JP2012045842A - Transfer device and transfer method - Google Patents

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勇 室伏
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光典 小久保
Hiroyoshi Sugiura
裕喜 杉浦
Kenji Inaba
健二 稲葉
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transfer device which can prevent separation of a mold or a molded object from a correspondent installation body in mold releasing.SOLUTION: The transfer device is constituted to have: a mold installation body 13 for installing a mold M; and a molded object installation body 21 for installing the molded object W and freely moving relatively to the mold installation body 13. The molded object installation body 21 is constituted to hold the molded object W by vacuum suction. When the mold M is released from the molded body W after a fine transfer pattern is transferred to the molded object W by pressing the mold M to the molded body W by getting the mold installation body 13 and the molded object installation body 21 close to each other, a room R is formed to inside include the mold M, the molded object W, a mold installation part 13m in which the mold M of the mold installation body 13 is installed, and a molded object part 21w in which the molded object W of the molded object installation body 21 is installed, and the air pressure in the room R is made higher than the atmospheric pressure in order to increase the holding force by vacuum suction.

Description

この発明は、型に形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写する転写装置および転写方法に関するものである。   The present invention relates to a transfer apparatus and a transfer method for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a product to be molded.

近年、電子線描画法などで石英基板等に微細な転写パターンを形成して型(モールド)とし、被成型品に型を所定の圧力で押圧して型に形成された転写パターンを被成型品に転写するナノインプリント技術が研究、開発されている(例えば、非特許文献1参照)。   In recent years, a fine transfer pattern is formed on a quartz substrate or the like by an electron beam drawing method to form a mold (mold), and the transfer pattern formed on the mold by pressing the mold with a predetermined pressure on the molded product. Research and development has been conducted on nanoimprint technology for transferring images onto a substrate (for example, see Non-Patent Document 1).

ナノオーダーの微細な転写パターンを低コストで成型する方法としてリソグラフィ技術を用いたインプリント法が考案されている。   An imprint method using a lithography technique has been devised as a method for forming a nano-order fine transfer pattern at a low cost.

この成型法は大別して、UV(紫外線)インプリント法と、熱インプリント法とに分類される。   This molding method is roughly classified into a UV (ultraviolet) imprint method and a thermal imprint method.

UVインプリント法では、光が透過する透明な型を使用し、UV硬化液に型を押しつけ、適当な時間UV放射光を照射してUV硬化液を硬化させて微細な転写パターンをUV硬化液に転写した後、UV硬化液(被成型品)から型を引き離す。   In the UV imprint method, a transparent mold that transmits light is used, the mold is pressed against the UV curable liquid, and the UV curable liquid is cured by irradiating with UV radiation for an appropriate time to form a fine transfer pattern in the UV curable liquid. After the transfer, the mold is pulled away from the UV curable liquid (molded product).

熱インプリント法では、型を、熱可塑性ポリマからなる基板に押圧し、熱可塑性ポリマが十分に流動可能となる温度まで基板(熱可塑性ポリマ)を加熱して微細な転写パターンに樹脂(熱可塑性ポリマ)を流入させた後、型と基板とをガラス転移温度未満まで冷却し、基板に転写された微細な転写パターンを固化させて型を基板から引き離す。   In the thermal imprint method, a mold is pressed onto a substrate made of a thermoplastic polymer, and the substrate (thermoplastic polymer) is heated to a temperature at which the thermoplastic polymer can sufficiently flow to form a resin (thermoplastic resin) in a fine transfer pattern. After the polymer is introduced, the mold and the substrate are cooled to below the glass transition temperature, the fine transfer pattern transferred to the substrate is solidified, and the mold is pulled away from the substrate.

ハードディスクやCD、DVDなど回転式の記憶装置では、最近、高密度のデータをディスクに形成するための記憶媒体(記録媒体)を成型する手段として、上述したナノインプリント技術を活用する方法への関心が高くなってきている。   Recently, in rotary storage devices such as hard disks, CDs, and DVDs, there is an interest in a method of utilizing the above-described nanoimprint technology as a means for forming a storage medium (recording medium) for forming high-density data on a disk. It's getting higher.

Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25(2001) 192-199Precision Engineering Journal of the International Societies for Precision Engineering and Nanotechnology 25 (2001) 192-199

ところで、被成型品から型を離す(離型する)際、転写パターンが微細であるために型と被成型品との接着力が大きく(強く)、型や被成型品が対応する設置体から離れるという不都合が発生する。   By the way, when separating the mold from the molded product (releasing the mold), the transfer pattern is fine, so the adhesive force between the mold and the molded product is large (strong), and the mold and the molded product are compatible with the installation body. The inconvenience of leaving will occur.

この発明は、上記した不都合を解消するためになされたもので、離型する際、型や成型品が対応する設置体から離れるのを防止することのできる転写装置および転写方法を提供するものである。   The present invention has been made to solve the above inconveniences, and provides a transfer device and a transfer method capable of preventing a mold or a molded product from being separated from a corresponding installation body when releasing the mold. is there.

請求項1に記載の発明は、型に形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写するための転写装置において、前記型を設置する型設置体と、前記被成型品を設置し、前記型設置体に対して相対的に移動自在な被成型品設置体とを有し、前記型設置体と前記被成型品設置体との少なくとも一方が、真空吸着によって前記型、前記被成型品を保持するように構成され、前記型設置体と前記被成型品設置体とを互いに接近させて前記型を前記被成型品に押圧することによって前記微細な転写パターンを前記被成型品に転写をした後、前記被成型品から前記型を離すときに前記型、前記被成型品、前記型設置体の前記型を設置している型設置部位、前記被成型品設置体の前記被成型品を設置している被成型品設置部位が内部に入る部屋を形成し、前記真空吸着による保持力を増加させるために前記部屋内の気圧を大気圧よりも高くするように構成されていることを特徴とする。   The invention according to claim 1 is a transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a molded product, wherein a mold installation body for installing the mold, and the molded product are installed. , A molded product installation body that is relatively movable with respect to the mold installation body, and at least one of the mold installation body and the molded product installation body is vacuum-adsorbed to form the mold and the molded product. The fine transfer pattern is transferred to the molded product by holding the mold installation body and the molded product installation body close to each other and pressing the mold against the molded product. The mold, the molded product, the mold installation site where the mold of the mold installation body is installed, and the molded product of the molded product installation body when the mold is separated from the molded product Form a room where the molded product installation site where the , Characterized in that it is configured to be higher than atmospheric pressure to atmospheric pressure in the room to increase the holding force by the vacuum suction.

