JP2012028617A - 放射線検出装置及び放射線撮像装置 - Google Patents
放射線検出装置及び放射線撮像装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012028617A JP2012028617A JP2010167030A JP2010167030A JP2012028617A JP 2012028617 A JP2012028617 A JP 2012028617A JP 2010167030 A JP2010167030 A JP 2010167030A JP 2010167030 A JP2010167030 A JP 2010167030A JP 2012028617 A JP2012028617 A JP 2012028617A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radiation
- transistor
- incident
- detection apparatus
- insulating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Abstract
【課題】トランジスタの閾値電圧のシフトを抑制する。
【解決手段】放射線検出装置1では、光電変換素子が入射した放射線を光に変換し、光に応じた電荷を発生し、トランジスタ5が光電変換素子で発生した電荷に対応する検出信号を出力して、紫外線変換部3が当該トランジスタ5に入射される放射線を紫外線に変換する。トランジスタ5は紫外線が入射されることにより、トランジスタ5の帯電量がゼロに近づくようになり、トランジスタ5の閾値電圧のシフトが抑制される。
【選択図】図1
【解決手段】放射線検出装置1では、光電変換素子が入射した放射線を光に変換し、光に応じた電荷を発生し、トランジスタ5が光電変換素子で発生した電荷に対応する検出信号を出力して、紫外線変換部3が当該トランジスタ5に入射される放射線を紫外線に変換する。トランジスタ5は紫外線が入射されることにより、トランジスタ5の帯電量がゼロに近づくようになり、トランジスタ5の閾値電圧のシフトが抑制される。
【選択図】図1
Description
本発明は放射線検出装置及び放射線撮像装置に関し、特に、α線、β線、γ線、X線に代表される放射線を波長変換して放射線に基づく情報を読み取る放射線検出装置及び放射線撮像装置に関する。
放射線検出装置は、放射線の入力情報がシンチレータ(波長変換層)で可視光に変換した光を光変換素子で、電気信号に変換して、放射線の情報を検出するものである(例えば、特許文献1,2を参照)。
このような放射線検出装置が放射線を検出する際に、トランジスタのゲート絶縁膜にも放射線が入射すると、トランジスタがプラス(正)に帯電してしまい、閾値電圧がマイナス(負)側にシフトしてしまう。この結果、トランジスタが正常に動作しなくなり、放射線検出装置の信頼性が低下してしまうという問題があった。
そこで、トランジスタを正常に動作させるために、例えば、特許文献1では、バイアス供給スイッチを設けてPN接合等に対して印加される外部電界を緩和する方法が開示されている。また、特許文献2では、電源遮蔽時に、トランジスタのゲート端子に正のDC電源を印加する方法が開示されている。
特許文献1,2のような閾値電圧の負側へのシフトを抑制する方法では、回路構成が複雑であって、このような回路の作成のみならず、作成した回路に対するスイッチ操作が煩雑であるという問題点があった。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、トランジスタの閾値電圧のシフトが抑制された放射線検出装置及び放射線撮像装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、放射線を入射して、入射した放射線を光に変換し、光に応じた電荷を発生する光電変換素子と、光電変換素子で発生した電荷に対応する検出信号を出力するトランジスタと、トランジスタに入射する放射線を紫外線に変換する紫外線変換部と、を有する。
また、上記目的を達成するために、放射線撮像装置が提供される。この放射線撮像装置は、放射線を入射して、入射した放射線を光に変換し、光に応じた電荷を発生する光電変換素子と、光電変換素子で発生した電荷に対応する検出信号を出力するトランジスタと、トランジスタに入射する放射線を紫外線に変換する紫外線変換部とを有する放射線検出装置と、放射線検出装置で検出した検出信号を画像処理して画像を表示する画像表示処理部と、を有する。
このような放射線検出装置及び放射線撮像装置では、光電変換素子が入射した放射線に応じて電荷を発生し、トランジスタが光電変換素子から発生した電荷を入力して検出信号を出力して、紫外線変換部が当該トランジスタに入射される放射線を紫外線に変換する。
このような放射線検出装置及び放射線撮像装置では、トランジスタの閾値電圧のシフトを抑制することができる。
以下、実施の形態について図面を参照して説明する。
[第1の実施の形態]
図1は、第1の実施の形態に係る放射線検出装置及び原理を説明するための図である。
図1は、第1の実施の形態に係る放射線検出装置及び原理を説明するための図である。
なお、図1(A)は放射線検出装置1を、図1(B)及び図1(C)は放射線検出装置1の光電変換装置4に具備されたトランジスタ5を模式的にそれぞれ示している。
放射線検出装置1は、α線、β線、γ線、X線等に代表される放射線が入射されてもトランジスタ5の閾値電圧の変動を抑制することができるものである。
