JP2007316213A - Antireflection film and optical component using the same - Google Patents

Antireflection film and optical component using the same Download PDF

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JP2007316213A
JP2007316213A JP2006143958A JP2006143958A JP2007316213A JP 2007316213 A JP2007316213 A JP 2007316213A JP 2006143958 A JP2006143958 A JP 2006143958A JP 2006143958 A JP2006143958 A JP 2006143958A JP 2007316213 A JP2007316213 A JP 2007316213A
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JP
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silane
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low refractive
index layer
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JP2006143958A
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Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Nakatani
Toshihiko Ohashi
雅行 中谷
寿彦 大橋
Original Assignee
Asahi Kasei Corp
旭化成株式会社
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film which has excellent antireflection performance and further has excellent wear resistance and mechanical strength such as pencil hardness, and to provide an optical component using the antireflection film. <P>SOLUTION: The antireflection film has at least one low refractive index layer and the low refractive index layer contains at least hollow silica particulates and fine silica particles. A mean particle diameter of the hollow silica particulates is 90 to 150 nm, thickness of an outer shell of the hollow silica particulate is 4 to 12 nm and a mean particle diameter of the fine silica particles is ≤30 nm. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、少なくとも1層の低屈折率層を有する反射防止膜及びそれを用いた光学部品に関する。 The present invention relates to an anti-reflection film and an optical component using the same having a low refractive index layer of at least one layer.

光学部品、眼鏡、ディスプレイ装置などに用いられる反射防止膜は、単層又は複数層で構成されてなるものが知られている。 Optics, spectacles, anti-reflection film used in such a display device, made to be structured with a single layer or multiple layers are known. 単層の反射防止膜は残存反射率が大きくなってしまうため、屈折率の異なる複数の層を積層した多層の反射防止膜が好ましいと考えられてきた。 Since the single-layer antireflection film becomes large residual reflectivity multi-layer antireflection film by laminating a plurality of layers having different refractive index it has been considered preferable. しかしながら、多層の反射防止膜を製造する場合には、公知の真空蒸着法、ディップコーティング法などのいずれの方法でも、単層の反射防止膜の製造に比べて工程が煩雑であるとともに生産性が低いという欠点があった。 However, in the case of producing a multilayer antireflection film is known vacuum deposition method, in any way, such as dip coating method, the productivity with process is complicated compared to the production of single-layer antireflection film is there has been a drawback that low.

さらに、多層の反射防止膜は、各層で厚み誤差が生じるために、厚み誤差に起因する光学的特性のばらつきが大きくなり、その結果として色斑が生じやすいという問題があった。 Further, the antireflection film of a multilayer, in order thickness error occurs in each layer, the greater the variation in optical characteristics due to the thickness error, color spots is disadvantageously likely to occur as a result.

その後、単層であっても下記条件を満足すれば反射率の低減が可能であることが見出され、下記条件を満足する単層の反射防止膜の開発が検討されてきた。 Thereafter, it found that even a single layer it is possible to reduce the reflectivity to satisfy the following condition, the development of single-layer antireflection film which satisfies the following conditions have been investigated. すなわち、この条件は、基板の屈折率がn sであり、単層膜の屈折率がnであり、n s >nである場合、反射率Rは極小値として(n s −n /(n s +n をとることを利用し、n 2 =n sとなるように単層膜の屈折率nを(n 1/2にできる限り近づけることであり、この条件を満足することにより、反射率を低減させることができる。 That is, this condition, the refractive index of the substrate is n s, a refractive index of the single layer film is n, when a n s> n, the reflectance R as the minimum value (n s -n 2) 2 / (n s + n 2) by using the take 2, n 2 = n s become so the refractive index n of the single layer film (n s) is to close as possible to 1/2, the condition by satisfying, it is possible to reduce the reflectance.

現在、反射防止膜を有する光学部材として一般に市販されているものは、その可視光域における視感度反射率が2%前後のものであり、視感度反射率が2%以下で、しかも実用的な機械強度と耐久性を有するものは少ない。 Currently, what is generally commercially available as an optical member having an antireflection film, its has a luminous reflectance in the visible light region as around 2%, luminous reflectance of 2% or less, yet practical having a mechanical strength and durability is small. このため、簡便に製造することができ、視感度反射率が1%以下であり、かつ、実用的な機械強度を有する反射防止膜の提供が求められている。 Therefore, it is possible to easily manufacture, luminous reflectance is not less than 1%, and, providing the anti-reflection film having a practical mechanical strength is required.

このような反射防止膜用の低屈折率層の材料としては種々あるが、塗布法によって低屈折率層を形成できる材料としては、フッ素樹脂が一般的に知られている。 Such is different as the material of the low refractive index layer of the antireflective film, as the material capable of forming a low refractive index layer by a coating method, a fluorine resin is generally known. (特許文献1)。 (Patent Document 1). しかしながら、このようなフッ素樹脂で成膜された低屈折率層は硬度が低いという欠点がある。 However, the low refractive index layer deposited by such a fluorine resin has the drawback of low hardness.

低屈折率を有する多孔質薄膜を成膜する方法として、シランカップリング処理した短繊維状無機微粒子及び光硬化性アクリレートなどを含む塗布液により、該短繊維状無機微粒子間に微細な空隙が形成されることで屈折率を下げる方法(特許文献2)が開示されている。 As a method for forming a porous thin film having a low refractive index, the coating liquid including the short fibrous inorganic fine particles and the light-curable acrylates silane coupling treatment, fine voids between the short fibrous inorganic fine particles formed method of reducing the refractive index by being (Patent Document 2) are disclosed. しかしながら、本発明者らの検討によれば、低屈折率化のための空隙によって膜強度が低下するという問題があった。 However, according to studies conducted by the present inventors, the film strength by a gap for a low refractive index is lowered.

また、中空シリカ微粒子及びフッ素系樹脂を含む反射防止膜を形成した後、アミノ変性シリコーンオイルで構成された保護層を形成することにより、低屈折率化及び耐擦過性(布を用いて500g/cm の荷重をかけて表面を摺動した後の表面の剥離性)を向上させる方法(特許文献3)が開示されている。 Further, after forming the antireflection film containing hollow silica fine particles and fluorine resin, by forming a protective layer composed of a amino-modified silicone oil, using a low refractive index and abrasion resistance (fabric 500 g / method for improving the releasability of the surface) after the sliding surface by applying a load of cm 2 (Patent Document 3) are disclosed. しかしながら、本発明者らの検討によれば、鉛筆硬度が低く、実用的な機械強度を有しているとは言い難いことが分かった。 However, according to studies by the present inventors, low pencil hardness was found to be hard to say that have practical mechanical strength.

一方、中空シリカ微粒子を低屈折率層に用い、中空シリカ微粒子間の空隙に第2バインダーを充填することによって中空シリカ微粒子間の結合を補強して耐摩耗性を向上させる方法(特許文献4)が開示されている。 On the other hand, using the hollow silica fine particles in the low refractive index layer, a method of reinforcing the bonding between the hollow silica fine particles improve the wear resistance by filling the second binder in the gap between the hollow silica fine particles (patent document 4) There has been disclosed. しかしながら、この方法は本発明者の検討によると、第2バインダーが中空シリカ微粒子間の空隙の下層部には完全に充填しないため、圧力が加わると下層部での空隙の破壊が生じ、十分な機械的強度を有しているとは言えなかった。 However, this method According to the study of the present inventors, since the second binder does not completely fill the lower portion of the gap between the hollow silica fine particles, resulting voids destruction in the lower portion when a pressure is applied, sufficient not be said to have a mechanical strength. 中空シリカ微粒子の製造方法としては、例えば特許文献5に詳細に記載されている。 As a method for producing hollow silica fine particles, for example, described in detail in Patent Document 5.
特開平4−355401号公報 JP-4-355401 discloses 特開2001−188104号公報 JP 2001-188104 JP 特開2004−117852号公報 JP 2004-117852 JP 特開2004−258267号公報 JP 2004-258267 JP 特開2006−21938号公報 JP 2006-21938 JP

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、優れた反射防止性能を有すると共に、優れた耐摩耗性、鉛筆硬度などの機械的強度を併せ持つ反射防止膜及びそれを用いた光学部品を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above, provides excellent with a reflection preventing performance, excellent wear resistance, an anti-reflection film and an optical component using the same combines mechanical strength such as pencil hardness an object of the present invention is to.

本発明の反射防止膜は、少なくとも1層の低屈折率層を有する反射防止膜であって、前記低屈折率層は、少なくとも中空シリカ微粒子、微細シリカ粒子及びバインダーを含み、前記中空シリカ微粒子の平均粒子径が90nm〜150nmであり、前記中空シリカ微粒子の外殻の厚さが4nm〜12nmであり、前記微細シリカ粒子の平均粒子径が30nm以下であり、前記バインダーの屈折率が1.30〜1.50であることを特徴とする。 Antireflection film of the present invention is an antireflection film having a low refractive index layer of at least one layer, the low refractive index layer comprises at least a hollow silica fine particle, the fine silica particles and a binder, of the hollow silica fine particles average particle diameter of 90Nm~150nm, wherein the thickness of the outer shell of the hollow silica fine particles 4Nm~12nm, average particle diameter of the fine silica particles is not less 30nm or less, the refractive index of the binder is 1.30 characterized in that it is a 1.50.

この構成によれば、低屈折率層の屈折率が1.32以下の低い屈折率を示し、視感度反射率が0.5%以下、鉛筆硬度がH以上の高い機械的強度を発揮することができる。 According to this configuration, the refractive index of the low refractive index layer shows a low refractive index of 1.32 or less, luminosity reflectivity of 0.5% or less, pencil hardness exhibits high mechanical strength of at least H can.

本発明の反射防止膜においては、前記中空シリカ微粒子の表面は、反応性シラン化合物で処理されていることが好ましい。 In the antireflection film of the present invention, the surface of the hollow silica fine particles are preferably treated with a reactive silane compound.

本発明の光学部品は、屈折率が1.45〜1.55である光学基材と、前記光学基材上に設けられ、表面抵抗率が10 +16 Ω/□以下であり、前記光学基材との間の屈折率差が0.03以内となる屈折率を有する帯電防止性ハードコート層と、前記帯電防止性ハードコート層上に設けられた上記反射防止膜と、を具備することを特徴とする。 Optical component of the present invention includes an optical substrate having a refractive index of 1.45 to 1.55, provided on the optical substrate, the surface resistivity is at 10 +16 Ω / □ or less, wherein the optical substrate characterized by comprising, a anti-reflection film provided with the antistatic hard coat layer, the antistatic hard coat layer having a refractive index difference has a refractive index of 0.03 within between to.

本発明の反射防止膜は、少なくとも1層の低屈折率層を有する反射防止膜であって、前記低屈折率層は、少なくとも中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子を含み、前記中空シリカ微粒子の平均粒子径が90nm〜150nmであり、前記中空シリカ微粒子の外殻の厚さが4nm〜12nmであり、前記微細シリカ粒子の平均粒子径が30nm以下であるので、優れた反射防止性能を有すると共に、優れた耐摩耗性、鉛筆硬度などの機械的強度を併せ持つものである。 Antireflection film of the present invention is an antireflection film having a low refractive index layer of at least one layer, the low refractive index layer contains at least hollow silica fine particles and fine silica particles, the average particle of the hollow silica fine particles diameter of 90Nm~150nm, the thickness of the outer shell of the hollow silica fine particles is 4Nm~12nm, the average particle diameter of the fine silica particles is 30nm or less, has excellent antireflection performance, excellent abrasion resistance, in which both the mechanical strength, such as pencil hardness. この反射防止膜は、種々の表示材料の光学部品として有用であり、ディスプレイに用いることにより、外光などの映り込みに対して効果があり、視認性を高くすることができる。 The antireflection film is useful as an optical component for various display materials, by using the display, it is effective against glare such as external light, it is possible to increase the visibility.

以下、本発明について詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
本明細書中において反射防止膜とは、前記低屈折率層を少なくとも1層含む単層又は積層体を指す。 The anti-reflection film in the present specification, the point to the single layer or laminate comprising at least one layer of a low refractive index layer. 反射防止膜において、低屈折率層は、反射防止膜の最表面に設けられていても良く、また、反射防止膜の機能を損なわない程度に後述の被覆層が低屈折率層上に設けられていても良い。 In the antireflection film, the low refractive index layer may be provided on the outermost surface of the antireflection film, also, the coating layer will be described later so as not to impair the function of the anti-reflection film is provided on the low refractive index layer even though it may.

本明細書中において低屈折率層とは、反射防止効果を発現するために設けられた1層を指す。 The low refractive index layer in this specification refers to one layer, which is provided to express a reflection preventing effect. この低屈折率層は、その下層の屈折率よりも低い屈折率を有する。 The low refractive index layer has a refractive index lower than the refractive index of the lower layer. 本発明の反射防止膜における低屈折率層は、少なくとも中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子を有し、その他には例えばバインダーなどを含有する。 Low refractive index layer in the antireflection film of the present invention have at least the hollow silica fine particles and fine silica particles, Other contain, for example, a binder.

本発明に係る反射防止膜における低屈折率層は、相対的に大きい粒子である中空シリカ微粒子と、相対的に小さい粒子であるシリカ微粒子とを混在させることにより、相対的に大きい中空シリカ微粒子と中空シリカ微粒子との間に相対的に小さいシリカ微粒子が入り込み、中空シリカ微粒子間の空隙を相当程度埋めることができるので、耐摩耗性や鉛筆硬度などの機械的強度が向上する。 Low refractive index layer in the antireflection film according to the present invention, a hollow silica fine particles is relatively large particles, by mixing the silica fine particles is relatively small particles, a relatively large hollow silica fine particles enters a relatively small silica particles between the hollow silica fine particles, since the gap between the hollow silica fine particles can fill a considerable extent, the mechanical strength such as wear resistance and pencil hardness are improved.

また、本発明に係る反射防止膜における低屈折率層は、空洞を有する中空シリカ微粒子を有している。 Further, the low refractive index layer in the antireflection film according to the present invention includes a hollow silica fine particle having a cavity. このため、中空シリカ微粒子の空洞に空気が含まれ、この空気層のために低屈折率化を図ることができる。 Therefore, contains air in the cavity of the hollow silica fine particles, it is possible to reduce the refractive index for the air layer. 中空シリカ微粒子の空洞は、外殻によって包囲されているので、この空洞にバインダーが侵入することはない。 Cavity of the hollow silica fine particles, since they are surrounded by the outer shell, does not binder the cavity from entering. したがって、中空シリカ微粒子においては、空洞内へのバインダーの侵入が阻止されていることにより、屈折率の増加を防止することができ、反射防止膜としての機能を実現できる。 Therefore, in the hollow silica fine particles, by the binder from entering the cavity is blocked, it is possible to prevent an increase in refractive index, it can realize the function as an antireflection film.

