JP5914991B2 - Heat curable silicone resin composition - Google Patents

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Description

本発明は加熱硬化性シリコーン樹脂組成物に関する。   The present invention relates to a thermosetting silicone resin composition.

従来、シリコーン樹脂は他の樹脂と比較してガス透過性に優れるため、シリコーン樹脂を含有する組成物(例えば特許文献1)を電子材料に用いた場合、銀メッキ等の貴金属が大気中の硫黄系化合物(例えば硫化水素)によって硫化され変色してしまうという問題があった。   Conventionally, silicone resin is superior in gas permeability compared to other resins. Therefore, when a composition containing a silicone resin (for example, Patent Document 1) is used as an electronic material, noble metals such as silver plating are sulfur in the atmosphere. There is a problem in that it is sulfurized and discolored by a system compound (for example, hydrogen sulfide).

特開2001−200161号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-200161

そこで、本発明は耐硫化性に優れる加熱硬化性シリコーン樹脂組成物を提供することを目的とする。   Then, an object of this invention is to provide the thermosetting silicone resin composition which is excellent in sulfidation resistance.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、(A)シラノール基を有するオルガノポリシロキサンと、(B)アルコキシリル基を有するオルガノポリシロキサンと、(C)縮合触媒とに対して、さらに、チアゾール化合物及び/又はトリアジン化合物を含有するシリコーン樹脂組成物が耐硫化性に優れることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has found that (A) an organopolysiloxane having a silanol group, (B) an organopolysiloxane having an alkoxylyl group, and (C) a condensation catalyst. Furthermore, the present inventors have found that a silicone resin composition containing a thiazole compound and / or a triazine compound is excellent in sulfidation resistance, and completed the present invention.

すなわち、本発明は、下記1〜12を提供する。
1. (A)シラノール基を有するオルガノポリシロキサン、
(B)アルコキシリル基を有するオルガノポリシロキサン、
(C)縮合触媒、並びに
(D)チアゾール化合物及び/又はトリアジン化合物を含有する加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
2. 前記(D)成分が2−メルカプトベンゾチアゾールを少なくとも含む上記1に記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
3. 前記(C)縮合触媒がAl、Zn、Sn、Zr、Hf、Tiおよびランタノイドからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む金属化合物である上記1または2に記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
4. 前記(C)成分がZnの金属塩化合物とSnの金属塩化合物および/またはランタノイドの金属塩化合物とを少なくとも含み、前記Znの金属塩化合物に対する、前記Snの金属塩化合物および/またはランタノイドの金属塩化合物の重量比が1以下である上記1〜3のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
5. 前記(A)成分が、
下記式(1)で表されるジオルガノポリシロキサン、および/または、
3SiO1/2単位(式中のRはそれぞれ非置換または置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基である。)及びSiO4/2単位を繰り返し単位で前記SiO4/2単位1モルに対し前記R3SiO1/2単位の割合が0.5モル〜1.2モルで有し、かつ前記シラノール基を6.0質量%未満有するシリコーンレジンを含む上記1〜4のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。

[式(1)中、R1は同一のまたは異なる、アルキル基、アリール基であり、nは10以上の整数である。]
6. 前記(D)成分の量が、前記(A)成分および前記(B)成分の合計100質量部に対して0.01〜10質量部である上記1〜5のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
7. 前記(C)成分の量が、前記(A)成分および前記(B)成分の合計100質量部に対して0.001〜10質量部である上記1〜6のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
8. 前記(B)成分の量が、前記(A)成分100質量部に対して0.1〜5000質量部である上記1〜7のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
9. さらに(E)成分として、ビス(アルコキシシリル)アルカン、ビス(アルコキシシリルアルキル)アミンおよびイソシアヌレート化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有する上記1〜8のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
10. 前記(E)成分の量が、前記(A)成分および前記(B)成分の合計100質量部に対して0.1〜10質量部である上記9に記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
11. 前記シリコーンレジンが、さらに、SiO4/2単位1モルに対しR2SiO2/2単位(式中のRはそれぞれ非置換または置換のアリル基、アルキル基、アリール基である。)およびRSiO3/2単位(式中のRはそれぞれ非置換または置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基である。)のうち少なくとも1つを前記R2SiO2/2単位、前記RSiO3/2単位がそれぞれ1.0モル以下で、前記R2SiO2/2単位、前記RSiO3/2単位の合計が1.0モル以下となるように有する請求項5〜10のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
12. 上記1〜11のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物が光半導体を封止してなる光半導体封止体。
That is, this invention provides the following 1-12.
1. (A) an organopolysiloxane having a silanol group,
(B) an organopolysiloxane having an alkoxylyl group,
(C) A condensation catalyst, and (D) a thermosetting silicone resin composition containing a thiazole compound and / or a triazine compound.
2. 2. The thermosetting silicone resin composition according to 1 above, wherein the component (D) contains at least 2-mercaptobenzothiazole.
3. 3. The thermosetting silicone resin composition according to 1 or 2 above, wherein the condensation catalyst (C) is a metal compound containing at least one selected from the group consisting of Al, Zn, Sn, Zr, Hf, Ti, and a lanthanoid.
4). The component (C) includes at least a metal salt compound of Zn, a metal salt compound of Sn and / or a metal salt compound of lanthanoid, and the metal salt compound of Sn and / or lanthanoid metal with respect to the metal salt compound of Zn 4. The thermosetting silicone resin composition according to any one of 1 to 3, wherein the salt compound has a weight ratio of 1 or less.
5. The component (A) is
Diorganopolysiloxane represented by the following formula (1), and / or
R 3 (R in the formula are each an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.) SiO 1/2 units and said SiO 4/2 repeating units of SiO 4/2 units 1 to 4 above containing a silicone resin having a ratio of the R 3 SiO 1/2 unit of 0.5 mol to 1.2 mol with respect to 1 mol of the unit and having less than 6.0% by mass of the silanol group. The heat-curable silicone resin composition according to any one of the above.

[In Formula (1), R 1 is the same or different alkyl group and aryl group, and n is an integer of 10 or more. ]
6). The thermosetting property in any one of said 1-5 whose quantity of said (D) component is 0.01-10 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of said (A) component and said (B) component. Silicone resin composition.
7). The thermosetting property in any one of said 1-6 whose quantity of the said (C) component is 0.001-10 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of the said (A) component and the said (B) component. Silicone resin composition.
8). The thermosetting silicone resin composition according to any one of 1 to 7, wherein the amount of the component (B) is 0.1 to 5000 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A).
9. Furthermore, the thermosetting property in any one of said 1-8 containing at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of bis (alkoxy silyl) alkane, bis (alkoxy silyl alkyl) amine, and an isocyanurate compound as (E) component. Silicone resin composition.
10. 10. The thermosetting silicone resin composition according to 9, wherein the amount of the component (E) is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the component (A) and the component (B).
11 The silicone resin further contains R 2 SiO 2/2 units (wherein R is an unsubstituted or substituted allyl group, alkyl group or aryl group, respectively) and RSiO 3 with respect to 1 mol of SiO 4/2 units. / 2 units (wherein each R is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms) is at least one of the R 2 SiO 2/2 unit, the RSiO 3 / The two units are each 1.0 mol or less, and the total of the R 2 SiO 2/2 unit and the RSiO 3/2 unit is 1.0 mol or less. Heat curable silicone resin composition.
12 The optical semiconductor sealing body formed by sealing the optical semiconductor with the thermosetting silicone resin composition according to any one of 1 to 11 above.

本発明の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物は耐硫化性に優れる。
本発明の光半導体封止体は耐硫化性に優れる。
The heat-curable silicone resin composition of the present invention is excellent in sulfidation resistance.
The sealed optical semiconductor of the present invention is excellent in sulfidation resistance.

図1は本発明における積層体の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a laminate in the present invention. 図2は本発明における積層体の別の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing another example of the laminate in the present invention. 図3は本発明の光半導体封止体の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of the sealed optical semiconductor of the present invention. 図4は本発明の光半導体封止体の別の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing another example of the sealed optical semiconductor of the present invention. 図5は本発明の光半導体封止体の別の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing another example of the sealed optical semiconductor of the present invention. 図6は本発明の組成物および/または本発明の光半導体封止体を用いたLED表示器の一例を模式的に示す図である。FIG. 6 is a diagram schematically showing an example of an LED display using the composition of the present invention and / or the sealed optical semiconductor of the present invention.

本発明について以下詳細に説明する。まず本発明の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物について説明する。本発明の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物(本発明の組成物)は、(A)シラノール基を有するオルガノポリシロキサン、(B)アルコキシリル基を有するオルガノポリシロキサン、(C)縮合触媒、並びに(D)チアゾール化合物及び/又はトリアジン化合物を含有する加熱硬化性シリコーン樹脂組成物である。   The present invention will be described in detail below. First, the thermosetting silicone resin composition of the present invention will be described. The thermosetting silicone resin composition of the present invention (the composition of the present invention) comprises (A) an organopolysiloxane having a silanol group, (B) an organopolysiloxane having an alkoxyl group, (C) a condensation catalyst, and ( D) A thermosetting silicone resin composition containing a thiazole compound and / or a triazine compound.

本発明の組成物に含有される(A)シラノール基を有するオルガノポリシロキサン[オルガノポリシロキサン(A)]は、シラノール基を1分子中に1個以上、好ましくは2個以上有するオルガノポリシロキサンである。
オルガノポリシロキサン(A)が有する炭化水素基としては特に限定されず、例えば、フェニル基などの芳香族基(アリール基);アルキル基;アルケニル基等が挙げられる。
オルガノポリシロキサン(A)の主鎖は、直鎖状、分岐状、または、網目状のいずれであってもよい。
The organopolysiloxane (A) having a silanol group (organopolysiloxane (A)) contained in the composition of the present invention is an organopolysiloxane having at least one silanol group, preferably at least two in one molecule. is there.
The hydrocarbon group that the organopolysiloxane (A) has is not particularly limited, and examples thereof include an aromatic group (aryl group) such as a phenyl group; an alkyl group; an alkenyl group.
The main chain of the organopolysiloxane (A) may be linear, branched, or network.

オルガノポリシロキサン(A)は、室温安定性、加熱硬化性、耐熱性に優れるという観点から、下記式(1)で表されるジオルガノポリシロキサン、および/または、R3SiO1/2単位(式中のRはそれぞれ非置換または置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基である。)及びSiO4/2単位を繰り返し単位でSiO4/2単位1モルに対しR3SiO1/2単位の割合が0.5モル〜1.2モルで有し、かつシラノール基を6.0質量%未満有するシリコーンレジンを含むのが好ましい。

式(1)中、R1は同一のまたは異なる、アルキル基、アリール基であり、nは10以上の整数とすることができる。アルキル基は炭素数1〜18、アリール基は炭素数6〜18とすることができる。式(1)で表されるジオルガノポリシロキサンは鎖状である。
The organopolysiloxane (A) is a diorganopolysiloxane represented by the following formula (1) and / or R 3 SiO 1/2 unit (from the viewpoint of excellent room temperature stability, heat curability, and heat resistance. In the formula, each R is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.) And R 4 SiO 2/2 units as repeating units, and R 3 SiO 1 per 1 mol of SiO 4/2 units. It is preferable to include a silicone resin having a / 2 unit ratio of 0.5 mol to 1.2 mol and having a silanol group of less than 6.0 mass%.

In formula (1), R 1 is the same or different alkyl group or aryl group, and n can be an integer of 10 or more. The alkyl group can have 1 to 18 carbon atoms, and the aryl group can have 6 to 18 carbon atoms. The diorganopolysiloxane represented by the formula (1) is a chain.

式(1)において、R1が示すアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基などの直鎖状または分岐状のアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;等が挙げられる。R1が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。なかでも、メチル基、フェニル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
式(1)中、nは、オルガノポリシロキサン(A)の重量平均分子量に対応する数値とすることができ、10〜15,000の整数であるのが好ましい。
In the formula (1), examples of the alkyl group represented by R 1 include linear or branched groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, and tert-butyl group. An alkyl group; a cycloalkyl group such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group; and the like. Examples of the aryl group represented by R 1 include a phenyl group and a naphthyl group. Of these, a methyl group and a phenyl group are preferable, and a methyl group is more preferable.
In formula (1), n can be made into the numerical value corresponding to the weight average molecular weight of organopolysiloxane (A), and it is preferable that it is an integer of 10-15,000.

オルガノポリシロキサン(A)としての、シリコーンレジンは、R3SiO1/2単位(式中のRはそれぞれ非置換または置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基である。)及びSiO4/2単位を有することができる。R3SiO1/2単位及びSiO4/2単位を有することができるシリコーンレジンとしては、例えば、MQレジン、MTレジン、MTQレジン、MDTレジン、MDTQレジンが挙げられる。
オルガノポリシロキサン(A)としての、シリコーンレジンは、R3SiO1/2単位(式中のRはそれぞれ非置換または置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基である。)及びSiO4/2単位を繰り返し単位でSiO4/2単位1モルに対しR3SiO1/2単位の割合が0.5モル〜1.2モルで有するのが好ましい。また、シリコーンレジンは、シラノール基を6.0質量%未満有するのが好ましい。
As the organopolysiloxane (A), the silicone resin includes R 3 SiO 1/2 units (wherein R is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms) and SiO. You can have 4/2 units. Examples of the silicone resin that can have R 3 SiO 1/2 units and SiO 4/2 units include MQ resin, MT resin, MTQ resin, MDT resin, and MDTQ resin.
As the organopolysiloxane (A), the silicone resin includes R 3 SiO 1/2 units (wherein R is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms) and SiO. It is preferable that the ratio of R 3 SiO 1/2 units is 0.5 mol to 1.2 mol with respect to 1 mol of SiO 4/2 units in terms of repeating units of 4/2 units. Moreover, it is preferable that a silicone resin has less than 6.0 mass% of silanol groups.

シリコーンレジンにおいて、R3SiO1/2単位中のRとしては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソ−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などのアルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基などのアルケニル基;フェニル基などのアリール基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、1−クロロ−2−メチルプロピル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基などのハロゲン化アルキル基;等が挙げられ、中でも、メチル基、ビニル基、フェニル基であるのが好ましく、メチル基であるのがより好ましい。 In the silicone resin, R in the R 3 SiO 1/2 unit includes, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, iso-butyl group, tert-butyl group, pentyl group. Alkyl groups such as hexyl group; cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group; aryl groups such as phenyl group; And halogenated alkyl groups such as a methyl group, a 3-chloropropyl group, a 1-chloro-2-methylpropyl group, and a 3,3,3-trifluoropropyl group; among others, a methyl group, a vinyl group, and a phenyl group It is preferably a group, and more preferably a methyl group.

シリコーンレジンにおいて、SiO4/2単位1モルに対するR3SiO1/2単位の割合は、0.5〜1.2モルであり、好ましくは0.65〜1.15モルである。R3SiO1/2単位の割合がこの範囲であれば、本発明の組成物の硬化物は、強度が適切となり、また、透明性にも優れる。 In the silicone resin, the ratio of R 3 SiO 1/2 units to 1 mol of SiO 4/2 units is 0.5 to 1.2 mol, preferably 0.65 to 1.15 mol. If the ratio of R 3 SiO 1/2 units is within this range, the cured product of the composition of the present invention has appropriate strength and excellent transparency.

またシリコーンレジンはシラノール基を有する。シリコーンレジンが有するシラノール基の量はシリコーンレジンの6.0質量%未満であるのが室温安定性に優れるという観点から好ましい。シラノール基の含有量は、0.1重量%以上が好ましく、0.2〜3.0重量%がより好ましい。シラノール基の含有量がこの範囲であれば、本発明の組成物の硬化物の硬さが適切となって接着性が良好となり、また、強度も適切となる。   Silicone resins have silanol groups. The amount of silanol groups contained in the silicone resin is preferably less than 6.0% by mass of the silicone resin from the viewpoint of excellent room temperature stability. The content of silanol groups is preferably 0.1% by weight or more, and more preferably 0.2 to 3.0% by weight. When the content of the silanol group is within this range, the hardness of the cured product of the composition of the present invention is appropriate, the adhesiveness is good, and the strength is also appropriate.

シリコーンレジンは、耐熱、耐光性に優れるという観点から、さらに、R2SiO2/2単位(式中のRはそれぞれ非置換または置換のアリル基、アルキル基、アリール基である。)およびRSiO3/2単位(式中のRはそれぞれ非置換または置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基である。非置換または置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基は上記と同様である。)のうち少なくとも1つをまたは両方を有するのが好ましい。シリコーンレジンは、耐熱、耐光性に優れるという観点から、SiO4/2単位1モルに対しR2SiO2/2単位およびRSiO3/2単位のうち少なくとも1つを前記R2SiO2/2単位、前記RSiO3/2単位がそれぞれ1.0モル以下で、前記R2SiO2/2単位、前記RSiO3/2単位の合計が1.0モル以下となるように有するのが好ましい。より好ましくは、R2SiO2/2単位およびRSiO3/2単位の各単位が0.2〜0.8モルで各単位の合計が1.0モル以下である。このようは配合割合であれば、本発明の組成物は、透明性に優れる。このような配合割合の具体例としては、SiO4/2単位1モルに対し、R2SiO2/2単位0.2モルとRSiO3/2単位0.7モルとの組み合わせが挙げられる。 From the viewpoint of excellent heat resistance and light resistance, the silicone resin further has R 2 SiO 2/2 units (wherein R is an unsubstituted or substituted allyl group, alkyl group or aryl group, respectively) and RSiO 3. / 2 unit (wherein each R is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. The unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms is as defined above. As well as at least one or both. Silicone resin, heat, from the viewpoint of excellent light resistance, the R 2 SiO 2/2 units at least one of R 2 SiO 2/2 units and RSiO 3/2 units to SiO 4/2 units 1 mole The RSiO 3/2 unit is preferably 1.0 mol or less, and the total of the R 2 SiO 2/2 unit and the RSiO 3/2 unit is preferably 1.0 mol or less. More preferably, each unit of R 2 SiO 2/2 units and RSiO 3/2 units is 0.2 to 0.8 mol, and the total of each unit is 1.0 mol or less. Thus, if it is a mixture ratio, the composition of this invention is excellent in transparency. Specific examples of such a blending ratio include a combination of 0.2 mol of R 2 SiO 2/2 units and 0.7 mol of RSiO 3/2 units with respect to 1 mol of SiO 4/2 units.

(A)成分として、式(1)で表されるジオルガノポリシロキサンと、R3SiO1/2単位及びSiO4/2単位を有するシリコーンレジンとを併用する場合、R3SiO1/2単位及びSiO4/2単位を有するシリコーンレジンの量は、物性、作業性に優れるという観点から、式(1)で表されるジオルガノポリシロキサン100質量部に対して、200〜10質量部であるのが好ましく、150〜50質量部であるのがより好ましい。 When the diorganopolysiloxane represented by the formula (1) and a silicone resin having R 3 SiO 1/2 units and SiO 4/2 units are used in combination as the component (A), R 3 SiO 1/2 units The amount of the silicone resin having a SiO 4/2 unit is 200 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the diorganopolysiloxane represented by the formula (1) from the viewpoint of excellent physical properties and workability. Is preferable, and it is more preferable that it is 150-50 mass parts.