このような放射線検出装置1は、図1(A)に示されるように、可視光変換部2、紫外線変換部3及び光電変換装置4を有しており、放射線を可視光変換部2に入射して、当該放射線を検出する。
可視光変換部2は、入射された放射線を可視光に波長変換する。放射線から変換された可視光は紫外線変換部3を透過して光電変換装置4に入射する。なお、可視光変換部2に入射する放射線の一部は、可視光に変換されずに、可視光変換部2を透過する。
紫外線変換部3は、入射された、可視光に変換されなかった放射線を紫外線に波長変換する。放射線から変換された紫外線は光電変換装置4に入射する。
光電変換装置4は、光電変換素子とトランジスタとを有する。放射線から変換された可視光が入射された光電変換素子が当該可視光に応じた電荷を発生し、発生した電荷に応じてトランジスタが検出信号を出力する。
また、光電変換装置4が備えるトランジスタ5は、図1(B)(及び図1(C))に示されるように、基板5a、ゲート電極膜5b、ゲート絶縁膜5c、半導体層5d及び層間絶縁膜5eが順に積層されて構成されている。層間絶縁膜5eには、半導体層5dに達する電極層5fが形成されている。さらに、ゲート絶縁膜5cは、例えば、窒化シリコン(SiNx)のゲート絶縁膜5c1と、酸化シリコン(SiO2)のゲート絶縁膜5c2とが順に積層して構成されている。層間絶縁膜5eは、例えば、酸化シリコンの層間絶縁膜5e1と、窒化シリコンの層間絶縁膜5e2と、酸化シリコンの層間絶縁膜5e3とが順に積層して構成されている。また、半導体層5dは、低濃度P型(P−)の半導体層5d1と、低濃度N型(LDD(Light Doped Drain))の半導体層5d2と、高濃度N型(N+)の半導体層5d3とを具備しており、例えば、多結晶シリコンで構成されている。
なお、トランジスタ5として、図1(B)及び図1(C)では、ボトムゲート型のトランジスタを示しているが、この場合に限らず、トップゲート型、MOS(Metal Oxide Semiconductor)型等のトランジスタでも構わない。
このようなトランジスタ5では、光電変換素子に入射した放射線から変換された可視光に応じて発生した電荷がゲート電極膜5bに入力すると、一方の電極層5fから半導体層5dを通り他方の電極層5fにドレイン電流が流れて、放射線が検出される。
次に、放射線が入射されるトランジスタ5について説明する。
まず、放射線検出装置1に紫外線変換部3が配置されていない場合には、光電変換装置4に対して入射した放射線は、トランジスタ5のゲート絶縁膜5c及び層間絶縁層5eにも入射して、ゲート絶縁膜5cのゲート絶縁膜5c2と、層間絶縁層5eの層間絶縁膜5e1,5e3とに電子正孔対を生成する。生成された正孔は酸化シリコンのゲート絶縁膜5c2と層間絶縁膜5e1,5e3との中の欠陥、界面等にトラップされる。この時、図1(B)に示されるように、トラップされた正孔が、図1(B)(及び図1(C))中の+(プラス)で表される、正の固定電荷となり、ゲート絶縁膜5c2と、層間絶縁膜5e1,5e3とが正に帯電する。なお、ゲート絶縁膜5c2と、層間絶縁膜5e1,5e3とに、酸化シリコンに代わって、酸窒化シリコン(SiON)を適用した場合にも、この場合と同様に、放射線の入射によって電子正孔対が生成される。
このような放射線検出装置1に紫外線変換部3が配置されていない場合のトランジスタ5に入射される放射線量に応じた、トランジスタ5のゲート電圧に対するドレイン電流について説明する。
図2は、トランジスタのゲート電圧に対するドレイン電流の特性を示す図である。
なお、図2ではトランジスタ5に入射される放射線の放射線量が0グレイ(Gy)、46Gy、397Gy、639Gyの場合のトランジスタ5のゲート電圧Vgに対するドレイン電流Ids(Vg−Ids特性)を示している。また、横軸はゲート電圧Vg[V]を、縦軸はドレイン電流Ids[A]をそれぞれ表している。
また、図2の実線で表された、放射線量が0Gyの場合、ゲート電圧Vgが−6Vから増加するに伴って、ドレイン電流Idsが減少し、ゲート電圧Vgが0Vを超えると、ドレイン電流Idsが増加する特性を示すのはPチャネルのトランジスタ5である。また、このドレイン電圧は−6.1V程度である。一方、ゲート電圧Vgが6Vから減少するに伴って、ドレイン電流Idsが減少し、ゲート電圧Vgが0Vを下回るとドレイン電流Idsが略一定となる特性を示すのはNチャネルのトランジスタ5である。また、このドレイン電圧は6.1V程度である。Pチャネル及びNチャネルのトランジスタ5のVg−Ids特性は、ゲート電圧Vgが0Vで交わる。
このような特性のトランジスタ5に放射線が入射されると、既述の通り、ゲート絶縁膜5c2と、層間絶縁膜5e1,5e3とが正の固定電荷により正に帯電する。トランジスタ5に入射される放射線量が46Gyの場合には、図2中の破線で表されるように、Vg−Ids特性が0Gyの場合から負側にシフトしている。また、Vg−Ids特性の負側へのシフトにより閾値電圧もシフトしていることが考えられる。これは、ゲート絶縁膜5c2と、層間絶縁膜5e1,5e3とが正に帯電したために、正に帯電した分だけ負側にシフトしたものと考えられる。
さらに、トランジスタ5に入射する放射線量を増加すると、ゲート絶縁膜5c2と、層間絶縁膜5e1,5e3とに帯電する正の固定電荷の数が増加して、トランジスタ5のVg−Ids特性も負側に、よりシフトしてしまう。放射線量が397Gy、639Gyまで増加すると、回生電流(Iback)も増加しており、トランジスタ5としてはほぼ機能しなくなっていることが分かる。
