JP2011526816A5

JP2011526816A5 -

Info

Publication number: JP2011526816A5
Application number: JP2011516870A
Authority: JP
Filing date: 2009-07-02
Publication date: 2012-08-16

Claims

処理設備に用いられる炎および／または爆燃の保護システムは、
この処理設備内の火炎の検出を信号伝達するための少なくとも１つの検知器と、
前記少なくとも１つの検知器から電気信号を受信および分析するためのプロセッサと、
前記少なくとも１つの検知器からの電気信号に反応して前記プロセッサによって発動される抑制装置と、
で構成され、
前記少なくとも１つの検知器は、
２つの対向する基板、および、これらの間に配置される熱電脚ペアのアレイで構成され、
前記少なくとも１つの検知器は、
爆燃波によって生じる前記基板間の温度差に反応して電気信号を生成することを特徴とするシステム。
前記少なくとも１つの検知器は、少なくとも４０脚ペア／ｍｍ^２の熱電脚ペアの密度を有する請求項１に記載のシステム。
前記少なくとも１つの検知器は、少なくとも７５脚ペア／ｍｍ^２の熱電脚ペアの密度を有する請求項２に記載のシステム。
前記少なくとも１つの検知器は、１０ｍｓより短い爆燃波に対する応答時間を有する請求項１に記載のシステム。
前記応答時間は、５ｍｓより短い請求項４に記載のシステム。
前記応答時間は、２．５ｍｓより短い請求項５に記載のシステム。
前記抑制装置は、
前記炎または爆発を抑制するために、前記処理設備内に導入される化学的抑制剤、前記処理設備の一部を遮断するための遮断弁、または、これらを組み合わせたもので構成される請求項１に記載のシステム。
前記基板は、それぞれ、６００μｍより小さい厚みを有する請求項１に記載のシステム。
前記基板は、それぞれ、５００μｍより小さい厚みを有する請求項８に記載のシステム。
前記基板は、それぞれ、２５０μｍより小さい厚みを有する請求項９に記載のシステム。
前記少なくとも１つの検知器からの前記信号は、前記プロセッサより受信する前に、増幅する必要がない請求項１に記載のシステム。
前記少なくとも１つの検知器からの前記信号は、前記プロセッサへの伝送のために、前記プロセッサによって受信される前にアナログ電圧に変換されて戻るレシオメトリック電流の出力に変換される請求項１１に記載のシステム。
前記少なくとも１つの検知器は、環境光で露光された前記処理設備の領域内に配置される請求項１に記載のシステム。
処理装置内の爆燃波を検知する方法であって、
２つの対向する基板、および、これらの間に配置される熱電脚ペアのアレイで構成され、前記爆燃波によって生じる温度差に反応して電気信号を生成する少なくとも１つの検知器を前記処理設備内に配置するステップで構成されることを特徴とする方法。
前記少なくとも１つの検知器は、少なくとも４０脚ペア／ｍｍ^２の熱電脚ペアの密度を有する請求項１４に記載の方法。
前記少なくとも１つの検知器は、１０ｍｓより短い爆燃波に対する応答時間を有する請求項１４に記載の方法。
前記基板は、それぞれ、６００μｍより小さい厚みを有する請求項１４に記載の方法。
前記少なくとも１つの検知器は、環境光で露光された前記処理設備の領域内に配置される請求項１４に記載の方法。
前記少なくとも１つの検知器は、前記施設の外側の環境に対する開口に隣接する前記処理設備の領域内に配置される請求項１４に記載の方法。
前記少なくとも１つの検知器によって生じる前記電気信号は、抑制装置を作動するために用いられる請求項１４に記載の方法。
前記抑制装置は、
前記炎または爆発を抑制するために、前記処理設備内に導入される化学的抑制剤、前記処理設備の一部を遮断するための遮断弁、または、これらを組み合わせたもので構成される請求項２０に記載のシステム。
炎および／または爆発から処理設備を保護する方法は、
前記処理設備内に、２つの対向する基板、および、これらの間に配置される熱電脚ペアのアレイで構成される、少なくとも１つの検知器を配置するステップと、
爆燃波の存在を検知するために、前記爆燃波によって生じる前記基板間の温度差に反応して電気信号を生成する、前記少なくとも１つの検知器を用いるステップと、さらに、
前記信号を受信し、さらに、これに反応して抑制装置を作動するプロセッサで構成される制御ユニットに対して前記電気信号を伝達するステップと、
で構成されることを特徴とする方法。
前記少なくとも１つの検知器は、少なくとも４０脚ペア／ｍｍ^２の熱電脚ペアの密度を有する請求項２２に記載の方法。
前記少なくとも１つの検知器は、１０ｍｓより短い爆燃波に対する応答時間を有する請求項２２に記載の方法。
前記基板は、それぞれ、６００μｍより小さい厚みを有する請求項２２に記載の方法。
前記少なくとも１つの検知器は、環境光で露光された前記処理設備の領域内に配置される請求項２２に記載の方法。
前記少なくとも１つの検知器は、前記施設の外側の環境に対する開口に隣接する前記処理設備の領域内に配置される請求項２２に記載の方法。
前記抑制装置は、
前記処理設備に導入される化学的抑制剤、遮断弁、または、これらを組み合わせたもので構成される請求項２２に記載の方法。