JP2011253150A - 回転傾斜露光装置 - Google Patents
回転傾斜露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2011253150A JP2011253150A JP2010128743A JP2010128743A JP2011253150A JP 2011253150 A JP2011253150 A JP 2011253150A JP 2010128743 A JP2010128743 A JP 2010128743A JP 2010128743 A JP2010128743 A JP 2010128743A JP 2011253150 A JP2011253150 A JP 2011253150A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- window
- resist
- liquid container
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
【課題】被照射物やステージを液体に浸すことなく、レジストRへの光の入射角度を大きくすることが可能な回転傾斜露光装置を提供すること。
【解決手段】液体容器30に光入射窓31と光出射窓32を設け、光出射窓面を光入射窓面に対して傾斜させる。この光出射窓32に、マスクMをレジストRに密着させた被照射物Wを間に空気が介在しないように取り付ける。光出射窓32は液体容器30に回転ベアリング32aを介して回転可能に取り付けられており、液体容器30の光入射窓31に光照射部10からの光を入射させ、光出射窓32から光を出射させて被照射物Wに照射するとともに、被照射物Wを光出射窓32とともに回転させる。被照射物Wが光出射窓32に密着しているので、液体中に被照射物を浸すことなく、大気中で露光するよりレジストRの表面に緩やかな斜面を形成することができる。
【選択図】 図1
【解決手段】液体容器30に光入射窓31と光出射窓32を設け、光出射窓面を光入射窓面に対して傾斜させる。この光出射窓32に、マスクMをレジストRに密着させた被照射物Wを間に空気が介在しないように取り付ける。光出射窓32は液体容器30に回転ベアリング32aを介して回転可能に取り付けられており、液体容器30の光入射窓31に光照射部10からの光を入射させ、光出射窓32から光を出射させて被照射物Wに照射するとともに、被照射物Wを光出射窓32とともに回転させる。被照射物Wが光出射窓32に密着しているので、液体中に被照射物を浸すことなく、大気中で露光するよりレジストRの表面に緩やかな斜面を形成することができる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、レジストの膜厚方向においてテーパ状に露光することが可能な、回転傾斜露光装置に関する。
露光装置は、LSI(大規模集積回路)を中心として様々な用途に用いられている。特に、最近では、ナノテクノロジ技術の進歩に誓い、電気回路や半導体素子の他、ディスプレーやMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)等の各種の分野への応用が広がっている。
ある分野では、例えば、図12(a)(b)に示すように、レジストで円錐や四角錐形状の斜面を持った立体構造を作ることが望まれている。このようにして形成した立体構造のレジストは、例えば、液晶パネルのバックライトの導光板の作成用の、インプリント用モールドの母型として使用される。
このような立体構造を形成するための露光装置として、回転傾斜露光装置が提案されている(例えば非特許文献1、特許文献1、特許文献2参照)。
ある分野では、例えば、図12(a)(b)に示すように、レジストで円錐や四角錐形状の斜面を持った立体構造を作ることが望まれている。このようにして形成した立体構造のレジストは、例えば、液晶パネルのバックライトの導光板の作成用の、インプリント用モールドの母型として使用される。
このような立体構造を形成するための露光装置として、回転傾斜露光装置が提案されている(例えば非特許文献1、特許文献1、特許文献2参照)。
図13に回転傾斜露光装置の構成の一例を示す。
回転傾斜露光装置は、光出射部10と回転ステージ部20を備える。
光出射部10は、ショートアーク型のランプ1、楕円集光鏡2、第1の平面鏡3、インテグレータレンズ4、シャッタ機構5、第2の平面鏡6、コリメータレンズ7などを備える。
ランプ1は露光光を含む光を放射する。ランプ1から放射された光は、集光鏡2により反射されて集光され、第1の平面鏡3を介してインテグレータレンズ4に入射する。インテグレータレンズ4はフライアイレンズとも言い、光照射面での照度分布を均一にするはたらきをする。インテグレータレンズ4から出射した光は、シャッタ機構5、第2の平面鏡6を介して、光を平行光にするコリメータレンズ7に入射し、平行光となって光出射部10から出射する。なお、コリメータレンズ7の代わりにコリメータミラーを用いても良い。
回転ステージ部20は、被照射物(ワーク)Wを載せるステージ21と、このステージを回転させる回転モータ22を有する。回転モータ22の回転軸23は、ステージ21の中心に接続されている。回転モータ22が動作すると、回転軸23を介してステージ21が回転する。
回転傾斜露光装置は、光出射部10と回転ステージ部20を備える。
光出射部10は、ショートアーク型のランプ1、楕円集光鏡2、第1の平面鏡3、インテグレータレンズ4、シャッタ機構5、第2の平面鏡6、コリメータレンズ7などを備える。
ランプ1は露光光を含む光を放射する。ランプ1から放射された光は、集光鏡2により反射されて集光され、第1の平面鏡3を介してインテグレータレンズ4に入射する。インテグレータレンズ4はフライアイレンズとも言い、光照射面での照度分布を均一にするはたらきをする。インテグレータレンズ4から出射した光は、シャッタ機構5、第2の平面鏡6を介して、光を平行光にするコリメータレンズ7に入射し、平行光となって光出射部10から出射する。なお、コリメータレンズ7の代わりにコリメータミラーを用いても良い。
回転ステージ部20は、被照射物(ワーク)Wを載せるステージ21と、このステージを回転させる回転モータ22を有する。回転モータ22の回転軸23は、ステージ21の中心に接続されている。回転モータ22が動作すると、回転軸23を介してステージ21が回転する。
回転ステージ部20は、光出射部10から出射する光の光軸に対して斜めに配置される。
ステージ21に載せる被照射物Wは、パターンを形成したマスクMにレジストRを塗布したものや、銅板や石英などの基板に塗布したレジストRに、マスクMを押し当てたものである。いずれにしてもマスクMとレジストRは密着している。
なお、本発明においては、いずれの被照射物Wも、上記のようにマスクMとレジスタRを密着させたものであって、上記のような被照射物を「パターンを形成したマスクをレジスト(R)に密着させた被照射物」ともいう。なお、以下では、被照射物をワークWともいう。
被照射物(ワーク)WはマスクMを、光出射部10からの光が照射される側(レジストRや基板をステージ21側)にしてステージ21に載せる。ステージ21が回転することにより、ワークが回転する。
露光処理は、ステージ21に載せたワークWを、光軸に対してあらかじめ設定された角度で傾けた状態で回転させながら、光出射部10から光を照射することにより行う。
ステージ21に載せる被照射物Wは、パターンを形成したマスクMにレジストRを塗布したものや、銅板や石英などの基板に塗布したレジストRに、マスクMを押し当てたものである。いずれにしてもマスクMとレジストRは密着している。