請求項2に記載の発明は、型に形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写するための転写装置において、前記型または前記被成型品を設置する第1の設置体と、前記型または前記被成型品を設置し、前記第1の設置体に対して相対的に移動自在な第2の設置体とを有し、前記第1の設置体と前記第2の設置体との少なくとも一方が、真空吸着によって前記型、前記被成型品を保持するように構成され、前記第1の設置体と前記第2の設置体とを互いに接近させて前記型を前記被成型品に押圧することによって前記微細な転写パターンを前記被成型品に転写をした後、前記被成型品から前記型を離すときに前記型、前記被成型品、前記第1、第2の設置体の前記型、前記被成型品を設置している設置部位が内部に入る部屋を形成し、前記真空吸着による保持力を増加させるために前記部屋内の気圧を大気圧よりも高くするように構成されていることを特徴とする。   The invention according to claim 2 is a transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a molded product, a first installation body for installing the mold or the molded product, A second installation body on which the mold or the molded product is installed and movable relative to the first installation body, the first installation body and the second installation body; At least one of which is configured to hold the mold and the molded article by vacuum suction, and the first installation body and the second installation body are brought close to each other to bring the mold into the molded article. After the fine transfer pattern is transferred to the molded product by pressing, the mold, the molded product, and the first and second installation bodies are separated when the mold is released from the molded product. Form a room into which the mold and the installation site where the molded product is installed enter. Characterized in that it is configured to be higher than atmospheric pressure to atmospheric pressure in the room to increase the holding force by the vacuum suction.

請求項3に記載の発明は、請求項1または請求項2に記載の転写装置において、前記微細な転写パターンを前記被成型品に転写するときにおける前記型と前記被成型品との接触部位の外側に、大気圧よりも高い気圧によって前記型を前記被成型品から離す方向へ押圧する型受圧部と、大気圧よりも高い気圧によって前記被成型品を前記型から離す方向へ押圧する被成型品受圧部との少なくとも一方が形成されていることを特徴とする。   According to a third aspect of the present invention, in the transfer device according to the first or second aspect, a contact portion between the mold and the molded product when the fine transfer pattern is transferred to the molded product. On the outside, a mold pressure receiving part that presses the mold away from the mold by atmospheric pressure higher than atmospheric pressure, and a mold that pushes the molded article away from the mold by atmospheric pressure higher than atmospheric pressure At least one of the product pressure receiving portion is formed.

請求項4に記載の発明は、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の転写装置を用いて型に形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写することを特徴とする転写方法である。   According to a fourth aspect of the present invention, a fine transfer pattern formed on a mold is transferred to a molded product using the transfer device according to any one of the first to third aspects. This is a transfer method.

この発明によれば、型を被成型品から離す(離型する)際、部屋内が大気圧よりも高くなるので、型や被成型品が対応する設置体から離れるのを防止することができる。   According to this invention, when the mold is separated from the product to be molded (released), the interior of the room becomes higher than the atmospheric pressure, so that it is possible to prevent the mold and the product from being separated from the corresponding installation body. .

この発明の第1実施例である転写装置の概略構成を一部破断して示す正面図である。1 is a partially cutaway front view showing a schematic configuration of a transfer apparatus according to a first embodiment of the present invention. UVインプリント法による転写の概要を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the outline | summary of the transcription | transfer by UV imprint method. 図1に示した型と被成型品との接触部位の周囲を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the circumference | surroundings of the contact site | part of the type | mold and to-be-molded product shown in FIG. 型受圧部と被成型品受圧部との作用を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the effect | action of a type | mold pressure receiving part and a to-be-molded product pressure receiving part. 図1に示した転写装置の動作説明図である。FIG. 2 is an operation explanatory diagram of the transfer device shown in FIG. 1. この発明の第2実施例である転写装置の概略構成を一部破断して示す正面図である。It is a front view which partially fractures and shows schematic structure of the transfer apparatus which is 2nd Example of this invention. この発明の第3実施例である転写装置の概略構成を一部破断して示す正面図である。FIG. 7 is a front view showing a schematic configuration of a transfer device according to a third embodiment of the present invention, partially broken away. この発明の第4実施例である転写装置の概略構成を一部破断して示す正面図である。It is a front view which partially fractures and shows schematic structure of the transfer apparatus which is 4th Example of this invention. この発明の第5実施例である転写装置の概略構成を一部破断して示す正面図である。It is a front view which partially fractures and shows schematic structure of the transfer apparatus which is 5th Example of this invention. 熱インプリント法による転写の概要を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the outline | summary of the transcription | transfer by a thermal imprint method.

以下、この発明の実施例を図面を参照して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1はこの発明の第1実施例である転写装置の概略構成を一部破断して示す正面図である。   FIG. 1 is a partially cutaway front view showing a schematic configuration of a transfer apparatus according to a first embodiment of the present invention.

転写装置(ナノインプリント装置)1は、大気中において、型(モールド)Mに形成されている微細な転写パターンを、被成型品(被成型素材)Wに転写する装置である。   The transfer device (nanoimprint device) 1 is a device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold M to a molding product (molding material) W in the atmosphere.

型Mは、例えば、光を透過する石英ガラスで平板状に構成され、厚さ方向の一方の面(例えば、下面)Maに微細な転写パターン(例えば、凹凸の高さやピッチが可視光線の波長程度の大きさである微細な凹凸で形成されている転写パターン)が形成されている。   The mold M is, for example, a flat plate made of quartz glass that transmits light, and has a fine transfer pattern (for example, the height and pitch of the unevenness is a wavelength of visible light on one surface (for example, the lower surface) Ma in the thickness direction. A transfer pattern formed with fine irregularities having a size of about 10 mm is formed.

被成型品Wは、例えば、シリコンやガラスで平板状に構成されている基材W1と、この基材W1の一方の面(例えば、上面)W1aに薄く設けられた膜状の転写素材(例えば、UV硬化樹脂)W3とを備えた構成とされ、型Mの微細な転写パターンが転写素材W3の一方の面(上面)W3aに転写される。   The product to be molded W is, for example, a base material W1 configured in a flat plate shape with silicon or glass and a film-like transfer material (for example, thinly provided on one surface (for example, the upper surface) W1a of the base material W1 (for example, , UV curable resin) W3, and the fine transfer pattern of the mold M is transferred to one surface (upper surface) W3a of the transfer material W3.

被成型品Wとしては、情報記録用ディスク(例えば、DVD−ROM、ハードディスク用の記録媒体)や液晶表示装置のバックライトの導光板などを挙げることができる。   Examples of the molded product W include an information recording disk (for example, a DVD-ROM, a recording medium for a hard disk), a light guide plate of a backlight of a liquid crystal display device, and the like.

転写は、例えば、前述したUVインプリント法でなされる。   The transfer is performed, for example, by the UV imprint method described above.

ここで、UVインプリント法による転写について、図2を用いて簡単に説明する。   Here, transfer by the UV imprint method will be briefly described with reference to FIG.

まず、図2(a)に示す状態において、矢印の方向に型Mを移動させ、図2(b)に示すように、型Mで被成型品Wを所定の力(小さい力)で押圧し、紫外線を照射し、転写素材(UV硬化樹脂)W3を硬化させる。   First, in the state shown in FIG. 2 (a), the mold M is moved in the direction of the arrow, and as shown in FIG. 2 (b), the product W is pressed with a predetermined force (small force). The transfer material (UV curable resin) W3 is cured by irradiating ultraviolet rays.

