JP2011253279A - モデル式生成方法、装置及びプログラム - Google Patents

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Abstract

【課題】SRAM設計のためのモデル式を生成するために実行するシミュレーション回数を削減する。
【解決手段】所定の指標についての平面における歩留検討対象の四辺形の頂点におけるスタティックノイズマージンSNM及びライトマージンWMのモデル式を生成する場合に、指定頂点の各々におけるSNM及びWM間の推定される関係に応じて予め設定されている重み値に応じて、初期シミュレーション回数を、指定頂点の各々におけるSNM及びWMの各々に配分し、所定パラメータ値を変動させつつ配分回数分シミュレーションを実施させる。また、初期のシミュレーション結果からモデル式を生成し、当該モデル式の近似精度評価指標値を算出し、当該モデル式が、予め定められている歩留モデル式に対する影響の有無を判定する。そして、各モデル式について、近似精度評価指標値及び歩留モデル式に対する影響の有無に応じて追加シミュレーションの要否を判定する。
【選択図】図5

Description

本技術は、SRAM(Static Random Access Memory)の設計技術に関する。
ものづくりにおける設計段階では設計条件を各種パラメータの関数(例えば目的関数、コスト関数)として表現し、目的関数を最小にするようパラメータを最適化することが行われている。SRAMの設計最適化では、数個乃至数十個のパラメータを変動させながら、対応する形状に対してSPICE(Simulation Program with Integrated Circuit Emphasis)シミュレーションによりコスト関数でコスト値を計算し、当該コスト値が最小となるような形状を探索する。但し、パラメータの個数が多い場合には、探索空間が大きくなってしまい、シミュレーションの回数が増加して合理的な時間内に最適解を得ることができないという問題がある。
なお、シミュレーション回数を削減するための技術としては、以下のような従来技術が存在する。すなわち、回路の製造プロセスや使用条件の変化による回路素子値のばらつきが回路特性に与える影響を回路シミュレーションにより解析するものであって、モンテカルロ法により決定される変動要因パラメータの分布が、設計者の要求する解析精度を満足するか否かを評価した上で変動要因パラメータ値を決定し、設計者の要求する解析精度を満足する必要最小限の回路シミュレーション回数を自動決定するというものである。但し、SRAM特有の性質を用いたものではない。
特開2003−6263号公報
従って、本技術の目的は、SRAM設計のためのモデル式を生成するために実行するシミュレーション回数を削減するための技術を提供することである。
本モデル式生成方法は、SRAM(Static Random Access Memory)におけるトランジスタのPチャネル及びNチャネルの所定の指標についての平面における歩留検討対象の四辺形の頂点における複数の目的関数のモデル式を生成する方法である。そして、この方法は、(A)指定頂点の各々における複数の目的関数間の推定される関係に応じて予め設定されている重み値に応じて、初期シミュレーション回数を、指定頂点の各々における複数の目的関数の各々に配分するステップと、(B)指定頂点の各々における複数の目的関数の各々について、所定のパラメータの値を変動させて、配分されたシミュレーション回数分シミュレーションを実施するステップと、(C)指定頂点の各々における複数の目的関数の各々について、初期のシミュレーション結果から第1のモデル式を生成すると共に、当該第1のモデル式の近似精度評価指標値を算出するステップと、(D)第1のモデル式の各々について、当該第1のモデル式が、予め定められている歩留モデル式に対する影響の有無を判定する影響判定ステップと、(E)指定頂点の各々における複数の目的関数の各々について、近似精度評価指標値及び歩留モデル式に対する影響の有無に応じて、追加のシミュレーションの要否を判定する要否判定ステップとを含む。
SRAM設計のためのモデル式を生成するために実行するシミュレーション回数を削減できるようになる。
図1は、本実施の形態におけるPN平面を説明するための図である。 図2は、本実施の形態におけるPN平面を説明するための図である。 図3は、歩留りに対する影響を説明するための図である。 図4は、歩留りに対する影響を説明するための図である。 図5は、モデル式生成装置の機能ブロック図である。 図6は、実施の形態に係る処理フローを示す図である。 図7は、シミュレーションデータ格納部に格納されるデータの一例を示す図である。 図8は、モデル式評価データ格納部に格納されるデータの一例を示す図である。 図9は、モデル式評価データ格納部に格納されるデータの一例を示す図である。 図10は、実施の形態に係る処理フローを示す図である。 図11は、歩留りに対する影響の有無の判定について説明するための図である。 図12は、モデル式評価データ格納部に格納されるデータの一例を示す図である。 図13は、コンピュータの機能ブロック図である。
まず、本技術の実施の形態に関係する平面について例えば図1を用いて説明する。この平面は、SRAMに含まれるトランジスタのPチャンネルについての所定の指標(例えば、平均値などによって正規化された、pMOSトランジスタのしきい電圧Vth)とNチャンネルについての所定の指標(例えば、平均値などによって正規化された、nMOSトランジスタのしきい電圧Vth)とによって張られる平面である。なお、このような平面については、以下の論文などで議論されており、よく知られたものである。
M. Yamaoka, K. Osada, R. Tsuchiya, M. Horiuchi, S. Kimura, and T. Kawahara, “Low power SRAM menu for SOC application using Yin-Yang-feedback memory cell technology,” Symp. VLSI Technology 2004 Dig. Tech. Papers, pp. 288-291, June 2004
本実施の形態では、このようなPN平面において指定範囲内の全ての点で歩留りψ(P,N,xi)が、ある値c以上(又は最大)となるパラメータの組xiを探索するものとする。なお、パラメータxiは、例えば、セル電圧、ロード(Load)ゲート長、ドライバ(Driver)ゲート長、トランスファー(Transfer)ゲート長、ロード幅、ドライバ幅、トランスファー幅、ワードライン(WordLine)電位、ロードのVth、ドライバのVth、トランスファーのVthなどである。
指定範囲は、例えば図1に示すように、頂点A1乃至A4をつなぐ線分で構成される四辺形(典型的には平行四辺形)で指定される。例えば、この四辺形の各頂点は、PN平面の4象限のいずれかに属するように指定されるものとする。一般に、製造プロセスなどに応じてしきい電圧Vthにはばらつきが生じてしまい、図1の頂点A1のように、例えばpMOSトランジスタのしきい電圧については平均値より大きいがnMOSトランジスタのしきい電圧については平均値よりも小さくなるようなサンプルも生ずる。四辺形によって、今回許容するVthのばらつき範囲を指定することになる。