これに対して、放射線検出装置1に図1(A)に示されるように、光電変換装置4に対して紫外線変換部3を配置する場合について説明する。この場合にも、放射線がトランジスタ5に入射されると、上記と同様に、ゲート絶縁膜5c2と、層間絶縁膜5e1,5e3とは正に帯電する。
さらに、紫外線変換部3で放射線から波長変換された紫外線がトランジスタ5の半導体層5dに入射する。半導体層5dが多結晶シリコンで構成される場合には、当該多結晶シリコンはシリコンに結合された水素を含有する。なお、水素は多結晶シリコンの半導体層5dの製造するための材料に含有されている。このような半導体層5dに入射した紫外線により半導体層5d内の水素結合が切れて、水素イオン(H+)が離脱して、半導体層5dは、図1(C)中の−(マイナス)で表される負イオンが発生して、負に帯電する。この時、ゲート絶縁膜5c2と、層間絶縁膜5e1,5e3とが正に帯電しているのに対して、半導体層5dが負に帯電するために、互いの電界が相殺されることにより、トランジスタ5全体の電界がゼロに近づく。
このように、放射線検出装置1では、紫外線変換部3を設けることにより、光電変換装置4に入射する放射線を紫外線に変換するようにした。これにより、トランジスタ5のゲート絶縁膜5c2と、層間絶縁膜5e1,5e3とが正に帯電すると共に、紫外線により半導体層5dが負に帯電して、トランジスタ5全体の電界がゼロに近づく。この結果、トランジスタ5の閾値電圧の負側へのシフトが抑制されて、放射線によるトランジスタ5の動作不良が防止されて、放射線を入射しても放射線検出装置1の信頼性が維持されるようになる。
[第2の実施の形態]
次に、上記の放射線検出装置を具体的により説明すると共に、トランジスタの一例としてボトムゲート型を適用した場合について説明する。
次に、上記の放射線検出装置を具体的により説明すると共に、トランジスタの一例としてボトムゲート型を適用した場合について説明する。
図3は、第2の実施の形態に係る放射線検出装置を説明するための図である。
なお、図3(A)は放射線検出装置10の側面模式図、図3(B)は放射線検出装置10の光電変換装置40の上面模式図である。
放射線検出装置10は、図3(A)に示されるように、紫外線発光層20、可視光変換層(シンチレータ)30及び光電変換装置40を有しており、X線を紫外線発光層20側から入射して、当該X線を検出する。
また、放射線撮像装置は、このような放射線検出装置10と、画像処理装置(図示を省略)とを有し、検出したX線に対して画像処理装置で画像処理を実行して、X線の撮像を得ることができる。このため、放射線検出装置10は、例えば、医療分野では、レントゲン装置、マンモグラフィー装置等のX線撮影で利用することができる。また、医療分野に限らず、材料、配管、構造物等の内部の検査等でも利用することができる。
紫外線発光層20は、X線を300〜390nm程度の波長の光、即ち、紫色の可視光から紫外線に波長変換する。このような紫外線発光層20としては、主波長が300mmのリン酸ハフニウム(HfP2O7)(膜厚:500〜600nm)を適用することができる。また、ブリッジマン法で単結晶のフッ化バリウム(BaF2)(膜厚:210〜310nm)及びフッ化セシウム(CeF2)(膜厚:300〜340nm)を順に積層するようにすることもできる。
上記の他、タリウム(Tl)を添加したリン酸カルシウム(Ca3(PO4)2:Tl+)、(以下、元素記号で表す)、(Ca,Zn)3(PO4)2:Tl+、SrMgP2O7:Eu2+、SrB4O7F:Eu2+、(Ba,Sr,Mg)3Si2O7:Pb2+、(Ba,Mg,Zn)3Si2O7:Pb2+、BaSi2O5:Pb2+、(Sr,Ba)Al2Si2O8:Eu2+、CeMgAl11O19、(Ce,Gd)(Mg,Ba)Al11O19:Eu2+、SrB4O7:Eu2+、CeF、BaSO4:Eu2+、BaFCl:Eu2+、BaFBr:Eu2+、LiF等を適用することもできる。また、これらの材料に限らず、X線を紫色の可視光から紫外線に波長変換することができるものであれば、紫外線発光層20に適用することができる。また、紫外線発光層20は、後述する可視光変換層30に対して蒸着により形成することができる。
可視光変換層30は、X線を可視光に波長変換する蛍光体である。このような蛍光体としては、例えば、ヨウ化セシウム(CsI)にタリウム(Tl)を添加したもの、酸化硫黄カドミウム(Gd2O2S)にテルビウム(Tb)を添加したもの等を用いて、X線を緑色に発光させることができる。また、当該ヨウ化セシウムを利用する場合には、ヨウ化セシウムを蒸着により柱状結晶を形成して成膜することができる。また、可視光変換層30の膜厚は100〜1000μm程度が望ましい。また、可視光変換層30は当該ヨウ化セシウム、当該酸化硫黄カドミウムに限らず、X線を可視光に波長変換することができるものであれば、可視光変換層30に適用することができる。
なお、紫外線発光層20と可視光変換層30との配置位置は、図3(A)の場合に限らず、紫外線発光層20が可視光変換層30の下部に配置されていても構わない。また、紫外線発光層20及び可視光変換層30に入射するX線の一部は、紫外線及び可視光にそれぞれ変換されずに、紫外線発光層20及び可視光変換層30を透過する。
光電変換装置40は、可視光変換層30で波長変換された可視光を受光して、当該可視光に応じて電荷を発生し、発生した電荷に基づいて検出信号を出力して、X線を検出する。以下、光電変換装置40を具体的に説明する。
