JP5407258B2 - Adhesive silicone resin composition for sealing optical semiconductor and optical semiconductor sealing body using the same - Google Patents

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Description

本発明は、接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物およびこれを用いる光半導体封止体に関する。   The present invention relates to a silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor and an optical semiconductor sealing body using the same.

従来、光半導体を封止するための組成物には樹脂としてエポキシ樹脂を使用することが提案されている(例えば、特許文献1)。しかしながら、エポキシ樹脂を含有する組成物から得られる封止体は白色LED素子からの発熱によって色が黄変するなどの問題があった。
また、2個のシラノール基を有するオルガノポリシロキサンと、ケイ素原子に結合した加水分解可能な基を1分子中に2個以上有する化合物等と、有機ジルコニウム化合物とを含有する室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物が提案されている(例えば、特許文献2、3)。
また、2個のシラノール基を有するジオルガノポリシロキサン等と、アルコキシ基を3個以上有するシラン等とに縮合触媒を混合し加熱することが提案されている(例えば、特許文献4、5)。
また、特定のジオルガノポリシロキサン、ジシラアルカン化合物および硬化触媒等を含有する室温湿気硬化性シリコーンゴム組成物が提案されている(例えば、特許文献6、7)。
Conventionally, it has been proposed to use an epoxy resin as a resin for a composition for sealing an optical semiconductor (for example, Patent Document 1). However, the encapsulant obtained from the composition containing the epoxy resin has a problem that the color of the encapsulant is yellowed by heat generated from the white LED element.
A room temperature-curable organopolysiloxane containing an organopolysiloxane having two silanol groups, a compound having two or more hydrolyzable groups bonded to a silicon atom in one molecule, and an organic zirconium compound Compositions have been proposed (for example, Patent Documents 2 and 3).
It has also been proposed to mix and heat a condensation catalyst to diorganopolysiloxane having two silanol groups and silane having three or more alkoxy groups (for example, Patent Documents 4 and 5).
In addition, room temperature moisture-curable silicone rubber compositions containing specific diorganopolysiloxanes, disilaalkane compounds and curing catalysts have been proposed (for example, Patent Documents 6 and 7).

特開平10−228249号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-228249 特開2001−200161号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-200161 特開平2−196860号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-196860 特開2007−224089号公報JP 2007-224089 A 特開2006−206700号公報JP 2006-206700 A 特開2007−119768号公報JP 2007-119768 A 特開2003−221506号公報JP 2003-221506 A

しかしながら、従来の2個のシラノール基を有するオルガノポリシロキサンと、ケイ素原子に結合した加水分解可能な基を1分子中に2個以上有する化合物等と、有機ジルコニウム化合物とを含有するオルガノポリシロキサン組成物は、室温湿気硬化であり、また熱硬化性であるものの、硬化性が悪く、作業中に増粘し透明性が失われ作業性に劣ることを本願発明者は見出した。
また、2個のシラノール基を有するオルガノポリシロキサンと、ケイ素原子に結合した加水分解可能な基を1分子中に2個以上有するケイ素化合物と、縮合触媒としてのアルミ系化合物とを含有する組成物を用いる場合、得られる硬化物において加熱減量が激しく硬化物がもろくなってしまうことを本願発明者は見出した。
また、本願発明者は、2個のシラノール基を有するオルガノポリシロキサンと、ケイ素原子に結合した加水分解可能な基を1分子中に2個以上有するケイ素化合物と、アルミ系のような従来の縮合触媒とを含有する組成物を室温下でまたは加熱して硬化させて硬化物としてポリシロキサンを得た場合、得られた硬化物が高温下にさらされるとポリシロキサンのシロキサン結合が切断され、これによって硬化物がもろくなってしまうことを見出した。また、切断された部分は6員環等の環状ポリシロキサンを形成し、環状ポリシロキサンが硬化物の表面あるいは系外にブリードアウトして硬化物の形状安定性が大きく損なわれる。
また、本願発明者は、1分子中に2個以上のシラノール基を有するポリシロキサンと、1分子中にケイ素原子に結合している、アルコキシ基および/またはヒドロキシ基を2個以上有するケイ素化合物と、ジルコニウム金属塩とを含有する組成物が、耐熱着色安定性、作業性、硬化性に優れ、加熱減量を抑制できることを先に見出した。しかしながらこの組成物はプレッシャークッカー試験後における接着性に劣ることが問題であった。
そこで、本発明は、プレッシャークッカー試験後における接着性、耐熱着色安定性、作業性、硬化性に優れ、加熱減量を抑制できる接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を提供することを目的とする。
However, an organopolysiloxane composition containing a conventional organopolysiloxane having two silanol groups, a compound having two or more hydrolyzable groups bonded to a silicon atom in one molecule, and an organozirconium compound The inventor of the present application has found that although the product is room temperature moisture-curing and thermosetting, the curability is poor, the viscosity is increased during the operation, the transparency is lost, and the workability is poor.
A composition comprising an organopolysiloxane having two silanol groups, a silicon compound having two or more hydrolyzable groups bonded to a silicon atom in one molecule, and an aluminum compound as a condensation catalyst The inventors of the present invention have found that the cured product is fragile and the cured product becomes brittle in the resulting cured product.
In addition, the inventor of the present application also discloses an organopolysiloxane having two silanol groups, a silicon compound having two or more hydrolyzable groups bonded to a silicon atom in one molecule, and a conventional condensation such as an aluminum system. When a composition containing a catalyst is cured at room temperature or by heating to obtain a polysiloxane as a cured product, when the obtained cured product is exposed to a high temperature, the siloxane bond of the polysiloxane is broken. It has been found that the cured product becomes brittle. Further, the cut portion forms a cyclic polysiloxane such as a six-membered ring, and the cyclic polysiloxane bleeds out to the surface of the cured product or outside the system, and the shape stability of the cured product is greatly impaired.
The inventor of the present application also includes a polysiloxane having two or more silanol groups in one molecule and a silicon compound having two or more alkoxy groups and / or hydroxy groups bonded to a silicon atom in one molecule. The present inventors have previously found that a composition containing a zirconium metal salt is excellent in heat-resistant coloring stability, workability, and curability, and can suppress heat loss. However, this composition has a problem of poor adhesion after the pressure cooker test.
Then, this invention aims at providing the adhesive resin semiconductor sealing silicone resin composition which is excellent in the adhesiveness after a pressure cooker test, heat-resistant coloring stability, workability | operativity, and curability, and can suppress a heat loss. To do.

本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意研究した結果、ジルコニウム金属塩を用いることによって、硬化物の加熱減量を抑制できることを見出した。
そして、(A)1分子中に2個以上のシラノール基を有するポリシロキサン100質量部と、(B)1分子中にケイ素原子に結合している、アルコキシ基および/またはヒドロキシ基を2個以上有するケイ素化合物0.1〜100質量部と、(C)ジルコニウム金属塩0.001質量部以上0.1質量部未満と、(D)ビス(アルコキシシリル)アルカンとを含有する組成物が、プレッシャークッカー試験後における接着性、耐熱着色安定性、作業性、硬化性に優れ、加熱減量を抑制できる接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物となりうることを見出し、本発明を完成させた。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventor has found that heat loss of the cured product can be suppressed by using a zirconium metal salt.
(A) 100 parts by mass of polysiloxane having two or more silanol groups in one molecule, and (B) two or more alkoxy groups and / or hydroxy groups bonded to silicon atoms in one molecule. A composition containing 0.1 to 100 parts by mass of a silicon compound, (C) 0.001 part by mass or more and less than 0.1 part by mass of a zirconium metal salt, and (D) a bis (alkoxysilyl) alkane is pressure. The present invention has been completed by finding that it can be an adhesive silicone resin composition for encapsulating an optical semiconductor that is excellent in adhesiveness, heat-resistant coloring stability, workability, and curability after the cooker test, and that can suppress heat loss.

すなわち、本発明は、下記1〜9を提供する。
1. (A) 1分子中に2個以上のシラノール基を有するポリシロキサン100質量部と、
(B) 1分子中にケイ素原子に結合している、アルコキシ基および/またはヒドロキシ基を2個以上有するケイ素化合物0.1〜100質量部と、
(C) ジルコニウム金属塩0.001質量部以上0.1質量部未満と、
(D) ビス(アルコキシシリル)アルカンとを含有する接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。
2. 前記ジルコニウム金属塩が、下記式(I)で表される上記1に記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。
(式中、Rは炭化水素基を表す。)
3. 前記ビス(アルコキシシリル)アルカンが、下記式(A)で表される上記1または2に記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。
(R1O)3−Si−R2−Si−(OR13 (A)
[式(A)中、R1はアルキル基であり、R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基であり、R1は同じでも異なっていてもよい。]
4. 前記ポリシロキサンが、分子量1,000〜1,000,000の直鎖状オルガノポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオールである上記1〜3のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。
5. 前記ケイ素化合物が、下記式(2)で表される化合物および/または式(3)で表される化合物である上記1〜4のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。
Si(OR1n2 4-n (2)
mSi(OR′)n(4-m-n)/2 (3)
[式(2)中、nは2、3または4であり、R1は水素原子またはアルキル基であり、R2は有機基である。
式(3)中、Rは炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基またはアリール基であり、R′は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基であり、mは0<m<2、nは0<n<2、m+nは0<m+n<2である。]
6. 前記ビス(アルコキシシリル)アルカンの量が、前記ポリシロキサン100質量部に対して、0.1〜2質量部である上記1〜5のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。
7. 前記ビス(アルコキシシリル)アルカンが、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エタン、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,7−ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、1,8−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、1,9−ビス(トリメトキシシリル)ノナンおよび1,10−ビス(トリメトキシシリル)デカンからなる群から選ばれる少なくとも1種である上記1〜6のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。
8. 前記ジルコニウム金属塩が、ジオクチル酸ジルコニルおよびナフテン酸ジルコニルのうちの一方または両方である上記1〜7のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。
9. LEDチップが上記1〜8のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物で封止されている光半導体封止体。
That is, this invention provides the following 1-9.
1. (A) 100 parts by mass of polysiloxane having two or more silanol groups in one molecule;
(B) 0.1 to 100 parts by mass of a silicon compound having two or more alkoxy groups and / or hydroxy groups bonded to a silicon atom in one molecule;
(C) zirconium metal salt 0.001 parts by mass or more and less than 0.1 parts by mass;
(D) A silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor containing bis (alkoxysilyl) alkane.
2. 2. The silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor according to 1 above, wherein the zirconium metal salt is represented by the following formula (I).
(In the formula, R represents a hydrocarbon group.)
3. 3. The silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor according to 1 or 2 above, wherein the bis (alkoxysilyl) alkane is represented by the following formula (A).
(R 1 O) 3 —Si—R 2 —Si— (OR 1 ) 3 (A)
[In Formula (A), R 1 is an alkyl group, R 2 is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and R 1 may be the same or different. ]
4). 4. The silicone resin for sealing an adhesive optical semiconductor according to any one of 1 to 3 above, wherein the polysiloxane is a linear organopolydimethylsiloxane-α, ω-diol having a molecular weight of 1,000 to 1,000,000. Composition.
5. 5. The silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor according to any one of 1 to 4, wherein the silicon compound is a compound represented by the following formula (2) and / or a compound represented by the formula (3): .
Si (OR 1 ) n R 2 4-n (2)
R m Si (OR ′) n O (4-mn) / 2 (3)
[In Formula (2), n is 2, 3 or 4, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group, and R 2 is an organic group.
In the formula (3), R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group or an aryl group, R ′ is a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and m is 0 <m <2, n is 0 <n <2, and m + n is 0 <m + n <2 . ]
6). The silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor according to any one of 1 to 5 above, wherein the amount of the bis (alkoxysilyl) alkane is 0.1 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polysiloxane. object.
7). The bis (alkoxysilyl) alkane is 1,2-bis (triethoxysilyl) ethane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane, 1,7-bis (trimethoxysilyl) heptane, 1,8-bis. Any one of the above 1 to 6, which is at least one selected from the group consisting of (trimethoxysilyl) octane, 1,9-bis (trimethoxysilyl) nonane and 1,10-bis (trimethoxysilyl) decane. Adhesive silicone resin composition for optical semiconductor encapsulation.
8). The silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor according to any one of the above 1 to 7, wherein the zirconium metal salt is one or both of zirconyl dioctylate and zirconyl naphthenate.
9. The optical semiconductor sealing body by which the LED chip is sealed with the silicone resin composition for adhesive optical semiconductor sealing in any one of said 1-8.