そして、図2(b)に示す矢印の方向に型Mを移動させ、型Mを被成型品Wから離す(離型する)と、図2(c)に示すように、被成型品W(転写素材W3)に微細な転写パターンが転写される。   Then, when the mold M is moved in the direction of the arrow shown in FIG. 2B and the mold M is separated (released) from the molded product W, as shown in FIG. A fine transfer pattern is transferred onto the transfer material W3).

ここまでが、転写装置1を使用してなされる転写である。   Up to here, the transfer is performed using the transfer device 1.

上記の転写後、図2(c)に示す状態において、Oアッシングなどによって残膜除去処理をすることにより、図2(d)に示す状態になる。 After the above transfer, the state shown in FIG. 2D is obtained by performing the remaining film removal process by O 2 ashing or the like in the state shown in FIG.

ここで、残膜とは、転写後における転写素材W3の微細な凹部の底部分のことで、基材W1を覆っている薄い膜のことである。   Here, the remaining film is a bottom part of a fine recess of the transfer material W3 after transfer, and is a thin film covering the base material W1.

そして、図2(d)に示す状態において、硬化した転写素材W3をマスキング部材にして、図2(e)に示すように、エッチングによって基材W1に微細な転写パターンを形成する。   In the state shown in FIG. 2D, a fine transfer pattern is formed on the substrate W1 by etching, using the cured transfer material W3 as a masking member, as shown in FIG.

その後、硬化した転写素材W3を、例えば、溶剤で取り除くことにより、図2(f)に示すように、基材W1への微細な転写パターンの転写が完了する。   Thereafter, by removing the cured transfer material W3 with, for example, a solvent, the transfer of the fine transfer pattern onto the substrate W1 is completed as shown in FIG.

上記のようにして型Mに形成されている微細な転写パターンを、被成型品Wに転写するとき、図3(a)、(b)および図4に示すように、型Mと被成型品Wとの接触部位Cの外側に、大気圧よりも高い気圧によって型Mを被成型品Wから離す方向へ押圧する周回した型受圧部Mcと、大気圧よりも高い気圧によって被成型品Wを型Mから離す方向へ押圧する周回した被成型品受圧部Wcとが設けられている。   When the fine transfer pattern formed on the mold M as described above is transferred to the molded product W, as shown in FIGS. 3 (a), 3 (b) and 4, the mold M and the molded product. On the outside of the contact part C with W, the mold receiving part Mc that circulates and presses the mold M in the direction away from the molded product W by the atmospheric pressure higher than the atmospheric pressure, and the molded product W by the atmospheric pressure higher than the atmospheric pressure. There is provided a molded product pressure receiving portion Wc that is rotated in a direction away from the mold M.

この型受圧部Mcは被成型品Wに接触しない型Mの部分によって形成され、被成型品受圧部Wcは、型Mに接触しない被成型品Wの部分によって形成されている。   The mold pressure receiving portion Mc is formed by a portion of the mold M that does not contact the molded product W, and the molded product pressure receiving portion Wc is formed by a portion of the molded product W that does not contact the mold M.

図3(a)は型Mと被成型品Wとが平面視円形の場合を示し、図3(b)は、型Mと被成型品Wとが平面視長方形(正方形)の場合を示している。   3A shows a case where the mold M and the molded product W are circular in plan view, and FIG. 3B shows a case where the mold M and the molded product W are rectangular (square) in plan view. Yes.

図1に戻って、転写装置1はベース体11を備えている。   Returning to FIG. 1, the transfer device 1 includes a base body 11.

そして、ベース体11には、型設置体13、被成型品設置体21、各部を制御する制御部41などが設けられている。   The base body 11 is provided with a mold installation body 13, a molded product installation body 21, a control unit 41 that controls each part, and the like.

上記した型設置体13は、ベース体11に、図示を省略したリニアガイドベアリングを介して一体的に設けられるとともに、サーボモータなどのアクチュエータとボールねじとを介して移動可能(被成型品設置体21に接離可能)とされている。   The above-described mold installation body 13 is provided integrally with the base body 11 via a linear guide bearing (not shown) and is movable via an actuator such as a servo motor and a ball screw (molded product installation body). 21).

この型設置体13は、平面状の型設置面13aを下側に備え、例えば、図示を省略したボルトなどによって型取付部材17を型設置体13に取り付けることにより、型Mの厚さ方向の他方の面(微細な転写パターンが形成されていない平面状の上面)Mbを型設置面13aに接触(面接触)させて型Mが設置されるものである。   The mold installation body 13 includes a flat mold installation surface 13a on the lower side. For example, the mold installation member 17 is attached to the mold installation body 13 with bolts (not shown) in the thickness direction of the mold M. The other surface (a planar upper surface on which a fine transfer pattern is not formed) Mb is brought into contact (surface contact) with the mold installation surface 13a to install the mold M.

そして、型設置体13には、下側にバックアップ体取付穴13bが設けられ、このバックアップ体取付穴13bに連通して上側に貫通する貫通孔13cが設けられるとともに、下面から他の面、例えば、側面へと貫通する第2、第3の流路13f,13gが設けられている。   The mold installation body 13 is provided with a backup body attachment hole 13b on the lower side, and a through hole 13c that communicates with the backup body attachment hole 13b and penetrates to the upper side. Second and third flow paths 13f and 13g penetrating to the side surfaces are provided.

そして、型設置体13のバックアップ体取付穴13a内には透光性を有したバックアップガラス(バックアップ体)15が気密に取り付けられ、型設置体13の上側に、貫通孔13cからバックアップガラス15へと紫外線(UV)を照射する紫外線発生器19が取り付けられている。   A back-up glass (back-up body) 15 having translucency is airtightly attached in the backup body mounting hole 13a of the mold installation body 13, and the upper side of the mold installation body 13 is passed from the through hole 13c to the backup glass 15. And an ultraviolet ray generator 19 for irradiating ultraviolet rays (UV).

なお、型設置面13aは、バックアップガラス15の平面によっても形成されている。   The mold installation surface 13 a is also formed by the flat surface of the backup glass 15.

上記した被成型品設置体21は、型設置体13の型設置面13aと対向する平面状の被成型品設置面21aを備え、被成型品Wの厚さ方向の他方の面(基材W1の転写素材W3が設けられていない平面状の下面)W1bを被成型品設置面21aに接触(面接触)させて被成型品Wが設置されるものである。   The molded product installation body 21 described above includes a planar molded product installation surface 21a facing the mold installation surface 13a of the mold installation body 13, and the other surface in the thickness direction of the molded product W (base material W1). The molding material W is installed by bringing the planar lower surface (W1b) on which the transfer material W3 is not provided into contact (surface contact) with the molding product installation surface 21a.

