JP2011217607A - 不要ワニスの除去装置及び除去方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ステータの品質に問題を生じさせることなくステータコアに付着した不要ワニスを容易に除去することができる不要ワニス除去装置を提供すること。
【解決手段】ステータコア８０と、ステータコア８０に設けた複数のスロットに挿入配設されたコイル７とを有し、コイル７には電気的絶縁性を維持するためのワニス９を含浸させてなるステータ８におけるステータコア８０に付着した不要ワニス９９を除去する装置１であって、ステータコア８０よりも不要ワニス９９に吸収されやすいレーザ光２０を発射するレーザ発射装置２と、レーザ光２０がステータコア８０の軸方向端面８１から突出したコイルエンド部７０に照射されることを防止するためにコイルエンド部７０の少なくとも一部を覆うマスク部３とを有する。レーザ光２０はＣＯ₂レーザ光であることが好ましい。
【選択図】図１

Description

本発明は、モータや発電機等の回転電機におけるステータコアに付着した不要なワニスを除去する不要ワニス除去装置及び除去方法に関する。

通常、ステータ（固定子）は、リング状のステータコアの内周側に設けたスロットに、被覆導線を巻回して設けたコイルを挿入配設して構成される。コイルは、その一部がスロット内に配置され、ステータコアの軸方向端面においてはコイルエンド部が露出した状態となる。

コイルは被覆導線よりなるが、その表面の電気絶縁性をより高めるために、ステータ組み付け後に熱硬化樹脂であるワニスを被覆導線間に含浸させる処理を行う。その際、ステータコアの表面に不要なワニスが付着してしまう場合がある。従来、ステータコア表面に付着した不要ワニスは、例えばヤスリやスクレーパ等を用いて機械的に除去することが行われていた（特許文献１参照）。

特開平７−１９４０７６号公報

しかしながら、機械的にワニスを除去すると、その滓が飛散して製品に異物として付着し、あらたな問題を生じさせる。また、ヤスリやスクレーパ等の金属粉も発生し、これがコイルに付着すると電気絶縁性の低下につながるおそれもある。また、ステータコアの軸方向端面については、ヤスリやスクレーパがコイルエンド部に接触してコイルを傷付けるおそれもある。

本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてなされたもので、ステータの品質に問題を生じさせることなくステータコアに付着した不要ワニスを容易に除去することができる不要ワニス除去装置及び除去方法を提供しようとするものである。

第１の発明は、ステータコアと、該ステータコアに設けた複数のスロットに挿入配設されたコイルとを有し、該コイルには電気的絶縁性を維持するためのワニスを含浸させてなるステータにおける上記ステータコアに付着した不要ワニスを除去する装置であって、
上記ステータコアよりも上記不要ワニスに吸収されやすいレーザ光を発射するレーザ発射装置と、
上記レーザ光が上記ステータコアの軸方向端面から突出したコイルエンド部に照射されることを防止するために上記コイルエンド部の少なくとも一部を覆うマスク部とを有することを特徴とする不要ワニス除去装置にある（請求項１）。

本発明の不要ワニス除去装置は、上記レーザ発射装置を有する。このレーザ発射装置は、電磁鋼板等よりなる金属製のステータコアよりも、樹脂であるワニスに吸収されやすい特性のレーザ光を発射するものである。そのため、上記レーザ発射装置から発せられるレーザ光を上記不要ワニスに照射することにより、当該不要ワニスはレーザ光を吸収してその熱によって燃焼除去される。一方、レーザ光がステータコアに直接照射されてもあまり吸収されないのでダメージを与えることがない。そのため、上記レーザ発射装置から発射するレーザ光をワニス除去に用いることは非常に有効である。

一方、不要ワニスに向けて発せられたレーザ光は、少なくとも一部が不要ワニスあるいはその周囲のステータコア表面から反射する。このような反射したレーザ光がコイルエンド部に当たると、コイルエンド部を被覆している必要なワニスを損傷させてしまう。ここで、本発明では、上記マスク部を必須構成として有している。このマスク部は、上記コイルエンド部を覆う。そのため、ステータコアの表面に照射されたレーザ光が反射して散乱しても、これがコイルエンド部に照射されることを防止することができる。それ故、上記レーザ光による不要ワニスの燃焼除去という優れた作用効果を、他に弊害を生じさせることなく有効に発揮させることができる。