本発明においては、低屈折率層に含まれる中空シリカ微粒子の平均粒子径は、中空シリカ微粒子の強度、反射防止膜における散乱、屈折率を低減する程度などを考慮して、90nm〜150nmに設定する。 In the present invention, the average particle diameter of the hollow silica fine particles contained in the low refractive index layer, the strength of the hollow silica fine particles, scattering in the antireflection film, etc. in consideration of the degree of reducing the refractive index, set to 90nm~150nm to. 屈折率に関しては粒子径の3乗に相関するため、粒子径は非常に大きな要因となる。 Because regarding refractive index that correlates to the cube of the particle diameter, the particle diameter is extremely large factor. 特に好ましくは、中空シリカ微粒子の平均粒子径は、95nm〜130nmである。 Particularly preferably, the average particle diameter of the hollow silica fine particles is 95Nm~130nm. ここで、中空シリカ微粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡で求めた粒子の径をいう。 Here, the average particle diameter of the hollow silica fine particles refers to the diameter of the obtained particles with a transmission electron microscope. 倍率は粒子が5個以上写真に入る倍率とし、その画面に存在するすべての粒子の外径を測定し、その平均値とした。 Magnification and magnification particles from entering the five or more photos to measure the outer diameter of all particles present in the screen, and the average value thereof.

本発明において、中空シリカ微粒子の空洞を包囲している外殻の厚みは、中空シリカ微粒子の強度、屈折率を低減する程度などを考慮して、4nm〜12nmに設定する。 In the present invention, the thickness of the outer shell surrounding the cavity of the hollow silica fine particles, the strength of the hollow silica fine particles, etc. in consideration of the degree of reducing the refractive index is set to 4Nm~12nm. 特に好ましくは、外殻の厚みは、5nm〜9nmである。 Particularly preferably, the thickness of the outer shell is 5Nm~9nm. 中空シリカ微粒子に加熱などの処理を施して、この外殻の密度を大きくすることによって、外殻の厚みが薄くても強度の高い中空シリカ微粒子を得ることができる。 Subjected to a treatment such as heating the hollow silica fine particles, by increasing the density of the outer shell, can be obtained even if a small thickness of the outer shell of high strength hollow silica fine particles. なお、外殻の厚さは、透過型電子顕微鏡を観察することによって求めることができる。 The thickness of the shell can be determined by observing a transmission electron microscope.

中空シリカ微粒子の平均粒子径が90nm〜150nmであり、外殻厚さが4nm〜12nmであることにより、中空シリカ微粒子の強度は高く、その屈折率は低いものとなる。 The average particle diameter of the hollow silica fine particles is 90Nm~150nm, by the shell thickness is 4Nm~12nm, strength of the hollow silica fine particles is high, the refractive index becomes low. 屈折率としては、例えば1.10〜1.22、特に1.10〜1.20である。 The refractive index, for example 1.10 to 1.22, in particular 1.10 to 1.20.

本発明の反射防止膜の低屈折率層に含まれる微細シリカ粒子とは、内部に空洞があるものでも良く、内部に空洞がないものでも良い。 The fine silica particles contained in the low refractive index layer of the antireflection film of the present invention may be those is hollow inside, or may be that there is no cavity inside. 上述したように、微細シリカ粒子は、中空シリカ微粒子と共に用いることにより、低屈折率層の機械的強度を向上させることができる。 As described above, the fine silica particles by using together with the hollow silica fine particles, it is possible to improve the mechanical strength of the low refractive index layer. さらに、微細シリカ粒子として中空シリカを用いることにより、低屈折率層の強度及び屈折率の両方をさらに向上させることができる。 Furthermore, the use of hollow silica as fine silica particles, it is possible to further improve both the strength and the refractive index of the low refractive index layer.

微細シリカ粒子としては、分散性、得られる層の表面性、機械的強度の観点から、平均粒子径が30nm以下のものが用いられる。 The fine silica particles, dispersibility, surface of the resulting layer, from the viewpoint of mechanical strength, an average particle diameter of 30nm or less are used. ここで、微細シリカ粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡で20個以上の粒子直径を測定してその平均値を用いた。 Here, the average particle size of the fine silica particles, the average value was used to measure 20 or more particles diameter with a transmission electron microscope.

微細シリカ粒子は、固形分の70%以上がSiO で構成されている。 Fine silica particles, more than 70% solids is composed of SiO 2. 球状の微細シリカ粒子は中空シリカ微粒子との複合効果により機械強度が向上する傾向があるので、微細シリカ粒子の形状は球状のものが好ましい。 Since the fine spherical silica particles tend to increase the mechanical strength by the combined effect of the hollow silica fine particles, the shape of the fine silica particles preferably have a spherical shape.

本発明の反射防止膜において、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子の割合は、機械強度、屈折率、光学特性の観点から、中空シリカ微粒子100重量部に対して、微細シリカ粒子0.1〜30重量部が好ましく、特に微細シリカ粒子0.5〜10重量部がより好ましい。 In the antireflection film of the present invention, the proportion of the hollow silica fine particles and fine silica particles, mechanical strength, refractive index, from the viewpoint of optical properties, with respect to 100 parts by weight of hollow silica fine particles, fine silica particles 0.1 to 30 wt parts by weight, and more preferably, especially 0.5 to 10 parts by weight of finely divided silica particles.

次に、本発明の低屈折率層に含有するバインダーについて説明する。 Next, a description will be given binder contained in the low refractive index layer of the present invention.
バインダーとしては、単独でも複数を組み合わせても良い。 The binder may be used in combination of two or more in combination. 好ましいバインダーとしては、以下のものが挙げられる。 Preferred binders include the following.

(1)テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ(i−プロポキシ)シラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、メチルトリ−iso−プロポキシシラン、エチルトリ−iso−プロポキシシラン、ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジ(i−プロポキシ)シラン、メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシ (1) tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra (i-propoxy) silane, trimethoxysilane, triethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, propyltrimethoxysilane silane, propyl triethoxy silane, isobutyl triethoxy silane, methyl tri -iso- propoxysilane, ethyltri -iso- propoxysilane, dimethoxysilane, diethoxy silane, methyl dimethoxy silane, methyl diethoxy silane, dimethyl dimethoxy silane, dimethyl diethoxy silane , diethyl dimethoxysilane, diethyl diethoxy silane, diethyldi (i-propoxy) silane, methyl ethyl dimethoxy silane, methyl ethyl diethoxy Shi ン、メチルエチルジ(i−プロポキシ)シラン、メチルプロピルジメトキシシラン、メチルプロピルジエトキシシラン、メチルプロピルジ(i−プロポキシ)シラン、メトキシシラン、エトキシシラン、メチルメトキシシラン、メチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチル(i−プロポキシ)シラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリエチル(i−プロポキシ)シラン、トリプロピルメトキシシラン、トリプロピルエトキシシラン、トリプロピル(i−プロポキシ)シラン、メチルジエチルメトキシシラン、メチルジエチルエトキシシラン、メチルジエチル(i−プロポキシ)シラン、メチルジプロピルメト Emissions, Mechiruechiruji (i-propoxy) silane, methyl dimethoxy silane, methyl propyl diethoxy silane, methyl propyl di (i-propoxy) silane, methoxy silane, ethoxy silane, methyl methoxy silane, methyl silane, dimethyl silane, dimethyl ethoxy silane, trimethyl methoxy silane, trimethyl ethoxy silane, trimethyl (i-propoxy) silane, triethyl silane, triethyl silane, triethyl (i-propoxy) silane, tripropyl silane, tripropyl silane, tripropyl (i- propoxy) silane, methyl diethyl methoxysilane, methyl diethyl ethoxysilane, methyl diethyl (i-propoxy) silane, methyl dipropyl meth シシラン、メチルジプロピルエトキシシラン、メチルジプロピル(i−プロポキシ)シラン、エチルジメチルエトキシシラン、エチルジメチル(i−プロポキシ)シラン、エチルジプロピルメトキシシラン、エチルジプロピルエトキシシラン、エチルジプロピル(i−プロポキシ)シラン、プロピルジメチルメトキシシラン、プロピルジメチルエトキシシラン、プロピルジメチル(i−プロポキシ)シラン、プロピルジエチルメトキシシラン、プロピルジエチルエトキシシラン、プロピルジエチル(i−プロポキシ)シラン、ビス(トリメトキシシリル)メタン、ビス(トリエトキシシリル)メタン、ビス(トリメトキシシリル)エタン、ビス(トリエトキシシリル)エタン、1,3−ビス(トリメトキシシリル)プロパン、1,3−ビス( Shishiran, methyl dipropyl silane, methyl dipropyl (i-propoxy) silane, ethyl dimethyl silane, ethyl dimethyl (i-propoxy) silane, ethyl dipropyl silane, ethyl dipropyl silane, ethyl dipropyl (i- propoxy) silane, dimethyl silane, dimethyl silane, dimethyl (i-propoxy) silane, propyl diethyl silane, propyl diethyl silane, propyl diethyl (i-propoxy) silane, bis (trimethoxysilyl) methane, bis (triethoxysilyl) methane, bis (trimethoxysilyl) ethane, bis (triethoxysilyl) ethane, 1,3-bis (trimethoxysilyl) propane, 1,3-bis ( トリエトキシシリル)プロパン、ヘキサメトキシジシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、3−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラキス(トリクロロアセトキシ)シラン、テトラキス(トリフルオロアセ Triethoxysilyl) propane, hexamethoxydisiloxane, hexaethoxydisiloxane, 3-chloropropyl trimethoxy silane, 3-chloropropyl triethoxy silane, 3-hydroxypropyl triethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3- mercaptopropyl triethoxysilane, trifluoropropyl trimethoxysilane, trifluoropropyl triethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2- aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane triethoxysilane, N- (2- aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, tetraacetoxysilane, tetrakis (trichloro-acetoxy) silane, tetrakis (trifluoroacetate キシ)シラン、トリアセトキシシラン、トリス(トリクロロアセトキシ)シラン、トリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリス(トリクロロアセトキシ)シラン、メチルトリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、メチルジアセトキシシラン、メチルビス(トリクロロアセトキシ)シラン、メチルビス(トリフルオロアセトキシ)シラン、ジメチルビス(トリクロロアセトキシ)シラン、ジメチルビス(トリフルオロアセトキシ)シラン、メチルアセトキシシラン、メチル(トリクロロアセトキシ)シラン、メチル(トリフルオロアセトキシ)シラン、ジメチルアセトキシシラン、ジメチル(トリクロロアセトキシ)シラン、ジメチル(トリフルオロアセトキシ)シラン、トリメチルアセトキシ ) Silane, triacetoxy silane, tris (trichloro-acetoxy) silane, tris (trifluoroacetoxy) silane, methyl triacetoxy silane, methyl tris (trichloro-acetoxy) silane, methyl tris (trifluoroacetoxy) silane, methyl diacetoxy silane, methyl bis ( trichloroacetimidate) silane, methyl bis (trifluoroacetoxy) silane, dimethyl bis (trichloro-acetoxy) silane, dimethyl bis (trifluoroacetoxy) silane, acetoxytrimethylsilane, methyl (trichloro-acetoxy) silane, methyl (trifluoroacetoxy) silane, dimethyl acetoxy silane, dimethyl (trichloromethyl acetoxy) silane, dimethyl (trifluoroacetoxy) silane, trimethyl acetoxy ラン、トリメチル(トリクロロアセトキシ)シラン、トリメチル(トリフルオロアセトキシ)シラン、テトラクロロシラン、テトラブロモシラン、テトラフルオロシラン、トリクロロシラン、トリブロモシラン、トリフルオロシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリブロモシラン、メチルトリフルオロシラン、メチルジクロロシラン、メチルジブロモシラン、メチルジフルオロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジブロモシラン、ジメチルジフルオロシラン、メチルクロロシラン、メチルブロモシラン、メチルフルオロシラン、ジメチルクロロシラン、ジメチルブロモシラン、ジメチルフルオロシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、トリメチルフルオロシランなどの加水分解性シラン類。 Run, trimethyl (trichloro-acetoxy) silane, trimethyl (trifluoroacetoxy) silane, tetrachlorosilane, tetrabromobisphenol silane, tetrafluorosilane, trichlorosilane, tribromosilane silane, trifluoromethyl silane, methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane bromo silane, methyltri fluoro silane, methyl dichlorosilane, methyl dibromo silane, methyl difluoro silane, dimethyldichlorosilane, dimethyl dibromo silane, dimethyl difluoromethyl silane, chlorosilane, methyl bromo silane, methyl fluorosilane, dimethylchlorosilane, dimethylbromophenyl silane, dimethyl fluorosilane, trimethyl chlorosilane, trimethylbromosilane, hydrolyzable silanes such as trimethyl fluorosilane.

(2)3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリス(トリクロロアセトキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルトリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリス(トリクロロアセトキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、3−グリシドキシプロピルトリアセトキシシラ (2) 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl triethoxysilane, 3-acryloxy propyl trimethoxy silane, 3-acryloxy propyl triethoxy silane, 3-methacryloxypropyl trimethoxy silane, 3-methacryloxypropyl triethoxy silane, 3-acryloxypropyl triacetoxy silane, 3-acryloxypropyltris (trichloro-acetoxy) silane, 3-acryloxypropyltris (trifluoroacetoxy) silane, 3-methacryloxypropyl triacetoxy silane, 3-methacryloxypropyl tris (trichloro-acetoxy) silane, 3-methacryloxypropyl tris (trifluoroacetoxy) silane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane acetoxy Sila 、3−グリシドキシプロピルトリス(トリクロロアセトキシ)シラン、3−グリシドキシプロピルトリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルトリクロロシラン、3−アクリロキシプロピルトリブロモシラン、3−アクリロキシプロピルトリフルオロシラン、3−メタクリロキシプロピルトリクロロシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリブロモシラン、3−メタクリロキシプロピルトリフルオロシラン、3−グリシドキシプロピルトリクロロシラン、3−グリシドキシプロピルトリブロモシラン、3−グリシドキシプロピルトリフルオロシランなどの、同一分子内に、重合性官能基と、シリカ粒子と共有結合を形成することが可能な官能基とを併せ持つ反応性シラン化合物。 , 3-glycidoxypropyl tris (trichloro-acetoxy) silane, 3-glycidoxypropyl tris (trifluoroacetoxy) silane, 3-acryloxypropyl trichloro silane, 3 acryloxypropyltrimethoxysilane bromo silane, 3-acryloxypropyl trifluoro silane, 3-methacryloxypropyl trichloro silane, 3-methacryloxypropyl tri-bromo silane, 3-methacryloxypropyl tri fluoro silane, 3-glycidoxypropyl trichlorosilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane bromo silanes, such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane fluoro silane, in the same molecule, a polymerizable functional group, reactive silane compound having a functional group capable of forming a covalent bond with the silica particles.