本実施の形態では、歩留りψ(P,N,xi)を以下のように定義する。
ψ(P,N,xi)=(min(SNM(P,N,xi),WM(P,N,xi))
SNMは、スタティックノイズマージン(SNM:static noise margin)であり、WMは、ライトマージン(WM:write margin)である。SNM及びWMについてはよく知られたコスト関数であるから、これ以上述べない。これらの値については、例えばSPICEシミュレータで算出される。ψ(P,N,xi)は、SNM及びWMの両方が悪くないパラメータxiを探索するために、上記のような定義になっている。
上で述べた四辺形内の全ての点で歩留りψ(P,N,xi)≧cとなっているかを確認すると大変な計算量となるので、4頂点A1乃至A4を評価してこれらの頂点A1乃至A4でψ(P,N,xi)≧cとなるパラメータの組xiを特定することにする。
例えば、座標A1=(2,−2)、A2=(−3,−3)、A3=(3,3)、A4=(−2,2)が指定されたものとする。
この場合、4頂点A1乃至A4でψ(P,N,xi)≧cが満たされるということは、以下のように表される。
Figure 2011253279
φb(xi)は、四辺形の全ての頂点でSNM及びWMが悪くならない、すなわちリードもライトも両方とも適切に行うことができるパラメータxiの組を探索するために定義されている。また、このように1頂点あたり2つのSNM及びWMをモデル化するため、φbの判定を行うために8セット分のシミュレーションが必要となる。
しかしながら、典型的には、図2に示すように各頂点には以下で述べるような特徴があるため、φb(xi)を簡略化することが可能である。すなわち、四辺形の右下の頂点A1では典型的にはWM≫SNM(WMの方が非常に大きい)という関係が成り立つのでSNMについて考慮すれば良く、四辺形の左下の頂点A2では典型的にはWM>SNMという関係が成り立つのでSNMについて考慮すれば良く、四辺形の右上の頂点A3では典型的にはWM<SNMという関係が成り立つのでWMについて考慮すれば良く、四辺形の左上の頂点A4では典型的にはWM≪SNM(WMの方が非常に小さい)という関係が成り立つのでWMについて考慮すれば良い。このため、φb(xi)は、このような関係が成り立てば以下のように表される。
φb(xi)=min(WM(3,3,xi),SNM(-3,-3,xi),SNM(2,-2,xi),WM(-2,2,xi))≧c (2)
さらに、典型的には、以下のような傾向もあることが分かっている。
WM(−2,2)<WM(3,3)
(すなわち四辺形の左上の頂点A4のWM<四辺形の右上の頂点A3のWM)
SNM(2,−2)<SNM(−3,−3)
(すなわち四辺形の右下の頂点A1のSNM<四辺形の左下の頂点A2のSNM)
このような傾向が該当することが分かっていれば、上で示したφb(xi)をさらに簡略化することも可能である。
しかしながら、このような傾向があるのは典型的な場合だけであって、必ずこのようになっているわけではなく、結果としてそのようになっていることが確認されるだけである。従って、(1)式を満たすパラメータxiの組を探索する必要がある。従来では、遺伝的アルゴリズムなどを用いて目的関数を(1)式のように定義して各パラメータxiを最適化していた。
一般に、SRAMの形状設計では、モデル誤差が許されず、高い精度でのモデル化が必要とされる。しかしながら、精度が求められるのはφb(xi)に影響する部分だけである。
φb(xi)に対する影響の有無は、例えば図3及び図4のように示される。図3及び図4では、横軸はパラメータxiを表し、縦軸はSNM又はWMの値を表す。φb(xi)は、小さい方の値が採用される関数であるから、図3のようにパラメータxiに対してSNM又はWMが直線a及びbのように表される場合には、直線aは一部直線bより小さく、直線bは一部直線aより小さくなる。このような場合には、直線a及びbはφb(xi)に対する影響があると判断される。一方、図4のように、常に直線cの方が直線dよりも小さい場合には、直線dはφb(xi)に対して影響はない。このように影響がないようなコスト関数(すなわちφb(xi)に出現する、各頂点のWM及びSNM)についてはモデル化の精度を落としてもほとんど問題が生じない。
本実施の形態では、図2に示したような傾向に基づき初期シミュレーション回数をコスト関数に加重配分した上で、φb(xi)に対する影響の有無及び近似精度を確認することで、シミュレーション回数の加重配分に対する妥当性を判断し、妥当でないコスト関数については追加のシミュレーションを実施してモデル式を生成し直すようにする。
具体的な実施の形態を、図5乃至図12を用いて説明する。
図5に、本実施の形態におけるモデル式生成装置の機能ブロック図を示す。モデル式生成装置は、(A)ユーザからの入力を受け付ける入力部101と、(B)入力部101により受け付けられた設定データを格納する設定データ格納部103と、(C)設定データ格納部103に格納されているデータを用いてシミュレータ200に対する制御などを行うシミュレーション制御部105と、(D)シミュレーション制御部105により用いられるデータ及び処理結果を格納するシミュレーションデータ格納部107と、(E)シミュレーションデータ格納部107に格納されているデータを用いてモデル式の生成などを実施するモデル式生成部109と、(F)モデル式生成部109によって生成されたモデル式などのデータを格納するモデル式評価データ格納部111と、(G)モデル式評価データ格納部111及び設定データ格納部103に格納されているデータなどを用い且つQE(Quantifier Elimination)ツール300と連携して評価処理を実施する評価部113とを有する。評価部113は、モデル式の再生成を必要とする場合には、シミュレーション制御部105に指示を出力する。シミュレーション制御部105は、追加のシミュレーションを実施した場合には、モデル式の生成を再度行うようにモデル式生成部109に指示する。シミュレータ200及びQEツール300については、モデル式生成装置に含まれる場合もあれば、他の装置に実施されているシミュレータ200及びQEツール300を利用する場合もある。
QEツール300は、例えば∃x(x2+bx+c=0)という数式を、限定子(∃及び∀)を除去した等価な式b2−4c≧0に変形し、すべての変数に限定子がついている決定問題では、処理や条件に従った実行可能領域が存在するか否かを判定する限定子除去処理等を実施するモジュールである。
具体的には、以下の文献を参照のこと。但し、QEについての文献は多数存在しているので、以下の文献以外でも有用な文献は存在している。
数学セミナー 穴井宏和・横山和弘「計算実代数幾何入門」 日本評論社出版。第1回 CAD(Cylindrical Algebraic Decomposition)とQEの概要(2007年11月号)、第2回 QEによる最適化とその応用(2007年12月号)、第3回 CADアルゴリズム(前半)(2008年1月号)、第4回 CADアルゴリズム(後半)(2008年3月号)、第5回 CADによるQE(2008年4月号)。
