JP2012051880A

JP2012051880A - 有害生物防除組成物

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Publication number: JP2012051880A
Application number: JP2011169915A
Authority: JP
Inventors: Kaori Ikari; かおり井狩
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 2010-08-03
Filing date: 2011-08-03
Publication date: 2012-03-15
Also published as: US20130131117A1; WO2012017973A1

Abstract

【課題】有害生物に対して優れた防除効力を有する組成物を提供すること。
【解決手段】下記式（１）で示されるヒドラジド化合物〔式中、Ｇ、Ｍ、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶及びｍは明細書に記載した意味を表す。〕とジノテフランとを含有する有害生物防除組成物；並びに、下記式（１）で示されるヒドラジド化合物とジノテフランとの有効量を有害生物又は有害生物の生息場所に施用する有害生物の防除方法。

【選択図】なし

Description

本発明は、ヒドラジド化合物とジノテフランとを含有する有害生物防除組成物に関する。

ジノテフランを含有する組成物が、ハエ類に対する防除効力を有することが知られている（例えば、特許文献１参照）。
防除対象によっては、より優れた防除効力を必要とする場合がある。

特表２００１−３０２４０８号公報

本発明は、有害生物の防除に適する、優れた防除効力を有する組成物を提供することを課題とする。

本発明者は、優れた防除効力を有する組成物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式（１）

〔式中、
Ｇは下記式Ｇ−１〜Ｇ−３のいずれかで示される基

（尚、点ａ及び点ｂは結合手を表し、点ｂはフェニル環との結合手を表す。）を表し、
Ｒ¹はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基を表し、
Ｙ¹は酸素原子、硫黄原子又はＮＲ⁷基を表し、
Ｙ²は酸素原子、硫黄原子、ＮＲ⁷基又はメチレン基を表し、
Ｙ³は酸素原子、硫黄原子、ＮＲ⁷基又はメチレン基を表し、
Ｒ⁷はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ４−Ｃ７シクロアルキルアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ３−Ｃ９ジアルキルアミノカルボニル基、フェニル基、シアノ基、ホルミル基又は水素原子を表し、
Ｍは酸素原子又は硫黄原子を表し、
Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³及びＱ⁴は同一又は相異なり、窒素原子又はＣＲ³基を表し、
Ｒ³はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、
ｍは０から５の整数のいずれかを表し、
Ｒ²はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表し（但し、ｍが２〜５の整数のいずれかである場合、それぞれのＲ²は同一又は相異なる。）、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は相異なり、群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキル基、ホルミル基又は水素原子を表し、
Ｒ⁴は群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよい５〜６員ヘテロ環基、ＯＲ⁸基、Ｎ(Ｒ⁹)Ｒ¹⁰基又は水素原子を表し、
Ｒ⁸は群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基又は群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよい５〜６員ヘテロ環基を表し、
Ｒ⁹は群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基又は群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基を表し、
Ｒ¹⁰は群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基又は水素原子を表すか、或いはＲ⁹とＲ¹⁰が末端で結合して、Ｃ２−Ｃ９アルカンジイル基を表し、
群Ｅ１は群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよい５〜６員ヘテロ環基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいフェノキシ基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいフェニルアミノ基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ２−Ｃ１２ジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基及びハロゲン原子からなる群を表し、
群Ｅ２はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ２−Ｃ１２ジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基及びハロゲン原子からなる群を表す。〕
で示されるヒドラジド化合物と、
ジノテフランとを含有する組成物が、有害生物に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に到った。

即ち、本発明は以下の発明を含む。
［発明１］
式（１）で示されるヒドラジド化合物と、ジノテフランとを含有する有害生物防除組成物。
［発明２］
式（１）において、ＧがＧ−１で示される基であり、Ｙ¹が酸素原子であり、Ｒ¹がトリフルオロメチル基であり、Ｑ¹、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であり、Ｑ²がＣＲ³基であり、Ｒ³が上記定義した基であり、ｍが２であり、(Ｒ²)_mが３位および５位の置換基であり、Ｒ²が塩素原子である発明１に記載の有害生物防除組成物。
［発明３］
式（１）において、Ｒ⁶が水素原子である発明１又は２に記載の有害生物防除組成物。
［発明４］
式（１）において、Ｒ⁵が水素原子またはメチル基である発明１〜３のいずれかに記載の有害生物防除組成物。
［発明５］
式（１）において、Ｒ³がハロゲン原子である発明１〜４のいずれかに記載の有害生物防除組成物。
［発明６］
式（１）において、Ｒ³が塩素原子である発明１〜５のいずれかに記載の有害生物防除組成物。
［発明７］
式（１）において、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基である発明１〜６のいずれかに記載の有害生物防除組成物。
［発明８］
式（１）において、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基である発明１〜７のいずれかに記載の有害生物防除組成物。
［発明９］
式（１）において、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６ハロアルキル基である発明１〜７のいずれかに記載の有害生物防除組成物。
［発明１０］
式（１）において、Ｒ⁴がＣ３−Ｃ６シクロアルキル基である発明１〜７のいずれかに記載の有害生物防除組成物。
［発明１１］
式（１）において、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基である発明１〜７のいずれかに記載の有害生物防除組成物。
［発明１２］
発明１の式（１）で示されるヒドラジド化合物と、ジノテフランとの有効量を、有害生物又は有害生物の生息場所に施用する有害生物の防除方法。
［発明１３］
有害生物を防除する為の、発明１の式（１）で示されるヒドラジド化合物と、ジノテフランとの組み合わせの使用。

本発明の有害生物防除組成物は、有害生物の防除において優れた効力を有する。

本発明の有害生物防除組成物において、式（１）で示されるヒドラジド化合物（以下、本ヒドラジド化合物と記す。）と、ジノテフランとの重量比は、好ましくは１０００：１〜１：１０００、より好ましくは５００：１〜１：５００、１００：１〜１：１００、１０：１〜１：１０の範囲内である。

「Ｇが下記式Ｇ−１〜Ｇ−３のいずれかで示される基

（尚、点ａ及び点ｂは結合手を表し、点ｂはフェニル環との結合手を表す。）を表す」におけるフェニル環とは、下記式

〔式中、Ｒ²及びｍは前記と同じ意味を表す。〕で示されるフェニル環を意味し、
例えば「式（１）において、ＧがＧ−１で示される基であるヒドラジド化合物」とは、
下記式（ａ）

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｍ、Ｙ¹及びｍは前記と同じ意味を表す。〕で示される化合物を意味する。

本発明において、「ハロゲン原子」はフッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子を意味する。
また、本明細書において、例えば「Ｃ２−Ｃ６アルキルアミノカルボニル基」で示される「Ｃ２−Ｃ６」の部分の記載はアルキルアミノカルボニル基の全体を構成する炭素原子数が２〜６の範囲であることを意味する。

本ヒドラジド化合物の、各置換基の例を以下に示す。
Ｇ−１〜Ｇ−３のいずれかで示される基としては、例えば以下の基が挙げられる。

本明細書中において、
「Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基」としては、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロフルオロメチル基、ブロモフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、１−フルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエチル基、１，１，２，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロピル基及び１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル基が挙げられる。
「Ｃ１−Ｃ６アルキル基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基及び１，３−ジメチルブチル基が挙げられる。
「Ｃ２−Ｃ６アルケニル基」としては、例えばビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、３−ペンテニル基、４−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基及び５−ヘキセニル基が挙げられる。
「Ｃ２−Ｃ６アルキニル基」としては、例えばエチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、１−ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、１−ペンチニル基、２−ペンチニル基、３−ペンチニル基、４−ペンチニル基、１−ヘキシニル基、２−ヘキシニル基、３−ヘキシニル基、４−ヘキシニル基及び５−へキシニル基が挙げられる。
「Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基」としては、例えばシクロプロピル基、１−メチルシクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、２，２−ジメチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、１−メチルシクロペンチル基、２−メチルシクロペンチル基、３−メチルシクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。
「Ｃ４−Ｃ７シクロアルキルアルキル基」としては、例えばシクロプロピルメチル基、１−シクロプロピルエチル基、２−シクロプロピルエチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基及びシクロヘキシルメチル基が挙げられる。

「Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基」としては、例えばアセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、イソブチロイル基及びピバロイル基が挙げられる。
「Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基」としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、イソプロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、tert−ブトキシカルボニル基及びペンチルオキシカルボニル基が挙げられる。
「Ｃ２−Ｃ６アルキルアミノカルボニル基」としては、例えばＮ−メチルアミノカルボニル基、Ｎ−エチルアミノカルボニル基、Ｎ−プロピルアミノカルボニル基、Ｎ−ブチルアミノカルボニル基及びＮ−ペンチルアミノカルボニル基が挙げられる。
「Ｃ３−Ｃ９ジアルキルアミノカルボニル基」としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニル基及びＮ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニル基が挙げられる。

「Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基」としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基が挙げられる。

「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基等のＣ１−Ｃ６アルキル基、
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロフルオロメチル基、ブロモフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、１−フルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエチル基、１，１，２，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロピル基及び１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル基等のＣ１−Ｃ６ハロアルキル基が挙げられる。
「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基」としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基等のＣ１−Ｃ６アルコキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメトキシ基、２−フルオロエトキシ基、２−クロロエトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ基、２−クロロ−１，１，２−トリフルオロエトキシ基、２−ブロモ−１，１，２−トリフルオロエトキシ基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエトキシ基、２，２−ジクロロ−１，１，２−トリフルオロエトキシ基、２，２，２−トリクロロ−１，１−ジフルオロエトキシ基、２−ブロモ−１，１，２，２−テトラフルオロエトキシ基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルオキシ基、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピルオキシ基、２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エトキシ基、１，１，２，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロピルオキシ基及び２−ブロモ−１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピルオキシ基等のＣ１−Ｃ６ハロアルコキシ基が挙げられる。

「Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基」としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基及びヘキシルチオ基が挙げられる。
「Ｃ１−Ｃ６アルキルスルフィニル基」としては、例えばメタンスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ペンチルスルフィニル基及びヘキシルスルフィニル基が挙げられる。
「Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニル基」としては、例えばメタンスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基及びヘキシルスルホニル基が挙げられる。

「Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキル基」としては、例えばシクロプロピル基、１−メチルシクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、２，２−ジメチルシクロプロピル基、２，２，３，３−テトラメチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、１−メチルシクロペンチル基、２−メチルシクロペンチル基、３−メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基及びシクロオクチル基が挙げられる。
「Ｃ２−Ｃ９アルカンジイル基」としては、１，２−エチレン基、１，４−テトラメチレン基及び１，５−ペンタメチレン基が挙げられる。

「群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基」におけるＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基としては、Ｃ１−Ｃ１２アルキル基、Ｃ２−Ｃ１２アルケニル基及びＣ２−Ｃ１２アルキニル基が挙げられ、
「群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基」としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、３−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、１，２−ジメチルプロピル基、２，２−ジメチルプロピル基、ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等のＣ１−Ｃ１２アルキル基；
ビニル基、１−メチルビニル基、１−フェニルビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−ブテニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２−ペンテニル基、２−メチル−２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、２−エチル−２−プロペニル基、１，１−ジメチル−２−プロペニル基、２−ヘキセニル基、２−メチル−２−ペンテニル基、２，４−ジメチル−２，６−ヘプタジエニル基、３，７−ジメチル−２，６−オクタジエニル基等のＣ２−Ｃ１２アルケニル基；
２−プロピニル基、２−ブチニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ペンチニル基、１−メチル−２−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基及び２−ヘキシニル基等のＣ２−Ｃ１２アルキニル基；

フルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフルオロメチル基、クロロフルオロメチル基、ジクロロメチル基、ブロモフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロジフルオロメチル基、ジクロロフルオロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、ブロモクロロフルオロメチル基、ジフルオロヨードメチル基、２−フルオロエチル基、２−クロロエチル基、２−ブロモエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２−クロロ−２−フルオロエチル基、２，２−ジクロロエチル基、２−ブロモ−２−フルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２−クロロ−２，２−ジフルオロエチル基、２，２−ジクロロ−２−フルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、２−ブロモ−２，２−ジフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエチル基、１−クロロ−１，２，２，２−テトラフルオロエチル基、２−クロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、１，２−ジクロロ−１，２，２−トリフルオロエチル基、１−ブロモ−１，２，２，２−テトラフルオロエチル基、２−ブロモ−１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、２−フルオロプロピル基、２−クロロプロピル基、２，３−ジクロロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、３−ブロモ−３，３−ジフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、１，１，２，３，３，３−ヘキサフルオロプロピル基、１，１，２，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロピル基、２，３−ジクロロ−１，１，２，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２−フルオロ−１−メチルエチル基、２−クロロ−１−メチルエチル基、２−ブロモ−１−メチルエチル基、２，２，２−トリフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル基、１，２，２，２−テトラフルオロ−１−（トリフルオロメチル）エチル基及び１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブチル基等のＣ１−Ｃ１２ハロアルキル基；

２，２−フルオロビニル基、２，２−ジクロロビニル基、２−フルオロ−２−プロペニル基、２−クロロ−２−プロペニル基、３−クロロ−２−プロペニル基、２−ブロモ−２−プロペニル基、３−ブロモ−２−プロペニル基、３，３−ジフルオロ−２−プロペニル基、２，３−ジクロロ−２−プロペニル基、３，３−ジクロロ−２−プロペニル基、２，３−ジブロモ−２−プロペニル基、２，３，３−トリフルオロ−２−プロペニル基、２，３，３−トリクロロ−２−プロペニル基、３−クロロ−２−ブテニル基、３−ブロモ−２−ブテニル基、４，４−ジフルオロ−３−ブテニル基、３，４，４−トリフルオロ−３−ブテニル基、３−クロロ−３，４，４−トリフルオロ−２−ブテニル基及び３−ブロモ−２−メチル−２−プロペニル基等のＣ２−Ｃ１２ハロアルケニル基；
３−クロロ−２−プロピニル基、３−ブロモ−２−プロピニル基及び３−ヨード−２−プロピニル基等のＣ２−Ｃ１２ハロアルキニル基；
シアノメチル基等のシアノ（Ｃ１−Ｃ１２アルキル）基；
ニトロメチル基等のＣ１−Ｃ１２ニトロアルキル基；
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル基等の（Ｃ２−Ｃ１２ジアルキルアミノ）Ｃ１−Ｃ１２アルキル基；
Ｎ−エチルアミノメチル基等の（Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノ）Ｃ１−Ｃ１２アルキル基；
メトキシメチル基、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−プロポキシエチル基、２−イソプロポキシエチル基、２−ブトキシエチル基、２−イソブトキシエチル基、２−（１−メチルプロピルオキシ）エチル基及び２−（１，１−ジメチルエトキシ）エチル基等の（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ１２アルキル基；
メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基及びtert−ブトキシカルボニルメチル基等の（Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル）Ｃ１−Ｃ１２アルキル基；
アセチルメチル基、２−アセチルエチル基等の（Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル）Ｃ１−Ｃ１２アルキル基；
フェノキシメチル基、４−クロロフェノキシメチル基、フェノキシエチル基等の群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいフェノキシ基で置換されたＣ１−Ｃ１２アルキル基；

フェニルアミノメチル基、４−クロロフェニルアミノメチル基、フェニルアミノエチル基等の群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいフェニルアミノ基で置換されたＣ１−Ｃ１２アルキル基；
下記式

〔式中、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³は、３つすべてがＣＨ基を示す組み合わせを表すか、いずれか１つが窒素原子かつ他の２つがＣＨ基を示す組み合わせを表し、Ｘ⁴は酸素原子、硫黄原子又はＮＨ基を表し、ｒは１〜１２の整数を表し、ｑは０〜３の整数を表し、J¹はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ２−Ｃ１２ジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基又はハロゲン原子を表す。〕
等で示される基等の群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよい５〜６員ヘテロ環基で置換されたＣ１−Ｃ１２アルキル基；
ベンジル基、フェネチル基、４−メチルベンジル基、４−クロロベンジル基、２−（シクロプロピル）エチル基及びシクロプロピルメチル等の群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基で置換されたＣ１−Ｃ１２アルキル基が挙げられる。

「群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいベンゾイル基」としては、例えばベンゾイル基、２−フルオロベンゾイル基、３−フルオロベンゾイル基、４−フルオロベンゾイル基、２−クロロベンゾイル基、３−クロロベンゾイル基、４−クロロベンゾイル基、２−メトキシベンゾイル基、３−メトキシベンゾイル基、４−メトキシベンゾイル基、２−シアノベンゾイル基、３−シアノベンゾイル基、４−シアノベンゾイル基、２−ニトロベンゾイル基、３−ニトロベンゾイル基及び４−ニトロベンゾイル基が挙げられる。