なお、本発明においては、いずれの被照射物Wも、上記のようにマスクMとレジスタRを密着させたものであって、上記のような被照射物を「パターンを形成したマスクをレジスト(R)に密着させた被照射物」ともいう。なお、以下では、被照射物をワークWともいう。
被照射物(ワーク)WはマスクMを、光出射部10からの光が照射される側(レジストRや基板をステージ21側)にしてステージ21に載せる。ステージ21が回転することにより、ワークが回転する。
露光処理は、ステージ21に載せたワークWを、光軸に対してあらかじめ設定された角度で傾けた状態で回転させながら、光出射部10から光を照射することにより行う。
図14を用いて、露光のプロセスについて説明する。
図14(a)は、露光を開始した時点の状態を示す図である。マスクMの黒い部分はパターンが形成され光が透過されない部分である。レジストRのハッチングの部分は光が照射されて露光されている部分である。上記したように、マスクMを光が入射する側に向けておいたワークWに対して、斜めに光が照射されるので、レジストRは傾斜して露光される。
図14(b)は、被照射物が(a)から180°回転した状態を示す回である。レジストRの露光された領域が増え、露光されない領域は、マスクMのパターンを底辺として徐々に細くなる。
図14(c)は、被照射物を1回転させて露光を終え、現像した状態を示す図であり、マスクMを下にして示している。使用したレジストRがポジ型レジストであれば、同図に示すように、光が照射された部分のレジストRが現像液に溶けて、マスクMに形成したパターンの形状を底面とする斜面を待った立体パターンが形成される。マスクMに形成したパターンの形状が円であれば円錐形状になり、マスクMのパターンの形状が四角であれば四角錐形状になる。
使用したレジストがネガ型レジストの場合は、露光されない部分のレジストが現像液に溶ける。したがって、残ったレジストには、例えば円錐状や角錐状の空洞が形成される。
図14(a)は、露光を開始した時点の状態を示す図である。マスクMの黒い部分はパターンが形成され光が透過されない部分である。レジストRのハッチングの部分は光が照射されて露光されている部分である。上記したように、マスクMを光が入射する側に向けておいたワークWに対して、斜めに光が照射されるので、レジストRは傾斜して露光される。
図14(b)は、被照射物が(a)から180°回転した状態を示す回である。レジストRの露光された領域が増え、露光されない領域は、マスクMのパターンを底辺として徐々に細くなる。
図14(c)は、被照射物を1回転させて露光を終え、現像した状態を示す図であり、マスクMを下にして示している。使用したレジストRがポジ型レジストであれば、同図に示すように、光が照射された部分のレジストRが現像液に溶けて、マスクMに形成したパターンの形状を底面とする斜面を待った立体パターンが形成される。マスクMに形成したパターンの形状が円であれば円錐形状になり、マスクMのパターンの形状が四角であれば四角錐形状になる。
使用したレジストがネガ型レジストの場合は、露光されない部分のレジストが現像液に溶ける。したがって、残ったレジストには、例えば円錐状や角錐状の空洞が形成される。
形成されるレジストによる立体構造の傾斜角θは、回転傾斜露光装置の回転ステージ部20の、光軸に対する傾斜角度を変えることにより変えることができる。
しかし、実際には、形成されるレジストの傾斜角θには限界がある。大気中で露光を行うと、大気(空気)の屈折率(=1)と樹脂であるレジストの屈折率(=約1.6)の関係から、図15(a)に示すように、例えばワークWに対し入射角89°の光を照射したとしても、レジストRへの光の入射角度は約38°になり、形成されるレジストの傾斜角θは約52°にしかならない。詳しくは、マスクMの材質がガラス(屈折率約1.8)の場合、ワークに対して入射角89°の光が照射された場合、大気からマスクMへの入射角が約34°、マスクMからレジストRへの入射角が約38°となる。
即ち、大気中ではレジストに52°よりも緩やかな斜面を形成することができない。なお、レジストには様々な種類があるが、屈折率については大きな違いはなく、種類を変えたとしても同様の問題が生じる。
しかし、実際には、形成されるレジストの傾斜角θには限界がある。大気中で露光を行うと、大気(空気)の屈折率(=1)と樹脂であるレジストの屈折率(=約1.6)の関係から、図15(a)に示すように、例えばワークWに対し入射角89°の光を照射したとしても、レジストRへの光の入射角度は約38°になり、形成されるレジストの傾斜角θは約52°にしかならない。詳しくは、マスクMの材質がガラス(屈折率約1.8)の場合、ワークに対して入射角89°の光が照射された場合、大気からマスクMへの入射角が約34°、マスクMからレジストRへの入射角が約38°となる。
即ち、大気中ではレジストに52°よりも緩やかな斜面を形成することができない。なお、レジストには様々な種類があるが、屈折率については大きな違いはなく、種類を変えたとしても同様の問題が生じる。
この問題を解決する手段の一つとして、特許文献2には、回転ステージを液浸用液体容器の中に配置し、ワークを液浸させる液浸露光装置が示されている。水の屈折率は約1.3と空気の屈折率1よりも大きいため、液体として水を用い、水中で露光を行えば、レジストRへの光の入射角を大きくすることができる。
図15(b)に示すように、(a)と同じ条件であれば、レジストRへの光の入射角度は約53°になり、形成されるレジストの傾斜角は約37°になる。詳しくは、ワークに対して入射角89°の光が照射された場合、水からマスクMへの入射角が約46°、マスクMからレジストRへの入射角が約53°となる。即ち、大気中での露光よりも緩やかな斜面を形成することができる。
図15(b)に示すように、(a)と同じ条件であれば、レジストRへの光の入射角度は約53°になり、形成されるレジストの傾斜角は約37°になる。詳しくは、ワークに対して入射角89°の光が照射された場合、水からマスクMへの入射角が約46°、マスクMからレジストRへの入射角が約53°となる。即ち、大気中での露光よりも緩やかな斜面を形成することができる。
M.H.Han,et.al.「Fabrication of 3D Microstructure with Single uv Lithography Step」 Journal of Semiconductor Technology and Scince Vol.2,No.4,December,2002
上記したように、露光光のレジストへの入射角を大きくする(すなわち、形成するレジストの傾斜角θを小さくする)ためには、特許文献2に開示されるように、回転ステージを液体容器(液体が水の場合は、以下では水槽とも呼ぶ)の中に配置し、レジストを塗布したマスクを液浸させることが有効である。
しかし、このような装置は、ワークも、ワークを載せるステージも液体に浸けるため、次のような問題が生じる。
(1)液体とレジストの組み合わせによっては、レジストが溶解や膨潤、またはマスクや基板からの剥離が生じ、立体構造の造形に悪い影響を及ぼす可能性がある。
例えば、液体として水(屈折率約1.33)の代わりにエタノール(屈折率約1.35)やアセトン(屈折率約1.36)、また屈折率が大きく入射角を大きくすることが期待できるシクロヘキサノン(屈折率約1.45)を使うことも考えられるが、レジストはこれらに溶けてしまうため使用できない。
(2)また、ステージは、一般的には鉄やアルミニウムといった金属で作られるが、これらが腐食しない液体を選ぶ必要がある。
上記のような理由で、使用可能な液体が限定され、その結果、屈折率の大きい(レジストRへの光の入射角度を大きくできる)液体が使用できない可能性がある。
