JP2012064424A - プラズマディスプレイパネル - Google Patents

Abstract

【課題】高精細で高輝度の表示性能を備え、かつ低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現することを目的とする。
【解決手段】基板上に電極、誘電体層、および保護層を形成したプラズマディスプレイパネルであって、前記保護層はナノ結晶粒子を用いて形成されており、前記保護層に波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍそれぞれの真空紫外線を照射してフォトルミネッセンス発光スペクトルを測定したとき、波長３５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲における波長１４６ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピークをＡ、波長１７２ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピークをＢとすると、発光強度比Ａ／Ｂが２．７以上となる特性を示すものであることを特徴とする。
【選択図】図２

Description

本発明は、表示デバイスなどに用いるプラズマディスプレイパネルに関する。

プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと呼ぶ）は、高精細化、大画面化の実現が可能であることから、１００インチクラスのテレビなどが製品化されている。近年、ＰＤＰにおいては、従来のＮＴＳＣ方式に比べて走査線数が２倍以上の高精細テレビへの適用が進められており、エネルギー問題に対応してさらなる消費電力低減への取り組みや、環境問題に配慮した鉛成分を含まないＰＤＰへの要求なども高まっている。

ＰＤＰは、基本的には、前面板と背面板とで構成されている。前面板は、フロート法により製造された硼硅酸ナトリウム系ガラスのガラス基板と、ガラス基板の一方の主面上に形成されたストライプ状の透明電極とバス電極とで構成される表示電極と、表示電極を覆ってコンデンサとしての働きをする誘電体層と、誘電体層上に形成された酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる保護層とで構成されている。

一方、背面板は、ガラス基板と、その一方の主面上に形成されたストライプ状のデータ電極と、データ電極を覆う下地誘電体層と、下地誘電体層上に形成された隔壁と、各隔壁間に形成された赤色、緑色及び青色それぞれに発光する蛍光体層とで構成されている。

前面板と背面板とはその電極形成面側を対向させて気密封着され、隔壁によって仕切られた放電空間にネオン（Ｎｅ）−キセノン（Ｘｅ）の放電ガスが５３ｋＰａ〜８０ｋＰａの圧力で封入されている。ＰＤＰは、表示電極に映像信号電圧を選択的に印加することによって放電させ、その放電によって発生した紫外線が各色蛍光体層を励起して赤色、緑色、青色の発光をさせてカラー画像表示を実現している。

また、このようなＰＤＰの駆動方法としては、書込みをしやすい状態に壁電荷を調整する初期化期間と、入力画像信号に応じて書込み放電を行う書込み期間と、書込みが行われた放電空間で維持放電を生じさせることによって表示を行う維持期間を有する駆動方法が一般的に用いられている。これらの各期間を組み合わせた期間（サブフィールド）が、画像の１コマに相当する期間（１フィールド）内で複数回繰り返されることによってＰＤＰの階調表示を行っている。

このようなＰＤＰにおいて、前面板の誘電体層上に形成される保護層の役割としては、放電によるイオン衝撃から誘電体層を保護すること、アドレス放電を発生させるための初期電子を放出することなどがあげられる。イオン衝撃から誘電体層を保護することは、放電電圧の上昇を防ぐ重要な役割であり、またアドレス放電を発生させるための初期電子を放出することは、画像のちらつきの原因となるアドレス放電ミスを防ぐ重要な役割である。

保護層からの初期電子の放出数を増加させて画像のちらつきを低減するために、例えば、ＭｇＯ保護層に不純物を添加する例や、ＭｇＯ粒子をＭｇＯ保護層上に形成した例が開示されている（例えば、特許文献１、２、３、４、５など参照）。

特開２００２−２６０５３５号公報 特開平１１−３３９６６５号公報 特開２００６−５９７７９号公報 特開平８−２３６０２８号公報 特開平１０−３３４８０９号公報

近年、テレビは高精細化が進んでおり、市場では低コスト・低消費電力・高輝度のフルＨＤ（ハイ・ディフィニション）（１９２０×１０８０画素：プログレッシブ表示）ＰＤＰが要求されている。保護層からの電子放出特性はＰＤＰの画質を決定するため、電子放出特性を制御することが非常に重要である。

このようにＰＤＰの高精細化や低消費電力化を進めるにあたっては、放電電圧が高くならないようにすることと、さらに、点灯不良を低減して画質を向上させることを、同時に実現させなければならないという課題があった。