光電変換装置40は、図3(B)に示されるように、ガラス等の絶縁材料で構成される基板41上に、画素部42と、画素部42の周囲に画素部42に画素駆動線47で行方向(画素行の画素の配列方向)に沿って接続された行走査部43が配置されている。また、画素部42の周囲に画素部42に垂直信号線48で列方向(画素列の画素の配列方向)に沿って接続された水平選択部44が配置されている。水平選択部44には水平信号線49で接続された列走査部45が配置されている。さらに、基板41上には、行走査部43、水平選択部44及び列走査部45をそれぞれ制御するシステム制御部46が配置されている。なお、図3(B)では、画素駆動線47及び垂直信号線48については1本の配線として示しているが、1本に限られるものではない。画素駆動線47及び垂直信号線48の一端は行走査部43及び列走査部45の各行列に対応した出力端に接続されている。
画素部42は、入射光の光線量に応じた電荷を発生する光電変換素子部と、光電変換素子で発生した電荷が入力されるTFT(Thin Film Transistor)部とを有する単位面積(以下、単に「画素トランジスタ」と記述)が行列状に2次元配置されている。また、TFT部は入力された電荷に応じた検出信号を信号線に読み出して、画素トランジスタの外に配置したアンプ回路で電圧変換が実行される。なお、画素トランジスタの具体的な構成については後述する。
行走査部43は、シフトレジスタ及びアドレスデコーダ等によって構成され、画素部42を構成する各画素トランジスタを、例えば、行単位で駆動する画素駆動部である。行走査部43によって選択走査された画素行の各画素トランジスタから出力される信号は、垂直信号線48の各々を通して水平選択部44に供給される。水平選択部44は、垂直信号線48ごとに設けられたアンプ及び水平選択スイッチ等によって構成されている。
列走査部45は、シフトレジスタ及びアドレスデコーダ等によって構成され、水平選択部44の各水平選択スイッチを走査しつつ順番に駆動する。この列走査部45による選択走査により、垂直信号線48の各々を通して伝送される各画素トランジスタの信号に水平信号線49に出力され、当該水平信号線49を通して基板41の外部へ伝送される。
なお、行走査部43、水平選択部44、列走査部45及び水平信号線49は回路もしくは外部制御IC(Integrated Circuit)あるいはその両方を併用して構成される。あるいは、それらの回路部分は、ケーブル等により接続された他の基板に形成されてもよい。
システム制御部46は、基板41の外部から与えられるクロック並びに動作モードを指令するデータ等を受け取り、また、光電変換装置40の内部情報等のデータを出力する。システム制御部46は、さらに、各種のタイミング信号を生成するタイミングジェネレータを有し、当該タイミングジェネレータで生成された各種タイミング信号を元に行走査部43、水平選択部44及び列走査部45等の周辺回路部の駆動制御を行う。
次に、光電変換装置40の画素部42を構成する画素トランジスタについて説明する。
図4は、第2の実施の形態に係る画素トランジスタを説明するための図である。
画素トランジスタ42aは、上記の通り、TFT部50と光電変換素子部60とを具備する。
まず、TFT部50について説明する。
画素トランジスタ42aは、ガラス基板等の絶縁基板51上に、ゲート電極膜52及びゲート絶縁膜53が順に積層され、当該ゲート絶縁膜53上に、p型半導体層54及び半導体層55がそれぞれ積層されている。なお、ゲート電極膜52は、導電部材により構成されており、例えば、チタン、アルミニウム、モリブデン、タングステンまたはクリプトンのうちの一種または複数からなる合成材料を適用することができる。また、ゲート絶縁膜53は、酸化シリコンまたは酸窒化シリコン、あるいは、酸化シリコン、酸窒化シリコンまたは窒化シリコンのうち2種の積層膜により構成されている。半導体層55は、多結晶シリコン、低温多結晶シリコン、微結晶シリコン、または、非結晶シリコンで構成されている。
p型半導体層54及び半導体層55の上部には層間絶縁膜56が設けられ、層間絶縁膜56の上部には、読み出し用の信号線や各種の配線を含む配線層57が形成されている。また、配線層57上には層間絶縁膜58が設けられている。なお、層間絶縁膜56は、例えば、酸化シリコン、窒化シリコンまたは酸窒化シリコンのうちの一種または複数が積層されて構成されている。配線層57は、導電部材により構成されており、例えば、チタン、アルミニウム、モリブデン、タングステンまたはクリプトンのうちの一種または複数からなる合成材料を適用することができる。また、層間絶縁膜58は、酸化シリコン、窒化シリコンまたは有機絶縁膜等で構成されている。
これら絶縁基板51、ゲート電極膜52、ゲート絶縁膜53、半導体層55、層間絶縁膜56及び配線層57によりTFT部50が構成されている。なお、TFT部50の構成の詳細については後述する。
次いで、光電変換素子部60について説明する。
層間絶縁膜56,58には、コンタクトホール61が形成されている。層間絶縁膜58の上部及びコンタクトホール61にはp型及びn型の間の導電型からなるi型半導体層62が形成されている。このi型半導体層62の面積はコンタクトホール61の上部側の開口面積よりも大きくなっている。i型半導体層62はp型半導体層54とコンタクトホール61を介して接している。
i型半導体層62の上には、このi型半導体層62とほぼ同一形状のn型半導体層63が積層されている。これらp型半導体層54、i型半導体層62及びn型半導体層63により光電変換素子部60が構成されている。なお、図4に示される画素トランジスタ42aの光電変換素子部60は、例えば、PIN(Positive Intrinsic Negative)フォトダイオードである場合を示している。なお、光電変換素子部60としては、PINフォトダイオードに限らず、その他、MIS(Metal Insulating Semiconductor)フォトダイオード等、光を電荷に変換することができる光電変換素子を適用することができる。
