JP2012111850A - Silicone resin composition, and structure containing silicone resin obtained using the same and sealed optical semiconductor element - Google Patents

Silicone resin composition, and structure containing silicone resin obtained using the same and sealed optical semiconductor element Download PDF

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吉仁 武井
Kazunori Ishikawa
和憲 石川
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silicone resin composition which is superior in adhesiveness to an adherend without deteriorating the excellent sulfuration resistance.SOLUTION: The silicone resin composition contains 0.01-5 pts.mass of a zinc compound (B) and 0.01-5 pts.mass of a compound (C) having a polyalkylene oxide chain relative to 100 pts.mass of a curable silicone resin composition (A).

Description

本発明は、シリコーン樹脂組成物、ならびに、これを用いて得られるシリコーン樹脂含有構造体および光半導体素子封止体に関する。   The present invention relates to a silicone resin composition, and a silicone resin-containing structure and an optical semiconductor element encapsulant obtained using the same.

シリコーン樹脂は、耐熱性に優れているが、エポキシ樹脂等と比較して気体透過性が高い。そのため、シリコーン樹脂で封止された銀メッキが、空気中の硫化水素によって腐食し、経時的に変色してしまうことがあった。
このような経時的な変色に対する対策としては、シリコーン樹脂の架橋密度を上げ樹脂を硬くする方法や、シリコーン樹脂とガスバリア性が高い樹脂を共重合させる方法等が提案されている(例えば、特許文献1参照)。
Silicone resin is excellent in heat resistance, but has higher gas permeability than epoxy resin or the like. Therefore, the silver plating sealed with the silicone resin may be corroded by hydrogen sulfide in the air and discolored over time.
As countermeasures against such discoloration over time, a method of increasing the crosslink density of the silicone resin to harden the resin, a method of copolymerizing a silicone resin and a resin having a high gas barrier property, etc. have been proposed (for example, patent documents). 1).

特開2003−188503号公報JP 2003-188503 A

本発明者らは、銀の経時的な変色に対する対策として従来採用されていた上述の方法では、十分な耐硫化性が得られないことを明らかにしたうえで、シリコーン樹脂に所定量の亜鉛化合物を配合することにより、優れた耐硫化性が得られることを見出した。
しかしながら、所定量の亜鉛化合物を配合したシリコーン樹脂は、硬化後において、被着体に対する密着性に劣る場合があることが分かった。
The present inventors have clarified that sufficient sulfur resistance cannot be obtained by the above-described method conventionally employed as a countermeasure against discoloration of silver over time, and a predetermined amount of zinc compound is added to the silicone resin. It was found that excellent sulfidation resistance can be obtained by blending.
However, it has been found that a silicone resin containing a predetermined amount of a zinc compound may have poor adhesion to an adherend after curing.

そこで、本発明は、優れた耐硫化性を損なわず、かつ、被着体に対する密着性にも優れたシリコーン樹脂組成物を提供することを目的とする。   Then, an object of this invention is to provide the silicone resin composition which was excellent in the adhesiveness with respect to a to-be-adhered body, without impairing the outstanding sulfidation resistance.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、所定量の亜鉛化合物を配合した硬化性シリコーン樹脂に、さらに、ポリアルキレンオキシド鎖を有する化合物(C)を所定量配合することによって、耐硫化性を損なわずに、密着性も良好にすることができることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下の(1)〜(7)を提供する。
As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventor further blended a predetermined amount of a compound (C) having a polyalkylene oxide chain with a curable silicone resin containing a predetermined amount of a zinc compound. The inventors have found that the adhesion can be improved without impairing the sulfidation resistance, and have completed the present invention.
That is, the present invention provides the following (1) to (7).

(1)硬化性シリコーン樹脂組成物(A)100質量部に対して、亜鉛化合物(B)0.01〜5質量部と、ポリアルキレンオキシド鎖を有する化合物(C)0.01〜5質量部と、を含有するシリコーン樹脂組成物。   (1) 0.01 to 5 parts by mass of the zinc compound (B) and 0.01 to 5 parts by mass of the compound (C) having a polyalkylene oxide chain with respect to 100 parts by mass of the curable silicone resin composition (A) And a silicone resin composition.

(2)上記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)が、シラノール基またはケイ素原子に結合した加水分解性基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン(a)、ならびに、加水分解性シラン、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1種であるシラン化合物(b)のいずれか一方または両方と、縮合触媒(c)と、を含有する上記(1)に記載のシリコーン樹脂組成物。   (2) Organopolysiloxane (a) in which the curable silicone resin composition (A) has at least two hydrolyzable groups bonded to silanol groups or silicon atoms, hydrolyzable silane, and hydrolyzate thereof And at least one silane compound (b) selected from the group consisting of the hydrolysis condensate thereof, and a condensation catalyst (c), and the silicone according to (1) above Resin composition.

(3)上記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)が、ケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン(d)と、ケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも2個有するポリオルガノハイドロジェンポリシロキサン(e)と、ヒドロシリル化触媒(f)と、を含有し、上記水素原子の量が、上記アルケニル基1モル当たり0.1〜5.0モルである、上記(1)または(2)に記載のシリコーン樹脂組成物。   (3) The curable silicone resin composition (A) comprises an organopolysiloxane (d) having at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms and a polyorganohydro having at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms. Genpolysiloxane (e) and a hydrosilylation catalyst (f), wherein the amount of the hydrogen atom is 0.1 to 5.0 mol per mol of the alkenyl group (1) or ( The silicone resin composition as described in 2).

(4)上記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)が、1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するオルガノポリシロキサン(g)と、熱重合開始剤および/または光重合開始剤(h)と、を含有する上記(1)〜(3)のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物。   (4) The curable silicone resin composition (A) comprises an organopolysiloxane (g) having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule, a thermal polymerization initiator and / or a photopolymerization initiator ( h), and the silicone resin composition according to any one of the above (1) to (3).

(5)上記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)が、エポキシ基を有するオルガノポリシロキサン(i)を含有する、上記(1)〜(4)のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物。   (5) The silicone resin composition according to any one of (1) to (4), wherein the curable silicone resin composition (A) contains an organopolysiloxane (i) having an epoxy group.

(6)銀を含む部材と、上記部材を覆う、上記(1)〜(5)のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物を硬化させて得られるシリコーン樹脂層と、を備えるシリコーン樹脂含有構造体。   (6) A silicone resin-containing structure comprising: a member containing silver; and a silicone resin layer obtained by curing the silicone resin composition according to any one of (1) to (5) that covers the member. .

(7)凹部を有する枠体と、上記凹部の底部に配置された光半導体素子と、上記凹部の内側面に配置された銀を含む部材と、上記凹部に充填されて上記光半導体素子と上記部材とを封止する、上記(1)〜(5)のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物を硬化させて得られる封止材と、を備える光半導体素子封止体。   (7) A frame having a recess, an optical semiconductor element disposed at the bottom of the recess, a member including silver disposed on an inner surface of the recess, the optical semiconductor element and the member filled in the recess And a sealing material obtained by curing the silicone resin composition according to any one of (1) to (5), which seals a member.

本発明によれば、優れた耐硫化性を損なわず、かつ、被着体に対する密着性にも優れたシリコーン樹脂組成物を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a silicone resin composition that does not impair excellent sulfidation resistance and has excellent adhesion to an adherend.

本発明のシリコーン樹脂含有構造体としての積層体の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the laminated body as a silicone resin containing structure of this invention. 本発明のシリコーン樹脂含有構造体としての積層体の別の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another example of the laminated body as a silicone resin containing structure of this invention. 本発明の光半導体素子封止体の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically an example of the optical semiconductor element sealing body of this invention. 本発明の光半導体素子封止体の別の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another example of the optical semiconductor element sealing body of this invention. 本発明の光半導体素子封止体のさらに別の一例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically another example of the optical semiconductor element sealing body of this invention. 本発明の組成物および/または本発明の光半導体素子封止体を用いたLED表示器の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the LED display using the composition of this invention and / or the optical semiconductor element sealing body of this invention.

<シリコーン樹脂組成物>
本発明のシリコーン樹脂組成物(以下、「本発明の組成物」ともいう。)は、硬化性シリコーン樹脂組成物(A)100質量部に対して、亜鉛化合物(B)0.01〜5質量部と、ポリアルキレンオキシド鎖を有する化合物(C)0.01〜5質量部と、を含有するシリコーン樹脂組成物である。
以下、本発明の組成物が含有する各成分について詳細に説明する。
<Silicone resin composition>
The silicone resin composition of the present invention (hereinafter also referred to as “the composition of the present invention”) is 0.01 to 5 mass of the zinc compound (B) with respect to 100 mass parts of the curable silicone resin composition (A). Part and the compound (C) which has a polyalkylene oxide chain 0.01-5 mass parts.
Hereinafter, each component contained in the composition of the present invention will be described in detail.

<硬化性シリコーン樹脂組成物(A)>
本発明の組成物に含有される硬化性シリコーン樹脂組成物(A)は、硬化性シリコーン樹脂(A1)を含む組成物であれば、特に限定されない。
<Curable silicone resin composition (A)>
The curable silicone resin composition (A) contained in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a composition containing a curable silicone resin (A1).

上記硬化性シリコーン樹脂(A1)は、例えば、シラノール基(ケイ素原子に結合したヒドロキシ基)、ケイ素原子に結合した加水分解性基、ケイ素原子に結合したアルケニル基、ハイドロジェンシリル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基、アミノ基、カルビノール基、メルカプト基、カルボキシ基、フェノール基などの反応性官能基;フェニル基などの芳香族基、アルキル基、アルケニル基などの炭化水素基;等を有することができる。
上記硬化性シリコーン樹脂(A1)は、反応性官能基を1分子中に2個以上有することができ、また、反応性官能基をその末端もしくは両末端および/または側鎖に有することができる。
Examples of the curable silicone resin (A1) include silanol groups (hydroxy groups bonded to silicon atoms), hydrolyzable groups bonded to silicon atoms, alkenyl groups bonded to silicon atoms, hydrogensilyl groups, (meth) Reactive functional groups such as acryloyl group, epoxy group, amino group, carbinol group, mercapto group, carboxy group, and phenol group; aromatic groups such as phenyl group; hydrocarbon groups such as alkyl group and alkenyl group; etc. be able to.
The curable silicone resin (A1) may have two or more reactive functional groups in one molecule, and may have a reactive functional group at the terminal or both terminals and / or side chains.

上記硬化性シリコーン樹脂(A1)の骨格としては、例えば、シラン、シリコーンオリゴマー、シリコーン樹脂、オルガノシロキサン、ジオルガノシロキサン、オルガノポリシロキサン、ジオルガノポリシロキサン等が挙げられ、これらの骨格は、直鎖または分岐のいずれであってもよい。   Examples of the skeleton of the curable silicone resin (A1) include silane, silicone oligomer, silicone resin, organosiloxane, diorganosiloxane, organopolysiloxane, diorganopolysiloxane, and the like. Or any of a branch may be sufficient.

上記硬化性シリコーン樹脂(A1)の骨格としてのオルガノシロキサン(以下、「オルガノシロキサン(A11)」ともいう。)としては、例えば、下記式(1)で表されるものが挙げられる。
1−SiR1 2−O−[SiR1 2−O]n−SiR1 2−X2 (1)
上記式(1)中、R1は炭素数1〜18のアルキル基またはアリール基を示し、複数のR1はそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、X1およびX2はそれぞれ独立に反応性官能基を示し、nは1以上の整数である。
上記式(1)中、R1が示す炭素数1〜18のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等が挙げられる。R1が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。これらのうち、R1が示す基としては、メチル基またはフェニル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
上記式(1)中、nは、上記オルガノシロキサン(A11)の重量平均分子量に対応する数値とすることができ、10〜15000の整数であるのが好ましい。
Examples of the organosiloxane as the skeleton of the curable silicone resin (A1) (hereinafter also referred to as “organosiloxane (A11)”) include those represented by the following formula (1).
X 1 -SiR 1 2 -O- [SiR 1 2 -O] n -SiR 1 2 -X 2 (1)
The formula (1), R 1 represents an alkyl group or an aryl group having from 1 to 18 carbon atoms, each of the plurality of R 1 may be different even in the same, X 1 and X 2 are each independently A reactive functional group is shown, and n is an integer of 1 or more.
In the above formula (1), examples of the alkyl group having 1 to 18 carbon atoms represented by R 1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, and a tert-butyl group. Can be mentioned. Examples of the aryl group represented by R 1 include a phenyl group and a naphthyl group. Of these, the group represented by R 1 is preferably a methyl group or a phenyl group, and more preferably a methyl group.
In said formula (1), n can be made into the numerical value corresponding to the weight average molecular weight of the said organosiloxane (A11), and it is preferable that it is an integer of 10-15000.

また、上記オルガノシロキサン(A11)は、1種単独であっても2種以上が併用されていてもよい。上記オルガノシロキサン(A11)が2種以上併用される場合、2種以上の上記オルガノシロキサン(A11)は、それぞれ、同一の反応性官能基を有してもよいし、異なる反応性官能基を有してもよい。
このとき、ある1種類の反応性官能基を有する上記オルガノシロキサン(A11)に対して、その反応性官能基と反応し、硬化剤として働く反応性官能基を有する上記オルガノシロキサン(A11)を組み合わせることができる。なお、この場合、後者の上記オルガノシロキサン(A11)の量は、その反応性官能基が、前者の上記オルガノシロキサン(A11)が有する反応性官能基に対して、0.1〜10当量となる量とすることができる。
Moreover, the said organosiloxane (A11) may be single 1 type, or 2 or more types may be used together. When two or more organosiloxanes (A11) are used in combination, two or more organosiloxanes (A11) may have the same reactive functional group or different reactive functional groups. May be.
At this time, the organosiloxane (A11) having a reactive functional group is combined with the organosiloxane (A11) having a reactive functional group that reacts with the reactive functional group and acts as a curing agent. be able to. In this case, the amount of the latter organosiloxane (A11) is 0.1 to 10 equivalents relative to the reactive functional group of the former organosiloxane (A11). It can be an amount.

上記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)としては、具体的には、例えば、下記のシリコーン樹脂組成物[1]〜[4]が挙げられる。   Specific examples of the curable silicone resin composition (A) include the following silicone resin compositions [1] to [4].

・硬化性シリコーン樹脂組成物[1]:シラノール基またはケイ素原子に結合した加水分解性基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン(a)、ならびに、加水分解性シラン、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1種であるシラン化合物(b)のいずれか一方または両方と、縮合触媒(c)と、を含有する硬化性シリコーン樹脂組成物。
なお、上記硬化性シリコーン樹脂組成物[1]においては、上記オルガノポリシロキサン(a)、および/または、上記シラン化合物(b)を、シリコーンレジンとすることできる。
Curable silicone resin composition [1]: organopolysiloxane (a) having at least two hydrolyzable groups bonded to silanol groups or silicon atoms, hydrolyzable silane, hydrolyzate thereof, and A curable silicone resin composition comprising one or both of at least one silane compound (b) selected from the group consisting of hydrolysis condensates and a condensation catalyst (c).
In the curable silicone resin composition [1], the organopolysiloxane (a) and / or the silane compound (b) can be a silicone resin.

