JP2011216457A - Top plate for electromagnetic heating cooker - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a top plate for an electromagnetic heating cooker which is excellent on heat resistance, wherein a heat resistant resin layer is formed on a glass base plate.SOLUTION: The top plate 1 for an electromagnetic heating cooker includes the glass base plate 2, and the heat-resistant resin layer 4 formed on the glass base plate 2. The heat-resistant resin layer 4 contains inorganic pigment powder and a silicone resin. The content of the inorganic pigment powder on the heat-resistant resin layer 4 is within a range of 35-75 mass%. In the silicone resin, a functional group directly combined with silicone atoms is at least one of a methyl group and a phenyl group. A molar ratio((phenyl group)/(phenyl group)) Ph/Si of the phenyl group to the silicone atom is 0.1 or below.

Description

本発明は、電磁加熱調理器用トッププレートに関する。   The present invention relates to a top plate for an electromagnetic heating cooker.

電気調理器の加熱装置としては、ラジエントヒーターや、高出力タイプで知られるハロゲンヒーターなどの赤外線発生装置、インダクションヒーター(IH)などの電磁加熱装置が用いられている。   As a heating device of an electric cooker, an infrared heating device such as a radiant heater, a halogen heater known as a high output type, or an electromagnetic heating device such as an induction heater (IH) is used.

従来、赤外線加熱装置を備えた調理器のトッププレートとしては、可視光を遮断して赤外光を透過する濃色結晶化ガラス板が広く利用されていた。濃色結晶化ガラス板をトッププレートとして利用することで、トッププレートの裏側に配置されている部材を隠蔽し、美観性を高めることができると共に、強力な可視光を発する赤外線加熱装置の防眩を図ることができるためである。   Conventionally, as a top plate of a cooker equipped with an infrared heating device, a dark-colored crystallized glass plate that blocks visible light and transmits infrared light has been widely used. By using a dark-crystallized glass plate as the top plate, the members placed on the back side of the top plate can be concealed to enhance aesthetics, and the anti-glare of the infrared heating device that emits strong visible light It is because it can plan.

なお、赤外線加熱装置を備えた調理器は、赤熱したヒーター部が濃色結晶化ガラス板を通して視認できるため、加熱中であることを表示するための機構は、特に設ける必要がない。   In addition, since the cooker provided with the infrared heating apparatus can visually recognize the red-heated heater part through the dark crystallized glass plate, there is no need to provide a mechanism for displaying that heating is in progress.

一方、電磁加熱装置を備えた調理器(以下、「IH調理器」とする。)は、赤外線加熱装置とは異なり、発熱中においても、可視光を発生させない。このため、IH調理器には、加熱中であることを表示するための機構を設ける必要がある。従来、この表示機構としては、例えば、発光ダイオードなどが用いられている。   On the other hand, unlike an infrared heating device, a cooking device equipped with an electromagnetic heating device (hereinafter referred to as “IH cooking device”) does not generate visible light even during heat generation. For this reason, the IH cooker needs to be provided with a mechanism for indicating that heating is in progress. Conventionally, for example, a light-emitting diode is used as the display mechanism.

しかしながら、発光ダイオードからの光は、赤外線加熱装置からの光よりも弱い。このため、例えば、IH調理器のトッププレートとして、上記のような濃色結晶化ガラス板を用いた場合、トッププレートの裏側に配置された発光ダイオードの視認性が悪くなるという問題が生じる。   However, the light from the light emitting diode is weaker than the light from the infrared heating device. For this reason, for example, when the above-described dark crystallized glass plate is used as the top plate of the IH cooker, there arises a problem that the visibility of the light-emitting diode disposed on the back side of the top plate is deteriorated.

このような問題に鑑み、例えば、下記の特許文献1などにおいて、遮光層が表面に形成されている低膨張結晶化ガラスをトッププレートとして用いることが提案されている。また、特許文献1においては、遮光層を多孔質とすることにより、遮光層と低膨張結晶化ガラスとの熱膨張率差に起因して遮光層にクラックが発生することを抑制できることが記載されている。   In view of such a problem, for example, the following Patent Document 1 proposes to use a low expansion crystallized glass having a light shielding layer formed on the surface as a top plate. Further, Patent Document 1 describes that by making the light shielding layer porous, it is possible to suppress the occurrence of cracks in the light shielding layer due to the difference in thermal expansion coefficient between the light shielding layer and the low expansion crystallized glass. ing.

ところが、多孔質の遮光層を採用した場合、トッププレート裏面の電磁加熱部分に取り付けられる温度センサー(熱電対)の接着痕が目立ち、外観上好ましくないという問題がある。   However, when a porous light-shielding layer is employed, there is a problem that adhesion marks of a temperature sensor (thermocouple) attached to the electromagnetic heating portion on the back surface of the top plate are conspicuous and are not preferable in appearance.

この問題を解決するために、下記特許文献2では、IH調理器用トッププレートとして、低膨張結晶化ガラス板の表面に、多孔質の遮光被膜が形成されており、さらに遮光被膜の少なくとも電磁加熱部分上に耐熱樹脂層が形成されているトッププレートが提案されている。   In order to solve this problem, in Patent Document 2 below, as a top plate for an IH cooker, a porous light-shielding film is formed on the surface of a low expansion crystallized glass plate, and at least an electromagnetic heating portion of the light-shielding film. A top plate having a heat-resistant resin layer formed thereon has been proposed.

また、上述の通り、通常、低膨張結晶化ガラス板と遮光被膜とは、熱膨張係数が異なるため遮光被膜にクラックが生じやすいことから、十分に厚い遮光被膜を形成することができず、遮光被膜のみでは、十分な隠蔽性を得ることができない場合もある。そのような場合には、遮光被膜の上に、遮光性を補うための耐熱樹脂層が形成されることもある。   Further, as described above, the low-expansion crystallized glass plate and the light-shielding film usually have different thermal expansion coefficients, so that the light-shielding film tends to crack, so that a sufficiently thick light-shielding film cannot be formed. In some cases, it may not be possible to obtain sufficient concealability with only the coating. In such a case, a heat resistant resin layer for supplementing the light shielding property may be formed on the light shielding film.

特開平10−273342号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-273342 特開2003−338360号公報JP 2003-338360 A

ところで、IH調理器では、電磁加熱装置により鍋等の調理器が直接加熱される。このため、電磁加熱装置によりトッププレートが直接加熱されるわけではない。また、通常水分を含む被加熱物が入れられた状態で調理器の加熱が行われるため、調理器の温度もそれほど高くはならない。従って、通常時は、トッププレートの温度もそれほど高く上昇することはない。   By the way, in an IH cooker, a cooker such as a pan is directly heated by an electromagnetic heating device. For this reason, the top plate is not directly heated by the electromagnetic heating device. Moreover, since the cooking device is heated in a state where an object to be heated that normally contains moisture is placed, the temperature of the cooking device does not become so high. Therefore, the temperature of the top plate does not rise so high during normal times.

