JP2011235461A - Method for producing plastic lens or optical waveguide - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a plastic lens or an optical waveguide which can provide a cured material high in transparency even when its thickness is at least 0.2 mm by an optical imprint method, maintain a high throughput without lowering the illuminance of an exposure machine, sufficiently carry out curing even when a polydimethylsiloxane resin having oxygen permeability is used for a mold material, and can reduce the deterioration of a mold.SOLUTION: In the method for producing the plastic lens or the optical waveguide which is obtained by arranging a light source, the light transmittable mold, and a photosetting resin composition in this order and photo-curing the photosetting resin composition by making it to be irradiated with light through the light transmitting mold, the light transmittable mold has light diffusing properties.

Description

本発明は、光硬化性樹脂組成物を用いた、プラスチックレンズ、例えば、撮像用の光学レンズ、LED用のレンズ、及び光導波路の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a plastic lens, for example, an imaging optical lens, an LED lens, and an optical waveguide, using the photocurable resin composition.

微細なパターン形成を低コストで行うための新たな技術として、インプリント技術の開発が進められており、下記の特許文献1〜4などにおいて開示されている。
これは、表面にレンズ形状など微細な凹凸(型パターン)が形成された型(以下、「モールド」ともいう)を用いて被加工材に対して型押しすることにより所定のパターンを被加工材に転写するものである。このインプリント技術には、被加工材の材料に応じて熱インプリント方式と光インプリント方式の2つに大別される。
As a new technique for forming a fine pattern at a low cost, an imprint technique is being developed, and is disclosed in the following Patent Documents 1 to 4 and the like.
This is because a predetermined pattern is formed by pressing a workpiece against a workpiece using a mold (hereinafter also referred to as a “mold”) in which fine irregularities (mold pattern) such as a lens shape are formed on the surface. Is to be transferred to. This imprint technique is roughly classified into a thermal imprint method and an optical imprint method according to the material of the workpiece.

熱インプリント方式は、基板上に転写する樹脂材料として熱可塑性樹脂を載置し、この熱可塑性樹脂をガラス転移温度以上まで加熱することにより軟化させた状態で、型を軟化した樹脂上からプレスして、凹凸形状が転写された樹脂成形部材を得ることができるが、加熱と冷却に長時間掛かるため、スループットが低い事と、熱膨張と収縮により、寸法精度が低い事が欠点となっている。これに対して、光インプリントは室温に近い温度でモールド成型できるため、高スループットと高精度で熱インプリントより優れている。   In the thermal imprint method, a thermoplastic resin is placed as a resin material to be transferred onto a substrate, and the thermoplastic resin is softened by heating up to a glass transition temperature or higher, and the mold is pressed from above the softened resin. Thus, it is possible to obtain a resin molded member having a concavo-convex shape transferred thereto, but since it takes a long time for heating and cooling, the disadvantage is low throughput and low dimensional accuracy due to thermal expansion and contraction. Yes. On the other hand, since optical imprinting can be molded at a temperature close to room temperature, it is superior to thermal imprinting with high throughput and high accuracy.

光インプリント方式では基板上に被加工材として光硬化性樹脂組成物を載置し、光硬化性樹脂組成物に型をプレスし、これに紫外線(UV)を照射することにより光硬化性樹脂組成物を硬化させて、型の3次元形状(凹凸形状)を転写して樹脂成型部材を得る。   In the photoimprint method, a photocurable resin composition is placed on a substrate as a work material, a mold is pressed on the photocurable resin composition, and the photocurable resin is irradiated with ultraviolet rays (UV). The composition is cured, and a three-dimensional shape (uneven shape) of the mold is transferred to obtain a resin molded member.

特開2007−186570号公報JP 2007-186570 A 特開2007−176037号公報JP 2007-176037 A 特開2007−150053号公報JP 2007-150053 A 特開2004−34300号公報JP 2004-34300 A 特開平6−8252号公報JP-A-6-8252

光インプリント方式は高精度加工、高スループットが実現可能であるが、厚みが0.2mmを超えるような厚みのあるものを光インプリント方式で作成すると、光硬化性樹脂組成物の不均一な硬化により、樹脂内部にうねりやむらのようなものができ、硬化物の透明性が落ちる問題があった。特許文献5にはこのような光硬化でできるむらを解消するために、露光光源と型の間に光拡散板を挿入することが開示されている。
しかしながら、装置上、光拡散板を設置しにくく煩雑である場合や、装置の構造上設置できない場合があった。また簡単に設置可能な場合でも、光拡散板と光硬化性樹脂組成物との距離が少しでも離れた場合、拡散板からの出射光が周辺に約20〜30%広がるのと、間に空気層が存在する事により、光拡散板と空気界面反射で約4%、空気と光硬化性樹脂組成物との界面反射で約4%の計約8%の照度の減衰が起こり、光硬化性樹脂組成物に直接当たる光量が下がってしまい、スループットが落ちてしまうという問題があった。
The optical imprint method can achieve high-precision processing and high throughput, but if a material with a thickness exceeding 0.2 mm is created by the photo-imprint method, the photo-curable resin composition is unevenly cured. As a result, undulations and irregularities can be formed inside the resin, and the transparency of the cured product is reduced. Patent Document 5 discloses that a light diffusing plate is inserted between an exposure light source and a mold in order to eliminate such unevenness caused by photocuring.
However, there are cases where it is difficult to install the light diffusing plate on the apparatus and it may be difficult to install due to the structure of the apparatus. Further, even when it can be easily installed, when the distance between the light diffusing plate and the photocurable resin composition is even a little, the light emitted from the diffusing plate spreads by about 20 to 30% around the air, Due to the presence of the layer, the light diffusing plate and air interface reflection are reduced by about 4%, and the interface reflection between air and the photocurable resin composition is about 4%. There was a problem that the amount of light directly hitting the resin composition was reduced, resulting in a decrease in throughput.