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の目的は、被照射物やステージを液体に浸すことなく、レジストRへの光の入射角度を大きくすることが可能な回転傾斜露光装置を提供することである。
しかし、このような装置は、ワークも、ワークを載せるステージも液体に浸けるため、次のような問題が生じる。
(1)液体とレジストの組み合わせによっては、レジストが溶解や膨潤、またはマスクや基板からの剥離が生じ、立体構造の造形に悪い影響を及ぼす可能性がある。
例えば、液体として水(屈折率約1.33)の代わりにエタノール(屈折率約1.35)やアセトン(屈折率約1.36)、また屈折率が大きく入射角を大きくすることが期待できるシクロヘキサノン(屈折率約1.45)を使うことも考えられるが、レジストはこれらに溶けてしまうため使用できない。
(2)また、ステージは、一般的には鉄やアルミニウムといった金属で作られるが、これらが腐食しない液体を選ぶ必要がある。
上記のような理由で、使用可能な液体が限定され、その結果、屈折率の大きい(レジストRへの光の入射角度を大きくできる)液体が使用できない可能性がある。
本発明は上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の目的は、被照射物やステージを液体に浸すことなく、レジストRへの光の入射角度を大きくすることが可能な回転傾斜露光装置を提供することである。
液体容器に光入射窓と光出射窓を設け、光出射窓面を光入射窓面に対して傾斜して設け、マスクをレジストに密着させた被照射物を、間に空気が介在しないように光出射窓に取り付け、光入射窓から入射した光を光出射窓から出射させることで、被照射物を液体内に浸けた場合と同様に、レジストRへの光の入射角度を大きくすることができる。
本発明においては、上記に基づき、前記課題を次のようにして解決する。
(1)パターンを形成したマスクをレジストに密着させた被照射物と光出射部との間に液体容器を設ける。液体容器は中空であり、該容器の第1の面に上記光出射部からの光が入射する平面状の光入射窓を設け、第2の面に上記被照射物のマスク表面が接する平面状の光出射窓を設け、容器の内部に光出射部からの光が通過する空気より屈折率の高い液体を、該液体が上記光入射窓、光出射窓の全面に接するように入れる。
被照射物のマスク側の面は、上記光出射窓の液体容器の外側の面に光出射窓に密着した状態で取り付けられ、上記被照射物を回転させる被照射物回転機構を設ける。
上記光出射窓面は光入射窓面に対して傾斜して設けられ、光出射部からの光は第1の面に設けられた光入射窓から入射し、内部の液体を通過し、第2の面に設けられた光出射窓から出射して被照射物に照射される。
マスク表面が光出射窓に接した状態で被照射物を回転させるために、例えば、上記光出射窓を、液体容器にベアリングのような回転機構を介して取り付け、上記被照射物回転機構により、被照射物を光出射窓とともに回転させる。
上記光出射窓面の光入射窓面に対する傾き角度(即ち第1の面と第2の面とがなす角度)は、被照射物への光の所望の入射角度から決める。なお、光入射窓と光出射窓は、ともに露光光である紫外線を透過する平面状のガラスである。
(2)上記(1)において、液体容器の光照射窓を設けた第1の部材に対して、上記光出射窓を設けた第2の部材の傾斜角が可変となるように、第1の部材と第2の部材とを接続する接続部材を設ける。これにより、被照射物への光の入射角度を変えることができ、レジストの形成される斜面の角度を変えることができる。
例えば第1の面と第2の面を伸縮部材(蛇腹)等で接続すれば、第1の面に対する第2の面の角度(即ち光出射窓の光入射窓の対する角度)を変更することができる。
本発明においては、上記に基づき、前記課題を次のようにして解決する。
(1)パターンを形成したマスクをレジストに密着させた被照射物と光出射部との間に液体容器を設ける。液体容器は中空であり、該容器の第1の面に上記光出射部からの光が入射する平面状の光入射窓を設け、第2の面に上記被照射物のマスク表面が接する平面状の光出射窓を設け、容器の内部に光出射部からの光が通過する空気より屈折率の高い液体を、該液体が上記光入射窓、光出射窓の全面に接するように入れる。
被照射物のマスク側の面は、上記光出射窓の液体容器の外側の面に光出射窓に密着した状態で取り付けられ、上記被照射物を回転させる被照射物回転機構を設ける。
上記光出射窓面は光入射窓面に対して傾斜して設けられ、光出射部からの光は第1の面に設けられた光入射窓から入射し、内部の液体を通過し、第2の面に設けられた光出射窓から出射して被照射物に照射される。
マスク表面が光出射窓に接した状態で被照射物を回転させるために、例えば、上記光出射窓を、液体容器にベアリングのような回転機構を介して取り付け、上記被照射物回転機構により、被照射物を光出射窓とともに回転させる。
上記光出射窓面の光入射窓面に対する傾き角度(即ち第1の面と第2の面とがなす角度)は、被照射物への光の所望の入射角度から決める。なお、光入射窓と光出射窓は、ともに露光光である紫外線を透過する平面状のガラスである。
(2)上記(1)において、液体容器の光照射窓を設けた第1の部材に対して、上記光出射窓を設けた第2の部材の傾斜角が可変となるように、第1の部材と第2の部材とを接続する接続部材を設ける。これにより、被照射物への光の入射角度を変えることができ、レジストの形成される斜面の角度を変えることができる。
例えば第1の面と第2の面を伸縮部材(蛇腹)等で接続すれば、第1の面に対する第2の面の角度(即ち光出射窓の光入射窓の対する角度)を変更することができる。
本発明においては、被照射物のマスク側の面を液体容器の光出射窓に密着させて回転させ、液体容器内の空気より屈折率の高い液体を介して斜めの方向から被照射物に光を照射しているので、被照射物やステージを液体に浸すことなく、大気中で露光するよりレジストRへの光の入射角度を大きくすることができ、これによりレジストの表面に緩やかな斜面を形成することが可能となる。
また、レジストや、レジストを載せるステージに対する影響を考慮することなく、液体容器中の液体を選定することができ、前記したエタノールやアセトンやシクロヘキサノン等も用いることができる。
また、レジストや、レジストを載せるステージに対する影響を考慮することなく、液体容器中の液体を選定することができ、前記したエタノールやアセトンやシクロヘキサノン等も用いることができる。
図1は、本発明の回転傾斜露光装置の第1の実施例の構成を示す図であり、図1(a)は装置全体の断面図(光が通過する方向に平行な平面で切った断面図)、図1(b)は液体容器と液体容器の光出射窓に密着して取り付けられたワーク及びステージの部分拡大断面図、図1(c)(d)は液体容器の光出射窓の部分の構造を示す図である。
図1(a)に示すように、本発明の回転傾斜露光装置は、光出射部10、光出射部10からの光が通過する液体容器30、液体容器30の光出射側に設けられた回転ステージ部20を備える。
光出射部10は、ショートアーク型のランプ1、楕円集光鏡2、第1の平面鏡3、インテグレータレンズ4、第2の平面鏡6、コリメータレンズ7などを備える。
ランプ1は露光光(紫外線)を含む光を放射する。ランプ1から放射された光は、集光鏡2により反射されて集光され、インテグレータレンズ4に入射する。インテグレータレンズ4から出射した光は、不図示のシャッタ機構、第2の平面鏡6を介して光を平行光にするコリメータレンズ7に入射し、平行光となって光出射部10から出射する。
図1(a)に示すように、本発明の回転傾斜露光装置は、光出射部10、光出射部10からの光が通過する液体容器30、液体容器30の光出射側に設けられた回転ステージ部20を備える。