雑誌FUJITSU2009-9月号,穴井 宏和, 金児 純司, 屋並 仁史, 岩根 秀直,「数式処理を用いた設計技術」(http://img.jp.fujitsu.com/downloads/jp/jmag/vol60-5/paper24.pdfから2009年10月取得可能)
Mats Jirstrand: Cylindrical Algebraic Decomposition - an Introduction,1995−10−18(http://www.control.isy.liu.se/research/reports/1995/1807.ps.Zから2009年10月取得可能)
また、QEは、例えば株式会社富士通研究所開発のSyNRAC等で既に実装されている技術である。
また、シミュレータ200は、SPICEシミュレータである。SPICEシミュレータは周知であるから、これ以上述べない。
次に、図6乃至図12を用いて、図5に示したモデル式生成装置の動作について説明する。まず、モデル式の生成を行うユーザは、モデル式生成装置の入力部101に対して、PN平面における四辺形の4頂点の座標、パラメータxiの変動幅Vi、初期シミュレーション回数及び初期シミュレーション回数に対する重み設定値wjを入力する。入力部101は、これらのデータの入力を受け付け、設定データ格納部103に格納する(ステップS1)。そして、シミュレーション制御部105は、設定データ格納部103に格納されている初期シミュレーション回数及び初期シミュレーション回数に対する重み設定値から、4頂点のコスト関数(SNM及びWM)のそれぞれに、重み設定値wjに応じて初期シミュレーション回数を配分し、配分結果のデータを例えばシミュレーションデータ格納部107に格納する(ステップS3)。
例えば重み設定値w1=0.5、w2=0.25、w3=0.15、w4=0.1と入力されたものとする。なお、w1+w2+w3+w4=1となるように設定している。また、4頂点については上で述べた例のとおりに入力されたものとする。さらに、図2に示したようなコスト関数間の大小関係が予測される場合には、頂点A1及びA2とは大小関係の強弱はあるが同様の傾向を示しており、同じく頂点A3及びA4とは大小関係の強弱はあるが同様の傾向を示しているので、初期シミュレーション回数を2つに分けて考える。
また、頂点A1のSNM≪頂点A1のWMと、頂点A2のSNM<頂点A2のWMという関係だけではなく、頂点A1のSNM<頂点A2のSNMという関係も推定されているので、小さい順に頂点A1のSNM、頂点A2のSNM、頂点A2のWM、頂点A1のWMということが推定される。従って、初期シミュレーション回数Nを以下のように配分する。
頂点A1のSNM:w1*N/2
頂点A2のSNM:w2*N/2
頂点A2のWM:w3*N/2
頂点A1のWM:w4*N/2
同様に、頂点A3のWM<頂点A3のSNM、頂点A4のWM≪頂点A4のSNMという関係だけではなく、頂点A4のWM<頂点A3のWMという関係も推定されているので、小さい順に、頂点A4のWM、頂点A3のWM、頂点A3のSNM、頂点A4のSNMということが推定される。従って、初期シミュレーション回数Nを以下のように配分する。
頂点A4のWM:w1*N/2
頂点A3のWM:w2*N/2
頂点A3のSNM:w3*N/2
頂点A4のSNM:w4*N/2
このように計算された各頂点の各コスト関数に対する配分データを、シミュレーションデータ格納部107に格納する。
次に、シミュレーション制御部105は、4頂点のコスト関数(SNM及びWM)のそれぞれについて、パラメータ値セットを配分シミュレーション回数分生成して、シミュレーションデータ格納部107に格納する(ステップS5)。この処理については、例えばLatin Hypercube法等のよく知られた方法で、設定データ格納部103に格納されている変動範囲Vi内で各パラメータxiの値を生成して、シミュレーションデータ格納部107に格納する。例えば、図7に示すようなデータが格納される。図7の例では、頂点とコスト関数との組み合わせ毎に、xi(ここでは1≦i≦n)の値と、シミュレーション結果とを登録するようにしている。頂点とコスト関数との各組み合わせについて生成されるパラメータ値セットの数は、上で述べたとおり初期シミュレーション回数の配分に従う。なお、シミュレーション結果は、ステップS5ではまだ登録されない。
そして、シミュレーション制御部105は、図7に示すような各レコードについて、頂点(p,n)及びパラメータ値セットとコスト関数種別とを指定してシミュレータ200に対してシミュレーションを実施させ、シミュレーション結果(コスト関数SNMの値又はWMの値)を取得し、シミュレーション結果をシミュレーションデータ格納部107に格納する(ステップS7)。
この後、モデル式生成部109は、シミュレーションデータ格納部107に格納されているパラメータ値セット及びシミュレーション結果を用いて、4頂点のコスト関数のそれぞれについて、モデル式を生成し、モデル式のデータをモデル式評価データ格納部111に格納する(ステップS9)。モデル式の生成は、例えば最小二乗法などのよく知られた方法で行われるので、これ以上の説明は省略する。なお、モデル式評価データ格納部111には、模式的には、例えば図8に示すようなデータが格納される。図8の例では、頂点とコスト関数との組み合わせ毎に、モデル式と、近似精度評価指標値と、歩留りφb(xi)に対する影響の有無とを登録するようになっている。なお、ステップS9では、モデル式だけが登録される。また、図8の例では、モデル式については簡略化した形で例えばSNMA1(xi)やWMA1(xi)のように示しているが、例えば予め定められている変数xiの項の係数値を登録する。
さらに、モデル式生成部109(又は評価部113)は、各モデル式の近似精度評価指標値を算出し、モデル式評価データ格納部111に格納する(ステップS11)。近似精度評価指標値は、例えば相関係数である。相関係数でない場合にも、例えば、ステップS5で生成され且つモデル式生成に用いられたパラメータ値セットをモデル式に代入して算出される関数値とシミュレーション結果との差の二乗和といったような近似精度評価指標を採用しても良い。ステップS11を実行すると、例えば図9に示すようなデータがモデル式評価データ格納部111に格納される。すなわち、生成された各モデル式について、近似精度評価指標値が格納される。処理は、端子Aを介して図10の処理に移行する。
図10の処理の説明に移行して、評価部113は、モデル式評価データ格納部111に格納されているデータを用いて、各モデル式について、歩留りφb(xi)に対する影響の有無を判定する(ステップS13)。具体的には、他のモデル式よりも大きくなることがない式であるか否かを判定する。例えば図11に示すように、横軸がパラメータxiを表し、横軸がSNM又はWMを表すものとして、モデル式を表す直線p乃至uまでが得られたとする。このとき、例えばSNMA1(xi)が直線pに相当する場合には、直線qより常に大きく、また直線rと直線sよりも大きい場合がある。従って、直線pは、各モデル式の最も小さい値となる歩留りφb(xi)に影響なしと判断できる。なお、直線は一例であって曲線が得られる場合でも同様である。
このような判断は、評価部113が、以下のようなQE問題を生成して、QEツール300に出力して、その解が「true」であるか「false」であるかを判断する。なお、SNWA1(xi)について判定するためのQE問題である。
