板であればよい。
図７、図８は、本発明の前記第１の実施例の変形例（２）を示す図であり、図７は、前記図２と同様、レジスト防液構造体の構成を示す部分拡大断面図、図８は、図７に示すレジスト防液構造体の防液部材および動力部の構造を示す図である。
図７に示すように、防液部材３０は、円筒形状を有し一端側の底板３２に開口３１ａを有し、他端側が開放した本体部３１と、本体部３１の一端側の開口３１ａに取り付けられたマスクＭの透明基板Ｋとで構成され、本体部３１は、例えばガラスによって形成される。被照射物Ｗは、マスクＭの表面にレジストＲが塗布されているものであり、マスクＭの透明基板Ｋが前記図２、図３で示したように、防液部材３０の開口３１ａに密接して取り付けられる。
図７に示すように、防液部材３０は、円筒形状を有し一端側の底板３２に開口３１ａを有し、他端側が開放した本体部３１と、本体部３１の一端側の開口３１ａに取り付けられたマスクＭの透明基板Ｋとで構成され、本体部３１は、例えばガラスによって形成される。被照射物Ｗは、マスクＭの表面にレジストＲが塗布されているものであり、マスクＭの透明基板Ｋが前記図２、図３で示したように、防液部材３０の開口３１ａに密接して取り付けられる。
図７に示すように、動力部２０は、被照射物Ｗを載置するステージ２１と、このステージ２１を回転させる回転モータ２２とを有する。回転モータ２２の回転軸２３はステージ２１の中心に接続されている。
図８に示すように、回転モータ２２の回転軸２３は、回転軸２３を中心として等間隔で放射状に広がるように４本の動力伝達棒２４ａ〜２４ｄを有している。動力伝達棒２４ａ〜２４ｄのそれぞれの先端は、フック部２５ａ〜２５ｄを有している。防液部材３０の内壁面には、各々の動力伝達棒２４ａ〜２４ｄを係止するためのライン状の溝部３４ａ〜３４ｄが、防液部材の長手方向に沿って等間隔で形成されている。このライン状の溝部３４ａ〜３４ｄに対して、動力伝達棒２４ａ〜２４ｄにそれぞれ形成されたフック部２５ａ〜２５ｄがそれぞれ挿入されることによって、防液部材３０と動力伝達棒２４ａ〜２４ｄとが係合される。
このようにすることで、回転モータ２２の動力が動力伝達棒２４ａ〜２４ｄを介して防液部材３０に伝わり、被照射物Ｗ、ステージ２１及び防液部材３０の全てを同時に回転させる。
図８に示すように、回転モータ２２の回転軸２３は、回転軸２３を中心として等間隔で放射状に広がるように４本の動力伝達棒２４ａ〜２４ｄを有している。動力伝達棒２４ａ〜２４ｄのそれぞれの先端は、フック部２５ａ〜２５ｄを有している。防液部材３０の内壁面には、各々の動力伝達棒２４ａ〜２４ｄを係止するためのライン状の溝部３４ａ〜３４ｄが、防液部材の長手方向に沿って等間隔で形成されている。このライン状の溝部３４ａ〜３４ｄに対して、動力伝達棒２４ａ〜２４ｄにそれぞれ形成されたフック部２５ａ〜２５ｄがそれぞれ挿入されることによって、防液部材３０と動力伝達棒２４ａ〜２４ｄとが係合される。
このようにすることで、回転モータ２２の動力が動力伝達棒２４ａ〜２４ｄを介して防液部材３０に伝わり、被照射物Ｗ、ステージ２１及び防液部材３０の全てを同時に回転させる。
次に、本発明における前記第１の実施例の変形例（３）について説明する。図９は、変形例（３）の液体槽に浸されるレジスト防液構造体の部分拡大断面図である。
上記第１の実施例およびその変形例では、ステージ２１と防液部材３０の本体部３１とを共に回転させるための機構を有していた。図９に示す変形例（３）では、ステージ２１と被照射物Ｗを単独で回転させるための機構を有する。図２と共通する箇所については図２と同一の符号が付されている。
図９に示す変形例（３）は、円筒形状を有する本体部３１と、本体部３１の一端側に回転機構である円板状の回転ベアリング３２ａが取り付けられており、回転ベアリング３２ａに開口３１ａが形成され、レジストＲを塗布してなる被照射物Ｗを構成するマスクＭの透明基板Ｋが、上記開口３１ａに密接するように配置される。
ステージ２１は、回転ベアリング３２ａとの間に被照射物Ｗを挟んでねじ３２ｂにより締め付けて固定する。本体部３１の一端側の内面には、円周方向に溝部が切られており、この溝部に回転ベアリング３２ａが遊嵌されることにより、回転ベアリング３２ａが回転可能となっている。上記ステージ２１は、回転軸２３により回転モータ２２の回転軸に取り付けられる。
上記第１の実施例およびその変形例では、ステージ２１と防液部材３０の本体部３１とを共に回転させるための機構を有していた。図９に示す変形例（３）では、ステージ２１と被照射物Ｗを単独で回転させるための機構を有する。図２と共通する箇所については図２と同一の符号が付されている。
図９に示す変形例（３）は、円筒形状を有する本体部３１と、本体部３１の一端側に回転機構である円板状の回転ベアリング３２ａが取り付けられており、回転ベアリング３２ａに開口３１ａが形成され、レジストＲを塗布してなる被照射物Ｗを構成するマスクＭの透明基板Ｋが、上記開口３１ａに密接するように配置される。
ステージ２１は、回転ベアリング３２ａとの間に被照射物Ｗを挟んでねじ３２ｂにより締め付けて固定する。本体部３１の一端側の内面には、円周方向に溝部が切られており、この溝部に回転ベアリング３２ａが遊嵌されることにより、回転ベアリング３２ａが回転可能となっている。上記ステージ２１は、回転軸２３により回転モータ２２の回転軸に取り付けられる。
