JP4788837B2 - Silicone resin composition and method for using the same, silicone resin, silicone resin-containing structure, and optical semiconductor element sealing body - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silicone resin composition which can maintain transparency and is excellent in sulfur resistance, a method for using the same, a silicone resin, a silicone resin-containing structure, and an optical semiconductor device sealed body. <P>SOLUTION: The silicone resin composition includes a component (A): a polysiloxane having at least two alkenyl groups each combined with a silicon atom, a component (B): a polysiloxane crosslinking agent having at least two hydrogen groups each combined with a silicon atom, a component (C): a hydrosilylation reaction catalyst, and a component (D): a zinc compound. The component (D) is contained in an amount of 0.1-5 pts.mass based on 100 pts.mass of the sum of the component (A) and the component (B). <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、シリコーン樹脂組成物およびその使用方法、シリコーン樹脂、シリコーン樹脂含有構造体、ならびに光半導体素子封止体に関する。   The present invention relates to a silicone resin composition and a method for using the same, a silicone resin, a silicone resin-containing structure, and a sealed optical semiconductor element.

従来、光半導体を封止するための組成物には樹脂としてエポキシ樹脂を使用することが提案されている(例えば、特許文献1)。しかしながら、エポキシ樹脂を含有する組成物から得られる封止体は白色LED素子からの発熱によって色が黄変するなどの問題があった。
また、2個のシラノール基を有するオルガノポリシロキサンと、ケイ素原子に結合した加水分解可能な基を1分子中に2個以上有するシラン化合物等と、有機ジルコニウム化合物とを含有する室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物が提案されている(例えば、特許文献2、3)。
また、2個のシラノール基を有するジオルガノポリシロキサン等と、アルコキシ基を3個以上有するシラン等とに縮合触媒を混合し加熱することが提案されている(例えば、特許文献4、5)。
Conventionally, it has been proposed to use an epoxy resin as a resin for a composition for sealing an optical semiconductor (for example, Patent Document 1). However, the encapsulant obtained from the composition containing the epoxy resin has a problem that the color of the encapsulant is yellowed by heat generated from the white LED element.
A room temperature-curable organopolysiloxane containing an organopolysiloxane having two silanol groups, a silane compound having two or more hydrolyzable groups bonded to a silicon atom in one molecule, and an organic zirconium compound. Siloxane compositions have been proposed (for example, Patent Documents 2 and 3).
It has also been proposed to mix and heat a condensation catalyst to diorganopolysiloxane having two silanol groups and silane having three or more alkoxy groups (for example, Patent Documents 4 and 5).

特開平10−228249号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-228249 特開2001−200161号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-200161 特開平2−196860号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-196860 特開2007−224089号公報JP 2007-224089 A 特開2006−206700号公報JP 2006-206700 A

しかしながら、シリコーン系樹脂の場合、エポキシ樹脂と比較して気体透過性が高く、空気が通過しやすいため、空気中の硫化水素によって光半導体パッケージの銀メッキが経時で変色しやすく、その結果、輝度が低下する傾向がある。
また、シリコーン系樹脂では、耐硫化性を高めるため樹脂を硬くすることが一般的に行われているが、その場合、硬化収縮やそれによるLEDパッケージからのハガレやワイヤーの断線のおそれがあった。
However, in the case of silicone resin, gas permeability is higher than epoxy resin and air easily passes through, so the silver plating of the optical semiconductor package is easily discolored over time due to hydrogen sulfide in the air. Tends to decrease.
In addition, in the case of a silicone resin, it is generally performed to harden the resin in order to improve the sulfidation resistance. In that case, however, there is a risk of curing shrinkage, peeling from the LED package, and wire breakage. .

本発明者らは、シリコーン樹脂組成物に亜鉛化合物を添加することによって、耐硫化性を発現させて銀の変色を抑えることを見出し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、透明性を維持することができ、かつ耐硫化性に優れたシリコーン樹脂組成物およびその使用方法、シリコーン樹脂、シリコーン樹脂含有構造体、ならびに光半導体素子封止体を提供する。
また、本発明者らは、シリコーン樹脂組成物に亜鉛化合物を添加すると高温下での長期信頼性の低下が見られる場合があることを明らかにし、さらに、所定の成分を添加することで高温下での長期信頼性が優れることを見出した。
The present inventors have found that by adding a zinc compound to a silicone resin composition, the anti-sulfurity is exhibited and the discoloration of silver is suppressed, and the present invention has been completed. That is, the present invention provides a silicone resin composition that can maintain transparency and has excellent sulfidation resistance, a method for using the same, a silicone resin, a silicone resin-containing structure, and a sealed optical semiconductor element. .
In addition, the present inventors have clarified that when a zinc compound is added to the silicone resin composition, a decrease in long-term reliability at high temperatures may be observed, and further, by adding predetermined components, It was found that the long-term reliability is excellent.

すなわち、本発明は、下記1〜14を提供する。
1.(A)成分:ケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個有するポリシロキサンと、
(B)成分:ケイ素原子に結合した水素基を少なくとも2個有するポリシロキサン架橋剤と、
(C)成分:ヒドロシリル化反応触媒と、
(D)成分:亜鉛ビスアセチルアセトネートおよび/またはカルボン酸亜鉛塩と、を含み、
前記(D)成分を前記(A)成分および前記(B)成分の合計100質量部に対して0.1〜5質量部含有する、シリコーン樹脂組成物。
That is, this invention provides the following 1-14.
1. (A) component: polysiloxane having at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms;
(B) component: a polysiloxane crosslinking agent having at least two hydrogen groups bonded to silicon atoms;
(C) component: a hydrosilylation reaction catalyst;
(D) component: zinc bisacetylacetonate and / or carboxylic acid zinc salt ,
The silicone resin composition which contains 0.1-5 mass parts of said (D) component with respect to a total of 100 mass parts of said (A) component and said (B) component.

2.シラノール基を有するケイ素化合物の含有量が0.1質量%未満である、上記1に記載のシリコーン樹脂組成物
3.前記カルボン酸亜鉛塩が、亜鉛ビス2−エチルヘキサノエートである、上記1または2に記載のシリコーン樹脂組成物。
4.前記アルケニル基が、ビニル基または(メタ)アクリロイル基である、上記1〜3のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物。
5.光半導体素子封止用に使用される、上記1〜4のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物。
6.銀の存在下で使用される、上記1〜5のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物。
7.さらに、(E)成分:ホウ素化合物および/または(F)成分:リン酸エステルを含む、上記1〜6のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物。
8.さらに、ビス(アルコキシ)アルカンおよび/またはイソシアヌレート誘導体を含む、上記1〜7のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物。
9.上記1〜8のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物であって、
第11族の金属を用いて得られる金属層の上に前記シリコーン樹脂組成物を厚さ1mmに付与し硬化させて、前記金属層とシリコーン樹脂層とを有する積層体とし、
前記積層体を560ppmの硫化水素ガス中に23℃の条件下で置く耐硫化試験を行い、前記耐硫化試験の前および前記耐硫化試験開始から24時間後における、前記積層体の分光反射率を分光反射率計を用いて測定し、前記分光反射率を式[分光反射率維持率=(耐硫化試験後の分光反射率/耐硫化試験前の分光反射率)×100]に当てはめ算出される分光反射率維持率が80%以上である、シリコーン樹脂組成物。
10.上記1〜9のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物を硬化させることによって得られる、シリコーン樹脂。
11.上記10記載のシリコーン樹脂と、銀を含む部材とを含む、シリコーン樹脂含有構造体。
12.LEDチップが上記10に記載のシリコーン樹脂で封止されている光半導体素子封止体。
13.銀を含む部材をさらに含む、上記12記載の光半導体素子封止体。
14.銀の存在下で上記1〜8のいずれかに記載のシリコーン樹脂組成物を硬化させる工程を含む、シリコーン樹脂組成物の使用方法。
2. 2. The silicone resin composition according to 1 above, wherein the content of the silicon compound having a silanol group is less than 0.1% by mass .
3. 3. The silicone resin composition according to 1 or 2 above , wherein the zinc carboxylate is zinc bis 2-ethylhexanoate .
4). 4. The silicone resin composition according to any one of 1 to 3, wherein the alkenyl group is a vinyl group or a (meth) acryloyl group.
5. 5. The silicone resin composition according to any one of 1 to 4 above, which is used for sealing an optical semiconductor element.
6). 6. The silicone resin composition according to any one of 1 to 5 above, which is used in the presence of silver.
7). Furthermore, the silicone resin composition in any one of said 1-6 containing (E) component: A boron compound and / or (F) component: Phosphate ester.
8). Furthermore, the silicone resin composition in any one of said 1-7 containing a bis (alkoxy) alkane and / or an isocyanurate derivative.
9. It is a silicone resin composition in any one of said 1-8,
On the metal layer obtained using a Group 11 metal, the silicone resin composition is applied to a thickness of 1 mm and cured to form a laminate having the metal layer and the silicone resin layer,
A sulfidation test is performed in which the laminate is placed in 560 ppm hydrogen sulfide gas at 23 ° C., and the spectral reflectance of the laminate is measured before the sulfidation test and 24 hours after the start of the sulfidation test. Measured using a spectral reflectometer and calculated by fitting the spectral reflectance to the formula [spectral reflectance maintenance ratio = (spectral reflectance after sulfidation test / spectral reflectance before sulfidation test) × 100]. A silicone resin composition having a spectral reflectance maintenance factor of 80% or more.
10. The silicone resin obtained by hardening the silicone resin composition in any one of said 1-9.
11. 11. A silicone resin-containing structure comprising the silicone resin according to 10 and a member containing silver.
12 11. A sealed optical semiconductor element in which an LED chip is sealed with the silicone resin described in 10 above.
13. 13. The sealed optical semiconductor element according to 12, further comprising a member containing silver.
14 The usage method of a silicone resin composition including the process of hardening the silicone resin composition in any one of said 1-8 in presence of silver.

本発明のシリコーン樹脂組成物が(D)成分である亜鉛化合物を前記(A)成分および前記(B)成分の合計100質量部に対して0.1〜5質量部含有することにより、該組成物を用いて、シリコーン系樹脂硬化物でも耐硫化性を付与でき、透明性を維持でき、かつ耐硫化性に優れた光半導体封止体を製造することができる。
本発明のシリコーン樹脂および光半導体封止体は、上記組成物を用いて形成されたものであるため、クラックが生じにくく、かつ耐硫化性および透明性に優れている。
The silicone resin composition of the present invention contains the zinc compound as component (D) in an amount of 0.1 to 5 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the component (A) and the component (B). By using the product, it is possible to produce an encapsulated optical semiconductor that can impart sulfidation resistance even to a cured silicone resin, maintain transparency, and excellent in sulfidation resistance.
Since the silicone resin and the optical semiconductor encapsulant of the present invention are formed using the above composition, cracks are hardly generated and the sulfide resistance and transparency are excellent.

図1は、本発明の光半導体封止体の一例を模式的に示す上面図である。FIG. 1 is a top view schematically showing an example of the sealed optical semiconductor of the present invention. 図2は、図1に示す光半導体封止体のA−A断面を模式的に示す断面図である。2 is a cross-sectional view schematically showing an AA cross section of the sealed optical semiconductor shown in FIG. 図3は、本発明の光半導体封止体の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of the sealed optical semiconductor of the present invention. 図4は、本発明の光半導体封止体の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an example of the sealed optical semiconductor of the present invention. 図5は、本発明の光半導体封止体を用いたLED表示器の一例を模式的に示す図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing an example of an LED display using the sealed optical semiconductor of the present invention. 図6は、図5に示すLED表示器を用いたLED表示装置のブロック図である。FIG. 6 is a block diagram of an LED display device using the LED display shown in FIG. 図7は、実施例において本発明の組成物を硬化させるために使用した型の断面を模式的に表す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of a mold used for curing the composition of the present invention in Examples.

以下、本発明のシリコーン樹脂組成物およびその使用方法、シリコーン樹脂、シリコーン樹脂含有構造体、ならびに光半導体素子封止体について詳細に説明する。
1.シリコーン樹脂組成物
本発明のシリコーン樹脂組成物は、
(A)成分:ケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個有するポリシロキサンと、
(B)成分:ケイ素原子に結合した水素基を少なくとも2個有するポリシロキサン架橋剤と、
(C)成分:ヒドロシリル化反応触媒と、
(D)成分:亜鉛化合物と、を含み、
(D)成分を(A)成分および(B)成分の合計100質量部に対して0.1〜5質量部含有する。
Hereinafter, the silicone resin composition of the present invention and the method for using the same, the silicone resin, the silicone resin-containing structure, and the sealed optical semiconductor element will be described in detail.
1. Silicone resin composition The silicone resin composition of the present invention comprises:
(A) component: polysiloxane having at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms;
(B) component: a polysiloxane crosslinking agent having at least two hydrogen groups bonded to silicon atoms;
(C) component: a hydrosilylation reaction catalyst;
(D) component: a zinc compound,
(D) 0.1-5 mass parts is contained with respect to 100 mass parts of total of (A) component and (B) component.

1.1.(A)成分
(A)成分は、1分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個有し、主鎖としてポリシロキサン構造を有するオルガノポリシロキサンであれば特に制限されない。
1.1. Component (A) The component (A) is not particularly limited as long as it is an organopolysiloxane having at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms in one molecule and having a polysiloxane structure as a main chain.

(A)成分は、本発明のシリコーン樹脂組成物の主剤(ベースポリマー)である。(A)成分は、靭性、伸びに優れるという観点から、1分子中にケイ素原子に結合したアルケニル基を2個以上有するのが好ましく、より好ましくは2〜20個、さらに好ましくは2〜10個程度有する。
また、(A)成分は、組成物の粘度が低いという観点から、1分子中に1個のビニル基および/またはヒドロシリル基を有するポリシロキサンであっても良い。
(A) A component is the main ingredient (base polymer) of the silicone resin composition of this invention. The component (A) preferably has two or more alkenyl groups bonded to a silicon atom in one molecule from the viewpoint of excellent toughness and elongation, more preferably 2 to 20, more preferably 2 to 10 Have a degree.
In addition, the component (A) may be a polysiloxane having one vinyl group and / or hydrosilyl group in one molecule from the viewpoint that the viscosity of the composition is low.

アルケニル基はケイ素原子と有機基を介して結合することができる。有機基は特に制限されず、例えば、酸素原子、窒素原子、硫黄原子のようなヘテロ原子を有することができる。   The alkenyl group can be bonded to the silicon atom via an organic group. The organic group is not particularly limited, and can have, for example, a hetero atom such as an oxygen atom, a nitrogen atom, or a sulfur atom.

アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基のような炭素数2〜8の不飽和炭化水素基;(メタ)アクリロイル基が挙げられる。なかでも、硬化性に優れるという観点から、アルケニル基は、ビニル基または(メタ)アクリロイル基であるのが好ましく、ビニル基がより好ましい。
なお、本発明において(メタ)アクリロイル基は、アクリロイル基およびメタクリロイル基のうちのいずれか一方または両方であることを意味する。
Examples of the alkenyl group include an unsaturated hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms such as a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, and a heptenyl group; and a (meth) acryloyl group. Among these, from the viewpoint of excellent curability, the alkenyl group is preferably a vinyl group or a (meth) acryloyl group, and more preferably a vinyl group.
In the present invention, the (meth) acryloyl group means one or both of an acryloyl group and a methacryloyl group.

