JP2004349686A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】放射線ソースと、パターニング手段の支持構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、前記放射線ビームをコンディショニングする照明システムを備え、前記照明システムは、前記放射線ビームが前記照明システムの入口面を画定し、放射線ソースから前記照明システムへ前記投影ビームを再配向し、送出するため、再配向要素を備えるビーム送出システムを備えるリソグラフィ投影装置。前記ビーム送出システムが、前記入口面からある距離に位置する目標面から、前記入口面に、またはその付近の像面まで前記放射線ビームを描像する描像システムを備える。
【選択図】図3
Description
− 放射線の投影ビームを供給する放射線ソースと、
− パターニング(模様付け)手段を支持する支持構造とを備え、パターニング手段は、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを備え、前記放射線ソースがさらに、
− 前記パターニング手段を照明できるよう、コンディショニングした放射線ビームを提供するように前記放射線ビームをコンディショニングする照明システムを備え、前記照明システムは、前記放射線ビームが前記照明システムに入る入口面を画定し、さらに、
− 放射線ソースから前記照明システムへ前記投影ビームを再配向し、送出するため、再配向要素を備えるビーム送出システムを備えるリソグラフィ投影装置に関する。
− マスク。マスクの概念はリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、様々なハイブリッドマスクタイプのみならず、バイナリマスク、レベンソンマスク、減衰位相シフトマスクといったようなマスクタイプも含まれる。放射線ビームにこのようなマスクを配置することにより、マスクに照射する放射線の、マスクパターンに従う選択的透過(透過性マスクの場合)や選択的反射(反射性マスクの場合)を可能にする。マスクの場合、その支持構造は一般的に、入射する放射線ビームの所望する位置にマスクを保持しておくことが可能であり、かつ、必要な場合、ビームに対して運動させることの可能なマスクテーブルである。
− プログラマブルミラーアレイ。このようなデバイスの一例として、粘弾性制御層および反射面を有するマトリクスアドレス可能面があげられる。こうした装置の基本的原理は、(例えば)反射面のアドレスされた領域は入射光を回折光として反射するが、アドレスされていない領域は入射光を非回折光として反射するといったことである。適切なフィルタを使用することにより、回折光のみを残して上記非回折光を反射ビームからフィルタすることが可能である。この方法において、ビームはマトリクスアドレス可能面のアドレスパターンに従ってパターン形成される。プログラマブルミラーアレイのまた別の実施形態では小さな複数のミラーのマトリクス配列を用いる。そのミラーの各々は、適した局部電界を適用することによって、もしくは圧電作動手段を用いることによって、軸を中心に個々に傾けられている。もう一度言うと、ミラーはマトリクスアドレス可能であり、それによりアドレスされたミラーはアドレスされていないミラーとは異なる方向に入射の放射線ビームを反射する。このようにして、反射されたビームはマトリクスアドレス可能ミラーのアドレスパターンに従いパターン形成される。必要とされるマトリクスアドレッシングは適切な電子手段を用いて実行される。前述の両方の状況において、パターニング手段は1つ以上のプログラマブルミラーアレイから構成可能である。ここに参照を行ったミラーアレイに関するより多くの情報は、例えば、米国特許第US5,296,891号および同第US5,523,193号、並びに、PCT特許種出願第WO98/38597および同WO98/33096に開示されており、これは参照により本明細書に組み込まれる。プログラマブルミラーアレイの場合、上記支持構造は、例えばフレームもしくはテーブルとして具体化され、これは必要に応じて、固定式となるか、もしくは可動式となる。
− プログラマブルLCDアレイ。このような構成の例が米国特許第US5,229,872号に開示されており、これは参照により本明細書に組み込まれる。上記同様、この場合における支持構造も、例えばフレームもしくはテーブルとして具体化され、これも必要に応じて、固定式となるか、もしくは可動式となる。
図1は、本発明の独自の実施形態に基づくリソグラフィ投影装置1を概略的に示したものである。この装置は、
− この特別なケースでは放射線源LAも備えた、放射線の投影ビームPB(例えば遠紫外線領域の光)を供給する放射線ソースEx、BD、ILと、
− マスクMA(例えばレクチル)を保持するマスクホルダを備え、かつ、品目PLに対して正確にマスクの位置決めを行う第一位置決め手段PMに連結を行った第一オブジェクトテーブル(マスクテーブル)MTと、
− 基板W(例えば、レジスト塗布シリコンウェハ)を保持する基板ホルダを備え、かつ、品目PLに対して正確に基板の位置決めを行う第二位置決め手段PWに連結を行った第二オブジェクトテーブル(基板テーブル)WTと、
− マスクMAの照射部分を、基板Wの目標部分C(例えば、1つあるいはそれ以上のダイから成る)に描像する投影システム(「レンズ」)PLとにより構成されている。