オルガノポリシロキサン(A)の製造方法については特に限定されず、例えば従来公知の製造方法を用いることができる。
オルガノポリシロキサン(A)の分子量は、1,000〜1,000,000であるのが好ましく、1000〜100,000であるのがより好ましい。
なお、本発明において、オルガノポリシロキサン(A)の分子量は、クロロホルムを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
オルガノポリシロキサン(A)は1種単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
The method for producing the organopolysiloxane (A) is not particularly limited, and for example, a conventionally known production method can be used.
The molecular weight of the organopolysiloxane (A) is preferably 1,000 to 1,000,000, and more preferably 1000 to 100,000.
In the present invention, the molecular weight of the organopolysiloxane (A) is a weight average molecular weight in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) using chloroform as a solvent.
Organopolysiloxane (A) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

本発明の組成物は加熱硬化性に優れるという観点から(B)アルコキシリル基を有するオルガノポリシロキサン[オルガノポリシロキサン(B)]を含有する。本発明の組成物に含有されるオルガノポリシロキサン(B)は、1分子中に1個以上、好ましくは2個以上のアルコキシシリル基を有するオルガノポリシロキサンである。オルガノポリシロキサン(B)が有する炭化水素基としては特に限定されず、例えば、オルガノポリシロキサン(A)と同様のものが挙げられる。オルガノポリシロキサン(B)の主鎖は、直鎖状、分岐状、または、網目状のいずれであってもよい。   The composition of this invention contains (B) organopolysiloxane [organopolysiloxane (B)] which has an alkoxyl group from a viewpoint that it is excellent in heat-hardening property. The organopolysiloxane (B) contained in the composition of the present invention is an organopolysiloxane having one or more, preferably two or more alkoxysilyl groups in one molecule. It does not specifically limit as a hydrocarbon group which organopolysiloxane (B) has, For example, the thing similar to organopolysiloxane (A) is mentioned. The main chain of the organopolysiloxane (B) may be linear, branched, or network.

オルガノポリシロキサン(B)としては、例えば、メチルメトキシオリゴマーなどのシリコーンアルコキシオリゴマーが挙げられる。シリコーンアルコキシオリゴマーは、主鎖がオルガノポリシロキサンであり、分子末端がアルコキシシリル基で封鎖されたシリコーンレジンである。メチルメトキシオリゴマーとしては、例えば、下記式(b2−2)で表される化合物が挙げられる。   Examples of the organopolysiloxane (B) include silicone alkoxy oligomers such as methylmethoxy oligomer. The silicone alkoxy oligomer is a silicone resin whose main chain is an organopolysiloxane and whose molecular ends are blocked with alkoxysilyl groups. As a methyl methoxy oligomer, the compound represented by a following formula (b2-2) is mentioned, for example.

式(b2−2)中、R9はメチル基を示し、aは1〜100の整数を示し、bは0〜100の整数を示す。
メチルメトキシオリゴマーは、市販品を使用することができ、例えば、x−40−9246(重量平均分子量:6000、信越化学工業社製)が挙げられる。
In formula (b2-2), R 9 represents a methyl group, a represents an integer of 1 to 100, and b represents an integer of 0 to 100.
A commercially available product can be used as the methyl methoxy oligomer, and examples thereof include x-40-9246 (weight average molecular weight: 6000, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

式(b2−2)で表される化合物の具体例としては、例えば、下記式(b2−1)で表される化合物が挙げられる。
7 mSi(OR8n(4-m-n)/2 (b2−1)
式(b2−1)中、R7は有機基であり、R8はアルキル基であり、mは0<m<2、nは0<n<2、m+nは0<m+n≦3である。
7が示す有機基は、例えば、酸素原子、窒素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる少なくとも1種のヘテロ原子を含んでもよい炭化水素基が挙げられ、具体例としては、アルキル基(炭素数1〜6のものが好ましい。)、(メタ)アクリレート基、アルケニル基、アリール基、これらの組合せ等が挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチルアリル基等が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。これらのうち、メチル基、(メタ)アクリレート基、(メタ)アクリロキシアルキル基が好ましい。
8が示すアルキル基は、R7が示す有機基としてのアルキル基として記載したものと同義である。
Specific examples of the compound represented by the formula (b2-2) include a compound represented by the following formula (b2-1).
R 7 m Si (OR 8 ) n O (4-mn) / 2 (b2-1)
In formula (b2-1), R 7 is an organic group, R 8 is an alkyl group, m is 0 <m <2, n is 0 <n <2, and m + n is 0 <m + n ≦ 3.
Examples of the organic group represented by R 7 include a hydrocarbon group that may contain at least one heteroatom selected from the group consisting of an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom. Specific examples thereof include an alkyl group (carbon 1 to 6 are preferable.), (Meth) acrylate groups, alkenyl groups, aryl groups, combinations thereof, and the like. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a 2-methyl-1-propenyl group, and a 2-methylallyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Of these, a methyl group, a (meth) acrylate group, and a (meth) acryloxyalkyl group are preferable.
The alkyl group represented by R 8 has the same meaning as described as the alkyl group as the organic group represented by R 7 .

また、オルガノポリシロキサン(B)としては、メチルメトキシオリゴマー[例えば式(b2−2)で表される化合物]の他に、例えば、少なくとも片末端にアルコキシシリル基を有し、1分子中に3個以上のアルコキシ基(アルコキシシリル基由来のもの)を有する化合物(以下「オルガノポリシロキサン(b3)」ともいう)が挙げられる。
オルガノポリシロキサン(b3)は、例えば、両末端シラノール基を有するポリシロキサン1モルに対してアルコキシリル基を有するシラン化合物1モル以上を脱アルコール縮合した反応物として得ることができる。
オルガノポリシロキサン(b3)を製造するために使用される、両末端シラノール基を有するポリシロキサンとしては、例えば、両末端にシラノール基を有するジアルキルポリシロキサン(具体的には例えば、両末端にシラノール基を有するジメチルポリシロキサン)が挙げられる。
オルガノポリシロキサン(b3)を製造するために使用される、アルコキシ基を有するシラン化合物としては、例えば、下記式(b1)で表される化合物、その加水分解縮合物、上述の式(b2−1)で表される化合物等が挙げられる。
In addition to the methylmethoxy oligomer [for example, the compound represented by the formula (b2-2)], the organopolysiloxane (B) has, for example, an alkoxysilyl group at least at one end and 3 per molecule. And a compound having at least one alkoxy group (derived from an alkoxysilyl group) (hereinafter also referred to as “organopolysiloxane (b3)”).
The organopolysiloxane (b3) can be obtained, for example, as a reaction product obtained by dealcoholization condensation of 1 mol or more of a silane compound having an alkoxylyl group with respect to 1 mol of a polysiloxane having both terminal silanol groups.
Examples of the polysiloxane having silanol groups at both ends used for producing the organopolysiloxane (b3) include dialkyl polysiloxanes having silanol groups at both ends (specifically, for example, silanol groups at both ends). Dimethylpolysiloxane).
Examples of the silane compound having an alkoxy group used for producing the organopolysiloxane (b3) include a compound represented by the following formula (b1), a hydrolysis condensate thereof, and the above-described formula (b2-1). ) And the like.

Si(OR5n6 4-n (b1)
式(b1)中、nは2,3または4を示し、R5はアルキル基を示し、R6は有機基を示す。R6が示す有機基は、オルガノポリシロキサン(B)が有することができる有機基として記載したものと同義である。
Si (OR 5 ) n R 6 4-n (b1)
In the formula (b1), n represents 2, 3 or 4, R 5 represents an alkyl group, and R 6 represents an organic group. The organic group represented by R 6 has the same meaning as that described as the organic group that the organopolysiloxane (B) can have.

式(b1)で表される化合物としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランなどのジアルコキシシラン;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシラン;テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロピルオキシシランなどのテトラアルコキシシラン;γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシランなどの(メタ)アクリロキシアルキルトリアルコキシシラン;等が挙げられる。
なお、(メタ)アクリロキシトリアルコキシシランは、アクリロキシトリアルコキシシランまたはメタクリロキシトリアルコキシシランであることを意味する。(メタ)アクリレート基、(メタ)アクリロキシアルキル基についても同様である。
Examples of the compound represented by the formula (b1) include dialkoxysilanes such as dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, and diphenyldiethoxysilane; methyltrimethoxysilane , Trialkoxysilanes such as methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane; tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropyloxysilane; γ -(Meth) acryloxyalkyltrialkoxy such as (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane Silane; and the like.
Note that (meth) acryloxytrialkoxysilane means acryloxytrialkoxysilane or methacryloxytrialkoxysilane. The same applies to (meth) acrylate groups and (meth) acryloxyalkyl groups.

オルガノポリシロキサン(b3)としては、例えば、下記式(b3−1)で表されるものが挙げられる。
As organopolysiloxane (b3), what is represented by a following formula (b3-1) is mentioned, for example.

式(b3−1)中、nは、オルガノポリシロキサン(b3)の分子量に対応する数値とすることができる。
式(b3−1)で表される化合物は、例えば、両末端にシラノール基を有するポリシロキサンを、テトラメトキシシラン(式(b1)で表される化合物に相当する)で変性することによって製造することができる。
In formula (b3-1), n can be a numerical value corresponding to the molecular weight of the organopolysiloxane (b3).
The compound represented by the formula (b3-1) is produced, for example, by modifying polysiloxane having silanol groups at both ends with tetramethoxysilane (corresponding to the compound represented by the formula (b1)). be able to.

オルガノポリシロキサン(B)としては、式(b2−1)で表されるもの、式(b3−1)で表されるもの、アルコキシシランの加水分解縮合物で封鎖されたジオルガノポリシロキサンが好ましい。   As the organopolysiloxane (B), those represented by the formula (b2-1), those represented by the formula (b3-1), and diorganopolysiloxane blocked with a hydrolysis condensate of alkoxysilane are preferable. .

オルガノポリシロキサン(B)の分子量は、500〜1000,000であるのが好ましく、1,000〜100,000であるのがより好ましい。なお、オルガノポリシロキサン(B)の分子量は、クロロホルムを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量であるものとする。   The molecular weight of the organopolysiloxane (B) is preferably 500 to 1,000,000, and more preferably 1,000 to 100,000. In addition, the molecular weight of organopolysiloxane (B) shall be the weight average molecular weight of polystyrene conversion by the gel permeation chromatography (GPC) which uses chloroform as a solvent.

オルガノポリシロキサン(B)の製造方法としては、特に限定されず、例えば、従来公知のものが挙げられる。
化合物(B)は、1種単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。
オルガノポリシロキサン(B)の量は、加熱硬化性に優れるという観点から、オルガノポリシロキサン(A)100質量部に対して、0.1〜5000質量部であるのが好ましく、0.5〜5000質量部であるのがより好ましく、5〜1,000質量部であるのがさらに好ましい。
It does not specifically limit as a manufacturing method of organopolysiloxane (B), For example, a conventionally well-known thing is mentioned.
A compound (B) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
The amount of the organopolysiloxane (B) is preferably 0.1 to 5000 parts by mass, preferably 0.5 to 5000 parts per 100 parts by mass of the organopolysiloxane (A) from the viewpoint of excellent heat curability. More preferably, it is 5 parts by mass, and even more preferably 5 to 1,000 parts by mass.

本発明の組成物に含有される(C)縮合触媒は、シラノール基、加水分解性シリル基の縮合に使用される触媒であれば特に制限されない。
(C)縮合触媒は、金属の、塩;錯体;アルコラート;酸化物;多元金属酸化物、これらの塩および/または錯体;これらの組み合わせとすることができる。(C)縮合触媒は金属塩化合物であるのが室温安定性、硬化性に優れるという観点から好ましい。
(C)縮合触媒は、金属(例えば、Al、Zn、Sn、Zr、Hf、Tiおよびランタノイドからなる群から選ばれる少なくとも1種)と有機基とを有する化合物とすることができる。金属は、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を介して、および/または、エステル結合のような結合基を介して、有機基と結合することができる。有機基は、脂肪族炭化水素基(鎖状、分岐状、環状、これらの組み合わせを含む。脂肪族炭化水素基は不飽和結合を有することができる。)、芳香族炭化水素基、これらの組み合わせが挙げられる。有機基は例えば酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を有することができる。有機基としては、例えば、有機カルボキシレート(−O−CO−R);アルコキシ基、フェノキシ基のような、炭化水素基がオキシ基と結合したのもの(−O−R);配位子;これらの組み合わせが挙げられる。
(C)縮合触媒は、硬化性、室温安定性に優れるという観点から、Al、Zn、Sn、Zr、Hf、Tiおよびランタノイドからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む金属化合物であるのが好ましく、金属塩化合物であるのがより好ましい。
The (C) condensation catalyst contained in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a catalyst used for condensation of silanol groups and hydrolyzable silyl groups.
(C) The condensation catalyst can be a metal salt; complex; alcoholate; oxide; multi-metal oxide, salt and / or complex thereof; (C) The condensation catalyst is preferably a metal salt compound from the viewpoint of excellent room temperature stability and curability.
(C) The condensation catalyst can be a compound having a metal (for example, at least one selected from the group consisting of Al, Zn, Sn, Zr, Hf, Ti, and a lanthanoid) and an organic group. The metal can be bonded to the organic group, for example, through a heteroatom such as an oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom, and / or via a linking group such as an ester bond. The organic group includes an aliphatic hydrocarbon group (including chain, branched, cyclic, and combinations thereof. The aliphatic hydrocarbon group can have an unsaturated bond), aromatic hydrocarbon groups, and combinations thereof Is mentioned. The organic group can have a hetero atom such as an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom. Examples of the organic group include an organic carboxylate (—O—CO—R); an alkoxy group or a phenoxy group in which a hydrocarbon group is bonded to an oxy group (—O—R); a ligand; These combinations are mentioned.
(C) The condensation catalyst is preferably a metal compound containing at least one selected from the group consisting of Al, Zn, Sn, Zr, Hf, Ti and a lanthanoid from the viewpoint of excellent curability and room temperature stability. More preferably, it is a metal salt compound.

アルミニウム化合物としては、例えば、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレートのようなアルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブトキシビスエチルアセトアセテート等のアルミニウムキレート;
オクチル酸アルミニウム、環状のアルミニウムオキサイドを含有する化合物(例えば、下記式(7)で表される化合物が挙げられる。)、アルミニウムトリアセテート、アルミニウムトリステアレートのようなアルミニウム塩;
アルミニウムsec−ブチラート、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルコキシアリールアルミネートのようなアルミニウムアルコラートが挙げられる。
Examples of the aluminum compound include aluminum such as tris (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, alkylacetoacetate aluminum diisopropylate such as ethylacetoacetate aluminum diisopropylate, and aluminum butoxybisethylacetoacetate. Chelate;
Aluminum salts such as aluminum octylate, compounds containing cyclic aluminum oxide (for example, compounds represented by the following formula (7)), aluminum triacetate, aluminum tristearate;
Aluminum alcoholates such as aluminum sec-butylate, aluminum triethoxide, aluminum triisopropoxide, alkoxyaryl aluminates.

亜鉛化合物(亜鉛の金属塩化合物)としては例えば、下記式(1)、式(2)で表されるもの;酸化亜鉛、炭酸亜鉛、水酸化亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛および硝酸亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種:1モルに対して酸を1.5モル以上2モル未満反応させることによって得られるものが挙げられる。

式(1)中、R1が炭素数1〜18のアルキル基、アリール基である。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基が挙げられる。アリール基としては例えば、フェニル基、ナフチル基、アズレンが挙げられる。
Examples of the zinc compound (metal salt compound of zinc) include those represented by the following formula (1) and formula (2); group consisting of zinc oxide, zinc carbonate, zinc hydroxide, zinc chloride, zinc sulfate and zinc nitrate One obtained from reacting an acid with 1.5 mol or more and less than 2 mol with respect to 1 mol of at least one selected from:

In formula (1), R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group.
Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, pentyl, hexyl, octyl, 2-ethylhexyl, nonyl, decyl, and undecyl. . Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, and azulene.

式(2)で表される亜鉛化合物は以下のとおりである。

式(2)中、R2、R3は同一または異なる炭素数1〜18の1価の炭化水素基、アルコキシ基である。式(2)中、同一の(R2COCHCOR3)内にあるR2、R3は入れ替わっていてもよい。
炭素数1〜18の1価の炭化水素基としては例えば炭素数1〜18のアルキル基、アリール基が挙げられる。炭素数1〜18のアルキル基、アリール基は上記と同義である。
アルコキシ基としては例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が挙げられる。
The zinc compound represented by Formula (2) is as follows.

In formula (2), R 2 and R 3 are the same or different monovalent hydrocarbon groups having 1 to 18 carbon atoms and alkoxy groups. In formula (2), R 2 and R 3 in the same (R 2 COCHCOR 3 ) may be interchanged.
Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms include an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms and an aryl group. A C1-C18 alkyl group and an aryl group are synonymous with the above.
Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, and a propoxy group.

亜鉛化合物(亜鉛の金属塩化合物)としては、例えば、亜鉛アセテート、亜鉛アセチルアセテート、2−エチルヘキサン酸亜鉛、オクチル酸亜鉛、ネオデカン酸亜鉛、ラウリン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛のような脂肪族カルボン酸亜鉛、ナフテン酸亜鉛のような脂環式カルボン酸亜鉛、安息香酸亜鉛、p−tert−ブチル安息香酸亜鉛、亜鉛サリチレートのような芳香族カルボン酸亜鉛等のカルボン酸塩;亜鉛(メタ)アクリレート;亜鉛アセチルアセトナート[Zn(II)アセチルアセトナート、Zn(acac)2]、2,2,6,6−テトラメチル−3,5−ヘプタンジオネートZnのような亜鉛キレートが挙げられる。 Examples of zinc compounds (zinc metal salt compounds) include aliphatic carboxylic acids such as zinc acetate, zinc acetyl acetate, zinc 2-ethylhexanoate, zinc octylate, zinc neodecanoate, zinc laurate, and zinc stearate. Carboxylates such as zinc, zinc alicyclic carboxylates such as zinc naphthenate, zinc benzoate, zinc p-tert-butylbenzoate, zinc aromatic carboxylates such as zinc salicylate; zinc (meth) acrylates; Zinc chelates such as zinc acetylacetonate [Zn (II) acetylacetonate, Zn (acac) 2 ], 2,2,6,6-tetramethyl-3,5-heptanedionate Zn.

また、亜鉛化合物(亜鉛の金属塩化合物)として、例えば、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、水酸化亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛および硝酸亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種:1モルに対して酸を1.5モル以上2モル未満反応させることによって得られるもの(亜鉛化合物−1)を使用することができる。このような亜鉛化合物を含有することによって耐硫化性により優れ、特に長期的な耐硫化性に優れる。   In addition, as a zinc compound (zinc metal salt compound), for example, at least one selected from the group consisting of zinc oxide, zinc carbonate, zinc hydroxide, zinc chloride, zinc sulfate and zinc nitrate: What is obtained by making it react 1.5 mol or more and less than 2 mol (zinc compound-1) can be used. By containing such a zinc compound, it is excellent in sulfidation resistance, and particularly excellent in long-term sulfidation resistance.