本ヒドラジド化合物におけるＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基及びＣ３−Ｃ１２シクロアルキル基が挙げられ、
「群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基」としては、例えばフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−（トリフルオロメチル）フェニル基、３−（トリフルオロメチル）フェニル基、４−（トリフルオロメチル）フェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−ヨードフェニル基、３−ヨードフェニル基、４−ヨードフェニル基、２−シアノフェニル基、３−シアノフェニル基、４−シアノフェニル基、２−ニトロフェニル基、３−ニトロフェニル基、４−ニトロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−（トリフルオロメトキシ）フェニル基、３−（トリフルオロメトキシ）フェニル基、４−（トリフルオロメトキシ）フェニル基、２，３−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２，３，４−トリクロロフェニル基、２，３，５−トリクロロフェニル基、３，４，５−トリクロロフェニル基、２，４，６−トリクロロフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、２，４−ジフルオロフェニル基、２，５−ジフルオロフェニル基、２，６−ジフルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、３，４，５−トリフルオロフェニル基、２，３，５，６−テトラフルオロフェニル基、２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル基、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル基、２，３−ジメトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、２，５−ジメトキシフェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、４−メトキシカルボニルフェニル基及び４−エトキシカルボニルフェニル基等のフェニル基；
シクロプロピル基、１−メチルシクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、２，２−ジメチルシクロプロピル基、２，２，３，３−テトラメチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、１−メチルシクロペンチル基、２−メチルシクロペンチル基、３−メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、１−メチルシクロヘキシル基、２−メチルシクロヘキシル基、３−メチルシクロヘキシル基、４−メチルシクロヘキシル基、シクロヘプチル基及びシクロオクチル基等のＣ３−Ｃ１２シクロアルキル基が挙げられる。

「群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよい５〜６員ヘテロ環基」における５〜６員ヘテロ環基としては、テトラヒドロフラニル基、フラニル基、チエニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、イソチアゾリル基等の酸素原子、硫黄原子及び／又は窒素原子がヘテロ原子である５員ヘテロ環基；
ピペリジノ基、モルフォリノ基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジル基、ピラジニル基等の酸素原子、硫黄原子及び／又は窒素原子がヘテロ原子である６員ヘテロ環基が挙げられ、

「群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよい５〜６員ヘテロ環基」としては、１−ピロリル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、２−フラニル基、３−フラニル基、２−チエニル基、３−チエニル基、１−ピラゾリル基、３−ピラゾリル基、４−ピラゾリル基、３−イソオキサゾリル基、４−イソオキサゾリル基、５−イソオキサゾリル基、３−イソチアゾリル基、４−イソチアゾリル基、５−イソチアゾリル基、１−イミダゾリル基、２−イミダゾリル基、４−イミダゾリル等、２−オキサゾリル基、４−オキサゾリル基、５−オキサゾリル等、２−チアゾリル基、４−チアゾリル基、５−チアゾリル基、１，２，４−トリアゾール−１−イル基、１，２，４−トリアゾール−３−イル基、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル基、１，３，４−チアジアゾール−２−イル基、１，２，４−オキサジアゾール−３−イル基、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル基、１，２，４−チアジアゾール−３−イル基、１，２，４−チアジアゾール−５−イル基、１−ピロリジニル基、２−ピロリジニル基、３−ピロリジニル基、２−テトラヒドロフラニル基、３−テトラヒドロフラニル基、１−ピペリジノ基、１−モルフォリノ基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、３−ピリダジニル基、４−ピリダジニル基、２−ピリミジニル基、４−ピリミジニル基、５−ピリミジニル基、２−ピラジニル基、１，２，４−トリアジン−３−イル基、１，２，４−トリアジン−５−イル基及び１，２，４−トリアジン−６−イル基、１，３，５−トリアジン−２−イル基が挙げられる。
「Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノ基」としては、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−ブチルアミノ基及びＮ−ペンチルアミノ基が挙げられる。
「Ｃ２−Ｃ１２ジアルキルアミノ基」としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルアミノ基及びＮ，Ｎ−ジエチルアミノ基が挙げられる。
上記ＯＲ⁸基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基、シアノメトキシ基、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エトキシ基、２−（Ｎ−メチルアミノ）エトキシ基、２-メトキシエトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、アセチルメトキシ基、２−フェノキシエトキシ基、２−（フェニルアミノ）エトキシ基、２-ピリジルオキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシ基、シクロヘキシルオキシ基、フラン−２−オキシ基、ピリジン−２−オキシ基等が挙げられる。
上記Ｎ(Ｒ⁹)Ｒ¹⁰基としては、例えば、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−アリルアミノ基、Ｎ−（２，２，２−トリフルオロエチル）アミノ基、Ｎ−（２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）エチル）アミノ基、Ｎ−（２−（Ｎ−メチルアミノ）エチル）アミノ基、Ｎ−（２-メトキシエチル）アミノ基、Ｎ−（メトキシカルボニルメチル）アミノ基、Ｎ−（２-フェノキシエチル）アミノ基、Ｎ−（２−（フェニルアミノ）エチル）アミノ基、Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−メチルアミノ基、ピロリジン‐１−イル基、ピペリジン−１−イル基等が挙げられる。

本ヒドラジド化合物の態様としては、例えば以下のヒドラジド化合物が挙げられる。

式（１）において、ＧがＧ−１で示される基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、ＧがＧ−１で示される基であり、Ｙ¹が酸素原子であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ¹がトリフルオロメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｑ¹、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であり、Ｑ²がＣＲ³基であり、Ｒ³は上記定義したものであるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｑ¹、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であり、Ｑ²がＣＲ³基であり、Ｒ³がＣ１−Ｃ６アルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｑ¹、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であり、Ｑ²がＣＲ³基であり、Ｒ³がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｑ¹、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であり、Ｑ²がＣＲ³基であり、Ｒ³がエチル基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｑ¹、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であり、Ｑ²がＣＲ³基であり、Ｒ³がハロゲン原子であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｑ¹、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であり、Ｑ²がＣＲ³基であり、Ｒ³がフッ素原子であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｑ¹、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であり、Ｑ²がＣＲ³基であり、Ｒ³が塩素原子であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｑ¹、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であり、Ｑ²がＣＲ³基であり、Ｒ³が臭素原子であるヒドラジド化合物；

式（１）において、ｍが２であり、Ｒ²が各々ハロゲン原子であるヒドラジド化合物；
式（１）において、ｍが２であり、Ｒ²が各々塩素原子であるヒドラジド化合物；
式（１）において、ｍが２であり、(Ｒ²)_mが３位および５位の置換基であり、Ｒ²が各々塩素原子であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁴が群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁴が群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁴が群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよい５〜６員ヘテロ環基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁴がＯＲ⁸基であり、Ｒ⁸は上記定義したものであるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁴がＮ(Ｒ⁹)Ｒ¹⁰基であり、Ｒ⁹およびＲ¹⁰は上記定義したものであるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁵が群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁵がＣ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁵がＣ２−Ｃ６アルキルカルボニル基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁵がアセチル基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁵が群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいベンゾイル基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁵がベンゾイル基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁶が群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１）において、ＧがＧ−１で示される基であり、Ｙ¹が酸素原子であり、Ｒ¹がトリフルオロメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、ＧがＧ−１で示される基であり、Ｙ¹が酸素原子であり、Ｒ¹がトリフルオロメチル基であり、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であるヒドラジド化合物；

式（１）において、ＧがＧ−１で示される基であり、Ｙ¹が酸素原子であり、Ｒ¹がトリフルオロメチル基であり、Ｑ¹、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であり、Ｑ²がＣＲ³基であり、Ｒ³が上記定義した基であるヒドラジド化合物；
式（１）において、ＧがＧ−１で示される基であり、Ｙ¹が酸素原子であり、Ｒ¹がトリフルオロメチル基であり、Ｑ¹、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であり、Ｑ²がＣＲ³基であり、Ｒ³が上記定義した基であり、ｍが２であり、(Ｒ²)_mが３位および５位の置換基であり、Ｒ²が各々塩素原子である下式（１−Ａ)に示されるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ³が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がエチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がフッ素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が臭素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ³が水素原子であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がメチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がエチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がフッ素原子であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が臭素原子であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が水素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がメチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がエチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がフッ素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が臭素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ³が水素原子であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がメチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がエチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がフッ素原子であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が臭素原子であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が水素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がメチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がエチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がフッ素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が臭素原子であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ³がＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子または水素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子または水素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子または水素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子または水素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子または水素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子または水素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６アルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がエチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がプロピル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がイソプロピル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がブチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がｔｅｒｔ−ブチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２-メチルプロピル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がペンチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がエチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がエチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がエチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がエチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がエチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がエチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がエチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がエチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がプロピル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がプロピル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がイソプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がイソプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がイソプロピル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がイソプロピル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がイソプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がイソプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がイソプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がイソプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がブチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がブチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がブチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がブチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がブチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がブチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がブチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がブチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がｔｅｒｔ−ブチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がｔｅｒｔ−ブチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がｔｅｒｔ−ブチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がｔｅｒｔ−ブチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がｔｅｒｔ−ブチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がｔｅｒｔ−ブチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がｔｅｒｔ−ブチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がｔｅｒｔ−ブチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２−メチルプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２−メチルプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２−メチルプロピル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２−メチルプロピル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２−メチルプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２−メチルプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２−メチルプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２−メチルプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がペンチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がペンチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がペンチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がペンチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がペンチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がペンチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がペンチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がペンチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６ハロアルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２，２，２−トリフルオロエチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が３，３，３−トリフルオロプロピル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が４，４，４−トリフルオロブチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴が２，２，２−トリフルオロエチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴が３，３，３−トリフルオロプロピル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴が４，４，４−トリフルオロブチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴が２，２，２−トリフルオロエチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴が３，３，３−トリフルオロプロピル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴が４，４，４−トリフルオロブチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６フルオロアルキル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２，２，２−トリフルオロエチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２，２，２−トリフルオロエチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２，２，２−トリフルオロエチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２，２，２−トリフルオロエチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２，２，２−トリフルオロエチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２，２，２−トリフルオロエチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２，２，２−トリフルオロエチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が２，２，２−トリフルオロエチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が３，３，３−トリフルオロプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が３，３，３−トリフルオロプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が３，３，３−トリフルオロプロピル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が３，３，３−トリフルオロプロピル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が３，３，３−トリフルオロプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が３，３，３−トリフルオロプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が３，３，３−トリフルオロプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が３，３，３−トリフルオロプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が４，４，４−トリフルオロブチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が４，４，４−トリフルオロブチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が４，４，４−トリフルオロブチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が４，４，４−トリフルオロブチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が４，４，４−トリフルオロブチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が４，４，４−トリフルオロブチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が４，４，４−トリフルオロブチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が４，４，４−トリフルオロブチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がＣ３−Ｃ６シクロアルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロプロピル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロブチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロペンチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がシクロプロピル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がシクロプロピル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がシクロブチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がシクロブチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がシクロペンチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がシクロペンチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がシクロプロピル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がシクロプロピル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がシクロブチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がシクロブチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がシクロペンチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がシクロペンチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロプロピル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロプロピル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロプロピル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロプロピル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロブチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロブチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロブチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロブチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロブチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロブチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロブチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロブチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロペンチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロペンチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロペンチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロペンチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロペンチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロペンチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロペンチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロペンチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がシクロヘキシル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメトキシメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がエトキシメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメトキシメチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメトキシメチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメトキシメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメトキシメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメトキシメチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメトキシメチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメトキシメチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ⁴がメトキシメチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³がハロゲン原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；

式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶が水素原子であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵が水素原子であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物；
式（１−Ａ)において、Ｒ³が塩素原子であり、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）メチル基であり、Ｒ⁵がメチル基であり、Ｒ⁶がメチル基であるヒドラジド化合物。

本発明の有害生物防除組成物の態様としては、例えば以下のものが挙げられる。
後述の製造例で示す本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物とジノテフランとを含有する組成物；
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物とジノテフランとを、ヒドラジド化合物：ジノテフラン＝１０００：１〜１：１０００の重量比で含有する組成物。

次に本ヒドラジド化合物の製造について、以下に説明する。
以下、式（α）で示される化合物を「化合物（α）」と表すことがある。

（製造法１）
本ヒドラジド化合物は、化合物（２）と化合物（３）とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｇ、Ｍ及びｍは前記と同じ意味を表し、Ｌは水酸基又は塩素原子を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、アセトニトリル等のニトリル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、スルホラン；１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びそれらの混合物が挙げられる。
Ｌが塩素原子である場合、該反応は通常塩基の存在下で行われる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類及びトリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類が挙げられる。
Ｌが水酸基である場合、該反応は縮合剤の存在下で行われる。
該反応に用いられる縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド及び１−（３−ジメチルアミノプロピル）−３−エチルカルボジイミド塩酸塩が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、化合物（２）１モルに対して、化合物（３）が通常１〜１０モルの割合であり、塩基又は縮合剤が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本ヒドラジド化合物を単離することができる。単離された本ヒドラジド化合物はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法２）
本ヒドラジド化合物は、化合物（４）と化合物（５）とを反応させることにより製造することもできる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｇ、Ｍ及びｍは前記と同じ意味を表し、Ｚはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基及びトリフルオロメタンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、アセトニトリル等のニトリル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、スルホラン；１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応は必要ならば塩基の存在下で行われる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類及びトリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（４）で示される化合物１モルに対して、式（５）で示される化合物が通常１〜５モルの割合であり、塩基が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本ヒドラジド化合物を単離することができる。単離された本ヒドラジド化合物はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
また、該反応は文献記載の一般的な遷移金属触媒を用いたカップリング反応、例えばOrg. Lett., 3, 3803-3805 (2001)に記載の反応条件に準じて行うこともできる。

（製造法３）
本ヒドラジド化合物のうちＲ⁵が水素原子である化合物（１−１）は、本ヒドラジド化合物のうちＲ⁵がＲ⁵‐²である化合物（１−２）を酸または塩基と反応させることにより製造することもできる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁶、Ｇ、Ｍ及びｍは前記と同じ意味を表し、Ｒ^5-2は、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基又はＣ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基を表す。〕
該反応は、必要ならば溶媒を用いて行うこともできる。
該溶媒としては、例えば水、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル；、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド；アセトニトリル等のニトリル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；酢酸エチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド；スルホラン；１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；メタノール、エタノール、n-プロパノールなどのアルコール類；及びそれらの混合物が挙げられる。
該酸としては、例えば、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類；塩酸、臭化水素酸、硫酸等の無機酸類が挙げられる。
該塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩；カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類及びトリエチアミン、ピリジン等の有機アミンが挙げられる。
上記酸は化合物（１−２）１モルに対して、通常１〜１００モルの量で用いられる。
上記塩基は、化合物（１−２）１モルに対して、通常１〜１００モルの量で用いられる。
反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本ヒドラジド化合物を単離することができる。単離された本ヒドラジド化合物はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法４）
本ヒドラジド化合物のうち、Ｒ⁴がＮ(Ｒ⁹)Ｒ¹⁰基であり、Ｒ¹⁰が水素原子である化合物（１−３）は化合物（２）と化合物（１９）とを反応させることにより製造することもできる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁹、Ｇ、Ｍ及びｍは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒中で行われる。必要ならば塩基存在下で反応させることもできる。
該溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル；、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド；アセトニトリル等のニトリル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；酢酸エチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド；スルホラン；１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；及びそれらの混合物が挙げられる。
上記塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の炭酸塩；トリエチアミン、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、イミダゾール、１，８−ジアザビシクロ[５，４，０]−７−ウンデセン等の有機アミンが挙げられる。
上記反応において、化合物（１９）は、化合物（２）１モルに対して、通常１〜５モルの量で用いられる。上記塩基の添加が必要の場合は、化合物（２）１モルに対して、通常１〜５モルの量で用いられる。
反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本ヒドラジド化合物を単離することができる。単離された本ヒドラジド化合物はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（製造法５）
本ヒドラジド化合物のうち、Ｒ⁴がＲ^4-1であり、Ｍが酸素原子である化合物（１−４）は、化合物（２）と化合物（２１）とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｇ、及びｍは前記と同じ意味を表し、Ｒ^4-1は群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよい５〜６員ヘテロ環基又はＯＲ⁸基を表し、Ｒ⁸は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、必要ならば溶媒を用いて行うこともできる。
該溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド；アセトニトリル等のニトリル；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；酢酸エチル等のエステル；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド；スルホラン；１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、必要ならば塩基の存在下で行うこともできる。
該塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物；炭酸カリウム等の炭酸塩；カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド；及びトリエチルアミン、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、イミダゾール等の有機塩基類が挙げられる。
上記反応において、化合物（２１）は、化合物（２）１モルに対して、通常１〜１０モルの量で用いられ、必要であれば、溶媒として用いることもできる。上記塩基の添加が必要の場合は、化合物（２）１モルに対して、通常１〜１０モルの量で用いられる。
反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（１−４）を単離することもできる。単離された化合物（１−４）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