(3)ケイ酸、トリメチルシラノール、トリフェニルシラノール、ジメチルシランジオール、ジフェニルシランジオール、シラノール末端ポリジメチルシロキサン、シラノール末端ポリジフェニルシロキサン、シラノール末端ポリメチルフェニルシロキサン、シラノール末端ポリメチルラダーシロキサン、シラノール末端ポリフェニルラダーシロキサン、オクタヒドロキシオクタシルセスキオキサンなどの、シラノール基を含有するケイ素化合物。 (3) silicate, trimethyl silanol, triphenyl silanol, dimethylsilane diol, diphenylsilane diol, a silanol-terminated polydimethylsiloxane, silanol-terminated polydiphenylsiloxane, silanol-terminated polymethylphenylsiloxane, silanol-terminated polymethyl ladder polysiloxane, silanol-terminated poly phenyl ladder siloxane, such as octa-hydroxy octasilsesquioxane, silicon compounds containing silanol groups.

(4)水ガラス、オルトケイ酸ナトリウム、オルトケイ酸カリウム、オルトケイ酸リチウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、メタケイ酸リチウム、オルトケイ酸テトラメチルアンモニウム、オルトケイ酸テトラプロピルアンモニウム、メタケイ酸テトラメチルアンモニウム、メタケイ酸テトラプロピルアンモニウムなどのケイ酸塩を酸やイオン交換樹脂に接触させることにより得られる活性シリカ。 (4) water glass, sodium orthosilicate, potassium orthosilicate, lithium orthosilicate, sodium metasilicate, potassium metasilicate, lithium metasilicate, tetramethylammonium orthosilicate, orthosilicate tetrapropylammonium, tetramethylammonium metasilicate, metasilicate active silica obtained by contacting the silicates such as tetrapropyl ammonium in acid or ion-exchange resins.

(5)ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテル類;ポリアクリルアミド誘導体、ポリメタクリルアミド誘導体、ポリ(N−ビニルピロリドン)、ポリ(N−アシルエチレンイミン)などのアミド類;ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸誘導体、ポリメタクリル酸誘導体、ポリカプロラクトンなどのエステル類;ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリ尿素類、ポリカーボネート類などの有機ポリマー。 (5) polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethers such as polytetramethylene glycol; polyacrylamide derivatives, poly methacrylamide derivatives, poly (N- vinylpyrrolidone), amides such as poly (N- acylethyleneimine); polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate, polyacrylic acid derivatives, polymethacrylic acid derivatives, esters such as polycaprolactone; polyimides, polyurethanes, polyureas, organic polymers, such as polycarbonates. これら有機ポリマーの末端や主鎖中に、重合性官能基を有していても良い。 The terminal or in the main chain of the organic polymer may have a polymerizable functional group.

(6)アルキル(メタ)アクリレート、アルキレンビス(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどのアクリル系モノマーを重合したもの。 (6) alkyl (meth) acrylate, alkylene bis (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, those obtained by polymerizing acrylic monomers such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate. アルキレンビスグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジエポキシドなどの重合性モノマーとこれらの重合物。 Alkylene bisglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, a polymerizable monomer and the polymerization product of vinyl cyclohexene diepoxide. なお、(メタ)アクリレートとは、アクリレートとメタクリレートの両方を指す。 Here, the (meth) acrylate refers to both acrylates and methacrylates.

(7)公知の硬化性樹脂。 (7) known curing resin. 一例を挙げると、(メタ)アクリル系UV硬化性樹脂、湿気硬化型シリコーン樹脂、熱硬化型シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ノボラック樹脂、シリコーンアクリレート樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂などが挙げられる。 As an example, (meth) acrylic UV-curable resin, moisture curing type silicone resins, thermosetting silicone resins, epoxy resins, phenoxy resins, novolak resins, silicone acrylate resins, melamine resins, phenol resins, unsaturated polyester resins , polyimide resins, urethane resins, urea resins.

(8)上記(1)〜(7)のアルキル基や水素基はフッ素に置換することができる。 (8) an alkyl group or Suisomoto above (1) to (7) can be substituted by fluorine. フッ素に置換されたものは屈折率が小さく、光学的性能に優れている。 Fluorine those substituted has a small refractive index, has excellent optical performance. しかしながら単独では機械的に弱い場合もあるため、無機の微粒子と混合して用いることが好ましい。 However, since alone sometimes mechanically weak, it is preferable to use a mixture with inorganic fine particles.

バインダーは単独で用いても、複数を併用しても構わない。 The binder may be used alone, it may be used in combination of two or more. 特に、(2)で列挙した同一分子内に、重合性官能基と、シリカ粒子と共有結合を形成することが可能な官能基とを併せ持つ反応性シラン化合物や、(6)で列挙した重合性モノマー又は(2)や(6)のフッ素置換体を併用することは、機械強度の点で効果的である。 In particular, (2) in the same molecule enumerated, and polymerizable functional groups, and a reactive silane compound having a functional group capable of forming a covalent bond with the silica particles, polymerizable enumerated (6) monomer or (2) or be used in combination of fluorine-substituted body (6) is effective in terms of mechanical strength.

重合性モノマーは、反応の形態、速度などに応じて適宜選択される。 Polymerizable monomer, the reaction form, is appropriately selected depending on the speed. 重合性モノマー又は官能基を有するものを用いる場合には、さらに添加物として重合開始剤を添加することが有効である。 When using those having a polymerizable monomer or functional group, it is effective to add further polymerization initiator as an additive. 重合開始剤としては、熱ラジカル発生剤、光ラジカル発生剤、熱酸発生剤、光酸発生剤など公知のものを、上記の重合性官能基や重合性モノマーの反応形態に合わせて選ぶことができる。 As the polymerization initiator, a thermal radical generator, photo-radical generator, a thermal acid generator, a photoacid generator known ones such as, be selected to suit the reaction according to the above-described polymerizable functional group and a polymerizable monomer it can.

熱/光ラジカル発生剤の具体例としては、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社より市販されているイルガキュア(登録商標)、ダロキュア(登録商標)と呼ばれるアセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系の各重合開始剤、チオキサントン系重合開始剤、ジアゾ系重合開始剤、o−アシルオキシム系重合開始剤などが挙げられる。 Specific examples of the heat / photo-radical generating agent, Irgacure (registered trademark) commercially available from Ciba Specialty Chemicals Corporation, Darocure (R) and acetophenone called, benzophenone, phosphine oxide, a titanocene each polymerization initiator, thioxanthone polymerization initiator, a diazo type polymerization initiators, and the like o- acyloxime polymerization initiator. これらの中でもイルガキュア(登録商標)907、イルガキュア(登録商標)369、イルガキュア(登録商標)379などの分子内にアミノ基及び/又はモルホリノ基を有する重合開始剤が特に好ましい。 Among these Irgacure (TM) 907, Irgacure (TM) 369, a polymerization initiator having an amino group and / or a morpholino group in the molecule, such as IRGACURE ® 379 is especially preferred. また、熱/光酸発生剤の具体例としては、三新化学工業株式会社より市販されているサンエイド(登録商標)SIシリーズ、和光純薬工業株式会社より市販されているWPIシリーズ、WPAGシリーズ、シグマアルドリッチジャパン株式会社より市販されているPAGsシリーズに代表される、スルホニウム系、ヨードニウム系、ジアゾメタン系の各重合開始剤などが挙げられる。 The heat / Specific examples of the photoacid generator, available from Sanshin Chemical Industry Aid (registered trademark) commercially available from Inc. SI series manufactured by Wako Pure Chemical Industries, commercially available WPI series than Co., WPAG series, typified PAGs series commercially available from sigma Aldrich Japan, sulfonium based, iodonium-based, like diazomethane in each polymerization initiator.

(1)や(2)で表されるシラン類は、部分加水分解・脱水縮合させて用いるのが好ましい。 Silanes represented by (1) or (2) is preferably used in engaged partial hydrolysis and dehydration condensation. 部分加水分解・脱水縮合反応は、加水分解性シランを水と反応させることによって行う。 Partial hydrolysis and dehydration condensation reaction is carried out hydrolyzable silane by reaction with water. この場合、触媒として、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸、ギ酸、酢酸などの酸類;アンモニア、トリアルキルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、コリン、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシドなどのアルカリ類;ジラウリン酸ジブチルスズなどのスズ化合物などを用いても良い。 In this case, as a catalyst, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, boric acid, formic acid, acids such as acetic acid; ammonia, trialkylamine, sodium hydroxide, potassium hydroxide, choline, alkalis such as tetraalkylammonium hydroxide ; it may be used such as tin compounds such as dibutyltin dilaurate. その場合、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子の存在下で加水分解・脱水縮合反応を行っても良い。 In that case, it may be subjected to hydrolysis and dehydration condensation reaction in the presence of the hollow silica fine particles and fine silica particles.

バインダー量は、低屈折率層の表面性、機械的強度、屈折率、反射防止性能の観点から、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子を合わせた重量を1とした場合に、重量比で0.5以上5.0以下が好ましい。 Amount of the binder, the surface of the low refractive index layer, mechanical strength, refractive index, from the viewpoint of antireflection performance, when the combined weight of the hollow silica fine particles and fine silica particles and 1, 0.5 in weight ratio or more and 5.0 or less is preferable.

バインダーそのものの屈折率は、1.30〜1.50が好ましく、より好ましくは1.34〜1.48である。 The refractive index of the binder itself is preferably 1.30 to 1.50, more preferably 1.34 to 1.48. 比較的低い屈折率のものを用いることによって、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子とを用いて非常に屈折率の低い低屈折率層を得ることができる。 By using a relatively low refractive index, it is possible to obtain a very low refractive index and low refractive index layer by using the hollow silica fine particles and fine silica particles.

本発明における低屈折率層は、帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、レベリング剤、色素、金属塩、界面活性剤、離型剤など種々の添加物を、本発明の趣旨を損なわない範囲で含有させることも可能である。 The low refractive index layer of the present invention, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a leveling agent, dye, metal salts, surfactants, various additives such as release agents, does not impair the gist of the present invention it is also possible to incorporate a range.

本発明においては、平均粒径90nm〜150nm及び外殻の厚さが4nm〜12nmの中空シリカ微粒子と、平均粒子径が30nmである微細シリカ粒子と、バインダーとを用いることによって、低屈折率層の屈折率を1.32以下にすることができる。 In the present invention, the average particle size 90nm~150nm and thickness of the outer shell of 4nm~12nm hollow silica fine particles, and fine silica particles having an average particle diameter of 30 nm, by using a binder, the low refractive index layer the refractive index of the can to 1.32 or less. 低屈折率層の屈折率としては、低屈折率層の下層などによっても異なるが、1.15〜1.32が好ましく、特に1.20〜1.30が好ましい。 The refractive index of the low refractive index layer, etc. but lower low refractive index layer is preferably from 1.15 to 1.32, especially 1.20 to 1.30 are preferred.

低屈折率層の厚みとしては、可視光領域での反射防止性能の観点から、通常、50nm〜200nm、より好ましくは50nm〜150nmである。 The thickness of the low refractive index layer, from the viewpoint of antireflection performance in the visible light region, typically, 50 nm to 200 nm, more preferably from 50 nm to 150 nm. 低屈折率層はその屈折率によっても多少厚み依存性は異なるが、反射防止性能上ある範囲内に制御されたものが好ましい。 Low refractive index layer is different somewhat thickness dependence even by its refractive index, it is preferable that is controlled within a certain range on the antireflection performance.

本発明において、中空シリカ微粒子の表面は、反応性シラン化合物で処理されていることが好ましい。 In the present invention, the surface of the hollow silica fine particles are preferably treated with a reactive silane compound. 反応性シラン化合物とは、同一分子内に、重合性官能基と、シリカ粒子と共有結合を形成することが可能な官能基とを併せ持つ化合物であり、この化合物で処理されていることによって、中空シリカ微粒子表面と反応性シラン化合物が共有結合するとともに、バインダーとの反応が生じるために、中空シリカ微粒子とバインダーとの密着力を向上させることができる。 The reactive silane compound, in the same molecule, a polymerizable functional group, to form a covalent bond with the silica particles is a compound having both a functional group capable, by being treated with this compound, hollow with reactive silane compound with the silica fine particle surface is covalently attached, in order to react with the binder occurs, it is possible to improve the adhesion between the hollow silica fine particles and a binder. また、中空シリカ微粒子表面の滑り性も向上できるため、鉛筆硬度の高い低屈折率層とすることができる。 Further, since it improved sliding properties of the hollow silica fine particle surface, it can have high pencil hardness low refractive index layer. 前記重合性官能基としては、特に限定されることなく、ビニル基、アクリル基、メタクリル基などの不飽和二重結合やエポキシ基、水酸基などが挙げられ、これらを複数有していても構わない。 The polymerizable functional group is not particularly limited, a vinyl group, acryl group, unsaturated double bond and an epoxy group such as methacryl group, a hydroxyl group and the like, may also have a plurality .

同一分子内に重合性官能基と共有結合を形成することが可能な官能基とを併せ持つ反応性シラン化合物としては、低屈折率層のバインダーとしても用いることができる(2)記載のもの、又はこれらのアルキル基や水素基がフッ素に置換されたものを用いることができる。 The reactive silane compound having a functional group capable of forming a covalent bond with a polymerizable functional group in the same molecule, can also be used as a binder of the low refractive index layer (2) as described, or can be used in which these alkyl group or hydrogen group substituted by fluorine. 具体的には以下のようなものが挙げられる。 And specific examples include the following.

例えば、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリス(トリクロロアセトキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルトリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリス(トリクロロアセトキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、3−グリシドキシプロピルトリアセトキシシ For example, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyl triethoxysilane, 3-acryloxy propyl trimethoxy silane, 3-acryloxy propyl triethoxy silane, 3-methacryloxypropyl trimethoxysilane, 3 - methacryloxypropyl triethoxysilane, 3-acryloxypropyl triacetoxy silane, 3-acryloxypropyltris (trichloro-acetoxy) silane, 3-acryloxypropyltris (trifluoroacetoxy) silane, 3-methacryloxypropyl triacetoxy silane , 3-methacryloxypropyl tris (trichloro-acetoxy) silane, 3-methacryloxypropyl tris (trifluoroacetoxy) silane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane acetoacetic Kishishi ン、3−グリシドキシプロピルトリス(トリクロロアセトキシ)シラン、3−グリシドキシプロピルトリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルトリクロロシラン、3−アクリロキシプロピルトリブロモシラン、3−アクリロキシプロピルトリフルオロシラン、3−メタクリロキシプロピルトリクロロシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリブロモシラン、3−メタクリロキシプロピルトリフルオロシラン、3−グリシドキシプロピルトリクロロシラン、3−グリシドキシプロピルトリブロモシラン、3−グリシドキシプロピルトリフルオロシランなどの化合物、これらのアルキル基や水素基がフッ素に置換されたもの、及びこれらを反応させたものである。 Down, 3-glycidoxypropyl tris (trichloro-acetoxy) silane, 3-glycidoxypropyl tris (trifluoroacetoxy) silane, 3-acryloxypropyl trichloro silane, 3 acryloxypropyltrimethoxysilane bromo silane, 3-acryloxy trimethoxy fluorosilane, 3-methacryloxypropyl trichloro silane, 3-methacryloxypropyl tri-bromo silane, 3-methacryloxypropyl tri fluoro silane, 3-glycidoxypropyl trichlorosilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane bromo silane , compounds such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane fluorosilane, those the alkyl group or hydrogen group substituted by fluorine, and is obtained by reacting them.