亜鉛化合物−1を製造する際に使用される酸は特に制限されず、無機酸、有機酸[有機カルボン酸:例えばR−(COOH)n(nは1以上の整数である。)が挙げられる。]、これらのエステルのいずれであってもよい。無機酸としては例えば、リン酸、ホウ酸が挙げられる。有機カルボン酸がカルボキシル基以外に有する炭化水素基は特に制限されない。例えば、脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらの組み合わせが挙げられる。有機酸としては例えば、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリル酸、2−エチルヘキサン酸のような炭素原子数2〜30の飽和カルボン酸;(メタ)アクリル酸のような不飽和カルボン酸が挙げられる。酸のエステルにおいてエステルを形成する炭化水素基は特に制限されない。例えば上記と同義のものが挙げられる。酸は、なかでも透明性に優れ、耐硫化性(特に長期にわたる耐硫化性)により優れるという観点から、リン酸、2−エチルヘキサン酸、安息香酸、これらのエステルが好ましい。
本発明において亜鉛化合物−1を製造する際に使用される酸の量は、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、水酸化亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛および硝酸亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種:1モルに対して1.5モル以上2モル未満であるのが好ましい。このような範囲である場合、透明性、耐硫化性(特に長期にわたる耐硫化性)に優れる。酸の量は上記と同様の理由から、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、水酸化亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛および硝酸亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種:1モルに対して、1.5〜1.9モルであるのが好ましく、1.6〜1.8モルであるのがより好ましい。
The acid used in producing the zinc compound-1 is not particularly limited, and examples thereof include inorganic acids and organic acids [organic carboxylic acids: for example, R- (COOH) n (n is an integer of 1 or more)]. . ], Any of these esters. Examples of the inorganic acid include phosphoric acid and boric acid. The hydrocarbon group that the organic carboxylic acid has other than the carboxyl group is not particularly limited. Examples thereof include an aliphatic hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a combination thereof. Examples of the organic acid include a saturated carboxylic acid having 2 to 30 carbon atoms such as stearic acid, palmitic acid, lauric acid, and 2-ethylhexanoic acid; and an unsaturated carboxylic acid such as (meth) acrylic acid. The hydrocarbon group forming the ester in the ester of the acid is not particularly limited. For example, the same thing as the above is mentioned. Among these, phosphoric acid, 2-ethylhexanoic acid, benzoic acid, and esters thereof are preferred from the viewpoint of excellent transparency and superior sulfidation resistance (especially long-term sulfidation resistance).
In the present invention, the amount of the acid used in producing the zinc compound-1 is at least one selected from the group consisting of zinc oxide, zinc carbonate, zinc hydroxide, zinc chloride, zinc sulfate and zinc nitrate: 1 mol. The amount is preferably 1.5 mol or more and less than 2 mol. In such a range, transparency and sulfidation resistance (especially sulfidation resistance over a long period) are excellent. The amount of the acid is 1.5 to 1 with respect to at least one selected from the group consisting of zinc oxide, zinc carbonate, zinc hydroxide, zinc chloride, zinc sulfate and zinc nitrate for the same reason as above. 0.9 mol is preferable, and 1.6 to 1.8 mol is more preferable.

亜鉛化合物−1としては例えば、Zna(O)x(OH)y(−O−CO−R)zで表されるもの、亜鉛を有するリン酸塩、亜鉛を有するホウ酸塩が挙げられる。式中、Rは炭化水素基である。炭化水素基は上記と同義である。Rが複数である場合複数のRは同じでも異なってもよい。また式中、aは1以上(1以上の整数)であり、x、yは0以上(0以上の整数)であり、zは1以上(1以上の整数)であり、z/aは2未満であり、[(2x+y+z)/a]=2である。
亜鉛化合物−1としては具体的には例えば、Zn(OH)(−O−CO−R)、R−CO−O−Zn−O−Zn−O−CO−R;O−Zn−O−P−、Zn−O−Zn−O−P−O−のような亜鉛を有するリン酸塩が挙げられる。
亜鉛化合物−1はxが1以上の場合その構造のなかに例えば−Zn−O−Zn−のような結合を有することができる。このような結合は亜鉛化合物を製造するなかで生成物質が例えば脱水縮合することによって形成されうる。
亜鉛化合物−1は原料である、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、水酸化亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛、硝酸亜鉛;原料である酸を未反応物として含むことができる。
Examples of the zinc compound-1 include those represented by Zn a (O) x (OH) y (—O—CO—R) z , phosphates having zinc, and borates having zinc. In the formula, R is a hydrocarbon group. The hydrocarbon group is as defined above. When there are a plurality of R, the plurality of R may be the same or different. In the formula, a is 1 or more (an integer of 1 or more), x and y are 0 or more (an integer of 0 or more), z is 1 or more (an integer of 1 or more), and z / a is 2 And [(2x + y + z) / a] = 2.
Specific examples of the zinc compound-1 include Zn (OH) (— O—CO—R), R—CO—O—Zn—O—Zn—O—CO—R; O—Zn—O—P. -, The phosphate which has zinc like Zn-O-Zn-OPO-.
When x is 1 or more, the zinc compound-1 can have a bond such as -Zn-O-Zn- in its structure. Such bonds can be formed, for example, by dehydration condensation of the product in the production of zinc compounds.
Zinc compound-1 can contain as raw materials zinc oxide, zinc carbonate, zinc hydroxide, zinc chloride, zinc sulfate, zinc nitrate; and raw acid as unreacted materials.

亜鉛化合物−1は酸化亜鉛、炭酸亜鉛、水酸化亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛および硝酸亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種:1モルに対して酸を1.5モル以上2モル未満反応させること以外はその製造について特に制限されない。例えば、酸化亜鉛、炭酸亜鉛、水酸化亜鉛、塩化亜鉛、硫酸亜鉛および硝酸亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも1種と酸とを室温の条件下においてまたは加熱して撹拌することによって製造することができる。   The zinc compound-1 reacts at least one selected from the group consisting of zinc oxide, zinc carbonate, zinc hydroxide, zinc chloride, zinc sulfate, and zinc nitrate: 1 mol to 1.5 mol or more and less than 2 mol of acid. Except for this, the production is not particularly limited. For example, it can be produced by stirring at least one member selected from the group consisting of zinc oxide, zinc carbonate, zinc hydroxide, zinc chloride, zinc sulfate and zinc nitrate and an acid under room temperature conditions or by heating. it can.

スズ化合物としては、例えば、2価のスズ化合物、4価のスズ化合物が挙げられる。
2価のスズ化合物(2価のスズの金属塩化合物)としては、例えば、ビス(2−エチルヘキサン酸)錫、ビス(ネオデカン酸)錫が挙げられる。
Examples of the tin compound include a divalent tin compound and a tetravalent tin compound.
Examples of the divalent tin compound (divalent tin metal salt compound) include bis (2-ethylhexanoic acid) tin and bis (neodecanoic acid) tin.

4価のスズ化合物(4価のスズの金属塩化合物)としては、例えば、下記式(II)で表されるもの、式(II)で表されるもののビス型、ポリマー型が挙げられる。
3 a−Sn−[O−CO−R44-a (II)
式中、R3はアルキル基であり、R4は炭化水素基であり、aは1〜3の整数である。
アルキル基は炭素原子数1以上のものが挙げられ、具体的には例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、オクチル基が挙げられる。
炭化水素基は特に制限されない。炭化水素基(鎖状、分岐状、環状、これらの組み合わせを含む。)は脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらの組み合わせが挙げられる。炭化水素基の炭素原子数1〜18の整数とすることができ、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−エチルペンチル基、オクチル基が挙げられる。4価のスズ化合物は少なくとも1個のアルキル基と少なくとも1個のエステル結合とを有する4価のスズ化合物が好ましい。
Examples of the tetravalent tin compound (tetravalent tin metal salt compound) include those represented by the following formula (II), bis type and polymer type represented by the formula (II).
R 3 a -Sn- [O-CO -R 4] 4-a (II)
In the formula, R 3 is an alkyl group, R 4 is a hydrocarbon group, and a is an integer of 1 to 3.
Examples of the alkyl group include those having 1 or more carbon atoms, and specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, and an octyl group.
The hydrocarbon group is not particularly limited. Examples of the hydrocarbon group (including chain, branched, cyclic, and combinations thereof) include aliphatic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and combinations thereof. It can be an integer having 1 to 18 carbon atoms of the hydrocarbon group, and examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a 2-ethylpentyl group, and an octyl group. The tetravalent tin compound is preferably a tetravalent tin compound having at least one alkyl group and at least one ester bond.

スズ化合物は、なかでも、硬化性、室温安定性に優れるという観点から、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオレエート、ジブチルスズジラウリレート、ジブチルスズオキシアセテートジブチルスズオキシオクチレート、ジブチルスズオキシラウレートのような4価のスズの金属塩化合物;ビス(2−エチルヘキサン酸)錫のような2価のスズの金属塩化合物が好ましい。   Among these, tin compounds are tetravalent such as dibutyltin diacetate, dibutyltin dioleate, dibutyltin dilaurate, dibutyltin oxyacetate dibutyltin oxyoctylate and dibutyltin oxylaurate from the viewpoint of excellent curability and room temperature stability. A metal salt compound of divalent tin such as bis (2-ethylhexanoic acid) tin is preferred.

ジルコニウム化合物(ジルコニウムの金属塩化合物)は、硬化性に優れ、接着性に優れ、変色しにくい硬化物が得られるという観点から、式(1)で表される化合物[ジルコニル[(Zr=O)2+]を構成要素として含む。]および/または式(2)で表される化合物であるのが好ましい。

式(1)
(式中、R1は炭素原子数1〜18の炭化水素基である。)

式(2)
(式中、R2はそれぞれ炭素原子数1〜16の炭化水素基であり、R3はそれぞれ炭素原子数1〜18の炭化水素基であり、mは1〜3の整数である。)
式(1)、式(2)中の炭化水素基は(C)縮合触媒が有することができる有機基と同義である。
Zirconium compound (zirconium metal salt compound) is a compound represented by formula (1) [zirconyl [(Zr = O)] from the viewpoint of obtaining a cured product having excellent curability, excellent adhesiveness, and hardly discolored. 2+ ] as a component. And / or a compound represented by formula (2).

Formula (1)
(In the formula, R 1 is a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.)

Formula (2)
(In the formula, R 2 is a hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms, R 3 is a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and m is an integer of 1 to 3).
The hydrocarbon group in Formula (1) and Formula (2) has the same meaning as the organic group that (C) the condensation catalyst can have.

式(1)で表されるジルコニウム化合物は脂肪族カルボン酸塩および/または脂環式カルボン酸塩が好ましく、脂環式カルボン酸塩がより好ましい。式(1)で表されるジルコニウム化合物としては例えば、ジオクチル酸ジルコニル、ジネオデカン酸ジルコニルのような脂肪族カルボン酸塩;ナフテン酸ジルコニル、シクロヘキサン酸ジルコニルのような脂環式カルボン酸塩;安息香酸ジルコニルのような芳香族カルボン酸塩が挙げられる。接着性に優れ、変色しにくい硬化物が得られるという観点から、式(1)で表されるジルコニウム化合物は、ジオクチル酸ジルコニルおよびナフテン酸ジルコニルのうちの一方または両方であるのが好ましい。   The zirconium compound represented by the formula (1) is preferably an aliphatic carboxylate and / or an alicyclic carboxylate, and more preferably an alicyclic carboxylate. Examples of the zirconium compound represented by the formula (1) include aliphatic carboxylates such as zirconyl dioctylate and zirconyl dineodecanoate; alicyclic carboxylates such as zirconyl naphthenate and zirconyl cyclohexane; zirconyl benzoate; An aromatic carboxylate such as From the viewpoint of obtaining a cured product that is excellent in adhesion and hardly discolored, the zirconium compound represented by the formula (1) is preferably one or both of zirconyl dioctylate and zirconyl naphthenate.

式(2)で表されるジルコニウム化合物について、式(2)中mが2以上である場合、複数のR2は同じでも異なっていてもよい。また、mが1〜2である場合、複数のR3は同じでも異なっていてもよい。
耐熱着色安定性、相溶性(例えば、シリコーン樹脂に対する相溶性)に優れるという観点から、上記式(2)においてRで表される炭化水素基の炭素原子数は3〜16であるのが好ましく、4〜16であるのがより好ましい。R2で表される炭化水素基は上記と同義である。
The zirconium compound of formula (2), if it is the formula (2) was m is 2 or more, plural R 2 may be the same or different. Moreover, when m is 1-2, several R < 3 > may be the same or different.
From the viewpoint of excellent heat-resistant coloring stability and compatibility (for example, compatibility with a silicone resin), the hydrocarbon group represented by R 2 in the above formula (2) preferably has 3 to 16 carbon atoms. More preferably, it is 4-16. The hydrocarbon group represented by R 2 has the same meaning as described above.

接着性に優れ、変色しにくい硬化物が得られるという観点から、R2で表される炭化水素基は環状構造を有するのが好ましい。環状構造としては、例えば、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらの組み合わせが挙げられる。R2は環状構造に例えば脂肪族炭化水素基を組合わせて有することができる。
なかでも耐熱着色安定性に優れ、相溶性に優れるという観点から、R2で表される炭化水素基は脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基であることが好ましく、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ナフテン環(R2COO−としてのナフテート基)、フェニル基がより好ましく、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ナフテン環がさらに好ましい。
The hydrocarbon group represented by R 2 preferably has a cyclic structure from the viewpoint that a cured product that is excellent in adhesiveness and hardly discolors can be obtained. Examples of the cyclic structure include an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a combination thereof. R 2 can have a cyclic structure in combination with, for example, an aliphatic hydrocarbon group.
Among these, from the viewpoint of excellent heat-resistant coloring stability and compatibility, the hydrocarbon group represented by R 2 is preferably an alicyclic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group, such as cyclopropyl group, cyclopentyl. Group, cyclohexyl group, adamantyl group, naphthene ring (naphthate group as R 2 COO—) and phenyl group are more preferable, and cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, adamantyl group and naphthene ring are more preferable.

また、耐熱着色安定性に優れ、相溶性に優れるという観点から、R3で表される炭化水素基の炭素原子数は3〜8であるのが好ましい。R3で表される炭化水素基は炭素原子数以外はR2と同義である。耐熱着色安定性に優れ相溶性に優れるという観点からR3は脂肪族炭化水素基が好ましい。
脂肪族炭化水素基を有するR3O−(アルコキシ基)は、なかでも、耐熱着色安定性に優れ、相溶性に優れるという観点から、脂肪族炭化水素基を有するRO−(アルコキシ基)はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソプロポキシ基であるのが好ましい。
Moreover, excellent heat coloration stability, from the viewpoint of excellent compatibility, the number of carbon atoms in the hydrocarbon group represented by R 3 is preferably 3-8. The hydrocarbon group represented by R 3 has the same meaning as R 2 except for the number of carbon atoms. R 3 is preferably an aliphatic hydrocarbon group from the viewpoint of excellent heat-resistant coloring stability and excellent compatibility.
R 3 O— (alkoxy group) having an aliphatic hydrocarbon group is, among others, R 3 O— (alkoxy group) having an aliphatic hydrocarbon group from the viewpoint of excellent heat-resistant coloring stability and excellent compatibility. Is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, or an isopropoxy group.

なかでも、耐熱着色安定性に優れ、相溶性に優れるという観点から、環状構造として脂環式炭化水素基を有する化合物、環状構造として芳香族炭化水素基を有する化合物が好ましく、ジルコニウムトリアルコキシモノエステルがより好ましく、ジルコニウムトリブトキシモノナフテート、ジルコニウムトリブトキシモノイソブチレート、ジルコニウムトリブトキシモノ2エチルヘキサノエート、ジルコニウムトリブトキシモノシクロプロパンカルボキシレート、ジルコニウムトリブトキシモノシクロペンタンカルボキシレート、ジルコニウムトリブトキシモノシクロヘキサンカルボキシレート、ジルコニウムトリブトキシモノアダマンタンカルボキシレート、ジルコニウムトリブトキシモノナフテートがさらに好ましい。   Among these, from the viewpoint of excellent heat-resistant coloring stability and compatibility, a compound having an alicyclic hydrocarbon group as a cyclic structure and a compound having an aromatic hydrocarbon group as a cyclic structure are preferable, and a zirconium trialkoxy monoester Zirconium tributoxy mononaphthate, zirconium tributoxy monoisobutyrate, zirconium tributoxy mono 2-ethylhexanoate, zirconium tributoxy monocyclopropane carboxylate, zirconium tributoxy monocyclopentane carboxylate, zirconium tributoxy More preferred are monocyclohexane carboxylate, zirconium tributoxy monoadamantane carboxylate, and zirconium tributoxy mononaphthate.

ハフニウム化合物としては、ハフニウム原子と有機基とを有する化合物であれば特に限定されない。ハフニウム化合物(ハフニウムの金属塩化合物)は本発明の組成物の高温下での長期信頼性が優れるという理由から、下記式(f1)で表される化合物および/または下記式(f2)で表される化合物であるのが好ましい。   The hafnium compound is not particularly limited as long as it is a compound having a hafnium atom and an organic group. A hafnium compound (hafnium metal salt compound) is represented by the following formula (f1) and / or the following formula (f2) because the long-term reliability of the composition of the present invention is excellent at high temperatures. It is preferable that it is a compound.

式(f1)中、nは1〜4の整数を示し、R15は炭化水素基を示し、R16は炭素数1〜18のアルキル基を示す。 In formula (f1), n represents an integer of 1 to 4, R 15 represents a hydrocarbon group, and R 16 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms.

式(f2)中、mは1〜4の整数を示し、R16は炭素数1〜18のアルキル基を示し、R17およびR18はそれぞれ独立に炭素数1〜18の炭化水素基またはアルコキシ基を示し、R17およびR18が複数ある場合には、複数のR17およびR18は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。 In the formula (f2), m represents an integer of 1 to 4, R 16 represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, R 17 and R 18 each independently represents a hydrocarbon group or alkoxy having 1 to 18 carbon atoms. It represents a group, when R 17 and R 18 are a plurality, a plurality of R 17 and R 18 may each be the same or different.