特に酸素透過性のあるポリジメチルシロキサン(以下PDMS)樹脂をモールド材料として用いて、光硬化性樹脂組成物として光ラジカル硬化型の光硬化性樹脂組成物では、酸素硬化阻害の対策に高露光量が必要で、光量が下がると、得られた硬化物のモールド側に、タック性がある状態のままモールドをはがすことになり、得られた硬化物としては表面硬化が不十分となり、また、モールドの劣化が早くなるといった問題もあった。
本発明は上記従来の問題を解決するものであり、透明性の高い厚みのある光学部材を高スループットで形成でき、酸素透過性の高いPDMS樹脂をモールド材料としてを用いた場合でも十分硬化でき、モールドの寿命も長くすることができる。
In particular, a photo-curing resin composition that uses oxygen-permeable polydimethylsiloxane (PDMS) resin as a mold material and a photo-curing resin composition as a photo-curing resin composition has a high exposure to prevent oxygen curing. If the amount of light is reduced, the mold will be peeled off while maintaining the tackiness on the mold side of the resulting cured product, and the resulting cured product will have insufficient surface curing. There was also a problem that the deterioration of the product was accelerated.
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, can form an optical member having a high transparency with a high throughput, can be sufficiently cured even when a PDMS resin having a high oxygen permeability is used as a molding material, The life of the mold can also be extended.

本発明者らは、上記した従来技術の問題に鑑みて、鋭意検討し実験を重ねた結果、光源、光透過性モールド及び光硬化性樹脂組成物をこの順で配置し、光拡散性を有する光透過性モールドを用いてプラスチックレンズ又は拡散板を製造することで、上記の課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。   In light of the above-described problems of the prior art, the present inventors have conducted extensive studies and repeated experiments. As a result, the light source, the light-transmitting mold, and the photocurable resin composition are arranged in this order and have light diffusibility. It has been found that the above problems can be solved by producing a plastic lens or a diffuser plate using a light-transmitting mold, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は以下の通りである。
[1]光源、光透過性モールド及び光硬化性樹脂組成物をこの順で配置し、光透過性モールドを通して光を照射して光硬化性樹脂組成物を光硬化させて得られるプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法において、光透過性モールドが光拡散性を有する、プラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。
[2]上記光透過性モールドの365nmにおけるヘーズ値が50%以上であり、且つ、365nmにおける光透過率が80%以上である、上記[1]に記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。
[3]上記光透過性モールドが、光硬化性樹脂組成物側の面に厚みが0.2mm〜5mmの型パターンを有し、光源側の面に厚み0.1μm〜50μmの凹凸形状を有する、上記[1]又は[2]に記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。
[4]上記0.1μm〜50μmの凹凸形状が、球状又は半球状である、[3]記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。
[5]上記光透過性モールドが、モールド内部にモールド材料とは異なる屈折率の微粒子を分散させたモールドである、上記[1]〜[4]のいずれか一つに記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。
That is, the present invention is as follows.
[1] A plastic lens or light obtained by arranging a light source, a light transmissive mold, and a light curable resin composition in this order, and irradiating light through the light transmissive mold to light cure the light curable resin composition. In the manufacturing method of a waveguide, the manufacturing method of the plastic lens or optical waveguide whose light-transmitting mold has light diffusibility.
[2] The method for producing a plastic lens or optical waveguide according to [1] above, wherein the light transmissive mold has a haze value at 365 nm of 50% or more and a light transmittance at 365 nm of 80% or more.
[3] The light-transmitting mold has a mold pattern with a thickness of 0.2 mm to 5 mm on the surface on the photocurable resin composition side, and has an uneven shape with a thickness of 0.1 μm to 50 μm on the surface on the light source side. The manufacturing method of the plastic lens or optical waveguide as described in said [1] or [2].
[4] The method for producing a plastic lens or optical waveguide according to [3], wherein the uneven shape of 0.1 μm to 50 μm is spherical or hemispherical.
[5] The plastic lens or the light according to any one of [1] to [4], wherein the light transmissive mold is a mold in which fine particles having a refractive index different from that of a mold material are dispersed inside the mold. A method for manufacturing a waveguide.

[6]上記光透過性モールドが、ポリジメチルシロキサンを原料とするモールドである上記[1]〜[5]のいずれか一つに記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。
[7]上記光透過性モールドが、石英又はガラス上に型パターンを有する樹脂を積層して得られたモールドであり、該石英又はガラスが光拡散性を有する、上記[1]〜[5]のいずれか一つに記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。
[8]上記型パターンを有する樹脂が、ポリジメチルシロキサンである上記[7]に記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。
[9]上記光透過性モールドが、光拡散性を有する支持体上に型パターンを有する部材を型パターン面が外側になるように積層して得られたモールドであって、該支持体と該型パターンを有する部材との屈折率差が0.1以下である、上記[1]〜[8]のいずれか一つに記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。
[10]上記光透過性モールドが、光拡散性を有する支持体として石英又はガラスを、型パターンを有する部材としてポリジメチルシロキサンを用い、両者の間に空気が存在しないように積層したモールドである、上記[9]に記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。
[6] The method for producing a plastic lens or optical waveguide according to any one of [1] to [5], wherein the light transmissive mold is a mold made of polydimethylsiloxane as a raw material.
[7] The above light-transmitting mold is a mold obtained by laminating a resin having a mold pattern on quartz or glass, and the quartz or glass has light diffusibility, [1] to [5] The manufacturing method of the plastic lens or optical waveguide as described in any one of these.
[8] The method for producing a plastic lens or optical waveguide according to [7], wherein the resin having the mold pattern is polydimethylsiloxane.
[9] The light transmissive mold is a mold obtained by laminating a member having a mold pattern on a support having light diffusibility so that the mold pattern surface is on the outside, and the support and the mold The method for producing a plastic lens or optical waveguide according to any one of the above [1] to [8], wherein a difference in refractive index from a member having a mold pattern is 0.1 or less.
[10] The light transmissive mold is a mold in which quartz or glass is used as a support having light diffusibility, polydimethylsiloxane is used as a member having a mold pattern, and laminated so that no air exists between the two. The method for producing a plastic lens or optical waveguide according to [9] above.