しかしながら、内部に被調理物がない状態で調理器を加熱する所謂空焚きをした場合などには、調理器が高温になり、それに伴って、トッププレートの温度も400℃以上といった高温になることもある。そうすると、耐熱樹脂層が熱劣化し、変色してしまう場合がある。耐熱樹脂層が変色すると、使用面側から、耐熱樹脂層の変色が視認され、外観性が悪くなるという問題がある。   However, when the cooking device is heated in a state where there is no food to be cooked inside, the cooking device becomes high temperature, and accordingly, the temperature of the top plate becomes high temperature of 400 ° C. or more. There is also. Then, the heat resistant resin layer may be thermally deteriorated and discolored. When the heat resistant resin layer changes color, the color change of the heat resistant resin layer is visually recognized from the use surface side, and there is a problem that the appearance is deteriorated.

本発明は、上述したような従来技術の問題点を解決すべくなされたものであって、ガラス基板の上に耐熱樹脂層が形成されている電磁加熱調理器用トッププレートであって、耐熱性に優れた電磁加熱調理器用トッププレートを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and is a top plate for an electromagnetic heating cooker in which a heat-resistant resin layer is formed on a glass substrate, and is heat resistant. An object is to provide an excellent top plate for an electromagnetic heating cooker.

本発明に係る電磁加熱調理器用トッププレートは、ガラス基板と、耐熱樹脂層とを備えている。耐熱樹脂層は、ガラス基板の上に形成されている。耐熱樹脂層は、無機顔料粉末とシリコーン樹脂とを含む。耐熱樹脂層における無機顔料粉末の含有量は、35質量%〜75質量%の範囲内にある。シリコーン樹脂は、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基及びフェニル基の少なくとも一方であるシリコーン樹脂である。本発明においては、シリコーン樹脂において、シリコン原子に対するフェニル基のモル比((フェニル基)/(シリコン原子))Ph/Siが0.1以下である。このため、例えば、トッププレートが400℃以上といった高温になった場合であっても、耐熱樹脂層が変色しにくい。従って、高い耐熱性を有する電磁加熱調理器用トッププレートを実現することができる。   The top plate for an electromagnetic heating cooker according to the present invention includes a glass substrate and a heat resistant resin layer. The heat resistant resin layer is formed on the glass substrate. The heat resistant resin layer includes an inorganic pigment powder and a silicone resin. Content of the inorganic pigment powder in a heat resistant resin layer exists in the range of 35 mass%-75 mass%. The silicone resin is a silicone resin in which a functional group directly bonded to a silicon atom is at least one of a methyl group and a phenyl group. In the present invention, in the silicone resin, the molar ratio of phenyl group to silicon atom ((phenyl group) / (silicon atom)) Ph / Si is 0.1 or less. For this reason, for example, even when the top plate is at a high temperature of 400 ° C. or higher, the heat-resistant resin layer is not easily discolored. Therefore, a top plate for an electromagnetic heating cooker having high heat resistance can be realized.

本発明において、耐熱樹脂層における無機顔料粉末の含有量は、40質量%〜75質量%の範囲内にあることが好ましい。   In this invention, it is preferable that content of the inorganic pigment powder in a heat resistant resin layer exists in the range of 40 mass%-75 mass%.

なお、本発明において、「ガラス基板」には、結晶化ガラス基板が含まれるものとする。   In the present invention, the “glass substrate” includes a crystallized glass substrate.

本発明において、「シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基及びフェニル基の少なくとも一方である」とは、
(1)シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基である場合
(2)シリコン原子に直接結合した官能基がフェニル基である場合
(3)シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基とフェニル基とである場合のいずれかである。上記(1)の場合は、シリコン原子の結合手のうち、メチル基に接続されていない結合手は、酸素または水素に結合している。上記(2)の場合は、シリコン原子の結合手のうち、フェニル基に接続されていない結合手は、酸素または水素に結合している。上記(3)の場合は、シリコン原子の結合手のうち、フェニル基に接続されていない結合手は、メチル基、酸素または水素に結合している。
In the present invention, “the functional group directly bonded to the silicon atom is at least one of a methyl group and a phenyl group”
(1) When the functional group directly bonded to the silicon atom is a methyl group (2) When the functional group directly bonded to the silicon atom is a phenyl group (3) The functional group directly bonded to the silicon atom is a methyl group and a phenyl group Either the group or the group. In the case of (1) above, of the silicon atom bonds, the bonds not connected to the methyl group are bonded to oxygen or hydrogen. In the case of (2) above, of the silicon atom bonds, the bonds not connected to the phenyl group are bonded to oxygen or hydrogen. In the case of (3) above, of the silicon atom bonds, the bond not connected to the phenyl group is bonded to a methyl group, oxygen or hydrogen.

本発明では、シリコーン樹脂において、Ph/Siが0であることが好ましい。すなわち、シリコーン樹脂は、フェニル基を含まないシリコーン樹脂であることが好ましい。この場合、高温下における耐熱樹脂層の変色をより効果的に抑制することができる。   In the present invention, Ph / Si is preferably 0 in the silicone resin. That is, the silicone resin is preferably a silicone resin that does not contain a phenyl group. In this case, discoloration of the heat resistant resin layer at a high temperature can be more effectively suppressed.

本発明において、耐熱樹脂層における無機顔料粉末の含有量は、55質量%〜75質量%の範囲内にあることが好ましい。この場合、高温下における耐熱樹脂層の変色をより効果的に抑制することができる。   In this invention, it is preferable that content of the inorganic pigment powder in a heat resistant resin layer exists in the range of 55 mass%-75 mass%. In this case, discoloration of the heat resistant resin layer at a high temperature can be more effectively suppressed.

本発明において、電磁加熱調理器用トッププレートは、ガラス基板と耐熱樹脂層との間に形成されている無機遮光層をさらに備えていることが好ましい。このような構成の電磁加熱調理器用トッププレートを用いた場合、電磁加熱調理器の内部に配置されている部材をより効果的に隠蔽でき、電磁加熱調理器の美観性をさらに高めることができる。   In the present invention, the top plate for the electromagnetic heating cooker preferably further includes an inorganic light shielding layer formed between the glass substrate and the heat resistant resin layer. When the top plate for an electromagnetic heating cooker having such a configuration is used, the members disposed inside the electromagnetic heating cooker can be more effectively concealed, and the aesthetics of the electromagnetic heating cooker can be further enhanced.

なお、「無機遮光層」とは、入射する光の少なくとも一部を吸収または反射する層である。本発明において、「無機遮光層」は、入射する光の全部を吸収または反射するものに限定されない。   The “inorganic light shielding layer” is a layer that absorbs or reflects at least part of incident light. In the present invention, the “inorganic light shielding layer” is not limited to one that absorbs or reflects all incident light.

