JP2012021118A - Silanol condensation catalyst, thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor sealing use, and sealing body using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、シラノール縮合触媒、光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物およびこれを用いる封止体に関する。 The present invention relates to a silanol condensation catalyst, a thermosetting silicone resin composition for sealing an optical semiconductor, and a sealing body using the same.
シリコーン樹脂組成物に使用される縮合触媒はこれまで湿気硬化に関する技術が多く見られる(例えば特許文献1、2を参照。)が、ハフニウムに関する熱潜在性を有する触媒を開示している例はない。また例えばアルミニウム系触媒のような縮合触媒を含有するシリコーン樹脂組成物(例えば特許文献3を参照。)にはその加熱減量が大きく耐熱性に乏しいという問題があった。 As for the condensation catalyst used in the silicone resin composition, many techniques related to moisture curing have been observed so far (see, for example, Patent Documents 1 and 2), but there is no example that discloses a catalyst having thermal potential related to hafnium. . Further, for example, a silicone resin composition containing a condensation catalyst such as an aluminum catalyst (see, for example, Patent Document 3) has a problem that its heat loss is large and its heat resistance is poor.
また、熱潜在性を有する触媒を含有するシリコーン樹脂組成物を薄膜硬化させた場合、組成物が未硬化になるという問題を本願発明者らは見出した。
そこで、本発明は、耐熱性、薄膜硬化性に優れる光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物を提供することを目的とする。
Further, the inventors of the present invention have found a problem that when a silicone resin composition containing a catalyst having thermal potential is thin-cured, the composition becomes uncured.
Then, an object of this invention is to provide the thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor sealing excellent in heat resistance and thin film curability.
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、(A)1分子中に2つ以上のシラノール基を有するオルガノポリシロキサン100質量部と、(B)1分子中に2つ以上のアルコキシ基を有するシラン化合物0.1〜2000質量部と、(C)特定の構造を有する有機ハフニウム化合物とを含有する組成物が、耐熱性、薄膜硬化性に優れる光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物となりうることを見出し、本発明を完成させた。 As a result of earnest research to solve the above problems, the present inventor has (A) 100 parts by mass of organopolysiloxane having two or more silanol groups in one molecule, and (B) two or more in one molecule. Thermosetting for optical semiconductor sealing, wherein the composition containing 0.1 to 2000 parts by mass of a silane compound having an alkoxy group and (C) an organic hafnium compound having a specific structure is excellent in heat resistance and thin film curability. It discovered that it could become a silicone resin composition, and completed this invention.
すなわち、本発明は、下記1〜13を提供する。
1.(A)1分子中に2つ以上のシラノール基を有するオルガノポリシロキサン100質量部と、
(B)1分子中に2つ以上のアルコキシ基を有するシラン化合物0.1〜2000質量部と、
(C)下記式(1)および/または下記式(2)で示される有機ハフニウム化合物とを含有する、光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
2. 前記R1が環状構造を有する上記1に記載の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
3. 前記R1が、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ナフテン環、アダマンチル基、ノルボルニル基、フェニル基、ナフチル基およびアズレンからなる群から選ばれる少なくとも1種である上記1または2に記載の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
4. 前記(C)有機ハフニウム化合物の量が、前記(A)オルガノポリシロキサンと前記(B)シラン化合物の合計100質量部に対して0.001〜5質量部である上記1〜3のいずれかに記載の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
5. さらに(D)4価のスズ化合物を含有し、前記4価のスズ化合物の量が前記(C)有機ハフニウム化合物1モルに対し0.01〜10モルである上記1〜4のいずれかに記載の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
6. 前記(A)オルガノポリシロキサンが下記式(3)で示され、両末端にシラノール基を有する、重量平均分子量1,000〜1,000,000のジオルガノポリシロキサンである上記1〜5のいずれかに記載の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
7. 前記(B)シラン化合物が、下記式(4)で示されるシラン化合物、下記式(5)で示されるシラン化合物、ならびに下記式(3)で示されるジオルガノポリシロキサンと下記式(4)で示されるシラン化合物および/または下記式(5)で示されるシラン化合物との縮合体からなる群から選ばれる少なくとも1種である上記1〜6のいずれかに記載の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
R8 kSi(OR9)lO(4-k-l)/2 (5)
[式(5)中、R8は炭素数1〜6のアルキル基および/またはアリール基であり、R9は炭素数1〜6のアルキル基であり、0<k<2、0<l<2、0<(k+l)≦3である。]
8. 前記(D)4価のスズ化合物の量が前記(A)オルガノポリシロキサンおよび前記(B)シラン化合物の合計100質量部に対し0.001〜1質量部である上記5〜7のいずれかに記載の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
9. 上記1〜8のいずれかに記載の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物を加熱し硬化させて光半導体を封止する封止体。
10.(C)下記式(1)および/または下記式(2)で示される有機ハフニウム化合物を少なくとも含むシラノール縮合触媒。
11. 前記R1が環状構造を有する上記10に記載のシラノール縮合触媒。
12. 前記R1が、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ナフテン環、アダマンチル基、ノルボルニル基、フェニル基、ナフチル基およびアズレンからなる群から選ばれる少なくとも1種である上記10または11に記載のシラノール縮合触媒。
13. さらに(D)4価のスズ化合物を含み、前記4価のスズ化合物の量が前記(C)有機ハフニウム化合物1モルに対し0.01〜10モルである上記10〜12のいずれかに記載のシラノール縮合触媒。
That is, this invention provides the following 1-13.
1. (A) 100 parts by mass of an organopolysiloxane having two or more silanol groups in one molecule;
(B) 0.1 to 2000 parts by mass of a silane compound having two or more alkoxy groups in one molecule;
(C) A thermosetting silicone resin composition for sealing an optical semiconductor, comprising an organic hafnium compound represented by the following formula (1) and / or the following formula (2).
2. 2. The thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation according to 1 above, wherein R 1 has a cyclic structure.
3. R 1 is at least one selected from the group consisting of cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, naphthene ring, adamantyl group, norbornyl group, phenyl group, naphthyl group and azulene. 3. The thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation according to 1 or 2, which is a seed.
4). The amount of the (C) organic hafnium compound is 0.001 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the (A) organopolysiloxane and the (B) silane compound. The thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor sealing of description.
5. Further, (D) a tetravalent tin compound is contained, and the amount of the tetravalent tin compound is 0.01 to 10 mol relative to 1 mol of the (C) organic hafnium compound. Thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation.
6). Any of (1) to (5) above, wherein the (A) organopolysiloxane is a diorganopolysiloxane having a weight average molecular weight of 1,000 to 1,000,000, which is represented by the following formula (3) and has silanol groups at both ends. A thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation according to claim 1.
7). The (B) silane compound is a silane compound represented by the following formula (4), a silane compound represented by the following formula (5), a diorganopolysiloxane represented by the following formula (3), and the following formula (4). The thermosetting for optical semiconductor encapsulation according to any one of 1 to 6 above, which is at least one selected from the group consisting of a silane compound and / or a condensate with a silane compound represented by the following formula (5): Silicone resin composition.
R 8 k Si (OR 9 ) l O (4-kl) / 2 (5)
[In the formula (5), R 8 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and / or an aryl group, R 9 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 0 <k <2, 0 <l < 2, 0 <(k + l) ≦ 3. ]
8). The amount of the (D) tetravalent tin compound is 0.001 to 1 part by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the (A) organopolysiloxane and the (B) silane compound. The thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor sealing of description.
9. The sealing body which heats and hardens the thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor sealing in any one of said 1-8, and seals an optical semiconductor.
10. (C) A silanol condensation catalyst containing at least an organic hafnium compound represented by the following formula (1) and / or the following formula (2).
11. 11. The silanol condensation catalyst as described in 10 above, wherein R 1 has a cyclic structure.
12 R 1 is at least one selected from the group consisting of cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, naphthene ring, adamantyl group, norbornyl group, phenyl group, naphthyl group and azulene. The silanol condensation catalyst according to the above 10 or 11, which is a seed.
13. Furthermore, it contains (D) a tetravalent tin compound, and the amount of the tetravalent tin compound is 0.01 to 10 mol per 1 mol of the (C) organic hafnium compound. Silanol condensation catalyst.
本発明の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物は耐熱性、薄膜硬化性に優れる。本発明の封止体は耐熱性、薄膜硬化性に優れる。
本発明のシラノール縮合触媒によれば、熱硬化性シリコーン樹脂組成物の耐熱性、薄膜硬化性を優れたものにすることができる。
The thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation of the present invention is excellent in heat resistance and thin film curability. The sealing body of the present invention is excellent in heat resistance and thin film curability.
According to the silanol condensation catalyst of the present invention, the heat resistance and thin film curability of the thermosetting silicone resin composition can be made excellent.
本発明について以下詳細に説明する。
本発明のシラノール縮合触媒は、(C)下記式(1)および/または下記式(2)で示される有機ハフニウム化合物を少なくとも含むシラノール縮合触媒である。
The silanol condensation catalyst of the present invention is (C) a silanol condensation catalyst containing at least an organic hafnium compound represented by the following formula (1) and / or the following formula (2).
有機ハフニウム化合物について以下に説明する。本発明のシラノール縮合触媒に含まれる(C)有機ハフニウム化合物は下記式(1)および/または下記式(2)で示される。本発明のシラノール縮合触媒は式(1)で示されるものおよび/または式(2)で示されるものを少なくとも含めばよい。 The organic hafnium compound will be described below. The (C) organic hafnium compound contained in the silanol condensation catalyst of the present invention is represented by the following formula (1) and / or the following formula (2). The silanol condensation catalyst of the present invention may contain at least one represented by the formula (1) and / or one represented by the formula (2).
式(1)で示される有機ハフニウム化合物について以下に説明する。
R1における炭化水素基としては例えば炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基(アルキル基;アリル基のような不飽和脂肪族炭化水素基を含む。)、脂環式炭化水素基、アリール基(芳香族炭化水素基)、これらの組み合わせが挙げられる。炭化水素基は直鎖状でも分岐していてもよい。炭化水素基は不飽和結合を有することができる。炭化水素基は例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を有することができる。
R1における炭化水素基は、耐熱性(例えば耐熱着色安定性)により優れ、薄膜硬化性により優れ、熱硬化性、相溶性に優れるという観点から、環状構造を有するのが好ましく、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらの組み合わせであるのがより好ましい。R1は環状構造のほかに例えば脂肪族炭化水素基を有することができる。
Examples of the hydrocarbon group in R 1 include an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (an alkyl group; including an unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as an allyl group), an alicyclic hydrocarbon group, and an aryl group. (Aromatic hydrocarbon group) and combinations thereof. The hydrocarbon group may be linear or branched. The hydrocarbon group can have an unsaturated bond. The hydrocarbon group can have, for example, a hetero atom such as an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom.
The hydrocarbon group in R 1 preferably has a cyclic structure from the viewpoints of excellent heat resistance (for example, heat-resistant coloring stability), excellent thin film curability, and excellent thermosetting and compatibility, and alicyclic carbonization. A hydrogen group, an aromatic hydrocarbon group, or a combination thereof is more preferable. R 1 can have, for example, an aliphatic hydrocarbon group in addition to the cyclic structure.
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基のようなシクロアルキル基;ナフテン環(ナフテン酸由来のシクロパラフィン環);アダマンチル基、ノルボルニル基のような縮合環系炭化水素基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては例えば、フェニル基、ナフチル基、アズレンが挙げられる。
脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基が挙げられる。
なかでも耐熱性(例えば耐熱着色安定性)により優れ、薄膜硬化性により優れ、熱硬化性、相溶性に優れるという観点から、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基が好ましく、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ナフテン環、アダマンチル基、ノルボルニル基、フェニル基、ナフチル基およびアズレンからなる群から選ばれる少なくとも1種であるがより好ましく、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ナフテン環(R1COO−としてのナフテート基)、フェニル基がさらに好ましく、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ナフテン環が特に好ましい。
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include a cycloalkyl group such as a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group; a naphthene ring (a cycloparaffin ring derived from naphthenic acid); Examples thereof include condensed ring hydrocarbon groups such as an adamantyl group and a norbornyl group.
Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, and azulene.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, a nonyl group, a decyl group, and an undecyl group. Is mentioned.
Of these, alicyclic hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups are preferred from the viewpoint of excellent heat resistance (for example, heat-resistant coloring stability), excellent thin film curability, thermosetting properties, and compatibility, and cyclopropyl groups. , Cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group, naphthene ring, adamantyl group, norbornyl group, phenyl group, naphthyl group, and azulene, more preferably, A propyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, an adamantyl group, a naphthene ring (naphthate group as R 1 COO—) and a phenyl group are more preferable, and a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, an adamantyl group and a naphthene ring are particularly preferable.
式(1)においてR2は炭素数1〜18のアルキル基である。R2において炭素原子数は、耐熱性(例えば耐熱着色安定性)により優れ、薄膜硬化性により優れ、熱硬化性、相溶性に優れるという観点から、3〜8であるのが好ましい。 In the formula (1), R 2 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. In R 2 , the number of carbon atoms is preferably 3 to 8 from the viewpoint of excellent heat resistance (for example, heat-resistant coloring stability), excellent thin film curability, and excellent thermosetting and compatibility.