このように、本発明によれば、ステータの品質に問題を生じさせることなくステータコアに付着した不要ワニスを容易に除去することができる不要ワニス除去装置を提供することができる。

第２の発明は、上記第１の発明の不要ワニス除去装置を用い、
上記ステータコアの軸方向端面から突出した上記コイルエンド部を上記マスク部により覆い、
上記レーザ光を上記ステータコアの軸方向端面上の上記不要ワニスに向けて照射し、該不要ワニスを燃焼除去することを特徴とする不要ワニス除去方法にある（請求項１５）。
本発明の不要ワニスの除去方法によれば、上述したように、ステータの品質に問題を生じさせることなくステータコアに付着した不要ワニスを容易に除去することができる。

実施例１における、不要ワニス除去装置の構成を正面から見て示す説明図。 実施例１における、不要ワニス除去装置の構成を上面から見て示す説明図。 実施例１における、外周マスク部の形状を示す説明図。 実施例１における、ステータコアの軸方向端面を処理する場合の機械配置を正面から見て示す説明図。 実施例１における、ステータコアの軸方向端面を処理する場合の機械配置を上面から見て示す説明図。 実施例１における、基準動作Ａの内容を示すフロー図。 実施例１における、基準動作Ｂの内容を示すフロー図。 実施例１における、検査工程及び除去工程の全体の流れを示すフロー図。 実施例２における、検査工程及び除去工程の全体の流れを示すフロー図。 実施例３における、ステータコアの外周面を処理する場合の機械配置を正面から見て示す説明図。 実施例３における、ステータコアの外周面を処理する場合の機械配置を上面から見て示す説明図。 実施例４における、ステータコアの内周面を処理する場合の機械配置を正面から見て示す説明図。 実施例４における、ステータコアの内周面を処理する場合の機械配置を上面から見て示す説明図。

上記第１の発明において、上記レーザ光はＣＯ₂レーザ光であることが好ましい（請求項９）。ＣＯ₂レーザ光は、ワニスの燃焼除去を効率よく確実に行うことができると共に、ステータコアへの吸収が少なくダメージを与えることがないので、本発明において非常に有効である。

また、上記マスク部は、上記コイルエンド部の外周側を覆う外周マスク部を有することが好ましい（請求項３）。不要ワニスの付着は、ステータコアの軸方向端面、及び外周面に付着することが多く、上記外周マスク部を有することが非常に有効である。

また、上記外周マスク部は、その軸方向断面形状において上記ステータコアの軸方向に略平行である本体部と、該本体部から徐々に径方向中心側に傾いたテーパ部とを有し、該テーパ部側の先端面を上記ステータコアの軸方向端面に当接させるよう構成されていることが好ましい（請求項４）。通常、コイルエンド部はステータコアの軸方向端面から軸方向に離れるにつれて外方に広がる基端部分を有している。上記マスク部が上記テーパ部を有していることによって、これを有していない場合よりもステータコアの軸方向端面とマスクとの当接位置を内周側に設けることができる。これにより、ステータコアの軸方向端面における、マスク部に覆われることなく露出するレーザ光照射対象領域を広く設定することができる。

また、上記マスク部は、上記コイルエンド部を内周側から覆う内側マスク部を有することが好ましい（請求項５）。この場合には、ステータコアの内周面に付着した不要ワニスを除去する場合にも、レーザ光がコイルエンド部に照射されることを防止することができ、有効である。

また、上記マスク部は、上記コイルエンド部の周方向の一部のみを覆うよう構成されていることが好ましい（請求項６）。この場合には、マスク部の構成を簡易にすることができると共に取り扱いも容易となる。そしてこの場合には、上記ステータコアの軸方向端面を周方向に複数に分割した領域毎に上記マスク部を配置して、複数回に分けて不要ワニスの除去処理を行うこととなる。