・硬化性シリコーン樹脂組成物[2]:ケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン(d)と、ケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも2個有するポリオルガノハイドロジェンポリシロキサン(e)と、ヒドロシリル化触媒(f)と、を含有する硬化性シリコーン樹脂組成物。
上記水素原子の量は、上記アルケニル基1モル当たり、0.1〜5.0モルであるのが好ましい。
Curable silicone resin composition [2]: polyorganohydrogenpolysiloxane (d) having at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms and polyorganohydrogenpolysiloxane having at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms ( A curable silicone resin composition containing e) and a hydrosilylation catalyst (f).
The amount of the hydrogen atom is preferably 0.1 to 5.0 mol per mol of the alkenyl group.

・硬化性シリコーン樹脂組成物[3]:1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するオルガノポリシロキサン(g)と、熱重合開始剤および/または光重合開始剤(h)と、を含有する硬化性シリコーン樹脂組成物。   Curable silicone resin composition [3]: organopolysiloxane (g) having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule, a thermal polymerization initiator and / or a photopolymerization initiator (h), A curable silicone resin composition containing

・硬化性シリコーン樹脂組成物[4]:エポキシ基を有するオルガノポリシロキサン(i)を含有する硬化性シリコーン樹脂組成物。
上記硬化性シリコーン樹脂組成物[4]は、任意成分として、例えば、酸無水物、カルボン酸、アミン化合物、ルイス酸触媒、ルイス塩基触媒からなる群から選ばれる少なくとも1種(j)をさらに含有することができる。
Curable silicone resin composition [4]: A curable silicone resin composition containing an organopolysiloxane (i) having an epoxy group.
The curable silicone resin composition [4] further contains, as an optional component, for example, at least one (j) selected from the group consisting of an acid anhydride, a carboxylic acid, an amine compound, a Lewis acid catalyst, and a Lewis base catalyst. can do.

上記硬化性シリコーン樹脂組成物[1]〜[4]に含まれる各成分としては、特に限定されず、例えば、従来公知のものが挙げられる。   As each component contained in the said curable silicone resin composition [1]-[4], it does not specifically limit, For example, a conventionally well-known thing is mentioned.

上記オルガノシロキサン(a)、(d)、(g)および(i)の製造方法としては、特に限定されず、例えば、従来公知のものが挙げられる。
これらオルガノシロキサンの分子量は、1,000〜1,000,000であるのが好ましく、6,000〜100,000であるのがより好ましい。
なお、本発明において、分子量は、クロロホルムを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量であるものとする。
It does not specifically limit as a manufacturing method of the said organosiloxane (a), (d), (g), and (i), For example, a conventionally well-known thing is mentioned.
The molecular weight of these organosiloxanes is preferably 1,000 to 1,000,000, and more preferably 6,000 to 100,000.
In the present invention, the molecular weight is a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) using chloroform as a solvent.

上記硬化性シリコーン樹脂組成物[1]〜[4]の製造方法としては、特に限定されない。
上記硬化性シリコーン樹脂組成物[1]〜[4]は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
上記硬化性シリコーン樹脂組成物[1]〜[4]のうち、上記硬化性シリコーン樹脂組成物[1]であるのが好ましい。
It does not specifically limit as a manufacturing method of the said curable silicone resin composition [1]-[4].
The said curable silicone resin composition [1]-[4] may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
Of the curable silicone resin compositions [1] to [4], the curable silicone resin composition [1] is preferable.

<硬化性シリコーン樹脂組成物[1]>
次に、上記硬化性シリコーン樹脂組成物[1]に含有される各成分について詳細に説明する。
<Curable silicone resin composition [1]>
Next, each component contained in the curable silicone resin composition [1] will be described in detail.

[オルガノポリシロキサン(a)]
上記オルガノポリシロキサン(a)は、シラノール基またはケイ素原子に結合した加水分解性基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサンであり、シラノール基またはケイ素原子に結合した加水分解性基を少なくとも2個有するジオルガノポリシロキサンであるのが好ましく、シラノール基もしくはケイ素原子に結合した加水分解性基を少なくとも2個有するオルガノポリジメチルシロキサンであるのがより好ましい。
上記オルガノポリシロキサン(a)としては、例えば、下記式(2)で表されるものが挙げられる。
[Organopolysiloxane (a)]
The organopolysiloxane (a) is an organopolysiloxane having at least two hydrolyzable groups bonded to silanol groups or silicon atoms, and having at least two hydrolyzable groups bonded to silanol groups or silicon atoms. An organopolysiloxane is preferred, and an organopolydimethylsiloxane having at least two hydrolyzable groups bonded to silanol groups or silicon atoms is more preferred.
As said organopolysiloxane (a), what is represented by following formula (2) is mentioned, for example.

上記式(2)中、mは、上記オルガノポリシロキサン(a)の重量平均分子量に対応する数値とすることができ、10〜15000の整数であるのが好ましい。   In said formula (2), m can be made into the numerical value corresponding to the weight average molecular weight of the said organopolysiloxane (a), and it is preferable that it is an integer of 10-15000.

また、オルガノポリシロキサン(a)としては、主鎖が網目状のシリコーンレジンが挙げられる。このようなシリコーンレジンとしては、例えば、RSiO1/2単位(式中、Rはそれぞれ独立に非置換または置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表わす)およびSiO4/2単位を繰り返し単位とするシリコーンレジンa1が挙げられる。 Moreover, examples of the organopolysiloxane (a) include silicone resins having a network of main chains. Examples of such a silicone resin include, for example, R 3 SiO 1/2 units (wherein each R independently represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms) and SiO 4 / Examples include silicone resin a1 having 2 units as a repeating unit.

シリコーンレジンa1において、RSiO1/2単位中のRとしては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソ−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などのアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基などのアルケニル基;フェニル基などのアリール基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、1−クロロ−2−メチルプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基などのハロゲン化アルキル基;等が挙げられ、中でも、メチル基、ビニル基、フェニル基であるのが好ましく、メチル基であるのがより好ましい。 In the silicone resin a1, R in R 3 SiO 1/2 unit is, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, iso-butyl group, tert-butyl group, pentyl. Group, alkyl group such as hexyl group; cycloalkyl group such as cyclopentyl group, cyclohexyl group; alkenyl group such as vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group; aryl group such as phenyl group; Halogenated alkyl groups such as a chloromethyl group, a 3-chloropropyl group, a 1-chloro-2-methylpropyl group, and a 3,3,3-trifluoropropyl group; among others, a methyl group, a vinyl group, A phenyl group is preferable, and a methyl group is more preferable.

シリコーンレジンa1において、SiO4/2単位1モルに対するRSiO1/2単位の割合は、0.5〜1.2モルであり、好ましくは0.65〜1.15モルである。RSiO1/2単位の割合がこの範囲であれば、本発明の組成物の硬化物は、強度が適切となり、また、透明性にも優れる。 In the silicone resin a1, the ratio of R 3 SiO 1/2 units to 1 mol of SiO 4/2 units is 0.5 to 1.2 mol, preferably 0.65 to 1.15 mol. When the ratio of R 3 SiO 1/2 units is within this range, the cured product of the composition of the present invention has appropriate strength and excellent transparency.

また、シリコーンレジンa1は、SiO4/2単位1モルに対し、RSiO2/2単位およびRSiO3/2単位(各式中、Rはそれぞれ独立に非置換または置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表わす)のうち少なくとも1つを、各単位がそれぞれ1.0モル以下で各単位の合計が1.0モル以下となるように有していてもよく、より好ましくは、RSiO2/2単位およびRSiO3/2単位の各単位が0.2〜0.8モルで各単位の合計が1.0モル以下である。このようは配合割合であれば、本発明の組成物は、透明性に優れる。このような配合割合の具体例としては、SiO4/2単位1モルに対し、RSiO2/2単位0.2モルとRSiO3/2単位0.7モルとの組み合わせが挙げられる。 Further, the silicone resin a1 has an R 2 SiO 2/2 unit and an RSiO 3/2 unit (wherein R is independently an unsubstituted or substituted carbon number of 1 to 6 with respect to 1 mol of SiO 4/2 units. At least one of each unit may be 1.0 mol or less and the total of each unit may be 1.0 mol or less, more preferably Are 0.2 to 0.8 mol of each unit of R 2 SiO 2/2 unit and RSiO 3/2 unit, and the total of each unit is 1.0 mol or less. Thus, if it is a mixture ratio, the composition of this invention is excellent in transparency. Specific examples of such a blending ratio include a combination of 0.2 mol of R 2 SiO 2/2 units and 0.7 mol of RSiO 3/2 units with respect to 1 mol of SiO 4/2 units.

さらに、シリコーンレジンa1は、シラノール基を6.0質量%未満有する。シラノール基の含有量は、0.1重量%以上が好ましく、0.2〜3.0重量%がより好ましい。シラノール基の含有量がこの範囲であれば、本発明の組成物の硬化物の硬さが適切となって接着性が良好となり、また、強度も適切となる。   Furthermore, the silicone resin a1 has a silanol group of less than 6.0% by mass. The content of silanol groups is preferably 0.1% by weight or more, and more preferably 0.2 to 3.0% by weight. When the content of the silanol group is within this range, the hardness of the cured product of the composition of the present invention is appropriate, the adhesiveness is good, and the strength is also appropriate.

シリコーンレジンa1の製造方法は特に限定されず、従来公知の方法により製造することができ、例えば、各単位に対応するアルコキシ基含有シラン化合物を有機溶媒中で共加水分解し縮合させて、実質的に揮発性分を含まないものとして得ることができる。
具体的には、例えば、RSiOMeとSi(OMe)とを、所望によりRSi(OMe)および/またはRSi(OMe)とともに、有機溶媒中で共加水分解し縮合させればよい(各式中、Rはそれぞれ独立に非置換または置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基を表わし、Meはメチル基を表わす)。
有機溶媒としては、共加水分解・縮合反応により生成するオルガノポリシロキサンを溶解することのできるものが好ましく、具体例としては、トルエン、キシレン、塩化メチレン、ナフサミネラルスピリット等を挙げることができる。
The method for producing the silicone resin a1 is not particularly limited, and can be produced by a conventionally known method. For example, the alkoxy group-containing silane compound corresponding to each unit can be substantially hydrolyzed and condensed in an organic solvent. Can be obtained as containing no volatile components.
Specifically, for example, if R 3 SiOMe and Si (OMe) 4 are co-hydrolyzed and condensed in an organic solvent together with R 2 Si (OMe) 2 and / or RSi (OMe) 3 as desired. (In each formula, R independently represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, and Me represents a methyl group).
As the organic solvent, those capable of dissolving organopolysiloxane produced by cohydrolysis / condensation reaction are preferable, and specific examples thereof include toluene, xylene, methylene chloride, naphtha mineral spirit and the like.

このようなシリコーンレジンa1としては、市販品を使用することができ、例えば、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のトリメトキシケイ酸である「SR1000」が挙げられる。   As such silicone resin a1, a commercial item can be used, for example, “SR1000” which is trimethoxysilicate manufactured by Momentive Performance Materials Japan GK.

[シラン化合物(b)]
上記シラン化合物(b)は、加水分解性シラン、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1種である。
加水分解性シランとしては、1分子中に1個のケイ素原子を有し、かつ、アルコキシ基、フェノキシ基などの加水分解性基を有するものであれば特に限定されない。以下、このような加水分解性シランを、「シラン化合物b1」ということがある。
加水分解性シランの加水分解物としては、上記シラン化合物b1を加水分解させることによって得られるものであれば特に限定されない。加水分解は部分加水分解であってもよい。
加水分解性シランの加水分解縮合物としては、上記シラン化合物b1を加水分解して縮合させることによって得られるものであれば特に限定されない。加水分解縮合は部分加水分解縮合であってもよい。以下、このような加水分解縮合物を、「シラン化合物b2」ということがある。
[Silane Compound (b)]
The silane compound (b) is at least one selected from the group consisting of a hydrolyzable silane, a hydrolyzate thereof, and a hydrolysis condensate thereof.
The hydrolyzable silane is not particularly limited as long as it has one silicon atom in one molecule and a hydrolyzable group such as an alkoxy group or a phenoxy group. Hereinafter, such a hydrolyzable silane may be referred to as “silane compound b1”.
The hydrolyzate of hydrolyzable silane is not particularly limited as long as it is obtained by hydrolyzing the silane compound b1. The hydrolysis may be partial hydrolysis.
The hydrolysis condensate of hydrolyzable silane is not particularly limited as long as it is obtained by hydrolyzing and condensing the silane compound b1. The hydrolysis condensation may be a partial hydrolysis condensation. Hereinafter, such a hydrolysis-condensation product may be referred to as “silane compound b2”.

上記シラン化合物(b)は、1分子中に1個以上の有機基を有することができる。上記シラン化合物(b)が有することができる有機基としては、例えば、酸素原子、窒素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる少なくとも1種のヘテロ原子を含んでもよい炭化水素基が挙げられ、具体例としては、例えば、アルキル基(炭素数1〜6のものが好ましい。)、(メタ)アクリレート基、アルケニル基、アリール基、これらの組合せ等が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチルアリル基等が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。これらのうち、耐熱着色安定性に優れるという理由から、メチル基、(メタ)アクリレート基、(メタ)アクリロキシアルキル基が好ましい。   The silane compound (b) can have one or more organic groups in one molecule. Examples of the organic group that the silane compound (b) can have include a hydrocarbon group that may contain at least one heteroatom selected from the group consisting of an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. Examples include an alkyl group (preferably having 1 to 6 carbon atoms), a (meth) acrylate group, an alkenyl group, an aryl group, a combination thereof, and the like. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a 2-methyl-1-propenyl group, and a 2-methylallyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Among these, a methyl group, a (meth) acrylate group, and a (meth) acryloxyalkyl group are preferable because of excellent heat-resistant coloring stability.

〔シラン化合物b1〕
上記シラン化合物b1としては、例えば、下記式(3)で表されるものが挙げられる。
Si(OR2n3 4-n (3)
上記式(3)中、nは2、3または4であり、R2はアルキル基であり、R3は有機基であり、上記シラン化合物(b)が有することができる有機基として記載したものと同義である。
[Silane compound b1]
As said silane compound b1, what is represented by following formula (3) is mentioned, for example.
Si (OR 2 ) n R 3 4-n (3)
In the above formula (3), n is 2, 3 or 4, R 2 is an alkyl group, R 3 is an organic group, and is described as an organic group that the silane compound (b) can have It is synonymous with.

上記シラン化合物b1としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのジアルコキシシラン;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシラン;テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロピルオキシシランなどのテトラアルコキシシラン;γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシランなどの(メタ)アクリロキシアルキルトリアルコキシシラン;等が挙げられる。
なお、(メタ)アクリロキシトリアルコキシシランは、アクリロキシトリアルコキシシランまたはメタクリロキシトリアルコキシシランであることを意味する。(メタ)アクリレート基、(メタ)アクリロキシアルキル基についても同様である。
Examples of the silane compound b1 include dialkoxysilanes such as dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, and diphenyldiethoxysilane; methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane Trialkoxysilanes such as ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, and phenyltriethoxysilane; tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetraisopropyloxysilane; γ- (meth) acrylic (Meth) acryloxyalkyltrialkoxysilanes such as loxypropyltrimethoxysilane and γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane And the like.
Note that (meth) acryloxytrialkoxysilane means acryloxytrialkoxysilane or methacryloxytrialkoxysilane. The same applies to (meth) acrylate groups and (meth) acryloxyalkyl groups.