R2としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基(n−プロピル基、イソプロピル基)、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基が挙げられる。
なかでも耐熱性(例えば耐熱着色安定性)により優れ、薄膜硬化性により優れ、熱硬化性、相溶性に優れるという観点から、メチル基、エチル基、プロピル基(n−プロピル基、イソプロピル基)、ブチル基、ペンチル基が好ましい。
Examples of R 2 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group (n-propyl group, isopropyl group), a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and an octyl group.
Among them, from the viewpoint of excellent heat resistance (for example, heat-resistant coloring stability), excellent thin film curability, thermosetting property, and compatibility, a methyl group, an ethyl group, a propyl group (n-propyl group, isopropyl group), A butyl group and a pentyl group are preferred.
環状構造として脂環式炭化水素基を有する有機ハフニウム化合物としては、例えば、
ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)シクロプロパンカルボキシレート、ハフニウムテトラシクロプロパンカルボキシレート、
ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)シクロペンタンカルボキシレート、ハフニウムテトラシクロペンタンカルボキシレート、
ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)シクロヘキサンカルボキシレート、ハフニウムテトラシクロヘキサンカルボキシレート、
ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)アダマンタンカルボキシレート、ハフニウムテトラアダマンタンカルボキシレート、
ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)ナフテート、ハフニウムテトラナフテートが挙げられる。
As an organic hafnium compound having an alicyclic hydrocarbon group as a cyclic structure, for example,
Hafnium alkoxy (mono-tri) cyclopropanecarboxylate, hafnium tetracyclopropanecarboxylate,
Hafnium alkoxy (mono-tri) cyclopentanecarboxylate, hafnium tetracyclopentanecarboxylate,
Hafnium alkoxy (mono-tri) cyclohexanecarboxylate, hafnium tetracyclohexanecarboxylate,
Hafnium alkoxy (mono-tri) adamantane carboxylate, hafnium tetraadamantane carboxylate,
Hafnium alkoxy (mono-tri) naphthate and hafnium tetranaphthate can be mentioned.
環状構造として芳香族炭化水素基を有する有機ハフニウム化合物としては、例えば、
ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)ベンゼンカルボキシレート、ハフニウムテトラベンゼンカルボキシレートが挙げられる。
As an organic hafnium compound having an aromatic hydrocarbon group as a cyclic structure, for example,
Examples include hafnium alkoxy (mono-tri) benzene carboxylate and hafnium tetrabenzenecarboxylate.
脂肪族炭化水素基を有する有機ハフニウム化合物としては、例えば、
ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)ブチレート、ハフニウムテトラブチレート、
ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)2エチルヘキサノエート、ハフニウムテトラ2エチルヘキサノエート、
ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)ネオデカネート、ハフニウムテトラネオデカネートが挙げられる。
なお本願明細書において「(モノ〜トリ)」は、モノ、ジおよびトリのうちのいずれかであることを意味する。
As the organic hafnium compound having an aliphatic hydrocarbon group, for example,
Hafnium alkoxy (mono-tri) butyrate, hafnium tetrabutyrate,
Hafnium alkoxy (mono-tri) 2 ethyl hexanoate, hafnium tetra 2 ethyl hexanoate,
Examples include hafnium alkoxy (mono-tri) neodecanate and hafnium tetraneodecanate.
In the present specification, “(mono to tri)” means any one of mono, di and tri.
なかでも、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性、相溶性に優れるという観点から、ハフニウムトリアルコキシモノナフテート、ハフニウムトリアルコキシモノイソブチレート、ハフニウムトリアルコキシモノ2エチルヘキサノエート、ハフニウムトリアルコキシモノシクロプロパンカルボキシレート、ハフニウムトリアルコキシシクロブタンカルボキレート、ハフニウムトリアルコキシモノシクロペンタンカルボキシレート、ハフニウムトリアルコキシモノシクロヘキサンカルボキシレート、ハフニウムトリアルコキシモノアダマンタンカルボキシレート、ハフニウムトリアルコキシモノベンゼンカルボキシレート、ハフニウムジアルコキシジナフテートが好ましく、ハフニウムトリブトキシモノナフテート、ハフニウムトリブトキシモノイソブチレート、ハフニウムトリブトキシモノ2エチルヘキサノエート、ハフニウムトリブトキシモノシクロプロパンカルボキシレート、ハフニウムトリブトキシモノシクロペンタンカルボキシレート、ハフニウムトリブトキシモノシクロヘキサンカルボキシレート、ハフニウムトリアルコキシモノベンゼンカルボキシレート、ハフニウムトリブトキシモノアダマンタンカルボキシレート、ハフニウムジブトキシジナフテート、ハフニウムトリプロポキシモノナフテートがより好ましい。 Among these, hafnium trialkoxy mono is more preferable from the viewpoints of excellent thin film curability, excellent heat resistance (for example, excellent heat-resistant coloring stability and more capable of suppressing loss on heating), and excellent thermosetting and compatibility. Naphthate, hafnium trialkoxy monoisobutyrate, hafnium trialkoxy mono 2-ethyl hexanoate, hafnium trialkoxy monocyclopropane carboxylate, hafnium trialkoxy cyclobutane carboxylate, hafnium trialkoxy monocyclopentane carboxylate, hafnium trialkoxy mono Cyclohexanecarboxylate, hafnium trialkoxymonoadamantanecarboxylate, hafnium trialkoxymonobenzenecarboxylate, hafnium dialkoxydinaphth Preferred are hafnium tributoxy mononaphthate, hafnium tributoxy monoisobutyrate, hafnium tributoxy mono 2-ethylhexanoate, hafnium tributoxy monocyclopropanecarboxylate, hafnium tributoxy monocyclopentane carboxylate, hafnium tri Butoxy monocyclohexane carboxylate, hafnium trialkoxy monobenzene carboxylate, hafnium tributoxy monoadamantane carboxylate, hafnium dibutoxy dinaphthate, and hafnium tripropoxy mononaphthate are more preferable.
式(2)で示される有機ハフニウム化合物について以下に説明する。 The organic hafnium compound represented by the formula (2) will be described below.
炭素数1〜18のアルキル基は式(1)におけるR2(炭素数1〜18のアルキル基)と同義である。
炭素数1〜18の炭化水素基は式(1)におけるR1(炭化水素基)の炭素数が1〜18であるものと同様である。
アルコキシ基としては例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基のような炭素数1〜18のものが挙げられる。
R3、R4は、塩素原子、臭素原子、フッ素原子のようなハロゲンを有してもよい。
なお本発明において式(2)は、(R3COHCOR4)mHf−(OR2)4-mと示すことができる。
Alkyl group having 1 to 18 carbon atoms has the same meaning as R 2 (alkyl group having 1 to 18 carbon atoms) in the formula (1).
The hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms is the same as that in which R 1 (hydrocarbon group) in formula (1) has 1 to 18 carbon atoms.
Examples of the alkoxy group include those having 1 to 18 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, and a propoxy group.
R 3 and R 4 may have a halogen such as a chlorine atom, a bromine atom or a fluorine atom.
Note equation (2) in the present invention can exhibit the (R 3 COHCOR 4) m Hf- (OR 2) 4-m.
式(2)で示される有機ハフニウム化合物としては例えば、
ハフニウムアルコキサイド(モノ〜トリ)2,4−ペンタジオネート、ハフニウム−2,4−ペンタジオネート、ハフニウムアルキルペンタジオネート、ハフニウムフルオロペンタジオネートが挙げられる。
なかでも、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性、相溶性に優れるという観点から、ハフニウムジ−n−ブトキサイド(ビス−2,4−ペンタジオネート)、ハフニウム−2,4−ペンタジオネート、ハフニウムテトラメチルペンタジオネート、ハフニウムトリフルオロペンタジオネートが好ましい。
Examples of the organic hafnium compound represented by the formula (2) include:
Examples include hafnium alkoxide (mono-tri) 2,4-pentadionate, hafnium-2,4-pentadionate, hafnium alkylpentadionate, and hafnium fluoropentadionate.
Among these, hafnium di-n is preferred from the viewpoints of excellent thin film curability, excellent heat resistance (for example, excellent heat-resistant coloration stability and more capable of suppressing loss on heating), and excellent thermosetting and compatibility. -Butoxide (bis-2,4-pentadionate), hafnium-2,4-pentadionate, hafnium tetramethylpentadionate, hafnium trifluoropentadionate are preferred.
有機ハフニウム化合物はその製造について特に制限されない。有機ハフニウム化合物はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。 The organic hafnium compound is not particularly limited for its production. The organic hafnium compounds can be used alone or in combination of two or more.
本発明のシラノール縮合触媒はさらにスズ化合物を含有することができる。
本発明のシラノール縮合触媒は、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、さらにスズ化合物を含有するのが好ましい。
本発明のシラノール縮合触媒がさらに含有することができるスズ化合物は、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、4価のスズ化合物が好ましい。
4価のスズ化合物としては、例えば、式(II)で表されるもの、式(II)で表されるもののビス型、ポリマー型が挙げられる。
R3 a−Sn−[O−CO−R4]4-a (II)
式中、R3はアルキル基であり、R4は炭化水素基であり、aは1〜3の整数である。
The silanol condensation catalyst of the present invention can further contain a tin compound.
The silanol condensation catalyst of the present invention is more excellent in thin film curability, more excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability and more capable of suppressing heat loss), and further from the viewpoint of excellent thermosetting. It is preferable to contain a compound.
The tin compound that can be further contained in the silanol condensation catalyst of the present invention is excellent in thin film curability, excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability and more capable of suppressing heat loss), and heat. From the viewpoint of excellent curability, a tetravalent tin compound is preferable.
Examples of the tetravalent tin compound include those represented by the formula (II), bis type and polymer type represented by the formula (II).
R 3 a -Sn- [O-CO -R 4] 4-a (II)
In the formula, R 3 is an alkyl group, R 4 is a hydrocarbon group, and a is an integer of 1 to 3.
アルキル基は炭素原子数1以上のものが挙げられ、具体的には例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル基が挙げられる。
炭化水素基は特に制限されない。例えば、メチル基、エチル基のような脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらの組み合わせが挙げられる。炭化水素基は直鎖状でも分岐していてもよい。炭化水素基は不飽和結合を有することができる。炭化水素基は例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を有することができる。
Examples of the alkyl group include those having 1 or more carbon atoms, and specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and an octyl group.
The hydrocarbon group is not particularly limited. Examples thereof include an aliphatic hydrocarbon group such as a methyl group and an ethyl group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a combination thereof. The hydrocarbon group may be linear or branched. The hydrocarbon group can have an unsaturated bond. The hydrocarbon group can have, for example, a hetero atom such as an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom.
式(II)で表されるもののビス型としては、例えば、下記式(III)で表されるものが挙げられる。
スズ化合物としては、例えば、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクテート、ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズジアセテート、ジオクチルスズマレエートのようなジアルキルスズ化合物[上記式(II)で表され、aが2であるもの]);ジブチルスズオキシアセテートジブチスズオキシオクチレート、ジブチルスズオキシラウレートジブチルスズビスメチルマレート、ジブチルスズオキシオレエートのようなジアルキルスズの2量体;またはジブチルスズマレートポリマー、ジオクチルスズマレートポリマー;モノブチルスズトリス(2−エチルヘキサノエート)[上記式(II)で表されaが1であるもの]が挙げられる。
なかでも、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れる。)により優れ、薄膜硬化性により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオレエート、ジブチルスズジラウリレート、ジブチルスズオキシアセテートジブチルスズオキシオクチレート、ジブチルスズオキシラウレートが好ましい。
スズ化合物はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。スズ化合物はその製造について特に制限されない。例えば従来公知のものが挙げられる。
Examples of the tin compound include dialkyltin compounds such as dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin dilaurate, dioctyltin diacetate, and dioctyltin maleate [wherein a is 2 represented by the above formula (II) Dibutyltin oxyacetate dibutytin oxyoctylate, dibutyltin oxylaurate dibutyltin bismethylmalate, dialkyltin dimer such as dibutyltin oxyoleate; or dibutyltin malate polymer, dioctyltin malate polymer; monobutyltin And tris (2-ethylhexanoate) [wherein a is 1 represented by the above formula (II)].
Of these, dibutyltin diacetate, dibutyltin dioleate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin oxy from the viewpoints of excellent heat resistance (for example, excellent heat-resistant coloration stability), excellent thin film curability, and excellent thermosetting properties. Acetate dibutyltin oxyoctylate and dibutyltin oxylaurate are preferred.
Tin compounds can be used alone or in combination of two or more. The tin compound is not particularly limited for its production. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.
スズ化合物の量は、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、(C)有機ハフニウム化合物1モルに対し0.01〜10モルであるのが好ましく、0.1〜5モルであるのがより好ましい。 The amount of the tin compound is more excellent in thin film curability, more excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability and more capable of suppressing loss on heating), and from the viewpoint of being excellent in thermosetting (C). It is preferable that it is 0.01-10 mol with respect to 1 mol of organic hafnium compounds, and it is more preferable that it is 0.1-5 mol.
本発明のシラノール縮合触媒は、有機ハフニウム化合物、スズ化合物以外に、本発明の目的や効果を損なわない範囲で必要に応じてさらに添加剤を含有することができる。添加剤としては、例えば、ビスアルコキシシリルアルカンやカップリング剤のような接着付与剤、充填剤、蛍光体、後述する本発明の組成物がさらに含有することができる添加剤と同様のものが挙げられる。 The silanol condensation catalyst of the present invention can further contain an additive as necessary in addition to the organic hafnium compound and the tin compound as long as the object and effect of the present invention are not impaired. Examples of the additive include adhesives such as bisalkoxysilylalkanes and coupling agents, fillers, phosphors, and the same additives as those which can be further contained in the composition of the present invention described later. It is done.