光出射部10は、ショートアーク型のランプ1、楕円集光鏡2、第1の平面鏡3、インテグレータレンズ4、第2の平面鏡6、コリメータレンズ7などを備える。
ランプ1は露光光(紫外線)を含む光を放射する。ランプ1から放射された光は、集光鏡2により反射されて集光され、インテグレータレンズ4に入射する。インテグレータレンズ4から出射した光は、不図示のシャッタ機構、第2の平面鏡6を介して光を平行光にするコリメータレンズ7に入射し、平行光となって光出射部10から出射する。
回転ステージ部20は、ワークWを載せるステージ21と、このステージを回転させる回転モータ22を有する。回転モータ22の回転軸23は、ステージ21の中心に接続されている。回転モータ22が動作すると、ステージ21が回転する。
図1(b)の部分の拡大断面図に示すように、液体容器30は例えば中空の三角柱形状であり、それを横にした状態で使用する。同図においては、図面手前と奥の面が三角柱の2枚の底面(上面)である。三角柱形状の液体容器30の第1の側面Aには、光入射窓31として露光光である紫外線を透過する紫外線透過ガラスが取り付けられる。なお、第1の側面全体を紫外線透過ガラスで構成しても良い。
また、第1の側面Aに対して斜めの関係にある第2の側面Bに、光出射窓32として紫外線透過ガラスを取り付ける。第1の側面Aと第2の側面Bがなす角度(即ち光入射窓に対する光出射窓の角度)は、ワークWに入射する光の所望の入射角度から設定する。
図1(b)の部分の拡大断面図に示すように、液体容器30は例えば中空の三角柱形状であり、それを横にした状態で使用する。同図においては、図面手前と奥の面が三角柱の2枚の底面(上面)である。三角柱形状の液体容器30の第1の側面Aには、光入射窓31として露光光である紫外線を透過する紫外線透過ガラスが取り付けられる。なお、第1の側面全体を紫外線透過ガラスで構成しても良い。
また、第1の側面Aに対して斜めの関係にある第2の側面Bに、光出射窓32として紫外線透過ガラスを取り付ける。第1の側面Aと第2の側面Bがなす角度(即ち光入射窓に対する光出射窓の角度)は、ワークWに入射する光の所望の入射角度から設定する。
第1の側面Aと第2の側面Bをつなぐ第3の側面Cと、その両側の2枚の底面は光透過性でなくても良い。中空の液体容器30の内部には、空気より屈折率の高い液体、例えば純水やエタノール、またはグリセリン(C3H5(OH)3)(屈折率1.47)や、液浸顕微鏡に用いられるアニソール(CH3OC6H5)(屈折率約1.5)といった液体を入れる。
光出射窓32にはワークWのマスクMの表面(レジストR側とは反対側の面)が接する。また、光出射窓32は第2側面Bを構成する部材(天板33という)に対してベアリングのような回転機構を介して取り付けられており、ワークWの回転と共に回転する。詳しくは後述する。
光出射部10からの光は第1の側面Aの光入射窓31から入射し、第2の側面Bに設けられた光出射窓32から出射し、ワークWに照射される。
光出射窓32にはワークWのマスクMの表面(レジストR側とは反対側の面)が接する。また、光出射窓32は第2側面Bを構成する部材(天板33という)に対してベアリングのような回転機構を介して取り付けられており、ワークWの回転と共に回転する。詳しくは後述する。
光出射部10からの光は第1の側面Aの光入射窓31から入射し、第2の側面Bに設けられた光出射窓32から出射し、ワークWに照射される。
図1(c)(d)は液体容器30の第2の側面B(天板)に設けられた光出射窓32の部分の構造を示す図であり、図1(c)は第2の側面Bの断面図、図1(d)は第2の側面Bの平面図である。
光出射窓32は回転機構である回転ベアリング32aを介して第2の側面Bの天板33に取り付けられており、光出射窓32は第2の側面Bの光出射窓の平面内で回転する。回転ステージ部20のステージ21は、回転ベアリング32aにねじ32bとナット32cにより締め付けて固定する。ワークWは光出射窓32とステージ21との間にはさまれる。なお、図1(d)に示すように、天板33に液体容器に液体を注入するための液注入口34を設けることにより、容器30中の液の交換は可能となる。
上記したように、光出射窓32にはワークWのマスクM側(レジストR側とは反対側)が接する。この時、マスクMと光出射窓32との間に気泡が入りこまないように、レンズなどのカップリングオイルとして用いられる市販の屈折液32dを注入し、両者の隙間を埋める。市販の屈折液32dとしては、(株)モリテックス社製のカーギル(Cargille)標準屈折液などを用いることができる。
回転モータ22が回転すると回転軸23が回転し、ステージ21が回転する。ステージ21が回転すると、ねじにより接続されている回転ベアリング32aが回転する。これにより、光照射窓32とワークWはステージ21の回転と共に回転する。
光出射窓32は回転機構である回転ベアリング32aを介して第2の側面Bの天板33に取り付けられており、光出射窓32は第2の側面Bの光出射窓の平面内で回転する。回転ステージ部20のステージ21は、回転ベアリング32aにねじ32bとナット32cにより締め付けて固定する。ワークWは光出射窓32とステージ21との間にはさまれる。なお、図1(d)に示すように、天板33に液体容器に液体を注入するための液注入口34を設けることにより、容器30中の液の交換は可能となる。
上記したように、光出射窓32にはワークWのマスクM側(レジストR側とは反対側)が接する。この時、マスクMと光出射窓32との間に気泡が入りこまないように、レンズなどのカップリングオイルとして用いられる市販の屈折液32dを注入し、両者の隙間を埋める。市販の屈折液32dとしては、(株)モリテックス社製のカーギル(Cargille)標準屈折液などを用いることができる。
回転モータ22が回転すると回転軸23が回転し、ステージ21が回転する。ステージ21が回転すると、ねじにより接続されている回転ベアリング32aが回転する。これにより、光照射窓32とワークWはステージ21の回転と共に回転する。
次に、図1の回転傾斜露光装置を用いた露光の手順を説明する。
液体容器30の内部には、空気よりも屈折率の大きい液体が、光入射窓31や光出射窓32との間に気泡が残らないように充填されている。また、液体容器30の、第1の側面Aと第2の側面Bとのなす角(光入射窓31に対する光出射窓32の角度)δは、充填されている液体やレジストの屈折率に基づく計算や実験などによりあらかじめ求められ設定されている。
図2に示すように、レジストRの上にマスクMを密着されたワークWを、液体容器30の光出射窓32の上に、マスクMのレジストR側とは反対側が接するように置く。なお、ワークWには、同図の点線で示すようにレジストR側に基板Pが取り付けられているものもある。
この時、マスクMと光出射窓32との間に気泡が入りこまないように、前記したレンズなどのカップリングオイルとして用いられる屈折液32dを、マスクMと光出射窓32との間に注入し両者の隙間を埋める。
そして、図1(c)のように、ワークWのレジストR側にステージ21を配置し、ワークWを光出射窓32とステージ21の間に挟みこむ。この状態で、ステージ21と回転ベアリング32aとをねじ32bとナット32cで固定する。ワークWは光照射窓32とステージ21との間に挟まれて固定される。
液体容器30の内部には、空気よりも屈折率の大きい液体が、光入射窓31や光出射窓32との間に気泡が残らないように充填されている。また、液体容器30の、第1の側面Aと第2の側面Bとのなす角(光入射窓31に対する光出射窓32の角度)δは、充填されている液体やレジストの屈折率に基づく計算や実験などによりあらかじめ求められ設定されている。
図2に示すように、レジストRの上にマスクMを密着されたワークWを、液体容器30の光出射窓32の上に、マスクMのレジストR側とは反対側が接するように置く。なお、ワークWには、同図の点線で示すようにレジストR側に基板Pが取り付けられているものもある。
