JP2012032630A - Optical filter - Google Patents

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Akihiro Kosaka
明宏 高坂
Toshihiro Masaoka
俊裕 政岡
Keisuke Takuma
啓輔 詫摩
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical filter having excellent optical characteristics (for instance, absorption characteristics of light and narrow half-value width) and durability.SOLUTION: In the optical filter containing at least one kind of a neodymium complex of a calixarene derivative, the neodymium complex of the calixarene derivative is at least one kind of compound selected from the following general formula (1) and general formula (2).

Description

本発明は光学フィルタに関する。さらに詳しくは、カリックスアレーン誘導体のネオジム錯体を少なくとも1種含有してなる光学フィルタに関する。さらには、該化合物を含有してなるプラズマディスプレイパネル(PDP)、液晶ディスプレイ(LCD)などのディスプレイ用フィルタ、及び眼鏡レンズ用フィルタに関する。   The present invention relates to an optical filter. More specifically, the present invention relates to an optical filter containing at least one neodymium complex of calixarene derivative. Further, the present invention relates to a display filter such as a plasma display panel (PDP) and a liquid crystal display (LCD) containing the compound, and a spectacle lens filter.

近年、社会の高度情報化に伴った光エレクトロニクス関連用途をはじめ、さまざまな分野において、各種の機能材料の開発が盛んに行われている。例えば、有機材料としては、シアニン系色素、ポリメチン系色素、スクアリリウム系色素、テトラアザポルフィリン系色素、金属ジチオール錯体系色素、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素または無機酸化物粒子などが使用されており、中でも特定の置換基を有するテトラアザポルフィリン化合物は波長570〜605nmの範囲に吸収極大を持つことから、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機電界発光素子などの各種ディスプレイ用フィルタに多用されている(特許文献1〜4)。   In recent years, various functional materials have been actively developed in various fields such as optoelectronics-related applications accompanying the advancement of information technology in society. For example, as the organic material, cyanine dyes, polymethine dyes, squarylium dyes, tetraazaporphyrin dyes, metal dithiol complex dyes, phthalocyanine dyes, diimonium dyes or inorganic oxide particles are used. Among them, tetraazaporphyrin compounds having specific substituents have absorption maximums in the wavelength range of 570 to 605 nm, and are therefore widely used in various display filters such as liquid crystal displays, plasma displays, and organic electroluminescent elements (Patent Documents). 1-4).

一方、眼鏡レンズでは、可視光に対する眩しさと関連した不快感やコントラストの不鮮明感、更には視覚疲労などを軽減することが求められ、対処法のひとつとして、レンズ材料に希土類金属化合物として、ネオジム化合物を配合させる方法が多用されている(特許文献5)。
一般に、特定波長を選択的に吸収する化合物を、例えば、プラズマディスプレイ用、液晶ディスプレイ用のディスプレイ用フィルタに適用する場合には、該化合物を高分子フィルムの中に含有させたり、高分子フィルムの片面または両面に塗布したりする方法が適用される。また、複数の高分子フィルムを張り合わせる際に使用する粘着層の中に、特定波長を選択的に吸収する化合物を含有させる方法が適用される。このようなディスプレイ用フィルタの作製時には、特定波長を選択的に吸収する化合物自体に、例えば、有機溶媒に対する溶解度などの特性が必要となる。また、ディスプレイ用フィルタを実際のディスプレイに装着して使用する場合には、耐久性(例えば、耐光性、耐湿熱性)が必要となる。そのような要求から、特定波長を選択的に吸収する化合物にも、化合物自体の耐久性が要望されている。
又、眼鏡レンズ用フィルタに適用する場合には、視認性に必要な波長帯では大きな透過率を有し、又、眩しさに悪影響を与える波長帯では、その波長光の光を吸収する防眩性と視認性を兼備する必要がある。その為、該化合物は、吸収波長帯における吸光スペクトルのピークが極めてシャープな特性が必要となる。
On the other hand, eyeglass lenses are required to reduce discomfort associated with glare for visible light, blurring of contrast, and visual fatigue. As one of the countermeasures, as a rare earth metal compound as a lens material, neodymium compound A method of blending is frequently used (Patent Document 5).
In general, when a compound that selectively absorbs a specific wavelength is applied to, for example, a display filter for a plasma display or a liquid crystal display, the compound is contained in the polymer film, A method of applying to one side or both sides is applied. In addition, a method in which a compound that selectively absorbs a specific wavelength is contained in an adhesive layer used when laminating a plurality of polymer films. When producing such a filter for display, the compound itself that selectively absorbs a specific wavelength needs characteristics such as solubility in an organic solvent. In addition, when the display filter is used by being mounted on an actual display, durability (for example, light resistance and wet heat resistance) is required. From such a demand, the durability of the compound itself is also demanded for a compound that selectively absorbs a specific wavelength.
In addition, when applied to a spectacle lens filter, it has a high transmittance in a wavelength band necessary for visibility, and in a wavelength band that adversely affects glare, it absorbs light of that wavelength. It is necessary to have both visibility and visibility. Therefore, the compound needs to have a characteristic that the peak of the absorption spectrum in the absorption wavelength band is extremely sharp.

このような点から、特許文献1〜4に記載されている特定構造の化合物は、ディスプレイ用フィルタ用途に求められている特性、例えば、有機溶媒に対する溶解性、耐久性(耐光性)に関しては、一定の特性を有しているものの、現在では、さらなる耐久性(例えば、耐湿熱性)及びさらなる光学特性(半値幅が狭い)の向上が求められている。さらに、特許文献5に記載されているネオジム化合物は、585nm付近に非常にシャープな吸収ピークを有しているものの、フィルタ材料の種類によっては溶解性に問題点を有している。
カリックスアレーン化合物は、フェノールとホルムアルデヒドが環状に縮合してできた円錐状の構造をとる分子であり、種々の化合物を包接することが知られており(非特許文献1)、金属イオンと結合するフェノール性水酸基と,疎水性ゲストを取り込む空洞をつくる芳香環を有していることから、様々な試みが数多く提案されている。例えば、水酸基にホスフィンオキシドを導入することで、アルカリまたはアルカリ土類金属イオンを抽出することが提案されている(特許文献6)。しかし、現在までに、カリックスアレーン化合物を光学フィルタへ応用することに関しては報告されていない。
From such points, the compounds having a specific structure described in Patent Documents 1 to 4 have characteristics required for display filter applications, such as solubility in organic solvents and durability (light resistance). Although it has certain characteristics, at present, further durability (for example, resistance to moist heat) and further optical characteristics (narrow width at half maximum) are demanded. Furthermore, although the neodymium compound described in Patent Document 5 has a very sharp absorption peak near 585 nm, it has a problem in solubility depending on the type of filter material.
A calixarene compound is a molecule having a conical structure formed by cyclic condensation of phenol and formaldehyde, and is known to include various compounds (Non-Patent Document 1) and binds to a metal ion. Many attempts have been made because it has a phenolic hydroxyl group and an aromatic ring that creates a cavity for taking in hydrophobic guests. For example, it has been proposed to extract alkali or alkaline earth metal ions by introducing phosphine oxide into a hydroxyl group (Patent Document 6). However, until now, there has been no report regarding the application of calixarene compounds to optical filters.

特開2002−251144号公報JP 2002-251144 A 特開2002−40233号公報JP 2002-40233 A 特開2000−275432号公報JP 2000-275432 A 特開2008−268331号公報JP 2008-268331 A 特開2000−75128号公報JP 2000-75128 A 特表2002−540064号公報Special Table 2002-540064

Royal Society of Chemistry,Cambridge,1989Royal Society of Chemistry, Cambridge, 1989

本発明の課題は、光学フィルタを提供することである。さらに詳しくは、カリックスアレーン誘導体のネオジム錯体を含有してなる優れた光学特性(例えば、光に対する吸収特性、半値幅が狭い)、および耐久性(例えば、耐湿熱性)に優れた光学フィルタを提供することである。
An object of the present invention is to provide an optical filter. More specifically, the present invention provides an optical filter excellent in optical characteristics (for example, light absorption characteristics, narrow half-value width) and durability (for example, moisture and heat resistance), comprising a neodymium complex of calixarene derivative. That is.

本発明者等は、光学フィルタに関し、鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、
(i)カリックスアレーン誘導体のネオジム錯体を少なくとも1種含有してなる光学フィルタに関し、
(ii)カリックスアレーン誘導体のネオジム錯体が、下記の一般式(1)及び一般式(2)から選ばれた少なくとも1種の化合物である上記の(i)の光学フィルタに関する。
〔式中、R1は直鎖または分岐のアルキル基を表し、R2は直鎖または分岐のアルキル基あるいは直鎖または分岐のハロゲノアルキル基を表し、Xはハロゲン原子あるいは直鎖または分岐のアルコキシキ基を表す〕
As a result of earnest studies on the optical filter, the present inventors have completed the present invention. That is, the present invention
(I) An optical filter comprising at least one neodymium complex of calixarene derivative,
(Ii) The optical filter of (i) above, wherein the neodymium complex of the calixarene derivative is at least one compound selected from the following general formula (1) and general formula (2).
[Wherein R 1 represents a linear or branched alkyl group, R 2 represents a linear or branched alkyl group or a linear or branched halogenoalkyl group, and X represents a halogen atom or a linear or branched alkoxy group. Represents)

〔式中、R3は直鎖または分岐のアルキル基を表し、R4は含窒素芳香族複素環基を表し、Yはアニオンを表し、nは1または2の整数を表す〕
さらに、
(iii)一般式(1)中のR1又は一般式(2)中のR3がtert−ブチル基である
上記(ii)の光学フィルタ、
(iv)上記(i)〜(iii)のいずれかの光学フィルタを用いてなるディスプレイ、及び
(v)上記(i)〜(iii)のいずれかの光学フィルタを用いてなる眼鏡レンズに関するものである。
[Wherein R3 represents a linear or branched alkyl group, R4 represents a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group, Y represents an anion, and n represents an integer of 1 or 2]
further,
(Iii) R1 in the general formula (1) or R3 in the general formula (2) is a tert-butyl group,
(Iv) a display using any one of the optical filters (i) to (iii), and (v) a spectacle lens using any one of the optical filters (i) to (iii). is there.

本発明により、新規なカリックスアレーン誘導体のネオジム錯体を含有してなる優れた光学特性と耐久性を有する光学フィルタを提供することが可能となった。
According to the present invention, it has become possible to provide an optical filter having excellent optical properties and durability, comprising a novel calixarene derivative neodymium complex.

本発明の光学フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the optical filter of this invention. 本発明の光学フィルタの模式的断面図である。It is typical sectional drawing of the optical filter of this invention.

以下、本発明に関し詳細に説明する。
<本発明のカリックスアレーン誘導体のネオジム錯体>
本発明は、カリックスアレーンを構成する置換基を有するフェノール性水酸基に、ネオジムを導入したカリックスアレーン誘導体のネオジム錯体(以下、本発明に係る化合物Aと略記する)を少なくとも1種含有してなるディスプレイ用フィルタ、さらには、該フィルタを具備してなるディスプレイ装置、及び該化合物を少なくとも1種含有してなる眼鏡用フィルタに関するものである。
本発明に係る化合物Aは、カリックスアレーンを構成する芳香環に、置換基として、例えば、アルキル基あるいはハロゲノアルキル基を有し、さらに、フェノール性水酸基がネオジムと結合した化合物であり、優れた光学特性(例えば、光に対する吸収特性、半値幅が狭い)、および優れた耐久性を有するものである。また、係る特性を有するカリックスアレーン誘導体のネオジム錯体を含有してなる光学フィルタは、優れた光学特性、優れた耐久性を有するものである。
尚、本発明に係る化合物Aとしては、好ましくは、一般式(1)〜一般式(2)から選ばれる少なくとも1種で表される化合物である。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
<Neodymium complex of calixarene derivative of the present invention>
The present invention relates to a display comprising at least one neodymium complex of a calixarene derivative in which neodymium is introduced into a phenolic hydroxyl group having a substituent constituting calixarene (hereinafter abbreviated as compound A according to the present invention). The present invention also relates to a filter for eyeglasses, a display device comprising the filter, and a filter for glasses comprising at least one of the compounds.
The compound A according to the present invention is a compound in which an aromatic ring constituting a calixarene has, for example, an alkyl group or a halogenoalkyl group as a substituent, and a phenolic hydroxyl group is bonded to neodymium, and has excellent optical properties. It has characteristics (for example, light absorption characteristics, narrow half width), and excellent durability. An optical filter containing a neodymium complex of calixarene derivative having such characteristics has excellent optical characteristics and excellent durability.
The compound A according to the present invention is preferably a compound represented by at least one selected from the general formula (1) to the general formula (2).

〔式中、R1は直鎖または分岐のアルキル基を表し、R2は直鎖または分岐のアルキル基あるいは直鎖または分岐のハロゲノアルキル基を表し、Xはハロゲン原子あるいは直鎖または分岐のアルコキシキ基を表す〕
〔式中、R3は直鎖または分岐のアルキル基を表し、R4は含窒素芳香族複素環基を表し、Yはアニオンを表し、nは1または2の整数を表す〕
[Wherein R 1 represents a linear or branched alkyl group, R 2 represents a linear or branched alkyl group or a linear or branched halogenoalkyl group, and X represents a halogen atom or a linear or branched alkoxy group. Represents)
[Wherein R3 represents a linear or branched alkyl group, R4 represents a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group, Y represents an anion, and n represents an integer of 1 or 2]

<一般式(1)の化合物>
一般式(1)で表される化合物において、好ましくは、R1は炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基を表す。
なお、一般式(1)で表される式においてR1は、カリックスアレーンを構成するフェノール性水酸基に対して、ベンゼン環のメタ位もしくはパラ位の炭素原子に置換していることを表し、より好ましくは、パラ位の炭素原子に置換していることである。
一般式(1)における、R1の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、1,2−ジメチルプロピル基、1−メチルブチル基、2−メチルブチル基、n−ヘキシル基、1−メチルペンチル基、2−メチルペンチル基、4−メチルペンチル基、4−メチル−2−ペンチル基、1,2−ジメチルブチル基、2,3−ジメチルブチル基、3,3−ジメチルブチル基、1−エチルブチル基、2−エチルブチル基、n−ヘプチル基、1−メチルヘキシル基、3−メチルヘキシル基、5−メチルヘキシル基、2,4−ジメチルペンチル基、シクロヘキシルメチル基、n−オクチル基、tert−オクチル基、1−メチルヘプチル基、2−エチルヘキシル基、2−プロピルペンチル基、2,5−ジメチルヘキシル基、2,5,5−トリメチルヘキシル基、n−ノニル基、2,2−ジメチルヘプチル基、2,6−ジメチル−4−ヘプチル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、n−デシル基、4−エチルオクチル基、n−ウンデシル基、1−メチルデシル基、n−ドデシル基、1,3,5,7−テトラメチルオクチル基などの直鎖または分岐のアルキル基を挙げることができる。
一般式(1)で表される化合物において、より好ましくは、R1は、炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基を表し、さらに好ましくは、炭素数1〜4の直鎖または分岐のアルキル基を表し、特に好ましくは、tert−ブチル基である。
一般式(1)で表される化合物において、好ましくは、R2は炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜12の直鎖または分岐のハロゲノアルキル基を表す。
一般式(1)における、R2の具体例として、R1でアルキル基の具体例として示した、炭素原子数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基、フルオロメチル基、3−フルオロプロピル基、6−フルオロヘキシル基、8−フルオロオクチル基、トリフルオロメチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロエチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−プロピル基、1,1,3−トリヒドロ−パーフルオロ−n−プロピル基、2−ヒドロ−パーフルオロ−2−プロピル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ブチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ペンチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ヘキシル基、6−フルオロヘキシル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−オクチル基、1,1−ジヒドロ−パーフルオロ−n−ドデシル基、パーフルオロ−n−ヘキシル基、2,2−ビス(トリフルオロメチル)プロピル基、ジクロロメチル基、2−クロロエチル基、3−クロロプロピル基、4−クロロシクロヘキシル基、7−クロロヘプチル基、8−クロロオクチル基、2,2,2−トリクロロエチル基などの直鎖または分岐のハロゲノアルキル基を挙げることができる。
<Compound of general formula (1)>
In the compound represented by the general formula (1), R1 preferably represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
In the formula represented by the general formula (1), R1 represents that the phenolic hydroxyl group constituting the calixarene is substituted with a carbon atom at the meta or para position of the benzene ring, and more preferably. Is a substitution at a carbon atom in the para position.
Specific examples of R1 in the general formula (1) include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n- Pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, 1-methylbutyl group, 2-methylbutyl group, n-hexyl group, 1-methylpentyl group, 2-methylpentyl group, 4 -Methylpentyl group, 4-methyl-2-pentyl group, 1,2-dimethylbutyl group, 2,3-dimethylbutyl group, 3,3-dimethylbutyl group, 1-ethylbutyl group, 2-ethylbutyl group, n- Heptyl group, 1-methylhexyl group, 3-methylhexyl group, 5-methylhexyl group, 2,4-dimethylpentyl group, cyclohexylmethyl N-octyl group, tert-octyl group, 1-methylheptyl group, 2-ethylhexyl group, 2-propylpentyl group, 2,5-dimethylhexyl group, 2,5,5-trimethylhexyl group, n-nonyl group 2,2-dimethylheptyl group, 2,6-dimethyl-4-heptyl group, 3,5,5-trimethylhexyl group, n-decyl group, 4-ethyloctyl group, n-undecyl group, 1-methyldecyl group And linear or branched alkyl groups such as n-dodecyl group and 1,3,5,7-tetramethyloctyl group.
In the compound represented by the general formula (1), more preferably, R1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Represents an alkyl group, particularly preferably a tert-butyl group.
In the compound represented by the general formula (1), R2 preferably represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a linear or branched halogenoalkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
As specific examples of R2 in the general formula (1), linear or branched alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms, fluoromethyl groups, 3-fluoropropyl groups, 6 -Fluorohexyl group, 8-fluorooctyl group, trifluoromethyl group, 1,1-dihydro-perfluoroethyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-propyl group, 1,1,3-trihydro-per Fluoro-n-propyl group, 2-hydro-perfluoro-2-propyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-butyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-pentyl group, 1,1 -Dihydro-perfluoro-n-hexyl group, 6-fluorohexyl group, 1,1-dihydro-perfluoro-n-octyl group, 1,1-dihydro-perfluoro -N-dodecyl group, perfluoro-n-hexyl group, 2,2-bis (trifluoromethyl) propyl group, dichloromethyl group, 2-chloroethyl group, 3-chloropropyl group, 4-chlorocyclohexyl group, 7- Examples thereof include linear or branched halogenoalkyl groups such as chloroheptyl group, 8-chlorooctyl group, and 2,2,2-trichloroethyl group.

一般式(1)で表される化合物において、より好ましくは、R2は、炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜8の直鎖または分岐のハロゲノアルキル基を表す。
一般式(1)で表される化合物において、さらに好ましくは、R1は、炭素数1〜4の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数1〜4の直鎖または分岐のハロゲノアルキル基を表す。
一般式(1)で表される化合物において、Xはハロゲン原子、炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。
一般式(1)における、Xの具体例として、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、
例えば、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、n−ヘキシルオキシ基、3,3−ジメチルブチルオキシ基、2−エチルブチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、n−ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基、n−ウンデシルオキシ基、n−ドデシルオキシ基などの直鎖または分岐のアルコキシ基を挙げることができる。
In the compound represented by the general formula (1), more preferably, R2 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or a linear or branched halogenoalkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
In the compound represented by the general formula (1), more preferably, R1 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a linear or branched halogenoalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
In the compound represented by the general formula (1), X represents a halogen atom or a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
Specific examples of X in the general formula (1) include, for example, a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom,
For example, methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, n-pentyloxy group, neopentyloxy group, cyclopentyloxy group, n-hexyloxy group 3,3-dimethylbutyloxy group, 2-ethylbutyloxy group, cyclohexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, n Examples thereof include linear or branched alkoxy groups such as -undecyloxy group and n-dodecyloxy group.

一般式(1)で表される化合物において、より好ましくは、Xは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルコキシ基を表し、さらに好ましくは、フッ素原子、塩素原子、炭素数1〜4の直鎖または分岐のアルコキシ基を表す。
本発明に係る一般式(1)で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
In the compound represented by the general formula (1), more preferably, X represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a linear or branched alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably. , A fluorine atom, a chlorine atom, a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
Specific examples of the compound represented by the general formula (1) according to the present invention include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.







<一般式(1)の化合物の製造法>
本発明に係る一般式(1)で表される化合物は、種々の有機化学的手法で製造することが可能である。
<Method for producing compound of general formula (1)>
The compound represented by the general formula (1) according to the present invention can be produced by various organic chemical methods.

例えば、まず、一般式(3)で表される環状4量体のカリックス[4]アレーン〔例えば、J.Am.Chem.Soc.,103,3782(1981)に従って製造することができる〕と、一般式(5)で表される脱離基を有するアルキル化合物もしくはハロゲノアルキル化合物を、塩基の存在下、好ましくは溶媒を用いて一般式(4)で表される前駆体化合物を製造する〔例えば、Tetrahedron Letters,30,2681(1989)に記載の方法に従って製造することができる〕。
〔一般式(3)〜一般式(5)中、R1およびR2は一般式(1)の場合と同じ意味を表し、Zは、脱離基を表す〕
尚、一般式(5)で表される化合物において、Zは脱離基を表し、好ましくは、ハロゲン原子またはp−トルエンスルホニル基を表す。Zで表される好ましい脱離基であるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表し、より好ましくは、臭素原子、またはヨウ素原子である。
一般式(5)で表される化合物の使用量は特に制限されるものではなく、一般式(3)で表される環状4量体のカリックス[4]アレーンに対して、一般に、2.0〜7.0モル程度使用することが好ましく、3.0〜6.0モル程度使用することがより好ましい。
係る溶媒としては、本反応を阻害しないものであれば特に限定されず、例えばベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、1,3-ジメチル−2−イミダゾリジノン等のアミド類、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ピリジン等を挙げることができる。
これらの溶媒は反応の起こりやすさにしたがって適宜選択され、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。なお、必要に応じて適当な脱水剤や乾燥剤により水分を除去し、非水溶媒として用いてもよい。
溶媒を用いる場合、一般に、溶媒の量が多くなると反応の効率が低下し、反対に少なくなると、均一に加熱・撹拌するのが困難になったり、副反応が起り易くなる。したがって、溶媒の量を重量比で中間体化合物全体の100倍まで、好ましくは5〜50倍にするのが望ましい。
For example, first, a calix [4] arene of a cyclic tetramer represented by the general formula (3) (for example, it can be produced according to J. Am. Chem. Soc., 103, 3782 (1981)), A precursor compound represented by the general formula (4) is produced using an alkyl compound or halogenoalkyl compound having a leaving group represented by the general formula (5) in the presence of a base, preferably using a solvent [for example, And can be produced according to the method described in Tetrahedron Letters, 30, 2681 (1989)].
[In General Formula (3) to General Formula (5), R1 and R2 have the same meaning as in General Formula (1), and Z represents a leaving group.]
In the compound represented by the general formula (5), Z represents a leaving group, preferably a halogen atom or a p-toluenesulfonyl group. The halogen atom which is a preferable leaving group represented by Z represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and more preferably a bromine atom or an iodine atom.
The amount of the compound represented by the general formula (5) is not particularly limited, and is generally 2.0 with respect to the calix [4] arene of the cyclic tetramer represented by the general formula (3). It is preferable to use about -7.0 mol, and it is more preferable to use about 3.0-6.0 mol.
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit this reaction. For example, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, chloroform, dichloromethane, etc. Halogenated hydrocarbons, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, ethers such as 1,2-dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, Examples thereof include amides such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, acetonitrile, dimethyl sulfoxide, pyridine and the like.
These solvents are appropriately selected according to the ease of reaction, and can be used singly or in combination of two or more. If necessary, water may be removed with a suitable dehydrating agent or desiccant and used as a non-aqueous solvent.
In the case of using a solvent, generally, when the amount of the solvent increases, the efficiency of the reaction decreases. On the other hand, when the amount of the solvent decreases, it becomes difficult to uniformly heat and stir or a side reaction tends to occur. Therefore, it is desirable that the amount of the solvent is up to 100 times, preferably 5 to 50 times that of the whole intermediate compound by weight ratio.