本発明はこのような課題に鑑みなされたもので、高輝度の表示性能を備え、かつ低電圧駆動が可能なＰＤＰを実現することを目的としている。

上記の目的を達成するために本発明のＰＤＰは、基板上に電極、誘電体層、および保護層を形成したＰＤＰであって、保護層はナノ結晶粒子を用いて形成されており、保護層に波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍそれぞれの真空紫外線を照射してフォトルミネッセンス発光スペクトルを測定したとき、波長３５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲における波長１４６ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピークをＡ、波長１７２ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピークをＢとすると、発光強度比Ａ／Ｂが２．７以上となる特性を示すものであることを特徴とする。

また本発明のＰＤＰの製造方法は、基板上に電極、誘電体層、および保護層を形成する工程を有したＰＤＰの製造方法であって、保護層はナノ結晶粒子を用いて形成されており、保護層を還元性有機ガスに曝す工程を有することを特徴とする。

本発明によれば、保護層における電子放出特性を向上させ、維持放電電圧を低減することが可能で、高精細画像でも高輝度で低電圧駆動が可能な表示性能に優れたＰＤＰを実現することができる。

本発明の実施の形態におけるＰＤＰの構造を示す斜視図 同ＰＤＰの前面板の構成を示す断面図 同ＰＤＰの保護層のＰＬ発光スペクトルの特性を示す図 ＰＬ発光スペクトルの測定に使用した測定装置の概略構成図 同パネルの製造方法の一例を示すフローチャート 同パネルの製造方法における温度プロファイルの一例を示す図

以下、本発明の実施の形態におけるＰＤＰの製造方法について図面を用いて説明する。

（１）ＰＤＰの構造
図１は本発明の実施の形態におけるＰＤＰの構造を示す斜視図である。ＰＤＰの基本構造は、一般的な交流面放電型ＰＤＰと同様である。図１に示すように、ＰＤＰ１は前面ガラス基板３などよりなる第１基板としての前面板２と、背面ガラス基板１１などよりなる第２基板としての背面板１０とが対向して配置され、その前面板２と背面板１０の周辺部をガラスフリットなどからなる封着部材によって気密封着することにより構成されている。封着されたＰＤＰ１内部の放電空間１６には、ＸｅとＮｅなどの放電ガスが５３ｋＰａ〜８０ｋＰａの圧力で封入されている。

前面板２の前面ガラス基板３上には、走査電極４及び維持電極５よりなる一対の帯状の表示電極６とブラックストライプ（遮光層）７が互いに平行にそれぞれ複数列配置されている。前面ガラス基板３上には表示電極６と遮光層７とを覆うように電荷を保持してコンデンサとしての働きをする誘電体層８が形成され、さらにその上に保護層９が形成されている。

また、背面板１０の背面ガラス基板１１上には、前面板２の走査電極４及び維持電極５と直交する方向に、複数の帯状のデータ電極１２が互いに平行に配置され、これを下地誘電体層１３が被覆している。さらに、データ電極１２間の下地誘電体層１３上には放電空間１６を区切る所定の高さの隔壁１４が形成されている。隔壁１４間の溝ごとに、紫外線によって赤色、緑色及び青色にそれぞれ発光する蛍光体層１５が順次塗布して形成されている。走査電極４及び維持電極５とデータ電極１２とが交差する位置に放電空間が形成され、表示電極６方向に並んだ赤色、緑色、青色の蛍光体層１５を有する放電空間がカラー表示のための画素になる。

図２は、本発明の実施の形態におけるＰＤＰ１の前面板２の詳細な構成を示す断面図であり、図２は図１と上下反転させて示している。図２に示すように、フロート法などにより製造された前面ガラス基板３に、走査電極４と維持電極５よりなる表示電極６と遮光層７がパターン形成されている。走査電極４と維持電極５はそれぞれインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）や酸化スズ（ＳｎＯ₂）などからなる透明電極４ａ、５ａと、透明電極４ａ、５ａ上に形成された金属バス電極４ｂ、５ｂとにより構成されている。金属バス電極４ｂ、５ｂは透明電極４ａ、５ａの長手方向に導電性を付与する目的として用いられ、銀（Ａｇ）材料を主成分とする導電性材料によって形成されている。