この時、マスクMと光出射窓32との間に気泡が入りこまないように、前記したレンズなどのカップリングオイルとして用いられる屈折液32dを、マスクMと光出射窓32との間に注入し両者の隙間を埋める。
そして、図1(c)のように、ワークWのレジストR側にステージ21を配置し、ワークWを光出射窓32とステージ21の間に挟みこむ。この状態で、ステージ21と回転ベアリング32aとをねじ32bとナット32cで固定する。ワークWは光照射窓32とステージ21との間に挟まれて固定される。
回転モータ22を動作させ、ステージ21を回転させる。ステージ21の回転によりワークWが回転する。またステージ21にねじ止めされている回転ベアリング32aも回転し、これにより光出射窓32も回転する。
この状態で光出射部10から光を出射する。光出射部10から出射した光は、光入射窓31から液体容器30に入射する。その後、図3に示すように、光は、光入射窓31から液体容器30内に入射し、その内部の空気よりも大きな屈折率を有する液体を通過し、光出射窓32からマスクMを介してレジストRに入射する。
上記したように、マスクMと光出射窓32との間にはカップリングオイルが塗られており、液体容器の液体からレジストRまでの間には空気層がない。そのため、このような構成で光を照射すると、ワークWを液体に浸して光を照射する場合と同じ効果がある。したがって、ワークWやステージ21を液体に浸すことなく、レジストRへの光の入射角度を大きくすることができる。
なお厳密に言えば、光出射窓32とマスクMとの界面で屈折が生じるが、図3においては省略している。
この状態で光出射部10から光を出射する。光出射部10から出射した光は、光入射窓31から液体容器30に入射する。その後、図3に示すように、光は、光入射窓31から液体容器30内に入射し、その内部の空気よりも大きな屈折率を有する液体を通過し、光出射窓32からマスクMを介してレジストRに入射する。
上記したように、マスクMと光出射窓32との間にはカップリングオイルが塗られており、液体容器の液体からレジストRまでの間には空気層がない。そのため、このような構成で光を照射すると、ワークWを液体に浸して光を照射する場合と同じ効果がある。したがって、ワークWやステージ21を液体に浸すことなく、レジストRへの光の入射角度を大きくすることができる。
なお厳密に言えば、光出射窓32とマスクMとの界面で屈折が生じるが、図3においては省略している。
次に、本発明における上記実施例の変形例について説明する。
図4は、上記実施例の変形例(1)を示す図である。
上記実施例では、光出射部10からの光が液体容器30を下から上に通過するように構成したが、図4に示すように、光出射部10からの光が液体容器30の側面から入射し、液体内を横方向に通過するように構成しても良い。
それ以外の構成は図1の装置と基本的には同じであり、同一のものには同一の符号が付されている。
すなわち、図1に示したものと同様に、ランプ1、楕円集光鏡2、第1の平面鏡3、インテグレータレンズ4、コリメータレンズ7等を有する光出射部10と、液体容器30と、ステージ21と回転モータ22等から構成される回転ステージ部20から構成され、光出射窓32の上に、マスクMが光入射側になるように置かれたワークWが載せられている。光出射部10から光入射部31に入射した光は液体容器30内を通り、光出射窓32から出射してワークWに照射される。
なお、本実施例では、光を液体容器30の側面から入射させているので、光出射部10に図1に示した第2平面鏡6は設けられていない。また、液体容器30の光入射窓31が光出射部20のコリメータレンズ7と対向して設けられる。
図4は、上記実施例の変形例(1)を示す図である。
上記実施例では、光出射部10からの光が液体容器30を下から上に通過するように構成したが、図4に示すように、光出射部10からの光が液体容器30の側面から入射し、液体内を横方向に通過するように構成しても良い。
それ以外の構成は図1の装置と基本的には同じであり、同一のものには同一の符号が付されている。
すなわち、図1に示したものと同様に、ランプ1、楕円集光鏡2、第1の平面鏡3、インテグレータレンズ4、コリメータレンズ7等を有する光出射部10と、液体容器30と、ステージ21と回転モータ22等から構成される回転ステージ部20から構成され、光出射窓32の上に、マスクMが光入射側になるように置かれたワークWが載せられている。光出射部10から光入射部31に入射した光は液体容器30内を通り、光出射窓32から出射してワークWに照射される。
なお、本実施例では、光を液体容器30の側面から入射させているので、光出射部10に図1に示した第2平面鏡6は設けられていない。また、液体容器30の光入射窓31が光出射部20のコリメータレンズ7と対向して設けられる。
図5は上記実施例の他の変形例(2)を示す図である。
図4では光出射部10からの光が液体容器30の側面から入射するように構成したが、図5に示すように構成してもよい。
すなわち、液体容器30の光入射窓31を上面に設け、光出射窓32を下面側に設け、光出射部10からの光が液体容器30の上面から入射し下面側から出射して、ワークWに入射するように構成する。なお、それ以外の構成は図1、図4の装置と基本的には同じであり、同一のものには同一の符号が付されている。
図4では光出射部10からの光が液体容器30の側面から入射するように構成したが、図5に示すように構成してもよい。
すなわち、液体容器30の光入射窓31を上面に設け、光出射窓32を下面側に設け、光出射部10からの光が液体容器30の上面から入射し下面側から出射して、ワークWに入射するように構成する。なお、それ以外の構成は図1、図4の装置と基本的には同じであり、同一のものには同一の符号が付されている。
上記実施例では、回転モータ22により回転軸23を介してステージ21を回転させ、ステージ21とともにワークWおよび光出射窓32を回転させるように構成したが、その他の手段でワークWを回転させるようにしてもよい。
図6はリンク機構により、ワークWおよび光出射窓32を回転させるように構成した第1の実施例の変形例(その3)を示す図である。
図6は天板33に設けられた光出射窓32の部分構造を示す図であり、図6(a)は液体容器30の断面図、図6(b)は光出射窓とその回転機構を同図(a)のA方向から見た図である。
光出射窓32は前述したように回転ベアリング32aを介して天板33に取り付けられており、光出射窓32は第2の側面Bの光出射窓の平面内で回転する。ステージ21は、回転ベアリング32aと間にワークWを挟んでねじ32bとナット32cにより締め付けて固定する。なお、この場合、ステージ21は単にワークを抑える抑え板としての機能をはたしているだけであり、その他の手段でワークWを光出射窓部分に固定してもよい。
回転ベアリング32aの回転部分には、棒32eを介してリンク機構32fが取り付けられており、リンク機構32fの他端は、例えばレール32gに沿って移動する自走機構32h等に接続されている。
このような構成において、リンク機構32fの他端をレール32gに沿って移動させることにより、回転ベアリング32aを回転させることができ、これにより、光出射窓32とともにワークWを回転させることができる。
図6はリンク機構により、ワークWおよび光出射窓32を回転させるように構成した第1の実施例の変形例(その3)を示す図である。
図6は天板33に設けられた光出射窓32の部分構造を示す図であり、図6(a)は液体容器30の断面図、図6(b)は光出射窓とその回転機構を同図(a)のA方向から見た図である。