本発明の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物は、プレッシャークッカー試験後における接着性、耐熱着色安定性、作業性、硬化性に優れ、加熱減量を抑制することができる。
本発明の光半導体封止体は、プレッシャークッカー試験後における接着性、耐熱着色安定性、硬化性に優れ、加熱減量が低い。
The silicone resin composition for encapsulating an adhesive optical semiconductor of the present invention is excellent in adhesiveness, heat-resistant coloring stability, workability, and curability after the pressure cooker test, and can suppress heat loss.
The sealed optical semiconductor of the present invention is excellent in adhesiveness, heat-resistant coloring stability and curability after the pressure cooker test, and has low loss on heating.

本発明について以下詳細に説明する。
本発明の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物は、(A)1分子中に2個以上のシラノール基を有するポリシロキサン100質量部と、(B)1分子中にケイ素原子に結合している、アルコキシ基および/またはヒドロキシ基を2個以上有するケイ素化合物0.1〜100質量部と、(C)ジルコニウム金属塩0.001質量部以上0.1質量部未満と、(D)ビス(アルコキシシリル)アルカンとを含有する組成物である。
なお、本発明の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を以下「本発明の組成物」ということがある。
The present invention will be described in detail below.
The silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor of the present invention comprises (A) 100 parts by mass of polysiloxane having two or more silanol groups in one molecule, and (B) a silicon atom bonded in one molecule. 0.1 to 100 parts by mass of a silicon compound having two or more alkoxy groups and / or hydroxy groups, (C) 0.001 part by mass or more and less than 0.1 part by mass of a zirconium metal salt, and (D) bis It is a composition containing (alkoxysilyl) alkane.
In addition, the silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor of the present invention may be hereinafter referred to as “the composition of the present invention”.

(A)ポリシロキサンについて以下に説明する。
本発明の組成物に含有されるポリシロキサンは、1分子中に2個以上のシラノール基を有するポリシロキサンである。
ポリシロキサンは、オルガノポリシロキサンであるのが好ましい態様の1つとして挙げられる。
ポリシロキサンは、耐熱着色安定性、硬化性により優れ、加熱減量がより低くなるという観点から、2個のシラノール基が両末端に結合している直鎖状のオルガノポリジメチルシロキサン(直鎖状オルガノポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール)であるのが好ましい。
ポリシロキサンは、例えば、下記式(1)で表されるものが挙げられる。
(A) The polysiloxane will be described below.
The polysiloxane contained in the composition of the present invention is a polysiloxane having two or more silanol groups in one molecule.
One preferred embodiment of the polysiloxane is an organopolysiloxane.
Polysiloxane is a straight-chain organopolydimethylsiloxane (straight-chain organopolydimethylsiloxane) in which two silanol groups are bonded to both ends from the viewpoint of excellent heat-resistant coloring stability and curability and lower heat loss. Polydimethylsiloxane-α, ω-diol) is preferred.
Examples of the polysiloxane include those represented by the following formula (1).

式(1)中、mは、作業性、耐クラック性に優れるという観点から、10〜15,000の整数であるのが好ましい。 In formula (1), m is preferably an integer of 10 to 15,000 from the viewpoint of excellent workability and crack resistance.

ポリシロキサンは、その製造について特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。
ポリシロキサンの分子量は、硬化時間、可使時間が適切な長さとなり硬化性に優れ、硬化物物性に優れるという観点から、1,000〜1,000,000であるのが好ましく、6,000〜100,000であるのがより好ましい。
なお、本発明において、ポリシロキサンの分子量は、クロロホルムを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量である。
ポリシロキサンは、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Polysiloxane is not particularly limited for its production. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.
The molecular weight of the polysiloxane is preferably 1,000 to 1,000,000 from the viewpoint that the curing time and the pot life are appropriate lengths, the curability is excellent, and the cured product properties are excellent. More preferably, it is ~ 100,000.
In the present invention, the molecular weight of the polysiloxane is a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) using chloroform as a solvent.
Polysiloxanes can be used alone or in combination of two or more.

(B)ケイ素化合物について以下に説明する。
本発明の組成物に含有されるケイ素化合物は、1分子中にケイ素原子に結合している、アルコキシ基および/またはヒドロキシ基を2個以上有する化合物であれば特に制限されない。
例えば、1分子中1個のケイ素原子を有し、ケイ素原子にアルコキシ基および/またはヒドロキシ基が2個以上結合している化合物(以下この化合物を「ケイ素化合物B1」ということがある。)、1分子中2個以上のケイ素原子を有し、主骨格がポリシロキサン骨格であり、ケイ素原子に結合している、アルコキシ基および/またはヒドロキシ基を2個以上有するオルガノポリシロキサン化合物(以下このオルガノポリシロキサン化合物を「ケイ素化合物B2」ということがある。)が挙げられる。
(B) A silicon compound is demonstrated below.
The silicon compound contained in the composition of the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having two or more alkoxy groups and / or hydroxy groups bonded to a silicon atom in one molecule.
For example, a compound having one silicon atom in one molecule and having two or more alkoxy groups and / or hydroxy groups bonded to the silicon atom (hereinafter, this compound may be referred to as “silicon compound B1”), Organopolysiloxane compound having two or more alkoxy groups and / or hydroxy groups having two or more silicon atoms in one molecule, the main skeleton being a polysiloxane skeleton, and bonded to the silicon atom (hereinafter referred to as this organo The polysiloxane compound may be referred to as “silicon compound B2”).

ケイ素化合物は1分子中に1個以上の有機基を有することができる。
ケイ素化合物が有することができる有機基としては、例えば、酸素原子、窒素原子および硫黄原子からなる群から選ばれる少なくとも1種を含んでもよい炭化水素基が挙げられる。具体的には、例えば、アルキル基(炭素数1〜6のものが好ましい。)、(メタ)アクリレート基、アルケニル基、アリール基、これらの組合せが挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチルアリル基が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。なかでも、耐熱着色安定性により優れるという観点から、メチル基、(メタ)アクリレート基、(メタ)アクリロキシアルキル基が好ましい。
The silicon compound can have one or more organic groups in one molecule.
As an organic group which a silicon compound can have, the hydrocarbon group which may contain at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of an oxygen atom, a nitrogen atom, and a sulfur atom is mentioned, for example. Specific examples include alkyl groups (preferably those having 1 to 6 carbon atoms), (meth) acrylate groups, alkenyl groups, aryl groups, and combinations thereof. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and an isopropyl group. Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a 2-methyl-1-propenyl group, and a 2-methylallyl group. Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group. Of these, a methyl group, a (meth) acrylate group, and a (meth) acryloxyalkyl group are preferable from the viewpoint of superior heat-resistant coloring stability.

ケイ素化合物B1としては、例えば、下記式(2)で表されるものが挙げられる。
Si(OR1n2 4-n (2)
式(2)中、nは2、3または4であり、R1は水素原子またはアルキル基であり、R2は有機基である。有機基は、ケイ素化合物の有機基に関して記載したものと同義である。
As silicon compound B1, what is represented by following formula (2) is mentioned, for example.
Si (OR 1 ) n R 2 4-n (2)
In formula (2), n is 2, 3 or 4, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group, and R 2 is an organic group. An organic group is synonymous with what was described regarding the organic group of a silicon compound.

ケイ素化合物B1としては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシランのようなジアルコキシシラン;メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシランのようなトリアルコキシシラン;テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロピルオキシシランのようなテトラアルコキシシラン;トリアルコキシシラン、テトラアルコキシシランの加水分解物;メチルトリヒドロキシシラン、エチルトリヒドロキシシラン、フェニルトリヒドロキシシランのようなトリヒドロキシシラン;テトラヒドロキシシラン;γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシランのような(メタ)アクリロキシアルキルトリアルコキシシランが挙げられる。
なお、本発明において、(メタ)アクリロキシトリアルコキシシランは、アクリロキシトリアルコキシシランまたはメタクリロキシトリアルコキシシランであることを意味する。(メタ)アクリレート基、(メタ)アクリロキシアルキル基についても同様である。
Examples of the silicon compound B1 include dialkoxysilanes such as dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, and diphenyldiethoxysilane; methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane Trialkoxysilanes such as ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane; tetraalkoxysilanes such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropyloxysilane; trialkoxysilanes, Tetraalkoxysilane hydrolyzate; methyl trihydroxysilane, ethyltrihydroxysilane, phenyltrihydroxysilane Hydroxy silane; tetrahydroxy-silane; .gamma. (meth) acryloxy propyl trimethoxy silane, (meth) acryloxy sialic quilt trialkoxysilane such as .gamma. (meth) acryloxy propyl triethoxy silane.
In the present invention, (meth) acryloxytrialkoxysilane means acryloxytrialkoxysilane or methacryloxytrialkoxysilane. The same applies to (meth) acrylate groups and (meth) acryloxyalkyl groups.

ケイ素化合物B2としては、例えば、式(3)で表される化合物が挙げられる。
mSi(OR′)n(4-m-n)/2 (3)
式(3)中、Rは炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基またはアリール基であり、R′は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基であり、mは0<m<2、nは0<n<2、m+nは0<m+n<2である。
炭素数1〜6のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基等が挙げられる。なかでも、耐熱性に優れ、耐熱着色安定性により優れるという観点から、メチル基が好ましい。アルケニル基は、炭素数1〜6のものが挙げられ、具体的には例えば、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、2−メチル−1−プロペニル基、2−メチルアリル基が挙げられる。アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられる。
式(3)で表される化合物において、R′は、水素原子、炭素数1〜6のアルキル基以外に、アシル基を含むことができる。アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基が挙げられる。
As silicon compound B2, the compound represented by Formula (3) is mentioned, for example.
R m Si (OR ′) n O (4-mn) / 2 (3)
In the formula (3), R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group or an aryl group, R ′ is a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and m is 0 <m <2, n is 0 <n <2, and m + n is 0 <m + n <2 .
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, and an isopropyl group. Of these, a methyl group is preferred from the viewpoints of excellent heat resistance and excellent heat-resistant coloring stability. Examples of the alkenyl group include those having 1 to 6 carbon atoms, and specific examples include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a 2-methyl-1-propenyl group, and a 2-methylallyl group. . Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.
In the compound represented by the formula (3), R ′ can contain an acyl group in addition to a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the acyl group include an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, and a valeryl group.