次に本ヒドラジド化合物の製造に用いられる中間体の製造方法について説明する。

（参考製造法１）
化合物（２）のうち、Ｒ⁶が水素原子である化合物（２−１）は、化合物（６）と亜硝酸化合物（７）と反応させた後、次いで還元剤（８）と反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｇ及びｍは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば水、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、スルホラン；１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びそれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる亜硝酸化合物（７）としては、例えば亜硝酸ナトリウム等の亜硝酸塩、亜硝酸エチル等の亜硝酸エステル類が挙げられる。
反応に用いられる還元剤（８）としては、例えば亜硫酸ナトリウム等の亜硫酸塩、亜鉛等の金属、塩化スズ（ＩＩ）等が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６）で示される化合物１モルに対して、亜硝酸化合物（７）が通常１〜１０モルの割合であり、還元剤（８）が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の式（６）で示される化合物と亜硝酸化合物（７）を反応させる工程における反応温度は、通常−２０〜３０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
化合物（６）と亜硝酸化合物（７）を反応させる工程で得られる反応混合物は、そのまま還元剤（８）と反応させる工程に用いることができ、該工程における反応温度は、通常−２０〜５０℃の範囲であり、反応時間は通常２４時間までの範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（２−１）を単離することもできる。単離された化合物（２−１）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考製造法２）
化合物（２）のうち、Ｒ⁶が水素原子である化合物（２−１）は、化合物（６）とアミノ化剤（９）とを反応させることにより製造することもできる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｇ及びｍは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば水、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、スルホラン；１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応は通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類、水酸化ナトリウム等の金属水酸化物及びトリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類が挙げられる。
反応に用いられるアミノ化剤（９）としては、例えばクロラミン等のクロラミン類、Ｏ-メシトイルヒドロキシルアミン等のＯ-アシルヒドロキシルアミン類、Ｏ-スルホニルヒドロキシルアミン類、ヒドロキシルアミン−Ｏ-スルホン酸が挙げられる。
上記アミノ化剤（９）は該反応において、反応系中で発生させることもできる。例えば、上記アミノ化剤（９）としてクロラミンを用いる場合は、次亜塩素酸ナトリウムとアンモニアとを原料として用い、これらを反応系中で混合することによりクロラミンを発生させてもよい。
反応に用いられる試剤の量は、式（６）で示される化合物１モルに対して、アミノ化剤（９）が通常１〜１０モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（２−１）を単離することもできる。単離された化合物（２−１）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考製造法３）
化合物（２）のうち、Ｒ⁶がＲ^6-1である化合物（２−２）は、化合物（２−１）と化合物（１０）とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｇ、Ｚ及びｍは前記と同じ意味を表し、Ｒ^6-1は群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキル基又はホルミル基を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、アセトニトリル等のニトリル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、スルホラン；１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応は通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類及びトリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２−１）で示される化合物１モルに対して、化合物（１０）が通常１〜１０モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（２−２）を単離することもできる。単離された化合物（２−２）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考製造法４）
化合物（２）のうち、Ｒ⁶がＲ^6-2である化合物（２−３）は、化合物（２−１）と化合物（２２）とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｒ⁵、Ｇ及びｍは前記と同じ意味を表し、Ｒ^6-2は群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基又はＣ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基を表す。〕
該反応は、必要ならば溶媒を用いて行うこともできる。
該溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド；アセトニトリル等のニトリル；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；酢酸エチル等のエステル；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド；スルホラン；１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、必要ならば塩基の存在下で行うこともできる。
該塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物；炭酸カリウム等の炭酸塩；カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド；及びトリエチルアミン、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、イミダゾール等の有機塩基類が挙げられる。
上記反応において、化合物（２２）は、化合物（２−１）１モルに対して、通常１〜１０モルの量で用いられる。必要であれば、化合物（２２）を溶媒として用いることもできる。
上記塩基の添加が必要の場合は、化合物（２−１）１モルに対して、通常１〜１０モルの量で用いられる。
反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（２−３）を単離することもできる。単離された化合物（２−３）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考製造法５）
化合物（６）のうち、Ｒ⁵が水素原子である化合物（６−１）は化合物（１１）を以下の（ｉ）〜（iii）に示すいずれかの方法で還元することにより製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｇ及びｍは前記と同じ意味を表す。〕

（ｉ）遷移金属触媒の存在下、水素ガスと反応させる方法。
該反応は溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば、酢酸エチル等のエステル類、エタノール、メタノール等のアルコール類、水、酢酸、塩酸及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる遷移金属触媒としては、例えば、ラネーニッケル、パラジウム−炭素及び二酸化白金などが挙げられる。
反応に用いられる遷移金属触媒の量は、化合物（１１）１モルに対して、通常０．０１〜０．５モルの割合である。
上記水素ガスの量は、化合物（１１）１モルに対して、通常１〜１００モルの割合である。
該反応の反応時間は通常０〜８０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、必要に応じて有機溶媒抽出、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（６−１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（６−１）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（ii）塩基存在下、ヒドラジンと反応させる方法。
該反応は溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等のエーテル類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
反応に用いられるヒドラジンとしては、例えばヒドラジン水和物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、化合物（１１）１モルに対して、塩基が通常１〜１０モルの割合であり、ヒドラジンが通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応時間は通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（６−１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（６−１）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（iii）酸の存在下、金属と反応させる方法。
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば、エタノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる金属としては、例えば、鉄、スズ及び塩化スズ（ＩＩ）が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、例えば、酢酸、塩酸及び硫酸が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、化合物（１１）１モルに対して、金属が通常２〜２０モルの割合であり、酸が通常０．１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜１２時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、必要に応じて有機溶媒抽出、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（６−１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（６−１）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考製造法６）
化合物（６）のうち、Ｒ⁵がＲ^5-1である化合物（６−２）は、化合物（６−１）と化合物（１２）とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｇ、Ｚ及びｍは前記と同じ意味を表し、Ｒ^5-1は群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキル基又はホルミル基を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類；アセトニトリル等のニトリル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；酢酸エチル等のエステル類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；スルホラン；１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応は通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類及びトリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、化合物（６−１）１モルに対して、化合物（１２）が通常１〜１０モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（６−２）を単離することもできる。単離された化合物（６−２）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考製造法７）
化合物（６）のうち、Ｒ⁵がＲ^5-2である化合物（６−３）は、化合物（６−１）と化合物（２０）とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ²、Ｒ^5-2、Ｇ及びｍは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、必要ならば溶媒を用いて行うこともできる。
該溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド；アセトニトリル等のニトリル；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；酢酸エチル等のエステル；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド；スルホラン；１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素；及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応は、必要ならば塩基の存在下で行うこともできる。
該塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物；炭酸カリウム等の炭酸塩；カリウムtert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド；及びトリエチルアミン、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、イミダゾール等の有機塩基類が挙げられる。
上記反応において、化合物（２０）は、化合物（６−１）１モルに対して、通常１〜１０モルの量で用いられ、必要であれば、溶媒として用いることもできる。上記塩基の添加が必要の場合は、化合物（６−１）１モルに対して、通常１〜１０モルの量で用いられる。
反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（６−３）を単離することもできる。単離された化合物（６−３）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考製造法８）
化合物（１１）のうち、ＧがＧ−１で示される基であり、Ｙ¹が酸素原子である化合物（１１−１）は、化合物（１３）を塩基と反応させた後、次いで化合物（１４）と反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ¹、Ｒ²及びｍは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類；アセトニトリル等のニトリル類；トルエン等の炭化水素類；酢酸エチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類、及びトリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、化合物（１３）１モルに対して、化合物（１４）が通常１〜１０モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の化合物（１３）と塩基とを反応させる工程における反応温度は、通常０〜８０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
化合物（１３）と塩基とを反応させる工程で得られる反応混合物は、そのまま化合物（１４）と反応させる工程に用いることができ、該工程における反応温度は、通常０〜８０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（１１−１）を単離することができる。単離された化合物（１１−１）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考製造法９）
化合物（１３）は、化合物（１５）を塩素化剤（１６）とを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³及びＱ⁴は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類；トルエン等の炭化水素類；酢酸エチルなどのエステル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類；アセトニトリル等のニトリル類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤（１６）としては、例えば塩素ガス及びＮ−クロロスクシンイミドが挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、化合物（１５）１モルに対して、塩素化剤（１６）が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜８０℃の範囲であり。反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（１３）を単離することもできる。単離された化合物（１３）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考製造法１０）
化合物（１５）は、化合物（１７）とヒドロキシルアミンとを反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³及びＱ⁴は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類；トルエン等の炭化水素類；酢酸エチル等のエステル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類；エタノール、メタノール等のアルコール類；アセトニトリル等のニトリル類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；水及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられるヒドロキシルアミンとしては、ヒドロキシルアミン塩酸塩及びヒドロキシルアミン硫酸塩等のヒドロキシルアミンと鉱酸との塩の形態で反応系内でヒドロキシルアミンを生成し得るものが挙げられるが、かかる場合には、該反応は塩基の存在下で行われる。かかる場合に用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン等の有機アミン類、炭酸ナトリウム等の炭酸塩類及び水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、化合物（１７）１モルに対して、ヒドロキシルアミンが通常１〜１０モルの割合であり、ヒドロキシルアミンと鉱酸との塩が用いられる場合に用いられる塩基の量は、ヒドロキシルアミンと鉱酸との塩１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜８０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（１５）を単離することができる。単離された化合物（１５）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考製造法１１）
化合物（４）のうち、ＧがＧ−１で示される基であり、Ｙ¹が酸素原子である化合物（４−１）は、化合物（１８）を塩基と反応させた後、次いで化合物（１４）と反応させることにより製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ¹、Ｒ²、Ｚ及びｍは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類；アセトニトリル等のニトリル類、トルエン等の炭化水素類；酢酸エチル等のエステル類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類、炭酸カリウム等の炭酸塩類、カリウム tert−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類、及びトリエチルアミン、ピリジン等の有機アミン類が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、化合物（１８）１モルに対して、化合物（１４）が通常１〜１０モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の化合物（１８）と塩基とを反応させる工程における反応温度は、通常０〜８０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
化合物（１８）と塩基とを反応させる工程で得られる反応混合物は、そのまま化合物（１４）と反応させる工程に用いることができ、該工程における反応温度は、通常０〜８０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（４−１）を単離することができる。単離された化合物（４−１）はクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。

（参考製造法１２）
化合物（４）のうち、ＧがＧ−１で示される基であり、Ｙ¹がＮＲ⁷基である式（４−２）で示される化合物は、例えば国際特許出願ＷＯ２００７／１２３８５５パンフレットに記載の方法に準じて製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁷、Ｚ及びｍは前記と同じ意味を表す。〕

（参考製造法１３）
化合物（４）のうち、ＧがＧ−２で示される基であり、Ｙ²がＹ^2-1である式（４−３）で示される化合物は、例えば特開２００７−９１７０８号公報に記載の方法に準じて製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ¹、Ｒ²、Ｚ及びｍは前記と同じ意味を表し、Ｙ^2-1は酸素原子、硫黄原子、メチレン基を表す。〕

（参考製造法１４）
化合物（４）のうち、ＧがＧ−３で示される基であり、Ｙ³がＹ^3-1である式（４−４）で示される化合物は、例えば国際特許出願ＷＯ２００７／１２３８５３パンフレットに記載の方法に準じて製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ¹、Ｒ²、Ｚ及びｍは前記と同じ意味を表し、Ｙ^3-1は酸素原子、ＮＲ⁷を表し、Ｒ⁷は前記と同じ意味を表す。〕

（参考製造法１５）
化合物（４）のうち、ＧがＧ−３で示される基であり、Ｙ³がメチレン基である式（４−５）で示される化合物は、例えば特開２００８−１１０９７１号公報に記載の方法に準じて製造することができる。

〔式中、Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³、Ｑ⁴、Ｒ¹、Ｒ²、Ｚ及びｍは前記と同じ意味を表す。〕

ジノテフランは、下記式(II)で示される化合物であり、例えば特開平７−１７９４４８号公報に記載された化合物（No.20）である。

ジノテフランは、例えば特開平７−１７９４４８号公報等に記載された方法にて製造することができる。また、市販の農薬製剤にて使用されている化合物も使用することができる。

本発明の有害生物防除組成物が効力を示す有害生物としては、例えば、有害昆虫類や有害ダニ類等の有害節足動物が挙げられる。より具体的には、下記のものが挙げられる。

半翅目害虫：ヒメトビウンカ(Laodelphax striatellus)，トビイロウンカ(Nilaparvata lugens)，セジロウンカ(Sogatella furcifera)等のウンカ類，ツマグロヨコバイ(Nephotettix cincticeps)，タイワンツマグロヨコバイ(Nephotettix virescens)，チャノミドリヒメヨコバイ(Empoasca onukii)等のヨコバイ類，ワタアブラムシ(Aphis gossypii)，モモアカアブラムシ(Myzus persicae)，ダイコンアブラムシ(Brevicoryne brassicae)，ユキヤナギアブラムシ(Aphis spiraecola)，チューリップヒゲナガアブラムシ(Macrosiphum euphorbiae)，ジャガイモヒゲナガアブラムシ(Aulacorthum solani)，ムギクビレアブラムシ(Rhopalosiphum padi)，ミカンクロアブラムシ(Toxoptera citricidus)，モモコフキアブラムシ(Hyalopterus pruni)等のアブラムシ類，アオクサカメムシ(Nezara antennata)，ホソヘリカメムシ(Riptortus clavetus)，クモヘリカメムシ(Leptocorisa chinensis)，トゲシラホシカメムシ(Eysarcoris parvus)，クサギカメムシ(Halyomorpha mista)等のカメムシ類，オオサシガメ（Triatoma rubrofasciata）等のサシガメ類、オンシツコナジラミ(Trialeurodes vaporariorum)，タバココナジラミ(Bemisia tabaci)，ミカンコナジラミ(Dialeurodes citri)，ミカントゲコナジラミ(Aleurocanthus spiniferus)等のコナジラミ類，アカマルカイガラムシ(Aonidiella aurantii)，サンホーゼカイガラムシ(Comstockaspis perniciosa)，シトラススノースケール(Unaspis citri)，ルビーロウムシ(Ceroplastes rubens)，イセリヤカイガラムシ(Icerya purchasi)，フジコナカイガラムシ(Planococcus kraunhiae)，ミカンコナカイガラムシ(Planococcus citri)，クワコナカイガラムシ(Pseudococcus longispinis)，クワシロカイガラムシ(Pseudaulacaspis pentagona)等のカイガラムシ類，グンバイムシ類，トコジラミ(Cimex lectularius)，ネッタイトコジラミ（Cimex hemipterus）等のトコジラミ類，ナシキジラミ(Cacopsylla pyricola)等のキジラミ類等。

鱗翅目害虫：ニカメイガ(Chilo suppressalis)，サンカメイガ(Tryporyza incertulas)，コブノメイガ(Cnaphalocrocis medinalis)，ワタノメイガ(Notarcha derogata)，ノシメマダラメイガ(Plodia interpunctella)，アワノメイガ(Ostrinia furnacalis)，ハイマダラノメイガ(Hellula undalis)，シバツトガ(Pediasia teterrellus)等のメイガ類，ハスモンヨトウ(Spodoptera litura)，シロイチモジヨトウ(Spodoptera exigua)，アワヨトウ(Pseudaletia separata)，ヨトウガ(Mamestra brassicae)，タマナヤガ(Agrotis ipsilon)，タマナギンウワバ(Autographa nigrisigna)，トリコプルシア属，ヘリオティス属，ヘリコベルパ属等のヤガ類，モンシロチョウ(Pieris rapae)等のシロチョウ類，アドキソフィエス属，ナシヒメシンクイ(Grapholita molesta)，マメシンクイガ(Leguminivora glycinivorella)，アズキサヤムシガ(Matsumuraeses azukivora)，リンゴコカクモンハマキ(Adoxophyes orana fasciata)，チャノコカクモンハマキ(Adoxophyes honmai. )，チャハマキ(Homona magnanima)，ミダレカクモンハマキ(Archips fuscocupreanus)，コドリンガ(Cydia pomonella)等のハマキガ類，チャノホソガ(Caloptilia theivora)，キンモンホソガ(Phyllonorycter ringoneella)等のホソガ類，モモシンクイガ(Carposina niponensis)等のシンクイガ類，トマトガ(Tuta absoluta)，リオネティア属等のハモグリガ類，リマントリア属，ユープロクティス属等のドクガ類，コナガ(Plutella xylostella)等のスガ類，ワタアカミムシ(Pectinophora gossypiella)ジャガイモガ(Phthorimaea operculella)等のキバガ類，アメリカシロヒトリ(Hyphantria cunea)等のヒトリガ類，イガ(Tinea translucens)，コイガ(Tineola bisselliella)等のヒロズコガ類等。

アザミウマ目害虫：ミカンキイロアザミウマ(Frankliniella occidentalis)，ミナミキイロアザミウマ(Thrips parmi)，チャノキイロアザミウマ(Scirtothrips dorsalis)，ネギアザミウマ(Thrips tabaci)，ヒラズハナアザミウマ(Frankliniella intonsa)等のアザミウマ類等。

