JP2011246385A - Method for production of fluorine-containing sulfonyl imide compound - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法の改良に関するものであり、特に、含フッ素スルホニルイミド化合物の精製に関するものである。 The present invention relates to an improvement in a method for producing a fluorine-containing sulfonylimide compound, and particularly relates to purification of a fluorine-containing sulfonylimide compound.
含フッ素スルホニルイミド化合物は、イオン導伝材料やイオン液体のアニオン源として有用な物質であることが知られている。また、イオン液体は、特に電池やキャパシタの電解質、反応溶媒や触媒等として期待されており、例えば、フッ素化されたイミド化合物である含フッ素スルホニルイミド酸の塩と、イミダゾリウム臭化物塩のような第４級アミンのハロゲン化物塩とを塩交換することによって得られることが一般に知られている。 Fluorine-containing sulfonylimide compounds are known to be useful materials as ion conducting materials and anion sources for ionic liquids. In addition, ionic liquids are particularly expected as electrolytes for batteries and capacitors, reaction solvents, catalysts, and the like, such as salts of fluorine-containing sulfonylimide acids that are fluorinated imide compounds and imidazolium bromide salts. It is generally known that it can be obtained by salt exchange with a quaternary amine halide salt.
このような含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法としては、例えば、特許文献１，２が知られている。具体的に、特許文献１には、下記式（Ａ）に示すように、ペルフルオロアルキルスルホンアミド（ＲｆａＳＯ２ＮＨ２）と、ペルフルオロアルキルスルホニルハライド（ＲｆｂＳＯ２Ｘ）と、フッ化カリウム等のフッ素化合物（ＭＦ）と、をアセトニトリルなどの有機溶媒下で反応させて、ペルフルオロアルキルスルホンイミド塩（（ＲｆａＳＯ２）（ＲｆｂＳＯ２）Ｎ・Ｍ）を製造する方法が開示されている。 As a method for producing such a fluorinated sulfonylimide compound, for example, Patent Documents 1 and 2 are known. Specifically, in Patent Document 1, as shown in the following formula (A), perfluoroalkylsulfonamide (Rf a SO 2 NH 2 ), perfluoroalkyl sulfonyl halide (Rf b SO 2 X), and potassium fluoride And a fluorine compound (MF) such as acetonitrile are reacted in an organic solvent such as acetonitrile to produce a perfluoroalkylsulfonimide salt ((Rf a SO 2 ) (Rf b SO 2 ) N · M). ing.
また、特許文献２には、下記式（Ｂ）に示すように、ペルフルオロアルキルスルホンアミドとペルフルオロアルキルスルホニルハライドとを第３級アミンあるいは複素環式アミン（ＮＲ１Ｒ２Ｒ３）存在下で反応させて、ペルフルオロアルキルスルホンイミド塩（（ＲｆｃＳＯ２）（ＲｆｄＳＯ２）Ｎ・Ｍ）を製造する方法が開示されている。 In Patent Document 2, as shown in the following formula (B), a perfluoroalkylsulfonamide and a perfluoroalkylsulfonyl halide are reacted in the presence of a tertiary amine or a heterocyclic amine (NR 1 R 2 R 3 ). And a method for producing a perfluoroalkylsulfonimide salt ((Rf c SO 2 ) (Rf d SO 2 ) N · M) is disclosed.
ところで、特許文献３には、含フッ素スルホニルイミド化合物を製造する過程において、スルホン酸化合物が不純物として副生することが開示されている。また、特許文献６には、含フッ素スルホニルイミド塩の製造過程において、少量の水が存在するとスルホン酸塩が副生することが開示されている。このように、実際の含フッ素スルホニルイミド化合物を製造する際には、イミド化反応に使用する原料や溶媒から完全に水を除くことが困難であるため、スルホン酸化合物の副生は避けられないのが現状である。 By the way, Patent Document 3 discloses that a sulfonic acid compound is by-produced as an impurity in the process of producing a fluorine-containing sulfonylimide compound. Patent Document 6 discloses that a sulfonate is by-produced when a small amount of water is present in the production process of a fluorine-containing sulfonylimide salt. Thus, when producing an actual fluorine-containing sulfonylimide compound, it is difficult to completely remove water from the raw material and solvent used in the imidation reaction, and therefore, a by-product of the sulfonic acid compound is inevitable. is the current situation.
また、スルホンアミド化合物とスルホニルハライドとを反応させて含フッ素スルホニルイミド化合物を製造する場合には、スルホンアミド化合物の製造時に副生したスルホン酸化合物がスルホンアミド化合物と共にイミド化反応に持ち込まれることもある。 In addition, when a fluorine-containing sulfonylimide compound is produced by reacting a sulfonamide compound and a sulfonyl halide, the sulfonic acid compound by-produced during the production of the sulfonamide compound may be brought into the imidization reaction together with the sulfonamide compound. is there.
このように、含フッ素スルホニルイミド化合物の製造においては、その製造過程において不純物であるスルホン酸化合物が副生するため、このスルホン酸化合物の除去等の含フッ素スルホニルイミド化合物の精製が必要となる。 As described above, in the production of a fluorinated sulfonylimide compound, a sulfonic acid compound that is an impurity is by-produced in the production process, and thus purification of the fluorinated sulfonylimide compound such as removal of the sulfonic acid compound is required.
このような含フッ素スルホニルイミド化合物の精製方法としては、例えば、特許文献４〜６が知られている。具体的に、特許文献４には、スルホンイミドリチウム塩を１、４−ジオキサンを加え再結晶精製する方法が開示されている。
また、特許文献５には、スルホンイミドアンモニウム塩を水酸化ナトリウム水溶液で再結晶又は洗浄する方法が開示されている。
さらに、特許文献６には、スルホンイミド塩を疎水性有機溶剤と水との混合溶媒と混合して攪拌した後、水層を分離し、有機層を濃縮乾燥させる方法が開示されている。
For example, Patent Documents 4 to 6 are known as methods for purifying such a fluorinated sulfonylimide compound. Specifically, Patent Document 4 discloses a method for recrystallizing and purifying sulfonimide lithium salt by adding 1,4-dioxane.