そして、被成型品設置体21には、被成型品設置面21aの被成型品Wが接触する部分の内側に、周回する環状溝21dが設けられるとともに、この環状溝21dを、例えば、側面に連通、開放させる第4の流路21eが設けられている。   And the to-be-molded product installation body 21 is provided with an annular groove 21d that circulates inside the portion of the to-be-molded product installation surface 21a that comes into contact with the to-be-molded product W. A fourth flow path 21e is provided for communication and opening.

上記した型設置体13の下面には、部屋Rを形成する部屋形成部材31が取り付けられている。   A room forming member 31 for forming the room R is attached to the lower surface of the mold installation body 13 described above.

ここで、部屋Rとは、型設置体13と被成型品設置体21とを互いに接近させて型Mを被成型品Wに押圧することによって微細な転写パターンを被成型品Wに転写したり、転写をした後に被成型品Wから型Mを離すときに、型M、被成型品W、型設置体13の型Mを設置している型設置部位13m、被成型品設置体21の被成型品Wを設置している被成型品設置部位21wが内部(内側)に入る空間のことである。   Here, the room R means that the mold installation body 13 and the molded product installation body 21 are brought close to each other and the mold M is pressed against the molded product W to transfer a fine transfer pattern to the molded product W. When the mold M is separated from the molded product W after the transfer, the mold M, the molded product W, the mold installation site 13m where the mold M of the mold installation body 13 is installed, and the molded product installation body 21 covered This is a space in which the molded product installation site 21w in which the molded product W is installed enters the inside (inside).

この部屋形成部材31は、型設置体13の下面に、上端が気密に取り付けられた円筒状のベローズ31aと、このベローズ31aの下端に気密に取り付けられた円環状のOリング設置体31bと、このOリング設置体31bの下面側に形成された環状溝31bb内に、一部がOリング設置体31bから下側へ突出するように取り付けられたOリング31cとで構成されている。   The room forming member 31 includes a cylindrical bellows 31a whose upper end is airtightly attached to the lower surface of the mold installation body 13, and an annular O-ring installation body 31b airtightly attached to the lower end of the bellows 31a. The O-ring installation body 31b is configured by an O-ring 31c attached in such a manner as to protrude downward from the O-ring installation body 31b in an annular groove 31bb formed on the lower surface side of the O-ring installation body 31b.

上記した第4の流路21eには第2の減圧機構35が接続され、第2の流路13fには第3の減圧機構37が接続されるとともに、第3の流路13gには加圧機構39が接続されている。   A second pressure reducing mechanism 35 is connected to the fourth flow path 21e, a third pressure reducing mechanism 37 is connected to the second flow path 13f, and a pressure is applied to the third flow path 13g. A mechanism 39 is connected.

上記した第2の減圧機構35は、被成型品Wを被成型品設置体21に保持させるものであり、第4の流路21eに接続された第2の開閉バルブ35aと、この第2の開閉バルブ35aに接続された第2の真空ポンプ35bとで構成されている。   The second pressure reducing mechanism 35 described above is for holding the molded product W on the molded product installation body 21, the second opening / closing valve 35 a connected to the fourth flow path 21 e, and the second opening / closing valve 35 a. The second vacuum pump 35b is connected to the open / close valve 35a.

そして、環状溝21dと、第4の流路21eと、第2の減圧機構35とによって被成型品保持機構が構成されている。   The annular groove 21d, the fourth flow path 21e, and the second decompression mechanism 35 constitute a molded product holding mechanism.

また、第3の減圧機構37は、部屋R内を真空にするものであり、第2の流路13fに接続された第3の開閉バルブ37aと、この第3の開閉バルブ37aに接続された第3の真空ポンプ37bとで構成されている。   The third decompression mechanism 37 is used to evacuate the room R, and is connected to the third opening / closing valve 37a connected to the second flow path 13f and the third opening / closing valve 37a. It is comprised with the 3rd vacuum pump 37b.

そして、第2の流路13fと、第3の減圧機構37とによって真空引き機構が構成されている。   The second flow path 13f and the third decompression mechanism 37 constitute a vacuum evacuation mechanism.

また、加圧機構39は、部屋R内を大気圧よりも高い気圧、例えば、1200hPa〜3000hPaに加圧するものであり、第3の流路13gに接続された第4の開閉バルブ39aと、この第4の開閉バルブ39aに接続された加圧ポンプ39bとで構成されている。   The pressurizing mechanism 39 pressurizes the interior of the room R to an atmospheric pressure higher than atmospheric pressure, for example, 1200 hPa to 3000 hPa. The fourth open / close valve 39a connected to the third flow path 13g, And a pressurizing pump 39b connected to the fourth on-off valve 39a.

そして、第3の流路13gと、加圧機構39とによって大気圧超え加圧機構が構成されている。   The third flow path 13g and the pressurizing mechanism 39 constitute an overpressure control mechanism.

次に、転写装置1の動作を、図5を参照して説明する。   Next, the operation of the transfer apparatus 1 will be described with reference to FIG.

初期状態として、図1に示すように、型Mが型設置体13に型取付部材17によって保持され、被成型品Wが被成型品設置体21に真空吸着によって保持され、各開閉バルブ37a,39aは閉じているものとする。   As an initial state, as shown in FIG. 1, the mold M is held by the mold mounting member 13 by the mold mounting member 17, the molded product W is held by the molded product mounting body 21 by vacuum suction, and each open / close valve 37 a, 39a is closed.

図1の状態で、例えば、転写装置1のスタートのスイッチ(図示せず)が押されると、制御装置41の制御の下、型設置体13が下降し、Oリング31cが被成型品設置体21の被成型品設置面21aに接触し始め、さらに型設置体13が所定の距離(僅かな距離)だけ下降して被成型品設置体21に近づく(図5(a)参照)。   In the state of FIG. 1, for example, when a start switch (not shown) of the transfer device 1 is pressed, the mold installation body 13 is lowered under the control of the control device 41, and the O-ring 31 c is moved to the molded product installation body. Then, the mold installation body 13 starts to come into contact with the molded product installation surface 21a of 21 and descends by a predetermined distance (a slight distance) and approaches the molded product installation body 21 (see FIG. 5A).

この状態では、ベローズ31aとOリング31cとが僅かに弾性変形し、型設置体13と被成型品設置体21と部屋形成部材31とによって部屋Rが形成されるが、型Mと被成型品Wとは僅かに離れている。   In this state, the bellows 31a and the O-ring 31c are slightly elastically deformed, and the room R is formed by the mold installation body 13, the molded product installation body 21, and the room forming member 31, but the mold M and the molded product. It is slightly separated from W.

