JP2011526698A - 印刷機またはコピー機において画点から形成された符合の符合幅を求める方法 - Google Patents

印刷機またはコピー機において画点から形成された符合の符合幅を求める方法 Download PDF

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Abstract

印刷機により印刷された符号の符合幅を求めるために、以下の工程が実施される。・例えばトナーマークの印刷ラスタの第1のラスタセル(RZ1)に、第1のテストパターン(TM1)を画点(DP)から形成し、このテストパターンの面掩ぺい率を測定する工程、・印刷ラスタの第2のラスタセル(RZ2)に、第2のテストパターン(TM2)を形成し、この第2のテストパターンの面掩ぺい率を測定する工程、ただし第2のテストパターンでは、画点が第1のテストパターンに比較して異なるPEL個所に配置されており、・第1のテストパターンと第2のテストパターンの面掩ぺい率の比を形成し、この結果により画点サイズを計算する工程。このために、第1のテストパターンと第2のテストパターンとの面掩ぺい率の比の依存関係が画点サイズ上にプロットされている。

Description

電荷画像担体、例えば光電ドラムまたは光電ベルト上に符合発生器、例えばLED符合発生器により形成された、印刷すべき画像の電荷画像を、電子写真印刷機またはコピー機において例えばトナー原理またはジャンプ原理で現像することは公知である(例えば特許文献1)。この原理では、現像ドラム(ジャンプドラム)と電荷画像担体との間の中間空間、すなわち現像領域での交流電圧および/または直流電圧(バイアス電圧)の印加によってトナー粒子からなるトナー霧が形成され、トナー粒子が電荷画像に対応して電荷画像担体に移行し、これを着色する。
電荷画像担体上の電荷画像は、LED符合発生器により形成することができる。このLED符合発生器は、印刷すべき符合に依存して電荷画像担体上にアドレシング可能な出力ピクセルからなる印刷パターンで、個々の出力ピクセルまたはPEL(印刷エレメント)を露光により荷電することができる。次にこれらのPELは現像ステーションによって画点に現像される。したがって画点は、PELの位置に物理的に印刷された点であり、通例は対応するPELよりも面積が大きい。印刷ラスタはラスタセルに分割することができ、ここで1つのラスタセルはPELからなる2次元のマトリクスである。
運転中には、符合の符合幅を検知することが必要である。ここで符合幅とは、印刷装置が所定の符合を、どの程度の幅またはどの程度の太さで出力するかであると理解されたい。符合幅の変化により、印刷画像の見え方およびトナー消費量が影響を受ける。
符合幅は、光学的反射センサによって測定することができる。このセンサは、電荷画像担体の表面から反射された(赤外線)光を測定する。ここでは数mmの大きさの面(数千の画点)にわたって統合される。電荷画像担体上の印刷ラスタを測定することにより、原理的に符合幅を決定することができる。次のことが当てはまる。強い反射=小さな画点=細い幅、弱い反射=大きな画点=太い幅。反射はトナー色が異なれば異なるから、反射センサにより符合幅が、印刷ラスタの直接の測定を介してトナー色に依存して測定される。色が異なる場合、とりわけ混合色の場合はこれが困難になる。とりわけセンサの汚染ならびに電荷画像担体の汚染または着色は、測定を誤らせる。
測定は、電荷画像担体上にトナーマークを形成し、そのトナー量を容量性のトナー量測定により求めることによっても行うことができる。トナー量は、画点直径またはトナーマークのライン幅に依存して変化する。
印刷すべき符合での画点変化およびライン変化に対する調整量は、例えばジャンプドラムにおけるバイアス電圧、電荷画像担体の荷電最終電位、ならびに現像混合液の特性である。
光学的反射センサによるトナーマークの測定は、例えば特許文献2から、容量性トナー量センサによるトナーマークの測定は特許文献3から公知である。
米国特許第4868600号明細書 米国特許第7016620号明細書 米国特許第7260334号明細書
本発明の基礎とする課題は、印刷機またはコピー機により印刷される符号の符合幅をセンサを用いて、印刷色およびセンサの汚染に関係なく求めることのできる方法を提供することである。
この課題は、請求項1ないし請求項6の特徴により解決される。
本発明の方法は、電子写真印刷にも、インクジェット印刷にも使用することができる。以下では本発明を、電子写真印刷と関連して説明するが、これにより本発明がこの適用事例に限定されるものではない。
本発明の方法は、符合が画点から構成されており、符合を形成するために印刷ラスタの個々のPELが、画点のPELから現像されることを前提にする。