本発明において、電磁加熱調理器用トッププレートは、耐熱樹脂層の上に形成されているさらなる耐熱樹脂層を備えていることが好ましい。その場合、さらなる耐熱樹脂層は、無機顔料粉末と、シリコーン樹脂とを含み、さらなる耐熱樹脂層に含まれるシリコーン樹脂は、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基及びフェニル基の少なくとも一方であり、かつ、Ph/Siが、耐熱樹脂層に含まれるシリコーン樹脂よりも高いシリコーン樹脂であることが好ましい。この場合、さらなる耐熱樹脂層は、耐熱樹脂層よりも高い弾性率を有する。従って、さらなる耐熱樹脂層を設けることにより、耐熱樹脂層の耐久性を向上することができる。   In this invention, it is preferable that the top plate for electromagnetic heating cookers is provided with the further heat resistant resin layer currently formed on the heat resistant resin layer. In that case, the further heat-resistant resin layer contains an inorganic pigment powder and a silicone resin, and the silicone resin contained in the further heat-resistant resin layer has a functional group directly bonded to a silicon atom at least one of a methyl group and a phenyl group. And it is preferable that Ph / Si is a silicone resin higher than the silicone resin contained in the heat resistant resin layer. In this case, the further heat resistant resin layer has a higher elastic modulus than the heat resistant resin layer. Therefore, the durability of the heat resistant resin layer can be improved by providing a further heat resistant resin layer.

耐熱樹脂層の耐久性をさらに向上する観点からは、さらなる耐熱樹脂層に含まれるシリコーン樹脂において、シリコン原子に対するメチル基のモル比((メチル基)/(シリコン原子))Me/Siが0.1以下であることが好ましく、Me/Siが0であることがより好ましい。   From the viewpoint of further improving the durability of the heat resistant resin layer, in the silicone resin contained in the further heat resistant resin layer, the molar ratio of methyl group to silicon atom ((methyl group) / (silicon atom)) Me / Si is 0.00. It is preferably 1 or less, and more preferably Me / Si is 0.

本発明によれば、ガラス基板の上に無機遮光層と耐熱樹脂層とが形成されている電磁加熱調理器用トッププレートであって、耐熱性に優れた電磁加熱調理器用トッププレートを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, it is a top plate for electromagnetic heating cookers by which the inorganic light shielding layer and the heat resistant resin layer are formed on the glass substrate, Comprising: It provides the top plate for electromagnetic heating cookers excellent in heat resistance. it can.

本発明を実施した第1の実施形態に係る電磁加熱調理器用トッププレートの略図的断面図である。It is a schematic sectional drawing of the top plate for electromagnetic heating cookers which concerns on 1st Embodiment which implemented this invention. 第2の実施形態に係る電磁加熱調理器用トッププレートの略図的断面図である。It is a schematic sectional drawing of the top plate for electromagnetic heating cookers which concerns on 2nd Embodiment.

(第1の実施形態)
図1は、本発明を実施した一実施形態に係る電磁加熱調理器用トッププレートの略図的断面図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a top plate for an electromagnetic heating cooker according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明を実施した好ましい形態について、図1に示す電磁加熱調理器用トッププレート1(以下、「電磁加熱調理器用トッププレート1」を、単に「トッププレート1」とする。)を例に挙げて説明する。但し、トッププレート1は、単なる例示である。本発明に係る電磁加熱調理器用トッププレートは、トッププレート1に何ら限定されない。   Hereinafter, a preferred embodiment in which the present invention is implemented is exemplified by a top plate 1 for an electromagnetic heating cooker (hereinafter, “the top plate 1 for an electromagnetic heating cooker” is simply referred to as “top plate 1”) shown in FIG. I will explain. However, the top plate 1 is merely an example. The top plate for an electromagnetic heating cooker according to the present invention is not limited to the top plate 1 at all.

図1に示すように、トッププレート1は、ガラス基板2を備えている。ガラス基板2は、波長450nm〜700nmにおける少なくとも一部の光を透過する。ガラス基板2は、有色透明であってもよいが、トッププレート1の美観性を高める観点から、無色透明であることが好ましい。なお、無色透明であるとは、波長450nm〜700nmにおける可視波長域の光透過率が75%以上であることをいう。   As shown in FIG. 1, the top plate 1 includes a glass substrate 2. The glass substrate 2 transmits at least part of light having a wavelength of 450 nm to 700 nm. The glass substrate 2 may be colored and transparent, but is preferably colorless and transparent from the viewpoint of enhancing the aesthetics of the top plate 1. In addition, being colorless and transparent means that the light transmittance in the visible wavelength region at a wavelength of 450 nm to 700 nm is 75% or more.

トッププレート1は、繰り返し加熱及び冷却される。このため、ガラス基板2は、高い耐熱性及び低い熱膨張係数を有するものであることが好ましい。具体的には、ガラス基板2の軟化温度は、700℃以上であることが好ましく、750℃以上であることがより好ましい。また、ガラス基板2の30℃〜750℃における平均線熱膨張係数は、−10×10−7/℃〜+30×10−7/℃の範囲内であることが好ましく、−10×10−7/℃〜+20×10−7/℃の範囲内であることがより好ましい。このため、ガラス基板2は、ガラス転移温度が高く、低膨張なガラスや、低膨張の結晶化ガラスからなるものであることが好ましい。低膨張の結晶化ガラスの具体例としては、例えば、日本電気硝子株式会社製ネオセラムN−0が挙げられる。 The top plate 1 is repeatedly heated and cooled. For this reason, it is preferable that the glass substrate 2 has high heat resistance and a low thermal expansion coefficient. Specifically, the softening temperature of the glass substrate 2 is preferably 700 ° C. or higher, and more preferably 750 ° C. or higher. The average linear thermal expansion coefficient at 30 ° C. to 750 ° C. of glass substrate 2 is preferably in the range of -10 × 10 -7 / ℃ ~ + 30 × 10 -7 / ℃, -10 × 10 -7 It is more preferable to be within the range of / ° C to + 20 × 10 −7 / ° C. For this reason, the glass substrate 2 preferably has a high glass transition temperature and is made of low expansion glass or low expansion crystallized glass. As a specific example of the low-expansion crystallized glass, for example, Neoceram N-0 manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd. can be mentioned.

本実施形態では、ガラス基板2の調理面2bの反対側の裏面2a上には、無機遮光層3が形成されている。無機遮光層3の上に、耐熱樹脂層4が形成されている。本実施形態においては、耐熱樹脂層4は、ガラス基板2の裏面2aの全体の上に形成されている。   In this embodiment, the inorganic light shielding layer 3 is formed on the back surface 2a on the opposite side of the cooking surface 2b of the glass substrate 2. A heat resistant resin layer 4 is formed on the inorganic light shielding layer 3. In the present embodiment, the heat resistant resin layer 4 is formed on the entire back surface 2 a of the glass substrate 2.

無機遮光層3は、無機物からなり、可視光の透過率が低いものであれば、特に限定されない。無機遮光層3は、例えば、チタンなどの金属膜により形成することができる。また、無機遮光層3は、無機顔料とガラスとを含む層により形成することもできる。この場合、無機顔料としては、例えば、Cu−Cr−Mn系黒色無機顔料を用いることができる。また、ガラスとしては、例えば、B−SiO系ガラス粉末を用いることができる。 The inorganic light shielding layer 3 is not particularly limited as long as it is made of an inorganic material and has a low visible light transmittance. The inorganic light shielding layer 3 can be formed of a metal film such as titanium, for example. Moreover, the inorganic light shielding layer 3 can also be formed by the layer containing an inorganic pigment and glass. In this case, for example, a Cu—Cr—Mn black inorganic pigment can be used as the inorganic pigment. Moreover, as glass, for example, B 2 O 3 —SiO 2 glass powder can be used.