まず、上述した式(f1)で表されるハフニウム化合物について説明する。
式(f1)中のR15が示す炭化水素基は、直鎖状でも分岐状でもよく、不飽和結合を有することができ、ヘテロ原子(例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子など)を有することができる。
15が示す炭化水素基としては、例えば、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基(アルキル基;アリル基などの不飽和脂肪族炭化水素基;等を含む)、脂環式炭化水素基、アリール基(芳香族炭化水素基)、これらの組み合わせ等が挙げられる。
脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などのシクロアルキル基;ナフテン環(ナフテン酸由来のシクロパラフィン環);アダマンチル基、ノルボルニル基などの縮合環系炭化水素基;等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アズレン等が挙げられる。
これらのうち、加熱硬化性に優れるという観点から、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、これらの組み合わせであるのが好ましく、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ナフテン環、アダマンチル基、ノルボルニル基、フェニル基、ナフチル基およびアズレンからなる群から選ばれる少なくとも1種であるのがより好ましく、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ナフテン環(R15COO−としてのナフテート基)、フェニル基であるのがさらに好ましく、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ナフテン環であるのが特に好ましい。
First, the hafnium compound represented by the above formula (f1) will be described.
The hydrocarbon group represented by R 15 in the formula (f1) may be linear or branched, may have an unsaturated bond, and has a hetero atom (for example, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, etc.). be able to.
Examples of the hydrocarbon group represented by R 15 include an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (including an alkyl group; an unsaturated aliphatic hydrocarbon group such as an allyl group; etc.), an alicyclic hydrocarbon group. , Aryl groups (aromatic hydrocarbon groups), combinations thereof and the like.
Examples of the aliphatic hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, a nonyl group, a decyl group, and an undecyl group. Etc.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group include cycloalkyl groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, cyclooctyl group; naphthene ring (cycloparaffin ring derived from naphthenic acid); adamantyl A condensed ring hydrocarbon group such as a group or a norbornyl group;
Examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group, a naphthyl group, and azulene.
Among these, from the viewpoint of excellent heat curability, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, or a combination thereof is preferable, and a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group. More preferably at least one selected from the group consisting of a group, a cyclooctyl group, a naphthene ring, an adamantyl group, a norbornyl group, a phenyl group, a naphthyl group and an azulene, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, an adamantyl group , A naphthene ring (naphthate group as R 15 COO—) and a phenyl group are more preferable, and a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, an adamantyl group and a naphthene ring are particularly preferable.

式(f1)中のR16が示すアルキル基の炭素数は、1〜18であり、熱硬化性により優れ、耐硫化性に優れるという理由から、3〜8であるのが好ましい。 The number of carbon atoms of the alkyl group represented by R 16 in the formula (f1) is 1 to 18, and is preferably 3 to 8 because it is more excellent in thermosetting and excellent in resistance to sulfidation.

16が示すアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基(n−プロピル基、イソプロピル基)、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基等が挙げられ、なかでも、メチル基、エチル基、プロピル基(n−プロピル基、イソプロピル基)、ブチル基、ペンチル基であるのが好ましい。 Examples of the alkyl group represented by R 16 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group (n-propyl group, isopropyl group), a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, and the like. , Ethyl group, propyl group (n-propyl group, isopropyl group), butyl group, and pentyl group are preferable.

式(f1)で表されるハフニウム化合物であって、R15が示す炭化水素基として脂環式炭化水素基を有するものとしては、例えば、ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)シクロプロパンカルボキシレート、ハフニウムテトラシクロプロパンカルボキシレート、ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)シクロペンタンカルボキシレート、ハフニウムテトラシクロペンタンカルボキシレート、ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)シクロヘキサンカルボキシレート、ハフニウムテトラシクロヘキサンカルボキシレート、ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)アダマンタンカルボキシレート、ハフニウムテトラアダマンタンカルボキシレート、ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)ナフテート、ハフニウムテトラナフテート等が挙げられる。 Examples of the hafnium compound represented by the formula (f1) having an alicyclic hydrocarbon group as the hydrocarbon group represented by R 15 include, for example, hafnium alkoxy (mono-tri) cyclopropanecarboxylate, hafnium tetra Cyclopropanecarboxylate, hafnium alkoxy (mono-tri) cyclopentanecarboxylate, hafnium tetracyclopentanecarboxylate, hafnium alkoxy (mono-tri) cyclohexanecarboxylate, hafnium tetracyclohexanecarboxylate, hafnium alkoxy (mono-tri) adamantanecarboxylate Examples thereof include rate, hafnium tetraadamantane carboxylate, hafnium alkoxy (mono-tri) naphthate, and hafnium tetranaphthate.

式(f1)で表されるハフニウム化合物であって、R15が示す炭化水素基として芳香族炭化水素基を有するものとしては、例えば、ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)ベンゼンカルボキシレート、ハフニウムテトラベンゼンカルボキシレート等が挙げられる。 Examples of the hafnium compound represented by the formula (f1) having an aromatic hydrocarbon group as the hydrocarbon group represented by R 15 include, for example, hafnium alkoxy (mono-tri) benzene carboxylate, hafnium tetrabenzenecarboxyl. Rate and the like.

式(f1)で表されるハフニウム化合物であって、R15が示す炭化水素基として脂肪族炭化水素基を有するものとしては、例えば、ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)ブチレート、ハフニウムテトラブチレート、ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)2エチルヘキサノエート、ハフニウムテトラ2エチルヘキサノエート、ハフニウムアルコキシ(モノ〜トリ)ネオデカネート、ハフニウムテトラネオデカネート等が挙げられる。 Examples of the hafnium compound represented by the formula (f1) having an aliphatic hydrocarbon group as the hydrocarbon group represented by R 15 include, for example, hafnium alkoxy (mono-tri) butyrate, hafnium tetrabutyrate, hafnium. Examples include alkoxy (mono-tri) 2-ethyl hexanoate, hafnium tetra 2-ethyl hexanoate, hafnium alkoxy (mono-tri) neodecanate, and hafnium tetraneodecanate.

なお、本明細書において、「(モノ〜トリ)」は、モノ、ジおよびトリのうちのいずれかであることを意味する。   In the present specification, “(mono to tri)” means any one of mono, di and tri.

これらのうち、加熱硬化性に優れるという理由から、ハフニウムトリアルコキシモノナフテート、ハフニウムトリアルコキシモノイソブチレート、ハフニウムトリアルコキシモノ2エチルヘキサノエート、ハフニウムトリアルコキシモノシクロプロパンカルボキシレート、ハフニウムトリアルコキシシクロブタンカルボキレート、ハフニウムトリアルコキシモノシクロペンタンカルボキシレート、ハフニウムトリアルコキシモノシクロヘキサンカルボキシレート、ハフニウムトリアルコキシモノアダマンタンカルボキシレート、ハフニウムトリアルコキシモノベンゼンカルボキシレート、ハフニウムジアルコキシジナフテートであるのがが好ましく、ハフニウムトリブトキシモノナフテート、ハフニウムトリブトキシモノイソブチレート、ハフニウムトリブトキシモノ2エチルヘキサノエート、ハフニウムトリブトキシモノシクロプロパンカルボキシレート、ハフニウムトリブトキシモノシクロペンタンカルボキシレート、ハフニウムトリブトキシモノシクロヘキサンカルボキシレート、ハフニウムトリアルコキシモノベンゼンカルボキシレート、ハフニウムトリブトキシモノアダマンタンカルボキシレート、ハフニウムジブトキシジナフテート、ハフニウムトリプロポキシモノナフテートであるのがより好ましい。   Among these, hafnium trialkoxy mononaphthate, hafnium trialkoxy monoisobutyrate, hafnium trialkoxy mono 2-ethylhexanoate, hafnium trialkoxy monocyclopropanecarboxylate, hafnium trialkoxy for reasons of excellent heat curability. Preferred are cyclobutanecarbochelate, hafnium trialkoxy monocyclopentane carboxylate, hafnium trialkoxy monocyclohexane carboxylate, hafnium trialkoxy monoadamantane carboxylate, hafnium trialkoxy monobenzene carboxylate, hafnium dialkoxy dinaphthate, Hafnium tributoxy mononaphthate, hafnium tributoxy monoisobutyrate, ha Nitrobutoxymono-2-ethylhexanoate, hafnium tributoxymonocyclopropanecarboxylate, hafnium tributoxymonocyclopentanecarboxylate, hafnium tributoxymonocyclohexanecarboxylate, hafnium trialkoxymonobenzenecarboxylate, hafnium tributoxymonoadamantanecarboxylate More preferred are rate, hafnium dibutoxy dinaphthate, and hafnium tripropoxy mononaphthate.

次に、上述した式(f2)で表されるハフニウム化合物について説明する。
式(f2)中のR16は、式(f1)中のR16と同義である。
式(f2)中のR17,R18が示す炭素数1〜18の炭化水素基は、式(f1)中のR15が示す炭化水素基のうち炭素数が1〜18であるものと同様である。
式(f2)中のR17,R18が示すアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などの炭素数1〜18のアルコキシ基が挙げられる。
式(f2)中のR17,R18は、塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲンを有していてもよい。
なお、式(f2)において、R17とR18とは、入れ替わってもよい。
Next, the hafnium compound represented by the above formula (f2) will be described.
R 16 in the formula (f2) has the same meaning as R 16 in the formula (f1).
The hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by R 17 and R 18 in formula (f2) is the same as the hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms among the hydrocarbon groups represented by R 15 in formula (f1). It is.
As an alkoxy group which R < 17 >, R < 18 > in Formula (f2) shows, C1- C18 alkoxy groups, such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, are mentioned, for example.
R 17 and R 18 in the formula (f2) may have a halogen such as a chlorine atom, a bromine atom, or a fluorine atom.
In the formula (f2), R 17 and R 18 may be interchanged.

式(f2)で表されるハフニウム化合物としては、例えば、ハフニウムアルコキサイド(モノ〜トリ)2,4−ペンタジオネート、ハフニウム−2,4−ペンタジオネート、ハフニウムアルキルペンタジオネート、ハフニウムフルオロペンタジオネート等が挙げられ、なかでも、ハフニウムジ−n−ブトキサイド(ビス−2,4−ペンタジオネート)、ハフニウム−2,4−ペンタジオネート、ハフニウムテトラメチルペンタジオネート、ハフニウムトリフルオロペンタジオネートであるのが好ましい。   Examples of the hafnium compound represented by the formula (f2) include, for example, hafnium alkoxide (mono-tri) 2,4-pentadionate, hafnium-2,4-pentadionate, hafnium alkylpentadionate, hafnium fluoro And pentafionate. Among them, hafnium di-n-butoxide (bis-2,4-pentadionate), hafnium-2,4-pentadionate, hafnium tetramethylpentadionate, hafnium trifluoropentadionate Nate is preferred.

本発明において「ランタノイド化合物」とは、ランタン(La)、セリウム(Ce)、ジスプロシウム(Dy)、イッテルビウム(Yb)などのランタノイド原子(Ln)を有する化合物のことをいう。
本発明の組成物に含有されるランタノイド化合物(C)としては、「ランタノイド化合物」であれば特に限定されないが、本発明の組成物の加熱硬化性が優れるという理由から、下記式(c1)で表される化合物であるのが好ましい。
In the present invention, the “lanthanoid compound” refers to a compound having a lanthanoid atom (Ln) such as lanthanum (La), cerium (Ce), dysprosium (Dy), ytterbium (Yb) and the like.
The lanthanoid compound (C) contained in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a “lanthanoid compound”, but for the reason that the thermosetting property of the composition of the present invention is excellent, the following formula (c1) Preferred are the compounds represented.

式(c1)中、Rcは、それぞれ独立に、炭素数1〜30のアルキル基、アリル基またはアリール基を示す。Lnは、ランタノイド原子を示す。
式(c1)中のRcが示す炭素数1〜30のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基などの直鎖状アルキル基;イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、sec−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルヘキシル基、1−エチルペンチル基、1−プロピルブチル基、2−エチル−1−メチルブチル基、1−エチル−3−メチルブチル基、1,2−ジメチルペンチル基、1−エチル−2−メチルブチル基、1−メチルヘプチル基、1−エチルヘキシル基、1−プロピルペンチル基、1−エチル−2−メチルペンチル基、3−メチル−1−プロピルブチル基、2−メチル−1−プロピルブチル基、1−メチルオクチル基、1−エチルヘプチル基、1−プロピルヘキシル基、1−ブチルペンチル基、1,3−ジエチルペンチル基、1,5−ジメチルヘプチル基、1−エチル−3−メチルヘキシル基、1−メチルノニル基、1−エチルオクチル基、1−プロピルヘプチル基、1−ブチルヘキシル基、3−エチル−1−プロピルペンチル基、1,7−ジメチルオクチル基、1−エチル−4−メチルヘプチル基、2−メチル−1−プロピルヘキシル基、ネオノニル基、ネオデシル基などの分岐状アルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキシル基、4−エチルシクロヘキシル基、4−tert−ブチルシクロヘキシル基、4−(2−エチルヘキシル)シクロヘキシル基、ボルニル基、イソボルニル基、アダマンチル基などのシクロアルキル基;ナフテン環(ナフテン酸由来のシクロパラフィン環);等が挙げられる。
式(c1)中のRcが示すアリル基は、2−プロペニル基(−CH2CH=CH2)である。
式(c1)中のRcが示すアリール基としては、炭素数6〜30のアリール基であるのが好ましく、具体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フェナントレニル基、ピレニル基、ペリレニル基、フルオレニル基、ビフェニル基、ターフェニル基、ルブレニル基、クリセニル基、トリフェニレニル基等が挙げられる。
In formula (c1), each R c independently represents an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an allyl group or an aryl group. Ln represents a lanthanoid atom.
Examples of the alkyl group having 1 to 30 carbon atoms represented by R c in the formula (c1) include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n -Linear alkyl groups such as heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group; isopropyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, sec-pentyl group, isopentyl group, Neopentyl group, 1-methylhexyl group, 1-ethylpentyl group, 1-propylbutyl group, 2-ethyl-1-methylbutyl group, 1-ethyl-3-methylbutyl group, 1,2-dimethylpentyl group, 1-ethyl 2-methylbutyl group, 1-methylheptyl group, 1-ethylhexyl group, 1-propylpentyl group, 1-ethyl-2-methylpentyl group, 3-methyl-1-propiyl Butyl group, 2-methyl-1-propylbutyl group, 1-methyloctyl group, 1-ethylheptyl group, 1-propylhexyl group, 1-butylpentyl group, 1,3-diethylpentyl group, 1,5-dimethyl Heptyl, 1-ethyl-3-methylhexyl, 1-methylnonyl, 1-ethyloctyl, 1-propylheptyl, 1-butylhexyl, 3-ethyl-1-propylpentyl, 1,7- Branched alkyl groups such as dimethyloctyl group, 1-ethyl-4-methylheptyl group, 2-methyl-1-propylhexyl group, neononyl group, neodecyl group; cyclopentyl group, cyclohexyl group, 4-methylcyclohexyl group, 4- Ethylcyclohexyl group, 4-tert-butylcyclohexyl group, 4- (2-ethylhexyl) cyclohexyl Group, bornyl group, isobornyl group, adamantyl group and the like; naphthene ring (cycloparaffin ring derived from naphthenic acid); and the like.
The allyl group represented by R c in formula (c1) is a 2-propenyl group (—CH 2 CH═CH 2 ).
The aryl group represented by R c in formula (c1) is preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, and specifically includes, for example, a phenyl group, a naphthyl group, an anthracenyl group, a phenanthrenyl group, and a pyrenyl group. Perylenyl group, fluorenyl group, biphenyl group, terphenyl group, rubrenyl group, chrycenyl group, triphenylenyl group and the like.

これらのうち、式(c1)中のRcが示す基としては、炭素数1〜30のアルキル基であるのが好ましく、炭素数6〜18のアルキル基であるのがより好ましく、1−エチルペンチル基、ナフテン環であるのがより好ましい。 Of these, the group represented by R c in formula (c1) is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 6 to 18 carbon atoms, and 1-ethyl A pentyl group and a naphthene ring are more preferable.

このような式(c1)で表されるランタノイド化合物としては、例えば、ランタノイドの2−エチルヘキサン酸塩、ランタノイドのナフテン酸塩等が挙げられる。なかでも、本発明の組成物の加熱硬化性が優れるという観点から、ランタン、セリウム、ジスプロシウムまたはイッテルビウムの2−エチルヘキサン酸塩が好ましく、セリウムの2−エチルヘキサン酸塩(トリス(2−エチルヘキサン酸)セリウム)がより好ましい。   Examples of the lanthanoid compound represented by the formula (c1) include lanthanoid 2-ethylhexanoate, lanthanoid naphthenate, and the like. Of these, lanthanum, cerium, dysprosium or ytterbium 2-ethylhexanoate is preferred from the viewpoint of excellent heat curability of the composition of the present invention, and cerium 2-ethylhexanoate (tris (2-ethylhexane Acid) cerium) is more preferred.

チタン化合物としては、例えば、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン、テトラオクトキシチタンのようなアルコラート;ジイソプロポキシチタンエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシチタンアセチルアセトナートのような、チタンの金属塩化合物が挙げられる。   Examples of titanium compounds include alcoholates such as tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, tetrabutoxy titanium, and tetraoctoxy titanium; titanium compounds such as diisopropoxy titanium ethyl acetoacetate and diisopropoxy titanium acetylacetonate. A metal salt compound is mentioned.

(C)縮合触媒はそれぞれ単独でまたは2種以上を組合わせて使用することができる。
(C)縮合触媒は、加熱硬化性、室温安定性に優れるという観点から、Znの金属塩化合物とSnの金属塩化合物および/またはランタノイドの金属塩化合物とを少なくとも含むのが好ましい。Znの金属塩化合物、Snの金属塩化合物、ランタノイドの金属塩化合物は上記と同様である。
(C)縮合触媒がZnの金属塩化合物とSnの金属塩化合物および/またはランタノイドの金属塩化合物とを少なくとも含む場合、Znの金属塩化合物に対する、前記Snの金属塩化合物および/またはランタノイドの金属塩化合物の重量比は、加熱硬化性、作業安定性に優れるという観点から、1以下であるのが好ましく、0.001〜0.1であるのがより好ましい。
(C) A condensation catalyst can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.
The (C) condensation catalyst preferably contains at least a metal salt compound of Zn and a metal salt compound of Sn and / or a metal salt compound of lanthanoid from the viewpoint of excellent heat curability and room temperature stability. The metal salt compound of Zn, the metal salt compound of Sn, and the metal salt compound of lanthanoid are the same as described above.
(C) When the condensation catalyst includes at least a metal salt compound of Zn and a metal salt compound of Sn and / or a metal salt compound of lanthanoid, the metal salt compound of Sn and / or a metal of lanthanoid with respect to the metal salt compound of Zn The weight ratio of the salt compound is preferably 1 or less, more preferably 0.001 to 0.1, from the viewpoint of excellent heat curability and work stability.

(C)成分の量は、加熱硬化性、室温安定性に優れるという観点から、(A)成分および(B)成分の合計100質量部に対して、0.001〜10質量部であるのが好ましく、0.001〜1質量部であるのがより好ましく、0.01〜1質量部であるのがさらに好ましい。   The amount of the component (C) is 0.001 to 10 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the component (A) and the component (B) from the viewpoint of excellent heat curability and room temperature stability. Preferably, it is 0.001-1 mass part, More preferably, it is 0.01-1 mass part.