上記課題は、第1の解決方法では、次の工程により解決される。
・印刷ラスタの第1のラスタセルに、第1のテストパターンを画点から形成し、このテストパターンの面掩ぺい率を測定する工程、
・印刷ラスタの第2のラスタセルに、第2のテストパターンを形成し、この第2のテストパターンの面掩ぺい率を測定する工程、
ただし第2のテストパターンでは、画点が第1のテストパターンに比較して少なくとも一部で異なるPEL個所に配置されており、
・第1のテストパターンと第2のテストパターンの面掩ぺい率の比を形成し、この比を用いて画点サイズを計算する工程。
第2の解決方法は、以下の工程を有する。
・印刷ラスタの第1のラスタセルに、第1のテストパターンを画点から形成し、このテストパターンのトナー量を測定する工程、
・印刷ラスタの第2のラスタセルに、第2のテストパターンを形成し、この第2のテストパターンのトナー量を測定する工程、
ただし第2のテストパターンでは、画点が第1のテストパターンに比較して少なくとも一部で異なるPEL個所に配置されており、
・第1のテストパターンと第2のテストパターンのトナー量の比を形成し、この比を用いて画点サイズを計算する工程。
画点サイズの計算は、例えば記憶されたテーブルまたは数式を介して行うことができ、ここには画点サイズと面掩ぺい率の比またはトナー量の比の対応関係が含まれている。画点サイズが既知であれば、そこから符合幅を推定することができる。
本発明の有利な改善形態は従属請求項から明らかとなる。
第1の解決方法では、テーブルを作成するために以下の工程が実施される。
・第1のテストパターンを、画点サイズの異なる所定の画点により連続して形成し、第1のテストパターンのそれぞれ生成された面掩ぺい率を第1の測定結果として求める工程、
・第2のテストパターンを、画点サイズの異なる所定の画点により連続して形成し、第2のテストパターンのそれぞれ生成された面掩ぺい率を第2の測定結果として求める工程、
・第1の測定結果と第2の測定結果の比を形成する工程、
・この比を、所定の画点のサイズに依存してテーブルとして記憶する工程。
次にこのテーブルから印刷モードで、両方のテストパターンの面掩ぺい率の測定にしたがい画点サイズを求めることができる。
第2の解決方法では、このテーブルが次の工程により作成される。
・第1のテストパターンを、画点サイズの異なる所定の画点により連続して形成し、第1のテストパターンのそれぞれのトナー量を第1の測定結果として求める工程、
・第2のテストパターンを、画点サイズの異なる所定の画点により連続して形成し、第2のテストパターンのそれぞれのトナー量を第2の測定結果として求める工程、
・第1の測定結果と第2の測定結果の比を形成する工程、
・この比を、所定の画点のサイズに依存してテーブルとして記憶する工程。
次にこのテーブルから印刷モードで、両方のテストパターンのトナー量の測定にしたがい画点サイズを求めることができる。
第1のテストパターンとして、例えばチェス盤パターンを選択することができる。第2のテストパターンは、例えばラインパターンとして実現することができる。しかし画点が別のやり方で配置されたテストパターンも可能である。ここでの前提は、第1と第2のテストパターンが画点の配置において異なっていることである。
テーブルが印刷制御部のメモリに記憶されていれば、このテーブルを用いてテストパターンの面掩ぺい率の測定とその比の形成後に、またはテストパターンのトナー量の測定とその比の形成後に、テストパターンにおける画点サイズを読み出し、そこから印刷された符号の符合幅を求めることができる。ここでテストパターンはトナーマークとして、電荷画像担体の上に配置することができる。
第1の解決方法では、例えば電荷画像担体としての光電ベルト上に、第1および第2のテストパターンが取り付けられ、光学的反射センサによって両方のテストパターンの面掩ぺい率が測定され、面掩ぺい率の比が求められ、この比を用いてテーブルから画点サイズが求められ、画点サイズによって符合幅が求められる。
第2の解決方法では、例えば電荷画像担体としての光電ベルト上に、第1および第2のテストパターンが取り付けられ、容量的トナー量センサによって両方のテストパターンのトナー量が測定され、トナー量の比が求められ、この比を用いてテーブルから画点サイズが求められ、画点サイズから符合幅が求められる。
図面に示された実施形態に基づき、本発明をさらに詳しく説明する。
(PELで表現される)画点サイズが異なる場合の面掩ぺい率を、2つの異なるテストパターンに例として示す図である。 2つのテストパターンの面掩ぺい率を画点サイズ上にプロットした線図である。 2つのテストパターンの面掩ぺい率の比を画点サイズ上にプロットした線図である。