また、無機遮光層3は、多孔質膜であってもよいし、実質的に空隙を有さない、中実な膜であってもよい。   In addition, the inorganic light shielding layer 3 may be a porous film or a solid film having substantially no voids.

無機遮光層3の厚さは、特に限定されない。無機遮光層3の厚みは、例えば、無機遮光層3の光透過率や、無機遮光層3の機械的強度、熱膨張係数などに応じて適宜設定することができる。なお、無機遮光層3は、通常、ガラス基板2と異なる熱膨張係数を有する。このため、繰り返しの加熱及び冷却により無機遮光層3が損傷する場合がある。この損傷を抑制する観点から、無機遮光層3は、薄い方が好ましい。無機遮光層3の厚さは、1μm〜15μmの範囲内であることが好ましく、3μm〜10μmの範囲内であることがより好ましい。   The thickness of the inorganic light shielding layer 3 is not particularly limited. The thickness of the inorganic light shielding layer 3 can be appropriately set according to, for example, the light transmittance of the inorganic light shielding layer 3, the mechanical strength of the inorganic light shielding layer 3, the thermal expansion coefficient, and the like. The inorganic light shielding layer 3 usually has a different thermal expansion coefficient from that of the glass substrate 2. For this reason, the inorganic light shielding layer 3 may be damaged by repeated heating and cooling. From the viewpoint of suppressing this damage, the inorganic light shielding layer 3 is preferably thin. The thickness of the inorganic light shielding layer 3 is preferably in the range of 1 μm to 15 μm, and more preferably in the range of 3 μm to 10 μm.

無機遮光層3の形成方法は、特に限定されない。無機遮光層3は、例えば、下記の方法により形成することができる。   The formation method of the inorganic light shielding layer 3 is not particularly limited. The inorganic light shielding layer 3 can be formed by the following method, for example.

まず、無機顔料粉末とガラス粉末との混合粉末に溶媒を加えてペースト化する。そのペーストをガラス基板2の上に、スクリーン印刷法などを用いて塗布し、乾燥させる。その後、焼成することにより無機遮光層3を形成することができる。なお、焼成温度及び焼成時間は、使用するガラス粉末の組成などに応じて適宜設定することができる。焼成温度は、例えば、200℃〜400℃程度とすることができる。焼成時間は、例えば、10分〜1時間程度とすることができる。   First, a solvent is added to a mixed powder of inorganic pigment powder and glass powder to form a paste. The paste is applied onto the glass substrate 2 using a screen printing method or the like, and dried. Then, the inorganic light shielding layer 3 can be formed by baking. The firing temperature and firing time can be appropriately set according to the composition of the glass powder used. The firing temperature can be, for example, about 200 ° C. to 400 ° C. The firing time can be, for example, about 10 minutes to 1 hour.

また、無機遮光層3が、金属膜からなる場合は、スパッタリング法やCVD法などにより形成することができる。   Moreover, when the inorganic light shielding layer 3 consists of a metal film, it can form by sputtering method, CVD method, etc.

耐熱樹脂層4は、無機顔料粉末とシリコーン樹脂とを含んでいる。耐熱樹脂層4において、無機顔料粉末は、シリコーン樹脂中に分散している。本実施形態において、耐熱樹脂層4における無機顔料粉末の含有量は、35質量%〜75質量%の範囲内である。   The heat resistant resin layer 4 contains an inorganic pigment powder and a silicone resin. In the heat resistant resin layer 4, the inorganic pigment powder is dispersed in the silicone resin. In the present embodiment, the content of the inorganic pigment powder in the heat resistant resin layer 4 is in the range of 35% by mass to 75% by mass.

耐熱樹脂層4に含まれる無機顔料粉末は、有色の無機物である限りにおいて特に限定されない。無機顔料粉末は、例えば、TiO粉末、ZrO粉末、ZrSiO粉末などの白色の顔料粉末、Coを含む青色または緑色の無機顔料粉末、Coを含む緑色の無機顔料粉末、Ti−Sb−Cr系、Ti−Ni系の黄色の無機顔料粉末、Co−Si系の赤色の無機顔料粉末、Feを含む茶色の無機顔料粉末、Cuを含む黒色の無機顔料粉末などが挙げられる。 The inorganic pigment powder contained in the heat resistant resin layer 4 is not particularly limited as long as it is a colored inorganic substance. The inorganic pigment powder is, for example, white pigment powder such as TiO 2 powder, ZrO 2 powder, ZrSiO 4 powder, blue or green inorganic pigment powder containing Co, green inorganic pigment powder containing Co, Ti—Sb—Cr. Series, Ti-Ni yellow inorganic pigment powder, Co-Si red inorganic pigment powder, brown inorganic pigment powder containing Fe, black inorganic pigment powder containing Cu, and the like.

Coを含む青色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Co−Al系、Co−Al−Ti系の無機顔料粉末が挙げられる。Co−Al系の無機顔料粉末の具体例としては、CoAl粉末などが挙げられる。Co−Al−Ti系の無機顔料粉末の具体例としては、CoAl:TiO:LiO粉末などが挙げられる。 Specific examples of the blue inorganic pigment powder containing Co include, for example, Co—Al-based and Co—Al—Ti-based inorganic pigment powders. Specific examples of the Co—Al based inorganic pigment powder include CoAl 2 O 4 powder. Specific examples of the Co—Al—Ti inorganic pigment powder include CoAl 2 O 4 : TiO 2 : Li 2 O powder.

Coを含む緑色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Co−Al−Cr系、Co−Ni−Ti−Zn系の無機顔料粉末が挙げられる。Co−Al−Cr系の無機顔料粉末の具体例としては、Co(Al,Cr)粉末などが挙げられる。Co−Ni−Ti−Zn系の無機顔料粉末の具体例としては、(Co,Ni,Zn)TiO粉末などが挙げられる。 Specific examples of the green inorganic pigment powder containing Co include, for example, Co-Al-Cr-based and Co-Ni-Ti-Zn-based inorganic pigment powders. Specific examples of the Co—Al—Cr inorganic pigment powder include Co (Al, Cr) 2 O 4 powder. Specific examples of the Co—Ni—Ti—Zn inorganic pigment powder include (Co, Ni, Zn) 2 TiO 4 powder and the like.

Feを含む茶色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Fe−Zn系の無機顔料粉末が挙げられる。Fe−Zn系の無機顔料粉末の具体例としては、(Zn,Fe)Fe粉末などが挙げられる。 Specific examples of the brown inorganic pigment powder containing Fe include, for example, Fe-Zn inorganic pigment powder. Specific examples of the Fe—Zn inorganic pigment powder include (Zn, Fe) Fe 2 O 4 powder.

Cuを含む黒色の無機顔料粉末の具体例としては、例えば、Cu−Cr系の無機顔料粉末が挙げられる。Cu−Cr系の無機顔料粉末の具体例としては、Cu(Cr,Mn)粉末などが挙げられる。 Specific examples of the black inorganic pigment powder containing Cu include, for example, a Cu—Cr based inorganic pigment powder. Specific examples of the Cu-Cr-based inorganic pigment powder include Cu (Cr, Mn) 2 O 4 powder.

上記のような無機顔料粉末を単独または複数を混合して用いることができる。   These inorganic pigment powders can be used alone or in combination.