本発明のシラノール縮合触媒はその製造について特に制限されない。
例えば、本発明のシラノール縮合触媒が有機ハフニウム化合物のみからなるものである場合は、有機ハフニウム化合物をシラノール縮合触媒として使用すればよい。
本発明のシラノール縮合触媒がさらにスズ化合物を含む場合は、有機ハフニウム化合物とスズ化合物とを混合させることによって製造することができる。
また、本発明のシラノール縮合触媒がさらにスズ化合物を含む場合、有機ハフニウム化合物とスズ化合物とを別々に準備しこれらを用いることができる。
The silanol condensation catalyst of the present invention is not particularly limited for its production.
For example, when the silanol condensation catalyst of the present invention is composed only of an organic hafnium compound, the organic hafnium compound may be used as the silanol condensation catalyst.
When the silanol condensation catalyst of the present invention further contains a tin compound, it can be produced by mixing an organic hafnium compound and a tin compound.
Moreover, when the silanol condensation catalyst of this invention contains a tin compound further, an organic hafnium compound and a tin compound can be prepared separately, and these can be used.
本発明のシラノール縮合触媒は、少なくともシラノール基を有する化合物(例えば、シラノール基を有する炭化水素系ポリマー、シラノール基を有するポリシロキサン)をシラノール基において縮合させる触媒として使用することができる。シラノール基を有する化合物の縮合としては、例えば、シラノール基を有する化合物とシラノール基を有する化合物との縮合、シラノール基を有する化合物とアルコキシ基またはアルコキシシリル基を有する化合物との縮合が挙げられる。 The silanol condensation catalyst of the present invention can be used as a catalyst for condensing at least a compound having a silanol group (for example, a hydrocarbon polymer having a silanol group or a polysiloxane having a silanol group) in the silanol group. Examples of the condensation of a compound having a silanol group include condensation of a compound having a silanol group and a compound having a silanol group, and condensation of a compound having a silanol group and a compound having an alkoxy group or an alkoxysilyl group.
本発明のシラノール縮合触媒を適用することができる、少なくともシラノール基を有する化合物を含有する組成物としては、例えば、(A)1分子中に2個以上のシラノール基を有するポリシロキサンと(B)1分子中に2個以上のアルコキシ基を有するシラン化合物とを含有する組成物が挙げられる。
本発明のシラノール縮合触媒を適用することができる組成物に含有される、シラノール基を有する化合物としては、例えば、本発明の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物組成物に含有される、(A)1分子中に2つ以上のシラノール基を有するポリシロキサンが挙げられる。
Examples of the composition containing at least a compound having a silanol group to which the silanol condensation catalyst of the present invention can be applied include, for example, (A) a polysiloxane having two or more silanol groups in one molecule and (B) The composition containing the silane compound which has a 2 or more alkoxy group in 1 molecule is mentioned.
Examples of the compound having a silanol group contained in the composition to which the silanol condensation catalyst of the present invention can be applied include, for example, the thermosetting silicone resin composition for sealing an optical semiconductor of the present invention. (A) Polysiloxane having two or more silanol groups in one molecule.
本発明のシラノール縮合触媒を適用することができる組成物に含有される、アルコキシ基またはアルコキシシリル基を有する化合物としては、例えば、本発明の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物に含有される、(B)1分子中に2つ以上のアルコキシ基を有するシラン化合物、シラン化合物を一部加水分解したアルコキシオリゴマーが挙げられる。
本発明のシラノール縮合触媒は有機ハフニウム化合物を含有することによって、薄膜硬化性に優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量を抑制することができる。)に優れ、熱硬化性、室温での安定性(増粘の抑制)に優れ、シラノール系化合物の接着性を優れたものとすることができる。
本発明のシラノール縮合触媒はさらにスズ化合物を含有することによって、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量を抑制することができる。)により優れ、熱硬化性、室温での安定性(増粘の抑制)に優れ、シラノール系化合物の接着性を優れたものとすることができる。
Examples of the compound having an alkoxy group or an alkoxysilyl group contained in the composition to which the silanol condensation catalyst of the present invention can be applied include, for example, the thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation of the present invention. (B) a silane compound having two or more alkoxy groups in one molecule, and an alkoxy oligomer obtained by partially hydrolyzing the silane compound.
By containing the organic hafnium compound, the silanol condensation catalyst of the present invention has excellent thin film curability, excellent heat resistance (for example, excellent heat-resistant coloring stability, and can suppress heat loss), and thermosetting. , Excellent stability at room temperature (inhibition of thickening) and excellent adhesion of silanol compounds.
By further containing a tin compound, the silanol condensation catalyst of the present invention is excellent in thin film curability, excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability and capable of suppressing heat loss), and thermosetting. , Excellent stability at room temperature (inhibition of thickening) and excellent adhesion of silanol compounds.
本発明のシラノール縮合触媒を含有することができる組成物としては、例えば、
(A) 1分子中に2つ以上のシラノール基を有するポリシロキサン100質量部と、
(B) 1分子中に2以上のアルコキシ基を有するシラン化合物0.1〜2000質量部と、
(D) 本発明のシラノール縮合触媒とを含有する熱硬化性シリコーン樹脂組成物が挙げられる。
ポリシロキサン、シラン化合物は、下記の本発明の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物に含有されるものと同義である。
As a composition that can contain the silanol condensation catalyst of the present invention, for example,
(A) 100 parts by mass of polysiloxane having two or more silanol groups in one molecule;
(B) 0.1 to 2000 parts by mass of a silane compound having two or more alkoxy groups in one molecule;
(D) The thermosetting silicone resin composition containing the silanol condensation catalyst of this invention is mentioned.
A polysiloxane and a silane compound are synonymous with those contained in the thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation of the present invention described below.
本発明のシラノール縮合触媒に含まれる有機ハフニウム化合物は、下記の本発明の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物に含有される有機ハフニウム化合物に該当する。また、本発明のシラノール縮合触媒がさらに含有することができるスズ化合物は下記の本発明の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物がさらに含有することができるスズ化合物に該当する。 The organic hafnium compound contained in the silanol condensation catalyst of the present invention corresponds to the organic hafnium compound contained in the following thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation of the present invention. Moreover, the tin compound which the silanol condensation catalyst of this invention can further contain corresponds to the tin compound which the following thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor sealing of this invention can contain.
本発明の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物について以下に説明する。
本発明の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物は、
(A)1分子中に2つ以上のシラノール基を有するオルガノポリシロキサン100質量部と、
(B)1分子中に2つ以上のアルコキシ基を有するシラン化合物0.1〜2000質量部と、
(C)下記式(1)および/または下記式(2)で示される有機ハフニウム化合物とを含有する、光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物である。
本発明の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物を以下「本発明の組成物」という。
The thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation of the present invention will be described below.
The thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation of the present invention is
(A) 100 parts by mass of an organopolysiloxane having two or more silanol groups in one molecule;
(B) 0.1 to 2000 parts by mass of a silane compound having two or more alkoxy groups in one molecule;
(C) A thermosetting silicone resin composition for encapsulating an optical semiconductor, comprising an organic hafnium compound represented by the following formula (1) and / or the following formula (2).
The thermosetting silicone resin composition for sealing an optical semiconductor of the present invention is hereinafter referred to as “the composition of the present invention”.
オルガノポリシロキサンについて以下に説明する。本発明の組成物に含有される(A)オルガノポリシロキサンは1分子中に2つ以上のシラノール基を有するオルガノポリシロキサンである。
オルガノポリシロキサンの主鎖は直鎖、分岐(例えばシリコーンレジン)のいずれであってもよい。
オルガノポリシロキサンが有する炭化水素基は特に制限されない。炭化水素基は例えば酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を有することができる。炭化水素基としては例えば、メチル基、エチル基のようなアルキル基(鎖状脂肪族炭化水素基);シクロヘキシル基のような脂環式炭化水素基;フェニル基のような芳香族基;ビニル基、(メタ)アクリロイルオキシ基のようなアルケニル基;メトキシ基、エトキシ基のようなアルコキシ基;フェノキシ基が挙げられる。薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、メチル基、エチル基のようなアルキル基;脂環式炭化水素基および/または芳香族炭化水素基を含む炭化水素基が好ましい。
シラノール基はオルガノポリシロキサンの末端に結合することができる。
オルガノポリシロキサンは、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、2個以上のシラノール基が末端(または両末端)に結合し炭化水素基を有するオルガノポリシロキサンとすることができる。
オルガノポリシロキサンとしては、例えば、2個以上のシラノール基が末端に結合しているが挙げられる。
オルガノポリシロキサンは、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、ジオルガノポリシロキサンであるのが好ましい。
オルガノポリシロキサンとしては例えば下記式(3)で表されるものが挙げられる。
The main chain of the organopolysiloxane may be linear or branched (for example, silicone resin).
The hydrocarbon group that the organopolysiloxane has is not particularly limited. The hydrocarbon group can have a hetero atom such as an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom. Examples of the hydrocarbon group include alkyl groups such as methyl and ethyl groups (chain aliphatic hydrocarbon groups); alicyclic hydrocarbon groups such as cyclohexyl groups; aromatic groups such as phenyl groups; vinyl groups , An alkenyl group such as (meth) acryloyloxy group; an alkoxy group such as methoxy group and ethoxy group; and a phenoxy group. Alkyl such as methyl group and ethyl group from the viewpoint of better thin film curability, better heat resistance (for example, better heat-resistant coloration stability, more effective in reducing heat loss), and better thermosetting. Group; a hydrocarbon group including an alicyclic hydrocarbon group and / or an aromatic hydrocarbon group is preferable.
Silanol groups can be attached to the ends of the organopolysiloxane.
Organopolysiloxane is excellent in thin film curability, excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability and more capable of suppressing loss on heating), and from the viewpoint of excellent in thermosetting, two or more. An organopolysiloxane having a silanol group bonded to the terminal (or both terminals) and having a hydrocarbon group can be obtained.
Examples of the organopolysiloxane include those having two or more silanol groups bonded to the terminal.
The organopolysiloxane is superior in thin film curability, excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability and more capable of suppressing loss on heating), and from the viewpoint of excellent thermosetting properties, diorganopolysiloxane. Is preferred.
Examples of the organopolysiloxane include those represented by the following formula (3).
式(3)中、炭化水素基は特に制限されない。炭化水素基は、例えば、アルキル基、脂環式炭化水素基および芳香族炭化水素基からなる群から選ばれる少なくとも1種とすることができる。また炭化水素基はアルキル基、脂環式炭化水素基および芳香族炭化水素基のうちの2種以上を組み合わせることができる。また炭化水素基は脂環式炭化水素基および/または芳香族炭化水素基のほかに例えば2価の有機基(例えば、アルキレン基)を有することができる。また炭化水素基は例えば酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を有することができる。炭化水素基としては例えば、メチル基、エチル基のようなアルキル基(鎖状脂肪族炭化水素基);シクロヘキシル基のような脂環式炭化水素基;フェニル基のような芳香族基が挙げられる。薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、ケイ素に直接結合するアルキル基、脂環式炭化水素基、フェニル基が好ましい。R5が異なる炭化水素基である場合、その組み合わせとして、例えば、メチル基と、エチル基のようなアルキル基(鎖状脂肪族炭化水素基)、シクロヘキシル基のような脂環式炭化水素基およびフェニル基のような芳香族基からなる群から選ばれる少なくとも1種との組み合わせが挙げられる。
オルガノポリシロキサンは、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、2個のシラノール基が両末端に結合しているポリジアルキルシロキサン(直鎖状であっても分岐状であってもよい。)であるのが好ましく、2個のシラノール基が両末端に結合しているポリジメチルシロキサン(オルガノポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール。直鎖状であっても分岐状であってもよい。)であるのがより好ましい。
また、式(3)中、nは、オルガノポリシロキサンの重量平均分子量に対応する数値とすることができる。nは、作業性、耐クラック性に優れるという観点から、10〜15,000の整数であるのが好ましい。
オルガノポリシロキサンの分子量は、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れる。)により優れ、薄膜硬化性により優れ、熱硬化性に優れ、硬化時間、可使時間が適切な長さとなり硬化性に優れ、硬化物物性に優れるという観点から、1,000〜1,000,000であるのが好ましく、6,000〜100,000であるのがより好ましい。なお、本発明においてオルガノポリシロキサンの分子量は、クロロホルムを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
オルガノポリシロキサンはその製造について特に制限されない。例えば従来公知のものが挙げられる。オルガノポリシロキサンは、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
In formula (3), the hydrocarbon group is not particularly limited. The hydrocarbon group can be, for example, at least one selected from the group consisting of an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group. The hydrocarbon group may be a combination of two or more of an alkyl group, an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group. The hydrocarbon group can have, for example, a divalent organic group (for example, an alkylene group) in addition to the alicyclic hydrocarbon group and / or the aromatic hydrocarbon group. The hydrocarbon group can have a hetero atom such as an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom. Examples of the hydrocarbon group include alkyl groups (chain aliphatic hydrocarbon groups) such as a methyl group and an ethyl group; alicyclic hydrocarbon groups such as a cyclohexyl group; and aromatic groups such as a phenyl group. . From the viewpoints of better thin film curability, better heat resistance (for example, better heat-resistant coloring stability, more effective in reducing heat loss), and better thermosetting properties, alkyl groups and fats directly bonded to silicon. A cyclic hydrocarbon group and a phenyl group are preferred. When R 5 is a different hydrocarbon group, the combination includes, for example, a methyl group, an alkyl group such as an ethyl group (chain aliphatic hydrocarbon group), an alicyclic hydrocarbon group such as a cyclohexyl group, and the like. The combination with at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of aromatic groups like a phenyl group is mentioned.