図９に示す例では、円板状の回転ベアリング３２ａの周方向に等間隔で離間して４つのねじ３２ｂが螺合されている。こうすることで、被照射物Ｗがステージ２１と底板３２との間に挟持される。
回転モータ２２が回転すると、回転軸２３が回転し、ステージ２１が回転する。ステージ２１が回転すると、ねじ３２ｂにより接続されている回転ベアリング３２ａが回転する。このとき、本体部３１は回転しない。つまり、防液部材３０の本体部３１は回転することなく、被照射物Ｗがステージ２１の回転と共に回転する。
回転モータ２２が回転すると、回転軸２３が回転し、ステージ２１が回転する。ステージ２１が回転すると、ねじ３２ｂにより接続されている回転ベアリング３２ａが回転する。このとき、本体部３１は回転しない。つまり、防液部材３０の本体部３１は回転することなく、被照射物Ｗがステージ２１の回転と共に回転する。
次に、本発明における前記第１の実施例の変形例（４）について説明する。図１０は、変形例（４）のレジスト防液構造体の防液部材３０の構成と、防液部材３０へのマスクとレジストの取り付けを説明する図である。
なお、前記した実施例および変形例では、マスクとマスクに塗布されたレジストからなる被照射物Ｗを一体として扱い、被照射物Ｗの透明基板Ｋ側を防液部材３０の本体部３１の開口３１ａに対向するように取り付けたが、本変形例では、マスクＭを防液部材３０の本体部３１の開口３１ａに予め取り付けておき、基板に塗布されたレジストをマスクに密接させて設置するようにした例を示している。
なお、前記した実施例および変形例では、マスクとマスクに塗布されたレジストからなる被照射物Ｗを一体として扱い、被照射物Ｗの透明基板Ｋ側を防液部材３０の本体部３１の開口３１ａに対向するように取り付けたが、本変形例では、マスクＭを防液部材３０の本体部３１の開口３１ａに予め取り付けておき、基板に塗布されたレジストをマスクに密接させて設置するようにした例を示している。
本変形例のレジスト防液構造体１０は、図１０（ａ）に示すように、円筒形状の本体部３１を有し、その底板３２に開口３１ａが設けられ、この開口３１ａの開口端（縁部）にマスクＭを固定するための固定部位３１ｃが設けられている。なお、底板３２の開口３１ａの内周面には、図１０に示すように、マスクＭが取り付けられたとき該マスクＭの面と底板３２の内周面とが成す角が鈍角となるように傾斜面（泡逃がし用の面取り）が形成されている。すなわち、底板３２のマスクＭに接する面側の開口径より、底板３２の液体に接する面側の開口径が大きくなるように傾斜面が形成されている。
このように、傾斜面を設けることにより、開口３１ａの周辺に液体の泡が溜まりにくくなり、入射光の入射角が変化するといった不具合が生じない。
マスクＭは、上記固定部位３１ｃに、透明基板Ｋ側が上記開口３１ａに対向し該開口３１ａを覆うように接着剤あるいはテープ３９などで取り付けられる。これにより、本体部３１と透明基板Ｋとの間が気密に封止される。なお、このマスクＭにはこの段階ではレジストは塗布されていない。
このように、傾斜面を設けることにより、開口３１ａの周辺に液体の泡が溜まりにくくなり、入射光の入射角が変化するといった不具合が生じない。
マスクＭは、上記固定部位３１ｃに、透明基板Ｋ側が上記開口３１ａに対向し該開口３１ａを覆うように接着剤あるいはテープ３９などで取り付けられる。これにより、本体部３１と透明基板Ｋとの間が気密に封止される。なお、このマスクＭにはこの段階ではレジストは塗布されていない。
図１０（ｂ−１）は上記のように本体部３１の開口３１ａにマスクＭが取り付けられている状態を示している。
この状態で、同図（ｂ−２）に示すように、レジストＲ側がマスクＭの遮光部ＳＨに密接するように、基板Ｔに塗布されたレジストＲをマスクＭ上に設置する。
次いで（ｂ−３）に示すように、本体部３１の上部の開口部分（マスクＭが取り付けられた側の反対側の開口部分）を覆うように、回転軸２３を有するステージ２１を載せ、同図（ｂ−４）に示すように、ねじ５１を締め付けて固定する。本体部３１とステージ２１の間にはパッキン５２を介在させ、本体部３１とステージ２１の間から、本体部３１内に液体が浸入しないように封止する。
ステージ２１の本体部３１側には板ばね２１ｂが設けられており、ねじ５１を締め付けることにより、板ばね２１ｂにより、板５０を介してレジストＲが塗布された基板Ｔが押圧される。これにより、レジストＲをマスクＭに密接させることができ、さらにマスクＭと本体部３１の固定部位３１ｃとを密接させ液体の浸入を防ぐことができる。
この状態で、同図（ｂ−２）に示すように、レジストＲ側がマスクＭの遮光部ＳＨに密接するように、基板Ｔに塗布されたレジストＲをマスクＭ上に設置する。
次いで（ｂ−３）に示すように、本体部３１の上部の開口部分（マスクＭが取り付けられた側の反対側の開口部分）を覆うように、回転軸２３を有するステージ２１を載せ、同図（ｂ−４）に示すように、ねじ５１を締め付けて固定する。本体部３１とステージ２１の間にはパッキン５２を介在させ、本体部３１とステージ２１の間から、本体部３１内に液体が浸入しないように封止する。
ステージ２１の本体部３１側には板ばね２１ｂが設けられており、ねじ５１を締め付けることにより、板ばね２１ｂにより、板５０を介してレジストＲが塗布された基板Ｔが押圧される。これにより、レジストＲをマスクＭに密接させることができ、さらにマスクＭと本体部３１の固定部位３１ｃとを密接させ液体の浸入を防ぐことができる。