耐熱樹脂層4に含まれるシリコーン樹脂は、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基及びフェニル基の少なくとも一方であるシリコーン樹脂である。シリコーン樹脂において、シリコン原子に対するフェニル基のモル比((フェニル基)/(シリコン原子))Ph/Siは、0.1以下である。   The silicone resin contained in the heat resistant resin layer 4 is a silicone resin in which the functional group directly bonded to the silicon atom is at least one of a methyl group and a phenyl group. In the silicone resin, the molar ratio of phenyl group to silicon atom ((phenyl group) / (silicon atom)) Ph / Si is 0.1 or less.

耐熱樹脂層4の厚みは、特に限定されない。耐熱樹脂層4の厚みは、耐熱樹脂層4の光透過率などに応じて適宜設定することができる。耐熱樹脂層4の厚みは、例えば、1μm〜15μm程度とすることができる。   The thickness of the heat resistant resin layer 4 is not particularly limited. The thickness of the heat resistant resin layer 4 can be appropriately set according to the light transmittance of the heat resistant resin layer 4 and the like. The thickness of the heat resistant resin layer 4 can be, for example, about 1 μm to 15 μm.

耐熱樹脂層4の形成方法も特に限定されない。耐熱樹脂層4は、例えば、無機顔料粉末が分散したシリコーン樹脂を無機遮光層3の上に、スクリーン印刷法などを用いて塗布し、例えば、50℃〜100℃程度の温度で、10分〜1時間程度乾燥させることにより形成することができる。また、耐熱樹脂層4の組成によっては、乾燥後に焼成を行うことが好ましい場合もある。   The method for forming the heat resistant resin layer 4 is not particularly limited. The heat-resistant resin layer 4 is formed by, for example, applying a silicone resin in which inorganic pigment powder is dispersed on the inorganic light-shielding layer 3 by using a screen printing method, for example, at a temperature of about 50 ° C. to 100 ° C. for 10 minutes to It can be formed by drying for about 1 hour. Further, depending on the composition of the heat-resistant resin layer 4, it may be preferable to perform baking after drying.

なお、無機顔料粉末が分散したシリコーン樹脂の塗布スピード及び粘度は、耐熱樹脂層4に含まれる無機顔料粉末の量に応じて適宜設定する必要がある。例えば、耐熱樹脂層4における無機顔料粉末の含有量が多い場合は、シリコーン樹脂の粘度を低くし、シリコーン樹脂の塗布スピードを遅くすることが好ましい。   The application speed and viscosity of the silicone resin in which the inorganic pigment powder is dispersed need to be set as appropriate according to the amount of the inorganic pigment powder contained in the heat resistant resin layer 4. For example, when the content of the inorganic pigment powder in the heat resistant resin layer 4 is large, it is preferable to lower the viscosity of the silicone resin and slow down the application speed of the silicone resin.

以上説明したように、本実施形態では、耐熱樹脂層4は、無機顔料粉末とシリコーン樹脂とを含んでいる。耐熱樹脂層4における無機顔料粉末の含有量は、35質量%〜75質量%の範囲内である。耐熱樹脂層4に含まれるシリコーン樹脂は、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基及びフェニル基の少なくとも一方であるシリコーン樹脂である。そして、シリコーン樹脂において、Ph/Siが、0.1以下である。このため、下記の実施例においても裏付けられるように、例えば、トッププレート1が400℃以上といった高温になった場合であっても、耐熱樹脂層4が変色しにくい。従って、高い耐熱性を有するトッププレート1を実現することができる。   As described above, in the present embodiment, the heat resistant resin layer 4 includes the inorganic pigment powder and the silicone resin. Content of the inorganic pigment powder in the heat resistant resin layer 4 is in the range of 35 mass% to 75 mass%. The silicone resin contained in the heat resistant resin layer 4 is a silicone resin in which the functional group directly bonded to the silicon atom is at least one of a methyl group and a phenyl group. In the silicone resin, Ph / Si is 0.1 or less. For this reason, as can be seen in the following embodiments, for example, even when the top plate 1 is at a high temperature of 400 ° C. or higher, the heat-resistant resin layer 4 is not easily discolored. Therefore, the top plate 1 having high heat resistance can be realized.

本発明に従う耐熱樹脂層4を用いることで、耐熱樹脂層4の変色を抑制できるのは、定かではないが、以下の理由によるものと考えられる。すなわち、耐熱樹脂層が高温下に曝されると、シリコン原子に直接置換している置換基の一部が燃え飛ぶことがある。この燃え飛んだ置換基がフェニル基などの大きな置換基である場合は、置換基が燃え飛ぶことにより、耐熱樹脂層に空隙が発生し、その結果、耐熱樹脂層が変色するものと考えられる。   Although it is not certain that discoloration of the heat-resistant resin layer 4 can be suppressed by using the heat-resistant resin layer 4 according to the present invention, it is considered to be due to the following reason. That is, when the heat-resistant resin layer is exposed to a high temperature, some of the substituents that are directly substituted with silicon atoms may burn off. When the burned-out substituent is a large substituent such as a phenyl group, it is considered that voids are generated in the heat-resistant resin layer due to the burning of the substituent, and as a result, the heat-resistant resin layer is discolored.

一方、燃え飛んだ置換基がメチル基であれば、置換基が燃え飛んだ場合であっても、耐熱樹脂層に空隙が発生しにくい。従って、本発明に従い、耐熱樹脂層4における無機顔料粉末の含有量を35質量%〜75質量%の範囲内として、シリコーン樹脂の含有量を減らすと共に、シリコーン樹脂におけるPh/Siを0.1以下とすることにより、耐熱樹脂層に含まれるフェニル基を低減することによって、高温下における耐熱樹脂層の変色を効果的に抑制できるものと考えられる。   On the other hand, when the burned-out substituent is a methyl group, voids are unlikely to occur in the heat-resistant resin layer even when the substituent is burned off. Therefore, according to the present invention, the content of the inorganic pigment powder in the heat resistant resin layer 4 is set in the range of 35% by mass to 75% by mass, the content of the silicone resin is reduced, and the Ph / Si in the silicone resin is 0.1 or less. Thus, it is considered that the discoloration of the heat resistant resin layer at a high temperature can be effectively suppressed by reducing the phenyl groups contained in the heat resistant resin layer.

従って、高温下における耐熱樹脂層の変色をより効果的に抑制する観点からは、シリコーン樹脂におけるPh/Siは、0.05以下であることが好ましく、0.03以下であることが好ましく、0.01未満であることが好ましく、0であることが好ましい。   Therefore, from the viewpoint of more effectively suppressing discoloration of the heat-resistant resin layer at high temperature, Ph / Si in the silicone resin is preferably 0.05 or less, preferably 0.03 or less, Is preferably less than 0.01, and preferably 0.

また、耐熱樹脂層4における無機顔料粉末の含有量は、55質量%〜75質量%の範囲内にあることが好ましい。なお、耐熱樹脂層4における無機顔料粉末の含有量が多すぎると、耐熱樹脂層4の無機遮光層3に対する密着性が低下し、耐熱樹脂層4が剥離しやすくなる。   Moreover, it is preferable that content of the inorganic pigment powder in the heat resistant resin layer 4 exists in the range of 55 mass%-75 mass%. In addition, when there is too much content of the inorganic pigment powder in the heat resistant resin layer 4, the adhesiveness with respect to the inorganic light shielding layer 3 of the heat resistant resin layer 4 will fall, and the heat resistant resin layer 4 will become easy to peel.