中空シリカ微粒子の表面を反応性シラン化合物で処理する方法としては、反応性シラン化合物のシリカ粒子と共有結合を作る官能基を、部分加水分解・脱水縮合させる方法が挙げられる。 The surface of the hollow silica fine particles as a method of treating with reactive silane compound, a functional group to create a covalent bond with the silica particles of the reactive silane compound, and a method of engaged partial hydrolysis and dehydration condensation. 部分加水分解・脱水縮合反応は、加水分解性シランを水と反応させることによって行う。 Partial hydrolysis and dehydration condensation reaction is carried out hydrolyzable silane by reaction with water. この場合、触媒として、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸、ギ酸、酢酸などの酸類、アンモニア、トリアルキルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、コリン、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシドなどのアルカリ類、ジラウリン酸ジブチルスズなどのスズ化合物などを用いても良い。 In this case, as a catalyst, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, boric acid, formic acid, acids such as acetic acid, ammonia, trialkylamine, sodium hydroxide, potassium hydroxide, choline, alkalis such as tetraalkylammonium hydroxide it may be used such as tin compounds such as dibutyltin dilaurate.

一方、微細シリカ粒子の表面を反応性シラン化合物で処理しても良い。 On the other hand, it may be treated with reactive silane compound the surface of the fine silica particles. その場合、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子の存在下で加水分解・脱水縮合反応を行うことが好ましい。 In that case, it is preferable to perform hydrolysis and dehydration condensation reaction in the presence of the hollow silica fine particles and fine silica particles.

中空シリカ微粒子の表面は1nm あたり0.1〜100個OH基を有している場合が多く、反応性シラン化合物と処理するにおいて、中空シリカ微粒子の表面の1/20以上のOH基対応分以上を反応性シラン化合物と反応させるのが好ましい。 If the surface of the hollow silica fine particles having a 1 nm 2 per 0.1 pieces OH groups is large, the treatment with the reactive silane compound, 1/20 or more OH groups on the surface of the hollow silica fine particles corresponding partial preferably reacted with the reactive silane compound of the above. さらに、フルオロアルキル(トリアルコキシ)シランと併用して処理するのも好ましい。 Furthermore, also preferred for combination with treatment with fluoroalkyl (trialkoxy) silane. フルオロアルキル(トリアルコキシ)シランとの処理は、微細シリカ粒子と反応性シラン化合物存在下に行っても良く、それぞれ別々に行っても良い。 Processing the fluoroalkyl (trialkoxy) silane may be carried out in the presence of the reactive silane compound and fine silica particles, it may be performed on separate.

フルオロアルキル(トリアルコキシ)シランとしては、例えば、 The fluoroalkyl (trialkoxy) silane, for example,
CF (CF )xCH CH Si(OR) CF 3 (CF 2) xCH 2 CH 2 Si (OR) 3
R:−CH 、−C 、−イロプロピル基 などのアルキル基 x:1〜10の整数を用いることができる。 R: -CH 3, -C 2 H 5, - alkyl group such as Iropuropiru group x: it is possible to use an integer of 1-10. フルオロアルキル(トリアルコキシ)シランとの処理においては、中空シリカ微粒子の表面の1/20以上のOH基対応分以上を反応させて結合させるのが好ましい。 In the process of the fluoroalkyl (trialkoxy) silane, to bond by reacting more OH groups corresponding amount of 1/20 or more surfaces of the hollow silica fine particles are preferred. これにより、低屈折率層の耐摩耗性をさらに向上させることができるとともに、表面の防汚性の向上、指紋の拭取り性を向上させることができる。 This makes it possible to further improve the wear resistance of the low refractive index layer, the improvement of antifouling property of the surface, it is possible to improve the wiping of the fingerprints.

フルオロアルキル(トリアルコキシ)シランにおいては、フルオロアルキル(トリアルコキシ)シランの中空シリカ微粒子との反応性の観点からはR:−CH が好ましく、xは3〜7が好ましい。 In the fluoroalkyl (trialkoxy) silane, from the viewpoint of reactivity with the fluoroalkyl (trialkoxy) silane hollow silica fine particles of R: -CH 3 are preferred, x is 3-7 are preferable.

反応性シラン化合物とフルオロアルキル(トリアルコキシ)シランとを中空シリカ微粒子及び/又は微細粒子と反応させる方法としては、中空シリカ微粒子及び/又は微細粒子の溶液に反応性シラン化合物とフルオロアルキル(トリアルコキシ)シランとを混合し、これに触媒として、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸、ギ酸、酢酸などの酸類;アンモニア、トリアルキルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、コリン、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシドなどのアルカリ類;ジラウリン酸ジブチルスズなどのスズ化合物などを添加して、適度な温度と時間を調整することによって反応させる方法が挙げられる。 The reactive silane compound and fluoroalkyl (trialkoxy) silane as a method of reacting a hollow silica fine particles and / or fine particles, the solution to the reactive silane compound of the hollow silica fine particles and / or fine particles and fluoroalkyl (trialkoxy ) and silane are mixed, as a catalyst thereto, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid, boric acid, formic acid, acids such as acetic acid; ammonia, trialkylamine, sodium hydroxide, potassium hydroxide, choline, tetraalkylammonium alkalis such as hydroxide; the like is added to a tin compound such as dibutyltin dilaurate, and a method of reacting by adjusting an appropriate temperature and time. また、反応性シラン化合物とフルオロアルキル(トリアルコキシ)シランとの合計モル数を表面OH基の総量とほぼ当量モルとすることにより、反応性シラン化合物とフルオロアルキル(トリアルコキシ)シランの中空シリカ微粒子表面での量比に対応させることができる。 Further, by the total number of moles of the reactive silane compound and fluoroalkyl (trialkoxy) silane and the total amount of surface OH groups substantially equivalent moles, reactive silane compound and fluoroalkyl (trialkoxy) silane hollow silica fine particles it can correspond to the amount ratio of the surface. 反応性シラン化合物とフルオロアルキル(トリアルコキシ)シランの割合としては、10:1〜1:10の範囲が好ましい。 The proportion of reactive silane compound and fluoroalkyl (trialkoxy) silane, 10: 1 to 1: range of 10 is preferred.

本発明の低屈折率層は、中空シリカ微粒子、微細シリカ粒子、バインダー及び添加物などを適当な分散媒に分散した状態で基材に塗布、硬化することにより得ることができる。 Low refractive index layer of the present invention can be obtained hollow silica particles, fine silica particles, coating the binder and substrate in a state of being dispersed and in an appropriate dispersion medium additives, by curing. 用いる分散媒は、実質的に中空シリカ粒子、微細シリカ粒子及びバインダー、添加物などが安定に分散し得るものであれば限定されない。 Dispersion medium used is substantially hollow silica particles, fine silica particles and a binder, such additives are not limited as long as it can stably dispersed.

上記分散媒の具体例としては、水、炭素数1〜6の一価アルコール、炭素数1〜6の二価アルコール、グリセリンなどのアルコール類;ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N−エチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルアセトアミド、N−エチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類;テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ(n−プロピル)エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジグライム、1,4−ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエ Specific examples of the dispersion medium, water, monohydric alcohols having 1 to 6 carbon atoms, alcohols such as dihydric alcohols, glycerin 1 to 6 carbon atoms; formamide, N- methylformamide, N- ethyl formamide, N , N-dimethylformamide, N, N- diethylformamide, N- methylacetamide, N- ethylacetamide, N, N- dimethylacetamide, N, N- diethylacetamide, amides such as N- methyl pyrrolidone; tetrahydrofuran, diethyl ether , di (n- propyl) ether, diisopropyl ether, diglyme, 1,4-dioxane, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethers such as propylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monomethyl et テル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのアルカノールエーテル類;ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、炭酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、γ−ブチロラクトン、アセト酢酸エチルなどのエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチル(n−ブチル)ケトン Ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, alkanol ethers such as propylene glycol monobutyl ether, ethyl formate, acetic acid methyl, ethyl acetate, ethyl lactate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol diacetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, diethyl carbonate, ethylene carbonate, propylene carbonate, .gamma.-butyrolactone, esters such as ethyl acetoacetate; acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl (n- butyl) ketone 、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、アセチルアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類;アセトニトリル、プロピオニトリル、n−ブチロニトリル、イソブチロニトリルなどのニトリル類;ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、スルホランなどが好適に用いられる。 , Methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone, acetylacetone, ketones such as cyclopentanone, cyclohexanone; acetonitrile, propionitrile, n- butyronitrile, nitriles such as isobutyronitrile; dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfone, sulfolane is preferred used to.

より好ましい分散媒は、炭素数1〜6の一価アルコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのアルカノールエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチル(n−ブチル)ケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、アセチルアセトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類である。 More preferred dispersion medium, monohydric alcohols having 1 to 6 carbon atoms, ethylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monopropyl ether , ethylene glycol monobutyl ether, alkanol ethers such as propylene glycol monobutyl ether; acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl (n- butyl) ketone, methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone, acetylacetone, cyclopentanone, ketones such as cyclohexanone it is a class.

これらの分散媒は、本発明の目的を損なわない限りにおいて、混合したり、他の任意の溶媒又は添加物を混合しても良い。 These dispersion media, so long as it does not impair the object of the present invention, mixed or may be mixed with other optional solvents or additives.

上記分散液を基材に塗布するにあたり、塗布性能及び基材との接着力を高めるために、公知のレベリング剤や結合助剤(カップリング剤)を添加することも有効である。 Upon coating the above dispersion on a substrate, in order to increase the adhesion between the coating performance and the substrate, it is effective to add a known leveling agent or coupling aid (coupling agent).

低屈折率層を製造する際には、塗布組成物を用いて塗布する際は、中空シリカ微粒子などの無機粒子の含有量、塗布液の濃度、バインダー及び添加物の種類並びにそれらの濃度、塗布方法、塗布条件などを制御することが好ましい。 In producing the low refractive index layer, when applied using a coating composition, the content of inorganic particles such as hollow silica fine particles, the concentration of the coating solution, kinds and their concentrations of binder and additives, coating method, it is preferable that controls the coating conditions. 例えば、中空シリカ微粒子の固形分重量を100重量部とした場合、微細シリカ粒子としては固形分重量を0.1〜30重量部、反応性シラン化合物として0.1〜20重量部、フルオロアルキル(トリアルコキシ)シランを0.1〜20重量部、バインダー成分として50〜500重量部の範囲に調整することは好ましい態様である。 For example, when the solid weight of the hollow silica fine particles and 100 parts by weight, 0.1 to 30 parts by solid weight is as fine silica particles, 0.1 to 20 parts by weight reactive silane compound, fluoroalkyl ( trialkoxy) 0.1 to 20 parts by weight of silane, it is a preferred embodiment to adjust the range of 50 to 500 parts by weight as a binder component.

塗布組成物の塗布は、ディッピング、スピンコーター、ナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーター、キャップコーターなどの公知の方法を用いて実施することができる。 The application of the coating composition, dipping, spin coater, a knife coater, a bar coater, a blade coater, squeeze coater, reverse roll coater, gravure roll coater, a slide coater, a curtain coater, spray coater, die coater, known caps and other coater the method can be carried out using. これらのうち、連続塗布が可能なナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーター及びキャップコーターが好ましく用いられる。 Of these, a continuous coating capable knife coater, a bar coater, a blade coater, squeeze coater, reverse roll coater, gravure roll coater, a slide coater, a curtain coater, spray coater, die coater and the cap coater is preferably used.

上記の塗布組成物を塗布した後は、分散媒を揮発させたり、反応性シラン化合物やバインダー成分を縮合、架橋させるために加熱を行うのが有効である。 After applying the coating composition, a dispersion medium or evaporate condensation reactive silane compound and the binder component, it is effective to carry out the heating for crosslinking. 加熱温度と時間は基材の耐熱性によって決定される。 The heating temperature and time is determined by the heat resistance of the substrate. 例えば、光学基材として、プラスチック基板を用いる場合、加熱温度は50℃〜200℃、時間は1秒〜1時間の間から選ばれ、好ましくは80℃〜150℃、10秒間〜3分間の範囲である。 For example, the optical substrate, when a plastic substrate is used, heating temperature is 50 ° C. to 200 DEG ° C., the time is selected from between 1 second to 1 hour, preferably 80 ° C. to 150 DEG ° C., a range of 10 seconds to 3 minutes it is. また、上記バインダーが放射線硬化性を有する場合は、紫外線、電子線などを公知の方法によって照射する。 Further, the binder may have a radiation curable irradiates ultraviolet rays, by known methods such as electron beam.

本発明における反射防止膜は、上述した構成を有するので、その視感度反射率が0.5%以下、鉛筆硬度がH以上となる。 Antireflection film in the present invention has the structure described above, the luminous reflectance of 0.5% or less, a pencil hardness equal to or greater than H. 視感度反射率は0.4%以下が好ましく、鉛筆硬度としは好ましくは2H以上、最も好ましくは3H以上である。 Luminous reflectance is preferably 0.4% or less, and the pencil hardness preferably 2H or more, most preferably at least 3H. 視感度反射率が低いため、外光の映り込みが少なく、表示材料などでの透過光の視認性が高くなる。 Due to the low luminous reflectance, less inclusive of external light reflected, the higher the visibility of the transmitted light in a display material. また、高い鉛筆硬度を有しているため、家庭での日常的な生活においても表面を傷つけることなく、実用上十分な硬度を有しているため、表示材料などに有用な反射防止膜である。 Also, because it has high pencil hardness, without damaging the surface even in daily life at home, because it has a practically sufficient hardness, a useful anti-reflection film such as a display material . このような反射防止膜は、光学基材/低屈折率層、光学基材/ハードコート層/低屈折率層、光学基材/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層などの構成を有する積層体とすることができる。 Such an antireflection film, optical substrate / low refractive index layer, the optical substrate / hard coat layer / low refractive index layer, structure such as optical substrate / hardcoat layer / high refractive index layer / low refractive index layer it can be a laminate having a.