Organopolysiloxane is excellent in thin film curability, heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability and more capable of suppressing heat loss), and two silanols from the viewpoint of excellent thermosetting. It is preferably a polydialkylsiloxane having groups bonded to both ends (which may be linear or branched), and polydimethyl having two silanol groups bonded to both ends. More preferred is siloxane (organopolydimethylsiloxane-α, ω-diol, which may be linear or branched).
Moreover, in Formula (3), n can be made into the numerical value corresponding to the weight average molecular weight of organopolysiloxane. n is preferably an integer of 10 to 15,000 from the viewpoint of excellent workability and crack resistance.
The molecular weight of the organopolysiloxane is excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloration stability), excellent in thin film curability, excellent in thermosetting, curing time and pot life are appropriately lengthened and cured. From the viewpoint of being excellent and excellent in cured product properties, it is preferably 1,000 to 1,000,000, and more preferably 6,000 to 100,000. In the present invention, the molecular weight of the organopolysiloxane is a weight average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) using chloroform as a solvent.
The organopolysiloxane is not particularly limited for its production. For example, a conventionally well-known thing is mentioned. The organopolysiloxanes can be used alone or in combination of two or more.
(B)シラン化合物について以下に説明する。
本発明の組成物に含有される(B)シラン化合物は1分子中に2つ以上のアルコキシ基を有するシラン化合物である。アルコキシ基はケイ素原子に結合することができる。
シラン化合物は、1分子中1個のケイ素原子を有する化合物、1分子中2個以上のケイ素原子を有し骨格がポリシロキサン骨格である化合物が挙げられる。
(B) A silane compound is demonstrated below.
The (B) silane compound contained in the composition of the present invention is a silane compound having two or more alkoxy groups in one molecule. The alkoxy group can be bonded to a silicon atom.
Examples of the silane compound include a compound having one silicon atom in one molecule, and a compound having two or more silicon atoms in one molecule and a skeleton being a polysiloxane skeleton.
シラン化合物はアルコキシ基以外に有機基を有することができる。シラン化合物が有することができる有機基としては、例えば、酸素原子、窒素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる少なくとも1種のヘテロ原子を含んでもよい炭化水素基が挙げられる。例えば、アルキル基(炭素数1〜6のものが好ましい。)、シクロヘキシル基のような脂環式炭化水素基、(メタ)アクリレート基、アルケニル基、芳香族炭化水素基(アリール基)、これらの組合せが挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチルアリル基が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。なかでも、耐熱着色安定性により優れるという観点から、メチル基、(メタ)アクリレート基、(メタ)アクリロキシアルキル基が好ましい。 The silane compound can have an organic group in addition to the alkoxy group. Examples of the organic group that the silane compound can have include a hydrocarbon group that may contain at least one heteroatom selected from the group consisting of an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. For example, an alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms), an alicyclic hydrocarbon group such as a cyclohexyl group, a (meth) acrylate group, an alkenyl group, an aromatic hydrocarbon group (aryl group), these Combinations are mentioned. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a 2-methyl-1-propenyl group, and a 2-methylallyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Of these, a methyl group, a (meth) acrylate group, and a (meth) acryloxyalkyl group are preferable from the viewpoint of superior heat-resistant coloring stability.
シラン化合物は、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れる。)により優れ、熱硬化性に優れ、硬化時間、可使時間が適切な長さとなり硬化性に優れ、相溶性に優れるという観点から、下記式(4)で示されるシラン化合物、下記式(5)で示されるシラン化合物、ならびに下記式(3)で示されるジオルガノポリシロキサンと下記式(4)で示されるシラン化合物および/または下記式(5)で示されるシラン化合物との縮合体からなる群から選ばれる少なくとも1種であるのが好ましい。 Silane compounds are superior in thin film curability, excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloration stability), excellent in thermosetting, curing time and pot life are appropriate lengths, and are excellent in curability. From the viewpoint of excellent solubility, the silane compound represented by the following formula (4), the silane compound represented by the following formula (5), and the diorganopolysiloxane represented by the following formula (3) and the following formula (4) It is preferably at least one selected from the group consisting of a silane compound and / or a condensate with a silane compound represented by the following formula (5).
式(4)で示されるシラン化合物について以下に説明する。
mは薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れる。)により優れ、熱硬化性に優れ、熱硬化性に優れ、硬化時間、可使時間が適切な長さとなり硬化性に優れ、相溶性に優れるという観点から、2〜3の整数が好ましい。炭素数1〜18の有機基は上記のシラン化合物が有することができる有機基と同様である。炭素数1〜6の炭化水素基としては例えばメチル基、エチル基のようなアルキル基;フェニル基のような芳香族炭化水素基が挙げられる。
The silane compound represented by the formula (4) will be described below.
m is superior in thin film curability, superior in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloration stability), excellent in thermosetting, excellent in thermosetting, curing time and pot life are appropriately long, and is curable. From the viewpoints of excellent compatibility and excellent compatibility, an integer of 2 to 3 is preferable. The organic group having 1 to 18 carbon atoms is the same as the organic group that the silane compound can have. Examples of the hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms include an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group; and an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group.
式(4)で示されるシラン化合物としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランのようなジアルコキシシラン;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランのようなトリアルコキシシラン;テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロピルオキシシランのようなテトラアルコキシシラン;トリアルコキシシラン、テトラアルコキシシランの加水分解物;γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシランのような(メタ)アクリルシランが挙げられる。
なお、本発明において、(メタ)アクリルシランは、アクリルシランまたはメタクリルシランであることを意味する。(メタ)アクリレート基、(メタ)アクリロキシアルキル基についても同様である。
Examples of the silane compound represented by the formula (4) include dialkoxysilanes such as dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, and diphenyldiethoxysilane; methyltrimethoxy Trialkoxysilanes such as silane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane; tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropyloxysilane Silane; trialkoxysilane, hydrolyzate of tetraalkoxysilane; γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropi (Meth) acrylic silanes such as lutriethoxysilane.
In the present invention, (meth) acryl silane means acryl silane or methacryl silane. The same applies to (meth) acrylate groups and (meth) acryloxyalkyl groups.
式(5)で示されるシラン化合物について以下に説明する。
R8 kSi(OR9)lO(4-k-l)/2 (5)
[式(5)中、R8は炭素数1〜6のアルキル基および/またはアリール基であり、R9は炭素数1〜6のアルキル基であり、0<k<2、0<l<2、0<(k+l)≦3である。]
炭素数1〜6のアルキル基としては例えばメチル基、エチル基が挙げられる。アリール基としては例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基が挙げられる。なかでも、耐熱性により優れ、耐熱着色安定性により優れるという観点から、メチル基が好ましい。
式(5)で示されるシラン化合物としては例えばメチルメトキシポリシロキサンのようなアルキルアルコキシポリシロキサンが挙げられる。
The silane compound represented by the formula (5) will be described below.
R 8 k Si (OR 9 ) l O (4-kl) / 2 (5)
[In the formula (5), R 8 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and / or an aryl group, R 9 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 0 <k <2, 0 <l < 2, 0 <(k + l) ≦ 3. ]
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include a methyl group and an ethyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, and a naphthyl group. Of these, a methyl group is preferred from the viewpoints of better heat resistance and better heat-resistant coloring stability.
Examples of the silane compound represented by the formula (5) include alkylalkoxypolysiloxanes such as methylmethoxypolysiloxane.
シラン化合物を製造する際に使用される式(3)で表される化合物について以下に説明する。
シラン化合物を製造する際に使用される式(3)で表される化合物は(A)オルガノポリシロキサンとして式(3)で表されるものと同様である。
The compound represented by Formula (3) used when manufacturing a silane compound is demonstrated below.
The compound represented by the formula (3) used when producing the silane compound is the same as that represented by the formula (3) as the (A) organopolysiloxane.
式(3)で示されるジオルガノポリシロキサンと式(4)で示されるシラン化合物および/または式(5)で示されるシラン化合物との縮合体はその製造について特に制限されない。例えば、式(3)で示されるジオルガノポリシロキサンと式(4)で示されるシラン化合物および/または式(5)で示されるシラン化合物とを脱アルコール反応させることによって生成することができる。 The production of the condensate of the diorganopolysiloxane represented by the formula (3) and the silane compound represented by the formula (4) and / or the silane compound represented by the formula (5) is not particularly limited. For example, it can be produced by subjecting a diorganopolysiloxane represented by the formula (3) to a silane compound represented by the formula (4) and / or a silane compound represented by the formula (5).
縮合体を製造する際に使用される、式(3)で示されるジオルガノポリシロキサンと式(4)で示されるシラン化合物および/または式(5)で示されるシラン化合物との組み合わせとしては、例えば、両末端シラノール型ポリジメチルシロキサンと、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランのようなテトラアルコキシシラン;γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシランのような(メタ)アクリルシラン;メチルメトキシポリシロキサンのようなアルキルアルコキシポリシロキサンとの組み合わせが挙げられる。 As a combination of the diorganopolysiloxane represented by the formula (3) and the silane compound represented by the formula (4) and / or the silane compound represented by the formula (5) used in the production of the condensate, For example, both end silanol type polydimethylsiloxane and tetraalkoxysilane such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane; (meth) acrylsilane such as γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane; methylmethoxypolysiloxane The combination with such an alkyl alkoxy polysiloxane is mentioned.
シラン化合物は、薄膜硬化性に優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れる。)により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランのようなテトラアルコキシシラン;γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシランのようなトリアルコキシ(メタ)アクリルシラン;メチルメトキシポリシロキサンのようなアルキルアルコキシポリシロキサン;これらと式(3)で示されるジオルガノポリシロキサンとの縮合体が好ましい。 The silane compound is excellent in thin film curability, excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability), and in view of excellent in thermosetting, tetraalkoxysilane such as tetramethoxysilane and tetraethoxysilane; γ A trialkoxy (meth) acryl silane such as (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane; an alkylalkoxy polysiloxane such as methylmethoxypolysiloxane; a condensate of these with a diorganopolysiloxane represented by formula (3) Is preferred.
シラン化合物の分子量は、薄膜硬化性に優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れる。)により優れ、熱硬化性に優れ、硬化時間、可使時間が適切な長さとなり硬化性に優れ、相溶性に優れるという観点から、100〜1,000,000であるのが好ましく、1,000〜100,000であるのがより好ましい。なお、本発明において、シラン化合物がオリゴマーまたはポリマーの場合、その分子量は、クロロホルムを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量であるものとする。
シラン化合物はその製造について特に制限されず、例えば従来公知のものが挙げられる。シラン化合物はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
The molecular weight of the silane compound is excellent in thin film curability, superior in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability), excellent in thermosetting, curing time and pot life are appropriate length, and excellent in curability. From the viewpoint of excellent compatibility, it is preferably 100 to 1,000,000, and more preferably 1,000 to 100,000. In the present invention, when the silane compound is an oligomer or a polymer, the molecular weight is a weight-average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) using chloroform as a solvent.
The production of the silane compound is not particularly limited, and examples thereof include conventionally known compounds. The silane compounds can be used alone or in combination of two or more.
シラン化合物の量は、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れる。)により優れ、薄膜硬化性により優れ、熱硬化性に優れ、耐クラック性、相溶性に優れるという観点から、オルガノポリシロキサン100質量部に対して、0.1〜2000質量部であり、0.1〜1000質量部であるのが好ましく、0.1〜100質量部であるのがより好ましく、0.5〜50質量部とすることが更に好ましく、10質量部以下とすることも可能である。 The amount of the silane compound is superior in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability), more excellent in thin film curability, excellent in thermosetting, crack resistance, and compatibility. It is 0.1-2000 mass parts with respect to a mass part, It is preferable that it is 0.1-1000 mass parts, It is more preferable that it is 0.1-100 mass parts, 0.5-50 mass parts It is more preferable that the amount is 10 parts by mass or less.
有機ハフニウム化合物について以下に説明する。本発明の組成物に含有される(C)有機ハフニウム化合物は下記式(1)および/または下記式(2)で示される。本発明の組成物は式(1)で示されるものおよび/または式(2)で示されるものを少なくとも含有すればよい。 The organic hafnium compound will be described below. The (C) organic hafnium compound contained in the composition of the present invention is represented by the following formula (1) and / or the following formula (2). The composition of this invention should just contain what is shown by Formula (1) and / or what is shown by Formula (2) at least.
本願明細書において、本発明の組成物に含有される有機ハフニウム化合物は、本発明のシラノール縮合触媒に含まれる有機ハフニウム化合物と同義である。
In the present specification, the organic hafnium compound contained in the composition of the present invention is synonymous with the organic hafnium compound contained in the silanol condensation catalyst of the present invention.