Patent Document 5 discloses a method of recrystallizing or washing a sulfonimide ammonium salt with an aqueous sodium hydroxide solution.
Furthermore, Patent Document 6 discloses a method in which a sulfonimide salt is mixed with a mixed solvent of a hydrophobic organic solvent and water and stirred, then the aqueous layer is separated, and the organic layer is concentrated and dried.
しかしながら、特許文献４に記載された方法では、大量の溶媒（１、４−ジオキサン）を使用し、再結晶を繰り返し行う必要があるため、工業的には有利な方法であるとはいえなかった。
また、特許文献５に記載された方法では、アンモニアが遊離するため、水酸化ナトリウム水溶液の濃度管理が必要であった。また、再結晶を繰り返し行う必要があり、操作が煩雑であるという問題があった。
さらに、特許文献６に記載された方法では、目的物であるスルホンイミド塩の水層へのロスが大きいため、疎水性有機溶剤で繰り返し抽出する必要があった。また、不純物であるスルホン酸塩が有機層に一部混入されるため、水洗を繰り返す必要があった。さらに、可燃性物質を大量に使用するため、安全性の確保が可能な設備が必要であった。
上述のように、含フッ素スルホニルイミド化合物に関して、含フッ素スルホニルイミド塩を用いた種々の精製方法が提案されていたが、いずれも工業的に有利な方法とは言い難いのが現状である。
However, the method described in Patent Document 4 requires a large amount of solvent (1,4-dioxane) and needs to be repeatedly recrystallized, and thus cannot be said to be an industrially advantageous method. .
Moreover, in the method described in Patent Document 5, ammonia is liberated, so that it is necessary to control the concentration of the aqueous sodium hydroxide solution. In addition, there is a problem that the recrystallization needs to be repeated and the operation is complicated.
Furthermore, in the method described in Patent Document 6, since the loss of the target sulfonimide salt to the aqueous layer is large, it has been necessary to repeatedly extract with a hydrophobic organic solvent. Moreover, since sulfonate which is an impurity is partly mixed in the organic layer, it was necessary to repeat washing with water. Furthermore, in order to use a large amount of combustible substances, the equipment which can ensure safety | security was required.
As described above, various purification methods using fluorine-containing sulfonylimide salts have been proposed for fluorine-containing sulfonylimide compounds, but none of them is an industrially advantageous method at present.
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、簡便な操作により、高収率の精製が可能な含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of the said situation, Comprising: It aims at providing the manufacturing method of the fluorine-containing sulfonyl imide compound which can be refine | purified by a high yield by simple operation.
上記の課題を解決するために、本発明者らは鋭意研究した結果、含フッ素スルホニルイミド酸とスルホン酸との混合物に水を加えると、スルホン酸が水和物を形成して沸点が大きく上昇するのに対し、含フッ素スルホニルイミド酸は水和物を形成しないことを確認した。そして、沸点の近い含フッ素スルホニルイミド酸とスルホン酸との混合液を水の存在下で蒸留することにより、含フッ素スルホニルイミド酸とスルホン酸とを効率的に分離できることを見出して本発明を完成させた。 In order to solve the above problems, the present inventors have intensively studied. As a result, when water is added to a mixture of a fluorine-containing sulfonylimide acid and a sulfonic acid, the sulfonic acid forms a hydrate and the boiling point increases greatly. On the other hand, it was confirmed that the fluorine-containing sulfonylimide acid does not form a hydrate. The present invention was completed by finding that fluorine-containing sulfonylimide acid and sulfonic acid can be efficiently separated by distilling a mixture of fluorine-containing sulfonylimide acid and sulfonic acid having close boiling points in the presence of water. I let you.
すなわち、本発明は以下の構成を採用した。
［１］ 下記式（１）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物と、下記式（２）に示されるスルホン酸化合物と、の混合物を水の存在下で蒸留することを特徴とする含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
（Ｒｆ１ＳＯ２）（Ｒｆ２ＳＯ２）ＮＨ ・・・（１）
ＲｆＳＯ３Ｈ・・（２）
但し、上記式（１）において、Ｒｆ１、Ｒｆ２は、フッ素又は炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆ１とＲｆ２とがいずれもフッ素である組合せを除く。
また、上記式（２）において、Ｒｆは、炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基である。
That is, the present invention employs the following configuration.
[1] A fluorine-containing sulfonylimide, wherein a mixture of a fluorine-containing sulfonylimide compound represented by the following formula (1) and a sulfonic acid compound represented by the following formula (2) is distilled in the presence of water. Compound production method.
(Rf 1 SO 2 ) (Rf 2 SO 2 ) NH (1)
RfSO 3 H (2)
However, in the above formula (1), Rf 1 and Rf 2 are fluorine or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a combination in which Rf 1 and Rf 2 are both fluorine. except for.
In the above formula (2), Rf is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
［２］ 前記スルホン酸化合物に対してモル比で１倍以上となるように、前記混合物に水を添加することを特徴とする前項［１］に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。 [2] The method for producing a fluorine-containing sulfonylimide compound according to [1], wherein water is added to the mixture so that the molar ratio of the sulfonic acid compound is 1 or more.
［３］ 下記式（３）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物塩と、下記式（４）に示されるスルホン酸化合物塩と、の混合物に酸性溶液を添加した後に蒸留することを特徴とする前項［１］又は［２］に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。
（Ｒｆ１ＳＯ２）（Ｒｆ２ＳＯ２）Ｎ・Ｍ ・・・（３）
ＲｆＳＯ３・Ｍ・・（４）
但し、上記式（３）において、Ｒｆ１、Ｒｆ２は、フッ素又は炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆ１とＲｆ２とがいずれもフッ素である組合せを除く。
また、上記式（４）において、Ｒｆは、炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基である。
また、上記式（３）、（４）において、Ｍは、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素およびオニウムイオンである。
[3] The preceding item characterized by distilling after adding an acidic solution to a mixture of a fluorine-containing sulfonylimide compound salt represented by the following formula (3) and a sulfonic acid compound salt represented by the following formula (4): The manufacturing method of the fluorine-containing sulfonylimide compound as described in [1] or [2].