誘電体層８は、前面ガラス基板３上に形成されたこれらの透明電極４ａ、５ａと金属バス電極４ｂ、５ｂと遮光層７を覆うように設けられ、誘電体層８上に保護層９が形成されている。本発明の実施形態における保護層９については後述する。

（２）保護層
本発明の実施形態における保護層９は、酸化マグネシウム単結晶のナノメートルサイズの粒子（以下、ナノ結晶粒子とする）を用いたものを使用する。

ところで、ＰＤＰにおいては、ＰＤＰの前面板の保護層における電子放出を高めることにより、維持放電電圧を下げることができ、従来よりも低電圧で維持放電を発生できることが知られており、そのために、電子放出特性の優れた保護層材料の検討などが行われている。

本発明者らは、金属酸化物からなる保護層の電子放出特性を高めるためには、保護層の酸素欠損を形成すればよいとの推測の上で、実験と検討を繰り返し行った結果、所定の特性を持つ保護層９、すなわち保護層９に波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍそれぞれの真空紫外線を照射してフォトルミネッセンス（ＰＬ）発光スペクトルを測定したとき、波長３５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲における波長１４６ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピークをＡ、波長１７２ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピークをＢとすると、発光強度比Ａ／Ｂが２．７以上となる特性を示す膜であれば、ＰＤＰの維持放電電圧を低下させることができることを見出した。

図３は本発明の一実施の形態によるＰＤＰにおいて、保護層９のＰＬ発光スペクトルの特性の一例を示す図である。なお、図３は、本発明による保護層９に、波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍそれぞれの真空紫外線を照射してフォトルミネッセンス（ＰＬ）発光スペクトルを測定し、波長３５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲における発光強度のピークを比較して示したもので、横軸はＰＬの発光波長を示し、縦軸はＰＬ発光強度比（Ａ／Ｂ）、すなわち波長１７２ｎｍの真空紫外線照射の場合の波長３５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲における発光強度のピーク値（Ｂ）を１とし、波長１４６ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピーク値（Ａ）の比率を示している。

また、この図３に示す例は、波長３５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲における波長１４６ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピークＡと、波長１７２ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピークＢとの発光強度比Ａ／Ｂが、２．７以上の２．９程度の特性を持つ保護層の場合のものであり、この図３の特性の保護層を用いたＰＤＰの維持放電電圧は、従来のＰＤＰ、すなわち発光強度比Ａ／Ｂが約２．５以下の保護層を有するＰＤＰに比べ、約１０Ｖ程度低くすることができた。

ここで、ＰＬ発光スペクトルの測定方法について、図４を用いて説明する。図４は、測定装置の概略構成を示す図であり、図４において、真空チャンバー１００に設置された試料１０１に対して１４６ｎｍランプシステム１０２（ウシオ電機（株）製ＳＵＳ０７）より１４６ｎｍ真空紫外線を垂直に照射し、試料１０１からの発光をレンズ、光ファイバー等の光学系１０４を介して２次元高分解能タイプのＣＣＤ分光器１０５（スペクトラ・コープ（株）製Ｓｏｌｉｄ Ｌａｍｂｄａ ＣＣＤ ＵＶ−ＮＩＲ）に入射して分光することによってＰＬ発光スペクトルを評価した。真空チャンバー１００には１７２ｎｍランプシステム１０３（ウシオ電機（株）製ＳＵＳ０３）も併設されており、試料１０１に対して上記同様に１７２ｎｍ真空紫外線照射によるＰＬ発光スペクトルを得ることができる。本発明においては、この図４に示す測定装置により、保護層のＰＬ発光スペクトルの測定評価を行った。

また、このような特性を持つ保護層９を形成する方法の一例として、前面板２と背面板１０とを作製した後、放電ガスをパネルの放電空間内に封入するまでの間に、還元性有機ガスを含むガスをパネルの放電空間内に導入して前面板２の保護層９を還元性有機ガスに曝した後、その還元性有機ガスを含むガスを排出する工程を設けることにより実現できることも判明した。