(C)有機ハフニウム化合物の量は、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れ、相溶性に優れるという観点から、(A)オルガノポリシロキサンと(B)シラン化合物の合計100質量部に対して0.001〜5質量部であるのが好ましく、0.01〜0.5質量部であるのがより好ましい。
本発明の組成物は有機ハフニウム化合物を含有することによって、接着性に優れ、加熱減量を低く抑制することができる。
(C) The amount of the organic hafnium compound is excellent in thin film curability, excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability and more capable of suppressing loss on heating), excellent in thermosetting, and compatible. From the standpoint of superiority, it is preferably 0.001 to 5 parts by mass, and 0.01 to 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of (A) organopolysiloxane and (B) silane compound. Is more preferable.
By containing the organic hafnium compound, the composition of the present invention is excellent in adhesiveness and can suppress heat loss.
本発明の組成物はさらにスズ化合物を含有することができる。
本発明の組成物は、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、さらにスズ化合物を含有するのが好ましい。
本願明細書において、本発明の組成物に含有されるスズ化合物は、本発明のシラノール縮合触媒がさらに含むことができるスズ化合物と同義である。
The composition of the present invention may further contain a tin compound.
The composition of the present invention is more excellent in thin film curability, more excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability and more capable of suppressing loss on heating), and from the viewpoint of excellent thermosetting, further tin. It is preferable to contain a compound.
In this specification, the tin compound contained in the composition of the present invention has the same meaning as the tin compound that the silanol condensation catalyst of the present invention can further contain.
スズ化合物の量は、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、(A)オルガノポリシロキサンおよび(B)シラン化合物の合計100質量部に対し0.001〜1質量部であるのが好ましく、0.001〜0.1質量部であるのがより好ましい。
また、スズ化合物の量は、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れるという観点から、(C)有機ハフニウム化合物1モルに対し0.01〜10モルであるのが好ましく、0.1〜5モルであるのがより好ましい。
The amount of the tin compound is more excellent in thin film curability, more excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability and more capable of suppressing loss on heating), and from the viewpoint of being excellent in thermosetting (A). It is preferable that it is 0.001-1 mass part with respect to a total of 100 mass parts of organopolysiloxane and (B) silane compound, and it is more preferable that it is 0.001-0.1 mass part.
In addition, the amount of the tin compound is more excellent in thin film curability, more excellent in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability and more capable of suppressing loss on heating), and from the viewpoint of excellent thermosetting properties ( C) It is preferable that it is 0.01-10 mol with respect to 1 mol of organic hafnium compounds, and it is more preferable that it is 0.1-5 mol.
本発明の組成物は、オルガノポリシロキサン、シラン化合物、有機ハフニウム化合物、スズ化合物以外に、本発明の目的や効果を損なわない範囲で必要に応じてさらに添加剤を含有することができる。
添加剤としては、例えば、無機フィラーなどの充填剤、酸化防止剤、滑剤、紫外線吸収剤、熱光安定剤、分散剤、帯電防止剤、重合禁止剤、消泡剤、硬化促進剤、溶剤、蛍光体(例えば無機蛍光体)、老化防止剤、ラジカル禁止剤、接着性改良剤、難燃剤、界面活性剤、保存安定性改良剤、オゾン老化防止剤、増粘剤、可塑剤、放射線遮断剤、核剤、カップリング剤、導電性付与剤、リン系過酸化物分解剤、顔料、金属不活性化剤、物性調整剤、ビスアルコキシシリルアルカンやカップリング剤のような接着付与剤が挙げられる。各種添加剤は特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。
The composition of this invention can contain an additive further as needed in the range which does not impair the objective and effect of this invention other than organopolysiloxane, a silane compound, an organic hafnium compound, and a tin compound.
Examples of the additives include fillers such as inorganic fillers, antioxidants, lubricants, ultraviolet absorbers, thermal light stabilizers, dispersants, antistatic agents, polymerization inhibitors, antifoaming agents, curing accelerators, solvents, Phosphor (for example, inorganic phosphor), anti-aging agent, radical inhibitor, adhesion improver, flame retardant, surfactant, storage stability improver, ozone anti-aging agent, thickener, plasticizer, radiation blocker , Nucleating agents, coupling agents, conductivity imparting agents, phosphorus peroxide decomposing agents, pigments, metal deactivators, physical property modifiers, adhesion imparting agents such as bisalkoxysilylalkanes and coupling agents. . Various additives are not particularly limited. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.
ビス(アルコキシシリル)アルカンとしては、例えば、下記式(VII)で表されるものが挙げられる。
ビス(アルコキシシリル)アルカンとしては、例えば、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エタン、1,4−ビス(トリメトキシシリル)ブタン、1−メチルジメトキシシリル−4−トリメトキシシリルブタン、1,4−ビス(メチルジメトキシシリル)ブタン、1,5−ビス(トリメトキシシリル)ペンタン、1,4−ビス(トリメトキシシリル)ペンタン、1−メチルジメトキシシリル−5−トリメトキシシリルペンタン、1,5−ビス(メチルジメトキシシリル)ペンタン、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,4−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,5−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、2,5−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,6−ビス(メチルジメトキシシリル)ヘキサン、1,7−ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、2,5−ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、2,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、1,8−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、2,5−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、2,7−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、1,9−ビス(トリメトキシシリル)ノナン、2,7−ビス(トリメトキシシリル)ノナン、1,10−ビス(トリメトキシシリル)デカン、3,8−ビス(トリメトキシシリル)デカン;ビス−(3−トリメトキシシリルプロピル)アミンのような2価のアルカンが窒素原子を有するものが挙げられる。 Examples of the bis (alkoxysilyl) alkane include 1,2-bis (triethoxysilyl) ethane, 1,4-bis (trimethoxysilyl) butane, 1-methyldimethoxysilyl-4-trimethoxysilylbutane, 4-bis (methyldimethoxysilyl) butane, 1,5-bis (trimethoxysilyl) pentane, 1,4-bis (trimethoxysilyl) pentane, 1-methyldimethoxysilyl-5-trimethoxysilylpentane, 1,5 -Bis (methyldimethoxysilyl) pentane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane, 1,4-bis (trimethoxysilyl) hexane, 1,5-bis (trimethoxysilyl) hexane, 2,5-bis (Trimethoxysilyl) hexane, 1,6-bis (methyldimethoxysilyl) hexane, 1,7- Sus (trimethoxysilyl) heptane, 2,5-bis (trimethoxysilyl) heptane, 2,6-bis (trimethoxysilyl) heptane, 1,8-bis (trimethoxysilyl) octane, 2,5-bis ( Trimethoxysilyl) octane, 2,7-bis (trimethoxysilyl) octane, 1,9-bis (trimethoxysilyl) nonane, 2,7-bis (trimethoxysilyl) nonane, 1,10-bis (trimethoxy) Silyl) decane, 3,8-bis (trimethoxysilyl) decane; divalent alkanes such as bis- (3-trimethoxysilylpropyl) amine having a nitrogen atom.
ビス(アルコキシシリル)アルカンは、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れる。)により優れ、薄膜硬化性により優れ、熱硬化性に優れ、密閉系内における硬化性、接着性および透明性と接着強度とのバランスに優れ、耐湿熱接着性に優れるという観点から、式(II)で表されるものが好ましく、ビス(トリアルコキシシリル)アルカンがより好ましく、ビス−(3−トリメトキシシリルプロピル)アミン、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エタン、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,7−ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、1,8−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、1,9−ビス(トリメトキシシリル)ノナンおよび1,10−ビス(トリメトキシシリル)デカンからなる群から選ばれる少なくとも1種がより好ましく、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、ビス−(3−トリメトキシシリルプロピル)アミンがさらに好ましい。
ビス(アルコキシシリル)アルカンはそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Bis (alkoxysilyl) alkanes are superior in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloration stability), excellent in thin film curability, excellent in thermosetting, and are hardened, bonded, and transparent in a closed system. From the viewpoint of excellent balance with strength and excellent wet heat resistance, those represented by the formula (II) are preferred, bis (trialkoxysilyl) alkanes are more preferred, and bis- (3-trimethoxysilylpropyl) Amine, 1,2-bis (triethoxysilyl) ethane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane, 1,7-bis (trimethoxysilyl) heptane, 1,8-bis (trimethoxysilyl) octane, At least selected from the group consisting of 1,9-bis (trimethoxysilyl) nonane and 1,10-bis (trimethoxysilyl) decane More preferably seeds, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane, bis - (3-trimethoxysilyl propyl) amine is more preferred.
Bis (alkoxysilyl) alkanes can be used alone or in combination of two or more.
ビス(アルコキシシリル)アルカンの量は、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れる。)により優れ、薄膜硬化性により優れ、熱硬化性に優れ、密閉系内における硬化性、接着性、および透明性と接着強度とのバランスに優れ、耐湿熱接着性に優れるという観点から、オルガノポリシロキサンとシラン化合物の合計100質量部に対して、0.1〜5質量部であるのがより好ましい。 The amount of bis (alkoxysilyl) alkane is superior in heat resistance (for example, excellent in heat-resistant coloring stability), excellent in thin film curability, excellent in thermosetting, curable in a closed system, adhesiveness, and transparent From the viewpoints of excellent balance between adhesiveness and adhesive strength and excellent wet heat resistance, it is more preferably 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organopolysiloxane and the silane compound.
無機蛍光体としては、例えば、LEDに広く利用されている、イットリウム、アルミニウム、ガーネット系のYAG系蛍光体、ZnS系蛍光体、Y2O2S系蛍光体、赤色発光蛍光体、青色発光蛍光体、緑色発光蛍光体が挙げられる。 Examples of inorganic phosphors include yttrium, aluminum, garnet-based YAG phosphors, ZnS phosphors, Y 2 O 2 S phosphors, red-emitting phosphors, and blue-emitting phosphors that are widely used in LEDs. Body and green light emitting phosphor.
本発明の組成物は、貯蔵安定性に優れるという観点から、実質的に水を含まないのが好ましい態様の1つとして挙げられる。本発明において実質的に水を含まないとは、本発明の組成物中における水の量が0.1質量%以下であることをいう。
また、本発明の組成物は、作業環境性に優れるという観点から、実質的に溶媒を含まないのが好ましい態様の1つとして挙げられる。本発明において実質的に溶媒を含まないとは、本発明の組成物中における溶媒の量が1質量%以下であることをいう。
From the viewpoint that the composition of the present invention is excellent in storage stability, it is mentioned as one of preferred embodiments that substantially does not contain water. In the present invention, “substantially free of water” means that the amount of water in the composition of the present invention is 0.1% by mass or less.
In addition, the composition of the present invention can be mentioned as one of preferred embodiments that substantially does not contain a solvent from the viewpoint of excellent work environment properties. The phrase “substantially free of solvent” in the present invention means that the amount of the solvent in the composition of the present invention is 1% by mass or less.
本発明の組成物は、その製造について特に制限されない。例えば、オルガノポリシロキサンと、シラン化合物と、有機ハフニウム化合物と、必要に応じて使用することができる、スズ化合物、添加剤とを混合することによって製造することができる。 The composition of the present invention is not particularly limited for its production. For example, it can be produced by mixing an organopolysiloxane, a silane compound, an organic hafnium compound, and a tin compound and additives that can be used as necessary.
本発明の組成物は1液型または2液型として製造することが可能である。本発明の組成物を2液型とする場合、オルガノポリシロキサンと有機ハフニウム化合物とスズ化合物とを含む第1液と、シラン化合物を含む第2液とを有するものとするのが好ましい態様の1つとして挙げられる。添加剤は第1液および第2液のうちの一方または両方に加えることができる。 The composition of the present invention can be produced as a one-pack type or a two-pack type. In the case where the composition of the present invention is a two-component type, it is preferable to have a first liquid containing an organopolysiloxane, an organic hafnium compound, and a tin compound, and a second liquid containing a silane compound. As one. The additive can be added to one or both of the first liquid and the second liquid.
本発明の組成物は、光半導体封止用組成物として使用することができる。
本発明の組成物を適用することができる光半導体(発光素子)は特に制限されない。例えば、発光ダイオード(LED)、有機電界発光素子(有機EL)、レーザーダイオード、LEDアレイが挙げられる。
本発明の組成物の使用方法としては、例えば、光半導体に本発明の組成物を付与し、本発明の組成物が付与された光半導体を加熱して本発明の組成物を硬化させることが挙げられる。本発明の組成物を光半導体に付与する方法は特に制限されない。例えば、ディスペンサーを使用する方法、ポッティング法、スクリーン印刷、トランスファー成形、インジェクション成形が挙げられる。
The composition of this invention can be used as a composition for optical semiconductor sealing.
The optical semiconductor (light emitting device) to which the composition of the present invention can be applied is not particularly limited. For example, a light emitting diode (LED), an organic electroluminescent element (organic EL), a laser diode, and an LED array are mentioned.
As a method for using the composition of the present invention, for example, the composition of the present invention is applied to an optical semiconductor, and the optical semiconductor to which the composition of the present invention is applied is heated to cure the composition of the present invention. Can be mentioned. The method for applying the composition of the present invention to an optical semiconductor is not particularly limited. Examples thereof include a method using a dispenser, a potting method, screen printing, transfer molding, and injection molding.
本発明の組成物は加熱によって硬化させることができる。
加熱温度は、薄膜硬化性により優れ、耐熱性(例えば、加熱減量をより抑制することができる。)により優れ、熱硬化性に優れ、硬化時間、可使時間を適切な長さとすることができ、縮合反応による副生成物であるアルコールが発泡するのを抑制でき、硬化物のクラックを抑制でき、硬化物の平滑性、成形性、物性に優れるという観点から、80℃〜150℃付近で硬化させるのが好ましく、150℃付近がより好ましい。
加熱は、硬化性、透明性に優れるという観点から、実質的に無水の条件下で行うことができる。本発明において、加熱が実質的に無水の条件下でなされるとは、加熱における環境の大気中の湿度が10%RH以下であることをいう。
The composition of the present invention can be cured by heating.