双翅目害虫：アカイエカ(Culex pipiens pallens)，コガタアカイエカ(Culex tritaeniorhynchus)，ネッタイイエカ(Culex quinquefasciatus)等のイエカ類，ネッタイシマカ(Aedes aegypti)，ヒトスジシマカ(Aedes albopictus)等のエーデス属，シナハマダラカ(Anopheles sinensis)，ガンビエハマダラカ（Anopheles gambiae）,コガタハマダラカ（Anopheles minimus），ステフェンスハマダラカ（Anopheles stephensi），Anopheles albimanus等のアノフェレス属，ユスリカ類，イエバエ(Musca domestica)，オオイエバエ(Muscina stabulans)等のイエバエ類，クロバエ類，ニクバエ類，ヒメイエバエ類，ツェツェバエ(Glossina palpalis)等のシラミバエ類、タネバエ(Delia platura)，タマネギバエ(Delia antiqua)等のハナバエ類，イネハモグリバエ(Agromyza oryzae)，イネヒメハモグリバエ(Hydrellia griseola)，トマトハモグリバエ，(Liriomyza sativae)，マメハモグリバエ(Liriomyza trifolii)，ナモグリバエ(Chromatomyia horticola)等のハモグリバエ類，イネキモグリバエ(Chlorops oryzae)等のキモグリバエ類，ウリミバエ(Dacus cucurbitae)，チチュウカイミバエ(Ceratitis capitata)等のミバエ類，ショウジョウバエ類，オオキモンノミバエ(Megaselia spiracularis)等のノミバエ類，オオチョウバエ(Clogmia albipunctata)、ニッポンサシチョウバエ（Phlebotomus squamirostris）、スナバエ（Lutzomyia longipalpis）等のチョウバエ類，ブユ類，ウシアブ(Tabanus trigonus)等のアブ類，サシバエ類等。

鞘翅目害虫：ウエスタンコーンルートワーム(Diabrotica virgifera virgifera)，サザンコーンルートワーム(Diabrotica undecimpunctata howardi)等のコーンルートワーム類，ドウガネブイブイ(Anomala cuprea)，ヒメコガネ(Anomala rufocuprea)，マメコガネ(Popillia japonica)等のコガネムシ類，メイズウィービル(Sitophilus zeamais)，イネミズゾウムシ(Lissorhoptrus oryzophilus)，アズキゾウムシ(Callosobruchuys chienensis)，イネゾウムシ(Echinocnemus squameus)，ワタミゾウムシ(Anthonomus grandis)，シバオサゾウムシ(Sphenophorus venatus)，ヤシオオオサゾウムシ(Rhynchophorus ferrugineus)等のゾウムシ類，チャイロコメノゴミムシダマシ(Tenebrio molitor)，コクヌストモドキ(Tribolium castaneum)等のゴミムシダマシ類，イネドロオイムシ(Oulema oryzae)，ウリハムシ(Aulacophora femoralis)，キスジノミハムシ(Phyllotreta striolata)，コロラドハムシ(Leptinotarsa decemlineata)等のハムシ類，ヒメマルカツオブシムシ(Anthrenus verbasci)，ハラジロカツオブシムシ(Dermestes maculates)等のカツオブシムシ類，タバコシバンムシ(Lasioderma serricorne)等のシバンムシ類，ニジュウヤホシテントウ(Epilachna vigintioctopunctata)等のエピラクナ類，ヒラタキクイムシ(Lyctus brunneus)，マツノキクイムシ(Tomicus piniperda)等のキクイムシ類，ナガシンクイムシ類，ヒョウホンムシ類，ゴマダラカミキリ(Anoplophora malasiaca)等のカミキリムシ類，コメツキムシ類(Agriotes spp. )アオバアリガタハネカクシ(Paederus fuscipes)等。

直翅目害虫：トノサマバッタ(Locusta migratoria)，ケラ(Gryllotalpa africana)，コバネイナゴ(Oxya yezoensis)，ハネナガイナゴ(Oxya japonica)，コオロギ類等。

隠翅目害虫：ヒトノミ（Pulex irritans）、ネコノミ（Ctenocephalides felis）、イヌノミ（Ctenocephalides canis）、ケオプスネズミノミ（Xenopsylla cheopis）、スナノミ（Tunga penetrans）、ニワトリノミ（Echidnophaga gallinacea）、ヨーロッパネズミノミ（Nosopsyllus fasciatus）等。

シラミ目害虫：コロモジラミ(Pediculus humanus corporis)，アタマジラミ（Pediculus humanus humanus）,ケジラミ (Phthirus pubis)，ウシジラミ(Haematopinus eurysternus)，ヒツジジラミ(Dalmalinia ovis)，ブタジラミ(Haematopinus suis)等。

膜翅目害虫：イエヒメアリ(Monomorium pharaosis)，クロヤマアリ(Formica fusca japonica)，ルリアリ(Ochetellus glaber)，アミメアリ(Pristomyrmex pungens)，オオズアリ(Pheidole noda)，ハキリアリ(Acromyrmex spp. )，ファイヤーアント(Solenopsis spp. ),アルゼンチンアリ（Linepithema humile）等のアリ類，スズメバチ類，アリガタバチ類，カブラハバチ(Athalia rosae)，ニホンカブラバチ(Athalia japonica)等のハバチ類等。

ゴキブリ目害虫：チャバネゴキブリ(Blattella germanica)，クロゴキブリ(Periplaneta fuliginosa)，ワモンゴキブリ(Periplaneta americana)，トビイロゴキブリ(Periplaneta brunnea)，トウヨウゴキブリ(Blatta orientalis)等のゴキブリ類，ヤマトシロアリ(Reticulitermes speratus)，イエシロアリ(Coptotermes formosanus)，アメリカカンザイシロアリ(Incisitermes minor)，ダイコクシロアリ(Cryptotermes domesticus)，タイワンシロアリ(Odontotermes formosanus)，コウシュンシロアリ(Neotermes koshunensis)，サツマシロアリ(Glyptotermes satsumensis)，ナカジマシロアリ(Glyptotermes nakajimai)，カタンシロアリ(Glyptotermes fuscus)，コダマシロアリ(Glyptotermes kodamai)，クシモトシロアリ(Glyptotermes kushimensis)，オオシロアリ(Hodotermopsis japonica)，コウシュウイエシロアリ(Coptotermes guangzhoensis)，アマミシロアリ(Reticulitermes miyatakei)，キアシシロアリ(Reticulitermes flaviceps amamianus)，カンモンシロアリ(Reticulitermes sp. )，タカサゴシロアリ(Nasutitermes takasagoensis)，ニトベシロアリ(Pericapritermes nitobei)，ムシャシロアリ(Sinocapritermes mushae)等のシロアリ類等。

ダニ目害虫：ナミハダニ(Tetranychus urticae)，カンザワハダニ(Tetranychus kanzawai)，ミカンハダニ(Panonychus citri)リンゴハダニ(Panonychus ulmi)，オリゴニカス属等のハダニ類，ミカンサビダニ(Aculops pelekassi)，リュウキュウミカンサビダニ(Phyllocoptruta citri)，トマトサビダニ(Aculops lycopersici)，チャノサビダニ(Calacarus carinatus)，チャノナガサビダニ(Acaphylla theavagrans)，ニセナシサビダニ(Eriophyes chibaensis)，リンゴサビダニ(Aculus schlechtendali)等のフシダニ類，チャノホコリダニ(Polyphagotarsonemus latus)、アカリンダニ（Acarapis woodi）等のホコリダニ類，ミナミヒメハダニ(Brevipalpus phoenicis)等のヒメハダニ類，ケナガハダニ類，ローンスターチック（Amblyomma americanum）、アンブリオンマ・マクラタム（Ambryomma maculatum）、ウシマダニ（Boophilus microplus）、ブーフィラス・アンヌラタス（Boophilus annulatus）、アメリカンドックチック（Dermacentor variabilis）、タイワンカクマダニ（Dermacentor taiwanicus）、デルマセントル・アンデルソニ（Dermacentor andersoni）、フタトゲチマダニ（Haemaphysalis longicornis）、ヤマトチマダニ（Haemaphysalis flava）、ツリガネチマダニ（Haemaphysalis campanulata）、ヤマトマダニ（Ixodes ovatus）、シュルツマダニ（Ixodes persulcatus）、ブラックレッグドチック（Ixodes scapularis）、西部クロアシマダニ（Ixodes pacificus）、イキソデス・ホロシクラス（Ixodes holocyclus）、クリイロコイタマダニ（Rhipicephalus sanguineus）、リピセファラス・アペンディキュレイタス（Rhipicephalus appendiculatus）等のマダニ類，ナガヒメダニ（Argas persicus）等のヒメダニ類、ミミヒゼンダニ（Octodectes cynotis）等のキュウセンゼンダニ類，ヒゼンダニ（Sacroptes scabiei）等のヒゼンダニ類，ウサギズツキダニ(Listrophorus gibbus)等のズツキダニ類、イヌニキビダニ（Demodex canis）等のニキビダニ類，ケナガコナダニ(Tyrophagus putrescentiae)，ホウレンソウケナガコナダニ(Tyrophagus similis)等のコナダニ類，コナヒョウヒダニ(Dermatophagoides farinae)，ヤケヒョウヒダニ(Dermatophagoides ptrenyssnus)等のヒョウヒダニ類，ホソツメダニ(Cheyletus eruditus)，クワガタツメダニ(Cheyletus malaccensis)，ミナミツメダニ(Cheyletus moorei)等のツメダニ類，イエダニ(Ornithonyssus bacoti)，トリサシダニ(Ornithonyssus sylvairum)，ミツバチヘギイタダニ（Varroa jacobsoni）等のトゲダニ類、ワクモ(Dermanyssus gallinae)等のワクモ類，アカツツガムシ(Leptotrombidium akamushi)等のツツガムシ類等，カバキコマチグモ(Chiracanthium japonicum)，セアカゴケグモ(Latrodectus hasseltii)等のクモ類等。

唇脚綱類：ゲジ(Thereuonema hilgendorfi)，トビズムカデ(Scolopendra subspinipes)等。
倍脚綱類：ヤケヤスデ(Oxidus gracilis)，アカヤスデ(Nedyopus tambanus)等。
等脚目類：オカダンゴムシ(Armadillidium vulgare)等。
腹足綱類：チャコウラナメクジ(Limax marginatus)，キイロコウラナメクジ(Limax flavus)等。

本発明の有害生物防除組成物は、本ヒドラジド化合物及びジノテフランのみでもよいが、通常は固体担体、液体担体及び又はガス状担体と混合し、更に必要に応じて界面活性剤その他の製剤用補助剤を添加して、エマルジョン、油剤、油性液剤、水性液剤、溶解液、シャンプー、サスペンジョン等の液剤、粉剤、粒剤、ペースト状製剤、クリーム剤、軟膏剤、マイクロカプセル化製剤、泡沫剤、エアゾール製剤、炭酸ガス製剤、錠剤、チュアブル錠、ボーラス剤、カプセル剤、動物用飼料プレミックス、シロップ剤、シート製剤、フィルム状製剤、樹脂製剤、注射剤、埋め込み剤、坐剤等の形態に製剤化することができる。これらの製剤は、毒餌、蚊取り線香、電気蚊取りマット、燻煙剤、燻蒸剤、シートに加工されて、使用されることもある。
これらの製剤は、本ヒドラジド化合物及びジノテフランの合計量で通常０．１〜９５重量％含有する。

製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば粘土類（カオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等）、合成含水酸化珪素、タルク、セラミック、その他の無機鉱物（セリサイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等）、化学肥料（硫安、燐安、硝安、塩安、尿素等）等の微粉末及び粒状物が挙げられる。

液体担体としては、例えば芳香族または脂肪族炭化水素類（キシレン、トルエン、アルキルナフタレン、フェニルキシリルエタン、ケロシン、軽油、ヘキサン、シクロヘキサン等）、ハロゲン化炭化水素類（クロロベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、エチレングリコール等）、エーテル類（ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、脂肪酸エステル類（アジピン酸ジイソプロピル、アジピン酸ジイソブチル、ミリスチン酸イソプロピル等）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、ニトリル類（アセトニトリル、イソブチロニトリル等）、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、酸アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、ピロリドン類（Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−オクチル−２−ピロリドン等）、炭酸プロピレン、乳酸エチル、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、植物油（大豆油、綿実油等）、植物精油（オレンジ油、ヒソップ油、レモン油等）シリコーンオイル（ジメチルシリコーンオイル、高重合ジメチルシリコーンオイル、環状シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等）および水などが挙げられる。

ガス状担体としては、例えばブタンガス、フロンガス、液化石油ガス（ＬＰＧ）、ジメチルエーテル、炭酸ガス等を挙げることができる。

界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル類及びそのポリオキシエチレン化物、ポリエチレングリコールエーテル類、多価アルコールエステル類及び糖アルコール誘導体が挙げられる。

その他の製剤用補助剤としては、固着剤、分散剤及び安定剤等、具体的には例えばカゼイン、ゼラチン、多糖類（澱粉、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等）、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸及び脂肪酸エステルが挙げられる。

樹脂製剤の基材としては、例えば塩化ビニル系重合体、ポリウレタン等を挙げることができ、これらの基材には必要によりフタル酸エステル類（フタル酸ジメチル、フタル酸ジオクチル等）、アジピン酸エステル類、ステアリン酸等の可塑剤が添加されていてもよい。樹脂製剤は該基材中に化合物を通常の混練装置を用いて混練した後、射出成型、押出成型、プレス成型等により成型することにより得られ、必要により更に成型、裁断等の工程を経て、板状、フィルム状、テープ状、網状、ひも状等の樹脂製剤に加工できる。これらの樹脂製剤は、例えば動物用首輪、動物用イヤータッグ、シート製剤、誘引ひも、園芸用支柱として加工される。
毒餌の基材としては、例えば穀物粉、植物油、糖、結晶セルロース等が挙げられ、更に必要に応じて、ジブチルヒドロキシトルエン、ノルジヒドログアイアレチン酸等の酸化防止剤、デヒドロ酢酸等の保存料、トウガラシ末等の子供やペットによる誤食防止剤、チーズ香料、タマネギ香料、ピーナッツオイル等の害虫誘引性香料等が添加される。

本発明の有害生物防除方法は、本ヒドラジド化合物とジノテフランとの有効量を有害生物に直接、及び／又は有害生物の生息場所（植物体、動物体、家屋内、土壌等）に施用することにより行われる。本ヒドラジド化合物及びジノテフランは同時期に別々に施用してもよいが、通常は施用時の簡便性の観点から、本発明の有害生物防除組成物として施用する。

本ヒドラジド化合物とジノテフランとを農林害虫の防除に用いる場合は、その施用量は本ヒドラジド化合物及びジノテフランの合計量で通常１〜１００００ｇ／ｈａ、好ましくは１０〜５００ｇ／ｈａである。乳剤、水和剤、フロアブル剤、マイクロカプセル製剤等は通常本ヒドラジド化合物及びジノテフランの合計が１〜１０００ｐｐｍとなるように水で希釈して使用し、粉剤、粒剤等は通常そのまま使用する。これらの製剤を有害生物から保護すべき植物に対して直接散布してもよい。これらの製剤を土壌に処理することにより土壌に棲息する有害生物を防除することもでき、またこれらの製剤を植物を植え付ける前の苗床に処理したり、植付時に植穴や株元に処理することもできる。さらに、本発明の有害生物防除剤のシート製剤を植物に巻き付けたり、植物の近傍に設置したり、株元の土壌表面に敷くなどの方法でも施用することができる。

本発明の有害生物防除剤は、下記「作物」が栽培されている農地で使用することができる。
農作物；トウモロコシ、イネ、コムギ、オオムギ、ライムギ、エンバク、ソルガム、ワタ、ダイズ、ピーナッツ、ソバ、テンサイ、ナタネ、ヒマワリ、サトウキビ、タバコ等、
野菜；ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル等）、イチゴ、サツマイモ、ヤマノイモ、サトイモ等、
花卉、
観葉植物、
果樹；仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ、バナナ、コーヒー、ナツメヤシ、ココヤシ等、
果樹以外の樹；チャ、クワ、花木、街路樹（トネリコ、カバノキ、ハナミズキ、ユーカリ、イチョウ、ライラック、カエデ、カシ、ポプラ、ハナズオウ、フウ、プラタナス、ケヤキ、クロベ、モミノキ、ツガ、ネズ、マツ、トウヒ、イチイ）等。

「作物」には、遺伝子組換え作物も含まれる。

本ヒドラジド化合物とジノテフランとを防疫用として用いる場合は、その施用量は空間に適用するときは本ヒドラジド化合物及びジノテフランの合計で通常０．００１〜１０ｍｇ／ｍ³であり、平面に適用するときは０．００１〜１００ｍｇ／ｍ²である。乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常は本ヒドラジド化合物及びジノテフランの合計の濃度が０．０１〜１００００ｐｐｍとなるように水で希釈して施用し、油剤、エアゾール、燻煙剤、毒餌等は通常そのまま施用する。