（３）ＰＤＰの製造方法
次に、本発明によるＰＤＰの製造方法について、詳細に説明する。

図５は本発明によるＰＤＰの製造工程を示すフローチャートであり、図５に示すように、前面板作製工程Ａ１及び背面板作製工程Ｂ１と、背面板作製工程Ｂ１により作製した背面板１０の画像表示領域外部に封着部材であるガラスフリットを塗布し、その後ガラスフリットの樹脂成分等を除去するために３５０℃程度の温度で仮焼成するフリット塗布工程Ｂ２と、前面板作製工程Ａ１により作製した前面板２とフリット塗布工程Ｂ２を終了した背面板１０とを貼付けて封着する封着工程Ｃ１と、この後パネル内のガスを１次排気した後、還元性有機ガスをパネル内に導入して前記前面板２の保護層９を還元性有機ガスに曝す還元性ガス導入工程Ｃ２と、その後その還元性有機ガスを含めて放電空間内のガスを排気する排気工程Ｃ３と、この後真空排気されたパネル内部にＮｅおよびＸｅを主成分とする放電ガスを供給する放電ガス供給工程Ｃ４を経てＰＤＰが完成される。

本発明の製造方法において、前面板作製工程Ａ１においては、まず、前面ガラス基板３上に、走査電極４及び維持電極５と遮光層７とを形成する。走査電極４と維持電極５とを構成する透明電極４ａ、５ａと金属バス電極４ｂ、５ｂは、フォトリソグラフィ法などを用いてパターニングして形成される。透明電極４ａ、５ａは薄膜プロセスなどを用いて形成され、金属バス電極４ｂ、５ｂは銀（Ａｇ）材料を含むペーストを所定の温度で焼成して固化している。また、遮光層７も同様に、黒色顔料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や黒色顔料をガラス基板の全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングし、焼成することにより形成される。

次に、走査電極４、維持電極５及び遮光層７を覆うように前面ガラス基板３上に誘電体ペーストをダイコート法などにより塗布して誘電体ペースト（誘電体材料）層を形成する。誘電体ペーストを塗布した後、所定の時間放置することによって塗布された誘電体ペースト表面がレベリングされて平坦な表面になる。その後、誘電体ペースト層を焼成固化することにより、走査電極４、維持電極５及び遮光層７を覆う誘電体層８が形成される。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料、バインダ及び溶剤を含む塗料である。

ここで、前面板２の誘電体層８を構成する誘電体材料としては、酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、酸化バリウム（ＢａＯ）から選ばれる少なくとも１種と、酸化モリブデン（ＭｏＯ₃）、酸化タングステン（ＷＯ₃）、酸化セリウム（ＣｅＯ₂）、二酸化マンガン（ＭｎＯ₂）から選ばれる少なくとも１種とを含んでいる。バインダ成分は、エチルセルロース、またはアクリル樹脂１重量％〜２０重量％を含むターピネオール、またはブチルカルビトールアセテートである。また、ペースト中には、必要に応じて可塑剤としてフタル酸ジオクチル、フタル酸ジブチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリブチルを添加し、分散剤としてグリセロールモノオレート、ソルビタンセスキオレヘート、ホモゲノール（Ｋａｏコーポレーション社製品名）、アルキルアリル基のリン酸エステルなどを添加してペーストとして印刷特性を向上させてもよい。

次に、誘電体層８上に保護層９を形成する。保護層９は酸化マグネシウムのナノ結晶粒子により構成されている。このようなナノ結晶粒子は瞬間気相生成法によっても作製可能である。これはプラズマ等の高エネルギー化で気化した酸化マグネシウムに対して反応ガスを含む冷却ガスによって瞬間冷却してナノサイズの微粒子を作製する方法である。本発明の実施の形態では、瞬間気相生成法にて作製された粒径５ｎｍ〜２００ｎｍのナノ結晶粒子を使用した。

そして、ナノ結晶粒子を、溶媒に分散させ、その分散液をスプレー法やスクリーン印刷法、静電塗布法などによって誘電体層８上に塗布する。その後、乾燥・焼成工程を経て溶媒除去を図ることで保護層９を形成する。

具体的には、ターピネオールを６０重量％、ブチルカルビトールを３０重量％、三菱レイヨン製アクリル樹脂ＥＭＢ−００１等を１０重量％、を混合し作製したビークルに対し、同等の重量配分となるナノ結晶粒子を混練してペーストを作製する。これをスクリーン印刷法によって基板上に塗布し、１００℃〜１２０℃にて６０分の乾燥、３４０℃〜５００℃にて６０分の焼成を行うことで、保護層９を形成する。尚、焼成後の保護層９の膜厚は電荷保持に必要な０．５μｍ〜２μｍの範囲が好ましい。

