JP2012003843A - 対物レンズ系及び電子顕微鏡 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電磁レンズからなる1対の対物レンズ(対物前方電磁レンズ2a,対物後方電磁レンズ2b)の入射側に、マイクロ波空洞からなるマイクロ波加速器3を配設すると共に、出射側にマイクロ波空洞からなるマイクロ波減速器4を配設する。そして、これらマイクロ波加速器3及びマイクロ波減速器4の空洞に、高周波電力源5から導波管6を介して、相互に位相が異なるマイクロ波を供給する。
【選択図】図1
Description
本発明においては、対物レンズの前にマイクロ波加速器を設置し、対物レンズの直前で電子を加速させているため、直流高圧電源が不要となる。
このレンズ系では、前述したマイクロ波加速器に加えて、前記対物レンズの後(電子線出射側)に、マイクロ波減速器が配設されていてもよい。
また、前記マイクロ波加速器及びはマイクロ波減速器として、マイクロ波空洞を使用することができる。
その場合、前記マイクロ波加速器として使用される前方マイクロ波空洞と、前記マイクロ波減速器として使用される後方マイクロ波空洞とが、同一の高周波電力源に接続されており、該高周波電力源から供給されるマイクロ波の位相により、電子線の加速又は減速が制御してもよい。
また、前方マイクロ波空洞と前記後方マイクロ波空洞とを等価にし、これらが鏡像対象になるように配置してもよい。
一方、前記高周波電力源としては、例えばクライストロンを使用することができる。
本発明においては、試料が配置されている部分の前後のみで電子の加速及び減速を行っているため、コンデンサーレンズ系、投影レンズ系、エネルギーフィルター及び電子線検出観察系は、低加速電子線仕様でよい。これにより、超高圧電子顕微鏡の小型化及び低コスト化を実現することができる。
この電子顕微鏡は、例えば透過型電子顕微鏡又は走査透過型電顕微鏡である。
先ず、本発明の第1の実施形態に係る対物レンズ系について説明する。図1は本実施形態の対物レンズ系の構成を模式的に示す図である。図1に示すように、本実施形態の対物レンズ系1は、電磁レンズからなる1対の対物レンズ(対物前方電磁レンズ2a,対物後方電磁レンズ2b)を備えており、これらは500keV以上の超高圧加速電子線に対し対物レンズ特性を保持し得る超強磁場電磁レンズ仕様(いわゆる超高圧透過電子顕微鏡仕様)となっている。
マイクロ波加速器3は、入射した電子(入射電子8)を加速して超高圧加速電子とするものであり、例えばマイクロ波加速空洞を使用することができる。一方、マイクロ波減速器4は、試料7を透過した電子(透過電子9)を減速するものであり、例えばマイクロ波減速空洞を使用することができる。
高周波動力源5は、前述したマイクロ波加速器3及びマイクロ波減速器4に、マイクロ波を供給するものであり、例えばクライストロンやマグネトロンを使用することができる。
次に、前述の如く構成された対物レンズ系1の動作について説明する。本実施形態の対物レンズ系1においては、対物前方電磁レンズ2aと対物後方電磁レンズ2bの間に試料10が配置される。そして、高周波電力源5から導波管6を介して、マイクロ波加速器3及びマイクロ波減速器4の空洞内に、周波数1GHz〜10GHzのマイクロ波が供給される。その際、高周波電力源5から供給するマイクロ波の位相を変えることにより、電子線の加速又は減速を制御することができる。
次に、本発明の第2の実施形態に係る電子顕微鏡について説明する。本実施形態の電子顕微鏡は、前述した第1の実施形態の対物レンズ系1が組み込まれたものである。その種類は特に限定されるものではなく、対物レンズ系1は、全ての透過型電子顕微鏡、走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)、走査透過型電子顕微鏡(Scanning Transmission Electron Microscope:STEM)に装着可能である。
2a 対物前方電磁レンズ
2b 対物後方電磁レンズ
3 マイクロ波加速器
4 マイクロ波減速器
5 高周波電力源
6 導波管
7 強度・位相調整器
8 入射電子
9 透過電子
10、104 試料
11 マイクロ波空洞
11a 空洞
101 電子銃
102 照射レンズ
103 前方対物レンズ部
105 後方対物レンズ部
106 絞り
107 投影レンズ
108 像スクリーン
Claims (8)
- 電磁レンズからなる対物レンズと、
前記対物レンズにおける電子線入射側に配設されたマイクロ波加速器を、
少なくとも有する対物レンズ系。 - 更に、前記対物レンズの電子線出射側に、マイクロ波減速器が配設されていることを特徴とする請求項1に記載の対物レンズ系。
- 前記マイクロ波加速器及びマイクロ波減速器が、マイクロ波空洞であることを特徴とする請求項1又は2に記載の対物レンズ系。
- 前記マイクロ波加速器として使用される前方マイクロ波空洞と、前記マイクロ波減速器として使用される後方マイクロ波空洞とが、同一の高周波電力源に接続されており、該高周波電力源から供給されるマイクロ波の位相により、電子線の加速又は減速が制御されること特徴とする請求項3に記載の対物レンズ系。
- 前記前方マイクロ波空洞と前記後方マイクロ波空洞が等価であり、これらが鏡像対象になるように配置されていることを特徴とする請求項4に記載の対物レンズ系。