本ヒドラジド化合物とジノテフランとをウシ、ウマ、ブタ、ヒツジ、ヤギ、ニワトリ等の家畜、イヌ、ネコ、ラット、マウス等の小動物の外部寄生虫防除に用いる場合は、獣医学的に公知な経口的または非経口的な投与方法にて、動物に使用することができる。具体的な使用方法としては、全身抑制を目的にする場合には、例えば錠剤（丸剤、糖衣錠、フィルムコーティング錠を含む）、チュアブル錠、カプセル剤、粒剤（顆粒剤、細粒剤、散剤など）、液剤（乳剤、サスペンジョンなど）、フィルム状製剤等の経口剤；および注射剤（例、皮下注射剤、静脈内注射剤、筋肉内注射剤、腹腔内注射剤、点滴剤、徐放性注射剤）、坐剤（例、直腸坐剤、膣坐剤）、埋め込み剤（埋め込み錠、生体内分解性ポリマーを基材として成形されたもの、チタン等の生体適合性金属のカプセルに封入され、一定速度で有効成分を放出するものを含む）等の非経口剤等が挙げられる。なお、経口投与の際には、上記の製剤を飼料に混入して用いることができる。
また、非全身的抑制を目的とする場合には、例えば油剤若しくは水性液剤を噴霧する、クリーム剤、軟膏剤などの外用剤をぬる、液剤をポアオン処理若しくはスポットオン処理する、シャンプー製剤で動物を洗う又は樹脂製剤を首輪やイヤータッグにして動物に付ける等の方法により用いられる。動物体に投与する場合の本ヒドラジド化合物及びジノテフランの合計量は、通常動物の体重１ｋｇに対して、０．１〜１０００ｍｇの範囲である。

上記の獣医学的な投与方法にて用いられる製剤剤形には、製剤素材として慣用の各種有機あるいは無機担体物質が用いられ、固形製剤における賦形剤、滑沢剤、結合剤、崩壊剤；液状製剤における溶剤、溶解補助剤、懸濁化剤、等張化剤、緩衝剤、無痛化剤などとして配合される。また必要に応じて、防腐剤、抗酸化剤、着色剤、甘味剤などの製剤添加物を用いることもできる。賦形剤の好適な例としては、乳糖、白糖、Ｄ−マンニトール、Ｄ−ソルビトール、デンプン、α化デンプン、デキストリン、結晶セルロース、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、アラビアゴム、デキストリン、プルラン、軽質無水ケイ酸、合成ケイ酸アルミニウム、メタケイ酸アルミン酸マグネシウムなどが挙げられる。滑沢剤の好適な例としては、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、タルク、コロイドシリカなどが挙げられる。結合剤の好適な例としては、α化デンプン、ショ糖、ゼラチン、アラビアゴム、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナトリウム、結晶セルロース、白糖、Ｄ−マンニトール、トレハロース、デキストリン、プルラン、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ポリビニルピロリドンなどが挙げられる。崩壊剤の好適な例としては、乳糖、白糖、デンプン、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルセルロースカルシウム、クロスカルメロースナトリウム、カルボキシメチルスターチナトリウム、軽質無水ケイ酸、低置換度ヒドロキシプロピルセルロースなどが挙げられる。溶剤の好適な例としては、注射用水、生理的食塩水、リンゲル液、アルコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ゴマ油、トウモロコシ油、オリーブ油、綿実油などが挙げられる。溶解補助剤の好適な例としては、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、Ｄ−マンニトール、トレハロース、安息香酸ベンジル、エタノール、トリスアミノメタン、コレステロール、トリエタノールアミン、炭酸ナトリウム、クエン酸ナトリウム、サリチル酸ナトリウム、酢酸ナトリウムなどが挙げられる。懸濁化剤の好適な例としては、ステアリルトリエタノールアミン、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリルアミノプロピオン酸、レシチン、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、モノステアリン酸グリセリンなどの界面活性剤；例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、カルボキシメチルセルロースナトリウム、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロースなどの親水性高分子；ポリソルベート類、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油などが挙げられる。等張化剤の好適な例としては、塩化ナトリウム、グリセリン、Ｄ−マンニトール、Ｄ−ソルビトール、ブドウ糖などが挙げられる。緩衝剤の好適な例としては、リン酸塩、酢酸塩、炭酸塩、クエン酸塩などの緩衝液などが挙げられる。無痛化剤の好適な例としては、ベンジルアルコールなどが挙げられる。防腐剤の好適な例としては、パラオキシ安息香酸エステル類、クロロブタノール、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、デヒドロ酢酸、ソルビン酸などが挙げられる。抗酸化剤の好適な例としては、亜硫酸塩、アスコルビン酸塩などが挙げられる。着色剤の好適な例としては、水溶性食用タール色素（例、食用赤色２号および３号、食用黄色４号および５号、食用青色１号および２号などの食用色素、水不溶性レーキ色素（例、前記水溶性食用タール色素のアルミニウム塩など）、天然色素（例、β−カロチン、クロロフィル、ベンガラなど）などが挙げられる。
また、注射剤は、有効成分を分散剤（例、ポリソルベート８０，ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油６０など，ポリエチレングリコール，カルボキシメチルセルロース，アルギン酸ナトリウムなど）、保存剤（例、メチルパラベン，プロピルパラベン，ベンジルアルコール，クロロブタノール，フェノールなど）、等張化剤（例、塩化ナトリウム，グリセリン，Ｄ−マンニトール，Ｄ−ソルビトール，ブドウ糖など）などと共に水性溶剤（例、蒸留水，生理的食塩水，リンゲル液等）あるいは油性溶剤（例、オリーブ油，ゴマ油，綿実油，トウモロコシ油などの植物油、プロピレングリコール等）などに溶解、懸濁あるいは乳化することにより製造される。この際、所望により溶解補助剤（例、サリチル酸ナトリウム，酢酸ナトリウム等）、安定剤（例、ヒト血清アルブミン等）、無痛化剤（例、ベンジルアルコール等）等の添加物を用いてもよい。注射液は、通常、適当なアンプルに充填される。
本発明の有害生物防除組成物は徐放性製剤として用いることもできる。該徐放性製剤としては、例えば水中乾燥法（ｏ／ｗ法、ｗ／ｏ／ｗ法等）、相分離法、噴霧乾燥法あるいはこれらに準ずる方法によって製造されたマイクロカプセル（例えば、マイクロスフェア・マイクロカプセル、マイクロパーティクル等）、生体適合性ポリマーで成形されたもの等がある。

本発明の有害生物防除組成物は他の殺虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤、共力剤、肥料、土壌改良剤、動物用飼料等と混用又は併用することもできる。

以下、本発明を本ヒドラジド化合物及び本ヒドラジド化合物の製造中間体の製造例、本発明の有害生物防除組成物の製剤例及び試験例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
尚、本明細書において使用している略号は、以下の意味を有する。
Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基、Ｐｈ：フェニル基。

まず、本ヒドラジド化合物の製造例を以下に示す。
製造例１
参考製造例６により得られたＮ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル１．３９ｇ及びトリエチルアミン３３０ｍｇをテトラヒドロフラン１２ｍｌに溶かし、ここに０℃で塩化アセチル２５７ｍｇを滴下して、０℃で１時間撹拌後、室温で１３時間静置した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−アセチル−Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル（本明細書において、本ヒドラジド化合物（１）と記す。）１．３０ｇを得た。
本ヒドラジド化合物（１）

融点：１１１℃

製造例２
製造例１により得られたＮ’−アセチル−Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル２５０ｍｇをテトラヒドロフラン１ｍｌに溶かし、ここに室温でトリフルオロ酢酸１．５ｍLを滴下して１時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝アセトヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（２）と記す。）１７９ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（２）

融点：１００℃

製造例３
水素化ナトリウム（６０％油性）７８ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍLに懸濁させ、ここに室温で製造例１により得られたＮ’−アセチル−Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル８００ｍｇをテトラヒドロフラン６ｍｌに溶解した溶液を滴下した。同温で３０分撹拌後、ここに室温でヨウ化メチル３５５ｍｇを加え、同温で１０時間撹拌した。混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−アセチル−Ｎ’−メチル−Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル（本明細書において、本ヒドラジド化合物（３）と記す。）６９７ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（３）

融点：７９℃

製造例４
製造例３により得られたＮ’−アセチル−Ｎ’−メチル−Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル３２４ｍｇに室温でトリフルオロ酢酸５ｍLを加え、同温で３０分間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え，有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、N−メチル−Ｎ’−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝アセトヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（４）と記す。）２９０ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（４）

融点：８８℃

製造例５
参考製造例１０により得られたクルードのＮ−メチル−Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝ヒドラジン１．００ｇ及びトリエチルアミン１８０ｍｇをテトラヒドロフラン３ｍｌに溶かし、ここに０℃で塩化アセチル１３９ｍｇを滴下して、同温で１時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−メチル−Ｎ’−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝アセトヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（５）と記す。）４９８ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（５）

融点：８７℃

製造例６
製造例５により得られたＮ’−メチル−Ｎ’−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝アセトヒドラジド２４８ｍｇをN，N−ジメチルホルムアミド２ｍLに溶かし、ここに室温で炭酸ナトリウム９２ｍｇ、ヨウ化メチル８７ｍｇを加えた。同温で５時間撹拌後、tert−ブチルメチルエーテル２０ｍLを加え、沈殿物をろ過した。ろ液を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−メチル−Ｎ’−メチル−Ｎ’−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝アセトヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（６）と記す。）１４０ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（６）

融点：１５１℃

製造例７
参考製造例３により得られたクルードの３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニルヒドラジン１．０４ｇ及びトリエチルアミン２６９ｍｇをテトラヒドロフラン５ｍｌに溶解し、ここに０℃で３，３，３−トリフルオロプロピオニルクロライド３９１ｍｇを滴下して、室温で４時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝−３，３，３−トリフルオロプロピオノヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（７）と記す。）６３９ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（７）

融点：７５℃

製造例８
参考製造例１４により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−メチルフェニルヒドラジン２２０ｍｇ及びピリジン４３ｍｇを酢酸エチル２ｍｌに溶かし、ここに０℃で３，３，３−トリフルオロプロピオニルクロライド８０ｍｇを滴下して、室温で４時間撹拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−メチルフェニル｝−３，３，３−トリフルオロプロピオノヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（８）と記す。）１６２ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（８）

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.01-7.96 (1H, br m), 7.48-7.42 (3H, m), 7.15-7.04 (3H, m), 6.11-6.00 (1H, m), 4.04-4.00 (1H, m), 3.63 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.25-3.19 (2H, m), 2.26 (3H, s).

製造例９
参考製造例１４により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−メチルフェニルヒドラジン２２０ｍｇ及びピリジン４３ｍｇを酢酸エチル２ｍｌに溶解し、ここに０℃でクロロぎ酸イソプロピル８０ｍｇを滴下して、室温で４時間撹拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−メチルフェニル｝カルバジン酸イソプロピル（本明細書において、本ヒドラジド化合物（９）と記す。）１２７ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（９）

融点：７１℃

製造例１０
参考製造例１８により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−フルオロフェニルヒドラジン４１２ｍｇ及びトリエチルアミン１０２ｍｇをテトラヒドロフラン６ｍｌに溶かし、ここに０℃で３，３，３−トリフルオロプロピオニルクロライド１４８ｍｇを滴下して、室温で４時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−フルオロフェニル｝−３，３，３−トリフルオロプロピオノヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（１０）と記す。）１６７ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（１０）

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.89-7.55 (1H, m), 7.46-7.42 (3H, m), 7.28 (1H, dd, J = 7.9, 1.8 Hz), 7.18-7.00 (2H, m), 6.39-6.29 (1H, m), 4.03-3.98 (1H, m), 3.65-3.60 (1H, m), 3.21 (2H, q, J = 10.3 Hz).

製造例１１
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン５１０ｍｇ及びトリエチルアミン１２３ｍｇをテトラヒドロフラン６ｍｌに溶かし、ここに０℃で３，３，３−トリフルオロプロピオニルクロライド１７９ｍｇを滴下して、室温で２．５時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝−３，３，３−トリフルオロプロピオノヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（１１）と記す。）１７５ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（１１）

融点８９℃

製造例１２
参考製造例２３により得られたＮ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル１１０ｍｇ及びトリエチルアミン２２ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍｌに溶かし、ここに０℃でシクロプロパンカルボニルクロライド２３ｍｇを滴下して、室温で１時間撹拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−シクロプロパンカルボニル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル（本明細書において、本ヒドラジド化合物（１２）と記す。）１０１ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（１２）

融点：１８０℃

製造例１３
製造例１２により得られたＮ’−シクロプロパンカルボニル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル２７２ｍｇに室温でトリフルオロ酢酸２ｍLを加え、同温で１時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え，飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝シクロプロパンカルボヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（１３）と記す。）２１４ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（１３）

融点１００℃

製造例１４
参考製造例２３により得られたＮ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル２６２ｍｇ及びトリエチルアミン６１ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍｌに溶かし、ここに０℃でイソバレリルクロライド７２ｍｇを滴下して、室温で９時間撹拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−イソバレリル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル（本明細書において、本ヒドラジド化合物（１４）と記す。）２８０ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（１４）

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.82-7.70 (3H, m), 7.48-7.44 (4H, m), 4.08-4.04 (1H, m), 3.71-3.66 (1H, m), 2.18-2.10 (3H, m), 1.45 (9H, d, J = 52.9 Hz), 0.98 (6H, d, J = 6.1 Hz).

製造例１５
製造例１４により得られたＮ’−イソバレリル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル２８０ｍｇに室温でトリフルオロ酢酸２ｍLを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え，有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝イソバレロヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（１５）と記す。）２２２ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（１５）

融点：８４℃

製造例１６
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン１．５ｍｌに溶かし、ここに０℃でベンゾイルクロライド７９ｍｇを滴下して、室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝ベンゾヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（１６）と記す。）２２０ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（１６）

融点１０５℃

製造例１７
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍｌに溶かし、ここに０℃で４，４，４−トリフルオロブチリルクロライド９０ｍｇを滴下して、室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝−４，４，４−トリフルオロブチロヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（１７）と記す。）２０１ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（１７）

融点８２℃

製造例１８
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃で塩化アセチル４４ｍｇを滴下して、室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝アセトヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（１８）と記す。）１６８ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（１８）

融点：９４℃

製造例１９
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃でプロピオニルクロライド５２ｍｇを滴下して、室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝プロピオノヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（１９）と記す。）１９５ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（１９）

融点９２℃

製造例２０
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２６０ｍｇ及びトリエチルアミン６０ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍｌに溶かし、ここに０℃でトリフルオロ酢酸無水物１５０ｍｇを滴下して、室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝−２，２，２−トリフルオロアセトヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（２０）と記す。）１７５ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（２０）

融点：６４℃

製造例２１
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン９５ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃でニコチノイルクロライド塩酸塩８４ｍｇを加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝ニコチノヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（２１）と記す。）１９８ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（２１）

融点：２０５℃

製造例２２
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン９５ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃でイソニコチノイルクロライド塩酸塩８４ｍｇを加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝イソニコチノヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（２２）と記す。）１６９ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（２２）

融点：１１５℃

製造例２３
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５２ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃でピバロイルクロライド６２ｍｇを加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝ピバロヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（２３）と記す。）１９８ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（２３）

融点：１０６℃

製造例２４
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃でジメチルカルバモイルクロライド６７ｍｇを加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４，４−ジメチル−１−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝セミカルバジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（２４）と記す。）７０ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（２４）

融点：２１２℃

製造例２５
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５１ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃でイソシアン酸エチル３７ｍｇを加え、室温で２間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、４−エチル−１−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝セミカルバジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（２５）と記す。）１４９ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（２５）

融点：１０２℃

製造例２６
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃でフェニルアセチルクロライド７９ｍｇを加え、室温で２間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝フェニルアセトヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（２６）と記す。）２１１ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（２６）

融点：１７３℃

製造例２７
参考製造例２３により得られたＮ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル５００ｍｇ及びアクリル酸１２２ｍｇをN，N−ジメチルホルムアミド２ｍｌに溶かし、ここに室温で１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩３１９ｍｇを加え、３時間撹拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−アクリロイル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル（本明細書において、本ヒドラジド化合物（２７）と記す。）３８４ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（２７）

融点：１１９℃

製造例２８
製造例２７により得られたＮ’−アクリロイル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル３０９ｍｇに室温でトリフルオロ酢酸２ｍLを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え，有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝アクリロヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（２８）と記す。）２３８ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（２８）

融点：９０℃

製造例２９
参考製造例２８により得られたＮ−メチル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝ヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン２．０ｍLに溶かし、ここに室温でシクロプロパンカルボニルクロライド５８ｍｇを滴下した。同温で３０分間撹拌後、反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−メチル−Ｎ’−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝シクロプロパンカルボヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（２９）と記す。）２２５ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（２９）

融点：１７６℃

製造例３０
参考製造例２８により得られたＮ−メチル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝ヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン２．０ｍLに溶かし、ここに室温で３，３，３−トリフルオロプロピオニルクロライド８１ｍｇを滴下した。同温で３０分間撹拌後、反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−メチル−Ｎ’−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝−３，３，３−トリフルオロプロピオノヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（３０）と記す。）２４１ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（３０）

融点：８１℃

製造例３１
参考製造例２８により得られたＮ−メチル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝ヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン２．０ｍLに溶かし、ここに室温で４，４，４−トリフルオロブチリルクロライド８８ｍｇを滴下した。同温で１時間撹拌後、反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−メチル−Ｎ’−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝−４，４，４−トリフルオロブチロヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（３１）と記す。）２５８ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（３１）

融点：７７℃

製造例３２
参考製造例２８により得られたＮ−メチル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝ヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン２．０ｍLに溶かし、ここに室温で塩化アセチル４３ｍｇを滴下した。同温で１時間撹拌後、反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−メチル−Ｎ’−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝アセトヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（３２）と記す。）２０４ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（３２）

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.88-7.24 (7H, m), 4.09-4.04 (1H, m), 3.70-3.66 (1H, m), 3.29-3.07 (3H, m), 2.17-1.91 (3H, m).