このような一連の工程により前面ガラス基板３上に所定の構成物（走査電極４、維持電極５、遮光層７、誘電体層８、保護層９）が形成されて前面板２が完成する。

次に、背面板作製工程Ｂ１について説明する。この背面板作製工程Ｂ１においては、まず、背面ガラス基板１１上に、銀（Ａｇ）材料を含むペーストをスクリーン印刷する方法や、金属膜を全面に形成した後、フォトリソグラフィ法を用いてパターニングする方法などによりデータ電極１２用の構成物となる材料層を形成する。その後、所定の温度で焼成することによりデータ電極１２を形成する。次に、データ電極１２が形成された背面ガラス基板１１上にダイコート法などにより、データ電極１２を覆うように誘電体ペーストを塗布して誘電体ペースト層を形成する。その後、誘電体ペースト層を焼成することにより下地誘電体層１３を形成する。なお、誘電体ペーストはガラス粉末などの誘電体材料とバインダ及び溶剤を含んだ塗料である。

次に、下地誘電体層１３上に隔壁材料を含む隔壁形成用ペーストを塗布し、所定の形状にパターニングすることにより隔壁材料層を形成する。その後、所定の温度で焼成することにより隔壁１４を形成する。ここで、下地誘電体層１３上に塗布した隔壁用ペーストをパターニングする方法としては、フォトリソグラフィ法やサンドブラスト法を用いることができる。そして、隣接する隔壁１４間の下地誘電体層１３上及び隔壁１４の側面に蛍光体材料を含む蛍光体ペーストを塗布し、焼成することにより蛍光体層１５が形成される。以上の工程により、背面ガラス基板１１上に所定の構成部材を有する背面板１０が完成する。

その後、背面板１０においては、背面板作製工程Ｂ１により作製した背面板１０の画像表示領域外に封着部材であるガラスフリットを塗布し、その後ガラスフリットの樹脂成分等を除去するために３５０℃程度の温度で仮焼成するフリット塗布工程Ｂ２を行う。

ここで、封着部材としては、酸化ビスマスや酸化バナジウムを主成分としたフリットが望ましい。この酸化ビスマスを主成分とするフリットとしては、例えば、Ｂｉ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃−ＲＯ−ＭＯ系（ここでＲは、Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａ、Ｍｇのいずれかであり、Ｍは、Ｃｕ、Ｓｂ、Ｆｅのいずれかである。）のガラス材料に、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、コージライト等酸化物からなるフィラーを加えたものを用いることができる。また、酸化バナジウムを主成分とするフリットとしては、例えば、Ｖ₂Ｏ₅−ＢａＯ−ＴｅＯ−ＷＯ系のガラス材料に、Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、コージライト等酸化物からなるフィラーを加えたものを用いることができる。

これらの前面板作製工程Ａ１、背面板作製工程Ｂ１及びフリット塗布工程Ｂ２を行って前面板２と背面板１０とを作製した後、前記前面板２と背面板１０とを対向配置させて周辺部を封着部材により封着し、その後パネルの放電空間内に放電ガスを封入するパネルの組み立て工程を行う。

図６は、本発明の実施の形態に用いる封着工程Ｃ１、還元性ガス導入工程Ｃ２、排気工程Ｃ３と、放電ガス供給工程Ｃ４の温度プロファイルの一例を示す図である。図６において、封着温度とは、封着工程Ｃ１において、前面板２と背面板１０とが封着部材であるフリットにより密閉される状態となる温度であり、本実施の形態における封着温度は、例えば約４９０℃程度である。また、排気温度とは、排気工程Ｃ３における温度であり、本実施の形態における排気温度は、例えば約４００℃程度である。

図６に示す例においては、封着工程Ｃ１において、封着温度に維持するａ−ｂの期間経過後、封着温度から排気温度に低下させるｂ−ｃの期間において、パネルの放電空間内からガスを排気する排気を行って減圧状態にした後、排気温度に維持しているｃ−ｄの期間において、パネルの放電空間内に還元性有機ガスを含むガスを導入して保護層９を還元性有機ガスを含むガスに曝す還元性ガス導入工程Ｃ２を行い、その後ｄ−ｅの期間において、還元性有機ガスを含めてパネルの放電空間内からガスを排気する排気工程Ｃ３を行い、温度が室温程度に下がったｅ点以降の期間において、放電空間内に放電ガスを供給する放電ガス供給工程Ｃ４を行うものである。