(Rf 1 SO 2 ) (Rf 2 SO 2 ) N · M (3)
RfSO 3 , M (4)
However, in the above formula (3), Rf 1 and Rf 2 are fluorine or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a combination in which Rf 1 and Rf 2 are both fluorine. except for.
In the above formula (4), Rf is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
In the above formulas (3) and (4), M is an alkali metal element, an alkaline earth metal element, and an onium ion.
［４］ 前記酸性溶液が、硫酸水溶液であることを特徴とする前項［３］に記載の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法。 [4] The method for producing a fluorinated sulfonylimide compound according to [3], wherein the acidic solution is an aqueous sulfuric acid solution.
本発明の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法によれば、含フッ素スルホニルイミド化合物とスルホン酸化合物とを水の存在下で蒸留することにより、含フッ素スルホニルイミド酸とスルホン酸とを効率的に分離、精製することが可能となる。したがって、簡便な操作により、高収率の精製が可能な含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法を提供することができる。 According to the method for producing a fluorine-containing sulfonylimide compound of the present invention, the fluorine-containing sulfonylimide acid and the sulfonic acid are efficiently separated by distilling the fluorine-containing sulfonylimide compound and the sulfonic acid compound in the presence of water. Can be purified. Therefore, it is possible to provide a method for producing a fluorine-containing sulfonylimide compound that can be purified at a high yield by a simple operation.
以下、含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法について、詳細に説明する。
本発明の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法は、下記式（５）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物と、下記式（６）に示されるスルホン酸化合物と、の混合物を水の存在下で蒸留するものである。
（Ｒｆ１ＳＯ２）（Ｒｆ２ＳＯ２）ＮＨ ・・・（５）
ＲｆＳＯ３Ｈ・・（６）
但し、上記式（５）において、Ｒｆ１、Ｒｆ２は、Ｒｆ１とＲｆ２がいずれもフッ素であることを除き、フッ素又は炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基である。
また、上記式（６）において、Ｒｆは、炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基である。
Hereinafter, the manufacturing method of a fluorine-containing sulfonylimide compound is demonstrated in detail.
In the method for producing a fluorinated sulfonylimide compound of the present invention, a mixture of a fluorinated sulfonylimide compound represented by the following formula (5) and a sulfonic acid compound represented by the following formula (6) is distilled in the presence of water. To do.
(Rf 1 SO 2 ) (Rf 2 SO 2 ) NH (5)
RfSO 3 H (6)
However, in the above formula (5), Rf 1, Rf 2, except that Rf 1 and Rf 2 are both fluorine, a fluorine or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms is there.
In the above formula (6), Rf is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
ここで、上記式（５）で表される含フッ素スルホニルイミド化合物であるペルフルオロアルキルスルホンイミドは、Ｒｆ１とＲｆ２とが同一の場合（対称構造）として、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド［（ＣＦ３ＳＯ２）２ＮＨ］、ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド［（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）２ＮＨ］、ビス（ヘプタフルオロプロパンスルホニル）イミド［（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）２ＮＨ］、ビス（ノナフルオロブタンスルホニル）イミド［（Ｃ４Ｆ９ＳＯ２）２ＮＨ］等のペルフルオロアルキルスルホンイミド類が挙げられる。
但し、Ｒｆ１とＲｆ２とがいずれもフッ素であるビス（フルオロスルホニル）イミド［（ＦＳＯ２）２ＮＨ］は除かれる。
なお、本発明のＲｆ１及びＲｆ２において、炭素数３又は４の場合には、直鎖状以外に分岐状の構造異性体を含んでいる（以下、同様）。
Here, perfluoroalkyl sulfonimide is a fluorine-containing sulfonylimide compound represented by the formula (5), as the case and Rf 1 and Rf 2 are the same (symmetrical structure), bis (trifluoromethanesulfonyl) imide [( CF 3 SO 2 ) 2 NH], bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide [(C 2 F 5 SO 2 ) 2 NH], bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide [(C 3 F 7 SO 2 ) 2 NH] And perfluoroalkylsulfonimides such as bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide [(C 4 F 9 SO 2 ) 2 NH].
However, bis (fluorosulfonyl) imide [(FSO 2 ) 2 NH] in which both Rf 1 and Rf 2 are fluorine is excluded.
In Rf 1 and Rf 2 of the present invention, when the number of carbon atoms is 3 or 4, a branched structural isomer is included in addition to a straight chain (hereinafter the same).