また、耐熱樹脂層4は、乾燥するまでの間、流動性を有するため、本実施形態のように、耐熱樹脂層4を設けた場合、トッププレート1の裏面側表面が平坦化される。このため、より美観に優れたトッププレート1を実現することができる。   Moreover, since the heat resistant resin layer 4 has fluidity until it is dried, when the heat resistant resin layer 4 is provided as in this embodiment, the back surface of the top plate 1 is flattened. For this reason, the top plate 1 more excellent in aesthetics can be realized.

また、本実施形態では、耐熱樹脂層4と共に、無機遮光層3が設けられている。このため、調理面2b側から視たときに、電磁加熱調理器の内部に配置されている部材をより効果的に隠蔽でき、電磁加熱調理器の美観性をさらに高めることができる。   In the present embodiment, the inorganic light shielding layer 3 is provided together with the heat resistant resin layer 4. For this reason, when it sees from the cooking surface 2b side, the member arrange | positioned inside the electromagnetic heating cooking appliance can be concealed more effectively, and the aesthetics of an electromagnetic heating cooking appliance can be improved further.

なお、上記実施形態では、ガラス基板2と耐熱樹脂層4との間に無機遮光層3を設ける場合について説明した。但し、本発明は、この構成に限定されない。例えば、ガラス基板の直上に無機遮光層を設けてもよい。   In the above embodiment, the case where the inorganic light shielding layer 3 is provided between the glass substrate 2 and the heat resistant resin layer 4 has been described. However, the present invention is not limited to this configuration. For example, an inorganic light shielding layer may be provided directly on the glass substrate.

また、上記実施形態では、耐熱樹脂層4が、ガラス基板2の裏面2aの全体の上に形成されている場合について説明した。但し、本発明は、この構成に限定されない。耐熱樹脂層4は、例えば、ガラス基板2の裏面2aの一部の上に形成されていてもよい。例えば、耐熱樹脂層4を、トッププレート1の電磁加熱部分のみに設けてもよい。また、例えば、無機遮光層3が多孔質膜により構成されている場合、少なくとも、トッププレート1の裏面の電磁加熱部分に取り付けられる温度センサー(熱電対)の接着部の下方の部分に、耐熱樹脂層4を設けてもよい。その場合、温度センサーの接着痕を目立たなくすることができ、トッププレート1の外観性を向上することができる。   Moreover, in the said embodiment, the case where the heat resistant resin layer 4 was formed on the whole back surface 2a of the glass substrate 2 was demonstrated. However, the present invention is not limited to this configuration. The heat resistant resin layer 4 may be formed on a part of the back surface 2a of the glass substrate 2, for example. For example, the heat resistant resin layer 4 may be provided only on the electromagnetic heating portion of the top plate 1. Further, for example, when the inorganic light-shielding layer 3 is formed of a porous film, at least a part below the adhesive part of a temperature sensor (thermocouple) attached to the electromagnetic heating part on the back surface of the top plate 1 has a heat resistant resin. Layer 4 may be provided. In that case, adhesion marks of the temperature sensor can be made inconspicuous, and the appearance of the top plate 1 can be improved.

上記実施形態では、ガラス基板2の調理面2bの上には、膜が形成されていない例について説明した。但し、本発明は、この構成に限定されない。例えば、調理面2bの上に、意匠性向上やヒーター位置の表示等のために、必要に応じて装飾被膜を形成してもよい。   In the said embodiment, the example in which the film | membrane is not formed on the cooking surface 2b of the glass substrate 2 was demonstrated. However, the present invention is not limited to this configuration. For example, a decorative coating may be formed on the cooking surface 2b as necessary for improving design properties, displaying the heater position, and the like.

また、ガラス基板2の裏面2a側にも、さらなる膜が形成されていてもよい。例えば、耐熱樹脂層4の上に、耐熱樹脂層4の保護層などが形成されていてもよいし、耐熱樹脂層4と無機遮光層3との間に、密着層などが形成されていてもよい。   Further, a further film may be formed on the back surface 2 a side of the glass substrate 2. For example, a protective layer or the like of the heat resistant resin layer 4 may be formed on the heat resistant resin layer 4, or an adhesion layer or the like may be formed between the heat resistant resin layer 4 and the inorganic light shielding layer 3. Good.

以下、本発明を実施した好ましい形態の他の例について説明する。但し、下記の説明において、上記実施形態と実質的に共通の機能を有する部材を共通の符号で参照し、説明を省略する。   Hereinafter, other examples of preferred embodiments of the present invention will be described. However, in the following description, members having substantially the same functions as those of the above-described embodiment are referred to by common reference numerals, and description thereof is omitted.

(第2の実施形態)
図2は、第2の実施形態に係る電磁加熱調理器用トッププレートの略図的断面図である。
(Second Embodiment)
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a top plate for an electromagnetic heating cooker according to the second embodiment.

図2に示すように、本実施形態の電磁加熱調理器用トッププレート11は、耐熱樹脂層4の上に、さらなる耐熱樹脂層5が形成されている点で、上記第1の実施形態の電磁加熱調理器用トッププレート1と異なる。   As shown in FIG. 2, the top plate 11 for an electromagnetic heating cooker of the present embodiment is the electromagnetic heating of the first embodiment in that a further heat resistant resin layer 5 is formed on the heat resistant resin layer 4. Different from the top plate 1 for a cooker.

耐熱樹脂層5は、耐熱樹脂層4と同様に、無機顔料粉末と、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基及びフェニル基の少なくとも一方であるシリコーン樹脂とを含む。耐熱樹脂層5に含まれるシリコーン樹脂のPh/Siは、耐熱樹脂層4に含まれるシリコーン樹脂のPh/Siよりも高い。このため、耐熱樹脂層5は、耐熱樹脂層4よりも高い弾性率を有する。従って、さらなる耐熱樹脂層5を設けることにより、耐熱樹脂層4が補強され、耐熱樹脂層4の耐久性を向上することができる。   Similar to the heat resistant resin layer 4, the heat resistant resin layer 5 includes an inorganic pigment powder and a silicone resin in which a functional group directly bonded to a silicon atom is at least one of a methyl group and a phenyl group. The Ph / Si of the silicone resin contained in the heat resistant resin layer 5 is higher than the Ph / Si of the silicone resin contained in the heat resistant resin layer 4. For this reason, the heat resistant resin layer 5 has a higher elastic modulus than the heat resistant resin layer 4. Therefore, by providing the further heat resistant resin layer 5, the heat resistant resin layer 4 is reinforced and the durability of the heat resistant resin layer 4 can be improved.

耐熱樹脂層4の耐久性をさらに向上する観点からは、さらなる耐熱樹脂層5に含まれるシリコーン樹脂において、シリコン原子に対するメチル基のモル比((メチル基)/(シリコン原子))Me/Siが0.1以下であることが好ましく、Me/Siが0であることがより好ましい。   From the viewpoint of further improving the durability of the heat resistant resin layer 4, in the silicone resin included in the further heat resistant resin layer 5, the molar ratio of methyl groups to silicon atoms ((methyl groups) / (silicon atoms)) Me / Si is It is preferably 0.1 or less, and more preferably Me / Si is 0.