The heating temperature is excellent in thin film curability, excellent in heat resistance (for example, more capable of suppressing loss on heating), excellent in thermosetting, and can be set to an appropriate length of curing time and pot life. From the viewpoint of suppressing the foaming of alcohol as a by-product due to the condensation reaction, suppressing cracks in the cured product, and being excellent in the smoothness, moldability and physical properties of the cured product, it is cured at around 80 ° C to 150 ° C. It is preferable that the temperature is about 150 ° C.
The heating can be performed under substantially anhydrous conditions from the viewpoint of excellent curability and transparency. In the present invention, “heating under substantially anhydrous conditions” means that the atmospheric humidity of the environment during heating is 10% RH or less.
本発明の組成物を加熱し硬化させることによって得られる硬化物(シリコーン樹脂)は、長期間にわたる発光素子(なかでも白色LED)による使用に対して、高い透明性を保持することができ、薄膜硬化性、耐熱性、耐熱着色安定性、薄膜硬化性、接着性、耐熱クラック性、熱硬化性に優れ、加熱減量が低い。得られる硬化物は架橋部分、骨格がすべてシロキサン結合なので従来のシリコーン樹脂より耐熱着色安定性に優れる。 The cured product (silicone resin) obtained by heating and curing the composition of the present invention can maintain high transparency with respect to long-term use by a light-emitting element (especially a white LED). Excellent curability, heat resistance, heat-resistant coloring stability, thin film curability, adhesiveness, heat crack resistance, and thermosetting properties, and low heat loss. The cured product obtained is superior in heat-resistant coloring stability than conventional silicone resins because the crosslinked part and skeleton are all siloxane bonds.
本発明において加熱減量は、本発明の組成物を150℃下で240分間加熱して硬化させて得られた初期の硬化物と、初期の硬化物をさらに200℃で1,000時間加熱をすることによって得られた加熱後の硬化物とを用いて、両方の硬化物の重量を測定し、得られた重量を下記計算式にあてはめることによって求めた値とする。
加熱減量(質量%)
=100−(加熱後の硬化物の重量/初期の硬化物の重量)×100
加熱減量の値が20質量%以下の場合、加熱減量を抑制することができており、光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物として実用的であるといえる。
本発明において、本発明の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物を加熱をすることによって得られる初期硬化物を200℃の条件下で1,000時間加熱をし、前記200℃の加熱後の硬化物の加熱減量が前記初期硬化物の20質量%以下であるのが好ましく、0〜10質量%であるのがより好ましい。
In the present invention, the weight loss by heating is the initial cured product obtained by heating and curing the composition of the present invention at 150 ° C. for 240 minutes, and the initial cured product is further heated at 200 ° C. for 1,000 hours. Using the cured product obtained after heating, the weights of both cured products are measured, and the obtained weight is set to a value determined by applying the following formula.
Heat loss (mass%)
= 100- (Weight of cured product after heating / Weight of initial cured product) × 100
When the value of heat loss is 20% by mass or less, heat loss can be suppressed, and it can be said that it is practical as a thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation.
In the present invention, an initial cured product obtained by heating the thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation of the present invention is heated at 200 ° C. for 1,000 hours, and the 200 ° C. heating is performed. It is preferable that the heat loss of the subsequent cured product is 20% by mass or less of the initial cured product, and more preferably 0 to 10% by mass.
本発明の組成物を用いて得られる硬化物(硬化物の厚さが2mmである場合)は、JIS K0115:2004に準じ紫外・可視吸収スペクトル測定装置(島津製作所社製、以下同様。)を用いて波長400nmにおいて測定された透過率が、80%以上であるのが好ましく、85%以上であるのがより好ましい。 A cured product obtained by using the composition of the present invention (when the thickness of the cured product is 2 mm) is an ultraviolet / visible absorption spectrum measuring apparatus (manufactured by Shimadzu Corporation, the same applies hereinafter) according to JIS K0115: 2004. The transmittance measured at a wavelength of 400 nm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more.
また、本発明の組成物を用いて得られる硬化物は、初期硬化の後耐熱試験(初期硬化後の硬化物を150℃下に10日間置く試験)を行いその後の硬化物(厚さ:2mm)について、JIS K0115:2004に準じ紫外・可視スペクトル測定装置を用いて波長400nmにおいて測定された透過率が、80%以上であるのが好ましく、85%以上であるのがより好ましい。 In addition, the cured product obtained using the composition of the present invention is subjected to a heat resistance test after initial curing (a test in which the cured product after initial curing is placed at 150 ° C. for 10 days), and then the cured product (thickness: 2 mm). ), The transmittance measured at a wavelength of 400 nm using an ultraviolet / visible spectrum measuring device according to JIS K0115: 2004 is preferably 80% or more, more preferably 85% or more.
本発明の組成物を用いて得られる硬化物は、その透過性保持率(耐熱試験後の透過率/初期硬化の際の透過率×100)が、70〜100%であるのが好ましく、80〜100%であるのがより好ましい。 The cured product obtained using the composition of the present invention preferably has a permeability retention ratio (transmittance after heat test / transmittance at initial curing × 100) of 70 to 100%, 80 More preferably, it is -100%.
本発明の組成物は、光半導体以外にも、例えば、ディスプレイ材料、光記録媒体材料、光学機器材料、光部品材料、光ファイバー材料、光・電子機能有機材料、半導体集積回路周辺材料等の用途に用いることができる。 In addition to optical semiconductors, the composition of the present invention is used for applications such as display materials, optical recording medium materials, optical equipment materials, optical component materials, optical fiber materials, optical / electronic functional organic materials, and semiconductor integrated circuit peripheral materials. Can be used.
次に本発明の封止体について以下に説明する。
本発明の封止体は、本発明の組成物を加熱し硬化させて光半導体を封止するものである。
本発明の封止体は、本発明の組成物を光半導体に付与し、前記光半導体を加熱し前記組成物を硬化させて前記光半導体を封止することによって得ることができる。
Next, the sealing body of this invention is demonstrated below.
The sealing body of the present invention seals the optical semiconductor by heating and curing the composition of the present invention.
The sealing body of the present invention can be obtained by applying the composition of the present invention to an optical semiconductor, heating the optical semiconductor to cure the composition, and sealing the optical semiconductor.
本発明の封止体に使用される組成物は本発明の組成物であれば特に制限されない。
本発明の封止体において組成物として本発明の組成物を使用することによって、本発明の封止体は、例えば光半導体からの発熱や封止体の製造時等における加熱に対し、耐熱性(例えば、耐熱着色安定性に優れ加熱減量を抑制することができる。)に優れ、薄膜硬化性、熱硬化性に優れる。
If the composition used for the sealing body of this invention is a composition of this invention, it will not restrict | limit in particular.
By using the composition of the present invention as a composition in the encapsulant of the present invention, the encapsulant of the present invention is resistant to heat generated from, for example, an optical semiconductor or heating during the production of the encapsulant. (For example, it is excellent in heat-resistant coloring stability and can suppress heat loss), and is excellent in thin film curability and thermosetting.
本発明の封止体に使用される光半導体は発光素子であれば特に制限されない。例えば、発光ダイオードを有する電子回路(LEDチップ)が挙げられる。
本発明の封止体に使用される光半導体はその発光色について特に制限されない。例えば、白色、青色、赤色、緑色が挙げられる。本発明の封止体は、光半導体からの発熱による高温下に長時間さらされても、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量を抑制することができるという観点から、白色LEDに対して適用することができる。白色LEDは特に制限されない。例えば従来公知のものが挙げられる。
光半導体の大きさ、形状は特に制限されない。また、光半導体の種類は、特に制限されず、例えば、ハイパワーLED、高輝度LED、汎用輝度LEDが挙げられる。
本発明の封止体は、1個の封止体の内部に光半導体を少なくとも1個以上有するものであり、2個以上の光半導体を有することができる。
If the optical semiconductor used for the sealing body of this invention is a light emitting element, it will not restrict | limit in particular. For example, the electronic circuit (LED chip) which has a light emitting diode is mentioned.
The optical semiconductor used for the encapsulant of the present invention is not particularly limited with respect to the emission color. For example, white, blue, red, and green are mentioned. The sealing body of the present invention is applied to a white LED from the viewpoint of being excellent in heat-resistant coloring stability and capable of suppressing heat loss even when exposed to a high temperature due to heat generated from an optical semiconductor for a long time. be able to. The white LED is not particularly limited. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.
The size and shape of the optical semiconductor are not particularly limited. Moreover, the kind in particular of an optical semiconductor is not restrict | limited, For example, high power LED, high-intensity LED, general purpose luminance LED is mentioned.
The sealing body of the present invention has at least one optical semiconductor inside one sealing body and can have two or more optical semiconductors.
本発明の封止体の製造方法としては、例えば、光半導体に本発明の組成物を付与する付与工程と、前記組成物が付与された光半導体を加熱をして組成物を硬化させて光半導体を封止する加熱硬化工程とを有するものが挙げられる。 As a manufacturing method of the sealing body of the present invention, for example, an application step of applying the composition of the present invention to an optical semiconductor, and heating the optical semiconductor to which the composition has been applied to cure the composition to light What has the heat-hardening process of sealing a semiconductor is mentioned.
付与工程において、光半導体に組成物を付与し前記組成物が付与された光半導体を得る。付与工程において使用される光半導体は上記と同義である。付与工程において使用される組成物は本発明の組成物であれば特に制限されない。付与の方法は特に制限されない。 In the applying step, a composition is applied to the optical semiconductor to obtain an optical semiconductor to which the composition is applied. The optical semiconductor used in the application step has the same meaning as described above. The composition used in the application step is not particularly limited as long as it is the composition of the present invention. The method of giving is not particularly limited.
次に、加熱硬化工程において、前記組成物が付与された光半導体を加熱をして前記組成物を硬化させて光半導体を封止することによって、本発明の封止体を得ることができる。加熱硬化工程における加熱温度は上記と同義である。 Next, in the heat curing step, the sealed body of the present invention can be obtained by heating the photosemiconductor to which the composition is applied to cure the composition and encapsulating the photosemiconductor. The heating temperature in the heat curing step is as defined above.
本発明の封止体の態形としては、例えば、硬化物が直接光半導体を封止しているもの、砲弾型、表面実装型、複数の光半導体または封止体の間および/または表面を封止しているものが挙げられる。 Examples of the shape of the sealing body of the present invention include, for example, a cured product that directly seals an optical semiconductor, a shell type, a surface mount type, a plurality of optical semiconductors or between and / or the surface of a sealing body. What is sealed is mentioned.
本発明の封止体について添付の図面を用いて以下に説明する。なお本発明の封止体は添付の図面に限定されない。
図1は、本発明の封止体の一例を模式的に示す断面図である。図2は、本発明の封止体の別の一例を模式的に示す断面図である。
The sealing body of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The sealing body of the present invention is not limited to the attached drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of the sealing body of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing another example of the sealing body of the present invention.
図1において、封止体200は基板210の上にパッケージ204を有する。
パッケージ204には、内部にキャビティー202が設けられている。キャビティー202内には、光半導体203と硬化物202とが配置されている。硬化物202は、本発明の組成物を硬化させたものである。硬化物202は封止体200を特定の色(例えば白色)に発光させるために蛍光物質等を含有することができる。
キャビティー202において斜線部206まで本発明の組成物で充填してもよい。キャビティー202内を他の組成物で充填し斜線部206を本発明の組成物で充填することができる。
光半導体203は、基板210上にマウント部材201で固定されている。光半導体203の各電極(図示せず。)と外部電極209とは導電性ワイヤー207によってワイヤーボンディングさせている。
In FIG. 1, the sealing body 200 has a package 204 on a substrate 210.
The package 204 is provided with a cavity 202 therein. An optical semiconductor 203 and a cured product 202 are disposed in the cavity 202. The cured product 202 is obtained by curing the composition of the present invention. The cured product 202 can contain a fluorescent material or the like in order to cause the sealing body 200 to emit light in a specific color (for example, white).
The cavity 202 may be filled with the composition of the present invention up to the shaded portion 206. The cavity 202 can be filled with another composition, and the hatched portion 206 can be filled with the composition of the present invention.
The optical semiconductor 203 is fixed on the substrate 210 with a mount member 201. Each electrode (not shown) of the optical semiconductor 203 and the external electrode 209 are wire bonded by a conductive wire 207.
図2において、本発明の封止体300は、ランプ機能を有する樹脂306の内部に基板310、光半導体303およびインナーリード305を有する。
基板310の頭部にはキャビティー(図示せず。)が設けられている。キャビティーには、光半導体303と硬化物302とが配置されている。硬化物302は、本発明の組成物を硬化させたものである。硬化物302は封止体300を特定の色に発光させるため蛍光物質等を含有することができる。樹脂306を本発明の組成物を用いて形成することができる。
光半導体303は、基板310上にマウント部材301で固定されている。光半導体303の各電極(図示せず。)と基板310およびインナーリード305とはそれぞれ導電性ワイヤー307によってワイヤーボンディングさせている。
In FIG. 2, a sealing body 300 of the present invention includes a substrate 310, an optical semiconductor 303, and inner leads 305 inside a resin 306 having a lamp function.