また、Ｒｆ１とＲｆ２とが異なる場合（非対称構造）として、トリフルオロ−Ｎ−（フルオロスルホニル）メタンスルホニルアミド［（ＦＳＯ２）（ＣＦ３ＳＯ２）ＮＨ］、ペンタフルオロ−Ｎ−（フルオロスルホニル）エタンスルホニルアミド［（ＦＳＯ２）（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）ＮＨ］、ヘプタフルオロ−Ｎ−（フルオロスルホニル）プロパンスルホニルアミド［（ＦＳＯ２）（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）ＮＨ］、ノナフルオロ−Ｎ−（フルオロスルホニル）ブタンスルホニルアミド［（ＦＳＯ２）（Ｃ４Ｆ９ＳＯ２）ＮＨ］、ペンタフルオロ−Ｎ−［（トリフルオロメタン）スルホニル］エタンスルホニルアミド［（ＣＦ３ＳＯ２）（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）ＮＨ］、ヘプタフルオロ−Ｎ−［（トリフルオロメタン）スルホニル］プロパンスルホニルアミド［（ＣＦ３ＳＯ２）（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）ＮＨ］、ノナフルオロ−Ｎ−［（トリフルオロメタン）スルホニル］ブタンスルホニルアミド［（ＣＦ３ＳＯ２）（Ｃ４Ｆ９ＳＯ２）ＮＨ］、ヘプタフルオロ−Ｎ−［（ペンタフルオロエタン）スルホニル］プロパンスルホニルアミド［（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）ＮＨ］、ノナフルオロ−Ｎ−［（ペンタフルオロエタン）スルホニル］ブタンスルホニルアミド［（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）（Ｃ４Ｆ９ＳＯ２）ＮＨ］、ノナフルオロ−Ｎ−［（ヘプタフルオロプロパン）スルホニル］ブタンスルホニルアミド［（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）（Ｃ４Ｆ９ＳＯ２）ＮＨ］等が挙げられる。 Further, when Rf 1 and Rf 2 are different (asymmetric structure), trifluoro-N- (fluorosulfonyl) methanesulfonylamide [(FSO 2 ) (CF 3 SO 2 ) NH], pentafluoro-N- (fluoro) Sulfonyl) ethanesulfonylamide [(FSO 2 ) (C 2 F 5 SO 2 ) NH], heptafluoro-N- (fluorosulfonyl) propanesulfonylamide [(FSO 2 ) (C 3 F 7 SO 2 ) NH], nonafluoro -N- (fluorosulfonyl) butane sulfonyl amide [(FSO 2) (C 4 F 9 SO 2) NH], pentafluoro -N - [(trifluoromethane) sulfonyl] ethane sulfonyl amide [(CF 3 SO 2) ( C 2 F 5 SO 2) NH] , heptafluoro -N - [(trifluoromethane) sulfonate Sulfonyl] propane sulfonyl amide [(CF 3 SO 2) ( C 3 F 7 SO 2) NH], nonafluoro -N - [(trifluoromethane) sulfonyl] butane sulfonyl amide [(CF 3 SO 2) ( C 4 F 9 SO 2 ) NH], heptafluoro-N-[(pentafluoroethane) sulfonyl] propanesulfonylamide [(C 2 F 5 SO 2 ) (C 3 F 7 SO 2 ) NH], nonafluoro-N-[(pentafluoroethane ) sulfonyl] butane sulfonyl amide [(C 2 F 5 SO 2 ) (C 4 F 9 SO 2) NH], nonafluoro -N - [(heptafluoropropane) sulfonyl] butane sulfonyl amide [(C 3 F 7 SO 2 ) (C 4 F 9 SO 2 ) NH] and the like.
また、上記式（６）に示されるスルホン酸化合物であるペルフルオロアルキルスルホン酸としては、トリフルオロメチルスルホン酸（ＣＦ３ＳＯ３Ｈ）、ペンタフルオロエチルスルホン酸（Ｃ２Ｆ５ＳＯ３Ｈ）、ヘプタフルオロプロピルスルホン酸（Ｃ３Ｆ７ＳＯ３Ｈ）、ノナフルオロブチルスルホン酸（Ｃ４Ｆ９ＳＯ３Ｈ）が挙げられる。 Further, as the perfluoroalkylsulfonic acid that is a sulfonic acid compound represented by the above formula (6), trifluoromethylsulfonic acid (CF 3 SO 3 H), pentafluoroethylsulfonic acid (C 2 F 5 SO 3 H), Examples include heptafluoropropyl sulfonic acid (C 3 F 7 SO 3 H) and nonafluorobutyl sulfonic acid (C 4 F 9 SO 3 H).
より具体的な方法は、先ず、上述した特許文献１又は２に記載された従来の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法等により、下記式（７）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物塩を製造する。この製造方法の際に、不純物として下記式（８）に示されるスルホン酸化合物塩が副生する。
（Ｒｆ１ＳＯ２）（Ｒｆ２ＳＯ２）Ｎ・Ｍ ・・・（７）
ＲｆＳＯ３・Ｍ・・（８）
但し、上記式（７）において、Ｒｆ１、Ｒｆ２は、Ｒｆ１とＲｆ２がいずれもフッ素であることを除き、フッ素又は炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基である。
また、上記式（８）において、Ｒｆは炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基である。
また、上記式（７）、（８）において、Ｍは、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素およびオニウムイオンである。
More specifically, first, a fluorine-containing sulfonylimide compound salt represented by the following formula (7) is produced by the conventional method for producing a fluorine-containing sulfonylimide compound described in Patent Document 1 or 2 described above. . In this production method, a sulfonic acid compound salt represented by the following formula (8) is by-produced as an impurity.
(Rf 1 SO 2 ) (Rf 2 SO 2 ) N · M (7)
RfSO 3 , M (8)
However, in the above formula (7), Rf 1, Rf 2, except that Rf 1 and Rf 2 are both fluorine, a fluorine or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms is there.
In the above formula (8), Rf is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
In the above formulas (7) and (8), M is an alkali metal element, an alkaline earth metal element, and an onium ion.