本発明の組成物は(D)成分として、チアゾール化合物及び/又はトリアジン化合物を含有することによって耐硫化性に優れる。
本発明の組成物に含有される(D)成分としてのチアゾール化合物は、チアゾール骨格を有する化合物であれば特に制限されない。例えば、非置換のまたは置換基(例えば、メルカプト基)を有するベンゾチアゾールが挙げられる。具体的には、例えば、ベンゾチアゾール;2−メルカプトベンゾチアゾールのようなメルカプト基を有するチアゾール化合物;炭化水素基、フルオロ基、シリル基のような置換基を有するチアゾール化合物が挙げられる。なかでも、耐硫化性により優れ、着色安定性、相溶性に優れるという観点から、2−メルカプトベンゾチアゾール、シリル基を有するベンゾチアゾール化合物が好ましい。
The composition of this invention is excellent in sulfidation resistance by containing a thiazole compound and / or a triazine compound as the component (D).
The thiazole compound as the component (D) contained in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a thiazole skeleton. Examples include benzothiazole which is unsubstituted or has a substituent (for example, a mercapto group). Specific examples include a benzothiazole; a thiazole compound having a mercapto group such as 2-mercaptobenzothiazole; and a thiazole compound having a substituent such as a hydrocarbon group, a fluoro group, and a silyl group. Of these, 2-mercaptobenzothiazole and a benzothiazole compound having a silyl group are preferable from the viewpoints of superior sulfurization resistance, color stability, and compatibility.

本発明の組成物に含有される(D)成分としてのトリアジン化合物は、トリアジン骨格を有する化合物であれば特に制限されない。トリアジン化合物としては、例えば、炭化水素基、メルカプト基、フルオロ基、シリル基、シロキサン骨格、これらの組み合わせのような置換基を有するトリアジン化合物が挙げられる。
なかでも、耐硫化性により優れ、着色安定性、相溶性に優れるという観点から、トリアジンチオール化合物(トリアジン骨格及びメルカプト基を有する化合物)が好ましく、シリル基および/またはシロキサン骨格を有するトリアジンチオール化合物がより好ましい。
シロキサン骨格を有するトリアジンチオール化合物は、例えば、メルカプト基を2個以上(好ましくは3個以上)有するトリアジン化合物と、メルカプト基と反応可能な官能基(例えば、アミノ基)を1個以上(好ましくは2個以上)有するポリシロキサン(例えば、反応性シリコーンオイル)とを反応させることによって製造することができる。この製造の際に使用されるポリシロキサンはメルカプト基と反応可能な官能基を有する以外は特に制限されない。ポリシロキサンはメルカプト基と反応可能な官能基以外に例えば、アルコキシ基、シリル基としてのアルコキシシリル基をさらに有することができる。
(D)成分はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
The triazine compound as the component (D) contained in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a triazine skeleton. Examples of the triazine compound include a triazine compound having a substituent such as a hydrocarbon group, a mercapto group, a fluoro group, a silyl group, a siloxane skeleton, or a combination thereof.
Of these, triazine thiol compounds (compounds having a triazine skeleton and a mercapto group) are preferred from the viewpoint of superior sulfidation resistance, coloring stability, and compatibility, and triazine thiol compounds having a silyl group and / or a siloxane skeleton are preferred. More preferred.
The triazine thiol compound having a siloxane skeleton includes, for example, a triazine compound having two or more (preferably three or more) mercapto groups and one or more functional groups (for example, amino groups) capable of reacting with the mercapto group (preferably amino groups). 2 or more) can be produced by reacting with polysiloxane (for example, reactive silicone oil). The polysiloxane used in the production is not particularly limited except that it has a functional group capable of reacting with a mercapto group. In addition to the functional group capable of reacting with a mercapto group, the polysiloxane can further have, for example, an alkoxysilyl group as an alkoxy group or a silyl group.
(D) component can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

(D)成分の量は、耐硫化性により優れ、作業安定性、耐熱着色性に優れるという観点から、(A)成分および(B)成分の合計100質量部に対して、0.01〜10質量部であるのが好ましく、0.01〜1質量部であるのがより好ましく、0.1〜0.5質量部であるのがさらに好ましい。   The amount of the component (D) is 0.01 to 10 with respect to 100 parts by mass of the total of the component (A) and the component (B) from the viewpoint of being excellent in sulfidation resistance and excellent in work stability and heat-resistant colorability. It is preferably part by mass, more preferably 0.01 to 1 part by mass, and still more preferably 0.1 to 0.5 part by mass.

本発明の組成物は、密着性に優れるという観点から、さらに(E)成分として、ビス(アルコキシシリル)アルカン、ビス(アルコキシシリルアルキル)アミンおよびイソシアヌレート化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有するのが好ましい。   From the viewpoint of excellent adhesion, the composition of the present invention further comprises at least one selected from the group consisting of bis (alkoxysilyl) alkanes, bis (alkoxysilylalkyl) amines and isocyanurate compounds as component (E). It is preferable to contain.

(E)としてのビス(アルコキシシリル)アルカンは密着付与剤(接着付与剤)であり、2価のアルカン(アルキレン基)と2つのアルコキシシリル基とを有する化合物である。本発明の組成物がさらにビス(アルコキシシリル)アルカンを含有する場合接着性、密着性に優れる。アルコキシシリル基はアルコキシ基のほかに例えば、メチル基、エチル基のようなアルキル基を有することができる。2価のアルカンは例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を有することができる。ビス(アルコキシシリル)アルカンとしては、例えば、下記式(VII)で表されるものが挙げられる。

式中、R7〜R8はそれぞれアルキル基であり、R9は酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を有してもよい2価のアルカンであり、aはそれぞれ1〜3の整数である。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基が挙げられる。R9としての2価のアルカンは炭素原子数1〜10のアルキレン基が挙げられる。2価のアルカンは上記と同義である。
The bis (alkoxysilyl) alkane as (E) is an adhesion imparting agent (adhesion imparting agent) and is a compound having a divalent alkane (alkylene group) and two alkoxysilyl groups. When the composition of the present invention further contains a bis (alkoxysilyl) alkane, the adhesiveness and adhesion are excellent. The alkoxysilyl group can have, for example, an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group in addition to the alkoxy group. The divalent alkane can have a hetero atom such as an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom. Examples of the bis (alkoxysilyl) alkane include those represented by the following formula (VII).

In the formula, R 7 to R 8 are each an alkyl group, R 9 is a divalent alkane which may have a hetero atom such as an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and a is 1 to 3 respectively. Is an integer. Examples of the alkyl group include a methyl group and an ethyl group. Examples of the divalent alkane as R 9 include an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. A divalent alkane has the same meaning as described above.

ビス(アルコキシシリル)アルカンは、透明性、高温経時の密着性、硬化性、平滑性、貯蔵安定性に優れ、可使時間、硬化時間が適切な長さとなるという観点から、式(VII)で表されるものが好ましく、ビス(トリアルコキシシリル)アルカンがより好ましく、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エタン、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,7−ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、1,8−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、1,9−ビス(トリメトキシシリル)ノナンおよび1,10−ビス(トリメトキシシリル)デカンからなる群から選ばれる少なくとも1種がより好ましく、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサンがさらに好ましい。   Bis (alkoxysilyl) alkanes are excellent in transparency, adhesion at high temperatures, curability, smoothness, and storage stability, and have a pot life and curing time of an appropriate length. Preferred are bis (trialkoxysilyl) alkanes, 1,2-bis (triethoxysilyl) ethane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane, 1,7-bis (trimethoxy) At least one selected from the group consisting of (silyl) heptane, 1,8-bis (trimethoxysilyl) octane, 1,9-bis (trimethoxysilyl) nonane and 1,10-bis (trimethoxysilyl) decane. 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane is more preferable.

(E)としてのビス(アルコキシシリルアルキル)アミンは密着付与剤(接着付与剤)であり、イミノ基と2つのアルコキシシリルアルキル基とを有する化合物である。本発明の組成物がさらにビス(アルコキシシリルアルキル)アミンを含有する場合接着性、密着性に優れる。アルコキシシリル基はアルコキシ基のほかに例えば、メチル基、エチル基のようなアルキル基を有することができる。アルコキシシリルアルキルが有するアルキレン基は例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を有することができる。ビス(アルコキシシリルアルキル)アミンとしては、例えば、下記式(VIII)で表されるものが挙げられる。

式中、R7〜R8はそれぞれアルキル基であり、R10は酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を有してもよいアルキレン基であり、aはそれぞれ1〜3の整数である。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基が挙げられる。R10としてのアルキレン基は炭素原子数1〜10のアルキレン基が挙げられる。
Bis (alkoxysilylalkyl) amine as (E) is an adhesion-imparting agent (adhesion-imparting agent) and is a compound having an imino group and two alkoxysilylalkyl groups. When the composition of the present invention further contains bis (alkoxysilylalkyl) amine, the adhesiveness and adhesion are excellent. The alkoxysilyl group can have, for example, an alkyl group such as a methyl group or an ethyl group in addition to the alkoxy group. The alkylene group which alkoxysilylalkyl has can have hetero atoms, such as an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom, for example. Examples of the bis (alkoxysilylalkyl) amine include those represented by the following formula (VIII).

In the formula, R 7 to R 8 are each an alkyl group, R 10 is an alkylene group which may have a hetero atom such as an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom, and a is an integer of 1 to 3, respectively. It is. Examples of the alkyl group include a methyl group and an ethyl group. Examples of the alkylene group as R 10 include alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms.

ビス(アルコキシシリルアルキル)アミンは、透明性、高温経時の密着性、硬化性、平滑性、貯蔵安定性に優れ、可使時間、硬化時間が適切な長さとなるという観点から、式(VIII)で表されるものが好ましく、ビス(トリアルコキシシリル)アルカンがより好ましく、ビス−(3−トリメトキシシリルプロピル)アミンがより好ましい。   Bis (alkoxysilylalkyl) amine is excellent in transparency, adhesion at high temperatures, curability, smoothness, and storage stability, and has a pot life and curing time of an appropriate length. Is preferable, bis (trialkoxysilyl) alkane is more preferable, and bis- (3-trimethoxysilylpropyl) amine is more preferable.

(E)成分としてのイソシアヌレート化合物はイソシアネートの3量体によってイソシアヌレート骨格を形成する化合物であれば特に制限されない。本発明の組成物がさらにイソシアヌレート化合物を含有する場合接着性、密着性に優れる。イソシアヌレート化合物としては例えば、下記式(1)で表される化合物が挙げられる。

式1中、Rはそれぞれ有機基または脂肪族不飽和結合を有してもよい一価の炭化水素基である。さらにRはエポキシ基、グリシドキシ基、アルコキシシリル基(例えば、トリアルコキシシリル基)、(メタ)アクリロイル基、イソシアネート基などの官能基を含むことができる。官能基は有機基、炭化水素基を介してイソシアヌレート骨格に結合することができる。
イソシアヌレート化合物としては、例えば、イソシアヌレート骨格と加水分解性シリル基とを有するイソシアヌレートシランが挙げられる。具体的には例えば、トリス(トリメトキシリル)イソシアヌレート、トリス(トリメトキシリルアルキル)イソシアヌレート[トリス(トリメトキシリルプロピル)イソシアヌレート]が挙げられる。
The isocyanurate compound as the component (E) is not particularly limited as long as it is a compound that forms an isocyanurate skeleton by an isocyanate trimer. When the composition of the present invention further contains an isocyanurate compound, the adhesiveness and adhesion are excellent. As an isocyanurate compound, the compound represented by following formula (1) is mentioned, for example.

In Formula 1, each R is a monovalent hydrocarbon group that may have an organic group or an aliphatic unsaturated bond. Furthermore, R can contain functional groups such as an epoxy group, a glycidoxy group, an alkoxysilyl group (for example, trialkoxysilyl group), a (meth) acryloyl group, and an isocyanate group. The functional group can be bonded to the isocyanurate skeleton via an organic group or a hydrocarbon group.
Examples of the isocyanurate compound include isocyanurate silane having an isocyanurate skeleton and a hydrolyzable silyl group. Specific examples include tris (trimethoxylyl) isocyanurate and tris (trimethoxylylalkyl) isocyanurate [tris (trimethoxylylpropyl) isocyanurate].

(E)成分はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
(E)成分の量は、密着性に優れるという観点から、前記(A)成分および前記(B)成分の合計100質量部に対して、0.1〜10質量部であるのが好ましい。
(E) A component can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.
The amount of the component (E) is preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the component (A) and the component (B) from the viewpoint of excellent adhesion.

本発明の組成物は、上記の成分以外に、本発明の目的や効果を損なわない範囲で必要に応じてさらに添加剤を含有することができる。
添加剤としては、例えば、硬化剤、触媒(例えば縮合触媒以外の触媒;ルイス酸触媒、ルイス塩基触媒;カチオン重合触媒が挙げられる。)、重合開始剤(例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。)、無機フィラー、酸化防止剤、滑剤、紫外線吸収剤、熱光安定剤、分散剤、帯電防止剤、重合禁止剤、消泡剤、硬化促進剤、溶剤、蛍光物質(無機物、有機物を含む。)、老化防止剤、ラジカル禁止剤、接着性改良剤、ビス(アルコキシシリル)アルカン、ビス(アルコキシシリルアルキル)アミンやカップリング剤、イソシアヌレート化合物のような密着付与剤(接着付与剤)、リン酸エステル、亜リン酸エステル、ホウ素化合物、難燃剤、界面活性剤、保存安定性改良剤、オゾン老化防止剤、増粘剤、可塑剤、放射線遮断剤、核剤、カップリング剤、導電性付与剤、リン系過酸化物分解剤、顔料、金属不活性化剤、物性調整剤が挙げられる。各種添加剤は特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。
The composition of this invention can contain an additive further as needed in the range which does not impair the objective and effect of this invention other than said component.
Examples of the additive include a curing agent, a catalyst (for example, a catalyst other than a condensation catalyst; a Lewis acid catalyst, a Lewis base catalyst; a cationic polymerization catalyst), a polymerization initiator (for example, a thermal polymerization initiator, a photopolymerization start). ), Inorganic fillers, antioxidants, lubricants, UV absorbers, heat-light stabilizers, dispersants, antistatic agents, polymerization inhibitors, antifoaming agents, curing accelerators, solvents, fluorescent substances (inorganic substances) ), Anti-aging agents, radical inhibitors, adhesion improvers, bis (alkoxysilyl) alkanes, bis (alkoxysilylalkyl) amines and coupling agents, and adhesion promoters such as isocyanurate compounds (adhesion) Imparting agent), phosphate ester, phosphite ester, boron compound, flame retardant, surfactant, storage stability improver, ozone anti-aging agent, thickener, plasticizer, radiation blocker, Agents, coupling agents, conductivity-imparting agents, phosphorus-based peroxide decomposers, pigments, metal deactivators include physical property modifiers. Various additives are not particularly limited. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.

本発明の組成物は、その製造について特に制限されない。例えば、(A)成分〜(D)成分、必要に応じて使用することができる、(E)成分、添加剤とを混合することによって製造することができる。
本発明の組成物は1液型または2液型として製造することが可能である。
The composition of the present invention is not particularly limited for its production. For example, it can manufacture by mixing (A) component-(D) component and the (E) component and additive which can be used as needed.
The composition of the present invention can be produced as a one-pack type or a two-pack type.

本発明の組成物は、光半導体封止用組成物として使用することができる。
本発明の組成物を適用することができる光半導体は特に制限されない。例えば、発光ダイオード(LED)、有機電界発光素子(有機EL)、レーザーダイオード、LEDアレイが挙げられる。
なお本発明の組成物を適用することができる被着体は光半導体に限らない。例えば、光半導体以外の半導体;ゴム;ポリフタルアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、(メタ)アクリル樹脂のようなプラスチック;ガラス;銀、銀メッキ、アルミ、アルミ窒化物、ホウ素窒化物のような金属およびまたはセラミックが挙げられる。
本発明の組成物の使用方法としては、例えば、被着体(例えば、光半導体、銀等の金属部材、プラスチック部材)に本発明の組成物を付与し、本発明の組成物が付与された被着体を加熱して本発明の組成物を硬化させることが挙げられる。本発明の組成物を付与する方法は特に制限されない。例えば、ディスペンサーを使用する方法、ポッティング法、スクリーン印刷、トランスファー成形、インジェクション成形が挙げられる。
The composition of this invention can be used as a composition for optical semiconductor sealing.
The optical semiconductor to which the composition of the present invention can be applied is not particularly limited. For example, a light emitting diode (LED), an organic electroluminescent element (organic EL), a laser diode, and an LED array are mentioned.
The adherend to which the composition of the present invention can be applied is not limited to an optical semiconductor. For example, semiconductors other than optical semiconductors; rubber; plastics such as polyphthalamide, polyimide, polycarbonate, (meth) acrylic resin; glass; metals such as silver, silver plating, aluminum, aluminum nitride, boron nitride, and / or Ceramic may be mentioned.
As a method of using the composition of the present invention, for example, the composition of the present invention is applied to an adherend (for example, a metal member such as an optical semiconductor, silver, or a plastic member), and the composition of the present invention is applied. Examples include heating the adherend to cure the composition of the present invention. The method for applying the composition of the present invention is not particularly limited. Examples thereof include a method using a dispenser, a potting method, screen printing, transfer molding, and injection molding.

本発明の組成物は加熱によって硬化させることができ、加熱硬化性、室温安定性、透明性に優れる。
本発明の組成物の加熱温度は、密着性、薄膜硬化性に優れ、硬化時間、可使時間を適切な長さとすることができ、縮合反応による副生成物であるアルコールが発泡するのを抑制でき、硬化物のクラックを抑制でき、硬化物の平滑性、成形性、物性に優れるという観点から、80℃〜150℃付近で硬化させるのが好ましく、150℃付近がより好ましい。
加熱は、硬化性に優れ、透明性に優れるという観点から、実質的に無水の条件下で行うことができる。本発明において、加熱が実質的に無水の条件下でなされるとは、加熱における環境の大気中の湿度が10%RH以下であることをいう。
The composition of the present invention can be cured by heating, and is excellent in heat curability, room temperature stability, and transparency.
The heating temperature of the composition of the present invention is excellent in adhesion and thin film curability, the curing time and pot life can be set to appropriate lengths, and the by-product alcohol resulting from the condensation reaction is inhibited from foaming. From the viewpoint of being able to suppress cracks in the cured product and being excellent in the smoothness, moldability and physical properties of the cured product, it is preferably cured at around 80 ° C. to 150 ° C., more preferably around 150 ° C.
The heating can be performed under substantially anhydrous conditions from the viewpoints of excellent curability and excellent transparency. In the present invention, “heating under substantially anhydrous conditions” means that the atmospheric humidity of the environment during heating is 10% RH or less.