ケイ素化合物B2としては、例えば、メチルメトキシオリゴマーのようなシリコーンアルコキシオリゴマーが挙げられる。
シリコーンアルコキシオリゴマーは、主鎖がポリオルガノシロキサンであり、分子末端がアルコキシシリル基で封鎖されたシリコーンレジンである。
メチルメトキシオリゴマーは、式(3)で表される化合物に該当し、メチルメトキシオリゴマーとしては、具体的には例えば、下記式(4)で表されるものが表されるものが挙げられる。
式(4)中、R″はメチル基であり、aは1〜1000の整数であり、bは0〜1000の整数である。
メチルメトキシオリゴマーは、市販品を使用することができる。メチルメトキシオリゴマーの市販品としては、例えば、x−40−9246(重量平均分子量6,000、信越化学工業社製)が挙げられる。
Examples of the silicon compound B2 include silicone alkoxy oligomers such as methylmethoxy oligomer.
The silicone alkoxy oligomer is a silicone resin having a main chain of polyorganosiloxane and a molecular terminal blocked with an alkoxysilyl group.
The methyl methoxy oligomer corresponds to the compound represented by the formula (3), and specific examples of the methyl methoxy oligomer include those represented by the following formula (4).
In formula (4), R ″ is a methyl group, a is an integer of 1 to 1000, and b is an integer of 0 to 1000.
A commercially available product can be used as the methylmethoxy oligomer. Examples of commercially available methylmethoxy oligomers include x-40-9246 (weight average molecular weight 6,000, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

ケイ素化合物は、硬化性、耐熱クラック性に優れるという観点から、式(2)、式(3)で表されるものが好ましい。   From the viewpoint that the silicon compound is excellent in curability and heat cracking resistance, those represented by the formulas (2) and (3) are preferable.

ケイ素化合物は、硬化性に優れ、耐熱着色安定性により優れるという観点から、テトラエトキシシランのようなテトラアルコキシシラン;γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシランようなトリアルコキシ(メタ)アクリロキシアルキルシラン;メチルメトキシオリゴマーが好ましい。   From the viewpoint of excellent curability and heat-resistant coloring stability, silicon compounds are tetraalkoxysilanes such as tetraethoxysilane; trialkoxy (meth) acryloxyalkyls such as γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane. Silane; methyl methoxy oligomer is preferred.

ケイ素化合物の分子量は、硬化時間、可使時間が適切な長さとなり硬化性に優れ、相溶性に優れるという観点から、100〜1,000,000であるのが好ましく、100〜10,000であるのがより好ましい。
なお、本発明において、ケイ素化合物がケイ素化合物B2の場合、その分子量は、クロロホルムを溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の重量平均分子量であるものとする。
ケイ素化合物はその製造について特に制限されず、例えば従来公知のものが挙げられる。ケイ素化合物はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
The molecular weight of the silicon compound is preferably from 100 to 1,000,000, preferably from 100 to 10,000, from the viewpoint that curing time and pot life are appropriate lengths, excellent curability, and compatibility. More preferably.
In the present invention, when the silicon compound is silicon compound B2, the molecular weight thereof is a polystyrene-reduced weight average molecular weight by gel permeation chromatography (GPC) using chloroform as a solvent.
The production of the silicon compound is not particularly limited, and examples thereof include conventionally known ones. A silicon compound can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

ケイ素化合物の量は、耐クラック性、相溶性に優れるという観点から、ポリシロキサン100質量部に対して、0.1〜100質量部であり、0.5〜50質量部であるのが好ましく、1〜10質量部であるのがより好ましい。   The amount of the silicon compound is 0.1 to 100 parts by mass, preferably 0.5 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polysiloxane, from the viewpoint of excellent crack resistance and compatibility. It is more preferably 1 to 10 parts by mass.

ジルコニウム金属塩について以下に説明する。
本発明の組成物に含有されるジルコニウム金属塩は、金属としてジルコニウム原子を有する塩である。
ジルコニウム金属塩が有するジルコニウム原子は、加熱減量、硬化性により優れるという観点から、ジルコニル[(Zr=O)2+]を形成しているのが好ましい。
ジルコニウム金属塩を製造するために使用される酸は特に制限されない。例えば、カルボン酸塩が挙げられる。カルボン酸塩としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、オクチル酸(2−エチルヘキサン酸)、ノナン酸、ステアリン酸、ラウリン酸のような脂肪族カルボン酸;ナフテン酸、シクロヘキサンカルボン酸のような脂環式カルボン酸;安息香酸のような芳香族カルボン酸が挙げられる。
ジルコニウム金属塩は、加熱減量をより抑制できるという観点から、カルボン酸塩であるのが好ましく、脂肪族カルボン酸塩、脂環式カルボン酸塩であるのがより好ましく、脂環式カルボン酸塩であるのがさらに好ましい。
The zirconium metal salt will be described below.
The zirconium metal salt contained in the composition of the present invention is a salt having a zirconium atom as a metal.
The zirconium atom of the zirconium metal salt preferably forms zirconyl [(Zr = O) 2+ ] from the viewpoint of being excellent in heat loss and curability.
The acid used for producing the zirconium metal salt is not particularly limited. For example, carboxylate is mentioned. Examples of the carboxylate include aliphatic carboxylic acids such as acetic acid, propionic acid, octylic acid (2-ethylhexanoic acid), nonanoic acid, stearic acid, and lauric acid; alicyclic rings such as naphthenic acid and cyclohexanecarboxylic acid Carboxylic acids of the formula; aromatic carboxylic acids such as benzoic acid.
The zirconium metal salt is preferably a carboxylate salt, more preferably an aliphatic carboxylate salt or an alicyclic carboxylate salt, from the viewpoint that the loss on heating can be further suppressed. More preferably.

ジルコニウム金属塩としては、例えば、下記式(I)で表されるジルコニル金属塩、式(II)で表されるジルコニウム金属塩が挙げられる。
式中、Rは炭水素基を表す。Rとしての炭化水素基はカルボン酸の残基を示す。Rは同じでも異なっていてもよい。
Examples of the zirconium metal salt include a zirconyl metal salt represented by the following formula (I) and a zirconium metal salt represented by the formula (II).
In the formula, R represents a carbon hydride group. The hydrocarbon group as R represents a carboxylic acid residue. R may be the same or different.

ジルコニル金属塩は、加熱減量をより抑制でき、硬化性に優れるという観点から、式(I)で表される化合物であるのが好ましい。
式(I)で表されるジルコニル金属塩はZr=Oの構造を有するため、式(II)で表されるジルコニウム金属塩よりも硬化性に優れる。
式(I)で表される化合物としては、ジオクチル酸ジルコニル、ジネオデカン酸ジルコニルのような脂肪族カルボン酸塩;ナフテン酸ジルコニル、シクロヘキサン酸ジルコニルのような脂環式カルボン酸塩;安息香酸ジルコニルのような芳香族カルボン酸塩が挙げられる。
ジルコニウム金属塩は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
ジルコニウム金属塩は、加熱減量をより抑制できるという観点から、ジオクチル酸ジルコニルおよびナフテン酸ジルコニルのうちの一方または両方であるのが好ましい。
The zirconyl metal salt is preferably a compound represented by the formula (I) from the viewpoint that the loss on heating can be further suppressed and the curability is excellent.
Since the zirconyl metal salt represented by the formula (I) has a structure of Zr = O, it is more excellent in curability than the zirconium metal salt represented by the formula (II).
Examples of the compound represented by the formula (I) include aliphatic carboxylates such as zirconyl dioctylate and zirconyl dineodecanoate; alicyclic carboxylates such as zirconyl naphthenate and zirconyl cyclohexane; and zirconyl benzoate. And aromatic carboxylates.
Zirconium metal salts can be used alone or in combination of two or more.
The zirconium metal salt is preferably one or both of zirconyl dioctylate and zirconyl naphthenate from the viewpoint that the loss on heating can be further suppressed.

ジルコニウム金属塩の量は、加熱減量を抑制することができるという観点から、ポリシロキサン100質量部に対して、0.001質量部以上0.1質量部未満であり、加熱減量をより抑制することができるという観点から、0.005〜0.09質量部であるのが好ましく、0.01〜0.05質量部であるのがより好ましい。
ジルコニウム金属塩は、組成物を硬化させるための初期の加熱や初期硬化後の加熱の際、ルイス酸として作用し、ポリシロキサンとケイ素化合物との架橋反応を促進すると考えられる。
The amount of the zirconium metal salt is 0.001 part by mass or more and less than 0.1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the polysiloxane from the viewpoint that the loss on heating can be suppressed, thereby further suppressing the loss on heating. From the viewpoint of being able to do, it is preferably 0.005 to 0.09 parts by mass, and more preferably 0.01 to 0.05 parts by mass.
The zirconium metal salt is considered to act as a Lewis acid during the initial heating for curing the composition and the heating after the initial curing, and promote the crosslinking reaction between the polysiloxane and the silicon compound.

(D)ビス(アルコキシシリル)アルカンについて以下に説明する。
本発明の組成物に含有されるビス(アルコキシシリル)アルカンは、少なくとも1つのアルコキシ基を有するシリル基を2個持つアルカンである。
本発明の組成物はビス(アルコキシシリル)アルカンを含有することによって、プレッシャークッカー試験後における接着性に優れる。
(D) The bis (alkoxysilyl) alkane will be described below.
The bis (alkoxysilyl) alkane contained in the composition of the present invention is an alkane having two silyl groups having at least one alkoxy group.
The composition of this invention is excellent in the adhesiveness after a pressure cooker test by containing bis (alkoxy silyl) alkane.

ビス(アルコキシシリル)アルカンは、プレッシャークッカー試験後における接着性により優れるという観点から、1つのシリル基に結合するアルコキシ基が2個または3個であるのが好ましい。
ビス(アルコキシシリル)アルカンとしては、例えば、下記式(A)で表される化合物が挙げられる。
(R1O)3−Si−R2−Si−(OR13 (A)
[式(A)中、R1はアルキル基であり、R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基であり、R1は同じでも異なっていてもよい。]
The bis (alkoxysilyl) alkane preferably has 2 or 3 alkoxy groups bonded to one silyl group from the viewpoint of superior adhesiveness after the pressure cooker test.
Examples of the bis (alkoxysilyl) alkane include compounds represented by the following formula (A).
(R 1 O) 3 —Si—R 2 —Si— (OR 1 ) 3 (A)
[In Formula (A), R 1 is an alkyl group, R 2 is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and R 1 may be the same or different. ]

アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基が挙げられる。
炭素原子数2〜10のアルキレン基としては、エチレン基、プロパンから水素原子を2個除いた基、ブタンから水素原子を2個除いた基、ペンタンから水素原子を2個除いた基、ヘキサンから水素原子を2個除いた基、ヘプタンから水素原子を2個除いた基、オクタンから水素原子を2個除いた基、ノナンから水素原子を2個除いた基、デカンから水素原子を2個除いた基が挙げられる。
Examples of the alkyl group include a methyl group and an ethyl group.
Examples of the alkylene group having 2 to 10 carbon atoms include an ethylene group, a group obtained by removing two hydrogen atoms from propane, a group obtained by removing two hydrogen atoms from butane, a group obtained by removing two hydrogen atoms from pentane, and hexane. A group obtained by removing two hydrogen atoms from heptane, a group obtained by removing two hydrogen atoms from octane, a group obtained by removing two hydrogen atoms from octane, a group obtained by removing two hydrogen atoms from nonane, and two hydrogen atoms removed from decane Groups.

ビス(アルコキシシリル)アルカンは、プレッシャークッカー試験後における接着性により優れるという観点から、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エタン、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,7−ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、1,8−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、1,9−ビス(トリメトキシシリル)ノナンおよび1,10−ビス(トリメトキシシリル)デカンからなる群から選ばれる少なくとも1種であるのが好ましく、1,6-ビス(トリメトキシシリル)へキサンがより好ましい。
ビス(アルコキシシリル)アルカンはそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
From the viewpoint that bis (alkoxysilyl) alkane is superior in adhesion after the pressure cooker test, 1,2-bis (triethoxysilyl) ethane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane, 1,7-bis At least one selected from the group consisting of (trimethoxysilyl) heptane, 1,8-bis (trimethoxysilyl) octane, 1,9-bis (trimethoxysilyl) nonane and 1,10-bis (trimethoxysilyl) decane The seed is preferred, and 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane is more preferred.
Bis (alkoxysilyl) alkanes can be used alone or in combination of two or more.