〔シラン化合物b2〕
上記シラン化合物b2としては、例えば、下記式(4)で表される化合物が挙げられる。
4 mSi(OR5n(4-m-n)/2 (4)
上記式(4)中、R4は有機基であり、R5はアルキル基であり、mは0<m<2、nは0<n<2、m+nは0<m+n≦3である。ここで、R4が示す有機基は、上記シラン化合物(b)が有することができる有機基として記載したものと同義であり、R5が示すアルキル基は、上記シラン化合物(b)が有することができる有機基としてのアルキル基として記載したものと同義である。
[Silane compound b2]
As said silane compound b2, the compound represented by following formula (4) is mentioned, for example.
R 4 m Si (OR 5 ) n O (4-mn) / 2 (4)
In the above formula (4), R 4 is an organic group, R 5 is an alkyl group, m is 0 <m <2, n is 0 <n <2, and m + n is 0 <m + n ≦ 3. Here, the organic group represented by R 4 has the same meaning as that described as the organic group that the silane compound (b) can have, and the alkyl group represented by R 5 has the silane compound (b). It is synonymous with what was described as an alkyl group as an organic group which can be.

上記シラン化合物b2としては、例えば、メチルメトキシオリゴマーなどのシリコーンアルコキシオリゴマーが挙げられる。
シリコーンアルコキシオリゴマーは、主鎖がポリオルガノシロキサンであり、分子末端がアルコキシシリル基で封鎖されたシリコーンレジンである。
メチルメトキシオリゴマーは、上記式(4)で表される化合物に該当し、その具体例としては、下記式(5)で表されるものが表されるものが挙げられる。
Examples of the silane compound b2 include silicone alkoxy oligomers such as methyl methoxy oligomer.
The silicone alkoxy oligomer is a silicone resin having a main chain of polyorganosiloxane and a molecular terminal blocked with an alkoxysilyl group.
The methylmethoxy oligomer corresponds to the compound represented by the above formula (4), and specific examples thereof include those represented by the following formula (5).

上記式(5)中、R6はメチル基であり、aは1〜100の整数であり、bは0〜100の整数である。
メチルメトキシオリゴマーは、市販品を使用することができ、例えば、x−40−9246(重量平均分子量6000、信越化学工業社製)が挙げられる。
In said formula (5), R < 6 > is a methyl group, a is an integer of 1-100, b is an integer of 0-100.
A commercial item can be used for the methyl methoxy oligomer, for example, x-40-9246 (weight average molecular weight 6000, the Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. make) is mentioned.

また、上記シラン化合物b2としては、例えば、少なくとも片末端にアルコキシシリル基を有し、1分子中に3個以上のアルコキシ基(アルコキシシリル基由来のもの)を有する化合物(以下、「シラン化合物b3」ともいう)が好ましい形態として挙げられる。
上記シラン化合物b3は、例えば、両末端シラノール基を有するポリシロキサン1モルに対してアルコキシリル基を有するシラン化合物1モル以上を脱アルコール縮合した反応物として得ることができる。
上記シラン化合物b3を製造するために使用される、アルコキシ基を有するシラン化合物としては、例えば、上記式(3)で表される化合物、上記式(4)で表される化合物等が挙げられる。
上記シラン化合物b3を製造するために使用される、両末端シラノール基を有するポリシロキサンとしては、例えば、上記式(2)で表される化合物等が挙げられる。
上記シラン化合物b3としては、例えば、下記式(6)で表されるものが挙げられる。
As the silane compound b2, for example, a compound having an alkoxysilyl group at least at one end and having three or more alkoxy groups (derived from an alkoxysilyl group) in one molecule (hereinafter referred to as “silane compound b3”). Is also referred to as a preferred form.
The silane compound b3 can be obtained, for example, as a reaction product obtained by dealcoholizing 1 mol or more of a silane compound having an alkoxylyl group with respect to 1 mol of a polysiloxane having a both-end silanol group.
Examples of the silane compound having an alkoxy group used for producing the silane compound b3 include a compound represented by the above formula (3) and a compound represented by the above formula (4).
Examples of the polysiloxane having both terminal silanol groups used for producing the silane compound b3 include compounds represented by the above formula (2).
As said silane compound b3, what is represented by following formula (6) is mentioned, for example.

上記式(6)中、nは、上記シラン化合物b3の分子量に対応する数値とすることができる。
上記式(6)で表される化合物は、例えば、両末端にシラノール基を有するポリシロキサンを、テトラメトキシシラン(上記式(3)で表される化合物に相当する)で変性することによって製造することができる。
In said formula (6), n can be made into the numerical value corresponding to the molecular weight of the said silane compound b3.
The compound represented by the above formula (6) is produced, for example, by modifying polysiloxane having silanol groups at both ends with tetramethoxysilane (corresponding to the compound represented by the above formula (3)). be able to.

上記シラン化合物(b)は、上記式(3)、上記式(4)で表されるものが好ましく、テトラエトキシシランなどのテトラアルコキシシラン;γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどの(メタ)アクリロキシアルキルトリアルコキシシラン;メチルメトキシオリゴマー;がより好ましい。   The silane compound (b) is preferably represented by the above formula (3) or the above formula (4), and includes tetraalkoxysilane such as tetraethoxysilane; γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane ( More preferred are (meth) acryloxyalkyltrialkoxysilanes; methylmethoxy oligomers.

上記シラン化合物(b)の分子量は、100〜1,000,000であるのが好ましく、1000〜100,000であるのがより好ましい。
なお、上記シラン化合物(b)が上記シラン化合物b2である場合、その分子量は、クロロホルムを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量であるものとする。
The molecular weight of the silane compound (b) is preferably 100 to 1,000,000, and more preferably 1000 to 100,000.
In addition, when the said silane compound (b) is the said silane compound b2, the molecular weight shall be the weight average molecular weight of polystyrene conversion by the gel permeation chromatography (GPC) which uses chloroform as a solvent.

上記シラン化合物(b)の製造方法としては、特に限定されず、例えば、従来公知のものが挙げられる。
上記シラン化合物(b)は、1主単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
It does not specifically limit as a manufacturing method of the said silane compound (b), For example, a conventionally well-known thing is mentioned.
The said silane compound (b) may be used individually by 1 main, and may use 2 or more types together.

上記シラン化合物(b)を、上記オルガノポリシロキサン(a)と併用する場合においては、上記シラン化合物(b)の量は、上記オルガノポリシロキサン100質量部に対して、1〜2000質量部であるのが好ましく、10〜1000質量部であるのがより好ましい。   When the silane compound (b) is used in combination with the organopolysiloxane (a), the amount of the silane compound (b) is 1 to 2000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the organopolysiloxane. It is preferable that it is 10 to 1000 parts by mass.

[縮合触媒(c)]
上記縮合触媒(c)としては、加水分解性基含有シリル基やシラノール基を加水分解、縮合させることができるものであれば特に限定されず、例えば、スズ、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、カルシウム、バリウムなどの金属を含む金属化合物;ホウ素化合物;等が挙げられ、中でも、ジルコニウム化合物(c1)および/またはスズ化合物(c2)が好ましい。
[Condensation catalyst (c)]
The condensation catalyst (c) is not particularly limited as long as it can hydrolyze and condense a hydrolyzable group-containing silyl group or silanol group. For example, tin, aluminum, titanium, zirconium, hafnium, calcium And metal compounds containing a metal such as barium; boron compounds; and the like. Among these, zirconium compounds (c1) and / or tin compounds (c2) are preferable.

〔ジルコニウム化合物(c1)〕
上記ジルコニウム化合物(c1)としては、例えば、下記式(7)で表されるジルコニウム金属塩が挙げられる。
[Zirconium compound (c1)]
As said zirconium compound (c1), the zirconium metal salt represented by following formula (7) is mentioned, for example.

上記式(7)中、nは1〜3の整数であり、R7は炭素数1〜16の炭化水素基であり、R8は炭素数1〜18の炭化水素基である。
上記式(7)においてnが2以上である場合、複数のR7は同じでも異なっていてもよい。また、nが1〜2である場合複数のR8は同じでも異なっていてもよい。
上記式(7)のR7が示す炭化水素基の炭素数は、3〜16であるのが好ましく、4〜16であるのがより好ましい。
上記式(7)のR7が示す炭化水素基は、直鎖状でも分岐状でもよく、不飽和結合を有することができ、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を有することもできる。
上記式(7)のR7が示す炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらの組み合わせ等が挙げられる。
In the above formula (7), n is an integer of 1-3, R 7 is a hydrocarbon group of 1 to 16 carbon atoms, R 8 is a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
In the above formula (7), when n is 2 or more, the plurality of R 7 may be the same or different. Moreover, when n is 1-2, several R < 8 > may be the same or different.
The hydrocarbon group represented by R 7 in the above formula (7) preferably has 3 to 16 carbon atoms, and more preferably 4 to 16 carbon atoms.
The hydrocarbon group represented by R 7 in the formula (7) may be linear or branched and may have an unsaturated bond, for example, a hetero atom such as an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom. You can also.
Examples of the hydrocarbon group represented by R 7 in the above formula (7) include an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and combinations thereof.

上記式(7)のR7が示す炭化水素基としての脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などのシクロアルキル基;ナフテン環(ナフテン酸由来のシクロパラフィン環);アダマンチル基、ノルボルニル基などの縮合環系炭化水素基;等が挙げられ、中でも、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ナフテン環、アダマンチル基であるのが好ましい。
上記式(7)のR7が示す炭化水素基としての芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アズレン等が挙げられ、中でも、フェニル基であるのが好ましい。
上記式(7)のR7が示す炭化水素基としての脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、2−エチルペンチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基等が挙げられる。
Examples of the alicyclic hydrocarbon group as the hydrocarbon group represented by R 7 in the above formula (7) include cycloalkyl such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, and cyclooctyl group. Naphthene ring (cycloparaffin ring derived from naphthenic acid); condensed ring hydrocarbon group such as adamantyl group and norbornyl group; and the like. Among them, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, naphthene ring, adamantyl group Is preferred.
Examples of the aromatic hydrocarbon group as the hydrocarbon group represented by R 7 in the above formula (7) include a phenyl group, a naphthyl group, and azulene. Among them, a phenyl group is preferable.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group as the hydrocarbon group represented by R 7 in the above formula (7) include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a pentyl group, a hexyl group, and 2 -Ethylpentyl group, octyl group, 2-ethylhexyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, etc. are mentioned.

上記式(7)のR8が示す炭化水素基の炭素数は、耐熱着色安定性、薄膜硬化性により優れ、相溶性に優れるという理由から、3〜8であるのが好ましい。
上記式(7)のR8が示す炭化水素基としては、例えば、上記式(7)のR7が示す炭化水素基として記載したものが挙げられ、中でも、脂肪族炭化水素基であるのが好ましい。
The number of carbon atoms of the hydrocarbon group represented by R 8 in the above formula (7) is preferably 3 to 8 because it is superior in heat-resistant coloring stability and thin film curability and is excellent in compatibility.
Examples of the hydrocarbon group represented by R 8 in the above formula (7) include those described as the hydrocarbon group represented by R 7 in the above formula (7). Among them, an aliphatic hydrocarbon group is preferable. preferable.

上記式(7)において、R8O−で表されるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基(n−プロポキシ基、イソプロポキシ基)、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基等が挙げられ、中でも、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基(n−プロポキシ基、イソプロポキシ基)、ブトキシ基、ペンチルオキシ基であるのが好ましい。 In the above formula (7), examples of the alkoxy group represented by R 8 O— include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group (n-propoxy group, isopropoxy group), a butoxy group, a pentyloxy group, and hexyloxy. A methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group (n-propoxy group, isopropoxy group), a butoxy group, and a pentyloxy group.

上記式(7)で表されるジルコニウム金属塩としては、ジルコニウムトリブトキシモノナフテート、ジルコニウムトリブトキシモノイソブチレート、ジルコニウムトリブトキシモノ2エチルヘキサノエートであるのが好ましい。   The zirconium metal salt represented by the above formula (7) is preferably zirconium tributoxy mononaphthate, zirconium tributoxy monoisobutyrate, or zirconium tributoxy mono 2-ethylhexanoate.

上記ジルコニウム化合物(c1)は、1種単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
上記ジルコニウム化合物(c1)の製造方法としては、例えば、Zr(OR84(ジルコニウムテトラアルコキシド。R8は炭素数1〜18の炭化水素基であり、上記式(7)のR8と同義である。)1モルに対して、R7−COOHで表されるカルボン酸(R7は炭素数1〜16の炭化水素基であり、上記式(7)のR7と同義である。)1モル以上4モル未満を用いて、窒素雰囲気下、20〜80℃の条件下で攪拌することによって製造する方法が挙げられる。
The said zirconium compound (c1) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
As a method for producing the zirconium compound (c1) is, for example, Zr (OR 8) 4 (zirconium tetraalkoxide .R 8 is a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, synonymous with R 8 in the formula (7) Carboxylic acid represented by R 7 —COOH with respect to 1 mol (R 7 is a hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms and has the same meaning as R 7 in the above formula (7).) The method of manufacturing by stirring on 20-80 degreeC conditions in nitrogen atmosphere using 1 mol or more and less than 4 mol is mentioned.

上記ジルコニウム化合物(c1)を製造するために用いるZr(OR84としては、例えば、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラノルマルプロポキシド、ジルコニウムテトラプロポキシド、ジルコニウムテトラノルマルブトキシド等が挙げられる。 Examples of Zr (OR 8 ) 4 used for producing the zirconium compound (c1) include zirconium tetramethoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetranormal propoxide, zirconium tetrapropoxide, zirconium tetranormal butoxide and the like. Can be mentioned.

上記ジルコニウム化合物(c1)を製造するために用いるカルボン酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、イソブタン酸、オクチル酸、2−エチルヘキサン酸、ノナン酸、ラウリン酸などの脂肪族カルボン酸;ナフテン酸、シクロプロパンカルボン酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキシルカルボン酸(シクロヘキサンカルボン酸)、アダマンタンカルボン酸、ノルボルナンカルボン酸などの脂環式カルボン酸;安息香酸などの芳香族カルボン酸;等が挙げられる。   Examples of the carboxylic acid used to produce the zirconium compound (c1) include aliphatic carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, isobutanoic acid, octylic acid, 2-ethylhexanoic acid, nonanoic acid, and lauric acid; naphthenic acid , Cyclopropane carboxylic acid, cyclopentane carboxylic acid, cyclohexyl carboxylic acid (cyclohexane carboxylic acid), alicyclic carboxylic acid such as adamantane carboxylic acid, norbornane carboxylic acid; aromatic carboxylic acid such as benzoic acid;

〔スズ化合物(c2)〕
上記スズ化合物(c2)としては、特に限定されず、例えば4価のスズ化合物が挙げられる。4価のスズ化合物としては、例えば、少なくとも1個のアルキル基と少なくとも1個のアシル基とを有する4価のスズ化合物が挙げられ、アシル基をエステル結合として有することができる。
[Tin compound (c2)]
The tin compound (c2) is not particularly limited, and examples thereof include a tetravalent tin compound. Examples of the tetravalent tin compound include a tetravalent tin compound having at least one alkyl group and at least one acyl group, and can have an acyl group as an ester bond.