係る塩基としては、例えば水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、ピリジン、トリエチルアミン等の有機塩基類等を挙げることができる。
塩基の使用量は一般式(5)で表される化合物に対して、0.5〜10.0倍モルの範囲で適宜選択すれば良い。
反応温度は、0〜200℃の範囲で適宜選択すれば良いが、好ましくは室温〜溶媒還流温度の範囲である。
反応時間は、反応スケール、反応温度により一定しないが、1〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。
反応終了後、水に溶解する溶媒を用いた場合は、水中に反応溶液を排出して析出物を濾別してメタノールで洗浄する。水に不溶の溶媒を用いた場合は、減圧下溶媒を留去し、水を加えて析出物を濾別してメタノールで洗浄する。必要に応じて析出物を、再結晶等の方法で精製することができる。
Examples of the base include alkali metal hydrides such as sodium hydride, alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkalis such as sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate and cesium carbonate. Examples thereof include organic bases such as metal carbonates, pyridine, and triethylamine.
What is necessary is just to select the usage-amount of a base suitably in the range of 0.5-10.0 times mole with respect to the compound represented by General formula (5).
The reaction temperature may be appropriately selected in the range of 0 to 200 ° C., but is preferably in the range of room temperature to solvent reflux temperature.
The reaction time is not constant depending on the reaction scale and reaction temperature, but may be appropriately selected within the range of 1 to 48 hours.
When a solvent that dissolves in water is used after completion of the reaction, the reaction solution is discharged into water, and the precipitate is filtered off and washed with methanol. When a solvent insoluble in water is used, the solvent is distilled off under reduced pressure, water is added, the precipitate is filtered off and washed with methanol. If necessary, the precipitate can be purified by a method such as recrystallization.

次に、一般式(4)で表される化合物と、一般式(6)で表されるネオジム化合物を、塩基の存在下、好ましくは溶媒を用いて包摂させることにより、本発明に係る一般式(1)で表される化合物を製造することができる。
〔一般式(4)および一般式(6)中、R1、R2およびXは一般式(1)の場合と同じ意味を表す〕

包摂反応に係る溶媒としては、本反応を阻害しないものであれば特に限定されず、例えば、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルム、1,2−ジクロロエタン、1,2−ジブロモエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、α−ジクロロベンゼンなどのハロゲン化物、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブチルアルコール、イソペンチルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、フェノール、ベンジルアルコール、クレゾール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリンなどのアルコール類およびフェノール類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、1,4−ジオキサン、アニソール、1,2−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジシクロヘキシル−18−クラウン−6、メチルカルビトール、エチルカルビトールなどのエーテル類、アセトニトリル、プロピオニトリル、スクシノニトリル、ベンゾニトリルなどのニトリル類、ニトロメタン、ニトロベンゼンなどのニトロ化合物、ジメチルスルホキシド、スルホランなどの含硫化合物を挙げることができる。
Next, by incorporating the compound represented by the general formula (4) and the neodymium compound represented by the general formula (6) in the presence of a base, preferably using a solvent, the general formula according to the present invention. The compound represented by (1) can be produced.
[In General Formula (4) and General Formula (6), R 1, R 2 and X represent the same meaning as in General Formula (1)]

The solvent for the inclusion reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit this reaction. For example, hydrocarbons such as pentane, hexane, cyclohexane, octane, benzene, toluene, xylene, carbon tetrachloride, chloroform, 1 , 2-dichloroethane, 1,2-dibromoethane, trichloroethylene, tetrachloroethylene, chlorobenzene, bromobenzene, α-dichlorobenzene and other halides, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, Isobutyl alcohol, isopentyl alcohol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, phenol, benzyl alcohol, cresol, diethylene glycol Alcohols and phenols such as coal, triethylene glycol, glycerin, diethyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,4-dioxane, anisole, 1,2-dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether, dicyclohexyl-18-crown 6. Examples include ethers such as methyl carbitol and ethyl carbitol, nitriles such as acetonitrile, propionitrile, succinonitrile, and benzonitrile, nitro compounds such as nitromethane and nitrobenzene, and sulfur-containing compounds such as dimethyl sulfoxide and sulfolane. be able to.

これらの溶媒は反応の起こりやすさに従って適宜選択され、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。なお、必要に応じて適当な脱水剤や乾燥剤により水分を除去し、非水溶媒として用いてもよい。
溶媒を用いる場合、一般に、溶媒の量が多くなると反応の効率が低下し、反対に少なくなると、均一に加熱・撹拌するのが困難になったり、副反応が起り易くなる。したがって、溶媒の量を重量比で、一般式(4)で表される化合物全体の100倍まで、好ましくは5〜50倍にするのが望ましい。
係る塩基としては、例えばナトリウム、カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア、トリエチルアミン、ピペリジン、ピリジン、ピロリジン、アニリン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン等を挙げることができる。
塩基の使用量は、一般式(4)で表される化合物に対して1〜10倍モルの範囲で適宜選択すれば良い。
反応温度は0〜200℃の範囲で適宜選択すれば良いが、好ましくは室温〜溶媒還流温度の範囲である。
反応時間は反応スケール、反応温度により一定しないが、1〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。
反応終了後、水に溶解する溶媒を用いた場合は、水中に反応溶液を排出して析出物を濾別して水で洗浄する。水に不溶の溶媒を用いた場合は、減圧下溶媒を留去し、水を加えて析出物を濾別して水で洗浄する。必要に応じて析出物を、再結晶等の方法で精製することができる。
These solvents are appropriately selected according to the ease of reaction, and can be used singly or in combination of two or more. If necessary, water may be removed with a suitable dehydrating agent or desiccant and used as a non-aqueous solvent.
In the case of using a solvent, generally, when the amount of the solvent increases, the efficiency of the reaction decreases. On the other hand, when the amount of the solvent decreases, it becomes difficult to uniformly heat and stir or a side reaction tends to occur. Therefore, it is desirable that the amount of the solvent is up to 100 times, preferably 5 to 50 times that of the whole compound represented by the general formula (4) by weight.
Examples of the base include sodium, potassium, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, ammonia, triethylamine, piperidine, pyridine, pyrrolidine, aniline, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline and the like can be mentioned.
What is necessary is just to select the usage-amount of a base suitably in the range of 1-10 times mole with respect to the compound represented by General formula (4).
The reaction temperature may be appropriately selected in the range of 0 to 200 ° C., but is preferably in the range of room temperature to solvent reflux temperature.
The reaction time is not constant depending on the reaction scale and reaction temperature, but may be appropriately selected within the range of 1 to 48 hours.
When a solvent that dissolves in water is used after completion of the reaction, the reaction solution is discharged into water, and the precipitate is filtered off and washed with water. When a solvent insoluble in water is used, the solvent is distilled off under reduced pressure, water is added, the precipitate is filtered off and washed with water. If necessary, the precipitate can be purified by a method such as recrystallization.

<一般式(2)の化合物>
一般式(2)で表される化合物において、好ましくは、R3は炭素数1〜12の直鎖または分岐のアルキル基を表す。
なお、一般式(2)で表される式においてR3は、カリックスアレーンを構成するフェノール性水酸基に対して、ベンゼン環のメタ位もしくはパラ位の炭素原子に置換していることを表し、より好ましくは、パラ位の炭素原子に置換していることである。
一般式(2)における、R3の具体例としては、例えば、一般式(1)で表される化合物におけるR1で例示した直鎖または分岐のアルキル基を例示することができる。
一般式(2)で表される化合物において、より好ましくは、R3は、炭素数1〜8の直鎖または分岐のアルキル基を表し、さらに好ましくは、炭素数1〜4の直鎖または分岐のアルキル基を表し、特に好ましくは、tert−ブチル基である。
一般式(2)で表される化合物において、好ましくは、R4は無置換の含窒素芳香族複素環基を表す。
一般式(2)における、R4の具体例としては、8−キノリニル基、7−キノリニル基、5−キノリニル基、4-キノリニル基、3-キノリニル基、2-キノリニル基、8−イソキノリニル基、7-イソキノリニル基、5-イソキノリニル基、4-イソキノリニル基、4-ピリジニル基、3-ピリジニル基、2-ピリジニルを挙げることができる。
一般式(2)で表される化合物において、より好ましくは、R4は、8−キノリニル基、7−キノリニル基、8−イソキノリニル基、7-イソキノリニル基、4-ピリジニル基、2-ピリジニルを表す。
<Compound of general formula (2)>
In the compound represented by the general formula (2), R3 preferably represents a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
In the formula represented by the general formula (2), R3 represents that the phenolic hydroxyl group constituting the calixarene is substituted with a carbon atom at the meta or para position of the benzene ring, and more preferably. Is a substitution at a carbon atom in the para position.
Specific examples of R3 in the general formula (2) include the linear or branched alkyl groups exemplified for R1 in the compound represented by the general formula (1).
In the compound represented by the general formula (2), more preferably, R3 represents a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and more preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Represents an alkyl group, particularly preferably a tert-butyl group.
In the compound represented by the general formula (2), R4 preferably represents an unsubstituted nitrogen-containing aromatic heterocyclic group.
Specific examples of R4 in the general formula (2) include 8-quinolinyl group, 7-quinolinyl group, 5-quinolinyl group, 4-quinolinyl group, 3-quinolinyl group, 2-quinolinyl group, 8-isoquinolinyl group, 7 -Isoquinolinyl group, 5-isoquinolinyl group, 4-isoquinolinyl group, 4-pyridinyl group, 3-pyridinyl group, 2-pyridinyl can be mentioned.
In the compound represented by the general formula (2), more preferably, R4 represents an 8-quinolinyl group, a 7-quinolinyl group, an 8-isoquinolinyl group, a 7-isoquinolinyl group, a 4-pyridinyl group, or 2-pyridinyl.

一般式(2)で表される化合物においてYはアニオンを表し、有機酸アニオン、又は無機アニオンである。
Yで表される有機酸アニオンとしては、例えば、有機カルボン酸イオンとしては、酢酸イオン、乳酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、プロピオン酸イオン、安息香酸イオン、シュウ酸イオン、コハク酸イオン、及びステアリン酸イオン。有機スルホン酸イオンとしては、メタンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、ナフタレンモノスルホン酸イオン、ナフタレンジスルホン酸イオン、クロロベンゼンスルホン酸イオン、ニトロベンゼンスルホン酸イオン、ドデシルベンゼンスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、エタンスルホン酸イオン、及びトリフルオロメタンスルホン酸イオン。有機ホウ酸イオンとしては、テトラフェニルホウ酸イオン、ブチルトリフェニルホウ酸イオン等が挙げられる。
Yで表される無機アニオンとしては、例えば、ハロゲンイオンとしては、フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、及びヨウ素イオン。さらに、チオシアン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、硝酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、モリブデン酸イオン、タングステン酸イオン、チタン酸イオン、バナジン酸イオン、リン酸イオン及びホウ酸イオン等が挙げられる。
一般式(2)で表される化合物において、より好ましくは、Yは、過塩素酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンを表す。
In the compound represented by the general formula (2), Y represents an anion, which is an organic acid anion or an inorganic anion.
Examples of the organic acid anion represented by Y include, for example, acetate ion, lactate ion, trifluoroacetate ion, propionate ion, benzoate ion, oxalate ion, succinate ion, and stearic acid. ion. Organic sulfonate ions include methanesulfonate ion, toluenesulfonate ion, naphthalene monosulfonate ion, naphthalene disulfonate ion, chlorobenzenesulfonate ion, nitrobenzenesulfonate ion, dodecylbenzenesulfonate ion, benzenesulfonate ion, ethane Sulfonate ion and trifluoromethanesulfonate ion. Examples of organic borate ions include tetraphenylborate ions and butyltriphenylborate ions.
Examples of the inorganic anion represented by Y include a fluorine ion, a chlorine ion, a bromine ion, and an iodine ion as a halogen ion. Furthermore, thiocyanate ion, hexafluoroantimonate ion, perchlorate ion, periodate ion, nitrate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, molybdate ion, tungstate ion, titanate ion, vanadine An acid ion, a phosphate ion, a borate ion, etc. are mentioned.
In the compound represented by the general formula (2), more preferably, Y is perchlorate ion, toluenesulfonate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, hexafluoroantimonate ion, trifluoromethanesulfone. Represents an acid ion.

一般式(2)で表される化合物において、nは1又は2の整数を表し、好ましくは、nは2である。
本発明に係る一般式(2)で表される化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
In the compound represented by the general formula (2), n represents an integer of 1 or 2, and preferably n is 2.
Specific examples of the compound represented by the general formula (2) according to the present invention include the following compounds, but the present invention is not limited thereto.



<一般式(2)の化合物の製造法>
本発明に係る一般式(2)で表される化合物は、種々の有機化学的手法で製造することが可能である。
例えば、まず、一般式(7)で表される環状4量体のカリックス[4]アレーン〔例えば、J.Am.Chem.Soc.,103,3782(1981)に従って製造することができる〕と、下記一般式(8)で表される脱離基を有する化合物を、塩基の存在下、好ましくは溶媒を用いて一般式(9)で表される前駆体化合物を製造する〔例えば、Chinese Chemical Letters,8,685(1997)に記載の方法に従って製造することができる〕。
〔一般式(7)〜一般式(9)中、R3およびR4は一般式(2)の場合と同じ意味を表し、Zは、脱離基を表す〕
<Method for producing compound of general formula (2)>
The compound represented by the general formula (2) according to the present invention can be produced by various organic chemical methods.
For example, first, the calix [4] arene of the cyclic tetramer represented by the general formula (7) (for example, it can be produced according to J. Am. Chem. Soc., 103, 3782 (1981)), A compound having a leaving group represented by the following general formula (8) is produced in the presence of a base, preferably using a solvent, to produce a precursor compound represented by the general formula (9) [for example, Chinese Chemical Letters , 8, 685 (1997)].
[In General Formula (7) to General Formula (9), R3 and R4 represent the same meaning as in General Formula (2), and Z represents a leaving group.]

尚、一般式(8)で表される化合物において、Zは脱離基を表し、好ましくは、ハロゲン原子またはp−トルエンスルホニル基を表す。Zで表される好ましい脱離基であるハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表し、より好ましくは、臭素原子、またはヨウ素原子である。
一般式(8)で表される化合物の使用量は特に制限されるものではなく、一般式(7)で表される環状4量体のカリックス[4]アレーンに対して、一般に、2.0〜7.0モル程度使用することが好ましく、3.0〜6.0モル程度使用することがより好ましい。
係る溶媒としては、本反応を阻害しないものであれば特に限定されず、例えば、一般式(4)で表される前駆体化合物の製造法で例示した溶媒を例示することができる。
なお、これらの溶媒は反応の起こりやすさにしたがって適宜選択され、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。なお、必要に応じて適当な脱水剤や乾燥剤により水分を除去し、非水溶媒として用いてもよい。
溶媒を用いる場合、一般に、溶媒の量が多くなると反応の効率が低下し、反対に少なくなると、均一に加熱・撹拌するのが困難になったり、副反応が起り易くなる。したがって、溶媒の量を重量比で中間体化合物全体の100倍まで、好ましくは5〜50倍にするのが望ましい。
係る塩基としては、例えば、一般式(4)で表される前駆体化合物の製造法で例示した塩基を例示することができる。
塩基の使用量は一般式(5)で表される化合物に対して、0.5〜10.0倍モルの範囲で適宜選択すれば良い。
反応温度は、0〜200℃の範囲で適宜選択すれば良いが、好ましくは室温〜溶媒還流温度の範囲である。
反応時間は、反応スケール、反応温度により一定しないが、1〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。
反応終了後、水に溶解する溶媒を用いた場合は、水中に反応溶液を排出して析出物を濾別してメタノールで洗浄する。水に不溶の溶媒を用いた場合は、減圧下溶媒を留去し、水を加えて析出物を濾別してメタノールで洗浄する。必要に応じて析出物を、再結晶等の方法で精製することができる。
In the compound represented by the general formula (8), Z represents a leaving group, preferably a halogen atom or a p-toluenesulfonyl group. The halogen atom which is a preferable leaving group represented by Z represents a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom, and more preferably a bromine atom or an iodine atom.
The amount of the compound represented by the general formula (8) is not particularly limited, and is generally 2.0% with respect to the calix [4] arene of the cyclic tetramer represented by the general formula (7). It is preferable to use about -7.0 mol, and it is more preferable to use about 3.0-6.0 mol.
The solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit this reaction, and examples thereof include the solvents exemplified in the method for producing the precursor compound represented by the general formula (4).
These solvents are appropriately selected according to the ease of reaction, and can be used singly or in combination of two or more. If necessary, water may be removed with a suitable dehydrating agent or desiccant and used as a non-aqueous solvent.
In the case of using a solvent, generally, when the amount of the solvent increases, the efficiency of the reaction decreases. On the other hand, when the amount of the solvent decreases, it becomes difficult to uniformly heat and stir or a side reaction tends to occur. Therefore, it is desirable that the amount of the solvent is up to 100 times, preferably 5 to 50 times that of the whole intermediate compound by weight ratio.
As such a base, the base illustrated by the manufacturing method of the precursor compound represented by General formula (4) can be illustrated, for example.
What is necessary is just to select the usage-amount of a base suitably in the range of 0.5-10.0 times mole with respect to the compound represented by General formula (5).
The reaction temperature may be appropriately selected in the range of 0 to 200 ° C., but is preferably in the range of room temperature to solvent reflux temperature.
The reaction time is not constant depending on the reaction scale and reaction temperature, but may be appropriately selected within the range of 1 to 48 hours.
When a solvent that dissolves in water is used after completion of the reaction, the reaction solution is discharged into water, and the precipitate is filtered off and washed with methanol. When a solvent insoluble in water is used, the solvent is distilled off under reduced pressure, water is added, the precipitate is filtered off and washed with methanol. If necessary, the precipitate can be purified by a method such as recrystallization.

次に、一般式(9)で表される化合物と、一般式(10)で表されるネオジム化合物を、塩基の存在下、好ましくは溶媒を用いて包摂させることにより、本発明に係る一般式(2)で表される化合物を製造することができる。
〔一般式(9)〜一般式(10)中、R3、R4及びYは一般式(2)の場合と同じ意味を表す〕
包摂反応に係る溶媒としては、本反応を阻害しないものであれば特に限定されず、例えば、一般式(1)で表される化合物の製造法で例示した溶媒を例示することができる。
これらの溶媒は反応の起こりやすさに従って適宜選択され、1種単独で又は2種以上混合して用いることができる。なお、必要に応じて適当な脱水剤や乾燥剤により水分を除去し、非水溶媒として用いてもよい。
溶媒を用いる場合、一般に、溶媒の量が多くなると反応の効率が低下し、反対に少なくなると、均一に加熱・撹拌するのが困難になったり、副反応が起り易くなる。したがって、溶媒の量を重量比で、一般式(9)で表される化合物全体の100倍まで、好ましくは5〜50倍にするのが望ましい。
係る塩基としては、例えば、一般式(1)で表される化合物の製造法で例示した塩基を挙げることができる。
塩基の使用量は、一般式(9)で表される化合物に対して1〜10倍モルの範囲で適宜選択すれば良い。
反応温度は0〜200℃の範囲で適宜選択すれば良いが、好ましくは室温〜溶媒還流温度の範囲である。
反応時間は反応スケール、反応温度により一定しないが、1〜48時間の範囲で適宜選択すれば良い。
反応終了後、水に溶解する溶媒を用いた場合は、水中に反応溶液を排出して析出物を濾別して水で洗浄する。水に不溶の溶媒を用いた場合は、減圧下溶媒を留去し、水を加えて析出物を濾別して水で洗浄する。必要に応じて析出物を、再結晶等の方法で精製することができる。
Next, by incorporating the compound represented by the general formula (9) and the neodymium compound represented by the general formula (10) in the presence of a base, preferably using a solvent, the general formula according to the present invention. The compound represented by (2) can be produced.
[In General Formula (9) to General Formula (10), R3, R4 and Y represent the same meaning as in General Formula (2)]
The solvent related to the inclusion reaction is not particularly limited as long as it does not inhibit this reaction, and examples thereof include the solvents exemplified in the method for producing the compound represented by the general formula (1).
These solvents are appropriately selected according to the ease of reaction, and can be used singly or in combination of two or more. If necessary, water may be removed with a suitable dehydrating agent or desiccant and used as a non-aqueous solvent.
In the case of using a solvent, generally, when the amount of the solvent increases, the efficiency of the reaction decreases. On the other hand, when the amount of the solvent decreases, it becomes difficult to uniformly heat and stir or a side reaction tends to occur. Therefore, it is desirable that the amount of the solvent is up to 100 times, preferably 5 to 50 times that of the whole compound represented by the general formula (9) by weight.
As such a base, the base illustrated by the manufacturing method of the compound represented by General formula (1) can be mentioned, for example.
What is necessary is just to select the usage-amount of a base suitably in the range of 1-10 times mole with respect to the compound represented by General formula (9).
The reaction temperature may be appropriately selected in the range of 0 to 200 ° C., but is preferably in the range of room temperature to solvent reflux temperature.
The reaction time is not constant depending on the reaction scale and reaction temperature, but may be appropriately selected within the range of 1 to 48 hours.
When a solvent that dissolves in water is used after completion of the reaction, the reaction solution is discharged into water, and the precipitate is filtered off and washed with water. When a solvent insoluble in water is used, the solvent is distilled off under reduced pressure, water is added, the precipitate is filtered off and washed with water. If necessary, the precipitate can be purified by a method such as recrystallization.

本発明に係る化合物Aは、各種の機能性材料用途(例えば、光学フィルタ用途、光記録媒体用途、インク用途、熱転写用途、眼鏡フィルタ用途)に使用することができ、本発明に係る化合物Aは、1種を単独で使用してもよく、あるいは複数併用してもよい。
次に、本発明のカリックスアレーン誘導体のネオジム錯体を少なくとも1種含有してなる光学フィルタについて具体的に説明する。
The compound A according to the present invention can be used for various functional material applications (for example, optical filter applications, optical recording medium applications, ink applications, thermal transfer applications, eyeglass filter applications). One kind may be used alone or a plurality may be used in combination.
Next, an optical filter comprising at least one neodymium complex of the calixarene derivative of the present invention will be specifically described.

<ディスプレイ用フィルタ>
本発明のディスプレイ用フィルタは、例えば、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機電界発光ディスプレイ、FED(Field Emission Display)、CRT(Cathode Ray
Tube)などの各種ディスプレイ用に適用可能なフィルタであり、各種ディスプレイに装着して使用される。尚、液晶ディスプレイにおいては、例えば、透過型、反射型などの各種態様に適用可能である。
本発明のディスプレイ用フィルタは、本発明に係る化合物Aを少なくとも1種含有することによって、ディスプレイ画面の可視光スペクトルを補正する特性を有する調光フィルムとして機能する。
また、本発明のディスプレイ用フィルタは、さらに、面抵抗0.01〜30Ω/□の透明導電層を備えることによって、ディスプレイ画面からの電磁波を遮断する特性を有する電磁波シールド体として機能する。また、本発明のディスプレイ用フィルタは、さらに、波長800〜1100nm程度に吸収極大を有する近赤外線吸収化合物を含有することによって、ディスプレイ画面からの近赤外線を遮断する特性を有する近赤外線カットフィルタとして機能する。
本発明のディスプレイ用フィルタを、例えば、プラズマディスプレイ用フィルタに適用する場合、その構成は、特に限定するものではないが、一般には、機能性透明層(A)、基体(B)および透明粘着層(C)から成るフィルタである。
<Filter for display>
The display filter of the present invention includes, for example, a plasma display, a liquid crystal display, an organic electroluminescence display, an FED (Field Emission Display), and a CRT (Cathode Ray).
This is a filter applicable to various displays such as Tube) and is used by being mounted on various displays. In addition, in a liquid crystal display, it can apply to various aspects, such as a transmission type and a reflection type, for example.
The display filter of the present invention functions as a light control film having a characteristic of correcting the visible light spectrum of the display screen by containing at least one compound A according to the present invention.
Further, the display filter of the present invention further functions as an electromagnetic wave shield having a characteristic of blocking electromagnetic waves from the display screen by providing a transparent conductive layer having a surface resistance of 0.01 to 30Ω / □. The display filter of the present invention further functions as a near-infrared cut filter having a characteristic of blocking near-infrared rays from the display screen by containing a near-infrared absorbing compound having an absorption maximum at a wavelength of about 800 to 1100 nm. To do.
When the display filter of the present invention is applied to, for example, a plasma display filter, the configuration is not particularly limited, but in general, the functional transparent layer (A), the substrate (B), and the transparent adhesive layer It is a filter consisting of (C).