ビス(アルコキシシリル)アルカンの量は、プレッシャークッカー試験後における接着性により優れるという観点から、ポリシロキサン100質量部に対して、0.1〜2質量部であるのが好ましく、0.5〜1質量部であるのがより好ましい。   The amount of the bis (alkoxysilyl) alkane is preferably 0.1 to 2 parts by mass, and 0.5 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the polysiloxane, from the viewpoint that the adhesiveness after the pressure cooker test is excellent. It is more preferable that

本発明の組成物は、プレッシャークッカー試験後における接着性により優れ、耐熱着色安定性により優れ、加熱減量がより抑制できるという観点から、ポリシロキサンと、ケイ素化合物と、ジルコニウム金属塩と、ビス(アルコキシシリル)アルカンとからなる組成物であるのが好ましい。   The composition of the present invention is superior in adhesion after the pressure cooker test, excellent in heat-resistant coloration stability, and can suppress heat loss more, so that polysiloxane, silicon compound, zirconium metal salt, bis (alkoxy) A composition comprising silyl) alkane is preferred.

また、本発明の組成物は、ポリシロキサン、ケイ素化合物、ジルコニウム金属塩およびビス(アルコキシシリル)アルカン以外に、本発明の目的や効果を損なわない範囲で必要に応じてさらに添加剤を含有することができる。
添加剤としては、例えば、無機フィラー、酸化防止剤、滑剤、紫外線吸収剤、熱光安定剤、分散剤、帯電防止剤、重合禁止剤、消泡剤、硬化促進剤、溶剤、無機蛍光体、老化防止剤、ラジカル禁止剤、接着性改良剤、難燃剤、界面活性剤、保存安定性改良剤、オゾン老化防止剤、増粘剤、可塑剤、放射線遮断剤、核剤、カップリング剤、導電性付与剤、リン系過酸化物分解剤、顔料、金属不活性化剤、物性調整剤が挙げられる。各種添加剤は特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。
In addition to polysiloxane, silicon compound, zirconium metal salt, and bis (alkoxysilyl) alkane, the composition of the present invention may further contain additives as necessary within the range not impairing the object and effect of the present invention. Can do.
Examples of additives include inorganic fillers, antioxidants, lubricants, ultraviolet absorbers, thermal light stabilizers, dispersants, antistatic agents, polymerization inhibitors, antifoaming agents, curing accelerators, solvents, inorganic phosphors, Anti-aging agent, radical inhibitor, adhesion improver, flame retardant, surfactant, storage stability improver, ozone anti-aging agent, thickener, plasticizer, radiation blocker, nucleating agent, coupling agent, conductive Examples include property-imparting agents, phosphorus peroxide decomposers, pigments, metal deactivators, and physical property modifiers. Various additives are not particularly limited. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.

無機蛍光体としては、例えば、LEDに広く利用されている、イットリウム、アルミニウム、ガーネット系のYAG系蛍光体、ZnS系蛍光体、Y22S系蛍光体、赤色発光蛍光体、青色発光蛍光体、緑色発光蛍光体が挙げられる。 Examples of inorganic phosphors include yttrium, aluminum, garnet-based YAG phosphors, ZnS phosphors, Y 2 O 2 S phosphors, red-emitting phosphors, and blue-emitting phosphors that are widely used in LEDs. Body and green light emitting phosphor.

本発明の組成物は、貯蔵安定性に優れるという観点から、実質的に水を含まないのが好ましい態様の1つとして挙げられる。本発明において実質的に水を含まないとは、本発明の組成物中における水の量が0.1質量%以下であることをいう。
また、本発明の組成物は、作業環境性に優れるという観点から、実質的に溶媒を含まないのが好ましい態様の1つとして挙げられる。本発明において実質的に溶媒を含まないとは、本発明の組成物中における溶媒の量が1質量%以下であることをいう。
From the viewpoint that the composition of the present invention is excellent in storage stability, it is mentioned as one of preferred embodiments that substantially does not contain water. In the present invention, “substantially free of water” means that the amount of water in the composition of the present invention is 0.1% by mass or less.
In addition, the composition of the present invention can be mentioned as one of preferred embodiments that substantially does not contain a solvent from the viewpoint of excellent work environment properties. The phrase “substantially free of solvent” in the present invention means that the amount of the solvent in the composition of the present invention is 1% by mass or less.

本発明の組成物は、その製造について特に制限されない。例えば、ポリシロキサンと、ケイ素化合物と、ジルコニウム金属塩と、ビス(アルコキシシリル)アルカンと、必要に応じて使用することができる添加剤とを混合することによって製造することができる。
本発明の組成物は、1液型または2液型として製造することが可能である。本発明の組成物を2液型とする場合、ポリシロキサンとジルコニウム金属塩とを含む第1液と、ケイ素化合物を含む第2液とを有するものとするのが好ましい態様の1つとして挙げられる。添加剤は第1液および第2液のうちの一方または両方に加えることができる。ビス(アルコキシシリル)アルカンは第1液および第2液のうちの一方または両方に加えることができる。
The composition of the present invention is not particularly limited for its production. For example, it can be produced by mixing polysiloxane, a silicon compound, a zirconium metal salt, a bis (alkoxysilyl) alkane, and an additive that can be used as necessary.
The composition of the present invention can be produced as a one-pack type or a two-pack type. In the case where the composition of the present invention is made into a two-component type, it is mentioned as one of preferred embodiments that it has a first liquid containing polysiloxane and a zirconium metal salt and a second liquid containing a silicon compound. . The additive can be added to one or both of the first liquid and the second liquid. The bis (alkoxysilyl) alkane can be added to one or both of the first liquid and the second liquid.

本発明の組成物は、光半導体封止用組成物として使用することができる。
本発明の組成物を適用することができる光半導体は特に制限されない。例えば、発光ダイオード(LED)、有機電界発光素子(有機EL)、レーザーダイオード、LEDアレイが挙げられる。
本発明の組成物の使用方法としては、例えば、光半導体に本発明の組成物を付与し、本発明の組成物が付与された光半導体を加熱して本発明の組成物を硬化させることが挙げられる。
本発明の組成物を付与し硬化させる方法は特に制限されない。例えば、ディスペンサーを使用する方法、ポッティング法、スクリーン印刷、トランスファー成形、インジェクション成形が挙げられる。
The composition of this invention can be used as a composition for optical semiconductor sealing.
The optical semiconductor to which the composition of the present invention can be applied is not particularly limited. For example, a light emitting diode (LED), an organic electroluminescent element (organic EL), a laser diode, and an LED array are mentioned.
As a method for using the composition of the present invention, for example, the composition of the present invention is applied to an optical semiconductor, and the optical semiconductor to which the composition of the present invention is applied is heated to cure the composition of the present invention. Can be mentioned.
The method for applying and curing the composition of the present invention is not particularly limited. Examples thereof include a method using a dispenser, a potting method, screen printing, transfer molding, and injection molding.

本発明の組成物は加熱によって硬化させることができる。
加熱温度は、加熱減量により優れ、硬化性に優れ、硬化時間、可使時間を適切な長さとすることができ、縮合反応による副生成物であるアルコールが発泡するのを抑制でき、硬化物のクラックを抑制でき、硬化物の平滑性、成形性、物性に優れるという観点から、80℃〜150℃付近で硬化させるのが好ましく、150℃付近がより好ましい。
加熱温度が上記の場合、本発明の組成物を穏やかな条件下で硬化させることができ縮合反応の副生成物であるアルコールによって硬化物が発泡するのを抑制することができる。
加熱において、加熱は、硬化性、透明性に優れるという観点から、実質的に無水の条件下でなされるのが好ましい。本発明において、加熱が実質的に無水の条件下でなされるとは、加熱における環境の大気中の湿度が10%RH以下であることをいう。
The composition of the present invention can be cured by heating.
The heating temperature is excellent due to loss on heating, excellent curability, the curing time and pot life can be set to appropriate lengths, the by-product alcohol by the condensation reaction can be prevented from foaming, and the cured product From the viewpoint that cracks can be suppressed and the smoothness, moldability, and physical properties of the cured product are excellent, curing is preferably performed at about 80 ° C to about 150 ° C, and more preferably about 150 ° C.
When the heating temperature is as described above, the composition of the present invention can be cured under mild conditions, and foaming of the cured product can be suppressed by alcohol which is a by-product of the condensation reaction.
In the heating, the heating is preferably performed under substantially anhydrous conditions from the viewpoint of excellent curability and transparency. In the present invention, “heating under substantially anhydrous conditions” means that the atmospheric humidity of the environment during heating is 10% RH or less.

本発明の組成物を加熱し硬化させることによって得られる硬化物は、長期のLED(なかでも白色LED)による使用に対して、透明性を保持することができ、プレッシャークッカー試験後における接着性、耐熱着色安定性、耐熱クラック性に優れ、加熱減量が低い。   The cured product obtained by heating and curing the composition of the present invention can maintain transparency for long-term use of LEDs (in particular, white LEDs), and adhesion after a pressure cooker test. Excellent heat-resistant coloring stability and heat-cracking resistance, and low heat loss.

本発明において加熱減量は、本発明の組成物を150℃下で240分間加熱して硬化させて得られた初期の硬化物と、初期の硬化物をさらに200℃で1,000時間加熱をすることによって得られた加熱後の硬化物とを用いて、両方の硬化物の重量を測定し、得られた重量を下記計算式にあてはめることによって求めた値とする。
加熱減量(質量%)
=100−(加熱後の硬化物の重量/初期の硬化物の重量)×100
加熱減量の値が20質量%以下の場合、加熱減量を抑制することができており、接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物として実用的であるといえる。
本発明において、本発明の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を加熱をすることによって得られる初期硬化物を200℃の条件下で1,000時間加熱をし、前記200℃の加熱後の硬化物の加熱減量が前記初期硬化物の20質量%以下であるのが好ましく、0〜10質量%であるのがより好ましい。
In the present invention, the weight loss by heating is the initial cured product obtained by heating and curing the composition of the present invention at 150 ° C. for 240 minutes, and the initial cured product is further heated at 200 ° C. for 1,000 hours. Using the cured product obtained after heating, the weights of both cured products are measured, and the obtained weight is set to a value determined by applying the following formula.
Heat loss (mass%)
= 100- (Weight of cured product after heating / Weight of initial cured product) × 100
When the value of heat loss is 20% by mass or less, heat loss can be suppressed, and it can be said that it is practical as a silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor.
In the present invention, an initial cured product obtained by heating the silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor of the present invention is heated at 200 ° C. for 1,000 hours, and after the heating at 200 ° C. The weight loss of the cured product is preferably 20% by mass or less, more preferably 0 to 10% by mass of the initial cured product.

本発明の組成物を用いて得られる硬化物(硬化物の厚さが2mmである場合)は、JIS K0115:2004に準じ紫外・可視吸収スペクトル測定装置(島津製作所社製、以下同様。)を用いて波長400nmにおいて測定された透過率が、80%以上であるのが好ましく、85%以上であるのがより好ましい。   A cured product obtained by using the composition of the present invention (when the thickness of the cured product is 2 mm) is an ultraviolet / visible absorption spectrum measuring apparatus (manufactured by Shimadzu Corporation, the same applies hereinafter) according to JIS K0115: 2004. The transmittance measured at a wavelength of 400 nm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more.