なお、各変数の範囲をViとすると、D(xi)はx1∈V1かつx2∈V2かつ...xn∈Vnと定義される。但し、D(x1,x2)=(x1 2+x2 2≦1)のように単位円の中に入る場合と定義することもできる。
(a)SNMA1(xi)
∀xi(D(xi)⇒SNMA1(xi)≧SNMA2(xi)∨SNMA1(xi)≧SNMA3(xi)∨SNMA1(xi)≧SNMA4(xi)∨SNMA1(xi)≧WMA1(xi)∨SNMA1(xi)≧WMA2(xi)∨SNMA1(xi)≧WMA3(xi)∨SNMA1(xi)≧WMA4(xi)) (3)
QE問題の解が「true」であれば、「影響なし」と判定される。一方、「false」であれば、「影響あり」と判定される。
同様に、以下のようなQE問題を生成して、QEツール300に処理を指示する。
(b)SNMA2(xi)
∀xi(D(xi)⇒SNMA2(xi)≧SNMA1(xi)∨SNMA2(xi)≧SNMA3(xi)∨SNMA2(xi)≧SNMA4(xi)∨SNMA2(xi)≧WMA1(xi)∨SNMA2(xi)≧WMA2(xi)∨SNMA2(xi)≧WMA3(xi)∨SNMA2(xi)≧WMA4(xi))
(c)SNMA3(xi)
∀xi(D(xi)⇒SNMA3(xi)≧SNMA1(xi)∨SNMA3(xi)≧SNMA2(xi)∨SNMA3(xi)≧SNMA4(xi)∨SNMA3(xi)≧WMA1(xi)∨SNMA3(xi)≧WMA2(xi)∨SNMA3(xi)≧WMA3(xi)∨SNMA3(xi)≧WMA4(xi))
(d)SNMA4(xi)
∀xi(D(xi)⇒SNMA4(xi)≧SNMA1(xi)∨SNMA4(xi)≧SNMA2(xi)∨SNMA4(xi)≧SNMA3(xi)∨SNMA4(xi)≧WMA1(xi)∨SNMA4(xi)≧WMA2(xi)∨SNMA4(xi)≧WMA3(xi)∨SNMA4(xi)≧WMA4(xi))
(e)WMA1(xi)
∀xi(D(xi)⇒WMA1(xi)≧SNMA1(xi)∨WMA1(xi)≧SNMA2(xi)∨WMA1(xi)≧SNMA3(xi)∨WMA1(xi)≧SNMA4(xi)∨WMA1(xi)≧WMA2(xi)∨WMA1(xi)≧WMA3(xi)∨WMA1(xi)≧WMA4(xi))
(f)WMA2(xi)
∀xi(D(xi)⇒WMA2(xi)≧SNMA1(xi)∨WMA2(xi)≧SNMA2(xi)∨WMA2(xi)≧SNMA3(xi)∨WMA2(xi)≧SNMA4(xi)∨WMA2(xi)≧WMA1(xi)∨WMA2(xi)≧WMA3(xi)∨WMA2(xi)≧WMA4(xi))
(g)WMA3(xi)
∀xi(D(xi)⇒WMA3(xi)≧SNMA1(xi)∨WMA3(xi)≧SNMA2(xi)∨WMA3(xi)≧SNMA3(xi)∨WMA3(xi)≧SNMA4(xi)∨WMA3(xi)≧WMA1(xi)∨WMA3(xi)≧WMA2(xi)∨WMA3(xi)≧WMA4(xi))
(h)WMA4(xi)
∀xi(D(xi)⇒WMA4(xi)≧SNMA1(xi)∨WMA4(xi)≧SNMA2(xi)∨WMA4(xi)≧SNMA3(xi)∨WMA4(xi)≧SNMA4(xi)∨WMA4(xi)≧WMA1(xi)∨WMA4(xi)≧WMA2(xi)∨WMA4(xi)≧WMA3(xi))
このような処理を実施した結果は、モデル式評価データ格納部111に格納される。ステップS13まで実施した場合には、例えば図12に示すようなデータが格納される。図12の例では、SNMA1、WMA3及びWMA4について「影響あり」と判定される。
そして、評価部113は、各モデル式について、影響の有無と近似評価指標値との関係から追加シミュレーションの必要性について判定し、モデル式評価データ格納部111に格納する(ステップS15)。予め「影響なし」について近似精度評価指標値に対する第1の閾値(例えば「0.80」)と「影響あり」について近似精度評価指標値に対する第2の閾値(例えば「0.95」)を設定しておき、これらを用いて判定を追加シミュレーションの必要性について行う。
図12の例では、SNMA1(xi)については「影響あり」であるから、第2の閾値「0.95」が適用されるが近似精度評価指標値「0.99」であるから、追加シミュレーションは必要なしと判定される。SNMA2(xi)については「影響なし」であるから、第1の閾値「0.80」が適用されるが近似精度評価指標値「0.90」なので、追加シミュレーションは必要なしと判定される。SNMA3(xi)については「影響なし」であるから、第1の閾値「0.80」が適用されるが近似精度評価指標値「0.80」なので、追加シミュレーションは必要なしと判定される。SNMA4(xi)については「影響なし」であるから、第1の閾値「0.80」が適用されるが近似精度評価指標値「0.88」なので、追加シミュレーションは必要なしと判定される。
WMA1(xi)については「影響なし」であるから、第1の閾値「0.80」が適用されるが近似精度評価指標値「0.95」なので、追加シミュレーションは必要なしと判定される。WMA2(xi)については「影響なし」であるから、第1の閾値「0.80」が適用されるが近似精度評価指標値「0.50」なので、第1の閾値を下回っており、追加シミュレーションは必要ありと判定される。WMA3(xi)については「影響あり」であるから、第2の閾値「0.95」が適用されるが近似精度評価指標値「0.99」なので、追加シミュレーションは必要なしと判定される。WMA4(xi)については「影響あり」であるから、第2の閾値「0.95」が適用されるが近似精度評価指標値「0.99」なので、追加シミュレーションは必要なしと判定される。
このように図12の例では、WMA2(xi)について追加シミュレーションが必要となる。
評価部113は、追加シミュレーションが必要なモデル式が存在しているか判断し(ステップS17)、追加シミュレーションが必要なモデル式が存在していない場合には、歩留りφb(xi)に対する影響の有無に応じた十分な近似精度を有するモデル式が生成されているので、処理を終了する。
一方、追加シミュレーションが必要なモデル式が存在する場合には、評価部113は、シミュレーション制御部105に、追加シミュレーションが必要なモデル式に係る頂点及びコスト関数種別について通知する。
シミュレーション制御部105は、評価部113からの通知に応じて、追加シミュレーションが必要なモデル式に係る頂点及びコスト関数について、追加のパラメータ値セットを所定数生成し、シミュレーションデータ格納部107に格納する(ステップS19)。このステップにおける所定数は、どのような頂点及びコスト関数についても同じであっても良い。例えば、初期シミュレーション回数Nの所定割合(例えば10%)を追加するようにしても良い。さらに、SRAM特有の性質を用いてシミュレーション回数を決定する手法が存在しているので、このような方法を用いるようにしても良い。また、初期配分の所定の割合だけ追加するようにしてもよい。