プラズマディスプレイ用フィルタは、機能性透明層、基体および透明粘着層を構成する少なくとも1つの層、あるいは部材に、本発明に係る化合物Aを少なくとも1種含有してなるものである。
プラズマディスプレイ用フィルタは、プラズマディスプレイ画面に設けられ、一般には、外気側に設けられた機能性透明層(A)と、ディスプレイ側に設けられ、画面に接着するための透明粘着層(C)と、機能性透明層(A)と透明粘着層(C)との間に基体(B)を備えている(図1)。
The filter for plasma display comprises at least one compound A according to the present invention in at least one layer or member constituting the functional transparent layer, the substrate and the transparent adhesive layer.
The plasma display filter is provided on the plasma display screen, and generally has a functional transparent layer (A) provided on the outside air side, and a transparent adhesive layer (C) provided on the display side and adhered to the screen. A substrate (B) is provided between the functional transparent layer (A) and the transparent adhesive layer (C) (FIG. 1).

また、プラズマディスプレイから発生する電磁波を遮蔽する目的で、プラズマディスプレイ用フィルタには、さらに、透明導電層(D)が設けられていることは好ましい。この場合、透明導電層(D)は、機能性透明層(A)と基体(B)との間に設けられる(図2)。
また、透明導電層(D)は、基体(B)と透明粘着層(C)との間に設けられていてもよい(図3)。
勿論、プラズマディスプレイ用フィルタを構成する場合、所望の要求特性を考慮し、その他種々の構成とすることができる。
例えば、プラズマディスプレイ用フィルタには、所望に応じて、ハードコート層、さらなる透明粘着層を設けることができる。また、複数の機能性透明層を設けてなるプラズマディスプレイ用フィルタとすることもできる。これらの層にも本発明に係る化合物Aが含有されていてもよい。
本発明のディスプレイ用フィルタを、例えば、液晶ディスプレイ用フィルタに適用する場合、その構成は、一般には、
(1)基体(B)から成るフィルタ(図4)
(2)透明粘着層(C)から成るフィルタ(図5)
(3)基体(B)と透明粘着層(C)から成るフィルタ(図6)
(4)基体(B)と機能性透明層(A)から成るフィルタ(図7)などがある。
液晶ディスプレイ用フィルタは、機能性透明層、基体および透明粘着層を構成する少なくとも1つの層、あるいは部材に、本発明に係る化合物Aを少なくとも1種含有してなるものである。
尚、液晶ディスプレイ用フィルタは、ディスプレイ内の光源から視認部最表面に至る任意の経路中に設けられる。例えば、透過型の液晶ディスプレイの場合は、液晶ディスプレイ用フィルタは、液晶ディスプレイ画面上は勿論であるが、例えば、導光板、バックライト、偏光板、カラーフィルタなどに、例えば、透明粘着層を介して設けられる。
Further, for the purpose of shielding electromagnetic waves generated from the plasma display, it is preferable that the plasma display filter is further provided with a transparent conductive layer (D). In this case, the transparent conductive layer (D) is provided between the functional transparent layer (A) and the substrate (B) (FIG. 2).
The transparent conductive layer (D) may be provided between the base (B) and the transparent adhesive layer (C) (FIG. 3).
Of course, when configuring the plasma display filter, various other configurations can be made in consideration of desired required characteristics.
For example, the filter for plasma displays can be provided with a hard coat layer and a further transparent adhesive layer as desired. Moreover, it can also be set as the filter for plasma displays which provides a some functional transparent layer. These layers may also contain the compound A according to the present invention.
When the display filter of the present invention is applied to, for example, a liquid crystal display filter, the configuration is generally
(1) Filter comprising the substrate (B) (FIG. 4)
(2) Filter comprising a transparent adhesive layer (C) (FIG. 5)
(3) Filter comprising the substrate (B) and the transparent adhesive layer (C) (FIG. 6)
(4) There is a filter (FIG. 7) composed of a substrate (B) and a functional transparent layer (A).
The filter for a liquid crystal display comprises at least one compound A according to the present invention in at least one layer or member constituting the functional transparent layer, the substrate and the transparent adhesive layer.
The liquid crystal display filter is provided in an arbitrary path from the light source in the display to the outermost surface of the visual recognition unit. For example, in the case of a transmissive liquid crystal display, the liquid crystal display filter is not only on the liquid crystal display screen, but for example, a light guide plate, a backlight, a polarizing plate, a color filter, etc., with a transparent adhesive layer interposed, for example. Provided.

以下、機能性透明層(A)に関して説明する。
本発明のディスプレイ用フィルタには、ディスプレイに対する設置方法や要求される機能に応じて、反射防止機能、防眩機能、反射防止防眩機能、ハードコート機能(耐摩擦機能)、帯電防止機能、防汚機能、ガスバリア機能、紫外線カット機能のいずれか一つ以上の機能を有し、且つ、可視光線を透過する機能性透明層が設けられる。
機能性透明層は、上記の各機能を一つ以上有する機能膜そのもの、あるいは機能膜を塗布法、印刷法、あるいは従来公知の各種成膜法により形成された支持体、さらには各機能を有する支持体を使用することができる。支持体は、透明な支持体が好ましく、一般には、透明ガラス、透明高分子フィルムである。尚、透明高分子フィルムとしては、例えば、後述する基体(B)で例示する透明高分子フィルムを挙げることができる。支持体の厚さに関しては特に制限するものではない。また、例えば、透明高分子フィルムから成る支持体に本発明に係る化合物Aを含有させることもできる。機能性透明層が機能膜そのものの場合にも、その膜中に本発明に係る化合物Aを含有させることができる。
機能性透明層は、外光反射を抑制するための反射防止(AR:アンチリフレクション)機能、防眩(AG:アンチグレア)機能、あるいはその両機能を備えた反射防止防眩(ARAG)機能のいずれかの機能を有していることは好ましい。
Hereinafter, the functional transparent layer (A) will be described.
The display filter of the present invention has an antireflection function, an antiglare function, an antireflection antiglare function, a hard coat function (friction resistance function), an antistatic function, an antistatic function, depending on the installation method for the display and the required functions. A functional transparent layer having at least one of a soiling function, a gas barrier function, and an ultraviolet ray cutting function and transmitting visible light is provided.
The functional transparent layer is a functional film itself having one or more of the above functions, or a support formed by applying a functional film to the coating method, printing method, or various conventionally known film forming methods, and further having each function. Supports can be used. The support is preferably a transparent support, and is generally a transparent glass or a transparent polymer film. In addition, as a transparent polymer film, the transparent polymer film illustrated by the base | substrate (B) mentioned later can be mentioned, for example. The thickness of the support is not particularly limited. In addition, for example, a compound A according to the present invention can be contained in a support made of a transparent polymer film. Even when the functional transparent layer is the functional film itself, the compound A according to the present invention can be contained in the film.
The functional transparent layer has either an anti-reflection (AR: anti-reflection) function for suppressing external light reflection, an anti-glare (AG: anti-glare) function, or an anti-reflection / anti-glare (ARAG) function having both functions. It is preferable to have such a function.

反射防止機能を有する機能性透明層は、反射防止膜を形成する支持体の光学特性を考慮し、光学設計により、反射防止膜の構成部材および各構成部材の膜厚を決定することができる。反射防止機能を有する機能性透明層としては、例えば、可視光域において屈折率が1.5以下のフッ素系透明高分子樹脂、フッ化マグネシウム、シリコン系樹脂、酸化珪素などの薄膜を、例えば、1/4波長の光学膜厚で単層形成したもの、あるいは屈折率の異なる金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物などから成る無機化合物薄膜、あるいはシリコン系樹脂やアクリル樹脂、フッ素系樹脂などから成る有機化合物薄膜を支持体から見て、高屈折率層、低屈折率層の順に2層以上積層したものがある。尚、無機化合物薄膜の成膜法は、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、湿式塗工法などの公知の方法を適用することができる。有機化合物薄膜の成膜法は、例えば、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、コンマコート法などの公知の方法を適用することができる。反射防止機能を有する機能性透明層の表面の可視光線反射率は、一般に、2%以下、好ましくは、1.3%以下、より好ましくは、0.8%以下であるように調製する。
防眩機能を有する機能性透明層は、一般に、0.1μm〜10μm程度の微少な凹凸の表面状態を有する可視光域に対して透明な層のことである。防眩機能を有する機能性透明層は、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型樹脂、または光硬化型樹脂に、シリカ、有機ケイ素化合物などの無機化合物粒子、あるいはメラミン、アクリルなどの有機化合物粒子を分散させてインク化したものを、例えば、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、コンマコート法などの方法によって支持体上に塗布、硬化させて形成することができる。係る無機化合物粒子、および有機化合物粒子の平均粒径は、一般に、1〜40μmである。また、防眩機能を有する機能性透明層は、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型樹脂、あるいは光硬化型樹脂を支持体上に塗布した後、所望のヘイズまたは表面状態を有する型を押しつけて、表面を凹凸に硬化させることにより形成することができる。防眩機能の指標となるヘイズ値は、一般に、0.5〜20%である。
反射防止防眩機能を有する機能性透明層は、防眩機能を有する膜、あるいは防眩機能を有する支持体上に、反射防止膜を形成することにより調製することができる。反射防止防眩機能を有する機能性透明層の表面の可視光線反射率は、一般に、1.5%以下、好ましくは、1.0%以下になるように調製する。
The functional transparent layer having the antireflection function can determine the constituent members of the antireflection film and the film thickness of each constituent member by optical design in consideration of the optical characteristics of the support that forms the antireflection film. As the functional transparent layer having an antireflection function, for example, a thin film such as fluorine-based transparent polymer resin having a refractive index of 1.5 or less in the visible light region, magnesium fluoride, silicon-based resin, silicon oxide, Single layer formed with optical wavelength of ¼ wavelength, inorganic compound thin film made of metal oxide, fluoride, silicide, boride, carbide, nitride, sulfide, etc. with different refractive index, or silicon-based Some organic compound thin films made of a resin, an acrylic resin, a fluorine-based resin, and the like are laminated in the order of a high refractive index layer and a low refractive index layer when viewed from the support. As a method for forming the inorganic compound thin film, for example, a known method such as a sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, or a wet coating method can be applied. As a method for forming the organic compound thin film, for example, a known method such as a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, or a comma coating method can be applied. The visible light reflectance of the surface of the functional transparent layer having an antireflection function is generally adjusted to 2% or less, preferably 1.3% or less, and more preferably 0.8% or less.
The functional transparent layer having an antiglare function is generally a transparent layer with respect to a visible light region having a minute uneven surface state of about 0.1 μm to 10 μm. The functional transparent layer having an antiglare function is, for example, an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, a fluorine resin, or a thermosetting resin, or a photocurable resin. Inorganic particles such as silica and organic silicon compounds, or inks formed by dispersing organic compound particles such as melamine and acrylic, for example, bar coating method, reverse coating method, gravure coating method, die coating method, roll coating method It can be formed by coating and curing on a support by a method such as a comma coating method. The average particle diameter of the inorganic compound particles and the organic compound particles is generally 1 to 40 μm. The functional transparent layer having an antiglare function is, for example, a thermosetting resin such as an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, a fluorine resin, or a photocurable resin. Can be formed by pressing a mold having a desired haze or surface state and curing the surface to irregularities. The haze value that serves as an index of the antiglare function is generally 0.5 to 20%.
The functional transparent layer having an antireflection antiglare function can be prepared by forming an antireflection film on a film having an antiglare function or a support having an antiglare function. The visible light reflectance of the surface of the functional transparent layer having an antireflection antiglare function is generally adjusted to 1.5% or less, preferably 1.0% or less.

本発明のディスプレイ用フィルタに耐擦傷性能を付加する目的で、機能性透明層がハードコート機能(耐摩擦機能)を有していることは好適である。ハードコート機能を有する機能性透明層は、ハードコート機能を有する膜、あるいは支持体上にハードコート膜を形成することにより調製することができる。ハードコート膜としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型樹脂、あるいは光硬化型樹脂などが挙げられる。ハードコート膜の厚さは、一般に、1〜100μm程度である。ハードコート膜は、反射防止機能を有する透明機能層の高屈折率層、あるいは低屈折率層に用いることもできる。また、ハードコート膜上に反射防止膜が形成されて、機能性透明層が反射防止機能とハードコート機能の両機能を備えていてもよい。同様に、機能性透明層が防眩機能とハードコート機能の両機能を備えていてもよい。
防眩機能とハードコート機能の両機能を備える機能性透明層は、例えば、粒子の分散などにより凹凸を有するハードコート膜の上に、反射防止膜を形成することにより調製することができる。ハードコート機能を有する機能性透明層の表面硬度は、JISK5600に従った鉛筆硬度が、少なくともH以上、好ましくは、2H以上である。
For the purpose of adding scratch resistance performance to the display filter of the present invention, it is preferable that the functional transparent layer has a hard coat function (friction resistance function). The functional transparent layer having a hard coat function can be prepared by forming a film having a hard coat function or a hard coat film on a support. Examples of the hard coat film include thermosetting resins such as acrylic resins, silicon resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, and fluorine resins, or photocurable resins. The thickness of the hard coat film is generally about 1 to 100 μm. The hard coat film can also be used for a high refractive index layer or a low refractive index layer of a transparent functional layer having an antireflection function. Further, an antireflection film may be formed on the hard coat film, and the functional transparent layer may have both an antireflection function and a hard coat function. Similarly, the functional transparent layer may have both functions of an antiglare function and a hard coat function.
A functional transparent layer having both an antiglare function and a hard coat function can be prepared, for example, by forming an antireflection film on a hard coat film having irregularities by dispersing particles or the like. As for the surface hardness of the functional transparent layer having a hard coat function, the pencil hardness according to JISK5600 is at least H or more, preferably 2H or more.

一般に、ディスプレイ用フィルタは、静電気が帯電しやすく、ホコリの付着防止、人体への悪影響防止などを考慮し、帯電防止機能が必要とされる場合がある。この場合、帯電防止機能を付与するために、機能性透明層が一定の導電性を有していてもよい。尚、導電性は、一般に、面抵抗で1011Ω/□程度以下であればよい。係る導電性材料としては、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)などの公知の透明導電膜、ITO超微粒子、酸化スズ超微粒子などの導電性超微粒子を分散させた導電性膜が挙げられる。また、反射防止機能、防眩機能、反射防止防眩機能、ハードコート機能のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層を構成する層が導電性を有していることは好ましい。機能性透明膜が、例えば、環境中の物質、あるいは水分に対して、ガスバリア機能を有することは好ましいことである。尚、必要とされるガスバリア機能は、一般に、透湿度で10g/m・day以下である。ガスバリア機能を有する膜としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化イットリウム、酸化マグネシウムなど、またはこれらの混合物、またはこれらに他の元素を添加した金属酸化物薄膜、あるいはポリ塩化ビニリデン、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂などの各種樹脂から成る膜を挙げることができる。ガスバリア機能を有する膜の厚さは、金属酸化物薄膜の場合、一般に、10〜200nmであり、樹脂の場合、一般に、1〜100μmである。尚、ガスバリア機能を有する膜は、単層構造でもよく、あるいは多層構造であってもよい。また、水分に対してガスバリア機能を有する膜としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデンと塩化ビニル、塩化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、フッ素系樹脂などの各種樹脂から成る膜を挙げることができる。 Generally, a display filter is easily charged with static electricity, and an antistatic function may be required in consideration of prevention of dust adhesion and prevention of adverse effects on the human body. In this case, in order to provide an antistatic function, the functional transparent layer may have a certain conductivity. In general, the conductivity may be about 10 11 Ω / □ or less in terms of surface resistance. Examples of the conductive material include a known transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide), and a conductive film in which conductive ultrafine particles such as ITO ultrafine particles and tin oxide ultrafine particles are dispersed. Moreover, it is preferable that the layer which comprises the functional transparent layer which has any one or more functions of an antireflection function, an anti-glare function, an anti-glare function, and a hard-coat function has electroconductivity. It is preferable that the functional transparent film has a gas barrier function with respect to, for example, environmental substances or moisture. The required gas barrier function is generally 10 g / m 2 · day or less in terms of moisture permeability. Examples of the film having a gas barrier function include silicon oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, yttrium oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof, or a metal oxide thin film obtained by adding other elements to these, Examples thereof include films made of various resins such as vinylidene chloride, acrylic resin, silicon resin, melamine resin, urethane resin, and fluorine resin. The thickness of the film having a gas barrier function is generally 10 to 200 nm in the case of a metal oxide thin film, and is generally 1 to 100 μm in the case of a resin. The film having a gas barrier function may have a single layer structure or a multilayer structure. Examples of the film having a gas barrier function against moisture include, for example, polyethylene, polypropylene, nylon, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride and vinyl chloride, vinylidene chloride and acrylonitrile copolymers, and various resins such as fluorine resins. Mention may be made of membranes.

また、反射防止機能、防眩機能、反射防止防眩機能、帯電防止機能、ハードコート機能のいずれか一つ以上の機能を有した機能性透明層を構成する層が、さらにガスバリア機能を兼ねる層とすることができる。さらに、指紋などの汚れ防止、あるいは汚れ除去が容易になるように、機能性透明層の表面に防汚機能を付与することができる。防汚機能を有する化合物としては、水および/または油脂に対して非濡性を有する化合物であり、例えば、フッ素化合物、ケイ素化合物などが挙げられる。
また、機能性透明層に、例えば、紫外線を吸収する無機薄膜単層、あるいは無機薄膜多層から成る反射防止膜、または紫外線吸収化合物を含有する透明膜を形成することにより、機能性透明層に、さらに、紫外線カット機能を付与することができる。機能性透明層が、機能膜そのものの場合、例えば、透明導電層の主面に塗布法、印刷法などの各種成膜法により形成されていてもよい。機能性透明層が、機能膜を形成した透明な基体、各機能を有する透明な基体の場合は、粘着材を介して、例えば、透明導電層の主面に形成されていてもよい。
以下、基体(B)に関して説明する。
基体は、フィルタの支持体として機能し、一般に、可視光域において、透明ガラス、透明高分子フィルムが用いられる。透明高分子フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン6などのポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、ポリウレタン、ポリテトラフルオロエチレンなどのフッ素系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル化合物、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリロニトリル、ビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニリデン化合物、フッ化ビニリデン/トリフルオロエチレン共重合体、エチレン/酢酸ビニル共重体などのビニル化合物、またはフッ素系化合物の共重合体、ポリエチレンオキシドなどのポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。基体は、一般に、厚さが、10〜250μmであり、好ましくは、50〜250μmである。
Further, the layer constituting the functional transparent layer having any one or more of the antireflection function, the antiglare function, the antireflection antiglare function, the antistatic function, and the hard coat function further serves as a gas barrier function. It can be. Furthermore, an antifouling function can be imparted to the surface of the functional transparent layer so that fingerprints and the like can be easily prevented or removed. The compound having an antifouling function is a compound having non-wetting properties with respect to water and / or fats and oils, and examples thereof include fluorine compounds and silicon compounds.
In addition, by forming, for example, an inorganic thin film single layer that absorbs ultraviolet rays, or an antireflection film composed of an inorganic thin film multilayer, or a transparent film containing an ultraviolet absorbing compound, on the functional transparent layer, Furthermore, an ultraviolet cut function can be imparted. When the functional transparent layer is the functional film itself, for example, it may be formed on the main surface of the transparent conductive layer by various film forming methods such as a coating method and a printing method. In the case where the functional transparent layer is a transparent substrate on which a functional film is formed or a transparent substrate having each function, the functional transparent layer may be formed, for example, on the main surface of the transparent conductive layer via an adhesive.
Hereinafter, the substrate (B) will be described.
The substrate functions as a filter support, and generally transparent glass or transparent polymer film is used in the visible light region. Examples of the transparent polymer film include polyethylene terephthalate, polyether sulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyether ether ketone, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, nylon 6 and other celluloses, polyimide, triacetyl cellulose and the like. Resins, polyurethane resins, fluorine resins such as polytetrafluoroethylene, vinyl compounds such as polyvinyl chloride, polyacrylic acid, polyacrylic acid esters, polyacrylonitrile, addition polymers of vinyl compounds, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid esters , Vinylidene compounds such as polyvinylidene chloride, vinyl compounds such as vinylidene fluoride / trifluoroethylene copolymer, ethylene / vinyl acetate copolymer Or copolymers of fluorine-based compound, polyether such as polyethylene oxide, epoxy resins, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, but is not limited thereto. The substrate generally has a thickness of 10 to 250 μm, preferably 50 to 250 μm.

基体は、製造効率の点から、好ましくは、可撓性の透明高分子フィルムであり、さらに、ディスプレイ表面に、直接貼合された透明高分子フィルムを基体とするフィルタは、ディスプレイの基板ガラスが破損した場合、ガラスの飛散防止ができるという利点がある。本発明においては、基体の表面は、スパッタリング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理、あるいは下塗り処理が施されていてもよい。基体の少なくとも一方の主面にハードコート層が形成されていてもよい。ハードコート層となるハードコート膜としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂などの熱硬化型樹脂、あるいは光硬化型樹脂などが挙げられる。ハードコート層の厚さは、1〜100μm程度である。また、ハードコート層に、本発明に係る化合物Aが1種以上含有されていてもよい。
本発明のディスプレイ用フィルタ、特にプラズマディスプレイ用フィルタが、ディスプレイ画面からの電磁波を遮蔽する特性を有する電磁波シールド体として機能することは好ましく、プラズマディスプレイ用フィルタには、機能性透明層、基体、透明粘着層の他に、さらに透明導電層(D)を備えていることが好ましい。
From the viewpoint of production efficiency, the substrate is preferably a flexible transparent polymer film, and the filter using the transparent polymer film directly bonded to the display surface as a substrate is made of the substrate glass of the display. When broken, there is an advantage that the glass can be prevented from scattering. In the present invention, the surface of the substrate may be subjected to etching treatment such as sputtering treatment, corona treatment, flame treatment, ultraviolet ray irradiation and electron beam irradiation, or undercoating treatment. A hard coat layer may be formed on at least one main surface of the substrate. Examples of the hard coat film that becomes the hard coat layer include thermosetting resins such as acrylic resins, silicon resins, melamine resins, urethane resins, alkyd resins, and fluorine resins, or photocurable resins. Can be mentioned. The thickness of the hard coat layer is about 1 to 100 μm. Further, the hard coat layer may contain one or more compounds A according to the present invention.
The display filter of the present invention, particularly the plasma display filter, preferably functions as an electromagnetic wave shielding body having a property of shielding electromagnetic waves from the display screen. The plasma display filter includes a functional transparent layer, a substrate, a transparent In addition to the adhesive layer, a transparent conductive layer (D) is preferably provided.