アルケニル基の結合位置としては、例えば、ポリシロキサンの分子鎖末端および分子鎖側鎖のうちのいずれか一方または両方が挙げられる。また、アルケニル基は、ポリシロキサンの分子鎖の片方の末端または両方の末端に結合することができる。   Examples of the bonding position of the alkenyl group include one or both of the molecular chain terminal and the molecular chain side chain of polysiloxane. The alkenyl group can be bonded to one end or both ends of the polysiloxane molecular chain.

(A)成分において、アルケニル基以外のケイ素原子に結合した有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基等が挙げられる。また、(A)成分であるポリシロキサンはヒドロシリル基を有していてもよい。
なかでも、耐熱性に優れるという観点から、メチル基、フェニル基であることが好ましい。
In the component (A), examples of the organic group bonded to the silicon atom other than the alkenyl group include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a heptyl group; a phenyl group, Aryl groups such as tolyl group, xylyl group and naphthyl group; aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group; alkyl halide groups such as chloromethyl group, 3-chloropropyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group; Examples thereof include cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Moreover, the polysiloxane as the component (A) may have a hydrosilyl group.
Of these, a methyl group and a phenyl group are preferable from the viewpoint of excellent heat resistance.

(A)成分は、その主鎖としては、例えば、オルガノポリシロキサンが挙げられる。具体的には、ポリジメチルシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサンが挙げられる。なかでも、耐熱性、耐光性に優れるという観点から、ポリジメチルシロキサンが好ましい。なお、本発明において、耐光性とはLEDからの発光に対する耐久性(例えば、変色、焼けが生じにくいこと。)をいう。   As the main chain of the component (A), for example, organopolysiloxane can be mentioned. Specific examples include polydimethylsiloxane, methylphenyl polysiloxane, and diphenyl polysiloxane. Of these, polydimethylsiloxane is preferred from the viewpoint of excellent heat resistance and light resistance. In the present invention, light resistance refers to durability against light emission from an LED (for example, discoloration and burning are less likely to occur).

(A)成分は分子構造について特に制限されない。例えば、直鎖状、一部分岐を有する直鎖状、環状、分岐鎖状、三次元網状等が挙げられる。直鎖状であるのが好ましい態様の1つとして挙げられる。
(A)成分はその分子構造として、主鎖がジオルガノシロキサン単位の繰り返しからなるのが好ましい態様の1つとして挙げられる。
(A)成分として、ビニル基含有ポリシロキサンおよび/またはヒドロシリル基含有ポリシロキサンを用いる場合、(A)成分の構造中にアルキレン基およびまたはフェニレン骨格を有しても良い。
また、(A)成分の分子末端は、シラノール基(ケイ素原子結合水酸基)、アルコキシシリル基で停止しているか、トリメチルシロキシ基等のトリオルガノシロキシ基またはビニル基で封鎖することができる。
The component (A) is not particularly limited with respect to the molecular structure. Examples thereof include a straight chain, a partially branched straight chain, a ring, a branched chain, and a three-dimensional network. One preferred embodiment is linear.
(A) As a molecular structure, component (A) is mentioned as one of preferred embodiments in which the main chain is composed of repeating diorganosiloxane units.
When the vinyl group-containing polysiloxane and / or the hydrosilyl group-containing polysiloxane is used as the component (A), the structure of the component (A) may have an alkylene group and / or a phenylene skeleton.
In addition, the molecular terminal of the component (A) can be terminated with a silanol group (silicon atom-bonded hydroxyl group) or an alkoxysilyl group, or can be blocked with a triorganosiloxy group such as a trimethylsiloxy group or a vinyl group.

(A)成分としては、例えば、下記式(I)で表されるものが挙げられる。   Examples of component (A) include those represented by the following formula (I).

(式中、R、R、Rはそれぞれ独立にアルケニル基であり、Rはそれぞれ独立にアルケニル基以外の一価の炭化水素基、ヒドロキシ基、アルコキシ基であり、Rはそれぞれ独立に有機基であり、a+b+nは2以上であり、a、bは0〜3の整数であり、m、nは0以上の整数である。) (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are each independently an alkenyl group, R 4 is each independently a monovalent hydrocarbon group other than an alkenyl group, a hydroxy group or an alkoxy group, and R is independently And a + b + n is 2 or more, a and b are integers of 0 to 3, and m and n are integers of 0 or more.)

ポリシロキサンがアルケニル基として不飽和炭化水素基を有するポリシロキサンである場合、硬化性により優れている。
ポリシロキサンがアルケニル基として不飽和炭化水素基を有するポリシロキサンとしては、例えば、式:(RSiO1/2で示されるシロキサン単位と式:(RSiO1/2で示されるシロキサン単位と式:(RSiO2/2で示されるシロキサン単位と式:SiO4/2で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、式:(RSiO1/2で示されるシロキサン単位と式:(RSiO1/2で示されるシロキサン単位と式:SiO4/2で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、式:(RSiO1/2で示されるシロキサン単位と式:(RSiO2/2で示されるシロキサン単位と式:SiO4/2で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体、式:(RSiO1/2で示されるシロキサン単位と式:RSiO3/2で示されるシロキサン単位もしくは式:RSiO3/2で示されるシロキサン単位からなるオルガノシロキサン共重合体が挙げられる。
ポリシロキサンがアルケニル基として不飽和炭化水素基を有するポリシロキサンである場合、ポリシロキサンの構造中にアルキレン基およびまたはフェニレン骨格を有しても良い。
When the polysiloxane is a polysiloxane having an unsaturated hydrocarbon group as an alkenyl group, the curability is superior.
Examples of the polysiloxane having an unsaturated hydrocarbon group as an alkenyl group include a siloxane unit represented by the formula: (R 1 ) 3 SiO 1/2 and a formula: (R 1 ) 2 R 2 SiO 1/2. An organosiloxane copolymer comprising a siloxane unit represented by formula: (R 1 ) 2 SiO 2/2 and a siloxane unit represented by formula: SiO 4/2 , formula: (R 1 ) 3 SiO An organosiloxane copolymer comprising a siloxane unit represented by 1/2 and a siloxane unit represented by the formula: (R 1 ) 2 R 2 SiO 1/2 and a siloxane unit represented by the formula: SiO 4/2 ; siloxane units of the formula R 1) 2 R 2 SiO 1/2 : ( siloxane units of the formula R 1) 2 SiO 2/2: with SiO 4/2 Organosiloxane copolymers consisting of siloxane units of the formula: siloxane units of the formula (R 1) 2 R 2 SiO 1/2: siloxane units or of the formula represented by R 1 SiO 3/2: R 2 SiO An organosiloxane copolymer composed of siloxane units represented by 3/2 is exemplified.
When the polysiloxane is a polysiloxane having an unsaturated hydrocarbon group as an alkenyl group, the polysiloxane structure may have an alkylene group and / or a phenylene skeleton.

ここで、上記式中のRはアルケニル基以外の一価炭化水素基である。
アルケニル基以外の一価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基などが挙げられる。
また、上記式中のRは不飽和炭化水素基である。不飽和炭化水素基としては、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、へプテニル基が挙げられる。
Here, R 1 in the above formula is a monovalent hydrocarbon group other than an alkenyl group.
Examples of the monovalent hydrocarbon group other than the alkenyl group include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a heptyl group; a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a naphthyl group. Aryl groups such as benzyl group and phenethyl group; and halogenated alkyl groups such as chloromethyl group, 3-chloropropyl group and 3,3,3-trifluoropropyl group.
R 2 in the above formula is an unsaturated hydrocarbon group. Examples of the unsaturated hydrocarbon group include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, and a heptenyl group.

(A)成分がアルケニル基としてビニル基を有する場合、硬化性により優れている。なお、アルケニル基としてビニル基を有するポリシロキサンを以下「ビニル基含有ポリシロキサン」ということがある。   When the component (A) has a vinyl group as an alkenyl group, it is more excellent in curability. The polysiloxane having a vinyl group as an alkenyl group may be hereinafter referred to as “vinyl group-containing polysiloxane”.

(A)成分がアルケニル基として(メタ)アクリロイル基を有するポリシロキサンである場合、硬化性により優れている。なお、アルケニル基として(メタ)アクリロイル基を有するポリシロキサンを以下「(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサン」ということがある。   When the component (A) is a polysiloxane having a (meth) acryloyl group as an alkenyl group, it is more excellent in curability. In addition, polysiloxane having a (meth) acryloyl group as an alkenyl group may be hereinafter referred to as “(meth) acryloyl group-containing polysiloxane”.

(メタ)アクリロイル基含有ポリシロキサンとしては、例えば、下記平均組成式(II)で示されるものが挙げられる。
SiO(4−a−b)/2 (II)
(式中、Rは水素原子、ヒドロキシ基、炭素原子数1〜10のアルキル基またはアリール基を示し、RはCH=CR−CO−O−(CH−で表される(メタ)アクリロキシアルキル基(CH=CR−CO−O−(CH−中の、Rは水素原子またはメチル基であり、cは2〜6の整数であり、2、3または4であるのが好ましい。)を示し、aは0.8〜2.4であり、1〜1.8であるのが好ましく、bは0.1〜1.2であり、0.2〜1であるのが好ましく、0.4〜1であるのがより好ましく、a+bは2〜2.5であり、2〜2.2であるのが好ましい。)
Examples of the (meth) acryloyl group-containing polysiloxane include those represented by the following average composition formula (II).
R 1 a R 2 b SiO (4-ab) / 2 (II)
(Wherein, R 1 represents a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkyl group or an aryl group having 1 to 10 carbon atoms, R 2 is CH 2 = CR 3 -CO-O- (CH 2) c - are represented by In the (meth) acryloxyalkyl group (CH 2 ═CR 3 —CO—O— (CH 2 ) c —, R 3 is a hydrogen atom or a methyl group, c is an integer of 2 to 6, 3 is preferably 3 or 4.), a is 0.8 to 2.4, preferably 1 to 1.8, b is 0.1 to 1.2, 0 .2 to 1 is preferable, 0.4 to 1 is more preferable, and a + b is 2 to 2.5, and preferably 2 to 2.2.)

式中、Rのアルキル基、アリール基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基が挙げられる。なかでも、メチル基、エチル基、プロピル基、フェニル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。 In the formula, examples of the alkyl group and aryl group of R 1 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group; phenyl group, tolyl group, xylyl group, An aryl group such as a naphthyl group can be mentioned. Of these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a phenyl group are preferable, and a methyl group is particularly preferable.

(A)成分の分子量(重量平均分子量)は、硬化性により優れており、靭性、伸び、作業性に優れるという観点から、500〜100,000であるのが好ましく、1,000〜100,000であるのが好ましく、5,000〜50,000であるのがさらに好ましい。なお、本願明細書において、重量平均分子量は、GCP(ゲル透過カラムクロマトグラフィー)によるポリスチレン換算値である。   The molecular weight (weight average molecular weight) of the component (A) is preferably 500 to 100,000, more preferably 1,000 to 100,000, from the viewpoint of being excellent in curability and excellent in toughness, elongation, and workability. It is preferable that it is 5,000-50,000. In addition, in this-application specification, a weight average molecular weight is a polystyrene conversion value by GCP (gel permeation column chromatography).

(A)成分の23℃における粘度は、得られるシリコーン樹脂の物理的特性が良好であり、シリコーン樹脂組成物の取扱作業性が良好であることから、5〜10,000mPa・sが好ましく、10〜1,000mPa・sであるのがより好ましい。なお、本発明において粘度はE型粘度計によって23℃の条件下において測定されたものである。   The viscosity at 23 ° C. of the component (A) is preferably 5 to 10,000 mPa · s because the physical properties of the resulting silicone resin are good and the handling workability of the silicone resin composition is good. More preferably, it is ˜1,000 mPa · s. In the present invention, the viscosity is measured with an E-type viscometer at 23 ° C.

(A)成分はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。(A)成分はその製造について特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。   (A) A component can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively. The component (A) is not particularly limited for its production. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.

1.2.(B)成分
(B)成分であるポリシロキサン架橋剤は、1分子中にケイ素原子に結合した水素基(即ち、SiH基)を少なくとも2個有し、主鎖としてポリシロキサン構造を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンであれば特に制限されない。
1.2. (B) Component The polysiloxane crosslinking agent as component (B) is an organohydro having at least two hydrogen groups (ie, SiH groups) bonded to silicon atoms in one molecule and having a polysiloxane structure as the main chain. If it is a genpolysiloxane, it will not restrict | limit in particular.

(B)成分は1分子中にケイ素原子に結合した水素基を、2〜300個程度を有するのが好ましく、より好ましくは3個以上(例えば3〜150個程度)を有する。(B)成分の分子構造としては例えば、直鎖状、分岐状、環状、三次元網状構造が挙げられる。   The component (B) preferably has about 2 to 300 hydrogen groups bonded to silicon atoms in one molecule, more preferably 3 or more (for example, about 3 to 150). Examples of the molecular structure of the component (B) include linear, branched, cyclic, and three-dimensional network structures.

(B)成分において、ケイ素原子に結合した水素基の結合位置としては、例えば、ポリシロキサンの分子鎖末端および分子鎖側鎖のうちのいずれか一方または両方が挙げられる。また、ケイ素原子に結合した水素基は、ポリシロキサンの分子鎖の片方の末端または両方の末端に結合することができる。   In the component (B), examples of the bonding position of the hydrogen group bonded to the silicon atom include one or both of the molecular chain terminal and the molecular chain side chain of polysiloxane. Moreover, the hydrogen group bonded to the silicon atom can be bonded to one end or both ends of the molecular chain of the polysiloxane.

(B)成分としては、例えば、下記平均組成式(III)で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンが挙げられる。
SiO(4−a−b)/2 (III)
(式中、Rは独立に脂肪族不飽和結合を含有しない非置換または置換の1価炭化水素基であり、aおよびbは、0<a<2、0.8≦b≦2かつ0.8<a+b≦3となる数であり、好ましくは0.05≦a≦1、0.9≦b≦2かつ1.0≦a+b≦2.7となる数である。また、一分子中のケイ素原子の数は、2〜300個であり、3〜200個が好ましい。)
Examples of the component (B) include organohydrogenpolysiloxanes represented by the following average composition formula (III).
H a R 3 b SiO (4-ab) / 2 (III)
(Wherein R 3 independently represents an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group that does not contain an aliphatic unsaturated bond, and a and b are 0 <a <2, 0.8 ≦ b ≦ 2, and 0 .8 <a + b ≦ 3, preferably 0.05 ≦ a ≦ 1, 0.9 ≦ b ≦ 2, and 1.0 ≦ a + b ≦ 2.7. The number of silicon atoms is 2 to 300, preferably 3 to 200.)