また、本発明の組成物を用いて得られる硬化物は、初期硬化の後耐熱試験(初期硬化後の硬化物を150℃下に10日間置く試験)を行いその後の硬化物(厚さ:2mm)について、JIS K0115:2004に準じ紫外・可視スペクトル測定装置を用いて波長400nmにおいて測定された透過率が、80%以上であるのが好ましく、85%以上であるのがより好ましい。   In addition, the cured product obtained using the composition of the present invention is subjected to a heat resistance test after initial curing (a test in which the cured product after initial curing is placed at 150 ° C. for 10 days), and then the cured product (thickness: 2 mm). ), The transmittance measured at a wavelength of 400 nm using an ultraviolet / visible spectrum measuring device according to JIS K0115: 2004 is preferably 80% or more, more preferably 85% or more.

本発明の組成物を用いて得られる硬化物は、その透過性保持率(耐熱試験後の透過率/初期硬化の際の透過率×100)が、70〜100%であるのが好ましく、80〜100%であるのがより好ましい。   The cured product obtained using the composition of the present invention preferably has a permeability retention ratio (transmittance after heat test / transmittance at initial curing × 100) of 70 to 100%, 80 More preferably, it is -100%.

本発明の組成物は、光半導体以外にも、例えば、ディスプレイ材料、光記録媒体材料、光学機器材料、光部品材料、光ファイバー材料、光・電子機能有機材料、半導体集積回路周辺材料等の用途に用いることができる。   In addition to optical semiconductors, the composition of the present invention is used for applications such as display materials, optical recording medium materials, optical equipment materials, optical component materials, optical fiber materials, optical / electronic functional organic materials, and semiconductor integrated circuit peripheral materials. Can be used.

次に本発明の光半導体封止体について以下に説明する。
本発明の光半導体封止体は、LEDチップが本発明の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物で封止されている光半導体封止体である。
本発明の光半導体封止体の製造方法としては、例えば、本発明の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物をLEDチップに付与し、前記LEDチップを加熱し前記接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を硬化させて前記LEDチップを封止するものが挙げられる。
Next, the sealed optical semiconductor of the present invention will be described below.
The encapsulated optical semiconductor of the present invention is an encapsulated optical semiconductor in which LED chips are encapsulated with the silicone resin composition for encapsulating an adhesive optical semiconductor of the present invention.
As a manufacturing method of the optical semiconductor sealing body of this invention, the silicone resin composition for adhesive optical semiconductor sealing of this invention is provided to an LED chip, the said LED chip is heated, and the said adhesive optical semiconductor sealing is carried out, for example. Examples include those for curing the silicone resin composition for sealing the LED chip.

本発明の光半導体封止体に使用される組成物は本発明の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物であれば特に制限されない。
本発明の光半導体封止体において組成物として本発明の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を使用することによって、本発明の光半導体封止体は、プレッシャークッカー試験後における接着性、LEDチップからの発熱や発光等に対する耐熱着色安定性に優れ、LEDチップからの発熱や光半導体封止体の製造時における加熱等による加熱減量を抑制することができる。
If the composition used for the optical semiconductor sealing body of this invention is a silicone resin composition for adhesive optical semiconductor sealing of this invention, it will not restrict | limit in particular.
By using the adhesive resin semiconductor sealing silicone resin composition of the present invention as a composition in the optical semiconductor encapsulant of the present invention, the optical semiconductor encapsulant of the present invention has adhesiveness after a pressure cooker test, It has excellent heat-resistant coloring stability against heat generation, light emission, and the like from the LED chip, and can suppress heat loss due to heat generation from the LED chip and heating at the time of manufacturing the optical semiconductor sealing body.

本発明の光半導体封止体に使用されるLEDチップは、発光素子として発光ダイオードを有する電子回路であれば特に制限されない。
本発明の光半導体封止体に使用されるLEDチップはその発光色について特に制限されない。例えば、白色、青色、赤色、緑色が挙げられる。本発明の光半導体封止体は、LEDチップからの発熱による高温下に長時間さらされても、耐熱着色安定性に優れ、加熱減量を抑制することができるという観点から、白色LEDに対して適用することができる。
LEDチップの種類は、特に制限されず、例えば、ハイパワーLED、高輝度LED、汎用輝度LEDが挙げられる。
The LED chip used for the sealed optical semiconductor of the present invention is not particularly limited as long as it is an electronic circuit having a light emitting diode as a light emitting element.
The LED chip used in the sealed optical semiconductor of the present invention is not particularly limited with respect to the emission color. For example, white, blue, red, and green are mentioned. From the viewpoint that the sealed optical semiconductor of the present invention is excellent in heat-resistant coloring stability and can suppress heat loss even when exposed to a high temperature due to heat generated from the LED chip for a long time. Can be applied.
The kind of LED chip is not particularly limited, and examples thereof include a high power LED, a high luminance LED, and a general luminance LED.

本発明の光半導体封止体の形態としては、例えば、硬化物が直接LEDチップを封止しているもの、砲弾型、表面実装型、複数のLEDチップまたは光半導体封止体の間および/または表面を封止しているものが挙げられる。   As a form of the optical semiconductor sealing body of the present invention, for example, a cured product directly sealing an LED chip, a shell type, a surface mounting type, a plurality of LED chips or an optical semiconductor sealing body and / or Or what has sealed the surface is mentioned.

本発明の光半導体封止体について添付の図面を用いて以下に説明する。なお本発明の光半導体封止体は添付の図面に限定されない。図1は本発明の光半導体封止体の一例を模式的に示す上面図であり、図2は図1に示す光半導体封止体のA−A断面を模式的に示す断面図である。
図1において、600は本発明の光半導体封止体であり、光半導体封止体600は、LEDチップ601と、LEDチップ601を封止する硬化物603とを備える。本発明の組成物は加熱後硬化物603となる。なお、図1において基板609は省略されている。
図2において、LEDチップ601は基板609に例えば接着剤、はんだ(図示せず。)によってボンディングされ、またはフリップチップ構造とすることによって接続されている。なお、図2において、ワイヤ、バンプ、電極等は省略されている。
また、図2におけるTは、硬化物603の厚さを示す。すなわち、Tは、LEDチップ601の表面上の任意の点605から、点605が属する面607に対して鉛直の方向に硬化物603の厚さを測定したときの値である。
本発明の光半導体封止体は、透明性を確保し、密閉性に優れるという観点から、その厚さ(図2におけるT)が0.1mm以上であるのが好ましく、0.5〜1mmであるのがより好ましい。
The sealed optical semiconductor of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The sealed optical semiconductor of the present invention is not limited to the attached drawings. FIG. 1 is a top view schematically showing an example of the sealed optical semiconductor of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view schematically showing an AA cross section of the sealed optical semiconductor shown in FIG.
In FIG. 1, reference numeral 600 denotes a sealed optical semiconductor of the present invention, and the sealed optical semiconductor 600 includes an LED chip 601 and a cured product 603 that seals the LED chip 601. The composition of the present invention becomes a cured product 603 after heating. Note that the substrate 609 is omitted in FIG.
In FIG. 2, an LED chip 601 is bonded to a substrate 609 by, for example, an adhesive or solder (not shown), or connected in a flip chip structure. In FIG. 2, wires, bumps, electrodes and the like are omitted.
2 indicates the thickness of the cured product 603. That is, T is a value when the thickness of the cured product 603 is measured from an arbitrary point 605 on the surface of the LED chip 601 in a direction perpendicular to the surface 607 to which the point 605 belongs.
From the viewpoint of ensuring transparency and excellent sealing properties, the sealed optical semiconductor of the present invention preferably has a thickness (T in FIG. 2) of 0.1 mm or more, and is 0.5 to 1 mm. More preferably.

本発明の光半導体封止体の一例として白色LEDを使用する場合について添付の図面を用いて以下に説明する。図3は、本発明の光半導体封止体の一例を模式的に示す断面図である。図4は、本発明の光半導体封止体の一例を模式的に示す断面図である。   The case where a white LED is used as an example of the sealed optical semiconductor of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of the sealed optical semiconductor of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an example of the sealed optical semiconductor of the present invention.

図3において、光半導体封止体200は基板210の上にパッケージ204を有する。
パッケージ204には、内部にキャビティー202が設けられている。キャビティー202内には、青色LEDチップ203と硬化物202とが配置されている。硬化物202は、本発明の組成物を硬化させたものである。この場合本発明の組成物は光半導体封止体200を白色に発光させるために使用することができる蛍光物質等を含有することができる。
青色LEDチップ203は、基板210上にマウント部材201で固定されている。青色LEDチップ203の各電極(図示せず。)と外部電極209とは導電性ワイヤー207によってワイヤーボンディングさせている。
キャビティー202において、斜線部206まで本発明の組成物で充填してもよい。
または、キャビティー202内を他の組成物で充填し、斜線部206を本発明の組成物で充填することができる。
In FIG. 3, the optical semiconductor encapsulant 200 has a package 204 on a substrate 210.
The package 204 is provided with a cavity 202 therein. A blue LED chip 203 and a cured product 202 are disposed in the cavity 202. The cured product 202 is obtained by curing the composition of the present invention. In this case, the composition of the present invention can contain a fluorescent material or the like that can be used to cause the sealed optical semiconductor 200 to emit white light.
The blue LED chip 203 is fixed on the substrate 210 with a mount member 201. Each electrode (not shown) of the blue LED chip 203 and the external electrode 209 are wire-bonded by a conductive wire 207.
In the cavity 202, the hatched portion 206 may be filled with the composition of the present invention.
Alternatively, the cavity 202 can be filled with another composition, and the hatched portion 206 can be filled with the composition of the present invention.

図4において、本発明の光半導体封止体300は、ランプ機能を有する樹脂306の内部に基板310、青色LEDチップ303およびインナーリード305を有する。
基板310の頭部にはキャビティー(図示せず。)が設けられている。キャビティーには、青色LEDチップ303と硬化物302とが配置されている。硬化物302は、本発明の組成物を硬化させたものである。この場合本発明の組成物は光半導体封止体300を白色に発光させるために使用することができる蛍光物質等を含有することができる。また、樹脂306を本発明の組成物を用いて形成することができる。
青色LEDチップ303は、基板310上にマウント部材301で固定されている。
青色LEDチップ303の各電極(図示せず。)と基板310およびインナーリード305とはそれぞれ導電性ワイヤー307によってワイヤーボンディングさせている。
In FIG. 4, the sealed optical semiconductor 300 of the present invention includes a substrate 310, a blue LED chip 303, and inner leads 305 inside a resin 306 having a lamp function.
A cavity (not shown) is provided in the head of the substrate 310. The blue LED chip 303 and the cured product 302 are disposed in the cavity. The cured product 302 is obtained by curing the composition of the present invention. In this case, the composition of the present invention may contain a fluorescent material or the like that can be used to cause the sealed optical semiconductor 300 to emit white light. Further, the resin 306 can be formed using the composition of the present invention.
The blue LED chip 303 is fixed on the substrate 310 with a mount member 301.
Each electrode (not shown) of the blue LED chip 303 is bonded to the substrate 310 and the inner lead 305 by a conductive wire 307.

なお、図3、図4においてLEDチップを青色LEDチップとして説明したが、キャビティー内に赤色、緑色および青色の3色のLEDチップを配置すること、赤色、緑色および青色の3色のLEDチップのうちの1色または2色を選択してキャビティー内に配置し、選択したLEDの色に応じてLEDチップを白色に発光させるために使用することができる蛍光物質等を組成物に添加することができる。キャビティー内に本発明の組成物を例えばポッティング法によって充填し加熱することによって光半導体封止体とすることができる。   3 and 4, the LED chip has been described as a blue LED chip. However, an LED chip of three colors of red, green and blue is arranged in the cavity, and an LED chip of three colors of red, green and blue is arranged. One or two of these are selected and placed in the cavity, and a phosphor or the like that can be used to make the LED chip emit white light according to the selected LED color is added to the composition. be able to. A sealed optical semiconductor can be obtained by filling the cavity with the composition of the present invention by, for example, a potting method and heating.