以下、透明導電層(D)に関して説明する。
ディスプレイ用フィルタが、電磁波シールド体の形態の場合、基体の一方の主面上に透明導電層が形成される。本発明における透明導電層とは、単層または多層薄膜から成る透明導電層である。尚、電磁波シールド体においては、透明導電層と外部との電気的接続が必要あり、例えば、機能性透明層、透明粘着層などは、透明導電層の周縁部を残して、導通部を確保することが必要となる。単層の透明導電層としては、金属メッシュ、導電性格子状パターン膜などの導電性メッシュ、さらには金属薄膜や酸化物半導体薄膜などの透明導電性薄膜がある。多層薄膜から成る透明導電層としては、金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜がある。金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性、およびその自由電子による近赤外線反射特性、および特定波長領域における金属による反射を高屈折率透明薄膜により防止できることから、導電性、近赤外線カット機能、可視光線透過率に関して好ましい特性を有している。電磁波シールド機能、近赤外線カット機能を有するディスプレイ用フィルタを得るためには、電磁波吸収のための高い導電性と電磁波反射のための反射界面を多く有する金属薄膜と、高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜から成る透明導電層は好ましい。高い可視光線透過率と低い可視光線反射率に加え、プラズマディスプレイに必要な電磁波シールド機能を有するには、透明導電層が、面抵抗が、一般に、0.01〜30Ω/□、より好ましくは、0.1〜15Ω/□、さらに好ましくは、0.1〜5Ω/□であることが望ましい。また、透明導電層自体に、近赤外線カット機能を持たせることもでき、近赤外線波長領域、例えば、800〜1100nmにおける光線透過率極小を、20%以下にすることができる。
本発明において好ましい透明導電層は、基体の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層(Dt)、金属薄膜層(Dm)の順に、(Dt)/(Dm)を繰り返し単位として、2〜4回繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層を積層して形成され、該透明導電層の面抵抗が、0.1〜5Ω/□である。金属薄膜層の材料として、好ましくは、銀、金、白金、パラジウム、銅、インジウム、スズ、さらには銀と金、白金、パラジウム、銅、インジウムまたはスズとの合金である。銀を含む合金中の銀の含有率は、特に限定されるものではないが、一般に、50質量%以上、100質量%未満である。尚、複数層から成る金属薄膜の場合は、少なくとも1つの層は銀を合金にしないで用いることや、基体から見て、最初の層および/または最外層にある金属薄膜層のみを銀の合金とすることができる。金属薄膜層は、導電性などの点から薄膜は不連続な島状構造ではなく、連続状態であることが必要であり、またその厚さは、4〜30nmが好ましい。複数層から成る金属薄膜の場合は、各層が全て同じ厚さである必要はなく、さらに、各層全てが銀、あるいは同じ組成の銀の合金でなくてもよい。金属薄膜層の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、メッキ法などの公知の方法を挙げることができる。
Hereinafter, the transparent conductive layer (D) will be described.
When the display filter is in the form of an electromagnetic wave shield, a transparent conductive layer is formed on one main surface of the substrate. The transparent conductive layer in the present invention is a transparent conductive layer composed of a single layer or a multilayer thin film. In addition, in the electromagnetic wave shield, electrical connection between the transparent conductive layer and the outside is necessary. For example, the functional transparent layer, the transparent adhesive layer, and the like secure the conduction portion while leaving the peripheral portion of the transparent conductive layer. It will be necessary. As a single transparent conductive layer, there are a conductive mesh such as a metal mesh and a conductive grid pattern film, and a transparent conductive thin film such as a metal thin film and an oxide semiconductor thin film. As the transparent conductive layer composed of a multilayer thin film, there is a multilayer thin film in which a metal thin film and a high refractive index transparent thin film are laminated. Multi-layer thin film composed of metal thin film and high refractive index transparent thin film prevents the reflection of metal in the specific wavelength region by the high-refractive index transparent thin film, the conductivity of silver and other metals and the near-infrared reflection characteristics due to free electrons. Since it can be performed, it has preferable characteristics with respect to conductivity, near-infrared cut function, and visible light transmittance. In order to obtain a display filter having an electromagnetic wave shielding function and a near-infrared cut function, a metal thin film having a high conductivity for electromagnetic wave absorption and a reflective interface for electromagnetic wave reflection and a high refractive index transparent thin film were laminated. A transparent conductive layer comprising a multilayer thin film is preferred. In order to have an electromagnetic wave shielding function necessary for a plasma display in addition to a high visible light transmittance and a low visible light reflectance, the transparent conductive layer generally has a surface resistance of 0.01 to 30Ω / □, more preferably It is desirable to be 0.1 to 15Ω / □, more preferably 0.1 to 5Ω / □. Also, the transparent conductive layer itself can have a near-infrared cut function, and the light transmittance minimum in the near-infrared wavelength region, for example, 800 to 1100 nm, can be 20% or less.
In the present invention, a preferred transparent conductive layer is 2 on the one main surface of the substrate, in the order of the high refractive index transparent thin film layer (Dt) and the metal thin film layer (Dm), with (Dt) / (Dm) as repeating units. The film is repeatedly laminated 4 times, and further formed thereon by laminating at least a high refractive index transparent thin film layer, and the surface resistance of the transparent conductive layer is 0.1 to 5Ω / □. The material for the metal thin film layer is preferably silver, gold, platinum, palladium, copper, indium, tin, or an alloy of silver and gold, platinum, palladium, copper, indium or tin. Although the content rate of the silver in the alloy containing silver is not specifically limited, Generally, it is 50 to less than 100 mass%. In the case of a metal thin film composed of a plurality of layers, at least one layer should be used without alloying silver, or when viewed from the substrate, only the first and / or outermost metal thin film layer is a silver alloy. It can be. The metal thin film layer is required to be in a continuous state rather than a discontinuous island structure from the viewpoint of conductivity, and the thickness is preferably 4 to 30 nm. In the case of a metal thin film composed of a plurality of layers, it is not necessary that all the layers have the same thickness, and further, all the layers may not be silver or a silver alloy having the same composition. Examples of the method for forming the metal thin film layer include known methods such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, and plating.

高屈折率透明薄膜層を形成する透明薄膜としては、可視光領域において透明性を有し、金属薄膜層の可視光領域における光線反射を防止する機能を有するものであれば特に限定されるものではなく、一般に、可視光線に対する屈折率が、1.6以上、好ましくは、1.8以上の材料が用いられる。このような透明薄膜を形成する材料としては、例えば、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウムなどの酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などを挙げることができ、より好ましくは、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化インジウム、酸化インジウムと酸化スズの混合物(ITO)である。高屈折率透明薄膜層の厚さは、特に限定されるものではないが、一般に、5〜200nmである。高屈折率透明薄膜層の形成方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、真空蒸着法、湿式塗工法などの公知の方法を挙げることができる。透明導電層の耐環境性などの向上を目的に、透明導電層の表面に、導電性、光学特性などの諸特性を著しく損なわない程度に、有機物あるいは無機物から成る保護層を設けることができる。また、金属薄膜層の耐環境性、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着性などを向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層の間に、導電性、光学特性などの諸特性を損なわない程度に、無機物層を設けることができる。尚、無機物層を形成する材料としては、例えば、銅、ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウムなど、あるいはこれらの材料の2種類以上からなる合金が挙げられる。無機物層の厚さは、好ましくは、0.2〜2nm程度である。透明導電層の形成方法としては、透明導電性薄膜を用いる方法の他に、導電性メッシュを用いる方法がある。導電性メッシュの一例として、単層の金属メッシュについて説明する。単層の金属メッシュとしては、例えば、基体上に銅メッシュ層を形成したものがあり、一般には、基体上に銅箔を貼合わせた後、メッシュ状に加工して形成される。銅箔としては、圧延銅、電解銅が用いられ、好ましくは、孔径0.5〜5μmの多孔性の銅箔である。銅箔のポロシティーとしては、0.01〜20%が好ましく、より好ましくは、0.02〜5%である。尚、ポロシティーとは、体積をRとし、孔容積をPとした場合に、P/Rで定義される値である。銅箔は、各種表面処理(例えば、クロメート処理、粗面化処理、酸洗、ジンク・クロメート処理)を施されていてもよい。銅箔の厚さは、一般に、3〜30μmである。金属メッシュの光透過部分の開口率は、一般に、60〜95%である。開口部の形状は、特に限定されるものではないが、正三角形、正四角形、正六角形、円形、長方形、菱形などに形がそろっており、面内に並んでいることが好ましい。光透過部分の開口部の大きさは、一般に、1辺あるいは直径が、5〜200μmであることが好ましい。また、開口部を形成しない部分の金属の幅は、5〜50μmが好ましい。光透過部分を有する金属層の実質的な面抵抗は、好ましくは、0.01〜0.5Ω/□である。尚、透明導電層と表示装置のアース部(グランド導体)とを電気的に接続させるため、導電性粘着層を設ける。   The transparent thin film forming the high refractive index transparent thin film layer is not particularly limited as long as it has transparency in the visible light region and has a function of preventing light reflection in the visible light region of the metal thin film layer. In general, a material having a refractive index with respect to visible light of 1.6 or more, preferably 1.8 or more is used. Examples of the material for forming such a transparent thin film include oxides such as indium, titanium, zirconium, bismuth, tin, zinc, antimony, tantalum, cerium, lanthanum, thorium, magnesium, and gallium, or the oxides of these oxides. A mixture, zinc sulfide, etc. can be mentioned, More preferably, they are a zinc oxide, a titanium oxide, an indium oxide, and a mixture (ITO) of an indium oxide and a tin oxide. The thickness of the high refractive index transparent thin film layer is not particularly limited, but is generally 5 to 200 nm. Examples of the method for forming the high refractive index transparent thin film layer include known methods such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, and wet coating. For the purpose of improving the environmental resistance of the transparent conductive layer, a protective layer made of an organic or inorganic material can be provided on the surface of the transparent conductive layer to such an extent that various properties such as conductivity and optical properties are not significantly impaired. In addition, in order to improve the environmental resistance of the metal thin film layer and the adhesion between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer, conductivity, optical characteristics, etc. are provided between the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer. An inorganic layer can be provided to such an extent that these properties are not impaired. In addition, as a material which forms an inorganic substance layer, copper, nickel, chromium, gold | metal | money, platinum, zinc, zirconium, titanium, tungsten, tin, palladium etc., or the alloy which consists of 2 or more types of these materials is mentioned, for example. . The thickness of the inorganic layer is preferably about 0.2 to 2 nm. As a method for forming the transparent conductive layer, there is a method using a conductive mesh in addition to a method using a transparent conductive thin film. A single-layer metal mesh will be described as an example of the conductive mesh. As a single-layer metal mesh, for example, there is one in which a copper mesh layer is formed on a base. Generally, a single layer of metal mesh is formed by bonding a copper foil on a base and then processing it into a mesh. As the copper foil, rolled copper or electrolytic copper is used, and a porous copper foil having a pore diameter of 0.5 to 5 μm is preferable. The porosity of the copper foil is preferably 0.01 to 20%, more preferably 0.02 to 5%. The porosity is a value defined by P / R where R is the volume and P is the pore volume. The copper foil may be subjected to various surface treatments (for example, chromate treatment, roughening treatment, pickling, zinc / chromate treatment). The thickness of the copper foil is generally 3 to 30 μm. The aperture ratio of the light transmission portion of the metal mesh is generally 60 to 95%. The shape of the opening is not particularly limited, but it is preferably in the form of a regular triangle, a regular square, a regular hexagon, a circle, a rectangle, a rhombus, and the like, and is arranged in the plane. In general, it is preferable that one side or diameter of the opening of the light transmitting portion is 5 to 200 μm. Further, the width of the metal in the portion where the opening is not formed is preferably 5 to 50 μm. The substantial sheet resistance of the metal layer having the light transmitting portion is preferably 0.01 to 0.5Ω / □. In order to electrically connect the transparent conductive layer and the ground portion (ground conductor) of the display device, a conductive adhesive layer is provided.

導電性粘着層に用いる導電性接着剤、導電性粘着材としては、例えば、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤(PVB)、エチレン−酢酸ビニル系接着剤(EVA)、ポリビニルエーテル、飽和ポリエステル、メラミン樹脂などのベース材料に、導電性粒子として、例えば、カーボン、Cu、Ni、Ag、Feなどの金属粒子を分散させたものがある。尚、導電性接着剤、導電性粘着材の体積固有抵抗は、一般に、1×10−4〜1×10Ω・cmである。導電性接着剤、導電性粘着材としては、シート状、液体状のものがある。導電性粘着材としては、シート状の感圧型粘着材が好適に使用できる。シート状粘着材を貼付けた後、または接着剤の塗布後にラミネートして貼合わせる。液体状の導電性接着剤は、塗布、貼合わせ後に、室温または高温下で処理することにより、あるいは紫外線照射することにより硬化させることができる。液体状の導電性接着剤の塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷法、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、コンマコート法などが挙げられる。尚、導電性粘着層の厚さは、体積固有抵抗と必要な導電性を考慮して設定され、一般には、0.5〜50μm、好ましくは、1〜30μmである。また、両面に導電性を有する両面接着タイプの導電性テープも使用できる。 Examples of the conductive adhesive and conductive adhesive used for the conductive adhesive layer include acrylic adhesives, silicon adhesives, urethane adhesives, polyvinyl butyral adhesives (PVB), and ethylene-vinyl acetate adhesives. There are materials in which metal particles such as carbon, Cu, Ni, Ag, and Fe are dispersed as conductive particles in a base material such as (EVA), polyvinyl ether, saturated polyester, and melamine resin. The volume resistivity of the conductive adhesive and the conductive adhesive is generally 1 × 10 −4 to 1 × 10 3 Ω · cm. Examples of the conductive adhesive and the conductive pressure-sensitive adhesive include a sheet form and a liquid form. As the conductive adhesive material, a sheet-like pressure sensitive adhesive material can be suitably used. After pasting the sheet-like adhesive material, or after applying the adhesive, it is laminated and pasted. The liquid conductive adhesive can be cured by treatment at room temperature or high temperature after application and bonding, or by irradiation with ultraviolet rays. Examples of the method for applying the liquid conductive adhesive include a screen printing method, a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, and a comma coating method. The thickness of the conductive adhesive layer is set in consideration of the volume resistivity and necessary conductivity, and is generally 0.5 to 50 μm, preferably 1 to 30 μm. A double-sided adhesive type conductive tape having conductivity on both sides can also be used.

以下、透明粘着層(C)に関して説明する。
本発明において、透明粘着層は、任意の透明粘着材(接着剤、粘着剤)から成る層である。透明粘着層は、例えば、アクリル系接着剤、シリコン系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接着剤(PVB)、エチレン−酢酸ビニル系接着剤(EVA)など、ポリビニルエーテル、飽和ポリエステル、メラミン樹脂などから形成される。尚、粘着材としては、シート状、または液体状のものが使用できる。粘着材として、例えば、シート状の感圧型粘着材を使用する場合は、シート状粘着材を貼付け後、または接着剤を塗布後、ラミネートして貼り合わせる。粘着材として、例えば、液体状の接着剤を使用する場合は、塗布、貼合わせ後に、室温または高温下で処理することにより、あるいは紫外線照射することにより硬化させて貼り合わせる。その塗布方法としては、例えば、スクリーン印刷法、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法、コンマコート法などを挙げることができる。
透明粘着層の厚みは、特に限定されるものではないが、一般に、0.5〜50μmである。透明粘着層が形成される面、および貼合わされる面は、予め易接着コートまたはコロナ放電処理などの易接着処理されていることは好ましい。さらに、透明粘着層を介して貼合わせた後、貼合わせ時に部材間に混入した空気を、脱泡、または粘着材に固溶させて、さらには部材間の密着力を向上させる目的で、加圧、加温条件下で処理を施すことは好ましい。透明粘着層の少なくとも1つの層に、本発明に係る化合物A色素を含有させることができる。
本発明のディスプレイ用フィルタには、本発明に係る化合物Aを少なくとも1種含有してなるものである。
尚、本明細書において、含有とは、各種部材または膜などから成る各層、あるいは透明粘着材の内部に含有されることは勿論、部材または各層の表面に、塗布された状態を包含するものである。
Hereinafter, the transparent adhesive layer (C) will be described.
In the present invention, the transparent adhesive layer is a layer made of any transparent adhesive material (adhesive, adhesive). The transparent adhesive layer is, for example, an acrylic adhesive, a silicon adhesive, a urethane adhesive, a polyvinyl butyral adhesive (PVB), an ethylene-vinyl acetate adhesive (EVA), a polyvinyl ether, a saturated polyester, a melamine resin. Formed from. In addition, as an adhesive material, a sheet form or a liquid form can be used. For example, when using a sheet-like pressure-sensitive adhesive material as the adhesive material, the sheet-like adhesive material is applied or an adhesive is applied, and then laminated and bonded. For example, when a liquid adhesive is used as the adhesive, it is cured and bonded by treatment at room temperature or high temperature after application and bonding, or by ultraviolet irradiation. Examples of the coating method include a screen printing method, a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, and a comma coating method.
Although the thickness of a transparent adhesion layer is not specifically limited, Generally, it is 0.5-50 micrometers. The surface on which the transparent adhesive layer is formed and the surface to be bonded are preferably subjected to an easy adhesion treatment such as an easy adhesion coat or a corona discharge treatment in advance. Furthermore, after bonding through the transparent adhesive layer, the air mixed between the members at the time of bonding is defoamed or dissolved in the adhesive material to further improve the adhesion between the members. It is preferable to perform the treatment under pressure and heating conditions. The compound A dye according to the present invention can be contained in at least one layer of the transparent adhesive layer.
The display filter of the present invention contains at least one compound A according to the present invention.
In addition, in this specification, content includes not only those contained in each layer consisting of various members or films, or the transparent adhesive material, but also the state of being applied to the surface of each member or each layer. is there.

本発明に係る化合物Aを、ディスプレイ用フィルタに含有させる方法としては、例えば、以下の(1)〜(4)の方法がある。
(1)透明粘着材に添加して、透明粘着層に含有させる方法、
(2)高分子樹脂に混練して含有させる方法、
(3)高分子樹脂または樹脂モノマーを含む有機溶媒に、本発明に係る化合物Aを、分散または溶解させ、各種部材、各層上に、例えば、キャスティングする方法、
(4)バインダー樹脂を含む有機溶媒に、本発明に係る化合物Aを加え、塗料として各種部材、各層上にコーティングする方法、がある。
上記(1)の方法においては、本発明に係る化合物Aの含有量は、特に限定するものではないが、一般に、透明粘着材に対して、10ppm〜30質量%、好ましくは、10ppm〜20質量%である。また、(2)および(3)の方法においては、本発明に係る化合物Aの含有量は、特に限定するものではないが、一般に、高分子樹脂または樹脂モノマーに対して、10ppm〜30質量%、好ましくは、10ppm〜20質量%である。また、(4)の方法においては、本発明に係る化合物Aの含有量は、特に限定するものではないが、一般に、バインダー樹脂に対して、10ppm〜30質量%、好ましくは、10ppm〜20質量%である。また、バインダー樹脂濃度は、塗料全体に対して、一般に、1〜50質量%である。
Examples of the method for incorporating the compound A according to the present invention into a display filter include the following methods (1) to (4).
(1) A method of adding to a transparent adhesive material and including it in a transparent adhesive layer,
(2) A method of kneading and containing the polymer resin,
(3) A method in which the compound A according to the present invention is dispersed or dissolved in an organic solvent containing a polymer resin or a resin monomer, and various members are cast on each layer, for example,
(4) There is a method in which the compound A according to the present invention is added to an organic solvent containing a binder resin, and various members are coated as paints and coated on each layer.
In the above method (1), the content of the compound A according to the present invention is not particularly limited. %. In the methods (2) and (3), the content of the compound A according to the present invention is not particularly limited, but is generally 10 ppm to 30% by mass with respect to the polymer resin or resin monomer. Preferably, it is 10 ppm to 20% by mass. In the method (4), the content of the compound A according to the present invention is not particularly limited. %. Moreover, generally binder resin density | concentration is 1-50 mass% with respect to the whole coating material.

本発明のディスプレイ用フィルタには、本発明に係る化合物A以外に、本発明の所望の効果を損なわない範囲で、光吸収化合物を1種以上併用することができる。係る光吸収化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、可視光域に所望の吸収を有する化合物を挙げることができ、例えば、アントラキノン化合物、フタロシアニン化合物、メチン化合物、アゾメチン化合物、オキサジン化合物、アゾ化合物、スチリル化合物、クマリン化合物、ポルフィリン化合物、ジベンゾフラノン化合物、ジケトピロロピロール化合物、ローダミン化合物、キサンテン化合物、ピロメテン化合物などを挙げることができる。また、本発明のディスプレイ用フィルタが、近赤外線カットフィルタの形態の場合には、さらに近赤外線吸収化合物が1種類以上含有されていてもよい。
尚、近赤外線吸収化合物としては、好ましくは、800〜1100nm程度に吸収極大を有する化合物である。係る近赤外線吸収化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、フタロシアニン化合物(例えば、金属フタロシアニン錯体)、ナフタロシアニン化合物(例えば、金属ナフタロシアニン錯体)、アントラキノン化合物、ジチオール化合物(例えば、ニッケルジチオール錯体)、ジインモニウム塩化合物などを挙げることができる。これら光吸収化合物、近赤外線吸収化合物の濃度は、該化合物の吸収波長、吸光係数、さらには、所望のディスプレイ用フィルタの光学特性(例えば、色純度、透過特性)を考慮し任意に設定することができる。
本発明のディスプレイ用フィルタは、例えば、プラズマディスプレイの輝度、視認性を著しく損なうことなく、優れた透過特性などを有し、プラズマディスプレイの光学特性(例えば、色純度およびコントラスト)を向上させることができる。また、本発明のディスプレイ用フィルタは、例えば、液晶ディスプレイの光学特性(例えば、色純度)を向上させることができる。
In the display filter of the present invention, in addition to the compound A according to the present invention, one or more light absorbing compounds can be used in combination as long as the desired effects of the present invention are not impaired. Examples of such a light absorbing compound include, but are not limited to, compounds having desired absorption in the visible light region, such as anthraquinone compounds, phthalocyanine compounds, methine compounds, azomethine compounds, oxazine compounds, Examples include azo compounds, styryl compounds, coumarin compounds, porphyrin compounds, dibenzofuranone compounds, diketopyrrolopyrrole compounds, rhodamine compounds, xanthene compounds, and pyromethene compounds. When the display filter of the present invention is in the form of a near infrared cut filter, one or more near infrared absorbing compounds may be further contained.
The near-infrared absorbing compound is preferably a compound having an absorption maximum at about 800 to 1100 nm. The near-infrared absorbing compound is not particularly limited. For example, phthalocyanine compounds (for example, metal phthalocyanine complexes), naphthalocyanine compounds (for example, metal naphthalocyanine complexes), anthraquinone compounds, dithiol compounds (for example, nickel dithiol) Complex) and diimonium salt compounds. The concentration of these light-absorbing compounds and near-infrared-absorbing compounds should be set arbitrarily in consideration of the absorption wavelength and extinction coefficient of the compound, and the desired optical characteristics (for example, color purity and transmission characteristics) of the display filter. Can do.
The display filter of the present invention has, for example, excellent transmission characteristics without significantly impairing the brightness and visibility of the plasma display, and can improve the optical characteristics (for example, color purity and contrast) of the plasma display. it can. The display filter of the present invention can improve, for example, the optical characteristics (for example, color purity) of a liquid crystal display.