式中、Rの脂肪族不飽和結合を含有しない非置換または置換の1価炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基等のアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等のアリール基;ベンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフロロプロピル基等のハロゲン化アルキル基などが挙げられる。
なかでも、耐熱性、耐光性に優れるという観点から、メチル基等の炭素原子数1〜3の低級アルキル基、フェニル基、3,3,3−トリフルオロプロピル基が好ましい。
In the formula, examples of the unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group not containing an aliphatic unsaturated bond of R 3 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a heptyl group. Alkyl groups; aryl groups such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group; aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group; chloromethyl group, 3-chloropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group And halogenated alkyl groups.
Among these, from the viewpoint of excellent heat resistance and light resistance, a lower alkyl group having 1 to 3 carbon atoms such as a methyl group, a phenyl group, and a 3,3,3-trifluoropropyl group are preferable.

(B)成分としては、例えば、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端トリメチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端シラノール基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端シラノール基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、分子鎖両末端ジメチルハイドロジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルハイドロジェンシロキサン共重合体等;(RHSiO1/2単位とSiO4/2単位からなり、任意に(RSiO1/2単位、(RSiO2/2単位、RHSiO2/2単位、(H)SiO3/2単位またはRSiO3/2単位を含み得るシリコーンレジン(但し、式中、Rは前記の脂肪族不飽和結合を含有しない非置換または置換の1価炭化水素基と同じである。)などのほか、これらの例示化合物においてメチル基の一部または全部をエチル基、プロピル基等の他のアルキル基やフェニル基、ヒドロシリル基で置換したものなどが挙げられる。 As the component (B), for example, molecular chain both ends trimethylsiloxy group-capped methylhydrogen polysiloxane, molecular chain both ends trimethylsiloxy group-capped dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer, molecular chain both ends silanol group-capped methyl Hydrogen polysiloxane, Silanol group-blocked dimethylsiloxane / methylhydrogensiloxane copolymer, Molecular chain both ends dimethylhydrogensiloxy group-blocked dimethylpolysiloxane, Molecular chain both ends dimethylhydrogensiloxy group-blocked methylhydrogen polysiloxane with both molecular chain terminals blocked with dimethylhydrogensiloxy groups dimethylsiloxane-methylhydrogensiloxane copolymers; (R 3) or 2 HSiO 1/2 units and SiO 4/2 units It optionally (R 3) 3 SiO 1/2 units, (R 3) 2 SiO 2/2 units, R 3 HSiO 2/2 units, (H) SiO 3/2 unit or R 3 SiO 3/2 units In which R 3 is the same as the above-mentioned unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group that does not contain an aliphatic unsaturated bond. Examples thereof include those in which part or all of the groups are substituted with other alkyl groups such as an ethyl group and a propyl group, a phenyl group, and a hydrosilyl group.

また、下記式:   Also, the following formula:

(但し、式中、Rは上述のRの脂肪族不飽和結合を含有しない非置換または置換の1価炭化水素基と同じであり、cは0または1以上の整数であり、dは1以上の整数である。)
で表されるものが挙げられる。
(B)成分はそれぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
(In the formula, R 3 is the same as the above-described unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group not containing the aliphatic unsaturated bond of R 3 , c is 0 or an integer of 1 or more, and d is (It is an integer of 1 or more.)
The thing represented by is mentioned.
(B) component can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

(B)成分は、その製造について特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。具体的には、例えば、下記一般式:RSiHClおよび(RSiHCl(式中、Rは前記の脂肪族不飽和結合を含有しない非置換または置換の1価炭化水素基と同じである。)から選ばれる少なくとも1種のクロロシランを共加水分解し、或いは該クロロシランと下記一般式:(RSiClおよび(RSiCl(式中、Rは前記の脂肪族不飽和結合を含有しない非置換または置換の1価炭化水素基と同じである。)から選ばれる少なくとも1種のクロロシランを組み合わせて共加水分解して得ることができる。また、(B)成分として、共加水分解して得られたポリシロキサンを平衡化したものを使用することができる。 The component (B) is not particularly limited for its production. For example, a conventionally well-known thing is mentioned. Specifically, for example, the following general formulas: R 3 SiHCl 2 and (R 3 ) 2 SiHCl (wherein R 3 is an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group containing no aliphatic unsaturated bond) Or the like, or the following general formula: (R 3 ) 3 SiCl and (R 3 ) 2 SiCl 2 (wherein R 3 is the same as defined above). It is the same as an unsubstituted or substituted monovalent hydrocarbon group which does not contain an aliphatic unsaturated bond.) And can be obtained by cohydrolyzing at least one chlorosilane selected from the group. Moreover, what equilibrated polysiloxane obtained by cohydrolysis can be used as (B) component.

(B)成分は、硬化後のゴム物性(靭性、伸び)に優れるという観点から、(A)成分中のアルケニル基1モル当たり、(B)成分が有する、ケイ素原子に結合した水素原子(SiH基)が、0.1〜5モルとなる量で使用されるのが好ましく、より好ましくは0.5〜2.5モル、さらに好ましくは1.0〜2.0モルとなる量で使用される。
SiH基量が0.1モル以上である場合、硬化が十分で、強度のあるゴム硬化物(シリコーン樹脂)が得られる。
SiH基量が5モル以下である場合、硬化物が脆くなることがなく等、強度のあるゴム硬化物が得られる。
From the viewpoint that the component (B) is excellent in rubber physical properties (toughness and elongation) after curing, the hydrogen atom bonded to the silicon atom (SiH) of the component (B) per mole of the alkenyl group in the component (A) Group) is preferably used in an amount of 0.1 to 5 mol, more preferably 0.5 to 2.5 mol, and still more preferably 1.0 to 2.0 mol. The
When the amount of SiH group is 0.1 mol or more, a cured rubber product (silicone resin) having sufficient curing and strength can be obtained.
When the amount of SiH groups is 5 mol or less, a hardened rubber cured product is obtained such that the cured product does not become brittle.

本発明において、(A)成分および(B)成分は、(A)成分および(B)成分の混合物として使用することができる。   In the present invention, the component (A) and the component (B) can be used as a mixture of the component (A) and the component (B).

1.3.(C)成分
(C)成分であるヒドロシリル化反応触媒(ポリシロキサン触媒)は、(A)成分が有するアルケニル基と、(B)成分が有する、ケイ素原子に結合した水素原子(即ち、SiH基)との付加反応を促進するための触媒である。本発明のシリコーン樹脂組成物は(C)成分を含むことにより、硬化性に優れている。
1.3. Component (C) The hydrosilylation reaction catalyst (polysiloxane catalyst) that is component (C) is composed of an alkenyl group that component (A) has and a hydrogen atom (that is, SiH group) that is bonded to a silicon atom that component (B) has. ) To promote the addition reaction. The silicone resin composition of this invention is excellent in sclerosis | hardenability by including (C) component.

(C)成分は、特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。具体例としては、例えば、白金(白金黒を含む)、ロジウム、パラジウム等の白金族金属単体;HPtCl・nHO、HPtCl・nHO、NaHPtCl・nHO、KHPtCl・nHO、NaPtCl・nHO、KPtCl・nHO、PtCl・nHO、PtCl、NaHPtCl・nHO(但し、式中、nは0〜6の整数であり、好ましくは0または6である)等の塩化白金、塩化白金酸および塩化白金酸塩;アルコール変性塩化白金酸(米国特許第3,220,972号明細書参照);塩化白金酸とオレフィンとのコンプレックス(米国特許第3,159,601号明細書、同第3,159,662号明細書、同第3,775,452号明細書参照);白金黒、パラジウム等の白金族金属をアルミナ、シリカ、カーボン等の担体に担持させたもの;ロジウム−オレフィンコンプレックス;クロロトリス(トリフェニルフォスフィン)ロジウム(ウィルキンソン触媒);塩化白金、塩化白金酸または塩化白金酸塩とビニル基含有シロキサン、特にビニル基含有環状シロキサンとのコンプレックスなどの白金族金属系触媒が挙げられる。 The component (C) is not particularly limited. For example, a conventionally well-known thing is mentioned. Specific examples include, for example, platinum group metals such as platinum (including platinum black), rhodium, and palladium; H 2 PtCl 4 · nH 2 O, H 2 PtCl 6 · nH 2 O, NaHPtCl 6 · nH 2 O, KHPtCl 6 · nH 2 O, Na 2 PtCl 6 · nH 2 O, K 2 PtCl 4 · nH 2 O, PtCl 4 · nH 2 O, PtCl 2 , Na 2 HPtCl 4 · nH 2 O (where n Is an integer from 0 to 6, preferably 0 or 6), such as platinum chloride, chloroplatinic acid and chloroplatinate; alcohol-modified chloroplatinic acid (see US Pat. No. 3,220,972) A complex of chloroplatinic acid and an olefin (see US Pat. Nos. 3,159,601, 3,159,662, and 3,775,452); platinum , Platinum group metals such as palladium supported on alumina, silica, carbon or the like; rhodium-olefin complex; chlorotris (triphenylphosphine) rhodium (Wilkinson catalyst); platinum chloride, chloroplatinic acid or chloroplatinic acid Examples thereof include platinum group metal catalysts such as a complex of a salt and a vinyl group-containing siloxane, particularly a vinyl group-containing cyclic siloxane.

(C)成分は、触媒量の範囲で使用することができる。優れた硬化性を発揮できる観点から、(A)成分および(B)成分の合計量に対する白金族金属の質量換算で、0.1〜500ppm(好ましくは10〜100ppm)とすることができる。   (C) component can be used in the range of the catalyst amount. From the viewpoint of exhibiting excellent curability, it can be 0.1 to 500 ppm (preferably 10 to 100 ppm) in terms of mass of the platinum group metal with respect to the total amount of component (A) and component (B).

1.4.(D)成分
(D)成分である亜鉛化合物は、亜鉛を含有する化合物であり、例えば、亜鉛を含有する錯体および/または金属塩である。本発明の組成物が(D)成分である亜鉛化合物を(A)成分および(B)成分の合計100質量部に対して0.1〜5質量部含有することにより、該亜鉛化合物が硫黄と結合することで、硬化物に耐硫化性を付与することができる。これにより、銀の変色(腐食)を防止して、透明性を保持することができる。また、本発明の組成物を用いて得られる硬化物は、樹脂を硬くしなくても十分耐硫化性がある。このため、前記硬化物は、クラックが生じにくいシリコーン樹脂であることができる。このため、硬化物が光半導体封止体として用いられる場合、該封止体に含まれるワイヤーの断線を防止することができる。
(D)成分である亜鉛を含有する錯体および金属塩としては、例えば、亜鉛ビスアセチルアセトネート、亜鉛ビス2−エチルヘキサノエート、亜鉛(メタ)アクリレート、亜鉛ネオデカネート等のカルボン酸塩に代表される有機亜鉛化合物、亜鉛華、スズ酸亜鉛などの亜鉛酸化物に代表される無機亜鉛化合物が挙げられる。
例えば、本発明の組成物を用いて形成される硬化物が透明性を要求されるものである場合、(D)成分は、(D)成分を樹脂中に添加した場合の樹脂の透過率が例えば、波長400nmの光の透過率が70%以上である亜鉛化合物であるのが好ましい。
1.4. (D) Component The zinc compound which is (D) component is a compound containing zinc, for example, a complex and / or metal salt containing zinc. When the composition of the present invention contains 0.1 to 5 parts by mass of the zinc compound as the component (D) with respect to 100 parts by mass in total of the component (A) and the component (B), the zinc compound is sulfur and By bonding, sulfide resistance can be imparted to the cured product. Thereby, discoloration (corrosion) of silver can be prevented and transparency can be maintained. Moreover, the hardened | cured material obtained using the composition of this invention has sufficient sulfidation resistance, without hardening resin. For this reason, the said hardened | cured material can be a silicone resin which a crack does not produce easily. For this reason, when hardened | cured material is used as an optical semiconductor sealing body, the disconnection of the wire contained in this sealing body can be prevented.
Examples of the complex and metal salt containing zinc as component (D) include carboxylic acid salts such as zinc bisacetylacetonate, zinc bis-2-ethylhexanoate, zinc (meth) acrylate, and zinc neodecanate. Inorganic zinc compounds typified by zinc oxides such as organic zinc compounds, zinc white and zinc stannate.
For example, when the cured product formed using the composition of the present invention requires transparency, the component (D) has a resin transmittance when the component (D) is added to the resin. For example, a zinc compound having a transmittance of light having a wavelength of 400 nm of 70% or more is preferable.

本発明のシリコーン樹脂組成物は、熱による着色を抑制し、透明性および耐硫化性を確実に発現させることができる観点から、(D)成分を(A)成分および(B)成分の合計100質量部に対して0.1〜1質量部含有することが好ましく、0.1〜0.5質量部であるのがより好ましく、0.12〜0.5質量部であるのがさらに好ましい。ここで、(D)成分が(A)成分および(B)成分の合計100質量部に対して5質量部を超えると、熱による着色が生じやすくなり、透明性が低下する場合があり、一方、0.1質量部未満であると、耐硫化性が十分発現しない場合がある。
(D)成分は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
From the viewpoint that the silicone resin composition of the present invention can suppress coloring due to heat and can reliably exhibit transparency and resistance to sulfidation, (D) component is a total of 100 components (A) and (B). It is preferable to contain 0.1-1 mass part with respect to a mass part, It is more preferable that it is 0.1-0.5 mass part, It is further more preferable that it is 0.12-0.5 mass part. Here, when the component (D) exceeds 5 parts by mass with respect to the total of 100 parts by mass of the component (A) and the component (B), coloring due to heat tends to occur, and the transparency may decrease. If the amount is less than 0.1 parts by mass, sulfidation resistance may not be sufficiently exhibited.
(D) component can be used individually or in combination of 2 or more types, respectively.

(D)成分の製造方法としては、例えば、酸化亜鉛および/または炭酸亜鉛1モルに対して、無機酸および/または有機酸を1.5モル以上3モル未満反応させる方法が挙げられる。
このとき、無機酸としては、例えば、リン酸が挙げられ、有機酸としては、例えば、ステアリン酸、パルミチン酸、ラウリル酸、2−エチルヘキサン酸、(メタ)アクリル酸、ネオデカン酸等が挙げられる。
Examples of the method for producing the component (D) include a method of reacting 1.5 to 3 mol of an inorganic acid and / or an organic acid with respect to 1 mol of zinc oxide and / or zinc carbonate.
At this time, examples of the inorganic acid include phosphoric acid, and examples of the organic acid include stearic acid, palmitic acid, lauric acid, 2-ethylhexanoic acid, (meth) acrylic acid, and neodecanoic acid. .

1.5.(E)成分
本発明のシリコーン樹脂組成物は、(E)成分:ホウ素化合物を含有することで高温下での長期信頼性に優れる。
1.5. (E) component The silicone resin composition of this invention is excellent in long-term reliability under high temperature by containing (E) component: a boron compound.