また、上記不要ワニス除去装置は、上記ステータコアをその軸方向を中心に回転可能に支持する回転台を有し、上記レーザ光の照射可能領域に対して上記ステータコアを回転させることにより位置合わせ可能に構成されていることが好ましい（請求項７）。この場合には、上記ステータコアの軸方向端面を周方向に複数に分割した領域毎に複数回に分けて不要ワニスの除去処理を行う場合に、上記回転台の回転によって容易に処理位置を変更することが可能となる。

また、上記レーザ光の照射により燃焼除去された上記不要ワニスを集塵するための粉塵除去装置を有することが好ましい（請求項８）。この場合には、上記不要ワニスの燃焼により生じる粉塵がステータに異物として付着することを防止することができ、ステータの品質向上を図ることができる。

また、上記不要ワニス除去装置は、上記ステータコアに付着した不要ワニスの有無及び位置を検知する検知部を有しており、
該検知部は、上記不要ワニスを励起発光させることが可能な検査光を、上記ステータコアの表面の検査領域に向けて照射する光源と、
上記ステータコアの表面の上記検査領域を撮影するためのカメラと、
該カメラを通して採取した画像データを解析して上記不要ワニスの付着位置を特定する判定手段とを有し、
上記マスク部は、上記検査光が上記ステータコアの軸方向端面から突出したコイルエンド部に照射されることをも防止可能に構成されていることが好ましい（請求項１０）。

すなわち、上記不要ワニス除去装置は、上記検知部を有することが好ましい。これにより、除去すべき不要ワニスの発見精度が高まると共に、発見した位置情報を用いることによって上記レーザ光の照射位置の制御を容易に行うことができる。
そして、上記検知部としては、上記光源と、上記カメラと、上記判定手段とを備えるものを用い、かつ、上記レーザ光の反射光を遮る上記マスク部を、上記検査光を遮るためにも用いる。ここで、上記検査光は、ステータコアの表面の検査領域に向かって照射されるが、その一部はコイルエンド部のワニスに照射される。照射された検査光がコイルエンド部のワニスに照射されると、コイルエンド部のワニスも発光する。このコイルエンド部の発光による光が検査領域に映り込んでしまうため、不要ワニスの発光と誤認され、正確な判断が困難となる。そこで、上記マスク部で上記検査光が上記コイルエンド部に照射されることを防止することができると共に、コイルエンド部から発光した光がステータコアに映し出されることをも防止することができる。そのため、上記検査光を上記ステータコアの表面の検査領域に照射し、その検査領域を上記カメラによって撮影して画像データを採取し、これを上記判定手段によって解析することによって、上記不要ワニスの存在位置を確実に判定することができる。これにより、不要ワニスの発見と除去とを連続して行うことが可能となり、不要ワニス除去の作業工程を合理化することができる。

また、上記検査光は紫外線であることが好ましい（請求項１１）。紫外線は上記ワニスを励起発光させることが可能であると共に、容易に照射することができるので、上記検査光として好適である。

また、上記判定手段は、上記画像データをモノクロ２値化処理することにより、濃淡差によって上記不要ワニスの有無を判定可能に構成されていることが好ましい（請求項１２）。もちろん、カラー画像を用いて判定することも可能であるが、上記モノクロ２値化を採用することによって、判定処理が容易で確実性を高めることができる。

また、上記光源と上記ステータコアの軸方向端面との間には、発射された上記検査光の振動方向の一方向のみの成分を透過させる偏光フィルタを備えていることが好ましい。この場合には、不要ワニスが励起発光した光と検査光とを区別することが容易となり、検知精度を高めることができる。

また、上記カメラと上記ステータコアの軸方向端面との間には、上記不要ワニスが発光する光を透過させる一方、上記検査光を吸収又は反射する検査光カットフィルタを備えていることが好ましい。この場合には、上記不要ワニスが発光する光のみが上記画像データに反映されるので、不要ワニスの検出精度を高めることができる。