ここで、上記式（７）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物塩であるペルフルオロアルキルスルホンイミド塩は、Ｒｆ１とＲｆ２とが同一の場合（対称構造）として、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド塩［（ＣＦ３ＳＯ２）２Ｎ・Ｍ］、ビス（ペンタフルオロエタンスルホニル）イミド塩［（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）２Ｎ・Ｍ］、ビス（ヘプタフルオロプロパンスルホニル）イミド塩［（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）２Ｎ・Ｍ］、ビス（ノナフルオロブタンスルホニル）イミド塩［（Ｃ４Ｆ９ＳＯ２）２Ｎ・Ｍ］等のペルフルオロアルキルスルホンイミド塩類が挙げられる。
但し、Ｒｆ１とＲｆ２とがいずれもフッ素であるビス（フルオロスルホニル）イミド塩［（ＦＳＯ２）２Ｎ・Ｍ］は除かれる。
なお、本発明のＲｆ１及びＲｆ２において、炭素数３又は４の場合には、直鎖状以外に分岐状の構造異性体を含んでいる（以下、同様）。
Here, the perfluoroalkylsulfonimide salt, which is a fluorine-containing sulfonylimide compound salt represented by the above formula (7), is a bis (trifluoromethanesulfonyl) imide salt when Rf 1 and Rf 2 are the same (symmetric structure). [(CF 3 SO 2 ) 2 N · M], bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide salt [(C 2 F 5 SO 2 ) 2 N · M], bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide salt [(C 3 Perfluoroalkylsulfonimide salts such as F 7 SO 2 ) 2 N · M] and bis (nonafluorobutanesulfonyl) imide salt [(C 4 F 9 SO 2 ) 2 N · M].
However, a bis (fluorosulfonyl) imide salt [(FSO 2 ) 2 N · M] in which both Rf 1 and Rf 2 are fluorine is excluded.
In Rf 1 and Rf 2 of the present invention, when the number of carbon atoms is 3 or 4, a branched structural isomer is included in addition to a straight chain (hereinafter the same).
また、Ｒｆ１とＲｆ２とが異なる場合（非対称構造）として、トリフルオロ−Ｎ−（フルオロスルホニル）メタンスルホニルアミド塩［（ＦＳＯ２）（ＣＦ３ＳＯ２）Ｎ・Ｍ］、ペンタフルオロ−Ｎ−（フルオロスルホニル）エタンスルホニルアミド塩［（ＦＳＯ２）（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）Ｎ・Ｍ］、ヘプタフルオロ−Ｎ−（フルオロスルホニル）プロパンスルホニルアミド塩［（ＦＳＯ２）（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）Ｎ・Ｍ］、ノナフルオロ−Ｎ−（フルオロスルホニル）ブタンスルホニルアミド塩［（ＦＳＯ２）（Ｃ４Ｆ９ＳＯ２）Ｎ・Ｍ］、ペンタフルオロ−Ｎ−［（トリフルオロメタン）スルホニル］エタンスルホニルアミド塩［（ＣＦ３ＳＯ２）（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）Ｎ・Ｍ］、ヘプタフルオロ−Ｎ−［（トリフルオロメタン）スルホニル］プロパンスルホニルアミド塩［（ＣＦ３ＳＯ２）（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）Ｎ・Ｍ］、ノナフルオロ−Ｎ−［（トリフルオロメタン）スルホニル］ブタンスルホニルアミド塩［（ＣＦ３ＳＯ２）（Ｃ４Ｆ９ＳＯ２）Ｎ・Ｍ］、ヘプタフルオロ−Ｎ−［（ペンタフルオロエタン）スルホニル］プロパンスルホニルアミド塩［（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）Ｎ・Ｍ］、ノナフルオロ−Ｎ−［（ペンタフルオロエタン）スルホニル］ブタンスルホニルアミド塩［（Ｃ２Ｆ５ＳＯ２）（Ｃ４Ｆ９ＳＯ２）Ｎ・Ｍ］、ノナフルオロ−Ｎ−［（ヘプタフルオロプロパン）スルホニル］ブタンスルホニルアミド塩［（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）（Ｃ４Ｆ９ＳＯ２）Ｎ・Ｍ］等が挙げられる。 When Rf 1 and Rf 2 are different (asymmetric structure), trifluoro-N- (fluorosulfonyl) methanesulfonylamide salt [(FSO 2 ) (CF 3 SO 2 ) N · M], pentafluoro-N -(Fluorosulfonyl) ethanesulfonylamide salt [(FSO 2 ) (C 2 F 5 SO 2 ) N · M], heptafluoro-N- (fluorosulfonyl) propanesulfonylamide salt [(FSO 2 ) (C 3 F 7 SO 2 ) N · M], nonafluoro-N- (fluorosulfonyl) butanesulfonylamide salt [(FSO 2 ) (C 4 F 9 SO 2 ) N · M], pentafluoro-N-[(trifluoromethane) sulfonyl] ethanesulfonyl amide salt [(CF 3 SO 2) ( C 2 F 5 SO 2) N · M], heptafluoro -N - [(tri Ruorometan) sulfonyl] propane sulfonyl amide salt [(CF 3 SO 2) ( C 3 F 7 SO 2) N · M], nonafluoro -N - [(trifluoromethane) sulfonyl] butane sulfonyl amide salt [(CF 3 SO 2) (C 4 F 9 SO 2 ) N · M], heptafluoro-N-[(pentafluoroethane) sulfonyl] propanesulfonylamide salt [(C 2 F 5 SO 2 ) (C 3 F 7 SO 2 ) N · M ], Nonafluoro-N-[(pentafluoroethane) sulfonyl] butanesulfonylamide salt [(C 2 F 5 SO 2 ) (C 4 F 9 SO 2 ) N · M], nonafluoro-N-[(heptafluoropropane) Sulfonyl] butanesulfonylamide salt [(C 3 F 7 SO 2 ) (C 4 F 9 SO 2 ) N · M] and the like.
また、本発明の上記式（７）で表されるペルフルオロアルキルスルホンイミド塩において、Ｍは、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素およびオニウムイオンある。
具体的には、アルカリ金属元素としては、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）等が挙げられる。
また、アルカリ土類金属元素としては、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）等が挙げられる。
In the perfluoroalkylsulfonimide salt represented by the above formula (7) of the present invention, M is an alkali metal element, an alkaline earth metal element, and an onium ion.
Specifically, examples of the alkali metal element include lithium (Li), sodium (Na), potassium (K), and the like.
Examples of alkaline earth metal elements include calcium (Ca), strontium (Sr), barium (Ba), and the like.