(E)成分としては、ホウ素を含有する化合物であるホウ素化合物であれば特に限定されず、例えば、ホウ素錯体、ホウ酸エステルが挙げられる。   The component (E) is not particularly limited as long as it is a boron compound that is a compound containing boron, and examples thereof include boron complexes and boric acid esters.

ホウ素錯体とは、ホウ素原子を有する錯体のことをいい、例えば、三フッ化ホウ素錯体が挙げられる。
三フッ化ホウ素錯体とは、三フッ化ホウ素と、水、アルコール、カルボン酸、酸無水物、エステル、エーテル、ケトン、アルデヒドなどの化合物とから形成された錯体のことをいう。
三フッ化ホウ素錯体を形成するアルコールとしては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、n−ブタノール、n−デカノールなどの炭素数1〜10の第1級アルコール;i−プロパノール、sec−ブタノールなどの炭素数3〜10の第2級アルコール;等が挙げられる。カルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、コハク酸などの炭素数2〜10の脂肪族カルボン酸;安息香酸、フタル酸などの芳香族カルボン酸;等が挙げられる。酸無水物としては、例えば、上記カルボン酸の無水物が挙げられる。エステルとしては、例えば、上記カルボン酸のメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチルなどの炭素数1〜6のアルキルエステルが挙げられる。エーテルとしては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル等が挙げられる。ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。アルデヒドとしては、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド等が挙げられる。
このような三フッ化ホウ素錯体としては、例えば、三フッ化ホウ素エーテル錯体であるのが好ましく、三フッ化ホウ素ジエチルエーテラート、三フッ化ホウ素ジブチルエーテラートであるのがより好ましい。
The boron complex refers to a complex having a boron atom, and examples thereof include a boron trifluoride complex.
The boron trifluoride complex refers to a complex formed from boron trifluoride and a compound such as water, alcohol, carboxylic acid, acid anhydride, ester, ether, ketone, or aldehyde.
Examples of alcohols that form boron trifluoride complexes include primary alcohols having 1 to 10 carbon atoms such as methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, and n-decanol; carbons such as i-propanol and sec-butanol. Secondary alcohols of several 3 to 10; and the like. Examples of the carboxylic acid include aliphatic carboxylic acids having 2 to 10 carbon atoms such as acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, and succinic acid; aromatic carboxylic acids such as benzoic acid and phthalic acid; As an acid anhydride, the anhydride of the said carboxylic acid is mentioned, for example. Examples of the ester include alkyl esters having 1 to 6 carbon atoms such as methyl, ethyl, n-propyl, and n-butyl of the above carboxylic acid. Examples of the ether include dimethyl ether, diethyl ether, dibutyl ether and the like. Examples of ketones include acetone and methyl ethyl ketone. Examples of aldehydes include acetaldehyde and benzaldehyde.
As such a boron trifluoride complex, for example, a boron trifluoride ether complex is preferable, and boron trifluoride diethyl etherate and boron trifluoride dibutyl etherate are more preferable.

ホウ酸エステルとは、オルトホウ酸、メタホウ酸、次ホウ酸などのホウ酸と、ヒドロキシ基(−OH)を有する化合物との縮合反応により得られる化合物のことをいう。
ホウ酸エステルとしては、例えば、下記式(e1)〜(e5)のいずれかで表される化合物が挙げられる。
The borate ester refers to a compound obtained by a condensation reaction between a boric acid such as orthoboric acid, metaboric acid, and hypoboric acid, and a compound having a hydroxy group (—OH).
Examples of the boric acid ester include compounds represented by any of the following formulas (e1) to (e5).

式(e1)〜(e5)中、Rは、独立して、水素原子、アルキル基、アリル基、アリール基、シリル基、または、ホスフィン基を示し、R′は、独立して、2価の炭化水素基を示す。   In formulas (e1) to (e5), R independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an allyl group, an aryl group, a silyl group, or a phosphine group, and R ′ independently represents a divalent group. A hydrocarbon group is shown.

式(e1)〜(e5)中のRが示すアルキル基としては、炭素数1〜18のアルキル基であるのが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基等が挙げられる。   The alkyl group represented by R in the formulas (e1) to (e5) is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, such as a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n- Butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, An n-decyl group etc. are mentioned.

式(e1)〜(e5)中のRが示すアリル基は、2−プロペニル基(−CH2CH=CH2)である。 The allyl group represented by R in the formulas (e1) to (e5) is a 2-propenyl group (—CH 2 CH═CH 2 ).

式(e1)〜(e5)中のRが示すアリール基としては、炭素数1〜18のアリール基であるのが好ましく、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基等が挙げられる。   The aryl group represented by R in the formulas (e1) to (e5) is preferably an aryl group having 1 to 18 carbon atoms, such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, and a mesityl group. Can be mentioned.

式(e1)〜(e5)中のRが示すシリル基としては、例えば、無置換シリル基;メチルシリル基などのモノアルキルシリル基;ジメチルシリル基などのジアルキルシリル基;トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルエチルシリル基、トリブチルシリル基などのトリアルキルシリル基;メトキシジメチルシリル基などのアルコキシジアルキルシリル基;ジメトキシメチルシリル基などのジアルコキシアルキルシリル基;トリメトキシシリル基などのトリアルコキシシリル基;等が挙げられる。   Examples of the silyl group represented by R in the formulas (e1) to (e5) include an unsubstituted silyl group; a monoalkylsilyl group such as a methylsilyl group; a dialkylsilyl group such as a dimethylsilyl group; a trimethylsilyl group, a triethylsilyl group, Trialkylsilyl groups such as dimethylethylsilyl group and tributylsilyl group; alkoxydialkylsilyl groups such as methoxydimethylsilyl group; dialkoxyalkylsilyl groups such as dimethoxymethylsilyl group; trialkoxysilyl groups such as trimethoxysilyl group; etc. Is mentioned.

式(e1)〜(e5)中のRが示すホスフィン基としては、例えば、ジメチルホスフィン基、ジフェニルホスフィン基、ジトリルホスフィン基、ジナフチルホスフィン基等が挙げられる。   Examples of the phosphine group represented by R in the formulas (e1) to (e5) include a dimethylphosphine group, a diphenylphosphine group, a ditolylphosphine group, and a dinaphthylphosphine group.

式(e1)〜(e5)中のR′が示す2価の炭化水素基としては、好ましくは炭素数1〜20の2価の炭化水素基であり、より好ましくは炭素数1〜20のアルキレン基であり、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパン−1,3−ジイル基、ブタン−1,4−ジイル基、ヘプタン−1,5−ジイル基、ヘキサン−1,6−ジイル基等が挙げられる。   The divalent hydrocarbon group represented by R ′ in formulas (e1) to (e5) is preferably a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkylene having 1 to 20 carbon atoms. A methylene group, an ethylene group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a heptane-1,5-diyl group, a hexane-1,6-diyl group, and the like. It is done.

式(e1)〜(e5)で表される(E)成分としては、例えば、下記式(e6)で表される2−イソプロポキシ−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン、下記式(e7)で表されるトリス(トリメチルシリル)ボラート、下記式(e8)で表される2,4,6−トリメトキシボロキシン、下記式(e9)で表されるビス(ピナコレート)ジボロン等が挙げられる。   Examples of the component (E) represented by the formulas (e1) to (e5) include 2-isopropoxy-4,4,5,5-tetramethyl-1,3 represented by the following formula (e6). 2-dioxaborolane, tris (trimethylsilyl) borate represented by the following formula (e7), 2,4,6-trimethoxyboroxine represented by the following formula (e8), bis (2) represented by the following formula (e9) Pinacolate) diboron and the like.

これらのうち、高温下での長期信頼性がより優れるという理由から、2−イソプロポキシ−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン、トリス(トリメチルシリル)ボラート、2,4,6−トリメトキシボロキシン、ビス(ピナコレート)ジボロンであるのが好ましい。
(E)成分は、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
Among these, 2-isopropoxy-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane, tris (trimethylsilyl) borate, 2, because long-term reliability at high temperatures is superior. 4,6-trimethoxyboroxine and bis (pinacolato) diboron are preferred.
(E) A component can be used individually or in combination of 2 types or more, respectively.

(E)成分の量は、高温下での長期信頼性がより優れるという理由から、上述した(A)成分100質量部に対して、0.01〜5質量部であるのが好ましく、0.1〜3質量部であるのがより好ましい。   The amount of the component (E) is preferably 0.01 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component (A) described above, because the long-term reliability at high temperatures is more excellent. It is more preferable that it is 1-3 mass parts.

1.6.(F)成分
本発明のシリコーン樹脂組成物は、(F)成分:リン酸エステルを含有することで高温下での長期信頼性に優れる。
1.6. (F) component The silicone resin composition of this invention is excellent in long-term reliability under high temperature by containing (F) component: phosphate ester.

リン酸エステルとしては、例えば、下記式(f2)で表されるものが挙げられる。
O=P−(OR (f2)
式(f2)中、Rは、それぞれ独立に、炭素数1〜18のアルキル基、アリール基またはシリル基を示し、上述した式(f1)中のRが示す炭素数1〜18のアルキル基、アリール基またはシリル基と同義である。
式(f2)中のRとしては、(A)成分に対する相溶性に優れるという理由から、炭素数1〜18のアルキル基であるのが好ましく、炭素数1〜6のアルキル基であるのがより好ましい。
As phosphate ester, what is represented by a following formula (f2) is mentioned, for example.
O = P− (OR 6 ) 3 (f2)
In formula (f2), each R 6 independently represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group or a silyl group, and R 6 in formula (f1) described above represents an alkyl having 1 to 18 carbon atoms. Synonymous with group, aryl group or silyl group.
R 6 in formula (f2) is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, because it has excellent compatibility with the component (A). More preferred.

リン酸エステルとしては、例えば、プロピルリン酸エステル、ブチルリン酸エステル、ヘキシルリン酸エステルなどのモノエステル;ジプロピルリン酸エステル、ジブチルリン酸エステル、ジヘキシルリン酸エステルなどのジエステル;リン酸トリエチル、トリプロピルリン酸エステル、トリブチルリン酸エステル、トリヘキシルリン酸エステル、リン酸トリス(トリメチルシリル)などのトリエステル;ポリエチレンオキシドドデシルエーテルリン酸エステルなどのポリエチレンオキシドアルキルエーテルリン酸エステル;等が挙げられる。
これらのうち、高温下での長期信頼性がより優れるという理由から、トリエステルであるのが好ましく、リン酸トリエチル、リン酸トリス(トリメチルシリル)であるのがより好ましい。
Examples of the phosphate ester include monoesters such as propyl phosphate ester, butyl phosphate ester and hexyl phosphate ester; diesters such as dipropyl phosphate ester, dibutyl phosphate ester and dihexyl phosphate ester; triethyl phosphate and tripropyl phosphate ester , Tributyl phosphate ester, trihexyl phosphate ester, triester (trimethylsilyl) phosphate and the like; polyethylene oxide alkyl ether phosphate ester such as polyethylene oxide dodecyl ether phosphate; and the like.
Of these, a triester is preferable because it has better long-term reliability at high temperatures, and triethyl phosphate and tris (trimethylsilyl) phosphate are more preferable.

(F)成分としては、ヒドロシリル化反応を阻害しにくいという理由から、リン原子に直接非共有電子対を持たない正リン酸エステルであるのが好ましい。
(F)成分は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The component (F) is preferably a normal phosphate ester that does not have an unshared electron pair directly on the phosphorus atom because it is difficult to inhibit the hydrosilylation reaction.
(F) A component may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.

(F)成分の量(上述した(E)成分を併用する場合は、(E)成分および(F)成分の合計量)は、高温下での長期信頼性がより優れるという理由から、上述した(A)成分100質量部に対して、0.01〜5質量部であるのが好ましく、0.1〜3質量部であるのがより好ましい。   The amount of the component (F) (when the above-described component (E) is used in combination, the total amount of the component (E) and the component (F)) is described above because the long-term reliability at high temperatures is more excellent. (A) It is preferable that it is 0.01-5 mass parts with respect to 100 mass parts of component, and it is more preferable that it is 0.1-3 mass parts.

本発明のシリコーン樹脂組成物は、(A)成分、(B)成分、(C)成分および(D)成分、ならびに、(E)成分および/または(F)成分以外に、本発明の目的や効果を損なわない範囲で、必要に応じて添加剤を含有することができる。
添加剤としては、例えば、無機フィラー、酸化防止剤、滑剤、紫外線吸収剤、熱光安定剤、分散剤、帯電防止剤、重合禁止剤、消泡剤、硬化促進剤、溶剤、無機蛍光体、老化防止剤、ラジカル禁止剤、接着性改良剤、難燃剤、界面活性剤、保存安定性改良剤、オゾン老化防止剤、増粘剤、可塑剤、放射線遮断剤、核剤、カップリング剤、導電性付与剤、リン系過酸化物分解剤、顔料、金属不活性化剤、物性調整剤、接着付与剤、接着助剤が挙げられる。各種添加剤は特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。
接着付与剤または接着助剤としては、例えば、公知のエポキシ系シランカップリング剤、ビス(アルコキシ)アルカン、イソシアヌレート誘導体等が挙げられ、なかでも、ビス(アルコキシ)アルカンおよび/またはイソシアヌレート誘導体であるのが好ましい。
ビス(アルコキシ)アルカンとしては、例えば、1,2−ビス(トリエトキシシリル)エタン、1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン、1,7−ビス(トリメトキシシリル)ヘプタン、1,8−ビス(トリメトキシシリル)オクタン、1,9−ビス(トリメトキシシリル)ノナンおよび1,10−ビス(トリメトキシシリル)デカンからなる群から選ばれる少なくとも1種であるのが好ましく、1,6−ビス(トリメトキシシリル)へキサンがより好ましい。
イソシアヌレート誘導体としては、下記式で表されるものであるのが好ましい。
In addition to the (A) component, the (B) component, the (C) component and the (D) component, and the (E) component and / or the (F) component, the silicone resin composition of the present invention is As long as the effect is not impaired, an additive can be contained as necessary.
Examples of additives include inorganic fillers, antioxidants, lubricants, ultraviolet absorbers, thermal light stabilizers, dispersants, antistatic agents, polymerization inhibitors, antifoaming agents, curing accelerators, solvents, inorganic phosphors, Anti-aging agent, radical inhibitor, adhesion improver, flame retardant, surfactant, storage stability improver, ozone anti-aging agent, thickener, plasticizer, radiation blocker, nucleating agent, coupling agent, conductive Examples include property imparting agents, phosphorus peroxide decomposers, pigments, metal deactivators, physical property modifiers, adhesion imparting agents, and adhesion assistants. Various additives are not particularly limited. For example, a conventionally well-known thing is mentioned.
Examples of the adhesion-imparting agent or adhesion assistant include known epoxy-based silane coupling agents, bis (alkoxy) alkanes, isocyanurate derivatives, etc. Among them, bis (alkoxy) alkanes and / or isocyanurate derivatives are preferred. Preferably there is.
Examples of the bis (alkoxy) alkane include 1,2-bis (triethoxysilyl) ethane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane, 1,7-bis (trimethoxysilyl) heptane, 1,8- It is preferably at least one selected from the group consisting of bis (trimethoxysilyl) octane, 1,9-bis (trimethoxysilyl) nonane and 1,10-bis (trimethoxysilyl) decane, Bis (trimethoxysilyl) hexane is more preferred.
It is preferable that the isocyanurate derivative is represented by the following formula.