以上により、本発明によれば光インプリント法で0.2mm以上の厚みでも透明性の高い硬化物が得られ、露光機の照度を落とすことがなく高スループットを維持でき、酸素透過性のあるPDMS樹脂をモールド材料に用いた場合でも、十分に硬化出来、モールドの劣化を少なくすることができる。   As described above, according to the present invention, a highly transparent cured product can be obtained even with a thickness of 0.2 mm or more by the optical imprint method, high throughput can be maintained without reducing the illuminance of the exposure machine, and oxygen-permeable PDMS. Even when a resin is used as a molding material, it can be cured sufficiently and the deterioration of the mold can be reduced.

以下、本発明のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法を詳細に説明する。
本発明の製造方法においては、光源、光透過性モールド及び光硬化性樹脂組成物をこの順で配置し、光透過性モールドを通して光を照射して光硬化性樹脂組成物を光硬化させて得られ、光透過性モールドが光拡散性を有する。
光透過性モールドの365nmにおけるヘーズ値は、50%以上であり、且つ、365nmにおける透過率が80%以上であることが好ましい。
上記ヘーズ値は50%以上が好ましく、60%以上がより好ましい。得られる硬化物(プラスチックレンズ又は光導波路)の透明性の観点から、50%以上が好ましい。ヘーズ値はJIS K-7136によって測定される。
また光透過性モールドの365nmにおける光透過率は80%以上が好ましく、90%以上がさらに好ましい。得られる硬化物(プラスチックレンズ又は光導波路)の機械物性の観点から、光透過率は80%以上が好ましい。365nmにおける光透過率は、JIS K-7361-1で測定される。
Hereinafter, the manufacturing method of the plastic lens or optical waveguide of the present invention will be described in detail.
In the production method of the present invention, a light source, a light-transmitting mold, and a photocurable resin composition are arranged in this order, and the photocurable resin composition is photocured by irradiating light through the light-transmitting mold. The light transmissive mold has light diffusibility.
The haze value at 365 nm of the light transmissive mold is preferably 50% or more, and the transmittance at 365 nm is preferably 80% or more.
The haze value is preferably 50% or more, and more preferably 60% or more. From the viewpoint of transparency of the obtained cured product (plastic lens or optical waveguide), 50% or more is preferable. The haze value is measured according to JIS K-7136.
The light transmittance at 365 nm of the light transmissive mold is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. From the viewpoint of mechanical properties of the obtained cured product (plastic lens or optical waveguide), the light transmittance is preferably 80% or more. The light transmittance at 365 nm is measured by JIS K-7361-1.

光透過性モールドに光拡散性を持たせる方法としては、例えば、
1)モールドの凹凸面(パターン面、その厚みは0.2mm〜5mmであることが好ましい)と反対になる側(光源側)に、サンドブラストや型押し成型などの方法で厚み0.1μm〜50μmの凹凸形状を形成する方法、
2)光拡散剤を塗布する方法、
3)モールド内部に、モールド材料とは異なる屈折率の微粒子を練り混ぜて分散させる方法、
などが挙げられる。
As a method of giving light diffusibility to the light transmissive mold, for example,
1) On the side (light source side) opposite to the uneven surface of the mold (pattern surface, preferably the thickness is 0.2 mm to 5 mm), the thickness is 0.1 μm to 50 μm by a method such as sandblasting or embossing molding. A method of forming an uneven shape,
2) A method of applying a light diffusing agent,
3) A method in which fine particles having a refractive index different from that of the mold material are mixed and dispersed inside the mold,
Etc.

上記1)の方法においては、光拡散性を有する石英又はガラス上に型パターンを有する樹脂を積層して得られたモールドを用いることができる。
この場合、光拡散性を有する石英又はガラスが、型パターンを有する樹脂(例えば、PDMS樹脂)を支持することができ、光照射時に有る程度の圧力をかけることが出来るため、好ましい。光拡散性を有する石英又はガラスは、その表面に厚み0.1μm〜50μmの凹凸形状を形成することで得ることができる。
また、厚み0.1μm〜50μmの凹凸形状は、球状又は半球状であることが、三角形状よりもガラスとの入射角が大きくなるため、表面での反射が減り光硬化性樹脂組成物への入射光量が高くできるので望ましい。凹凸形状の厚みは、0.5μm〜10μmであることが更に好ましい。
また、光透過性モールドの材料としては、石英やガラス、PDMS樹脂を用いることができる。
In the method 1), a mold obtained by laminating a resin having a mold pattern on quartz or glass having light diffusibility can be used.
In this case, quartz or glass having light diffusibility is preferable because it can support a resin having a mold pattern (for example, PDMS resin) and can apply a certain pressure during light irradiation. Quartz or glass having light diffusibility can be obtained by forming an uneven shape with a thickness of 0.1 μm to 50 μm on the surface thereof.
Moreover, since the uneven | corrugated shape of thickness 0.1 micrometer-50 micrometers is spherical or hemispherical, since the incident angle with glass becomes larger than a triangular shape, reflection on the surface decreases and it becomes a photocurable resin composition. This is desirable because the amount of incident light can be increased. The thickness of the uneven shape is more preferably 0.5 μm to 10 μm.
Moreover, quartz, glass, and PDMS resin can be used as the material for the light transmissive mold.