<眼鏡用フィルタ>
本発明の眼鏡用フィルタは、基材中に本発明に係る化合物Aをすくなくとも1種含有してなるもので、本発明でいう基材に含有するとは、基材の内部に含有されることは勿論、基材の表面に塗布した状態、基材と基材の間に挟まれた状態等を意味する。
基材としては、ガラスレンズ又はプラスチックレンズの何れであってもよい。プラスチックは、ガラスと比較して軽量であり、また割れ難く安全性も高いことから、特にプラスチックレンズが繁用される。プラスチックレンズ基材としては、熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂のいずれであってもよく、特に制限されないが、光線透過率が高く、成形可能なポリマー、例えば(メタ)アクリル樹脂をはじめとしてスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アリル樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂(CR−39)等のアリルカーボネート樹脂、ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、イソシアネート化合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物との重合反応で得られたポリウレタン樹脂、イソシアネート化合物とポリチオール化合物とを重合反応させたポリチオウレタン樹脂、分子内に1つ以上のジスルフィド結合を有する(チオ)エポキシ化合物を含有する重合性組成物を硬化して得られる透明樹脂等を例示することができる。
好ましくは、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリチオウレタン樹脂又はポリアミド樹脂を用いることができる。
ポリカーボネート樹脂は、主たる方法としてジヒドロキシジアリール化合物類とホスゲンを反応させるホスゲン法、またはジヒドロキシジアリール化合物類とジフェニルカーボネートなどの炭酸エステル類とを反応させるエステル交換法によって得られる重合体であり代表的なものとして、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)から製造されたポリカーボネート樹脂が挙げられる。
<Filter for glasses>
The filter for eyeglasses of the present invention contains at least one compound A according to the present invention in the base material. When it is contained in the base material referred to in the present invention, it is contained inside the base material. Of course, the state applied to the surface of a base material, the state pinched | interposed between the base materials, and the like are meant.
The substrate may be either a glass lens or a plastic lens. Since plastic is lighter than glass, is hard to break and has high safety, plastic lenses are particularly frequently used. The plastic lens base material may be either a thermoplastic resin or a thermosetting resin, and is not particularly limited. However, the plastic lens base material has a high light transmittance and can be molded, for example, a (meth) acrylic resin or a styrene resin. , Polycarbonate resin, allyl resin, allyl carbonate resin such as diethylene glycol bisallyl carbonate resin (CR-39), vinyl resin, polyester resin, polyether resin, polyurethane obtained by polymerization reaction of isocyanate compound and hydroxy compound such as diethylene glycol Resin, polythiourethane resin obtained by polymerization reaction of isocyanate compound and polythiol compound, transparent resin obtained by curing polymerizable composition containing (thio) epoxy compound having one or more disulfide bonds in the molecule, etc. It can be exemplified.
Preferably, a polycarbonate resin, a polyurethane resin, a polythiourethane resin, or a polyamide resin can be used.
Polycarbonate resin is a typical polymer that is obtained by the phosgene method in which dihydroxydiaryl compounds and phosgene are reacted as a main method, or the ester exchange method in which dihydroxydiaryl compounds are reacted with carbonic esters such as diphenyl carbonate. And polycarbonate resin produced from 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (bisphenol A).

なお、ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量は通常10000〜100000、好ましくは10000〜400000である。
ポリチオウレタン樹脂は、代表的なものとして、メタキシリレンジイソシアネートと、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)から製造されたポリチオウレタン樹脂が挙げられる。
ポリアミド樹脂は、芳香族又は脂肪族基を含むジアミン化合物類と、芳香族又は脂肪族基を含むジカルボン酸化合物類との脱水重縮合物の構造を有する樹脂である。ここで脂肪族基は脂環式脂肪族基も含まれる。上記ジアミン化合物類とジカルボン酸化合物類との脱水重縮合物の構造を有する樹脂は必ずしも脱水重縮合反応から得られるものに限定はされず、例えば1種又は2種以上のラクタム化合物類の開環重合などからも得られることができる。
The viscosity average molecular weight of the polycarbonate resin is usually 10,000 to 100,000, preferably 10,000 to 400,000.
A typical example of the polythiourethane resin is a polythiourethane resin produced from metaxylylene diisocyanate and pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate).
The polyamide resin is a resin having a dehydration polycondensate structure of a diamine compound containing an aromatic or aliphatic group and a dicarboxylic acid compound containing an aromatic or aliphatic group. Here, the aliphatic group also includes an alicyclic aliphatic group. The resin having the structure of the dehydration polycondensate of the diamine compounds and dicarboxylic acid compounds is not necessarily limited to those obtained from the dehydration polycondensation reaction. For example, ring opening of one or more lactam compounds It can also be obtained from polymerization or the like.

特に透明性の観点から非結晶性のポリアミド樹脂が好ましく、一般的には透明ナイロンと称され、例えばエムス社のグリルアミドTR−55、グリルアミドTR−90、グリルアミドTR−XE3805、あるいはヒュルス社のトロガミドCX−7323などを例示することができる。
これらは単体で用いてもよいし、混合したものを用いてもよい。例えば、ポリカーボネート樹脂100重量部にポリアミド樹脂を30〜0.5重量部、好ましくは20〜1重量部、更に好ましくは15〜2重量部混合した熱可塑性樹脂を用いることができる。
以下に、眼鏡用フィルタについて具体的に説明する。
本発明の眼鏡用フィルタは、レンズの材質に応じて、慣用の方法で製造することができる。
例えば、ガラスレンズの場合は、所定の形状に成形されたレンズに、本発明に係る化合物を含有する被膜を形成させることにより製造することができる。被膜形成は、慣用のコーティング法により行うことができるが、例えば、レンズ表面にコーティングする方法としては、本発明に係る化合物をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて塗料化する方法などが挙げられる。
バインダー樹脂としては、脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル系変成樹脂(PVB、EVA等)或いはそれらの共重合樹脂等が挙げられる。
溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系溶媒、或いはそれらの混合物系等が挙げられる。
In particular, an amorphous polyamide resin is preferable from the viewpoint of transparency, and is generally referred to as transparent nylon. For example, Emamide's Grillamide TR-55, Grillamide TR-90, Grillamide TR-XE3805, or Hulus's Trogamide CX -7233 etc. can be illustrated.
These may be used alone or in combination. For example, a thermoplastic resin in which a polyamide resin is mixed with 30 to 0.5 parts by weight, preferably 20 to 1 part by weight, more preferably 15 to 2 parts by weight, with 100 parts by weight of a polycarbonate resin can be used.
The spectacle filter will be specifically described below.
The eyeglass filter of the present invention can be manufactured by a conventional method according to the material of the lens.
For example, in the case of a glass lens, it can be produced by forming a film containing the compound according to the present invention on a lens molded into a predetermined shape. The film formation can be performed by a conventional coating method. For example, as a method for coating the lens surface, a method in which the compound according to the present invention is dissolved in a binder resin and an organic solvent to form a paint can be mentioned. .
As binder resins, aliphatic ester resins, acrylic resins, melamine resins, urethane resins, aromatic ester resins, polycarbonate resins, aliphatic polyolefin resins, aromatic polyolefin resins, polyvinyl resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl resins. Examples thereof include system-modified resins (PVB, EVA, etc.) or copolymer resins thereof.
Examples of the solvent include halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvents, and mixtures thereof.

本発明に係る化合物Aの濃度は、吸収係数、コーティングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等によって異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通常、0.1ppm〜30重量%である。また、樹脂濃度は、塗料全体に対して、通常、1〜50重量%である。上記の方法で作製した塗料は、ガラスレンズの上にバーコーダー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、或いはスプレー等のコーティング法で被膜を形成させることができる。なお、被膜は、赤外線吸収剤等を含む複数の層で形成されていても良い。
本発明の眼鏡用フィルタには、本発明に係る化合物A以外に、本発明の所望の効果を損なわない範囲で、光吸収化合物を1種以上併用することができる。係る光吸収化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、特定の可視光域に所望の吸収を有する化合物を挙げることができ、例えば、アントラキノン化合物、フタロシアニン化合物、メチン化合物、アゾメチン化合物、オキサジン化合物、アゾ化合物、スチリル化合物、クマリン化合物、ポルフィリン化合物、テトラアザポルフィリン化合物、フラーレン化合物、ローダミン化合物、キサンテン化合物、ピロメテン化合物などを挙げることができる。また、本発明の眼鏡用フィルタが、容易に乱反射して特に眩しさを感じさせる、570nm以下の短波長可視光線の光透過率を低減させる形態の場合には、さらに、光吸化合物が1種類以上含有されていてもよい。
The concentration of Compound A according to the present invention varies depending on the absorption coefficient, coating thickness, target absorption strength, target visible light transmittance, etc., but is usually 0.1 ppm to 30% by weight with respect to the weight of the binder resin. It is. The resin concentration is usually 1 to 50% by weight with respect to the whole paint. The coating material produced by the above method can form a film on a glass lens by a coating method such as a bar coder, a blade coater, a spin coater, a reverse coater, a die coater, or a spray. The film may be formed of a plurality of layers including an infrared absorber.
In the eyeglass filter of the present invention, in addition to the compound A according to the present invention, one or more light-absorbing compounds can be used in combination as long as the desired effects of the present invention are not impaired. The light absorbing compound is not particularly limited, and examples thereof include a compound having a desired absorption in a specific visible light region. Examples thereof include an anthraquinone compound, a phthalocyanine compound, a methine compound, an azomethine compound, and an oxazine. Examples thereof include compounds, azo compounds, styryl compounds, coumarin compounds, porphyrin compounds, tetraazaporphyrin compounds, fullerene compounds, rhodamine compounds, xanthene compounds, and pyromethene compounds. Further, in the case where the spectacles filter of the present invention is in the form of reducing the light transmittance of visible light having a short wavelength of 570 nm or less which makes it easily diffusely reflected and feels particularly dazzling, there is further one kind of light absorbing compound. It may be contained above.

尚、光吸収化合物としては、好ましくは、440〜570nm程度に吸収極大を有する化合物である。係る光吸収化合物としては、特に限定するものではないが、例えば、ポルフィリン化合物(例えば、金属ポルフィリン錯体)、フラーレン化合物(例えば、炭素数70のフラーレン)などを挙げることができる。これら光吸収化合物の濃度は、吸収波長、吸光係数、さらには、所望のディスプレイ用フィルタの光学特性(例えば、色純度、透過特性)を考慮し任意に設定することができる。
本発明の実施に当たって、例えば、基材が熱硬化性樹脂であるプラスチックレンズの場合、通常は目的の重合体を形成させるモノマーを重合硬化させる方法が含まれる。本発明を限定するものではないが、例としては、ジエチレングリコールジアリルカーボネートモノマー、ジアリルフタレートモノマー、イソシアネート系化合物とポリオールやポリチオールなどの混合物、およびアクリルモノマーなどの矯正レンズの製造に使われるモノマー類の硬化物が挙げられる。その重合方法は特に限定されるものではないが、通常、注型重合が採用される。その際、熱硬化性樹脂配合物には、本発明に係る化合物Aが配合されており、前記樹脂配合物をレンズ注型用鋳型に供給して重合反応を行い眼鏡レンズに成型する。上記レンズ注型用鋳型に供給する方法は特に限定されるものではないが、例えば前記樹脂配合物を細管に通すなどによって注入する方法が使用される。前記樹脂配合物は予め減圧等の方法で脱泡処理が施されてもよく、また空気環境因子が実質的に排除された状態で注型重合が行われてもよい。
The light absorbing compound is preferably a compound having an absorption maximum at about 440 to 570 nm. The light absorbing compound is not particularly limited, and examples thereof include a porphyrin compound (for example, a metal porphyrin complex) and a fullerene compound (for example, a fullerene having 70 carbon atoms). The concentration of these light absorbing compounds can be arbitrarily set in consideration of the absorption wavelength, the extinction coefficient, and the desired optical characteristics (for example, color purity and transmission characteristics) of the display filter.
In carrying out the present invention, for example, in the case of a plastic lens whose base material is a thermosetting resin, a method of polymerizing and curing a monomer that usually forms a target polymer is included. Examples include, but are not limited to, curing of diethylene glycol diallyl carbonate monomer, diallyl phthalate monomer, mixtures of isocyanate compounds and polyols and polythiols, and monomers used in the manufacture of corrective lenses such as acrylic monomers. Things. The polymerization method is not particularly limited, but usually cast polymerization is employed. In that case, the compound A according to the present invention is blended in the thermosetting resin blend, and the resin blend is supplied to a lens casting mold to perform a polymerization reaction, and is molded into a spectacle lens. A method of supplying the lens casting mold to the lens casting mold is not particularly limited. For example, a method of injecting the resin compound by passing it through a thin tube is used. The resin blend may be defoamed in advance by a method such as decompression, or cast polymerization may be performed in a state where air environmental factors are substantially eliminated.

本発明におけるレンズ注型用鋳型は、ガスケットで保持された2個のモールドから構成されるものが一般的である。モールドには、得られたレンズの離型性を向上するために離型剤を塗付してもよい。また、レンズ材料にハードコート性能を付与するためのコート液をモールドに塗付してもよい。
熱硬化性樹脂組成物に本発明に係る化合物を配合させる方法について以下に具体的に説明する。重合硬化に供する熱硬化性樹脂組成物は大別すると、モノマー混合物、本発明に係る化合物、触媒、及びその他の添加剤から構成される。
添加剤としては、ジブチル錫ジクロライドなどの触媒、紫外線吸収剤、酸性リン酸エステルなどの内部離型剤、光安定剤、酸化防止剤、ラジカル反応開始剤などの反応開始剤、鎖延長剤、架橋剤、充填剤などがあり、さらに必要に応じ、屈折率、アッベ数、耐熱性、比重等の物性や耐衝撃性等の機械強度等を調整あるいは向上のために公知の樹脂改質剤、例えばヒドロキシ化合物、チオール化合物、エポキシ化合物、エピスルフィド化合物、有機酸及びその無水物、(メタ)アクリレート化合物等を含むオレフィン化合物等が挙げられる。
本発明に係る化合物Aを混合するに当たっての混合対象成分が0℃以上で液状であればその選択には特に限定はなく、操作性、安全性、便宜性等を踏まえ、適宜選択される。例えばモノマー混合物を構成するモノマー群のいずれかに混合させた後にモノマー混合物とする方法、モノマー混合物及びその他の添加剤からなる混合物に混合させた後、触媒を加える方法、あるいはモノマー混合物、触媒、及びその他の添加剤からなる混合物に混合させる方法などが挙げられる。
また本発明に係る化合物Aを混合するにあたっては、本発明に係る化合物Aを直接混合させる方法、あるいは予め本発明に係る化合物Aを低沸点の有機溶媒に溶解させ、前記有機溶媒溶液を上記混合対象成分に混合後、加熱及び/又は減圧等の条件下で前記有機溶媒を蒸発除去してもよい。その際使用される有機溶媒としてはヘキサン、ヘプタン、アセトン、メチルエチルケトン、ベンゼン、トルエン、ジクロロメタン、クロロホルムなどが挙げられるが、上記樹脂組成物に対して化学反応的に不活性で、かつ適度に低沸点のものであれば特に限定されるものではない。
The lens casting mold in the present invention is generally composed of two molds held by a gasket. A mold release agent may be applied to the mold in order to improve the mold releasability of the obtained lens. Further, a coating liquid for imparting hard coating performance to the lens material may be applied to the mold.
The method for adding the compound according to the present invention to the thermosetting resin composition will be specifically described below. The thermosetting resin composition used for polymerization and curing is roughly composed of a monomer mixture, a compound according to the present invention, a catalyst, and other additives.
Additives include catalysts such as dibutyltin dichloride, UV absorbers, internal mold release agents such as acidic phosphate esters, light stabilizers, antioxidants, reaction initiators such as radical initiators, chain extenders, and crosslinking Known resin modifiers for adjusting or improving the physical properties such as refractive index, Abbe number, heat resistance, specific gravity, and mechanical strength such as impact resistance, etc. Examples thereof include hydroxy compounds, thiol compounds, epoxy compounds, episulfide compounds, organic acids and anhydrides thereof, and olefin compounds including (meth) acrylate compounds.
If the component to be mixed in mixing the compound A according to the present invention is liquid at 0 ° C. or higher, the selection is not particularly limited, and it is appropriately selected in consideration of operability, safety, convenience and the like. For example, a method in which the monomer mixture is mixed with one of the monomer groups constituting the monomer mixture and then the monomer mixture is mixed, a method in which the monomer mixture and other additives are mixed, and then a catalyst is added, or the monomer mixture, catalyst, and The method of mixing with the mixture which consists of another additive is mentioned.
In mixing the compound A according to the present invention, the compound A according to the present invention is directly mixed, or the compound A according to the present invention is previously dissolved in a low-boiling organic solvent, and the organic solvent solution is mixed with the above-mentioned mixture. After mixing with the target component, the organic solvent may be removed by evaporation under conditions such as heating and / or reduced pressure. Examples of the organic solvent used in this case include hexane, heptane, acetone, methyl ethyl ketone, benzene, toluene, dichloromethane, chloroform, etc., but are chemically inert to the resin composition and have a moderately low boiling point. If it is a thing, it will not specifically limit.

また、プラスチックレンズに必要とされる本発明に係る化合物Aの濃度に相当する量が樹脂組成物に含有されるように前記の方法で混合させてもよく、またモノマー混合物や前記樹脂組成物などいずれかの成分に目的濃度より高濃度で本発明に係る化合物Aを含有させたマスターバッチを調製しておき、必要に応じて配合すべき他成分を加えて希釈させて目的の濃度の本発明に係る化合物Aを含有させる方法等も挙げることができる。
また本発明に係る化合物Aの溶解にあたって、樹脂組成物の劣化や可使時間などの点で実施上支障がない範囲で加温することもできる。本発明に係る化合物Aを混合させるにあたっては、例えば通常行われる撹拌、振とう、バブリングなどの方法が挙げられる。更に必要に応じて本発明に係る化合物Aの溶解後、減圧下での脱泡処理や加圧、減圧等での濾過処理等を行うことが好ましい場合が多い。
Further, the resin composition may be mixed so that an amount corresponding to the concentration of the compound A according to the present invention required for the plastic lens is contained in the resin composition, or the monomer mixture or the resin composition. A master batch containing compound A according to the present invention at a concentration higher than the target concentration is prepared in any component, and the other components to be blended are added as necessary to dilute the present invention. The method etc. which contain the compound A which concerns on can also be mentioned.
Further, in dissolving the compound A according to the present invention, it can be heated within a range where there is no practical problem in terms of deterioration of the resin composition and pot life. In mixing the compound A according to the present invention, for example, usual methods such as stirring, shaking and bubbling can be mentioned. Further, it is often preferable to carry out defoaming treatment under reduced pressure, filtration treatment under pressure, reduced pressure, or the like after the dissolution of Compound A according to the present invention, if necessary.

次いで、例えば、基材が熱可塑性樹脂であるプラスチックレンズの場合、通常、圧縮成形法、トランスファー成形法、射出成形法、圧縮射出成形法などの公知の方法が採用される。すなわち供給される該熱可塑性樹脂を溶融温度以上に加熱させ、これを目的のプラスチックレンズの形状を有する金型内に導入後、冷却固化させてプラスチックレンズを得る方法である。その際、偏光フィルムなど目的の機能を有するプラスチックフィルムを予め金型内に設置しておき、上記方法で成形されたプラスチックレンズ内に該機能性のプラスチックフィルムを一体化させるいわゆるインサート法も本発明の範囲を超えるものではない。
その際、熱可塑性樹脂に予め本発明に係る化合物Aを配合させておく。配合の方法としては特に制限はないが、例えば、本発明に係る化合物Aと熱可塑性樹脂ペレットを、ペレットの溶融温度以下で機械的に混合させて、本発明に係る化合物Aを該ペレット表面に保持させる方法、又別の方法としては、適切な混練機を用いて、本発明に係る化合物Aと熱可塑性樹脂ペレットを、ペレットの溶融温度以上で混練して本発明に係る化合物Aを該熱可塑性樹脂ペレットに含有させることができる。
前記成形機への熱可塑性樹脂の供給にあたっては、該熱可塑性樹脂中に含有されている水分量を低減させるため必要に応じて予め公知の条件で乾燥処理を施してもよい。
熱硬化性樹脂に対する本発明に係る化合物Aの濃度は0.0002〜0.05重量%、好ましくは0.0002〜0.01重量%、更に好ましくは0.0004〜0.01重量%の範囲であり、この濃度を設定するための前記熱硬化性樹脂組成物に対する本発明に係る化合物Aの配合量の設定は、プラスチックレンズに対する目的濃度と通常近似的同一であることを目安に実験的に容易に決定することができる。
Next, for example, in the case of a plastic lens whose base material is a thermoplastic resin, generally known methods such as a compression molding method, a transfer molding method, an injection molding method, and a compression injection molding method are employed. That is, the thermoplastic resin to be supplied is heated to a melting temperature or higher, introduced into a mold having the shape of a target plastic lens, and then cooled and solidified to obtain a plastic lens. At this time, a so-called insert method in which a plastic film having a target function such as a polarizing film is set in a mold in advance and the functional plastic film is integrated in the plastic lens molded by the above method is also the present invention. It does not exceed the range.
At that time, the compound A according to the present invention is blended in advance with the thermoplastic resin. There is no particular limitation on the blending method. For example, the compound A according to the present invention and a thermoplastic resin pellet are mechanically mixed at a temperature equal to or lower than the melting temperature of the pellet, and the compound A according to the present invention is applied to the surface of the pellet. As another method, the compound A according to the present invention and the thermoplastic resin pellet are kneaded at a temperature equal to or higher than the melting temperature of the pellet using an appropriate kneading machine, and the compound A according to the present invention is heated. It can be contained in a plastic resin pellet.
In supplying the thermoplastic resin to the molding machine, a drying process may be performed in advance under known conditions as necessary in order to reduce the amount of water contained in the thermoplastic resin.
The concentration of the compound A according to the present invention relative to the thermosetting resin is in the range of 0.0002 to 0.05% by weight, preferably 0.0002 to 0.01% by weight, more preferably 0.0004 to 0.01% by weight. The setting of the compounding amount of the compound A according to the present invention to the thermosetting resin composition for setting this concentration is experimentally based on the fact that the target concentration for the plastic lens is usually approximately the same. Can be easily determined.

本発明に係る化合物Aは、熱硬化性又は熱可塑性プラスチックレンズの少なくとも片面表面から500μm以下の範囲に局在させるとよい。
熱可塑性樹脂組成物に本発明に係る化合物Aを配合させる方法について以下に具体的に説明する。熱可塑性樹脂に対する本発明に係る化合物Aの濃度は0.0002〜0.05重量%、好ましくは0.0002〜0.01重量%、更に好ましくは0.0004〜0.01重量%であり、この濃度にするための前記熱可塑性樹脂組成物に対する本発明に係る化合物Aの配合量の設定は、前記プラスチックレンズに対する目的濃度と通常近似的同一であることを目安にして容易に決定することができる。
また、前記熱可塑性樹脂に必要とされる本発明に係る化合物Aの濃度に相当する量を、前記の方法で供給される該熱可塑性樹脂中に配合させてもよく、また必要とされる本発明に係る化合物Aを該熱可塑性樹脂中に目的量を超えて配合させた異種の配合熱可塑性樹脂を所定量混合させて供給し、最終的にプラスチックレンズ中に目的濃度の本発明に係る化合物Aが含有される様に設定するいわゆるマスターバッチ法も採用できる。その際、希釈の目的で本発明に係る化合物A非含有の熱可塑性樹脂を併用して供給してもよい。また、上記所定量混合させた該熱可塑性樹脂を予め溶融混練などの方法で混合し、必要に応じてペレット化などの処方を施した後、成形機に供給してもよい。
なお、本発明の熱硬化性又は熱可塑性のプラスチックレンズにおいては、必要に応じてプラスチックレンズの少なくとも片面にレンズ部材として施された単層又は多層積層を構成する成分層の少なくとも1層に本発明に係る化合物Aを含有させて、目的の波長選択的光吸収性を有するプラスチックレンズとすることができる。
The compound A according to the present invention is preferably localized in a range of 500 μm or less from the surface of at least one surface of the thermosetting or thermoplastic lens.
The method for incorporating the compound A according to the present invention into the thermoplastic resin composition will be specifically described below. The concentration of the compound A according to the present invention with respect to the thermoplastic resin is 0.0002 to 0.05% by weight, preferably 0.0002 to 0.01% by weight, more preferably 0.0004 to 0.01% by weight, The setting of the compounding amount of the compound A according to the present invention for the thermoplastic resin composition to achieve this concentration can be easily determined based on the fact that the concentration is usually approximately the same as the target concentration for the plastic lens. it can.
In addition, an amount corresponding to the concentration of the compound A according to the present invention required for the thermoplastic resin may be added to the thermoplastic resin supplied by the method described above, and the required book Compound A according to the present invention is mixed with a predetermined amount of a different blended thermoplastic resin in which the compound A exceeds the target amount, and finally the compound of the present invention having the target concentration in the plastic lens is supplied. A so-called master batch method in which A is set to be contained can also be adopted. At that time, for the purpose of dilution, the compound A-free thermoplastic resin according to the present invention may be used in combination. Alternatively, the thermoplastic resin mixed in the predetermined amount may be mixed in advance by a method such as melt kneading, and may be supplied to a molding machine after prescription such as pelletization as necessary.
In addition, in the thermosetting or thermoplastic plastic lens of the present invention, the present invention is applied to at least one component layer constituting a single layer or a multi-layer stack applied as a lens member on at least one surface of the plastic lens as necessary. The compound A which concerns on this can be made into the plastic lens which has the target wavelength-selective light absorptivity.