次に、上記検知部を備えた不要ワニス除去装置を用いた場合の発明としては、上記ステータコアの軸方向端面から突出した上記コイルエンド部を上記マスク部により覆い、
上記検査光を上記ステータコアの表面の検査領域に向けて照射し、上記ステータコアの上記検査領域の画像データを解析して上記不要ワニスの付着位置を特定する検査工程と、
上記ステータコアの軸方向端面から突出した上記コイルエンド部を上記マスク部により覆い、上記レーザ光を上記ステータコアの軸方向端面上の上記不要ワニスに向けて照射し、該不要ワニスを燃焼除去する除去工程とを有することを特徴とする不要ワニス除去方法がある。

この方法においては、上記検査工程と上記除去工程において、１つの上記マスク部を共用することができる。そのため、全体として非常に合理的である。

また、上記検査工程は、上記ステータコアの軸方向端面を周方向に分割した所定の検査領域毎に複数回に分けて全周を行い、その後、全周に対して上記除去工程を行うことができる。
また、上記検査工程及び上記除去工程は、上記ステータコアの軸方向端面を周方向に分割した所定の検査領域毎に行い、上記検査工程及び上記除去工程とを原則として交互に繰り返して全周に対して行うこともできる。

（実施例１）
本発明の実施例に係る不要ワニス除去装置及び除去方法につき、図１〜図８を用いて説明する。
本例の不要ワニス除去装置１は、図１、図２に示すごとく、ステータコア８０と、該ステータコア８０に設けた複数のスロットに挿入配設されたコイル７とを有し、該コイル７には電気的絶縁性を維持するためのワニス９を含浸させてなるステータ８における、上記ステータコア８０の表面に付着した不要ワニス９９を除去する装置である。

不要ワニス除去装置１は、ステータコア８０よりも不要ワニス９９に吸収されやすいレーザ光２０を発射するレーザ発射装置２と、上記レーザ光２０がステータコア８０の軸方向端面８１から突出したコイルエンド部７０に照射されることを防止するために上記コイルエンド部７０の少なくとも一部を覆うマスク部３とを有する。

以下、さらに詳説する。
上記レーザ発射装置２が発射するレーザ光２０は、本例ではＣＯ₂レーザ光を採用した。ＣＯ₂レーザ光は、ワニスによく吸収される一方、ステータコア８０を構成する電磁鋼板にはあまり吸収されず、ステータコア８０にダメージを与えることを防止することができる。

上記マスク部３は、図１、図３に示すごとく、コイルエンド部７０の外周側を覆う外周マスク部３１を有する。外周マスク部３１は、その軸方向断面形状においてステータコア８０の軸方向に略平行である本体部３１１と、該本体部３１１から徐々に径方向中心側に傾いたテーパ部３１２とを有し、該テーパ部３１２側の先端面をステータコア８０の軸方向端面に当接させるよう構成されている。

また、図１に示すごとく、本例で処理するステータ８のコイルエンド部７０は、ステータコア８０の軸方向端面８１から軸方向に離れるにつれて外方に広がる基端部分を有している。すなわち、上記コイルエンド部７０はステータコア８０のスロットよりも径方向外側に突出している。本例の不要ワニス除去装置１は、コイルエンド部７０によって軸方向において覆われたステータコア８０の軸方向端面８１の少なくとも一部にレーザ光２０を照射できるように、レーザ光２０を軸方向端面８１に対して斜め（軸方向に対して斜め）に照射できるよう構成されている。

そして、マスク部３が上記テーパ部３１２を有していることによって、これを有していない場合よりもステータコア８０の軸方向端面８１と外周マスク部３１との当接位置を内周側に設けることができる。

また、マスク部３は、コイルエンド部７０の外周の周方向の一部のみを覆うよう構成されている。より具体的には、中心角で示すとおよそ６０°の範囲を覆う大きさに設定してある。そして、このマスク部３は、図示していない保持装置によって上方から保持されるように構成されている。
また、マスク部３の外周マスク部３１は、後述する検知部の検査光５０がステータコア８０の軸方向端面８１から突出したコイルエンド部７０に外周側から照射されることをも防止するようレーザ光２０と共に検査光５０をも遮断可能に構成されている。