上記3)の方法においては、例えばPDMSやポリメタクリル酸メチル(PMMA)などモールドの材料と屈折率の異なる微粒子を用いればよい。このような微粒子の部材としてはシリカ、アルミナ、タルク、ジルコニア、酸化亜鉛、二酸化チタンなどの無機系の微粒子、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリウレタン、ベンゾグアナミン、シリコーン樹脂などの有機系の微粒子を使用することができる。微粒子の形状は球形が好ましく、粒子径の直径は0.1μm〜20μmが好ましく、0.1μm〜10μmが更に好ましい。これらの微粒子は、表面での反射が減り光硬化性樹脂組成物への入射光量が高くできる観点から好ましい。
粒子径の直径は、モールドの光透過性の観点から、0.5μm〜5μmであることが最も好ましい。また、モールドの光硬化性樹脂組成物と接する表面に微粒子の形状がでてこないようにするため、透明凹凸モールド層と光拡散剤を練りこんだ層を2層にすることが好ましい。
In the above method 3), for example, fine particles having a refractive index different from that of the mold material such as PDMS and polymethyl methacrylate (PMMA) may be used. As such fine particle members, inorganic fine particles such as silica, alumina, talc, zirconia, zinc oxide and titanium dioxide, and organic fine particles such as polymethyl methacrylate, polystyrene, polyurethane, benzoguanamine and silicone resin should be used. Can do. The shape of the fine particles is preferably spherical, and the diameter of the particle diameter is preferably 0.1 μm to 20 μm, more preferably 0.1 μm to 10 μm. These fine particles are preferable from the viewpoint of reducing reflection on the surface and increasing the amount of light incident on the photocurable resin composition.
The diameter of the particle diameter is most preferably 0.5 μm to 5 μm from the viewpoint of light transmittance of the mold. Further, in order to prevent the shape of the fine particles from appearing on the surface of the mold in contact with the photocurable resin composition, it is preferable that the transparent concavo-convex mold layer and the layer in which the light diffusing agent is kneaded are made into two layers.

また、モールドとして、光拡散性を有する支持体上に凹凸面(モールドの型パターン面)を有する部材を凹凸面が外側になるように積層して得られたモールドを用いる場合、積層した界面での反射を減らす観点から光拡散性を有する支持体と凹凸面を有する部材との屈折率差が0.1以下であるモールドであることが好ましい。
また、上記支持体と凹凸面を有する部材との間には空気層が存在しないようにすることが好ましい。
これは、光拡散性を有する支持体を透過した光は拡散光となるため、凹凸面を有する部材に入射する前に空気の層を透過すると、空気界面での反射が大きくなり拡散光(Td)と直進光(Tt)との比が小さくなりヘーズ値の低下を招いてしまうため、また、空気層の存在によって透過率全体の低下は約10%近くなるためである。
そして、空気層が形成されないように積層する観点から、光拡散性を有する支持体の材料はガラス又は石英であり、凹凸面を有する部材の材料はPDMSであることが好ましい。
In addition, when using a mold obtained by laminating a member having a concavo-convex surface (mold pattern surface) on a support having light diffusibility so that the concavo-convex surface is on the outside, From the viewpoint of reducing the reflection of light, it is preferable that the mold has a refractive index difference of 0.1 or less between the support having light diffusibility and the member having an uneven surface.
Moreover, it is preferable that an air layer does not exist between the said support body and the member which has an uneven surface.
This is because light that has passed through a support having light diffusibility becomes diffused light. Therefore, if light passes through a layer of air before entering a member having an uneven surface, reflection at the air interface increases and diffused light (Td ) And the straight light (Tt) are reduced and the haze value is lowered, and the entire transmittance is reduced by about 10% due to the presence of the air layer.
From the viewpoint of laminating so as not to form an air layer, the material of the support having light diffusibility is preferably glass or quartz, and the material of the member having an uneven surface is preferably PDMS.

光硬化性樹脂組成物としては、(メタ)アクリロイル基を有する樹脂と光重合開始剤を含有するものであることが好ましい。(メタ)アクリロイル基を有する樹脂としては、例えば、下記のポリオルガノシロキサンを用いることができる。
ポリオルガノシロキサンは、少なくとも下記一般式(1):
(R4−n−(Si)−(OR・・・・・(1)
{式中、Rは、水素原子、フェニル基又は炭素数1〜17の1価の有機基であり、Rは、水素原子、炭素数1〜5のアルキル基又は炭素数1〜18の有機基であり、そしてnは、1〜から4の整数であり、RとRは、複数存在する場合、同一であっても異なっていてもよい。}で表されるオルガノシランを原料とする縮合物である。
The photocurable resin composition preferably contains a resin having a (meth) acryloyl group and a photopolymerization initiator. As the resin having a (meth) acryloyl group, for example, the following polyorganosiloxane can be used.
The polyorganosiloxane is at least the following general formula (1):
(R 1 ) 4-n- (Si)-(OR 2 ) n (1)
{In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a phenyl group, or a monovalent organic group having 1 to 17 carbon atoms; and R 2 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or a C 1 to 18 carbon atom. It is an organic group, and n is an integer of 1 to 4, and when a plurality of R 1 and R 2 are present, they may be the same or different. } Is a condensate made from an organosilane represented by

保存の対象となるポリオルガノシロキサンは、シランに結合したアルコキシ基又はシランに結合した水酸基が存在する場合、更に光重合性基が存在する場合、本発明の保存方法により、その効果が顕著に発現する。   The polyorganosiloxane to be stored has a remarkable effect by the storage method of the present invention when an alkoxy group bonded to silane or a hydroxyl group bonded to silane is present, and further when a photopolymerizable group is present. To do.