1.ステップモードにおいては、マスクテーブルMTは基本的に静止状態に保たれている。そして、マスクの像全体が1回の作動(すなわち1回の「フラッシュ」)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがx方向および/あるいはy方向にシフトされ、異なる目標部分CがビームPBにより照射され得る。
2.走査モードにおいては、基本的に同一シナリオが適用されるが、但し、ここでは、所定の目標部分Cは1回の「フラッシュ」では露光されない。代わって、マスクテーブルMTが、速度vにて所定方向(いわゆる「走査方向」、例えばy方向)に運動可能であり、それによってビームPBがマスクの像を走査する。これと同時に、基板テーブルWTが速度V=Mvで、同一方向あるいは反対方向に運動する。ここで、MはレンズPLの倍率(一般的にM=1/4あるいは1/5)である。このように、解像度を妥協することなく、比較的大きな目標部分Cを露光することが可能となる。
Claims (11)
- リソグラフィ投影装置で、
− 放射線の投影ビームを供給する放射線ソースと、
− パターニング手段を支持する支持構造とを備え、パターニング手段は、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成する働きをし、さらに、
− 基板を保持する基板テーブルと、
− パターン形成したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを備え、
前記放射線ソースがさらに、
○ 前記パターニング手段を照明できるよう、コンディショニングした放射線ビームを提供するように前記放射線ビームをコンディショニングする照明システムを備え、前記照明システムは、前記放射線ビームが前記照明システムに入る入口面を画定し、さらに、
○ 放射線ソースから前記照明システムへ前記投影ビームを再配向し、送出するため、再配向要素を備えるビーム送出システムを備え、
− 前記ビーム送出システムが、前記入口面からある距離に位置する目標面から、前記入口面に、またはその付近に位置する像面まで前記放射線ビームを描像する描像システムを備えることを特徴とするリソグラフィ投影装置。 - 前記描像システムが1Xの描像システムである、請求項1に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記描像システムが1対のレンズを備え、前記対の各レンズが、前記目標面から前記像面までの前記距離の1/4倍の焦点距離を有する、請求項2に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記ビーム送出システムが、前記投影ビームを、ビーム方向を横断する少なくとも1つの方向で並進させるため、少なくとも1つの並進可能ミラーを備える、請求項1から3いずれか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 2つの並進可能ミラーが、ビーム送出路のその後の位置に配置され、第1ミラーが前記ビームを第1方向に並進させ、第2ビームが前記ビームを第2方向に並進させて、前記第1および第2方向は、相互および前記ビーム方向を横断する、請求項4に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記並進可能ミラーが前記目標面に配置される、請求項4から5に記載のリソグラフィ投影装置。
- 傾斜可能ミラーが前記描像システムの目標面に位置する、請求項1から6いずれか1項に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記傾斜可能ミラーが2つの異なる方向で回転可能である、請求項7に記載のリソグラフィ投影装置。
- 前記傾斜可能ミラーが並進可能である、請求項7または8に記載のリソグラフィ投影装置。
- デバイス製造方法で、
− 放射線感光材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を提供するステップと、
− 放射線ソースを使用して放射線の投影ビームを提供するステップと、
− 前記放射線ビームから前記照明システムまで前記投影ビームを送出するステップと、
− 照明システムを使用して前記投影ビームをコンディショニングするステップとを含み、前記照明システムは、前記放射線ビームが前記照明システムに入る入口面を画定し、さらに、
− コンディショニングした投影ビームの断面にパターンを与えるためにパターニング手段を使用するステップと、
− パターン形成した放射線ビームを放射線感光材料の層の目標部分に投影するステップとを含む方法で、
方法が、
− 前記入口面からある距離に位置する目標面から前記入口面に、またはその付近に位置する像面へと前記放射線ビームを描像するステップを含むことを特徴とする方法。 - 方法が、入口面にてビームの指向方向を制御するよう、前記放射線ビームの目標面に傾斜可能ミラーを位置決めするステップを含み、方法がさらに、入口面でビーム位置を制御するよう、並進可能ミラーで前記放射線ビームを反射するステップを含むことを特徴とする、請求項10に記載の方法。
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