上記スズ化合物(c2)としての4価のスズ化合物としては、例えば、下記式(8)で表されるもの;下記式(8)で表されるもののビス型、ポリマー型;等が挙げられる。
9 a−Sn−[O−CO−R104-a (8)
上記式(8)中、R9はアルキル基であり、R10は炭化水素基であり、aは1〜3の整数である。
9が示すアルキル基としては、炭素数1以上のものが挙げられ、具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル基等が挙げられる。
10が示す炭化水素基としては、特に限定されず、例えば、上記式(7)のR7が示す炭化水素基として記載したものが挙げられる。
Examples of the tetravalent tin compound as the tin compound (c2) include those represented by the following formula (8); bis type and polymer type represented by the following formula (8).
R 9 a -Sn- [O-CO -R 10] 4-a (8)
In said formula (8), R < 9 > is an alkyl group, R < 10 > is a hydrocarbon group, a is an integer of 1-3.
Examples of the alkyl group represented by R 9 include those having 1 or more carbon atoms, and specific examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and an octyl group.
The hydrocarbon group represented by R 10 is not particularly limited, and examples thereof include those described as the hydrocarbon group represented by R 7 in the above formula (7).

上記スズ化合物(c2)としては、例えば、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクテート、ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズジアセテート、ジオクチルスズマレエートなどのジアルキルスズ化合物(上記式(8)で表され、aが2であるもの);ジブチルスズオキシアセテートジブチスズオキシオクチレート、ジブチルスズオキシラウレートジブチルスズビスメチルマレート、ジブチルスズオキシオレエートなどのジアルキルスズの2量体;ジブチルスズマレートポリマー、ジオクチルスズマレートポリマーなどのポリマー;モノブチルスズトリス(2−エチルヘキサノエート)(上記式(8)で表され、aが1であるもの);等が挙げられる。
これらのうち、透明性、耐硫化性により優れ、耐熱着色安定性、薄膜硬化性に優れるという理由から、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオレエート、ジブチルスズジラウリレート、ジブチルスズオキシアセテートジブチルスズオキシオクチレート、ジブチルスズオキシラウレート、モノブチルスズトリス(2−エチルヘキサノエート)が好ましい。
Examples of the tin compound (c2) include dialkyltin compounds such as dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctate, dibutyltin dilaurate, dioctyltin diacetate, and dioctyltin maleate (expressed by the above formula (8), where a is 2 Dibutyltin oxyacetate dibutytin oxyoctylate, dibutyltin oxylaurate dibutyltin bismethylmalate, dialkyltin dimer such as dibutyltin oxyoleate; polymers such as dibutyltin maleate polymer, dioctyltin maleate polymer Monobutyltin tris (2-ethylhexanoate) (represented by the above formula (8), a is 1); and the like.
Among them, dibutyltin diacetate, dibutyltin dioleate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin oxyacetate dibutyltin oxyoctylate, dibutyltin are superior because of transparency, resistance to sulfidation, heat resistance coloring stability, and excellent thin film curability. Oxylaurate and monobutyltin tris (2-ethylhexanoate) are preferred.

上記縮合触媒(c)の製造方法は、特に限定されない。
上記縮合触媒(c)の量は、上記オルガノポリシロキサン(a)および/または上記シラン化合物(b)100質量部に対して、0.01〜1質量部であるのが好ましく、0.05〜0.5質量部であるのがより好ましい。
The method for producing the condensation catalyst (c) is not particularly limited.
The amount of the condensation catalyst (c) is preferably 0.01 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the organopolysiloxane (a) and / or the silane compound (b). More preferably, it is 0.5 parts by mass.

上記縮合触媒(c)は、1種単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
上記ジルコニウム化合物(c1)と上記スズ化合物(c2)とを併用する場合、上記スズ化合物(c2)の量は、上記ジルコニウム化合物(c1)1モルに対して、0.1モル以上4モル未満であるのが好ましく、0.5〜1.5モルであるのがより好ましい。
The said condensation catalyst (c) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
When the zirconium compound (c1) and the tin compound (c2) are used in combination, the amount of the tin compound (c2) is 0.1 mol or more and less than 4 mol with respect to 1 mol of the zirconium compound (c1). It is preferable that it is 0.5 to 1.5 mol.

<亜鉛化合物(B)>
本発明の組成物には、上記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)100質量部に対して、亜鉛化合物(B)が0.01〜5質量部含有される。これにより、本発明の組成物は、耐硫化性に優れる。これは、上記亜鉛化合物(B)が有する亜鉛に硫化水素が配位し、硫化水素がトラップされるためと考えられる。
<Zinc compound (B)>
The composition of the present invention contains 0.01 to 5 parts by mass of the zinc compound (B) with respect to 100 parts by mass of the curable silicone resin composition (A). Thereby, the composition of this invention is excellent in sulfidation resistance. This is presumably because hydrogen sulfide is coordinated to zinc contained in the zinc compound (B), and hydrogen sulfide is trapped.

上記亜鉛化合物(B)としては、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、水酸化亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛および硝酸亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種1モルに対して、酸を1.5モル以上2モル未満反応させることによって得られるものを用いることができる。
この際に用いる酸としては、特に限定されず、例えば、無機酸、有機酸(例えば、有機カルボン酸)、これらのエステル等が挙げられる。
無機酸としては、例えば、リン酸、ホウ酸等が挙げられる。
有機酸において、有機カルボン酸がカルボキシ基以外に有する炭化水素基としては、特に限定されず、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらの組み合わせ等が挙げられる。このような有機酸としては例えば、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリル酸、2−エチルヘキサン酸などの炭素数1〜30の飽和カルボン酸;(メタ)アクリル酸などの不飽和カルボン酸;等が挙げられる。
酸のエステルにおいて、エステルを形成する炭化水素基としては、特に限定されず、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらの組み合わせ等が挙げられる。
これらのうち、リン酸、2−エチルヘキサン酸、ナフテン酸、これらのエステルが好ましい。
As the zinc compound (B), an acid is contained in an amount of 1.5 mol or more and 2 mols per mol of at least one selected from the group consisting of zinc oxide, zinc carbonate, zinc hydroxide, zinc chloride, zinc sulfate and zinc nitrate. What is obtained by making it react less than mol can be used.
The acid used in this case is not particularly limited, and examples thereof include inorganic acids, organic acids (for example, organic carboxylic acids), and esters thereof.
Examples of the inorganic acid include phosphoric acid and boric acid.
In the organic acid, the hydrocarbon group that the organic carboxylic acid has other than the carboxy group is not particularly limited, and examples thereof include an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and combinations thereof. Can be mentioned. Examples of such an organic acid include saturated carboxylic acids having 1 to 30 carbon atoms such as stearic acid, palmitic acid, lauric acid, and 2-ethylhexanoic acid; unsaturated carboxylic acids such as (meth) acrylic acid; It is done.
In the acid ester, the hydrocarbon group forming the ester is not particularly limited, and examples thereof include an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and combinations thereof.
Of these, phosphoric acid, 2-ethylhexanoic acid, naphthenic acid, and esters thereof are preferred.

上記亜鉛化合物(B)としては、例えば、Zna(O)x(OH)y(−O−CO−R11zという式で表されるものが挙げられる。式中、R11は炭化水素基であり、この炭化水素基としては、例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらの組み合わせ等が挙げられる。R11が複数である場合、複数のR11はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。また式中、aは1以上の数であり、x、yは0以上の数であり、zは1以上の数であり、z/aは2未満であり、[(2x+y+z)/a]=2である。
aは、1〜2の数であるのが好ましく、xは、0〜1の数であるのが好ましく、yは、0〜1の数であるのが好ましく、zは、1〜2の数であるのが好ましい。
上記亜鉛化合物(B)の具体例としては、Zn(OH)(−O−CO−R11)、R11−CO−O−Zn−O−Zn−O−CO−R11等が挙げられる。
また、上記亜鉛化合物(B)は、xが1以上の場合、例えば、−Zn−O−Zn−等の結合をその構造中に有することができる。このような結合は、上記亜鉛化合物(B)を製造する過程で、生成物質が例えば脱水縮合することによって形成されうる。
Examples of the zinc compound (B) include those represented by the formula Zn a (O) x (OH) y (—O—CO—R 11 ) z . In the formula, R 11 is a hydrocarbon group, and examples of the hydrocarbon group include an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and combinations thereof. R 11 is plural, may be different even multiple R 11 are each identical. In the formula, a is a number of 1 or more, x and y are numbers of 0 or more, z is a number of 1 or more, z / a is less than 2, and [(2x + y + z) / a] = 2.
a is preferably a number from 1 to 2, x is preferably a number from 0 to 1, y is preferably a number from 0 to 1, and z is a number from 1 to 2. Is preferred.
Specific examples of the zinc compound (B) include Zn (OH) (— O—CO—R 11 ), R 11 —CO—O—Zn—O—Zn—O—CO—R 11, and the like.
Moreover, the said zinc compound (B) can have bonds, such as -Zn-O-Zn-, in the structure, when x is one or more. Such a bond can be formed by, for example, dehydration condensation of the product in the process of producing the zinc compound (B).

上記亜鉛化合物(B)の製造方法は、特に限定されず、例えば、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、水酸化亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛および硝酸亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種と、酸とを、室温の条件下または加熱して撹拌することにより製造する方法が挙げられる。   The method for producing the zinc compound (B) is not particularly limited. For example, at least one selected from the group consisting of zinc oxide, zinc carbonate, zinc hydroxide, zinc chloride, zinc sulfate, and zinc nitrate, and an acid are used. And a method of producing by stirring at room temperature or by heating.

上記亜鉛化合物(B)の量は、本発明の組成物が、耐硫化性、透明性よりに優れるという理由から、上記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)100質量部に対して、0.01〜10質量部であるのが好ましく、0.01〜1質量部であるのがより好ましい。   The amount of the zinc compound (B) is 0.01% with respect to 100 parts by mass of the curable silicone resin composition (A) because the composition of the present invention is superior to sulfidation resistance and transparency. It is preferable that it is -10 mass parts, and it is more preferable that it is 0.01-1 mass part.

<ポリアルキレンオキシド鎖を有する化合物(C)>
本発明の組成物には、上記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)100質量部に対して、ポリアルキレンオキシド鎖を有する化合物(C)(以下、「アルキレンオキシド化合物(C)」ということがある。)が0.01〜5質量部含有される。これにより、本発明の組成物は、上記亜鉛化合物(B)を含有することで得られた耐硫化性を損なわずに、被着体に対する密着性にも優れる。
これは、亜鉛化合物(B)による耐硫化性を損なわない程度に、アルキレンオキシド化合物(C)のポリアルキレンオキシド鎖が亜鉛化合物(B)の亜鉛に一部配位することによって、亜鉛化合物(B)による密接阻害を緩和するためと考えられる。
<Compound (C) having a polyalkylene oxide chain>
In the composition of the present invention, the compound (C) having a polyalkylene oxide chain (hereinafter, referred to as “alkylene oxide compound (C)” may be referred to 100 parts by mass of the curable silicone resin composition (A). .) Is contained in an amount of 0.01 to 5 parts by mass. Thereby, the composition of this invention is excellent also in the adhesiveness with respect to a to-be-adhered body, without impairing the sulfidation resistance obtained by containing the said zinc compound (B).
This is because the polyalkylene oxide chain of the alkylene oxide compound (C) is partially coordinated with zinc of the zinc compound (B) to such an extent that the sulfidation resistance by the zinc compound (B) is not impaired. This is thought to alleviate the close inhibition caused by).

上記アルキレンオキシド化合物(C)としては、1分子中にポリアルキレンオキシド鎖を有するものであれば、特に限定されない。
上記アルキレンオキシド化合物(C)が有するポリアルキレンオキシド鎖としては、例えば、下記式(9)で示される繰り返し単位が重合した重合体が挙げられる。
−(R12−O)− (9)
上記式(9)中、R12は炭素数1〜18のアルキレン基を示し、このアルキレン基としては、直鎖状であっても分岐状であってもよく、例えば、メチレン基、エチレン基、n−プロピレン基、n−ブチレン基、n−ペンチレン基、n−ヘキシレン基、iso−プロピレン基、iso−ブチレン基、2−メチルプロピレン基、iso−ペンチレン基、2−メチルブチレン基、1,2ジメチルプロピレン基、1,3−ジメチルプロピレン基、1,1−ジメチルプロピレン基、2,2−ジメチルプロピレン基、iso−ヘキシレン基、2−メチルペンチレン基、3−メチルペンチレン基等が挙げられ、メチレン基、エチレン基であるのが好ましい。
The alkylene oxide compound (C) is not particularly limited as long as it has a polyalkylene oxide chain in one molecule.
As a polyalkylene oxide chain | strand which the said alkylene oxide compound (C) has, the polymer which the repeating unit shown by following formula (9) superposed | polymerized is mentioned, for example.
- (R 12 -O) - ( 9)
In the above formula (9), R 12 represents an alkylene group having 1 to 18 carbon atoms, and the alkylene group may be linear or branched. For example, a methylene group, an ethylene group, n-propylene group, n-butylene group, n-pentylene group, n-hexylene group, iso-propylene group, iso-butylene group, 2-methylpropylene group, iso-pentylene group, 2-methylbutylene group, 1,2 Examples include dimethylpropylene group, 1,3-dimethylpropylene group, 1,1-dimethylpropylene group, 2,2-dimethylpropylene group, iso-hexylene group, 2-methylpentylene group, and 3-methylpentylene group. , Methylene group and ethylene group are preferable.

上記アルキレンオキシド化合物(C)が有するポリアルキレンオキシド鎖は、上記式(9)で示される繰り返し単位が1種単独でが重合した重合体であっても、2種以上が重合した共重合体(ブロック共重合体、または、ランダム共重合体)であってもよい。
また、上記アルキレンオキシド化合物(C)が有するポリアルキレンオキシド鎖において、上記式(9)で示される繰り返し単位の重合度(繰り返し単位の数)としては、1〜1000個であるのが好ましく、1〜100個であるのがより好ましい。
Even if the polyalkylene oxide chain of the alkylene oxide compound (C) is a polymer in which the repeating unit represented by the formula (9) is a single polymer, a copolymer in which two or more are polymerized ( A block copolymer or a random copolymer).
In the polyalkylene oxide chain of the alkylene oxide compound (C), the degree of polymerization of the repeating unit represented by the formula (9) (number of repeating units) is preferably 1 to 1000. More preferably, the number is -100.