光学基材としては、例えば、ガラス板や、(メタ)アクリル樹脂板、(メタ)アクリル樹脂シート、スチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体樹脂板、スチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体樹脂シート、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースアセテート系フィルム、延伸したポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ノルボネン系フィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアリレート系フィルム及びポリスルフォン系フィルムなどのプラスチック板、プラスチックシート、プラスチックフィルムなどのプラスチック基板な The optical substrate, e.g., a glass plate or, (meth) acrylic resin plate, (meth) acrylic resin sheet, a styrene - (meth) acrylic acid methyl copolymer resin plate, a styrene - (meth) acrylate copolymerization united resin sheet, polyethylene film, polypropylene film, triacetyl cellulose, cellulose acetate-based films such as cellulose acetate propionate, stretched polyethylene terephthalate, polyester film such as polyethylene naphthalate, polycarbonate-based films, norbornene-based film, polysulfone film , polyethersulfone films, polyarylate films and polysulfone films plastic plate such as plastic sheets, plastic substrate such as a plastic film が挙げられる。 And the like.

連続塗工により本発明の反射防止膜を製造する場合は、上記光学基材のうちのフィルム形状になっている基材が適している。 When producing the antireflection film of the present invention by a continuous coating is substrate has a film shape of the optical substrate is suitable. 具体的には、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースアセテート系フィルム、延伸したポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ノルボネン系フィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアリレート系フィルムなどである。 Specifically, polyethylene film, polypropylene film, triacetyl cellulose, cellulose acetate-based films such as cellulose acetate propionate, stretched polyethylene terephthalate, polyester film such as polyethylene naphthalate, polycarbonate-based films, norbornene-based film, polysulfone films, polyethersulfone films, and the like polyallylate film.

光学基材は、透過光の利用という観点から、ヘイズが2.0%以下であることが好ましく、1.0%以下であることがさらに好ましい。 Optical substrate, from the viewpoint of utilization of the transmitted light, it is preferable that the haze is 2.0% or less, and more preferably 1.0% or less.

工業的な利用という観点からは、連続塗工によるフィルム形状のものが好ましい。 From the viewpoint of industrial use, it is preferable for the film shape by continuous coating. このフィルム形状の反射防止膜は、反射防止機能を発揮させたい表面に粘着剤などを用いて貼ることで、表面に反射防止機能を付与することができる。 The film antireflection film shape, by sticking with an adhesive or the like, on the surface desired to be exhibited an antireflection function can be imparted an antireflection function to the surface. 反射防止機能を付与したい表面としては、ガラス面が最も多く、またアクリル樹脂面も多い。 The surface to be providing an antireflection function, most of the glass surface, also an acrylic resin surface is large. そのため、反射防止機能の観点から、光学基材のうち屈折率が1.45以上1.55以下のものが好ましく用いられる。 Therefore, from the viewpoint of the antireflection function, the refractive index of the optical substrate is preferably used in 1.45 1.55.

光学基材のうち、トリアセチルセルロースフィルム(以下TACフィルムと記載)は、波長分散という観点から優れた光学特性を有しているため、本発明の反射防止膜を連続生産する上でもっとも好ましい。 Among optical substrate, (hereinafter referred TAC film) triacetyl cellulose film, since it has excellent optical properties from the viewpoint of chromatic dispersion, most preferable for continuous production of anti-reflection film of the present invention. TACフィルムの厚さは、低屈折率層の厚みの均一性、光学基材としての取扱性という観点から25μm以上が好ましい。 The thickness of the TAC film, the uniformity of the thickness of the low refractive index layer, or 25μm from the viewpoint of handling property as the optical substrate is preferable. TACフィルムの厚さの上限は、光線透過率、光の利用効率の観点から200μmであることが好ましい。 The upper limit thickness of the TAC film, light transmittance is preferably 200μm from the viewpoint of light utilization efficiency.

次に、ハードコート層について説明する。 Next, a description will be given of the hard coat layer.
反射防止膜の連続生産という観点から、光学基材上にはハードコート層を設けるのが好ましい。 From the viewpoint of continuous production of the anti-reflection film is preferably provided a hard coat layer on the optical substrate. ハードコート層を設けることで、ディスプレイなどの表層を強固にすることができ、傷つきにくいものとすることができる。 By providing a hard coat layer, a surface layer such as a display can be strengthened, it can be assumed that scratch resistant. ハードコートとしては、JISK5400に準拠した鉛筆硬度試験で、鉛筆強度がH以上になるものが好ましく用いられ、特に2H以上のもが好ましく用いられる。 The hard coating, in the pencil hardness test according to JIS K5400, which pencil strength becomes equal to or greater than H are preferably used, also particularly preferably used for more than 2H. 一方、ディスプレイ表面の埃付着の観点から、表面抵抗率は10 +16 Ω/□以下が好ましく、10 +14 Ω/□以下であることがより好ましい。 On the other hand, from the viewpoint of dust adhesion on the display surface, the surface resistivity is preferably 10 +16 Ω / □ or less, more preferably 10 +14 Ω / □ or less.

ハードコート層の屈折率は、用いられる光学基材の屈折率との差を0.03以内とすることにより、干渉縞の発生を抑えることができる。 Refractive index of the hard coat layer, the difference between the refractive index of the optical substrate used by 0.03 within, it is possible to suppress the occurrence of interference fringes. これは、光学基材と帯電防止性ハードコート層との間の界面からの反射が抑制されることで、可視光線領域における反射スペクトルの振幅を小さくすることができ、干渉縞の発生が抑えられるからである。 This is because the reflection from the interface between the optical substrate antistatic hard coat layer is suppressed, it is possible to reduce the amplitude of the reflection spectrum in the visible light region, the occurrence of interference fringes can be suppressed it is from.

ハードコート層として鉛筆硬度、表面抵抗、干渉縞の防止を全て満たすために、帯電防止性ハードコートとするのが好ましい。 Pencil hardness as a hard coat layer, in order to satisfy all of the surface resistance, prevention of interference fringes, preferably in the antistatic hard coat. 表面抵抗率としては屈折率との観点から10 +3 〜10 +16 Ω/□のものが好ましく用いられる。 Things as the surface resistivity in terms of the refractive index 10 +3 ~10 +16 Ω / □ of the preferably used.

光学基材の屈折率が1.45〜1.55のものを用い、光学基材/ハードコート層/低屈折率層の構成にする場合、ハードコートの屈折率は、反射率の観点及び干渉縞防止という観点から1.45〜1.58にするのが好ましい。 Used as refractive index of the optical substrate of 1.45 to 1.55, when the configuration of the optical substrate / hard coat layer / low refractive index layer, the refractive index of the hard coat, in view of reflectance and interference preferably from the viewpoint of fringe prevented from 1.45 to 1.58. この構成の場合、帯電防止機能をハードコートに設けるのは好ましい態様である。 In this configuration, it is preferable aspect of providing an antistatic function to the hard coat. また、導電性微粒子と低屈折率の無機粒子をハードコート層に混合することにより、帯電防止機能と屈折率の調整が可能となり、鉛筆強度もH以上とすることが可能である。 Further, by mixing the inorganic particles of the conductive fine particles and a low refractive index in the hard coat layer, it is possible to adjust the refractive index and the antistatic function, a pencil strength may be a more H.

光学基材/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層の構成にする場合、ハードコート層の屈折率は、反射率の観点から1.50〜1.60に調整するのが好ましい。 If a configuration of the optical substrate / hardcoat layer / high refractive index layer / low refractive index layer, the refractive index of the hard coat layer is preferably adjusted to 1.50 to 1.60 in terms of reflectivity. この構成の場合は、高屈折率層に帯電防止機能を付与することもできる。 For this configuration, it is also possible to impart an antistatic function to the high refractive index layer.

ハードコートの代表的な材料としては、メラミン系、アクリルラジカル系、アクリルシリコーン系、アルコキシシラン系が好ましく、これらのハードコート材料をマトリクスとして、これに有機及び/又は無機の微粒子を分散させたもの(以下、有機・無機粒子分散系と称する)を用いることも可能である。 Exemplary materials of the hard coat, that melamine, acrylic radical-based, acrylic silicone, preferably alkoxysilane, these hard coat materials as a matrix, and this organic and / or inorganic fine particles are dispersed (hereinafter, referred to as organic-inorganic particle dispersion) can also be used.

上記のハードコート材料のうち、アクリルラジカル系としては、多官能アクリレートオリゴマー、及び/又は、多官能アクリレートモノマーを重合したものが好ましい。 Among the above-mentioned hard coat materials, acrylic radical-based, multi-functional acrylate oligomer, and / or, those obtained by polymerizing a polyfunctional acrylate monomer. 多官能アクリレートモノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートなどが挙げられる。 Examples of the polyfunctional acrylate monomer, dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, and the like ditrimethylolpropane tetraacrylate.

多官能アクリレートオリゴマーとしては、ノボラック型やビスフェノール型エポキシ樹脂をアクリレート変性したエポキシアクリレート、ポリイソシアネートとポリオールとを反応させて得られるウレタン化合物のアクリレート変性物であるウレタンアクリレート、ポリエステル樹脂をアクリレート変性したポリエステルアクリレートなどが挙げられる。 The polyfunctional acrylate oligomer, a novolak type, bisphenol type epoxy resin acrylate modified epoxy acrylates, acrylate-modified product in which the urethane acrylate urethane compound obtained by reacting a polyisocyanate and a polyol, polyesters acrylate-modified polyester resin acrylate and the like.

また、アクリルシリコーン系では、シリコーン樹脂上にアクリル基を共有結合により結合させたものが好ましい。 Also, in the acrylic silicone, it preferred are those obtained by binding covalently an acrylic group on the silicone resin.

また、アルコキシシラン系では、アルコキシシランを加水分解重縮合させることにより得られたシラノール基を有する縮合体を含んでいるものが好ましい。 Further, the alkoxy silane, which contains a condensate having a silanol group obtained by allowing the alkoxysilane hydrolytic polycondensation is preferred. この場合、塗布後の熱硬化などにより、シラノール基がシロキサン結合に変換されて硬化膜が得られる。 In this case, the thermal curing after application, silanol groups cured film is obtained is converted into a siloxane bond.

ハードコート層は、熱硬化や紫外線硬化、電子線硬化が行えるハードコート材料であることが好ましい。 The hard coat layer, a thermosetting or ultraviolet curing is preferably the hard coat material capable of performing electron beam curing. なお、ハードコート材料は、硬化方法に応じて、光重合開始剤や熱重合開始剤、添加剤、溶剤などを含んでいることが好ましい。 Incidentally, the hard coat material, depending on the curing method, a photopolymerization initiator or thermal polymerization initiator, the additive preferably contains a solvent or the like.

上記の有機・無機粒子分散系に用いる無機粒子の例としては、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、カオリン及び硫酸カルシウム粒子が挙げられる。 Examples of the inorganic particles used in the organic-inorganic particle dispersion system, silicon dioxide particles, titanium dioxide particles, aluminum oxide particles, zirconium oxide particles, tin oxide particles, calcium carbonate particles, barium sulfate particles, talc, kaolin and sulfuric acid calcium particles. 有機粒子の例としては、メタクリル酸−メチルアクリレートコポリマー、シリコーン樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、アクリル酸−スチレンコポリマー、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド及びポリフッ化エチレンが挙げられる。 Examples of the organic particles, methacrylic acid - methyl acrylate copolymer, silicone resin, polystyrene, polycarbonate, acrylate - styrene copolymer, benzoguanamine resins, melamine resins, polyolefins, polyesters, polyamides, polyimides and polyfluorinated ethylene. これらの粒子の平均粒子径は、0.01μm〜5μmであることが好ましく、0.01μm〜0.3μmであることがさらに好ましい。 The average particle size of these particles is preferably from 0.01 m to 5 m, more preferably from 0.01Myuemu~0.3Myuemu. 有機粒子、無機粒子は、各々複数種を混合して用いても構わず、有機粒子と無機粒子とを混合して用いて構わない。 Organic particles, inorganic particles are not may be used by each mixture of plural kinds, may be used by mixing the organic particles and inorganic particles.

本発明の反射防止膜に用いることができる有機粒子、無機粒子は、マトリクスとして用いられるハードコート材料と化学結合していても良く、化学結合していなくても良い。 The organic particles which can be used for the antireflection film of the present invention, inorganic particles may be chemically bonded hard coat material and used as a matrix, may not be chemically bonded. 上記の有機・無機粒子分散系のハードコート材料は、上記の粒子がハードコート材中に分散することでハードコート層の硬度を高くし、硬化収縮を抑える機能がある。 Hard coating material of the organic-inorganic particle dispersion system is to increase the hardness of the hard coat layer by the above particles are dispersed in the hard coat material, there is a function to suppress curing shrinkage.

無機粒子分散系の具体例としては、無機微粒子を分散させたアクリルラジカル系、無機微粒子を分散させた有機高分子系、無機微粒子を分散させたオルガノアルコキシシラン系などが挙げられ、アクリル系樹脂にシリカや酸化チタン、アルミナなどを分散させたものが好ましい。 Specific examples of the inorganic particle dispersion, acrylic radicals dispersed inorganic fine particles, an inorganic fine organic polymer type containing dispersed, and inorganic fine particles organoalkoxysilane system by dispersing the like, an acrylic resin silica or titanium oxide, those were like the dispersed alumina preferred. また、シリカ粒子の表面にアクリロイル基などを修飾した微粒子を用いることも好ましい。 It is also preferred to use a fine particle having a modified acryloyl groups on the surface of the silica particles.

ハードコート層には、さらに、着色剤(顔料、染料)、消泡剤、増粘剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤や改質用樹脂を添加しても良い。 The hard coat layer, further, a colorant (pigment, dye), a defoaming agent, thickener, leveling agents, flame retardants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, by adding a resin for antioxidants and modification it may be.

帯電防止性を付与するための帯電防止剤としては、界面活性剤、イオン性ポリマーなどの公知の帯電防止剤や導電性微粒子などをバインダーに分散させたものが用いられる。 Examples of the antistatic agent to impart antistatic properties, a surfactant, a known antistatic agent and conductive fine particles such as an ionic polymer are dispersed in a binder is used. 導電性微粒子としては、例えばインジウム、亜鉛、スズ、モリブデン、アンチモン、ガリウムなどの酸化物あるいは複合酸化物微粒子;銅、銀、ニッケル、低融点合金(ハンダなど)の金属微粒子;金属を被覆したポリマー微粒子;各種のカーボンブラック、ポリピロール、ポリアニリンなどの導電性ポリマー粒子;金属繊維、炭素繊維など、公知のものを用いることができる。 As the conductive particles, such as indium, zinc, tin, molybdenum, antimony, oxide or composite oxide fine particles such as gallium; polymer coated with metal; copper, silver, nickel, metal particles of low melting point alloy (such as solder) microparticles; various carbon black, polypyrrole, conductive polymer particles such as polyaniline; metal fibers, such as carbon fiber, can be a known. この中でも特にITO(スズ含有酸化インジウム)粒子、ATO(スズ含有酸化アンチモン)粒子、五酸化アンチモン粒子が、高い透明性と導電性を発現させることができるので好ましい。 Especially ITO Among (tin-containing indium oxide) particles, ATO (tin-containing antimony oxide) particles, antimony pentoxide particles, preferably it is possible to express high transparency and conductivity. さらに、干渉縞の防止のためには、導電性微粒子を用いる場合は、シリカ粒子など屈折率が1.50以下の低屈折率の無機粒子と合わせて用いることにより、光学基材との屈折率差を0.03以下にすることができる。 Furthermore, for the prevention of interference fringes, in the case of using the conductive fine particles, by the refractive index, such as silica particles used in conjunction with 1.50 or lower refractive index inorganic particles, the refractive index of the optical substrate the difference can be 0.03 or less. また、無機粒子を用いるため鉛筆硬度も向上させることができ、シリカ粒子と五酸化アンチモン粒子の組み合わせは好ましい態様である。 Also, the pencil hardness for use inorganic particles can also be improved, a combination of silica particles and antimony pentoxide particles are preferred embodiments.