また、オニウムイオンとしては、例えば、窒素、硫黄、酸素、リン、セレン、錫、ヨウ素、アンチモン等の孤立電子対を有する元素を含んだ化合物に陽イオン型の原子団が配位して生ずる少なくとも一つの有機基を有するカチオンであればよく、特に制限されない。 As the onium ion, for example, at least a cation-type atomic group is formed by coordination with a compound containing an element having a lone electron pair such as nitrogen, sulfur, oxygen, phosphorus, selenium, tin, iodine, and antimony. There is no particular limitation as long as it is a cation having one organic group.
また、本発明の上記式（８）に示されるスルホン酸化合物塩であるペルフルオロアルキルスルホン酸塩としては、トリフルオロメチルスルホン酸塩（ＣＦ３ＳＯ３・Ｍ）、ペンタフルオロエチルスルホン酸塩（Ｃ２Ｆ５ＳＯ３・Ｍ）、ヘプタフルオロプロピルスルホン酸塩（Ｃ３Ｆ７ＳＯ３・Ｍ）、ノナフルオロブチルスルホン酸塩（Ｃ４Ｆ９ＳＯ３・Ｍ）が挙げられる。 Further, as the perfluoroalkyl sulfonate which is a sulfonic acid compound salt represented by the above formula (8) of the present invention, trifluoromethyl sulfonate (CF 3 SO 3 · M), pentafluoroethyl sulfonate (C 2 F 5 SO 3 · M), heptafluoropropyl sulfonate (C 3 F 7 SO 3 · M), and nonafluorobutyl sulfonate (C 4 F 9 SO 3 · M).
また、本発明の上記式（８）で表されるペルフルオロアルキルスルホン酸塩において、Ｍは、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素およびオニウムイオンである。なお、これらの例については、上記式（７）で例示したものと同じものを示すことができる。 In the perfluoroalkyl sulfonate represented by the above formula (8) of the present invention, M is an alkali metal element, an alkaline earth metal element, and an onium ion. In addition, about these examples, the same thing as what was illustrated by said Formula (7) can be shown.
次に、上記式（７）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物塩と、上記式（８）に示されるスルホン酸化合物塩との混合物に酸性溶液を添加して混合液を調整した後、この混合液を蒸留する。 Next, an acidic solution is added to a mixture of the fluorine-containing sulfonylimide compound salt represented by the above formula (7) and the sulfonic acid compound salt represented by the above formula (8) to prepare a mixed solution, and then this mixing is performed. Distill the liquid.
本発明の酸性溶液としては、上記式（７）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物塩及び上記式（８）に示されるスルホン酸化合物塩から、それぞれ上記式（５）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物と、上記式（６）に示されるスルホン酸化合物と、を生成することが可能なものであれば、特に限定されるものではない。 As the acidic solution of the present invention, a fluorine-containing sulfonylimide represented by the above formula (5) from a fluorine-containing sulfonylimide compound salt represented by the above formula (7) and a sulfonic acid compound salt represented by the above formula (8), respectively. The compound is not particularly limited as long as the compound and the sulfonic acid compound represented by the above formula (6) can be generated.
このような酸性溶液としては、具体的には、例えば、塩酸水溶液、硝酸水溶液、硫酸水溶液が挙げられるが、特に硫酸水溶液を用いることが好ましい。 Specific examples of such an acidic solution include a hydrochloric acid aqueous solution, a nitric acid aqueous solution, and a sulfuric acid aqueous solution, and it is particularly preferable to use a sulfuric acid aqueous solution.
また、酸性溶液の添加量は、調整された混合液中において、上記式（６）に示されるスルホン酸化合物に対してモル比で１倍以上の水が存在するような量とすることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the addition amount of the acidic solution is an amount such that in the adjusted mixed solution, water having a molar ratio of 1 or more is present with respect to the sulfonic acid compound represented by the above formula (6). .
このように、酸性溶液を添加することにより、上記式（５）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物と、上記式（６）に示されるスルホン酸化合物と、の混合物を水の存在下で蒸留することになる。 Thus, by adding an acidic solution, the mixture of the fluorinated sulfonylimide compound represented by the above formula (5) and the sulfonic acid compound represented by the above formula (6) is distilled in the presence of water. It will be.
本発明の蒸留は、分離対象である上記式（５）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物と、上記式（６）に示されるスルホン酸化合物と、の混合物に応じて、最適な蒸留方法及び温度条件等を適宜選択する。
具体的には、上記式（５）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物と、上記式（６）に示されるスルホン酸化合物と、の混合物を水の存在下で蒸留する場合、上記式（６）に示されるスルホン酸化合物が水和物を形成して沸点が大きく上昇するため、これらを考慮した蒸留方法（例えば、減圧蒸留等）や、温度条件を用いる。
The distillation according to the present invention is an optimum distillation method and temperature depending on the mixture of the fluorine-containing sulfonylimide compound represented by the above formula (5) and the sulfonic acid compound represented by the above formula (6) to be separated. Conditions are selected as appropriate.
Specifically, when a mixture of the fluorine-containing sulfonylimide compound represented by the above formula (5) and the sulfonic acid compound represented by the above formula (6) is distilled in the presence of water, the above formula (6) Since the boiling point of the sulfonic acid compound shown in (2) forms a hydrate and the boiling point increases greatly, a distillation method (for example, vacuum distillation or the like) and temperature conditions taking these into consideration are used.
ところで、上記式（５）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物と、上記式（６）に示されるスルホン酸化合物と、の混合物をそのまま蒸留する場合では、互いの沸点が近いため、蒸留による分離が困難であった。
具体的には、上記式（５）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物としてビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド［（ＣＦ３ＳＯ２）２ＮＨ］を、上記式（６）に示されるスルホン酸化合物としてトリフルオロメチルスルホン酸（ＣＦ３ＳＯ３Ｈ）を用いた場合には、沸点はそれぞれ１６３℃、１６２℃と非常に近いため、高純度で精製することは困難であった。
By the way, in the case where the mixture of the fluorine-containing sulfonylimide compound represented by the above formula (5) and the sulfonic acid compound represented by the above formula (6) is distilled as it is, the boiling points are close to each other. It was difficult.