本発明の光半導体封止体をLED表示器に利用する場合について添付の図面を用いて説明する。図5は、本発明の光半導体封止体を用いたLED表示器の一例を模式的に示す図である。図6は、図5に示すLED表示器を用いたLED表示装置のブロック図である。なお、本発明の光半導体封止体が使用されるLED表示器、LED表示装置は添付の図面に限定されない。   A case where the sealed optical semiconductor of the present invention is used for an LED display will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 5 is a diagram schematically showing an example of an LED display using the sealed optical semiconductor of the present invention. FIG. 6 is a block diagram of an LED display device using the LED display shown in FIG. In addition, the LED display and LED display apparatus in which the optical semiconductor sealing body of this invention is used are not limited to attached drawing.

図5において、LED表示器(本発明の光半導体封止体)400は、白色LEDチップ401を筐体404の内部にマトリックス状に配置し、白色LEDチップ401を硬化物406で封止し、筐体404の一部に遮光部材405を配置して構成されている。本発明の組成物を硬化物406に使用することができる。また、白色LEDチップ401として本発明の光半導体封止体を使用することができる。   In FIG. 5, an LED display (encapsulated optical semiconductor of the present invention) 400 has white LED chips 401 arranged in a matrix in a housing 404, and the white LED chips 401 are sealed with a cured product 406. A light shielding member 405 is arranged in a part of the housing 404. The composition of the present invention can be used for the cured product 406. Further, the sealed optical semiconductor of the present invention can be used as the white LED chip 401.

図6において、LED表示装置500は、白色LEDを用いるLED表示器501を具備する。LED表示器501は、駆動回路である点灯回路などと電気的に接続される。駆動回路からの出力パルスによって種々の画像が表示可能なディスプレイ等とすることができる。駆動回路としては、入力される表示データを一時的に記憶させるRAM(Random、Access、Memory)504と、RAM504に記憶されるデータから個々の白色LEDを所定の明るさに点灯させるための階調信号を演算する階調制御回路(CPU)503と、階調制御回路(CPU)503の出力信号でスイッチングされて、白色LEDを点灯させるドライバー502とを備える。階調制御回路(CPU)503は、RAM504に記憶されるデータから白色LEDの点灯時間を演算してパルス信号を出力する。なお、本発明の光半導体封止体はカラー表示できる、LED表示器やLED表示装置に使用することができる。   In FIG. 6, the LED display device 500 includes an LED display 501 that uses white LEDs. The LED display 501 is electrically connected to a lighting circuit that is a drive circuit. A display or the like that can display various images by output pulses from the driving circuit can be provided. The driving circuit includes a RAM (Random, Access, Memory) 504 that temporarily stores input display data, and a gradation for lighting individual white LEDs to a predetermined brightness from the data stored in the RAM 504. A gradation control circuit (CPU) 503 that calculates a signal and a driver 502 that is switched by an output signal of the gradation control circuit (CPU) 503 and turns on a white LED are provided. A gradation control circuit (CPU) 503 calculates the lighting time of the white LED from the data stored in the RAM 504 and outputs a pulse signal. In addition, the optical semiconductor sealing body of this invention can be used for the LED display and LED display apparatus which can perform color display.

本発明の光半導体封止体の用途としては、例えば、自動車用ランプ(ヘッドランプ、テールランプ、方向ランプ等)、家庭用照明器具、工業用照明器具、舞台用照明器具、ディスプレイ、信号、プロジェクターが挙げられる。   Applications of the sealed optical semiconductor of the present invention include, for example, automotive lamps (head lamps, tail lamps, directional lamps, etc.), household lighting fixtures, industrial lighting fixtures, stage lighting fixtures, displays, signals, and projectors. Can be mentioned.

以下に、実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。
1.評価
以下に示すように初期硬化状態、透過率、耐熱着色安定性、加熱減量、クラック、粘度、硬化性およびプレッシャークッカー試験後における接着性について評価した。結果を第1表、第2表に示す。
(1)初期硬化状態
下記のようにして得られた接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を150℃の条件下で4時間硬化させて得られた初期硬化物(厚さが2mm。)について目視で初期硬化状態(透明性、着色状態)を確認した。
(2)透過率評価試験
透過率評価試験において、下記のようにして得られた接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を150℃の条件下で4時間硬化させて得られた初期硬化物、および耐熱試験(初期硬化物をさらに150℃の条件下で10日間加熱する試験)後の硬化物(いずれも厚さが2mm。)についてそれぞれ、JIS K0115:2004に準じ紫外・可視吸収スペクトル測定装置(島津製作所社製)を用いて波長400nmにおける透過率を測定した。
また、耐熱試験後の透過率の初期の透過率に対する保持率を下記計算式によって求めた。
保持率(%)=(耐熱試験後の透過率)/(初期の透過率)×100
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to these.
1. Evaluation As shown below, initial curing state, transmittance, heat-resistant coloring stability, loss on heating, crack, viscosity, curability, and adhesion after a pressure cooker test were evaluated. The results are shown in Tables 1 and 2.
(1) Initially cured state An initial cured product (thickness is 2 mm) obtained by curing the silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor obtained as described below at 150 ° C. for 4 hours. The initial cured state (transparency, coloring state) was visually confirmed.
(2) Transmittance evaluation test In the transmittance evaluation test, an initial cured product obtained by curing the adhesive resin-sealing silicone resin composition obtained as follows for 4 hours at 150 ° C. , And a heat-resistant test (a test in which the initial cured product is further heated at 150 ° C. for 10 days), and a cured product (both having a thickness of 2 mm), respectively, UV / visible absorption spectrum measurement according to JIS K0115: 2004 The transmittance at a wavelength of 400 nm was measured using an apparatus (manufactured by Shimadzu Corporation).
Moreover, the retention with respect to the initial transmittance of the transmittance after the heat test was obtained by the following calculation formula.
Retention rate (%) = (transmittance after heat resistance test) / (initial transmittance) × 100

(3)耐熱着色安定性評価試験
下記のようにして得られた接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を150℃の条件下で4時間硬化させて得られた初期硬化物、および耐熱試験(初期硬化物を150℃の条件下で10日間加熱する試験)後の硬化物(いずれも厚さが2mm。)について、耐熱試験後の硬化物が、初期硬化物と比較して黄変したかどうかを目視で観察した。
(4)加熱減量評価試験
加熱減量評価試験において、接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を150℃の条件下で4時間硬化させて得られた初期硬化物をさらに200℃で1,000時間加熱をした。初期硬化物と加熱減量評価試験後の硬化物とについて重量計を用いて硬化物の重量を測定した。
加熱減量は下記計算式によって求めた。
加熱減量(%)=100−(加熱減量評価試験後の硬化物の重量/初期硬化物の重量)×100
加熱減量の値が20%以下の場合、接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物として実用的である。
(5)クラックの有無
下記のようにして得られた接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を150℃の条件下で4時間硬化させて得られた初期硬化物についてそれぞれ目視で硬化の際のクラックの発生の有無を確認した。
(3) Heat-resistant coloring stability evaluation test An initial cured product obtained by curing the silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor obtained as described below at 150 ° C. for 4 hours, and a heat test About the hardened | cured material (all are thickness 2mm) after (the test which heats an initial stage hardened | cured material for 10 days on 150 degreeC conditions) the hardened | cured material after a heat test turned yellow compared with the initial hardened | cured material. It was observed visually.
(4) Heat Loss Evaluation Test In the heat loss evaluation test, an initial cured product obtained by curing the adhesive resin-sealing silicone resin composition for 4 hours under the condition of 150 ° C. is further 1,000 at 200 ° C. Heated for hours. The weight of the cured product was measured using a weigh scale for the initial cured product and the cured product after the heat loss evaluation test.
The loss on heating was determined by the following formula.
Heat loss (%) = 100− (weight of cured product after weight loss evaluation test / weight of initial cured product) × 100
When the heating loss value is 20% or less, it is practical as a silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor.
(5) Presence or absence of cracks Initial cured products obtained by curing the silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor obtained as described below at 150 ° C. for 4 hours were each visually cured. The presence or absence of cracks was confirmed.

(6)粘度
第1表に示す成分を混合して製造した直後における25℃の条件下での組成物の粘度(初期粘度)および製造した組成物を25℃の条件下に置き製造から24時間経過した後の組成物の粘度を、E型粘度計を用いてRH50%、25℃の条件下で測定した。
(7)硬化性
下記のようにして得られた接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を150℃の条件下において、接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物が硬化するまでの時間を評価した。
硬化性の評価基準としては、4時間以内に硬化する場合を「○」、4時間より長く24時間未満で硬化する場合を「△」、24時間後に硬化しない場合を「×」とした。
(8)プレッシャークッカー試験後における接着性
縦25mm×横10mm×厚さ1mmのシリコン樹脂スペーサーを用いて、得られた接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を被着体:アルミナ板に流し込み、150℃の条件で4時間加熱した。得られた積層体をプレッシャークッカー試験機を用いて、121℃、100%RHの条件下に24時間置いた。プレッシャークッカー試験後の硬化物を用いて手ハクリ試験を行い、試験後における接着性を試験後の硬化物の破壊形態によってプレッシャークッカー試験後における接着性を評価した。
評価は、破壊形態が凝集破壊である場合を「CF」、破壊形態が界面破壊である場合を「AF」とした。
(6) Viscosity Viscosity (initial viscosity) of the composition under the condition of 25 ° C. immediately after production by mixing the components shown in Table 1 and 24 hours after production when the produced composition is placed under the condition of 25 ° C. The viscosity of the composition after the passage of time was measured using an E-type viscometer under the conditions of RH 50% and 25 ° C.
(7) Curability The time required for the adhesive photo-semiconductor sealing silicone resin composition to be cured under the conditions of 150 ° C. for the adhesive photo-semiconductor sealing silicone resin composition obtained as follows. evaluated.
Evaluation criteria for curability were “◯” when cured within 4 hours, “Δ” when cured for more than 4 hours but less than 24 hours, and “X” when not cured after 24 hours.
(8) Adhesiveness after pressure cooker test Using a silicone resin spacer 25 mm long x 10 mm wide x 1 mm thick, the obtained silicone resin composition for sealing an optical semiconductor is poured onto an adherend: alumina plate. And heated at 150 ° C. for 4 hours. The obtained laminate was placed under conditions of 121 ° C. and 100% RH for 24 hours using a pressure cooker tester. A hand peel test was performed using the cured product after the pressure cooker test, and the adhesion after the pressure cooker test was evaluated by the fracture form of the cured product after the test.
The evaluation was “CF” when the fracture mode was cohesive fracture and “AF” when the fracture mode was interfacial fracture.

2.サンプルの作製
(1)サンプルの作製
サンプルの作製について添付の図面を用いて以下に説明する。
図7は、実施例において本発明の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を硬化させるために使用した型を模式的に表す断面図である。
図7において、型8は、ガラス3(ガラス3の大きさは、縦10cm、横10cm、厚さ4mm)の上にPETフィルム5が配置され、PETフィルム5の上にシリコンモールドのスペーサー1(縦5cm、横5cm、高さ2mm)を配置されているものである。
型8を用いてスペーサー1の内部6に組成物6を流し込み、次のとおりサンプルの硬化を行った。
2. Sample Preparation (1) Sample Preparation Sample preparation will be described below with reference to the accompanying drawings.
FIG. 7: is sectional drawing which represents typically the type | mold used in order to harden the silicone resin composition for adhesive optical semiconductor sealing of this invention in an Example.
In FIG. 7, a mold 8 has a PET film 5 disposed on a glass 3 (the size of the glass 3 is 10 cm long, 10 cm wide, 4 mm thick), and a silicon mold spacer 1 ( 5 cm in length, 5 cm in width, and 2 mm in height) are arranged.
The composition 6 was poured into the interior 6 of the spacer 1 using the mold 8, and the sample was cured as follows.