なお、耐熱樹脂層5の厚みは、特に限定されないが、例えば、1μm〜15μm程度とすることができる。耐熱樹脂層5の厚みが薄すぎると、耐熱樹脂層4の補強効果が小さくなりすぎる場合がある。一方、耐熱樹脂層5の厚みが薄すぎると、耐熱樹脂層5自体の強度が低くなりすぎる場合がある。   In addition, although the thickness of the heat resistant resin layer 5 is not specifically limited, For example, it can be set as about 1 micrometer-15 micrometers. If the thickness of the heat resistant resin layer 5 is too thin, the reinforcing effect of the heat resistant resin layer 4 may be too small. On the other hand, if the thickness of the heat resistant resin layer 5 is too thin, the strength of the heat resistant resin layer 5 itself may be too low.

耐熱樹脂層5に含まれる無機顔料粉末の具体例としては、上述の耐熱樹脂層4に含まれる無機顔料粉末の具体例として挙げたものと同じものを挙げることができる。   Specific examples of the inorganic pigment powder contained in the heat resistant resin layer 5 may be the same as those given as specific examples of the inorganic pigment powder contained in the heat resistant resin layer 4 described above.

耐熱樹脂層5の形成方法の具体例としては、上記耐熱樹脂層4の形成方法の具体例として挙げたものを挙げることができる。   Specific examples of the method for forming the heat resistant resin layer 5 include those listed as specific examples of the method for forming the heat resistant resin layer 4.

(実施例1)
以下、本発明について、実施例に基づいてさらに詳細に説明する。但し、以下の実施例は、単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。
Example 1
Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples. However, the following examples are merely illustrative. The present invention is not limited to the following examples.

まず、Cu−Cr−Mn系の黒色の無機顔料粉末と、B−SiO系ガラス粉末(SiO:63質量%、B:19質量%)を3:7の質量比になるように混合し、樹脂及び有機溶剤を添加してペーストを作製した。次に、このペーストを日本電気硝子株式会社製の透明結晶化ガラス板N−0(30℃〜750℃における平均線熱膨張係数:−4×10−7/℃)に、膜厚が4μmとなるように、スクリーン印刷した。続いて、塗布したペーストを150℃で5分間乾燥させた後に、850℃で30分間焼成を行い、無機遮光層を形成した。 First, an inorganic pigment powder Cu-Cr-Mn type black, B 2 O 3 -SiO 2 based glass powder (SiO 2: 63 wt%, B 2 O 3: 19 wt%) of 3: 7 weight ratio of Then, a paste was prepared by adding a resin and an organic solvent. Next, this paste was applied to a transparent crystallized glass plate N-0 (average linear thermal expansion coefficient at 30 ° C. to 750 ° C .: −4 × 10 −7 / ° C.) made by Nippon Electric Glass Co., Ltd., with a film thickness of 4 μm. It was screen printed so that Subsequently, the applied paste was dried at 150 ° C. for 5 minutes and then baked at 850 ° C. for 30 minutes to form an inorganic light shielding layer.

次に、無機顔料粉末とシリコーン樹脂とを、4.5:5.5の質量比(すなわち、耐熱樹脂層における無機顔料粉末の含有量が45質量%)となるように混合し、有機溶剤を添加してペーストを作製した。このペーストを、無機遮光層の全体の上に、厚みが4μmとなるように、スクリーン印刷し、150℃で5分間乾燥させた後に、300℃で30分間焼成することにより耐熱樹脂層を形成して、トッププレートを完成させた。なお、シリコーン樹脂としては、Ph/Siが0であり、シリコン原子に直接結合した置換基がメチル基であるシリコーン樹脂を用いた。また、無機顔料としては、黒色の42−701A(日本フェロー株式会社製)を使用した。   Next, the inorganic pigment powder and the silicone resin are mixed so that the mass ratio is 4.5: 5.5 (that is, the content of the inorganic pigment powder in the heat-resistant resin layer is 45% by mass), and the organic solvent is added. The paste was prepared by adding. This paste is screen-printed on the entire inorganic light-shielding layer so as to have a thickness of 4 μm, dried at 150 ° C. for 5 minutes, and then baked at 300 ° C. for 30 minutes to form a heat-resistant resin layer. To complete the top plate. As the silicone resin, a silicone resin in which Ph / Si is 0 and the substituent directly bonded to the silicon atom is a methyl group was used. As the inorganic pigment, black 42-701A (manufactured by Nippon Fellow Co., Ltd.) was used.

作製したトッププレートを電磁加熱装置に組み込み、鍋を空焚きさせることにより、トッププレートを500℃で10分間保持した(空焚き試験)。その後、トッププレートの調理面側から耐熱樹脂層の変色を目視観察した。本実施例1においては、耐熱樹脂層の変色は確認できなかった。   The produced top plate was incorporated in an electromagnetic heating device, and the pan was aired to hold the top plate at 500 ° C. for 10 minutes (air-cooking test). Then, the discoloration of the heat resistant resin layer was visually observed from the cooking surface side of the top plate. In Example 1, discoloration of the heat resistant resin layer could not be confirmed.

(実施例2)
耐熱樹脂層の形成に用いたペーストにおける無機顔料粉末とシリコーン樹脂との質量比を、6.7:3.3(すなわち、耐熱樹脂層における無機顔料粉末の含有量が67質量%)としたこと以外は、上記実施例と同様にしてトッププレートを作製し、同様の空焚き試験を行った。その結果、本実施例2においても、上記実施例1と同様に、耐熱樹脂層の変色は確認できなかった。
(Example 2)
The mass ratio of the inorganic pigment powder and the silicone resin in the paste used for forming the heat resistant resin layer was 6.7: 3.3 (that is, the content of the inorganic pigment powder in the heat resistant resin layer was 67 mass%). Except for the above, a top plate was produced in the same manner as in the above example, and the same emptying test was performed. As a result, also in Example 2, as in Example 1, no discoloration of the heat-resistant resin layer could be confirmed.

(実施例3)
本実施例3では、上記実施例2と同様にして作製したトッププレートの耐熱樹脂層の上にさらなる耐熱樹脂層を形成した。具体的には、無機顔料粉末とシリコーン樹脂とを、50:50の質量比(すなわち、耐熱樹脂層における無機顔料粉末の含有量が50質量%)となるように混合し、有機溶剤を添加してペーストを作製した。このペーストを、耐熱樹脂層の全体の上に、厚みが8μmとなるように、スクリーン印刷し、150℃で5分間乾燥させた後に、300℃で30分間焼成することにより、さらなる耐熱樹脂層を形成した。なお、シリコーン樹脂としては、Me/Siが0であり、シリコン原子に直接結合した置換基がフェニル基であるシリコーン樹脂を用いた。また、無機顔料としては、黒色の42−701A(日本フェロー株式会社製)を使用した。
(Example 3)
In Example 3, a further heat resistant resin layer was formed on the heat resistant resin layer of the top plate produced in the same manner as in Example 2. Specifically, the inorganic pigment powder and the silicone resin are mixed at a mass ratio of 50:50 (that is, the content of the inorganic pigment powder in the heat-resistant resin layer is 50% by mass), and an organic solvent is added. A paste was prepared. This paste is screen-printed on the entire heat-resistant resin layer so as to have a thickness of 8 μm, dried at 150 ° C. for 5 minutes, and then baked at 300 ° C. for 30 minutes. Formed. As the silicone resin, a silicone resin having Me / Si of 0 and a substituent directly bonded to a silicon atom being a phenyl group was used. As the inorganic pigment, black 42-701A (manufactured by Nippon Fellow Co., Ltd.) was used.