なお、より効率的にこのステップを実施するためには、例えば特願2008−294943号に開示されている技術を用いることができる。この出願には、以下のような技術が開示されている。すなわち、スタティックランダムアクセスメモリ形状等の設計パラメータの組を複数組入力して、所定の計算に基づいて複数の目的関数、例えばスタティックノイズマージン(SNM)やライトマージン(WM)等の目的関数の各値を計算しながら多目的最適化処理を実行することにより、最適な設計パラメータの組の決定を支援する。具体的には、初期入力設計パラメータサンプル組群決定部は、第1の所定組数の設計パラメータのサンプルの組を、複数の目的関数毎の初期の入力設計パラメータサンプル組群として決定する。第1の目的関数モデル化部は、複数の目的関数毎に、入力設計パラメータサンプル組群に対して複数の目的関数の各値を計算しながら、複数の目的関数をそれぞれ数式近似によりモデル化して第1のモデル化目的関数を算出する。重み決定部は、複数の目的関数の各値毎に、その値が、精度を要する範囲として指定された値域に含まれるか否か、及びその値を算出した入力設計パラメータサンプル組に対応する他のどの目的関数又は第1のモデル化目的関数の値よりも小さいか否かに応じて、重みを決定する。
第2の目的関数モデル化部は、入力設計パラメータサンプル組とそのサンプル組に対応して計算された複数の目的関数の各値とに基づいて、複数の目的関数の各値毎に決定された重みに応じたモデル化を行いながら、複数の目的関数をそれぞれ数式近似により再度モデル化して第2のモデル化目的関数を算出する。精度条件判定部は、複数の第2のモデル化目的関数毎に、第2の目的関数モデル化部において計算される各精度情報が指定された精度条件を満たすか否かを判定する。出力モデル化目的関数決定部は、精度条件判定部が精度条件を満たすとの第1の判定をした場合に、その第1の判定対象とされた第2のモデル化目的関数を、最適な設計パラメータの組を計算するための出力モデル化目的関数として決定する。モデル化目的関数値計算部は、精度条件判定部が精度条件を満たさないとの第2の判定をした場合に、第1の所定組数よりも多量の第2の所定組数の設計パラメータのサンプルの組に対して、第2の判定対象となった第2のモデル化目的関数の各値を計算する。逆像計算部は、その計算された第2のモデル化目的関数の各値について、その値が、精度を要する範囲として指定された値域に含まれ、かつその値に対応する設計パラメータのサンプルの組から計算される他のどの第2のモデル化目的関数の値よりも小さいときに、その値を算出した設計パラメータのサンプルの組をその値に対応する目的関数に対応させて記憶する。モデル化繰返し制御部は、第2の判定対象となった第2のモデル化目的関数に対応する目的関数毎に、現在の入力設計パラメータサンプル組群とその目的関数に対応して逆像計算部にて記憶されている設計パラメータのサンプルの組とに基づいて、新たな入力設計パラメータサンプル組群を決定し第1の目的関数モデル化部に入力させて、その第1の目的関数モデル化部、重み決定部、第2の目的関数モデル化部、及び精度条件判定部の動作を繰り返し実行させる。上述の態様の構成において、第1及び第2の目的関数モデル化部は例えば、入力設計パラメータサンプル組とそのサンプル組に対応して計算された複数の目的関数の各値とに基づいて、線形回帰分析により、目的関数を線形回帰式により多項式近似する。
そして、シミュレーション制御部105は、追加で生成されたパラメータ値セットの各々について、シミュレータ200にシミュレーションを実施させ、シミュレーション結果を取得して、シミュレーションデータ格納部107に格納する(ステップS21)。ステップS19及びS21で生成されたデータは、例えば図7に示すようなデータフォーマットで、シミュレーションデータ格納部107に格納される。
その後、シミュレーション制御部105は、追加シミュレーションが必要な頂点及びコスト関数種別を、モデル式生成部109に通知して該当するモデル式の再生成を要求する。モデル式生成部109は、シミュレーション制御部105からの通知に応じて、追加シミュレーションが必要な頂点及びコスト関数種別に係るモデル式を再生成し、モデル式評価データ格納部111に格納する(ステップS23)。追加で生成したシミュレーション結果と前に生成してあるシミュレーション結果とを利用して、例えば最小二乗法等によりモデル式を再生成する。そして、ステップS13に戻る。
このような処理を実施して、近似精度評価指標値を向上させる。なお、モデル式が変化すると、歩留りφb(xi)に対する影響の有無の判定についても変化する可能性があるので、ステップS13に戻って、全てのモデル式について歩留りφb(xi)に対する影響の有無を判定する。
以上のような処理を実施することによって、初期シミュレーション回数をPN平面における特性に応じて重み付け配分しているので、全てを同じような精度を保持しつつ平等に配分する場合に比して、全体のシミュレーション回数を削減できる。なお、必要であれば追加シミュレーションを実施するので効率的なシミュレーションが行われるようになる。これによって、処理時間も短縮される。
以上本技術の実施の形態を説明したが、本技術はこれに限定されるものではない。例えば、図5に示した機能ブロック図は一例であって、必ずしも実際のプログラムモジュール構成とは一致しない。
なお、上で述べたモデル生成装置は、コンピュータ装置であって、図13に示すように、メモリ2501とCPU2503とハードディスク・ドライブ(HDD)2505と表示装置2509に接続される表示制御部2507とリムーバブル・ディスク2511用のドライブ装置2513と入力装置2515とネットワークに接続するための通信制御部2517とがバス2519で接続されている。オペレーティング・システム(OS:Operating System)及び本実施例における処理を実施するためのアプリケーション・プログラムは、HDD2505に格納されており、CPU2503により実行される際にはHDD2505からメモリ2501に読み出される。必要に応じてCPU2503は、表示制御部2507、通信制御部2517、ドライブ装置2513を制御して、必要な動作を行わせる。また、処理途中のデータについては、メモリ2501に格納され、必要があればHDD2505に格納される。本技術の実施例では、上で述べた処理を実施するためのアプリケーション・プログラムはコンピュータ読み取り可能なリムーバブル・ディスク2511に格納されて頒布され、ドライブ装置2513からHDD2505にインストールされる。インターネットなどのネットワーク及び通信制御部2517を経由して、HDD2505にインストールされる場合もある。このようなコンピュータ装置は、上で述べたCPU2503、メモリ2501などのハードウエアとOS及び必要なアプリケーション・プログラムとが有機的に協働することにより、上で述べたような各種機能を実現する。
以上述べた本実施の形態をまとめると、以下のようになる。