Specifically, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide [(CF 3 SO 2 ) 2 NH] is used as the fluorine-containing sulfonylimide compound represented by the above formula (5), and the sulfonic acid compound represented by the above formula (6). When trifluoromethylsulfonic acid (CF 3 SO 3 H) was used, the boiling points were very close to 163 ° C. and 162 ° C., respectively, and it was difficult to purify with high purity.
これに対して、上記式（５）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物と、上記式（６）に示されるスルホン酸化合物と、の混合物を水の存在下で蒸留する場合では、上記スルホン酸化合物が水和物を形成して沸点が大きく上昇する。このため、蒸留温度が低い側に上記含フッ素スルホニルイミド化合物が、高い側に上記スルホン酸化合物が分離され、高純度の含フッ素スルホニルイミド化合物を得ることができる。
具体的には、上記式（５）に示される含フッ素スルホニルイミド化合物としてビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド［（ＣＦ３ＳＯ２）２ＮＨ］を、上記式（６）に示されるスルホン酸化合物としてトリフルオロメチルスルホン酸（ＣＦ３ＳＯ３Ｈ）を用いた場合には、スルホン酸化合物の水和物の沸点が約２６０℃に上昇するため、高純度で精製することが可能である。
On the other hand, when the mixture of the fluorine-containing sulfonylimide compound represented by the above formula (5) and the sulfonic acid compound represented by the above formula (6) is distilled in the presence of water, the above sulfonic acid compound is used. Forms a hydrate and the boiling point increases significantly. For this reason, the said fluorine-containing sulfonylimide compound is isolate | separated to the side with low distillation temperature, and the said sulfonic acid compound is isolate | separated to the high side, and a highly purified fluorine-containing sulfonylimide compound can be obtained.
Specifically, bis (trifluoromethanesulfonyl) imide [(CF 3 SO 2 ) 2 NH] is used as the fluorine-containing sulfonylimide compound represented by the above formula (5), and the sulfonic acid compound represented by the above formula (6). When trifluoromethylsulfonic acid (CF 3 SO 3 H) is used, since the boiling point of the hydrate of the sulfonic acid compound rises to about 260 ° C., it can be purified with high purity.
以上説明したように、本発明の含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法によれば、含フッ素スルホニルイミド化合物とスルホン酸化合物とを水の存在下で蒸留することにより、含フッ素スルホニルイミド酸とスルホン酸とを効率的に分離、精製することが可能となる。したがって、簡便な操作により、高収率の精製が可能な含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法を提供することができる。 As described above, according to the method for producing a fluorine-containing sulfonylimide compound of the present invention, a fluorine-containing sulfonylimide acid and a sulfonic acid are obtained by distilling the fluorine-containing sulfonylimide compound and the sulfonic acid compound in the presence of water. Can be efficiently separated and purified. Therefore, it is possible to provide a method for producing a fluorine-containing sulfonylimide compound that can be purified at a high yield by a simple operation.
以下、実施例によって本発明の効果をさらに詳細に説明する。なお、本発明は実施例によって、なんら限定されるものではない。 Hereinafter, the effects of the present invention will be described in more detail by way of examples. In addition, this invention is not limited at all by the Example.
（実施例１）
＜（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）２ＮＫの合成＞
１Ｌのフラスコに２０％アンモニア水５００ｇを仕込み、４０℃にてヘプタフルオロプロパンスルホニルフロライド（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２Ｆ）３００ｇを滴下して、ヘプタフルオロプロパンスルホンアミド（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２ＮＨ２）を合成した。その後、反応液に４８％水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液２８０ｇを加えて、濃縮した。
１Ｌのフラスコに、濃縮物８１ｇとヘプタフルオロプロパンスルホニルフロライド（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２Ｆ）５７ｇを仕込み、溶媒としてアセトニトリル３００ｇを用いて４０℃にて２０時間撹拌した。その後不溶物をろ過し、ろ液からアセトニトリルを留去して白色結晶１０３ｇを得た。得られた結晶は１９Ｆ−ＮＭＲより、ビス（ヘプタフルオロプロパンスルホニル）イミドカリウム塩（（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）２ＮＫ）８６ｇとへプタフルオロプロパンスルホン酸カリウム塩（Ｃ３Ｆ７ＳＯ３Ｋ）１７ｇの混合物であった。
Example 1
<Synthesis of (C 3 F 7 SO 2 ) 2 NK>
A 1 L flask is charged with 500 g of 20% aqueous ammonia, 300 g of heptafluoropropanesulfonyl fluoride (C 3 F 7 SO 2 F) is added dropwise at 40 ° C., and heptafluoropropane sulfonamide (C 3 F 7 SO 2 NH) is added. 2 ) was synthesized. Thereafter, 280 g of 48% potassium hydroxide (KOH) aqueous solution was added to the reaction solution, and the mixture was concentrated.
A 1 L flask was charged with 81 g of the concentrate and 57 g of heptafluoropropanesulfonyl fluoride (C 3 F 7 SO 2 F), and stirred at 40 ° C. for 20 hours using 300 g of acetonitrile as a solvent. Thereafter, insoluble matters were filtered off, and acetonitrile was distilled off from the filtrate to obtain 103 g of white crystals. From 19F-NMR, the obtained crystals were obtained from 86 g of bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide potassium salt ((C 3 F 7 SO 2 ) 2 NK) and potassium heptafluoropropane sulfonate (C 3 F 7 SO 3 K). ) 17 g of the mixture.