シランに結合したアルコキシ基又はシランに結合した水酸基を有するポリオルガノシロキサンは、少なくとも1種のシラノール化合物{上記一般式(1)において複数のRが、それぞれ独立に、芳香族基を少なくとも1つ含む炭素数6〜18の有機基であり、そしてRが水素原子である。}と、少なくとも1種のアルコキシシラン化合物{上記一般式(1)においてRが、エポキシ基及び炭素−炭素二重結合基からなる群より選択される基を少なくとも1つ含む炭素数2〜17の有機基であり、複数存在する場合Rは同一であっても異なっていてもよく、Rが、それぞれ独立に、メチル基又はエチル基であり、そしてnが、2又は3の整数である。}と、触媒とを混合し、積極的に水を添加することなく重合させる方法で得られる。 The polyorganosiloxane having an alkoxy group bonded to silane or a hydroxyl group bonded to silane has at least one silanol compound {in the general formula (1), each of a plurality of R 1 s independently has at least one aromatic group. An organic group having 6 to 18 carbon atoms, and R 2 is a hydrogen atom. } And at least one alkoxysilane compound {wherein R 1 in the general formula (1) contains at least one group selected from the group consisting of an epoxy group and a carbon-carbon double bond group. R 1 may be the same or different when there are a plurality of organic groups, R 2 is each independently a methyl group or an ethyl group, and n is an integer of 2 or 3 is there. } And a catalyst, and polymerized without positively adding water.

好適なシラノール化合物としては、ジフェニルシランジオール、ジ−p−トルイルシランジオール、ジ−p−スチリルシランジオール、ジナフチルシランジオールなどが挙げられるが、共重合、耐熱性の観点などを考慮すると、ジフェニルシランジオール(以下、「DPD」ともいう。)が特に好適である。   Suitable silanol compounds include diphenyl silane diol, di-p-toluyl silane diol, di-p-styryl silane diol, dinaphthyl silane diol, and the like. In view of copolymerization, heat resistance, etc., diphenyl silane Silane diol (hereinafter also referred to as “DPD”) is particularly suitable.

好適なアルコキシシラン化合物としては、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルメチルトリメトキシシラン、ビニルエチルトリメトキシシラン、ビニルメチルトリエトキシシラン、ビニルエチルトリエトキシシラン、1−プロペニルトリメトキシシラン、1−プロペニルトリエトキシシラン、2−プロペニルトリメトキシシラン、2−プロペニルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、p−スチリルトリエトキシシラン、p−(1−プロペニルフェニル)トリメトキシシラン、p−(1−プロペニルフェニル)トリエトキシシラン、p−(2−プロペニルフェニル)トリメトキシシラン、p−(2−プロペニルフェニル)トリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、p−スチリルメチルジメトキシシラン、p−スチリルメチルジエトキシシランなどが挙げられる。   Suitable alkoxysilane compounds include 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3- Glycidoxypropyltriethoxysilane, vinylmethyltrimethoxysilane, vinylethyltrimethoxysilane, vinylmethyltriethoxysilane, vinylethyltriethoxysilane, 1-propenyltrimethoxysilane, 1-propenyltriethoxysilane, 2-propenyltri Methoxysilane, 2-propenyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acrylo Cypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, p-styryltriethoxysilane, p- (1-propenylphenyl) trimethoxysilane, p- (1-propenylphenyl) triethoxysilane, p- (2-propenyl) Phenyl) trimethoxysilane, p- (2-propenylphenyl) triethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, p- Examples include styrylmethyldimethoxysilane and p-styrylmethyldiethoxysilane.

好適なアルコキシシラン化合物としては、さらに、優れたUV−i線感光特性を得るために、光重合性の炭素−炭素二重結合を有する化合物、例えば、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルメチルトリメトキシシラン、ビニルエチルトリメトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、p−スチリルトリエトキシシランがより好ましく、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルメチルトリメトキシシラン、ビニルエチルトリメトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、p−スチリルトリエトキシシランが好ましい。   Suitable alkoxysilane compounds further include compounds having a photopolymerizable carbon-carbon double bond such as 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3- Methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, vinylmethyltrimethoxysilane, vinylethyltrimethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, p-styryltriethoxysilane 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, vinylmethyltrimethoxysilane, vinylethyltrimethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, p-styryltritooxy Silane is preferable.

前記触媒として、シラノール化合物のシラノール基と、アルコキシシラン化合物のアルコキシシリル基との脱アルコール縮合反応を促進する化合物を使用することができる。
好適な触媒としては、下記一般式(2):
(OR・・・・・(2)
{式中、Mは、ケイ素、ゲルマニウム、チタニウム、ジルコニウム、ホウ素又はアルミニウムのいずれかであり、複数のRは、それぞれ独立に、炭素数1〜4のアルキル基であり、そしてnは、3又は4である。}で表される金属アルコキシド(以下、単に「金属アルコキシド」ともいう。)の内の少なくとも1つの触媒、又はアルカリ金属水酸化物及びアルカリ土類金属水酸化物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物が挙げられる。
As the catalyst, a compound that accelerates the dealcoholization condensation reaction between the silanol group of the silanol compound and the alkoxysilyl group of the alkoxysilane compound can be used.
Suitable catalysts include the following general formula (2):
M 1 (OR 3 ) n (2)
{Wherein, M 1 is any one of silicon, germanium, titanium, zirconium, boron, or aluminum, and each of the plurality of R 3 is independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and n is 3 or 4. }, Or at least one catalyst selected from the group consisting of alkali metal hydroxides and alkaline earth metal hydroxides (hereinafter also referred to simply as “metal alkoxides”). The compound of this is mentioned.