製造例３３
参考製造例２３により得られたＮ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル５２５ｍｇ及びトリエチルアミン１２１ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍLに溶かし、ここに室温で４−ブロモブチリルクロライド２２３ｍｇを滴下して、１時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、クルードのＮ’−(４−ブロモブチリル)−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル（本明細書において、本ヒドラジド化合物（３３）と記す。）６９９ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（３３）

製造例３４
製造例３３により得られたＮ’−(４−ブロモブチリル)−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル３０９ｍｇにトリフルオロ酢酸２ｍLを加え室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え，有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝−４−ブロモブチロヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（３４）と記す。）５７３ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（３４）

融点：５９℃

製造例３５
参考製造例２３により得られたＮ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル３５０ｍｇ及び５，５，５−トリフルオロペンタン酸１８７ｍｇをN，N−ジメチルホルムアミド２ｍｌに溶かし、ここに室温で１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩１５３ｍｇを加え、３時間撹拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、クルードのＮ’−（５，５，５−トリフルオロペンタノイル）−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル（本明細書において、本ヒドラジド化合物（３５）と記す。）３５０ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（３５）

製造例３６
製造例３５により得られたクルードのＮ’−（５，５，５−トリフルオロペンタノイル）−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル３５０ｍｇに室温でトリフルオロ酢酸２ｍLを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え，有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝−５，５，５−トリフルオロペンタノヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（３６）と記す。）２６９ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（３６）

融点：１６３℃

製造例３７
参考製造例２３により得られたＮ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル３６７ｍｇ及びトリエチルアミン８４ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍLに溶かし、ここに室温でメトキシアセチルクロライド９１ｍｇを滴下して、１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え，有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、クルードのＮ’−メトキシアセチル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル（本明細書において、本ヒドラジド化合物（３７）と記す。）３７７ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（３７）

製造例３８
製造例３７により得られたクルードのＮ’−メトキシアセチル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル３０９ｍｇに室温でトリフルオロ酢酸２ｍLを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え，有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝メトキシアセトヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（３８）と記す。）２７６ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（３８）

融点：１７８℃

製造例３９
参考製造例２３により得られたＮ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル５２４ｍｇ及びトリエチルアミン１２１ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍLに溶かし、ここに室温で３−クロロピバロイルクロライド１８６ｍｇを滴下して、同温で１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え，有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、クルードのＮ’−（３−クロロピバロイル）−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル（本明細書において、本ヒドラジド化合物（３９）と記す。）６４３ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（３９）

製造例４０
製造例３９により得られたクルードのＮ’−（３−クロロピバロイル）−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル６４３ｍｇにトリフルオロ酢酸５ｍLを加え室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え，有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、Ｎ’−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝−３−クロロピバロヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（４０）と記す。）５２０ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（４０）

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.68 (1H, d, J = 3.2 Hz), 7.47 (2H, d, J = 1.7 Hz), 7.42 (1H, t, J = 2.0 Hz), 7.32 (1H, d, J = 8.3 Hz), 7.26 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.06 (1H, dd, J = 8.2, 2.1 Hz), 6.45 (1H, d, J = 3.2 Hz), 4.00 (1H, d, J = 17.6 Hz), 3.68 (2H, s), 3.63 (1H, d, J = 17.6 Hz), 1.42 (3H, s), 1.41 (3H, s).

製造例４１
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５６ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃で４−ニトロベンゾイルクロライド１０３ｍｇを加え、室温で１０分間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝−４−ニトロベンゾヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（４１）と記す。）１６６ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（４１）

融点：２３１℃

製造例４２
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃でブチリルクロライド５０ｍｇを加え、室温で２０分間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝ブチロヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（４２）と記す。）１２１ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（４２）

融点：８２℃

製造例４３
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃でペンタノイルクロライド５７ｍｇを加え、室温で２時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝ペンタノヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（４３）と記す。）１６４ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（４３）

融点：８９℃

製造例４４
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃でヘキサノイルクロライド６３ｍｇを加え、室温で２０分間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝ヘキサノヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（４４）と記す。）１３４ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（４４）

融点：８０℃

製造例４５
参考製造例２１により得られたクルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン２００ｍｇ及びトリエチルアミン５７ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍｌに溶かし、ここに０℃でシンナモイルクロライド７８ｍｇを加え、室温で２０分間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニル｝−３−フェニルアクリロヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（４５）と記す。）１６１ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（４５）

融点：２０５℃

製造例４６
参考製造例２３により得られたＮ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル２４７ｍｇ及びトリエチルアミン５６ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍLに溶解し、ここに室温で４−メトキシベンゾイルクロライド９５ｍｇを加え、１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え，有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、クルードのＮ’−（４−メトキシベンゾイル）−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル（本明細書において、本ヒドラジド化合物（４６）と記す。）２４０ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（４６）

製造例４７
製造例４６により得られたクルードのＮ’−（４−メトキシベンゾイル）−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル２４０ｍｇにトリフルオロ酢酸２ｍLを加え室温で１時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチルを加え，有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、Ｎ’−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝−４−メトキシベンゾヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（４７）と記す。）２２１ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（４７）

融点：１３１℃

製造例４８
参考製造例３１により得られた５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−エチルフェニルヒドラジン１．３１ｇ及びトリエチルアミン２００ｍｇをテトラヒドロフラン４ｍLに溶かし、ここに室温で３，３，３−トリフルオロプロピオニルクロライド２９０ｍｇを滴下した。同温で１時間撹拌後、反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ’−｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−エチルフェニル｝−３，３，３−プロピオノヒドラジド（本明細書において、本ヒドラジド化合物（４８）と記す。）４２６ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（４８）

融点１３８．７℃

製造例４９
参考製造例３３により得られた化合物２００ｍｇ及びトリエチルアミン６５ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍLに溶かし、ここに室温でシクロプロパンカルボニルクロライド５４ｍｇを滴下して、同温で１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、有機層を水で洗浄し
た。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（４９）と記す。）２１６ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（４９）

融点：１６０℃

製造例５０
参考製造例３３により得られた化合物２００ｍｇ及びトリエチルアミン６５ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍLに溶かし、ここに室温でメトキシアセチルクロライド５５ｍｇを滴下して、同温で１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え、有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（５０）と記す。）１３０ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（５０）

融点：１６４℃

製造例５１
参考製造例３３により得られた化合物２００ｍｇ及びトリエチルアミン６５ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍLに溶かし、ここに室温で塩化アセチル４０ｍｇを滴下して、同温で１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え，有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（５１）と記す。）１４０ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（５１）

融点：１０８℃

製造例５２
参考製造例３３により得られた化合物２００ｍｇ及びトリエチルアミン６５ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍLに溶かし、ここに室温でベンゾイルクロライド７２ｍｇを滴下して、同温で１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え，有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（５２）と記す。）２８１ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（５２）

融点：１０７℃

製造例５３
参考製造例３３により得られた化合物２００ｍｇ及びトリエチルアミン６５ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍLに溶かし、ここに室温で４，４，４−トリフルオロブチリルクロライド９０ｍｇを滴下して、同温で１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え，有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（５３）と記す。）２０７ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（５３）

融点：１１７℃

製造例５４
参考製造例３５により得られた化合物２００ｍｇ及びトリエチルアミン５８ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍLに溶かし、ここに室温で塩化アセチル３８ｍｇを滴下して、同温で１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え，有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（５４）と記す。）１５６ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（５４）

融点：１４２℃

製造例５５
参考製造例３５により得られた化合物２００ｍｇ及びトリエチルアミン５１ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍLに溶かし、ここに室温でシクロプロパンカルボニルクロライド５４ｍｇを滴下して、同温で１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え，有機層を水で洗浄し
た。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（５５）と記す。）１０３ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（５５）

融点：１７２℃

製造例５６
参考製造例３５により得られた化合物２００ｍｇ及びトリエチルアミン６５ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍLに溶かし、ここに室温で４，４，４−トリフルオロブチリルクロライド７８ｍｇを滴下して、同温で１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え，有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（５６）と記す。）２１１ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（５６）

融点：１５７℃

製造例５７
参考製造例３５により得られた化合物３００ｍｇ及びトリエチルアミン８５ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍLに溶かし、ここに室温でメトキシアセチルクロライド７９ｍｇを滴下して、同温で１時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え，有機層を水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（５７）と記す。）２９７ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（５７）

融点：９２℃

製造例５８
参考製造例２１により得られたクルードの化合物２４１ｍｇをテトラヒドロフラン２ｍｌに溶かし、ここに室温でフェニルイソシアナート８２ｍｇを滴下して、室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（５８）と記す。）１８７ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（５８）

融点１３１℃

製造例５９
参考製造例２１により得られたクルードの化合物２００ｍｇをテトラヒドロフラン６ｍｌに溶かし、ここに室温で４−メトキシフェニルイソシアナート８５ｍｇを滴下して、室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（５９）と記す。）１９１ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（５９）

融点１３１℃

製造例６０
参考製造例２１により得られたクルードの化合物１９６ｍｇをテトラヒドロフラン５ｍｌに溶かし、ここに室温で４−ニトロフェニルイソシアナート１３６ｍｇを滴下して、室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（６０）と記す。）１１０ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（６０）

融点２０１℃

製造例６１
参考製造例２１により得られたクルードの化合物２２０ｍｇをテトラヒドロフラン６ｍｌに溶かし、ここに室温でシクロヘキシルイソシアナート７９ｍｇを滴下して、室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（６１）と記す。）１００ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（６１）

融点１０１℃

製造例６２
参考製造例２１により得られたクルードの化合物３４０ｍｇをテトラヒドロフラン６ｍｌに溶かし、ここに室温でシクロヘキシルイソチオシアナート１７３ｍｇを滴下して、室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（６２）と記す。）１３５ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（６２）

融点１２６℃

製造例６３
参考製造例２１により得られたクルードの化合物２４０ｍｇをテトラヒドロフラン６ｍｌに溶かし、ここに室温でフェニルイソチオシアナート１１４ｍｇを滴下して、室温で３時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物（本明細書において、本ヒドラジド化合物（６３）と記す。）２００ｍｇを得た。
本ヒドラジド化合物（６３）

融点２１３℃

次に、製造中間体の製造について参考製造例に示す。

参考製造例１
３−ニトロベンズアルドキシム２４９ｍｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１５ｍｌに溶かし、ここに室温でＮ−クロロスクシンイミド２０１ｍｇを加え、６０℃で1時間撹拌した。室温まで冷却した反応液に、２−（３，５−ジクロロフェニル）−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン３６２ｍｇ、次いでトリエチルアミン１５２ｍｇを加え、室温で６時間撹拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］ニトロベンゼン２３２ｍｇを得た。
３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］ニトロベンゼン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.43 (1H, br s), 8.34-8.32 (1H, m), 8.10 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.67-7.65 (1H, m), 7.52 (2H, s), 7.45-7.45 (1H, m), 4.14 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.76 (1H, d, J = 17.3 Hz).

参考製造例２
２．５％酢酸水溶液１ｍｌに鉄粉（１０〜２０メッシュ）１９２ｍｇを加え、ここに７５℃で参考製造例１で製造された３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］ニトロベンゼン２３２ｍｇのエタノール１．５ｍｌ懸濁液を加え、同温で１５分間撹拌した後にさらに鉄粉３００ｍｇ加え、室温で１時間撹拌した。室温まで冷却した反応混合物を濾過し、酢酸エチルで洗浄した。濾液に水と酢酸エチルを加えて抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン１９８ｍｇを得た。
３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.51 (2H, br s), 7.42 (1H, t, J = 1.9 Hz), 7.20 (1H, t, J = 7.8 Hz), 7.04 (1H, t, J = 1.9 Hz), 6.95-6.93 (1H, m), 6.77-6.75 (1H, m), 4.05 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.77 (2H, br s), 3.66 (1H, d, J = 17.1 Hz).

参考製造例３
３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン１．０ｇを１，４−ジオキサン４ｍＬに溶かし、ここに室温で濃塩酸７ｍＬを加えた。同温で２０分撹拌後、この溶液を０℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム１８４ｍｇを水４ｍＬに溶解した溶液を滴下した。同温で１５分撹拌後、この反応液に、塩化スズ（ＩＩ）１．１１ｇを濃塩酸２ｍＬに溶かした溶液を滴下した。反応混合液に２Ｎ水酸化ナトリウムを加え中和し、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、クルードの３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニルヒドラジン１．０ｇ得た。
３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニルヒドラジン

参考製造例４
参考製造例２で製造された３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン３．０ｇとトリエチルアミン９７１ｍｇをテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶かし、ここに０℃にてトリフルオロ酢酸無水物１，８５ｇを滴下した。同温で１５分撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝２，２，２−トリフルオロ酢酸アミド３．８４ｇ得た。
Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝２，２，２−トリフルオロ酢酸アミド

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.02 (1H, br s), 7.94 (1H, t, J = 1.8 Hz), 7.66-7.64 (1H, m), 7.57-7.55 (1H, m), 7.49-7.43 (4H, m), 4.09 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.71 (1H, d, J = 17.3 Hz).

参考製造例５
参考製造例４で製造されたＮ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝２，２，２−トリフルオロ酢酸アミド３．８４ｇとニ炭酸ジ−tert−ブチル８．２１ｇをテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶かし、ここに室温で４−ジメチルピリジン１９５ｍｇを加えた。同温で１．５時間撹拌後、反応混合物に酢酸エチルを加え、有機層を２Ｎ塩酸、次いで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮して得られた残渣をメタノール２０ｍＬに溶かし、室温にて水１０ｍＬ、炭酸ナトリウム２．７６ｇを加えた。同温で２時間撹拌後、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバミン酸tert−ブチル３．５ｇ得た。
｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバミン酸tert−ブチル

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.81 (1H, s), 7.51 (2H, s), 7.42-7.39 (2H, m), 7.35-7.31 (2H, m), 6.55 (1H, br s), 4.11 (1H, d, J = 16.9 Hz), 3.70 (1H, d, J = 16.9 Hz), 1.53 (9H, s).

参考製造例６
参考製造例５で製造された｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバミン酸tert−ブチル３．５０ｇをtert−ブチルメチルエーテル２２ｍＬに溶かし、２８％水酸化ナトリウム水溶液２３ｍＬ、アンモニア水７ｍＬ、塩化アンモニウム２．５６ｇ、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド１００ｍｇを加えた。この混合液に室温にて５％次亜塩素酸ナトリウム水溶液５３ｍＬを２０分間かけて滴下した。同温で１２時間撹拌後、有機層を分離し、水層にtert−ブチルメチルエーテルを加え再度抽出した。合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル１．５２ｇ得た。
Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.87 (1H, s), 7.72-7.29 (６H, m), 4.42 (2H, br s), 4.09 (1H, d, J = 17.2 Hz), 3.69 (1H, d, J = 17.2 Hz), 1.53 (9H, s).

参考製造例７
参考製造例４で製造されたＮ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝２，２，２−トリフルオロ酢酸アミド３．７１ｇとヨウ化メチル１．３４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍＬに溶かし、ここに室温にて炭酸ナトリウム１．３１ｇを加えた。同温で１２時間撹拌した。反応混合物に酢酸エチルを加え，２Ｎ塩酸及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、Ｎ−メチル−Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝２，２，２−トリフルオロ酢酸アミド３．７０ｇ得た。
Ｎ−メチル−Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝２，２，２−トリフルオロ酢酸アミド

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.69-7.35 (7H, m), 4.09 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.71 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.46-3.43 (3H, m).

参考製造例８
参考製造例７で製造されたＮ−メチル−Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝２，２，２−トリフルオロ酢酸アミド３．５２ｇをメタノール１５ｍＬに溶かし、ここに室温にて炭酸ナトリウム２．００ｇ、水５ｍＬを加えた。同温で２時間撹拌後、酢酸エチルを加え、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を２％塩酸及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、Ｎ−メチル−３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン２．８０ｇ得た。
Ｎ−メチル−３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.51 (2H, d, J = 1.2 Hz), 7.41 (1H, t, J = 1.8 Hz), 7.21 (1H, t, J = 7.9 Hz), 6.95 (1H, t, J = 2.0 Hz), 6.87 (1H, ddd, J = 7.6, 1.5, 1.0 Hz), 6.69 (1H, ddd, J = 8.3, 2.4, 0.7 Hz), 4.07 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.85 (1H, br s), 3.67 (1H, d, J = 17.3 Hz), 2.86 (3H, s).