このような上記アルキレンオキシド化合物(C)としては、例えば、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリプロピレングリコール(PPG)、ポリブチレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール(PTMG)、ポリヘキサメチレンエーテルグリコール、これらの共重合体等が挙げられる。
これらのうち、本発明の組成物の密着性がより優れるという理由から、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリテトラメチレンエーテルグリコール(PTMG)であるのが好ましい。
Examples of the alkylene oxide compound (C) include polyethylene glycol (PEG), polypropylene glycol (PPG), polybutylene glycol, polytetramethylene ether glycol (PTMG), polyhexamethylene ether glycol, Examples include coalescence.
Among these, polyethylene glycol (PEG) and polytetramethylene ether glycol (PTMG) are preferable because the adhesiveness of the composition of the present invention is more excellent.

また、上記アルキレンオキシド化合物(C)としては、ポリアルキレンオキシド鎖が別の主鎖に導入されたものであってもよく、例えば、ポリアルキレンオキシド鎖がシリコーンに導入された変性シリコーン(変性シリコーンオイル)を好適に用いることができる。
このような変性シリコーンとしては、例えば、ジメチルポリシロキサンの両末端、片末端、側鎖等にあるメチル基の一部を、−R(C24O)a(C36O)bR′で置換したもの(ただし、Rは炭素数1以上のアルキレン基を示し、R′は水素原子または炭素数1以上のアルキル基を示し、aおよびbは0以上の整数を示し、a+b>1である。)が挙げられ、市販品としては、X−22−4741、KF−1002、X−22−4952、X−22−4272、X−22−6266(いずれも、信越化学工業社製)が挙げられる。
The alkylene oxide compound (C) may be one in which a polyalkylene oxide chain is introduced into another main chain. For example, a modified silicone in which a polyalkylene oxide chain is introduced into silicone (modified silicone oil) ) Can be suitably used.
As such a modified silicone, for example, a part of methyl groups at both ends, one end, side chain, etc. of dimethylpolysiloxane may be represented by —R (C 2 H 4 O) a (C 3 H 6 O) b R ′ substituted (wherein R represents an alkylene group having 1 or more carbon atoms, R ′ represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or more carbon atoms, a and b represent an integer of 0 or more, and a + b> As commercial products, X-22-4741, KF-1002, X-22-4952, X-22-4272, X-22-6266 (all manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ).

上記アルキレンオキシド化合物(C)の重量平均分子量としては、200〜5000であるのが好ましく、200〜2000であるのがより好ましい。   As a weight average molecular weight of the said alkylene oxide compound (C), it is preferable that it is 200-5000, and it is more preferable that it is 200-2000.

本発明の組成物は、上記アルキレンオキシド化合物(C)を1種単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
また、上記アルキレンオキシド化合物(C)の量は、本発明の組成物の密着性がより優れるという理由から、上記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)100質量部に対して、0.1〜10質量部であるのが好ましく、0.3〜3質量部であるのがより好ましい。
In the composition of the present invention, the alkylene oxide compound (C) may be used alone or in combination of two or more.
Moreover, the amount of the alkylene oxide compound (C) is 0.1 to 10 with respect to 100 parts by mass of the curable silicone resin composition (A) because the adhesiveness of the composition of the present invention is more excellent. It is preferable that it is a mass part, and it is more preferable that it is 0.3-3 mass part.

<亜鉛化合物(B)と併用可能な成分>
また、本発明の組成物は、触媒活性の観点から、亜鉛化合物(B)と併用させて、さらに、スズ化合物、ランタノイド化合物、ジルコニウム化合物、ハフニウム化合物等を含有することができる。
<Components that can be used in combination with the zinc compound (B)>
Moreover, the composition of this invention can contain a tin compound, a lanthanoid compound, a zirconium compound, a hafnium compound, etc. further together with a zinc compound (B) from a viewpoint of catalyst activity.

本発明の組成物に含有されるスズ化合物としては、スズを含有する化合物であれば特に限定されず、例えば、2価のスズ化合物、4価のスズ化合物が挙げられる。
2価のスズ化合物としては、ビス(2−エチルヘキサン酸)スズ、ジ(n−オクチル酸)スズ、ジナフテン酸スズ、ジステアリン酸スズ等が挙げられる。
4価のスズ化合物としては、ジオクチルスズビス(アセチルアセトナート)、ジオクチルスズ塩と正ケイ酸エチルとの反応物等が挙げられる。
The tin compound contained in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound containing tin, and examples thereof include a divalent tin compound and a tetravalent tin compound.
Examples of the divalent tin compound include bis (2-ethylhexanoic acid) tin, di (n-octylic acid) tin, dinaphthenic acid tin, and distearic acid tin.
Examples of the tetravalent tin compound include dioctyltin bis (acetylacetonate), a reaction product of dioctyltin salt and normal ethyl silicate, and the like.

本発明の組成物に含有されるランタノイド化合物としては、ランタン(La)、セリウム(Ce)、ジスプロシウム(Dy)、イッテルビウム(Yb)などのランタノイド原子(Ln)を有する化合物であれば特に限定されず、例えば、ランタン、セリウム、ジスプロシウムまたはイッテルビウムの2−エチルヘキサン酸塩等が挙げられる。   The lanthanoid compound contained in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a lanthanoid atom (Ln) such as lanthanum (La), cerium (Ce), dysprosium (Dy), and ytterbium (Yb). Examples thereof include lanthanum, cerium, dysprosium or ytterbium 2-ethylhexanoate.

本発明の組成物に含有されるジルコニウム化合物としは、ジルコニウム原子と有機基とを有する化合物であれば、特に限定されず、例えば、ジオクチル酸ジルコニル、ナフテン酸ジルコニル;ジルコニウムトリブトキシモノナフテート、ジルコニウムトリブトキシモノイソブチレート、ジルコニウムトリブトキシモノ2エチルヘキサノエート、ジルコニウムトリブトキシモノシクロプロパンカルボキシレート、ジルコニウムトリブトキシモノシクロペンタンカルボキシレート、ジルコニウムトリブトキシモノシクロヘキサンカルボキシレート、ジルコニウムトリブトキシモノアダマンタンカルボキシレート、ジルコニウムトリブトキシモノナフテート;ジルコニウムトリブトキシモノナフテート、ジルコニウムトリブトキシモノイソブチレート、ジルコニウムトリブトキシモノ2エチルヘキサノエート;等が挙げられる。   The zirconium compound contained in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a zirconium atom and an organic group. For example, zirconyl dioctylate, zirconyl naphthenate; zirconium tributoxy mononaphthate, zirconium Tributoxy monoisobutyrate, zirconium tributoxy mono 2-ethylhexanoate, zirconium tributoxy monocyclopropane carboxylate, zirconium tributoxy monocyclopentane carboxylate, zirconium tributoxy monocyclohexane carboxylate, zirconium tributoxy monoadamantane carboxylate Zirconium tributoxy mononaphthate; Zirconium tributoxy mononaphthate, Zirconium tributoxy monoisobutyrate , Zirconium tributoxy mono 2-ethylhexanoate; and the like.

本発明の組成物に含有されるハフニウム化合物としては、ハフニウム原子と有機基とを有する化合物であれば特に限定されず、例えば、ハフニウムトリブトキシモノナフテート、ハフニウムトリブトキシモノイソブチレート、ハフニウムトリブトキシモノ2エチルヘキサノエート、ハフニウムトリブトキシモノシクロプロパンカルボキシレート、ハフニウムトリブトキシモノシクロペンタンカルボキシレート、ハフニウムトリブトキシモノシクロヘキサンカルボキシレート、ハフニウムトリアルコキシモノベンゼンカルボキシレート、ハフニウムトリブトキシモノアダマンタンカルボキシレート、ハフニウムジブトキシジナフテート、ハフニウムトリプロポキシモノナフテート;ハフニウムジ−n−ブトキサイド(ビス−2,4−ペンタジオネート)、ハフニウム−2,4−ペンタジオネート、ハフニウムテトラメチルペンタジオネート、ハフニウムトリフルオロペンタジオネート;等が挙げられる。   The hafnium compound contained in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a hafnium atom and an organic group. For example, hafnium tributoxy mononaphthate, hafnium tributoxy monoisobutyrate, hafnium tri Butoxymono 2-ethylhexanoate, hafnium tributoxy monocyclopropane carboxylate, hafnium tributoxy monocyclopentane carboxylate, hafnium tributoxy monocyclohexane carboxylate, hafnium trialkoxy monobenzene carboxylate, hafnium tributoxy monoadamantane carboxylate, Hafnium dibutoxy dinaphthate, hafnium tripropoxy mononaphthate; hafnium di-n-butoxide (bis-2,4-pentadio Over G), hafnium -2,4-penta dionate, hafnium tetramethylpentadecane dionate, hafnium trifluoro penta dionate; and the like.

<その他の成分>
本発明の組成物は、上記の成分以外に、本発明の目的や効果を損なわない範囲で必要に応じてさらに添加剤を含有することができる。
添加剤としては、例えば、硬化剤、亜鉛化合物以外の金属化合物、触媒(例えば、縮合触媒、ヒドロシリル化触媒、ルイス酸触媒、ルイス塩基触媒、カチオン重合触媒等)、重合開始剤(例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤等)、無機フィラー、酸化防止剤、滑剤、紫外線吸収剤、熱光安定剤、分散剤、帯電防止剤、重合禁止剤、消泡剤、硬化促進剤、溶剤、蛍光物質(無機物、有機物を含む)、老化防止剤、ラジカル禁止剤、接着性改良剤、難燃剤、界面活性剤、保存安定性改良剤、オゾン老化防止剤、増粘剤、可塑剤、放射線遮断剤、核剤、カップリング剤、導電性付与剤、リン系過酸化物分解剤、顔料、金属不活性化剤、物性調整剤等が挙げられる。
<Other ingredients>
The composition of this invention can contain an additive further as needed in the range which does not impair the objective and effect of this invention other than said component.
Examples of additives include curing agents, metal compounds other than zinc compounds, catalysts (for example, condensation catalysts, hydrosilylation catalysts, Lewis acid catalysts, Lewis base catalysts, and cationic polymerization catalysts), polymerization initiators (for example, thermal polymerization). Initiators, photopolymerization initiators, etc.), inorganic fillers, antioxidants, lubricants, UV absorbers, thermal light stabilizers, dispersants, antistatic agents, polymerization inhibitors, antifoaming agents, curing accelerators, solvents, fluorescence Substances (including inorganic and organic substances), anti-aging agents, radical inhibitors, adhesion improvers, flame retardants, surfactants, storage stability improvers, ozone anti-aging agents, thickeners, plasticizers, radiation blockers , Nucleating agent, coupling agent, conductivity imparting agent, phosphorus peroxide decomposing agent, pigment, metal deactivator, physical property adjusting agent and the like.

硬化剤としては、特に限定されず、例えば、アミン化合物(ポリアミン化合物)、ポリアミド化合物、ジシアンジアミド、酸無水物、カルボン酸化合物、フェノール樹脂等が挙げられ、具体例としては、エチレンジアミン、トリエチレンペンタミン、ヘキサメチレンジアミン、ダイマー酸変性エチレンジアミン、N−エチルアミノピペラジン、イソホロンジアミンなどの脂肪族アミン類;メタフェニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェノルスルホン、4,4’−ジアミノジフェノルメタン、4,4’−ジアミノジフェノルエーテルなどの芳香族アミン類;メルカプトプロピオン酸エステル、エポキシ樹脂の末端メルカプト化合物などのメルカプタン類;ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノールA、テトラメチルビスフェノールF、テトラメチルビスフェノールAD、テトラメチルビスフェノールS、テトラブロモビスフェノールA、テトラクロロビスフェノールA、テトラフルオロビスフェノールA、ビフェノール、ジヒドロキシナフタレン、1,1,1−トリス(4−ヒドロキシフェニル)メタン、4,4−(1−(4−(1−(4−ヒドロキシフェニル)−1−メチルエチル)フェニル)エチリデン)ビスフェノール、フェノールノボラック、クレゾールノボラック、ビスフェノールAノボラック、臭素化フェノールノボラック、臭素化ビスフェノールAノボラックなどのフェノール樹脂類;上記のフェノール樹脂類の芳香環を水素化したポリオール類;ポリアゼライン酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチル−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物、メチル−ノルボルナン−2,3−ジカルボン酸無水物などの脂環式酸無水物類;無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸などの芳香族酸無水物類;2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾールなどのイミダゾール類およびその塩類;上記の脂肪族アミン類、芳香族アミン類、および/または、イミダゾール類とエポキシ樹脂との反応により得られるアミンアダクト類;アジピン酸ジヒドラジドなどのヒドラジン類;ジメチルベンジルアミン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデカ−7−エンなどの第3級アミン類;トリフェニルホスフィンなどの有機ホスフィン類;ジシアンジアミド;等が挙げられる。   The curing agent is not particularly limited, and examples thereof include amine compounds (polyamine compounds), polyamide compounds, dicyandiamide, acid anhydrides, carboxylic acid compounds, and phenol resins. Specific examples include ethylenediamine and triethylenepentamine. Aliphatic amines such as hexamethylenediamine, dimer acid-modified ethylenediamine, N-ethylaminopiperazine, isophoronediamine; metaphenylenediamine, paraphenylenediamine, 3,3′-diaminodiphenylsulfone, 4,4′-diaminodipheno Aromatic amines such as sulfone, 4,4′-diaminodiphenormethane, 4,4′-diaminodiphenol ether; mercaptans such as mercaptopropionic acid ester and terminal mercapto compound of epoxy resin; bisphenol A, Bisphenol F, Bisphenol AD, Bisphenol S, Tetramethylbisphenol A, Tetramethylbisphenol F, Tetramethylbisphenol AD, Tetramethylbisphenol S, Tetrabromobisphenol A, Tetrachlorobisphenol A, Tetrafluorobisphenol A, Biphenol, Dihydroxynaphthalene 1,1,1-tris (4-hydroxyphenyl) methane, 4,4- (1- (4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl) phenyl) ethylidene) bisphenol, phenol novolac, Phenolic resins such as cresol novolak, bisphenol A novolak, brominated phenol novolak, brominated bisphenol A novolak; the aromatic ring of the above phenolic resin is water Polyols: polyazeline acid anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, norbornane-2 , 3-dicarboxylic anhydride, methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride, alicyclic acid anhydrides such as methyl-norbornane-2,3-dicarboxylic anhydride; phthalic anhydride, anhydrous Aromatic acid anhydrides such as trimellitic acid and pyromellitic anhydride; imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, and 2-phenylimidazole; and salts thereof; By reaction of aromatic amines and / or imidazoles with epoxy resins Amine adducts obtained; hydrazines such as adipic acid dihydrazide; tertiary amines such as dimethylbenzylamine and 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undec-7-ene; organic phosphines such as triphenylphosphine Class; dicyandiamide; and the like.

蛍光物質(無機物)としては、例えば、YAG系蛍光体、ZnS系蛍光体、Y22S系蛍光体、赤色発光蛍光体、青色発光蛍光体、緑色発光蛍光体等が挙げられる。 Examples of the fluorescent substance (inorganic substance) include a YAG phosphor, a ZnS phosphor, a Y 2 O 2 S phosphor, a red light emitting phosphor, a blue light emitting phosphor, and a green light emitting phosphor.