本モデル式生成方法は、SRAM(Static Random Access Memory)におけるトランジスタのPチャネル及びNチャネルの所定の指標についての平面における歩留検討対象の四辺形の頂点(場合によっては、空間における歩留検討対象の立体等の頂点)における複数の目的関数(例えばSNM及びWM)のモデル式を生成する方法である。そして、この方法は、(A)指定頂点の各々における複数の目的関数間の推定される関係に応じて予め設定されている重み値に応じて、初期シミュレーション回数を、指定頂点の各々における複数の目的関数の各々に配分するステップと、(B)指定頂点の各々における複数の目的関数の各々について、所定のパラメータの値を変動させて、配分されたシミュレーション回数分シミュレーションを実施させるステップ(シミュレーション自体は、他のコンピュータ等で実施されることもある。また、この方法を実行するためのプログラムにはシミュレータは含まれない場合もある)と、(C)指定頂点の各々における複数の目的関数の各々について、初期のシミュレーション結果から第1のモデル式を生成すると共に、当該第1のモデル式の近似精度評価指標値を算出するステップと、(D)第1のモデル式の各々について、当該第1のモデル式が、予め定められている歩留モデル式に対する影響の有無を判定する影響判定ステップと、(E)指定頂点の各々における複数の目的関数の各々について、近似精度評価指標値及び歩留モデル式に対する影響の有無に応じて、追加のシミュレーションの要否を判定する要否判定ステップとを含む。
重み値に応じて初期シミュレーション回数を配分した結果歩留モデル式に対する影響の有無に応じた適切な精度でモデル式が生成できていれば、指定頂点の各々における複数の目的関数の各々に平等に配分するよりも全体のシミュレーション回数を削減することができる。なお、近似精度不足が見出されても、追加シミュレーション回数を適切に決定すれば、全体のシミュレーション回数を削減できる。
なお、上で述べた近似精度評価指標値が相関係数である場合もある。他の誤差を表す指標であってもよい。
さらに、上で述べた影響判定ステップが、第1のモデル式における注目モデル式が、注目モデル式以外の第1のモデル式のいずれか以上という関係を所定のパラメータの全てについて満たすか否かを、限定子除去法によって判断するステップを含むようにしてもよい。このようにすれば、高精度が必要であるか否かを容易に判断できるようになる。
さらに、上で述べた要否判定ステップが、歩留モデル式に対する影響がある場合には、近似精度評価指標値が第1の閾値以上であるか判断するステップと、歩留モデル式に対する影響がない場合には、近似精度評価指標値が第1の閾値より低い第2の閾値以上であるか判断するステップとを含むようにしてもよい。影響がある場合には高い近似精度を求め、影響がない場合には低い近似精度でも問題ないと判断するものである。但し、あまりに近似精度が低いと、歩留モデル式に対する影響の有無の判定自体が疑われるので第2の閾値も設定している。
さらに、本モデル式生成方法が、(F)要否判定ステップにおいて追加シミュレーションが必要と判断された特定の指定頂点における複数の目的関数のうちいずれかである特定のコストについて、所定のパラメータの値を変動させて、追加シミュレーション回数分追加シミュレーションを実施させるステップと、(G)要否判定ステップにおいて追加シミュレーションが必要と判断された特定の指定頂点における特定のコストについて、追加シミュレーションの結果及び初期のシミュレーション結果から第2のモデル式を生成するステップと、(H)第2のモデル式について第2の精度評価指標値を算出するステップとをさらに含む場合もある。その場合、特定の指定頂点における特定のコストについては第2のモデル式及び第2の近似精度評価指標値を第1のモデル式及び近似精度評価指標値の代わりに用いて、影響判定ステップ及び要否判定ステップを実行するようにしてもよい。このようにすれば、精度が改善したモデル式が生成できるようになる。
なお、上で述べたような処理をコンピュータに実施させるためのプログラムを作成することができ、当該プログラムは、例えばフレキシブル・ディスク、CD−ROM、光磁気ディスク、半導体メモリ(例えばROM)、ハードディスク等のコンピュータ読み取り可能な記憶媒体又は記憶装置に格納される。なお、処理途中のデータについては、RAM等の記憶装置に一時保管される。
以上の実施例を含む実施形態に関し、さらに以下の付記を開示する。
(付記1)
SRAM(Static Random Access Memory)におけるトランジスタのPチャネル及びNチャネルの所定の指標についての平面における歩留検討対象の四辺形の頂点における複数の目的関数のモデル式を生成するためのプログラムであって、
指定頂点の各々における前記複数の目的関数間の推定される関係に応じて予め設定されている重み値に応じて、初期シミュレーション回数を、前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々に配分するステップと、
前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、所定のパラメータの値を変動させて、配分されたシミュレーション回数分シミュレーションを実施するステップと、
前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、初期のシミュレーション結果から第1のモデル式を生成すると共に、当該第1のモデル式の近似精度評価指標値を算出するステップと、
前記第1のモデル式の各々について、当該第1のモデル式が、予め定められている歩留モデル式に対する影響の有無を判定する影響判定ステップと、
前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、前記近似精度評価指標値及び前記歩留モデル式に対する影響の有無に応じて、追加のシミュレーションの要否を判定する要否判定ステップと、
を、コンピュータに実行させるためのプログラム。
(付記2)
前記近似精度評価指標値が相関係数である
付記1記載のプログラム。
(付記3)
前記影響判定ステップが
前記第1のモデル式における注目モデル式が、前記注目モデル式以外の前記第1のモデル式のいずれか以上という関係を前記所定のパラメータの全てについて満たすか否かを、限定子除去法によって判断するステップ
を含む付記1又は2記載のプログラム。
(付記4)
前記要否判定ステップが、
前記歩留モデル式に対する影響がある場合には、前記近似精度評価指標値が第1の閾値以上であるか判断するステップと、
前記歩留モデル式に対する影響がない場合には、前記近似精度評価指標値が前記第1の閾値より低い第2の閾値以上であるか判断するステップと、
を含む付記1乃至3のいずれか1つ記載のプログラム。
(付記5)
前記要否判定ステップにおいて追加シミュレーションが必要と判断された特定の指定頂点における前記複数の目的関数のいずれかである特定のコストについて、所定のパラメータの値を変動させて、追加シミュレーション回数分追加シミュレーションを実施するステップと、
前記要否判定ステップにおいて追加シミュレーションが必要と判断された前記特定の指定頂点における前記特定のコストについて、前記追加シミュレーションの結果及び前記初期のシミュレーション結果から第2のモデル式を生成するステップと、
前記第2のモデル式について第2の近似精度評価指標値を算出するステップと、
をさらに実行させ、
前記特定の指定頂点における前記特定のコストについては前記第2のモデル式及び前記第2の近似精度評価指標値を前記第1のモデル式及び前記近似精度評価指標値の代わりに用いて、前記影響判定ステップ及び前記要否判定ステップを実行する
付記1乃至4のいずれか1つ記載のプログラム。
(付記6)
SRAM(Static Random Access Memory)におけるトランジスタのPチャネル及びNチャネルの所定の指標についての平面における歩留検討対象の四辺形の頂点における複数の目的関数のモデル式を生成するモデル式生成方法であって、