前記熱硬化性又は熱可塑性のプラスチックレンズの少なくとも片面に単層又は多層積層を形成させるにあたっては、シート層を貼り付けて形成させることもできるが、通常は本発明に係る化合物Aを含有させた有機樹脂コート剤を塗布することで形成される。
有機樹脂コート剤としては(メタ)アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン樹脂系などを例示することができ、あるいはそれら樹脂成分が混成されてブレンド又は共重合された樹脂なども挙げられる。樹脂は目的に応じて熱可塑タイプあるいは熱硬化性タイプのいずれかが採用される。
前記プラスチックレンズへの塗布にあたっては前記樹脂を無溶剤下又は通常は溶剤に溶解して塗布液とする。溶剤としては、水、あるいはアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、イソホロンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸アミルなどのエステル類、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのアルコール/エステル類、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、アミルアルコール、2−エチルヘキシルアルコールなどのアルコール類、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、n−ヘキサン、n−ヘプタンなどの脂肪族類、シクロヘキサンなどの脂環族類などが例示でき、それらから選択された2種以上の溶剤を混合させた溶剤も使用することができる。これら溶剤の選択は、樹脂成分の溶解性、樹脂成分との反応性の程度、沸点、環境調和性、価格、など目的に応じた観点から決定される。
前記塗布液の前記プラスチックレンズへの塗布にあたってはデイッピング法、スプレー法、スピンコート法、デイップスピンコート法、ロールコート法など一般に実施されている方法で行うことができる。必要に応じてレンズウエハーの塗布対象表面に予めプラズマ処理、コロナ放電処理、紫外線照射処理、シランカップリング剤や水酸化ナトリウムなどによる化学的処理などを施すこともできる。また前記塗布液中にはシリコーン系あるいはフッ素系などのレベリング剤などを必要に応じて併用することができる。
前記有機樹脂コート剤が熱可塑性樹脂系の場合は塗布後、溶剤を蒸発乾燥させることで本発明に係る化合物Aを含有させた熱可塑性樹脂系成分層を得ることができる。
In forming a single layer or a multi-layer laminate on at least one surface of the thermosetting or thermoplastic plastic lens, a sheet layer can be attached, but the compound A according to the present invention is usually contained. It is formed by applying an organic resin coating agent.
Examples of the organic resin coating agent include (meth) acrylic resin, polyester resin, polyether resin, polyurethane resin, silicone resin, melamine resin, or the like. Alternatively, a copolymerized resin or the like may be used. As the resin, either a thermoplastic type or a thermosetting type is adopted depending on the purpose.
In application to the plastic lens, the resin is dissolved in a solvent-free or normally in a solvent to obtain a coating solution. Solvents include water, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol, isophorone, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, isobutyl acetate, amyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether , Alcohols / esters such as ethylene glycol monoethyl ether and ethylene glycol monobutyl ether, alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, amyl alcohol, 2-ethylhexyl alcohol, dibutyl ether, Ethers such as tetrahydrofuran, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, n-hexane, n-hept Aliphatic such as down, can alicyclic compounds, such as is illustrated, such as cyclohexane, solvent obtained by mixing two or more solvents selected from these may be used. The selection of these solvents is determined from the viewpoint according to the purpose, such as the solubility of the resin component, the degree of reactivity with the resin component, the boiling point, environmental harmony, and price.
Application of the coating solution to the plastic lens can be performed by a commonly used method such as a dipping method, a spray method, a spin coating method, a dip spin coating method, or a roll coating method. If necessary, the surface of the lens wafer to be coated can be previously subjected to plasma treatment, corona discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, chemical treatment with a silane coupling agent, sodium hydroxide, or the like. In the coating solution, a leveling agent such as silicone or fluorine can be used in combination as required.
When the organic resin coating agent is a thermoplastic resin, a thermoplastic resin component layer containing the compound A according to the present invention can be obtained by evaporating and drying the solvent after coating.

前記有機樹脂コート剤が熱硬化性樹脂系の場合は塗布後、溶剤を蒸発乾燥させた後、熱、紫外線、エレクトロンビームなどの手段を用いて硬化反応させることで本発明に係る化合物Aを含有させた熱硬化性樹脂系成分層を得ることができる。溶媒乾燥条件と硬化反応条件は同時に適用することもできる。
前記形成された成分層の厚さは、0.05〜100μm、好ましくは0.1〜50μm、より好ましくは0.5〜30μm、特に好ましくは0.5〜10μmが適当である。前記成分層中に含有される本発明に係る化合物Aの濃度は0.02〜5重量%、好ましくは0.05〜3重量%が適当である。
本発明に係る化合物Aは、プラスチックレンズのみに含有させてもよいし、このプラスチックレンズの片面又は両面に形成されるハードコート層やプライマー層その他の成分層のみに含有させてもよい。成分層が複数層ある場合は、このうちの少なくとも一層に本発明に係る化合物Aを含有させてもよい。また、プラスチックレンズと成分層の両方に本発明に係る化合物Aを含有させてもよい。
プライマー層としては、プラスチックレンズの耐衝撃性を向上できる上、耐水性、耐光性に優れ、しかも、後述するハードコート層との密着性に優れる水性化アクリル−ウレタン樹脂又はポリエステル系熱可塑性エラストマーが好ましい。
In the case where the organic resin coating agent is a thermosetting resin system, after application, the solvent is evaporated and dried, and then the compound A according to the present invention is contained by a curing reaction using means such as heat, ultraviolet rays, and electron beams. A thermosetting resin-based component layer can be obtained. Solvent drying conditions and curing reaction conditions can be applied simultaneously.
The thickness of the formed component layer is 0.05 to 100 μm, preferably 0.1 to 50 μm, more preferably 0.5 to 30 μm, and particularly preferably 0.5 to 10 μm. The concentration of the compound A according to the present invention contained in the component layer is 0.02 to 5% by weight, preferably 0.05 to 3% by weight.
The compound A according to the present invention may be contained only in the plastic lens, or may be contained only in the hard coat layer, primer layer, or other component layer formed on one side or both sides of the plastic lens. When there are a plurality of component layers, at least one of them may contain the compound A according to the present invention. Further, the compound A according to the present invention may be contained in both the plastic lens and the component layer.
As the primer layer, an aqueous acrylic-urethane resin or polyester-based thermoplastic elastomer that can improve the impact resistance of the plastic lens, is excellent in water resistance and light resistance, and has excellent adhesion to the hard coat layer described later. preferable.

前記本発明に係る化合物Aを含有させた成分層の形成に関して、以下に具体例を挙げて説明する。しばしば実施されている形態においては、前記熱硬化性又は熱可塑性プラスチックレンズの少なくとも片面にプライマー層を形成させ、その表面にハードコートが施されレンズ材料表面に耐擦傷性などの機械的特性が付与される。更に必要に応じてハードコート層の表面には所定の無機多層膜が施され反射防止性能が付与される。前記プライマー層はレンズ面とハードコート層間の密着性に寄与するだけでなく、主たる目的はハードコートや反射防止層が施されることによって生じるレンズ自体の耐衝撃性の劣化を応力の緩衝作用を通して改善できることである。
本発明に係る化合物Aを前記ハードコート層やプライマー層に含有させて本発明で必要な選択的遮光性を発現させることができる。前記プライマー層としては公知の方法、例えばブロック型ポリイソシアネートとポリオールをイソシアネートと水酸基の当量比が概略0.8〜1.25となるよう配合し、溶媒で希釈し、微量の錫系触媒とレベリング剤を加えた溶液に本発明に係る化合物Aを樹脂分に対して0.5〜2重量%で加えてプライマー溶液とし、例えば、チオウレタン系熱硬化性樹脂レンズの両面を前記プライマー溶液を用いてデイッピング処理後、溶剤を蒸発乾燥後約120〜140℃で熱硬化させることで本発明に係る化合物Aが含有されたポリウレタン系プライマー層を形成させることができる。
前記プライマー層の形成において、本発明に係る化合物Aを含有させないポリウレタン系プライマー層を形成させ、その上に本発明に係る化合物Aを含有させたハードコート層を形成させることができる。適用できるハードコート剤は公知のものが使用できる。
The formation of the component layer containing the compound A according to the present invention will be described below with specific examples. In a frequently practiced form, a primer layer is formed on at least one surface of the thermosetting or thermoplastic lens, and a hard coat is applied to the surface to impart mechanical properties such as scratch resistance to the lens material surface. Is done. Furthermore, if necessary, a predetermined inorganic multilayer film is applied to the surface of the hard coat layer to impart antireflection performance. The primer layer not only contributes to the adhesion between the lens surface and the hard coat layer, but the main purpose is to reduce the impact resistance degradation of the lens itself caused by the hard coat and antireflection layer being applied through the buffering action of stress. It can be improved.
The compound A according to the present invention can be contained in the hard coat layer or primer layer to exhibit the selective light shielding properties required in the present invention. As the primer layer, a known method, for example, block type polyisocyanate and polyol are blended so that the equivalent ratio of isocyanate and hydroxyl group is about 0.8 to 1.25, diluted with a solvent, and a trace amount of tin-based catalyst and leveling are mixed. The compound A according to the present invention is added to the solution to which the agent is added at 0.5 to 2% by weight with respect to the resin component to obtain a primer solution. For example, the primer solution is used on both surfaces of a thiourethane thermosetting resin lens. After the dipping treatment, the polyurethane primer layer containing the compound A according to the present invention can be formed by evaporating and drying the solvent at about 120 to 140 ° C.
In the formation of the primer layer, a polyurethane-based primer layer not containing the compound A according to the present invention can be formed, and a hard coat layer containing the compound A according to the present invention can be formed thereon. Known hard coat agents can be used.

例えばコロイダル珪素酸化物、コロイダルアルミニウム酸化物、コロイダルアンチモン酸化物、コロイダルジルコニウム酸化物、コロイダルタングステン酸化物、コロイダルチタン酸化物、コロイダル亜鉛酸化物、コロイダルスズ酸化物、のような50〜200オングストロームの平均粒子直径を有する無機酸化物粒子、又は官能基を有しないアルコキシ金属化合物などの官能基を有しない金属化合物と、エポキシ基、メタクリル基のような官能基を有するシラン化合物を含む配合物を共加水分解させてなる成分を主体とする組成物が挙げられる。前記官能基を有するシラン化合物の例としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピル−メチル−ジエトキシシラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。ハードコート剤は前記例示の成分に加えて、必要に応じて前記例示の成分と化学的に実質上不活性な溶媒で希釈してハードコート液として使用することもできる。
前記ハードコート液はプラスチックレンズの少なくとも片面に前記プライマーコートされた面上に塗布され通常は60〜140℃、好ましくは70〜130℃で加熱することで硬化処理が施される。その際必要に応じてハードコート液中に無機酸などの触媒を含有させることもできる。硬化反応はまた紫外線などの光を照射することでも行うことができる。その際は前記のコロイダル無機酸化物物表面の表面を(メタ)アクリル基などのビニル基含有有機基による改質、あるいは光開始剤の併用などの処方を施すことがより好ましい。硬化後のハードコート層の場合の層の厚さは、1〜10μm、好ましくは2〜5μmである。
このようにして、例えば予め前記ハードコート液に本発明に係る化合物Aを樹脂分に対して0.5〜2重量%で加え溶解し、更にレベリング剤を加えて色素含有ハードコート液を調製し、前記両面にプライマー層の施された熱硬化性樹脂レンズを、前記色素含有ハードコート液にて両面をデイッピング処理し溶剤を蒸発乾燥後例えば120℃で3時間硬化処理することでポリウレタンプライマー層を介して本発明に係る化合物Aが含有されたハードコート層の施されたプラスチックレンズが得られる。
本発明に係る化合物A含有のプラスチックレンズは必要に応じてマルチコート(反射防止層)、防曇処理、撥水処理、あるいは帯電防止処理など、従来の技術範囲で可能な機能処理が施されてもよい。また、眼鏡レンズに度をいれることにより、近視用レンズあるいは老眼レンズとすることもできる。本発明の眼鏡レンズを老眼レンズとすることにより、目の弱い老人用保護メガネとして好適に利用できる。
50-200 Angstrom average such as colloidal silicon oxide, colloidal aluminum oxide, colloidal antimony oxide, colloidal zirconium oxide, colloidal tungsten oxide, colloidal titanium oxide, colloidal zinc oxide, colloidal tin oxide, etc. Co-hydrolyzing a compound containing inorganic oxide particles having a particle diameter or a metal compound having no functional group such as an alkoxy metal compound having no functional group and a silane compound having a functional group such as an epoxy group or a methacryl group Examples thereof include a composition mainly composed of decomposed components. Examples of the silane compound having a functional group include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyl-methyl-diethoxysilane, and γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane. In addition to the components exemplified above, the hard coat agent can be used as a hard coat solution by being diluted with a solvent substantially inert with the components exemplified above as necessary.
The hard coat liquid is applied on the primer-coated surface of at least one surface of a plastic lens, and is usually cured by heating at 60 to 140 ° C., preferably 70 to 130 ° C. At that time, if necessary, a catalyst such as an inorganic acid may be contained in the hard coat solution. The curing reaction can also be performed by irradiating light such as ultraviolet rays. In that case, it is more preferable that the surface of the colloidal inorganic oxide surface is modified with a vinyl group-containing organic group such as a (meth) acryl group, or combined with a photoinitiator. The thickness of the hard coat layer after curing is 1 to 10 μm, preferably 2 to 5 μm.
In this way, for example, the compound A according to the present invention is added to the hard coat solution in advance at 0.5 to 2% by weight with respect to the resin component and dissolved, and a leveling agent is further added to prepare a dye-containing hard coat solution. The polyurethane primer layer is formed by dipping both sides of the thermosetting resin lens having the primer layer on both sides with the dye-containing hard coat solution, evaporating and drying the solvent, and then curing at 120 ° C. for 3 hours, for example. Thus, a plastic lens having a hard coat layer containing the compound A according to the present invention is obtained.
The plastic lens containing Compound A according to the present invention is subjected to functional treatments that are possible within the conventional technical range, such as multi-coating (antireflection layer), antifogging treatment, water repellent treatment, or antistatic treatment, as necessary. Also good. Further, by using a spectacle lens, a myopia lens or a presbyopia lens can be obtained. By using the spectacle lens of the present invention as a presbyopia lens, it can be suitably used as protective glasses for the elderly with weak eyes.

以下、製造例、および実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下の製造例、実施例及び比較例において吸収スペクトルの測定は、濃度0.01g/Lのトルエン溶液を、測定機器として株式会社日立製作所製U−3500型自記分光光時計を使用し、光路長10mmで測定した。
(製造例1)p−tert−ブチルカリックス[4]アレーンの製造
J.Am.Chem.Soc.,103,3782(1981)記載の方法に従ってp−tert−ブチルカリックス[4]アレーンを合成した。
EXAMPLES Hereinafter, although a production example and an Example demonstrate this invention further in detail, this invention is not limited to these.
In addition, in the following production examples, examples and comparative examples, the measurement of the absorption spectrum uses a toluene solution with a concentration of 0.01 g / L, using a U-3500 type self-recording spectroscopic clock manufactured by Hitachi, Ltd. as a measuring instrument, Measurement was performed at an optical path length of 10 mm.
(Production Example 1) Production of p-tert-butylcalix [4] arene Am. Chem. Soc. , 103, 3782 (1981), and p-tert-butylcalix [4] arene was synthesized.

(製造例2)p−n−ヘキシル−カリックス[4]アレーンの製造
製造例1において、p−tert−ブチルフェノールの代わりに、p−n−ヘキシルフェノールを用いた以外は製造例1と同様の操作を行ってp−n−ヘキシルカリックス[4]アレーンを合成した。
(Production Example 2) Production of pn-hexyl-calix [4] arene In Production Example 1, the same procedure as in Production Example 1 except that pn-hexylphenol was used instead of p-tert-butylphenol. To synthesize pn-hexylcalix [4] arene.

(実施例1)例示化合物番号1−1の化合物の製造
製造例1で合成したp−tert−ブチルカリックス[4]アレーン5.0gを、クロロホルム60mLに加え、室温で10分撹拌した。この混合物に、水酸化カリウム2.7g、ヨウ化メチル13.1g及び水60gを加え、室温で24時間撹拌した。反応物を静置して水層を除去した後、クロロホルム層を水150mLで3回洗浄した。さらに、クロロホルムを留去した後、残渣に、メタノール50mLを加え固形物を濾過した。濾過した固形物を乾燥した後、クロロホルム/メタノール(体積比:5/3)の混合溶液で再結晶操作を行い、3.4gの白色結晶を得た。この白色結晶は、一般式(4)で表される化合物のフェノール性水酸基に対して、パラ位に、R1がtert−ブチル基、R2がメチル基である化合物であった。
次に、上記の白色結晶3.0gを、ベンゼン60mLに加え、室温で10分撹拌した。この混合物に、金属ナトリウム0.21gと2−プロパノール60mLを加え、さらに室温で10分撹拌した。この混合物を80℃に昇温した後、三塩化ネオジム1.2gを加え、2時間撹拌した。さらに、反応物から溶媒を留去した後、残渣に、ベンゼン60mLを加え、80℃で6時間撹拌した。その後、室温まで冷却し、24時間静置して沈降物を除き、上澄みを回収し反応物が5mL程度の溶液なるまでベンゼンを留去した。この残渣にn-ヘキサン5mLを加え、析出した固形物を濾過した。濾過した固形物を乾燥した後、0.7gの青色結晶を得た。この化合物は、トルエン中、585nmに吸収極大波長を示し、半値幅は10であった。
Example 1 Production of Compound of Example Compound No. 1-1 5.0 g of p-tert-butylcalix [4] arene synthesized in Production Example 1 was added to 60 mL of chloroform and stirred at room temperature for 10 minutes. To this mixture, 2.7 g of potassium hydroxide, 13.1 g of methyl iodide and 60 g of water were added, and the mixture was stirred at room temperature for 24 hours. The reaction product was allowed to stand to remove the aqueous layer, and then the chloroform layer was washed 3 times with 150 mL of water. Furthermore, after distilling off chloroform, 50 mL of methanol was added to the residue, and the solid matter was filtered. The filtered solid was dried and recrystallized with a mixed solution of chloroform / methanol (volume ratio: 5/3) to obtain 3.4 g of white crystals. This white crystal was a compound in which R1 is a tert-butyl group and R2 is a methyl group at the para position with respect to the phenolic hydroxyl group of the compound represented by the general formula (4).
Next, 3.0 g of the above white crystals were added to 60 mL of benzene and stirred at room temperature for 10 minutes. To this mixture, 0.21 g of metallic sodium and 60 mL of 2-propanol were added, and the mixture was further stirred at room temperature for 10 minutes. After raising the temperature of the mixture to 80 ° C., 1.2 g of neodymium trichloride was added and stirred for 2 hours. Furthermore, after distilling off the solvent from the reaction product, 60 mL of benzene was added to the residue, followed by stirring at 80 ° C. for 6 hours. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, allowed to stand for 24 hours, the precipitate was removed, the supernatant was recovered, and benzene was distilled off until the reaction product was about 5 mL of solution. To this residue, 5 mL of n-hexane was added, and the precipitated solid was filtered. After drying the filtered solid, 0.7 g of blue crystals were obtained. This compound showed an absorption maximum wavelength at 585 nm in toluene, and the half width was 10.

(実施例2) 例示化合物番号1−2の化合物の製造
実施例1において、製造例1で合成したp−tert−ブチルカリックス[4]アレーンを使用する代わりに、製造例2で合成したp−n−ヘキシルカリックス[4]アレーン4.6g、三塩化ネオジムを使用する代わりに三フッ化ネオジム0.9gを使用した以外は、実施例1に記載の操作に従い、例示化合物番号1−2の化合物1.4gを青色の固体として得た。この化合物は、トルエン中、586nmに吸収極大波長を示し、半値幅は11であった。
Example 2 Production of Compound of Exemplified Compound No. 1-2 In Example 1, instead of using p-tert-butylcalix [4] arene synthesized in Production Example 1, p-synthesized in Production Example 2 was used. Compound of Exemplified Compound No. 1-2 according to the procedure described in Example 1 except that 4.6 g of n-hexylcalix [4] arene and 0.9 g of neodymium trifluoride were used instead of neodymium trichloride. 1.4 g was obtained as a blue solid. This compound had an absorption maximum wavelength at 586 nm in toluene, and the half-width was 11.

(実施例3) 例示化合物番号1−4の化合物の製造
実施例1において、ヨウ化メチルを使用する代わりに臭化エチル10.0g、三塩化ネオジムを使用する代わりに三フッ化ネオジム0.9gを使用した以外は、実施例1に記載の操作に従い、例示化合物番号1−4の化合物1.3gを青色の固体として得た。この化合物は、トルエン中、585nmに吸収極大波長を示し、半値幅は10であった。
Example 3 Production of Compounds of Exemplary Compound Nos. 1-4 In Example 1, 10.0 g of ethyl bromide was used instead of methyl iodide, and 0.9 g of neodymium trifluoride was used instead of neodymium trichloride. Except that was used, according to the procedure described in Example 1, 1.3 g of the compound of Exemplified Compound No. 1-4 was obtained as a blue solid. This compound showed an absorption maximum wavelength at 585 nm in toluene, and the half width was 10.

(実施例4) 例示化合物番号1−6の化合物の製造
実施例1において、ヨウ化メチルを使用する代わりにp−トルエンスルホン酸2,2,2,−トリフルオロエチルエステル23.4g、三塩化ネオジムを使用する代わりに三フッ化ネオジム0.9gを使用した以外は、実施例1に記載の操作に従い、例示化合物番号1−6の化合物1.5gを青色の固体として得た。この化合物は、トルエン中、590nmに吸収極大波長を示し、半値幅は13であった。
Example 4 Production of Compounds of Illustrative Compound Nos. 1-6 In Example 1, instead of using methyl iodide, 23.4 g of p-toluenesulfonic acid 2,2,2, -trifluoroethyl ester, trichloride Except for using 0.9 g of neodymium trifluoride instead of using neodymium, 1.5 g of the compound of Exemplified Compound No. 1-6 was obtained as a blue solid according to the procedure described in Example 1. This compound showed an absorption maximum wavelength at 590 nm in toluene, and the half-value width was 13.

(実施例5) 例示化合物番号1−15の化合物の製造
実施例1において、製造例1で合成したp−tert−ブチルカリックス[4]アレーンを使用する代わりに、製造例2で合成したp−n−ヘキシルカリックス[4]アレーン4.6g、ヨウ化メチルを使用する代わりにp−トルエンスルホン酸2,2,2,−トリフルオロエチルエステル23.4gを使用した以外は、実施例1に記載の操作に従い、例示化合物番号1−15の化合物1.5gを青色の固体として得た。この化合物は、トルエン中、588nmに吸収極大波長を示し、半値幅は13であった。
(Example 5) Production of Compound of Exemplified Compound No. 1-15 In Example 1, instead of using p-tert-butylcalix [4] arene synthesized in Production Example 1, p- synthesized in Production Example 2 was used. Example 1 except that 4.6 g of n-hexylcalix [4] arene and 23.4 g of p-toluenesulfonic acid 2,2,2, -trifluoroethyl ester were used instead of methyl iodide. Then, 1.5 g of the compound of Exemplified Compound No. 1-15 was obtained as a blue solid. This compound showed an absorption maximum wavelength at 588 nm in toluene, and the half width was 13.