(2)サンプルの製造
組成物6が充填された型8を電気オーブンに入れて、上記の評価の条件で加熱して組成物6を硬化させ、厚さ2mmの硬化物6(初期硬化物)を製造した。
得られた硬化物6を評価用のサンプルとして用いた。
(2) Manufacture of sample The mold 8 filled with the composition 6 is put in an electric oven and heated under the above-mentioned evaluation conditions to cure the composition 6, and a cured product 6 (initial cured product) having a thickness of 2 mm. Manufactured.
The obtained cured product 6 was used as a sample for evaluation.

3.接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物の製造
下記第1表、第2表に示す成分を同表に示す量(単位:質量部)で真空かくはん機を用いて均一に混合し接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物を製造した。
3. Production of Silicone Resin Composition for Adhesive Optical Semiconductor Encapsulation The components shown in Tables 1 and 2 below are uniformly mixed in the amounts (unit: parts by mass) shown in the same table using a vacuum agitator. A silicone resin composition for semiconductor encapsulation was produced.

第1表に示す成分の詳細は以下のとおりである。
・(A)ポリシロキサン1:式(1)においてm=11であるポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール(重量平均分子量1,000)、商品名x−21−5841、信越化学工業社製
・(A)ポリシロキサン2:商品名x−21−9701、信越化学工業社製、重量平均分子量3000
・(A)ポリシロキサン3:商品名ss−10、信越化学工業社製、重量平均分子量40000
・(B)ケイ素化合物1:γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(分子量248)、商品名KBM503、信越化学工業社製
・(B)ケイ素化合物2:シリコーンアルコキシオリゴマー(重量平均分子量6,000)、商品名x−40−9246、信越化学工業社製
・(B)ケイ素化合物3:テトラエトキシシラン(分子量208)、多摩化学工業社製
・(C)ジルコニウム金属塩1:ナフテン酸ジルコニル(日本化学産業社製)
・(D)ビス(アルコキシシリル)アルカン1:ビス(トリエトキシシリル)エタン、信越化学工業社製
・(D)ビス(アルコキシシリル)アルカン2:ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、東レ・ダウコーニング社製
・メチルトリメトキシシラン:多摩化学工業社製MTMS
Details of the components shown in Table 1 are as follows.
(A) Polysiloxane 1: Polydimethylsiloxane-α, ω-diol (weight average molecular weight 1,000), m = 11 in formula (1), trade name x-21-5841, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (A) Polysiloxane 2: trade name x-21-9701, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 3000
(A) Polysiloxane 3: trade name ss-10, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 40000
(B) silicon compound 1: γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (molecular weight 248), trade name KBM503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (B) silicon compound 2: silicone alkoxy oligomer (weight average molecular weight 6,000), Trade name x-40-9246, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (B) silicon compound 3: tetraethoxysilane (molecular weight 208), manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd. (C) zirconium metal salt 1: zirconyl naphthenate (Nippon Chemical Industry) (Made by company)
(D) bis (alkoxysilyl) alkane 1: bis (triethoxysilyl) ethane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (D) bis (alkoxysilyl) alkane 2: bis (trimethoxysilyl) hexane, Toray Dow Corning・ Methyltrimethoxysilane: MTMS manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd.

第2表に示されている各成分は、以下のとおりである。
・(A)ポリシロキサン1:式(1)においてm=11であるポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオール(重量平均分子量1,000)、商品名x−21−5841、信越化学工業社製
・(A)ポリシロキサン2:商品名x−21−5848、信越化学工業社製、重量平均分子量67000
・エポキシシリコーン:エポキシ変性ポリシロキサン(商品名:KF101、信越化学工業社製)
・(B)ケイ素化合物1:γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(分子量248)、商品名KBM503、信越化学工業社製
・(B)ケイ素化合物2:シリコーンアルコキシオリゴマー(重量平均分子量6,000)、商品名x−40−9246、信越化学工業社製
・(B)ケイ素化合物3:テトラエトキシシラン(分子量208)、多摩化学工業社製
・(C)ジルコニウム金属塩1:オクチル酸ジルコニル(日本化学産業社製)
・(C)ジルコニウム金属塩2:ナフテン酸ジルコニル(日本化学産業社製)
・アルミニウム触媒:AL−CH、川研ファインケミカル社製
・カチオン重合触媒:BF3・Et2O(BF3エチルエテラート錯体、東京化成工業社製)
・ジルコニウムキレート1:ジルコニウムテトラアセチルアセトナート(松本ファインケミカル社製)
・ジルコニウムキレート2:ジルコニウムトリブトキシモノアセチルアセトナート(
松本ファインケミカル社製)
・ジルコニウムアルコラート:ジルコニウムテトラノルマルブトキシド(関東化学社製)
・ジブチルスズジラウレート:東京化成工業社製
・ジブチルスズジアセテート:日東化成社製
・チタンジイソプロポキシビス(エチルアセトアセテート):松本ファインケミカル社製
Each component shown in Table 2 is as follows.
(A) Polysiloxane 1: Polydimethylsiloxane-α, ω-diol (weight average molecular weight 1,000), m = 11 in formula (1), trade name x-21-5841, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (A) Polysiloxane 2: trade name x-21-5848, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 67000
Epoxy silicone: Epoxy-modified polysiloxane (trade name: KF101, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(B) silicon compound 1: γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (molecular weight 248), trade name KBM503, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (B) silicon compound 2: silicone alkoxy oligomer (weight average molecular weight 6,000), Trade name x-40-9246, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (B) Silicon compound 3: tetraethoxysilane (molecular weight 208), manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd. (C) Zirconium metal salt 1: zirconyl octylate (Nippon Chemical Industry) (Made by company)
(C) Zirconium metal salt 2: Zirconyl naphthenate (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.)
Aluminum catalyst: AL-CH, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co. Cationic polymerization catalyst: BF 3 · Et 2 O (BF 3 ethyl etherate complex, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Zirconium chelate 1: zirconium tetraacetylacetonate (Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.)
Zirconium chelate 2: zirconium tributoxy monoacetylacetonate (
(Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.)
・ Zirconium alcoholate: Zirconium tetranormal butoxide (manufactured by Kanto Chemical Co., Inc.)
・ Dibutyltin dilaurate: manufactured by Tokyo Chemical Industry ・ Dibutyltin diacetate: manufactured by Nitto Kasei ・ Titanium diisopropoxybis (ethylacetoacetate): manufactured by Matsumoto Fine Chemical

第1表、第2表に示す結果から明らかなように、ジルコニウム金属塩を含有せずアルミニウム触媒を含有する比較例1は加熱減量が大きかった。
アルミニウム触媒を含有する比較例1は加熱減量が大きかった。
ジルコニウム金属塩をポリシロキサン100質量部に対して0.1質量部以上含有する比較例2は加熱減量が大きかった。ジルコニウム金属塩をポリシロキサン100質量部に対して0.1質量部以上含有する比較例3は加熱減量が大きく、初期における硬化状態が白濁を生じており透明性が失われ作業性に劣り、耐熱着色安定性が悪かった。
エポキシシリコーンを含有する比較例4は耐熱着色安定性に劣った。
ジルコニウム金属塩を含有せず、代わりにジルコニウムキレートを含有する比較例5は、初期における硬化状態が黄変を生じており作業性に劣り、耐熱着色安定性が悪く、加熱減量が大きかった。
比較例5とは異なるジルコニウムキレートを含有する比較例6は、初期における硬化状態でゲル化を生じ、硬化性、作業性が悪かった。
ジルコニウム金属塩を含有せず、代わりにジルコニウムアルコラートを含有する比較例7は、硬化性に劣った。
ジルコニウム金属塩を含有せず、代わりにスズ触媒を含有する比較例8〜10は、混合初期に室温でゲル化を生じたり、高温での硬化性に劣る場合があった。
ジルコニウム金属塩を含有せず、代わりにチタン触媒を含有する比較例11〜12は、混合初期に室温でゲル化を生じたり、高温での硬化性に劣る場合があった。
ビス(アルコキシシリル)アルカンを含有せず代わりにメチルトリメトキシシランのような1分子中にアルコキシシリル基を1つ有する化合物を含有する比較例13は、硬化性が不十分でプレッシャークッカー試験後における接着性に劣った。
これに対して、実施例1〜3は、プレッシャークッカー試験後における接着性、耐熱着色安定性、作業性(作業中における増粘、白濁が抑制されている。)に優れ、加熱減量を20%以下に抑制することができ、硬化性に優れる。
また、実施例1〜3は透明性に優れ、透過率、透過保持率が高く、クラックの発生がなかった。
As is apparent from the results shown in Tables 1 and 2, Comparative Example 1 which did not contain a zirconium metal salt but contained an aluminum catalyst had a large loss on heating.
In Comparative Example 1 containing an aluminum catalyst, the loss on heating was large.
In Comparative Example 2 containing 0.1 parts by mass or more of zirconium metal salt with respect to 100 parts by mass of polysiloxane, the loss on heating was large. Comparative Example 3 containing a zirconium metal salt in an amount of 0.1 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of polysiloxane has a large loss on heating, the initial cured state is clouded, and transparency is lost, resulting in poor workability and heat resistance. The coloring stability was poor.
Comparative Example 4 containing epoxy silicone was inferior in heat-resistant coloring stability.
In Comparative Example 5 containing no zirconium metal salt and containing zirconium chelate instead, the initial cured state was yellowed, the workability was poor, the heat-resistant coloring stability was poor, and the heat loss was large.
In Comparative Example 6 containing a zirconium chelate different from Comparative Example 5, gelation occurred in the initial cured state, and the curability and workability were poor.
Comparative Example 7 containing no zirconium metal salt and containing zirconium alcoholate instead was inferior in curability.
In Comparative Examples 8 to 10 which did not contain a zirconium metal salt and contained a tin catalyst instead, gelation occurred at room temperature in the initial stage of mixing, or the curability at high temperature was inferior.
In Comparative Examples 11 to 12 which did not contain a zirconium metal salt and contained a titanium catalyst instead, gelation occurred at room temperature in the initial stage of mixing, or the curability at high temperature was inferior.
Comparative Example 13, which does not contain bis (alkoxysilyl) alkane and instead contains a compound having one alkoxysilyl group in one molecule such as methyltrimethoxysilane, is insufficient in curability and after the pressure cooker test. Adhesiveness was poor.
On the other hand, Examples 1-3 are excellent in adhesiveness after heat cooker test, heat-resistant coloring stability, and workability (increase in viscosity and white turbidity during work are suppressed), and heat loss is 20%. It can suppress below and is excellent in sclerosis | hardenability.
Moreover, Examples 1-3 were excellent in transparency, the transmittance | permeability and the transmittance | permeability retention rate were high, and there was no generation | occurrence | production of a crack.