また、図１に示すごとく、不要ワニス除去装置１は、ステータコア８０をその軸方向を中心に回転可能に支持する回転台１５を有している。回転台１５の上面には、ステータ８を下側から支持する受け部１５１が突出している。そして、この回転台１５は、レーザ光２０の照射可能領域に対してステータコアの所望の面が位置するように回転して位置合わせ可能に構成されている。また、ステータ８は、回転台１５に設けたステータ８を下側から支持する受け部１５１により支持しているが、ステータ８の内周面を複数の固定用爪を径方向に広げて把持するチャック機構で支持することもできる。

また、図１に示すごとく、レーザ発射装置２を制御するレーザコントローラ２５と上記回転台１５とは、制御装置１０に電気的に接続され、この制御装置１０によって制御されるように構成されている。なお、制御装置１０は、後述するごとく、検知部にも接続され、これらも併せて集中して総合的に制御するように構成されている。

また、図１に示すごとく、不要ワニス除去装置１は、ステータコア８０に付着した不要ワニス９９の有無及び位置を検知する検知部を有している。
検知部は、不要ワニス９９を励起発光させることが可能な検査光５０を、ステータコア８０の表面の検査領域に向けて照射する光源５と、ステータコア８０の表面の検査領域を撮影するためのカメラ６と、カメラ６を通して採取した画像データを解析して不要ワニス９９の付着位置を特定する判定手段４５とを有している。

上記光源５から発する検査光５０としては、本例では、波長４０５ｎｍの紫外線を発するＬＥＤを採用した。光源５の電源５５は、制御装置１０に電気的に接続され、制御装置１０からの指示に基づいて発光するように構成されている。

上記カメラ６は、モノクロカメラであり、上記判定手段４５は、上記画像データをモノクロ２値化処理することにより、濃淡差によって上記不要ワニス９９の有無を判定可能に構成されている。なお、画像処理を行う画像処理ユニット６５は制御装置１０に接続されており、判定手段４５は制御装置１０内に組み込まれている。
また、カメラ６には、検査光５０を透過させずに不要ワニス９９が励起発光した光のみを透過させるシャープカットフィルタ（図示略）を取り付けてある。

また、図示は省略したが、本例の不要ワニス除去装置１には、レーザ光２０の照射により燃焼除去された不要ワニス９９の粉塵を集塵するための吸引式の粉塵除去装置を有している。

次に、以上のような構成の不要ワニス除去装置１を用いて不要ワニスを除去する方法について説明する。
本例の方法は、検査光５０をステータコア８０の表面の検査領域に向けて照射し、ステータコア８０の検査領域の画像データを解析して不要ワニス９９の付着位置を特定する検査工程と、レーザ光２０をステータコア８０の軸方向端面８１上の不要ワニス９９に向けて照射し、不要ワニス９９を燃焼除去する除去工程とを組み合わせて行う方法である。

上記検査工程は、図６に示すごとく、ステップＳ１０１において光源５の電源５５をオンにし、次いでステップＳ１０２においてカメラ６にて検査領域を撮影し、次いで、ステップＳ１０３において光源５の電源５５をオフにすると共に、ステップＳ１０４において画像処理ユニット６５によって画像処理を行い、そのデータを制御装置１０に送るという基準動作Ａを行うものである。

上記除去工程は、図７に示すごとく、ステップＳ２０１においてレーザコントローラ２５が制御装置１５から受け取った位置データをレーザ発射装置２に送り、ステップＳ２０２においてレーザ発射装置２がレーザ光２０を不要ワニス９９に向けて照射するという基準動作Ｂを行うものである。

本例では、上記検査工程及び上記除去工程は、ステータコア８０の軸方向端面８１を周方向に内角３０°で複数に分割した検査領域毎に行い、上記検査工程及び上記除去工程とを原則として交互に繰り返して行う方法を取った。
具体的には図４、図５及び図８を用いて説明する。

まずステップＳ３０１においてワーク（ステータ８）を搬入し、不要ワニス除去装置１の回転台１５（図１）上に軸方向を縦にしてセットする。そして、ステップＳ３０２において初めに検査をする位置へ回転する位置出しを行うと共に、マスク部３を最初の検査領域に対応した部分に配置する。