(実施例6)例示化合物番号2−1の化合物の製造
製造例1で合成したp−tert−ブチルカリックス[4]アレーン5.0gを、クロロホルム60mLに加え、室温で10分撹拌した。この混合物に、水酸化カリウム2.7g、8−(2−ブロモエトキシ)キノリン10.1g及び水60gを加え、室温で24時間撹拌した。反応物を静置して水層を除去した後、クロロホルム層を水150mLで3回洗浄した。さらに、クロロホルムを留去した後、残渣に、メタノール50mLを加え固形物を濾過した。濾過した固形物を乾燥した後、クロロホルム/メタノール(体積比:5/3)の混合溶液で再結晶操作を行い、5.2gの白色結晶を得た。この白色結晶は、一般式(9)で表される化合物のフェノール性水酸基に対して、パラ位に、R1がtert−ブチル基、R4が8位に置換したキノリニル基である化合物であった。
次に、上記の白色結晶1.0gを、ジクロロメタン20mLに加え、室温で10分撹拌した。この混合物に、ネオジム(III)p-メチルベンゼンスルホネート0.48gとメタノール20mLの混合溶液を加え、さらに室温で10分撹拌した。この混合物に、トリエチルアミン0.1gを加え、2時間撹拌した。さらに、反応物から溶媒を留去した後、残渣に、n-ヘキサン5mLを加え、析出した固形物を濾過した。濾過した固形物を乾燥した後、0.6gの青色結晶を得た。この化合物は、トルエン中、587nmに吸収極大波長を示し、半値幅は10であった。
(Example 6) Production of compound of exemplified compound number 2-1 p-tert-butylcalix [4] arene synthesized in Production Example 1 (5.0 g) was added to chloroform (60 mL) and stirred at room temperature for 10 minutes. To this mixture, 2.7 g of potassium hydroxide, 10.1 g of 8- (2-bromoethoxy) quinoline and 60 g of water were added and stirred at room temperature for 24 hours. The reaction product was allowed to stand to remove the aqueous layer, and then the chloroform layer was washed 3 times with 150 mL of water. Furthermore, after distilling off chloroform, 50 mL of methanol was added to the residue, and the solid matter was filtered. The filtered solid was dried and then recrystallized with a mixed solution of chloroform / methanol (volume ratio: 5/3) to obtain 5.2 g of white crystals. This white crystal was a compound in which R1 was a tert-butyl group and R4 was a quinolinyl group substituted at the 8-position with respect to the phenolic hydroxyl group of the compound represented by the general formula (9).
Next, 1.0 g of the above white crystals was added to 20 mL of dichloromethane and stirred at room temperature for 10 minutes. To this mixture, a mixed solution of 0.48 g of neodymium (III) p-methylbenzenesulfonate and 20 mL of methanol was added, and the mixture was further stirred at room temperature for 10 minutes. To this mixture, 0.1 g of triethylamine was added and stirred for 2 hours. Further, after the solvent was distilled off from the reaction product, 5 mL of n-hexane was added to the residue, and the precipitated solid was filtered. After drying the filtered solid, 0.6 g of blue crystals were obtained. This compound had an absorption maximum wavelength at 587 nm in toluene, and the half-width was 10.

(実施例7) ディスプレイ用フィルタの作製
トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(厚さ:80μm)を基体とし、その一方の面に、機能性透明層として、次の機能性透明膜をロール・ツー・ロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにITO微粒子(平均粒径:10nm)を分散させた塗工液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化させて、導電性ハードコート膜(膜厚:3μm)を形成した。その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工し、90℃で乾燥、熱硬化させて、屈折率1.4の反射防止膜(膜厚:100nm)を形成し、ハードコート機能(鉛筆硬度:2H)、反射防止機能(表面の可視光線反射率:0.9%)、帯電防止機能(面抵抗:7×10Ω/□)、防汚機能を有する機能性透明膜を形成した。
一方、酢酸エチル/トルエン(50:50質量%)溶媒に、実施例1で製造した、例示化合物番号1−1の化合物を溶解させて希釈液とした。
アクリル系粘着剤(80質量%)と、この例示化合物番号1−1の化合物を含む希釈液(20質量%)を混合し、機能性透明膜/TACフィルムのTAC面上に、コンマコーターにより乾燥膜厚25μmに塗工し、乾燥させて、透明粘着層を形成した。透明粘着層面に離型フィルムをラミネートしてロール状に巻き取り、離型フィルムを有するディスプレイ用フィルタを作製した。
尚、例示化合物番号1−1の化合物は、乾燥した粘着材の中で1650(質量)ppm含有するように、希釈液を調製した。さらに、該ディスプレイ用フィルタをシート状に裁断し、離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面(表示部920mm×520mm)に、枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、表示部全体に透明粘着層部を貼合わせるようにシート裁断、貼り位置合わせを行なった。貼合わせた後、60℃、2×10Paの条件下でオートクレーブ処理し、ディスプレイ用フィルタを装着した表示装置を得た。
なお、上記で作製したディスプレイ用フィルタを、以下の項目に付いて測定、評価した。評価結果を表1及び表2に示した。
(I)プラズマディスプレイの明所コントラスト比(最高輝度/最低輝度比)
ディスプレイ用フィルタの装着前と装着後のプラズマディスプレイで評価した。測定方法は、周囲明るさ100lxの明時において、プラズマディスプレイの白色表示時の最高輝度(cd/m)と黒色表示時の最低輝度(cd/m)を、ミノルタ(株)製の輝度計(LS−110)を用いて測定し、コントラスト比(最高輝度/最低輝度比)を求めた。尚、ディスプレイ用フィルタ装着前のコントラスト比は、20であった。
(II)ディスプレイ用フィルタの耐熱性試験
ディスプレイ用フィルタを、80℃、85%RHで、100時間保存して評価した。測定方法は、耐熱性試験前と耐熱性試験後のディスプレイ用フィルタの小片をそれぞれ、(株)日立製作所製の分光光度計(U−300)を用いて測定し、595nmにおける透過率を、610nmにおける透過率に対する比率(%)(595nmの透過率/610nmの透過率×100)で求め、評価したた。
(III)プラズマディスプレイの発光色の色純度
ディスプレイ用フィルタを形成する前後で評価した。三原色である赤色(R)表示、緑色(G)表示、青色(B)表示において、ミノルタ(株)製CRTカラーアナライザ(CA100)を用いて、RGB色度(x、y)を測定した。三原色の色度がNTSC方式で定められた色度に近いほど好ましい。
(Example 7) Manufacture of display filter A triacetyl cellulose (TAC) film (thickness: 80 μm) as a base, and the following functional transparent film as a functional transparent layer on one side thereof is rolled to It was formed continuously with a roll. That is, a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin, and a coating liquid in which ITO fine particles (average particle size: 10 nm) are further dispersed is applied with a gravure coater and UV cured to form a conductive hard coat film. (Film thickness: 3 μm) was formed. A fluorine-containing organic compound solution is coated on the microgravure coater, dried at 90 ° C and thermally cured to form an antireflective film (film thickness: 100 nm) with a refractive index of 1.4. Hard coat function (Pencil hardness: 2H), antireflection function (surface visible light reflectance: 0.9%), antistatic function (surface resistance: 7 × 10 9 Ω / □), functional transparent film having antifouling function Formed.
On the other hand, the compound of Exemplified Compound No. 1-1 produced in Example 1 was dissolved in an ethyl acetate / toluene (50: 50% by mass) solvent to prepare a diluted solution.
Acrylic pressure-sensitive adhesive (80% by mass) and a dilute solution (20% by mass) containing the compound of Example Compound No. 1-1 are mixed and dried on the TAC surface of the functional transparent film / TAC film by a comma coater. The film was applied to a film thickness of 25 μm and dried to form a transparent adhesive layer. A release film was laminated on the surface of the transparent adhesive layer and wound into a roll to produce a display filter having a release film.
In addition, the dilution liquid was prepared so that the compound of exemplary compound number 1-1 might contain 1650 (mass) ppm in the dry adhesive material. Furthermore, the display filter was cut into a sheet shape, the release film was peeled off, and was bonded to the front surface of the plasma display panel (display portion 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator. At this time, sheet cutting and bonding position alignment were performed so that the transparent adhesive layer portion was bonded to the entire display portion. After pasting, it was autoclaved at 60 ° C. and 2 × 10 5 Pa to obtain a display device equipped with a display filter.
The display filter produced above was measured and evaluated for the following items. The evaluation results are shown in Tables 1 and 2.
(I) Plasma display contrast ratio (maximum luminance / minimum luminance ratio)
The plasma display was evaluated before and after the display filter was mounted. The measurement method is the brightness of the maximum brightness (cd / m 2 ) at the time of white display on the plasma display and the minimum brightness (cd / m 2 ) at the time of black display when the ambient brightness is 100 lx. The contrast ratio (maximum luminance / minimum luminance ratio) was determined using a meter (LS-110). The contrast ratio before the display filter was mounted was 20.
(II) Heat resistance test of display filter The display filter was evaluated by storing at 80 ° C. and 85% RH for 100 hours. The measuring method is to measure the small pieces of the display filter before and after the heat resistance test using a spectrophotometer (U-300) manufactured by Hitachi, Ltd., and the transmittance at 595 nm is 610 nm. The ratio to the transmittance in% (%) (transmittance at 595 nm / transmittance at 610 nm × 100) was evaluated.
(III) Color purity of emission color of plasma display Evaluation was performed before and after forming a filter for display. In the three primary colors of red (R), green (G), and blue (B), RGB chromaticity (x, y) was measured using a CRT color analyzer (CA100) manufactured by Minolta. The closer the chromaticity of the three primary colors is to the chromaticity determined by the NTSC system, the better.

(実施例8〜12) ディスプレイ用フィルタの作製
実施例7において、粘着層の形成に際し、例示化合物番号1−1の化合物を使用する代わりに、実施例2で製造した、例示化合物番号1−2の化合物(実施例8)、実施例3で製造した、例示化合物番号1−4の化合物(実施例9)、実施例4で製造した、例示化合物番号1−6の化合物(実施例10)、実施例5で製造した、例示化合物番号1−15の化合物(実施例11)、更に、実施例6で製造した、例示化合物番号2−1の化合物(実施例12)を使用した以外は、実施例7に記載の方法により、ディスプレイ用フィルタを作製し、さらに、該ディスプレイ用フィルタを装着した表示装置を得た。
作製したディスプレイ用フィルタに関して、実施例7と同様に測定、評価した結果を表1及び表2に示した。
(Examples 8 to 12) Preparation of display filter In Example 7, instead of using the compound of Exemplified Compound No. 1-1 when forming the adhesive layer, Exemplified Compound No. 1-2 produced in Example 2 was used. Compound of Example Compound No. 1-4 (Example 9) produced in Example 3, Compound of Example Compound No. 1-4 (Example 9), Compound of Example Compound No. 1-6 produced in Example 4 (Example 10), Except that the compound of Example Compound No. 1-15 (Example 11) produced in Example 5 and the compound of Example Compound No. 2-1 (Example 12) produced in Example 6 were used, this was carried out. A display filter was produced by the method described in Example 7, and a display device equipped with the display filter was obtained.
Table 1 and Table 2 show the results of measurement and evaluation of the produced display filter in the same manner as in Example 7.

(比較例1) ディスプレイ用フィルタの作製
実施例7において、粘着層の形成に際し、例示化合物番号1−1の化合物を使用しない以外は、実施例7に記載の方法により、ディスプレイ用フィルタを作製し、さらに、該ディスプレイ用フィルタを装着した表示装置を得た。
作製したディスプレイ用フィルタに関して、実施例7と同様に測定、評価した結果を表1及び表2に示した。
(Comparative Example 1) Production of display filter In Example 7, a display filter was produced by the method described in Example 7 except that the compound of Exemplified Compound No. 1-1 was not used when forming the adhesive layer. Furthermore, a display device equipped with the display filter was obtained.
Table 1 and Table 2 show the results of measurement and evaluation of the produced display filter in the same manner as in Example 7.

(比較例2) ディスプレイ用フィルタの作製
実施例7において、粘着層の形成に際し、例示化合物番号1−1の化合物を使用する代わりに、比較化合物として、下記式(11)で表される特開2008−268331号公報に記載の化合物を使用した以外は、実施例7に記載の方法により、ディスプレイ用フィルタを作製し、さらに、該ディスプレイ用フィルタを装着した表示装置を得た。作製したディスプレイ用フィルタに関して、実施例7と同様に測定、評価した結果を表1及び表2に示した。
(Comparative example 2) Preparation of display filter In Example 7, when forming an adhesive layer, instead of using the compound of Exemplified Compound No. 1-1, as a comparative compound, a JP-A represented by the following formula (11) A display filter was produced by the method described in Example 7 except that the compound described in JP-A-2008-268331 was used, and a display device equipped with the display filter was obtained. Table 1 and Table 2 show the results of measurement and evaluation of the produced display filter in the same manner as in Example 7.

表1
(I)プラズマディスプレイの明所コントラスト比(最高輝度/最低輝度比)
(II)ディスプレイ用フィルタの耐熱性試験
比率(%);595nmの透過率/610nmの透過率×100
Table 1
(I) Plasma display contrast ratio (maximum luminance / minimum luminance ratio)
(II) Heat resistance test of display filters
Ratio (%): 595 nm transmittance / 610 nm transmittance × 100

表2
(III)プラズマディスプレイの発光色の色純度

表1から、本発明のディスプレイ用フィルタを装着したプラズマディスプレイのコントラストは、大きく改善されていることが判る。また、本発明のディスプレイ用フィルタの耐湿熱性は、優れていることが判る。
表2から、本発明のディスプレイ用フィルタを装着したプラズマディスプレイのコントラスト及び色純度、特に赤色の色純度が、大きく改善されていることが判る。
Table 2
(III) Color purity of emission color of plasma display

From Table 1, it can be seen that the contrast of the plasma display equipped with the display filter of the present invention is greatly improved. Moreover, it turns out that the heat-and-moisture resistance of the display filter of this invention is excellent.
From Table 2, it can be seen that the contrast and color purity of the plasma display equipped with the display filter of the present invention, particularly the color purity of red, is greatly improved.

(実施例13)ディスプレイ用フィルタの作製
ポリエチレンテレフタレート(PET)ペレットに、実施例1で合成した、例示化合物番号1−1の化合物を0.018質量%、さらに白色発光の色度を補正用に赤色色素PS−Red−G〔三井化学(株)製〕を0.004質量%混合した後、260〜280℃で溶融し、押し出し機によりPETフィルム(厚さ:250μm)を作製した。その後、このPETフィルムを2軸延伸して、基体中に例示化合物番号1−1の化合物、および赤色色素PS−Red−Gを含有するフィルム状の基体(厚さ:125μm)を作製した。
さらにロール状に巻き取った上記フィルム状の基体の一方の面上に、機能性透明層として次の機能性透明膜をロール・ツー・ロールで連続的に形成した。すなわち、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらに有機シリカ微粒子(平均粒径:15μm)を分散させた塗工液を、塗工し、紫外線硬化させて、防眩機能(ヘーズ値:5%)、およびハードコート機能(鉛筆硬度:2H)を有する機能性透明膜(厚さ:3μm)を形成した。その後、アクリル系粘着剤を用いて、機能性透明膜とは反対側のフィルム状の基体面上に、透明粘着層を形成した。
透明粘着層面に離型フィルムをラミネートしてロール状に巻き取り、離型フィルムを有するディスプレイ用フィルタを作製した。さらに、該ディスプレイ用フィルタをシート状に裁断し、離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面(表示部920mm×520mm)に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた。この際、表示部全体に透明粘着層部を貼合わせるようにシート裁断、貼り位置合わせを行なった。貼合わせ後、60℃、2×10Paの条件下でオートクレーブ処理し、ディスプレイ用フィルタを装着した表示装置を得た。このディスプレイ用フィルタは、波長610nmの透過率に対する595nmの透過率は30%であった。また、このディスプレイ用フィルタを装着したプラズマディスプレイは、周囲照度100lxの条件下における明所コントラスト比が、ディスプレイ用フィルタを装着する前が20であったのに対し、37に向上した。
(Example 13) Production of filter for display 0.018% by mass of compound of Exemplified Compound No. 1-1 synthesized in Example 1 in polyethylene terephthalate (PET) pellets, and further for correcting the chromaticity of white light emission After mixing 0.004 mass% of red pigment PS-Red-G [manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.], it was melted at 260 to 280 [deg.] C. to produce a PET film (thickness: 250 [mu] m) by an extruder. Thereafter, the PET film was biaxially stretched to prepare a film-like substrate (thickness: 125 μm) containing the compound of Exemplified Compound No. 1-1 and the red dye PS-Red-G in the substrate.
Furthermore, the following functional transparent film was continuously formed by roll-to-roll as a functional transparent layer on one surface of the film-like substrate wound up in a roll. That is, a photopolymerization initiator is added to a polyfunctional methacrylate resin, and a coating liquid in which organic silica fine particles (average particle size: 15 μm) are further dispersed is applied and UV-cured to produce an antiglare function (haze value: 5%) and a functional transparent film (thickness: 3 μm) having a hard coat function (pencil hardness: 2H). Then, the transparent adhesive layer was formed on the film-like base | substrate surface on the opposite side to a functional transparent film using the acrylic adhesive.
A release film was laminated on the surface of the transparent adhesive layer and wound into a roll to produce a display filter having a release film. Further, the display filter was cut into a sheet shape, the release film was peeled off, and bonded to the front surface of the plasma display panel (display portion 920 mm × 520 mm) using a single-wafer laminator. At this time, sheet cutting and bonding position alignment were performed so that the transparent adhesive layer portion was bonded to the entire display portion. After pasting, autoclaving was performed under conditions of 60 ° C. and 2 × 10 5 Pa to obtain a display device equipped with a display filter. This display filter had a transmittance at 595 nm of 30% with respect to a transmittance at a wavelength of 610 nm. In addition, the plasma display equipped with this display filter improved the bright contrast ratio under the condition of ambient illuminance of 100 lx to 37, compared with 20 before the display filter was installed.

(実施例14) ディスプレイ用フィルタの作製
2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(PET)(厚さ:188μm)を基体とし、その一方の面に、PETフィルムから順に、ITO薄膜(膜厚:40nm)、銀薄膜(膜厚:11nm)、ITO薄膜(膜厚:95nm)、銀薄膜(膜厚:14nm)、ITO薄膜(膜厚:90nm)、銀薄膜(膜厚:12nm)、ITO薄膜(膜厚:40nm)の計7層の透明導電層を形成し、面抵抗2.2Ω/□の透明導電層を有する透明積層体を作製した。酢酸エチル/トルエン(50:50質量%)溶媒に、実施例3で合成した、例示化合物番号1−4の化合物、および赤色色素PS−Red−G〔三井化学(株)製〕を溶解させて希釈液とした。
アクリル系粘着剤(80質量%)と、この希釈液(20質量%)を混合し、コンマコーターにより透明積層体の基体側の面に、乾燥膜厚25μmに塗工し、乾燥させて、粘着面に離型フィルムをラミネートして、離型フィルムと透明積層体の基体に挟み込まれた透明粘着層を形成した。尚、粘着材の屈折率は1.51、消光係数は0であった。尚、例示化合物番号1−4の化合物および赤色色素PS−Red−Gは、乾燥した粘着材の中で、それぞれ1150(質量)ppm、1050(質量)ppm含有するように調製した。
(Example 14) Manufacture of display filter A biaxially stretched polyethylene terephthalate film (PET) (thickness: 188 μm) as a base, and on one surface thereof, in order from the PET film, an ITO thin film (film thickness: 40 nm), silver Thin film (film thickness: 11 nm), ITO thin film (film thickness: 95 nm), silver thin film (film thickness: 14 nm), ITO thin film (film thickness: 90 nm), silver thin film (film thickness: 12 nm), ITO thin film (film thickness: 40 nm) in total, 7 transparent conductive layers were formed, and a transparent laminate having a transparent conductive layer having a surface resistance of 2.2 Ω / □ was produced. The compound of Exemplified Compound No. 1-4 synthesized in Example 3 and the red dye PS-Red-G (manufactured by Mitsui Chemicals) were dissolved in an ethyl acetate / toluene (50:50 mass%) solvent. Diluted solution.
Acrylic pressure-sensitive adhesive (80% by mass) and this dilute solution (20% by mass) are mixed, applied to the surface of the substrate side of the transparent laminate with a comma coater to a dry film thickness of 25 μm, dried and adhered. A release film was laminated on the surface to form a transparent adhesive layer sandwiched between the release film and the substrate of the transparent laminate. The adhesive material had a refractive index of 1.51 and an extinction coefficient of 0. In addition, the compound of exemplary compound number 1-4 and red pigment | dye PS-Red-G were prepared so that it might respectively contain 1150 (mass) ppm and 1050 (mass) ppm in the dry adhesive material.

一方、トリアセチルセルロースフィルム(厚さ:80μm)の一方の主面に、多官能メタクリレート樹脂に光重合開始剤を加え、さらにITO微粒子(平均粒径:10nm)を分散させたコート液をグラビアコーターにて塗工し、紫外線硬化させて、導電性ハードコート膜(膜厚:3μm)を形成した。その上に含フッ素有機化合物溶液をマイクログラビアコーターにて塗工し、90℃で乾燥、熱硬化させて、屈折率1.4の反射防止膜(膜厚:100nm)を形成し、ハードコート機能(鉛筆硬度:2H)、ガスバリア機能(透湿度:1.8g/m2・day)、反射防止機能(表面の可視光線反射率:1.0%)、帯電防止機能(面抵抗:7×109 Ω/□)、防汚機能を有する機能性透明層として、反射防止フィルムを作製した。反射防止フィルムの他方の主面に、アクリル系粘着剤と希釈液〔酢酸エチル/トルエン(50:50質量%)〕を塗工・乾燥させ、厚さ25μmの透明粘着層を形成し、さらに離型フィルムをラミネートした。ロール状の透明積層体/粘着材/離型フィルムを、970mm×570mmの大きさに裁断し、ガラス製支持板に透明導電層面を上にして固定した。さらに、ラミネーターを用いて、透明導電層の周縁部20mmが剥き出しになるように導通部を残して、内側だけに反射防止フィルムをラミネートした。さらに、透明導電層の剥き出しの導通部を覆うように周縁部の幅22mmの範囲に、銀ペーストをスクリーン印刷し、乾燥させて、厚さ15μmの電極を形成した。ガラス製支持板から外して、透明粘着層面に離型フィルムを有する電磁波シールド機能を有するディスプレイ用フィルタを作製した。さらに、ディスプレイ用フィルタの離型フィルムを剥離して、プラズマディスプレイパネル前面(表示部920mm×520mm)に枚葉式ラミネーターを用いて貼合わせた後、60℃、2×105 Paの条件下でオートクレーブ処理した。ディスプレイ用フィルタの電極部とプラズマディスプレイパネルのアース部を、導電性銅箔粘着テープを用いて接続し、ディスプレイ用フィルタを装着した表示装置を得た。
このディスプレイ用フィルタを装着したプラズマディスプレイは、波長610nmの透過率に対する595nmの透過率は37%であった。また、ディスプレイ用フィルタを装着したプラズマディスプレイは、周囲照度100lxの条件下における明所コントラスト比が、ディスプレイ用フィルタを形成される前が20であったのに対して、44に向上した。また、赤外線リモートコントローラーを使用する電子機器として、家庭用VTRを、プラズマディスプレイに0.5mに近付けても、VTRは誤動作しなかった。尚、ディスプレイ用フィルタを装着しない場合は、VTRをプラズマディスプレイから5m遠ざけても、VTRは誤動作した。
On the other hand, a gravure coater is applied to one surface of a triacetyl cellulose film (thickness: 80 μm) by adding a photopolymerization initiator to a polyfunctional methacrylate resin and further dispersing ITO fine particles (average particle size: 10 nm). Was applied and cured with UV to form a conductive hard coat film (film thickness: 3 μm). A fluorine-containing organic compound solution is coated on the microgravure coater, dried at 90 ° C and thermally cured to form an antireflective film (film thickness: 100 nm) with a refractive index of 1.4. Hard coat function (Pencil hardness: 2H), gas barrier function (moisture permeability: 1.8 g / m 2 · day), antireflection function (visible surface light reflectance: 1.0%), antistatic function (surface resistance: 7 × 10 9 Ω / □), an antireflection film was produced as a functional transparent layer having an antifouling function. On the other main surface of the antireflection film, an acrylic pressure-sensitive adhesive and a diluent [ethyl acetate / toluene (50: 50% by mass)] are applied and dried to form a transparent pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 25 μm and further separated. A mold film was laminated. The roll-shaped transparent laminate / adhesive / release film was cut into a size of 970 mm × 570 mm and fixed on a glass support plate with the transparent conductive layer surface facing up. Furthermore, using a laminator, the antireflection film was laminated only on the inner side, leaving the conductive portion so that the peripheral portion 20 mm of the transparent conductive layer was exposed. Further, a silver paste was screen-printed in a range of a width of 22 mm at the peripheral edge so as to cover the exposed conductive portion of the transparent conductive layer, and dried to form an electrode having a thickness of 15 μm. A display filter having an electromagnetic wave shielding function having a release film on the transparent adhesive layer surface was prepared by removing from the glass support plate. Furthermore, the release film of the display filter is peeled off and bonded to the front surface of the plasma display panel (display unit 920 mm × 520 mm) using a single wafer laminator, and then at 60 ° C. and 2 × 10 5 Pa. Autoclaved. The electrode part of the display filter and the ground part of the plasma display panel were connected using a conductive copper foil adhesive tape to obtain a display device equipped with the display filter.
In the plasma display equipped with this display filter, the transmittance at 595 nm was 37% with respect to the transmittance at 610 nm. Also, the plasma display equipped with the display filter improved the bright spot contrast ratio under the condition of ambient illuminance of 100 lx to 44, compared with 20 before the display filter was formed. Moreover, even when a home VTR was brought close to a plasma display as 0.5 m as an electronic device using an infrared remote controller, the VTR did not malfunction. When the display filter was not attached, the VTR malfunctioned even when the VTR was moved 5 m away from the plasma display.