本発明の組成物の製造方法は、特に限定されず、例えば、上記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)、上記亜鉛化合物(B)、および、必要に応じて使用することができる添加剤を混合することによって製造する方法が挙げられる。本発明の組成物は、1液型または2液型として製造することが可能である。   The production method of the composition of the present invention is not particularly limited. For example, the curable silicone resin composition (A), the zinc compound (B), and additives that can be used as necessary are mixed. The method of manufacturing by doing is mentioned. The composition of the present invention can be produced as a one-pack type or a two-pack type.

本発明の組成物は、例えば、接着剤、プライマー、封止材(例えば、光半導体素子用)等として使用できる。本発明の組成物を封止材として使用できる光半導体素子としては、例えば、発光ダイオード(LED)、有機電界発光素子(有機EL)、レーザーダイオード、LEDアレイ等が挙げられる。LEDとしては、例えば、ハイパワーLED、高輝度LED、汎用輝度LED等が挙げられる。
また、本発明の組成物は、例えば、ディスプレイ材料、光記録媒体材料、光学機器材料、光部品材料、光ファイバー材料、光・電子機能有機材料、半導体集積回路周辺材料等の用途に用いることができる。
The composition of this invention can be used as an adhesive agent, a primer, a sealing material (for example, for optical semiconductor elements) etc., for example. As an optical semiconductor element which can use the composition of this invention as a sealing material, a light emitting diode (LED), an organic electroluminescent element (organic EL), a laser diode, an LED array etc. are mentioned, for example. Examples of the LED include a high power LED, a high luminance LED, and a general luminance LED.
The composition of the present invention can be used for applications such as display materials, optical recording medium materials, optical equipment materials, optical component materials, optical fiber materials, optical / electronic functional organic materials, and semiconductor integrated circuit peripheral materials. .

本発明の組成物の被着体としては、例えば、金属(例えば、第11族の金属)、ガラス、ゴム、半導体(例えば、光半導体素子)、ポリフタルアミドなどの樹脂等が挙げられる。なお、第11族の金属としては、銅、銀および金からなる群から選ばれる少なくとも1種であるのが好ましい。
本発明の組成物は、透明性、耐硫化性により優れるという理由から、銀を含む部材の存在下で使用されるのが好ましい。本発明の組成物から得られるシリコーン樹脂層は、被着体と接着することができる。
Examples of the adherend of the composition of the present invention include metals (eg, Group 11 metals), glass, rubber, semiconductors (eg, optical semiconductor elements), resins such as polyphthalamide, and the like. The Group 11 metal is preferably at least one selected from the group consisting of copper, silver and gold.
The composition of the present invention is preferably used in the presence of a silver-containing member because it is more excellent in transparency and sulfidation resistance. The silicone resin layer obtained from the composition of the present invention can be adhered to an adherend.

<使用方法>
本発明の組成物の使用方法としては、例えば、銀を含む部材の存在下で本発明の組成物を硬化させる硬化工程を備える使用方法が挙げられる。以下、当該使用方法を、本発明の組成物の使用方法(以下、「本発明の使用方法」ともいう。)として説明する。
<How to use>
As a usage method of the composition of this invention, the usage method provided with the hardening process which hardens the composition of this invention in presence of the member containing silver, for example is mentioned. Hereinafter, the said usage method is demonstrated as a usage method (henceforth "the usage method of this invention") of the composition of this invention.

本発明の使用方法に用いられる銀を含む部材としては、例えば、銀、銀メッキ等が挙げられ、具体例としては、リフレクタ等が挙げられる。   As a member containing silver used for the usage method of this invention, silver, silver plating, etc. are mentioned, for example, A reflector etc. are mentioned as a specific example.

上記硬化工程は、加熱および/または光照射によって、本発明の組成物を硬化させる工程であってもよい。本発明の組成物を加熱する温度としては、80℃〜150℃付近が好ましく、150℃付近がより好ましい。また、本発明の組成物を光照射する際に用いる光としては、例えば、紫外線、電子線等が挙げられる。   The curing step may be a step of curing the composition of the present invention by heating and / or light irradiation. As temperature which heats the composition of this invention, 80 to 150 degreeC vicinity is preferable and 150 degreeC vicinity is more preferable. Moreover, as light used when light irradiating the composition of this invention, an ultraviolet-ray, an electron beam etc. are mentioned, for example.

<シリコーン樹脂含有構造体>
本発明のシリコーン樹脂含有構造体は、銀を含む部材と、上記部材を覆う、本発明の組成物を硬化させて得られるシリコーン樹脂層と、を備える。上記シリコーン樹脂層は、上記部材を、直接覆ってもよく、別の層(例えば、樹脂層、ガラス層、空気層)を介して覆ってもよい。
<Silicone resin-containing structure>
The silicone resin-containing structure of the present invention includes a member containing silver and a silicone resin layer obtained by curing the composition of the present invention that covers the member. The said silicone resin layer may cover the said member directly, and may cover it through another layer (for example, a resin layer, a glass layer, an air layer).

本発明のシリコーン樹脂含有構造体は、光半導体素子を有するのが好ましい。光半導体素子としては、特に限定されず、例えば、本発明の組成物を封止材として使用できる光半導体素子として例示したものが挙げられる。
本発明のシリコーン樹脂含有構造体が光半導体素子を有する態様としては、例えば、上記シリコーン樹脂層が、光半導体素子を介して、上記部材を覆う態様(すなわち、光半導体素子が、上記シリコーン樹脂層と上記部材との間にある態様);上記シリコーン樹脂層が、並列に配置された光半導体素子と上記部材とを直接覆う態様;等が挙げられる。また、後者の態様においては、間隔を空けて並列に配置された2個の上記部材の間に、光半導体素子が配置されていてもよい。
The silicone resin-containing structure of the present invention preferably has an optical semiconductor element. It does not specifically limit as an optical semiconductor element, For example, what was illustrated as an optical semiconductor element which can use the composition of this invention as a sealing material is mentioned.
As an aspect in which the silicone resin-containing structure of the present invention has an optical semiconductor element, for example, an aspect in which the silicone resin layer covers the member via the optical semiconductor element (that is, the optical semiconductor element is the silicone resin layer). And the above-mentioned member); an embodiment in which the above-mentioned silicone resin layer directly covers the optical semiconductor element and the above-mentioned member arranged in parallel; Moreover, in the latter aspect, the optical semiconductor element may be arrange | positioned between the two said members arrange | positioned in parallel at intervals.

次に、本発明のシリコーン樹脂含有構造体としての積層体(積層体100、積層体200)を、図1および図2に基いて説明する。
図1は、本発明のシリコーン樹脂含有構造体としての積層体の一例を模式的に示す断面図である。図1に示すように、積層体100は、銀を含む部材120を備える。部材120の上には、シリコーン樹脂層102が直接的に配置されている。
図2は、本発明のシリコーン樹脂含有構造体としての積層体の別の一例を模式的に示す断面図である。図2に示すように、積層体200は、銀を含む部材220を備える。部材220の上には、光半導体素子203が直接的に配置され、光半導体素子203の上には、シリコーン樹脂層202が直接的に配置されている。なお、シリコーン樹脂層202と光半導体素子203との間に、図示しない透明な層(例えば、樹脂層、ガラス層、空気層等)が配置されていてもよい。
Next, the laminated body (laminated body 100, laminated body 200) as the silicone resin-containing structure of the present invention will be described based on FIG. 1 and FIG.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a laminate as the silicone resin-containing structure of the present invention. As shown in FIG. 1, the laminated body 100 is provided with the member 120 containing silver. A silicone resin layer 102 is directly disposed on the member 120.
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing another example of a laminate as the silicone resin-containing structure of the present invention. As shown in FIG. 2, the stacked body 200 includes a member 220 containing silver. The optical semiconductor element 203 is directly disposed on the member 220, and the silicone resin layer 202 is directly disposed on the optical semiconductor element 203. Note that a transparent layer (for example, a resin layer, a glass layer, an air layer, etc.) (not shown) may be disposed between the silicone resin layer 202 and the optical semiconductor element 203.

<光半導体素子封止体>
本発明の光半導体素子封止体は、凹部を有する枠体と、上記凹部の底部に配置された光半導体素子と、上記凹部の内側面に配置された銀を含む部材と、上記凹部に充填されて上記光半導体素子と上記部材とを封止する、本発明の組成物を硬化させて得られる封止材と、を備える。
銀を含む部材としては、特に限定されず、例えば、本発明の使用方法に用いられる銀を含む部材として例示したものが挙げられる。また、光半導体素子としては、特に限定されず、例えば、本発明の組成物を封止材として使用できる光半導体素子として例示したものが挙げられる。本発明の光半導体素子封止体は、1個当たり、1または2以上の上記光半導体素子を有することができる。
<Optical semiconductor element sealing body>
The sealed optical semiconductor element of the present invention includes a frame having a recess, an optical semiconductor element disposed at the bottom of the recess, a member including silver disposed on the inner surface of the recess, and filling the recess. And a sealing material obtained by curing the composition of the present invention, which seals the optical semiconductor element and the member.
It does not specifically limit as a member containing silver, For example, what was illustrated as a member containing silver used for the usage method of this invention is mentioned. Moreover, it does not specifically limit as an optical semiconductor element, For example, what was illustrated as an optical semiconductor element which can use the composition of this invention as a sealing material is mentioned. The sealed optical semiconductor element of the present invention can have one or two or more of the above optical semiconductor elements per one.

次に、本発明の光半導体素子封止体について図3〜図5に基いて説明する。
図3は、本発明の光半導体素子封止体の一例を模式的に示す断面図である。図3に示すように、光半導体素子封止体300は、凹部302を有する枠体304を備える。凹部302の底面は開口している。そのため、枠体304には、この開口を囲うようにして端部(端部312、端部314)が形成されている。枠体304の下方位置には、外部電極309を有する基板310が配置されている。基板310は、凹部302の底部を形成している。凹部302の底部には、光半導体素子303が配置されている。光半導体素子303は、上面が発光層(図示せず)となる向きで、凹部302に配置される。光半導体素子303の下面は、マウント部材301によって固定される。マウント部材301は、例えば、銀ペースト、樹脂等である。光半導体素子303の各電極(図示せず)と外部電極309とは、導電性ワイヤー307によってワイヤーボンディングされている。
Next, the sealed optical semiconductor element of the present invention will be described with reference to FIGS.
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of the sealed optical semiconductor element of the present invention. As shown in FIG. 3, the optical semiconductor element sealing body 300 includes a frame 304 having a recess 302. The bottom surface of the recess 302 is open. Therefore, the frame body 304 is formed with end portions (end portion 312 and end portion 314) so as to surround the opening. A substrate 310 having an external electrode 309 is disposed below the frame body 304. The substrate 310 forms the bottom of the recess 302. An optical semiconductor element 303 is disposed at the bottom of the recess 302. The optical semiconductor element 303 is disposed in the concave portion 302 so that the upper surface is a light emitting layer (not shown). The lower surface of the optical semiconductor element 303 is fixed by the mount member 301. The mount member 301 is, for example, silver paste, resin, or the like. Each electrode (not shown) of the optical semiconductor element 303 and the external electrode 309 are wire bonded by a conductive wire 307.

凹部302の内側面には、銀を含む部材としてのリフレクタ320が配置されている。凹部302には、封止材308が充填されており、封止材308は、光半導体素子303およびリフレクタ320を封止している。ここで、封止材308は、本発明の組成物を硬化させて得られたものである。
封止材308は、凹部302において、斜線部306まで充填されていてもよい。また、凹部302において308で示す部分を他の透明な層とし、封止材308を斜線部306にのみ配置するようにしてもよい。このような封止材308は、蛍光物質等を含有することができる。
On the inner side surface of the recess 302, a reflector 320 is disposed as a member containing silver. The concave portion 302 is filled with a sealing material 308, and the sealing material 308 seals the optical semiconductor element 303 and the reflector 320. Here, the sealing material 308 is obtained by curing the composition of the present invention.
The sealing material 308 may be filled up to the hatched portion 306 in the recess 302. Further, the portion indicated by 308 in the recess 302 may be another transparent layer, and the sealing material 308 may be disposed only in the hatched portion 306. Such a sealing material 308 can contain a fluorescent material or the like.

なお、光半導体素子封止体300としては、枠体304の端部(端部312、端部314)が一体的に結合し、凹部302の底部を形成する態様であってよい。この態様の場合、リフレクタ320は、凹部302の内側面のみならず、凹部302の底部にも配置される。そして、光半導体素子303は、凹部302の底部に配置されたリフレクタ320の上に配置される。   Note that the optical semiconductor element sealing body 300 may have a mode in which the end portions (the end portion 312 and the end portion 314) of the frame body 304 are integrally coupled to form the bottom portion of the recess 302. In this embodiment, the reflector 320 is disposed not only on the inner surface of the recess 302 but also on the bottom of the recess 302. The optical semiconductor element 303 is disposed on the reflector 320 disposed at the bottom of the recess 302.

このような光半導体素子封止体300においては、本発明の組成物を硬化させて得られた封止材308が用いられているため、銀を含む部材であるリフレクタ320の腐食(例えば、変色)を抑制することができる。
また、凹部302に充填された封止材308は、低硬度で硬化収縮が小さいため、硬化収縮によって凹部302から剥がれたり、導電性ワイヤー307が断線したりするのを抑制することができる。
Since the encapsulating material 308 obtained by curing the composition of the present invention is used in such an optical semiconductor element encapsulant 300, corrosion (for example, discoloration) of the reflector 320, which is a member containing silver, is used. ) Can be suppressed.
Further, since the sealing material 308 filled in the recess 302 has low hardness and small curing shrinkage, it can be prevented from being peeled off from the recess 302 due to the curing shrinkage or the conductive wire 307 being disconnected.

図4は、本発明の光半導体素子封止体の別の一例を模式的に示す断面図である。図4に示す光半導体素子封止体400は、図3に示した光半導体素子封止体300の上にレンズ401を配置したものである。レンズ401としては、本発明の組成物を用いて形成されたものを用いることができる。   FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing another example of the sealed optical semiconductor element of the present invention. A sealed optical semiconductor element 400 shown in FIG. 4 is obtained by arranging a lens 401 on the sealed optical semiconductor element 300 shown in FIG. As the lens 401, a lens formed using the composition of the present invention can be used.

図5は、本発明の光半導体素子封止体のさらに別の一例を模式的に示す断面図である。図5に示す光半導体素子封止体500においては、ランプ機能を有する樹脂506の内部に、基板510およびインナーリード505が配置されている。基板510は凹部を有する枠体を有し、この凹部の底部には光半導体素子503が配置され、この凹部の内側面にはリフレクタ520が配置され、この凹部には本発明の組成物を硬化させて得られた封止材502が配置されている。
リフレクタ520は、この凹部の底部に配置されていてもよい。光半導体素子503は、基板510上にマウント部材501で固定されている。光半導体素子503の各電極(図示せず)は、導電性ワイヤー507によってワイヤーボンディングされている。樹脂506は、本発明の組成物を用いて形成されてもよい。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing still another example of the sealed optical semiconductor element of the present invention. In the sealed optical semiconductor element 500 shown in FIG. 5, a substrate 510 and inner leads 505 are arranged inside a resin 506 having a lamp function. The substrate 510 has a frame having a recess, an optical semiconductor element 503 is disposed at the bottom of the recess, and a reflector 520 is disposed on the inner surface of the recess, and the composition of the present invention is cured in the recess. A sealing material 502 obtained in this manner is disposed.
The reflector 520 may be disposed at the bottom of this recess. The optical semiconductor element 503 is fixed on the substrate 510 with a mount member 501. Each electrode (not shown) of the optical semiconductor element 503 is wire-bonded by a conductive wire 507. The resin 506 may be formed using the composition of the present invention.