比較例1の加熱減量評価試験後のサンプルについて、GC−MS(ガスクロマトグラフ質量分析装置:ヒューレットパッカード、JEOL社製)、カラムとして商品名DB−5(アジレントテクノロジー社製)を用いて分析をした。分析条件は、インジェクション温度280℃、50℃×3分間保持後10℃/min.の昇温速度で320℃まで昇温後、320℃×15分間保持した。結果を添付の図8〜図10に示す。
図8は、比較例1の加熱減量評価試験後のサンプルのGC/MS−TICのスペクトルチャートである。図8において縦軸はアバンダンスを示す。図8において、保持時間(R.T.)4.22分付近に顕著なピークが確認できた。
図10は、GC−MSによるヘキサメチルシクロトリシロキサンの質量スペクトルチャートである。図10において、ヘキサメチルシクロトリシロキサンの質量対電荷比(m/z)は207.0であった。
図9は、図8の保持時間4.09分におけるピークのGC−MSによる質量スペクトルチャートである。図9において保持時間4.09分におけるピークの質量スペクトル(m/z)は207.0であり、図10の結果と一致した。したがって、図8の保持時間4.09分におけるピークはヘキサメチルシクロトリシロキサンによるものであると考えられる。
また、図8の保持時間1.72分におけるピークはトリメチルシラノール(m/z:75.0)によるものであることが分かっている。
このことから、アルミニウム触媒を含有する組成物から得られる初期硬化物を高温の条件下に長時間置くと、ヘキサメチルシクロトリシロキサンやトリメチルシラノールのような不純物が生成することが判明した。
実施例1〜3は比較例1と比較して加熱減量が少ないことから、実施例1〜3のほうが比較例1より環状シロキサンの生成量が少ないと考えられる。
About the sample after the heat loss evaluation test of the comparative example 1, it analyzed using GC-MS (gas chromatograph mass spectrometer: Hewlett Packard, the product made from JEOL), and brand name DB-5 (made by Agilent Technologies) as a column. . The analysis conditions were an injection temperature of 280 ° C., 50 ° C. × 3 minutes, and 10 ° C./min. The temperature was raised to 320 ° C. at a rate of temperature rise of 320 ° C. and held at 320 ° C. for 15 minutes. The results are shown in FIGS.
FIG. 8 is a GC / MS-TIC spectrum chart of the sample after the heat loss evaluation test of Comparative Example 1. In FIG. 8, the vertical axis represents abundance. In FIG. 8, a prominent peak was confirmed around a retention time (RT) of 4.22 minutes.
FIG. 10 is a mass spectrum chart of hexamethylcyclotrisiloxane by GC-MS. In FIG. 10, the mass to charge ratio (m / z) of hexamethylcyclotrisiloxane was 207.0.
FIG. 9 is a mass spectrum chart by GC-MS of the peak at a retention time of 4.09 minutes in FIG. In FIG. 9, the mass spectrum (m / z) of the peak at a retention time of 4.09 minutes was 207.0, which was consistent with the result of FIG. Therefore, the peak at the retention time of 4.09 minutes in FIG. 8 is considered to be due to hexamethylcyclotrisiloxane.
Further, the peak at a retention time of 1.72 minutes in FIG. 8 is known to be due to trimethylsilanol (m / z: 75.0).
From this, it was found that when an initial cured product obtained from a composition containing an aluminum catalyst was placed under a high temperature condition for a long time, impurities such as hexamethylcyclotrisiloxane and trimethylsilanol were generated.
Since Examples 1 to 3 have less heat loss than Comparative Example 1, Examples 1 to 3 are considered to produce less cyclic siloxane than Comparative Example 1.

図1は、本発明の光半導体封止体の一例を模式的に示す上面図である。FIG. 1 is a top view schematically showing an example of the sealed optical semiconductor of the present invention. 図2は、図1に示す光半導体封止体のA−A断面を模式的に示す断面図である。2 is a cross-sectional view schematically showing an AA cross section of the sealed optical semiconductor shown in FIG. 図3は、本発明の光半導体封止体の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of the sealed optical semiconductor of the present invention. 図4は、本発明の光半導体封止体の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an example of the sealed optical semiconductor of the present invention. 図5は、本発明の光半導体封止体を用いたLED表示器の一例を模式的に示す図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing an example of an LED display using the sealed optical semiconductor of the present invention. 図6は、図5に示すLED表示器を用いたLED表示装置のブロック図である。FIG. 6 is a block diagram of an LED display device using the LED display shown in FIG. 図7は、実施例において本発明の組成物を硬化させるために使用した型の断面を模式的に表す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of a mold used for curing the composition of the present invention in Examples. 図8は、比較例1の加熱減量評価試験後のサンプルのGC/MS−TICのスペクトルチャートである。FIG. 8 is a GC / MS-TIC spectrum chart of the sample after the heat loss evaluation test of Comparative Example 1. 図9は、図8中のR.T.:4.09分におけるピークのGC−MSによる質量スペクトルチャートである。FIG. T.A. : Mass spectrum chart by GC-MS of the peak at 4.09 minutes. 図10は、GC−MSによるヘキサメチルシクロトリシロキサンの質量スペクトルチャートである。FIG. 10 is a mass spectrum chart of hexamethylcyclotrisiloxane by GC-MS.

符号の説明Explanation of symbols

1 スペーサー 3 ガラス
5 PETフィルム
6 本発明の組成物(内部、硬化後硬化物6となる)
8 型
200、300 本発明の光半導体封止体 201、301 マウント部材
202 キャビティー、硬化物 203、303 青色LEDチップ
302 硬化物
204 パッケージ 206 斜線部
306 樹脂 207、307 導電性ワイヤー
209 外部電極 210、310 基板
305 インナーリード 400、501 LED表示器
401 白色LEDチップ 404 筐体
405 遮光部材 406 硬化物
500 LED表示装置 502 ドライバー
501 LED表示器 503 階調制御手段(CPU)
504 画像データ記憶手段(RAM) 600 本発明の光半導体封止体
601 LEDチップ 603 硬化物
605 点 607 点605が属する面
609 基板 T 硬化物603の厚さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Spacer 3 Glass 5 PET film 6 Composition of this invention (it becomes the inside and the hardened | cured material 6 after hardening)
Type 8
200, 300 Encapsulated optical semiconductor 201, 301 Mount member 202 Cavity, cured product 203, 303 Blue LED chip 302 Cured product 204 Package 206 Shaded portion 306 Resin 207, 307 Conductive wire 209 External electrode 210, 310 Substrate 305 Inner lead 400, 501 LED display 401 White LED chip 404 Case 405 Light shielding member 406 Cured material 500 LED display device 502 Driver 501 LED display 503 Gradation control means (CPU)
504 Image data storage means (RAM) 600 Encapsulated optical semiconductor of the present invention 601 LED chip 603 Cured product 605 point 607 Surface to which point 605 belongs 609 Substrate T Thickness of cured product 603

Claims (10)

(A) 1分子中に2個以上のシラノール基を有するポリシロキサン100質量部と、
(B) 1分子中にケイ素原子に結合している、アルコキシ基および/またはヒドロキシ基を2個以上有するケイ素化合物0.1〜100質量部と、
(C) ジルコニウム金属塩C0.001質量部以上0.1質量部未満と、
(D) ビス(アルコキシシリル)アルカンとを含有し、
前記ジルコニウム金属塩Cが、ジルコニウム原子が(Zr=O)2+を形成するジルコニウム金属塩c1である、接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。
(A) 100 parts by mass of polysiloxane having two or more silanol groups in one molecule;
(B) 0.1 to 100 parts by mass of a silicon compound having two or more alkoxy groups and / or hydroxy groups bonded to a silicon atom in one molecule;
(C) zirconium metal salt C 0.001 parts by mass or more and less than 0.1 parts by mass;
(D) bis (alkoxysilyl) alkane,
The silicone resin composition for encapsulating an adhesive optical semiconductor, wherein the zirconium metal salt C is a zirconium metal salt c 1 in which a zirconium atom forms (Zr = O) 2+ .
前記ジルコニウム金属塩c1が、下記式(I)で表される化合物である請求項1に記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。
(式中、Rは炭化水素基を表し、Rは同じでも異なっていてもよい。)
The silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor according to claim 1, wherein the zirconium metal salt c1 is a compound represented by the following formula (I).
(In the formula, R represents a hydrocarbon group, and R may be the same or different.)
前記ジルコニウム金属塩Cは、カルボン酸塩である請求項1又は2に記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。   The silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor according to claim 1, wherein the zirconium metal salt C is a carboxylate. 前記ビス(アルコキシシリル)アルカンが、下記式(A)で表される請求項1〜3のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。
(R1O)3−Si−R2−Si−(OR13 (A)
[式(A)中、R1はアルキル基であり、R2は炭素原子数2〜10のアルキレン基であり、R1は同じでも異なっていてもよい。]
The silicone resin composition for adhesive optical semiconductor encapsulation according to any one of claims 1 to 3, wherein the bis (alkoxysilyl) alkane is represented by the following formula (A).
(R 1 O) 3 —Si—R 2 —Si— (OR 1 ) 3 (A)
[In Formula (A), R 1 is an alkyl group, R 2 is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and R 1 may be the same or different. ]
前記ポリシロキサンが、分子量1,000〜1,000,000の直鎖状オルガノポリジメチルシロキサン−α,ω−ジオールである請求項1〜4のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。   The silicone for sealing an adhesive optical semiconductor according to any one of claims 1 to 4, wherein the polysiloxane is a linear organopolydimethylsiloxane-α, ω-diol having a molecular weight of 1,000 to 1,000,000. Resin composition. 前記ケイ素化合物が、下記式(2)で表される化合物および/または2個以上のケイ素原子を有し下記式(3)で表される化合物である請求項1〜5のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。
Si(OR1n2 4-n (2)
mSi(OR′)n(4-m-n)/2 (3)
[式(2)中、nは2、3または4であり、R1は水素原子またはアルキル基であり、R2は有機基である。
式(3)中、Rは炭素数1〜6のアルキル基、アルケニル基またはアリール基であり、R′は水素原子、炭素数1〜6のアルキル基であり、mは0<m<2、nは0<n<2、m+nは0<m+n<2である。]
6. The compound according to claim 1, wherein the silicon compound is a compound represented by the following formula (2) and / or a compound having two or more silicon atoms and represented by the following formula (3). Silicone resin composition for sealing an adhesive optical semiconductor.
Si (OR 1 ) n R 2 4-n (2)
R m Si (OR ′) n O (4-mn) / 2 (3)
[In Formula (2), n is 2, 3 or 4, R 1 is a hydrogen atom or an alkyl group, and R 2 is an organic group.
In the formula (3), R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkenyl group or an aryl group, R ′ is a hydrogen atom and an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and m is 0 <m <2, n is 0 <n <2, and m + n is 0 <m + n <2 . ]
前記ビス(アルコキシシリル)アルカンの量が、前記ポリシロキサン100質量部に対して、0.1〜2質量部である請求項1〜6のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。   The amount of the bis (alkoxysilyl) alkane is 0.1 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polysiloxane. The silicone resin for sealing an adhesive optical semiconductor according to claim 1. Composition. 前記ビス(アルコキシシリル)アルカンが、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エタン、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,7−ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、1,8−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、1,9−ビス(トリメトキシシリル)ノナンおよび1,10−ビス(トリメトキシシリル)デカンからなる群から選ばれる少なくとも1種である請求項1〜7のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。   The bis (alkoxysilyl) alkane is 1,2-bis (triethoxysilyl) ethane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane, 1,7-bis (trimethoxysilyl) heptane, 1,8-bis. It is at least one selected from the group consisting of (trimethoxysilyl) octane, 1,9-bis (trimethoxysilyl) nonane and 1,10-bis (trimethoxysilyl) decane. The silicone resin composition for adhesive optical semiconductor sealing of description. 前記ジルコニウム金属塩c1が、ジオクチル酸ジルコニルおよびナフテン酸ジルコニルのうちの一方または両方である請求項1〜8のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物。   The adhesive silicone resin sealing silicone resin composition according to any one of claims 1 to 8, wherein the zirconium metal salt c1 is one or both of zirconyl dioctylate and zirconyl naphthenate. LEDチップが請求項1〜9のいずれかに記載の接着性光半導体封止用シリコーン樹脂組成物で封止されている光半導体封止体。   The optical semiconductor sealing body by which LED chip is sealed with the silicone resin composition for adhesive optical semiconductor sealing in any one of Claims 1-9.
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