参考製造例９
参考製造例８で製造されたＮ−メチル−３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン２．６ｇをテトラヒドロフラン４ｍＬに溶かし、ここに室温で濃塩酸１．５ｍＬ、水３．０ｍＬを加えた。室温にて１５分撹拌後、この混合液に、０℃にて亜硝酸ナトリウム５８１ｍｇを水５ｍＬに溶かした溶液を滴下した。同温で１時間撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、Ｎ−メチル−Ｎ−ニトロソ−３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン２．７８ｇ得た。
Ｎ−メチル−Ｎ−ニトロソ−３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.89-7.88 (1H, m), 7.67-7.64 (2H, m), 7.56-7.53 (3H, m), 7.43-7.43 (1H, m), 4.14 (1H, d, J = 17.4 Hz), 3.76 (1H, d, J = 17.4 Hz), 3.47 (3H, s).

参考製造例１０
参考製造例９で製造されたＮ−メチル−Ｎ−ニトロソ−３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン１．００ｇ、エタノール２ｍＬ、水２ｍＬ及び酢酸２ｍＬの混合物に、室温で亜鉛６９５ｍｇを加えた。室温にて５時間撹拌後、この混合液をろ過し、ろ液に無水炭酸水素ナトリウムを加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、クルードのＮ−メチル−Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝ヒドラジン１．１ｇ得た。
Ｎ−メチル−Ｎ−｛３−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝ヒドラジン

参考製造例１１
４−メチル−３−ニトロベンズアルデヒド３.００ｇ、ヒドロキシルアミン塩酸塩１．６４ｇ、エタノール３０ml及び水１５ｍｌの混合物に酢酸ナトリウム２．２４ｇを室温で加え、室温で１時間撹拌した。反応混合物を水に加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮して、５−ヒドロキシイミノメチル−２−メチルニトロベンゼン２．７７ｇを得た。
５−ヒドロキシイミノメチル−２−メチルニトロベンゼン

¹H-NMR (DMSO-d₆) δ: 11.53 (1H, s), 8.24 (1H, s), 8.17 (1H, d, J = 1.7 Hz), 7.84 (1H, dd, J = 8.0, 1.7 Hz), 7.54 (1H, d, J = 8.0 Hz), 2.52 (3H, s).

参考製造例１２
参考製造例１１で得た５−ヒドロキシイミノメチル−２−メチルニトロベンゼン２．７７ｇ及びN−クロロスクシンイミド２．０６ｇを３０ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶かし、５０℃で１時間撹拌した。室温まで冷却した反応液に２−（３，５−ジクロロフェニル）−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン３．７１ｇ、次いでトリエチルアミン１．５６ｇを加え、室温で６時間撹拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−メチルニトロベンゼン４．９９ｇを得た。
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−メチルニトロベンゼン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.16 (1H, d, J = 1.9 Hz), 7.90 (1H, dd, J = 8.1, 1.9 Hz), 7.51 (2H, d, J = 1.2 Hz), 7.45-7.43 (2H, m), 4.11 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.73 (1H, d, J = 17.1 Hz), 2.66 (3H, s).

参考製造例１３
２．５％酢酸水溶液１９ｍｌに鉄粉（１０〜２０メッシュ）１．８９ｇを加え、ここに７５℃で参考製造例１２で製造された５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−メチルニトロベンゼン４．６２ｇのエタノール２９ｍｌ懸濁液を加え、同温で１５分間撹拌した後にさらに鉄粉を同温で１．８０ｇ加え、同温で１時間撹拌した。室温まで冷却した反応混合物を濾過し、酢酸エチルで洗浄した。濾液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−メチルアニリン３．１８ｇを得た。
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−メチルアニリン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.51 (2H, d, J = 1.4 Hz), 7.41 (1H, t, J = 1.8 Hz), 7.08 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.05 (1H, d, J = 1.8 Hz), 6.88 (1H, dd, J = 7.8, 1.7 Hz), 4.04 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.71 (2H, br s), 3.65 (1H, d, J = 17.1 Hz), 2.19 (3H, s).

参考製造例１４
参考製造例１３で製造された５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−メチルアニリン４２０ｍｇに室温で濃塩酸２ｍＬを加えた。同温で２０分撹拌後、この溶液を０℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム８２ｍｇを水０．５ｍＬに溶かした溶液を滴下した。同温で１０分撹拌後、この反応液に、塩化スズ（ＩＩ）４５１ｍｇを濃塩酸０．５ｍＬに溶かした溶液を滴下した。次いで、反応混合液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え中和し、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、クルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−メチルフェニルヒドラジン４２０ｍｇ得た。
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−メチルフェニルヒドラジン

参考製造例１５
４−フルオロ−３−ニトロベンズアルデヒド２ｇ、ヒドロキシルアミン塩酸塩１．０７ｇ及び酢酸ナトリウム１．４５ｇを、エタノール２０ｍｌ及び水１０ｍｌの混合液に溶かし、室温で６時間撹拌した。反応混合物を水に加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮することにより、２−フルオロ−５−ヒドロキシイミノメチルニトロベンゼン１．９５ｇを得た。
２−フルオロ−５−ヒドロキシイミノメチルニトロベンゼン

¹H-NMR (DMSO-D₆) δ: 11.63 (1H, s), 8.34 (1H, dd, J = 7.2, 2.2 Hz), 8.28 (1H, s), 8.04-8.02 (1H, m), 7.65-7.62 (1H, m).

参考製造例１６
参考製造例１５で得られた２−フルオロ−５−ヒドロキシイミノメチルニトロベンゼン１．９５ｇ及びN−クロロスクシンイミド１．４２ｇをジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解し、６０℃で１時間撹拌した。室温に冷却した反応混合液に２−（３，５−ジクロロフェニル）−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン２．５５ｇ、次いでトリエチルアミン１．０７ｇを加え、同温で６時間撹拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−フルオロニトロベンゼン１．４０ｇを得た。
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−フルオロニトロベンゼン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.26 (1H, dd, J = 6.9, 2.3 Hz), 8.08-8.05 (1H, m), 7.51 (2H, d, J = 1.2 Hz), 7.45 (1H, t, J = 1.9 Hz), 7.41 (1H, dd, J = 10.1, 8.7 Hz), 4.11 (1H, d, J = 17.4 Hz), 3.73 (1H, d, J = 17.9 Hz).

参考製造例１７
鉄粉１．８５ｇを酢酸０．２ｇ及び水７ｍｌの混合液に室温で加え、ここに７５℃で参考製造例１６で得られた５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−フルオロニトロベンゼン１．４０ｇのエタノール１５ｍｌ懸濁液を加え、７５℃で２０分間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−フルオロニトロアニリン８０６ｍｇを得た。
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−フルオロニトロアニリン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.50 (2H, d, J = 1.4 Hz), 7.42 (1H, t, J = 1.8 Hz), 7.18 (1H, dd, J = 8.5, 2.2 Hz), 7.01 (1H, dd, J = 10.6, 8.5 Hz), 6.90-6.87 (1H, m), 4.03 (1H, d, J = 17.0 Hz), 3.85 (2H, br s), 3.64 (1H, d, J = 17.0 Hz).

参考製造例１８
参考製造例１７で製造された５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−フルオロニトロアニリン５００ｍｇを１，４−ジオキサン２ｍＬに溶かし、ここに室温で濃塩酸４ｍＬを加えた。同温で２０分間撹拌後、この溶液を０℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム９６ｍｇを水５ｍＬに溶解した溶液を滴下した。同温で１５分間撹拌後、この反応液に、塩化スズ（ＩＩ）５２８ｍｇを濃塩酸１ｍＬに溶かした溶液を滴下した。次いで、反応混合液に２Ｎ水酸化ナトリウムを加え中和した後、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、クルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−フルオロフェニルヒドラジン４１２ｍｇ得た。
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−フルオロフェニルヒドラジン

参考製造例１９
２−クロロ−５−ヒドロキシイミノメチルニトロベンゼン２．９２ｇ及びＮ−クロロスクシンイミド１．９４ｇをジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解し、６０℃で１時間撹拌した。室温まで冷却した混合液に、２−（３，５−ジクロロフェニル）−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン３．５０ｇ、次いでトリエチルアミン１．４６ｇを加え、６時間撹拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロニトロベンゼン４．４２ｇを得た。
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロニトロベンゼン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.09 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.89 (1H, dd, J = 8.5, 2.1 Hz), 7.65 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.50 (2H, d, J = 1.6 Hz), 7.45 (1H, t, J = 1.6 Hz), 4.09 (１H, d, J = 17.3 Hz), 3.71 (1H, d, J = 17.3 Hz).

参考製造例２０
鉄粉３．４６ｇを、酢酸０．３８ｇ、水１５ｍｌ及びエタノール３０ｍｌの混合液に室温で加え、ここに７５℃で参考製造例１９で得られた５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロニトロベンゼン２．７３ｇを加え、７５℃で５０分間撹拌した。反応混合物を濾過し、濾液を減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロアニリン１．６５ｇを得た。
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロアニリン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.49 (2H, d, J = 1.7 Hz), 7.42 (1H, t, J = 1.7 Hz), 7.29 (1H, d, J = 8.4 Hz), 7.13 (1H, d, J = 2.0 Hz), 6.89 (1H, dd, J = 8.4, 2.0 Hz), 4.18 (2H, br s), 4.03 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.64 (1H, d, J = 16.4 Hz).

参考製造例２１
参考製造例２０で製造された５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロアニリン５００ｍｇを１，４−ジオキサン２ｍＬに溶かし、室温で濃塩酸６ｍＬを加えた。同温で２０分間撹拌後、この溶液を０℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム９３ｍｇを水３ｍＬに溶解した溶液を滴下した。同温で１５分間撹拌後、この反応液に、塩化スズ（ＩＩ）５０７ｍｇを濃塩酸４ｍＬに溶かした溶液を滴下した。次いで、反応混合液に２Ｎ水酸化ナトリウムを加え、中和した後、水層をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、クルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン５１０ｍｇ得た。
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロフェニルヒドラジン

参考製造例２２
トリホスゲン６．３ｇをトルエン５０ｍＬに溶かし、ここに室温で参考製造例２０で得られた５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロアニリン８．７ｇをトルエン５０ｍＬ及びテトラヒドロフラン１０ｍＬに溶かした溶液を滴下した。反応溶液にトルエン５０ｍＬを追加し、８０℃で１時間撹拌した。室温まで冷却した反応混合物を減圧下濃縮し、tert−ブタノール１００ｍＬを加えた。この溶液に室温にてトリエチルアミン１４．６ｇを滴下し、同温で１６時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、クロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバミン酸tert−ブチル９．８１ｇを得た。
｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバミン酸tert−ブチル

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.39 (1H, d, J = 2.1 Hz), 7.52 (2H, d, J = 1.8 Hz), 7.47 (1H, dd, J = 8.5, 2.1 Hz), 7.42 (1H, t, J = 1.8 Hz), 7.39 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.09 (1H, br s), 4.11 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.70 (1H, d, J = 17.3 Hz), 1.55 (9H, s).

参考製造例２３
水素化ナトリウム（６０％油性）７６０ｍｇをテトラヒドロフラン２００ｍＬに懸濁させ、ここに室温で参考製造例２２で製造された｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバミン酸tert−ブチル８．８０ｇのテトラヒドロフラン５０ｍＬ溶液を滴下した。同温で２０分間撹拌後、室温にてＯ−（ジフェニルホスホリル）ヒドロキシルアミン６．０ｇ加えた。同温で１５時間撹拌後、水と酢酸エチルを加え、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル６．５８ｇ得た。
Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝カルバジン酸tert−ブチル

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.55-7.44 (6H, m), 4.07 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.68 (1H, d, J = 17.1 Hz), 1.41 (9H, br s).

参考製造例２４
参考製造例２０で得られた｛５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−クロロアニリン３．０４ｇ及びトリエチルアミン７７２ｍｇをテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶かし、ここに０℃でトリフルオロ酢酸無水物１．４７ｇを滴下した。同温で３０分間撹拌後、反応混合物をｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで希釈した。反応混合物に酢酸エチルを加え，有機層を２Ｎ塩酸及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で順次洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、 N−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝２，２，２−トリフルオロアセトアミド３．６３ｇを得た。
N−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝２，２，２−トリフルオロアセトアミド

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.53 (1H, d, J = 2.2 Hz), 8.48 (1H, br s), 7.67 (1H, dd, J = 8.5, 2.0 Hz), 7.52 (1H, d, J = 8.5 Hz), 7.50 (2H, s), 7.43-7.42 (1H, m), 4.09 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.71 (1H, d, J = 17.3 Hz).

参考製造例２５
水素化ナトリウム（６０％油性）をN，N−ジメチルホルムアミド１５ｍＬに懸濁させ、ここに室温で参考製造例２４で得られた｛N−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝−２，２，２−トリフルオロアセトアミド３．６ｇをN，N−ジメチルホルムアミド１５ｍＬに溶かした溶液を滴下した。同温で２０分間撹拌後、ヨウ化メチル１．５２ｇを加え、さらに１時間撹拌した。反応混合液に２N塩酸を加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、N−メチル−N−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝−２，２，２−トリフルオロアセトアミド３．７３ｇを得た。
N−メチル−N−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝−２，２，２−トリフルオロアセトアミド

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.70-7.40 (6H, m), 4.06 (1H, dd, J = 17.2, 13.0 Hz), 3.73-3.64 (1H, m), 3.33-3.32 (3H, m).

参考製造例２６
参考製造例２５で得られたN−メチル−N−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝２，２，２−トリフルオロアセトアミド３．６ｇをメタノール２０ｍＬに溶かし、ここに室温で炭酸カリウム１．９７ｇを加え、同温で３時間撹拌した。沈殿物をろ過し、ろ液に水を加え、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、N−メチル−２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン２．２０ｇを得た。
N−メチル−２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.51 (2H, d, J = 1.8 Hz), 7.42 (1H, t, J = 1.8 Hz), 7.28 (1H, d, J = 8.0 Hz), 6.99 (1H, d, J = 2.0 Hz), 6.78 (1H, dd, J = 8.0, 2.0 Hz), 4.48 (1H, d, J = 5.1 Hz), 4.07 (1H, d, J = 17.2 Hz), 3.67 (1H, d, J = 17.2 Hz), 2.94 (3H, d, J = 5.1 Hz).

参考製造例２７
参考製造例２６で製造されたN−メチル−２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン２．５５ｇをテトラヒドロフラン４ｍＬに溶かし、濃塩酸４．５ｍＬ、次いで水５．０ｍＬを加えた。室温にて１０分撹拌後、この混合液を０℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム５３９ｍｇを水５ｍＬに溶かした溶液を滴下した。同温で１時間撹拌後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、N−メチル−N−ニトロソ−２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン２．６９ｇ得た。
N−メチル−N−ニトロソ−２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.84-7.31 (6H, m), 4.09 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.71 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.41 (3H, s).

参考製造例２８
参考製造例２７で製造されたN−メチル−N−ニトロソ−２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］アニリン２．６１ｇをテトラヒドロフラン４ｍLに溶かし、ここに室温でエタノール８ｍＬ、水８ｍＬ、酢酸８ｍＬを加え、この混合物に室温で亜鉛６９５ｍｇを加えた。室温で３時間撹拌後、この混合液をろ過し、ろ液に無水炭酸水素ナトリウムを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｎ−メチル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝ヒドラジン７６４ｍｇ得た。
Ｎ−メチル−Ｎ−｛２−クロロ−５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］フェニル｝ヒドラジン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.68-7.67 (1H, m), 7.51 (2H, s), 7.42-7.40 (2H, m), 7.23-7.20 (1H, m), 4.08 (1H, d, J = 17.2 Hz), 3.85 (2H, br s), 3.69 (1H, d, J = 17.2 Hz), 3.06 (3H, s).

参考製造例２９
２−エチル−５−ヒドロキシイミノメチルニトロベンゼン４．３０ｇ及びN−クロロスクシンイミド２．９７ｇをジメチルホルムアミド４０ｍｌに溶かし、６０℃で１時間撹拌した。室温に冷却した反応液に、２−（３，５−ジクロロフェニル）−３，３，３−トリフルオロ−１−プロペン３．５ｇ、次いでトリエチルアミン１．７ｇを加え、６時間撹拌した。反応混合物に水を加えて酢酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−エチルニトロベンゼン５．７４ｇを得た。
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−エチルニトロベンゼン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.07 (1H, d, J = 1.9 Hz), 7.91 (1H, dd, J = 8.0, 1.9 Hz), 7.51 (2H, d, J = 1.6 Hz), 7.46 (1H, d, J = 8.0 Hz), 7.44 (1H, t, J = 1.6 Hz), 4.10 (1H, d, J = 17.3 Hz), 3.72 (1H, d, J = 17.3 Hz), 2.96 (2H, q, J = 7.5 Hz), 1.30 (3H, t, J = 7.5 Hz).