次に、本発明の組成物および/または本発明の光半導体素子封止体をLED表示器に利用する場合について、図6に基いて説明する。
図6は、本発明の組成物および/または本発明の光半導体素子封止体を用いたLED表示器の一例を示す模式図である。
図6に示すLED表示器600は、その一部に遮光部材605が配置された筐体604を有する。筐体604の内部には、複数の光半導体素子封止体601がマトリックス状に配置されている。光半導体素子封止体601は、封止材606によって封止されている。
ここで、封止材606としては、本発明の組成物を硬化させて得られる封止材を用いることができる。また、光半導体素子封止体601としては、本発明の光半導体素子封止体を用いることができる。
Next, the case where the composition of the present invention and / or the sealed optical semiconductor element of the present invention is used for an LED display will be described with reference to FIG.
FIG. 6 is a schematic view showing an example of an LED display using the composition of the present invention and / or the sealed optical semiconductor element of the present invention.
An LED display 600 shown in FIG. 6 includes a housing 604 in which a light shielding member 605 is disposed. A plurality of optical semiconductor element sealing bodies 601 are arranged in a matrix in the housing 604. The optical semiconductor element sealing body 601 is sealed with a sealing material 606.
Here, as the sealing material 606, a sealing material obtained by curing the composition of the present invention can be used. Moreover, as the optical semiconductor element sealing body 601, the optical semiconductor element sealing body of this invention can be used.

本発明のシリコーン樹脂含有構造体、および、本発明の光半導体素子封止体の用途としては、例えば、自動車用ランプ(例えば、ヘッドランプ、テールランプ、方向ランプ等)、家庭用照明器具、工業用照明器具、舞台用照明器具、ディスプレイ、信号、プロジェクター等が挙げられる。   Examples of uses of the silicone resin-containing structure of the present invention and the sealed optical semiconductor element of the present invention include automobile lamps (for example, headlamps, tail lamps, directional lamps, etc.), household lighting equipment, and industrial use. Illuminating fixtures, stage lighting fixtures, displays, signals, projectors, and the like.

以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

<シリコーン樹脂組成物の製造>
下記第1表に示す成分を同表に示す量(単位:質量部)で用い、これらを真空かくはん機で均一に混合してシリコーン樹脂組成物を製造した。
<Manufacture of silicone resin composition>
The components shown in Table 1 below were used in the amounts shown in the same table (unit: parts by mass), and these were uniformly mixed with a vacuum stirrer to produce a silicone resin composition.

<評価>
以下に示す方法で、評価を行なった。結果を下記第1表に示す。
<透過率>
製造されたシリコーン樹脂組成物を、後述する硬化条件で硬化させて、透過率測定用硬化サンプル(厚さ:2mm)を得た。得られたサンプルについて、JIS K0115:2004に準拠して、紫外・可視吸収スペクトル測定装置(島津製作所社製)を用いて波長400nmにおける透過率を測定した。
透過率が、80%以上であれば、透明性に優れるものとして評価できる。なお、得られた硬化サンプルが白濁していた場合には、下記第1表に「白濁」と記載した。
<Evaluation>
Evaluation was performed by the following method. The results are shown in Table 1 below.
<Transmissivity>
The manufactured silicone resin composition was cured under the curing conditions described later to obtain a cured sample for measuring transmittance (thickness: 2 mm). About the obtained sample, based on JISK0115: 2004, the transmittance | permeability in wavelength 400nm was measured using the ultraviolet-visible absorption spectrum measuring device (made by Shimadzu Corporation Corp.).
If the transmittance is 80% or more, it can be evaluated as having excellent transparency. In addition, when the obtained hardening sample was cloudy, it described as "white cloudy" in the following Table 1.

<密着性>
製造されたシリコーン樹脂組成物を、縦25mm×横10mm×厚さ1mmのスペーサーを用いて、被着体(ポリフタルアミド板)上に流し込み、後述する硬化条件で硬化させて、硬化物と被着体との積層体を得た。
次に、得られた積層体について、スパチュラを用いて、硬化物を被着体から手剥離させ、その際の破壊形態によって、密着性を評価した。すなわち、破壊形態が凝集破壊であった場合には、密着性に優れるものとして「○」と評価し、破壊形態が界面破壊であった場合には、密着性に劣るものとして「×」と評価した。なお、密着性の評価を行わなかった場合には、下記第1表に「−」と記載した。
<Adhesion>
The produced silicone resin composition is poured onto an adherend (polyphthalamide plate) using a spacer having a length of 25 mm, a width of 10 mm, and a thickness of 1 mm, and cured under the curing conditions described below to obtain a cured product and a coated product. A laminate with a kimono was obtained.
Next, about the obtained laminated body, the hardened | cured material was hand-separated from the to-be-adhered body using the spatula, and adhesiveness was evaluated by the destruction mode in that case. That is, when the fracture mode is cohesive fracture, it is evaluated as “◯” as having excellent adhesion, and when the fracture mode is interfacial fracture, it is evaluated as “×” as being inferior in adhesion. did. In addition, when adhesiveness evaluation was not performed, it described as "-" in the following Table 1.

<耐硫化性>
[硬化サンプル作成]
製造されたシリコーン樹脂組成物を、銀メッキ上に厚さ1mm程度になるよう塗布し、後述する硬化条件で硬化させて、耐硫化性評価用の硬化サンプルを得た。
<Sulfurization resistance>
[Curing cured sample]
The manufactured silicone resin composition was applied on silver plating so as to have a thickness of about 1 mm, and cured under the curing conditions described later to obtain a cured sample for evaluation of sulfidation resistance.

[耐硫化性試験]
10Lのデシケーターの底に、粉状に粉砕した硫化鉄10g程度(下記塩酸0.5mmolに対して大過剰)を置いた。次に、デシケーター内における硫化鉄の上方に、硫化鉄に接触しないように目皿(貫通孔を有する)を取り付け、取り付けた目皿上に硬化サンプルを置いた。次に、硫化鉄に塩酸0.5mmolを滴下することにより、硫化水素0.25mmolを発生させ(反応式:FeS+2HCl→FeCl2+H2S)、デシケーター内の硫化水素の濃度を0.05質量%(理論値:約560ppm)とした。
[Sulfuration resistance test]
About 10 g of iron sulfide pulverized into a powder form (large excess with respect to 0.5 mmol of hydrochloric acid below) was placed on the bottom of a 10 L desiccator. Next, an eye plate (having a through hole) was attached above the iron sulfide in the desiccator so as not to contact the iron sulfide, and the cured sample was placed on the attached eye plate. Next, by dropping 0.5 mmol of hydrochloric acid on iron sulfide, 0.25 mmol of hydrogen sulfide is generated (reaction formula: FeS + 2HCl → FeCl 2 + H 2 S), and the concentration of hydrogen sulfide in the desiccator is 0.05 mass%. (Theoretical value: about 560 ppm).

[耐硫化性の評価基準]
上記の耐硫化性試験の開始(硫化水素の発生)から24時間後および72時間後に、目視により硬化サンプルにおける銀の変色を確認した。変色が確認されなかった場合には耐硫化性に優れるものとして「○」と評価し、若干の変色が確認された場合は耐硫化性にやや優れるものとして「△」と評価し、変色が確認された場合には耐硫化性に劣るものとして「×」と評価した。なお、耐硫化性の評価を行わなかった場合には、下記第1表に「−」と記載した。
[Evaluation criteria for sulfidation resistance]
After 24 hours and 72 hours from the start of the above sulfidation resistance test (generation of hydrogen sulfide), the discoloration of silver in the cured sample was visually confirmed. If no discoloration was confirmed, it was evaluated as “◯” as being excellent in sulfur resistance, and if slight discoloration was confirmed, it was evaluated as “△” as slightly superior in sulfur resistance, and discoloration was confirmed. When it was, it was evaluated as “x” as being inferior in sulfidation resistance. In addition, when evaluation of sulfidation resistance was not performed, “−” was described in Table 1 below.

<耐熱着色安定性>
製造されたシリコーン樹脂組成物を、後述する硬化条件で硬化させて、初期硬化物を得た。さらに、得られた初期硬化物を、150℃で10日間加熱して、耐熱硬化物を得た。耐熱硬化物の透過率が、初期硬化物の透過率に対して80%以上であった場合には耐熱着色安定性に優れるものとして「○」と評価し、70%以上80%未満であった場合には耐熱着色安定性にやや優れるものとして「△」と評価し、70%未満であった場合には耐熱着色安定性に劣るものとして「×」と評価した。なお、耐熱着色安定性の評価を行わなかった場合には、下記第1表に「−」と記載した。
<Heat resistant coloring stability>
The manufactured silicone resin composition was cured under the curing conditions described later to obtain an initial cured product. Furthermore, the obtained initial cured product was heated at 150 ° C. for 10 days to obtain a heat-resistant cured product. When the transmittance of the heat-resistant cured product was 80% or more with respect to the transmittance of the initial cured product, it was evaluated as “◯” as having excellent heat-resistant coloring stability, and was 70% or more and less than 80%. In this case, “△” was evaluated as being somewhat excellent in heat-resistant coloring stability, and “X” was evaluated as being inferior in heat-resistant coloring stability when it was less than 70%. In addition, when evaluation of heat-resistant coloring stability was not performed, it described as "-" in the following Table 1.

<硬化条件>
・シリコーン樹脂組成物が、後述する縮合触媒1または縮合触媒2を含有する場合:150℃で24時間加熱
・シリコーン樹脂組成物が、後述するヒドロシリル化触媒を含有する場合:150℃で6時間加熱
・シリコーン樹脂組成物が、後述する熱重合開始剤を含有する場合:150℃3時間加熱
・シリコーン樹脂組成物が、光重合開始剤を含有する場合:高圧水銀灯照射条件下で積算光量8000mJ/cm2照射
・シリコーン樹脂組成物が、酸無水物およびアミン化合物を含有する場合:150℃で3時間加熱
・シリコーン樹脂組成物が、ルイス酸触媒を含有する場合:150℃で3時間加熱
<Curing conditions>
When the silicone resin composition contains condensation catalyst 1 or condensation catalyst 2 described later: heated at 150 ° C. for 24 hours. When the silicone resin composition contains a hydrosilylation catalyst described later: heated at 150 ° C. for 6 hours. When the silicone resin composition contains a thermal polymerization initiator described later: heated at 150 ° C. for 3 hours. When the silicone resin composition contains a photopolymerization initiator: an accumulated light amount of 8000 mJ / cm under irradiation with a high-pressure mercury lamp. 2 Irradiation ・ When the silicone resin composition contains an acid anhydride and an amine compound: heated at 150 ° C. for 3 hours • When the silicone resin composition contains a Lewis acid catalyst: heated at 150 ° C. for 3 hours

上記第1表中の各成分は、以下のものを使用した。
・(a)ポリシロキサン1:ポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール(ss10、信越化学工業、重量平均分子量:49000、反応性官能基:シラノール基、平均官能基数:2個)
The following components were used as the components in Table 1.
(A) Polysiloxane 1: Polydimethylsiloxane-α, ω-diol (ss10, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight: 49000, reactive functional group: silanol group, average number of functional groups: 2)

・(a)ポリシロキサン2:下記のとおり製造した両末端トリメトキシシリルシロキサン(重量平均分子量:55000、反応性官能基:メトキシシリル基、平均官能基数:6個)
500mLの3つ口フラスコに、攪拌機とリフラックスコンデンサーとを備え付け、両末端にシラノール基を有するポリシロキサン(ss10、信越化学工業社製)100質量部、テトラメトキシシラン10質量部、および、酢酸0.1質量部を添加し、窒素雰囲気下で100℃で6時間反応させ、1H−NMR分析によってss10が有するシラノール基の消失を確認し、得られた反応物をポリシロキサン2とした。ポリシロキサン2の主たる構造は、下記式で示される。
(A) Polysiloxane 2: both ends trimethoxysilylsiloxane produced as follows (weight average molecular weight: 55000, reactive functional group: methoxysilyl group, average functional group number: 6)
A 500 mL three-necked flask is equipped with a stirrer and a reflux condenser, and 100 parts by mass of polysiloxane having silanol groups at both ends (ss10, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 10 parts by mass of tetramethoxysilane, and 0 parts of acetic acid. 0.1 mass part was added, it was made to react at 100 degreeC under nitrogen atmosphere for 6 hours, the loss | disappearance of the silanol group which ss10 has was confirmed by < 1 > H-NMR analysis, and the obtained reaction material was made into polysiloxane 2. The main structure of the polysiloxane 2 is represented by the following formula.

・(a)ポリシロキサン3:下記のとおり製造した末端ポリメトキシシリルシロキサン(重量平均分子量:60000、反応性官能基:メトキシシリル基、平均官能基数:14個)
500mLの3つ口フラスコに、攪拌機とリフラックスコンデンサーとを備え付け、両末端にシラノール基を有するポリシロキサン(ss10)100質量部、メチルトリメトキシシランの部分加水分解物(KC−89、信越化学工業社製)10質量部、および、酢酸0.1質量部を添加し、窒素雰囲気下で140℃で15時間反応させ、1H−NMR分析によってss10が有するシラノール基の消失を確認し、得られた反応物をポリシロキサン3とした。ポリシロキサン3の主たる構造は、下記式で示される。
(A) Polysiloxane 3: terminal polymethoxysilylsiloxane produced as follows (weight average molecular weight: 60000, reactive functional group: methoxysilyl group, average functional group number: 14)
A 500 mL three-necked flask is equipped with a stirrer and a reflux condenser, 100 parts by mass of polysiloxane (ss10) having silanol groups at both ends, and a partial hydrolyzate of methyltrimethoxysilane (KC-89, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 10 parts by mass) and 0.1 part by mass of acetic acid were added, reacted at 140 ° C. for 15 hours under a nitrogen atmosphere, and disappearance of silanol groups possessed by ss10 was confirmed by 1 H-NMR analysis. The reaction product was polysiloxane 3. The main structure of the polysiloxane 3 is represented by the following formula.