本発明の組成物を加熱し硬化させることによって得られる硬化物(シリコーン樹脂)は、長期のLED(なかでも白色LED)による使用に対して、高い透明性を保持することができ、耐熱着色安定性、薄膜硬化性、接着性、耐熱クラック性に優れる。得られる硬化物は架橋部分、骨格がすべてシロキサン結合なので従来のシリコーン樹脂より耐熱着色安定性に優れる。   The cured product (silicone resin) obtained by heating and curing the composition of the present invention can maintain high transparency against long-term use of LEDs (in particular, white LEDs), and is resistant to heat-resistant coloring. Excellent in heat resistance, thin film curability, adhesion, and heat crack resistance. The cured product obtained is superior in heat-resistant coloring stability than conventional silicone resins because the crosslinked part and skeleton are all siloxane bonds.

本発明の組成物を用いて得られる硬化物(硬化物の厚さが2mmである場合)は、JIS K0115:2004に準じ紫外・可視吸収スペクトル測定装置(島津製作所社製、以下同様。)を用いて波長400nmにおいて測定された透過率が、80%以上であるのが好ましく、85%以上であるのがより好ましい。   A cured product obtained by using the composition of the present invention (when the thickness of the cured product is 2 mm) is an ultraviolet / visible absorption spectrum measuring apparatus (manufactured by Shimadzu Corporation, the same applies hereinafter) according to JIS K0115: 2004. The transmittance measured at a wavelength of 400 nm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more.

また、本発明の組成物を用いて得られる硬化物は、初期硬化の後耐熱試験(初期硬化後の硬化物を150℃下に10日間置く試験)を行いその後の硬化物(厚さ:2mm)について、JIS K0115:2004に準じ紫外・可視スペクトル測定装置を用いて波長400nmにおいて測定された透過率が、80%以上であるのが好ましく、85%以上であるのがより好ましい。   In addition, the cured product obtained using the composition of the present invention is subjected to a heat resistance test after initial curing (a test in which the cured product after initial curing is placed at 150 ° C. for 10 days), and then the cured product (thickness: 2 mm). ), The transmittance measured at a wavelength of 400 nm using an ultraviolet / visible spectrum measuring device according to JIS K0115: 2004 is preferably 80% or more, more preferably 85% or more.

本発明の組成物を用いて得られる硬化物は、その透過保持率(耐熱試験後の透過率/初期硬化の際の透過率×100)が、70〜100%であるのが好ましく、80〜100%であるのがより好ましい。   The cured product obtained using the composition of the present invention preferably has a transmittance retention (transmittance after heat resistance test / transmittance at initial curing × 100) of 70 to 100%, 80 to More preferably, it is 100%.

本発明の組成物は、光半導体以外にも、例えば、ディスプレイ材料、光記録媒体材料、光学機器材料、光部品材料、光ファイバー材料、光・電子機能有機材料、半導体集積回路周辺材料等の用途に用いることができる。   In addition to optical semiconductors, the composition of the present invention is used for applications such as display materials, optical recording medium materials, optical equipment materials, optical component materials, optical fiber materials, optical / electronic functional organic materials, and semiconductor integrated circuit peripheral materials. Can be used.

本発明の組成物を被着体に適用することによって積層体を得ることができる。得られる積層体は、本発明の組成物から得られるシリコーン樹脂層と銀を含む部材(銀を含む層)とを有することができる。得られる積層体としては例えば光半導体封止体(本発明の光半導体封止体)、太陽電池用封止剤等が挙げられる。
得られる積層体は、銀をシリコーン樹脂組成物から得られるシリコーン樹脂層で覆うのが好ましい態様の1つとして挙げられる。例えば、シリコーン樹脂層は銀を直接覆ってもよい。また、シリコーン樹脂層と銀との間に例えば別の透明な層(例えば、樹脂層、ガラス層、空気層)を有してもよい。
積層体は、光半導体を有するのが好ましい態様の1つとして挙げられる。光半導体は特に制限されない。例えば、上記と同義のものが挙げられる。光半導体はシリコーン樹脂層と銀を含む部材との間にある態様であってもよい。また光半導体は銀を含む部材と並列し、シリコーン樹脂層が光半導体と銀を含む部材とを封止する態様であってもよい。また光半導体は2個の銀を含む部材と並列し、光半導体は第1の部材と第2の部材との間に位置し、シリコーン樹脂層が光半導体と2個の銀を含む部材とを封止する態様であってもよい。
A laminate can be obtained by applying the composition of the present invention to an adherend. The obtained laminate can have a silicone resin layer obtained from the composition of the present invention and a member containing silver (a layer containing silver). As a laminated body obtained, an optical semiconductor sealing body (optical semiconductor sealing body of this invention), the sealing agent for solar cells, etc. are mentioned, for example.
One of the preferred embodiments of the obtained laminate is covering silver with a silicone resin layer obtained from the silicone resin composition. For example, the silicone resin layer may directly cover silver. Moreover, you may have another transparent layer (For example, a resin layer, a glass layer, an air layer) between a silicone resin layer and silver, for example.
One of the preferred embodiments of the laminate is to have an optical semiconductor. The optical semiconductor is not particularly limited. For example, the same thing as the above is mentioned. The optical semiconductor may be in a mode between the silicone resin layer and the member containing silver. The optical semiconductor may be in parallel with the member containing silver, and the silicone resin layer may seal the optical semiconductor and the member containing silver. The optical semiconductor is arranged in parallel with a member containing two silver, the optical semiconductor is located between the first member and the second member, and the silicone resin layer includes an optical semiconductor and a member containing two silver. It may be a mode of sealing.

積層体について添付の図面を用いて以下に説明する。なお本発明は添付の図面に制限されない。
図1は、本発明における積層体の一例を模式的に示す断面図である。図1において、積層体100は部材(銀を含む部材)120とシリコーン樹脂層102とを有する。
The laminate will be described below with reference to the accompanying drawings. The present invention is not limited to the attached drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a laminate in the present invention. In FIG. 1, a laminated body 100 includes a member (member containing silver) 120 and a silicone resin layer 102.

図2は、本発明における積層体の別の一例を模式的に示す断面図である。
図2において、積層体200は部材(銀を含む部材)220と光半導体203とシリコーン樹脂層202とを有する。積層体200は光半導体203とシリコーン樹脂層202との間にさらに透明な層(図示せず。)を有することができる。透明な層としては、例えば、樹脂層、ガラス層、空気層が挙げられる。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing another example of the laminate in the present invention.
In FIG. 2, the stacked body 200 includes a member (member containing silver) 220, an optical semiconductor 203, and a silicone resin layer 202. The laminate 200 can further include a transparent layer (not shown) between the optical semiconductor 203 and the silicone resin layer 202. Examples of the transparent layer include a resin layer, a glass layer, and an air layer.

本発明の組成物を硬化させて得られる硬化物は耐硫化性を有する。
本発明において、分光反射率維持率による耐硫化性は以下のように評価される。まず、銀の部材(銀を用いて得られる金属層)の上に本発明の組成物を厚さ1mmに付与し硬化させて、前記部材とシリコーン樹脂層とを有する積層体とし、前記積層体を理論値560ppmの硫化水素ガス中に25℃の条件下で置く耐硫化試験を行い、前記耐硫化試験の前および前記耐硫化試験開始から24および72時間後における、前記積層体の分光反射率を分光反射率計を用いて測定し、前記分光反射率を式[分光反射率維持率=(耐硫化試験後の分光反射率/耐硫化試験前の分光反射率)×100]に当てはめ分光反射率維持率を算出する。
耐硫化試験は、10Lのデシケーターの底に粉状に粉砕した硫化鉄を10g程度(塩酸0.5mmolに対して大過剰)を置き、この硫化鉄の上方に、硫化鉄に接触しないように目皿(貫通孔を有する)をデシケーター内に取り付け、この目皿の上に積層体を置き、大過剰の硫化鉄に0.5mmolの塩酸を滴下することにより、0.25mmolの硫化水素(理論値560ppm、実際の濃度は500ppm程度。)を発生(反応式:FeS+2HCl→FeCl2+H2S)させて行う。なお硫化水素の濃度560ppmは理論値である。
分光反射率の測定は、分光反射率計[ウシオ電機社製のURE−30]を用いて、耐硫化試験前および耐硫化試験後(硫化水素発生から24および72時間後)の積層体に対し475nm(測定波長)での分光反射率を測定する。
本発明において算出される分光反射率維持率が80%以上である場合耐硫化性に優れるので好ましく、80%以上であるのがより好ましい。
The cured product obtained by curing the composition of the present invention has resistance to sulfidation.
In the present invention, the sulfidation resistance based on the spectral reflectance maintenance factor is evaluated as follows. First, the composition of the present invention is applied to a thickness of 1 mm on a silver member (a metal layer obtained by using silver) and cured to obtain a laminate having the member and the silicone resin layer, and the laminate. Was subjected to a sulfidation resistance test in a hydrogen sulfide gas having a theoretical value of 560 ppm at 25 ° C., and the spectral reflectance of the laminate was measured before the sulfidation resistance test and 24 and 72 hours after the start of the sulfidation resistance test. Is measured using a spectral reflectometer, and the spectral reflectance is applied to the formula [spectral reflectance maintenance ratio = (spectral reflectance after sulfidation test / spectral reflectance before sulfidation test) × 100]. The rate maintenance rate is calculated.
In the sulfidation resistance test, about 10 g of iron sulfide pulverized in powder form (a large excess with respect to 0.5 mmol of hydrochloric acid) is placed on the bottom of a 10 L desiccator. A dish (having a through-hole) was mounted in a desiccator, and the laminate was placed on the eye dish, and 0.5 mmol of hydrochloric acid was added dropwise to a large excess of iron sulfide to obtain 0.25 mmol of hydrogen sulfide (theoretical value). 560 ppm, the actual concentration is about 500 ppm) (reaction formula: FeS + 2HCl → FeCl 2 + H 2 S). The hydrogen sulfide concentration of 560 ppm is a theoretical value.
Spectral reflectivity was measured using a spectral reflectometer [URE-30 manufactured by USHIO INC.] For the laminate before and after the sulfidation test (24 and 72 hours after hydrogen sulfide generation). The spectral reflectance at 475 nm (measurement wavelength) is measured.
The spectral reflectance maintenance factor calculated in the present invention is preferably 80% or more, since it is excellent in sulfidation resistance, and more preferably 80% or more.

また、本発明における耐硫化性の評価として、上記の耐硫化性試験において硫化水素の発生から24時間後および72時間後に目視により硬化サンプルにおける銀の変色を確認する評価を行った。耐硫化試験開始から24時間後および72時間後に変色が確認されないのが好ましい。   Further, as an evaluation of the sulfidation resistance in the present invention, in the above sulfidation resistance test, evaluation was performed to visually confirm the discoloration of silver in the cured sample 24 hours and 72 hours after the generation of hydrogen sulfide. It is preferable that no discoloration is confirmed after 24 hours and 72 hours from the start of the sulfidation resistance test.

本発明の光半導体封止体について以下に説明する。
本発明の光半導体封止体(本発明の封止体)は、本発明の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物が光半導体を封止してなる光半導体封止体である。
本発明の光半導体封止体は、本発明の組成物から得られるシリコーン樹脂層で光半導体および銀を含む部材を封止することができる光半導体封止体である。
本発明の光半導体封止体に使用されるシリコーン樹脂組成物は本発明の組成物であれば特に制限されない。本発明の光半導体封止体に使用される銀を含む部材は特に制限されない。例えば上記と同義のものが挙げられる。本発明の光半導体封止体に使用される光半導体は特に制限されない。例えば上記と同義のものが挙げられる。
光半導体封止体としては、例えば、光半導体と、凹部を有する枠体と、封止材とを有し、前記光半導体は前記凹部の底部に配置され、前記枠体は前記凹部の側面に銀または銀を含むリフレクタを備え、前記封止材は前記光半導体および前記リフレクタを封止し、前記封止材が本発明の組成物から得られる光半導体封止体が挙げられる。
The sealed optical semiconductor of the present invention will be described below.
The optical semiconductor sealing body of the present invention (sealing body of the present invention) is an optical semiconductor sealing body formed by sealing the optical semiconductor with the thermosetting silicone resin composition of the present invention.
The sealed optical semiconductor of the present invention is a sealed optical semiconductor that can seal a member containing an optical semiconductor and silver with a silicone resin layer obtained from the composition of the present invention.
If the silicone resin composition used for the optical semiconductor sealing body of this invention is a composition of this invention, it will not restrict | limit in particular. The member containing silver used for the sealed optical semiconductor of the present invention is not particularly limited. For example, the same thing as the above is mentioned. The optical semiconductor used for the sealed optical semiconductor of the present invention is not particularly limited. For example, the same thing as the above is mentioned.
As an optical semiconductor sealing body, for example, it has an optical semiconductor, a frame body having a recess, and a sealing material, the optical semiconductor is disposed at the bottom of the recess, and the frame body is disposed on a side surface of the recess. Examples include a sealed optical semiconductor including a reflector containing silver or silver, the sealing material sealing the optical semiconductor and the reflector, and the sealing material obtained from the composition of the present invention.

本発明の光半導体封止体について添付の図面を用いて以下に説明する。
図3は、本発明の光半導体封止体の一例を模式的に示す断面図である。
図3において、光半導体封止体300は、光半導体303と、凹部302を有する枠体304と、封止材308とを有し、光半導体303は凹部302の底部(図示せず。)に配置され、枠体304は凹部302の側面(図示せず。)に第11族の金属(例えば、銀)から得られるリフレクタ320を備え、封止材308は光半導体303およびリフレクタ320を封止する。
封止材308は、本発明の組成物を硬化させたものである。凹部302において斜線部306まで本発明の組成物で充填してもよい。または符号308の部分を他の透明な層とし斜線部306を本発明の光半導体封止体が有する封止材とすることができる。封止材は蛍光物質等を含有することができる。
光半導体封止体は1個当たり、1個のまたは複数の光半導体を有することができる。光半導体は発光層(マウント部材と接する面の反対面)を上にして枠体内に配置すればよい。
光半導体303は、枠体304と基板310とから形成される、凹部302の底部(図示せず。)に配置され、マウント部材301で固定されている。
リフレクタの別の態様として、枠体304が有する端部312、314が一体的に結合し、リフレクタが側面および底部を形成するものが挙げられる。この場合リフレクタの底部の上に光半導体を配置することができる。
リフレクタ320は凹部302の底部(図示せず。)から遠ざかるほど断面寸法が大きくなる、テーパ状の開口端(図示せず。)を有するものとすることができる。
マウント部材としては例えば銀ペースト、樹脂が挙げられる。光半導体303の各電極(図示せず。)と外部電極309とは導電性ワイヤー307によってワイヤーボンディングされている。
光半導体封止体300は、凹部302を封止材308、306または302(部分308と部分306とを合わせた部分)で封止することができる。
光半導体封止体をシリコーン樹脂層で封止することによって、耐硫化性を高めリフレクタ(金属層、特に銀製のもの、銀を含むもの、銀メッキ層)の腐食(例えば、変色。具体的には銀の変色)を抑制することができ、光半導体封止体の輝度や透明性を低下させることがない。
また、凹部を封止材で封止することによって、封止材は低硬度で硬化収縮が小さいため、封止材が硬化収縮によって凹部からのハガレたり、ワイヤーが断線するのを抑制することができる。
The sealed optical semiconductor of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of the sealed optical semiconductor of the present invention.
In FIG. 3, the optical semiconductor sealing body 300 includes an optical semiconductor 303, a frame 304 having a recess 302, and a sealing material 308, and the optical semiconductor 303 is on the bottom (not shown) of the recess 302. The frame body 304 includes a reflector 320 obtained from a group 11 metal (for example, silver) on a side surface (not shown) of the recess 302, and a sealing material 308 seals the optical semiconductor 303 and the reflector 320. To do.
The sealing material 308 is obtained by curing the composition of the present invention. The recessed portion 302 may be filled with the composition of the present invention up to the shaded portion 306. Alternatively, the portion denoted by reference numeral 308 may be another transparent layer, and the hatched portion 306 may be a sealing material included in the optical semiconductor sealing body of the present invention. The sealing material can contain a fluorescent substance or the like.
One optical semiconductor encapsulant can have one or a plurality of optical semiconductors. The optical semiconductor may be disposed in the frame with the light emitting layer (the surface opposite to the surface in contact with the mount member) facing up.
The optical semiconductor 303 is disposed on the bottom (not shown) of the recess 302 formed from the frame body 304 and the substrate 310, and is fixed by the mount member 301.
As another aspect of the reflector, there is an example in which the end portions 312 and 314 included in the frame body 304 are integrally coupled, and the reflector forms a side surface and a bottom portion. In this case, an optical semiconductor can be disposed on the bottom of the reflector.
The reflector 320 may have a tapered opening end (not shown) whose sectional dimension increases as the distance from the bottom (not shown) of the recess 302 increases.
Examples of the mounting member include silver paste and resin. Each electrode (not shown) of the optical semiconductor 303 and the external electrode 309 are wire bonded by a conductive wire 307.
The optical semiconductor sealing body 300 can seal the concave portion 302 with a sealing material 308, 306, or 302 (a portion in which the portion 308 and the portion 306 are combined).
By sealing the optical semiconductor sealing body with a silicone resin layer, the resistance to sulfidation is enhanced, and corrosion (for example, discoloration. Specifically, discoloration, specifically, a metal layer, particularly silver, silver-containing layer, or silver plating layer). Can suppress silver discoloration) and does not lower the brightness and transparency of the sealed optical semiconductor.
Also, by sealing the recess with the sealing material, the sealing material has low hardness and small curing shrinkage, so that the sealing material can be prevented from peeling off from the recess or disconnection of the wire due to curing shrinkage. it can.

図4は、本発明の光半導体封止体の別の一例を模式的に示す断面図である。
図4において、光半導体封止体400は図3に示す光半導体封止体300の上にレンズ401を有する。レンズ401は本発明の組成物を用いて形成されてもよい。
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing another example of the sealed optical semiconductor of the present invention.
In FIG. 4, the optical semiconductor sealing body 400 has a lens 401 on the optical semiconductor sealing body 300 shown in FIG. The lens 401 may be formed using the composition of the present invention.

図5は、本発明の光半導体封止体の別の一例を模式的に示す断面図である。
図5において、光半導体封止体500は、光半導体503と、凹部(図示せず。)を有する枠体(図示せず。)を含む基板510と、封止材502とを有し、光半導体503は凹部の底部(図示せず。)に配置され、枠体は凹部の側面(図示せず。)に第11族の金属(例えば、銀)から得られるリフレクタ520を備え、ランプ機能を有する樹脂506の内部に基板510、インナーリード505を有し、封止材502が上述のシリコーン樹脂組成物から得られ、封止材502は光半導体503およびリフレクタ520を封止する光半導体封止体である。封止材502は耐硫化性を有する。
図5において、枠体(図示せず。)と基板510とを一体に形成することができる。
リフレクタ520は凹部の側面および底部(図示せず。)とを一体的に形成されていてもよい。
光半導体503は、基板510上にマウント部材501で固定されている。マウント部材としては、例えば、銀ペースト、樹脂が挙げられる。
光半導体503の各電極(図示せず。)は導電性ワイヤー507によってワイヤーボンディングさせている。
樹脂506を本発明の組成物を用いて形成することができる。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing another example of the sealed optical semiconductor of the present invention.
In FIG. 5, an optical semiconductor sealing body 500 includes an optical semiconductor 503, a substrate 510 including a frame body (not shown) having a recess (not shown), and a sealing material 502. The semiconductor 503 is disposed at the bottom (not shown) of the recess, and the frame is provided with a reflector 520 obtained from a group 11 metal (for example, silver) on the side surface (not shown) of the recess, and has a lamp function. The resin 506 has a substrate 510 and inner leads 505, the sealing material 502 is obtained from the above-described silicone resin composition, and the sealing material 502 seals the optical semiconductor 503 and the reflector 520. Is the body. The sealing material 502 has sulfidation resistance.
In FIG. 5, a frame (not shown) and the substrate 510 can be integrally formed.
The reflector 520 may be formed integrally with the side surface and the bottom (not shown) of the recess.
The optical semiconductor 503 is fixed on the substrate 510 with a mount member 501. Examples of the mount member include silver paste and resin.
Each electrode (not shown) of the optical semiconductor 503 is wire-bonded by a conductive wire 507.
Resin 506 can be formed using the composition of the present invention.