指定頂点の各々における前記複数の目的関数間の推定される関係に応じて予め設定されている重み値に応じて、初期シミュレーション回数を、前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々に配分するステップと、
前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、所定のパラメータの値を変動させて、配分されたシミュレーション回数分シミュレーションを実施するステップと、
前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、シミュレーション結果から第1のモデル式を生成すると共に、当該第1のモデル式の近似精度評価指標値を算出するステップと、
前記第1のモデル式の各々について、当該第1のモデル式が、予め定められている歩留モデル式に対する影響の有無を判定する影響判定ステップと、
前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、前記近似精度評価指標値及び前記歩留モデル式に対する影響の有無に応じて、追加のシミュレーションの要否を判定する要否判定ステップと、
を含み、コンピュータにより実行されるモデル式生成方法。
(付記7)
SRAM(Static Random Access Memory)におけるトランジスタのPチャネル及びNチャネルの所定の指標についての平面における歩留検討対象の四辺形の頂点における複数の目的関数のモデル式を生成するモデル式生成装置であって、
指定頂点の各々における前記複数の目的関数間の推定される関係に応じて予め設定されている重み値に応じて、初期シミュレーション回数を、前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々に配分し、前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、所定のパラメータの値を変動させて、配分されたシミュレーション回数分シミュレーションを実施させるシミュレーション制御部と、
前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、シミュレーション結果から第1のモデル式を生成するモデル式生成部と、
前記第1のモデル式の各々について、当該第1のモデル式の近似精度評価指標値を算出すると共に、当該第1のモデル式が、予め定められている歩留モデル式に対する影響の有無を判定し、前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、前記近似精度評価指標値及び前記歩留モデル式に対する影響の有無に応じて、追加のシミュレーションの要否を判定する評価部と、
を有するモデル式生成装置。
101 入力部 103 設定データ格納部
105 シミュレーション制御部 107 シミュレーションデータ格納部
109 モデル式生成部 111 モデル式評価データ格納部
113 評価部 200 シミュレータ 300 QEツール

Claims (6)

  1. SRAM(Static Random Access Memory)におけるトランジスタのPチャネル及びNチャネルの所定の指標についての平面における歩留検討対象の四辺形の頂点における複数の目的関数のモデル式を生成するためのプログラムであって、
    指定頂点の各々における前記複数の目的関数間の推定される関係に応じて予め設定されている重み値に応じて、初期シミュレーション回数を、前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々に配分するステップと、
    前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、所定のパラメータの値を変動させて、配分されたシミュレーション回数分シミュレーションを実施するステップと、
    前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、初期のシミュレーション結果から第1のモデル式を生成すると共に、当該第1のモデル式の近似精度評価指標値を算出するステップと、
    前記第1のモデル式の各々について、当該第1のモデル式が、予め定められている歩留モデル式に対する影響の有無を判定する影響判定ステップと、
    前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、前記近似精度評価指標値及び前記歩留モデル式に対する影響の有無に応じて、追加のシミュレーションの要否を判定する要否判定ステップと、
    を、コンピュータに実行させるためのプログラム。
  2. 前記影響判定ステップが
    前記第1のモデル式における注目モデル式が、前記注目モデル式以外の前記第1のモデル式のいずれか以上という関係を前記所定のパラメータの全てについて満たすか否かを、限定子除去法によって判断するステップ
    を含む請求項1記載のプログラム。
  3. 前記要否判定ステップが、
    前記歩留モデル式に対する影響がある場合には、前記近似精度評価指標値が第1の閾値以上であるか判断するステップと、
    前記歩留モデル式に対する影響がない場合には、前記近似精度評価指標値が前記第1の閾値より低い第2の閾値以上であるか判断するステップと、
    を含む請求項1又は2記載のプログラム。
  4. 前記要否判定ステップにおいて追加シミュレーションが必要と判断された特定の指定頂点における前記複数の目的関数のいずれかである特定のコストについて、所定のパラメータの値を変動させて、追加シミュレーション回数分追加シミュレーションを実施させるステップと、
    前記要否判定ステップにおいて追加シミュレーションが必要と判断された前記特定の指定頂点における前記特定のコストについて、前記追加シミュレーションの結果及び前記初期のシミュレーション結果から第2のモデル式を生成するステップと、
    前記第2のモデル式について第2の近似精度評価指標値を算出するステップと、
    をさらに実行させ、
    前記特定の指定頂点における前記特定のコストについては前記第2のモデル式及び前記第2の近似精度評価指標値を前記第1のモデル式及び前記近似精度評価指標値の代わりに用いて、前記影響判定ステップ及び前記要否判定ステップを実行する
    請求項1乃至3のいずれか1つ記載のプログラム。
  5. SRAM(Static Random Access Memory)におけるトランジスタのPチャネル及びNチャネルの所定の指標についての平面における歩留検討対象の四辺形の頂点における複数の目的関数のモデル式を生成するモデル式生成方法であって、
    指定頂点の各々における前記複数の目的関数間の推定される関係に応じて予め設定されている重み値に応じて、初期シミュレーション回数を、前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々に配分するステップと、
    前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、所定のパラメータの値を変動させて、配分されたシミュレーション回数分シミュレーションを実施するステップと、