ここで、本発明において使用する還元性有機ガスとしては、分子量が５８以下の還元力の大きいＣＨ系有機ガスが望ましく、これらの還元性有機ガスの中から選ばれる還元性有機ガスを希ガスや窒素ガスに混合して、還元性有機ガスを含むガスを作製して、還元性ガス導入工程Ｃ２を行う。

さらに、本発明においては、パネルの放電空間内に還元性有機ガスを含むガスを導入して保護層９を還元性有機ガスを含むガスに曝す還元性ガス導入工程Ｃ２を行い、その後還元性有機ガスを含めてパネルの放電空間内からガスを排気する排気工程Ｃ３を行うが、一部パネル内に残留することを考えると、分解しやすい還元性有機ガスが望ましい。

以上の製造プロセス上での取扱い易さや、一部残留する場合などの点を考慮すると、還元性有機ガスとしては、アセチレン、エチレン、メチルアセチレン、プロパジエン、プロピレン、及びシクロプロパンの中から選ばれる酸素を含まない炭化水素系ガスが望ましく、これらの還元性有機ガスの中から選ばれる還元性有機ガスを希ガスや窒素ガスに混合して用いればよい。

なお、希ガスや窒素ガスに混合する還元性有機ガスの混合比率は、使用する還元性有機ガスの燃焼範囲に応じて下限の比率を決定すればよく、数％程度の濃度以下で希ガスや窒素ガスに混合して使用する。また、これらの還元性有機ガスについて、混合する濃度が高すぎると、有機成分が重合して高分子となり、そのままパネル内に残留し、パネル特性に影響を与えてしまうため、使用する還元性有機ガス成分に応じて、混合比率を適宜調整することが必要である。

以上説明したように、本発明によれば、前面板２の保護層９として、膜に波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍそれぞれの真空紫外線を照射してフォトルミネッセンス発光スペクトルを測定したとき、波長３５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲における波長１４６ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピークをＡ、波長１７２ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピークをＢとすると、発光強度比Ａ／Ｂが２．７以上となる特性を示すものを用いることにより、ＰＤＰの維持放電電圧を低下させることができるものである。

なお、以上の説明では、保護層９として、ＭｇＯからなる下地膜に、ＭｇＯの結晶粒子が凝集した凝集粒子を分散させて付着させた例で説明したが、上述したように、下地膜としては、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、酸化カルシウム（ＣａＯ）、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、及び酸化バリウム（ＢａＯ）から選ばれる金属酸化物により構成したものでもよい。

また、本発明の実施の形態では、保護層９の成膜方法としてスクリーン印刷法を用いて説明したが、この他の成膜方法、例えばダイコーター法，スプレー法，ロールコート法などを用いても同様の効果を得ることができるため、成膜方法としてはスクリーン印刷法に限定されるものではない。

以上のように本発明は、高画質の表示性能を備え、かつ低消費電力のＰＤＰを実現する上で有用な発明である。

１ ＰＤＰ
２ 前面板
３ 前面ガラス基板
４ 走査電極
４ａ、５ａ 透明電極
４ｂ、５ｂ 金属バス電極
５ 維持電極
６ 表示電極
７ ブラックストライプ（遮光層）
８ 誘電体層
９ 保護層
１０ 背面板
１１ 背面ガラス基板
１２ データ電極
１３ 下地誘電体層
１４ 隔壁
１５ 蛍光体層
１６ 放電空間

Claims (2)

1. 基板上に電極、誘電体層、および保護層を形成したプラズマディスプレイパネルであって、前記保護層はナノ結晶粒子を用いて形成されており、前記保護層に波長１４６ｎｍと波長１７２ｎｍそれぞれの真空紫外線を照射してフォトルミネッセンス発光スペクトルを測定したとき、波長３５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲における波長１４６ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピークをＡ、波長１７２ｎｍの真空紫外線照射の場合の発光強度のピークをＢとすると、発光強度比Ａ／Ｂが２．７以上となる特性を示すものであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
2. 基板上に電極、誘電体層、および保護層を形成する工程を有したプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、前記保護層はナノ結晶粒子を用いて形成されており、前記保護層を還元性有機ガスに曝す工程を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。

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