上記式中、Rは、それぞれ独立に、有機基または脂肪族不飽和結合を有する一価の炭化水素基を示し、エポキシ基、グリシドキシ基、アルコキシシリル基、(メタ)アクリロイル基などの置換基を有していてもよい。
上記式中のRが示す有機基としては、特に制限されず、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基などのアリール基;ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;ハロゲン化アルキル基;等が挙げられる。
また、上記式中のRが示す脂肪族不飽和結合を有する一価の炭化水素基としては、特に制限されず、例えば、ビニル基、アリル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基などの炭素数2〜8の不飽和炭化水素基が挙げられる。
上記式で表されるイソシアヌレート誘導体としては、例えば、トリス−(3−トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレートが挙げられる。
これらの接着付与剤または接着助剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
In the above formulae, each R independently represents a monovalent hydrocarbon group having an organic group or an aliphatic unsaturated bond, and a substituent such as an epoxy group, a glycidoxy group, an alkoxysilyl group, or a (meth) acryloyl group. You may have.
The organic group represented by R in the above formula is not particularly limited, and examples thereof include alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, and butyl groups; aryl groups such as phenyl, tolyl, xylyl, and naphthyl groups. Aralkyl groups such as benzyl group and phenethyl group; cycloalkyl groups such as cyclopentyl group and cyclohexyl group; alkyl halide groups;
In addition, the monovalent hydrocarbon group having an aliphatic unsaturated bond represented by R in the above formula is not particularly limited, and examples thereof include a vinyl group, an allyl group, a butenyl group, a pentenyl group, a hexenyl group, and a heptenyl group. And an unsaturated hydrocarbon group having 2 to 8 carbon atoms.
Examples of the isocyanurate derivative represented by the above formula include tris- (3-trimethoxysilylpropyl) isocyanurate.
These adhesion promoters or adhesion assistants can be used alone or in combination of two or more.

無機フィラーとしては、特に限定されず、光学特性を低下させない微粒子状のものが挙げられる。具体的には例えば、アルミナ、水酸化アルミニウム、溶融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカ、疎水性超微粉シリカ、タルク、炭酸カルシウム、硫酸バリウムが挙げられる。   The inorganic filler is not particularly limited, and examples thereof include fine particles that do not deteriorate optical properties. Specific examples include alumina, aluminum hydroxide, fused silica, crystalline silica, ultrafine powder amorphous silica, hydrophobic ultrafine silica, talc, calcium carbonate, and barium sulfate.

無機蛍光体としては、例えば、LEDに広く利用されている、イットリウム、アルミニウム、ガーネット系のYAG系蛍光体、ZnS系蛍光体、YS系蛍光体、赤色発光蛍光体、青色発光蛍光体、緑色発光蛍光体が挙げられる。 Examples of inorganic phosphors include yttrium, aluminum, garnet-based YAG phosphors, ZnS phosphors, Y 2 O 2 S phosphors, red-emitting phosphors, and blue-emitting phosphors that are widely used in LEDs. Body and green light emitting phosphor.

本発明のシリコーン樹脂組成物は、その製造について特に制限されない。例えば、(A)成分、(B)成分、(C)成分および(D)成分と、所望により(E)成分および/または(F)成分と、必要に応じて使用することができるヒドロシリル化反応触媒、添加剤とを混合することによって製造することができる。また、本発明のシリコーン樹脂組成物は、1液型または2液型とすることが可能である。   The production of the silicone resin composition of the present invention is not particularly limited. For example, (A) component, (B) component, (C) component and (D) component, and optionally (E) component and / or (F) component, and hydrosilylation reaction that can be used as necessary It can be produced by mixing a catalyst and an additive. Moreover, the silicone resin composition of the present invention can be a one-component type or a two-component type.

本発明のシリコーン樹脂組成物を2液型とする場合、(B)成分および(C)成分を含有する第1液と、(A)成分および(D)成分を含有する第2液とに分けて製造することができる。(E)成分および/または(F)成分、ならびに、添加剤は第1液および第2液のうちの一方または両方に加えることができる。   When the silicone resin composition of the present invention is a two-component type, it is divided into a first solution containing the component (B) and the component (C) and a second solution containing the component (A) and the component (D). Can be manufactured. The component (E) and / or the component (F) and the additive can be added to one or both of the first liquid and the second liquid.

本発明のシリコーン樹脂組成物は、可使時間の長さが適切なものとなるという観点から、(B)成分以外の成分を含む液と(B)成分とを混合してから23℃の条件下での24時間後の粘度が、5〜10,000mPa・sであるのが好ましく、5〜5,000mPa・sであるのがより好ましい。
なお、本発明において、本発明のシリコーン樹脂組成物を混合して23℃の条件下に置き、混合から24時間後の組成物について、その粘度の測定は、E型粘度計を用い、23℃、湿度55%の条件下で行われるものとする。
The silicone resin composition of the present invention has a 23 ° C. condition after mixing the liquid containing the component other than the component (B) and the component (B) from the viewpoint that the length of the pot life is appropriate. The viscosity after 24 hours below is preferably 5 to 10,000 mPa · s, more preferably 5 to 5,000 mPa · s.
In the present invention, the silicone resin composition of the present invention is mixed and placed at 23 ° C., and the viscosity of the composition after 24 hours from the mixing is measured using an E-type viscometer at 23 ° C. Suppose that the humidity is 55%.

本発明のシリコーン樹脂組成物の使用方法としては、例えば、基材(例えば、光半導体素子)に本発明の組成物を塗布し硬化させることが挙げられる。
本発明のシリコーン樹脂組成物を塗布、硬化する方法は特に制限されない。例えば、ディスペンサーを使用する方法、ポッティング法、スクリーン印刷、トランスファー成形、インジェクション成形が挙げられる。
Examples of the method of using the silicone resin composition of the present invention include applying the composition of the present invention to a substrate (for example, an optical semiconductor element) and curing the composition.
The method for applying and curing the silicone resin composition of the present invention is not particularly limited. Examples thereof include a method using a dispenser, a potting method, screen printing, transfer molding, and injection molding.

本発明のシリコーン樹脂組成物は加熱によって硬化することができる。
本発明のシリコーン樹脂組成物を加熱して硬化させる際の加熱温度は、通常100℃以上であり、硬化性により優れるという観点から、120℃以上であるのが好ましく、120〜200℃であるのがより好ましく、120〜180℃であるのがさらに好ましい。
The silicone resin composition of the present invention can be cured by heating.
The heating temperature when the silicone resin composition of the present invention is heated and cured is usually 100 ° C. or higher, and preferably 120 ° C. or higher from the viewpoint that it is more excellent in curability. Is more preferable, and it is still more preferable that it is 120-180 degreeC.

本発明のシリコーン樹脂組成物は、その用途について特に制限されない。例えば、電子材料用の封止材組成物、建築用シーリング材組成物、自動車用シーリング材組成物、接着剤組成物が挙げられる。
電子材料としては、例えば、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材;光半導体素子;半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子;コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子が挙げられる。
The silicone resin composition of the present invention is not particularly limited for its use. For example, the sealing material composition for electronic materials, the sealing material composition for buildings, the sealing material composition for motor vehicles, and the adhesive composition are mentioned.
Electronic materials include, for example, lead frames, wired tape carriers, wiring boards, glass, silicon wafers and other supporting members; optical semiconductor elements; active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, thyristors; capacitors, resistors, Examples include passive elements such as coils.

また、本発明のシリコーン樹脂組成物は、例えば、ディスプレイ材料、光記録媒体材料、光学機器材料、光部品材料、光ファイバー材料、光・電子機能有機材料、半導体集積回路周辺材料等の用途において使用することができる。   The silicone resin composition of the present invention is used in applications such as display materials, optical recording medium materials, optical equipment materials, optical component materials, optical fiber materials, optical / electronic functional organic materials, and semiconductor integrated circuit peripheral materials. be able to.

本発明のシリコーン樹脂組成物は、貯蔵安定性という観点から、シラノール基を有するケイ素化合物を実質的に含まないものであることができる。
また、本発明のシリコーン樹脂組成物は、銀の存在下で使用することができる。銀の存在下で本発明のシリコーン樹脂組成物を硬化させてシリコーン樹脂を製造することにより、銀の変色(腐食)を防止でき、得られるシリコーン樹脂の透明性を保持することができる。
The silicone resin composition of the present invention can be substantially free from a silicon compound having a silanol group from the viewpoint of storage stability.
The silicone resin composition of the present invention can be used in the presence of silver. By producing the silicone resin by curing the silicone resin composition of the present invention in the presence of silver, the discoloration (corrosion) of silver can be prevented, and the transparency of the resulting silicone resin can be maintained.

また、本発明においては、以下のとおり、分光反射率維持率を算出することができる。
まず、第11族の金属(例えば、銀)を用いて得られる金属層の上に本発明のシリコーン樹脂組成物を厚さ1mmに付与し硬化させて、上記金属層とシリコーン樹脂層とを有する積層体とする。
次に、上記積層体を560ppmの硫化水素ガス中に23℃の条件下で置く耐硫化試験を行い、上記耐硫化試験の前および上記耐硫化試験開始から24時間後における、上記積層体の分光反射率を分光反射率計を用いて測定する。
そして、上記分光反射率を式[分光反射率維持率=(耐硫化試験後の分光反射率/耐硫化試験前の分光反射率)×100]に当てはめ算出する。
本発明においては、耐硫化性の観点から、分光反射率維持率が80%以上であるのが好ましい。
In the present invention, the spectral reflectance maintenance factor can be calculated as follows.
First, the silicone resin composition of the present invention is applied to a thickness of 1 mm on a metal layer obtained using a Group 11 metal (for example, silver) and cured to have the metal layer and the silicone resin layer. A laminate is used.
Next, a sulfidation resistance test is performed in which the laminate is placed in 560 ppm hydrogen sulfide gas at 23 ° C., and the spectrum of the laminate is measured before the sulfidation test and 24 hours after the start of the sulfidation test. The reflectance is measured using a spectral reflectometer.
Then, the spectral reflectance is calculated by fitting into the formula [spectral reflectance maintenance ratio = (spectral reflectance after sulfidation test / spectral reflectance before sulfidation test) × 100].
In the present invention, from the viewpoint of sulfidation resistance, the spectral reflectance maintenance factor is preferably 80% or more.

2.シリコーン樹脂
本発明のシリコーン樹脂は、本発明のシリコーン樹脂組成物を硬化させて得られる。本発明のシリコーン樹脂組成物を使用することによって、例えば、耐硫化性に優れたシリコーン樹脂を得ることができる。
2. Silicone Resin The silicone resin of the present invention is obtained by curing the silicone resin composition of the present invention. By using the silicone resin composition of the present invention, for example, a silicone resin excellent in sulfidation resistance can be obtained.

硬化について以下に説明する。本発明のシリコーン樹脂は、本発明のシリコーン樹脂組成物を加熱によって硬化させることにより得ることができる。   The curing will be described below. The silicone resin of the present invention can be obtained by curing the silicone resin composition of the present invention by heating.

シリコーン樹脂組成物を加熱によって硬化させる場合、硬化性に優れ、硬化時間、可使時間を適切な長さとすることができ、発泡するのを抑制でき、シリコーン樹脂のクラックを抑制でき、シリコーン樹脂の平滑性、成形性、物性に優れるという観点から、シリコーン樹脂組成物を、120〜180℃(好ましくは150℃)で20時間(好ましくは12時間)以内に硬化させる方法が好ましい。   When the silicone resin composition is cured by heating, it has excellent curability, the curing time and pot life can be set to appropriate lengths, foaming can be suppressed, and cracks in the silicone resin can be suppressed. From the viewpoint of excellent smoothness, moldability, and physical properties, a method of curing the silicone resin composition at 120 to 180 ° C. (preferably 150 ° C.) within 20 hours (preferably 12 hours) is preferable.

本発明のシリコーン樹脂は、LEDチップの封止材として使用することができる。LEDチップは、その発光色について特に制限されない。例えば、青色、赤色、黄色、緑色、白色が挙げられる。LEDチップは、それぞれ単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。   The silicone resin of the present invention can be used as a sealing material for LED chips. The LED chip is not particularly limited with respect to its emission color. For example, blue, red, yellow, green, and white are mentioned. The LED chips can be used alone or in combination of two or more.

3.光半導体素子封止体
本発明の光半導体素子封止体について以下に説明する。本発明の光半導体素子封止体は、LEDチップが本発明のシリコーン樹脂で封止されているものである。
3. Encapsulated optical semiconductor element The encapsulated optical semiconductor element of the present invention will be described below. In the sealed optical semiconductor element of the present invention, the LED chip is sealed with the silicone resin of the present invention.

本発明の光半導体素子封止体に使用されるシリコーン樹脂は、本発明のシリコーン樹脂であれば特に制限されない。
本発明の光半導体素子封止体において、シリコーン樹脂組成物として本発明のシリコーン樹脂組成物を使用することによって、得られる光半導体素子封止体は、耐硫化性に優れ、かつ、ゴム弾性および可撓性に優れている。
If the silicone resin used for the optical semiconductor element sealing body of this invention is a silicone resin of this invention, it will not restrict | limit in particular.
By using the silicone resin composition of the present invention as the silicone resin composition in the sealed optical semiconductor element of the present invention, the resulting sealed optical semiconductor element has excellent sulfidation resistance, rubber elasticity, and Excellent flexibility.

また、本発明の光半導体素子封止体に使用されるLEDチップはその発光色について特に制限されない。例えば、本発明のシリコーン樹脂組成物にイットリウム・アルミニウム・ガーネットのような蛍光物質を含有させたもので青色LEDチップをコーティングし、白色LEDとすることができる。
また、赤色、緑色および青色のLEDチップを用いて発光色を白色とする場合、例えば、それぞれのLEDチップを本発明のシリコーン樹脂組成物で封止してこれら3色のLEDチップの封止体を使用すること、または3色のLEDチップをまとめて本発明のシリコーン樹脂組成物で封止し1個の光源とすることができる。
LEDチップの大きさ、形状は特に制限されない。
LEDチップの種類は、特に制限されず、例えば、ハイパワーLED、高輝度LED、汎用輝度LED、白色LED、青色LEDが挙げられる。
Moreover, the LED chip used for the optical semiconductor element sealing body of this invention is not restrict | limited in particular about the luminescent color. For example, a blue LED chip can be coated with a silicone resin composition of the present invention containing a fluorescent material such as yttrium, aluminum, and garnet to form a white LED.
When the red, green, and blue LED chips are used to make the emission color white, for example, each LED chip is sealed with the silicone resin composition of the present invention, and a sealed body of these three color LED chips. Can be used, or three-color LED chips can be combined and sealed with the silicone resin composition of the present invention to form one light source.
The size and shape of the LED chip are not particularly limited.
The type of the LED chip is not particularly limited, and examples thereof include a high power LED, a high luminance LED, a general luminance LED, a white LED, and a blue LED.