なお、この光電変換素子部60において、p型半導体層54、i型半導体層62及びn型半導体層63はアモルファスシリコン、微結晶シリコン、多結晶シリコン等で形成することができる。これらのシリコン系材料に、ゲルマニウムまたは炭素等の材料を導入して、分光感度を変えるようにしてもよい。光電変換素子部60としては、下部側をn型、上部側をp型にするような逆向きの構成でも構わない。
さらに、n型半導体層63の上には、光電変換素子部60に対して規定の電圧を印加するための上部電極64がITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電膜によって形成されている。上部電極64の上には、この上部電極64に電圧を供給するための電源配線65が設けられている。電源配線65は上部電極64の透明導電膜よりも低抵抗の材料、即ち、チタン、アルミニウム、モリブデン、タングステン、クリプトン等によって構成されている。この上部電極64上にはさらに、窒化シリコン等からなる保護膜(図示せず)が形成されていてもよい。
なお、このような画素トランジスタ42aを構成する各膜等は、熱酸化法、CVD(Chemical Vapor Deposition)法、PVD(Physical Vapor Deposition)法等を、各膜等に応じて、適宜利用して形成することができる。
次に、TFT部50についてさらに説明する。
図5は、第2の実施の形態に係るTFT部を説明するための図である。
なお、図5は、図4のTFT部50を拡大したものである。
TFT部50は、図5に示されるように、絶縁基板51上に、ゲート電極膜52、ゲート絶縁膜53、半導体層55、層間絶縁膜56及び配線層57により構成されており、配線層57上に層間絶縁膜58が形成されている。
また、TFT部50では、例えば、低温多結晶シリコンで構成される半導体層55が、N+の半導体層55aと、LDDの半導体層55bと、P−の半導体層55cとを具備しており、ゲート絶縁膜53が窒化シリコン膜53a及び酸化シリコン膜53bで構成されている。また、層間絶縁膜56が酸化シリコン膜56a、窒化シリコン膜56b及び酸化シリコン膜56cが順に積層されて構成されている。なお、窒化シリコン膜53a,56bは水素を多く含有している。また、酸化シリコン膜56a、窒化シリコン膜56b及び酸化シリコン膜56cの膜厚はそれぞれ150nm、300nm及び200nm程度である。また、層間絶縁膜58の膜厚は200nm程度である。
このようなTFT部50は、半導体層55に低温多結晶シリコンを利用していることにより、多結晶シリコンを利用した場合よりも電子移動度が早くなり、高速動作が可能となる。
このような放射線検出装置10のTFT部50に入射されるX線の線量に応じたゲート電圧に対するドレイン電流について説明する。
図6は、第2の実施の形態に係るTFT部のゲート電圧に対するドレイン電流を示す図である。
なお、図6では横軸はゲート電圧Vg[V]を、縦軸はドレイン電流Ids[A]をそれぞれ表している。
また、図6では、図5に示したTFT部50のサンプルを形成し、このTFT部50(Nチャネル)に予めX線(60Gy)を入射しておく。X線が入射されたTFT部50に対して、30ジュール(J)、60J、90Jの紫外線(波長:350nm)をそれぞれ入射した場合のTFT部50のゲート電圧に対するドレイン電流を表している。なお、図6のドレイン電圧は6V、TFT部50のチャネル幅及びチャネル長はそれぞれ20.5μm及び5.25μmである。
まず、TFT部50にX線が入射されると、既述の通り、ゲート絶縁膜53の酸化シリコン膜53bと層間絶縁膜56の酸化シリコン膜56aとでは、電子正孔対が生成される。生成された正孔が酸化シリコン膜53b,56a中の欠陥、結晶粒界及び酸化シリコン膜53b,56aの界面等にトラップされると、正の固定電荷となり、ゲート絶縁膜53及び層間絶縁膜56が正に帯電する。このため、TFT部50のVg−Ids特性は、X線の入射前と比較すると、負側にシフトする。なお、この時のVg−Ids特性は図6の実線で表される。
そして、正に帯電したTFT部50に、30J、60J、90Jの紫外線をそれぞれ入射したTFT部50のVg−Ids特性についても図6に示している。
TFT部50の半導体層55を構成する低温多結晶シリコンは、シラン(SiH4)とジシラン(SiH6)とを原料として形成されたアモルファスシリコンを加熱・冷却することにより形成される。このため、低温多結晶シリコンの半導体層55では水素がシリコンに結合している箇所が存在する。また、ゲート絶縁膜53の窒化シリコン膜53aと層間絶縁膜56の窒化シリコン膜56bとには、既述の通り、水素が多く含有されている。半導体層55の欠陥(シリコンのダングリングボンド)に、これらの窒化シリコン膜53a,56bからの水素が結合している場合もある。
このような半導体層55に入射した紫外線は、低温多結晶シリコンにおけるシリコンに結合した水素を切断する。切断された水素イオン(H+)が離脱すると、半導体層55には水素イオンと結合していたシリコンイオン(Si-)が残存して、半導体層55が負に帯電する。