続いて、第3の開閉バルブ37aを開いて第3の真空ポンプ37bを稼動し、部屋R内の気圧を部屋Rの外の気圧(例えば、大気圧)よりも下げ(例えば、真空近くまで下げ)、型Mをさらにごく僅か下降させ、型Mで被成型品Wを押圧するとともに、紫外線発生器19を作動させて紫外線を照射し、転写素材W3を硬化させる(図5(b)参照)。   Subsequently, the third open / close valve 37a is opened and the third vacuum pump 37b is operated, so that the atmospheric pressure in the room R is lower than the atmospheric pressure outside the room R (for example, atmospheric pressure) (for example, close to vacuum). ), The mold M is further lowered slightly, the molded product W is pressed by the mold M, and the ultraviolet ray generator 19 is operated to irradiate the ultraviolet ray to cure the transfer material W3 (see FIG. 5B). .

なお、型Mを被成型品Wに押圧する押圧力は、例えば、型設置体13にロードセルを設け、このロードセルからの信号に基づき、制御部41の制御の下、適宜の値に制御されるものとする。   The pressing force for pressing the mold M against the workpiece W is controlled to an appropriate value under the control of the control unit 41 based on a signal from the load cell provided in the mold installation body 13, for example. Shall.

部屋R内の圧力(気圧)を下げると、被成型品Wと被成型品設置体21とのごく僅かな隙間に空気(大気)が入り込んで被成型品Wが弾性変形し、被成型品Wが型Mに倣い、型Mと被成型品Wとの接触部位Cにおける圧力が均一化される。   When the pressure (atmospheric pressure) in the room R is lowered, air (atmosphere) enters a very small gap between the molded product W and the molded product installation body 21, and the molded product W is elastically deformed. Follows the mold M, and the pressure at the contact portion C between the mold M and the workpiece W is equalized.

すなわち、型Mと被成型品Wとの接触部位Cのいずれの部位においても、微小な単位面積あたりの接触圧力が互いにほぼ等しくなる。   That is, in any part of the contact part C between the mold M and the product W, the contact pressures per minute unit area are substantially equal to each other.

上述した転写後に、図5(c)に示すように、型設置体13を上昇させて型Mを被成型品Wから離す際、第3の開閉バルブ37aを閉じて第3の真空ポンプ37aを停止させとともに、第4の開閉バルブ39aを開いて加圧ポンプ39bを稼働し、部屋R内の圧力を大気圧よりも上げる。   After the transfer described above, as shown in FIG. 5C, when the mold installation body 13 is raised to separate the mold M from the product W, the third open / close valve 37a is closed and the third vacuum pump 37a is turned on. While stopping, the 4th opening-and-closing valve 39a is opened, the pressurization pump 39b is operated, and the pressure in the room R is raised above atmospheric pressure.

このようにして型Mを被成型品Wから離すとき、部屋R内の圧力を大気圧よりも上げると、型Mに設けられている型受圧部Mcが大気圧よりも高い気圧によって型Mを成型品Wから離す方向へ押圧され、被成型品Wに設けられている被成型品受圧部Wcが大気圧よりも高い気圧によって被成型品Wを型Mから離す方向へ押圧され、型Mと被成型品Wとが接触部位Cの周縁から離れることにより、型Mが被成型品Wから容易に離れる(外れる)。   When the mold M is separated from the workpiece W in this way, if the pressure in the room R is increased above the atmospheric pressure, the mold pressure receiving part Mc provided in the mold M causes the mold M to be moved by the atmospheric pressure higher than the atmospheric pressure. Pressed in the direction away from the molded product W, the molded product pressure receiving portion Wc provided in the molded product W is pressed in the direction away from the mold M by the atmospheric pressure higher than atmospheric pressure, When the molded product W is separated from the peripheral edge of the contact portion C, the mold M is easily separated from the molded product W.

そして、型設置体13を所定の位置までさらに上昇させることにより、図1および図5(d)に示す初期状態とし、第4の開閉バルブ39aを閉じ、各ポンプ35b,39bを停止させ、転写がなされた被成型品Wを被成型品設置体21から取り外し、転写がなされていない次の被成型品Wを被成型品保持機構によって真空吸着する。   Then, by further raising the mold installation body 13 to a predetermined position, the initial state shown in FIG. 1 and FIG. 5D is obtained, the fourth open / close valve 39a is closed, the pumps 35b and 39b are stopped, and the transfer is performed. The molded product W that has been subjected to the removal is removed from the molded product installation body 21, and the next molded product W that has not been transferred is vacuum-sucked by the molded product holding mechanism.

このようにして、転写素材W3に微細な転写パターンが転写された被成型品Wの残膜を除去し、残膜除去後に、転写素材W3をマスク材として基材W1にエッチング(例えば、ドライエッチング)をすることにより、型Mの微細な転写パターンに対応した微細パターンが基材W1に形成される。基材W1への微細パターンの形成後に、転写素材W3は除去(クリーニング)される。   In this way, the remaining film of the molding product W having the fine transfer pattern transferred onto the transfer material W3 is removed, and after the remaining film is removed, the transfer material W3 is used as a mask material to etch the substrate W1 (for example, dry etching). ), A fine pattern corresponding to the fine transfer pattern of the mold M is formed on the substrate W1. After the fine pattern is formed on the substrate W1, the transfer material W3 is removed (cleaned).

なお、型設置体13が移動するものとして説明したが、型設置体13に代えてまたは加えて、被成型品設置体21が図1の上下方向に移動する構成であってもよい。   In addition, although demonstrated as what the type | mold installation body 13 moves, it may replace with or add to the type | mold installation body 13, and the structure to which the to-be-molded product installation body 21 moves to the up-down direction of FIG.

また、被成型品Wのみを真空吸着によって被成型品設置体21に保持させる構成ものとして説明したが、型Mを真空吸着によって型設置体13に保持させるとともに、被成型品Wを真空吸着によって被成型品設置体21に保持させたり、型Mを真空吸着によって型設置体13に保持させ、被成型品Wを被成型品取付部材によって被成型品設置体21に保持させる構成であってもよい。   Moreover, although it demonstrated as a structure which hold | maintains only the to-be-molded product W in the to-be-molded product installation body 21 by vacuum suction, while hold | maintaining the type | mold M to the mold installation body 13 by vacuum suction, and to-be-molded product W by vacuum suction Even if the molded product installation body 21 is held, the mold M is held on the mold installation body 13 by vacuum suction, and the molded product W is held on the molded product installation body 21 by the molded product mounting member. Good.

また、型Mの外周に型受圧部Mcを設け、被成型品Wの外周に被成型品受圧部Wcを設けた構成として説明したが、型Mにのみ型受圧部Mcを設けたり、被成型品Wにのみ被成型品受圧部Wcを設けた構成であってもよい。この場合、型受圧部Mcまたは被成型品受圧部Wcは、周回して設けられていなくてもよい。   In addition, the configuration has been described in which the mold pressure receiving portion Mc is provided on the outer periphery of the mold M and the molded product pressure receiving portion Wc is provided on the outer periphery of the molded product W. Only the product W may be provided with a molded product pressure receiving portion Wc. In this case, the mold pressure receiving portion Mc or the molded product pressure receiving portion Wc may not be provided around.