光出射窓32は前述したように回転ベアリング32aを介して天板33に取り付けられており、光出射窓32は第2の側面Bの光出射窓の平面内で回転する。ステージ21は、回転ベアリング32aと間にワークWを挟んでねじ32bとナット32cにより締め付けて固定する。なお、この場合、ステージ21は単にワークを抑える抑え板としての機能をはたしているだけであり、その他の手段でワークWを光出射窓部分に固定してもよい。
回転ベアリング32aの回転部分には、棒32eを介してリンク機構32fが取り付けられており、リンク機構32fの他端は、例えばレール32gに沿って移動する自走機構32h等に接続されている。
このような構成において、リンク機構32fの他端をレール32gに沿って移動させることにより、回転ベアリング32aを回転させることができ、これにより、光出射窓32とともにワークWを回転させることができる。
上記実施例においては、液体容器30の形状は、三角柱状であるがそれ以外の形状でも良い。
図7は、液体容器30を円柱形状とした場合の構成例を示す図である。中空の円柱状の容器30の一端に光入射窓31を設け、他端は斜めに切り落としてそこに光出射窓32を設けている。円柱状の容器30内は液体で満たされている。
光出射窓32には、前記したようにワークWのマスクMの表面(レジストR側とは反対側の面)が接する。光出射窓32の構造は図1(c)(d)に示したものと同様であり、円柱状の容器30の斜めに切った面に対して、光出射窓32が回転ベアリング32aを介して取り付けられ、ワークWの回転と共に回転する。
以上のように液体容器30は、要するに、液体が入れられるように中空であり、また光入射窓と光出射窓とが平面で、レジストに入射する光が所望の入射角度を得られるように、光入射窓と光出射窓とが互いに斜めの位置関係で配置されたものであれば、どのような形状であってもよい。
なお、光入射窓と光出射窓とは平面である。なぜなら平面でない場合は、レジストに入射する光の入射角度の制御が困難になるからである。
図7は、液体容器30を円柱形状とした場合の構成例を示す図である。中空の円柱状の容器30の一端に光入射窓31を設け、他端は斜めに切り落としてそこに光出射窓32を設けている。円柱状の容器30内は液体で満たされている。
光出射窓32には、前記したようにワークWのマスクMの表面(レジストR側とは反対側の面)が接する。光出射窓32の構造は図1(c)(d)に示したものと同様であり、円柱状の容器30の斜めに切った面に対して、光出射窓32が回転ベアリング32aを介して取り付けられ、ワークWの回転と共に回転する。
以上のように液体容器30は、要するに、液体が入れられるように中空であり、また光入射窓と光出射窓とが平面で、レジストに入射する光が所望の入射角度を得られるように、光入射窓と光出射窓とが互いに斜めの位置関係で配置されたものであれば、どのような形状であってもよい。
なお、光入射窓と光出射窓とは平面である。なぜなら平面でない場合は、レジストに入射する光の入射角度の制御が困難になるからである。
次に本発明の第2の実施例について説明する。
上記第1の実施例の液体容器30は、光入射窓に対する光出射窓の角度δが変えられなかったが、本実施例は、上記角度を変えられるように構成したものである。
図8は、第2の実施例の液体容器30の断面図である。なお、本実施例における回転傾斜露光装置の全体構成は前記図1に示したものと同じであり、本実施例と第1の実施例は液体容器30の構造が異なる点を除き同様であるので、ここでは、液体容器30のみを示す。
液体容器30の基本的な形状は第1の実施例において示したものと同様、中空の三角柱形状であり、第1の側面Aには光入射窓31が、第1の側面Aに対して斜めの関係にある第2の側面Bには光出射窓32が設けられている。
上記第1の実施例の液体容器30は、光入射窓に対する光出射窓の角度δが変えられなかったが、本実施例は、上記角度を変えられるように構成したものである。
図8は、第2の実施例の液体容器30の断面図である。なお、本実施例における回転傾斜露光装置の全体構成は前記図1に示したものと同じであり、本実施例と第1の実施例は液体容器30の構造が異なる点を除き同様であるので、ここでは、液体容器30のみを示す。
液体容器30の基本的な形状は第1の実施例において示したものと同様、中空の三角柱形状であり、第1の側面Aには光入射窓31が、第1の側面Aに対して斜めの関係にある第2の側面Bには光出射窓32が設けられている。
光入射窓31を設けた第1の側面Aと光出射窓32を設けた第2の側面Bとは、一端において回転接続部材(蝶番)35により接続されている。これにより、第2の側面Bは第1の側面Aに対して回転移動し、第1の側面と第2の側面のなす角度δを変えることができる。
そして、第1の側面Aと第2の側面Bとの間、すなわち、三角柱状の容器30の三角柱を構成する第3の面および三角柱の両側の底面(図面前後方向の面)は、伸縮部材(たとえば蛇腹)36により構成されている。この伸縮部材36(蛇腹)は、第1の側面Aと第2の側面Bとの間に液体が満たされる空間を作る。また、伸縮部材36(蛇腹)は、第2の側面Bが第1の側面Aに対して回転接続部材(蝶番)35を中心に回転移動する際に伸縮する。
光出射窓32には、前記したようにワークWのマスクMの表面(レジストR側とは反対側の面)が接する。光出射窓32の構造は図1(c)(d)に示したものと同様であり、天板33に対して、光出射窓32が回転ベアリング32aを介して取り付けられ、ワークWの回転と共に回転する。
また、第2の側面Bの天板33には、この液体容器30の内部に液体を注入する液体注入口が形成されている
そして、第1の側面Aと第2の側面Bとの間、すなわち、三角柱状の容器30の三角柱を構成する第3の面および三角柱の両側の底面(図面前後方向の面)は、伸縮部材(たとえば蛇腹)36により構成されている。この伸縮部材36(蛇腹)は、第1の側面Aと第2の側面Bとの間に液体が満たされる空間を作る。また、伸縮部材36(蛇腹)は、第2の側面Bが第1の側面Aに対して回転接続部材(蝶番)35を中心に回転移動する際に伸縮する。
光出射窓32には、前記したようにワークWのマスクMの表面(レジストR側とは反対側の面)が接する。光出射窓32の構造は図1(c)(d)に示したものと同様であり、天板33に対して、光出射窓32が回転ベアリング32aを介して取り付けられ、ワークWの回転と共に回転する。
また、第2の側面Bの天板33には、この液体容器30の内部に液体を注入する液体注入口が形成されている
次に、この液体容器30を用いた場合の装置の動作について説明する。
液体容器30の第2の側面Bを第1の側面Aに対して回転移動し、所望の角度に設定する。レジストに入射する光の角度と第2の側面の回転角度δ(光入射窓31に対する光出射窓32の角度)との関係は、レジストRの屈折率や液体容器30に注入する液体の屈折率により異なるので、あらかじめ計算や実験により求めておく。
上記角度δの設定後、レジストRの上にマスクMを密着されたワークWを、液体容器30の光出射窓32の上に、マスクMのレジストR側とは反対側が接するように置く。この時、マスクMと光出射窓32との間には、前記したように液体注入口34から屈折液を注入する。
次いで、図1(c)で説明したようにワークWのレジストR側にステージ21を配置し、ワークWを光出射窓32とステージ21の間に挟みこむ。この状態で、ステージ21と回転ベアリング32aとをねじ32bで固定する。
そして、図1(a)で説明したように、回転モータ22を動作させてステージ21を回転させ、ワークWと光出射窓32を回転させる。この状態で光出射部10から光を出射し、液体容器30内の液体を通過した光を、マスクMを介してレジストRに照射する。