上記のように構成された防液部材３０は前記図１に示したレジスト防液構造体１０と同様、被照射物の法線が光出射部からの露光光Ｌの光軸ＬＡに対して傾斜するように、防液部材３０を液面４２Ａに対して傾斜させて、液体槽４０の液体中に浸し、回転軸２３を回転モータ２２の回転軸に連結する。
そして、回転モータ２２を動作させ、回転軸２３を介して防液部材３０と共にステージ２１を回転させる。ステージ２１の回転により被照射物Ｗが回転する。
この状態で、光出射部１００から光を出射する。光出射部１００から出射した光は、液体槽４０の窓部４１から液体槽４０内に入射し、その内部の空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を通過し、開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに入射する。このようにして、レジストＲには、空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を介して斜め方向から光が入射する。
そして、回転モータ２２を動作させ、回転軸２３を介して防液部材３０と共にステージ２１を回転させる。ステージ２１の回転により被照射物Ｗが回転する。
この状態で、光出射部１００から光を出射する。光出射部１００から出射した光は、液体槽４０の窓部４１から液体槽４０内に入射し、その内部の空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を通過し、開口３１ａからマスクＭを介してレジストＲに入射する。このようにして、レジストＲには、空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を介して斜め方向から光が入射する。
次に本発明の第２の実施例について説明する。
図１１は、本発明の第２の実施例の回転傾斜露光装置の構成を示す図であり、装置全体の断面図を示す。図１１では図１と共通する構成について図１と同一符号が付されている。
第１の実施例では、防液部材の本体部として円筒形状のものを使用したのに対し、下記の第２の実施例の回転傾斜露光装置では、防液部材の本体部として可撓性部材から構成されたシート状（フィルム状）のものを使用する。
図１１に示すように、本実施例の回転傾斜露光装置は、光出射部１００、光出射部１００からの光が通過する液体槽４０、液体槽４０に溜められた液体４２に浸されたレジスト防液構造体１０を備える。
レジスト防液構造体１０は、防液部材３０、防液部材３０の内部に配置されたレジストＲが接するステージ２１などを有する動力部２０から構成される。
動力部２０の回転モータ２２には、図１に示すものと共通の角度調整機構２２０が接続されている。
図１１は、本発明の第２の実施例の回転傾斜露光装置の構成を示す図であり、装置全体の断面図を示す。図１１では図１と共通する構成について図１と同一符号が付されている。
第１の実施例では、防液部材の本体部として円筒形状のものを使用したのに対し、下記の第２の実施例の回転傾斜露光装置では、防液部材の本体部として可撓性部材から構成されたシート状（フィルム状）のものを使用する。
図１１に示すように、本実施例の回転傾斜露光装置は、光出射部１００、光出射部１００からの光が通過する液体槽４０、液体槽４０に溜められた液体４２に浸されたレジスト防液構造体１０を備える。
レジスト防液構造体１０は、防液部材３０、防液部材３０の内部に配置されたレジストＲが接するステージ２１などを有する動力部２０から構成される。
動力部２０の回転モータ２２には、図１に示すものと共通の角度調整機構２２０が接続されている。
光出射部１００は、光源としてのショートアーク型のランプ１、楕円集光鏡２、第１の平面鏡３、インテグレータレンズ４、シャッタ５、第２の平面鏡６、コリメータレンズ７などを備える。
ランプ１は露光光（紫外線）を含む光を出射する。ランプ１から出射した露光光Ｌは、楕円集光鏡２により反射されて集光され、第１の平面鏡３を介してインテグレータレンズ４に入射する。インテグレータレンズ４から出射した光は、シャッタ５、第２の平面鏡６を介してコリメータレンズ７に入射し、コリメータレンズ７によって平行光となって光出射部１００から出射する。
液体槽４０は、底面（下面）に、露光光（紫外線）を透過する平面状の紫外線透過性ガラスなる窓部４１が設けられる。光出射部１００からの光は、この液体槽４０の下面の窓部４１から入射する。液体槽４０には、空気の屈折率よりも大きい屈折率を持つ液体４２が溜められる。
液体４２は、例えば、純水（屈折率約１．３）、グリセリン（Ｃ３Ｈ５（ＯＨ）３）（屈折率１．４７）、液浸顕微鏡に用いられるアニソール（ＣＨ３ＯＣ６Ｈ５）（屈折率１．５）が使用される。液体４２は、窓部４１およびマスクＭの、液体側のそれぞれの面に気泡が残留しないように液体槽４０に溜められる。
ランプ１は露光光（紫外線）を含む光を出射する。ランプ１から出射した露光光Ｌは、楕円集光鏡２により反射されて集光され、第１の平面鏡３を介してインテグレータレンズ４に入射する。インテグレータレンズ４から出射した光は、シャッタ５、第２の平面鏡６を介してコリメータレンズ７に入射し、コリメータレンズ７によって平行光となって光出射部１００から出射する。