ハードコート層は表面改質処理をされていても良い。 The hard coat layer may be a surface-modifying treatment. 表面改質処理は、コロナ処理、deep−UV照射、エキシマランプ照射、真空プラズマ処理、常圧プラズマ処理、電子線照射などを用いての処理や、シランカップリング剤などを含有するプライマー処理などが好ましく、特にコロナ処理は工業的に好ましく用いられる。 Surface modification treatment, corona treatment, deep-UV radiation, excimer lamp radiation, vacuum plasma treatment, atmospheric plasma treatment, treatment or by using an electron beam irradiation, and primer treatment containing a silane coupling agent preferably, in particular corona treatment industrially preferably used.

ハードコート層の塗工は、上記のハードコート材料に必要に応じて添加物を添加した組成物を、必要に応じて溶媒を用いて塗布溶液として透明プラスチック基板上に塗布成膜して、硬化することによって行うことができる。 Coating of the hard coat layer is a composition obtained by adding additives as necessary to the hard coating material, and film coating on a transparent plastic substrate as a coating solution using optionally solvent, curing it can be carried out by. 溶媒としては、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチルなどのエステル類;ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素類;メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素などのハロゲン化炭化水素類;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類;ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ As the solvent, water, methanol, ethanol, isopropanol, butanol, alcohols such as benzyl alcohol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, esters such as butyl formate; hexane, aliphatic hydrocarbons such as cyclohexane; methylene chloride, chloroform, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride; aromatic, such as benzene, toluene, xylene carbide hydrogen like; dimethylformamide, dimethylacetamide, amides such as N- methyl pyrrolidone; diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycidyl ールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類の溶媒、好ましくはトルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールなどを用いることができる。 Lumpur dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, solvent ethers such as propylene glycol dimethyl ether, preferably toluene, xylene, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol.

ハードコート層は、ハードコート材料を塗布し、乾燥した後に、80℃〜150℃で加熱して硬化させることにより、あるいは、光や電子線を用いて硬化させることにより得ることができる。 The hard coat layer, a hard coat material is applied, after drying, by heating and curing at 80 ° C. to 150 DEG ° C., or can be obtained by curing with light or an electron beam.

本発明の反射防止膜に用いることができるハードコート材料としては、市販のシリコーン系ハードコート、(メタ)アクリル系ハードコート、エポキシ系ハードコート、ウレタン系ハードコート、エポキシアクリレート系ハードコート、ウレタンアクリレート系ハードコートなど、公知のものを用いることができる。 The hard coating materials which can be used for the antireflection film of the present invention, commercially available silicone-based hard coating, (meth) acrylic hard coat, an epoxy-based hard coating, urethane-based hard coating, epoxy acrylate-based hard coating, urethane acrylate such systems hardcoat, can be a known. 具体的には、信越化学工業株式会社製UV硬化型シリコーンハードコート剤X−12シリーズ、GE東芝シリコーン株式会社製UV硬化型シリコーンハードコート剤UVHCシリーズ、熱硬化型シリコーンハードコート剤SHCシリーズ、株式会社日本ダクロシャムロック製熱硬化性シリコーンハードコート剤ソルガードNPシリーズ、日本化薬株式会社製UV硬化型ハードコート剤KAYANOVA FOPシリーズが好ましい。 Specifically, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. UV-curable silicone hard coating agent X-12 series, GE Toshiba Silicones Co., Ltd. UV-curable silicone hard coating agent UVHC series, heat-curable silicone hard coating agent SHC series, stock companies Japan DACRO Shamrock made of heat-curable silicone hard coating agent Sorugado NP series, Nippon Kayaku UV-curable hard coat agent KAYANOVA FOP series Co., Ltd. is preferred. この他、ハードコート層は、多官能モノマーなどと重合開始剤とを含む塗布液を塗布し、多官能モノマーなどを重合させることによっても形成できる。 In addition, the hard coat layer, a polyfunctional monomer such as a coating liquid was applied containing a polymerization initiator, it can also be formed by polymerizing such a polyfunctional monomer. なお、ハードコート層の厚さは、通常0.1μm〜5μmに設定される。 The thickness of the hard coat layer is usually set to 0.1 .mu.m to 5 .mu.m.

塗布組成物の塗布は、ディッピング、スピンコーター、ナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーター、キャップコーターなどの公知の方法を用いて実施することができる。 The application of the coating composition, dipping, spin coater, a knife coater, a bar coater, a blade coater, squeeze coater, reverse roll coater, gravure roll coater, a slide coater, a curtain coater, spray coater, die coater, known caps and other coater the method can be carried out using. これらのうち、連続塗布が可能なナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーター及びキャップコーターが好ましく用いられる。 Of these, a continuous coating capable knife coater, a bar coater, a blade coater, squeeze coater, reverse roll coater, gravure roll coater, a slide coater, a curtain coater, spray coater, die coater and the cap coater is preferably used.

低屈折率層の直下に高屈折率層を設けても良い。 It may be provided a high refractive index layer immediately below the low refractive index layer. 高屈折率層としては、例えば、チタン、ジルコニウム、亜鉛、アンチモン、インジウム、スズ、セリウム、タンタル、イットリウム、ハフニウム、アルミニウム、マグネシウムなどの金属を含む酸化物又は複合酸化物などの公知の無機微粒子を、バインダーに分散させたものが用いられる。 As the high refractive index layer, for example, titanium, zirconium, zinc, antimony, indium, tin, cerium, tantalum, yttrium, hafnium, aluminum, known inorganic fine particles such as oxides or composite oxides containing metal such as magnesium , are dispersed in a binder is used. バインダーは、低屈折率層のバインダーとして上記(1)〜(8)に列挙したものを用いることができる。 The binder may be those as a binder of the low refractive index layer listed above (1) to (8). その中でも好ましいのは(5)に記載の有機ポリマーのうち側鎖や末端に重合性官能基を有するもの、(6)に記載の重合性モノマー、(7)に記載の硬化性樹脂である。 Preferred among them are those having a polymerizable functional group on the inner side chains or termini of the organic polymer according to (5), a polymerizable monomer, curable resin according to (7) described in (6). これらバインダーの種類と量は、目的の屈折率、強度、耐光性、黄変性などによって通常用いられるものを選択できる。 Type and amount of these binders, the refractive index of the object, strength, light resistance, those normally used, such as by yellowing can be selected. 高屈折率層としての屈折率は1.55〜1.68が反射防止性能上好ましく、特に1.57〜1.65が好ましい。 The refractive index of the high refractive index layer is from 1.55 to 1.68 is on the antireflection performance Preferably, particularly from 1.57 to 1.65 are preferred. 高屈折率層の厚さは、50nm〜300nm、特に120nm〜180nmが好ましい。 The thickness of the high refractive index layer, 50 nm to 300 nm, particularly 120nm~180nm is preferred. 厚さの制御により反射率の制御と、反射防止膜の色の制御も可能になる。 And control of the reflectance by controlling the thickness, it becomes possible to control the color of the antireflection film.

本発明の反射防止膜は、表面に滑り性や防汚性などを付与するために、被覆層を設けても良い。 Antireflection film of the present invention, in order to impart such slipperiness and antifouling property to the surface, may be provided a coating layer. 被覆層は、例えばフッ素樹脂、湿気硬化型シリコーン樹脂、熱硬化型シリコーン樹脂、二酸化ケイ素、(メタ)アクリル系樹脂、(メタ)アクリル系UV硬化性樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ノボラック樹脂、シリコーンアクリレート樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、尿素樹脂など、公知の任意の材料で構成され得る。 Coating layer, for example, a fluorine resin, moisture curing type silicone resins, thermosetting silicone resins, silicon dioxide, (meth) acrylic resin, (meth) acrylic UV-curable resin, epoxy resin, phenoxy resin, novolac resin, silicone acrylate resins, melamine resins, phenol resins, unsaturated polyester resins, polyimide resins, urethane resins, urea resins, may be configured in any known material. 被覆層の膜厚は、通常、50nm以下、好ましくは10nm以下、より好ましくは5nm以下である。 The film thickness of the coating layer is usually, 50 nm or less, preferably 10nm or less, more preferably 5nm or less. 被覆層は、単層又は複数層で構成される。 Coating layer is composed of a single layer or plural layers. 防汚効果を発現させるために、上記の中でも、被覆層は、フッ素樹脂、湿気硬化型シリコーン樹脂及び熱硬化型シリコーン樹脂で構成されることが好ましい。 To express the antifouling effect, among the above, the coating layer is a fluorine resin, be comprised of a moisture-curable silicone resin and a thermosetting silicone resin.

本発明の反射防止膜の製造方法は限定されないが、転写箔を経由して反射防止膜を製造しても良い。 Method for producing an antireflection film of the present invention is not limited, it may be produced antireflection film via the transfer foil.

本発明の反射防止膜は、反射色として自然色に近いものが好ましい。 Antireflection film of the present invention is preferably one close to natural color as reflected color. 反射色の表現として2度視野に基づくXYZ表色系の色度座標x、y(JIS Z 8722−2000)を用いた場合、反射防止膜としてx=0.22〜0.42、y=0.20〜0.42の範囲が好ましく、特にx=0.23〜0.39、y=0.23〜0.39が好ましい。 Based on two-degree field as a representation of the reflected color XYZ colorimetric system chromaticity coordinates x, the case of using y (JIS Z 8722-2000), x = 0.22~0.42 as an antireflection film, y = 0 is preferably in the range of .20~0.42, especially x = 0.23~0.39, y = 0.23~0.39 is preferred. 視感度反射率が低く、さらにこのような自然な反射色を有するため、ディスプレイ表面に本発明の反射防止膜を用いると、透過光の色が自然な色になるとともに、外光の反射による着色もないために、どのような状態のときでも色の再現性に優れたカラー表示が可能になる。 Luminous reflectance is low and further because it has such a natural reflection colors, using the antireflection film of the present invention to a display surface, with the color of the transmitted light is natural color, coloration due to reflection of external light in order not allows color display with excellent color reproducibility even when the any state.

本発明の反射防止膜は、ヘイズ値においても優れており、2.0%以下、製造条件によっては1.0%以下、0.8%以下の値を提供できる。 Antireflection film of the present invention are excellent in haze value, 2.0%, 1.0% or less by the production conditions, it can provide a value of 0.8% or less.

本発明の反射防止膜は、その断面の薄膜切片を作成し、透過型電子顕微鏡で断面写真を撮ることによって、中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子を観察することができる。 Antireflection film of the present invention is to create a thin slice of the cross section, by taking a cross-sectional photograph by a transmission electron microscope, it is possible to observe the hollow silica fine particles and fine silica particles. この場合、中空シリカ微粒子は、粒子の中央付近が中空になっているため、写真では明るく見える。 In this case, the hollow silica fine particles, since the vicinity of the center of the particle is a hollow, appear bright in the photograph.

本発明の反射防止膜の好ましい態様は、光学基材としてTACフィルムを用い、この上に帯電防止性ハードコート層、中空シリカ微粒子と微細シリカ粒子とバインダーとを含む低屈折率層を順に積層した構造である。 A preferred embodiment of the antireflection film of the present invention, using a TAC film as the optical substrate, were laminated antistatic hard coat layer thereon, a low refractive index layer containing hollow silica fine particles and fine silica particles and a binder in this order it is a structure. このような構造の積層体は、ガラスなどの部材と粘着材又は熱可塑性樹脂を介して接着することもできる。 Laminate having such a structure can also be bonded via the member with adhesive material or a thermoplastic resin such as glass.

本発明の反射防止膜は、例えば、メガネレンズ、ゴーグル、コンタクトレンズなどのメガネ分野;車の窓、インパネメーター、ナビゲーションシステムなどの自動車分野;窓ガラスなどの住宅・建築分野;ハウスの光透過性フィルムやシートなどの農芸分野;太陽電池、光電池、レーザーなどのエネルギー分野;TVブラウン管、ノートパソコン、電子手帳、タッチパネル、液晶テレビ、液晶ディスプレイ、車載用テレビ、液晶ビデオ、プロジェクションテレビ、プラズマディスプレイ、プラズマアドレス液晶ディスプレイ、電解放出型ディスプレイ、有機/無機ELディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ、光ファイバー、光ディスクなどの電子情報機器分野;照明グローブ、蛍光灯、鏡、時計などの家庭用品分野;ショーケース、額 Antireflection film of the present invention, for example, spectacle lenses, goggles, glasses areas such as contact lenses; light transmissive house; housing and construction fields such as window glass; car window, instrument panel meter, automotive field, such as a navigation system agricultural areas such as film or sheet; solar cells, photovoltaic cells, energy field such as a laser; TV cathode-ray tube, a laptop, an electronic organizer, a touch panel, a liquid crystal television, a liquid crystal display, a vehicle-mounted TV, LCD video, projection televisions, plasma display, plasma address liquid crystal display, field emission display, an organic / inorganic EL display, light emitting diode display, optical fibers, electronic information device field such as an optical disk; lighting globe, fluorescent lights, mirrors, household areas such as watches; showcases, forehead 半導体リソグラフィー、コピー機器などの業務用分野;液晶ゲーム機器、パチンコ台ガラス、ゲーム機などの娯楽分野などにおいて、映り込みの防止及び/又は光透過性の向上を必要としている非常に広範な用途に用いることができる。 Semiconductor lithography, industrial fields such as copying machines; liquid crystal game machine, pachinko machine glass, in recreational areas such as a game machine, a very wide range of applications in need of prevention and / or optical transparency improvement of glare it can be used.

以下、本発明の効果を明確にするために行った実施例について説明する。 The following describes examples which were carried out to clarify the effects of the present invention.
(各種測定方法) (Various measurement methods)
(1)反射防止膜の反射率の測定 ガラス板(NHテクノグラス社製NA35、0.70mm厚、TFT用)にアクリル系光学用粘着剤で、(光学基材)/(ハードコート)/(高屈折率層)/低屈折率層で構成された反射防止膜を貼り、ガラス板の裏面(低屈折率層がない面)の反射光をカットするため、裏面を紙やすりで荒した後に黒色インクで塗りつぶした。 (1) Measurement of glass plates (NH Techno Glass NA35,0.70mm thickness, for TFT) of the reflectance of the antireflection film of an acrylic optical adhesive, a / (optical substrate) / (hard coat) ( paste the antireflection film made of a high refractive index layer) / low refractive index layer, in order to cut the light reflected back surface of the glass plate (surface no low refractive index layer), black after roughening the back surface with sandpaper filled with ink. その後、分光光度計UV−2450/MPC2200型5°絶対反射率測定装置(島津製作所株式会社製)を用いて、波長300nm〜800nmの範囲の反射率スペクトルを0.5nm間隔で測定した。 Then, using a spectrophotometer UV-2450 / MPC2200 type 5 ° absolute reflectance measurement apparatus (manufactured by Shimadzu Corporation), and the reflectance spectrum in the range of wavelengths 300nm~800nm ​​measured at 0.5nm intervals.