液体容器30の第2の側面Bを第1の側面Aに対して回転移動し、所望の角度に設定する。レジストに入射する光の角度と第2の側面の回転角度δ(光入射窓31に対する光出射窓32の角度)との関係は、レジストRの屈折率や液体容器30に注入する液体の屈折率により異なるので、あらかじめ計算や実験により求めておく。
上記角度δの設定後、レジストRの上にマスクMを密着されたワークWを、液体容器30の光出射窓32の上に、マスクMのレジストR側とは反対側が接するように置く。この時、マスクMと光出射窓32との間には、前記したように液体注入口34から屈折液を注入する。
次いで、図1(c)で説明したようにワークWのレジストR側にステージ21を配置し、ワークWを光出射窓32とステージ21の間に挟みこむ。この状態で、ステージ21と回転ベアリング32aとをねじ32bで固定する。
そして、図1(a)で説明したように、回転モータ22を動作させてステージ21を回転させ、ワークWと光出射窓32を回転させる。この状態で光出射部10から光を出射し、液体容器30内の液体を通過した光を、マスクMを介してレジストRに照射する。
上記において第2の側面Bを第1の側面Aに対して所望の角度に設定するため、以下のような構成としてもよい。
例えば、図9に示すように、液体容器30の液体注入口34に液体を注入するポンプ37を接続し、ポンプ37から管38を介して液体容器30に液体を注入できるように構成し、液体容器30に注入する液体の量で、第2の側面Bの角度δを設定する。
また、本実施例においても、前記図4、図5に示すように液体容器の側面あるいは上面から光を入射させたり、あるいは図6に示すような回転機構を用いたり、図7に示した形状の容器を用いてもよい。
例えば、図9に示すように、液体容器30の液体注入口34に液体を注入するポンプ37を接続し、ポンプ37から管38を介して液体容器30に液体を注入できるように構成し、液体容器30に注入する液体の量で、第2の側面Bの角度δを設定する。
また、本実施例においても、前記図4、図5に示すように液体容器の側面あるいは上面から光を入射させたり、あるいは図6に示すような回転機構を用いたり、図7に示した形状の容器を用いてもよい。
次に、レジストに45°の斜面を形成するための上記液体容器の具体的な構成例について説明する。
図10は、液体容器30に下方向から光を入射した場合において、レジスト上に45°の傾斜面を形成する場合の上記液体容器の具体的な構成例である。同図(a)は液体容器30の断面図、(b)はレジストへの入射する角度を示す図、(c)は(a)においてA方向から見た天板33および光出射窓32を示す図である。なお、同図は、液体容器30内に水を入れ、光出射窓32に石英ガラスを用いた場合を示している。
光が光入射窓31面に対して垂直に入射すると、光は液体容器30中に入れられた水を透過して光出射窓32に達し、同図(b)に示すように光入射窓31に63°で入射する。
そして、水と光出射窓32(石英ガラス)との境界、光出射窓32とレジストRとの境界で屈折して、レジストR内には光出射窓面に対して45°で入射する。なお、ここではマスクMの屈折率は光出射窓32の屈折率と同じであり、光出射窓32とマスクMの境界では屈折しないとしている。
この場合、同図に示すように光入射窓31を設けた第1の面A(底板)と光出射窓32を設けた第2の面B(天板33)が成す角度は、63°である。
光出射部から出射される光が光入射窓31面に対して垂直に入射すると、光は液体容器30中に入れられた水を透過して光出射窓32に達し、同図(b)に示すように光出射窓32に63°で入射する。
そして、水と光出射窓32(石英ガラス)との境界、光出射窓32とレジストRとの境界で屈折して、レジストR内には光出射窓面に対して45°で入射する。このため、レジストRに45°の角度の斜面を形成することができる。
図10は、液体容器30に下方向から光を入射した場合において、レジスト上に45°の傾斜面を形成する場合の上記液体容器の具体的な構成例である。同図(a)は液体容器30の断面図、(b)はレジストへの入射する角度を示す図、(c)は(a)においてA方向から見た天板33および光出射窓32を示す図である。なお、同図は、液体容器30内に水を入れ、光出射窓32に石英ガラスを用いた場合を示している。
光が光入射窓31面に対して垂直に入射すると、光は液体容器30中に入れられた水を透過して光出射窓32に達し、同図(b)に示すように光入射窓31に63°で入射する。
そして、水と光出射窓32(石英ガラス)との境界、光出射窓32とレジストRとの境界で屈折して、レジストR内には光出射窓面に対して45°で入射する。なお、ここではマスクMの屈折率は光出射窓32の屈折率と同じであり、光出射窓32とマスクMの境界では屈折しないとしている。
この場合、同図に示すように光入射窓31を設けた第1の面A(底板)と光出射窓32を設けた第2の面B(天板33)が成す角度は、63°である。
光出射部から出射される光が光入射窓31面に対して垂直に入射すると、光は液体容器30中に入れられた水を透過して光出射窓32に達し、同図(b)に示すように光出射窓32に63°で入射する。
そして、水と光出射窓32(石英ガラス)との境界、光出射窓32とレジストRとの境界で屈折して、レジストR内には光出射窓面に対して45°で入射する。このため、レジストRに45°の角度の斜面を形成することができる。
図11は、液体容器30に横方向から光を入射した場合において、レジスト上に45°の傾斜面を形成する場合の上記液体容器の具体的な構成例であり、液体容器30内に水を入れ、光出射窓32に石英ガラスを用いた場合を示している。この場合も、上記図10に示したものと同様に、光入射窓31を設けた第1の面A(横板)と光出射窓32を設けた第2の面B(天板33)が成す角度は、63°であり、図10(b)に示したように、光が光入射窓31面に対して垂直に入射すると、光は液体容器30中に入れられた水を透過して光出射窓32に達し、同図(b)に示すように光出射窓32に63°で入射する。
そして、水と光出射窓32(石英ガラス)との境界、光出射窓32とレジストRとの境界で屈折して、レジストR内には光出射窓面に対して45°で入射し、レジストRに45°の角度の斜面を形成することができる。
そして、水と光出射窓32(石英ガラス)との境界、光出射窓32とレジストRとの境界で屈折して、レジストR内には光出射窓面に対して45°で入射し、レジストRに45°の角度の斜面を形成することができる。
1 ショートアーク型のランプ
2 楕円集光鏡
3 第1の平面鏡
4 インテグレータレンズ
6 第2の平面鏡
7 コリメータレンズ
10 光出射部
20 回転ステージ部
21 ステージ
22 回転モータ
23 回転軸
30 液体容器
33 天板
31 光入射窓
32 光出射窓
32a 回転ベアリング
32b ねじ
32c ナット
32d 屈折液
32e 棒
32f リンク機構
32g レール
32h 自走機構
33 天板
34 液注入口
35 回転接続部材(蝶番)
36 伸縮部材(蛇腹)
37 ポンプ
2 楕円集光鏡
3 第1の平面鏡
4 インテグレータレンズ
6 第2の平面鏡
7 コリメータレンズ
10 光出射部
20 回転ステージ部
21 ステージ
22 回転モータ
23 回転軸
30 液体容器
33 天板
31 光入射窓
32 光出射窓
32a 回転ベアリング
32b ねじ
32c ナット
32d 屈折液
32e 棒
32f リンク機構
32g レール
32h 自走機構
33 天板
34 液注入口
35 回転接続部材(蝶番)
36 伸縮部材(蛇腹)
37 ポンプ
Claims (2)
- 露光光を出射する光出射部と、
パターンを形成したマスクをレジストに密着させた被照射物を回転させる被照射物回転機構と、
上記光出射部からの光が入射する平面状の光入射窓と、上記被照射物のマスク表面が接する平面状の光出射窓を有し、内部に上記光入射窓から入射した光が透過する液体を充填した液体容器を備え、
