JP2012045759A - 構造体の製造方法及び構造体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】露光を目的としない(パターンが形成されない)フィルムである現像用フィルム12’が、パターンの潜像が行われたパターン用フィルム12にラミネートされる。そして、現像用フィルム12’に現像液が供給されることで、パターン用フィルム12の除去対象部(未硬化部12b)が現像用フィルム12’とともに膨潤化するので、その除去対象部を現像用フィルム12’とともに除去しやすくなる。その結果、高精度なパターンを形成することができる。
【選択図】図2
Description
前記第1のフィルムにパターンの潜像を行うために、前記基材上の前記第1のフィルムの表面の位置に応じて選択的に前記エネルギー線が照射される。
前記第1のフィルムの前記表面に第2のフィルムがラミネートされる。
前記第2のフィルムに現像液を供給し、前記第1のフィルムの、選択的な除去の対象となる除去対象部を前記第2のフィルムとともに除去することで、前記パターンが現像される。
例えば、図1Cに示した、最上層のパターン用フィルム12への露光処理と、それより下層の複数のパターン用フィルム12への露光処理とが、別々の工程でそれぞれ行われてもよい。これにより、図1Cに示すように、最上層12のパターン用フィルム12に、それより下層の複数のパターン用フィルム12に形成されるパターンとは異なるパターンを形成することができる。
現像用フィルム(パターン用フィルム12と同じ材料の紫外線硬化樹脂)の厚さ:20μm(図4では、現像用フィルムを用いていない。)
エネルギー線:波長375nmの紫外線レーザ
レーザビームのスポット直径:約2μm
露光方式:ガルバノミラーによるスキャン(対物レンズのNAは0.1)、スキャン速度が120mm/s、送りピッチが1.0μm、露光出力(対物レンズから出射後の紫外線出力)が1.5mW
解像度テストチャートの形状:10μm/20μm/30μm/40μm/50μmのそれぞれの幅を有する、凹状であって直線状の溝
現像方式:現像液がエタノールで、5分間のディップ式(図4のみ、超音波を20分間照射しながら現像された。)
保護層(ポリカーボネートのハードコート層):有り(現像処理前にこれを剥離)
未硬化部12bの除去のための高圧エアブロー:図4のみ有り
本発明に係る実施形態は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態が実現される。
12…パターン用フィルム
12a…硬化部
12b…未硬化部
12’…現像用フィルム
12"…膨潤化部
Claims (5)
- 第1のフィルムを基材上にラミネートし、
前記第1のフィルムにパターンの潜像を行うために、前記基材上の前記第1のフィルムの表面の位置に応じて選択的に前記エネルギー線を照射し、
前記第1のフィルムの前記表面に第2のフィルムをラミネートし、
前記第2のフィルムに現像液を供給し、前記第1のフィルムの、選択的な除去の対象となる除去対象部を前記第2のフィルムとともに除去することで、前記パターンを現像する
構造体の製造方法。 - 請求項1に記載の構造体の製造方法であって、
前記第1のフィルムを前記基材上にラミネートする工程を、複数の前記第1のフィルムを用いてその1層ごとに繰り返し、
少なくとも最後にラミネートされた前記第1のフィルムへの前記エネルギー線の照射後、前記複数の第1のフィルムを対象に一括して前記現像工程が行われる
構造体の製造方法。 - 請求項1または2に記載の構造体の製造方法であって、
前記第1のフィルムと前記第2のフィルムとは同じ材料でなる
構造体の製造方法。 - 請求項1から3のうちいずれか1項に記載の構造体の製造方法であって、
前記第2のフィルムをラミネートした工程の後、前記現像工程の前に、前記基材上の前記第1のフィルム及び前記第2のフィルムに加圧脱泡を施す工程をさらに具備する構造体の製造方法。 - 第1のフィルムを基材上にラミネートし、
前記第1のフィルムにパターンの潜像を行うために、前記基材上の前記第1のフィルムの表面の位置に応じて選択的に前記エネルギー線を照射し、
前記第1のフィルムの前記表面に第2のフィルムをラミネートし、
前記第2のフィルムに現像液を供給し、前記第1のフィルムの、選択的な除去の対象となる除去対象部を前記第2のフィルムとともに除去することで、前記パターンを現像する
製造方法により製造された構造体。
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