JP2011249798A - 照明システム及びリソグラフィ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 個別に制御可能な光学素子のアレイを有し、各素子が所望の照明モードを形成するために選択可能な複数の向きの間を移動可能である照明システムが開示される。この照明システムは、素子の1つ以上の向きを制御するコントローラを含み、このコントローラは、1つ又は複数の素子に入射する放射バーストによって1つ又は複数の素子に加えられる力を少なくとも部分的に補償する力を1つ又は複数の素子に加えるように構成される。
【選択図】図1
Description
[0016] 放射ビームB(例えばUV放射又はDUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータとしても知られる)ILと、
[0017] パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスMAを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
[0018] 基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板Wを正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTと、
[0019] パターニングデバイスMAによって放射ビームBに与えられたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ又は複数のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを含む。
1.ステップモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.スキャンモードにおいては、支持構造MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。支持構造MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分Cの(非スキャン方向における)幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分Cの(スキャン方向における)高さが決まる。
3.別のモードでは、支持構造MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
Claims (15)
- 個別に制御可能な光学素子のアレイであって、各素子が所望の照明モードを形成するために選択可能な複数の向きの間を移動可能である光学素子のアレイと、
前記素子の1つ以上の向きを制御するコントローラであって、前記1つ又は複数の素子に入射する放射バーストによって前記1つ又は複数の素子に加えられる力を少なくとも部分的に補償する力を前記1つ又は複数の素子に加えるように構成されたコントローラと
を備える照明システム。 - 前記コントローラが、前記放射バーストによって前記1つ又は複数の素子に加えられる力と実質的に同期する力を加えるように構成される、請求項1に記載の照明システム。
- 前記コントローラが、トリガ信号に応答して前記1つ又は複数の素子に力を加えるように構成される、請求項1又は2に記載の照明システム。
- 光検出器をさらに備え、前記光検出器が、放射バーストを受光すると前記トリガ信号を生成するように構成される、請求項3に記載の照明システム。
- 前記コントローラが、前記放射バーストが1つ又は複数の素子に入射する前に前記1つ又は複数の素子に力を加えて、前記1つ又は複数の素子がそこから所望の向きへ移動するオフセットされた向きへ前記放射バーストによって加えられた力によって前記1つ又は複数の素子を移動させるように構成される、請求項1に記載の照明システム。
- 前記コントローラが、前記放射バーストが前記1つ又は複数の素子に入射する時に前記1つ又は複数の素子の向きをモニタするように構成され、また前記放射バーストが前記1つ又は複数の素子に入射していない時に前記1つ又は複数の素子の向きをモニタしないように構成される、請求項1から5のいずれかに記載の照明システム。
- 請求項1から6のいずれかに記載の照明システムを備えるリソグラフィ装置であって、
前記照明システムから送達された前記放射ビームを所望のパターンに従ってパターニングするように構成されたパターニングデバイスを支持するように構成された支持構造と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン付ビームを投影するように構成された投影システムと
をさらに備えるリソグラフィ装置。 - 前記リソグラフィ装置が放射源による放射バーストの生成をトリガする信号を生成するように構成された放射源制御電子回路を含み、前記コントローラがこの信号を前記トリガ信号として使用する、請求項3及び7に記載のリソグラフィ装置。
- 個別に制御可能な光学素子のアレイであって、各素子が所望の照明モードを形成するために選択可能な複数の向きの間を移動可能である光学素子のアレイと、
1つ又は複数の素子の向きを制御するコントローラであって、前記コントローラが、放射バーストが1つ又は複数の素子に入射する前に前記1つ又は複数の素子をオフセットされた向きへ移動させるように構成され、前記オフセットされた向きが、前記放射バーストによって加えられた力が前記1つ又は複数の素子を所望の向きに移動させるように選択されるコントローラと
を備える照明システム。 - 前記コントローラが、前記放射バースト中に前記1つ又は複数の素子を前記所望の向きに保持し、前記放射バーストが終了した後に前記1つ又は複数の素子を前記オフセットされた向きに戻すように構成される、請求項9に記載の照明システム。
- 照明システムの所望の照明モードを選択する方法であって、個別に制御可能な光学素子のアレイの素子を所望の照明モードに対応する向きへ移動させるステップと、放射バーストによって1つ又は複数の素子に加えられる力を少なくとも部分的に補償する力を前記1つ又は複数の素子に加えるステップとを含む方法。
- 前記放射バーストによって前記1つ又は複数の素子に加えられる力に実質的に同期して前記補償力が前記1つ又は複数の素子に加えられる、請求項11に記載の方法。
- 前記放射バーストが前記1つ又は複数の素子に入射する前に前記補償力が前記1つ又は複数の素子に加えられ、前記1つ又は複数の素子がそこから所望の向きへ移動するオフセットされた向きへ前記放射バーストによって加えられた力によって前記1つ又は複数の素子を移動させる、請求項11に記載の方法。
- 個別に制御可能な光学素子のアレイを備え、各素子が、所望の照明モードを形成するために選択可能な複数の向きの間を移動可能であり、前記素子の1つ以上がイオン化ガスによって取り囲まれる照明システム。
- 照明システムの所望の照明モードを選択する方法であって、個別に制御可能な光学素子のアレイの素子を前記所望の照明モードに対応する向きへ移動させるステップを含み、前記素子がイオン化ガスによって取り囲まれる方法。
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