- 前記高周波電力源がクライストロンであることを特徴とする請求項4又は5に記載の対物レンズ系。
- 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の対物レンズ系が組み込まれた電子顕微鏡。
- 透過型電子顕微鏡又は走査透過型電顕微鏡であることを特徴とする請求項7に記載の電子顕微鏡。
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Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63160200A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-02 | 三菱電機株式会社 | 直線加速装置 |
JPH0278143A (ja) * | 1988-06-24 | 1990-03-19 | Hitachi Ltd | 荷電粒子装置とその集束レンズ |
JPH0519100A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | 電子線照射装置 |
JPH06203778A (ja) * | 1993-01-06 | 1994-07-22 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡 |
JPH06231900A (ja) * | 1993-02-04 | 1994-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | 線形電子加速装置 |
JPH07318698A (ja) * | 1994-05-25 | 1995-12-08 | Denki Kogyo Co Ltd | 電子線照射装置 |
JP2000068098A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-03-03 | Mitsubishi Electric Corp | 加速管および荷電粒子加速装置 |
JP2000243338A (ja) * | 1999-02-22 | 2000-09-08 | Hitachi Ltd | 透過電子顕微鏡装置および透過電子検査装置並びに検査方法 |
JP2002057000A (ja) * | 2000-08-08 | 2002-02-22 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 加速管 |
JP2005050646A (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-24 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 高周波電子銃 |
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Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63160200A (ja) * | 1986-12-24 | 1988-07-02 | 三菱電機株式会社 | 直線加速装置 |
JPH0278143A (ja) * | 1988-06-24 | 1990-03-19 | Hitachi Ltd | 荷電粒子装置とその集束レンズ |
JPH0519100A (ja) * | 1991-07-12 | 1993-01-26 | Mitsubishi Electric Corp | 電子線照射装置 |
JPH06203778A (ja) * | 1993-01-06 | 1994-07-22 | Hitachi Ltd | 電子顕微鏡 |
JPH06231900A (ja) * | 1993-02-04 | 1994-08-19 | Mitsubishi Electric Corp | 線形電子加速装置 |
JPH07318698A (ja) * | 1994-05-25 | 1995-12-08 | Denki Kogyo Co Ltd | 電子線照射装置 |
JP2000068098A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-03-03 | Mitsubishi Electric Corp | 加速管および荷電粒子加速装置 |
JP2000243338A (ja) * | 1999-02-22 | 2000-09-08 | Hitachi Ltd | 透過電子顕微鏡装置および透過電子検査装置並びに検査方法 |
JP2002057000A (ja) * | 2000-08-08 | 2002-02-22 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 加速管 |
JP2005050646A (ja) * | 2003-07-28 | 2005-02-24 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 高周波電子銃 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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