液体槽４０は、底面（下面）に、露光光（紫外線）を透過する平面状の紫外線透過性ガラスなる窓部４１が設けられる。光出射部１００からの光は、この液体槽４０の下面の窓部４１から入射する。液体槽４０には、空気の屈折率よりも大きい屈折率を持つ液体４２が溜められる。
液体４２は、例えば、純水（屈折率約１．３）、グリセリン（Ｃ３Ｈ５（ＯＨ）３）（屈折率１．４７）、液浸顕微鏡に用いられるアニソール（ＣＨ３ＯＣ６Ｈ５）（屈折率１．５）が使用される。液体４２は、窓部４１およびマスクＭの、液体側のそれぞれの面に気泡が残留しないように液体槽４０に溜められる。
図１２は、本実施例の液体槽に浸されたレジスト防液構造体１０の構造を示す部分拡大断面図である。また、図１３は、被照射物の構造、及び被照射物と防液部材の本体部との連結方法の詳細を示す拡大断面図である。
本実施例の装置では、防液部材３０が、防水フィルム等のシート状の可撓性部材からなる本体部３６と、本体部３６に設けられた開口３６ａを塞ぐマスクＭの透明基板Ｋから構成される。
本体部３６は、液体槽に収納された液体に腐食されず、また、該液体を通さない可撓性のシート状の高分子材料であるＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、テフロン（登録商標）（デュポン社）、アモルファスフッ素樹脂（登録商標）（旭硝子株式会社、製品名：ＣＹＴＯＰ）等からなり、開口３６ａを上記透明基板Ｋで塞ぎ、上側（透明基板Ｋを取り付けた側の反対側の端部）を封止した袋状に形成される。また、透明基板Ｋは、紫外線を透過する板状のガラス等によって構成される。
本実施例の装置では、防液部材３０が、防水フィルム等のシート状の可撓性部材からなる本体部３６と、本体部３６に設けられた開口３６ａを塞ぐマスクＭの透明基板Ｋから構成される。
本体部３６は、液体槽に収納された液体に腐食されず、また、該液体を通さない可撓性のシート状の高分子材料であるＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム、テフロン（登録商標）（デュポン社）、アモルファスフッ素樹脂（登録商標）（旭硝子株式会社、製品名：ＣＹＴＯＰ）等からなり、開口３６ａを上記透明基板Ｋで塞ぎ、上側（透明基板Ｋを取り付けた側の反対側の端部）を封止した袋状に形成される。また、透明基板Ｋは、紫外線を透過する板状のガラス等によって構成される。
図１２に示すように、本体部３６の内部には、被照射物ＷにおけるレジストＲ及び該レジストＲに接するステージ２１が収容されており、ステージ２１に接続された回転軸２３が本体部３６の開口３６ａと反対側の端部３６ｂから外方に伸び出している。
本体部３６の端部３６ｂは、封止部材３７によって本体部３６の外方へ伸び出した回転軸２３に固定される。このようにして、防液部材３０には、開口３６ａを塞ぐ透明基板Ｋと本体部３６とにより密閉空間Ｓが形成され、レジストＲ及びステージ２１が密封される。
防液部材３０は、図１１に示すように液体槽４０に沈められ、被照射物Ｗが液面４２Ａよりも下方側に配置される。このとき、被照射物Ｗの法線Ｈが光出射部１００からの露光光Ｌの光軸ＬＡに対して傾斜するように防液部材３０を傾斜させる。
回転モータ２２の回転軸２３は、一端がステージ２１の中心に固定され、他端が本体部３６から外方に伸び出して回転モータ２２に固定される。回転モータ２２が回転すると、ステージ２１が袋状の本体部３６と共に回転する。ステージ２１が回転すると、ステージ２１上に載置された被照射物Ｗが回転する。
本体部３６の端部３６ｂは、封止部材３７によって本体部３６の外方へ伸び出した回転軸２３に固定される。このようにして、防液部材３０には、開口３６ａを塞ぐ透明基板Ｋと本体部３６とにより密閉空間Ｓが形成され、レジストＲ及びステージ２１が密封される。
防液部材３０は、図１１に示すように液体槽４０に沈められ、被照射物Ｗが液面４２Ａよりも下方側に配置される。このとき、被照射物Ｗの法線Ｈが光出射部１００からの露光光Ｌの光軸ＬＡに対して傾斜するように防液部材３０を傾斜させる。
回転モータ２２の回転軸２３は、一端がステージ２１の中心に固定され、他端が本体部３６から外方に伸び出して回転モータ２２に固定される。回転モータ２２が回転すると、ステージ２１が袋状の本体部３６と共に回転する。ステージ２１が回転すると、ステージ２１上に載置された被照射物Ｗが回転する。
図１３（ａ）に示すようにマスクＭの透明基板Ｋは板形状を有し、同図（ｂ）に示すように、マスクＭの遮光部ＳＨの上にレジストＲが塗布され、被照射物Ｗが形成される。
上記マスクの透明基板Ｋは、同図（ｃ）に示すように、本体部３６に設けられた四角形状の開口３６ａを塞ぐように、該開口３６ａの開口端（縁部）に沿って配置される。
防水フィルム等で構成されるシート状の本体部３６のマスクＭが配置される側の面には、同図（ｃ）（ｄ）に示すように、開口３６ａの周囲を覆うように、上記開口３６ａとほぼ同じ大きさの開口を有する枠状のゴム等の樹脂製の弾性材Ｄが配置される。
この弾性材Ｄの内周面には、図１３（ｄ）（ｅ）に示すように、マスクＭ面と弾性材Ｄの内周面とが成す角が鈍角となるような傾斜面（泡逃がし用面取り）が形成されている。すなわち、弾性材Ｄの内周面には、弾性材ＤのマスクＭに接する面側の開口径より、底板３２に接する面側の開口径が大きくなるように傾斜面が形成されている。
このように、弾性材Ｄに傾斜面を設けることにより、弾性材Ｄの周辺に液体の泡が溜まりにくくなり、入射光の入射角が変化するといった不具合が生じない。