本発明の組成物および/または本発明の光半導体封止体をLED表示器に利用する場合について添付の図面を用いて説明する。
図6は、本発明の組成物および/または本発明の光半導体封止体を用いたLED表示器の一例を模式的に示す図である。
図6において、LED表示器600は、光半導体封止体601を筐体604の内部にマトリックス状に配置し、光半導体封止体601を封止材606で封止し、筐体604の一部に遮光部材605を配置して構成されている。本発明の組成物を封止材606に使用することができる。また、光半導体封止体601として本発明の光半導体封止体を使用することができる。
The case where the composition of the present invention and / or the sealed optical semiconductor of the present invention is used for an LED display will be described with reference to the accompanying drawings.
FIG. 6 is a diagram schematically showing an example of an LED display using the composition of the present invention and / or the sealed optical semiconductor of the present invention.
In FIG. 6, an LED display 600 includes an optical semiconductor sealing body 601 arranged in a matrix in a housing 604, and the optical semiconductor sealing body 601 is sealed with a sealing material 606. The light shielding member 605 is arranged in the part. The composition of the present invention can be used for the sealing material 606. Moreover, the optical semiconductor sealing body of the present invention can be used as the optical semiconductor sealing body 601.

本発明のシリコーン樹脂含有構造体、または本発明の光半導体封止体の用途としては、例えば、自動車用ランプ(ヘッドランプ、テールランプ、方向ランプ等)、家庭用照明器具、工業用照明器具、舞台用照明器具、ディスプレイ、信号、プロジェクターが挙げられる。   Applications of the silicone resin-containing structure of the present invention or the sealed optical semiconductor of the present invention include, for example, automobile lamps (head lamps, tail lamps, directional lamps, etc.), household lighting equipment, industrial lighting equipment, stage Lighting fixtures, displays, signals, projectors.

以下に、実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。
[評価]
下記のとおりにして得られた組成物について、耐硫化性、室温安定性、加熱硬化性、透過率を以下に示す方法で評価した。結果を表に示す。
<耐硫化性>
硬化サンプル作製:銀メッキ上に下記のとおりにして得られた組成物を厚さ1mm程度になるよう塗布し、150℃熱風オーブン下の条件下で12時間加熱して硬化させて、硬化サンプルを作製した。
試験:10Lのデシケーターの底に粉状に粉砕した硫化鉄を10g程度(塩酸0.5mmolに対して大過剰)を置き、この硫化鉄の上方に、硫化鉄に接触しないように目皿(貫通孔を有する)をデシケーター内に取り付け、この目皿の上に硬化サンプルを置いた。次に、大過剰の硫化鉄に0.5mmolの塩酸を滴下することにより、0.25mmolの硫化水素(濃度:約500ppm、理論値560ppm)を発生させた(反応式:FeS+2HCl→FeCl2+H2S)。硫化水素発生から24時間後(室温)に目視により銀の変色を確認した。目視により変色が確認されなかったものを「○」、目視によりわずかに変色が確認されたものを「△」、目視により大きく変色が確認されたものを「×」とした。
本発明において耐硫化試験での硫化水素の濃度は理論値560ppmであるものとする。耐硫化試験では塩酸を0.5mmol添加しているので硫化水素は0.25mmol(0.25mmol×22.4リットル=5.6ミリリットル)生成する。故に硫化水素の濃度は[5.6ミリリットル/10リットル(デシケータの容積)]×106=560ppmとなる。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to these.
[Evaluation]
About the composition obtained as follows, sulfidation resistance, room temperature stability, heat-curing property, and the transmittance | permeability were evaluated by the method shown below. The results are shown in the table.
<Sulfurization resistance>
Preparation of cured sample: The composition obtained as described below was applied on silver plating so as to have a thickness of about 1 mm, and cured by heating for 12 hours under conditions of 150 ° C. hot air oven. Produced.
Test: Place about 10 g of iron sulfide ground in powder form (large excess with respect to 0.5 mmol of hydrochloric acid) on the bottom of a 10-liter desiccator. (With holes) was mounted in a desiccator and the cured sample was placed on the pan. Next, 0.25 mmol hydrogen sulfide (concentration: about 500 ppm, theoretical value 560 ppm) was generated by dropping 0.5 mmol hydrochloric acid into a large excess of iron sulfide (reaction formula: FeS + 2HCl → FeCl 2 + H 2). S). The silver discoloration was visually confirmed 24 hours after hydrogen sulfide generation (room temperature). “◯” indicates that no discoloration was confirmed by visual inspection, “Δ” indicates that discoloration was slightly confirmed by visual observation, and “×” indicates that discoloration was largely confirmed by visual inspection.
In the present invention, the concentration of hydrogen sulfide in the sulfidation resistance test is a theoretical value of 560 ppm. In the sulfidation resistance test, 0.5 mmol of hydrochloric acid is added, so that 0.25 mmol (0.25 mmol × 22.4 liters = 5.6 ml) of hydrogen sulfide is generated. Therefore, the concentration of hydrogen sulfide is [5.6 ml / 10 liter (desiccator volume)] × 10 6 = 560 ppm.

<室温安定性>
下記のとおりにして得られた組成物の粘度(初期粘度)と、下記のとおりにして得られた組成物を23℃、55%RHの条件下におき24時間後(24時間後の粘度)とを、E型粘度計を用いてRH50%、25℃の条件下で測定し、混合から24時間後の増粘度[(24時間後の粘度)/(初期粘度)]を評価した。
<加熱硬化性>
下記のとおりにして得られた組成物を150℃、熱風オーブンの条件下で、8時間置いたのちに得られた硬化物の硬度を硬度計を用いて測定した。規定硬度の70%以上を「○」、70%未満を「×」とした。
<Room temperature stability>
The viscosity (initial viscosity) of the composition obtained as described below and the composition obtained as described below were placed under conditions of 23 ° C. and 55% RH and after 24 hours (viscosity after 24 hours). Were measured under the conditions of RH 50% and 25 ° C. using an E-type viscometer, and the viscosity increase [(viscosity after 24 hours) / (initial viscosity)] 24 hours after mixing was evaluated.
<Heat curing>
The composition obtained as described below was measured for 8 hours under conditions of 150 ° C. and hot air oven, and the hardness of the cured product was measured using a hardness meter. 70% or more of the specified hardness was “◯”, and less than 70% was “x”.

<透過保持率>
透過率評価試験において、下記のようにして得られた組成物を150℃の条件下で12時間硬化させて得られた初期硬化物、および耐熱試験(初期硬化物をさらに150℃の条件下で10日間加熱する試験。)後の硬化物(いずれも厚さが2mm。)についてそれぞれ、JIS K0115:2004に準じ紫外・可視吸収スペクトル測定装置(島津製作所社製)を用いて波長400nmにおける直線透過率を測定した。そして、耐熱試験後の直線透過率の初期の直線透過率に対する透過保持率を下記計算式によって求めた。
透過保持率(%)=(耐熱試験後の直線透過率)/(初期の直線透過率)×100
<Transmission retention>
In the transmittance evaluation test, an initial cured product obtained by curing the composition obtained as described below at 150 ° C. for 12 hours, and a heat resistance test (the initial cured product was further subjected to a 150 ° C. condition). Test for heating for 10 days.) For each of the cured products (2 mm in thickness) after each, linear transmission at a wavelength of 400 nm using an ultraviolet / visible absorption spectrum measuring apparatus (manufactured by Shimadzu Corporation) in accordance with JIS K0115: 2004. The rate was measured. And the permeation | transmission retention with respect to the initial linear transmittance of the linear transmittance after a heat test was calculated | required by the following formula.
Transmission retention (%) = (Linear transmittance after heat test) / (Initial linear transmittance) × 100

[組成物の製造]
各表に示す成分を同表に示す量(質量部)で用いて、これらをミキサー(あわとり錬太郎、シンキー社製)を用いて均一に混合し組成物を製造した。
[Production of composition]
The components shown in each table were used in the amounts (parts by mass) shown in the table, and these were uniformly mixed using a mixer (Awatori Rentaro, manufactured by Shinky Corporation) to produce a composition.

各表に示されている各成分の詳細は以下のとおりである。
・(A)ポリシロキサン1:ポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール、重量平均分子量49,000、商品名ss10、信越化学工業社製
・(A)ポリシロキサン2:PRX−413(東レ・ダウコーニング社製)、ポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール(重量平均分子量4,000)
・(A)ポリシロキサン3:SR−1000(モメンティブ・マテリアルズ・ジャパン社製)、MQレジン(重量平均分子量4000)SR−1000は、下記式(I)で表される構造を有する。
(R1SiO3/2)a(R2 2SiO2/2)b(R3 3SiO1/2)c(SiO4/2)d(XO1/2)e (I)
式中、a、bは0であり、R1〜R3はメチル基、Xは水素基でd/(a+b+c+d)が0.5、e/(a+b+c+d)が0.07であり、R3SiO1/2単位及びSiO4/2単位を繰り返し単位でSiO4/2単位1モルに対しR3SiO1/2単位の割合が0.5モル〜1.2モルで有する。
・(B)アルコキシシリル化合物1:両末端トリメトキシシリルシロキサン(両末端トリメトキシシロキシ封鎖ジメチルポリシロキサン)
アルコキシシリル化合物1は以下のとおり製造した。
500mLの3つ口フラスコに攪拌機とリフラックスコンデンサーを備え付け両末端にシラノール基を有するポリシロキサン(ポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール、重量平均分子量49,000、商品名ss10、信越化学工業社製。)を100質量部、テトラメトキシシランを10質量部、および酢酸を0.1質量部添加し窒素雰囲気下で100℃の条件下で6時間反応させた。1H−NMR分析によりss10が有するシラノール基の消失を確認した。得られたオルガノシロキサンをアルコキシシリル化合物1とした。アルコキシシリル化合物1は以下の式で示される、両末端がトリメトキシシロキシ基で封鎖されたジメチルポリシロキサンである。アルコキシシリル化合物1の重量平均分子量は55,000であった。ポリシロキサンの重量平均分子量はクロロホルムを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)分析によりポリスチレン換算で表わされるものである。アルコキシシリル化合物1の25℃における粘度は1,500mPa・sであった。
Details of each component shown in each table are as follows.
(A) Polysiloxane 1: Polydimethylsiloxane-α, ω-diol, weight average molecular weight 49,000, trade name ss10, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (A) Polysiloxane 2: PRX-413 (Toray Dow Corning Co., Ltd.), polydimethylsiloxane-α, ω-diol (weight average molecular weight 4,000)
-(A) Polysiloxane 3: SR-1000 (manufactured by Momentive Materials Japan), MQ resin (weight average molecular weight 4000) SR-1000 has a structure represented by the following formula (I).
(R 1 SiO 3/2 ) a (R 2 2 SiO 2/2 ) b (R 3 3 SiO 1/2 ) c (SiO 4/2 ) d (XO 1/2 ) e (I)
In the formula, a and b are 0, R 1 to R 3 are methyl groups, X is a hydrogen group, d / (a + b + c + d) is 0.5, e / (a + b + c + d) is 0.07, and R 3 SiO ratio of R 3 SiO 1/2 units to SiO 4/2 units 1 mol of repeating units 1/2 units and SiO 4/2 units has at 0.5 mol to 1.2 mol.
(B) Alkoxysilyl compound 1: Trimethoxysilylsiloxane at both ends (trimethoxysiloxy-blocked dimethylpolysiloxane at both ends)
The alkoxysilyl compound 1 was produced as follows.
A 500 mL three-necked flask equipped with a stirrer and a reflux condenser and a polysiloxane having silanol groups at both ends (polydimethylsiloxane-α, ω-diol, weight average molecular weight 49,000, trade name ss10, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 100 parts by mass, 10 parts by mass of tetramethoxysilane, and 0.1 part by mass of acetic acid were added and reacted under a nitrogen atmosphere at 100 ° C. for 6 hours. The disappearance of the silanol group possessed by ss10 was confirmed by 1 H-NMR analysis. The obtained organosiloxane was designated as alkoxysilyl compound 1. The alkoxysilyl compound 1 is dimethylpolysiloxane represented by the following formula and having both ends blocked with trimethoxysiloxy groups. The weight average molecular weight of the alkoxysilyl compound 1 was 55,000. The weight average molecular weight of polysiloxane is expressed in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC) analysis using chloroform as a solvent. The viscosity of the alkoxysilyl compound 1 at 25 ° C. was 1,500 mPa · s.

・(B)アルコキシシリル化合物2:末端ポリメトキシシリルシロキサン(両末端多官能アルコキシシロキシ基含有ジメチルポリシロキサン)
アルコキシシリル化合物2は以下のとおり製造した。
500mLの3つ口フラスコに攪拌機とリフラックスコンデンサーを備え付け両末端にシラノール基を有するポリシロキサン(ポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール、重量平均分子量21,000、商品名ss70、信越化学工業社製。)を100質量部、信越化学工業社製KC−89S(アルコキシシラン縮合物、メトキシ基45重量%、粘度5mPa・s)を10質量部、および酢酸を0.1質量部添加し窒素雰囲気下で120℃の条件下で16時間反応させた。1H−NMR分析によりss70が有するシラノール基の消失を確認した。その後、140℃、1.3kPaの条件下で3時間、系内から酢酸と低沸点不純物を留去し、原料のシラノール基を有するポリシロキサンの両末端がケイ素結合アルコキシ基を45重量%有するアルコキシシランオリゴマーで封止(変性)されているポリジメチルシロキサンを得た。得られたポリシロキサンをアルコキシシリル化合物2とした。アルコキシシリル化合物2の25℃における粘度は2000mPa・sであった。
(B) Alkoxysilyl compound 2: terminal polymethoxysilylsiloxane (both terminal polyfunctional alkoxysiloxy group-containing dimethylpolysiloxane)
The alkoxysilyl compound 2 was produced as follows.
A 500 mL three-necked flask equipped with a stirrer and a reflux condenser and a polysiloxane having silanol groups at both ends (polydimethylsiloxane-α, ω-diol, weight average molecular weight 21,000, trade name ss70, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) .) 100 parts by mass, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KC-89S (alkoxysilane condensate, 45% by weight of methoxy group, viscosity 5 mPa · s) and 10 parts by mass of acetic acid are added under a nitrogen atmosphere. And reacted at 120 ° C. for 16 hours. The disappearance of the silanol group possessed by ss70 was confirmed by 1 H-NMR analysis. Thereafter, acetic acid and low-boiling impurities are distilled off from the system for 3 hours under conditions of 140 ° C. and 1.3 kPa, and an alkoxy having 45% by weight of silicon-bonded alkoxy groups at both ends of the starting polysiloxane having silanol groups. Polydimethylsiloxane sealed (modified) with a silane oligomer was obtained. The obtained polysiloxane was designated as alkoxysilyl compound 2. The viscosity of the alkoxysilyl compound 2 at 25 ° C. was 2000 mPa · s.

・(B)アルコキシシリル化合物3:x−40−9246(信越化学工業社製)、シリコーンアルコキシオリゴマー[RmSi(OR′)n(4-m-n)/2、式中、Rは炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基またはアリール基であり、R′は炭素数1〜6のアルキル基であり、mは0<m<2、nは0<n<2、m+nは0<m+n≦3である。重量平均分子量6,000
・(B)アルコキシシリル化合物4:PRX−413(東レ・ダウコーニング、(A)ポリシロキサン2:PRX−413と同様。)を100gに対してXR31−2733(モーメンティブ社製、アルコキシオリゴマー)を100g、酢酸0.2gを投入し、100℃6hrにて反応させ、揮発分(反応残渣:酢酸やメタノール等)を100℃2hrで反応させ、アルコキシシリル化合物4(413−2733)を得た。
・(C)ジルコニウム化合物1:トリブトキシナフテン酸ジルコニウム
トリブトキシナフテン酸ジルコニウムは以下のとおり製造した。ジルコニウムテトラブトキシド(関東化学社製、0.026mol)とナフテン酸(東京化成社製、カルボキシ基に結合する炭化水素基の炭素原子数の平均:15、中和価220mg、以下同様。)6.6g(0.026mol)とを窒素雰囲気下、室温で2時間程度攪拌し反応させ目的合成物とした。
なお、ナフテン酸の中和価はナフテン酸1gを中和するのに必要なKOHの量である。
合成物の定性はフーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR)を用いてその分析を行った。その結果、カルボン酸由来のCOOHに帰属される1700cm-1付近の吸収が反応後は消失し、1450〜1560cm-1付近のCOOZrに由来するピークを確認した。
得られた合成物をジルコニウム化合物1とする。ジルコニウム化合物1が有するナフテート基(R1COO−)中のR1の平均炭素原子数は15である。
・(C)ハフニウム化合物1:トリブトキシナフテン酸ハフニウム
ハフニウム化合物1は以下のとおり製造した。ハフニウムテトラブトキシド(Gelest社製、0.01mol)とナフテン酸(東京化成社製、カルボキシ基に結合する炭化水素基の炭素原子数の平均:15、中和価220mg。なお、ナフテン酸の中和価はナフテン酸1gを中和するのに必要なKOHの量である。)2.55g(0.01mol)とを窒素雰囲気下、室温で2時間程度攪拌し反応させ目的合成物とした。
合成物の定性はフーリエ変換赤外分光光度計(FT−IR)を用いてその分析を行った。その結果カルボン酸由来のCOOHに帰属される1700cm-1付近の吸収が反応後は消失し、1,450〜1,560cm-1付近のCOOHfに由来するピークを確認した。得られた合成物をハフニウム化合物1とする。ハフニウム化合物1が有するナフテート基(R1COO−)中のR1の平均炭素原子数は15である。
· (B) alkoxysilyl compound 3: x-40-9246 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), a silicone alkoxy oligomer [R m Si (OR ') n O (4-mn) / 2, wherein, R is the number of carbon atoms 1 to 6 alkyl groups, alkenyl groups or aryl groups, R ′ is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, m is 0 <m <2, n is 0 <n <2, m + n is 0 <m + n ≦ 3. Weight average molecular weight 6,000
-(B) alkoxysilyl compound 4: PRX-413 (Toray Dow Corning, (A) polysiloxane 2: similar to PRX-413) 100 g XR31-2733 (Momentive Co., alkoxy oligomer) 100 g and 0.2 g of acetic acid were added and reacted at 100 ° C. for 6 hr, and volatile components (reaction residue: acetic acid, methanol, etc.) were reacted at 100 ° C. for 2 hr to obtain alkoxysilyl compound 4 (413-2733).
-(C) Zirconium compound 1: zirconium tributoxy naphthenate Zirconium tributoxy naphthenate was produced as follows. Zirconium tetrabutoxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd., 0.026 mol) and naphthenic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., average number of carbon atoms of the hydrocarbon group bonded to the carboxy group: 15, neutralization value of 220 mg, and so on) 6 g (0.026 mol) was reacted by stirring at room temperature for about 2 hours in a nitrogen atmosphere to obtain a target compound.
The neutralization value of naphthenic acid is the amount of KOH required to neutralize 1 g of naphthenic acid.
The qualitative properties of the synthesized product were analyzed using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR). As a result, absorption near 1700 cm −1 attributed to COOH derived from carboxylic acid disappeared after the reaction, and a peak derived from COOZr near 1450 to 1560 cm −1 was confirmed.
The resulting composite is referred to as zirconium compound 1. The average number of carbon atoms of R 1 in the naphthate group (R 1 COO—) of the zirconium compound 1 is 15.
(C) Hafnium compound 1: Hafnium tributoxynaphthenate Hafnium compound 1 was produced as follows. Hafnium tetrabutoxide (manufactured by Gelest, 0.01 mol) and naphthenic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd., average number of carbon atoms of the hydrocarbon group bonded to the carboxy group: 15, neutralization value 220 mg. In addition, neutralization of naphthenic acid The value is the amount of KOH necessary to neutralize 1 g of naphthenic acid.) 2.55 g (0.01 mol) was reacted with stirring under a nitrogen atmosphere at room temperature for about 2 hours to obtain the target compound.
The qualitative properties of the synthesized product were analyzed using a Fourier transform infrared spectrophotometer (FT-IR). As a result, absorption near 1700 cm −1 attributed to COOH derived from carboxylic acid disappeared after the reaction, and a peak derived from COOHf near 1,450 to 1,560 cm −1 was confirmed. The resultant composite is referred to as hafnium compound 1. The average number of carbon atoms of R 1 in the naphthate group (R 1 COO—) of the hafnium compound 1 is 15.