・(a)ポリシロキサン4:両末端シラノールジメチルシリコーンオイル(PRX−413、東レ・ダウコーニング社製、重量平均分子量:4000、反応性官能基:シラノール基、平均官能基数:2個)
・(b)ポリシロキサン5:シリコーンアルコキシオリゴマー(x−40−9246、信越化学工業社製、重量平均分子量:6000、反応性官能基:アルコキシシリル基、平均官能基数:0<n<2)
(A) Polysiloxane 4: Silanol dimethyl silicone oil at both ends (PRX-413, manufactured by Dow Corning Toray, weight average molecular weight: 4000, reactive functional group: silanol group, average number of functional groups: 2)
(B) Polysiloxane 5: Silicone alkoxy oligomer (x-40-9246, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight: 6000, reactive functional group: alkoxysilyl group, average functional group number: 0 <n <2)

・(c)縮合触媒1:トリブトキシナフテン酸Zr(0.03質量部)と、ジブチルスズアセテート(0.02質量部、日東化成社製)との混合物
トリブトキシナフテン酸Zrの製造は以下のとおりである。
87.5質量%濃度のジルコニウムテトラブトキシド(関東化学社製)11.4g(0.026mol)と、ナフテン酸(東京化成社製、カルボキシ基に結合する炭化水素基の炭素原子数の平均:15、中和価220mg、以下同様。)6.6g(0.026mol)とを、三ツ口フラスコに投入し、窒素雰囲気下、室温で2時間程度攪拌し、目的合成物を得た。
なお、ナフテン酸の中和価は、ナフテン酸1gを中和するために必要なKOHの量である。
合成物の定性は、フーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR)を用いて行った。その結果、カルボン酸由来のCOOHに帰属される1700cm-1付近の吸収が反応後は消失し、1450〜1560cm-1付近のCOOZrに由来するピークを確認した。
トリブトキシナフテン酸Zrが有するナフテート基(RCOO−)中のRの平均炭素原子数は15である。
・(c)縮合触媒2:モノブチルトリス2−エチルヘキサノエートスズ(日東化成社製)
(C) Condensation catalyst 1: Mixture of tributoxynaphthenic acid Zr (0.03 parts by mass) and dibutyltin acetate (0.02 parts by mass, manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.) It is.
17.5 g (0.026 mol) of zirconium tetrabutoxide having a concentration of 87.5% by mass (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) and naphthenic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., average number of carbon atoms of the hydrocarbon group bonded to the carboxy group: 15 , 6.6 g (0.026 mol) was charged into a three-necked flask and stirred at room temperature for about 2 hours under a nitrogen atmosphere to obtain the target compound.
The neutralization value of naphthenic acid is the amount of KOH required to neutralize 1 g of naphthenic acid.
The qualitative property of the synthesized product was measured using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR). As a result, absorption near 1700 cm −1 attributed to COOH derived from carboxylic acid disappeared after the reaction, and a peak derived from COOZr near 1450 to 1560 cm −1 was confirmed.
The average number of carbon atoms of R in the naphthate group (RCOO—) of the tributoxynaphthenic acid Zr is 15.
(C) Condensation catalyst 2: monobutyltris 2-ethylhexanoate tin (manufactured by Nitto Kasei Co., Ltd.)

・(d)ポリシロキサン6:ビニル基を有するジメチルポリシロキサン(DMS−V35、Gelest社製、重量平均分子量:49500、反応性官能基:ビニル基、平均官能基数:2個)
・(e)ポリシロキサン7:ハイドロジェンシリル基を有するジメチルポシリロキサン共重合体メチルハイドロジェンポリシロキサン(KF−9901、信越化学工業社製、反応性官能基:ハイドロジェンシリル基)
・(f)ヒドロシリル化触媒:プラチナム−シクロビニルメチルシロキサン錯体(SIP6832.2、Gelest社製)
(D) Polysiloxane 6: dimethylpolysiloxane having a vinyl group (DMS-V35, manufactured by Gelest, weight average molecular weight: 49500, reactive functional group: vinyl group, average number of functional groups: 2)
(E) Polysiloxane 7: Dimethylposilyloxane copolymer methylhydrogen polysiloxane having hydrogensilyl group (KF-9901, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., reactive functional group: hydrogensilyl group)
(F) Hydrosilylation catalyst: Platinum-cyclovinylmethylsiloxane complex (SIP6832.2, manufactured by Gelest)

・(g)ポリシロキサン8:下記のとおり製造した、両末端にメタクリルオキシプロピルジメトキシシリル基を有するポリジメチルシロキサン(重量平均分子量:35000、反応性官能基:メタクリルオキシ基、平均官能基数:2個)
両端にシラノール基を有するポリジメチルシロキサン(ss70、信越化学工業社製、重量平均分子量:28,000)100質量部と、メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM503、信越化学工業社製)4質量部と、触媒としての2−エチルへキサン酸スズ(関東化学社製)0.01質量部とを、反応容器に入れ、圧力を10mmHg、温度を80℃に保ちながら、6時間反応させ、反応物を得た。
得られた反応物について、1H−NMR分析を行い、ポリジメチルシロキサンの両末端がメタクリルオキシプロピルジメトキシシリル基であることを確認した。
このようにして得られた、両末端にメタクリルオキシプロピルジメトキシシリル基を有するポリジメチルシロキサンを、ポリシロキサン8(M−ss70)とした。
(G) Polysiloxane 8: produced as follows, polydimethylsiloxane having methacryloxypropyldimethoxysilyl groups at both ends (weight average molecular weight: 35000, reactive functional group: methacryloxy group, average number of functional groups: 2 )
100 parts by mass of polydimethylsiloxane having silanol groups at both ends (ss70, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight: 28,000), and 4 parts by mass of methacryloxypropyltrimethoxysilane (KBM503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Then, 0.01 parts by mass of tin 2-ethylhexanoate (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) as a catalyst is placed in a reaction vessel, and reacted for 6 hours while maintaining the pressure at 10 mmHg and the temperature at 80 ° C. Obtained.
The obtained reaction product was subjected to 1 H-NMR analysis, and it was confirmed that both ends of polydimethylsiloxane were methacryloxypropyldimethoxysilyl groups.
The polydimethylsiloxane having methacryloxypropyldimethoxysilyl groups at both ends thus obtained was designated as polysiloxane 8 (M-ss70).

・(h)熱重合開始剤:パーブチルO(日本油脂社製)
・(h)光重合開始剤:イルガキュア184(チバ・ジャパン社製)
・(i)ポリシロキサン9:両末端エポキシ基含有ポリシロキサン(x−22−163B、信越化学工業社製、反応性官能基:エポキシ基、平均官能基数:2個)
・(j)酸無水物:下記式で表される両末端無水コハク酸変性シリコーン(DMS−Z21、Gelest社製、重量平均分子量:500)
・ (H) Thermal polymerization initiator: Perbutyl O (manufactured by NOF Corporation)
(H) Photopolymerization initiator: Irgacure 184 (manufactured by Ciba Japan)
-(I) Polysiloxane 9: Polysiloxane containing epoxy groups at both ends (x-22-163B, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., reactive functional group: epoxy group, average number of functional groups: 2)
(J) Acid anhydride: succinic anhydride-modified silicone represented by the following formula (DMS-Z21, manufactured by Gelest, weight average molecular weight: 500)

・(j)アミン化合物:特殊アミン(サンアプロ社製)
・(j)ルイス酸触媒:トリフルオロホウ素エチルエーテラート錯体(東京化成工業社製)
・ (J) Amine compound: Special amine (manufactured by San Apro)
(J) Lewis acid catalyst: trifluoroboron ethyl etherate complex (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)

・1.6−2EHA−Zn:酸化亜鉛(ホープ製薬社製)1モルに対して2−エチルヘキサン酸(ホープ製薬社製)1.6モルを加えて室温下で撹拌し、透明の均一な液体を得た。得られた液体を1.6−2EHA−Znとした。
・1.8−2EHA−Zn:2−エチルヘキサン酸の量を1.8モルに代えたほかは、1.6−2EHA−Znと同様にして製造を行い、透明の均一な液体を得た。得られた液体を1.8−2EHA−Znとした。
・2.0−2EHA−Zn:2−エチルヘキサン酸の量を2.0モルに代えたほかは、1.6−2EHA−Znと同様にして製造を行い、透明の均一な液体を得た。得られた液体を2.0−2EHA−Znとした。
1.6-2EHA-Zn: 1.6 mol of 2-ethylhexanoic acid (Hope Pharmaceutical Co., Ltd.) is added to 1 mol of zinc oxide (Hope Pharmaceutical Co., Ltd.), and the mixture is stirred at room temperature. A liquid was obtained. The obtained liquid was set to 1.6-2EHA-Zn.
1.8-2EHA-Zn: A transparent uniform liquid was obtained in the same manner as 1.6-2EHA-Zn except that the amount of 2-ethylhexanoic acid was changed to 1.8 mol. . The obtained liquid was defined as 1.8-2EHA-Zn.
-2.0-2EHA-Zn: Manufactured in the same manner as 1.6-2EHA-Zn except that the amount of 2-ethylhexanoic acid was changed to 2.0 mol, and a transparent uniform liquid was obtained. . The obtained liquid was set to 2.0-2EHA-Zn.

・アルキレンオキシド化合物1:エポキシ・ポリエーテル変性シリコーンオイル(X−22−4741、信越化学工業社製)
・アルキレンオキシド化合物2:ポリエーテル変性シリコーンオイル(X−22−6266、信越化学工業社製)
・アルキレンオキシド化合物3:PTMG(重量平均分子量:2000)
・アルキレンオキシド化合物4:PEG(日油社製、重量平均分子量:200)
Alkylene oxide compound 1: Epoxy-polyether modified silicone oil (X-22-4741, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Alkylene oxide compound 2: Polyether-modified silicone oil (X-22-6266, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Alkylene oxide compound 3: PTMG (weight average molecular weight: 2000)
Alkylene oxide compound 4: PEG (manufactured by NOF Corporation, weight average molecular weight: 200)

上記第1表に示す結果から明らかなように、実施例I〜IVについては、透過率が高く透明性に優れるとともに、密着性にも優れることが分かった。また、耐硫化性および耐熱着色安定性にも優れていた。
これに対して、アルキレンオキシド化合物1〜4を含有しない比較例(I−1および2,II−1および2,III−1および2、ならびに、IV−1〜3)は、密着性に劣ることが分かった。
また、アルキレンオキシド化合物1〜4の含有量が本発明の範囲の上限値を超える比較例(I−3,II−3,III−3、および、IV−4)は、白濁が見られた。
As is clear from the results shown in Table 1 above, it was found that Examples I to IV had high transmittance and excellent transparency and excellent adhesion. Moreover, it was excellent also in sulfidation resistance and heat-resistant coloring stability.
On the other hand, the comparative examples (I-1 and 2, II-1 and 2, III-1 and 2, and IV-1 to 3) which do not contain the alkylene oxide compounds 1 to 4 are inferior in adhesion. I understood.
Moreover, the cloudiness was seen in the comparative examples (I-3, II-3, III-3, and IV-4) in which the content of the alkylene oxide compounds 1 to 4 exceeds the upper limit of the range of the present invention.

100,200 積層体(シリコーン樹脂含有構造体)
102,202 シリコーン樹脂層
120,220 部材
203,303,503 光半導体素子
300,400,500,601 光半導体素子封止体
301,501 マウント部材
302 凹部
304 枠体
306 斜線部
307,507 導電性ワイヤー
308,502,606 封止材(他の透明な層)
309 外部電極
312,314 端部
310,510 基板
320,520 リフレクタ
401 レンズ
506 樹脂
600 LED表示器
604 筐体
605 遮光部材
100,200 Laminate (silicone resin-containing structure)
102, 202 Silicone resin layer 120, 220 Member 203, 303, 503 Optical semiconductor element 300, 400, 500, 601 Optical semiconductor element sealing body 301, 501 Mount member 302 Recess 304 Frame body 306 Shaded portion 307, 507 Conductive wire 308, 502, 606 Sealing material (other transparent layer)
309 External electrodes 312 and 314 End portions 310 and 510 Substrate 320 and 520 Reflector 401 Lens 506 Resin 600 LED display 604 Case 605 Light shielding member

Claims (7)

硬化性シリコーン樹脂組成物(A)100質量部に対して、
亜鉛化合物(B)0.01〜5質量部と、
ポリアルキレンオキシド鎖を有する化合物(C)0.01〜5質量部と、
を含有するシリコーン樹脂組成物。
For 100 parts by mass of curable silicone resin composition (A),
0.01-5 parts by mass of the zinc compound (B),
0.01 to 5 parts by mass of a compound (C) having a polyalkylene oxide chain;
Containing a silicone resin composition.
前記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)が、
シラノール基またはケイ素原子に結合した加水分解性基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン(a)、ならびに、加水分解性シラン、その加水分解物、および、その加水分解縮合物からなる群から選ばれる少なくとも1種であるシラン化合物(b)のいずれか一方または両方と、
縮合触媒(c)と、
を含有する請求項1に記載のシリコーン樹脂組成物。
The curable silicone resin composition (A) is
An organopolysiloxane (a) having at least two hydrolyzable groups bonded to a silanol group or a silicon atom, and at least selected from the group consisting of hydrolyzable silane, hydrolyzate thereof, and hydrolyzate condensate thereof Either one or both of one kind of silane compound (b),
A condensation catalyst (c);
The silicone resin composition according to claim 1, comprising:
前記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)が、
ケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個有するオルガノポリシロキサン(d)と、
ケイ素原子に結合した水素原子を少なくとも2個有するポリオルガノハイドロジェンポリシロキサン(e)と、
ヒドロシリル化触媒(f)と、を含有し、
前記水素原子の量が、前記アルケニル基1モル当たり0.1〜5.0モルである、請求項1または2に記載のシリコーン樹脂組成物。
The curable silicone resin composition (A) is
An organopolysiloxane (d) having at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms;
A polyorganohydrogenpolysiloxane (e) having at least two hydrogen atoms bonded to silicon atoms;
A hydrosilylation catalyst (f),
The silicone resin composition of Claim 1 or 2 whose quantity of the said hydrogen atom is 0.1-5.0 mol per mol of said alkenyl groups.
前記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)が、
1分子中に2個以上の(メタ)アクリロイル基を有するオルガノポリシロキサン(g)と、
熱重合開始剤および/または光重合開始剤(h)と、
を含有する請求項1〜3のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物。
The curable silicone resin composition (A) is
Organopolysiloxane (g) having two or more (meth) acryloyl groups in one molecule;
A thermal polymerization initiator and / or a photopolymerization initiator (h);
The silicone resin composition according to any one of claims 1 to 3, comprising:
前記硬化性シリコーン樹脂組成物(A)が、
エポキシ基を有するオルガノポリシロキサン(i)を含有する、請求項1〜4のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物。
The curable silicone resin composition (A) is
The silicone resin composition in any one of Claims 1-4 containing the organopolysiloxane (i) which has an epoxy group.
銀を含む部材と、
前記部材を覆う、請求項1〜5のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物を硬化させて得られるシリコーン樹脂層と、
を備えるシリコーン樹脂含有構造体。
A member containing silver;
A silicone resin layer obtained by curing the silicone resin composition according to any one of claims 1 to 5, which covers the member;
A silicone resin-containing structure comprising:
凹部を有する枠体と、
前記凹部の底部に配置された光半導体素子と、
前記凹部の内側面に配置された銀を含む部材と、
前記凹部に充填されて前記光半導体素子と前記部材とを封止する、請求項1〜5のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物を硬化させて得られる封止材と、
を備える光半導体素子封止体。
A frame having a recess;
An optical semiconductor element disposed at the bottom of the recess;
A member containing silver disposed on the inner surface of the recess;
A sealing material obtained by curing the silicone resin composition according to any one of claims 1 to 5, which is filled in the concave portion and seals the optical semiconductor element and the member;
An optical semiconductor element sealing body comprising:
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