この発明の一実施例の転写装置1によれば、部屋Rを減圧した場合であっても、Oリング31cが被成型品設置体21に接触し続けて部屋Rの減圧状態を維持するので、転写の際に被成型品Wに気泡が発生するなどの不具合いの発生を確実に防止することができる。   According to the transfer device 1 of one embodiment of the present invention, even when the room R is depressurized, the O-ring 31c continues to contact the molded product installation body 21 and maintains the depressurized state of the room R. It is possible to reliably prevent the occurrence of defects such as bubbles generated in the molded product W during the transfer.

また、被成型品保持機構によって被成型品Wが被成型品設置体21に保持されているので、被成型品Wの交換を容易に行うことができる。   Further, since the molded product W is held by the molded product installation body 21 by the molded product holding mechanism, the molded product W can be easily replaced.

また、転写後に型Mを被成型品Wから離すべく型設置体13を被成型品設置体21から離れる方向に移動させるとき、部屋Rの圧力を大気圧よりも高くするので、転写のときよりも大きな力で被成型品設置体21が被成型品Wを保持し、離型の際に被成型品Wを被成型品設置体21から離す力がかかっても、型Mと被成型品Wとが接触部位Cの周縁から離れることにより、被成型品Wが被成型品設置体21から離れることを防止することができる。   In addition, when the mold installation body 13 is moved in a direction away from the molding product installation body 21 so as to separate the mold M from the molding product W after the transfer, the pressure in the room R is made higher than the atmospheric pressure. Even if the molded product installation body 21 holds the molded product W with a large force and a force is applied to release the molded product W from the molded product installation body 21 during release, the mold M and the molded product W are applied. Can be prevented from separating the molded product W from the molded product installation body 21.

また、型Mに型受圧部Mcが設けられ、被成型品Wに被成型品受圧部Wcが設けられているので、離型の際、部屋Rの圧力が大気圧よりも高くなると、型受圧部Mcが大気圧よりも高い気圧によって型Mを成型品Wから離す方向へ押圧され、被成型品受圧部Wcが大気圧よりも高い気圧によって被成型品Wを型Mから離す方向へ押圧され、型Mと被成型品Wとが接触部位Cの周縁から離れることにより、型Mが被成型品Wから容易に離れ(外れ)、型Mが型設置体13から離れることを防止することができるとともに、被成型品Wが被成型品設置体21から離れることを防止することができる。   In addition, since the mold pressure receiving portion Mc is provided in the mold M and the molded product pressure receiving portion Wc is provided in the molded product W, when the pressure in the room R becomes higher than the atmospheric pressure during mold release, The part Mc is pressed in a direction to separate the mold M from the molded product W by the atmospheric pressure higher than the atmospheric pressure, and the molded product pressure receiving part Wc is pressed in a direction to separate the molded product W from the mold M by the atmospheric pressure higher than the atmospheric pressure. The mold M and the molded product W are separated from the periphery of the contact portion C, whereby the mold M can be easily separated (disconnected) from the molded product W, and the mold M can be prevented from being separated from the mold installation body 13. In addition, the molded product W can be prevented from leaving the molded product installation body 21.

図6はこの発明の第2実施例である転写装置の概略構成を一部破断して示す正面図であり、図1〜図5に示す部分と同一部分または図1〜図5に示す部分に相当する部分に同一符号を付し、その説明を省略する。   FIG. 6 is a front view showing the schematic configuration of the transfer apparatus according to the second embodiment of the present invention, partially broken away, and is the same as the part shown in FIGS. 1 to 5 or the part shown in FIGS. Corresponding portions are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

なお、図6において、図1に示す構成部分の一部分の図示が省略されている。   In FIG. 6, illustration of a part of the components shown in FIG. 1 is omitted.

この第2実施例の転写装置1Aが第1実施例の転写装置1と異なるところは、真空吸着による型保持機構によって型Mを型設置体13に保持させているところである。   The transfer apparatus 1A of the second embodiment is different from the transfer apparatus 1 of the first embodiment in that the mold M is held on the mold installation body 13 by a mold holding mechanism by vacuum suction.

すなわち、型設置体13には、型設置面13aの型Mが接触する部分の内側に、周回する環状溝13dが設けられるとともに、この環状溝13dを、例えば、側面に連通、開放させる第1の流路13eが設けられている。   That is, the mold installation body 13 is provided with an annular groove 13d that circulates inside the portion of the mold installation surface 13a that contacts the mold M, and the annular groove 13d is, for example, a first that communicates with and opens to the side surface. The flow path 13e is provided.

そして、第1の流路13eには第1の減圧機構33が接続されている。   The first pressure reducing mechanism 33 is connected to the first flow path 13e.

上記した第1の減圧機構33は、型Mを型設置体13に保持させるものであり、第1の流路13eに接続された第1の開閉バルブ33aと、この第1の開閉バルブ33aに接続された第1の真空ポンプ33bとで構成されている。   The first decompression mechanism 33 described above is for holding the mold M on the mold installation body 13, and includes a first opening / closing valve 33a connected to the first flow path 13e, and the first opening / closing valve 33a. The first vacuum pump 33b is connected to the first vacuum pump 33b.

そして、環状溝13dと、第1の流路13eと、第2の減圧機構35とによって型保持機構が構成されている。   The annular groove 13d, the first flow path 13e, and the second pressure reducing mechanism 35 constitute a mold holding mechanism.

なお、動作などの説明は、先の実施例と同様になるので、省略する。   The description of the operation and the like is the same as in the previous embodiment, and will be omitted.

この第2実施例の転写装置1Aにおいても、第1実施例の転写装置1と同様な効果を得ることができる。   In the transfer device 1A of the second embodiment, the same effect as that of the transfer device 1 of the first embodiment can be obtained.

図7はこの発明の第3実施例である転写装置の概略構成を一部破断して示す正面図であり、図1〜図6に示す部分と同一部分または図1〜図6に示す部分に相当する部分に同一符号を付し、その説明を省略する。   FIG. 7 is a partially cutaway front view showing a schematic configuration of a transfer apparatus according to a third embodiment of the present invention. In FIG. 7, the same part as shown in FIGS. 1 to 6 or the part shown in FIGS. Corresponding portions are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

なお、図7において、図1〜図6に示す構成部分の一部分の図示が省略されている。   In FIG. 7, illustration of a part of the components shown in FIGS. 1 to 6 is omitted.

この第3実施例の転写装置1Bが第2実施例の転写装置1Aと異なるところは、図示を省略したボルトなどによって被成型品取付部材23を被成型品設置体21に取り付けることにより、被成型品Wの厚さ方向の他方の面(転写部材W3が形成されていない基材W1の平面状の下面)W1bを被成型品設置面21aに接触(面接触)させて被成型品Wが設置されるところである。   The transfer device 1B of the third embodiment is different from the transfer device 1A of the second embodiment in that the molded product mounting member 23 is mounted on the molded product installation body 21 with bolts or the like which are not shown in the drawing. The other surface in the thickness direction of the product W (the planar lower surface of the base material W1 on which the transfer member W3 is not formed) W1b is brought into contact (surface contact) with the molding product installation surface 21a, and the molding product W is installed. It is where it is done.