上記マスクの透明基板Ｋは、同図（ｃ）に示すように、本体部３６に設けられた四角形状の開口３６ａを塞ぐように、該開口３６ａの開口端（縁部）に沿って配置される。
防水フィルム等で構成されるシート状の本体部３６のマスクＭが配置される側の面には、同図（ｃ）（ｄ）に示すように、開口３６ａの周囲を覆うように、上記開口３６ａとほぼ同じ大きさの開口を有する枠状のゴム等の樹脂製の弾性材Ｄが配置される。
この弾性材Ｄの内周面には、図１３（ｄ）（ｅ）に示すように、マスクＭ面と弾性材Ｄの内周面とが成す角が鈍角となるような傾斜面（泡逃がし用面取り）が形成されている。すなわち、弾性材Ｄの内周面には、弾性材ＤのマスクＭに接する面側の開口径より、底板３２に接する面側の開口径が大きくなるように傾斜面が形成されている。
このように、弾性材Ｄに傾斜面を設けることにより、弾性材Ｄの周辺に液体の泡が溜まりにくくなり、入射光の入射角が変化するといった不具合が生じない。
また、シート状の本体部３６のマスクＭが配置される面とは反対側の面には、同図（ｄ）に示すように、開口３６ａの周囲を覆うように、上記開口３６ａとほぼ同じ大きさの開口を有する四角い枠状のねじ止め用の金属板３８が配置される。
被照射物Ｗは、ステージ２１と本体部３６との間に挟まれるようにして配置され、金属板３８、本体部３６、ステージ２１にそれぞれ設けられたねじ穴を貫通するよう挿入されたねじ３３によって、本体部３６とステージ２１にねじ止めされて固定される。
上記本体部３６と弾性体Ｄの間、上記本体部３６と金属板３８の間は例えば接着剤等で固定される。また、透明基板Ｋと上記弾性体Ｄの間は固定せずに透明基板Ｋを本体部３６および金属板３８に押し付けることにより、本体部３６と透明基板Ｋとの間が気密に封止される。これにより本体部３６内の密閉空間Ｓ（図１２）に液体が侵入することが防止される。被照射物Ｗのうち本体部３６外に露出するのは、透明基板ＫのレジストＲと反対側の面のみである。このように被照射物Ｗを配置することで、レジストＲが液体に濡れることがない。
被照射物Ｗは、ステージ２１と本体部３６との間に挟まれるようにして配置され、金属板３８、本体部３６、ステージ２１にそれぞれ設けられたねじ穴を貫通するよう挿入されたねじ３３によって、本体部３６とステージ２１にねじ止めされて固定される。
上記本体部３６と弾性体Ｄの間、上記本体部３６と金属板３８の間は例えば接着剤等で固定される。また、透明基板Ｋと上記弾性体Ｄの間は固定せずに透明基板Ｋを本体部３６および金属板３８に押し付けることにより、本体部３６と透明基板Ｋとの間が気密に封止される。これにより本体部３６内の密閉空間Ｓ（図１２）に液体が侵入することが防止される。被照射物Ｗのうち本体部３６外に露出するのは、透明基板ＫのレジストＲと反対側の面のみである。このように被照射物Ｗを配置することで、レジストＲが液体に濡れることがない。
ここで、図１１に示す回転傾斜露光装置を用いた露光の手順を説明する。
被照射物Ｗの法線Ｈと露光光Ｌの光軸ＬＡとの角度θは、液体槽４０に溜められた液体４２及びレジストＲのそれぞれの屈折率に基く計算や実験などにより、あらかじめ求められ設定されている。
角度可変アーム２２２のロックを解除することにより、把持部２２１と支柱２２３との間の角度を調整し、被照射物Ｗの法線Ｈと露光光Ｌの光軸ＬＡとの角度θを所定の角度にすると共に、角度可変アーム２２２をロックする。
図１３に示すように、マスクＭの遮光部ＳＨ上にレジストＲを密着させた被照射物Ｗを用意し、本体部３６、金属板３８及びステージ２１の間に被照射物Ｗを挟むようにして、被照射物Ｗを固定する。このとき、マスクＭの透明基板ＫのレジストＲと反対側の面のみが本体部３６外に露出するように留意する。
次に、液体槽４０に空気の屈折率よりも高い屈折率を持つ液体４２を満たす。レジストＲ及びステージ２１を収容した防液部材３０を液体槽４０に沈め、被照射物Ｗを液面４２Ａよりも下方側に位置させる。このとき、被照射物Ｗの法線Ｈが光出射部１００からの露光光Ｌの光軸ＬＡに対して傾斜するように、防液部材３０を液面４２Ａに対して傾斜させる。
被照射物Ｗの法線Ｈと露光光Ｌの光軸ＬＡとの角度θは、液体槽４０に溜められた液体４２及びレジストＲのそれぞれの屈折率に基く計算や実験などにより、あらかじめ求められ設定されている。
角度可変アーム２２２のロックを解除することにより、把持部２２１と支柱２２３との間の角度を調整し、被照射物Ｗの法線Ｈと露光光Ｌの光軸ＬＡとの角度θを所定の角度にすると共に、角度可変アーム２２２をロックする。
図１３に示すように、マスクＭの遮光部ＳＨ上にレジストＲを密着させた被照射物Ｗを用意し、本体部３６、金属板３８及びステージ２１の間に被照射物Ｗを挟むようにして、被照射物Ｗを固定する。このとき、マスクＭの透明基板ＫのレジストＲと反対側の面のみが本体部３６外に露出するように留意する。
次に、液体槽４０に空気の屈折率よりも高い屈折率を持つ液体４２を満たす。レジストＲ及びステージ２１を収容した防液部材３０を液体槽４０に沈め、被照射物Ｗを液面４２Ａよりも下方側に位置させる。このとき、被照射物Ｗの法線Ｈが光出射部１００からの露光光Ｌの光軸ＬＡに対して傾斜するように、防液部材３０を液面４２Ａに対して傾斜させる。
そして、回転モータ２２を動作させ、回転軸２３を介して防液部材３０と共にステージ２１を回転させる。ステージ２１の回転により被照射物Ｗ回転する。