本発明の光半導体素子封止体に使用される光半導体素子としてはLEDのほかに、例えば、有機電界発光素子(有機EL)、レーザーダイオード、LEDアレイが挙げられる。
本発明の光半導体素子封止体に使用される光半導体素子としては、例えば、光半導体素子がダイボンディングによってリードフレーム等の基板に接着され、チップボンディング、ワイヤーボンディング、ワイヤレスボンディング等によって基板等と接続された状態のものを使用することができる。
本発明の光半導体素子封止体に使用される硬化物は、光半導体素子を封止していればよい。本発明の光半導体素子封止体としては、例えば、硬化物が直接光半導体素子を封止している場合、砲弾型とする場合、表面実装型とする場合、複数の光半導体素子封止体の間を充填している場合が挙げられる。
In addition to LEDs, examples of the optical semiconductor element used in the sealed optical semiconductor element of the present invention include an organic electroluminescent element (organic EL), a laser diode, and an LED array.
As an optical semiconductor element used for the optical semiconductor element sealing body of the present invention, for example, the optical semiconductor element is bonded to a substrate such as a lead frame by die bonding, and the substrate or the like by chip bonding, wire bonding, wireless bonding, or the like. The connected one can be used.
The hardened | cured material used for the optical semiconductor element sealing body of this invention should just seal the optical semiconductor element. As the optical semiconductor element sealing body of the present invention, for example, when the cured product directly seals the optical semiconductor element, when it is a shell type, when it is a surface mounting type, a plurality of optical semiconductor element sealing bodies The case where it fills between is mentioned.

本発明の光半導体素子封止体の製造方法としては、LEDチップに本発明のシリコーン樹脂組成物を塗布する塗布工程と、前記シリコーン樹脂組成物が塗布されたLEDチップを加熱して前記シリコーン樹脂組成物を硬化させて硬化物とするとともに、前記亜鉛化合物を前記硬化物の表面にブリードアウトさせる硬化工程とを有するものが挙げられる。   As a method for producing a sealed optical semiconductor element of the present invention, an application step of applying the silicone resin composition of the present invention to an LED chip, and heating the LED chip coated with the silicone resin composition to heat the silicone resin A composition having a curing step of curing the composition to obtain a cured product and bleeding out the zinc compound on the surface of the cured product.

塗布工程において、LEDチップに本発明のシリコーン樹脂組成物を塗布し、前記シリコーン樹脂組成物が塗布されたLEDチップを得る。塗布工程において使用される、LEDチップは上記と同義である。塗布の方法は特に制限されない。例えば、ポッティング法、トランスファー成形、インジェクション成形、スクリーン印刷法が挙げられる。   In the coating step, the silicone resin composition of the present invention is applied to the LED chip to obtain an LED chip coated with the silicone resin composition. The LED chip used in the coating process has the same meaning as described above. The method of application is not particularly limited. For example, a potting method, transfer molding, injection molding, and a screen printing method are mentioned.

次に、硬化工程において、前記シリコーン樹脂組成物が塗布されたLEDチップを加熱して前記シリコーン樹脂組成物を硬化させて硬化物を得る。ここで、前記シリコーン樹脂組成物を加熱する温度は、本発明のシリコーン樹脂を製造する工程で示したものと同義である。   Next, in the curing step, the LED chip coated with the silicone resin composition is heated to cure the silicone resin composition to obtain a cured product. Here, the temperature which heats the said silicone resin composition is synonymous with what was shown at the process of manufacturing the silicone resin of this invention.

本発明の光半導体素子封止体について添付の図面を用いて以下に説明する。なお本発明の光半導体素子封止体は添付の図面に限定されない。
図1は本発明の光半導体素子封止体の一例を模式的に示す上面図であり、図2は図1に示す光半導体素子封止体のA−A断面を模式的に示す断面図である。
図1において、600は本発明の光半導体素子封止体であり、光半導体素子封止体600は、LEDチップ601と、LEDチップ601を封止するシリコーン樹脂603とを備える。本発明の組成物はシリコーン樹脂603に使用することができる。なお、図においてリード、ワイヤー、基板609は省略されている。
図2において、LEDチップ601は基板609に例えば接着剤、はんだ(図示せず)によってボンディングされている。基板としては例えばセラミックス、多層セラミックス、多層プリント、リードフレームが挙げられる。なお、図2においてワイヤーは省略されている。また、基板609の上には、銀を含む部材として銀膜602が設けられている。銀膜602は例えばめっきにより基板60上に成膜される。図2に示される光半導体素子封止体では、銀膜602がシリコーン樹脂60と接触している例を示したが、シリコーン樹脂60と接触していなくてもよい。例えば、銀膜602の上に設けられた他の層(図示せず)の上にシリコーン樹脂が配置されていてもよい。
また、図2におけるTは、シリコーン樹脂603の厚さを示す。すなわち、Tは、LEDチップ601の表面上の任意の点605から、点605が属する面607に対して鉛直の方向にシリコーン樹脂603の厚さを測定したときの値である。
本発明の光半導体素子封止体は、透明性を確保し、密閉性に優れるという観点から、その厚さ(図2におけるT)が0.1mm以上であるのが好ましく、0.5〜1mmであるのがより好ましい。
The optical semiconductor element sealing body of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The sealed optical semiconductor element of the present invention is not limited to the attached drawings.
FIG. 1 is a top view schematically showing an example of an optical semiconductor element sealing body of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an AA cross section of the optical semiconductor element sealing body shown in FIG. is there.
In FIG. 1, reference numeral 600 denotes a sealed optical semiconductor element according to the present invention, and the sealed optical semiconductor element 600 includes an LED chip 601 and a silicone resin 603 that seals the LED chip 601. The composition of the present invention can be used for the silicone resin 603. In FIG. 1 , the leads, wires, and substrate 609 are omitted.
In FIG. 2, an LED chip 601 is bonded to a substrate 609 with, for example, an adhesive or solder (not shown). Examples of the substrate include ceramics, multilayer ceramics, multilayer prints, and lead frames. In addition, the wire is abbreviate | omitted in FIG. A silver film 602 is provided over the substrate 609 as a member containing silver. Silver film 602 is deposited on the substrate 60 9, for example, by plating. In the optical semiconductor element encapsulation material shown in FIG. 2, an example in which silver film 602 is in contact with the silicone resin 60 3, it may not be in contact with the silicone resin 60 3. For example, a silicone resin may be disposed on another layer (not shown) provided on the silver film 602.
2 indicates the thickness of the silicone resin 603. That is, T is a value when the thickness of the silicone resin 603 is measured from an arbitrary point 605 on the surface of the LED chip 601 in a direction perpendicular to the surface 607 to which the point 605 belongs.
From the viewpoint of ensuring transparency and excellent sealing properties, the sealed optical semiconductor element of the present invention preferably has a thickness (T in FIG. 2) of 0.1 mm or more, 0.5 to 1 mm. It is more preferable that

本発明の光半導体素子封止体の一例として白色LEDを使用する場合について添付の図面を用いて以下に説明する。図3は、本発明の光半導体素子封止体を模式的に示す断面図である。図4は、本発明の光半導体素子封止体を模式的に示す断面図である。なお、本発明の光半導体素子封止体は添付の図面に限定されない。   The case where a white LED is used as an example of the sealed optical semiconductor element of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing the sealed optical semiconductor element of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing the sealed optical semiconductor element of the present invention. The sealed optical semiconductor element of the present invention is not limited to the attached drawings.

図3において、白色LED200は、基板210の上にセラミックのパッケージ204を有する。パッケージ204には、内部に一段下がったキャビティー(図示せず。)が設けられている。キャビティー内には、青色LEDチップ203とシリコーン樹脂202とが配置されている。シリコーン樹脂202は、本発明のシリコーン樹脂組成物を硬化させたものであり、蛍光物質としてセリウムを付活したイットリウム・アルミニウム・ガーネットを含有することができる。
青色LEDチップ203は、基板210上にマウント部材201で固定されている。青色LEDチップ203の各電極(図示せず。)とパッケージ204に設けられた外部電極209とは導電性ワイヤー207によってワイヤーボンディングさせている。
パッケージ204のキャビティー(図示せず。)において、斜線部206まで本発明のシリコーン樹脂組成物で充填してもよい。斜線部206まで本発明のシリコーン樹脂組成物で充填する場合、シリコーン樹脂202は斜線部206を合わせたものとなる。図3に示すように、シリコーン樹脂202は1層でLEDチップを封止することができる。
In FIG. 3, the white LED 200 has a ceramic package 204 on a substrate 210. The package 204 is provided with a cavity (not shown) that is lowered by one step inside. A blue LED chip 203 and a silicone resin 202 are arranged in the cavity. The silicone resin 202 is obtained by curing the silicone resin composition of the present invention, and can contain yttrium, aluminum, and garnet activated with cerium as a fluorescent material.
The blue LED chip 203 is fixed on the substrate 210 with a mount member 201. Each electrode (not shown) of the blue LED chip 203 and the external electrode 209 provided on the package 204 are wire-bonded by a conductive wire 207.
In the cavity (not shown) of the package 204, the hatched portion 206 may be filled with the silicone resin composition of the present invention. When filling the hatched portion 206 with the silicone resin composition of the present invention, the silicone resin 202 is a combination of the shaded portion 206. As shown in FIG. 3, the silicone resin 202 can seal the LED chip with a single layer.

図4において、白色LED300は、ランプ機能を有するシリコーン樹脂306の内部に基板310、青色LEDチップ303およびインナーリード305を有する。基板310には、頭部に一段下がったキャビティー(図示せず。)が設けられている。キャビティー内には、青色LEDチップ303とシリコーン樹脂302とが配置されている。シリコーン樹脂302は、本発明のシリコーン樹脂組成物を硬化させたものであり、蛍光物質としてセリウムを付活したイットリウム・アルミニウム・ガーネットを含有することができる。また、シリコーン樹脂306を本発明のシリコーン樹脂組成物を用いて形成することができる。
青色LEDチップ303は、基板310上にマウント部材301で固定されている。青色LEDチップ303の各電極(図示せず。)と基板310およびインナーリード305とはそれぞれ導電性ワイヤー307によってワイヤーボンディングさせている。
In FIG. 4, a white LED 300 includes a substrate 310, a blue LED chip 303, and inner leads 305 inside a silicone resin 306 having a lamp function. The substrate 310 is provided with a cavity (not shown) that is lowered by one step on the head. A blue LED chip 303 and a silicone resin 302 are arranged in the cavity. The silicone resin 302 is obtained by curing the silicone resin composition of the present invention, and can contain yttrium, aluminum, and garnet activated with cerium as a fluorescent material. Further, the silicone resin 306 can be formed using the silicone resin composition of the present invention.
The blue LED chip 303 is fixed on the substrate 310 with a mount member 301. Each electrode (not shown) of the blue LED chip 303 is bonded to the substrate 310 and the inner lead 305 by a conductive wire 307.

なお、図3、図4においてLEDチップを青色LEDチップとして説明したが、キャビティー内に赤色、緑色および青色の3色のLEDチップを配置することができる。シリコーン樹脂202、302の部分を本発明のシリコーン樹脂組成物を用いて例えばポッティング法によって封止し、光半導体素子封止体とすることができる。   3 and 4, the LED chip is described as a blue LED chip, but LED chips of three colors of red, green, and blue can be arranged in the cavity. The portions of the silicone resins 202 and 302 can be sealed with the silicone resin composition of the present invention by, for example, a potting method to form a sealed optical semiconductor element.

本発明の光半導体素子封止体は、シリコーン樹脂として本発明のシリコーン樹脂(本発明のシリコーン樹脂の原料は本発明のシリコーン樹脂組成物である。)を使用する以外は、その製造について特に制限されない。例えば、従来公知のものが挙げられる。また、本発明の光半導体素子封止体を製造する際の加熱温度は、本発明のシリコーン樹脂組成物を硬化させる際の加熱温度と同様とするのが、優れた硬化性を発揮できるという観点から好ましい。   The encapsulated optical semiconductor element of the present invention is particularly limited in its production except that the silicone resin of the present invention (the raw material of the silicone resin of the present invention is the silicone resin composition of the present invention) is used as the silicone resin. Not. For example, a conventionally well-known thing is mentioned. Moreover, the viewpoint that the heating temperature at the time of manufacturing the optical semiconductor element sealing body of the present invention is the same as the heating temperature at the time of curing the silicone resin composition of the present invention can exhibit excellent curability. To preferred.

本発明の光半導体素子封止体をLED表示器に利用する場合について添付の図面を用いて説明する。図5は、本発明の光半導体素子封止体を用いたLED表示器の一例を模式的に示す図である。図6は、図5に示すLED表示器を用いたLED表示装置のブロック図である。なお、本発明の光半導体素子封止体が使用されるLED表示器、LED表示装置は添付の図面に限定されない。   A case where the sealed optical semiconductor element of the present invention is used for an LED display will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 5 is a diagram schematically showing an example of an LED display using the sealed optical semiconductor element of the present invention. FIG. 6 is a block diagram of an LED display device using the LED display shown in FIG. The LED display and the LED display device in which the sealed optical semiconductor element of the present invention is used are not limited to the attached drawings.

図5において、LED表示器400は、白色LED401を筐体404の内部にマトリックス状に配置し、白色LED401を充填剤406で固定し、筐体404の一部に遮光部材405を配置して構成されている。本発明のシリコーン樹脂組成物は充填剤406として使用することができる。   In FIG. 5, the LED display 400 is configured by arranging white LEDs 401 in a matrix form inside a housing 404, fixing the white LEDs 401 with a filler 406, and arranging a light shielding member 405 in a part of the housing 404. Has been. The silicone resin composition of the present invention can be used as the filler 406.

図6において、LED表示装置500は、白色LED封止体を用いるLED表示器501を具備する。LED表示器501は、駆動回路である点灯回路などと電気的に接続される。駆動回路からの出力パルスによって種々の画像が表示可能なディスプレイ等とすることができる。駆動回路としては、入力される表示データを一時的に記憶させるRAM(Random、Access、Memory)504と、RAM504に記憶されるデータから個々の白色LEDを所定の明るさに点灯させるための階調信号を演算する階調制御回路(CPU)503と、階調制御回路(CPU)503の出力信号でスイッチングされて、白色LEDを点灯させるドライバー502とを備える。階調制御回路(CPU)503は、RAM504に記憶されるデータから白色LEDの点灯時間を演算してパルス信号を出力する。なお、本発明の光半導体素子封止体はカラー表示できる、LED表示器やLED表示装置に使用することができる。   In FIG. 6, the LED display device 500 includes an LED display 501 using a white LED sealing body. The LED display 501 is electrically connected to a lighting circuit that is a drive circuit. A display or the like that can display various images by output pulses from the driving circuit can be provided. The driving circuit includes a RAM (Random, Access, Memory) 504 that temporarily stores input display data, and a gradation for lighting individual white LEDs to a predetermined brightness from the data stored in the RAM 504. A gradation control circuit (CPU) 503 that calculates a signal and a driver 502 that is switched by an output signal of the gradation control circuit (CPU) 503 and turns on a white LED are provided. A gradation control circuit (CPU) 503 calculates the lighting time of the white LED from the data stored in the RAM 504 and outputs a pulse signal. In addition, the optical semiconductor element sealing body of this invention can be used for the LED display and LED display apparatus which can perform color display.