(実施例15) ディスプレイ用フィルタの作製
酢酸エチル/トルエン(50:50質量%)溶媒に、実施例4で合成した、例示化合物番号1−6の化合物を溶解させて希釈液とした。アクリル系粘着剤(80質量%)と、この例示化合物番号1−6の化合物を含む希釈液(20質量%)を混合し、ポリエチレンテレフタレートフィルム(75μm)の面上に、ダイコーターにより乾燥膜厚20μmに塗工、乾燥させて、ディスプレイ用フィルタを製造した。尚、例示化合物番号1−6の化合物は、乾燥した粘着材の中で1200(質量)ppm含有するように、希釈液を調製した。このディスプレイ用フィルタは、波長610nmの透過率に対する595nmの透過率は19%であった。赤色の色度(x、y)が、(0.612、0.335)である透過型液晶ディスプレイ画面(カラーフィルタ付き)に、このディスプレイ用フィルタを装着すると、赤色の色度が、(0.616、0.332)となった。すなわち、本発明のディスプレイ用フィルタを装着すると、赤色の色度が、NTSC方式で定められた赤色の色度(0.670、0.330)に近づいた。
Example 15 Production of Display Filter The compound of Exemplified Compound No. 1-6 synthesized in Example 4 was dissolved in an ethyl acetate / toluene (50: 50% by mass) solvent to obtain a diluted solution. An acrylic pressure-sensitive adhesive (80% by mass) and a diluent (20% by mass) containing the compound of Exemplified Compound No. 1-6 are mixed, and a dry film thickness is formed by a die coater on the surface of the polyethylene terephthalate film (75 μm). A filter for display was manufactured by coating and drying to 20 μm. In addition, the dilution liquid was prepared so that the compound of exemplary compound number 1-6 might contain 1200 (mass) ppm in the dry adhesive material. In this display filter, the transmittance at 595 nm was 19% with respect to the transmittance at a wavelength of 610 nm. When this display filter is attached to a transmissive liquid crystal display screen (with a color filter) whose red chromaticity (x, y) is (0.612, 0.335), the red chromaticity is (0 .616, 0.332). That is, when the display filter of the present invention is mounted, the red chromaticity approaches the red chromaticity (0.670, 0.330) determined by the NTSC system.

(実施例16) 眼鏡用フィルタの作製
温度計、撹拌機、窒素シール管を備えた500mLセパラブルフラスコに、平均分子量1014のポリオキシテトラメチレングリコール(保土谷化学工業製:PTG−1000N)200部をとり、窒素気流中で撹拌しながら加熱し、100〜110℃/3〜5mmHgの減圧下で1時間脱水した。脱水後4,4´−メチレン−ビス(シクロへキシルイソシアネート)(住友バイエルウレタン製:デスモジュールW)170部を添加し、120〜130℃で2時間反応してプレポリマーを製造した。得られたプレポリマーは無色透明液体であり、NCO含量9.9%、粘度8600mPa・s/30℃,750mPa・ s/60℃であった。
得られたプレポリマー100重量部を70℃に加熱してから、実施例1で合成した、例示化合物番号1−1の化合物を0.10重量部添加し混合した後、120℃で溶融した4,4´−メチレン−ビス(2−クロロアニリン)31.4重量部と脱泡混合した。この混合物を100℃で予備加熱したモールドに注入し、100℃で24時間加熱硬化し、レンズ厚さ約2.6mmの眼鏡用レンズを製造した。
得られたレンズを通しての観察では、例えば、晴天下の樹木の小枝の線や赤色、黄色、緑色のコントラストがきわめて明瞭化して見えた。
(Example 16) Manufacture of eyeglass filter In a 500 mL separable flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a nitrogen seal tube, 200 parts of polyoxytetramethylene glycol having an average molecular weight of 1014 (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd .: PTG-1000N) The mixture was heated with stirring in a nitrogen stream and dehydrated under reduced pressure of 100 to 110 ° C./3 to 5 mmHg for 1 hour. After dehydration, 170 parts of 4,4′-methylene-bis (cyclohexyl isocyanate) (manufactured by Sumitomo Bayer Urethane: Desmodur W) was added and reacted at 120 to 130 ° C. for 2 hours to produce a prepolymer. The obtained prepolymer was a colorless transparent liquid, and had an NCO content of 9.9%, a viscosity of 8600 mPa · s / 30 ° C., and 750 mPa · s / 60 ° C.
After heating 100 parts by weight of the obtained prepolymer to 70 ° C., 0.10 parts by weight of the compound of Example Compound No. 1-1 synthesized in Example 1 was added and mixed, and then melted at 120 ° C. 4 , 4'-methylene-bis (2-chloroaniline) 31.4 parts by weight and defoamed. This mixture was poured into a mold preheated at 100 ° C. and heat-cured at 100 ° C. for 24 hours to produce a spectacle lens having a lens thickness of about 2.6 mm.
In the observation through the obtained lens, for example, the lines of the twigs of trees under clear weather and the contrast of red, yellow and green looked very clear.

(実施例17) 眼鏡用フィルタの作製
温度計、撹拌機、窒素シール管を備えた500mLセパラブルフラスコに、平均分子量1014のポリオキシテトラメチレングリコール(保土谷化学工業製:PTG−1000N)200部をとり、窒素気流中で撹拌しながら加熱し、100〜110℃/3〜5mmHgの減圧下で1時間脱水した。脱水後イソホロンジイソシアネート(バイエル社製デスモジュールI)131部を添加し120〜130℃で2時間反応してプレポリマーを製造した。得られたプレポリマーは無色透明の液体であり、NCO含量9.7%,粘度6900mPa・s/30℃,900mPa・s/60℃であった。
得られたプレポリマーの100重量部を70℃に加熱してから、実施例3で合成した、例示化合物番号1−4の化合物を0.10重量部添加し混合した後、120℃で溶融した4,4´メチレン−ビス(2,6−ジエチルアニリン)36.5重量部と脱泡混合した。この混合物を100℃で予備加熱したモールドに注入し、数分のポットライフに応じて速やかに成型を完了させ、100℃で24時間加熱硬化し、レンズ厚さ約2.0mmの眼鏡用レンズを製造した。
(Example 17) Preparation of filter for glasses 200 parts of polyoxytetramethylene glycol having an average molecular weight of 1014 (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd .: PTG-1000N) was added to a 500 mL separable flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a nitrogen seal tube. The mixture was heated with stirring in a nitrogen stream and dehydrated under reduced pressure of 100 to 110 ° C./3 to 5 mmHg for 1 hour. After dehydration, 131 parts of isophorone diisocyanate (Bayer's Desmodule I) was added and reacted at 120 to 130 ° C. for 2 hours to prepare a prepolymer. The obtained prepolymer was a colorless and transparent liquid, and had an NCO content of 9.7%, a viscosity of 6900 mPa · s / 30 ° C., and 900 mPa · s / 60 ° C.
After 100 parts by weight of the obtained prepolymer was heated to 70 ° C., 0.10 parts by weight of the compound of Example Compound No. 1-4 synthesized in Example 3 was added and mixed, and then melted at 120 ° C. The mixture was defoamed and mixed with 36.5 parts by weight of 4,4'methylene-bis (2,6-diethylaniline). This mixture is poured into a mold preheated at 100 ° C., and molding is quickly completed according to a pot life of several minutes, and heat curing is performed at 100 ° C. for 24 hours. Manufactured.

次いで、メタノール626部と水性エマルジョンポリウレタン(日華化学製:ネオステッカー700、固形分濃度37%)221.8部を混合した後、メタノール分散二酸化チタン一五酸化アンチモン−二酸化ケイ素複合微粒子ゾル(触媒化成工業製:固形分濃度20wt%)309.6部、シリコン系界面活性剤(日本ユニカー株式会社製:L−7604)0.25部を混合してよく撹拌してプライマー組成物を製造した。
このプライマー組成物を該眼鏡用レンズ上に浸漬法(引き上げ速度15cm/min)にて塗布した。塗布した眼鏡用レンズは100℃で20分間加熱硬化処理して基材上に膜厚1.0μm、屈折率1.67のプライマー層を形成させた。
さらに、メタノール78部、ブチルセロソルブ100.3部、メタノール分散二酸化チタン一五酸化アンチモン−二酸化ケイ素複合微粒子ゾル1380.9部、メタノール分散コロイド状シリカ(触媒化成工業製:オスカル1132 固形分濃度30重量%)61.42部を混合した後、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン289.9部を混合した。この混合液に0.05N塩酸水溶液80.1部を撹拌しながら滴下し、さらに4時間撹拌後、一昼夜熟成させた。この液に過塩素酸マグネシウム4.4部、シリコン系界面活性剤(日本ユニカー製:L−7001)0.6部およびヒンダードアミン系光安定剤(三共製:サノールLS−770)2.3部を添加し4時間撹拌後一昼夜熟成させてハードコート組成物を製造した。
このハードコート組成物を、該プライマー層の形成で得られたプライマー層上に浸漬法(引き上げ速度25cm/min)にて塗布した。塗布した該眼鏡用レンズは80℃で30分間加熱硬化処理後、120℃で180分間の加熱硬化処理を行った。このようにしてプライマー層上に膜厚2.2μm、屈折率1.67のハードコート層を形成させた。
なお、得られたレンズを通しての観察では、例えば、晴天下の樹木の小枝の線や赤色、黄色、緑色のコントラストがきわめて明瞭化して見えた。
Subsequently, after mixing 626 parts of methanol and 221.8 parts of aqueous emulsion polyurethane (manufactured by Nikka Chemical: Neo sticker 700, solid content concentration 37%), methanol-dispersed titanium dioxide antimony pentoxide-silicon dioxide composite fine particle sol (catalyst) A primer composition was produced by mixing 309.6 parts of Kasei Kogyo Co., Ltd. (solid content concentration: 20 wt%) and 0.25 parts of a silicon surfactant (manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd .: L-7604) and stirring well.
This primer composition was applied onto the spectacle lens by a dipping method (pickup speed: 15 cm / min). The applied spectacle lens was heat-cured at 100 ° C. for 20 minutes to form a primer layer having a film thickness of 1.0 μm and a refractive index of 1.67 on the substrate.
Further, 78 parts of methanol, 100.3 parts of butyl cellosolve, 1380.9 parts of methanol-dispersed titanium dioxide antimony pentoxide-silicon dioxide composite fine particle sol, methanol-dispersed colloidal silica (manufactured by Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd .: Oscar 1132 solid content concentration 30% by weight ) After 61.42 parts were mixed, 289.9 parts of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane were mixed. To this mixed solution, 80.1 parts of 0.05N hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise with stirring. After further stirring for 4 hours, the mixture was aged overnight. In this solution, 4.4 parts of magnesium perchlorate, 0.6 parts of a silicon surfactant (manufactured by Nihon Unicar: L-7001) and 2.3 parts of a hindered amine light stabilizer (Sankyo LS-770) are added. The mixture was added and stirred for 4 hours, and then aged for a whole day and night to prepare a hard coat composition.
This hard coat composition was applied on the primer layer obtained by forming the primer layer by a dipping method (pickup speed 25 cm / min). The applied spectacle lens was heat-cured at 80 ° C. for 30 minutes and then heat-cured at 120 ° C. for 180 minutes. Thus, a hard coat layer having a thickness of 2.2 μm and a refractive index of 1.67 was formed on the primer layer.
In the observation through the obtained lens, for example, the lines of the twigs of trees under clear weather and the contrast of red, yellow and green looked very clear.

(実施例18) 眼鏡用フィルタ
温度計、撹拌機、窒素シール管を備えた500mLセパラブルフラスコに、平均分子量1007の1,6−ヘキサンジオールアジペート(日本ポリウレタン社製:ニッポラン164)200部をセパラブルフラスコに取り、窒素気流中で撹拌しながら加熱し、100〜110℃/3〜5mmHgの減圧下で1時間脱水した。脱水後4,4´−メチレン−ビス(シクロヘキシルイソシアネート)170部を添加し120〜130℃で2時間反応させてプレポリマーを製造した。得られたプレポリマーは無色透明の液体であり、NCO含量9.0%,粘度19000mPa・ s/30℃,2000mPa・s/60℃であった。
得られたプレポリマーの100重量部を70℃に加熱してから、実施例4で合成した、例示化合物番号1−6の化合物を0.10重量部添加し混合した後、120℃で溶融した4,4´メチレン−ビス(3−クロロ−2,6−ジエチルアニリン)44.6重量部と脱泡混合した。この混合物を100℃で予備加熱したモールドに注入する際、ポリカーボネート製偏光膜(筒中プラスチック工業製:PGC−1301)をサンドイッチして迅速に注型成形し、100℃で24時間加熱硬化し、レンズ厚さ約2.2mmの偏光眼鏡用レンズを製造した。
得られたレンズを通しての観察では、例えば、晴天下の樹木の小枝の線や赤色、黄色、緑色のコントラストがきわめて明瞭化して見えた。
(Example 18) Glasses filter In a 500 mL separable flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a nitrogen seal tube, 200 parts of 1,6-hexanediol adipate having an average molecular weight of 1007 (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd .: Nipponporan 164) was separated. The sample was taken in a bull flask, heated with stirring in a nitrogen stream, and dehydrated under reduced pressure of 100 to 110 ° C./3 to 5 mmHg for 1 hour. After dehydration, 170 parts of 4,4′-methylene-bis (cyclohexyl isocyanate) was added and reacted at 120 to 130 ° C. for 2 hours to prepare a prepolymer. The obtained prepolymer was a colorless and transparent liquid, and had an NCO content of 9.0%, a viscosity of 19000 mPa · s / 30 ° C., and 2000 mPa · s / 60 ° C.
After 100 parts by weight of the obtained prepolymer was heated to 70 ° C., 0.10 parts by weight of the compound of Example Compound No. 1-6 synthesized in Example 4 was added and mixed, and then melted at 120 ° C. The mixture was defoamed and mixed with 44.6 parts by weight of 4,4'methylene-bis (3-chloro-2,6-diethylaniline). When this mixture is poured into a mold pre-heated at 100 ° C., a polycarbonate polarizing film (Plastic plastic industry: PGC-1301) is sandwiched and cast quickly, and cured by heating at 100 ° C. for 24 hours. A lens for polarizing glasses having a thickness of about 2.2 mm was manufactured.
In the observation through the obtained lens, for example, the lines of the twigs of trees under clear weather and the contrast of red, yellow and green looked very clear.

(実施例19) 眼鏡用フィルタ
ポリカーボネート樹脂ペレット(帝人化成製:パンライトL−1250VX)100重量部に対し、実施例1で合成した、例示化合物番号1−1の化合物を0.05重量部混合し押出機にて押し出した後、120℃で12時間乾燥処理を施し、これを260〜300℃に温度調節された射出成型機で外形80φ、中心厚み2mmの眼鏡用レンズを成形した。
得られたレンズを通しての観察では、例えば、晴天下の樹木の小枝の線や赤色、黄色、緑色のコントラストがきわめて明瞭化して見えた。
(Example 19) Glasses filter 0.05 parts by weight of the compound of Example Compound No. 1-1 synthesized in Example 1 was mixed with 100 parts by weight of polycarbonate resin pellets (Teijin Chemicals: Panlite L-1250VX). After extruding with an extrusion extruder, a drying treatment was performed at 120 ° C. for 12 hours, and an eyeglass lens having an outer diameter of 80φ and a center thickness of 2 mm was molded using an injection molding machine adjusted to a temperature of 260 to 300 ° C.
In the observation through the obtained lens, for example, the lines of the twigs of trees under clear weather and the contrast of red, yellow and green looked very clear.

(実施例20) 眼鏡用フィルタ
ポリカーボネート樹脂ペレット(帝人化成製:パンライトL−1250VX)100重量部に対し、実施例6で合成した、例示化合物番号2−1の化合物を0.05重量部混合し押出機にて押し出した後、120℃で12時間乾燥処理を施し、これを260〜300℃に温度調節された射出成型機で外形80φ、中心厚み2mmの眼鏡用レンズを成形した。
得られたレンズを通しての観察では、例えば、晴天下の樹木の小枝の線や赤色、黄色、緑色のコントラストがきわめて明瞭化して見えた。
(Example 20) Glasses filter 0.05 parts by weight of the compound of Example Compound No. 2-1 synthesized in Example 6 was mixed with 100 parts by weight of polycarbonate resin pellets (Teijin Chemicals: Panlite L-1250VX). After extruding with an extrusion extruder, a drying treatment was performed at 120 ° C. for 12 hours, and an eyeglass lens having an outer diameter of 80φ and a center thickness of 2 mm was molded using an injection molding machine in which the temperature was adjusted to 260 to 300 ° C.
In the observation through the obtained lens, for example, the lines of the twigs of trees under clear weather and the contrast of red, yellow and green looked very clear.

(実施例21) 眼鏡用フィルタ
ポリアミド樹脂ペレット(エムスケミー・ジャパン製:Grilamid
TR90)100重量部に対し、実施例3で合成した、例示化合物番号1−4の化合物を0.05重量部混合し押出機にて押し出した後、80℃で12時間乾燥処理を施し、これを250〜290℃に温度調節された射出成型機で外形73φ、中心厚み2mmの眼鏡用レンズを成形した。
得られたレンズを通しての観察では、例えば、晴天下の樹木の小枝の線や赤色、黄色、緑色のコントラストがきわめて明瞭化して見えた。
Example 21 Glass Filter Polyamide Resin Pellets (Ms Chemie Japan: Grilamid
TR90) With respect to 100 parts by weight, 0.05 parts by weight of the compound of Exemplified Compound No. 1-4 synthesized in Example 3 was mixed and extruded with an extruder, followed by drying at 80 ° C. for 12 hours. Was molded into a spectacle lens having an outer diameter of 73φ and a center thickness of 2 mm using an injection molding machine whose temperature was adjusted to 250 to 290 ° C.
In the observation through the obtained lens, for example, the lines of the twigs of trees under clear weather and the contrast of red, yellow and green looked very clear.

本発明により光学特性(例えば、光に対する吸収特性、半値幅が狭い)、および耐久性(例えば、耐湿熱性)に優れた光学フィルタを提供することが可能になった。さらに詳しくは、プラズマディスプレイパネル(PDP)、液晶ディスプレイ(LCD)などのディスプレイ用フィルタ、及び眼鏡レンズ用フィルタに使用される光学フィルタを提供することが可能になった。
According to the present invention, it is possible to provide an optical filter that is excellent in optical characteristics (for example, light absorption characteristics, narrow half-value width) and durability (for example, resistance to moist heat). More specifically, it has become possible to provide an optical filter used for a display filter such as a plasma display panel (PDP) and a liquid crystal display (LCD), and a filter for a spectacle lens.

11:機能性透明層(A)
12:基体(B)
13:透明粘着層(C)

21:機能性透明層(A)
22:基体(B)
23:透明粘着層(C)
24:透明導電層(D)

31:機能性透明層(A)
32:基体(B)
33:透明粘着層(C)
34:透明導電層(D)

42:基体(B)

53:透明粘着層(C)

62:基体(B)
63:透明粘着層(C)

71:機能性透明層(A)
72:基体(B)
11: Functional transparent layer (A)
12: Substrate (B)
13: Transparent adhesive layer (C)

21: Functional transparent layer (A)
22: Substrate (B)
23: Transparent adhesive layer (C)
24: Transparent conductive layer (D)

31: Functional transparent layer (A)
32: Substrate (B)
33: Transparent adhesive layer (C)
34: Transparent conductive layer (D)

42: Substrate (B)

53: Transparent adhesive layer (C)

62: Substrate (B)
63: Transparent adhesive layer (C)

71: Functional transparent layer (A)
72: Substrate (B)

Claims (5)

カリックスアレーン誘導体のネオジム錯体を少なくとも1種含有してなる光学フィルタ。 An optical filter comprising at least one neodymium complex of calixarene derivative. カリックスアレーン誘導体のネオジム錯体が、下記の一般式(1)及び一般式(2)から選ばれた少なくとも1種の化合物である請求項1の光学フィルタ。
〔式中、R1は直鎖または分岐のアルキル基を表し、R2は直鎖または分岐のアルキル基あるいは直鎖または分岐のハロゲノアルキル基を表し、Xはハロゲン原子あるいは直鎖または分岐のアルコキシキ基を表す〕
〔式中、R3は直鎖または分岐のアルキル基を表し、R4は含窒素芳香族複素環基を表し、Yはアニオンを表し、nは1または2の整数を表す〕
2. The optical filter according to claim 1, wherein the neodymium complex of the calixarene derivative is at least one compound selected from the following general formula (1) and general formula (2).
[Wherein R 1 represents a linear or branched alkyl group, R 2 represents a linear or branched alkyl group or a linear or branched halogenoalkyl group, and X represents a halogen atom or a linear or branched alkoxy group. Represents)
[Wherein R3 represents a linear or branched alkyl group, R4 represents a nitrogen-containing aromatic heterocyclic group, Y represents an anion, and n represents an integer of 1 or 2]
一般式(1)中のR1又は一般式(2)中のR3がtert−ブチル基である請求項2の光学フィルタ。   The optical filter according to claim 2, wherein R1 in the general formula (1) or R3 in the general formula (2) is a tert-butyl group. 請求項1〜3のいずれかの光学フィルタを用いてなるディスプレイ。   A display using the optical filter according to claim 1. 請求項1〜3のいずれかの光学フィルタを用いてなる眼鏡レンズ。   A spectacle lens using the optical filter according to claim 1.
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