図1には、印刷ラスタからの、ラスタセルRZ1、RZ2の2つの列SP1、SP2が図示されている。ラスタセルRZ1には、画点DPからなる第1のテストパターンTM1が配置されており、ラスタセルRZ2には、同じ大きさの画点DPからなる第2のテストパターンTM2が配置されている。TM1とTM2のテストパターン面積は同じ大きさに選択されている。列SP1のテストパターンTM1はチェス盤パターンとして実現されており、列SP2のテストパターンTM2はラインパターンとして実現されている。ここでテストパターンTM1、TM2は、異なる画点サイズにより列方向に図示されている。縁部には、それぞれの画点の大きさがPELで、その際に生じた面掩ぺい率が%でプロットされている。
列方向で上から下に、1.2PELの画点サイズから始まって1.6PELの画点サイズまでの例で、面掩ぺい率が%で記入されている。例えばテストパターンTM1は、1.2PELの画点サイズで57%の面掩ぺい率を有している。これに対してテストパターンTM2は、1.2PELの画点サイズで53%の面掩ぺい率を有している。またはテストパターンTM1は、1.6PELの画点サイズで96%の面掩ぺい率を有し、これに対してテストパターンTM2は75%の面掩ぺい率を有している。
2つのテストパターンTM1とTM2における面掩ぺい率の相違が、図1から明らかである。ラインパターンTM2では、画点DPが列方向に画点サイズの増大とともに重なるが、チェス盤パターンTM1では、画点の重なりが1.6PELの画点サイズから初めて始まる。その結果、チェス盤パターンTM1での面掩ぺい率は画点サイズの上昇とともに、ラインパターンTM2での面掩ぺい率を上回る。したがってテストパターンの面掩ぺい率は、それぞれのラスタセルRZにおける画点DPの配置に依存する。画点DPのサイズの変化は、例えば現像ステーションにあるジャンプドラムのバイアス電圧を調整することにより達成することができる。
図1の結果が、図2に線図で転記されている。ここでテストパターンTM1とTM2の面掩ぺい率FL(%)が画点サイズPG(PELで表す)上にプロットされている。曲線Iはチェス盤パターンTM1での面掩ぺい率の経過を、曲線IIはラインパターンTM2での面掩ぺい率の経過を、それぞれ画点サイズ上にプロットして示す。
テストパターンTM1とTM2の面掩ぺい率FLの比VEを、それぞれ図2の経過に対応して形成すると、図3が得られる。図3は、チェス盤パターンTM1とラインパターンTM2との面掩ぺい率FLの比VEを、PELの画点サイズ上にプロットして示す。図3から、光電導体上に取り付けられたテストパターンTM1、TM2の面掩ぺい率FLを図1に対応して測定することにより、TM1とTM2の面掩ぺい率FLの比VEを形成すれば、使用された画点DPの画点サイズを読み取ることができ、そこから符合幅を推定できることが分かる。例えば光電導体に取り付けられたテストパターンTM1では面掩ぺい率67%が測定され、同じ画点サイズで作成されたテストパターンTM2では面掩ぺい率FLが58%である場合、比VEの値は「1.15」であり、図3からこれに対して1.3PELの画点サイズを読み取ることができる。
図3の曲線が、例えば印刷機制御部にテーブルまたは公式として記憶されていれば、これにより印刷運転中に符合幅を計算することができる。このために例えば図1のテストパターンTM1、TM2を、符号の印刷の際にも使用される画点サイズにより光電導体上にトナーマークとして形成し、光学的反射センサにより両方のテストパターンTM1、TM2の面掩ぺい率を測定しなければならず、そこから比VEが形成される。次にテーブルから、図3に対応して画点サイズPGを取り出すことができる。例えばテストパターンTM1で67%の面掩ぺい率が測定され、テストパターンTM2では58%の面掩ぺい率が測定される場合、テーブルからPG=1.3PELの画点サイズが取り出される。
面掩ぺい率の代わりに、この方法をテストパターンのトナー量を測定することにより実施することもできる。やり方は、図1から3について上に説明したことに対応する。面掩ぺい率が、測定されたトナー量により置換される。これについては、図1から3の説明を参照することができる。
上に述べたように、この方法はインクジェットプリンタでも使用することができるが、符合の形成が画点で行われることが前提である。この場合、上に述べたようにテストパターンの面掩ぺい率から画点のサイズを求めることができる。
RZ ラスタセル
TM1 テストパターン
TM1 チェス盤パターン
TM2 ラインパターン
SP 列
DP 画点
FL 面掩ぺい率
PG 画点サイズ
VE 比