この状態で、光出射部１００から光を出射する。光出射部１００から出射した光は、液体槽４０の窓部４１から液体槽４０内に入射し、その内部の空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を通過し、開口３６ａからマスクＭを介してレジストＲに入射する。このようにして、レジストＲには、空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を介して斜め方向から光が入射する。
この状態で、光出射部１００から光を出射する。光出射部１００から出射した光は、液体槽４０の窓部４１から液体槽４０内に入射し、その内部の空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を通過し、開口３６ａからマスクＭを介してレジストＲに入射する。このようにして、レジストＲには、空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を介して斜め方向から光が入射する。
次に、本発明における前記第２の実施例の変形例について説明する。図１４は、本実施例の変形例の防液部材３０の構成と、防液部材へのマスクとレジストの取り付けを説明する図、図１５は装置へのセッティングを説明する図である。
なお、上記第２の実施例では、マスクとマスクに塗布されたレジストからなる被照射物Ｗを一体として扱い、被照射物Ｗの透明基板Ｋ側を防液部材３０の本体部３１の開口３６ａに対向するように取り付けたが、本変形例では、マスクＭを防液部材３０の本体部３６の開口３６ａに予め取り付けておき、基板に塗布されたレジストをマスクに密接させて設置するようにした例を示している。
なお、上記第２の実施例では、マスクとマスクに塗布されたレジストからなる被照射物Ｗを一体として扱い、被照射物Ｗの透明基板Ｋ側を防液部材３０の本体部３１の開口３６ａに対向するように取り付けたが、本変形例では、マスクＭを防液部材３０の本体部３６の開口３６ａに予め取り付けておき、基板に塗布されたレジストをマスクに密接させて設置するようにした例を示している。
以下、本変形例のレジスト防液構造体の防液部材の組み立てについて説明する。
本変形例の防液部材３０は、図１４（ａ）に示すように、防水フィルム等の可撓性の部材で構成されるシート状の本体部３６からなり、本体部３６にはマスクＭの縦横寸法より小さい開口３６ａが設けられる。マスクＭはその開口３６ａを塞ぐように配置され、同図（ａ−１）（ａ−２）に示すようにテープ３９ａあるいは接着剤３９ｂで取り付けられている。
レジストＲは同図（ｂ）に示すように基板Ｔに塗布され、基板に塗布されたレジストは、同図（ｃ）に示すように、レジストＲ側がマスクＭの遮光部ＳＨに密接するように、上記マスクＭ上に設置される。
図１４（ｃ）に示すように、マスクＭとレジストＲおよび基板Ｔが重ねられた被照射物Ｗは、図１５（ａ）に示すようにシート状の本体部３６で覆われ、図１５（ｂ）に示すように、ステージ２１にセットされる。
すなわち、複数（この例では４個）の保持部材５３の固定部位５３ａ上に上記本体部３６で覆われた被照射物Ｗを載せ、板５０と、回転軸２３を有するステージ２１を上記被照射物Ｗの上に被せる。そして、同図（ｃ）に示すように、ねじ５１で締め付けて保持部材５３の固定部位５３ａとステージ２１で被照射物Ｗを挟持して固定する。
ステージ２１の保持部材５３側には板ばね２１ｂが設けられており、ねじ５１を締め付けることにより、板ばね２１ｂにより、板５０を介してシート状の本体部３６と被照射物Ｗが押圧される。これにより、レジストＲをマスクＭに密接させることができるとともに、被照射物Ｗに本体部３６を密接させることができ、本体部内に液体の浸入を防ぐことができる。
本変形例の防液部材３０は、図１４（ａ）に示すように、防水フィルム等の可撓性の部材で構成されるシート状の本体部３６からなり、本体部３６にはマスクＭの縦横寸法より小さい開口３６ａが設けられる。マスクＭはその開口３６ａを塞ぐように配置され、同図（ａ−１）（ａ−２）に示すようにテープ３９ａあるいは接着剤３９ｂで取り付けられている。
レジストＲは同図（ｂ）に示すように基板Ｔに塗布され、基板に塗布されたレジストは、同図（ｃ）に示すように、レジストＲ側がマスクＭの遮光部ＳＨに密接するように、上記マスクＭ上に設置される。
図１４（ｃ）に示すように、マスクＭとレジストＲおよび基板Ｔが重ねられた被照射物Ｗは、図１５（ａ）に示すようにシート状の本体部３６で覆われ、図１５（ｂ）に示すように、ステージ２１にセットされる。
すなわち、複数（この例では４個）の保持部材５３の固定部位５３ａ上に上記本体部３６で覆われた被照射物Ｗを載せ、板５０と、回転軸２３を有するステージ２１を上記被照射物Ｗの上に被せる。そして、同図（ｃ）に示すように、ねじ５１で締め付けて保持部材５３の固定部位５３ａとステージ２１で被照射物Ｗを挟持して固定する。
ステージ２１の保持部材５３側には板ばね２１ｂが設けられており、ねじ５１を締め付けることにより、板ばね２１ｂにより、板５０を介してシート状の本体部３６と被照射物Ｗが押圧される。これにより、レジストＲをマスクＭに密接させることができるとともに、被照射物Ｗに本体部３６を密接させることができ、本体部内に液体の浸入を防ぐことができる。