    前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、シミュレーション結果から第1のモデル式を生成すると共に、当該第1のモデル式の近似精度評価指標値を算出するステップと、
    前記第1のモデル式の各々について、当該第1のモデル式が、予め定められている歩留モデル式に対する影響の有無を判定する影響判定ステップと、
    前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、前記近似精度評価指標値及び前記歩留モデル式に対する影響の有無に応じて、追加のシミュレーションの要否を判定する要否判定ステップと、
    を含み、コンピュータにより実行されるモデル式生成方法。
  6. SRAM(Static Random Access Memory)におけるトランジスタのPチャネル及びNチャネルの所定の指標についての平面における歩留検討対象の四辺形の頂点における複数の目的関数のモデル式を生成するモデル式生成装置であって、
    指定頂点の各々における前記複数の目的関数間の推定される関係に応じて予め設定されている重み値に応じて、初期シミュレーション回数を、前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々に配分し、前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、所定のパラメータの値を変動させて、配分されたシミュレーション回数分シミュレーションを実施させるシミュレーション制御部と、
    前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、シミュレーション結果から第1のモデル式を生成するモデル式生成部と、
    前記第1のモデル式の各々について、当該第1のモデル式の近似精度評価指標値を算出すると共に、当該第1のモデル式が、予め定められている歩留モデル式に対する影響の有無を判定し、前記指定頂点の各々における前記複数の目的関数の各々について、前記近似精度評価指標値及び前記歩留モデル式に対する影響の有無に応じて、追加のシミュレーションの要否を判定する評価部と、
    を有するモデル式生成装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015022584A (ja) * 2013-07-19 2015-02-02 富士通株式会社 応答曲面計算プログラム、応答曲面計算装置及び応答曲面計算方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5402351B2 (ja) * 2009-07-24 2014-01-29 富士通株式会社 多目的最適化設計支援装置、方法、及びプログラム
JP5477242B2 (ja) * 2010-09-22 2014-04-23 富士通株式会社 最適化処理プログラム、方法及び装置
KR102061763B1 (ko) * 2013-05-27 2020-01-03 삼성전자 주식회사 시뮬레이션 시스템 및 방법, 상기 시스템을 포함하는 컴퓨팅 시스템
KR20160061701A (ko) * 2014-11-24 2016-06-01 삼성전자주식회사 서로 다른 정확도를 갖는 연산기들을 이용하여 데이터를 처리하는 방법 및 장치
CN111899321B (zh) * 2020-08-26 2023-09-26 网易(杭州)网络有限公司 一种虚拟角色表情展现的方法和装置
CN116880382B (zh) * 2023-07-05 2024-04-05 南通大学 化工生产控制模型生成方法、化工生产控制方法及装置

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002043429A (ja) * 2000-07-24 2002-02-08 Mitsubishi Electric Corp シミュレーション方法およびシミュレーション装置
JP2005129015A (ja) * 2003-09-30 2005-05-19 Fujitsu Ltd シミュレーションにおけるモデルパラメータ決定プログラム、および決定装置
JP2009193562A (ja) * 2008-01-14 2009-08-27 Fujitsu Ltd 数式処理技法を用いた多目的最適化設計支援装置、方法、及びプログラム
JP2010122832A (ja) * 2008-11-18 2010-06-03 Fujitsu Ltd Sram形状パラメータ等の多目的最適化設計支援装置、方法、及びプログラム

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5257200A (en) * 1990-12-21 1993-10-26 Texas Instruments Incorporated Optimization system
JP2003006263A (ja) 2001-06-22 2003-01-10 Mitsubishi Electric Corp ばらつき解析装置およびばらつき解析方法
US7979832B2 (en) * 2006-12-06 2011-07-12 Qualcomm Incorporated Process variation tolerant memory design
JP5375429B2 (ja) * 2009-02-12 2013-12-25 富士通株式会社 設計支援装置、方法、及びプログラム
JP5402351B2 (ja) * 2009-07-24 2014-01-29 富士通株式会社 多目的最適化設計支援装置、方法、及びプログラム
JP5316433B2 (ja) * 2010-01-26 2013-10-16 富士通株式会社 最適化処理プログラム、方法及び装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002043429A (ja) * 2000-07-24 2002-02-08 Mitsubishi Electric Corp シミュレーション方法およびシミュレーション装置
JP2005129015A (ja) * 2003-09-30 2005-05-19 Fujitsu Ltd シミュレーションにおけるモデルパラメータ決定プログラム、および決定装置
JP2009193562A (ja) * 2008-01-14 2009-08-27 Fujitsu Ltd 数式処理技法を用いた多目的最適化設計支援装置、方法、及びプログラム
JP2010122832A (ja) * 2008-11-18 2010-06-03 Fujitsu Ltd Sram形状パラメータ等の多目的最適化設計支援装置、方法、及びプログラム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015022584A (ja) * 2013-07-19 2015-02-02 富士通株式会社 応答曲面計算プログラム、応答曲面計算装置及び応答曲面計算方法

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