また、本例では、ステータコア８の上側の軸方向端面８１についての処理を行う。そのため、図４、図５に示すごとく、光源５は、軸方向端面８１の外周端からのその面に対する傾き角αが上方４０°以下となる位置に配置し、カメラ６及びレーザ照射装置２は、軸方向端面８１の面の外周端からの傾き角βが上方４０〜６０°となる位置に配置した。

そして、本例では、図５に示すごとく、マスク部３（外周マスク部３１）を設けた範囲内に含まれる、周方向３０°の範囲の処理領域ａの単位で、順次上記検査工程の基準動作Ａと除去工程の基準動作Ｂとを繰り返す。
すなわち、図８に示すごとく、ステップＳ３０２において、まず上記処理領域ａについて上記基準動作Ａを行う。次いで、ステップＳ３０３において、処理領域ａについての画像データを制御装置１０に取り込む。次に、ステップＳ３０５において、制御装置１０内の判定手段によって不要ワニスの有無及び位置を判定する検出判定結果を得る。

検出判定結果が不要ワニスの検出有りの場合には、ステップＳ３０６に進み、上記基準動作Ｂを行って、処理領域ａにおける不要ワニスを燃焼除去する。その後、ステップＳ３０７に進み、マスク部３の位置はそのままにして、ワークを３０°回転させ、処理領域ａの位置に、隣の処理領域ｂを移動させる。一方、上記ステップＳ３０５の検出判定結果が不要ワニスの検出なしの場合には、ステップＳ３０６に進むことなくステップＳ３０７に進み、上記のごとくワークを３０°回転させる。

その後は、ステップＳ３０３〜Ｓ３０７を繰り返し行う。ワークの上面側の軸方向端面８１の全周について、検査工程と除去工程とを終えた後は、ステップＳ３０８に進み、ワークの軸方向が逆転するように反転させ、回転台１５（図１）上にセットする。そして、ステップＳ３０９において上記と同様に位置出し工程を行う。次のステップＳ３１０〜Ｓ３１４は、上述したＳ３０２〜Ｓ３０７と同様である。その後、ワークの現在の上面側の軸方向端面８１の全周について、検査工程と除去工程とを終えた後は、ステップＳ３１５に進み、ワークを搬出する。これにより、ワークのステータコア８０の両端の軸方向端面８１についての不要ワニスの検出と除去が完了する。
なお、本例では、軸方向端面８１のみを処理対象としたが、後述するステータコア８０の外周側面と内周面とを連続して処理対象としてもよい。

以上のように、本例では、検査工程と除去工程とを連携させて行った。そして、いずれの工程を行う場合にも、上記マスク部３を用いることにより、精度の高い正確な処理を行うことができる。
なお、本例の装置に検査部を設けず、検査工程は別の装置にて行い、不要ワニスの位置情報を受け取って上記と同様に除去工程だけを行うことも可能である。

（実施例２）
本例では、実施例１の場合と処理手順を変えた例である。
すなわち、本例では、図５に示すごとく、マスク部３を設けた範囲内に含まれる、周方向３０°の範囲の処理領域ａの単位で、順次上記検査工程の基準動作Ａのみを全周３６０°に対して行い、その後、上記除去工程の基準動作Ｂのみを全周３６０°に対して行うという方法である。

具体的には、図９に示すごとく、ステップＳ４０１においてワーク（ステータ８）を搬入し、不要ワニス除去装置１の回転台１５（図１）上に軸方向を縦にしてセットする。そして、ステップＳ４０２において位置出しを行う。ここまでは実施例１と同じである。
次に、ステップＳ４０３において、まず上記処理領域ａについて上記基準動作Ａを行う。次いで、ステップＳ４０４において、処理領域ａについての画像データを制御装置１０に取り込む。次に、ステップＳ４０５において、マスク部３の位置はそのままにして、ワークを３０°回転させ、処理領域ａの位置に、隣の処理領域ｂを移動させる。そして、ステップＳ４０３〜Ｓ４０５を繰り返し行う。ワークの上面側の軸方向端面８１の全周３６０°に対して検査工程を終えることにより、制御装置１０には、その全周分における不要ワニスの位置が記憶されることとなる。