そして、本実施例3において作製したトッププレートについても、上記実施例1,2と同様の空焚き試験を行った。その結果、本実施例3においても、上記実施例1,2と同様に、耐熱樹脂層の変色は確認できなかった。   The top plate produced in Example 3 was also subjected to the same emptying test as in Examples 1 and 2 above. As a result, also in this Example 3, discoloration of the heat-resistant resin layer could not be confirmed as in Examples 1 and 2.

(比較例)
シリコーン樹脂として、Ph/Siが0.3であるシリコーン樹脂を用いたこと以外は、上記実施例1と同様にしてトッププレートを作製し、同様の空焚き試験を行った。その結果、本比較例においては、耐熱樹脂層の変色が確認された。
(Comparative example)
A top plate was produced in the same manner as in Example 1 except that a silicone resin having Ph / Si of 0.3 was used as the silicone resin, and the same emptying test was performed. As a result, in this comparative example, discoloration of the heat resistant resin layer was confirmed.

以上の結果から、本発明に従い、耐熱樹脂層4における無機顔料粉末の含有量を35質量%〜75質量%の範囲内とし、かつ、シリコーン樹脂におけるPh/Siを0.1以下とすることにより、高温下においても、耐熱樹脂層が変色しにくく、高い耐熱性を有する電磁加熱調理器用トッププレートを実現できることが分かる。   From the above results, according to the present invention, the content of the inorganic pigment powder in the heat-resistant resin layer 4 is in the range of 35% by mass to 75% by mass, and the Ph / Si in the silicone resin is 0.1 or less. It can be seen that the top plate for an electromagnetic heating cooker having high heat resistance can be realized with less resistance to discoloration of the heat resistant resin layer even at high temperatures.

1、11…電磁加熱調理器用トッププレート
2…ガラス基板
3…無機遮光層
4…耐熱樹脂層
5…さらなる耐熱樹脂層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 11 ... Top plate 2 for electromagnetic heating cookers ... Glass substrate 3 ... Inorganic light shielding layer 4 ... Heat-resistant resin layer 5 ... Further heat-resistant resin layer

Claims (8)

ガラス基板と、
前記ガラス基板の上に形成されている耐熱樹脂層とを備える電磁加熱調理器用トッププレートであって、
前記耐熱樹脂層は、無機顔料粉末とシリコーン樹脂とを含み、
前記耐熱樹脂層における前記無機顔料粉末の含有量が、35質量%〜75質量%の範囲内にあり、
前記シリコーン樹脂が、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基及びフェニル基の少なくとも一方であるシリコーン樹脂であり、
前記シリコーン樹脂において、シリコン原子に対するフェニル基のモル比((フェニル基)/(シリコン原子))Ph/Siが0.1以下である電磁加熱調理器用トッププレート。
A glass substrate;
A top plate for an electromagnetic heating cooker comprising a heat resistant resin layer formed on the glass substrate,
The heat resistant resin layer includes an inorganic pigment powder and a silicone resin,
The content of the inorganic pigment powder in the heat-resistant resin layer is in the range of 35% by mass to 75% by mass,
The silicone resin is a silicone resin in which a functional group directly bonded to a silicon atom is at least one of a methyl group and a phenyl group,
The top plate for an electromagnetic heating cooker, wherein in the silicone resin, a molar ratio of a phenyl group to a silicon atom ((phenyl group) / (silicon atom)) Ph / Si is 0.1 or less.
前記シリコーン樹脂において、前記Ph/Siが0である請求項1に記載の電磁加熱調理器用トッププレート。   The top plate for an electromagnetic heating cooker according to claim 1, wherein the Ph / Si is 0 in the silicone resin. 前記耐熱樹脂層における前記無機顔料粉末の含有量が、55質量%〜75質量%の範囲内にある請求項1または2に記載の電磁加熱調理器用トッププレート。   The top plate for an electromagnetic heating cooker according to claim 1 or 2, wherein the content of the inorganic pigment powder in the heat-resistant resin layer is in a range of 55 mass% to 75 mass%. 前記ガラス基板と前記耐熱樹脂層との間に形成されている無機遮光層をさらに備える請求項1〜3のいずれか一項に記載の電磁加熱調理器用トッププレート。   The top plate for an electromagnetic heating cooker according to any one of claims 1 to 3, further comprising an inorganic light-shielding layer formed between the glass substrate and the heat-resistant resin layer. 前記耐熱樹脂層の上に形成されているさらなる耐熱樹脂層を備え、
前記さらなる耐熱樹脂層は、無機顔料粉末と、シリコーン樹脂とを含み、
前記さらなる耐熱樹脂層に含まれるシリコーン樹脂は、シリコン原子に直接結合した官能基がメチル基及びフェニル基の少なくとも一方であり、かつ、Ph/Siが、前記耐熱樹脂層に含まれるシリコーン樹脂よりも高いシリコーン樹脂である請求項1〜4のいずれか一項に記載の電磁加熱調理器用トッププレート。
A further heat-resistant resin layer formed on the heat-resistant resin layer;
The further heat-resistant resin layer includes an inorganic pigment powder and a silicone resin,
The silicone resin contained in the further heat-resistant resin layer has a functional group directly bonded to a silicon atom at least one of a methyl group and a phenyl group, and Ph / Si is more than the silicone resin contained in the heat-resistant resin layer. It is a high silicone resin, The top plate for electromagnetic heating cookers as described in any one of Claims 1-4.
前記さらなる耐熱樹脂層に含まれるシリコーン樹脂において、シリコン原子に対するメチル基のモル比((メチル基)/(シリコン原子))Me/Siが0.1以下である請求項5に記載の電磁加熱調理器用トッププレート。   6. The electromagnetic heating cooking according to claim 5, wherein in the silicone resin contained in the further heat-resistant resin layer, a molar ratio of methyl group to silicon atom ((methyl group) / (silicon atom)) Me / Si is 0.1 or less. Top plate for dexterity. 前記さらなる耐熱樹脂層に含まれるシリコーン樹脂において、Me/Siが0である請求項6に記載の電磁加熱調理器用トッププレート。   The top plate for an electromagnetic heating cooker according to claim 6, wherein Me / Si is 0 in the silicone resin contained in the further heat-resistant resin layer. 前記さらなる耐熱樹脂層は、前記耐熱樹脂層よりも高い弾性率を有する、請求項5〜7のいずれか一項に記載の電磁加熱調理器用トッププレート。   The top plate for an electromagnetic heating cooker according to any one of claims 5 to 7, wherein the further heat resistant resin layer has a higher elastic modulus than the heat resistant resin layer.
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