なお、動作などの説明は、先の実施例と同様になるので、省略する。   The description of the operation and the like is the same as in the previous embodiment, and will be omitted.

この第3実施例の転写装置1Bにおいても、第1実施例の転写装置1と同様な効果を得ることができる。   In the transfer device 1B of the third embodiment, the same effect as that of the transfer device 1 of the first embodiment can be obtained.

図8はこの発明の第4実施例である転写装置の概略構成を一部破断して示す正面図であり、図1〜図7に示す部分と同一部分または図1〜図7に示す部分に相当する部分に同一符号を付し、その説明を省略する。   FIG. 8 is a partially cutaway front view showing a schematic configuration of a transfer apparatus according to a fourth embodiment of the present invention. In FIG. 8, the same part as that shown in FIGS. 1 to 7 or the part shown in FIGS. Corresponding portions are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

なお、図8において、図1〜図7に示す構成部分の一部分の図示が省略され、図示を省略したが、被成型品設置体に各穴、孔が設けられるとともに、バックアップガラス、紫外線発生器が取り付けられている。   In FIG. 8, illustration of a part of the components shown in FIGS. 1 to 7 is omitted, and the illustration is omitted. However, the molded product installation body is provided with holes and holes, a backup glass, and an ultraviolet generator. Is attached.

この第4実施例の転写装置1Cが第2実施例の転写装置1Aと異なるところは、型設置体13を第1の設置体13Aにして型Mを設置するところと、被成型品設置体21を第2の設置体21Aにして型Mを設置するところと、基材W1の両面に転写素材W3を設けて被成型品WAにしたところである。   The transfer device 1C of the fourth embodiment is different from the transfer device 1A of the second embodiment in that the mold installation body 13 is used as the first installation body 13A and the mold M is installed, and the molded product installation body 21 is used. The second installation body 21A is used to install the mold M, and the transfer material W3 is provided on both surfaces of the base material W1 to form the molded product WA.

なお、動作などの説明は、先の実施例と同様になるので、省略するが、被成型品WAは適宜な機構(手段)によって型Mの間(または、下側の型Mの上)に設置される。   Since the description of the operation and the like is the same as in the previous embodiment, it will be omitted. However, the molded product WA is placed between the molds M (or on the lower mold M) by an appropriate mechanism (means). Installed.

この第4実施例の転写装置1Cにおいても、第1実施例の転写装置1と同様な効果を得ることができる。   In the transfer device 1C of the fourth embodiment, the same effect as that of the transfer device 1 of the first embodiment can be obtained.

図9はこの発明の第5実施例である転写装置の概略構成を一部破断して示す正面図であり、図1〜図8に示す部分と同一部分または図1〜図8に示す部分に相当する部分に同一符号を付し、その説明を省略する。   FIG. 9 is a partially cutaway front view showing a schematic configuration of a transfer apparatus according to a fifth embodiment of the present invention. In FIG. 9, the same part as shown in FIGS. 1 to 8 or the part shown in FIGS. Corresponding portions are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.

なお、図9において、図1〜図8に示す構成部分の一部分の図示が省略されている。   9, illustration of a part of the components shown in FIGS. 1 to 8 is omitted.

この第5実施例の転写装置1Dが第4実施例の転写装置1Cと異なるところは、第1の設置体13Aおよび第2の設置体21Aに被成型品Wを設置するところと、両面(上、下面)に微細な転写パターンを形成して型MAにしたところである。   The transfer device 1D of the fifth embodiment is different from the transfer device 1C of the fourth embodiment in that the molding product W is installed on the first installation body 13A and the second installation body 21A, and on both sides (upper , The lower surface) is formed into a mold MA by forming a fine transfer pattern.

なお、動作などの説明は、先の実施例と同様になるので、省略するが、型MAは適宜な機構(手段)によって被成型品Wの間(または、下側の被成型品Wの上)に設置される。   The description of the operation and the like is the same as in the previous embodiment, and will be omitted. However, the mold MA is placed between the molded products W (or above the lower molded product W by an appropriate mechanism (means)). ).

この第5実施例の転写装置1Dにおいても、第1実施例の転写装置1と同様な効果を得ることができる。   In the transfer device 1D of the fifth embodiment, the same effect as that of the transfer device 1 of the first embodiment can be obtained.

図10は熱インプリント法による転写の概要を示す説明図である。   FIG. 10 is an explanatory diagram showing an outline of transfer by the thermal imprint method.

熱インプリント法の場合、転写装置が、図10(a)〜(c)に示す工程を担当する。   In the case of the thermal imprint method, the transfer device takes charge of the steps shown in FIGS.

熱インプリント法の場合、型Mは金属、石英ガラスなどで構成され、被成型品Wは熱可塑性樹脂などで構成されている。   In the case of the thermal imprint method, the mold M is made of metal, quartz glass, or the like, and the molded product W is made of a thermoplastic resin or the like.

図10(a)において、少なくとも被成型品Wをヒータによって加熱し、図10(a)に示す矢印の方向に型Mを移動させ、図10(b)に示すように、型Mで被成型品Wを押圧する。   10A, at least the workpiece W is heated by a heater, the mold M is moved in the direction of the arrow shown in FIG. 10A, and the mold M is molded as shown in FIG. 10B. The product W is pressed.

そして、被成型品Wの転写部分が十分に流動可能となる温度まで被成型品Wを加熱して微細な転写パターンに被成型品Wの一部を流入させた後、型Mと被成型品Wとをガラス転移温度未満になるまで、ペルチェ素子などによって冷却し、被成型品Wに転写された微細な転写パターンを固化させる。   Then, after the molded product W is heated to a temperature at which the transfer portion of the molded product W can sufficiently flow, a part of the molded product W is caused to flow into a fine transfer pattern, and then the mold M and the molded product The W is cooled by a Peltier element or the like until it becomes lower than the glass transition temperature, and the fine transfer pattern transferred to the product W is solidified.

そして、図10(b)に示す矢印の方向に型Mを移動させ、型Mを被成型品Wから離すと、図10(c)に示すように、被成型品Wに微細な転写パターンが転写される。   Then, when the mold M is moved in the direction of the arrow shown in FIG. 10B and the mold M is moved away from the molding target W, a fine transfer pattern is formed on the molding target W as shown in FIG. Transcribed.

この熱インプリント法で転写する場合は、先の実施例において、例えば、被成型品設置体21または第2の設置体21Aにヒータ、ペルチェ素子を埋設し、被成型品Wを加熱するヒータなどを制御する構成とすることにより、型Mの微細な転写パターンを被成型品Wに転写することができる。   When transferring by this thermal imprinting method, in the previous embodiment, for example, a heater or a Peltier element is embedded in the molded product installation body 21 or the second installation body 21A, and the molded product W is heated. By adopting a configuration for controlling the above, it is possible to transfer the fine transfer pattern of the mold M onto the product W.