本発明の光半導体素子封止体の用途としては、例えば、自動車用ランプ(ヘッドランプ、テールランプ、方向ランプ等)、家庭用照明器具、工業用照明器具、舞台用照明器具、ディスプレイ、信号、プロジェクターが挙げられる。   Applications of the sealed optical semiconductor element of the present invention include, for example, automotive lamps (head lamps, tail lamps, directional lamps, etc.), household lighting fixtures, industrial lighting fixtures, stage lighting fixtures, displays, signals, and projectors. Is mentioned.

4.実施例
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。
4). EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to these.

4.1.評価
以下に示すように、透過率、耐熱着色安定性、耐硫化性、硬化状態、密着性および高温下での長期信頼性について評価した。結果を第1表に示す。
4.1. Evaluation As shown below, the transmittance, heat-resistant coloring stability, sulfidation resistance, cured state, adhesion, and long-term reliability under high temperature were evaluated. The results are shown in Table 1.

4.1.1.透過率評価試験
透過率評価試験において、下記のようにして得られたシリコーン樹脂組成物を150℃の条件下で12時間硬化させて得られた初期硬化物、および耐熱試験(初期硬化物をさらに150℃の条件下で10日間加熱する試験。)後の硬化物(いずれも厚さが2mm。)についてそれぞれ、JIS K0115:2004に準じ紫外・可視吸収スペクトル測定装置(島津製作所社製)を用いて波長400nmにおける透過率を測定した。また、耐熱試験後の透過率の初期の透過率に対する保持率を下記計算式によって求めた。
透過率保持率(%)=(耐熱試験後の透過率)/(初期の透過率)×100
4.1.1. Transmittance Evaluation Test In the transmittance evaluation test, an initial cured product obtained by curing the silicone resin composition obtained as described below at 150 ° C. for 12 hours, and a heat resistance test (an initial cured product A test of heating for 10 days under the condition of 150 ° C.) For each cured product (both having a thickness of 2 mm), an ultraviolet / visible absorption spectrum measuring device (manufactured by Shimadzu Corporation) was used in accordance with JIS K0115: 2004. The transmittance at a wavelength of 400 nm was measured. Moreover, the retention with respect to the initial transmittance of the transmittance after the heat test was obtained by the following calculation formula.
Transmittance retention rate (%) = (Transmittance after heat resistance test) / (Initial transmittance) × 100

4.1.2.耐熱着色安定性評価試験
下記のようにして得られたシリコーン樹脂組成物を150℃の条件下で4時間硬化させて得られた初期硬化物、および耐熱試験(初期硬化物を150℃の条件下で10日間加熱する試験。)後の硬化物(いずれも厚さが2mm。)について、耐熱試験後の硬化物が、初期硬化物と比較して黄変したかどうかを目視で観察した。
4.1.2. Heat-resistant coloring stability evaluation test An initial cured product obtained by curing the silicone resin composition obtained as described below at 150 ° C. for 4 hours, and a heat resistance test (initial cured product under the condition of 150 ° C. Test for heating for 10 days.) Regarding the cured product after the heat treatment (both having a thickness of 2 mm), it was visually observed whether the cured product after the heat resistance test was yellow compared with the initial cured product.

4.1.3.耐硫化性
硬化サンプル作製:銀メッキ上に各実施例および比較例のシリコーン樹脂組成物を厚さ1mm程度になるよう塗布し、150℃で3時間加熱して硬化させて、積層体(「硬化サンプル」ともいう)を作製した。
耐硫化試験:10Lのデシケーターの底に粉状に粉砕した硫化鉄を10g程度(塩酸0.5mmolに対して大過剰)を置き、この硫化鉄の上方に、硫化鉄に接触しないように目皿(貫通孔を有する)をデシケーター内に取り付け、この目皿の上に硬化サンプルを置いた。次に、大過剰の硫化鉄に0.5mmolの塩酸を滴下することにより、0.25mmolの硫化水素(濃度の理論値:560ppm)を発生させた(反応式:FeS+2HCl→FeCl+HS)。
次に、下記のとおり、分光反射率の測定を行い、分光反射率維持率を算出した。
分光反射率の測定:前記耐硫化試験の前および前記耐硫化試験開始(硫化水素の発生開始)から24時間後における、前記積層体の分光反射率を分光反射率計(ウシオ電機社製のURE−30)を用いて475nmの条件で測定した。
評価方法:得られた、耐硫化試験後の分光反射率および耐硫化試験前の分光反射率を式[分光反射率維持率=(耐硫化試験後の分光反射率/耐硫化試験前の分光反射率)×100]に当てはめて分光反射率維持率を算出した。
第1表において、算出された分光反射率維持率が80%以上である場合には耐硫化性に優れるものとして「○」と評価し、80%未満である場合には耐硫化性に劣るものとして「×」と評価した。
さらに、1時間ごとに目視により銀の変色を確認した。第1表において、目視により変色が確認されなかったものを「○」、目視により変色が確認されたものを「×」とした。
4.1.3. Sulfide resistance Cured sample preparation: The silicone resin compositions of the examples and comparative examples were applied on silver plating to a thickness of about 1 mm and cured by heating at 150 ° C. for 3 hours to obtain a laminate (“cured” Also referred to as “sample”.
Sulfur resistance test: Place 10 g of powdered iron sulfide (a large excess with respect to 0.5 mmol of hydrochloric acid) on the bottom of a 10-liter desiccator and place it above the iron sulfide so that it does not come into contact with the iron sulfide. (Having through-holes) was mounted in a desiccator, and the cured sample was placed on the eye plate. Next, 0.25 mmol of hydrogen sulfide (theoretical value of concentration: 560 ppm) was generated by dropping 0.5 mmol of hydrochloric acid into a large excess of iron sulfide (reaction formula: FeS + 2HCl → FeCl 2 + H 2 S). .
Next, the spectral reflectance was measured as described below, and the spectral reflectance maintenance factor was calculated.
Spectral reflectivity measurement: Spectral reflectivity (UREO manufactured by Ushio Electric Co., Ltd.) was measured before the sulfidation test and 24 hours after the start of the sulfidation test (hydrogen sulfide generation). -30) was used under the condition of 475 nm.
Evaluation method: The obtained spectral reflectance after the anti-sulfurization test and the spectral reflectance before the anti-sulfurization test are expressed by the formula [spectral reflectance maintenance ratio = (spectral reflectance after the anti-sulfurization test / spectral reflection before the anti-sulfurization test]. Ratio) × 100], and the spectral reflectance maintenance factor was calculated.
In Table 1, when the calculated spectral reflectance maintenance factor is 80% or more, it is evaluated as “◯” as being excellent in sulfur resistance, and when it is less than 80%, it is inferior in sulfur resistance. As “×”.
Furthermore, the discoloration of silver was confirmed visually every hour. In Table 1, the case where no discoloration was confirmed by visual observation was “◯”, and the case where discoloration was confirmed by visual observation was “x”.

4.1.4.密着性
下記のようにして得られたシリコーン樹脂組成物を、LED用パッケージ(エノモト社製)に流し込み、150℃、3時間の条件で硬化させて、評価用サンプルを得た。
次に、得られた評価用サンプルについて、目視にて硬化物の剥離の有無を確認し、剥離が確認されなかった場合には、スパチュラを用いて硬化物の密着性を評価した。
目視にて硬化物の剥離が確認されなかった場合には、密着性にやや優れるものとして「△」と評価し、さらにスパチュラを用いても硬化物が容易に剥離しなかった場合には、密着性に優れるものとして「○」と評価し、スパチュラを用いて剥離させた際に硬化物が凝集破壊を伴った場合には密着性により優れるものとして「◎」と評価した。
これに対して、目視にて硬化物の剥離が確認された場合またはスパチュラを用いることで硬化物が容易に剥離した場合には、密着性に劣るものとして「×」と評価した。
4.1.4. Adhesiveness The silicone resin composition obtained as described below was poured into an LED package (manufactured by Enomoto) and cured under conditions of 150 ° C. for 3 hours to obtain an evaluation sample.
Next, about the obtained sample for evaluation, the presence or absence of peeling of hardened | cured material was confirmed visually, and when peeling was not confirmed, the adhesiveness of hardened | cured material was evaluated using the spatula.
If peeling of the cured product was not confirmed with the naked eye, it was evaluated as “△” as being somewhat excellent in adhesion, and if the cured product was not easily peeled off even using a spatula, When it was peeled off with a spatula, and the cured product was accompanied by cohesive failure, it was evaluated as “◎” as being excellent in adhesion.
On the other hand, when peeling of hardened | cured material was confirmed visually or when hardened | cured material peeled easily by using a spatula, it evaluated as "x" as inferior to adhesiveness.

4.1.5.高温下での長期信頼性
下記のようにして得られたシリコーン樹脂組成物を、LED用パッケージ(エノモト社製)に流し込み、150℃、3時間の条件で硬化させて、評価用サンプルを得た。次に、得られた評価用サンプルを、150℃の条件下に500時間暴露し、その後、目視にて硬化物のクラックや剥離の有無を確認し、剥離が確認されなかった場合には、スパチュラを用いて硬化物の密着性を評価した。
目視にてクラックや剥離が確認されなかった場合には、高温下での長期信頼性にやや優れるものとして「△」と評価し、さらにスパチュラを用いても硬化物が容易に剥離しなかった場合には、高温下での長期信頼性に優れるものとして「○」と評価し、スパチュラを用いて剥離させた際に硬化物が凝集破壊を伴った場合には高温下での長期信頼性により優れるものとして「◎」と評価した。
これに対して、目視にてクラックや剥離が確認された場合には、高温下での長期信頼性に劣るものとして「×」と評価した。
4.1.5. Long-term reliability under high temperature The silicone resin composition obtained as described below was poured into an LED package (manufactured by Enomoto) and cured under conditions of 150 ° C. for 3 hours to obtain an evaluation sample. . Next, the obtained sample for evaluation was exposed for 500 hours under the condition of 150 ° C., and then the presence or absence of cracks or peeling of the cured product was confirmed by visual observation. Was used to evaluate the adhesion of the cured product.
If no cracks or peeling were confirmed by visual inspection, the product was rated as “△” as being somewhat excellent in long-term reliability at high temperatures, and the cured product did not peel easily even when a spatula was used. Is evaluated as “○” as having excellent long-term reliability under high temperature, and when the cured product is accompanied by cohesive failure when peeled off with a spatula, it is superior in long-term reliability under high temperature. The product was evaluated as “◎”.
On the other hand, when a crack and peeling were confirmed visually, it evaluated as "x" as being inferior to long-term reliability under high temperature.

4.2.サンプルの作製(透過率、耐熱着色安定性および硬化状態の評価用)
サンプルの作製について添付の図面を用いて以下に説明する。
図7は、実施例において本発明のシリコーン樹脂組成物を硬化させるために使用した型を模式的に表す断面図である。
図7において、型8は、ガラス3(ガラス3の大きさは、縦10cm、横10cm、厚さ4mm)の上にPETフィルム5が配置され、PETフィルム5の上にシリコンモールドのスペーサー1(縦5cm、横5cm、高さ2mm)を配置されているものである。
型8を用いてスペーサー1の内部6に組成物6を流し込み、次のとおりサンプルの硬化を行った。
4.2. Sample preparation (for evaluation of transmittance, heat-resistant coloring stability and curing state)
The production of the sample will be described below with reference to the accompanying drawings.
FIG. 7 is a cross-sectional view schematically showing a mold used for curing the silicone resin composition of the present invention in Examples.
In FIG. 7, a mold 8 has a PET film 5 disposed on a glass 3 (the size of the glass 3 is 10 cm long, 10 cm wide, 4 mm thick), and a silicon mold spacer 1 ( 5 cm in length, 5 cm in width, and 2 mm in height) are arranged.
The composition 6 was poured into the interior 6 of the spacer 1 using the mold 8, and the sample was cured as follows.

組成物6が充填された型8を電気オーブンに入れて、上記の評価の条件で加熱して組成物6を硬化させ、厚さ2mmの硬化物6(初期硬化物)を製造した。得られた硬化物6を透過率、耐熱着色安定性および硬化状態の評価用のサンプルとして用いた。   The mold 8 filled with the composition 6 was placed in an electric oven and heated under the above-described evaluation conditions to cure the composition 6 to produce a cured product 6 (initial cured product) having a thickness of 2 mm. The obtained cured product 6 was used as a sample for evaluating transmittance, heat-resistant coloring stability, and a cured state.

4.3.シリコーン樹脂組成物の製造
下記第1表に示す成分を同表に示す量(単位:質量部)で真空かくはん機を用いて均一に混合しシリコーン樹脂組成物を製造した。
第1表の実施例1〜8の組成物は(D)成分を含有する。実施例9〜21の組成物は、(E)成分および/または(F)成分を含有する。一方、第1表の比較例1〜6および9の組成物は(D)成分を含有しない。また、第1表の比較例7および8の組成物は、(D)成分の含有量が(A)成分および(B)成分の合計100質量部に対して0.1〜5質量部の範囲外である。比較例1は(D)成分を含有しない以外は、実施例1と同様の成分を含有し、比較例2〜6は、(D)成分の代わりにそれぞれアルミ化合物、マグネシウム化合物、鉄化合物、コバルト化合物またはマンガン化合物を含有する。比較例9はエポキシ樹脂を用いた例である。
4.3. Production of Silicone Resin Composition The components shown in Table 1 below were uniformly mixed in the amounts (unit: parts by mass) shown in the same table using a vacuum stirrer to produce a silicone resin composition.
The compositions of Examples 1 to 8 in Table 1 contain the component (D). The compositions of Examples 9 to 21 contain the component (E) and / or the component (F). On the other hand, the compositions of Comparative Examples 1 to 6 and 9 in Table 1 do not contain the component (D). Further, in the compositions of Comparative Examples 7 and 8 in Table 1, the content of the component (D) is in the range of 0.1 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the components (A) and (B). Outside. Comparative Example 1 contains the same components as in Example 1 except that it does not contain the component (D), and Comparative Examples 2 to 6 are an aluminum compound, a magnesium compound, an iron compound, and cobalt, respectively, instead of the component (D). Contains compounds or manganese compounds. Comparative Example 9 is an example using an epoxy resin.