また、入射する紫外線の入射線量に応じて水素イオンの離脱が増加すると共に、半導体層55の負の帯電化も進行することから、図6に示されるように、紫外線の入射線量の増加に伴って、Vg−Ids特性が右(正)側にシフトする。
したがって、X線を入射して正に帯電したTFT部50に紫外線を入射することにより、TFT部50を負に帯電することができる。この結果、X線によってゲート絶縁膜53の酸化シリコン膜53bと層間絶縁膜56の酸化シリコン膜56aとが正に電荷しても、TFT部50全体としては電界をほぼゼロに近づけることができる。
[第3の実施の形態]
第3の実施の形態では、光電変換装置40の画素トランジスタ42aに別のTFT部を適用した場合について説明する。
第3の実施の形態では、光電変換装置40の画素トランジスタ42aに別のTFT部を適用した場合について説明する。
図7は、第3の実施の形態に係るTFT部を説明するための図である。
TFT部150は、図7に示されるように、TFT部50に対し、層間絶縁膜56において、半導体層55上に、新たに、酸化シリコン膜56a1、ゲート電極膜152、酸化シリコン膜56a2を順に積層したトランジスタである。その他については図5のTFT部50と同様の構成をなしており、ゲート電極膜152は、半導体層55を挟んでゲート電極膜52と対向配置している。
このような放射線検出装置10のTFT部150に入射されるX線量に応じたゲート電圧に対するドレイン電流について説明する。
図8は、第3の実施の形態に係るTFT部のゲート電圧に対するドレイン電流を示す図である。
なお、図8では横軸はゲート電圧Vg[V]を、縦軸はドレイン電流Ids[A]をそれぞれ表している。
また、図8も、図7に示したTFT部150(Nチャネル)のサンプルを形成して、図6と同様に、X線(60Gy)の入射後、紫外線(30J、60J、90J)の入射を行って、それぞれの場合におけるゲート電圧に対するドレイン電流について表している。なお、図6と同様に、図8のドレイン電圧は6V、TFT部50のチャネル幅及びチャネル長はそれぞれ20.5μm及び5.25μmである。
この結果によれば、図6の場合と同様に、紫外線の入射線量の増加に伴って、Vg−Ids特性が右(正)側にシフトしている。なお、この場合には回生電流が、紫外線の入射線量の増加に伴って回復している。即ち、この場合では、ゲート電極膜152を新たに形成したにも関わらず、図5と同様に、入射する紫外線の入射線量に応じて水素イオンの離脱が増加すると共に、半導体層55が負に帯電したものと考えられる。
したがって、X線を入射して正に帯電したTFT部150に紫外線を入射することにより、TFT部150を負に帯電することができる。この結果、X線によってゲート絶縁膜53の酸化シリコン膜53bと層間絶縁膜56の酸化シリコン膜56a1,56a2とが正に電荷しても、TFT部150全体としては電界をほぼゼロに近づけることができる。
次に、上記の第2及び第3の実施の形態における紫外線が入射されたTFT部50,150の様々な特性について説明する。
まず、TFT部50,150の閾値電圧について説明する。
図9は、第2,3の実施の形態に係るTFT部の紫外線入射量に対する閾値電圧を示す図である。
なお、図9では、横軸は紫外線(UV)入射量[J]を、縦軸は閾値電圧(Vth)[V]をそれぞれ表している。また、実線はTFT部50を、破線はTFT部150をそれぞれ表している。
この結果によれば、TFT部50,150の両方の場合において、紫外線の入射量が増加するに伴って、閾値電圧が増加している。
これは、紫外線の入射量に応じたVg−Ids特性の変化と同様の理由が考えられる。即ち、入射する紫外線の入射線量に応じて水素イオンの離脱が増加すると共に、TFT部50,150の半導体層55の負の帯電化も進行することから、図9に示されるように、紫外線の入射線量の増加に伴って、閾値電圧が増加(正にシフト)していると考えられる。
次いで、TFT部50,150の相互コンダクタンスについて説明する。
図10は、第2,3の実施の形態に係るTFT部の紫外線入射量に対する相互コンダクタンスを示す図である。
なお、図10では、横軸はUV入射量[J]を、縦軸は、相互コンダクタンスの最大値(Gmmax)[S]をそれぞれ表している。
この結果によれば、紫外線の入射量に応じて、TFT部50,150の相互コンダクタンスの最大値はほとんど変化しないことが分かる。即ち、ゲート電圧の増加に対するドレイン電流の増加率は、紫外線の入射に依存しておらず、TFT部50,150の動作速度は悪影響を受けていないことが考えられる。
最後に、TFT部50,150のサブスレッショルドスイング値について説明する。
図11は、第2,3の実施の形態に係るTFT部の紫外線入射量に対するサブスレッショルドスイング値を示す図である。
なお、図11では、横軸はUV入射量[J]を、縦軸はサブスレッショルドスイング(S)値をそれぞれ表している。
この結果によれば、図10の場合と同様に、紫外線の入射量に応じて、TFT部50,150のサブスレッショルドスイング値はほとんど変化しないことが分かる。即ち、ゲート電流を変化させるために要するゲート電圧は紫外線の入射に依存しておらず、TFT部50,150のゲート電圧の制御性が低下していないことが考えられる。
したがって、図9〜図11の結果によれば、紫外線が入射されたTFT部50,150の相互コンダクタンス及びサブスレッショルドスイング値が変化しないため、TFT部50,150の性能を劣化させずに、閾値電圧のみをシフトさせることが可能となる。