1 転写装置
1A〜1D 転写装置
11 ベース体
13,13A 型設置体
13a 型設置面
13b バックアップ体取付穴
13c 貫通孔
13d 環状溝
13e 第1の流路
13f 第2の流路
13g 第3の流路
13m 型設置部位
15 バックアップガラス(バックアップ体)
17 型取付部材
19 紫外線発生器
21,21A 被成型品設置体
21a 被成型品設置部面
21d 環状溝
21e 第4の流路
21w 被成型品設置部位
23 被成型品取付部材
31 部屋形成部材
31a ベローズ
31b Oリング設置体
31bb 環状溝
31c Oリング
33 第1の減圧機構
33a 第1の開閉バルブ
33b 第1の真空ポンプ
35 第2の減圧機構
35a 第2の開閉バルブ
35b 第2の真空ポンプ
37 第3の減圧機構
37a 第3の開閉バルブ
37b 第3の真空ポンプ
39 加圧機構
39a 第4の開閉バルブ
39b 加圧ポンプ
41 制御部
M,MA 型
Ma 一方の面
Mb 他方の面
Mc 型受圧部
W,WA 被成型品
W1 基材
W1a 一方の面
W1b 他方の面
W3 転写素材
W3a 一方の面
Wc 被成型品受圧部
C 接触部位
R 部屋
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transfer apparatus 1A-1D Transfer apparatus 11 Base body 13, 13A Mold installation body 13a Mold installation surface 13b Backup body attachment hole 13c Through hole 13d Annular groove 13e First flow path 13f Second flow path 13g Third flow path 13m type installation site 15 Backup glass (backup body)
17 Mold mounting member 19 UV generator 21, 21 A Molded product installation body 21 a Molded product installation part surface 21 d Annular groove 21 e Fourth channel 21 w Molded product installation site 23 Molded product installation member 31 Room forming member 31 a Bellows 31b O-ring installation body 31bb Annular groove 31c O-ring 33 First decompression mechanism 33a First on-off valve 33b First vacuum pump 35 Second decompression mechanism 35a Second on-off valve 35b Second vacuum pump 37 Third Pressure reducing mechanism 37a third on-off valve 37b third vacuum pump 39 pressurizing mechanism 39a fourth on-off valve 39b pressurizing pump 41 control unit M, MA type Ma one side Mb other side Mc type pressure receiving unit W, WA Molded product W1 Base material W1a One side W1b The other side W3 Transfer material W3a One side Wc Molded product pressure receiving part C Site R room touch

Claims (4)

型に形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写するための転写装置において、
前記型を設置する型設置体と、
前記被成型品を設置し、前記型設置体に対して相対的に移動自在な被成型品設置体とを有し、
前記型設置体と前記被成型品設置体との少なくとも一方が、真空吸着によって前記型、前記被成型品を保持するように構成され、
前記型設置体と前記被成型品設置体とを互いに接近させて前記型を前記被成型品に押圧することによって前記微細な転写パターンを前記被成型品に転写をした後、前記被成型品から前記型を離すときに前記型、前記被成型品、前記型設置体の前記型を設置している型設置部位、前記被成型品設置体の前記被成型品を設置している被成型品設置部位が内部に入る部屋を形成し、前記真空吸着による保持力を増加させるために前記部屋内の気圧を大気圧よりも高くするように構成されている、
ことを特徴とする転写装置。
In a transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a molded product,
A mold installation body for installing the mold;
The molded product is installed, and has a molded product installation body that is relatively movable with respect to the mold installation body,
At least one of the mold installation body and the molded product installation body is configured to hold the mold and the molded product by vacuum suction,
The fine transfer pattern is transferred to the molded product by bringing the mold installation body and the molded product installation body close to each other and pressing the mold against the molded product, and then from the molded product. When the mold is released, the mold, the molded product, a mold installation site where the mold of the mold installation body is installed, and a molded product installation where the molded product of the molded product installation body is installed Forming a room where the part enters, and configured to increase the atmospheric pressure in the room higher than the atmospheric pressure in order to increase the holding force by the vacuum adsorption,
A transfer device characterized by that.
型に形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写するための転写装置において、
前記型または前記被成型品を設置する第1の設置体と、
前記型または前記被成型品を設置し、前記第1の設置体に対して相対的に移動自在な第2の設置体とを有し、
前記第1の設置体と前記第2の設置体との少なくとも一方が、真空吸着によって前記型、前記被成型品を保持するように構成され、
前記第1の設置体と前記第2の設置体とを互いに接近させて前記型を前記被成型品に押圧することによって前記微細な転写パターンを前記被成型品に転写をした後、前記被成型品から前記型を離すときに前記型、前記被成型品、前記第1、第2の設置体の前記型、前記被成型品を設置している設置部位が内部に入る部屋を形成し、前記真空吸着による保持力を増加させるために前記部屋内の気圧を大気圧よりも高くするように構成されている、
ことを特徴とする転写装置。
In a transfer device for transferring a fine transfer pattern formed on a mold to a molded product,
A first installation body for installing the mold or the molded article;
Installing the mold or the molded article, and having a second installation body movable relative to the first installation body,
At least one of the first installation body and the second installation body is configured to hold the mold and the article to be molded by vacuum suction,
After the first installation body and the second installation body are brought close to each other and the mold is pressed against the molded product, the fine transfer pattern is transferred to the molded product, and then the molded product When separating the mold from the product, forming the mold, the molded product, the mold of the first and second installation bodies, a chamber into which the installation site where the molded product is installed enters, The atmospheric pressure in the room is configured to be higher than the atmospheric pressure in order to increase the holding force by vacuum adsorption,
A transfer device characterized by that.
請求項1または請求項2に記載の転写装置において、
前記微細な転写パターンを前記被成型品に転写をするときにおける前記型と前記被成型品との接触部位の外側に、大気圧よりも高い気圧によって前記型を前記被成型品から離す方向へ押圧する型受圧部と、大気圧よりも高い気圧によって前記被成型品を前記型から離す方向へ押圧する被成型品受圧部との少なくとも一方が形成されている、
ことを特徴とする転写装置。
In the transfer device according to claim 1 or 2,
When the fine transfer pattern is transferred to the molded product, the mold is pressed outside the contact area between the mold and the molded product in a direction away from the molded product by atmospheric pressure higher than atmospheric pressure. At least one of a mold pressure receiving portion and a molded product pressure receiving portion that presses the molded product in a direction away from the mold by an atmospheric pressure higher than atmospheric pressure,
A transfer device characterized by that.
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の転写装置を用いて型に形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写する、
ことを特徴とする転写方法。
A fine transfer pattern formed on a mold using the transfer device according to any one of claims 1 to 3 is transferred to a product to be molded.
A transfer method characterized by the above.
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