上記一般式(2)で示される金属アルコキシドは、シラノール化合物(シラノール基)とアルコキシシラン化合物(アルコキシシリル基)の脱アルコール縮合反応を触媒しつつ、自身もアルコキシ基含有化合物として振る舞って脱アルコール縮合反応に関与し、分子内に取り込まれる形でポリシロキサン又はポリシルセスキオキサン構造を形成する。   The metal alkoxide represented by the above general formula (2) catalyzes the dealcoholization condensation reaction between the silanol compound (silanol group) and the alkoxysilane compound (alkoxysilyl group), and also acts as an alkoxy group-containing compound to dealcoholize. A polysiloxane or polysilsesquioxane structure is formed in a form that participates in the reaction and is incorporated into the molecule.

好適に用いられるシラノール化合物、アルコキシシラン化合物、及び触媒を適宜混合し、加熱することにより、ポリオルガノシロキサンを重合生成させることができる。この際の加熱温度は、生成するポリオルガノシロキサンの重合度を制御する上で重要なパラメーターである。目的の重合度にもよるが、上記原料混合物を70℃〜150℃で加熱し、重合させるのが好ましい。   A polyorganosiloxane can be polymerized by suitably mixing and heating a suitably used silanol compound, alkoxysilane compound, and catalyst. The heating temperature at this time is an important parameter for controlling the degree of polymerization of the polyorganosiloxane produced. Although depending on the desired degree of polymerization, it is preferred that the raw material mixture is heated at 70 ° C. to 150 ° C. for polymerization.

上記シラノール化合物と上記アルコキシシラン化合物を、積極的に水を添加することなく75〜85℃の温度で30〜1時間加水分解するステップを経たものとしては、ドイツ国 Fraunhofer ISC社から「ORMOCER」(登録商標)ONEとして入手することができる。
光硬化性樹脂組成物としては、上記ポリオルガノシロキサンに、光重合開始剤、各種添加剤などを含有してもよい。
As for what passed through the step which hydrolyzes the said silanol compound and the said alkoxysilane compound for 30 to 1 hour at the temperature of 75-85 degreeC, without adding water positively, Fraunhofer ISC Germany "ORMOCER" ( (Registered trademark) ONE.
As a photocurable resin composition, you may contain a photoinitiator, various additives, etc. in the said polyorganosiloxane.

次に、実施例及び比較例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, this invention is not limited to this Example.

<光硬化性樹脂組成物>
DPDとMEMOを1対1モルで混合したのち、積極的に水を添加することなく75〜85℃の温度で30〜1時間加水分解して、光硬化性樹脂としたドイツ国 Fraunhofer ISC社から得たORMCER(登録商標)ONE (ORMOCER ONE合成の反応温度は80℃、反応時間は15分、触媒はBa(OH)Oを0.002モル)に、光ラジカル重合開始剤IRGACURE(登録商標)814(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製) 1.0質量%を添加混合し、0.2μmのフィルターでろ過した後光硬化性樹脂組成物とした。最終粘度としては15ポイズであった。
<Photocurable resin composition>
After mixing DPD and MEMO in a 1: 1 molar ratio, it was hydrolyzed at a temperature of 75 to 85 ° C. for 30 to 1 hour without actively adding water to make a photocurable resin from Fraunhofer ISC of Germany. The obtained ORMCER (registered trademark) ONE (ORMOCER ONE synthesis reaction temperature was 80 ° C., reaction time was 15 minutes, the catalyst was Ba (OH) 2 H 2 O 0.002 mol), radical photopolymerization initiator IRGACURE ( (Registered trademark) 814 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 1.0% by mass was added and mixed, and the mixture was filtered through a 0.2 μm filter to obtain a photocurable resin composition. The final viscosity was 15 poise.

<型パターンを有する部材>
SILPOT184 W/C(東レ・ダウコーニング社製)10.0gにCATALYST184を1.0g加え攪拌し、透明型パターンを有する部材用液とした。
SILPOT184 W/C(東レ・ダウコーニング社製)10.0gにアクリル製微粒子SX−350H(綜研化学社製2.5μm径ビーズ)1gを加えよく攪拌したのち、CATALYST184を1.0g加え攪拌し、拡散型パターンを有する部材用液とした。
透明型パターンを有する部材用液を高さ5mmの壁の付いた箱型の石英製のマスターモールド(5cmx5cm)に液を1mmの厚みで塗布した。真空脱泡を30分間行なった後、80度のホットプレートの上にのせ、硬化させ、室温に放置した。
マスターモールドから1層目のPDMSを剥離せずに、2層目に上記拡散型パターンを有する部材用液をPDMS厚みの合計が2、3、4mmになる様に厚みを変えて塗布し、真空脱泡した後、80度のホットプレートの上にのせ、硬化させた。室温に放置したのち、原版から剥離し厚みを変えた事で光拡散度の異なる3種類(各厚み2、3、4mmで、ヘーズ値%49、75、85)の光拡散性を有する型パターンを有する部材1,2,3を得た。
また、拡散型パターンを有する部材用液を塗布せずに、上記マスターモールドから一層目のPDMSを剥離して、厚み約1mmの透明型パターンを有する部材を得た。
<Member with mold pattern>
1.0 g of CATALYST184 was added to 10.0 g of SILPOT184 W / C (manufactured by Dow Corning Toray) and stirred to obtain a member solution having a transparent pattern.
After adding 1 g of acrylic fine particles SX-350H (2.5 μm diameter beads manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) to 10.0 g of SILPO T184 W / C (manufactured by Dow Corning Toray), 1.0 g of CATALYST 184 is added and stirred to diffuse. A member solution having a mold pattern was obtained.
The liquid for members having a transparent pattern was applied to a box-shaped quartz master mold (5 cm × 5 cm) with a wall having a height of 5 mm to a thickness of 1 mm. After carrying out vacuum defoaming for 30 minutes, it was placed on an 80 degree hot plate, cured, and allowed to stand at room temperature.
Without peeling off the first layer of PDMS from the master mold, apply the component liquid having the above diffusion pattern on the second layer with a thickness changed to 2, 3, 4 mm so that the total PDMS thickness is 2, 3 and 4 mm. After defoaming, it was placed on an 80 degree hot plate and cured. Three types of light diffusive mold patterns with different light diffusivities (each thickness 2, 3, 4 mm, haze value 49, 75, 85) by leaving the substrate at room temperature and then peeling it off and changing the thickness. Members 1, 2, 3 having
Further, without applying the member liquid having a diffusion pattern, the first layer of PDMS was peeled from the master mold to obtain a member having a transparent pattern having a thickness of about 1 mm.