＜（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）２ＮＨの精製＞
この混合物１０３ｇと９０％硫酸１５０ｇを仕込み、１００℃、５ｔｏｒｒで減圧蒸留を行い、７８ｇのビス（ヘプタフルオロプロパンスルホニル）イミド（（Ｃ３Ｆ７ＳＯ２）２ＮＨ）を得た。（収率９８％）
得られたビス（ヘプタフルオロプロパンスルホニル）イミドの１９Ｆ−ＮＭＲによる測定の結果、へプタフルオロプロパンスルホン酸（Ｃ３Ｆ７ＳＯ３Ｈ）は検出されなかった。
<Purification of (C 3 F 7 SO 2 ) 2 NH>
103 g of this mixture and 150 g of 90% sulfuric acid were charged and distilled under reduced pressure at 100 ° C. and 5 torr to obtain 78 g of bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide ((C 3 F 7 SO 2 ) 2 NH). (Yield 98%)
As a result of 19F-NMR measurement of the obtained bis (heptafluoropropanesulfonyl) imide, heptafluoropropanesulfonic acid (C 3 F 7 SO 3 H) was not detected.
（実施例２）
実施例１と同様の製法で得られたビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウム塩（（ＣＦ３ＳＯ２）２ＮＫ）とトリフルオロメタンスルホン酸カリウム（ＣＦ３ＳＯ３Ｋ）の混合物（ＣＦ３ＳＯ３Ｋを１０重量％含有）６０ｇと９０％硫酸水溶液１５３ｇを加え、１３０℃、５０ｔｏｒｒで減圧蒸留を行い、４７ｇのビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（（ＣＦ３ＳＯ２）２ＮＨ）を得た。（収率９９％）
得られたビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの１９Ｆ−ＮＭＲによる測定の結果、トリフルオロメタンスルホン酸（ＣＦ３ＳＯ３Ｈ）は検出されなかった。
(Example 2)
A mixture (CF 3 SO 3 ) of bis (trifluoromethanesulfonyl) imide potassium salt ((CF 3 SO 2 ) 2 NK) and potassium trifluoromethanesulfonate (CF 3 SO 3 K) obtained by the same production method as in Example 1. 60 g of K (containing 10 wt%) and 153 g of 90% sulfuric acid aqueous solution were added, and vacuum distillation was performed at 130 ° C. and 50 torr to obtain 47 g of bis (trifluoromethanesulfonyl) imide ((CF 3 SO 2 ) 2 NH). (Yield 99%)
As a result of 19F-NMR measurement of the obtained bis (trifluoromethanesulfonyl) imide, trifluoromethanesulfonic acid (CF 3 SO 3 H) was not detected.
（比較例１）
実施例２と同じビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウム塩（（ＣＦ３ＳＯ２）２ＮＫ）とトリフルオロメタンスルホン酸カリウム（ＣＦ３ＳＯ３Ｋ）の混合物（ＣＦ３ＳＯ３Ｋを１０重量％含有）６０ｇと１００％硫酸１３８ｇを加え、１３０℃、５０ｔｏｒｒで蒸留を行い、５０ｇの留分を得た。
得られた留分の１９Ｆ−ＮＭＲによる測定の結果、ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドの他にトリフルオロメタンスルホン酸（ＣＦ３ＳＯ３Ｈ）が９重量％検出された。
(Comparative Example 1)
Example 2 and the same bis (trifluoromethanesulfonyl) imide potassium salt ((CF 3 SO 2) 2 NK) and mixture (CF 3 SO 3 K 10 wt% content of potassium trifluoromethanesulfonate (CF 3 SO 3 K) ) 60 g and 100% sulfuric acid 138 g were added, and distillation was performed at 130 ° C. and 50 torr to obtain 50 g of a fraction.
As a result of 19F-NMR measurement of the obtained fraction, 9% by weight of trifluoromethanesulfonic acid (CF 3 SO 3 H) was detected in addition to bis (trifluoromethanesulfonyl) imide.
Claims (4)
（Ｒｆ１ＳＯ２）（Ｒｆ２ＳＯ２）ＮＨ ・・・（１）
ＲｆＳＯ３Ｈ・・（２）
但し、上記式（１）において、Ｒｆ１、Ｒｆ２は、フッ素又は炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆ１とＲｆ２とがいずれもフッ素である組合せを除く。
また、上記式（２）において、Ｒｆは、炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基である。 Production of a fluorine-containing sulfonylimide compound, wherein a mixture of a fluorine-containing sulfonylimide compound represented by the following formula (1) and a sulfonic acid compound represented by the following formula (2) is distilled in the presence of water. Method.
(Rf 1 SO 2 ) (Rf 2 SO 2 ) NH (1)
RfSO 3 H (2)
However, in the above formula (1), Rf 1 and Rf 2 are fluorine or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a combination in which Rf 1 and Rf 2 are both fluorine. except for.
In the above formula (2), Rf is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
（Ｒｆ１ＳＯ２）（Ｒｆ２ＳＯ２）Ｎ・Ｍ ・・・（３）
ＲｆＳＯ３・Ｍ・・（４）
但し、上記式（３）において、Ｒｆ１、Ｒｆ２は、フッ素又は炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基であり、Ｒｆ１とＲｆ２とがいずれもフッ素である組合せを除く。
また、上記式（４）において、Ｒｆは、炭素数１〜４の直鎖状あるいは分岐状のペルフルオロアルキル基である。
また、上記式（３）、（４）において、Ｍは、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素およびオニウムイオンである。 2. A distillation comprising adding an acidic solution to a mixture of a fluorine-containing sulfonylimide compound salt represented by the following formula (3) and a sulfonic acid compound salt represented by the following formula (4): 2. The method for producing a fluorine-containing sulfonylimide compound according to 2.
(Rf 1 SO 2 ) (Rf 2 SO 2 ) N · M (3)
RfSO 3 , M (4)
However, in the above formula (3), Rf 1 and Rf 2 are fluorine or a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a combination in which Rf 1 and Rf 2 are both fluorine. except for.
In the above formula (4), Rf is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
In the above formulas (3) and (4), M is an alkali metal element, an alkaline earth metal element, and an onium ion.
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