A cavity (not shown) is provided in the head of the substrate 310. An optical semiconductor 303 and a cured product 302 are arranged in the cavity. The cured product 302 is obtained by curing the composition of the present invention. The cured product 302 can contain a fluorescent material or the like for causing the sealing body 300 to emit light in a specific color. Resin 306 can be formed using the composition of the present invention.
The optical semiconductor 303 is fixed on the substrate 310 with a mount member 301. Each electrode (not shown) of the optical semiconductor 303 is bonded to the substrate 310 and the inner lead 305 by a conductive wire 307.
本発明の封止体をLED表示器に利用する場合について添付の図面を用いて説明する。図3は、本発明の封止体を用いたLED表示器の一例を模式的に示す図である。なお、本発明の封止体が使用されるLED表示器は添付の図面に限定されない。 The case where the sealing body of the present invention is used for an LED display will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 3 is a diagram schematically showing an example of an LED display using the sealing body of the present invention. In addition, the LED display in which the sealing body of this invention is used is not limited to attached drawing.
図3において、LED表示器400は、光半導体401を筐体404の内部にマトリックス状に配置し、光半導体401を硬化物406で封止し、筐体404の一部に遮光部材405を配置して構成されている。本発明の組成物を硬化物406に使用することができる。また、光半導体401として本発明の封止体を使用することができる。 In FIG. 3, an LED display 400 includes an optical semiconductor 401 arranged in a matrix form inside a housing 404, the optical semiconductor 401 is sealed with a cured product 406, and a light shielding member 405 is arranged on a part of the housing 404. Configured. The composition of the present invention can be used for the cured product 406. Further, the sealing body of the present invention can be used as the optical semiconductor 401.
本発明の封止体の用途としては、例えば、自動車用ランプ(ヘッドランプ、テールランプ、方向ランプ等)、家庭用照明器具、工業用照明器具、舞台用照明器具、ディスプレイ、信号、プロジェクターが挙げられる。 Applications of the sealing body of the present invention include, for example, automotive lamps (head lamps, tail lamps, directional lamps, etc.), household lighting fixtures, industrial lighting fixtures, stage lighting fixtures, displays, signals, and projectors. .
以下に、実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to these.
<有機ハフニウム化合物の製造>
・トリブトキシハフニウム2エチルヘキサノエート(ハフニウム化合物1)45質量%濃度のハフニウムテトラブトキシド(Gelest社製)4.7g(0.01mol)と2−エチルヘキサン酸(関東化学社製)1.44g(0.01mol)とを三ツ口フラスコに投入し窒素雰囲気下、室温で2時間程度攪拌し目的合成物とした。
合成物の定性はフーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR)を用いてその分析を行った。その結果カルボン酸由来のCOOHに帰属される1700cm-1付近の吸収が反応後は消失し、1,450〜1,560cm-1付近のCOOHfに由来するピークを確認した。
得られた合成物をハフニウム化合物1とする。
<Manufacture of organic hafnium compounds>
Tributoxyhafnium 2-ethylhexanoate (hafnium compound 1) 45% by weight of hafnium tetrabutoxide (Gelest) 4.7 g (0.01 mol) and 2-ethylhexanoic acid (Kanto Chemical Co.) 1.44 g (0.01 mol) was charged into a three-necked flask and stirred for about 2 hours at room temperature under a nitrogen atmosphere to obtain the target compound.
The qualitative properties of the synthesized product were analyzed using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR). As a result, absorption near 1700 cm −1 attributed to COOH derived from carboxylic acid disappeared after the reaction, and a peak derived from COOHf near 1,450 to 1,560 cm −1 was confirmed.
The resultant composite is referred to as hafnium compound 1.
・トリブトキシハフニウムナフテート(ハフニウム化合物2)
2−エチルヘキサン酸1.44gをナフテン酸(東京化成社製、カルボキシ基に結合する炭化水素基の炭素原子数の平均:15、中和価220mg。なお、ナフテン酸の中和価はナフテン酸1gを中和するのに必要なKOHの量である。)2.55g(0.01mol)に代えたほかはハフニウム化合物1と同様にして実験および定性を行った。得られた合成物をハフニウム化合物2とする。ハフニウム化合物2が有するナフテート基(R1COO−)中のR1の平均炭素原子数は15である。
・ Tributoxy hafnium naphthate (hafnium compound 2)
1.44 g of 2-ethylhexanoic acid was converted to naphthenic acid (produced by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., average number of carbon atoms of the hydrocarbon group bonded to the carboxy group: 15, neutralization value of 220 mg. The neutralization value of naphthenic acid is naphthenic acid. This is the amount of KOH required to neutralize 1 g.) Experiments and qualifications were performed in the same manner as hafnium compound 1 except that it was changed to 2.55 g (0.01 mol). The resultant composite is referred to as hafnium compound 2. The average number of carbon atoms of R 1 in the naphthate group (R 1 COO—) of the hafnium compound 2 is 15.
・トリブトキシハフニウムベンゼンカルボキシレート(ハフニウム化合物3)
2−エチルヘキサン酸1.44gを安息香酸(東京化成工業社製)1.22g(0.01mol)に代えたほかはハフニウム化合物1と同様にして実験および定性を行った。得られた合成物をハフニウム化合物3とする。
・ Tributoxy hafnium benzene carboxylate (hafnium compound 3)
Experiments and qualifications were performed in the same manner as hafnium compound 1 except that 1.44 g of 2-ethylhexanoic acid was replaced with 1.22 g (0.01 mol) of benzoic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.). The resultant composite is referred to as hafnium compound 3.
<評価>
以下に示すように初期硬化状態、透過率、耐熱着色安定性、混合後の増粘、加熱減量、接着性および薄膜硬化性について評価した。結果を第1表、第2表に示す。
<Evaluation>
As shown below, the initial cured state, transmittance, heat-resistant coloring stability, thickening after mixing, loss on heating, adhesion, and thin film curability were evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.
・初期硬化状態
下記のようにして得られた組成物2gを深さ1mmとなるように容器に入れ、150℃の条件下に12時間置き、12時間後の硬化の有無を確認した。
組成物が硬化している場合を「○」、硬化していない場合を「×」とした。
-Initial curing state 2 g of the composition obtained as described below was placed in a container so as to have a depth of 1 mm, placed under a condition of 150 ° C. for 12 hours, and the presence or absence of curing after 12 hours was confirmed.
The case where the composition was cured was “◯”, and the case where it was not cured was “x”.
・透過率評価試験
透過率評価試験において、下記のようにして得られた組成物を150℃の条件下で4時間硬化させて得られた初期硬化物、および耐熱試験(初期硬化物をさらに150℃の条件下で10日間加熱する試験。)後の硬化物(いずれも厚さが2mm。)についてそれぞれ、JIS K0115:2004に準じ紫外・可視吸収スペクトル測定装置(島津製作所社製)を用いて波長400nmにおける透過率を測定した。また、耐熱試験後の透過率の初期の透過率に対する保持率を下記計算式によって求めた。
透過率保持率(%)=(耐熱試験後の透過率)/(初期の透過率)×100
Transmittance evaluation test In the transmittance evaluation test, an initial cured product obtained by curing the composition obtained as described below at 150 ° C. for 4 hours, and a heat resistance test (an initial cured product is further added to 150 Test for heating for 10 days under the condition of ° C.) For each of the cured products (both having a thickness of 2 mm), using an ultraviolet / visible absorption spectrum measuring apparatus (manufactured by Shimadzu Corporation) according to JIS K0115: 2004, respectively. The transmittance at a wavelength of 400 nm was measured. Moreover, the retention with respect to the initial transmittance of the transmittance after the heat test was obtained by the following calculation formula.
Transmittance retention rate (%) = (Transmittance after heat resistance test) / (Initial transmittance) × 100
・耐熱着色安定性評価試験
下記のようにして得られた組成物を150℃の条件下で4時間硬化させて得られた初期硬化物、および耐熱試験(初期硬化物を150℃の条件下で10日間加熱する試験。)後の硬化物について、耐熱試験後の硬化物が、初期硬化物と比較して黄変したかどうかを目視で観察した。
Heat-resistant coloring stability evaluation test An initial cured product obtained by curing the composition obtained as described below at 150 ° C. for 4 hours, and a heat test (initial cured product at 150 ° C. Test for heating for 10 days.) Regarding the cured product after that, it was visually observed whether the cured product after the heat resistance test was yellow compared with the initial cured product.
・混合後の増粘(可使時間の評価)
第1表に示す成分を混合して製造した直後における25℃の条件下での組成物の粘度(初期粘度)と、得られた組成物を25℃の条件下に置き製造から24時間経過した後の組成物の粘度(24時間後の粘度)とを、E型粘度計を用いてRH50%、25℃の条件下で測定し、混合から24時間後の粘度の増加を確認した。
混合から24時間後の粘度が混合直後の2倍以内である場合「増粘なし」と評価した。混合から24時間後組成物がゲル化した場合「ゲル化」と評価した。混合から24時間後の粘度が混合直後の2倍以内である場合可使時間が十分であるとできる。
・ Thickening after mixing (Evaluation of pot life)
The viscosity (initial viscosity) of the composition under the condition of 25 ° C. immediately after the production shown in Table 1 was mixed and the obtained composition was placed under the condition of 25 ° C., and 24 hours had passed since the production. The viscosity of the later composition (viscosity after 24 hours) was measured using an E-type viscometer under the conditions of RH 50% and 25 ° C., and an increase in viscosity 24 hours after mixing was confirmed.
When the viscosity after 24 hours from the mixing was within 2 times that immediately after the mixing, it was evaluated as “no thickening”. When the composition gelled 24 hours after mixing, it was evaluated as “gelation”. If the viscosity after 24 hours from mixing is within twice that immediately after mixing, the pot life can be considered sufficient.
・加熱減量評価試験
加熱減量評価試験において、下記のようにして得られた組成物1.0gを150℃の条件下で4時間硬化させて得られた初期硬化物をさらに200℃で1,000時間加熱をした。初期硬化物と加熱減量評価試験後の硬化物とについて重量計を用いて硬化物の重量を測定した。加熱減量は下記計算式によって求めた。加熱減量の値が20質量%以下の場合、光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物として実用的である。
加熱減量(質量%)=100−(加熱減量評価試験後の硬化物の重量/初期硬化物の重量)×100
Heat Loss Evaluation Test In the heat loss evaluation test, an initial cured product obtained by curing 1.0 g of the composition obtained as described below at 150 ° C. for 4 hours was further 1,000 at 200 ° C. Heated for hours. The weight of the cured product was measured using a weigh scale for the initial cured product and the cured product after the heat loss evaluation test. The loss on heating was determined by the following formula. When the heating loss value is 20% by mass or less, it is practical as a thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation.
Heat loss (mass%) = 100− (weight of cured product after heat loss evaluation test / weight of initial cured product) × 100
・接着性
縦25mm×横10mm×厚さ1mmのシリコーン樹脂スペーサーを用いて、下記のようにして得られた組成物を被着体:アルミナ板に流し込み、150℃の条件で4時間加熱した。得られた積層体をプレッシャークッカー試験機を用いて、121℃、100%RHの条件下に24時間置いた。プレッシャークッカー試験(PCT)後の硬化物を用いて手はく離試験を行い、試験後における接着性を試験後の硬化物の破壊形態によってプレッシャークッカー試験後における接着性を評価した。
接着性の評価基準は、破壊形態が凝集破壊である場合を「CF」、破壊形態が界面破壊である場合を「AF」とした。
-Adhesiveness Using a silicone resin spacer having a length of 25 mm, a width of 10 mm, and a thickness of 1 mm, the composition obtained as described below was poured into an adherend: an alumina plate and heated at 150 ° C for 4 hours. The obtained laminate was placed under conditions of 121 ° C. and 100% RH for 24 hours using a pressure cooker tester. A hand peel test was performed using the cured product after the pressure cooker test (PCT), and the adhesiveness after the test was evaluated based on the fracture form of the cured product after the test.
The evaluation criteria for adhesiveness were “CF” when the fracture mode was cohesive failure and “AF” when the fracture mode was interface fracture.
・薄膜初期硬化状態
下記のようにして得られた組成物をガラス上に0.3mm以下の厚さとなるようにポッティングし、150℃の条件下で硬化させて得られた薄膜初期硬化物(厚さ0.3mm以下)について触指で初期硬化状態を確認した。
薄膜初期硬化状態の評価基準は、4時間未満の加熱で硬化している場合を「◎」、4時間以上8時間以内の加熱で硬化した場合を「○」、8時間を超える加熱で硬化した場合を「×」とした。
-Thin film initial cured state A thin film initial cured product (thickness) obtained by potting the composition obtained as described below to a thickness of 0.3 mm or less on glass and cured at 150 ° C. The initial cured state was confirmed with a finger.
The evaluation criteria for the initial thin film curing state are “◎” when cured by heating for less than 4 hours, “◯” when cured by heating for 4 hours to 8 hours, and cured by heating for more than 8 hours. The case was set as “x”.
<サンプルの作製(透過率、耐熱着色安定性の評価用)>
サンプルの作製について添付の図面を用いて以下に説明する。
図4は、実施例において本発明の光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物を硬化させるために使用した型を模式的に表す断面図である。
図4において、型8は、ガラス3(ガラス3の大きさは、縦10cm、横10cm、厚さ4mm)の上にPETフィルム5が配置され、PETフィルム5の上にシリコンモールドのスペーサー1(縦5cm、横5cm、高さ2mm)を配置されているものである。
型8を用いてスペーサー1の内部6に組成物6を流し込み、次のとおりサンプルの硬化を行った。
<Preparation of sample (for evaluation of transmittance and heat-resistant coloring stability)>
The production of the sample will be described below with reference to the accompanying drawings.