このように、放射線検出装置10では、紫外線発光層20を設けることにより、光電変換装置40に入射するX線を紫外線に変換するようにした。これにより、TFT部50,150のゲート絶縁膜53及び層間絶縁膜56がX線により正に帯電すると共に、紫外線により半導体層55が負に帯電して、TFT部50,150全体の電界がゼロに近づく。このため、TFT部50,150の閾値電圧の負側へのシフトが抑制される。また、TFT部50,150は、紫外線が入射されても、相互コンダクタンス及びサブスレッショルドスイング値は変化しないため、他の特性に影響を与えずに、閾値電圧のみをシフトすることができる。この結果、X線によるTFT部50,150の動作不良が防止されて、X線を入射しても放射線検出装置10の信頼性が維持されるようになる。
1,10……放射線検出装置、2……可視光変換部、3……紫外線変換部、4,40……光電変換装置、5……トランジスタ、5a,41……基板、5b,52,152……ゲート電極膜、5c,5c1,5c2,53……ゲート絶縁膜、5d,5d1,5d2,5d3,55,55a,55b,55c……半導体層、5e,5e1,5e2,5e3……層間絶縁膜、5f……電極層、20……紫外線発光層、30……可視光変換層、42……画素部、42a……画素トランジスタ、43……行走査部、44……水平選択部、45……列走査部、46……システム制御部、47……画素駆動線、48……垂直信号線、49……水平信号線、50,150……TFT部、51……絶縁基板、53a,56b……窒化シリコン膜、53b,56a,56a1,56a2,56c……酸化シリコン膜、54……p型半導体層、56,58……層間絶縁膜、57……配線層、60……光電変換素子部、61……コンタクトホール、62……i型半導体層、63……n型半導体層、64……上部電極、65……電源配線
Claims (11)
- 放射線を入射して、
入射した前記放射線を光に変換し、前記光に応じた電荷を発生する光電変換素子と、
前記光電変換素子で発生した前記電荷に対応する検出信号を出力するトランジスタと、
前記トランジスタに入射する前記放射線を紫外線に変換する紫外線変換部と、
を有する放射線検出装置。 - 前記トランジスタは、ゲート絶縁膜を有する請求項1記載の放射線検出装置。
- 前記トランジスタは、前記ゲート絶縁膜と積層構造をなす半導体層を有する請求項2記載の放射線検出装置。
- 前記ゲート絶縁膜は、酸化シリコン膜または酸窒化シリコン膜を有する請求項2記載の放射線検出装置。
- 前記半導体層は、多結晶シリコン、低温多結晶シリコン、微結晶シリコンまたは非結晶シリコンを有する請求項3記載の放射線検出装置。
- 前記トランジスタは、前記光電変換素子で発生した前記電荷に対応する検出信号が入力され、前記ゲート絶縁膜と積層構造をなすゲート電極膜を有する請求項2記載の放射線検出装置。
- 前記トランジスタは、前記ゲート電極膜に対して半導体層を挟んで対向する側に別のゲート電極膜をさらに有する請求項6記載の放射線検出装置。
- 前記光電変換素子に入射する前記放射線を可視光に変換する可視光変換部をさらに有する請求項1記載の放射線検出装置。
- 前記トランジスタは、前記半導体層と積層構造をなす層間絶縁膜を有する請求項3記載の放射線検出装置。
- 前記層間絶縁膜は、酸化シリコン膜または酸窒化シリコン膜を有する請求項9記載の放射線検出装置。
- 放射線を入射して、
入射した前記放射線を光に変換し、前記光に応じた電荷を発生する光電変換素子と、前記光電変換素子で発生した前記電荷に対応する検出信号を出力するトランジスタと、前記トランジスタに入射する前記放射線を紫外線に変換する紫外線変換部とを有する放射線検出装置と、
前記放射線検出装置で検出した前記検出信号を画像処理して画像を表示する画像表示処理部と、
を有する放射線撮像装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010167030A JP2012028617A (ja) | 2010-07-26 | 2010-07-26 | 放射線検出装置及び放射線撮像装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010167030A JP2012028617A (ja) | 2010-07-26 | 2010-07-26 | 放射線検出装置及び放射線撮像装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012028617A true JP2012028617A (ja) | 2012-02-09 |
Family
ID=45781184
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010167030A Pending JP2012028617A (ja) | 2010-07-26 | 2010-07-26 | 放射線検出装置及び放射線撮像装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012028617A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013247270A (ja) * | 2012-05-28 | 2013-12-09 | Sony Corp | 撮像装置および撮像表示システム |
JP2014209529A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-11-06 | ソニー株式会社 | 撮像装置および撮像表示システム |
WO2015008630A1 (ja) * | 2013-07-17 | 2015-01-22 | ソニー株式会社 | 放射線撮像装置および放射線撮像表示システム |