視感度反射率については、測定した反射率スペクトルより、JIS Z8720に規定されているD65光源に対する視感度反射率を計算した。 The luminous reflectance than was measured reflectance spectra were calculated luminous reflectance for D65 light source defined in JIS Z8720. また、測定した反射率スペクトルより、反射色としてJIS Z8722に規定されているXYZ表色系の色度座標xyを計算した。 Also, from the measured reflectance spectra were used to calculate the chromaticity coordinates xy of the XYZ color system prescribed in JIS Z8722 as the reflection color. 干渉縞の評価として、この反射率データで最低反射率を示す近傍での隣り合う極大値と極小値の差を干渉縞の評価とし、この差が0.1%未満のものを○、0.1〜0.2%のものを△、0.3〜0.4%のものを×、それ以上のものを××と評価した。 As the evaluation of the interference fringes, the difference between adjacent local maximum values ​​and local minimum values ​​in the vicinity showing a minimum reflectance in the reflectance data and the evaluation of the interference fringes, what the difference is less than 0.1% ○, 0. 1 to 0.2 percent of what the △, × those of from 0.3 to 0.4%, was evaluated as ×× any more of those.

(2)ヘイズの測定 日本電色工業株式会社製濁度計(曇り度計)NDH2000を用いて、JIS K7361−1に規定される方法にて測定した。 (2) Measurement of haze Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. turbidimeter using a (haze meter) NDH2000, was measured by the method specified in JIS K7361-1.

(3)鉛筆硬度 JISS6006に規定する試験用鉛筆を用いて、JISK5400に規定される鉛筆硬度の評価方法に従い、500g荷重における鉛筆硬度を評価した。 (3) by using the test pencil prescribed in pencil hardness JISS6006, according to the evaluation method of the pencil hardness defined in JIS K5400, it was assessed pencil hardness at 500g load.

(4)表面抵抗率の測定 測定装置として東亜ディーケーケー社製超絶縁計SM−8210、電極としては平板試料用電極SME−8311を用い、JIS K6911に規定される方法によって表面抵抗率を測定した。 (4) The surface resistivity of the measurement the measuring device as DKK-TOA Corp. super megohmmeter SM-8210, using a flat plate sample electrode SME-8311 as the electrode, the surface resistivity was measured by the method specified in JIS K6911. (20℃、65RH%) (20 ℃, 65RH%)

(5)膜の屈折率の推定方法 既知のシート上にサンプルを種々の厚さに塗工し、その300nm〜800nmの反射率を、FE3000型反射分光計(大塚電子株式会社製)を用いて測定し、FE3000の付属ソフトであるシミュレーションによりサンプルの屈折率を推定した。 (5) a method for estimating sample known on the sheet of the refractive index of the film is coated in various thicknesses, the reflection rate of the 300 nm to 800 nm, using FE3000 type reflective spectrometer (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) measured and estimated refractive index of the sample by simulation is supplied with software FE3000.

(6)粉体の屈折率の推定方法 粉体をスライドガラス上に少量置き、これに屈折率が既知の液を数滴落として粉体と混合する。 (6) a method for estimating the powder of the refractive index of the powder placed a small amount on a slide glass, the refractive index in this is mixed with the powder few drops of known liquid. この状態で混合液が透明になった場合、既知の液と粉体の屈折率が同等とみなした。 When the mixture becomes transparent in this state, known liquid and powder refractive index of the equated.

(7)指紋拭取り性 指の指紋を反射防止膜に多めに付けて、ティッシュペーパーでの拭取り性を評価した。 (7) the fingerprint of the fingerprint wiping of finger larger amount attached to the anti-reflection film, was to evaluate the wiping of a tissue paper. 容易に拭き取れたものを○、取れにくいものの何とか取れたものを△、取れないか表層の膜が剥がれてしまったものを×と評価した。 ○ what was easily wiped off, but hard to get somehow balanced things △, it was evaluated as × what you've peeled off the surface layer of the film or not take.

(塗工液の調整) (Adjustment of the coating liquid)
(ハードコート層塗工液HC−A) (Hard coat layer coating solution HC-A)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(以下、DPHAと記載する)をメチルイソブチルケトン(以下、MIBKと記載する)で希釈して固形分30重量%の溶液を調整した。 Dipentaerythritol hexaacrylate (hereinafter, DPHA to as) of methyl isobutyl ketone (hereinafter referred to as MIBK) to prepare a solid content of 30 wt% of the solution was diluted with. このDPHAのMIBK溶液100重量部に対して、これに五酸化アンチモン(触媒化成工業株式会社製、Sb 、粒径約20nm)の30重量%MIBK分散液を100重量部混合し、さらにMIBK−ST(日産化学工業株式会社製、SiO 、粒径10nm〜15nm、30重量%のMIBK分散液)を200重量部混合した。 Against MIBK solution 100 parts by weight of the DPHA, this antimony pentoxide (Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd., Sb 2 O 5, particle size of about 20 nm) 30 wt% MIBK dispersion of mixed 100 parts by weight, more MIBK-ST (Nissan Chemical Industries, Ltd., SiO 2, particle size 10nm~15nm, 30 wt% of MIBK dispersion) was mixed 200 parts by weight. 開始剤としてイルガキュア(商標登録)184 3重量部をDPHA、Sb 、SiO のMIBK混合液に加えて、ハードコート層用塗工液HC−Aを調製した。 IRGACURE as initiator (trademark) 184 3 parts by weight of DPHA, in addition to Sb 2 O 5, SiO 2 of MIBK mixture to prepare a coating solution HC-A for a hard coat layer. このハードコート用塗工液HC−Aを屈折率が既知のアクリル板に塗工、乾燥、UV硬化させて屈折率を調べたところ1.515だった。 Coating the hard coat coating solution HC-A refractive index to a known acrylic plate, drying was 1.515 were examined refractive index by UV curing.

(ハードコート層塗工液HC−B) (Hard coat layer coating solution HC-B)
用いたMIBK−STを50重量部とした以外は、ハードコート層塗工液HC−Aと同様にしてハードコート層用塗工液HC−Bを調製した。 Except that the MIBK-ST using a 50 parts by weight, to prepare a coating solution HC-B for a hard coat layer in the same manner as the hard coat layer coating solution HC-A. このハードコート用塗工液HC−Bを屈折率が既知のアクリル板に塗工、乾燥、UV硬化させて屈折率を調べたところ1.54だった。 Coating the hard coat coating solution HC-B is the refractive index in the known acrylic plate, drying was 1.54 were examined refractive index by UV curing.

(ハードコート層塗工液HC−C) (Hard coat layer coating solution HC-C)
ITO微粒子のエタノール分散液(触媒化成工業社製「ELCOM V−2506」固形分20.5重量%)12重量部に対して、ジペンタエリスリトールヘキサメタアクリレート1重量部、ITOの分散助剤(燐酸エステル系)0.1重量部、開始剤としてイルガキュア(商標登録)184を0.1重量部用い、これらをエタノール溶媒中で混合・分散させて、固形分濃度4重量%のハードコート層用塗工液HC−Cを調製した。 Ethanol dispersion of ITO fine particles (Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. "ELCOM V-2506" solids 20.5 wt%) relative to 12 parts by weight, dipentaerythritol hexa methacrylate 1 part by weight, ITO dispersing aids (phosphates ester) 0.1 parts by weight, using Irgacure (registered trademark) 184 and 0.1 parts by weight as an initiator, these are mixed and dispersed in ethanol solvent, coating a solid concentration of 4% by weight hard coat layer to prepare a coating solution HC-C. このハードコート用塗工液HC−Cを屈折率が既知のアクリル板に塗工、乾燥、UV硬化させて屈折率を調べたところ1.65だった。 Coating the refractive index of the hard coat coating solution HC-C is a known acrylic plate, drying was 1.65 were examined refractive index by UV curing.

(ハードコート層塗工液HC−D) (Hard coat layer coating solution HC-D)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(以下、DPHAと記載する)をメチルイソブチルケトン(以下、MIBKと記載する)で希釈して固形分30重量%の溶液を調製した。 Dipentaerythritol hexaacrylate (hereinafter, DPHA to as) of methyl isobutyl ketone (hereinafter referred to as MIBK) to prepare a solid content of 30 wt% of the solution was diluted with. このDPHAのMIBK溶液100重量部に対して、MIBK−ST(日産化学工業株式会社製、SiO 、粒径10nm〜15nm、30重量%のMIBK分散液)を45重量部混合した。 Against MIBK solution 100 parts by weight of the DPHA, MIBK-ST (Nissan Chemical Industries, Ltd., SiO 2, particle size 10nm~15nm, 30 wt% of MIBK dispersion) was mixed 45 parts by weight. 開始剤としてイルガキュア(商標登録)184 3重量部をDPHA、SiO のMIBK混合液に加えて、ハードコート層用塗工液HC−Dを調製した。 IRGACURE as initiator (trademark) 184 3 parts by weight of DPHA, in addition to MIBK mixture of SiO 2, to prepare a coating solution HC-D for a hard coat layer. このハードコート用塗工液HC−Dを屈折率が既知のアクリル板に塗工、乾燥、UV硬化させて屈折率を調べたところ1.515だった。 Coating the hard coat coating solution HC-D refractive index to a known acrylic plate, drying was 1.515 were examined refractive index by UV curing.

(低屈折率層塗工液L−A) (Low refractive index layer coating solution L-A)
中空シリカ微粒子として触媒化成工業株式会社製、平均粒径100nm、屈折率1.20、固形分20重量%のイソプロパノール(以下、IPAと記載する)分散液を用いた。 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. as hollow silica fine particles, average particle size 100 nm, refractive index 1.20, solid content 20% by weight of isopropanol (hereinafter referred to as IPA) was used a dispersion. この中空シリカ微粒子を透過型電子顕微鏡で観察したところ、外殻厚み(壁厚み)はおよそ9nmだった。 The hollow silica fine particles was observed with a transmission electron microscope, the outer shell thickness (wall thickness) was about 9 nm. 微細シリカ粒子として、日産化学工業株式会社製球状シリカゾル、商品名スノーテックスST−OS、粒子径9nm、固形分20重量%の水分散液を用いた。 As fine silica particles were used Nissan Chemical Industries, Ltd. spherical silica sol, trade name Snowtex ST-OS, particle size 9 nm, a solid content of 20 wt% of the aqueous dispersion. 中空シリカ微粒子のIPA分散液100重量部に対して、微細シリカ粒子の水分散液3重量部を室温で混合した。 Against IPA dispersion 100 parts by weight of hollow silica fine particles were mixed at room temperature an aqueous dispersion 3 parts by weight of fine silica particles. 次いで、反応性シラン化合物として3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン0.6重量部を撹拌しながら滴下して混合した。 Then, the 3-methacryloxypropyl trimethoxy silane 0.6 parts by weight reactive silane compound was mixed dropwise with stirring. 次いで、フルオロアルキル(トリアルコキシ)シラン(CF (CF CH CH Si(OCH )0.6重量部を撹拌しながら滴下した後、0.1Nの硝酸水溶液を反応性シラン化合物とフルオロアルキル(トリアルコキシ)シランに対して1モル%加え、50℃で2時間加水分解して、中空シリカ微粒子及び微細シリカ粒子を反応性シラン化合物とフルオロアルキル(トリアルコキシ)シランで処理した(処理液A)。 Then, fluoroalkyl (trialkoxy) silane (CF 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3) was added dropwise with stirring 0.6 parts by weight, reactive nitric acid aqueous solution of 0.1N in addition 1 mol% of the silane compound and the fluoroalkyl (trialkoxy) silane, and 2 hours to effect hydrolysis at 50 ° C., the hollow silica fine particles and fine silica particles with a reactive silane compound and fluoroalkyl (trialkoxy) silane treatment and (processing solution a). バインダーとしてJSR社製フッ素系UV硬化タイプ「TU2085」(MIBK、固形分10重量%)を上記処理液Aに300重量部加え、低屈折率層塗工液L−Aとした。 Manufactured by JSR Corporation fluorine-based UV curable type "TU2085" a (MIBK, solid content 10 wt%) was added 300 parts by weight of the above treating solution A as a binder, and a low refractive index layer coating solution L-A. この低屈折率層塗工液L−Aを屈折率が既知のアクリル板に塗工、乾燥、UV硬化させて屈折率を調べたところ1.30だった。 The low refractive index layer coating solution coated L-A a refractive index to a known acrylic plate, drying was 1.30 were examined refractive index by UV curing.

(低屈折率層塗工液L−B) (Low refractive index layer coating solution L-B)
中空シリカ微粒子として平均粒径120nm、屈折率1.18の20重量%IPA分散液を用いた(特許文献5に順じて調整した)。 The average particle diameter of 120nm as hollow silica fine particles, using 20 wt% IPA dispersion of refractive index 1.18 (adjusted by sequentially applies in Patent Document 5). この中空シリカ微粒子を透過型電子顕微鏡で観察したところ、外殻厚さ(壁厚み)はおよそ9nmだった。 The hollow silica fine particles was observed with a transmission electron microscope, the outer shell thickness (wall thickness) was about 9 nm.

微細シリカ粒子の量をL−Aの1/3、反応性シラン化合物の量をL−Aの1/3、フルオロアルキル(トリアルコキシ)シランの量をL−Aの1/3とした以外は、低屈折率層塗工液L−Aと同様にして低屈折率層塗工液L−Bとした。 1/3 the amount of the fine silica particles of L-A, except that one-third of the amount of the reactive silane compound L-A, the amount of fluoroalkyl (trialkoxy) silane was 1/3 of L-A and a low refractive index layer coating solution L-B in the same manner as the low refractive index layer coating solution L-a. この低屈折率層塗工液L−Bを屈折率が既知のアクリル板に塗工、乾燥、UV硬化させて屈折率を調べたところ1.27だった。 The low refractive index layer coating solution coated L-B the refractive index of the known acrylic plate, drying was 1.27 were examined refractive index by UV curing.

(低屈折率層塗工液L−C) (Low refractive index layer coating solution L-C)
中空シリカ微粒子として平均粒径120nm、屈折率1.14の20重量%IPA分散液を用いた(特許文献5に順じて調整した)。 The average particle diameter of 120nm as hollow silica fine particles, using 20 wt% IPA dispersion of refractive index 1.14 (adjusted by sequentially applies in Patent Document 5). この中空シリカ微粒子を透過型電子顕微鏡で観察したところ、外殻厚さ(壁厚み)はおよそ7nmだった。 The hollow silica fine particles was observed with a transmission electron microscope, the outer shell thickness (wall thickness) was about 7 nm.