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a mold used for curing the thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation of the present invention in Examples.
In FIG. 4, a mold 8 has a PET film 5 disposed on a glass 3 (the size of the glass 3 is 10 cm long, 10 cm wide, 4 mm thick), and a silicon mold spacer 1 ( 5 cm in length, 5 cm in width, and 2 mm in height) are arranged.
The composition 6 was poured into the interior 6 of the spacer 1 using the mold 8, and the sample was cured as follows.
組成物6が充填された型8を電気オーブンに入れて、上記の評価の条件で加熱して組成物6を硬化させ、厚さ2mmの硬化物6(初期硬化物)を製造した。得られた硬化物6を透過率、耐熱着色安定性の評価用のサンプルとして用いた。 The mold 8 filled with the composition 6 was placed in an electric oven and heated under the above-described evaluation conditions to cure the composition 6 to produce a cured product 6 (initial cured product) having a thickness of 2 mm. The obtained cured product 6 was used as a sample for evaluating transmittance and heat-resistant coloring stability.
<光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物の製造>
下記第1表に示す成分を同表に示す量(単位:質量部)で真空かくはん機を用いて均一に混合し組成物を製造した。
<Manufacture of thermosetting silicone resin composition for optical semiconductor sealing>
The components shown in Table 1 below were uniformly mixed in the amounts shown in the same table (unit: parts by mass) using a vacuum stirrer to produce a composition.
第1表に示されている各成分は、以下のとおりである。
・(A)ポリシロキサン1:ポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール(重量平均分子量1,000)、商品名x−21−5841、信越化学工業社製
・(A)ポリシロキサン2:ポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール(重量平均分子量4,000)、商品名PRX−413(東レダウコーニング株式会社)
・(A)ポリシロキサン3:ポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール、商品名x−−21−5848(信越化学工業社製、重量平均分子量110,000)
・エポキシシリコーン:エポキシ変性ポリシロキサン(商品名:KF101、信越化学工業社製)
・(B)シラン化合物1:シリコーンアルコキシオリゴマー[RmSi(OR′)nO(4-m-n)/2、式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基またはアリール基であり、R′は炭素数1〜6のアルキル基であり、mは0<m<2、nは0<n<2、m+nは0<m+n≦3である。重量平均分子量6,000。商品名x−40−9246、信越化学工業社製。以下同様]
・(B)シラン化合物2:両末端シラノール型ポリジメチルシロキサン(商品名ss70、信越化学工業社製、Mw=18,000)100質量部に対してテトラメトキシシラン(信越化学工業社製、商品名KBM−04)20質量部、2エチルヘキサンスズ(関東化学社製)を0.01質量部添加し、60℃8時間減圧しながら攪拌し、その後130℃8時間減圧下で残渣のテトラメトキシシランを除き、両末端がトリメトキシシリルオキシ基で変性されているポリジメチルシロキサンを得た。プロトンNMRにより、シラノールのピーク消失を確認した。得られた縮合体をシラン化合物2とする。シラン化合物2の重量平均分子量は、クロロホルムを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算(以下同様)で、35,000であった。
・(B)シラン化合物3:テトラメトキシシラン20質量部をメチルトリメトキシシランの縮合体(商品名KC−89、信越化学工業社製)20質量部に代えたほかはシラン化合物2と同様に製造を行ってシラン化合物3を得た。プロトンNMRにより、シラノールのピーク消失を確認した。シラン化合物3の重量平均分子量は、クロロホルムを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算(以下同様)で、40,000であった。
・(C)ハフニウム化合物1〜3:上述のとおり製造したもの
・(C)ハフニウム化合物4:ハフニウムジ−n−ブトキサイド(ビス−2,4−ペンタジオネート)(Gelest社製)
・(C)ハフニウム化合物5:ハフニウム−2,4−ペンタジオネート[Hf(C5H7O2)4](Gelest社製)
・(C)ハフニウム化合物6:ハフニウムテトラメチルヘプタンジオネート(Gelest社製)
・(C)ハフニウム化合物7:ハフニウムトリフルオロペンタジオネート[C20H16O8F12Hf](Gelest社製)
・(D)スズ化合物:ジブチルスズジアセテート、日東化成社製
・テトラアルコキシドハフニウム:ハフニウムテトラn−ブトキシド、Gelest社製
・アルミニウム化合物:Al(acac)3、マツモト交商社製
・チタン化合物:チタニウムテトラノルマルブトキシド、マツモト交商社製
・カチオン重合触媒:BF3・Et2O(BF3エチルエテラート錯体、東京化成工業社製)
Each component shown in Table 1 is as follows.
(A) Polysiloxane 1: Polydimethylsiloxane-α, ω-diol (weight average molecular weight 1,000), trade name x-21-5841, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (A) Polysiloxane 2: polydimethylsiloxane -Α, ω-diol (weight average molecular weight 4,000), trade name PRX-413 (Toray Dow Corning Co., Ltd.)
(A) Polysiloxane 3: polydimethylsiloxane-α, ω-diol, trade name x--21-5848 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 110,000)
Epoxy silicone: Epoxy-modified polysiloxane (trade name: KF101, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
· (B) a silane compound 1: silicone alkoxy oligomer [R m Si (OR ') n O (4-mn) / 2, wherein, R is an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group having 1 to 6 carbon atoms , R ′ is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, m is 0 <m <2, n is 0 <n <2, and m + n is 0 <m + n ≦ 3. Weight average molecular weight 6,000. Product name x-40-9246, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Same below)
(B) Silane compound 2: Tetramethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name) with respect to 100 parts by mass of both-end silanol-type polydimethylsiloxane (trade name ss70, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Mw = 18,000) (KBM-04) 20 parts by mass, 0.01 parts by mass of 2-ethylhexane tin (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.) was added and stirred while reducing the pressure at 60 ° C. for 8 hours, and then the residual tetramethoxysilane at 130 ° C. for 8 hours under reduced pressure. A polydimethylsiloxane having both ends modified with a trimethoxysilyloxy group was obtained. The disappearance of the silanol peak was confirmed by proton NMR. The resulting condensate is referred to as silane compound 2. The weight average molecular weight of the silane compound 2 was 35,000 in terms of polystyrene (hereinafter the same) by gel permeation chromatography (GPC) using chloroform as a solvent.
-(B) Silane compound 3: produced in the same manner as silane compound 2 except that 20 parts by mass of tetramethoxysilane was replaced with 20 parts by mass of a condensate of methyltrimethoxysilane (trade name KC-89, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) To obtain the silane compound 3. The disappearance of the silanol peak was confirmed by proton NMR. The weight average molecular weight of the silane compound 3 was 40,000 in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) using chloroform as a solvent (hereinafter the same).
-(C) Hafnium compounds 1-3: those prepared as described above-(C) Hafnium compound 4: hafnium di-n-butoxide (bis-2,4-pentadionate) (manufactured by Gelest)
· (C) hafnium compound 5: hafnium 2,4 penta dionate [Hf (C 5 H 7 O 2) 4] (Gelest Inc.)
(C) Hafnium compound 6: Hafnium tetramethylheptanedionate (manufactured by Gelest)
(C) Hafnium compound 7: hafnium trifluoropentadiate [C 20 H 16 O 8 F 12 Hf] (manufactured by Gelest)
・ (D) Tin compound: Dibutyltin diacetate, manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd. ・ Tetraalkoxide hafnium: Hafnium tetra n-butoxide, manufactured by Gelest ・ Aluminum compound: Al (acac) 3 , manufactured by Matsumoto Trading Co. ・ Titanium compound: Titanium tetranormal Butoxide, manufactured by Matsumoto Trading Co., Ltd. Cationic polymerization catalyst: BF 3 · Et 2 O (BF 3 ethyl etherate complex, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
第1表に示す結果から明らかなように、エポキシシリコーンを含有する比較例6は耐熱着色安定性が低く可使時間が短かった。有機ハフニウム化合物を含有せずアルミニウム化合物を含有する比較例2、4、5は加熱減量が大きく耐熱性が低かった。有機ハフニウム化合物を含有せずスズ化合物だけを含有する比較例1、3は可使時間が短かった。有機ハフニウム化合物を含有せずチタン化合物を含有する比較例7は未硬化で、硬化性に劣った。有機ハフニウム化合物を含有せずテトラアルコキシドハフニウムを含有する比較例8は未硬化で、硬化性に劣った。
これに対して、実施例I、IIは、加熱減量が抑制されて耐熱性に優れ、耐熱着色安定性、薄膜硬化性に優れる。さらにスズ化合物を含有する実施例IIは薄膜硬化性により優れた。
また実施例I、IIは、PCT試験後の破壊試験の結果は凝集破壊を示し、高い接着性(高温、水、高圧の条件下における接着性)を示し、透明性に優れ、透過率、透過率保持率が高く、混合後の増粘が低く可使時間を適切な長さにすることができる。
このように本発明の組成物は加熱減量が抑制されて耐熱着色安定性に優れるので耐熱性に優れ、薄膜硬化性に優れる。また、本発明の組成物は熱硬化性[組成物を使用する際(例えば、2液型の場合2液を混合した後、1液型の場合組成物が入った容器を開封した後)、組成物を室温(25℃)の条件下に24時間おいた後に、組成物にゲル化や増粘が少なく、組成物を加熱することにより速やかに硬化することができる。]、接着性(高温、水、高圧の条件下における接着性)を示し、透明性に優れ、透過率、透過率保持率が高く、混合後の増粘が低く可使時間を適切な長さにすることができる。
As is clear from the results shown in Table 1, Comparative Example 6 containing epoxy silicone had low heat-resistant coloring stability and a short pot life. In Comparative Examples 2, 4, and 5 containing an aluminum compound without containing an organic hafnium compound, the heat loss was large and the heat resistance was low. In Comparative Examples 1 and 3 containing only the tin compound without containing the organic hafnium compound, the pot life was short. The comparative example 7 which does not contain an organic hafnium compound but contains a titanium compound is uncured and inferior in curability. The comparative example 8 which does not contain an organic hafnium compound but contains tetraalkoxide hafnium was uncured and inferior in curability.
On the other hand, Examples I and II are excellent in heat resistance because heat loss is suppressed, and excellent in heat-resistant coloring stability and thin film curability. Further, Example II containing a tin compound was more excellent in thin film curability.
In Examples I and II, the result of the fracture test after the PCT test showed cohesive fracture, high adhesion (adhesion under conditions of high temperature, water, and high pressure), excellent transparency, transmittance, and transmission. The rate retention is high, the viscosity after mixing is low, and the pot life can be set to an appropriate length.
As described above, the composition of the present invention is excellent in heat resistance and thin film curability because the loss on heating is suppressed and the heat resistant coloring stability is excellent. In addition, the composition of the present invention is thermosetting [when the composition is used (for example, after mixing two liquids in the case of a two-component type, after opening a container containing the composition in the case of a one-component type), After the composition is placed at room temperature (25 ° C.) for 24 hours, the composition has little gelation or thickening and can be rapidly cured by heating the composition. ] Adhesive (adhesiveness under conditions of high temperature, water, and high pressure), excellent transparency, high transmittance and transmittance retention, low viscosity after mixing, and proper use time Can be.
1 スペーサー 3 ガラス
5 PETフィルム
6 本発明の組成物(内部、硬化後硬化物6となる)
8 型
200、300 本発明の封止体 201、301 マウント部材
202 キャビティー、硬化物 203、303 光半導体
302 硬化物
204 パッケージ 206 斜線部
306 樹脂 207、307 導電性ワイヤー
209 外部電極 210、310 基板
305 インナーリード 400、501 LED表示器
401 光半導体 404 筐体
405 遮光部材 406 硬化物
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Spacer 3 Glass 5 PET film 6 Composition of this invention (it becomes the inside and the hardened | cured material 6 after hardening)
Type 8
200, 300 Sealed body 201, 301 Mount member 202 Cavity, cured product 203, 303 Optical semiconductor 302 Cured product 204 Package 206 Shaded portion 306 Resin 207, 307 Conductive wire 209 External electrode 210, 310 Substrate 305 Inner Lead 400, 501 LED display 401 Optical semiconductor 404 Case 405 Light shielding member 406 Cured product
Claims (13)
(B)1分子中に2つ以上のアルコキシ基を有するシラン化合物0.1〜2000質量部と、
(C)下記式(1)および/または下記式(2)で示される有機ハフニウム化合物とを含有する、光半導体封止用熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
(B) 0.1 to 2000 parts by mass of a silane compound having two or more alkoxy groups in one molecule;
(C) A thermosetting silicone resin composition for sealing an optical semiconductor, comprising an organic hafnium compound represented by the following formula (1) and / or the following formula (2).
R8 kSi(OR9)lO(4-k-l)/2 (5)
[式(5)中、R8は炭素数1〜6のアルキル基および/またはアリール基であり、R9は炭素数1〜6のアルキル基であり、0<k<2、0<l<2、0<(k+l)≦3である。]
R 8 k Si (OR 9 ) l O (4-kl) / 2 (5)
[In the formula (5), R 8 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and / or an aryl group, R 9 is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 0 <k <2, 0 <l < 2, 0 <(k + l) ≦ 3. ]
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