次に、ステップＳ４０６に進む。ここでは、制御装置１０に記憶されている不要ワニスを検出した位置がレーザ照射領域に入るようにワークを回転させる。このときの回転量は、最も近い不要ワニス群ができる限り多く１つのレーザ照射領域に入るように設定する。もちろん１個の不要ワニスしか入らない場合もあり得る。
次いで、ステップＳ４０７において上記基準動作Ｂを実施し、レーザ照射領域内の不要ワニスを燃焼除去する。
このステップＳ４０６及びＳ４０７を繰り返し、ワークの上面側の軸方向端面８１の全周３６０°に対して除去工程を終える。

その後、ステップＳ４０８に進み、ワークの軸方向が逆転するように反転させ、回転台１５（図１）上にセットする。そして、ステップＳ４０９において上記と同様に位置出し工程を行う。次のステップＳ４１０〜Ｓ４１４は、上述したＳ４０３〜Ｓ４０７と同様である。その後、ワークの現在の上面側の軸方向端面８１の全周について、検査工程と除去工程とを終えた後は、ステップＳ４１５に進み、ワークを搬出する。これにより、ワークのステータコア８０の両端の軸方向端面８１についての不要ワニスの検出と除去が完了する。
なお、本例でも、軸方向端面８１のみを処理対象としたが、後述するステータコア８０の外周側面と内周面とを連続して処理対象としてもよい。

（実施例３）
本例では、実施例１、２における検査工程及び除去工程の処理対象領域を、ステータコア８０の外周面に変更した例である。この場合には、ワーク（ステータ８）に対する装置構成部位の配置関係が実施例１、２と異なる。
すなわち、図１０に示すごとく、光源５は、外周面の軸方向長さの上方半分を確実に照らすように、ワークの軸方向に直交する方向に配置した。また、カメラ６及びレーザ照射装置２も、ワークの軸方向に直交する方向に配置し、また、これらの指向中心が軸方向端面８１の外周端から全長の１／４の位置となるようにした。

そして、本例でも、図１１に示すごとく、マスク部３（外周マスク部３１）を設けた範囲内に含まれる、周方向３０°の範囲の処理領域ａの単位で、順次上記検査工程の基準動作Ａと除去工程の基準動作Ｂとを繰り返す。
これらの動作の繰り返し方法としては、上述した実施例１、２のいずれの方法をとってもよい。
また、実施例１、２の一連の工程の中に本例の機械配置による処理を適宜組み入れることも可能である。

（実施例４）
本例では、実施例１、２における検査工程及び除去工程の処理対象領域を、ステータコア８０の内周面に変更した例である。この場合には、ワーク（ステータ８）に対する装置構成部位の配置関係が実施例１、２と異なると共に、マスク部３として、内周マスク部３２をさらに設けた点が異なる。

すなわち、図１２及び図１３に示すごとく、セットしたワーク（ステータ８）のコイルエンド部７０の内周側に対面するように、円弧状に湾曲した板状の内周マスク部３２を更に配置し、図示しない保持部によって固定した。そして、内周マスク部３２は、上述した回転台１５が回転しても初期位置に残るように構成されている。

また、同図に示すごとく、光源５は、内周面の軸方向長さの上方半分を確実に照らすように、ワークの軸方向から傾斜した斜め上方に配置した。また、カメラ６及びレーザ照射装置２も、ワークの軸方向から傾斜した斜め上方に配置した。

そして、本例でも、マスク部３（外周マスク部３１）を設けた範囲内に含まれる、周方向３０°の範囲の処理領域ａ（図４参照）の単位で、順次上記検査工程の基準動作Ａと除去工程の基準動作Ｂとを繰り返す。
これらの動作の繰り返し方法としては、上述した実施例１、２のいずれの方法をとってもよい。
また、実施例１、２の一連の工程の中に本例の機械配置による処理を適宜組み入れることも可能である。

１ 不要ワニス除去装置
１０ 制御装置
１５ 回転台
２ レーザ照射装置
２０ レーザ光
２５ レーザコントローラ
３ マスク部
３１ 外周マスク部
３２ 内周マスク部
５ 光源
５５ 電源
６ カメラ
６５ 画像処理ユニット
７ コイル
７０ コイルエンド部
８ ステータ
８０ ステータコア
９ ワニス
９９ 不要ワニス