第1表に示されている各成分は、以下のとおりである。
・(A)(B)(C)混合物:主剤であるビニルポリシロキサン((A)成分)と、架橋剤であるハイドロジェンポリシロキサン((B)成分)との混合液(A液)と、ビニルポリシロキサン((B)成分)とヒドロシリル化反応触媒((C)成分)との混合液(B液:CAT−RG)との混合物(商品名KE106、CATRAG信越化学工業社製)
・(A)ポリシロキサン2:両末端ビニル基封鎖ジメチルポリシロキサン(商品名:DMS−V31、Gelest社製)
・(B)ポリシロキサン架橋剤2:ハイドロジェンポリシロキサン(商品名:KF−9901、信越化学社製)
・(C)ヒドロシリル化反応触媒2:白金―シクロビニルメチルシロキサン錯体(商品名:SIP6832.2、Gelest社製)
・エポキシ樹脂:ビスフェノールAジグリシジルエーテルエポキシ液状樹脂(商品名:EP4100、東都化成製)
・(D)亜鉛化合物1:亜鉛ビスアセチルアセトネート、関東化学製
・(D)亜鉛化合物2:亜鉛ビス2エチルヘキサノエート、ホープ製薬製
・アルミ化合物:エチルアセテートアルミニウムジイソプロピレート(商品名:AL−CH,川研ファインケミカル社製)
・マグネシウム化合物:マグネシウムビス(2−エチルヘキサノエート)(商品名:ニッカオクチックスマグネシウム、日本化学産業社製)
・鉄化合物:鉄(III)アセチルアセトナート(Gelest社製)
・コバルト化合物:コバルト(III)アセチルアセトナート(マツモト交商社製)
・マンガン化合物:マンガン(III)アセチルアセトナート(東京化成工業社製)
・カチオン重合触媒:BF・EtO(BFエチルエテラート錯体、東京化成工業社製)
・接着付与剤1:エポキシシランオリゴマー(商品名:X−41−1053、信越化学工業社製)
・接着付与剤2:1,6−ビス(トリメトキシシリル)ヘキサン(商品名:Z−6830、東レ・ダウコーニング社製)
・接着付与剤3:トリス−(3−トリメトキシシリルプロピル)イソシアヌレート(商品名:X−12−965、信越化学工業社製)
Each component shown in Table 1 is as follows.
(A) (B) (C) mixture: a mixed liquid (liquid A) of vinylpolysiloxane (component (A)) as the main agent and hydrogen polysiloxane (component (B)) as the crosslinking agent, Mixture (trade name KE106, manufactured by CATRAG Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) of a mixture of vinyl polysiloxane (component (B)) and hydrosilylation catalyst (component (C)) (liquid B: CAT-RG)
(A) Polysiloxane 2: both ends vinyl-blocked dimethylpolysiloxane (trade name: DMS-V31, manufactured by Gelest)
(B) Polysiloxane crosslinking agent 2: Hydrogen polysiloxane (trade name: KF-9901, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
(C) hydrosilylation reaction catalyst 2: platinum-cyclovinylmethylsiloxane complex (trade name: SIP6832.2, manufactured by Gelest)
Epoxy resin: bisphenol A diglycidyl ether epoxy liquid resin (trade name: EP4100, manufactured by Tohto Kasei)
(D) zinc compound 1: zinc bisacetylacetonate, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd. (D) zinc compound 2: zinc bis-2-ethylhexanoate, manufactured by Hope Pharmaceutical Co., Ltd. Aluminum compound: ethyl acetate aluminum diisopropylate (trade name: AL-CH, manufactured by Kawaken Fine Chemicals)
Magnesium compound: Magnesium bis (2-ethylhexanoate) (trade name: Nikka Octix Magnesium, manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.)
Iron compound: iron (III) acetylacetonate (Gelest)
・ Cobalt compound: Cobalt (III) acetylacetonate (Matsumoto Trading Co., Ltd.)
Manganese compound: Manganese (III) acetylacetonate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Cationic polymerization catalyst: BF 3 · Et 2 O (BF 3 ethyl etherate complex, manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
-Adhesive agent 1: Epoxysilane oligomer (trade name: X-41-1053, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Adhesion imparting agent 2: 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane (trade name: Z-6830, manufactured by Toray Dow Corning)
Adhesion imparting agent 3: Tris- (3-trimethoxysilylpropyl) isocyanurate (trade name: X-12-965, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)

・(E)ホウ素化合物1:2−イソプロポキシ−4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン(東京化成工業社製)
・(E)ホウ素化合物2:トリス(トリメチルシリル)ボラート(東京化成工業社製)
・(E)ホウ素化合物3:2,4,6−トリメトキシボロキシン(東京化成工業社製)
・(E)ホウ素化合物4:ビス(ピナコレート)ジボロン(東京化成工業社製)
・(E)ホウ素化合物5:三フッ化ホウ素ジエチルエーテラート(東京化成工業社製)
・(F)リン酸エステル1:リン酸トリエチル(東京化成工業)
・(F)リン酸エステル2:リン酸トリス(トリメチルシリル)(Gelest社製)
(E) Boron compound 1: 2-isopropoxy-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
(E) Boron compound 2: Tris (trimethylsilyl) borate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
(E) Boron compound 3: 2,4,6-trimethoxyboroxine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
(E) Boron compound 4: bis (pinacolate) diboron (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
(E) Boron compound 5: Boron trifluoride diethyl etherate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
・ (F) Phosphate ester 1: Triethyl phosphate (Tokyo Chemical Industry)
(F) Phosphate ester 2: Tris (trimethylsilyl) phosphate (manufactured by Gelest)

4.4.結果
第1表に示す結果から明らかなように、(D)成分を含有しないか、または、(D)成分の含有量が(A)成分および(B)成分の合計100質量部に対して0.1質量部未満である比較例1および8の組成物を用いて得られた硬化物は耐硫化性に劣った。また、(D)成分の含有量が(A)成分および(B)成分の合計100質量部に対して5質量部を超える比較例7の組成物を用いて得られた硬化物は白濁した。さらに、(D)成分の代わりにそれぞれアルミ化合物またはマグネシウム化合物を用いた比較例2および3の組成物を用いて得られた硬化物は耐硫化性に劣り、また、(D)成分の代わりにそれぞれ鉄化合物、コバルト化合物またはマンガン化合物を用いた比較例4〜6の組成物を用いて得られた硬化物は着色しており、封止材としては不適である(各化合物自身が着色している)。また、エポキシ樹脂を含有する比較例9の組成物を用いて得られた硬化物は着色し透過率に劣った。
これに対して、実施例1〜7の組成物を用いて得られた硬化物は、耐硫化性に優れるうえ、透過率および透過率保持率が高いことから透明性を保持することができ、混合後の増粘が低く、かつ貯蔵安定性に優れていることが理解できる。
4.4. Results As is apparent from the results shown in Table 1, the component (D) is not contained, or the content of the component (D) is 0 with respect to 100 parts by mass in total of the components (A) and (B). The cured products obtained using the compositions of Comparative Examples 1 and 8 that were less than 1 part by mass were inferior in sulfur resistance. Moreover, the hardened | cured material obtained using the composition of the comparative example 7 in which content of (D) component exceeds 5 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of (A) component and (B) component became cloudy. Furthermore, the cured products obtained using the compositions of Comparative Examples 2 and 3 using an aluminum compound or a magnesium compound in place of the component (D) are inferior in sulfidation resistance, and instead of the component (D). The cured products obtained using the compositions of Comparative Examples 4 to 6 each using an iron compound, a cobalt compound, or a manganese compound are colored and are unsuitable as sealing materials (each compound itself is colored). ) Moreover, the hardened | cured material obtained using the composition of the comparative example 9 containing an epoxy resin colored and was inferior to the transmittance | permeability.
On the other hand, the cured products obtained using the compositions of Examples 1 to 7 are excellent in sulfidation resistance, and can maintain transparency because of high transmittance and transmittance retention, It can be understood that the thickening after mixing is low and the storage stability is excellent.

また、第1表に示す結果から、(E)成分および/または(F)成分を含有する実施例9〜21は、(E)成分および/または(F)成分を含有しない実施例1〜8と比較して、高温下での長期信頼性に優れることが分かった。   Moreover, from the result shown in Table 1, Examples 9-21 containing (E) component and / or (F) component are Examples 1-8 which do not contain (E) component and / or (F) component. It was found that the long-term reliability at high temperatures is superior to

1 スペーサー
3 ガラス
5 PETフィルム
6 シリコーン樹脂組成物(硬化後シリコーン樹脂6、硬化物6となる)
8 型
10 表面 12 裏面
14 被膜 16 境界
18 シリコーン樹脂部分
200、300 白色LED 201、301 マウント部材
202、302 シリコーン樹脂 203、303 青色LEDチップ
204 パッケージ 206 斜線部
306 シリコーン樹脂 207、307 導電性ワイヤー
209 外部電極 210、310 基板
305 インナーリード 400、501 LED表示器
401 白色LED 404 筐体
405 遮光部材 406 充填剤
500 LED表示装置 501 LED表示器
502 ドライバー
503 階調制御手段(CPU)
504 画像データ記憶手段(RAM)
600 本発明の光半導体素子封止体
601 LEDチップ
602 銀膜
603 シリコーン樹脂
605 点
607 点605が属する面
609 基板
611 斜線部
T シリコーン樹脂603の厚さ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Spacer 3 Glass 5 PET film 6 Silicone resin composition (It becomes silicone resin 6 and hardened | cured material 6 after hardening)
8 type 10 surface 12 back surface 14 coating 16 boundary 18 silicone resin portion 200, 300 white LED 201, 301 mount member 202, 302 silicone resin 203, 303 blue LED chip 204 package 206 hatched portion 306 silicone resin 207, 307 conductive wire 209 External electrode 210, 310 Substrate 305 Inner lead 400, 501 LED display 401 White LED 404 Case 405 Light shielding member 406 Filler 500 LED display device 501 LED display 502 Driver 503 Gradation control means (CPU)
504 Image data storage means (RAM)
600 Optical semiconductor element sealing body 601 of the present invention LED chip 602 Silver film 603 Silicone resin 605 Point 607 Surface 609 to which point 605 belongs Substrate 611 Shaded portion T Silicone resin 603 thickness

Claims (14)

(A)成分:ケイ素原子に結合したアルケニル基を少なくとも2個有するポリシロキサンと、
(B)成分:ケイ素原子に結合した水素基を少なくとも2個有するポリシロキサン架橋剤と、
(C)成分:ヒドロシリル化反応触媒と、
(D)成分:亜鉛ビスアセチルアセトネートおよび/またはカルボン酸亜鉛塩と、
を含み、
前記(D)成分を前記(A)成分および前記(B)成分の合計100質量部に対して0.1〜5質量部含有する、シリコーン樹脂組成物。
(A) component: polysiloxane having at least two alkenyl groups bonded to silicon atoms;
(B) component: a polysiloxane crosslinking agent having at least two hydrogen groups bonded to silicon atoms;
(C) component: a hydrosilylation reaction catalyst;
Component (D): zinc bisacetylacetonate and / or carboxylic acid zinc salt ;
Including
The silicone resin composition which contains 0.1-5 mass parts of said (D) component with respect to a total of 100 mass parts of said (A) component and said (B) component.
シラノール基を有するケイ素化合物の含有量が0.1質量%未満である、請求項1に記載のシリコーン樹脂組成物。 The silicone resin composition according to claim 1, wherein the content of the silicon compound having a silanol group is less than 0.1% by mass . 前記カルボン酸亜鉛塩が、亜鉛ビス2−エチルヘキサノエートである、請求項1または2に記載のシリコーン樹脂組成物。 The silicone resin composition according to claim 1 or 2, wherein the zinc carboxylate is zinc bis 2-ethylhexanoate . 前記アルケニル基が、ビニル基または(メタ)アクリロイル基である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のシリコーン樹脂組成物。   The silicone resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the alkenyl group is a vinyl group or a (meth) acryloyl group. 光半導体素子封止用に使用される、請求項1〜4のいずれか1項に記載のシリコーン樹脂組成物。   The silicone resin composition of any one of Claims 1-4 used for optical semiconductor element sealing. 銀の存在下で使用される、請求項1〜5のいずれか1項に記載のシリコーン樹脂組成物。   The silicone resin composition according to any one of claims 1 to 5, which is used in the presence of silver. さらに、(E)成分:ホウ素化合物および/または(F)成分:リン酸エステルを含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載のシリコーン樹脂組成物。   Furthermore, the silicone resin composition of any one of Claims 1-6 containing (E) component: Boron compound and / or (F) component: Phosphate ester. さらに、ビス(アルコキシ)アルカンおよび/またはイソシアヌレート誘導体を含む、請求項1〜7のいずれか1項に記載のシリコーン樹脂組成物。   Furthermore, the silicone resin composition of any one of Claims 1-7 containing a bis (alkoxy) alkane and / or an isocyanurate derivative. 請求項1〜8のいずれか1項に記載のシリコーン樹脂組成物であって、
第11族の金属を用いて得られる金属層の上に前記シリコーン樹脂組成物を厚さ1mmに付与し硬化させて、前記金属層とシリコーン樹脂層とを有する積層体とし、
前記積層体を560ppmの硫化水素ガス中に23℃の条件下で置く耐硫化試験を行い、前記耐硫化試験の前および前記耐硫化試験開始から24時間後における、前記積層体の分光反射率を分光反射率計を用いて測定し、前記分光反射率を式[分光反射率維持率=(耐硫化試験後の分光反射率/耐硫化試験前の分光反射率)×100]に当てはめ算出される分光反射率維持率が80%以上である、シリコーン樹脂組成物。
The silicone resin composition according to any one of claims 1 to 8,
On the metal layer obtained using a Group 11 metal, the silicone resin composition is applied to a thickness of 1 mm and cured to form a laminate having the metal layer and the silicone resin layer,
A sulfidation test is performed in which the laminate is placed in 560 ppm hydrogen sulfide gas at 23 ° C., and the spectral reflectance of the laminate is measured before the sulfidation test and 24 hours after the start of the sulfidation test. Measured using a spectral reflectometer and calculated by fitting the spectral reflectance to the formula [spectral reflectance maintenance ratio = (spectral reflectance after sulfidation test / spectral reflectance before sulfidation test) × 100]. A silicone resin composition having a spectral reflectance maintenance factor of 80% or more.
請求項1〜9のいずれか1項に記載のシリコーン樹脂組成物を硬化させることによって得られる、シリコーン樹脂。   The silicone resin obtained by hardening the silicone resin composition of any one of Claims 1-9. 請求項10記載のシリコーン樹脂と、銀を含む部材とを含む、シリコーン樹脂含有構造体。   A silicone resin-containing structure comprising the silicone resin according to claim 10 and a member containing silver. LEDチップが請求項10に記載のシリコーン樹脂で封止されている光半導体素子封止体。   A sealed optical semiconductor element in which an LED chip is sealed with the silicone resin according to claim 10. 銀を含む部材をさらに含む、請求項12記載の光半導体素子封止体。   The sealed optical semiconductor element according to claim 12, further comprising a member containing silver. 銀の存在下で請求項1〜8のいずれか1項に記載のシリコーン樹脂組成物を硬化させる工程を含む、シリコーン樹脂組成物の使用方法。   The usage method of a silicone resin composition including the process of hardening the silicone resin composition of any one of Claims 1-8 in presence of silver.
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