JP2012016670A - 多管式反応装置及び該多管式反応装置における邪魔板の設置位置設定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】反応流体10と触媒との化学反応による発熱量Aの変化が大きい部分に対応する熱媒流路8a,8bが、管板2,3間に邪魔板6a,6b,6cを等間隔に設置したときに形成される熱媒流路よりも狭くなるように、発熱量Aの変化が大きい部分に対応する熱媒流路8a,8bを形成する邪魔板6a,6bを、反応器シェル1幅方向断面内に設定される熱媒7の最大温度差を超えない位置に設置する。発熱量A変化が大きい部分に対応する熱媒流路8a,8bを狭くするので、熱媒流路8a,8bを流れる熱媒7の流速を上げることができ、単位時間当たりの反応管9と熱媒7との熱交換量を減少させることができる。よって、反応器シェル1幅方向断面内に設定される熱媒7の最大温度差を超えないようにすることができる。
【選択図】図1
Description
(1)反応器シェル内に設置される管板と該管板間に配置される邪魔板との間に反応器シェルの一方の管板側から他方の管板側へ連続する熱媒流路を形成し、上記各管板と邪魔板に貫通支持される複数の反応管内に充填した触媒と、上記反応器シェル内に導入する反応流体とを、上記熱媒流路に流通させる熱媒により温度管理した状態で化学反応させて、化学物質を製造するようにし、且つ上記化学反応による熱量の変化が大きい部分に対応する熱媒流路を、上記反応器シェルの幅方向断面内に設定される熱媒の最大温度差を超えることがないように上記管板間に等間隔で形成するときの熱媒流路よりも狭くして設けるようにした構成としてあるので、管板間に等間隔で形成した熱媒流路を流れる熱媒の流速に比べて、化学反応による熱量の変化の大きい部分に対応した熱媒流路を流れる熱媒の流速を上げることができる。したがって、単位時間当たりの反応管(熱源)と熱媒との熱交換量を減少させることができるので、熱媒流路に流通させる熱媒の循環量を増加させることなく反応器シェルの幅方向断面内に設定される熱媒の最大温度差を超えないようにすることができ、よって、全ての反応管において触媒と反応流体との化学反応をほぼ均一にすることができる。
(2)又、反応器シェル内に設置される管板と該管板間に配置される邪魔板との間に反応器シェルの一方の管板側から他方の管板側へ連続する熱媒流路を形成し、上記各管板と邪魔板に貫通支持される複数の反応管内に充填した触媒と、上記反応器シェル内に導入する反応流体とを、上記熱媒流路に流通させる熱媒により温度管理した状態で化学反応させて、化学物質を製造するようにしてある多管式反応装置における、上記化学反応による熱量の変化が大きい部分に対応する熱媒流路を形成する邪魔板の設置位置を、上記反応器シェルの幅方向断面内に設定される熱媒の最大温度差を超えることがない熱媒流速が得られる位置に設定して、上記化学反応による熱量の変化が大きい部分に対応する熱媒流路を、上記管板間に邪魔板を等間隔に設置したときに形成される熱媒流路よりも狭くするようにする構成としてあるので、(1)に記載したのと同様の効果を奏することができるほかに、熱量の変化が大きい部分に対応する熱媒流路を、管板間に等間隔で設定される邪魔板の設定位置を変更することにより狭めるようにしてあることから、化学反応による熱量の変化の大きい部分に対応した熱媒流路を流れる熱媒の流速を、邪魔板の設置数及び設置工数を増やさずに上げることができる。
2 管板(上部管板)
3 管板(下部管板)
6a,6b,6c 邪魔板
7 熱媒
8a,8b,8c,8d 熱媒流路
9 反応管
10 反応流体
A 熱量(発熱量)
Claims (3)
- 反応器シェル内に設置される管板と該管板間に配置される邪魔板との間に反応器シェルの一方の管板側から他方の管板側へ連続する熱媒流路を形成し、上記各管板と邪魔板に貫通支持される複数の反応管内に充填した触媒と、上記反応器シェル内に導入する反応流体とを、上記熱媒流路に流通させる熱媒により温度管理した状態で化学反応させて、化学物質を製造するようにし、且つ上記化学反応による熱量の変化が大きい部分に対応する熱媒流路を、上記反応器シェルの幅方向断面内に設定される熱媒の最大温度差を超えることがないように上記管板間に等間隔で形成するときの熱媒流路よりも狭くして設けるようにした構成を有することを特徴とする多管式反応装置。
- 熱量の変化が大きい部分に対応する熱媒流路を、管板間に等間隔で設定される邪魔板の設定位置を変更することにより狭めるようにした請求項1記載の多管式反応装置。
- 反応器シェル内に設置される管板と該管板間に配置される邪魔板との間に反応器シェルの一方の管板側から他方の管板側へ連続する熱媒流路を形成し、上記各管板と邪魔板に貫通支持される複数の反応管内に充填した触媒と、上記反応器シェル内に導入する反応流体とを、上記熱媒流路に流通させる熱媒により温度管理した状態で化学反応させて、化学物質を製造するようにしてある多管式反応装置における、上記化学反応による熱量の変化が大きい部分に対応する熱媒流路を形成する邪魔板の設置位置を、上記反応器シェルの幅方向断面内に設定される熱媒の最大温度差を超えることがない熱媒流速が得られる位置に設定して、上記化学反応による熱量の変化が大きい部分に対応する熱媒流路を、上記管板間に邪魔板を等間隔に設置したときに形成される熱媒流路よりも狭くするようにすることを特徴とする多管式反応装置における邪魔板の設置位置設定方法。
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2010
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