Claims (13)

1. ステータコアと、該ステータコアに設けた複数のスロットに挿入配設されたコイルとを有し、該コイルには電気的絶縁性を維持するためのワニスを含浸させてなるステータにおける上記ステータコアに付着した不要ワニスを除去する装置であって、
   上記ステータコアよりも上記不要ワニスに吸収されやすいレーザ光を発射するレーザ発射装置と、
   上記レーザ光が上記ステータコアの軸方向端面から突出したコイルエンド部に照射されることを防止するために上記コイルエンド部の少なくとも一部を覆うマスク部とを有することを特徴とする不要ワニス除去装置。
2. 請求項１において、上記コイルエンド部は上記ステータコアの上記スロットよりも径方向外側に突出しており、該コイルエンド部によって軸方向において覆われた上記ステータコアの軸方向端面の少なくとも一部に上記レーザ光を照射できるように、該レーザ光を上記軸方向端面に対して斜めに照射できるよう構成されていることを特徴とする不要ワニス除去装置。
3. 請求項１又は２において、上記マスク部は、上記コイルエンド部の外周側を覆う外周マスク部を有することを特徴とする不要ワニス除去装置。
4. 請求項３において、上記外周マスク部は、その軸方向断面形状において上記ステータコアの軸方向に略平行である本体部と、該本体部から徐々に径方向中心側に傾いたテーパ部とを有し、該テーパ部側の先端面を上記ステータコアの軸方向端面に当接させるよう構成されていることを特徴とする不要ワニス除去装置。
5. 請求項１〜４のいずれか１項において、上記マスク部は、上記コイルエンド部を内周側から覆う内側マスク部を有することを特徴とする不要ワニス除去装置。
6. 請求項１〜５のいずれか１項において、上記マスク部は、上記コイルエンド部の周方向の一部のみを覆うよう構成されていることを特徴とする不要ワニス除去装置。
7. 請求項１〜６のいずれか１項において、上記不要ワニス除去装置は、上記ステータコアをその軸方向を中心に回転可能に支持する回転台を有し、上記レーザ光の照射可能領域に対して上記ステータコアを回転させることにより位置合わせ可能に構成されていることを特徴とする不要ワニス除去装置。
8. 請求項１〜７のいずれか１項において、上記レーザ光の照射により燃焼除去された上記不要ワニスを集塵するための粉塵除去装置を有することを特徴とする不要ワニス除去装置。
9. 請求項１〜８のいずれか１項において、上記レーザ光はＣＯ₂レーザ光であることを特徴とする不要ワニス除去装置。
10. 請求項１〜９のいずれか１項において、上記不要ワニス除去装置は、上記ステータコアに付着した不要ワニスの有無及び位置を検知する検知部を有しており、
    該検知部は、上記不要ワニスを励起発光させることが可能な検査光を、上記ステータコアの表面の検査領域に向けて照射する光源と、
    上記ステータコアの表面の上記検査領域を撮影するためのカメラと、
    該カメラを通して採取した画像データを解析して上記不要ワニスの付着位置を特定する判定手段とを有し、
    上記マスク部は、上記検査光が上記ステータコアの軸方向端面から突出したコイルエンド部に照射されることをも防止可能に構成されていることを特徴とする不要ワニス除去装置。
11. 請求項１０において、上記検査光は紫外線であることを特徴とする不要ワニス検査装置。
12. 請求項１０又は１１において、上記判定手段は、上記画像データをモノクロ２値化処理することにより、濃淡差によって上記不要ワニスの有無を判定可能に構成されていることを特徴とする不要ワニス除去装置。
13. 請求項１〜９のいずれか１項に記載の不要ワニス除去装置を用い、
    上記ステータコアの軸方向端面から突出した上記コイルエンド部を上記マスク部により覆い、
    上記レーザ光を上記ステータコアの軸方向端面上の上記不要ワニスに向けて照射し、該不要ワニスを燃焼除去することを特徴とする不要ワニス除去方法。

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