上記のように構成された防液部材３０は前記図１１に示したレジスト防液構造体１０と同様、被照射物の法線Ｈが光出射部からの露光光Ｌの光軸ＬＡに対して傾斜するように、防液部材３０を液面４２Ａに対して傾斜させて、液体槽４０の液体中に浸し、回転軸２３を回転モータ２２の回転軸に連結する。
そして、回転モータ２２を動作させ、回転軸２３を介して防液部材３０と共にステージ２１を回転させる。ステージ２１の回転により被照射物Ｗが回転する。
この状態で、光出射部１００から光を出射する。光出射部１００から出射した光は、液体槽４０の窓部４１から液体槽４０内に入射し、その内部の空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を通過し、開口３６ａからマスクＭを介してレジストＲに入射する。このようにして、レジストＲには、空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を介して斜め方向から光が入射する。
そして、回転モータ２２を動作させ、回転軸２３を介して防液部材３０と共にステージ２１を回転させる。ステージ２１の回転により被照射物Ｗが回転する。
この状態で、光出射部１００から光を出射する。光出射部１００から出射した光は、液体槽４０の窓部４１から液体槽４０内に入射し、その内部の空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を通過し、開口３６ａからマスクＭを介してレジストＲに入射する。このようにして、レジストＲには、空気よりも大きな屈折率を持つ液体４２を介して斜め方向から光が入射する。
以上の本発明の第２の実施例の回転傾斜露光装置によれば、第１の実施例及びその変形例の回転傾斜露光装置と同様の効果が得られるほか、防液部材３０が可撓性のシート状部材で形成されているので、装置構成を簡便にすることができる。
また、上記第１、第２の実施例に示したレジスト防液構造体１０は、液体槽４０等とは独立した構造体であり、液体外で被照射物等の取り付け等を行い液体中に浸して使用することができ、被照射物Ｗの取り付け、取り外し等の取り扱いが容易である。また、レジスト防液構造体１０を浸すことができる容器であれば、任意の形状の液体槽を用いることが可能である。
また、レジスト防液構造体１０は、角度可変アーム２２２を有する角度調整機構２２０に取り付けられているので、レジスト防液構造体１０の液体槽４０中における姿勢（角度）を任意に設定することができる。このため、液体槽に入射する露光光の方向に合わせて、レジスト防液構造体の姿勢（角度）を調整することができる。
また、上記第１、第２の実施例に示したレジスト防液構造体１０は、液体槽４０等とは独立した構造体であり、液体外で被照射物等の取り付け等を行い液体中に浸して使用することができ、被照射物Ｗの取り付け、取り外し等の取り扱いが容易である。また、レジスト防液構造体１０を浸すことができる容器であれば、任意の形状の液体槽を用いることが可能である。
また、レジスト防液構造体１０は、角度可変アーム２２２を有する角度調整機構２２０に取り付けられているので、レジスト防液構造体１０の液体槽４０中における姿勢（角度）を任意に設定することができる。このため、液体槽に入射する露光光の方向に合わせて、レジスト防液構造体の姿勢（角度）を調整することができる。
上記した本発明の第１、第２の実施例およびそれらの変形例の回転傾斜露光装置は、液体槽４０の底面に設けた光入射窓４１から露光光Ｌを入射するものである。
しかし、本発明では、露光光Ｌの入射方法は、上記した第１、第２の実施例およびそれらの変形例に示す方法に限られない。例えば、第１の実施例において図１６に示すように、液体槽４０の側面に窓部４１を設け、側面の窓部４１から露光光Ｌを入射するようにしても良い。なお、図１６において、前記図１と共通する構成について同一符号が付されているが、図１に示した角度調整機構は省略されている。
同様に、前記図１１に示した第２の実施例において、液体槽の側面から露光光を入射させるように構成してもよい。
しかし、本発明では、露光光Ｌの入射方法は、上記した第１、第２の実施例およびそれらの変形例に示す方法に限られない。例えば、第１の実施例において図１６に示すように、液体槽４０の側面に窓部４１を設け、側面の窓部４１から露光光Ｌを入射するようにしても良い。なお、図１６において、前記図１と共通する構成について同一符号が付されているが、図１に示した角度調整機構は省略されている。
同様に、前記図１１に示した第２の実施例において、液体槽の側面から露光光を入射させるように構成してもよい。
１ ショートアーク型のランプ
２ 楕円集光鏡
３ １の平面鏡３
４ インテグレータレンズ
５ シャッタ
６ 第２の平面鏡
７ コリメータレンズ
１０ レジスト防液構造体
２０ 動力部
２１ ステージ
２１ａ ねじ穴
２１ｂ 板ばね
２２ 回転モータ
２２０ 角度調整機構
２２１ 把持部
２２２ 角度可変アーム
２２３ 支柱
２３，２３ｂ 回転軸
２３ａ 支柱
２４、２４ａ〜２４ｄ 力伝達棒
２５ａ〜２５ｄ フック部
２６ ホルダ部
３０ 防液部材
３１ 本体部
３１ａ 開口
３１ｂ ねじ穴
３１ｃ 固定部位
３２ 底板
３２ａ 回転ベアリング
３２ｂ ねじ
３３ ねじ
３４，３４ａ〜３４ｄ 溝部
３６ 本体部
３６ａ 開口
３７ 封止部材
３８ 金属板
３９ 接着剤あるいはテープ
４０ 液体槽
４１ 光入射窓
４２ 液体
５０ 板
５１ ねじ
５２ パッキン