参考製造例３０
鉄粉４．３３ｇを、酢酸０．５ｍｌ、水２２ｍｌ及びエタノール３４ｍｌの混合液に室温で加え、ここに７５℃で参考製造例２９で得られた５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−エチルニトロベンゼン５．６０ｇを加え、同温で３時間撹拌した。室温まで冷却した反応混合物を濾過し、酢酸エチルで洗浄した。濾液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮することにより、５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−エチルアニリン５．２０ｇを得た。
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−エチルアニリン

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 7.51 (2H, d, J = 1.7 Hz), 7.41 (1H, t, J = 1.7 Hz), 7.10 (1H, d, J = 7.8 Hz), 7.04 (1H, d, J = 1.7 Hz), 6.93 (1H, dd, J = 7.8, 1.7 Hz), 4.05 (1H, d, J = 17.1 Hz), 3.74 (2H, br s), 3.65 (1H, d, J = 17.1 Hz), 2.52 (2H, q, J = 7.5 Hz), 1.25 (3H, t, J = 7.5 Hz).

参考製造例３１
参考製造例３０で製造された５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−エチルアニリン１．００ｇを１，４−ジオキサン２ｍＬに溶かし、ここに室温で濃塩酸４ｍＬを加えた。同温で２０分撹拌後、この溶液を０℃に冷却し、亜硝酸ナトリウム１８８ｍｇを水１ｍＬに溶かした溶液を滴下した。同温で１５分撹拌後、この反応液に、塩化スズ（ＩＩ）１．０３ｇを濃塩酸２ｍＬに溶かした溶液を滴下した。反応混合液に２Ｎ水酸化ナトリウムを加え中和し、水層をクロロホルムで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、クルードの５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−エチルフェニルヒドラジン１．３１ｇ得た。
５−［５−（３，５−ジクロロフェニル）−５−トリフルオロメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル］−２−エチルフェニルヒドラジン

参考製造例３２
参考製造例２０で得られた化合物２．０ｇを無水酢酸１０ｍＬに溶かし、室温にて０．５時間撹拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、濃縮物を酢酸エチルに溶かし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、次いで飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、クルードの下記式で示される化合物３．０ｇを得た。

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.59 (1H, br s), 7.67 (1H, br s), 7.57 (1H, dd, J = 8.4, 2.1 Hz), 7.50 (2H, d, J = 1.2 Hz), 7.43-7.42 (2H, m), 4.09 (1H, d, J = 17.4 Hz), 3.70 (1H, d, J = 17.4 Hz), 2.28 (3H, s).

参考製造例３３
参考製造例３２で得られた化合物２．２ｇをtert−ブチルメチルエーテル３０ｍＬに溶かし、２８％水酸化ナトリウム水溶液１４ｍＬ、アンモニア水４．５ｍＬ、塩化アンモニウム１．５６ｇ、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド２７４ｍｇを加えた。この混合液に室温にて５％次亜塩素酸ナトリウム水溶液３２ｍＬを２０分間かけて滴下した。同温で２時間撹拌後、有機層を分離し、水層にtert−ブチルメチルエーテルを加え抽出した。合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物２．０ｇを得た。

融点：９２℃

参考製造例３４
参考製造例２０で得られた化合物２．０ｇをピリジン５ｍＬに溶かし、室温にてベンゾイルクロリド１，４ｇを加えた。同温にて０．５時間撹拌後、反応混合物に酢酸エチルを加え、３％塩酸で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮し、クルードの下記式で示される化合物２．４ｇを得た。

¹H-NMR (CDCl₃) δ: 8.80 (1H, d), 8.53 (1H, br s), 7.94-7.92 (2H, m), 7.65-7.62 (2H, m), 7.58-7.48 (5H, m), 7.43 (1H, t,), 4.16 (1H, d), 3.77 (1H, d).

参考製造例３５
参考製造例３４で得られた化合物２．４ｇをテトラヒドロフラン２０ｍＬに溶かし、２８％水酸化ナトリウム水溶液１４ｍＬ、アンモニア水４．５ｍＬ、塩化アンモニウム２．５６ｇ、トリオクチルメチルアンモニウムクロライド２７４ｍｇを加えた。この混合液に室温にて５％次亜塩素酸ナトリウム水溶液４８ｍＬを1時間かけて滴下した。同温で２時間撹拌後、有機層を分離し、水層にtert−ブチルメチルエーテルを加え抽出した。合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下記式で示される化合物１．８ｇを得た。

融点：８７℃

次に、本発明の有害生物防除組成物の製剤例を示す。なお、部は重量部を示す。

製剤例１
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物２部、並びにジノテフラン７部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。

製剤例２
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物５部、並びにジノテフラン４部を、キシレン３７．５部およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部およびドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。

製剤例３
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物２０部、並びにジノテフラン２０部の混合物に、ソルポール５０６０（東邦化学登録商標名）５部を加え、よく混合して、カープレックス＃８０（塩野義製薬登録商標名、合成含水酸化ケイ素微粉末）３２部、３００メッシュ珪藻土２３部を加え、ジュースミキサーで混合して、水和剤を得る。

製剤例４
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物１部、ジノテフラン２部、合成含水酸化珪素微粉末５部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム５部、ベントナイト３０部およびクレー５７部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。

製剤例５
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物１．５部、ジノテフラン３部、合成含水酸化珪素微粉末１部、凝集剤としてドリレスＢ(三共社製)１部、クレー７部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー８６．５部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。

製剤例６
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物５部；ジノテフラン５部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；並びに水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。

製剤例７
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物０．２部、並びにジノテフラン０．３部の混合物をジクロロメタン１０部に溶解し、これをアイソパーＭ（イソパラフィン：エクソン化学登録商標名）８９．５部に混合して油剤を得る。

製剤例８
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物０．０５部、ジノテフラン０．０５部、並びにネオチオゾール（中央化成株式会社）４９．９部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、２５部のジメチルエーテル及び２５部のＬＰＧを充填し、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。

製剤例９
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物０．２部、ジノテフラン０．４部、ＢＨＴ０．０１部、キシレン５部、脱臭灯油３．３９部、並びに乳化剤｛アトモス３００（アトモスケミカル社登録商標名）｝１部を混合溶解したものと、蒸留水５０部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤（ＬＰＧ）４０部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。

製剤例１０
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物２部、並びにジノテフラン３部をジエチレングリコールモノエチルエーテル８０部に溶解し、これに炭酸プロピレン１５部を混合して、スポットオン液剤を得る。

製剤例１１
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物５部、並びにジノテフラン５部をジエチレングリコールモノエチルエーテル７０部に溶解し、これに２−オクチルドデカノール２０部を混合して、ポアオン液剤を得る。

製剤例１２
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物０．２５部、並びにジノテフラン０．２５部の混合物に、ニッコールTEALS-４２（日光ケミカルズ・ラウリル硫酸トリエタノールアミンの４２％水溶液）６０部、プロピレングリコール２０部を添加し、均一溶液になるまで充分撹拌混合した後、水１９．５部を加えてさらに充分撹拌混合し、均一溶液のシャンプー剤を得る。

製剤例１３
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物８０ｍｇ、ジノテフラン２０ｍｇ、ラクトース６８．７５ｍｇ、トウモロコシデンプン２３７．５ｍｇ、微結晶性セルロース４３．７５ｍｇ、ポリビニルピロリドン１８．７５ｍｇ、ナトリウムカルボキシメチルデンプン２８．７５ｍｇ、並びにステアリン酸マグネシウム２．５ｍｇを完全に混合し、混合物を圧縮して適切な大きさの錠剤を得る。

製剤例１４
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物１００ｍｇ、ジノテフラン１００ｍｇ、ラクトース１４８ｍｇ、並びにステアリン酸マグネシウム２ｍｇを完全に混合し、ハードシェルゼラチンカプセル、または、ヒドロキシプロピルメチルセルロースカプセルに充填しカプセル剤を得る。

製剤例１５
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物２．５部、ジノテフラン２．５部、をポリソルベート８５５部、ベンジルアルコール３部、プロピレングリコール３０部に溶解し、リン酸塩緩衝液を用いてｐＨ６．０〜６．５に調整した後、水で最終容量にし、経口投与用液剤を得る。

製剤例１６
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物３．６部、ジノテフラン３．６部、並びにホスコＳ−５５（丸石製薬株式会社製）９２．８部を１００℃下で溶解混和し、坐剤形に注いで、冷却固化して坐剤を得る。

製剤例１７
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物０．０５ｇ、並びにジノテフラン０．０５ｇの混合物を、プロピレングリコール２mlに溶解させ、４．０×４．０cm、厚さ１．２cmの多孔セラミック板に含浸させて、加熱式くん煙剤を得る。

製剤例１８
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物２．５部と、ジノテフラン２．５部と、エチレンーメタクリル酸メチル共重合体（共重合体中のメタクリル酸メチルの割合：１０重量%、アクリフトWD301、住友化学製）９５部とを密閉式加圧ニーダー（森山製作所製）で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ１５cm、直径３mmの棒状成型体を得る。

製剤例１９
本ヒドラジド化合物（１）〜（６３）からなる群より選ばれる１種のヒドラジド化合物２．５部とジノテフラン２．５部と軟質塩化ビニル樹脂９５部とを密閉式加圧ニーダー（森山製作所製）で溶融混練し、得られた混練物を押出し成型機から成型ダイスを介して押出し、長さ１５cm、直径３mmの棒状成型体を得る。

次に、本発明の有害生物防除組成物が有害生物に対して優れた防除効力を有することを試験例として示す。

試験例１
本ヒドラジド化合物およびジノテフランについて表１に示すような濃度（ｗ／ｖ）のアセトン溶液を調製した。直径５．５ｃｍのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、上記試験用アセトン溶液０．７ｍＬを濾紙上に滴下した。アセトンを蒸発させるため１時間室温で静置したあと、餌としてショ糖３０ｍｇと水０．７ｍＬを入れた。該ポリエチレンカップ内にチャバネゴキブリ（Blattalla germanica）雄成虫５頭を放ち、蓋をした。７日後にチャバネゴキブリの生死を調査し死虫率を求めた。
結果を、下記表１に記す。

その結果、本発明の有害生物防除組成物は、高い防除効果を示した。

試験例２フタトゲチマダニ（Haemaphysalis longicornis）に対するろ紙処理殺虫試験
本ヒドラジド化合物およびジノテフランについて、ろ紙に処理した際に表２に示すような薬量（ｍｇ／ｍ²）となるようにアセトン溶液を調製した。アセトン溶液１ｍＬを、ろ紙（ＴＯＹＯＮｏ．２；５×１０cm）の片面に均一に塗布した。乾燥後、該ろ紙を２つ折りにした後、側辺をクリップで留めて袋状にし、この中に供試ダニ（フタトゲチマダニ、未吸血若ダニ、１群１０頭）を入れ、開放部をクリップで閉じて密封し、２日後に致死数を調査し、以下の計算式で死虫率を算出した。
死虫率（％）＝１００×（死亡マダニ数／供試マダニ数）
結果を、下記表２に記す。

試験例３フタトゲチマダニ（Haemaphysalis longicornis）に対するガラス面処理殺虫試験
本ヒドラジド化合物およびジノテフランについて、それぞれアセトン溶液を調製する。アセトン溶液０．２ｍＬを、ガラス製スクリュー管および蓋（株式会社マルエム製Ｎｏ．５）の内壁に均一に塗布する。乾燥後、該スクリュー管内に供試ダニ（フタトゲチマダニ、未吸血若ダニ、１群１０頭）を入れ、蓋を閉じて密封し、２日後に致死数を調査し、以下の計算式で死虫率を算出する。
死虫率（％）＝１００×（死亡マダニ数／供試マダニ数）

その結果、本発明の有害生物防除組成物が、高い防除効果を示すことが確認できる。

本発明の有害生物防除組成物は、有害生物に対し優れた防除効力を有しており、有用である。

Claims

式（１）

〔式中、
Ｇは下記式Ｇ−１〜Ｇ−３のいずれかで示される基

（尚、点ａ及び点ｂは結合手を表し、点ｂはフェニル環との結合手を表す。）を表し、
Ｒ¹はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基を表し、
Ｙ¹は酸素原子、硫黄原子又はＮＲ⁷基を表し、
Ｙ²は酸素原子、硫黄原子、ＮＲ⁷基又はメチレン基を表し、
Ｙ³は酸素原子、硫黄原子、ＮＲ⁷基又はメチレン基を表し、
Ｒ⁷はＣ１−Ｃ６アルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキニル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基、Ｃ４−Ｃ７シクロアルキルアルキル基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルキルアミノカルボニル基、Ｃ３−Ｃ９ジアルキルアミノカルボニル基、フェニル基、シアノ基、ホルミル基又は水素原子を表し、
Ｍは酸素原子又は硫黄原子を表し、
Ｑ¹、Ｑ²、Ｑ³及びＱ⁴は同一又は相異なり、窒素原子又はＣＲ³基を表し、
Ｒ³はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン原子又は水素原子を表し、
ｍは０から５の整数のいずれかを表し、
Ｒ²はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルチオ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルフィニル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルスルホニル基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表し（但し、ｍが２〜５の整数のいずれかである場合、それぞれのＲ²は同一又は相異なる。）、
Ｒ⁵及びＲ⁶は同一又は相異なり、群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいベンゾイル基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ３−Ｃ１２シクロアルキル基、ホルミル基又は水素原子を表し、
Ｒ⁴は群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよい５〜６員ヘテロ環基、ＯＲ⁸基、Ｎ(Ｒ⁹)Ｒ¹⁰基又は水素原子を表し、
Ｒ⁸は群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基又は群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよい５〜６員ヘテロ環基を表し、
Ｒ⁹は群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基又は群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基を表し、
Ｒ¹⁰は群Ｅ１より選ばれる基で置換されていてもよいＣ１−Ｃ１２鎖式炭化水素基又は水素原子を表すか、或いはＲ⁹とＲ¹⁰が末端で結合して、Ｃ２−Ｃ９アルカンジイル基を表し、
群Ｅ１は群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいＣ３−Ｃ１２環式炭化水素基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよい５〜６員ヘテロ環基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいフェノキシ基、群Ｅ２より選ばれる基で置換されていてもよいフェニルアミノ基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ２−Ｃ１２ジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基及びハロゲン原子からなる群を表し、
群Ｅ２はハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−Ｃ６アルコキシ基、Ｃ２−Ｃ６アルキルカルボニル基、Ｃ２−Ｃ６アルコキシカルボニル基、Ｃ１−Ｃ６アルキルアミノ基、Ｃ２−Ｃ１２ジアルキルアミノ基、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基及びハロゲン原子からなる群を表す。〕
で示されるヒドラジド化合物と、
ジノテフランとを含有する有害生物防除組成物。
式（１）において、ＧがＧ−１で示される基であり、Ｙ¹が酸素原子であり、Ｒ¹がトリフルオロメチル基であり、Ｑ¹、Ｑ³及びＱ⁴がＣＨ基であり、Ｑ²がＣＲ³基であり、Ｒ³が上記定義した基であり、ｍが２であり、(Ｒ²)_mが３位および５位の置換基であり、Ｒ²が塩素原子である請求項１に記載の有害生物防除組成物。
式（１）において、Ｒ⁶が水素原子である請求項１又は２に記載の有害生物防除組成物。
式（１）において、Ｒ⁵が水素原子またはメチル基である請求項１〜３のいずれか一項に記載の有害生物防除組成物。
式（１）において、Ｒ³がハロゲン原子である請求項１〜４のいずれか一項に記載の有害生物防除組成物。
式（１）において、Ｒ³が塩素原子である請求項１〜５のいずれか一項に記載の有害生物防除組成物。
式（１）において、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基、Ｃ１−Ｃ６ハロアルキル基、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル基または（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基である請求項１〜６のいずれか一項に記載の有害生物防除組成物。
式（１）において、Ｒ⁴がＣ２−Ｃ６アルキル基である請求項１〜７のいずれか一項に記載の有害生物防除組成物。
式（１）において、Ｒ⁴がＣ１−Ｃ６ハロアルキル基である請求項１〜７のいずれか一項に記載の有害生物防除組成物。
式（１）において、Ｒ⁴がＣ３−Ｃ６シクロアルキル基である請求項１〜７のいずれか一項に記載の有害生物防除組成物。
式（１）において、Ｒ⁴が（Ｃ１−Ｃ６アルコキシ）Ｃ１−Ｃ６アルキル基である請求項１〜７のいずれか一項に記載の有害生物防除組成物。
請求項１の式（１）で示されるヒドラジド化合物と、ジノテフランとの有効量を、有害生物又は有害生物の生息場所に施用する有害生物の防除方法。
有害生物を防除する為の、請求項１の式（１）で示されるヒドラジド化合物と、ジノテフランとの組み合わせの使用。