用いた中空シリカ微粒子の種類以外は、低屈折率層塗工液L−Bと同様にして低屈折率層塗工液L−Cとした。 Except kinds of hollow silica fine particles used were in the same manner as the low refractive index layer coating solution L-B and the low refractive index layer coating solution L-C. この低屈折率層塗工液L−Cを屈折率が既知のアクリル板に塗工、乾燥、UV硬化させて屈折率を調べたところ1.24だった。 The low refractive index layer coating solution coated L-C the refractive index to a known acrylic plate, drying was 1.24 were examined refractive index by UV curing.

(低屈折率層塗工液L−D) (Low refractive index layer coating solution L-D)
用いたバインダーの量を低屈折率層塗工液L−Cの1.5倍とし、開始剤「イルガキュア369」も同様に1.5倍とした以外は、低屈折率層塗工液L−Cと同様にして低屈折率層塗工液L−Dとした。 The amount of binder used was 1.5 times of the low refractive index layer coating solution L-C, except the initiator "Irgacure 369" also were 1.5 times in the same manner, the low refractive index layer coating solution L- and the low refractive index layer coating solution L-D in the same manner as C. この低屈折率層塗工液L−Dを屈折率が既知のアクリル板に塗工、乾燥、UV硬化させて屈折率を調べたところ1.266だった。 The low refractive index layer coating solution coated L-D refractive index to a known acrylic plate, drying was 1.266 were examined refractive index by UV curing.

(低屈折率層塗工液L−E) (Low refractive index layer coating solution L-E)
フルオロアルキル(トリアルコキシ)シランを用いなかった以外は、低屈折率層塗工液L−Aと同様にして低屈折率層塗工液L−Eとした。 Except for using no fluoroalkyl (trialkoxy) silane, in the same manner as the low refractive index layer coating solution L-A and the low refractive index layer coating solution L-E. この低屈折率層塗工液L−Eを屈折率が既知のアクリル板に塗工、乾燥、UV硬化させて屈折率を調べたところ1.30だった。 The low refractive index layer coating solution coating refractive index of L-E is the known acrylic plate, drying was 1.30 were examined refractive index by UV curing.

(低屈折率層塗工液L−F) (Low refractive index layer coating solution L-F)
中空シリカ微粒子として触媒化成工業株式会社製、平均粒径60nm、屈折率1.30、固形分20重量%のイソプロパノール分散液を用いた。 Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. as hollow silica fine particles, average particle size 60 nm, refractive index 1.30, with a solid content of 20 wt% isopropanol dispersion. この中空シリカ微粒子を透過型電子顕微鏡で観察したところ、外殻厚さ(壁厚み)はおよそ9nmだった。 The hollow silica fine particles was observed with a transmission electron microscope, the outer shell thickness (wall thickness) was about 9 nm.

用いた中空シリカ微粒子の種類以外は、低屈折率層塗工液L−Aと同様にして低屈折率層塗工液L−Eとした。 Except kinds of hollow silica fine particles used were in the same manner as the low refractive index layer coating solution L-A and the low refractive index layer coating solution L-E. この低屈折率層塗工液L−Eを屈折率が既知のアクリル板に塗工、乾燥、UV硬化させて屈折率を調べたところ1.36だった。 The low refractive index layer coating solution coating refractive index of L-E is the known acrylic plate, drying was 1.36 were examined refractive index by UV curing.

(低屈折率層塗工液L−G) (Low refractive index layer coating solution L-G)
低屈折率層塗工液L−Aの操作において微細粒子を用いずに、相当する重量の水のみを加えた以外は、低屈折率層塗工液L−Aと同様にして低屈折率層塗工液L−Fとした。 Without using the fine particles in the operation of the low refractive index layer coating solution L-A, except that by adding only the corresponding weight of water, as in the low refractive index layer coating solution L-A low refractive index layer and the coating liquid L-F. この低屈折率層塗工液L−Fを屈折率が既知のアクリル板に塗工、乾燥、UV硬化させて屈折率を調べたところ1.30だった。 The low refractive index layer coating solution coated L-F the refractive index of the known acrylic plate, drying was 1.30 were examined refractive index by UV curing.

(低屈折率層塗工液L−H) (Low refractive index layer coating solution L-H)
微細シリカ粒子として、粒径50nmのシリカゾルを用いた以外は、低屈折率層塗工液L−Aと同様にして、低屈折率層塗工液L−Gとした。 As fine silica particles, except for using silica sol having a particle size of 50 nm, in the same manner as the low refractive index layer coating solution L-A, and the low refractive index layer coating solution L-G. この低屈折率層塗工液L−Gを屈折率が既知のアクリル板に塗工、乾燥、UV硬化させて屈折率を調べたところ1.30だった。 The low refractive index layer coating solution coated L-G the refractive index is a known acrylic plate, drying was 1.30 were examined refractive index by UV curing.

(実施例1) (Example 1)
(ハードコート層の形成) (Formation of the hard coat layer)
光学基材として、富士写真フィルム社製のUV吸収剤入りのTACフィルム(厚み80μ)TDY80ULを用い、これにハードコート層塗工液HC−Aをバーコーターを用いて、乾燥後の厚みが1.8〜2.0μmになるように塗工した。 As the optical substrate, with a TAC film (thickness 80μ) TDY80UL of Fuji Photo Film Co., Ltd. UV absorber containing, by using the hard coat layer coating solution HC-A a bar coater to a thickness after drying is 1 It was coated so as to .8~2.0μm. バーコーターで塗工後の膜を80℃で1分乾燥させた後、fusion UV、光量200mJ/cm で硬化させてハードコート層を形成した。 After the film after coating was dried for 1 minute at 80 ° C. with a bar coater to form a hard coat layer fusion UV, cured at a light quantity 200 mJ / cm 2.

(低屈折率層の形成) (Formation of low refractive index layer)
ハードコート層付き光学基材に、低屈折率層塗工液L−Aを、バーコーターを用いて、塗工した。 With the hard coat layer optical substrate, a low refractive index layer coating solution L-A, using a bar coater, it was applied. バーコーター塗工後の膜を120℃で1分乾燥させた後に密閉容器に入れ、容器内を窒素ガス置換し、容器内の酸素濃度を60ppmに保持した。 The film after a bar coater coating placed in a sealed container after drying 1 minute at 120 ° C., the vessel was substituted nitrogen gas, and kept the oxygen concentration in the container to 60 ppm. これを容器ごとfusion UV、光量1600mJ/cm で硬化させ、低屈折率層を形成して、反射防止膜を得た。 This container by fusion UV, cured at light intensity 1600 mJ / cm 2, to form a low refractive index layer to obtain an antireflection film. この低屈折率層の厚さは100nm〜110nmであった。 The thickness of the low refractive index layer was 100Nm~110nm.

(反射防止膜の評価) (Evaluation of the anti-reflection film)
得られた反射防止膜の反射率を上述した評価方法により測定した。 The reflectance of the obtained antireflection film were measured by the evaluation method described above. この評価方法による「視感度反射率」「XYZ表色系の色度座標xy」「干渉縞」を表1に記した。 The "luminous reflectance" "XYZ colorimetric system chromaticity coordinates xy" on "fringe" by this evaluation method noted in Table 1. さらに、鉛筆硬度、表面抵抗率、指紋拭取り性を上述した方法により評価し、これらの結果を表1に併記した。 Furthermore, pencil hardness, surface resistivity was assessed by the method described above fingerprint wiping property, it is also shown these results in Table 1.

(実施例2〜8、比較例1〜3) (Examples 2 to 8, Comparative Examples 1 to 3)
光学基材として、実施例6においては東洋紡績株式会社製PETフィルム「コスモシャインA4100」(登録商標)厚さ125μmを用いた。 As optical substrate, in Example 6 was used Toyobo PET film "Cosmo Shine A4100", Ltd. (registered trademark) thickness 125 [mu] m. それ以外は実施例1と同様にTACフィルムを用いた。 Otherwise using TAC film in the same manner as in Example 1. これらについても表1に記した。 These noted in Table 1 also. また、ハードコート層の形成及び低屈折率層の形成については、用いる塗工液以外は操作を同様にして行った。 As for the formation of the formation and a low refractive index layer of the hard coat layer, except the coating solution used was performed as an operation. 用いた塗工液を表1に併記した。 The coating solution used was shown in Table 1. そして、得られたそれぞれの反射防止膜について、実施例1と同様の評価をし、これらの結果を表1に併記した。 Then, for each of the antireflection film obtained, the same evaluation as in Example 1, it is also shown these results in Table 1.

本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。 The present invention is not limited to the above embodiment, but can be implemented with various modifications. 上記実施の形態における数値や成分についてこれに限定されず、適宜変更して実施することが可能である。 Is not limited to this numerical and components of the above embodiment, it can be implemented in suitably modified. その他、本発明の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。 Further, the invention is capable of being carried into practice with modifications thereof as appropriate without departing from the scope of the present invention.

本発明の反射防止膜は、反射率が低く、機械的強度も兼ね備えたものであり、特に表示デバイスの部材として有用であり、プラズマディスプレイパネル表示装置、タッチパネルなどの表示装置、その他の表示装置の反射防止膜として期待される。 Antireflection film of the present invention has a low reflectance, which has also has mechanical strength are particularly useful as a component of the display device, a plasma display panel display device, a display device such as a touch panel, the other display device It is expected as an anti-reflection film.

Claims (3)

  1. 少なくとも1層の低屈折率層を有する反射防止膜であって、前記低屈折率層は、少なくとも中空シリカ微粒子、微細シリカ粒子及びバインダーを含み、前記中空シリカ微粒子の平均粒子径が90nm〜150nmであり、前記中空シリカ微粒子の外殻の厚さが4nm〜12nmであり、前記微細シリカ粒子の平均粒子径が30nm以下であり、前記バインダーの屈折率が1.30〜1.50であることを特徴とする反射防止膜。 A reflection preventing film having a low refractive index layer of at least one layer, the low refractive index layer comprises at least a hollow silica fine particle, the fine silica particles and a binder, the average particle diameter of the hollow silica fine particles is in 90nm~150nm There, the the thickness of the outer shell of the hollow silica fine particles 4Nm~12nm, said average particle size of the fine silica particles is at 30nm or less, the refractive index of the binder is 1.30 to 1.50 antireflection film characterized.
  2. 前記中空シリカ微粒子の表面は、反応性シラン化合物で処理されていることを特徴とする請求項1記載の反射防止膜。 The surface of the hollow silica fine particles, the anti-reflection film according to claim 1, characterized in that it is treated with a reactive silane compound.
  3. 屈折率が1.45〜1.55である光学基材と、前記光学基材上に設けられ、表面抵抗率が10 +16 Ω/□以下であり、前記光学基材との間の屈折率差が0.03以内となる屈折率を有する帯電防止性ハードコート層と、前記帯電防止性ハードコート層上に設けられた請求項1記載の反射防止膜と、を具備することを特徴とする光学部品。 An optical substrate having a refractive index of 1.45 to 1.55, provided on the optical substrate, and a surface resistivity of 10 +16 Ω / □ or less, the refractive index difference between the optical substrate optical There characterized by comprising the antistatic hard coat layer having a refractive index of 0.03 within, and a anti-reflection film according to claim 1 provided on the antistatic hard coat layer parts.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010271424A (en) * 2009-05-19 2010-12-02 Sony Corp Anti-glare film and method for manufacturing the same, and display device
JP2010277059A (en) * 2009-05-27 2010-12-09 Toray Advanced Materials Korea Inc Antireflection film and polarizing plate including the same
JP2010286657A (en) * 2009-06-11 2010-12-24 Nof Corp Antireflection film
KR101100382B1 (en) 2009-01-05 2011-12-30 도레이첨단소재 주식회사 Optical polyester laminated film with improved brightness
JP2015534104A (en) * 2012-09-04 2015-11-26 エルジー・ハウシス・リミテッドLg Hausys,Ltd. Antireflective coating composition comprising a siloxane compound, an anti-reflection film using the same
JP2015227934A (en) * 2014-05-30 2015-12-17 大日本印刷株式会社 Antireflection film, polarizing plate, and image display device
WO2017111094A1 (en) * 2015-12-25 2017-06-29 旭硝子株式会社 Dispersion, curable composition, cured product, surface-modified silica particles and method for producing same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001233611A (en) * 2000-02-24 2001-08-28 Catalysts & Chem Ind Co Ltd Silica-based microparticle, method for producing dispersion with the same, and base material with coating film
JP2004258267A (en) * 2003-02-25 2004-09-16 Matsushita Electric Works Ltd Antireflection film, method for manufacturing antireflection film, and antireflection member
JP2005201986A (en) * 2004-01-13 2005-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film, polarizing plate and picture display device
JP2005316428A (en) * 2004-03-31 2005-11-10 Dainippon Printing Co Ltd Antistatic antireflection film preventing occurrence of interference fringe

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001233611A (en) * 2000-02-24 2001-08-28 Catalysts & Chem Ind Co Ltd Silica-based microparticle, method for producing dispersion with the same, and base material with coating film
JP2004258267A (en) * 2003-02-25 2004-09-16 Matsushita Electric Works Ltd Antireflection film, method for manufacturing antireflection film, and antireflection member
JP2005201986A (en) * 2004-01-13 2005-07-28 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film, polarizing plate and picture display device
JP2005316428A (en) * 2004-03-31 2005-11-10 Dainippon Printing Co Ltd Antistatic antireflection film preventing occurrence of interference fringe

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101100382B1 (en) 2009-01-05 2011-12-30 도레이첨단소재 주식회사 Optical polyester laminated film with improved brightness
JP2010271424A (en) * 2009-05-19 2010-12-02 Sony Corp Anti-glare film and method for manufacturing the same, and display device
JP2010277059A (en) * 2009-05-27 2010-12-09 Toray Advanced Materials Korea Inc Antireflection film and polarizing plate including the same
JP2010286657A (en) * 2009-06-11 2010-12-24 Nof Corp Antireflection film
JP2015534104A (en) * 2012-09-04 2015-11-26 エルジー・ハウシス・リミテッドLg Hausys,Ltd. Antireflective coating composition comprising a siloxane compound, an anti-reflection film using the same
US9657178B2 (en) 2012-09-04 2017-05-23 Lg Hausys, Ltd. Anti-reflective coating composition comprising siloxane compound, and anti-reflective film using same
JP2015227934A (en) * 2014-05-30 2015-12-17 大日本印刷株式会社 Antireflection film, polarizing plate, and image display device
WO2017111094A1 (en) * 2015-12-25 2017-06-29 旭硝子株式会社 Dispersion, curable composition, cured product, surface-modified silica particles and method for producing same

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