[実施例1]
明昌機工株式会社製ナノインプリント装置を用い、厚み1mmのPC樹脂板をスペーサとして、フッ素樹脂でコート処理したガラス基板上(5cmx5cm、厚み0.7mm)に上述した光硬化性樹脂組成物を滴下し、上述の光拡散性を有する型パターンを有する部材1(屈折率1.41)を、厚み0.7mm支持ガラス(UV光透過性の無アルカリガラス、コーニング製1737、屈折率1.51)上に、両者の間に空気が存在しないように積層して、光透過性モールド1とした。光透過性モールド1のPDMS面を下側(光硬化性樹脂組成物側)にして指で光硬化性樹脂組成物に密着させ、プレスせずに、光硬化性樹脂組成物面での照度が8mW/cm2(365nm波長)で60秒露光した。露光後60秒経過したのち光透過性モールド1をはがし、以下の評価を行った。
結果を表1に示す。
[Example 1]
Using the nanoimprint apparatus manufactured by Myeongchang Kiko Co., Ltd., using the 1 mm thick PC resin plate as a spacer, the above-mentioned photocurable resin composition is dropped on a glass substrate coated with a fluororesin (5 cm × 5 cm, thickness 0.7 mm), The member 1 (refractive index 1.41) having the above-described light diffusive mold pattern is placed on a support glass (non-alkali glass with UV light transmission, Corning 1737, refractive index 1.51) having a thickness of 0.7 mm. The light-transmitting mold 1 was formed by laminating the air so that there was no air between them. With the PDMS surface of the light-transmitting mold 1 facing down (the photocurable resin composition side), the finger is brought into close contact with the photocurable resin composition, and the illuminance on the photocurable resin composition surface is increased without pressing. The film was exposed at 8 mW / cm 2 (365 nm wavelength) for 60 seconds. After 60 seconds from the exposure, the light transmissive mold 1 was peeled off, and the following evaluation was performed.
The results are shown in Table 1.

<評価>
1)表面硬化性:得られた硬化物を指で触って表面タック性を判定した。
表面タック性なし;○
表面タック性有り;×
2)硬化物の外観:得られた硬化物を目視で観察した。
透明むらなし;○
僅かにむらがある;△
はっきりとむら、にごりが見える;×
3)透明性:UV透過率:日立分光光度計 U-3040を用い、リファレンスはなにもいれず、無アルカリガラス基板に貼り付けた状態の硬化物の550nmの透過率を測定した。
<Evaluation>
1) Surface curability: The surface cured property was determined by touching the obtained cured product with a finger.
No surface tackiness; ○
With surface tackiness; ×
2) Appearance of cured product: The obtained cured product was visually observed.
No transparent unevenness; ○
Slightly uneven; △
You can clearly see unevenness; ×
3) Transparency: UV transmittance: Hitachi spectrophotometer U-3040 was used. The transmittance of 550 nm of the cured product in a state of being attached to an alkali-free glass substrate was measured without any reference.

[実施例2〜3]
実施例1において、光拡散性を有する型パターンを有する部材1に換えて、光拡散性を有する型パターンを有する部材2又は3を用いて、光透過性モールド2又は3を作成し、これを用いた以外は、実施例1と同様に行った。
[Examples 2-3]
In Example 1, instead of the member 1 having the light diffusive mold pattern, the light transmissive mold 2 or 3 is prepared by using the member 2 or 3 having the light diffusive mold pattern. The same operation as in Example 1 was performed except that it was used.

[実施例4]
実施例1において、光透過性モールド1に換えて、上記透明型パターンを有する部材を厚み0.7mm支持ガラス(UV光透過性の無アルカリガラス、コーニング製1737について、透明モールドとは反対の面をサンドブラスト処理をして直径約50μmで厚みが約30μmの半球状の凹凸形状を付けたもの)上に、両者の間に空気が存在しないように積層して、光透過性モールド4として、これを用いた以外は、実施例1と同様に行った。
[Example 4]
In Example 1, instead of the light transmissive mold 1, a member having the transparent pattern was formed with a support glass having a thickness of 0.7 mm (UV light transmissive non-alkali glass, Corning 1737, the surface opposite to the transparent mold). Sandblast treatment is performed, and a hemispherical uneven shape with a diameter of about 50 μm and a thickness of about 30 μm is laminated on the light-transmitting mold 4 so that no air exists between them. The same operation as in Example 1 was performed except that it was used.