上記光入射窓と光出射窓は、上記液体容器の中の液体に接する位置に設けられ、
上記液体容器の光出射窓面は、上記光入射窓面に対して傾斜して設けられ、上記被照射物回転機構は、上記被照射物を上記液体容器の外部において回転させる
ことを特徴とする回転傾斜露光装置。 - 上記液体容器は、
光入射窓を設けた第1の部材と、光出射窓を設けた第2の部材と、
上記第1の部材に対する上記第2の部材の傾斜角が可変となるように、上記第1の部材と上記第2の部材とを接続する接続部材を備えた
ことを特徴とする請求項1に記載の回転傾斜露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010128743A JP2011253150A (ja) | 2010-06-04 | 2010-06-04 | 回転傾斜露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010128743A JP2011253150A (ja) | 2010-06-04 | 2010-06-04 | 回転傾斜露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011253150A true JP2011253150A (ja) | 2011-12-15 |
Family
ID=45417100
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010128743A Pending JP2011253150A (ja) | 2010-06-04 | 2010-06-04 | 回転傾斜露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2011253150A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210070388A (ko) * | 2018-11-07 | 2021-06-14 | 웨이모 엘엘씨 | 광 가이드 엘리먼트들을 제조하기 위해 각진 포토리소그래피를 이용하는 시스템들 및 방법들 |
-
2010
- 2010-06-04 JP JP2010128743A patent/JP2011253150A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210070388A (ko) * | 2018-11-07 | 2021-06-14 | 웨이모 엘엘씨 | 광 가이드 엘리먼트들을 제조하기 위해 각진 포토리소그래피를 이용하는 시스템들 및 방법들 |
JP2022512833A (ja) * | 2018-11-07 | 2022-02-07 | ウェイモ エルエルシー | 光ガイド素子を製造するために角度付けられたフォトリソグラフィを利用するシステムおよび方法 |
JP7177925B2 (ja) | 2018-11-07 | 2022-11-24 | ウェイモ エルエルシー | 光ガイド素子を製造するために角度付けられたフォトリソグラフィを利用するシステムおよび方法 |
KR102596861B1 (ko) * | 2018-11-07 | 2023-11-02 | 웨이모 엘엘씨 | 광 가이드 엘리먼트들을 제조하기 위해 각진 포토리소그래피를 이용하는 시스템들 및 방법들 |
US11994802B2 (en) | 2018-11-07 | 2024-05-28 | Waymo Llc | Systems and methods that utilize angled photolithography for manufacturing light guide elements |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102386069B1 (ko) | 공간적으로 비균일한 조명을 사용하는 임프린트 시스템 및 임프린팅 프로세스 | |
KR101517356B1 (ko) | 상반구 및 하반구에서 배트윙 발광 강도 분포를 나타내는 광 제어 장치 | |
CN101281365B (zh) | 物质图形、模具、金属薄膜图形及金属图形的形成方法 | |
TWI427427B (zh) | 微影裝置及元件製造方法 | |
TWI399620B (zh) | 立體光阻微結構的製作方法 | |
Lee et al. | A new fabrication process for uniform SU-8 thick photoresist structures by simultaneously removing edge bead and air bubbles | |
US8372578B2 (en) | Gray-tone lithography using optical diffusers | |
JP2011168065A (ja) | 1ピースの中空の円筒形の反転可能なエラストマー系マスタを作製する方法、およびエラストマー系マスタ | |
CN102520591A (zh) | 一种基于负性光刻胶的扩散片光刻工艺方法 | |
TW200903189A (en) | Exposure apparatus and exposing method | |
JP2013038117A (ja) | 微細パターンを転写するための転写ヘッド及びそれを用いた微細パターンの形成方法 | |
JP2009531734A (ja) | ナノパターン形成方法およびこれによって形成されたパターンを有する基板 | |
US20120176588A1 (en) | Immersion Lithography Apparatus and Tank Thereof | |
JP2011253150A (ja) | 回転傾斜露光装置 | |
JP2011253151A (ja) | 回転傾斜露光装置 | |
WO2010001782A1 (ja) | 露光方法および露光装置 | |
Huang et al. | Photopolymerized self-assembly microlens arrays based on phase separation | |
WO2014190676A1 (zh) | 曝光设备和曝光方法 | |
Zhang et al. | Fabricating SU-8 Photoresist Microstructures with Controlled Convexity–Concavity and Curvature through Thermally Manipulating Capillary Action in Poly (dimethylsiloxane) Microholes | |
JP2004363571A5 (ja) | ||
TW201740179A (zh) | 一種投影螢幕的製作方法及相關投影螢幕 | |
JP2009071065A (ja) | ステージ装置及び露光装置 | |
Zhu et al. | Free-Form Micro-Lens Array Fabrication via Laser Micro-Lens Array Lithography. | |
Badar | Fabrication of microlens in polymers with thermal reflow | |
Yang | Ultra-violet lithography of thick photoresist for the applications in BioMEMS and micro optics |