Claims (11)

  1. 印刷機またはコピー機において画点から形成された符合の符合幅を求める方法であって、PELからなる印刷ラスタの個々のPELの個所に画点を形成する方法において、
    ・印刷ラスタの第1のラスタセル(RZ1)に、全面ではない第1のテストパターン(TM1)を複数の画点(DP)から形成し、該テストパターンの面掩ぺい率(FL)を測定する工程、
    ・印刷ラスタの第2のラスタセル(RZ2)に、全面ではない第2のテストパターン(TM2)を形成し、該第2のテストパターン(TM2)の面掩ぺい率を測定する工程、
    ただし前記第2のテストパターン(TM2)では、画点(DP)が第1のテストパターン(TM1)に比較して少なくとも一部で異なるPEL個所に配置されており、
    ・第1のテストパターン(TM1)と第2のテストパターン(TM2)の面掩ぺい率(FL)の比(VE)を形成し、この比(VE)を用いて画点サイズを求める工程、
    を備える方法。
  2. 電子写真印刷機またはコピー機での、PELからなる印刷ラスタの個々のPELを符合発生器により電荷画像担体上に露光し、トナーにより画点に現像する請求項1記載の方法。
  3. インクジェットプリンタ機またはコピー機での、PELからなる印刷ラスタの個々のPELを符合発生器により画点として形成する請求項1記載の方法。
  4. 画点(DP)のサイズを求めるために、以下の工程により作成されるテーブルを使用する、
    ・第1のテストパターン(TM1)を、画点サイズの異なる所定の画点(DP)により作成し、該第1のテストパターン(TM1)のそれぞれの面掩ぺい率(FL)を第1の測定結果として求める工程、
    ・第2のテストパターン(TM2)を、所定の画点サイズの画点(DP)により作成し、該第2のテストパターン(TM2)の面掩ぺい率(FL)を第2の測定結果として求める工程、
    ・第1の測定結果と第2の測定結果の比(VE)を形成する工程、そして
    ・該比(VE)を、所定の画点のサイズに依存してテーブルとして記憶する工程、
    請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。
  5. 符合幅を求めるために、
    ・第1と第2のテストパターン(TM1、TM2)を形成し、
    ・光学的反射センサにより、両方のテストパターン(TM1,TM2)の面掩ぺい率(FL)を測定し、
    ・当該面掩ぺい率(FL)の比(VE)を求め、
    ・該比(VE)を用いてテーブルから画点サイズを求め、該画点サイズによって符合幅を求める、
    請求項4記載の方法。
  6. 電子写真印刷機またはコピー機において画点から形成された符合の符合幅を求める方法であって、符合を形成するために、PELからなる印刷ラスタの個々のPELを符合発生器によって電荷画像担体上に露光し、トナーにより画点に現像する方法において、
    ・印刷ラスタの第1のラスタセル(RZ1)に、全面ではない第1のテストパターン(TM1)を複数の画点(DP)から形成し、該テストパターンのトナー量を測定する工程、
    ・印刷ラスタの第2のラスタセル(RZ2)に、全面ではない第2のテストパターン(TM2)を形成し、該第2のテストパターン(TM2)のトナー量を測定する工程、
    ただし前記第2のテストパターン(TM2)では、画点(DP)が第1のテストパターン(TM1)に比較して少なくとも一部で異なるPEL個所に配置されており、
    ・第1のテストパターン(TM1)と第2のテストパターン(TM2)のトナー量の比を形成し、この比を用いて画点サイズを求める工程、
    を備える方法。
  7. 画点(DP)のサイズを計算するために、以下の工程により作成されるテーブルを使用する、
    ・第1のテストパターン(TM1)を、画点サイズの異なる所定の画点(DP)により作成し、該第1のテストパターン(TM1)のトナー量を第1の測定結果として求める工程、
    ・第2のテストパターン(TM2)を、所定の画点サイズの画点(DP)により作成し、該第2のテストパターン(TM2)のトナー量を第2の測定結果として求める工程、
    ・第1の測定結果と第2の測定結果の比を形成する工程、
    ・該比を、所定の画点サイズに依存してテーブルとして記憶する工程、
    請求項6記載の方法。
  8. 符合幅を求めるために、
    ・電荷画像担体としての光電導体上に、第1と第2のテストパターン(TM1、TM2)を露光し、
    ・容量性トナーセンサにより、両方のテストパターン(TM1,TM2)のトナー量を測定し、
    ・トナー量の比を求め、
    ・該比を用いてテーブルから画点サイズを求め、該画点サイズによって符合幅を求める、請求項7記載の方法。
  9. テストパターン(TM1,TM2)を、それぞれマークとして画像担体上に取り付ける、請求項1から8までのいずれか1項に記載の方法。
  10. 第1のテストパターン(TM1)はチェス盤パターンとして実現される請求項1から9までのいずれか1項に記載の方法。
  11. 第2のテストパターン(TM2)はラインパターンとして実現される請求項10記載の方法。
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