[比較例1]
実施例1において、光透過性モールド1に換えて、上述の透明型パターンを有する部材を用いて透明モールドとして、これを用いた以外は、実施例1と同様に行った。
[Comparative Example 1]
In Example 1, it replaced with the translucent mold 1, and performed similarly to Example 1 except having used this as a transparent mold using the member which has the above-mentioned transparent type | mold pattern.

[比較例2]
実施例4において、光透過性モールド4に換えて、透明型パターンを有する部材と支持ガラスとを約1cm離して設置した以外は、実施例4と同様に行った。支持ガラスからの光が周囲にも広がったのと、間に空気層が発生したため、光硬化性樹脂組成物面での照度は5mW/cm2(365nm波長)と約40%近く減衰した。
[Comparative Example 2]
In Example 4, it replaced with the light transmissive mold 4, and performed similarly to Example 4 except having installed the member which has a transparent type | mold pattern, and support glass about 1 cm apart. Since the light from the supporting glass spread to the surroundings and an air layer was generated between them, the illuminance on the surface of the photocurable resin composition was attenuated by about 40% to 5 mW / cm 2 (365 nm wavelength).

Figure 2011235461
Figure 2011235461

本発明は、光硬化性樹脂組成物を用いた、プラスチックレンズ、例えば、撮像用の光学レンズ、LED用のレンズ、及び光導波路の製造に用いることが出来る。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be used for producing plastic lenses, for example, optical lenses for imaging, lenses for LEDs, and optical waveguides, using the photocurable resin composition.

Claims (10)

光源、光透過性モールド及び光硬化性樹脂組成物をこの順で配置し、光透過性モールドを通して光を照射して光硬化性樹脂組成物を光硬化させて得られるプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法において、光透過性モールドが光拡散性を有する、プラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。 Production of a plastic lens or an optical waveguide obtained by arranging a light source, a light transmissive mold and a light curable resin composition in this order and irradiating light through the light transmissive mold to lightly cure the light curable resin composition A method for producing a plastic lens or an optical waveguide, wherein the light transmissive mold has light diffusibility. 上記光透過性モールドの365nmにおけるヘーズ値が50%以上であり、且つ、365nmにおける光透過率が80%以上である、請求項1に記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。 The method for producing a plastic lens or an optical waveguide according to claim 1, wherein the haze value at 365 nm of the light transmissive mold is 50% or more and the light transmittance at 365 nm is 80% or more. 上記光透過性モールドが、光硬化性樹脂組成物側の面に厚みが0.2mm〜5mmの型パターンを有し、光源側の面に厚み0.1μm〜50μmの凹凸形状を有する、請求項1又は2に記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。 The light transmissive mold has a mold pattern with a thickness of 0.2 mm to 5 mm on the surface on the photocurable resin composition side, and has an uneven shape with a thickness of 0.1 μm to 50 μm on the surface on the light source side. Or the manufacturing method of the plastic lens or optical waveguide of 2. 上記0.1μm〜50μmの凹凸形状が、球状又は半球状である、請求項3記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。 The method for producing a plastic lens or an optical waveguide according to claim 3, wherein the irregular shape of 0.1 µm to 50 µm is spherical or hemispherical. 上記光透過性モールドが、モールド内部にモールド材料とは異なる屈折率の微粒子を分散させたモールドである、請求項1〜4のいずれか一項に記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。 The method for producing a plastic lens or an optical waveguide according to any one of claims 1 to 4, wherein the light transmissive mold is a mold in which fine particles having a refractive index different from that of a mold material are dispersed inside the mold. 上記光透過性モールドが、ポリジメチルシロキサンを原料とするモールドである請求項1〜5のいずれか一項に記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。 The method for producing a plastic lens or an optical waveguide according to any one of claims 1 to 5, wherein the light transmissive mold is a mold made of polydimethylsiloxane. 上記光透過性モールドが、石英又はガラス上に型パターンを有する樹脂を積層して得られたモールドであり、該石英又はガラスが光拡散性を有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。   The light transmissive mold is a mold obtained by laminating a resin having a mold pattern on quartz or glass, and the quartz or glass has light diffusibility. The manufacturing method of the plastic lens or optical waveguide of description. 上記型パターンを有する樹脂が、ポリジメチルシロキサンである請求項7に記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。 The method for producing a plastic lens or an optical waveguide according to claim 7, wherein the resin having the mold pattern is polydimethylsiloxane. 上記光透過性モールドが、光拡散性を有する支持体上に型パターンを有する部材を型パターン面が外側になるように積層して得られたモールドであって、該支持体と該型パターンを有する部材との屈折率差が0.1以下である、請求項1〜8のいずれか一項に記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。 The light transmissive mold is a mold obtained by laminating a member having a mold pattern on a support having light diffusibility so that the mold pattern surface is on the outside, and the support and the mold pattern are The manufacturing method of the plastic lens or optical waveguide as described in any one of Claims 1-8 whose refractive index difference with the member to have is 0.1 or less. 上記光透過性モールドが、光拡散性を有する支持体として石英又はガラスを、型パターンを有する部材としてポリジメチルシロキサンを用い、両者の間に空気が存在しないように積層したモールドである、請求項9に記載のプラスチックレンズ又は光導波路の製造方法。 The light transmissive mold is a mold in which quartz or glass is used as a support having light diffusibility, polydimethylsiloxane is used as a member having a mold pattern, and laminated so that no air exists between the two. 10. A method for producing a plastic lens or an optical waveguide according to 9.
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