・(C)錫化合物1:ネオスタンU−200、ジブチル錫ジアセテート(日東化成)
・(C)錫化合物2:ネオスタンU−28、ビス(2−エチルヘキサン酸)錫(日東化成)
・(C)ランタノイド化合物1:トリス(2エチルヘキサノエート)セリウム(Gelest社製)
・(C)アルミニウム化合物1:アルミニウムトリスアセチルアセトナート(川研ファインケミカル)
・(C)亜鉛化合物1:商品名22%Zn、1.6モル反応物2−エチルヘキサン酸亜鉛(ホープ製薬社製)
・(C)チタン化合物1:ジイソプロポキシ−ビス(アセト酢酸エチル)チタン
・(D)2メルカプトベンゾチアゾール(四国化成社製)
・(D)ベンゾチアゾール:無置換のベンゾチアゾール(東京化成工業社製)
・(D)トリアジンチオール1:アミノ基含有シリコーンオイルX−22−161A:100g(アミン当量800、信越化学工業(株)製)、トリアジントリチオール23.3g、トルエン100gを温度計、水冷コンデンサーを備えた1Lセパラブルフラスコに投入し、100℃で12時間加熱攪拌し反応を進行させた。反応の進行と共に、混合物の粘度は増加し、増粘が停止したところで反応終了とした。その後、溶媒を減圧下で留去し、それとともに発生した硫化水素も除去した。得られた反応生成物は淡黄濁色のワックス状物質で、重量平均分子量は2000であった。この生成物のIRスペクトルを測定したところ、反応前と比べて、N−H構造に由来する吸収が減少し、新たにトリアジンチオール構造に由来する吸収が観測された。
・(D)トリアジンチオール2:アミノ基含有シリコーンオイルKF−857:100g(アミン当量800、信越化学工業(株)製)、トリアジントリチオール23.3g、トルエン100gを温度計、水冷コンデンサーを備えた1Lセパラブルフラスコに投入し、100℃で12時間加熱攪拌し反応を進行させた。反応の進行と共に、混合物の粘度は増加し、増粘が停止したところで反応終了とした。その後、溶媒を減圧下で留去し、それとともに発生した硫化水素も除去した。得られた反応生成物は淡黄濁色のワックス状物質で、重量平均分子量は2000であった。この生成物のIRスペクトルを測定したところ、反応前と比べて、N−H構造に由来する吸収が減少し、新たにトリアジンチオール構造に由来する吸収が観測された。
・(D)トリアジンチオール3:アミノ基含有シリコーンオイルKF−8001:100g(アミン当量800、信越化学工業(株)製)、トリアジントリチオール23.3g、トルエン100gを温度計、水冷コンデンサーを備えた1Lセパラブルフラスコに投入し、100℃で12時間加熱攪拌し反応を進行させた。反応の進行と共に、混合物の粘度は増加し、増粘が停止したところで反応終了とした。その後、溶媒を減圧下で留去し、それとともに発生した硫化水素も除去した。得られた反応生成物は淡黄濁色のワックス状物質で、重量平均分子量は2000であった。この生成物のIRスペクトルを測定したところ、反応前と比べて、N−H構造に由来する吸収が減少し、新たにトリアジンチオール構造に由来する吸収が観測された。
・(D)トリアジンチオール4:アミノ基含有シリコーンオイルKF9192:100g(アミン当量800、信越化学工業(株)製)、トリアジントリチオール23.3g、トルエン100gを温度計、水冷コンデンサーを備えた1Lセパラブルフラスコに投入し、100℃で12時間加熱攪拌し反応を進行させた。反応の進行と共に、混合物の粘度は増加し、増粘が停止したところで反応終了とした。その後、溶媒を減圧下で留去し、それとともに発生した硫化水素も除去した。得られた反応生成物は淡黄濁色のワックス状物質で、重量平均分子量は2000であった。この生成物のIRスペクトルを測定したところ、反応前と比べて、N−H構造に由来する吸収が減少し、新たにトリアジンチオール構造に由来する吸収が観測された。
・イミダゾールシラン(商品名:IM−1000、新日鉄化学社製)
・(E)ビストリメトキシアルカン:ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン(商品名:Z6830、東レ・ダウコーニング社製)
・(E)イソシアヌレートシラン:トリス(トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート(商品名:x−12−965、信越化学工業社製)
-(C) Tin compound 1: Neostan U-200, Dibutyltin diacetate (Nitto Kasei)
(C) Tin compound 2: Neostan U-28, bis (2-ethylhexanoic acid) tin (Nitto Kasei)
(C) Lanthanoid compound 1: Tris (2-ethylhexanoate) cerium (manufactured by Gelest)
・ (C) Aluminum compound 1: Aluminum trisacetylacetonate (Kawaken Fine Chemical)
-(C) Zinc compound 1: Trade name 22% Zn, 1.6 mol reactant 2-ethylhexanoate zinc (manufactured by Hope Pharmaceutical Co., Ltd.)
(C) Titanium compound 1: diisopropoxy-bis (ethyl acetoacetate) titanium (D) 2 mercaptobenzothiazole (manufactured by Shikoku Chemicals)
-(D) benzothiazole: unsubstituted benzothiazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
(D) Triazinethiol 1: amino group-containing silicone oil X-22-161A: 100 g (amine equivalent 800, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), triazine trithiol 23.3 g, toluene 100 g thermometer, water-cooled condenser The reaction mixture was put into a 1 L separable flask equipped and heated and stirred at 100 ° C. for 12 hours to advance the reaction. As the reaction progressed, the viscosity of the mixture increased, and the reaction was terminated when the thickening stopped. Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure, and hydrogen sulfide generated therewith was also removed. The obtained reaction product was a pale yellow waxy substance, and the weight average molecular weight was 2000. When the IR spectrum of this product was measured, the absorption derived from the N—H structure decreased compared with that before the reaction, and a new absorption derived from the triazine thiol structure was observed.
(D) Triazinethiol 2: amino group-containing silicone oil KF-857: 100 g (amine equivalent 800, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), triazine trithiol 23.3 g, toluene 100 g equipped with thermometer and water-cooled condenser It was put into a 1 L separable flask and heated and stirred at 100 ° C. for 12 hours to allow the reaction to proceed. As the reaction progressed, the viscosity of the mixture increased, and the reaction was terminated when the thickening stopped. Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure, and hydrogen sulfide generated therewith was also removed. The obtained reaction product was a pale yellow waxy substance, and the weight average molecular weight was 2000. When the IR spectrum of this product was measured, the absorption derived from the N—H structure decreased compared with that before the reaction, and a new absorption derived from the triazine thiol structure was observed.
(D) Triazine thiol 3: amino group-containing silicone oil KF-8001: 100 g (amine equivalent 800, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), triazine trithiol 23.3 g, toluene 100 g were equipped with a thermometer and a water-cooled condenser. It was put into a 1 L separable flask and heated and stirred at 100 ° C. for 12 hours to allow the reaction to proceed. As the reaction progressed, the viscosity of the mixture increased, and the reaction was terminated when the thickening stopped. Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure, and hydrogen sulfide generated therewith was also removed. The obtained reaction product was a pale yellow waxy substance, and the weight average molecular weight was 2000. When the IR spectrum of this product was measured, the absorption derived from the N—H structure decreased compared with that before the reaction, and a new absorption derived from the triazine thiol structure was observed.
(D) Triazine thiol 4: amino group-containing silicone oil KF 9192: 100 g (amine equivalent 800, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), triazine trithiol 23.3 g, toluene 100 g 1 L Separa equipped with thermometer and water-cooled condenser The reaction mixture was put into a bull flask and heated and stirred at 100 ° C. for 12 hours to advance the reaction. As the reaction progressed, the viscosity of the mixture increased, and the reaction was terminated when the thickening stopped. Thereafter, the solvent was distilled off under reduced pressure, and hydrogen sulfide generated therewith was also removed. The obtained reaction product was a pale yellow waxy substance, and the weight average molecular weight was 2000. When the IR spectrum of this product was measured, the absorption derived from the N—H structure decreased compared with that before the reaction, and a new absorption derived from the triazine thiol structure was observed.
・ Imidazolesilane (trade name: IM-1000, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
(E) Bistrimethoxyalkane: Bis (trimethoxysilyl) hexane (trade name: Z6830, manufactured by Toray Dow Corning)
(E) Isocyanurate silane: Tris (trimethoxysilylpropyl) isocyanurate (trade name: x-12-965, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

上記表に示す結果から明らかなように、(D)成分を含有しない比較例1、2、(D)成分を含有せず代わりにイミダゾール化合物を含有する比較例3は耐硫化性に劣った。(A)シラノール基含有オルガノポリシロキサンを含有しない比較例4は室温安定性、加熱硬化性、耐硫化性に劣った。(B)成分を含有しない比較例5は硬化せず加熱硬化性が悪かった。(D)成分を含有しない比較例6はゲル化し室温安定性が低かった。(A)シラノール基含有オルガノポリシロキサンを含有しない比較例7は室温安定性、加熱硬化性、耐硫化性に劣った。
これに対して、参考例I−1〜7、実施例II−1〜7は、耐硫化性、室温安定性、加熱硬化性、透過性に優れる。
As is clear from the results shown in the above table, Comparative Examples 1 and 2 not containing the component (D) and Comparative Example 3 containing no imidazole compound instead of the component (D) were inferior in sulfur resistance. (A) Comparative Example 4 containing no silanol group-containing organopolysiloxane was inferior in room temperature stability, heat curability, and sulfuration resistance. The comparative example 5 which does not contain (B) component did not harden | cure but heat-hardening property was bad. Comparative Example 6 containing no component (D) gelled and had low room temperature stability. (A) Comparative Example 7 containing no silanol group-containing organopolysiloxane was inferior in room temperature stability, heat curability, and sulfuration resistance.
On the other hand, Reference Examples I-1 to 7 and Examples II-1 to 7 are excellent in sulfidation resistance, room temperature stability, heat curability, and permeability.

100、200 積層体(シリコーン樹脂含有構造体)
102、202 シリコーン樹脂層
120、220 部材
203 光半導体
300、400、500 光半導体封止体
301、501 マウント部材
302、502 凹部、シリコーン樹脂層
303、503 光半導体
304 枠体
306 斜線部(シリコーン樹脂層)
307、507 導電性ワイヤー
308 シリコーン樹脂層(その他の透明な層)
309 外部電極
312、314 端部
310、510 基板
320、520 リフレクタ
401 レンズ
506 樹脂
600 LED表示器
601 光半導体封止体
604 筐体
605 遮光部材
606 封止材
100, 200 Laminate (silicone resin-containing structure)
102, 202 Silicone resin layer 120, 220 member 203 Optical semiconductor 300, 400, 500 Sealed optical semiconductor body 301, 501 Mount member 302, 502 Recessed part, Silicone resin layer 303, 503 Optical semiconductor 304 Frame body 306 Shaded portion (silicone resin) layer)
307, 507 Conductive wire 308 Silicone resin layer (other transparent layers)
309 External electrode 312, 314 End 310, 510 Substrate 320, 520 Reflector 401 Lens 506 Resin 600 LED display 601 Optical semiconductor sealing body 604 Housing 605 Light shielding member 606 Sealing material

Claims (11)

(A)シラノール基を有するオルガノポリシロキサン、
(B)アルコキシリル基を有するオルガノポリシロキサン、
(C)縮合触媒、並びに
(D)リアジン化合物を含有する加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
(A) an organopolysiloxane having a silanol group,
(B) an organopolysiloxane having an alkoxylyl group,
(C) condensation catalyst, and (D) Preparative triazine compound heat-curable silicone resin composition containing.
前記(C)縮合触媒がAl、Zn、Sn、Zr、Hf、Tiおよびランタノイドからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む金属化合物である請求項1に記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。 The thermosetting silicone resin composition according to claim 1, wherein the condensation catalyst (C) is a metal compound containing at least one selected from the group consisting of Al, Zn, Sn, Zr, Hf, Ti, and a lanthanoid. 前記(C)成分がZnの金属塩化合物とSnの金属塩化合物および/またはランタノイドの金属塩化合物とを少なくとも含み、前記Znの金属塩化合物に対する、前記Snの金属塩化合物および/またはランタノイドの金属塩化合物の重量比が1以下である請求項1又は2に記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。 The component (C) includes at least a metal salt compound of Zn, a metal salt compound of Sn and / or a metal salt compound of lanthanoid, and the metal salt compound of Sn and / or lanthanoid metal with respect to the metal salt compound of Zn The thermosetting silicone resin composition according to claim 1 or 2 , wherein the weight ratio of the salt compound is 1 or less. 前記(A)成分が、
下記式(1)で表されるジオルガノポリシロキサン、および/または、
3SiO1/2単位(式中のRはそれぞれ非置換または置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基である。)及びSiO4/2単位を繰り返し単位で前記SiO4/2単位1モルに対し前記R3SiO1/2単位の割合が0.5モル〜1.2モルで有し、かつ前記シラノール基を6.0質量%未満有するシリコーンレジンを含む請求項1〜のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。
[式(1)中、R1は同一のまたは異なる、アルキル基、アリール基であり、nは10以上の整数である。]
The component (A) is
Diorganopolysiloxane represented by the following formula (1), and / or
R 3 (R in the formula are each an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.) SiO 1/2 units and said SiO 4/2 repeating units of SiO 4/2 units unit 1 mole ratio of the R 3 SiO 1/2 units to having 0.5 mol to 1.2 mol, and claim 1-3 comprising a silicone resin having less than 6.0 wt% of the silanol groups The heat-curable silicone resin composition according to any one of the above.
[In Formula (1), R 1 is the same or different alkyl group and aryl group, and n is an integer of 10 or more. ]
前記(D)成分の量が、前記(A)成分および前記(B)成分の合計100質量部に対して0.01〜10質量部である請求項1〜のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。 The amount of said (D) component is 0.01-10 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of said (A) component and said (B) component, The heat curing in any one of Claims 1-4. Silicone resin composition. 前記(C)成分の量が、前記(A)成分および前記(B)成分の合計100質量部に対して0.001〜10質量部である請求項1〜のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。 The amount of said (C) component is 0.001-10 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of said (A) component and said (B) component, The heat curing in any one of Claims 1-5 Silicone resin composition. 前記(B)成分の量が、前記(A)成分100質量部に対して0.1〜5000質量部である請求項1〜のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。 (B) the amount of component, wherein (A) heat-curable silicone resin composition according to any one of claims 1 to 6, which is 0.1 to 5000 parts by mass relative to 100 parts by weight of component. さらに(E)成分として、ビス(アルコキシシリル)アルカン、ビス(アルコキシシリルアルキル)アミンおよびイソシアヌレート化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有する請求項1〜のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。 The heat curing according to any one of claims 1 to 7 , further comprising at least one selected from the group consisting of bis (alkoxysilyl) alkanes, bis (alkoxysilylalkyl) amines and isocyanurate compounds as component (E). Silicone resin composition. 前記(E)成分の量が、前記(A)成分および前記(B)成分の合計100質量部に対して0.1〜10質量部である請求項に記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。 The amount of the said (E) component is 0.1-10 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of the said (A) component and the said (B) component, The thermosetting silicone resin composition of Claim 8 . 前記シリコーンレジンが、さらに、SiO4/2単位1モルに対しR2SiO2/2単位(式中のRはそれぞれ非置換または置換のアリル基、アルキル基、アリール基である。)およびRSiO3/2単位(式中のRはそれぞれ非置換または置換の炭素数1〜6の1価の炭化水素基である。)のうち少なくとも1つを前記R2SiO2/2単位、前記RSiO3/2単位がそれぞれ1.0モル以下で、前記R2SiO2/2単位、前記RSiO3/2単位の合計が1.0モル以下となるように有する請求項のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物。 The silicone resin further contains R 2 SiO 2/2 units (wherein R is an unsubstituted or substituted allyl group, alkyl group or aryl group, respectively) and RSiO 3 with respect to 1 mol of SiO 4/2 units. / 2 units (wherein each R is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms) is at least one of the R 2 SiO 2/2 unit, the RSiO 3 / 2 units of 1.0 mol or less, wherein R 2 SiO 2/2 units, according to any one of claims 4-9 total of the RSiO 3/2 units has to be 1.0 mol or less Heat curable silicone resin composition. 請求項1〜10のいずれかに記載の加熱硬化性シリコーン樹脂組成物が光半導体を封止してなる光半導体封止体。 The optical semiconductor sealing body formed by sealing the optical semiconductor with the thermosetting silicone resin composition in any one of Claims 1-10 .
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