JP2015023054A (ja) * | 2013-07-16 | 2015-02-02 | ソニー株式会社 | 放射線撮像装置および放射線撮像表示システム |
JP2016085194A (ja) * | 2014-10-29 | 2016-05-19 | コニカミノルタ株式会社 | 放射線検出器及びその製造方法 |
US9372268B2 (en) | 2013-11-14 | 2016-06-21 | Konica Minolta, Inc. | Method for erasing bright burn and radiographic imaging device having bright burn-erasing function |
-
2010
- 2010-07-26 JP JP2010167030A patent/JP2012028617A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013247270A (ja) * | 2012-05-28 | 2013-12-09 | Sony Corp | 撮像装置および撮像表示システム |
CN103456753A (zh) * | 2012-05-28 | 2013-12-18 | 索尼公司 | 摄像装置和摄像显示系统 |
JP2014209529A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-11-06 | ソニー株式会社 | 撮像装置および撮像表示システム |
JP2015023054A (ja) * | 2013-07-16 | 2015-02-02 | ソニー株式会社 | 放射線撮像装置および放射線撮像表示システム |
WO2015008630A1 (ja) * | 2013-07-17 | 2015-01-22 | ソニー株式会社 | 放射線撮像装置および放射線撮像表示システム |
CN105359272A (zh) * | 2013-07-17 | 2016-02-24 | 索尼公司 | 放射线摄像装置和放射线摄像显示系统 |
US9372268B2 (en) | 2013-11-14 | 2016-06-21 | Konica Minolta, Inc. | Method for erasing bright burn and radiographic imaging device having bright burn-erasing function |
JP2016085194A (ja) * | 2014-10-29 | 2016-05-19 | コニカミノルタ株式会社 | 放射線検出器及びその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5978625B2 (ja) | 放射線撮像装置、放射線撮像表示システムおよびトランジスタ | |
US8901562B2 (en) | Radiation imaging device, radiation imaging display system, and transistor | |
US9859315B2 (en) | Radiation image-pickup device and radiation image-pickup display system | |
JP5482286B2 (ja) | 放射線撮像装置およびその駆動方法 | |
CN103456753B (zh) | 摄像装置和摄像显示系统 | |
JP6152729B2 (ja) | 撮像装置および撮像表示システム | |
JP5757096B2 (ja) | 放射線撮像装置および放射線撮像表示システム | |
CN110034137B (zh) | 用于柔性数字x射线探测器的面板及其制造方法 | |
JP2012028617A (ja) | 放射線検出装置及び放射線撮像装置 | |
US11239270B2 (en) | TFT photodetector integrated on display panel | |
WO2015008630A1 (ja) | 放射線撮像装置および放射線撮像表示システム | |
CN109979948B (zh) | 数字x射线检测器用阵列基板及包括其的x射线检测器 | |
US20140291670A1 (en) | Image pickup device and image pickup display system | |
US11698468B2 (en) | Radiation detector, method of operating radiation detector, and method of fabricating radiation detector | |
JP6190192B2 (ja) | 放射線撮像装置および放射線撮像表示システム | |
JP2013157347A (ja) | 撮像装置およびその製造方法ならびに撮像表示システム | |
US9536921B2 (en) | Radiation image-pickup device and radiation image-pickup display system | |
JP2018142633A (ja) | 電磁波検出装置 | |
KR20180036341A (ko) | 수소침투가 방지된 디지털 엑스레이 검출장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20120319 |