５３ 保持部材
５３ａ 固定部位
Ｄ 弾性材
Ｋ 透明基板
Ｍ マスク
Ｒ レジスト
ＳＨ 遮光部
Ｔ 基板
Ｗ 被照射物
２ 楕円集光鏡
３ １の平面鏡３
４ インテグレータレンズ
５ シャッタ
６ 第２の平面鏡
７ コリメータレンズ
１０ レジスト防液構造体
２０ 動力部
２１ ステージ
２１ａ ねじ穴
２１ｂ 板ばね
２２ 回転モータ
２２０ 角度調整機構
２２１ 把持部
２２２ 角度可変アーム
２２３ 支柱
２３，２３ｂ 回転軸
２３ａ 支柱
２４、２４ａ〜２４ｄ 力伝達棒
２５ａ〜２５ｄ フック部
２６ ホルダ部
３０ 防液部材
３１ 本体部
３１ａ 開口
３１ｂ ねじ穴
３１ｃ 固定部位
３２ 底板
３２ａ 回転ベアリング
３２ｂ ねじ
３３ ねじ
３４，３４ａ〜３４ｄ 溝部
３６ 本体部
３６ａ 開口
３７ 封止部材
３８ 金属板
３９ 接着剤あるいはテープ
４０ 液体槽
４１ 光入射窓
４２ 液体
５０ 板
５１ ねじ
５２ パッキン
５３ 保持部材
５３ａ 固定部位
Ｄ 弾性材
Ｋ 透明基板
Ｍ マスク
Ｒ レジスト
ＳＨ 遮光部
Ｔ 基板
Ｗ 被照射物
Claims (4)
- 透明基板上に遮光部のパターンが形成されてなるマスク及び該マスクに密着したレジストから構成される被照射物を、露光光の入射方向に対して傾斜して配置し、該被照射物をマスク面に対して垂直方向を軸として回転させながら、該被照射物のマスク側から露光光を照射して露光する回転傾斜露光装置に適用され、露光光を透過させる液体中に浸されて使用される回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体であって、
前記レジスト防液構造体は、内部に前記レジストが収納される防液部材と、上記被照射物を回転させる回転機構とを備え、
前記防液部材は前記露光光が入射する開口を有し、該開口に前記マスクの透明基板が取り付けられ、
前記レジストが液体に濡れないように前記透明基板により前記開口が密封される
ことを特徴とする回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体。 - 前記防液部材は、前記開口を有する筒状の本体部から構成される
ことを特徴とする請求項１記載の回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体。 - 前記防液部材は、前記開口を有する可撓性部材で形成された本体部から構成され、該開口が設けられていない側が、前記防液部材内に液体が浸入しないように形成された
ことを特徴とする請求項１記載の回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体。 - 露光光を出射する光源と、
前記露光光を透過する液体が溜められた、前記露光光がその壁面もしくは底面を通じて入射する液体槽と、
前記液体槽の液体中に浸され、前記露光光が前記マスク面に斜め方向から入射するように配置された前記請求項１，２乃至請求項３に記載の回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体を備えた
ことを特徴とする回転傾斜露光装置。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2010210696A JP2012068297A (ja) | 2010-09-21 | 2010-09-21 | 回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体および該レジスト防液構造体を備える回転傾斜露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2010210696A JP2012068297A (ja) | 2010-09-21 | 2010-09-21 | 回転傾斜露光装置用レジスト防液構造体および該レジスト防液構造体を備える回転傾斜露光装置 |
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|---|---|
| JP2012068297A true JP2012068297A (ja) | 2012-04-05 |
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ID=46165694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP (1) | JP2012068297A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113272735A (zh) * | 2018-11-07 | 2021-08-17 | 伟摩有限责任公司 | 利用成角度光刻制造光导元件的系统和方法 |
| US11131934B2 (en) | 2019-10-29 | 2021-09-28 | Waymo Llc | Non-telecentric light guide elements |
-
2010
- 2010-09-21 JP JP2010210696A patent/JP2012068297A/ja active Pending
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